JP2672718B2 - Refractive index measuring method and apparatus - Google Patents

Refractive index measuring method and apparatus

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JP2672718B2
JP2672718B2 JP3066951A JP6695191A JP2672718B2 JP 2672718 B2 JP2672718 B2 JP 2672718B2 JP 3066951 A JP3066951 A JP 3066951A JP 6695191 A JP6695191 A JP 6695191A JP 2672718 B2 JP2672718 B2 JP 2672718B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光学ガラス等の屈折率
を広い範囲で正確にかつ迅速に測定できる屈折率測定方
法及び装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a refractive index measuring method and apparatus capable of accurately and quickly measuring the refractive index of an optical glass or the like in a wide range.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、光学ガラス等の光学製品の開発
研究や製造の現場において屈折率を測定する方法として
は、以下の方法が知られている。
2. Description of the Related Art For example, the following methods are known as methods for measuring the refractive index in the field of development research and manufacturing of optical products such as optical glass.

【0003】(1)Vブロック型屈折計を用いた方法
(例えば、特開昭61-169848 号公報参照) 図2に示されるように、この方法の概略は以下の通りで
ある。すなわち、Vブロックベース100のV字溝10
1にVブロック用試料200を載置し、このVブロック
ベース100の一方の側面より光源側横スリット装置3
00のスリットS0 から射出された光をコリメータ30
1で平行光にして入射させ、該Vブロックベース100
を通過させる。このVブロックベース100を通過した
光をテレスコープ400に入射させてスリットS0 の像
を形成させる。ここで、テレスコープ400によって形
成されるスリットS0 の像は、試料200を通過した光
による像P1 と、Vブロックベース100のみを通過し
た光による像P2 の2つの像である。これら像P1 ,P
2 間の距離Δxは、試料200の屈折率n1 とVブロッ
クベース100の屈折率n0 との差Δnに依存してい
る。すなわち、これらの間には次式で示される関係があ
る。
(1) Method using V-block type refractometer (see, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 61-169848) As shown in FIG. 2, the outline of this method is as follows. That is, the V-shaped groove 10 of the V-block base 100
1. A V block sample 200 is placed on the V block base 100, and a light source side lateral slit device 3 is provided from one side surface of the V block base 100.
Light emitted from the slit S 0 of the collimator 30
The parallel light is made incident at 1 and made incident, and the V block base 100
Through. The light passing through the V-block base 100 is made incident on the telescope 400 to form an image of the slit S 0 . Here, the images of the slit S 0 formed by the telescope 400 are two images, an image P 1 formed by the light passing through the sample 200 and an image P 2 formed by the light passing through only the V block base 100. These images P 1 , P
The distance Δx between the two depends on the difference Δn between the refractive index n 1 of the sample 200 and the refractive index n 0 of the V block base 100. That is, there is a relationship represented by the following equation between them.

【0004】 Δn={ntan-1(Δx/f)}/2……(1) ただし、fはテレスコープ400の焦点距離である。Δn = {ntan −1 (Δx / f)} / 2 (1) where f is the focal length of the telescope 400.

【0005】したがって、Vブロックベース100を屈
折率n0 が既知の材料で形成しておき、2つの像P1
2 間の距離Δxを求めれば、(1) 式により試料200
の屈折率n1 を求めることができる。
Therefore, the V block base 100 is made of a material having a known refractive index n 0 , and the two images P 1 ,
If the distance Δx between P 2 is obtained, the sample 200
It can be determined refractive index n 1 of the.

【0006】なお、Vブロックベース100は、対向す
る一対の側面が平行になるように光学研摩したガラスブ
ロックの上面側に開口角が90度でV字状をなしたV字
溝101を形成したものである。この溝の直交する2つ
の表面も光学研摩されている。また、試料200は、V
字溝101に嵌め込むことができるような直角部を有す
る直角三角柱状に形成される。この場合、試料200の
直交する2つの表面はV字溝101の2つの表面とそれ
ぞれ接触することになるが、これら面は粗研磨でよく、
これら面にVブロックベース100の屈折率と同じ屈折
率を有するインデックス・マッチング・オイルを塗布す
ることにより、密着性を確保できる。
In the V block base 100, a V-shaped groove 101 having a V-shape with an opening angle of 90 degrees is formed on the upper surface side of a glass block which is optically polished so that a pair of opposing side surfaces are parallel to each other. It is a thing. Two orthogonal surfaces of this groove are also optically polished. The sample 200 is V
It is formed into a right-angled triangular prism having a right-angled portion that can be fitted into the groove 101. In this case, the two orthogonal surfaces of the sample 200 come into contact with the two surfaces of the V-shaped groove 101, respectively, but these surfaces may be rough-polished.
Adhesion can be secured by applying index matching oil having the same refractive index as the V block base 100 to these surfaces.

【0007】この方法は、試料200に精密な光学研摩
加工する必要がなく、粗研磨でよいので、試料作製が容
易なことから、短時間で測定ができる(1個/分以下)
と共に、再現性にもすぐれている(再現性;Δn=±1
×10-5程度)。それゆえ、コンピュータ等を用いて測
定の自動化を行って検査数の多い量産品の屈折率測定に
用いられている。
[0007] In this method, it is not necessary to perform precision optical polishing processing on the sample 200, and rough polishing is sufficient. Therefore, sample preparation is easy, and therefore measurement can be performed in a short time (1 piece / minute or less).
In addition, it has excellent reproducibility (reproducibility; Δn = ± 1
× 10 -5 ). Therefore, it is used to measure the refractive index of mass-produced products with a large number of inspections by automating the measurement using a computer or the like.

【0008】 (2) レーリー干渉型屈折計を用いた方法 図3に示されるように、この方法の概略は以下の通りで
ある。すなわち、ともに正確に同一の長さを有し、か
つ、長手方向において対向する両端面が精密に平行とな
るように光学研摩された直方体状の屈折率既知の基準試
料110及び屈折率未知の被測定試料210を、長手方
向が平行になるように隣接して配置し、これらの一方の
端面より光源側縦スリット装置310の縦スリットS1
から射出された単一波長の光をコリメータ311で平行
光にして入射させ、これら基準試料110及び被測定試
料210を通過させる。そして、これら基準試料110
及び被測定試料210を通過した光を2つの縦スリット
2 ,S3 が近接して平行に設けられたダブルスリット
装置500に入射させる。次いで、縦スリットS2 ,S
3 を通過した光をテレスコープ410で集光してその焦
点面にヤングの干渉縞Psvを形成させる。ここで、この
干渉縞の位相は、基準試料110の屈折率n0 と被測定
試料210の屈折率n1 との差Δnによって定まる。し
たがって、試料110の代わりに基準試料110と同一
の試料を配置して得た干渉縞(屈折率差=Δn=0の場
合の干渉縞)の位相と、試料110を配置して得た干渉
縞(屈折率差=Δnの場合の干渉縞)の位相との差をΔ
θとすると、これらの間に次式が成り立つ。
(2) Method Using Rayleigh Interferometer Refractometer As shown in FIG. 3, the outline of this method is as follows. That is, the reference sample 110 of a rectangular parallelepiped shape and the sample of unknown refractive index, both of which have exactly the same length and are optically polished so that both end faces facing each other in the longitudinal direction are precisely parallel to each other. The measurement samples 210 are arranged adjacent to each other so that their longitudinal directions are parallel to each other, and the vertical slit S 1 of the vertical slit device 310 on the light source side is arranged from one of these end faces.
Light of a single wavelength emitted from the collimator 311 is made into parallel light and made incident, and is passed through the reference sample 110 and the sample to be measured 210. Then, these reference samples 110
Also, the light passing through the sample 210 to be measured is made incident on the double slit device 500 in which the two vertical slits S 2 and S 3 are closely arranged in parallel. Then, the vertical slits S 2 , S
The light passing through 3 is condensed by the telescope 410 to form Young's interference fringes Psv on its focal plane. Here, the phase of the interference fringes is determined by the difference Δn between the refractive index n 0 of the reference sample 110 and the refractive index n 1 of sample to be measured 210. Therefore, the phase of the interference fringes (interference fringes when the refractive index difference = Δn = 0) obtained by arranging the same sample as the reference sample 110 instead of the sample 110 and the interference fringes obtained by arranging the sample 110 The difference from the phase of (the interference fringes when the refractive index difference = Δn) is Δ
If θ, the following equation holds between them.

【0009】Δn=(Δθ・λ)/(2πD)……(2) ただし、λ;測定に用いた光の波長 D;試料210の長さ とする。Δn = (Δθ · λ) / (2πD) (2) where λ is the wavelength of light used for measurement D is the length of the sample 210.

【0010】よって、Δθを求めることにより、(2) 式
により試料210の屈折率n1 を求めることができる。
Therefore, by obtaining Δθ, the refractive index n 1 of the sample 210 can be obtained by the equation (2).

【0011】なお、干渉縞の観測及び位相差の測定は、
例えば、CCDカメラを用いたコンピュータと画像処理
の手法を用いれば、迅速・正確に行うことができる。
Observation of interference fringes and measurement of phase difference are
For example, if a computer using a CCD camera and an image processing method are used, the process can be performed quickly and accurately.

