JP2656504B2 - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP2656504B2
JP2656504B2 JP62238724A JP23872487A JP2656504B2 JP 2656504 B2 JP2656504 B2 JP 2656504B2 JP 62238724 A JP62238724 A JP 62238724A JP 23872487 A JP23872487 A JP 23872487A JP 2656504 B2 JP2656504 B2 JP 2656504B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置に係り、特にメモリ回路とアナロ
グ回路を同一チップ上に搭載した半導体装置に関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly, to a semiconductor device having a memory circuit and an analog circuit mounted on a single chip.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来,メモリ回路のアナログ回路を同一チップ上に搭
載したものについては、1987年VLSI回路シンポジューウ
ムにおける技術論文集の第107頁から第108頁(1987年Sy
mposium on VLSI Circuits Digest of Technical Paper
s,pp107〜108.)において論じられている。本論文で
は、記憶容量16ワード×8ビット(128ビット)のEDL
mitter oupled ogic)形スタティックランダム
アクセスメモリ(tatic andom ccess emory−
以下SRAMと略記する)2個と、分解能8ビットのディジ
タル・アナログ変換回路(egital to nalog onve
rter−以下DACと略記する)1個を備え、SRAM内のディ
ジタル信号を256階調(28)のアナログ信号に変換し外
部に出力する機能を有した半導体装置が開示されてい
る。本装置は計算機のグラフィック表示端末などのカラ
ービットマップ表示の色変調信号表示用として開発され
たもので、本装置を表示における原色の赤、緑、青に対
応して3個用いることにより、カラー像の表示を行なう
ことが可能になる。EDL形SRAMは、日経エレクトロニク
ス,1985年5月20日号,257頁〜281頁などに詳細が述べら
れている色付表(olor ook−up able−以下CLTと
略記する)として使用され,表示可能な全224(2
8/チップ×3チップ)色のうち,任意の212(2
4/チップ×3チップ)色の組み合せのカラー像を表示で
きる。組み合せ色は、各チップ内のSRAMの記憶データに
より指示される。
Conventionally, the analog circuit of a memory circuit mounted on the same chip is described in the 1987 VLSI Circuit Symposium.
mposium on VLSI Circuits Digest of Technical Paper
s, pp 107-108.). In this paper, an EDL with a storage capacity of 16 words x 8 bits (128 bits)
(E mitter C oupled L ogic) form a static random access memory (S tatic R andom A ccess M emory-
Hereinafter SRAM abbreviated) two and, 8-bit resolution digital-to-analog converter (D egital to A nalog C onve
rter- hereinafter DAC abbreviated) comprises one of a semiconductor device is disclosed which has a function of outputting converted to an external analog signal to a digital signal in the SRAM 256 gradations (2 8). This device was developed for color modulation signal display of color bitmap display such as a graphic display terminal of a computer. By using three of these devices corresponding to the primary colors red, green and blue in the display, color An image can be displayed. EDL-type SRAM is Nikkei Electronics, No. 5 May 20, 1985, is used as a color appendix which details etc. pp 257 pp ~281 stated (abbreviated as C olor L ook-up T able- less CLT) , All displayable 2 24 (2
8 / chip × 3 chips) color of any 2 12 (2
(4 / chip × 3 chips ) A color image of a combination of colors can be displayed. The combination color is specified by data stored in the SRAM in each chip.

上述のECL形SRAMはバイポーラトランジスタ(以下Bip
Trと略記する)を用いた高速メモリであるのに加え、
2個のSRAMを交互に多重動作させることにより、さらに
2倍の高速化が図ってある。また、DACも高速に適したB
ip Trを用いて高速・低雑音設計がなされている。これ
により、カラービットマップ表示として必要な、高速、
低雑音の色変調信号を発生できる。
The above ECL type SRAM is a bipolar transistor (hereinafter referred to as Bip
Tr) (abbreviated as Tr).
By multiplexing two SRAMs alternately, the speed is further doubled. Also, DAC is suitable for high-speed B
High-speed, low-noise design is performed using ip Tr. This enables high-speed,
A low noise color modulation signal can be generated.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

