JP2843992B2 - Manufacturing method of radiation image conversion panel - Google Patents

Manufacturing method of radiation image conversion panel

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JP2843992B2
JP2843992B2 JP1117120A JP11712089A JP2843992B2 JP 2843992 B2 JP2843992 B2 JP 2843992B2 JP 1117120 A JP1117120 A JP 1117120A JP 11712089 A JP11712089 A JP 11712089A JP 2843992 B2 JP2843992 B2 JP 2843992B2
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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネ
ルの製造方法に関し、さらに詳しくは水分の侵入を防
ぎ、設定性能を保証し、性能耐久性のよい放射線画像変
換パネルの製造方法に関する。
Description: FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing a radiation image conversion panel having a stimulable phosphor layer, and more specifically, to prevent the intrusion of moisture, guarantee the setting performance, and improve the performance. The present invention relates to a method for manufacturing a radiation image conversion panel having good durability.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

X線画像のような放射線画像は病気診断用などに多く
用いられている。
Radiation images such as X-ray images are often used for diagnosis of diseases.

このX線画像を得るために、ハロゲン化銀感光材料に
代って蛍光体層から直接画像を取出すX線画像変換方法
が工夫されている。
In order to obtain this X-ray image, an X-ray image conversion method for directly extracting an image from a phosphor layer instead of a silver halide photosensitive material has been devised.

この方法は、被写体を透過した放射線(一般にX線)
蛍光体に吸収せしめ、しかる後、この蛍光体を例えば光
又は熱エネルギーで励起することによりこの蛍光体が上
記放射線吸収により蓄積している放射線エネルギーを蛍
光として放射せしめ、この蛍光を検出して画像化する方
法である。
This method uses radiation transmitted through the subject (generally X-rays)
The phosphor is absorbed by the phosphor, and then the phosphor is excited by, for example, light or heat energy to cause the phosphor to emit radiation energy accumulated by the radiation absorption as fluorescence. It is a method to become.

具体的には、例えば、米国特許3,859,527号及び特開
昭55−12144号には輝尽性蛍光体を用い可視光線又は赤
外線を輝尽励起光とした放射線画像変換方法が示されて
いる。
Specifically, for example, U.S. Pat. No. 3,859,527 and JP-A-55-12144 disclose a radiation image conversion method using a stimulable phosphor and using visible light or infrared light as stimulating excitation light.

この方法は、輝尽性蛍光体層(以後輝尽層と略称)を
有する放射線画像変換パネル(以後変換パネルと略称)
を使用するもので、この変換パネルの輝尽層に被写体を
透過した放射線を当てて被写体各部の放射線透過度に対
応する放射線エネルギーを蓄積させて潜像を形成し、し
かる後にこの輝尽層を輝尽励起光で走査することによっ
て各部の蓄積された放射線エネルギーを放射させてこれ
を光に変換し、この光の強弱による光信号により画像を
得るものである。
This method uses a radiation image conversion panel (hereinafter abbreviated as a conversion panel) having a stimulable phosphor layer (hereinafter abbreviated as a stimulable layer).
The latent image is formed by applying radiation transmitted through the subject to the stimulating layer of the conversion panel, accumulating radiation energy corresponding to the radiation transmittance of each part of the subject, and then forming the stimulating layer. By scanning with stimulating excitation light, the radiation energy stored in each section is emitted and converted into light, and an image is obtained by an optical signal based on the intensity of the light.

この最終的な画像はハードコピーとして再生してもよ
いし、CRT上に再生してもよい。
This final image may be reproduced as a hard copy or reproduced on a CRT.

この放射線画像変換方法において使用される変換パネ
ルは、放射線画像情報を蓄積した後輝尽励起光の走査に
よって蓄積エネルギーを放出するので、走査後再度放射
線画像の蓄積を行うことができ、繰返し使用が可能であ
る。
The conversion panel used in this radiation image conversion method emits the stored energy by scanning the stimulating excitation light after accumulating the radiation image information, so that the radiation image can be accumulated again after the scanning, and can be used repeatedly. It is possible.

そこで、前記変換パネルは、得られる放射線画像の画
質を劣化させることなく長期間あるいは多数回繰返しの
使用に耐える性能を有することが望ましい。そのために
は、前記変換パネルの輝尽層が外部からの物理的あるい
は化学的刺激から十分に保護される必要がある。
Therefore, it is desirable that the conversion panel has a performance that can withstand long-time use or repeated use many times without deteriorating the image quality of the obtained radiation image. For this purpose, the photostimulable layer of the conversion panel needs to be sufficiently protected from external physical or chemical stimuli.

従来の変換パネルにおいては、上記の問題の解決を図
るため、変換パネルの支持体上の輝尽層面を被覆する保
護層を設け、変換パネル周縁を密閉し、輝尽層を保護す
る方法がとられてきた。
In the conventional conversion panel, in order to solve the above-mentioned problem, a method of providing a protective layer covering the photostimulated layer surface on the support of the conversion panel, sealing the peripheral edge of the conversion panel, and protecting the photostimulated layer is used. I have been.

この保護層は、例えば特開昭59−42500号に開示され
ているように、保護層用塗布液を輝尽層上に直接塗布し
て形成されるか、あるいはあらかじめ別途形成した保護
層を輝尽層上に接着する方法により形成されている。
This protective layer is formed by directly applying a protective layer coating solution on the photostimulable layer, as described in JP-A-59-42500, for example. It is formed by a method of bonding on the exhausted layer.

また、変換パネル周縁の密閉には、例えば有機高分子
溶液中に変換パネルの周縁部のみを浸漬するか、あるい
は周縁部に有機高分子溶液を塗布して高分子膜を形成し
てシールする方法、周縁部をシール剤により封止し、シ
ール剤を固定部材により外側から固定する方法(特開昭
61−237099号)、周縁部が保護層の延長部分により被覆
された状態でシールする方法(特開昭61−237100号)等
が用いられている。
Also, for sealing the periphery of the conversion panel, for example, a method of immersing only the periphery of the conversion panel in an organic polymer solution, or applying an organic polymer solution to the periphery to form a polymer film and sealing it. A method of sealing the peripheral portion with a sealant and fixing the sealant from the outside with a fixing member
No. 61-237099), and a method of sealing in a state where the peripheral portion is covered with an extended portion of a protective layer (Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-237100).

更に防湿性を上げるために、従来の保護層より厚めの
防湿効果の大きい保護層体を用い、支持体と保護層体の
間に輝尽層を囲んでスペーサ接着、挾在させること(特
願昭63−141522号)が提案され、更に進んで前記スペー
サをの外側に防湿材を兼ねる充填材を充填して防湿効果
を高める方法(特願昭63−141523号)が提示されてい
る。
In order to further improve the moisture resistance, a protective layer having a greater moisture-proof effect than the conventional protective layer is used, and a stimulable layer is surrounded between the support and the protective layer, and the spacer is bonded and sandwiched (Japanese Patent Application (Japanese Patent Application No. 63-141523) has been proposed, and a method of enhancing the moisture-proofing effect by filling the outside of the spacer with a filler also serving as a moisture-proof material has been proposed (Japanese Patent Application No. 63-141523).