【0012】この方法は、ダブルスリットを用いた近軸
2光束干渉計を利用したものであるため、気温の変化や
振動の影響を受けにくく、±1×10-6程度の高い分解
能が得られる。それゆえ、微小な屈折率差を正確に測定
できるので、精密測定に利用されている。
Since this method uses a paraxial two-beam interferometer using a double slit, it is hardly affected by temperature changes and vibrations, and a high resolution of about ± 1 × 10 -6 can be obtained. . Therefore, a minute difference in refractive index can be accurately measured, which is used for precise measurement.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の従来
の方法には以下のような問題点があった。
However, the above-mentioned conventional method has the following problems.

【0014】(1)Vブロック型屈折計を用いた方法 この方法では、1×10-5以下の屈折率差を測定するこ
とが困難であるので、これ以下の分解能を要求される精
密測定に用いることは困難である。
(1) Method using V-block type refractometer Since it is difficult to measure a refractive index difference of 1 × 10 -5 or less by this method, it is necessary to perform a precision measurement requiring a resolution of less than this. It is difficult to use.

【0015】すなわち、屈折率差がこの程度になると、
Vブロックによる屈折角が著しく小さくなるために2つ
のスリット像の距離が著しく小さくなって2つのスリッ
ト像の判別が困難になる。スリット像の判別を可能にす
るためには、スリット像形成のためのテレスコープ等の
焦点距離を長くするか、あるいは、スリット像の変位測
定の分解能を上げる必要がある。しかしながら、テレス
コープ等の焦点距離を長くすると、温度変化による光学
系の変動の影響を大きく受けることになって、結局、測
定誤差を大きくする。また、スリット像の変位測定の分
解能を上げる方法としては、例えば、振動スリット法等
があるが、この方法を実施するには、極めて複雑で高価
な検出系が必要となるとともに、測定や解析の作業が著
しく煩雑になるため、製造現場等に用いる装置に適用す
ることは現実的でない。
That is, when the difference in refractive index is about this,
Since the refraction angle due to the V block becomes extremely small, the distance between the two slit images becomes extremely small, and it becomes difficult to distinguish the two slit images. In order to enable the discrimination of the slit image, it is necessary to lengthen the focal length of a telescope or the like for forming the slit image, or to improve the resolution of the displacement measurement of the slit image. However, if the focal length of the telescope or the like is increased, the influence of the fluctuation of the optical system due to the temperature change is greatly affected, and the measurement error is eventually increased. Further, as a method for improving the resolution of the displacement measurement of the slit image, for example, there is a vibration slit method, etc., but in order to carry out this method, an extremely complicated and expensive detection system is required, and the measurement and analysis Since the work becomes extremely complicated, it is not realistic to apply it to a device used at a manufacturing site or the like.

【0016】(2)レーリー干渉型屈折計を用いた方法 この方法によれば、1×10-6オーダーの屈折率差の測
定ができるが、逆に、屈折率差が1×10-5以上ある場
合には測定が困難となる。これは、屈折率差がこの程度
以上になると、ヤングの干渉縞の位相差が±π以上にな
るので、干渉縞の像を比較してこれら位相差を求めるこ
とが著しく困難となるからである。また、この方法で
は、試料を、基準試料との長さの差が20〜50nm以
内で、かつ、試料の両端面の研摩面精度がλ/20程度
になるように高精度研摩を施す必要があるため、測定作
業が煩雑であるという問題点もある。
(2) Method using Rayleigh interference refractometer According to this method, the difference in refractive index on the order of 1 × 10 −6 can be measured, but conversely, the difference in refractive index is 1 × 10 −5 or more. In some cases, measurement becomes difficult. This is because if the difference in refractive index is more than this level, the phase difference of Young's interference fringes is ± π or more, and it is extremely difficult to compare the images of the interference fringes to obtain these phase differences. . Further, in this method, it is necessary to polish the sample with high precision so that the difference in length from the reference sample is within 20 to 50 nm and the polished surface precision of both end faces of the sample is about λ / 20. Therefore, there is also a problem that the measurement work is complicated.

【0017】本発明は、上述の背景のもとでなされたも
のであり、光学ガラス等の屈折率を広い範囲で正確にか
つ迅速に測定できる屈折率測定方法及び装置を提供する
ことを目的としたものである。
The present invention has been made under the above-mentioned background, and an object of the present invention is to provide a refractive index measuring method and apparatus capable of accurately and quickly measuring the refractive index of an optical glass or the like in a wide range. It was done.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに、本発明は、 (1) 同一の光源から出射した光を屈折率既知の基準試
料及び屈折率未知の試料中を透過させ、これらの透過光
をそれぞれ近接して設けられた2つのスリットを通過さ
せることにより、干渉縞を形成させ、この干渉縞の位相
情報から試料の屈折率を求める屈折率測定方法におい
て、前記基準試料及び試料を透過する光の光軸に平行な
方向にZ軸を、前記近接して設けられる2つのスリット
の長手方向に平行な方向にY軸を、これらY,Z軸に直
交する方向にX軸をそれぞれとったとき、前記基準試料
及び試料を、X,Z平面に平行な同一平面上におけるZ
軸方向の長さが同一となり、かつ、この長さがY軸方向
において直線的に変化するように形成し、これにより、
前記2つのスリットを通過した光によってY軸方向に対
して所定の角度をなした斜めの干渉縞を形成させ、この
斜めの干渉縞の位相情報から試料の屈折率を求めること
を特徴とした構成とし、また、この構成1の態様とし
て、 (2) 構成1の屈折率測定方法において、前記斜めの干
渉縞をX軸方向に平行な第1のラインで切った場合にお
けるこの第1のライン上における第1の光検出強度分布
曲線と、この第1のラインに平行でY軸方向に所定距離
離れた第2のラインで前記干渉縞を切った場合における
この第2のライン上における第2の光検出強度分布曲線
とを求め、次に、これら第1及び2の光検出強度分布曲
線の間の位相差を求めることにより前記基準試料と試料
との屈折率差を求めることを特徴とした構成、 (3) 構成1の屈折率測定方法において、前記基準試料
及び試料をY軸方向に移動できるように保持し、これら
基準試料及び試料をY軸方向における第1の位置で固定
して前記斜めの干渉縞を形成し、この斜めの干渉縞をX
軸方向に平行な固定ラインで切った場合におけるこの固
定ライン上における第1の光検出強度分布曲線求め、次
に、前記基準試料及び試料をY軸方向に移動してY軸方
向における第2の位置で固定して前記斜めの干渉縞を形
成し、この斜めの干渉縞を前記固定ラインで切った場合
におけるこの固定ライン上における第2の光検出強度分
布曲線求め、次に、これら第1及び2の光検出強度分布
曲線の間の位相差を求めることにより前記基準試料と試
料との屈折率差を求めることを特徴とした構成、 (4) 構成1の屈折率測定方法において、前記斜めの干
渉縞をY軸に平行なラインで切った場合におけるこのラ
イン上における光検出強度分布曲線求め、この光検出強
度分布曲線の両端間の位相数を求めることにより前記基
準試料と試料との屈折率差を求めることを特徴とした構
成、 及び、 (5) 構成1の屈折率測定方法において、前記斜めの干
渉縞のY軸に対する角度と各干渉縞間のX軸方向の距離
を求めることによって前記基準試料と試料との屈折率差
を求めることを特徴とした構成とし、さらに、構成2ま
たは3の態様として、 (6) 構成2または3のいずれかの屈折率測定方法にお
いて、まず、前記試料のかわりに基準試料と同一の屈折
率を有する第2基準試料を用いて前記2つの光検出強度
分布曲線の位相差を求め、次に、前記第2基準試料のか
わりに試料を用いて前記2つの光検出強度分布曲線の位
相差を求め、これらの位相差の差を求めることにより前
記基準試料と試料との屈折率差を求めることを特徴とし
た構成とし、そして、構成1ないし6の他の態様とし
て、 (7) 構成1ないし7のいずれかの屈折率測定方法にお
いて、対向する一対の側面が平行になるように光学研摩
したガラスブロックの上面側に開口角が90度でV字状
をなしたV字溝を形成したVブロックを用い、前記基準
試料及び試料をこのVブロックのV字溝に嵌め込むこと
ができるような直角部を有する直角三角柱状に形成して
V字溝に嵌め込んで保持し、前記Vブロックの一方の側
面から光を入射させることにより、これら基準試料及び
試料に光を透過させることを特徴とした構成としたもの
である。
In order to solve the above problems, the present invention provides (1) transmitting light emitted from the same light source through a reference sample of known refractive index and a sample of unknown refractive index, An interference fringe is formed by passing these transmitted lights through two slits provided close to each other, and in the refractive index measurement method for obtaining the refractive index of the sample from the phase information of the interference fringe, the reference sample and The Z axis is parallel to the optical axis of the light passing through the sample, the Y axis is parallel to the longitudinal directions of the two slits provided in close proximity, and the X axis is orthogonal to the Y and Z axes. Respectively, the reference sample and the sample are Z on the same plane parallel to the X and Z planes.
The length in the axial direction is the same, and the length is linearly changed in the Y-axis direction.
A structure in which oblique interference fringes that form a predetermined angle with respect to the Y-axis direction are formed by the light that has passed through the two slits, and the refractive index of the sample is obtained from the phase information of the oblique interference fringes. As an aspect of this configuration 1, (2) in the refractive index measuring method of configuration 1, on the first line when the oblique interference fringes are cut by a first line parallel to the X-axis direction. In the first photodetection intensity distribution curve and the second line on the second line when the interference fringes are cut by a second line parallel to the first line and separated by a predetermined distance in the Y-axis direction. And a refractive index difference between the reference sample and the sample by calculating a phase difference between the first and second light detection intensity distribution curves. , (3) Refractive index measuring method of composition 1 In the above, the reference sample and the sample are held so as to be movable in the Y-axis direction, the reference sample and the sample are fixed at a first position in the Y-axis direction to form the diagonal interference fringes, and the diagonal interference fringes are formed. X stripe
A first photodetection intensity distribution curve on the fixed line obtained by cutting with a fixed line parallel to the axial direction is obtained, and then the reference sample and the sample are moved in the Y-axis direction to obtain a second curve in the Y-axis direction. By fixing at a position to form the oblique interference fringes and obtaining the second photodetection intensity distribution curve on the fixed line when the oblique interference fringes are cut by the fixed line, the first and the second (2) The refractive index difference between the reference sample and the sample is obtained by obtaining the phase difference between the two photodetection intensity distribution curves. The refractive index between the reference sample and the sample is obtained by obtaining the photodetection intensity distribution curve on this line when the interference fringe is cut by a line parallel to the Y axis, and obtaining the phase number between both ends of this photodetection intensity distribution curve. difference (5) In the refractive index measuring method of configuration 1, the reference sample is obtained by obtaining an angle of the oblique interference fringes with respect to the Y axis and a distance in the X axis direction between the interference fringes. And a sample, a difference in refractive index between the sample and the sample is obtained. Further, as a mode of the structure 2 or 3, (6) in the refractive index measuring method of the structure 2 or 3, The second reference sample having the same refractive index as that of the reference sample is used to obtain the phase difference between the two photodetection intensity distribution curves, and then the sample is used instead of the second reference sample. The constitution is characterized in that the phase difference of the detected intensity distribution curve is obtained, and the difference in refractive index between the reference sample and the sample is obtained by obtaining the difference between these phase differences, and other aspects of configurations 1 to 6 As (7) No configuration 1 V in which a V-shaped groove having a V-shape with an opening angle of 90 degrees is formed on the upper surface side of a glass block that is optically polished so that a pair of opposite side surfaces are parallel to each other. Using a block, the reference sample and the sample are formed into a right-angled triangular prism having a right-angled portion so that they can be fitted into the V-shaped groove of the V block, and are fitted and retained in the V-shaped groove. The light is transmitted through the reference sample and the sample by making the light enter from one side surface.