上記従来技術は、低占有面積化、低電力化の配慮が不
充分であり、高集積化を進める上では問題があった。ビ
ットマップ表示方式においては、表示すべき絵素毎の色
変調用画像データを記憶する大容量の画像メモリ、いわ
ゆるフレームメモリを用意する必要がある。たとえば、
前に述べた212色で500×500絵素の表示をするために
は、12×500×500=3×106ビットのフレーメモリを用
意する必要がある。このフレームメモリと上述のDACは
同一チップ化することが望ましい。しかし、上記従来技
術で用いられているBip TrからなるECL形SRAMは、占有
面積ならびに消費電力が大きいために、このような大容
量化することは不可能で、数百ビットのCLTを同一チッ
プ化するのが限界であった。したがって、フレームメモ
リは別チップとして設ける必要があり、表示装置全体の
容積が大きくなる、半導体装置間の配線数が増え信頼度
が低下するなどの問題を生じる。また、集積回路の入出
力用ピン数や雑音の増大により、高速化が困難という問
題も生じる。すなわち、半導体装置間の接続用配線は寄
生容量が大きいなどのために、高速信号を伝送するのは
困難である。このため、低速信号を並列に多数伝送し、
これを集積回路内で並直列変換の技術により多重化し
て、1個の高速信号とする方法が用いられるが、低速信
号を伝送するための入出力ピン数が増大し、また、これ
らの多数の低速信号の電位もしくは電流が同時に変化す
るとき、大きい雑音を生じるなどの問題を生じる。
The above prior arts have insufficient consideration for reducing the occupied area and the power consumption, and have a problem in achieving higher integration. In the bitmap display method, it is necessary to prepare a large-capacity image memory for storing color modulation image data for each picture element to be displayed, a so-called frame memory. For example,
In order to the 500 × 500 picture elements of the display is 2 12 colors previously mentioned, it is necessary to prepare a 12 × 500 × 500 = 3 × 10 6 -bit frame memory. It is desirable that this frame memory and the above-mentioned DAC be formed on the same chip. However, since the ECL type SRAM composed of Bip Tr used in the above-mentioned conventional technology has a large occupied area and power consumption, it is impossible to increase the capacity as described above. Was the limit. Therefore, the frame memory needs to be provided as a separate chip, which causes problems such as an increase in the volume of the entire display device, an increase in the number of wirings between the semiconductor devices, and a decrease in reliability. In addition, an increase in the number of input / output pins and noise of the integrated circuit causes another problem that it is difficult to increase the speed. That is, it is difficult to transmit a high-speed signal because the connection wiring between the semiconductor devices has a large parasitic capacitance. For this reason, many low-speed signals are transmitted in parallel,
This is multiplexed in the integrated circuit by the parallel / serial conversion technique to form one high-speed signal. However, the number of input / output pins for transmitting the low-speed signal increases, and the number of these input / output pins increases. When the potential or current of the low-speed signal changes at the same time, problems such as generation of large noise occur.

本発明の目的は、上記従来技術の問題を解決し、大容
量のメモリとアナログ回路を同一チップ上に搭載するに
好適な半導体装置を提供するにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art and provide a semiconductor device suitable for mounting a large-capacity memory and an analog circuit on the same chip.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

上記目的は、メモリとして高集積化に適したMOSトラ
ンジスタ(以下MOSTと略記する)により構成されたメモ
リを用い、これをアナログ回路と1チップ化することに
より達成される。
The above object can be achieved by using a memory constituted by MOS transistors (hereinafter abbreviated as MOST) suitable for high integration as a memory and integrating it with an analog circuit in one chip.

〔作用〕[Action]

MOSTで構成されたメモリは低占有面積、低消費電力で
あるため、大容量のメモリとアナログ回路を同一チップ
上に搭載すること紀ができる。これより、上述した従来
技術の問題点が解決でき、高速、低雑音の、大容量メモ
リとアナログ回路混在の半導体装置が実現できる。
Because MOST memory has a small area and low power consumption, large-capacity memory and analog circuits can be mounted on the same chip. As a result, the above-described problems of the related art can be solved, and a high-speed, low-noise semiconductor device including a large-capacity memory and an analog circuit can be realized.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の詳細を実施例により説明する。 Hereinafter, details of the present invention will be described with reference to examples.