〔解決しようとする課題〕[Problem to be solved]

しかしながら、このような従来技術の変換パネルは、
通常の雰囲気中で使用する場合には外部からの水分の侵
入を防止することはできるものの、過酷な温度、湿度条
件下で使用する場合や水分に弱い蛍光体を用いる場合に
は依然として外部からの水分の侵入による蛍光体の劣化
が問題となっていた。
However, such prior art conversion panels,
Although it can prevent intrusion of moisture from the outside when used in a normal atmosphere, it can still be prevented when used under severe temperature and humidity conditions or when a phosphor that is sensitive to moisture is used. Deterioration of the phosphor due to penetration of moisture has been a problem.

また、輝尽層上に保護層を設け、変換パネル周縁を密
閉しても、変換パネルを製造する工程中に輝尽性蛍光体
が吸湿して、変換パネルの設定特性が失われ、特性の低
下が起る。さらに、前記吸湿の程度は製造工程の雰囲気
に大きく左右されるので、変換パネル毎の特性のバラツ
キが大きく、品質信頼性が失われる等の問題がある。そ
こで、加熱乾燥の手段をとると、空気膨張による変換パ
ネルの破壊、変形が起り性能耐久性をはかる密封形態は
採用できなくなる。
In addition, even if a protective layer is provided on the stimulable layer and the periphery of the conversion panel is sealed, the stimulable phosphor absorbs moisture during the process of manufacturing the conversion panel, and the set characteristics of the conversion panel are lost. A drop occurs. Further, since the degree of the moisture absorption largely depends on the atmosphere in the manufacturing process, there is a problem that the characteristics of the conversion panels vary widely and quality reliability is lost. Therefore, when a means of heating and drying is employed, the conversion panel is broken and deformed due to air expansion, so that it is not possible to adopt a sealed form for measuring performance durability.

前記情況に照し本発明の目的は輝尽性蛍光体への水分
の侵入による劣化を防ぎ、設定性能を保証し、かつ性能
耐久性のよい放射線画像変換パネルの提供にある。
In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a radiation image conversion panel that prevents deterioration due to intrusion of moisture into a stimulable phosphor, guarantees setting performance, and has good performance durability.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明は、支持体、輝尽性蛍光体層及び保護層体を有
し、支持体と保護層体の間に、輝尽性蛍光体層の周縁を
取り囲むスペーサを設けて密閉する放射線画像変換パネ
ルの製造方法において、スペーサに通気口となる切欠き
を設け、放射線画像変換パネルを加熱乾燥した後、該切
欠きを封着し、密閉することを特徴として構成される。
The present invention provides a radiation image conversion apparatus comprising a support, a stimulable phosphor layer, and a protective layer, wherein a spacer surrounding the periphery of the stimulable phosphor layer is provided between the support and the protective layer, and sealed. The panel manufacturing method is characterized in that a notch serving as a ventilation hole is provided in the spacer, the radiation image conversion panel is heated and dried, and then the notch is sealed and hermetically sealed.

尚本発明の態様においては、前記切欠きを封着し密閉
する際、切欠きに嵌合するスペーサ片を嵌挿し、封着、
密閉することが好ましい。
In the aspect of the present invention, when sealing the notch and sealing, insert a spacer piece fitted into the notch, sealing,
It is preferable to seal.

本発明により製造される変換パネルの構成としては、
支持体と保護層体が輝尽層をはさんで存在しており、輝
尽層の周縁を取り囲んでスペーサが設けられている。輝
尽層は支持体もしくは保護層体に接着されていてもよい
が、輝尽層と保護層体が接していないのが好ましく、間
に低屈折率層が存在しているのがさらに好ましい。
The configuration of the conversion panel manufactured according to the present invention includes:
The support and the protective layer are interposed between the photostimulable layer, and a spacer is provided around the periphery of the photostimulable layer. The stimulable layer may be adhered to the support or the protective layer, but it is preferable that the stimulable layer and the protective layer are not in contact with each other, and it is more preferable that a low refractive index layer is present between the stimulable layer and the protective layer.

第1図及び第2図は本発明により製造した変換パネル
の一例を模式的に表したものであり、1は輝尽層、2は
保護層体、3は支持体、4は低屈折率層、5はスペー
サ、6は切欠きを封着した封着部材である。
FIGS. 1 and 2 schematically show an example of a conversion panel manufactured according to the present invention, wherein 1 is a photostimulable layer, 2 is a protective layer, 3 is a support, and 4 is a low refractive index layer. Reference numeral 5 denotes a spacer, and reference numeral 6 denotes a sealing member sealing the notch.

第3図及び第4図は前記スペーサの外側に更に封着部
材を充填した形態を示す。
3 and 4 show a form in which a sealing member is further filled outside the spacer.

更に第5図及び第6図はスペーサの切欠き部分に切欠
きに嵌合するスペーサ片6′を嵌挿し、スペーサとの間
を封着剤によって封着した形態であり、防湿効果に寄与
する所大である。
5 and 6 show a form in which a spacer piece 6 'fitted into the notch is inserted into the notch portion of the spacer, and the space between the spacer and the spacer is sealed with a sealing agent, which contributes to the moisture-proof effect. It is large.

また本発明においては、切欠き部分の内側には切欠き
孔に面して、封着部材、スペーサ片の封着に用いる封着
剤の流入による輝尽層汚損防止のための衝立部材を加熱
乾燥(脱気)に支障のない形態で設けてもよい。
Further, in the present invention, the partition member facing the notch hole inside the notch portion for preventing contamination of the photostimulable layer due to inflow of the sealing member used for sealing the spacer piece is heated. It may be provided in a form that does not hinder drying (degassing).

本発明において用いられる保護層体としては、透光性
がよく、シート状に成形できるものが使用される。保護
層体は輝尽励起光及び輝尽発行を効率よく透過するため
に、広い波長範囲で高い光透過率を示すことが望まし
く、光透過率は80%以上が好ましい。
As the protective layer body used in the present invention, a protective layer body having a good light-transmitting property and capable of being formed into a sheet shape is used. In order to efficiently transmit the photostimulated excitation light and the photostimulated emission, the protective layer preferably has a high light transmittance in a wide wavelength range, and the light transmittance is preferably 80% or more.

そのようなものとしては、例えば、硼珪酸ガラス、化
学的強化ガラス等の板ガラスや、PET、延伸ポリプロピ
レン、ポリ塩化ビニル等の有機高分子化合物が挙げられ
る。硼珪酸ガラスは330nm〜2.6μmの波長範囲で80%以
上の光透過率を示し、石英ガラスではさらに短波長にお
いても高い光透過率を示す。
Examples of such a material include plate glass such as borosilicate glass and chemically strengthened glass, and organic polymer compounds such as PET, drawn polypropylene, and polyvinyl chloride. Borosilicate glass shows a light transmittance of 80% or more in the wavelength range of 330 nm to 2.6 μm, and quartz glass shows a high light transmittance even at a shorter wavelength.