【0019】そして、構成1ないし7の方法を実施する
装置の態様として、 (8) 単一波長の光を出射する光源と、この光源から出
射した光を線状発散光に変える光源側スリット装置と、
この光源側スリット装置から出射した線状発散光を平行
光にするコリメータと、この平行光の光路中に配置さ
れ、対向する一対の側面が平行になるように光学研摩し
たガラスブロックの上面側に開口角が90度でV字状を
なしたV字溝を形成したVブロックであって、このVブ
ロックのV字溝に嵌め込むことができるような直角部を
有する直角三角柱状に形成した基準試料及び試料をV字
溝に隣接して嵌め込んで保持するようにしたVブロック
と、前記Vブロックに保持された基準試料及び試料を透
過してきた光をそれぞれ通過させる2つの近接して設け
られたスリット有するダブルスリット装置と、このダブ
ルスリット装置を通過してきた光を入射して干渉縞を形
成するテレスコープ装置と、この干渉縞の像を検出する
撮像装置と、この撮像手段から送出される干渉縞の画像
情報を解析して該干渉縞の位相情報を得る画像処理装置
とを備えた構成としたものである。
As a mode of the apparatus for carrying out the methods of the constitutions 1 to 7, (8) a light source for emitting light of a single wavelength, and a light source side slit device for converting the light emitted from this light source into linear divergent light When,
A collimator for collimating the linearly divergent light emitted from the light source side slitting device and a glass block which is arranged in the optical path of the parallel light and is optically polished so that a pair of opposite side surfaces are parallel to each other. A V block having a V-shaped groove having an opening angle of 90 degrees and having a V shape, and having a right-angled triangular prism having a right-angled portion that can be fitted into the V-shaped groove of the V block. A sample and a V block that is fitted and held adjacent to the V-shaped groove to hold the sample, and two adjacent blocks that pass the reference sample and the light that has passed through the sample held in the V block are provided in close proximity to each other. A double slit device having a slit, a telescope device that forms interference fringes by entering light that has passed through the double slit device, an imaging device that detects an image of the interference fringe, and By analyzing the image information of the interference fringes sent from the unit is obtained by a structure in which an image processing apparatus for obtaining the phase information of the interference fringes.

【0020】[0020]

【作用】上述の構成1によれば、干渉縞の位相情報は基
準試料と試料との屈折率差の情報を含むものであるか
ら、この位相情報を解析することにより、基準試料と試
料との屈折率差が求まり、これにより、試料の屈折率を
求めることができる。
According to the above configuration 1, since the phase information of the interference fringe includes the information of the refractive index difference between the reference sample and the sample, by analyzing this phase information, the refractive index between the reference sample and the sample is analyzed. The difference is determined, which allows the refractive index of the sample to be determined.

【0021】すなわち、同一の光源から出射した光を屈
折率既知の基準試料及び屈折率未知の試料中を透過さ
せ、これらの透過光をそれぞれ近接して設けられた2つ
のスリットを通過させ、これをテレスコープ等で結像さ
せると、干渉縞の像が得られることが知られている。
That is, light emitted from the same light source is transmitted through a reference sample having a known refractive index and a sample having an unknown refractive index, and these transmitted lights are passed through two slits provided close to each other. It is known that an image of interference fringes can be obtained by forming an image with a telescope or the like.

【0022】ここで、基準試料を透過した光と試料を透
過した光とではその透過の幾何学的距離の差に屈折率差
を加味した光学的距離の差に応じて位相がずれている。
したがって、この位相ずれに対応した干渉縞が形成され
る。この場合、この干渉縞の位相は両者の光路差に依存
して定まり、光路差が変わるとそれに応じて干渉縞の位
相がずれる。従来のレーリー干渉計による方法は、単純
に基準試料同志による干渉縞の位相と、基準試料と試料
とによる干渉縞の位相とを比較し、両者の位相ずれ量を
測定していた。ところが、この従来の方法だと、Y軸に
垂直な干渉縞が一定の間隔をもって平行にならんでいる
だけであるから、両者の位相が±π以上ずれた場合に
は、どの縞を基準にしてずれ量を測定するのかの判別が
できなくなる。これに対して構成1の方法によれば、斜
めの干渉縞における1本の干渉縞に着目した場合、この
連続した斜めの1本の干渉縞のX軸方向のずれ自体が基
準試料と試料との光路差に対応した位相ずれを表してい
る。このずれは、仮に±π以上になっても連続した1本
の縞故に容易に判別することができる。この点が、本願
発明と従来のレーリー干渉計による方法との基本的相違
点である。これにより、レーリー干渉計による方法の利
点、すなわち、高精度の測定ができるという利点を確保
しつつ、レーリー干渉計による方法ではできなかった広
い測定領域にわたる測定を可能としたものである。
Here, the light transmitted through the reference sample and the light transmitted through the sample are out of phase with each other in accordance with the difference in the optical distance obtained by adding the difference in the refractive index to the difference in the geometric distance of the transmission.
Therefore, an interference fringe corresponding to this phase shift is formed. In this case, the phase of the interference fringe is determined depending on the optical path difference between the two, and when the optical path difference changes, the phase of the interference fringe shifts accordingly. The conventional method using the Rayleigh interferometer simply compares the phase of the interference fringes of the reference sample and the phase of the interference fringes of the reference sample and the sample, and measures the phase shift amount between the two. However, with this conventional method, the interference fringes perpendicular to the Y-axis are aligned in parallel at a constant interval, so when the phases of the two deviate by ± π or more, which fringe is used as a reference. It becomes impossible to determine whether to measure the deviation amount. On the other hand, according to the method of Configuration 1, when attention is paid to one interference fringe in the diagonal interference fringes, the deviation itself in the X-axis direction of the one continuous diagonal interference fringe is the difference between the reference sample and the sample. Represents the phase shift corresponding to the optical path difference of. Even if the deviation is ± π or more, it can be easily discriminated because of one continuous stripe. This is the basic difference between the present invention and the conventional Rayleigh interferometer method. As a result, it is possible to perform measurement over a wide measurement region, which is not possible with the method using the Rayleigh interferometer, while ensuring the advantage of the method using the Rayleigh interferometer, that is, the advantage that high-precision measurement can be performed.

【0023】構成2〜6は構成1の方法で斜めの干渉縞
から光路差に基づく位相差を求める方法の具体的態様で
ある。ここで構成2によれば、一度の観測によりただち
に位相差が求められる。また、構成3によれば、位相差
を求める場合の処理を比較的容易にする。構成4によれ
ば、特に、位相差が大きい場合に有効である。さらに、
構成6によれば、装置要因による誤差をキャンセルして
より正確な測定が可能となる。構成7によれば、Vブロ
ック法の利点を生かして迅速な測定が可能となる。そし
て、構成8によれば、構成1ないし7の方法を実施でき
る装置を得ることができる。
Structures 2 to 6 are specific modes of the method of Structure 1 for obtaining a phase difference based on an optical path difference from oblique interference fringes. Here, according to the configuration 2, the phase difference is immediately obtained by one observation. Further, according to the configuration 3, the process for obtaining the phase difference is made relatively easy. The configuration 4 is particularly effective when the phase difference is large. further,
According to the configuration 6, it is possible to cancel an error due to a device factor and perform more accurate measurement. According to the configuration 7, it is possible to make a quick measurement by taking advantage of the V-block method. Then, according to the configuration 8, it is possible to obtain an apparatus capable of implementing the method of the configurations 1 to 7.