第1図は本発明の基本概念を示す実施例である。同図
で100は半導体チップ、10はMOSTで構成されたメモリ、2
0はDAC、アナログ・ディジタル変換回路(nalog to
igital onverter−以下ADCと略記する)、演算増幅
器などからなるアナログ回路である。ここでメモリの構
成は、目的に応じて、任意の番地のデータを全くランダ
ムに読み出し、書き込みが可能な、いわゆるランダムア
クセスメモリ(Randam Access Memory)であっても、あ
るいはシフトレジスタのようにシリアルにデータを読み
出し、書き込みする形式であっても、さらにはこれらの
2つの機能を合せ持つ、アイ・イー・イー・イー ジャ
ーナル・オブ・ソリッド−ステート・サーキット,SC−1
9巻,第6号,1984年12月号,999頁〜1007頁(IEEE Journ
al of Solid−Stete Circuits Vol.SC−19,No.6,Dec.19
84,pp.999−1007.)に述べられているようなデュアルポ
ートメモリ(Dual Port Memory)であってもよい。
FIG. 1 is an embodiment showing the basic concept of the present invention. In the figure, 100 is a semiconductor chip, 10 is a memory composed of MOST, 2
0 DAC, analog-to-digital converter (A nalog to
D igital C onverter- to hereinafter abbreviated as ADC), the operational amplifier is an analog circuit and the like. Here, the configuration of the memory may be a so-called random access memory (Randam Access Memory) capable of reading and writing data at an arbitrary address at all at random according to the purpose, or serially such as a shift register. Even if it is a format that reads and writes data, it also has these two functions, and it is an IEE Journal of Solid-State Circuit, SC-1
Vol. 9, No. 6, December 1984, pp. 999-1007 (IEEE Journ
al of Solid−Stete Circuits Vol.SC−19, No.6, Dec.19
84, pp. 999-1007.) May be used.

本実施例によれば、メモリは占有面積および消費電力
が小さく、高集積化に適したMOSTのメモリセルで構成さ
れので、大容量のメモリとアナログ回路を同一チップ上
に容易に搭載できる。また本実施例では、メモリとアナ
ログ回路は同一チップ上の配線で接続される。したがっ
て配線長は短かくなり、配線の寄生容量は極めて小さく
なるため、信号を高速に伝送できる。また、高速である
ため、配線数も低減でき、電位もしくは電流の同時変化
時の雑音が低減できる。たとえさらに高速化するため
に、従来技術と同様に、信号を多数並列に伝送し、並直
列変換により高速化する手法を採用したとしても、配線
長が極めて短かいため、信号電位もしくは電流変化時の
雑音は無視できるほど小さくなり、高速、低雑音の大容
量メモリとアナログ回路混在の半導体装置を実現でき
る。
According to this embodiment, the memory has a small occupation area and power consumption, and is constituted by MOST memory cells suitable for high integration. Therefore, a large-capacity memory and an analog circuit can be easily mounted on the same chip. In this embodiment, the memory and the analog circuit are connected by wiring on the same chip. Therefore, the wiring length becomes short, and the parasitic capacitance of the wiring becomes extremely small, so that a signal can be transmitted at high speed. Further, since the speed is high, the number of wirings can be reduced, and noise at the time of simultaneous change in potential or current can be reduced. Even if the method of transmitting a large number of signals in parallel and adopting the technique of parallel-to-serial conversion to increase the speed in the same way as in the conventional technology is adopted, even if the signal potential or current changes because the wiring length is extremely short. Noise is negligibly small, and a high-speed, low-noise large-capacity memory and a semiconductor device in which analog circuits are mixed can be realized.