さらに、保護層体の表面に、MgF2等の反射防止層を設
けると、輝尽励起光及び輝尽発光を効率よく透過すると
ともに、鮮鋭性の低下を小さくする効果もあり好まし
い。
Further, it is preferable to provide an anti-reflection layer such as MgF 2 on the surface of the protective layer body, because it has an effect of efficiently transmitting the stimulating light and the stimulating light and also has the effect of reducing the decrease in sharpness.

また、保護層体の厚さは、50μm〜5mmであり、良好
な防湿性を得るためには、100μm〜3mmが好ましい。
The thickness of the protective layer is 50 μm to 5 mm, and preferably 100 μm to 3 mm in order to obtain good moisture proofness.

支持体又は保護層体上に輝尽層を形成せしめた後、支
持体と保護層体の間に、輝尽層を取り囲んでスペーサを
設けるが、そのようなスペーサとしては、輝尽層を外部
雰囲気から遮断した状態で保持することができるもので
あれば特に制限されず、ガラス、セラミックス、金属、
プラスチック等を用いることができる。
After forming the photostimulable layer on the support or the protective layer, a spacer is provided between the support and the protective layer so as to surround the photostimulable layer. There is no particular limitation as long as it can be held in a state of being shielded from the atmosphere, and glass, ceramics, metal,
Plastic or the like can be used.

また、スペーサは、その透湿度が30g/m2・24hr以下で
あることが好ましい。この透湿度があまり大きすぎる場
合には、外部から侵入する水分により輝尽性蛍光体が劣
化するために好ましくない。
The spacer preferably has a moisture permeability of 30 g / m 2 · 24 hr or less. If the moisture permeability is too large, the stimulable phosphor deteriorates due to moisture entering from the outside, which is not preferable.

スペーサの厚さは、輝尽層の厚さ以上の厚さであるこ
とが好ましく、スペーサの幅は、主に、このスペーサと
支持体及び保護層体との密着部分の防湿性(前記透湿
度)に関連して決定されるものであり、1〜30mmが好ま
しい。スペーサの幅があまり小さすぎる場合にはスペー
サの安定性、強度及び防湿性の点から好ましくない。ま
た、あまり大きすぎる場合には必要以上に変換パネルが
大型化するので好ましくない。
The thickness of the spacer is preferably equal to or greater than the thickness of the photostimulable layer, and the width of the spacer mainly depends on the moisture-proof property (the moisture permeability) of the contact portion between the spacer, the support and the protective layer. ) And is preferably 1 to 30 mm. If the width of the spacer is too small, it is not preferable from the viewpoints of the stability, strength, and moisture resistance of the spacer. If the size is too large, the size of the conversion panel becomes unnecessarily large, which is not preferable.

なお、スペーサと支持体及び保護層体との密着部分の
透湿度は、30g/m2・24hr以下であることが好ましい。
In addition, it is preferable that the moisture permeability of the contact portion between the spacer, the support and the protective layer is 30 g / m 2 · 24 hr or less.

スペーサは、支持体と保護層体に密着していることが
変換パネルに防湿性を付与する点及び低屈折率層の層厚
を一定に保持する点から必要である。ここでスペーサを
支持体及び保護層体に密着させるには、例えば接着剤等
を用いるが、この接着剤としては防湿性を有するものが
好ましい。具体的には、エポキシ系樹脂、フェノール系
樹脂、シアノアクリレート系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、
塩化ビニル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、
エチレン酢酸ビニル系樹脂、オレフィン系樹脂、クロロ
プレン系ゴム、ニトリル系ゴム等の有機高分子系接着剤
や、シリコーン系接着剤、アルミナ、シリカ等を主成分
とする無機系接着剤等が挙げられる。これらのなかでも
半導体や電子部品の封止に用いられるエポキシ系樹脂や
シリコーン系樹脂は耐湿性が優れているので好ましく、
特にエポキシ系接着剤は透湿度が低く好適である。
The spacer is required to be in close contact with the support and the protective layer in order to impart moisture-proof properties to the conversion panel and to keep the thickness of the low refractive index layer constant. Here, for example, an adhesive or the like is used for bringing the spacer into close contact with the support and the protective layer, and the adhesive is preferably one having moisture resistance. Specifically, epoxy resin, phenol resin, cyanoacrylate resin, vinyl acetate resin,
Vinyl chloride resin, urethane resin, acrylic resin,
Organic polymer adhesives such as ethylene vinyl acetate resin, olefin resin, chloroprene rubber, and nitrile rubber, silicone adhesives, and inorganic adhesives containing alumina, silica, and the like as main components, and the like. Among these, epoxy resins and silicone resins used for encapsulating semiconductors and electronic components are preferable because of their excellent moisture resistance,
In particular, epoxy adhesives are suitable because they have low moisture permeability.

なお、スペーサの支持体又はスペーサと保護層体との
密着部分の接着性を向上させる目的で、スペーサ、支持
体及び保護層体の他の層との接触面に下引き層を設けた
り、粗面化処理を施すこともできる。
For the purpose of improving the adhesion of the spacer support or the contact portion between the spacer and the protective layer body, an undercoat layer may be provided on the contact surface of the spacer, the support and the protective layer body with other layers, Surface treatment can also be performed.

かくして構成された変換パネルは、次に、加熱乾燥し
て輝尽層に含有された水分を除去するが、その際に、前
記スペーサに切欠きを有することが、本発明の特徴であ
る。
The thus-configured conversion panel is then heated and dried to remove the moisture contained in the photostimulable layer. At this time, it is a feature of the present invention that the spacer has a notch.

スペーサの切欠きは、スペーサのどの部分にあって
も、何箇所あってもよいが、好ましくは1〜2箇所であ
る。切欠きの幅は、変換パネルの大きさ、切欠きの個数
によっても異なるが、2〜40mmの間から選ばれるのが適
当である。幅が狭すぎると乾燥が十分行なわれない。ま
た、広すぎると、接着剤による封着、密閉が困難となっ
たり、耐久性が低下したりして好ましくない。
The notch of the spacer may be at any part of the spacer or at any number of places, but preferably at one or two places. The width of the notch varies depending on the size of the conversion panel and the number of notches, but is suitably selected from the range of 2 to 40 mm. If the width is too narrow, drying is not performed sufficiently. On the other hand, if the width is too large, it is difficult to seal and seal with an adhesive, or the durability is lowered, which is not preferable.

加熱乾燥は40〜100℃で0.1〜3時間行い、減圧下で行
うと除湿効果が高く好ましい。
Heat drying is carried out at 40 to 100 ° C. for 0.1 to 3 hours, and is preferably performed under reduced pressure because the dehumidifying effect is high.