【0024】[0024]

【実施例】一実施例の屈折率測定方法 図1は本発明の一実施例にかかる屈折率測定方法の説明
図、図4は図1のVブロックベースの光路説明図、図5
は干渉縞の説明図、図6は図5の干渉縞のA,Bライン
上の強度分布を示す図である。以下、これら図面を参照
しながら本発明の一実施例にかかる方法を説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Refractive Index Measuring Method of One Embodiment FIG. 1 is an explanatory view of a refractive index measuring method according to one embodiment of the present invention, FIG. 4 is an explanatory view of an optical path based on a V block of FIG. 1, and FIG.
Is an explanatory diagram of interference fringes, and FIG. 6 is a diagram showing intensity distributions on the A and B lines of the interference fringes of FIG. Hereinafter, a method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to these drawings.

【0025】これらの図において、符号1はVブロック
ベース、符号11は基準試料、符号21は被測定試料、
符号3は光源側縦スリット装置、符号4はテレスコー
プ、符号5はダブルスリット装置である。
In these figures, reference numeral 1 is a V block base, reference numeral 11 is a reference sample, reference numeral 21 is a sample to be measured,
Reference numeral 3 is a light source side vertical slit device, reference numeral 4 is a telescope, and reference numeral 5 is a double slit device.

【0026】この一実施例の方法の概略は以下の通りで
ある。すなわち、Vブロックベース1のV字溝1a内に
Vブロック用基準試料11とVブロック用試料21とを
近接して載置し、このVブロックベース1の一方の側面
より光源側縦スリット装置3の縦スリットS1 から射出
された単一波長光Lをコリメータ31で平行光にして入
射させ、該Vブロックベース1を通過させる。このVブ
ロックベース1を通過した光を2つの縦スリットS2
3 が近接して平行に設けられたダブルスリット装置5
に入射させる。この場合、試料21を通過した光がスリ
ットS2 を、基準試料11を通過した光がスリットS3
を通過するようにする。次いで、縦スリットS2 ,S3
を通過した光をテレスコープ4で集光してその焦点面に
ヤングの干渉縞Psoを形成させる。ここで、このヤング
の干渉縞Psoは、測定用の光Lの光軸方向をZ軸、この
Z軸と直交し、縦スリットS2,S3 の長手方向と平行
な方向をY軸、Y,Z軸に直交する軸をX軸とそれぞれ
したとき、X,Y平面内において、Y軸方向に対してあ
る角度をなした斜めの干渉縞である。一実施例の方法
は、この斜めの干渉縞Psoを観測し、この干渉縞に含ま
れる情報から、試料の屈折率を求めるものである。次
に、この斜めの干渉縞Psoから、試料の屈折率を求める
原理を説明する。
The outline of the method of this embodiment is as follows. That is, the V-block reference sample 11 and the V-block sample 21 are placed close to each other in the V-shaped groove 1a of the V-block base 1, and the light source side vertical slit device 3 is provided from one side surface of the V-block base 1. The single-wavelength light L emitted from the vertical slit S 1 is collimated into parallel light by the collimator 31 and is incident on the collimator 31 to pass through the V block base 1. The light passing through the V-block base 1 has two vertical slits S 2 ,
Double slit device 5 in which S 3 is provided in close proximity and in parallel
Incident on In this case, the light passing through the sample 21 passes through the slit S 2 and the light passing through the reference sample 11 passes through the slit S 3.
To pass through. Then, the vertical slits S 2 , S 3
The light that has passed through is condensed by the telescope 4 and Young's interference fringes Pso are formed on the focal plane thereof. Here, this Young's interference fringe Pso has the optical axis direction of the measuring light L as the Z axis, the direction orthogonal to this Z axis, and the direction parallel to the longitudinal direction of the vertical slits S 2 , S 3 as the Y axis, and Y , Z is an oblique interference fringe in the X and Y planes that forms an angle with the Y axis direction when the axis orthogonal to the Z axis is defined as the X axis. In the method of one embodiment, the oblique interference fringes Pso are observed, and the refractive index of the sample is obtained from the information contained in the interference fringes. Next, the principle of obtaining the refractive index of the sample from this oblique interference fringe Pso will be described.

【0027】図4において、A,Bを、X,Z平面に平
行で互いの距離がhである2つの平面とする。平面A上
において試料21及び基準試料11内を透過してそれぞ
れダブルスリット5の縦スリットS2 ,S3 を通過した
光は干渉縞を形成する。同様に、平面B上において試料
21及び基準試料11内を透過してそれぞれダブルスリ
ット5の縦スリットS2 ,S3 を通過した光も干渉縞を
形成する。
In FIG. 4, A and B are two planes parallel to the X and Z planes and having a distance h from each other. The light that has passed through the sample 21 and the reference sample 11 on the plane A and passed through the vertical slits S 2 and S 3 of the double slit 5 forms interference fringes. Similarly, light that has passed through the sample 21 and the reference sample 11 on the plane B and passed through the vertical slits S 2 and S 3 of the double slit 5 also forms interference fringes.

【0028】ここで、Vブロックベース1のV字溝1a
の開口角を90度とすると、平面A上を進行する光は、
平面B上を進行する光よりも、試料21及び標準試料1
1を通過する距離(幾何学的距離)がともに2hだけ長
い。このため、平面A上を進行した光による干渉縞に対
して、平面B上を進行した光による干渉縞はこの通過距
離(幾何学的距離)の差に起因する光路差(光学的距離
の差)に対応した値だけ位相がずれたものとなる。すな
わち、この位相ずれの量をΔθとすると、Δθは、この
光路差に依存する。この光路差は、幾何学的距離の差と
屈折率の差とに依存するが、このうち、幾何学的距離の
差(2h)は設定により既知とすることができるから、
Δθを測定することにより、基準試料11の屈折率n0
と試料21の屈折率n1 との差Δnを次式によって求め
ることができる。
Here, the V-shaped groove 1a of the V-block base 1
When the opening angle of is 90 degrees, the light traveling on the plane A is
Sample 21 and standard sample 1 rather than light traveling on plane B
The distances (geometrical distances) passing 1 are both long by 2h. Therefore, in contrast to the interference fringes due to the light traveling on the plane A, the interference fringes due to the light traveling on the plane B are caused by the difference in the passing distance (geometrical distance). ), The phase is shifted by a value corresponding to. That is, if the amount of this phase shift is Δθ, Δθ depends on this optical path difference. This optical path difference depends on the difference in geometrical distance and the difference in refractive index, and of these, the difference in geometrical distance (2h) can be known by setting,
By measuring Δθ, the refractive index n 0 of the reference sample 11 is measured.
And the refractive index n 1 of the sample 21 can be calculated by the following equation.

【0029】 Δn=(Δθ・λ)/(4π・h)……(3) ただしλは光線Lの波長である。Δn = (Δθ · λ) / (4π · h) (3) where λ is the wavelength of the light ray L.

【0030】図5は、テレスコープ4の焦点面上に実際
に形成される干渉縞Psoを示したもので、平面A,Bの
間及びその範囲外でも干渉縞が形成され、これら干渉縞
はY軸方向に移動するにしたがって位相がしだいにずれ
ていくから、結局、各干渉縞は連続した斜めの縞とな
る。図5における直線A,Bと干渉縞との交差部は、そ
れぞれ図4における平面A,B上を通過した光による干
渉縞に対応する。
FIG. 5 shows the interference fringes Pso actually formed on the focal plane of the telescope 4, and the interference fringes are formed between the planes A and B and outside the range, and these interference fringes are formed. Since the phase gradually shifts as it moves in the Y-axis direction, each interference fringe eventually becomes a continuous diagonal fringe. The intersections of the straight lines A and B and the interference fringes in FIG. 5 correspond to the interference fringes due to the light passing on the planes A and B in FIG. 4, respectively.

【0031】この位相差Δθを実際に測定するには、例
えば、干渉縞Psoの像をCCDカメラ等で撮影し、コン
ピュータ画像処理の方法により、図5に示されるよう
に、干渉縞Psoを切るラインA,Bを設定し、図6に示
されるように、これらライン上における検出強度曲線
A,Bを描き、これら曲線A,Bのずれ量Δθを求めれ
ばよい。
In order to actually measure this phase difference Δθ, for example, an image of the interference fringe Pso is photographed by a CCD camera or the like, and the interference fringe Pso is cut by a computer image processing method as shown in FIG. It is sufficient to set the lines A and B, draw the detection intensity curves A and B on these lines as shown in FIG. 6, and obtain the deviation amount Δθ between these curves A and B.

【0032】一実施例の方法の変形例 次に、上述の一実施例の方法の変形例を説明する。 Modification of Method of One Embodiment Next, a modification of the method of the above-described one embodiment will be described.