第2図婚MOSメモリとアナログ回路を1チップ化した
際の利点をさらに活した他の実施例である。本実施例で
はメモリの欠陥救済用のフューズ10fとアナログ回路の
各種アナログ特性のトリミング(微調整)用フューズ20
fを同一方式とした点に特長がある。大容量メモリで
は、製造歩留りを高くするため、予め予備のメモリセル
を用意しておき、テストの結果、不良メモリセルが発見
された場合は、これを予備メモリセルと入れ換えて良品
とする、いわゆる欠陥救済技術が採用される。この不良
メモリセルと予備メモリセルの入れ替えを行なうための
スイッチの働きをするのが、欠陥救済用フューズであ
る。また、アナログ回路では増算増幅器の増幅率、ADC,
SACで用いる基準電圧・電流源の値などを性能のテスト
結果に基づいてトリミング(微調整)を行ない、高精度
を図ることが必要になる場合がある。このトリミング用
のスイッチとしてフューズを使用する。このフューズは
一般にAl配線抵抗、ポリシリコン配線抵抗などで形成さ
れ、レーザ光を照射したり、あるいは大電流を流したり
して、溶断する。このフューズの材料、形成法、切断法
などの方式をメモリとアナログ回路で共通化することに
より、製造工程、テスト工程、切断工程およびこれらに
用いる装置類を同一にでき、各工程の高効率化の可能に
なる。なお、本実施例において、アナログ回路部のトリ
ミングについてはフューズを回路中の抵抗そのものとし
て用い、これをレーザ光により、その一部を削り取るこ
とにより抵抗値を変えたり、あるいはポリシリコンフュ
ーズを用いて、これをレーザ光で熱することにより、不
純物濃度の分布を変えるなどして抵抗値を調整すること
も可能である。
FIG. 2 shows another embodiment that further utilizes the advantage of integrating a marriage MOS memory and an analog circuit into one chip. In this embodiment, a fuse 10f for repairing a defect in a memory and a fuse 20 for trimming (fine adjustment) various analog characteristics of an analog circuit.
The feature is that f is the same method. In a large-capacity memory, a spare memory cell is prepared in advance in order to increase the manufacturing yield, and if a defective memory cell is found as a result of the test, the defective memory cell is replaced with the spare memory cell to be a good product. Defect relief technology is adopted. The defect relieving fuse functions as a switch for replacing the defective memory cell with the spare memory cell. In the analog circuit, the amplification factor of the multiplication amplifier, ADC,
In some cases, it may be necessary to perform trimming (fine adjustment) on the values of the reference voltage and current source used in the SAC based on the performance test result to achieve high accuracy. A fuse is used as a switch for this trimming. This fuse is generally formed of Al wiring resistance, polysilicon wiring resistance, or the like, and is blown by irradiating a laser beam or flowing a large current. By sharing the material, forming method, cutting method, etc. of this fuse for memory and analog circuits, the manufacturing process, test process, cutting process and the equipment used for them can be made the same, and the efficiency of each process can be improved. Becomes possible. In this embodiment, the fuse is used as the resistor itself in the circuit for trimming the analog circuit portion, and this is changed by cutting off a part of the fuse with a laser beam, or using a polysilicon fuse. By heating this with laser light, the resistance value can be adjusted by changing the distribution of impurity concentration.

第3図は第1図の実施例に論理回路30を付加した他の
実施例である。本実施例によれば、論理回路30により、
各種論理演算処理が可能で、その結果により10,20の製
御もできるので、さらに多機能の半導体装置が実現でき
る。ここで30は単なる論理回路だけでなく、マイクロコ
ピュータなどを30として搭載し、さらに処理能力を高め
ることができる。
FIG. 3 shows another embodiment in which a logic circuit 30 is added to the embodiment of FIG. According to the present embodiment, the logic circuit 30
Various logical operations can be performed, and 10, 20 can be controlled based on the results, so that a more multifunctional semiconductor device can be realized. Here, 30 is equipped not only with a simple logic circuit but also with a microcomputer or the like, so that the processing capacity can be further increased.

第4図は本発明カラーグラフィック表示用として適用
した他の実施例である。11は表示の各絵素に対応した画
像データを記憶する画像メモリであり、MOSメモリで構
成される。絵素毎の画像データ101から入力される。メ
モリの構成は、入力と出力を同時に並行して行なえるた
め、表示データを出力しながら、記憶データの書き替え
が行なえる前出のデュアルポート(Dual Port)形のメ
モリとするのが望ましい。21は11の出力をアナログ信号
に変換して、各絵素の色変調信号として102に出力するD
ACである。31は11,21の動作を制御する製御論理回路で
あり、製御信号は103から入力される。
FIG. 4 shows another embodiment of the present invention applied for color graphic display. Reference numeral 11 denotes an image memory for storing image data corresponding to each picture element to be displayed, and is constituted by a MOS memory. It is input from image data 101 for each picture element. Since the input and output of the memory can be performed simultaneously in parallel, it is preferable that the memory is a dual port type memory in which the stored data can be rewritten while the display data is output. 21 converts the output of 11 into an analog signal and outputs it to 102 as a color modulation signal of each picture element.
AC. Reference numeral 31 denotes a control logic circuit for controlling the operations of 11 and 21, and a control signal is input from 103.