加熱乾燥後直ちに、スペーサの切欠きは例えば前述の
接着剤を用いて封着し、密閉する。乾燥後変換パネル内
部の空気を乾燥ガスと置換すると、変換パネルの設定性
能を保持することができてより好ましい。また、切欠き
の封着、密閉は乾燥ガス雰囲気中で行なうと切欠きから
の水分の侵入を防止でき、好ましい。
Immediately after the heating and drying, the notch of the spacer is sealed using, for example, the above-mentioned adhesive and sealed. It is more preferable to replace the air inside the conversion panel with a dry gas after drying because the set performance of the conversion panel can be maintained. It is preferable that the notch be sealed and sealed in a dry gas atmosphere because moisture can be prevented from entering through the notch.

本発明により製造される変換パネルは、スペーサの外
側や変換パネルの周縁を封着部材でさらに封着すると、
より防湿効果が高まり好ましい。封着は、封着部材とし
て前記の接着剤を用いたり、低融点ガラス等の封着用ガ
ラスを用いてガラス融着により封着したり、保護層体の
延長部で封着する等の方法が挙げられるが、特にガラス
融着は、気密性が優れているので好ましい。
The conversion panel manufactured according to the present invention further seals the outside of the spacer and the periphery of the conversion panel with a sealing member.
It is preferable because the moisture-proof effect is enhanced. Sealing is performed by using the above-mentioned adhesive as a sealing member, sealing by glass fusion using sealing glass such as low-melting glass, or sealing with an extension of the protective layer body. Among them, glass fusion is particularly preferred because of its excellent airtightness.

更に切欠きに嵌合するスペーサ片を嵌挿する形態で
は、輝尽層の加熱乾燥後、スペーサ片を嵌挿し、前記し
た接着剤で封着すればよい。
Further, in a mode in which a spacer piece that fits into the notch is inserted, after heating and drying the stimulating layer, the spacer piece may be inserted and sealed with the above-mentioned adhesive.

この形態では、スペーサ片はスペーサと同材質のもの
が好ましい。また使用する接着剤にはヤング率と熱膨張
係数の積の値が0.3(N/m2)(0K-1)以下のものが好ま
しい。
In this embodiment, the spacer piece is preferably made of the same material as the spacer. The adhesive used preferably has a product of Young's modulus and coefficient of thermal expansion of 0.3 (N / m 2 ) ( 0 K −1 ) or less.

本発明により製造される変換パネルにおいては、輝尽
層と保護層体の間に低屈折率層を有していると保護層体
による鮮鋭性の低下が抑制されるので好ましい。
In the conversion panel manufactured according to the present invention, it is preferable to have a low refractive index layer between the photostimulable layer and the protective layer, since the sharpness reduction due to the protective layer is suppressed.

この低屈折率層はスペーサにより外部雰囲気から遮断
された状態で存在するものであり、このように低屈折率
層を設けることにより保護層体の厚さを実質的により厚
くすることができるために、変換パネルの防湿性及び耐
久性をいっそう向上させることができる。
The low-refractive-index layer exists in a state where the low-refractive-index layer is shielded from the external atmosphere by the spacer. The provision of the low-refractive-index layer makes it possible to substantially increase the thickness of the protective layer body. In addition, the moisture proof property and durability of the conversion panel can be further improved.

そのような低屈折率層としては、空気、窒素、アルゴ
ン等の不活性な気体からなる層及び真空層などの屈折率
が実質的に1である層;エタノール(屈折率1.36)、メ
タノール(屈折率1.33)及びジエチルエーテル(屈折率
1.35)等の液体からなる層にすることもできる。低屈折
率層はこれ等以外にも、例えば、CaF2(屈折率1.23〜1.
26)、Na2AlF6(屈折率1.35)、MgF2(屈折率1.38)、S
iO2(屈折率1.46)等の物質からなる層にすることもで
きる。
Examples of such a low refractive index layer include a layer made of an inert gas such as air, nitrogen, and argon, and a layer having a refractive index of substantially 1 such as a vacuum layer; ethanol (refractive index: 1.36), methanol (refractive index). 1.33) and diethyl ether (refractive index)
It can also be a layer composed of a liquid such as 1.35). In addition to these, the low refractive index layer may be, for example, CaF 2 (refractive index 1.23 to 1.
26), Na 2 AlF 6 (refractive index 1.35), MgF 2 (refractive index 1.38), S
It can also be a layer made of a material such as iO 2 (refractive index 1.46).

本発明により製造される変換パネルの低屈折率層とし
ては、気体層又は真空層であることが、鮮鋭性の低下を
防止する効果が高いことから好ましい。
The low-refractive-index layer of the conversion panel manufactured by the present invention is preferably a gas layer or a vacuum layer because of its high effect of preventing sharpness from decreasing.

低屈折率層の厚さは、0.05μm〜3mmまでが実用的で
ある。
The thickness of the low refractive index layer is practically 0.05 μm to 3 mm.

低屈折率層に、鮮鋭性の低下を小さくするという効果
を十分に付与するためには低屈折率層が輝尽層と密着状
態にあることが好ましい。従って、低屈折率層が液体
層、気体層及び真空層の場合にはそのままでよいが、低
屈折率層を上記のCaF2,Na3AlF6、MgF2、SiO2などで保護
層体の表面に形成した場合などには、輝尽層と低屈折率
層を例えば接着剤などにより密着させる。この場合には
接着剤の屈折率は輝尽層の屈折率に近似したものである
ことが好ましい。
In order to sufficiently impart the effect of reducing sharpness reduction to the low refractive index layer, the low refractive index layer is preferably in close contact with the photostimulable layer. Therefore, if the low refractive index layer is a liquid layer, a gas layer and a vacuum layer, it may be left as it is, but the low refractive index layer is the above-mentioned CaF 2 , Na 3 AlF 6 , MgF 2 , SiO 2, etc. When formed on the surface, the stimulable layer and the low-refractive-index layer are brought into close contact with each other by, for example, an adhesive. In this case, the refractive index of the adhesive is preferably close to the refractive index of the photostimulable layer.

本発明において使用される輝尽性蛍光体は、最初の光
もしくは高エネルギー放射線が照射された後に、光的、
熱的、機械的、化学的又は電気的等の刺激(輝尽励起)
により、最初の光もしくは高エネルギー放射線の照射量
に対応した輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用的な面
から好ましくは500nm以上の励起光によって輝尽発光を
示す蛍光体である。そのような輝尽性蛍光体としては、
例えば特開昭48−80487号に記載されているBaSO4:AX、
特開昭48−80489号に記載されているSrSO4:AX、特開昭5
3−39277号のLi2B4O7:Cu,Ag等、特開昭54−47883号のLi
2O・(B2O2)x:Cu及びLi2O・(B2O2)x:Cu,Ag等、米国
特許3,859,527号のSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,Sm、La2O2S:Eu、
Sm及び(Zn,Cd)S:Mn,で示される蛍光体が挙げられる。
The stimulable phosphor used in the present invention, after being exposed to the first light or high-energy radiation,
Stimulation such as thermal, mechanical, chemical or electrical (stimulated excitation)
Is a phosphor that exhibits stimulated emission corresponding to the amount of the first light or high-energy radiation. However, from a practical viewpoint, it is preferably a phosphor that exhibits stimulated emission by excitation light of 500 nm or more. As such a stimulable phosphor,
For example BaSO are described in JP 48-80487 4: AX,
SrSO are described in JP 48-80489 4: AX, JP 5
3-39277 Li 2 B 4 O 7 : Cu, Ag, etc.
2 O · (B 2 O 2 ) x: Cu and Li 2 O · (B 2 O 2) x: Cu, Ag , etc., in U.S. Pat. No. 3,859,527 SrS: Ce, Sm, SrS : Eu, Sm, La 2 O 2 S: Eu,
Phosphors represented by Sm and (Zn, Cd) S: Mn.