【0033】(変形例1)この変形例は、上述の一実施
例において、コンピュータ画像処理の方法によって実際
に位相差Δθを測定する場合に、図5に示されるよう
に、X軸方向において干渉縞Psoを切る2本のライン
A,Bを設定するかわりに、設定ラインを1本とし、そ
のかわりに、Vブロックベース1をY軸方向に所定距離
(h)だけ移動するようにし、移動前における設定ライ
ン上の検出強度曲線と移動後の検出強度曲線(図6にお
ける曲線A,Bに対応)との差Δθを求め、このΔθと
移動距離hとから(3) 式によってΔnを求めるものであ
る。
(Modification 1) In this modification, when the phase difference Δθ is actually measured by the computer image processing method in the above-described embodiment, as shown in FIG. 5, interference occurs in the X-axis direction. Instead of setting two lines A and B that cut the stripe Pso, one setting line is used, and instead, the V block base 1 is moved by a predetermined distance (h) in the Y-axis direction. The difference Δθ between the detected intensity curve on the setting line in Fig. 6 and the detected intensity curve after movement (corresponding to curves A and B in Fig. 6) is obtained, and Δn is obtained from this Δθ and the movement distance h by the equation (3). Is.

【0034】(変形例2)この変形例は、特に、屈折率
差Δnが大きく、位相差Δθが大きい場合に有効な方法
である。
(Modification 2) This modification is an effective method especially when the refractive index difference Δn is large and the phase difference Δθ is large.

【0035】まず、図7に示されるように、ダブルスリ
ット装置5として、縦スリットS2 ,S3 の長さH0
長いもの、例えば、試料21及び基準試料11のY軸方
向の寸法Hより長いものを用いる。このようなダブルス
リット装置5を用いると、テレスコープ4の焦点面上に
形成される干渉縞は、図8に示されるようになる。ここ
で、図8において、干渉縞をY軸で切り、Y軸上におけ
る検出強度分布曲線を求める。このとき、試料のY軸方
向の前記寸法Hによって、Y軸方向で干渉縞が切られ
る。この切られた範囲にある干渉縞の位相数αを数え、
次式からΔnを求める。
First, as shown in FIG. 7, as the double slit device 5, a device having long lengths H 0 of the vertical slits S 2 and S 3 , for example, the dimension H of the sample 21 and the reference sample 11 in the Y-axis direction is used. Use a longer one. When such a double slit device 5 is used, the interference fringes formed on the focal plane of the telescope 4 are as shown in FIG. Here, in FIG. 8, the interference fringes are cut along the Y-axis to obtain a detection intensity distribution curve on the Y-axis. At this time, the interference fringes are cut in the Y-axis direction due to the dimension H of the sample in the Y-axis direction. Count the phase number α of the interference fringes in this cut range,
Δn is calculated from the following equation.

【0036】Δn=(α・λ)/(2・H)……(4) (変形例3)図8において、Y軸と干渉縞がなす角度φ
は屈折率差Δnに依存する。そこで、この変形例は、こ
の角度φと、干渉縞どうしのX軸方向の距離uから次式
によってΔnを求めるものである。
Δn = (α · λ) / (2 · H) (4) (Modification 3) In FIG. 8, the angle φ formed by the Y-axis and the interference fringes
Depends on the refractive index difference Δn. Therefore, in this modified example, Δn is obtained from the angle φ and the distance u between the interference fringes in the X-axis direction by the following equation.

【0037】 Δn=C・{(tanφ)・λ}/(2u)……(5) ただし、Cは物面と像面とのY軸方向の寸法比である。Δn = C · {(tan φ) · λ} / (2u) (5) where C is the dimensional ratio of the object plane and the image plane in the Y-axis direction.

【0038】なお、各φを求める方法は、画像処理の手
法によって行うことができるが、その外にも、例えば、
CCDカメラの前に、該カメラの撮像面にスリット像を
形成すると共にこのスリット像をY軸方向に対して任意
に回転可能でかつその回転角度を読み取れる回転スリッ
ト装置を設け、このスリット装置で形成されるスリット
像を、まず、Y軸に一致させ、次いで、干渉縞に一致さ
せ、そのときの回転角を読み取る方法を用いてもよい。
The method for obtaining each φ can be performed by an image processing method.
In front of the CCD camera, a slit image is formed on the image pickup surface of the camera, and a rotary slit device that can freely rotate the slit image with respect to the Y-axis direction and can read the rotation angle is provided. A method may be used in which the slit image formed is first matched with the Y axis and then with the interference fringes, and the rotation angle at that time is read.

【0039】(変形例4)この変形例は、Vブロックベ
ース1の面精度の狂い、ダブルスリット装置5の光軸に
対する傾きや歪み等の装置の要因による測定誤差をキャ
ンセルできる方法である。
(Modification 4) This modification is a method capable of canceling a measurement error due to a device factor such as a deviation of the surface accuracy of the V block base 1 and an inclination or distortion of the double slit device 5 with respect to the optical axis.

【0040】まず、図9又は図10に示されるように、
ダブルスリット装置5として、1組の縦スリットS2
3 の下側に、これらスリットと同じ構成のもう1組の
縦スリットS4 ,S5 を設けたものを用いる。ここで、
図9のダブルスリット装置5は、スリットS2 ,S3
試料21及び基準試料11を透過した光を透過させ、も
う1組の縦スリットS4 ,S5 は、Vブロックベース1
を透過した光のみを通過させるような配置関係としたも
のである。また、図10のダブルスリット装置5は、ス
リットS2 ,S3 並びにもう1組の縦スリットS4 ,S
5 ともに、試料21及び基準試料11を透過した光を通
過させるような配置関係としたものである。本方法は、
これらいずれを用いてもよい。なお、図9及び10にお
ける直線A,Bは、上述の一実施例において、干渉縞を
切るラインA,Bに相当するラインのスリット上におけ
る位置を示すものである。
First, as shown in FIG. 9 or FIG.
As the double slit device 5, a set of vertical slits S 2 ,
Below the S 3, use those provided with the longitudinal slits S 4, S 5 another set of the same configuration as the slits. here,
In the double slit device 5 of FIG. 9, the slits S 2 and S 3 transmit the light transmitted through the sample 21 and the reference sample 11, and the other set of vertical slits S 4 and S 5 is the V block base 1
The arrangement relationship is such that only the light transmitted through is transmitted. In addition, the double slit device 5 of FIG. 10 has slits S 2 , S 3 and another pair of vertical slits S 4 , S.
In both cases, the arrangement relationship is such that the light transmitted through the sample 21 and the reference sample 11 is transmitted. The method is
Any of these may be used. The straight lines A and B in FIGS. 9 and 10 indicate the positions on the slit of the lines corresponding to the lines A and B that cut the interference fringes in the above-described embodiment.

【0041】さて、この方法は、まず、図11(a)に
示されるように、Vブロックベース1の試料を載置する
部位に基準試料11と全く同じ基準試料11aを載置し
て干渉縞を形成し、ラインA,B上の検出強度分布曲線
を描き、これら曲線の位相差を求める。これによって生
じた位相差は、装置要因によるものである。
In this method, first, as shown in FIG. 11 (a), the reference sample 11a exactly the same as the reference sample 11 is placed on the portion of the V block base 1 on which the sample is placed, and the interference fringes are placed. Is formed, the detected intensity distribution curves on the lines A and B are drawn, and the phase difference between these curves is obtained. The phase difference caused by this is due to device factors.

【0042】次に、図11の(b)に示されるように、
基準試料11aの代わりに試料21を載置し、同様に干
渉縞を形成し、ラインA,B上の検出強度分布曲線を描
き、これら曲線の位相差を求め、ここで求めた位相差か
ら、先に求めた装置要因による位相差を差し引いて真の
位相差Δθを求める。
Next, as shown in FIG. 11B,
A sample 21 is placed instead of the reference sample 11a, interference fringes are formed in the same manner, detection intensity distribution curves on the lines A and B are drawn, the phase difference between these curves is calculated, and from the phase difference calculated here, The true phase difference Δθ is obtained by subtracting the phase difference due to the device factor obtained above.

【0043】一実施例の方法を実施する装置 図12は一実施例の方法を実施するための装置の構成を
示す図である。なお、この装置は、上述の一実施例の方
法の変形例1の方法を実施する装置の例である。なお、
基本的な構成は、図1に示される上述の一実施例の方法
における場合と同じであるので、共通する部分には同一
の符号を付して重複した説明は省略する。
Apparatus for Implementing Method of One Embodiment FIG. 12 is a diagram showing a configuration of an apparatus for implementing the method of one embodiment. It should be noted that this device is an example of a device that performs the method of the first modification of the method of the above-described one embodiment. In addition,
The basic configuration is the same as in the case of the method of the above-described embodiment shown in FIG. 1, so common parts are assigned the same reference numerals and duplicate explanations are omitted.

【0044】さて、この装置では光源33として、Na
輝線ランプ(波長;589.29nm)を用いた。また、この
光源33から射出された光を集光レンズ32で集光して
光源側縦スリット3に入射するようにした。この光源側
縦スリット装置3は、Y軸に沿ってスリット幅50μm
の縦スリットS1 が形成されものである。
Now, in this apparatus, as the light source 33, Na
A bright line lamp (wavelength: 589.29 nm) was used. Further, the light emitted from the light source 33 is condensed by the condenser lens 32 so as to be incident on the light source side vertical slit 3. This light source side vertical slit device 3 has a slit width of 50 μm along the Y axis.
The vertical slit S 1 is formed.