本実施例によれば、高速、低雑音のカラーグラフイッ
ク表示用の画像メモリとADCを1チップ化したADC不画像
メモリが実現できる。
According to this embodiment, an image memory for high-speed, low-noise color graphic display and an ADC non-image memory in which the ADC is integrated into one chip can be realized.

第5図は第4図の実施例に入力論理回路32を付加し、
入力データの論理演算処理を可能にした実施例である。
本実施例によれば、入力論理回路を用いて丸、四角など
の任意の図形を発生するなどの各種演算処理を行なうこ
とができる。また、31,32の各論理回路をマイクロコン
ピュータなどと同様の機能を持たせることにより、さら
に高度の処理が可能となり、高性能化が可能になる。
FIG. 5 shows an embodiment in which an input logic circuit 32 is added to the embodiment of FIG.
This is an embodiment in which logical operation processing of input data is enabled.
According to the present embodiment, various arithmetic processing such as generation of an arbitrary figure such as a circle or a square can be performed using the input logic circuit. Further, by providing each of the logic circuits 31 and 32 with the same function as a microcomputer or the like, higher-level processing can be performed and higher performance can be achieved.

第6図は前に述べた色付表CLT41を付加した実施例で
ある。本実施例によれば、前にも述べたように、11の内
容にCLTの内容にしたがって任意に色付けして、表示で
きる色の範囲を拡大できる。
FIG. 6 shows an embodiment in which the above-mentioned coloring table CLT41 is added. According to the present embodiment, as described above, the content of 11 can be arbitrarily colored according to the content of the CLT to expand the range of colors that can be displayed.

第7図はメモリ11とCLT41の間、およびCLT41とDAC21
の間にそれぞれ51,52の並直列変換回路を挿入し、出力
の高速化を図った実施例である、本実施例によれば並直
列回路により、並列信号を多重化する分だけ出力信号を
高速化でき、表示の絵素数が増えたり、あるいは単位時
間当りの表示回数(スキャン回数)を増やして画面のふ
らつきを作成する際などに好適である。なお、上述の第
6図、第7図のメモリ構成については、後でも述べるよ
うに、11としては第11図のような1トランジスタ形メモ
リセルを用いて高集積化し、41は第10図のようなSRAMあ
るいは前出のBip Trらを用いたECL形SRAMを用いて高速
化する構成が考えられる。
FIG. 7 shows the relationship between the memory 11 and the CLT 41, and between the CLT 41 and the DAC 21.
Between 51 and 52 parallel-to-serial conversion circuits are inserted between them to increase the output speed. According to this embodiment, the parallel-serial circuit allows the output signal to be multiplexed by the amount of multiplexing the parallel signal. This is suitable for increasing the number of picture elements to be displayed and increasing the number of display times (the number of scans) per unit time to create a wobble on the screen. As described later, the memory configuration shown in FIGS. 6 and 7 is highly integrated using a one-transistor type memory cell as shown in FIG. 11, and reference numeral 41 is shown in FIG. It is conceivable to increase the speed by using such an SRAM or an ECL type SRAM using the above-mentioned Bip Tr.

第8図は、第5図の実施例の入力部にアナログ・ディ
ジタル変換回路ADCを付加した実施例である。入力端子1
04から入力されたアナログ信号は、ADC22によりディジ
タル信号に変換され、入力論理回路32に供給される。
FIG. 8 shows an embodiment in which an analog / digital conversion circuit ADC is added to the input section of the embodiment of FIG. Input terminal 1
The analog signal input from 04 is converted into a digital signal by the ADC 22 and supplied to the input logic circuit 32.

本実施例によれば、101から入力されるディジタルの
表示信号の他に、104から入力されるテレビ映像信号な
どのアナログ信号を同時に、メモリ11に記憶することが
でき、同一表示画面上に、計算機などの出力とテレビ映
像などを同時に表示することが可能になる。また32によ
り、101と104の信号間の演算処理ができ、両者を重ね合
わせて表示することなども可能になる。さらに本実施例
によれば、104のテレビ映像信号などを一度ディジタル
信号に変換して、これを11に蓄え、その信号を入力とは
異なる掃引周波数で出力することもでき、異なる仕様の
映像装置間の仕様変換装置として使用することも可能で
ある。
According to the present embodiment, in addition to the digital display signal input from 101, an analog signal such as a television video signal input from 104 can be simultaneously stored in the memory 11, and on the same display screen, It is possible to simultaneously display the output of a computer or the like and a television image. Also, 32 allows arithmetic processing between the signals 101 and 104 to be performed, and it is also possible to superimpose and display both. Further, according to this embodiment, it is also possible to convert a TV video signal or the like of 104 once into a digital signal, store it in 11, and output that signal at a sweep frequency different from the input, and a video device of a different specification. It can also be used as a specification conversion device between them.