また、特開昭55−12142号に記載されているZnS:Cu,Pb
蛍光体、一般式BaO・xAl2O3:Euで示されるアルミン酸バ
リウム蛍光体、及び一般式MIIO・xSiO2:Aで示されるア
ルカリ土類金属珪酸塩系蛍光体が挙げられる。また、特
開昭55−12143号に記載されている一般式 (Ba1 x yMgxCay)FX:eEu2+ で示されるアルカリ土類弗化ハロゲン化物蛍光体、特開
昭55−12144号に記載されている一般式 LnOX:xA で示される蛍光体、特開昭55−12145号に記載されてい
る一般式 (Ba1MIIx)FX:yA で示される蛍光体、特開昭55−84389号に記載されてい
る一般式 BaFX:xCe.yA で示される蛍光体、特開昭55−160078号に記載されてい
る一般式 MIIxFX・xA:yLn で示される希土類元素付活2価金属フルオルハライド蛍
光体、一般式ZnS:A、CdS:A、(Zn,Cd)S:A、S:A,ZnS:A,
X及びCdS:A,Xで示される蛍光体、特開昭59−38278号に
記載されている下記いずれかの一般式 xM3(PO4・NX2:yA M3(PO42:yA で示される蛍光体、特開昭59−155487号に記載されてい
る下記のいずれかの一般式 nReX3・mAX′2:xEu nReX3・mAX′2:xEu,ySm で示される蛍光体、特開昭61−72087号に記載されてい
る下記一般式 MIX・aMIIX′・bMIIIX″3:cA で示されるアルカリハライド蛍光体等が挙げられる。特
にアルカリハライド蛍光体は、蒸着・スパッタリング等
の方法で輝尽層を形成しやすく好ましい。
Further, ZnS: Cu, Pb described in JP-A-55-12142
Phosphor, the general formula BaO · xAl 2 O 3: barium aluminate phosphor represented by Eu, and the general formula M II O · xSiO 2: alkaline earth metal silicate phosphor represented by A are exemplified. Further, an alkaline earth fluoride halide represented by the general formula (Ba 1 x yMgxCay) FX: eEu 2+ described in JP-A-55-12143, described in JP-A-55-12144. and has the general formula LnOX: phosphor represented by xA, the general formulas described in JP-a-55-12145 (Ba 1 M II x) FX: phosphor represented by yA, JP 55-84389 A phosphor represented by the general formula BaFX: xCe.yA described in JP-A-55-160078; and a rare earth element-activated divalent metal full represented by the general formula M II xFX.xA: yLn described in JP-A-55-160078. Orhalide phosphor, general formula ZnS: A, CdS: A, (Zn, Cd) S: A, S: A, ZnS: A,
X and CdS: a phosphor represented by A, X, any one of the following general formulas xM 3 (PO 4 ) 2 .NX 2 : yAM 3 (PO 4 ) 2 described in JP-A-59-38278. phosphor represented by yA, any one of formulas nReX below that is described in JP-a-59-155487 3 · mAX '2: xEu nReX 3 · mAX' 2: xEu, phosphor represented by ySm the following general are described in JP-a-61-72087 formula M I X · aM II X ' 2 · bM III X "3:. alkali halide phosphor, etc. represented by cA can be mentioned in particular alkali halide phosphor Is preferred since a photostimulable layer can be easily formed by a method such as vapor deposition or sputtering.

また、アルカリ土類フルオルハライド蛍光体、アルカ
リハライド蛍光体は特に水分による劣化が著しく、本発
明による効果が大きい。
In addition, alkaline earth fluorohalide phosphors and alkali halide phosphors are particularly remarkably deteriorated by moisture, and the effect of the present invention is great.

しかし、本発明において用いられる輝尽性蛍光体は、
前述の蛍光体に限られるものではなく、放射線を照射し
た後輝尽励起光を照射した場合に輝尽発光を示す蛍光体
であればいかなる蛍光体であってもよい。
However, the stimulable phosphor used in the present invention is:
The phosphor is not limited to the above-described phosphor, and any phosphor may be used as long as it emits stimulating light when irradiated with stimulating excitation light after irradiation with radiation.

本発明の方法においては、前記輝尽性蛍光体の層は、
支持体や保護層上に塗布法や気相成長法等を用いて形成
せしめる。
In the method of the present invention, the stimulable phosphor layer comprises:
It is formed on a support or a protective layer by a coating method, a vapor deposition method, or the like.

そのような輝尽層は、前記の輝尽性蛍光体の少なくと
も一種類を含む一つ若しくは二つ以上の輝尽層から成る
輝尽層群であってもよい。また、それぞれの輝尽層に含
まれる輝尽性蛍光体は同一であってもよいが異なってい
てもよい。
Such a photostimulable layer may be a photostimulable layer group comprising one or more photostimulable layers containing at least one of the aforementioned photostimulable phosphors. Further, the stimulable phosphor contained in each stimulable layer may be the same or different.

変換パネルの輝尽層の層厚は、目的とする変換パネル
の放射線に対する感度、輝尽性蛍光体の種類等によって
異なるが、結着剤を含有しない場合10μm〜1000μmの
範囲、好ましくは20μm〜800μmの範囲から選ばれ、
結着剤を含有する場合で20μm〜1000μmの範囲、好ま
しくは50μm〜500μmの範囲から選ばれる。
The thickness of the stimulable layer of the conversion panel varies depending on the sensitivity of the intended conversion panel to radiation, the type of stimulable phosphor, etc., but when no binder is contained, a range of 10 μm to 1000 μm, preferably 20 μm to Selected from the range of 800 μm,
When it contains a binder, it is selected from the range of 20 μm to 1000 μm, preferably the range of 50 μm to 500 μm.

本発明において使用される支持体としては各種の高分
子材料、ガラス、セラミックス、金属等が挙げられる。
Examples of the support used in the present invention include various polymer materials, glass, ceramics, and metals.

高分子材料としては例えばセルロースアセテートフィ
ルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリ
カーボネート等のフィルムが挙げられる。金属として
は、アルミニウム、鉄、銅、クロム等の金属シート又は
金属板或は該金属酸化物の被覆層を有する金属シート又
は金属板が挙げられる。ガラスとしては化学的強化ガラ
スや結晶化ガラスなどが挙げられる。またセラミックス
としてはアルミナやジルコニアの焼結板などが挙げられ
る。
Examples of the polymer material include films of cellulose acetate film, polyester film, polyethylene terephthalate, polyamide, polyimide, triacetate, polycarbonate and the like. Examples of the metal include a metal sheet or metal plate of aluminum, iron, copper, chromium, or the like, or a metal sheet or metal plate having a coating layer of the metal oxide. Examples of the glass include chemically strengthened glass and crystallized glass. Examples of the ceramic include a sintered plate of alumina or zirconia.