【0045】コリメータ31は、縦スリット装置3から
射出された発散光Lを平行光にするもので、焦点距離f
=90mm、口径φ=50mmの凸レンズである。
The collimator 31 converts the divergent light L emitted from the vertical slit device 3 into parallel light and has a focal length f.
= 90 mm, diameter φ = 50 mm convex lens.

【0046】図13はVブロックベース1の斜視図であ
る。このVブロックベース1自体は公知のものである。
この実施例では、屈折率1.61999 のガラスを用いた。V
字溝1aの開き角は90度である。なお、光の入・出射
面1A,1B並びにV字溝1aの表面1C,1Dはとも
に光学研摩を施してある。
FIG. 13 is a perspective view of the V block base 1. The V block base 1 itself is a known one.
In this example, glass having a refractive index of 1.61999 was used. V
The opening angle of the character groove 1a is 90 degrees. The light entrance / exit surfaces 1A and 1B and the surfaces 1C and 1D of the V-shaped groove 1a are both optically polished.

【0047】図14は基準試料11の斜視図である。こ
の基準試料11は、Vブロックベース1の屈折率と同じ
屈折率(n0 =1.61999 )を有するガラスを直角プリズ
ム状に形成したものを用いた。光の入・出射面11A,
11Bには光学研摩を施してある。この基準試料11を
Vブロックベース1のV字溝1a内に嵌合するときに
は、接触面(面11A,11B)に屈折率1.620 のイン
デックス・マッチング・オイルを塗布し、接触面の密着
性を図る。
FIG. 14 is a perspective view of the reference sample 11. As the reference sample 11, glass having the same refractive index (n 0 = 1.61999) as that of the V block base 1 was formed into a rectangular prism shape. Light entrance / exit surface 11A,
11B has been subjected to optical polishing. When this reference sample 11 is fitted in the V-shaped groove 1a of the V-block base 1, index matching oil with a refractive index of 1.620 is applied to the contact surfaces (surfaces 11A and 11B) to improve the adhesion of the contact surfaces. .

【0048】図15は、試料21の斜視図である。この
試料21は、測定対象たるガラス材料を用いて基準試料
11と同じ形状の直角プリズム状に形成したものであ
る。直角部の精度は90度±3分程度とする。また、光
の入・出射面は、光学研摩する必要がなく、メッシュ8
00番で粗刷りした面でよい。この試料をVブロックベ
ース1のV字溝内に嵌合するときには、接触面に基準試
料11の場合と同様に屈折率1.620 のインデックス・マ
ッチング・オイルを塗布し、接触面の密着性を図る。
FIG. 15 is a perspective view of the sample 21. The sample 21 is formed into a right-angle prism shape having the same shape as the reference sample 11 by using a glass material to be measured. The accuracy of the right angle part is about 90 degrees ± 3 minutes. Moreover, the light entrance / exit surface does not need to be optically polished, and the mesh 8
No. 00 is good for rough printing. When this sample is fitted in the V-shaped groove of the V block base 1, index matching oil having a refractive index of 1.620 is applied to the contact surface as in the case of the reference sample 11 to improve the adhesion of the contact surface.

【0049】図16はダブルスリット装置5の正面図で
ある。このダブルスリット装置5は、Y軸方向に沿って
2本のスリットS2 ,S3 が近接して平行に形成された
ものである。これら2本のスリットS2 ,S3 は、とも
に、スリット幅が0.5 mm、Y軸方向の長さが2.5m
mで、互いの距離が5mmである。図17に示されるよ
うに、このダブルスリット装置5はコリメータ31側か
らZ軸方向に沿って見たとき、2本のスリットS2 ,S
3 の間に中心に基準試料11と試料21の境界線が位置
するように配置される。そして、この2本のスリットS
2 ,S3 とVブロック1とのY軸方向における相対位置
が上・下移動ステージ6によって精密に変化できるよう
になっている。
FIG. 16 is a front view of the double slit device 5. The double slit device 5 has two slits S 2 and S 3 formed in close proximity to each other along the Y-axis direction. Both of these two slits S 2 and S 3 have a slit width of 0.5 mm and a length in the Y-axis direction of 2.5 m.
m, the distance between them is 5 mm. As shown in FIG. 17, the double slit device 5 has two slits S 2 and S 2 when viewed from the collimator 31 side along the Z-axis direction.
It is arranged so that the boundary line between the reference sample 11 and the sample 21 is located in the center between the three . And these two slits S
2 , the relative position of the S block 3 and the V block 1 in the Y-axis direction can be precisely changed by the upper / lower moving stage 6.

【0050】図18は上・下移動装置6の斜視図であ
る。この上・下移動ステージ6は、マイクロメータ63
を回転することにより、上・下移動機構部62が動作
し、マイクロメータの回転角に応じて固定台61を高精
度で上・下させるものである。また上・下移動の距離は
マイクロメータの回転角から正確に求めることができる
ようになっている。
FIG. 18 is a perspective view of the up / down moving device 6. The upper / lower moving stage 6 is a micrometer 63.
By rotating, the up / down moving mechanism 62 operates to move the fixed base 61 up / down with high accuracy according to the rotation angle of the micrometer. Moreover, the distance of the up / down movement can be accurately obtained from the rotation angle of the micrometer.

【0051】さて、上述のダブルスリット装置5を通過
した光は、テレスコープ対物レンズ41に入射されて干
渉縞が形成され、この干渉縞はテレスコープ接眼レンズ
42を通じてCCDカメラ7の撮像面に結像される。テ
レスコープ対物レンズ41は、焦点距離f=600m
m、口径φ=50mmの凸レンズであり、テレスコープ
接眼レンズ42は焦点距離30mmのシリンドリカルレ
ンズである。
The light that has passed through the double slit device 5 is incident on the telescope objective lens 41 to form interference fringes, which are formed on the image pickup surface of the CCD camera 7 through the telescope eyepiece lens 42. To be imaged. The telescope objective lens 41 has a focal length f = 600 m
The telescope eyepiece lens 42 is a cylindrical lens having a focal length of 30 mm.

【0052】CCDカメラ7で得られた干渉縞の画像は
フレームメモリ8によって記録された後、数値変換され
てコンピュータ9に取り込まれる。
The image of the interference fringes obtained by the CCD camera 7 is recorded by the frame memory 8 and then converted into numerical values to be taken into the computer 9.

【0053】このコンピュータ9は、フレームメモリ8
に記録された干渉縞をX軸方向に沿った1ラインで切
り、そのライン上の検出強度情報を取り込みに、検出強
度分布曲線を作成し、この曲線に高速フーリエ変換(F
FT)処理を施して周波数及び初期位相を算出し、記憶
する。次に、上・下移動ステージ6を駆動してVブロッ
クベースを10.00mmだけ下降させ、その位置で前
記と同様にして干渉縞を前記の場合と同一のラインで切
ったときのライン上の検出強度情報を取り込みに、同様
にしてこのときの周波数及び初期位相を算出する。そし
て、最初に求めた初期位相と次に求めた初期位相との差
Δθを求めると、このΔθは(3) 式におけるΔθに該当
し、また、上・下移動ステージ6の下降距離h=10.
00mmは、(3) 式におけるhに該当する。したがっ
て、これらの値及び光源33の波長λ=589.29nm、基
準試料の屈折率n0 =1.61999 の値を(3) 式にいれてΔ
nを求める。
This computer 9 has a frame memory 8
The interference fringes recorded in 1) are cut along one line along the X-axis direction, a detection intensity distribution curve is created by taking in the detection intensity information on that line, and a fast Fourier transform (F
FT) processing is performed to calculate and store the frequency and the initial phase. Next, the upper / lower moving stage 6 is driven to lower the V block base by 10.00 mm, and at that position, the interference fringes are cut on the same line as in the above case in the same manner as described above. Taking in the detected intensity information, the frequency and the initial phase at this time are calculated in the same manner. Then, when the difference Δθ between the initially obtained initial phase and the subsequently obtained initial phase is obtained, this Δθ corresponds to Δθ in the equation (3), and the descending distance h = 10 of the up / down moving stage 6 is obtained. .
00 mm corresponds to h in the expression (3). Therefore, these values, the wavelength λ of the light source 33 = 589.29 nm, and the value of the refractive index n 0 = 1.61999 of the reference sample are added to the equation (3) and Δ
Find n.

【0054】上述の装置を用いて実際に屈折率測定を行
った結果を以下に示す。なお、以下の測定例は、装置の
精度を確認するためのものなので、試料21についても
屈折率が既知のものを用いている。
The results of actually measuring the refractive index using the above apparatus are shown below. Since the following measurement example is for confirming the accuracy of the device, the sample 21 having a known refractive index is also used.