本実施例においては、ADC22,DAC21の動作の基準とな
る基準電圧もしくは電流は、基準電圧・電流発生回路23
の出力を共用している。この結果、22と21のゼロスケー
ルレベル、フルスケールレベルあるいは直流レベルを同
一レベルに調整できるなど、アナログ信号のチップ入出
力特性を全く同一にすることが可能になる。また、低消
費電力化、あるいは微細化されて耐圧の低くなった素子
を保護する目的で、特願昭56−57143、特願昭56−16869
8などで開示されているような、チップ内部に電源電圧
を低く変換する手段を有し、この低くした電圧で、チッ
プ内の一部もしくは全回路を動作させる、いわゆるオン
チップ電圧リミッタ方式を採用する場合には、動作の基
準となる電圧を上述の回路22で発生した電圧と共通化、
もしくはこれを基に発生して使用することも可能であ
る。これによりチップ全体の動作電圧が規準化され、全
体の整合性の高い動作が可能になる。
In the present embodiment, the reference voltage or current serving as a reference for the operation of the ADC 22 and the DAC 21 is a reference voltage / current generation circuit 23.
Output is shared. As a result, the chip input / output characteristics of analog signals can be made exactly the same, for example, the zero-scale level, full-scale level or DC level of 22 and 21 can be adjusted to the same level. Also, in order to reduce the power consumption or protect a device which has been reduced in size and has a low breakdown voltage, Japanese Patent Application Nos. 56-57143 and 56-16869.
8 has a means for lowering the power supply voltage inside the chip, such as that disclosed in Section 8, etc., and employs a so-called on-chip voltage limiter system that operates some or all circuits in the chip with this lowered voltage. In this case, the reference voltage for the operation is shared with the voltage generated by the circuit 22,
Alternatively, it can be generated and used based on this. As a result, the operating voltage of the entire chip is standardized, and an operation with high overall matching is enabled.

なお、本実施例において、104から入力されめ信号
は、予めカラー表示の3原点に分離された信号であって
もよいし、分離されない信号にあってもよい。分離され
ていない場合には、この信号をメモリ11の記憶データの
フォーマットに従がい分離する回路をチップ内部に備え
ればよい。本実施例では、第5図の実施例にADCを付加
する例を述べたが、その他の実施例においても同様にAD
Cを付加することが可能である。
In the present embodiment, the signal input from 104 may be a signal separated in advance into three origins of color display or a signal not separated. If they are not separated, a circuit for separating the signals according to the format of the data stored in the memory 11 may be provided inside the chip. In this embodiment, an example in which an ADC is added to the embodiment of FIG. 5 has been described.
It is possible to add C.

第9図は、第5図の実施例のDAC21をさらに具体化し
たものである。同図のように21はカラー表示の3原色
赤、緑、青毎にそれぞれR,G,BのDACを備え、外部に3原
色の変調信号102R,102G,102Bを出力する。表示管面では
これらが合成され、いわゆる加法混色の原理に従がい、
各種の色が表示される。したがって、本実施例によれ
ば、1チップでカラー像の表示が可能になる。なお、上
記ではカラー表示の3原色は赤、緑、青として説明した
が、これは表示装置の発色法によって異なるもので、こ
れに限定されるものではない。例えば、カラープリンタ
装置などでは、黄、シアン、マゼンタを3原色とした、
減法混色による発色法が用いられる場合があるが、その
ような装置に本実施例を適用する場合には、DACをそれ
ぞれの原色に対応して使用すればよい。
FIG. 9 is a more specific example of the DAC 21 of the embodiment shown in FIG. As shown in the figure, reference numeral 21 designates R, G, and B DACs for each of the three primary colors red, green, and blue for color display, and externally outputs modulation signals 102R, 102G, and 102B for the three primary colors. These are synthesized on the display screen, and according to the so-called additive color mixing principle,
Various colors are displayed. Therefore, according to the present embodiment, a color image can be displayed with one chip. In the above description, the three primary colors of the color display are described as red, green, and blue. However, the three primary colors differ depending on the color generation method of the display device, and are not limited thereto. For example, in a color printer device or the like, yellow, cyan, and magenta are three primary colors.
In some cases, a coloring method based on subtractive color mixing is used. When the present embodiment is applied to such an apparatus, DACs may be used corresponding to the respective primary colors.