また、これら支持体の層厚は用いる支持体の材質等に
よって異なるが、一般的には80μm〜5mmであり、取り
扱いが容易であるという点及び良好な防湿性を得るとい
う点から、好ましくは200μm〜3mmである。
Further, the layer thickness of these supports varies depending on the material of the support to be used and the like, but is generally 80 μm to 5 mm, and is preferably 200 μm from the viewpoint of easy handling and obtaining good moisture-proof properties. ~ 3mm.

これら支持体の表面は滑面であってもよいし、輝尽性
蛍光体層との接着性を向上させる目的でマット面として
もよい。また、支持体の表面は凹凸面としてもよいし、
個々に独立した微小タイル状板を密に配置した表面構造
としてもよい。
The surface of the support may be a smooth surface or a mat surface for the purpose of improving the adhesion to the stimulable phosphor layer. Also, the surface of the support may be an uneven surface,
A surface structure in which minute tile plates independent of each other are densely arranged may be used.

さらに、これら支持体上には、輝尽層との接着性を向
上させる目的で輝尽層が設けられる面に下引層を設けて
もよいし、必要に応じて光反射層、光吸収層等に設けて
もよい。
Further, on these supports, an undercoat layer may be provided on the surface on which the stimulable layer is provided for the purpose of improving the adhesiveness with the stimulable layer, and if necessary, a light reflecting layer and a light absorbing layer may be provided. And so on.

本発明により製造される変換パネルは、第7図に概略
的に示される放射線画像変換方法に用いられる。
The conversion panel manufactured according to the present invention is used in a radiation image conversion method schematically shown in FIG.

すなわち、放射線発生装置41からの放射線は、被写体
42を通して変換パネル43に入射する。
That is, the radiation from the radiation generator 41
The light enters the conversion panel 43 through 42.

この入射した放射線はパネル43の輝尽層に吸収され、
そのエネルギーが蓄積され、放射線透過像の蓄積像が形
成される。
This incident radiation is absorbed by the photostimulable layer of panel 43,
The energy is accumulated, and an accumulation image of the radiation transmission image is formed.

次にこの蓄積像を輝尽励起光源44からの輝尽励起光で
励起して輝尽発光の強弱は蓄積された放射線エネルギー
量に比例するので、この光信号を例えば光電子増倍管等
の光電変換装置45で光電変換し、画像再生装置46によっ
て画像として再生し画像表示装置47によって表示するこ
とにより、被写体の放射線透過像を観察することができ
る。
Next, the accumulated image is excited by the stimulating light from the stimulating light source 44, and the intensity of the stimulating light is proportional to the amount of accumulated radiation energy. By performing the photoelectric conversion by the conversion device 45, reproducing the image by the image reproduction device 46, and displaying the image by the image display device 47, the radiation transmission image of the subject can be observed.

本発明の方法により変換パネルを製造すれば、加熱乾
燥により水分を除去した輝尽層を乾燥状態のままに保つ
ことができるので、変換パネルの設定性能を保証するこ
とができる。
When the conversion panel is manufactured by the method of the present invention, the stimulable layer from which moisture has been removed by heating and drying can be kept in a dry state, so that the setting performance of the conversion panel can be guaranteed.

〔実施例〕〔Example〕

次に本発明を実施例によって説明する。 Next, the present invention will be described with reference to examples.

実施例1 1mm厚の結晶化ガラス支持体(400mm×500mm)を、エ
レクトロンビーム法(EB法)による蒸着装置中に設置し
た。次いで、水冷した坩堝にアルカリハライド蛍光体
(RbBr;0.0006Tl)を入れ、プレスして坩堝の形状に成
形した。
Example 1 A crystallized glass support (400 mm × 500 mm) having a thickness of 1 mm was set in a vapor deposition apparatus by an electron beam method (EB method). Next, an alkali halide phosphor (RbBr; 0.0006Tl) was placed in a water-cooled crucible and pressed to form a crucible.

続いて、蒸着装置内に排気っし、5×10-6Torrの真空
度とした。次に、支持体を80〜100℃に保持しながら、E
Bガンに電力を供給して輝尽性蛍光体を蒸発させた。
Subsequently, the inside of the vapor deposition apparatus was evacuated to a vacuum degree of 5 × 10 −6 Torr. Next, while holding the support at 80 to 100 ° C.,
Power was supplied to the B gun to evaporate the stimulable phosphor.

目的とする輝尽層を得るために膜厚モニタにより蒸着
速度が104Å/minとなるようにコントロールした。ま
た、電子ビームは坩堝の輝尽性蛍光体表面をラスター状
にスキャンさせた。
In order to obtain the desired photostimulable layer, the deposition rate was controlled by a film thickness monitor so as to be 10 4 l / min. The electron beam scanned the stimulable phosphor surface of the crucible in a raster shape.

輝尽層の層厚が300μmとなったところで蒸着を終了
させた。
The vapor deposition was terminated when the thickness of the photostimulable layer reached 300 μm.

前記輝尽層上に、400μm厚さの空気層が設けられる
ように、厚さ700μmで幅5mmのガラスのスペーサを第1
図に示したように配置し、スペーサには1箇所切欠き
(幅10mm)を設けた。スペーサと支持体はエポキシ樹脂
系接着剤(AV−138,チバガイギー社製)にて密着した。
First, a glass spacer having a thickness of 700 μm and a width of 5 mm is provided on the first layer so that an air layer having a thickness of 400 μm is provided on the photostimulated layer.
They were arranged as shown in the figure, and the spacer was provided with one notch (width 10 mm). The spacer and the support were adhered with an epoxy resin adhesive (AV-138, manufactured by Ciba-Geigy).

次いで、厚さ1mmのガラスの保護層体をスペーサ上に
載置し、スペーサと保護層体が接する部分を上記のエポ
キシ樹脂系接着剤にて密着した。
Next, a protective layer of glass having a thickness of 1 mm was placed on the spacer, and the portion where the spacer and the protective layer were in contact was adhered with the epoxy resin-based adhesive.

このものを1×10-2mmHgの減圧下、80℃で2時間加熱
乾燥した後、直ちにスペーサの切欠きを上記のエポキシ
樹脂系接着剤にて封着して密閉し、第1図に示した変換
パネルを製造した。
This was dried by heating at 80 ° C. under a reduced pressure of 1 × 10 −2 mmHg for 2 hours, and then the notch of the spacer was immediately sealed with the above epoxy resin adhesive and hermetically sealed, as shown in FIG. A conversion panel was manufactured.