【0055】(A)屈折率差が大きい場合の測定例(屈
折率差が10-4オーダーの場合) 基準試料11として屈折率n0 =1.61999 のガラスを用
い、試料21として、屈折率n1 =1.61959 のガラスを
用いた。この試料21は10-5オーダーでは前記基準試
料11との屈折率差が既知である(Δn=-40.0 ×10
-5)が、10-6オーダーでの屈折率差が知られていない
ものである。この試料21を3個(試料1,2,3)作
製して、1×10-6オーダーでの基準試料との屈折率を
測定した 。 試料No 位相差(度) Δn(×10-6) 試料1 -4859 -397.7 試料2 -4883 -399.7 試料3 -4938 -404.2 (B)屈折率差の小さい場合の測定例(屈折率差が10
-6オーダーの場合) 測定例(A)において試料として用いた3個の試料のう
ちの2個を組み合わせてそれぞれ試料21及び基準試料
11とし、このときの1×10-6オーダーでの屈折率差
を測定した。
(A) Example of measurement when the difference in refractive index is large (when the difference in refractive index is on the order of 10 −4 ) As the reference sample 11, glass having a refractive index n 0 = 1.61999 is used, and as the sample 21, a refractive index n 1 is used. = 1.61959 glass was used. This sample 21 has a known refractive index difference from the reference sample 11 in the order of 10 −5 (Δn = −40.0 × 10).
-5 ) has no known difference in refractive index on the order of 10 -6 . Three samples 21 (samples 1, 2 and 3) were prepared and the refractive index with the reference sample on the order of 1 × 10 −6 was measured. Sample No Phase difference (degree) Δn (× 10 -6 ) Sample 1 -4859 -397.7 Sample 2 -4883 -399.7 Sample 3 -4938 -404.2 (B) Measurement example when the difference in refractive index is small (refractive index difference is 10
-6 order) Two of the three samples used as the sample in the measurement example (A) were combined to form the sample 21 and the reference sample 11, respectively, and the refractive index on the order of 1 × 10 -6 The difference was measured.

【0056】 組み合わせ 基準試料 試料 屈折率差Δn(×10-6) 試料1 試料2 -2.4 試料1 試料3 -6.9 試料2 試料1 2.5 試料2 試料3 -2.5 試料3 試料1 5.0 試料3 試料2 2.5 以上詳述したように、上述の一実施例によれば、屈折率
差が10-4オーダーの場合から10-6オーダーの場合の
極めて広い範囲において従来のレーリー干渉計の場合の
測定精度と同等の極めて高い精度で測定することでき
る。したがって、従来は、測定範囲に応じて2種類以上
の測定装置が必要であったものを1つの装置で兼ねるこ
とができる。また、試料の作製及びセッティングの手間
は従来のVブロック法と同等であって極めて簡単であ
り、迅速な測定ができる。しかも、測定を実施する装置
の構成も比較的単純であり、かつ、用いる部品も従来か
ら用いられている入手容易で信頼性の高いものをそのま
ま適用できるから容易に信頼性の高い装置をローコスト
で得ることを可能にする。
Combination Reference Sample Sample Refractive Index Difference Δn (× 10 −6 ) Sample 1 Sample 2 -2.4 Sample 1 Sample 3 -6.9 Sample 2 Sample 1 2.5 Sample 2 Sample 3 -2.5 Sample 3 Sample 1 5.0 Sample 3 Sample 2 2.5 As described in detail above, according to the above-described embodiment, the measurement accuracy is equivalent to that of the conventional Rayleigh interferometer in a very wide range of the case where the refractive index difference is in the order of 10 −4 to 10 −6. Can be measured with extremely high accuracy. Therefore, in the past, one device can serve as a device that requires two or more types of measuring devices depending on the measurement range. Further, the time and effort required for the preparation and setting of the sample are the same as those of the conventional V block method, which is extremely simple and enables quick measurement. Moreover, the structure of the device for performing the measurement is relatively simple, and the parts used can be the same as the ones that have been conventionally used and are easily available and have high reliability. Make it possible to get.

【0057】なお、以上詳述した実施例は、Vブロック
を用いた例をかかげたが、本発明は必ずしもこれに限ら
れるものではなく、このVブロックの代わりに、X,Z
平面に平行な同一平面上におけるZ軸方向の長さが同一
となり、かつ、この長さがY軸方向において直線的に変
化するように形成した基準試料及び試料を精密な位置関
係で保持できるような手段を用いればよい。
The embodiment described in detail above has an example using V blocks, but the present invention is not necessarily limited to this, and X, Z instead of V blocks are used.
A reference sample and a sample that are formed so that the length in the Z-axis direction is the same on the same plane parallel to the plane and that this length changes linearly in the Y-axis direction can be held in a precise positional relationship. Any means may be used.

【0058】[0058]

【発明の効果】以上、詳述したように、本発明は、同一
の光源から出射した光を屈折率既知の基準試料及び屈折
率未知の試料中を透過させ、これらの透過光をそれぞれ
近接して設けられた2つのスリットを通過させることに
より、干渉縞を形成させ、この干渉縞の位相情報から試
料の屈折率を求める屈折率測定方法において、前記基準
試料及び試料を透過する光の光軸に平行な方向にZ軸
を、前記近接して設けられる2つのスリットの長手方向
に平行な方向にY軸を、これらY,Z軸に直交する方向
にX軸をそれぞれとったとき、前記基準試料及び試料
を、X,Z平面に平行な同一平面上におけるZ軸方向の
長さが同一となり、かつ、この長さがY軸方向において
直線的に変化するように形成し、これにより、前記2つ
のスリットを通過した光によってY軸方向に対して所定
の角度をなした斜めの干渉縞を形成させ、この斜めの干
渉縞の位相情報から試料の屈折率を求めることを特徴と
したもので、高精度でかつ広い測定領域での測定を可能
にしたものである。
As described above in detail, according to the present invention, light emitted from the same light source is transmitted through a reference sample having a known refractive index and a sample having an unknown refractive index, and these transmitted lights are brought close to each other. In the refractive index measuring method in which interference fringes are formed by passing through two slits provided in the reference sample, and the refractive index of the sample is obtained from the phase information of the interference fringes, the optical axis of the light passing through the reference sample and the sample. When the Z axis is taken in the direction parallel to the Y axis, the Y axis is taken in the direction parallel to the longitudinal direction of the two slits provided in close proximity, and the X axis is taken in the direction orthogonal to these Y and Z axes, The sample and the sample are formed such that the lengths in the Z-axis direction on the same plane parallel to the X and Z planes are the same and the lengths change linearly in the Y-axis direction. Passed through two slits It is characterized by forming an oblique interference fringe at a predetermined angle with respect to the Y-axis direction and obtaining the refractive index of the sample from the phase information of this oblique interference fringe. It enables measurement in the area.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】一実施例の屈折率測定方法の説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram of a refractive index measuring method according to an example.

【図2】従来のVブロック型屈折計の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of a conventional V-block refractometer.

【図3】従来のレーリー干渉型屈折計の説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of a conventional Rayleigh interference refractometer.

【図4】図1のVブロックベースの光路説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of an optical path based on a V block in FIG.

【図5】干渉縞の説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram of interference fringes.

【図6】図5の干渉縞のA,Bライン上の強度分布を示
す図である。
6 is a diagram showing the intensity distribution on the A and B lines of the interference fringes of FIG.

【図7】変形例2に用いるダブルスリット装置を示す図
である。
FIG. 7 is a diagram showing a double slit device used in Modification 2;

【図8】変形例2の干渉縞の説明図である。FIG. 8 is an explanatory diagram of interference fringes according to Modification 2.

【図9】変形例4に用いるダブルスリット装置の説明図
である。
FIG. 9 is an explanatory diagram of a double slit device used in Modification 4;

【図10】変形例4に用いるダブルスリット装置の説明
図である。
FIG. 10 is an explanatory diagram of a double slit device used in Modification 4;

【図11】変形例4の方法の説明図である。FIG. 11 is an explanatory diagram of a method of Modified Example 4;

【図12】一実施例の屈折率測定装置の全体構成を示す
図である。
FIG. 12 is a diagram showing an overall configuration of a refractive index measuring device of an example.

【図13】Vブロックベースの斜視図である。FIG. 13 is a perspective view of a V block base.

【図14】基準試料の斜視図である。FIG. 14 is a perspective view of a reference sample.

【図15】被測定試料の斜視図である。FIG. 15 is a perspective view of a sample to be measured.

【図16】ダブルスリット装置の正面図である。FIG. 16 is a front view of a double slit device.

【図17】ダブルスリット装置の位置関係を示す図であ
る。
FIG. 17 is a diagram showing a positional relationship of a double slit device.

【図18】上・下移動ステージの斜視図である。FIG. 18 is a perspective view of an upper / lower moving stage.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…Vブロックベース、3…光源側スリット、4…テレ
スコープ、5…ダブルスリット装置、6…上・下移動ス
テージ、7…CCDカメラ、8…フレームメモリ、9…
コンピュータ、11…基準試料、21…試料。
1 ... V block base, 3 ... Light source side slit, 4 ... Telescope, 5 ... Double slit device, 6 ... Up / down moving stage, 7 ... CCD camera, 8 ... Frame memory, 9 ...
Computer, 11 ... Reference sample, 21 ... Sample.