以上のように本発明により、大容量のメモリとDAC付
きの半導体装置が実現できるが、場合によってはさらに
大容量のメモリが必要になることも考えられる。そのよ
うな場合には種々の変形が考えられる。例えば、第9図
において、DACは1色分のみ用意して、メモリはすべて
1色のデータ記憶用として使用し、これを3チップ並列
に使用して3原色を発生することもできる。これによれ
ば、1色当りのメモリ容量を3倍にできる。また、DAC
は、第9図と同様に3色分備え、メモリ容量が小さくて
よい場合はそのまま用い、大きいメモリ容量が必要なと
きは、2色分のDACは動作を停止して、1色分のみを動
作させ、かつメモリ11を1色分のメモリとして使用でき
るような切替手段を予めチップ内に設けておき、これを
上述の如く3チップ使用する方法も考えられる。この方
法によれば、必要なメモリ容量が小さい場合、大きい場
合のいずれにも対処できる。第9図において、メモリ11
の増設用端子を予め設けておき、この端子に増設用のメ
モリを外部から接続する方法も考えられる。上述した種
々の方法は第8図の如き、DACを備えた場合にも、同様
に適用できる。
As described above, according to the present invention, a semiconductor device with a large-capacity memory and a DAC can be realized. However, in some cases, a larger-capacity memory may be required. In such a case, various modifications can be considered. For example, in FIG. 9, only one color is prepared for the DAC, all memories are used for storing one color data, and these are used in parallel with three chips to generate three primary colors. According to this, the memory capacity per color can be tripled. Also, DAC
Is provided for three colors in the same manner as in FIG. 9, and is used as it is when the memory capacity is small. When a large memory capacity is required, the DACs for two colors are stopped and only one color is used. Switching means for operating and using the memory 11 as a memory for one color is provided in a chip in advance, and a method of using three chips as described above is also conceivable. According to this method, it is possible to cope with both cases where the required memory capacity is small and large. In FIG. 9, the memory 11
It is also conceivable to provide an additional terminal in advance and connect an additional memory to this terminal from the outside. The various methods described above can be similarly applied to the case where a DAC is provided as shown in FIG.

以上述べたように、MOSメモリを用いることにより、
大容量のメモリとアナログ回路を1チップ化した半導体
装置が実現できる。このMOSメモリを構成するメモリセ
ルとしては,第10図〜第12図に示すような種々の形式の
ものが使用できる。第10図は4個のMOSトランジスタと
2個の抵抗からなるフリップフロップ形のスタティック
形メモリセル、第11図、第12図はダイナミック形メモリ
セルであり、第11図は1個のMOSトランジスタと1個の
容量で構成された1トランジスタ形メモリセル、第12図
は3個のMOSトランジスタで構成された3トランジスタ
形メモリセルである。第10図のセルは、低雑音動作が可
能であり、低雑音が特に要求される場合に好適である。
また、フリップフロップ回路の負荷として抵抗を用いて
いるので、抵抗の替りにpチャネルMOSトランジスタを
使用する形式に比べ、その占有面積を小さくできる特長
も有する。第11図のセルは、素子数が少ないため高集積
性に優れまた低消費電力であるため、特に大容量のメモ
リが要求される場合に好適である。第13図のセルは、QA
のゲート容量に蓄えられた情報電荷によって、QAの電流
が制御され、読み出しデータ線DRに大きい信号が出力さ
れるので、高S/N動作に適しており、特に高S/N動作が要
求される場合に適している。
As described above, by using MOS memory,
A semiconductor device in which a large-capacity memory and an analog circuit are integrated into one chip can be realized. Various types of memory cells as shown in FIGS. 10 to 12 can be used as the memory cells constituting the MOS memory. FIG. 10 is a flip-flop type static memory cell comprising four MOS transistors and two resistors, FIGS. 11 and 12 are dynamic type memory cells, and FIG. FIG. 12 shows a one-transistor memory cell formed of one capacitor, and FIG. 12 shows a three-transistor memory cell formed of three MOS transistors. The cell of FIG. 10 is capable of low-noise operation, and is suitable when low noise is particularly required.
Further, since a resistor is used as the load of the flip-flop circuit, it has a feature that its occupied area can be reduced as compared with a type using a p-channel MOS transistor instead of a resistor. The cell shown in FIG. 11 has a small number of elements, is excellent in high integration, and has low power consumption. Therefore, the cell shown in FIG. 11 is suitable particularly when a large capacity memory is required. Cells of FIG. 13 is, Q A
The information charge stored in the gate capacitance of the current of Q A is controlled, since a large signal to the read data line D R is output, it is suitable for high S / N operation, especially at high S / N operation Suitable when required.