かくして得られた放射線画像変換パネルについての評
価は、変換パネルを、45℃、85%RHの条件下で60日間及
び120日間放置して強制劣化させ、感度低下率及びフェ
ーディング低下率を調べることにより行なった。
Evaluation of the radiation image conversion panel obtained in this way is to leave the conversion panel for 60 days and 120 days under the conditions of 45 ° C and 85% RH for forced deterioration, and to examine the sensitivity reduction rate and fading reduction rate. Performed by

また、支持体上の輝尽層を保護層体及びスペーサによ
り封着、密閉(封止)して本発明により変換パネルを製
造した場合の封止前後での感度低下率及びフェーディン
グ低下率を調べ、変換パネル製造時の性能劣化を評価し
た。なお、封止前のプレートの性能は水分の影響を除去
するため、真空中で評価し、基準とした。結果を第2表
に示した。
Further, when the stimulable layer on the support is sealed and sealed (sealed) with a protective layer body and a spacer to produce a conversion panel according to the present invention, the rate of decrease in sensitivity and the rate of decrease in fading before and after sealing are determined. Investigation was made to evaluate the performance degradation during the production of the conversion panel. In addition, the performance of the plate before sealing was evaluated in a vacuum and used as a reference in order to remove the influence of moisture. The results are shown in Table 2.

感度低下率:P 管電圧80KVpのX線を10mR照射し、t秒後に半導体レ
ーザ光(780nm、20mW)で輝尽励起し、輝尽層から放射
される輝尽発光を光検出器(光電子増倍管)で光電変換
し、得られた電気信号の大きさを変換パネルの感度S
(t sec)とした。
Sensitivity reduction rate: P Irradiate 10mR of X-ray with 80KVp tube voltage, and after t seconds, stimulate excitation by semiconductor laser light (780nm, 20mW), and detect photostimulated emission emitted from photostimulated layer by photodetector The magnitude of the obtained electric signal is converted into the sensitivity S of the conversion panel.
(T sec).

X線照射から5秒後における、封止前の変換パネルの
感度S05sec)、封止後の強制劣化試験前の変換パネル
の感度Sst5sec)及び強制劣化試験後の変換パネルの
感度S605sec)から感度低下率(P)を次式により求
めた。
Five seconds after the X-ray irradiation, the sensitivity S 0 ( 5 sec) of the conversion panel before sealing, the sensitivity S st ( 5 sec) of the conversion panel before the forced degradation test after sealing, and the conversion after the forced degradation test From the sensitivity S 60 ( 5 sec) of the panel, the sensitivity reduction rate (P) was determined by the following equation.

フェーディング低下率:Q X線を照射してからレーザ光で信号を読取るまでの間
における蓄積エネルギーの減衰率、すなわちフェーディ
ング:Fは次式により求められる。
Fading reduction rate: Q The decay rate of the stored energy between the irradiation of the X-rays and the reading of the signal with the laser beam, that is, the fading: F, can be obtained by the following equation.

ただし、S(120sec)はX線照射から120秒後の感度、
S(5sec)は5秒後の感度を表す。
However, S ( 120 sec) is the sensitivity 120 seconds after X-ray irradiation,
S ( 5 sec) represents the sensitivity after 5 seconds.

封止前の変換パネルのフェーディングF0、封止後の強
制劣化試験前のフェーディングFst及び強制劣化試験後
のフェーディングF60から次式によりフェーディング低
下率(Q)を求めた。
From the fading F 0 of the conversion panel before sealing, the fading F st after sealing before the forced deterioration test, and the fading F 60 after the forced deterioration test, the fading reduction rate (Q) was determined by the following equation.

鮮鋭性 強制劣化試験前の変換パネルについて、空間周波数1l
p/mmにおけるMTF(変調伝達関数 %)を求め、変換パ
ネルの鮮鋭性を評価した。
Sharpness Regarding the conversion panel before the forced deterioration test, spatial frequency 1 l
The MTF (modulation transfer function%) at p / mm was determined, and the sharpness of the conversion panel was evaluated.

実施例2〜5 変換パネルの真空乾燥条件及び切欠き部の幅、密閉に
用いる封着剤を第1表に示したようにしたことを除いて
は実施例1と同様にして変換パネルを製造した。ただ
し、実施例4は、実施例1の真空乾燥のかわりに保護層
体を封着する前に真空乾燥を行なった。
Examples 2 to 5 A conversion panel was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the vacuum drying conditions of the conversion panel, the width of the notch, and the sealing agent used for sealing were as shown in Table 1. did. However, in Example 4, vacuum drying was performed before sealing the protective layer in place of the vacuum drying of Example 1.

得られた変換パネルについて実施例1と同様の評価を
行なった。
The same conversion as in Example 1 was performed on the obtained conversion panel.

実施例6 ガラスのスペーサの厚さを300μm、ガラスの保護層
体の厚さを500μmとし、保護層体と輝尽層との接着面
をポリウレタン系接着剤(セメダイン1300、セメダイン
社製)で接着した以外は実施例1と同様にして変換パネ
ルを製造し、得られた変換パネルを評価した。
Example 6 The thickness of the glass spacer was set to 300 μm, the thickness of the glass protective layer was set to 500 μm, and the bonding surface between the protective layer and the photostimulable layer was bonded with a polyurethane-based adhesive (Cemedine 1300, manufactured by Cemedine). A conversion panel was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the conversion panel was performed, and the obtained conversion panel was evaluated.

実施例7 実施例1において、スペーサの切欠きをエポキシ樹脂
系接着剤で封着して密閉した後、スペーサの外周て支持
体と保護層体との間隙部を実施例1で使用したエポキシ
樹脂系接着剤で封着した以外は実施例1と同様にして変
換パネルを製造し、得られた変換パネルを評価した。
Example 7 In Example 1, after the notch of the spacer was sealed with an epoxy resin-based adhesive and hermetically sealed, the gap between the support and the protective layer around the spacer was used in Example 1. A conversion panel was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the conversion panel was sealed with a system adhesive, and the obtained conversion panel was evaluated.

実施例8 輝尽層を下記の方法で形成した以外は実施例1と同様
にして本発明による変換パネルを製造した。
Example 8 A conversion panel according to the present invention was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the stimulable layer was formed by the following method.

輝尽層の形成方法は次のとおりである。まず、平均粒
子径2μmのBaFBr:Eu蛍光体8重量部及びポリビニルブ
チラール(結着剤)1重量部を溶剤(シクロヘキサノ
ン)を用いて分散して塗布液とした。次に、この塗布液
を水平に置いた実施例1と同様の支持体上に均一に塗布
し、一昼夜放置して輝尽層を形成した。
The method for forming the photostimulable layer is as follows. First, a coating solution was prepared by dispersing 8 parts by weight of a BaFBr: Eu phosphor having an average particle diameter of 2 μm and 1 part by weight of polyvinyl butyral (binder) using a solvent (cyclohexanone). Next, this coating solution was uniformly applied on the same support as in Example 1 placed horizontally, and left standing all day long to form a photostimulable layer.