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 同一の光源から出射した光を屈折率既知
の基準試料及び屈折率未知の試料中を透過させ、これら
の透過光をそれぞれ近接して設けられた2つのスリット
を通過させることにより、干渉縞を形成させ、この干渉
縞の位相情報から試料の屈折率を求める屈折率測定方法
において、前記基準試料及び試料を透過する光の光軸に
平行な方向にZ軸を、前記近接して設けられる2つのス
リットの長手方向に平行な方向にY軸を、これらY,Z
軸に直交する方向にX軸をそれぞれとったとき、前記基
準試料及び試料を、X,Z平面に平行な同一平面上にお
けるZ軸方向の長さが同一となり、かつ、この長さがY
軸方向において直線的に変化するように形成し、これに
より、前記2つのスリットを通過した光によってY軸方
向に対して所定の角度をなした斜めの干渉縞を形成さ
せ、この斜めの干渉縞の位相情報から試料の屈折率を求
めることを特徴とした屈折率測定方法。
1. Lights emitted from the same light source are transmitted through a reference sample having a known refractive index and a sample having an unknown refractive index, and these transmitted lights are passed through two slits provided in close proximity to each other. In the refractive index measuring method for forming an interference fringe and obtaining the refractive index of the sample from the phase information of the interference fringe, in the direction parallel to the optical axis of the light passing through the reference sample and the sample, the Z axis is close to The Y-axis in the direction parallel to the longitudinal direction of the two slits
When the X axis is taken in the direction orthogonal to the axis, the reference sample and the sample have the same length in the Z axis direction on the same plane parallel to the X and Z planes, and this length is Y.
It is formed so as to change linearly in the axial direction, so that the light passing through the two slits forms oblique interference fringes forming a predetermined angle with respect to the Y-axis direction. Refractive index measuring method, characterized in that the refractive index of the sample is obtained from the phase information of.
【請求項2】 請求項1に記載の屈折率測定方法におい
て、前記斜めの干渉縞をX軸方向に平行な第1のライン
で切った場合におけるこの第1のライン上における第1
の光検出強度分布曲線と、この第1のラインに平行でY
軸方向に所定距離離れた第2のラインで前記干渉縞を切
った場合におけるこの第2のライン上における第2の光
検出強度分布曲線とを求め、次に、これら第1及び2の
光検出強度分布曲線の間の位相差を求めることにより前
記基準試料と試料との屈折率差を求めることを特徴とし
た屈折率測定方法。
2. The refractive index measuring method according to claim 1, wherein when the oblique interference fringe is cut by a first line parallel to the X-axis direction, the first line on the first line is cut.
Of the light detection intensity distribution curve of Y and parallel to this first line
A second photodetection intensity distribution curve on the second line obtained by cutting the interference fringes by the second line that is separated by a predetermined distance in the axial direction is obtained, and then the first and second photodetections are detected. A refractive index measuring method, characterized in that a refractive index difference between the reference sample and the sample is obtained by obtaining a phase difference between intensity distribution curves.
【請求項3】 請求項1に記載の屈折率測定方法におい
て、前記基準試料及び試料をY軸方向に移動できるよう
に保持し、これら基準試料及び試料をY軸方向における
第1の位置で固定して前記斜めの干渉縞を形成し、この
斜めの干渉縞をX軸方向に平行な固定ラインで切った場
合におけるこの固定ライン上における第1の光検出強度
分布曲線求め、次に、前記基準試料及び試料をY軸方向
に移動してY軸方向における第2の位置で固定して前記
斜めの干渉縞を形成し、この斜めの干渉縞を前記固定ラ
インで切った場合におけるこの固定ライン上における第
2の光検出強度分布曲線求め、次に、これら第1及び2
の光検出強度分布曲線の間の位相差を求めることにより
前記基準試料と試料との屈折率差を求めることを特徴と
した屈折率測定方法。
3. The refractive index measuring method according to claim 1, wherein the reference sample and the sample are held so as to be movable in the Y-axis direction, and the reference sample and the sample are fixed at a first position in the Y-axis direction. Then, the oblique interference fringes are formed, and when the oblique interference fringes are cut by a fixed line parallel to the X-axis direction, a first photodetection intensity distribution curve on the fixed line is obtained, and then the reference On the fixed line when the sample and the sample are moved in the Y-axis direction and fixed at the second position in the Y-axis direction to form the oblique interference fringes, and the oblique interference fringes are cut by the fixed line. 2nd light detection intensity distribution curve in
The refractive index measuring method is characterized in that the refractive index difference between the reference sample and the sample is obtained by obtaining the phase difference between the photodetection intensity distribution curves.
【請求項4】 請求項1に記載の屈折率測定方法におい
て、前記斜めの干渉縞をY軸に平行なラインで切った場
合におけるこのライン上における光検出強度分布曲線求
め、この光検出強度分布曲線の両端間の位相数を求める
ことにより前記基準試料と試料との屈折率差を求めるこ
とを特徴とした屈折率測定方法。
4. The refractive index measuring method according to claim 1, wherein when the oblique interference fringes are cut along a line parallel to the Y axis, a photodetection intensity distribution curve on this line is obtained, and the photodetection intensity distribution is obtained. A refractive index measuring method, characterized in that a refractive index difference between the reference sample and the sample is obtained by obtaining a phase number between both ends of a curve.
【請求項5】 請求項1に記載の屈折率測定方法におい
て、前記斜めの干渉縞のY軸に対する角度と各干渉縞間
のX軸方向の距離を求めることによって前記基準試料と
試料との屈折率差を求めることを特徴とした屈折率測定
方法。
5. The refraction index between the reference sample and the sample according to claim 1, wherein the angle of the oblique interference fringes with respect to the Y axis and the distance between the interference fringes in the X axis direction are obtained. A refractive index measuring method characterized by obtaining a difference in refractive index.
【請求項6】 請求項2または3のいずれかに記載の屈
折率測定方法において、まず、前記試料のかわりに基準
試料と同一の屈折率を有する第2基準試料を用いて前記
2つの光検出強度分布曲線の位相差を求め、次に、前記
第2基準試料のかわりに試料を用いて前記2つの光検出
強度分布曲線の位相差を求め、これらの位相差の差を求
めることにより前記基準試料と試料との屈折率差を求め
ることを特徴とした屈折率測定方法。
6. The refractive index measuring method according to claim 2, wherein first, instead of the sample, a second reference sample having the same refractive index as the reference sample is used to detect the two light rays. The phase difference between the intensity distribution curves is obtained, then the phase difference between the two photodetection intensity distribution curves is obtained using a sample instead of the second reference sample, and the difference between these phase differences is obtained to obtain the reference. A refractive index measuring method characterized by obtaining a refractive index difference between samples.
【請求項7】 請求項1ないし6のいずれかに記載の屈
折率測定方法において、対向する一対の側面が平行にな
るように光学研摩したガラスブロックの上面側に開口角
が90度でV字状をなしたV字溝を形成したVブロック
を用い、前記基準試料及び試料をこのVブロックのV字
溝に嵌め込むことができるような直角部を有する直角三
角柱状に形成してV字溝に嵌め込んで保持し、前記Vブ
ロックの一方の側面から光を入射させることにより、こ
れら基準試料及び試料に光を透過させることを特徴とし
た屈折率測定方法。
7. The refractive index measuring method according to claim 1, wherein a glass block optically polished such that a pair of opposed side surfaces are parallel to each other is V-shaped with an opening angle of 90 degrees on the upper surface side of the glass block. V-shaped groove having a V-shaped groove having a V-shaped groove is formed, and the reference sample and the sample are formed into a right-angled triangular prism having a right-angled portion into which the V-shaped groove of the V-block can be fitted. A refraction index measuring method characterized in that the light is transmitted through the reference sample and the sample by allowing the light to enter from one side surface of the V block and holding the same.
【請求項8】 単一波長の光を出射する光源と、この光
源から出射した光を線状発散光に変える光源側スリット
装置と、この光源側スリット装置から出射した線状発散
光を平行光にするコリメータと、この平行光の光路中に
配置され、対向する一対の側面が平行になるように光学
研摩したガラスブロックの上面側に開口角が90度でV
字状をなしたV字溝を形成したVブロックであって、こ
のVブロックのV字溝に嵌め込むことができるような直
角部を有する直角三角柱状に形成した基準試料及び試料
をV字溝に隣接して嵌め込んで保持するようにしたVブ
ロックと、前記Vブロックに保持された基準試料及び試
料を透過してきた光をそれぞれ通過させる2つの近接し
て設けられたスリット有するダブルスリット装置と、こ
のダブルスリット装置を通過してきた光を入射して干渉
縞を形成するテレスコープ装置と、この干渉縞の像を検
出する撮像装置と、この撮像装置から送出される干渉縞
の画像情報を解析して該干渉縞の位相情報を得る情報処
理装置とを備えた屈折率測定装置。
8. A light source that emits light of a single wavelength, a light source side slit device that converts the light emitted from this light source into linear divergent light, and a linear divergent light emitted from this light source side slit device into parallel light. And a collimator that is placed in the optical path of the parallel light and is optically polished so that a pair of opposing side surfaces are parallel to each other.
A V block in which a V-shaped groove having a V shape is formed, and a reference sample and a sample which are formed in the shape of a right-angled triangular prism having a right-angled portion that can be fitted into the V-shaped groove of the V block are V-shaped grooves. A V-block adapted to be fitted and held adjacent to the V-block, and a double-slit device having two slits provided in close proximity to each other for passing the reference sample and the light transmitted through the sample held in the V-block, respectively. , A telescope device that forms interference fringes by entering light that has passed through this double slit device, an imaging device that detects the image of this interference fringe, and image information of the interference fringes that is sent from this imaging device And an information processing device for obtaining the phase information of the interference fringes.
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