得られた変換パネルについて実施例1と同様の評価を
行なった。
The same conversion as in Example 1 was performed on the obtained conversion panel.

実施例9 実施例1において、スペーサの切欠きをエポキシ樹脂
系接着剤で封着した後、更に切欠き幅と同じ幅のガラス
のスペーサ片を嵌挿して密閉した以外は実施例と同様に
して変換パネルを得た。
Example 9 In Example 1, the notch of the spacer was sealed with an epoxy resin-based adhesive, and then a glass spacer piece having the same width as the notch was further inserted and sealed. A conversion panel was obtained.

実施例10 スペーサ片にアクリル樹脂を用いた以外は実施例9と
同様にして変換パネルを得た。
Example 10 A conversion panel was obtained in the same manner as in Example 9 except that an acrylic resin was used for the spacer pieces.

実施例9及び10で得た変換パネルについて実施例1と
同様の評価を行った。
The same evaluation as in Example 1 was performed on the conversion panels obtained in Examples 9 and 10.

比較例(1) 実施例1と同様にして輝尽層を作成した後、輝尽層上
に厚さ1mmのガラス保護層体を重ね、更に、輝尽層の周
縁部分を実施例1で用いたのと同じエポキシ樹脂系接着
剤で封着し、変換パネルを製造した。得られた変換パネ
ルについて実施例1と同様の評価を行なった。
Comparative Example (1) After forming a photostimulable layer in the same manner as in Example 1, a glass protective layer having a thickness of 1 mm was overlaid on the photostimulable layer, and the peripheral portion of the photostimulable layer was used in Example 1. The panel was sealed with the same epoxy resin-based adhesive as before, and a conversion panel was manufactured. The same conversion as in Example 1 was performed on the obtained conversion panel.

比較例(2) ガラス保護層体を用いるかわりに、厚さ10μmのポリ
エチレンテレフタレートフィルムを用いた以外は比較例
(1)と同様にして変換パネルを製造した。得られた変
換パネルについて実施例1と同様の評価を行なった。
Comparative Example (2) A conversion panel was manufactured in the same manner as in Comparative Example (1) except that a polyethylene terephthalate film having a thickness of 10 μm was used instead of using the glass protective layer. The same conversion as in Example 1 was performed on the obtained conversion panel.

実施例2〜10及び比較(1)〜(2)の変換パネルに
ついての評価の結果を第2表に併記した。
Table 2 also shows the results of evaluation of the conversion panels of Examples 2 to 10 and Comparisons (1) and (2).

〔発明の効果〕 第2表より、実施例1〜10の本発明の方法により製造
した変換パネルは、製造時の水分の侵入をほとんど完全
に防止することができるため、水分による感度及びフェ
ーディング特性の劣化が著しく小さく、変換パネル製造
時の性能(設定性能)を充分に保ちえた。また、高温、
高湿度下でも設定性能を長期間維持し、優れた耐久性を
有していた。ただし、実施例6は輝尽層と保護層との間
に低屈折率層を有しないので画像の鮮鋭性が劣化した。
また、実施例7は更に長期間の強制劣化に対しても性能
の劣化が極めて少なかった。更に実施例9のように切欠
きガラスのスペーサ片を嵌挿することによって、一層の
高耐久性を示した。
[Effects of the Invention] From Table 2, it can be seen that the conversion panels manufactured by the method of the present invention of Examples 1 to 10 can almost completely prevent the invasion of water at the time of manufacturing. The deterioration of the characteristics was remarkably small, and the performance (set performance) at the time of manufacturing the conversion panel was sufficiently maintained. Also, high temperature,
The set performance was maintained for a long period of time even under high humidity, and it had excellent durability. However, in Example 6, since no low refractive index layer was provided between the photostimulable layer and the protective layer, the sharpness of the image was deteriorated.
Further, in Example 7, the deterioration of the performance was extremely small even with the forced deterioration for a longer period. Further, by inserting a notched glass spacer piece as in Example 9, higher durability was exhibited.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図〜第6図は、本発明により製造した放射線画像変
換パネルの実施例の平面図及び断面図であり、第2図は
第1図のA−A′断面図であり、第4図は第3図のB−
B′断面図であり、第6図は第5図のC−C′断面図で
ある。第7図は放射線画像変換パネルを用いる放射線画
像変換方法の説明図である。 1……輝尽層 2……保護層体 3……支持体 4……低屈折率層 5……スペーサ 6……封着部材(切欠き部分) 6′……スペーサ片 41……放射線発生装置 42……被写体 43……放射線画像変換パネル 44……輝尽励起光源 45……光電変換装置 46……放射線画像再生装置 47……放射線画像表示装置 48……フィルタ
1 to 6 are a plan view and a sectional view of an embodiment of a radiation image conversion panel manufactured according to the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along line AA 'of FIG. 1, and FIG. Is B- in FIG.
FIG. 6 is a sectional view taken along the line B ', and FIG. 6 is a sectional view taken along the line CC' of FIG. FIG. 7 is an explanatory diagram of a radiation image conversion method using a radiation image conversion panel. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Photostimulation layer 2 ... Protective layer 3 ... Support 4 ... Low refractive index layer 5 ... Spacer 6 ... Sealing member (notched portion) 6 '... Spacer piece 41 ... Radiation generation Apparatus 42 Subject 43 Radiation image conversion panel 44 Stimulation excitation light source 45 Photoelectric conversion apparatus 46 Radiation image reproducing apparatus 47 Radiation image display apparatus 48 Filter

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−237099(JP,A) 特開 昭61−237100(JP,A) 特開 昭63−216000(JP,A) 特開 平1−316697(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G21K 4/00──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (56) References JP-A-61-237099 (JP, A) JP-A-61-237100 (JP, A) JP-A-63-216000 (JP, A) JP-A-1- 316697 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) G21K 4/00

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】支持体、輝尽性蛍光体層及び保護層体を有
し、支持体と保護層体の間に、輝尽性蛍光体層の周縁を
取り囲むスペーサを設けて密閉する放射線画像変換パネ
ルの製造方法において、スペーサに通気口となる切欠き
を設け、放射線画像変換パネルを加熱乾燥した後、該切
欠きを封着し、密閉することを特徴とする放射線画像変
換パネルの製造方法。
1. A radiation image comprising a support, a stimulable phosphor layer and a protective layer, wherein a spacer surrounding the periphery of the stimulable phosphor layer is provided between the support and the protective layer to seal the radiation image. In the method for manufacturing a conversion panel, a method for manufacturing a radiation image conversion panel, comprising: providing a notch serving as a ventilation hole in a spacer; heating and drying the radiation image conversion panel; sealing and sealing the notch; .
【請求項2】前記切欠きを封着し密閉する際、切欠きに
嵌合するスペーサ片を嵌挿し、封着、密閉することを特
徴とする請求項1に記載の放射線画像変換パネルの製造
方法。
2. The method of manufacturing a radiation image conversion panel according to claim 1, wherein, when the notch is sealed and sealed, a spacer piece fitted into the notch is inserted, sealed and sealed. Method.
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