第13図は、第3図の実施例の回路構成を具体化したも
のである。メモリ10のメモリセルアレー12は、高集積化
に適した1トランジスタ形メモリセルMCIを用いて構成
している。また、低雑音でS/N動作が可能なように、デ
ータ対線D,が平行して配置され、ワード線Wとの交点
のいずれか一方にメモリセルが配置される、いわゆる折
り返し形データ線構成を採用している。メモリセルから
の微小信号を増幅するセンスアンプSAなどからなる周辺
回路13はBip TrとCMOS(omplementary OS)を組み
合せたBiCMOS回路で構成している。すなわち、SAのよう
に高集積で低消費電力が必要な場合や、容量の小さい負
荷を駆動するときは低消費電力、低占有面積のCMOS回路
を用い、容量の大きい負荷を駆動する場合や、微小信号
を違速、高感度に増幅する必要のある場合にはBip Tr回
路あるいはCMOSとBip Trを組み合せた回路を用いる。上
述の他にBiCMOSを用いたダイナミックメモリとしては、
特開昭61−142594、特開昭61−170992などに開示されて
いる技術がそのまま適用できる20,30の回路においても
同様にBiCMOSで構成する。たとえば20において、微小な
高速信号を処理する必要のあるADC,DACはBip Tr回路で
構成し、アナログスイッチ回路などはオフセットの少な
いCMOS回路を用いて構成する。これにより、高速、高精
度のADC,DACが実現できる。また、第8図で示した、基
準電圧・電流発生回路は、良く知られているBip Trのバ
ンドギャップ発生回路を用いれば、高安定の基準電圧・
電流が得られる。さらに、第7図で示したCLT41や並直
列変換回路51,52はBip Trを用いて構成すれば高速動作
が可能になる。30の論理回路においても、上述と同様に
CMOS,Bip Trあるいは両者の組み合せの各回路を使い分
けることにより、高速、低消費電力、高集積の論理回路
が実現できる。
FIG. 13 shows a specific example of the circuit configuration of the embodiment shown in FIG. The memory cell array 12 of the memory 10 is configured using a one-transistor memory cell MCI suitable for high integration. In addition, a so-called folded data line in which a data pair line D, is arranged in parallel and a memory cell is arranged at one of intersections with a word line W so that S / N operation can be performed with low noise. The configuration is adopted. Peripheral circuits composed of such as a sense amplifier SA for amplifying the small signals from the memory cell 13 is constituted by BiCMOS circuit that combines Bip Tr and CMOS (C omplementary M OS). In other words, when high integration and low power consumption are required, such as SA, or when driving a small capacity load, low power consumption, a CMOS circuit with a small occupied area is used to drive a large capacity load, When it is necessary to amplify a small signal at a different speed and with high sensitivity, a Bip Tr circuit or a circuit combining CMOS and Bip Tr is used. In addition to the above, as a dynamic memory using BiCMOS,
The circuits disclosed in JP-A-61-142594 and JP-A-61-170992, etc., to which the techniques disclosed in JP-A-61-170992 can be applied as they are, are also constituted by BiCMOS. In 20, for example, ADCs and DACs that need to process minute high-speed signals are constituted by Bip Tr circuits, and analog switch circuits and the like are constituted by CMOS circuits having a small offset. As a result, a high-speed, high-accuracy ADC or DAC can be realized. The reference voltage / current generation circuit shown in FIG. 8 can be a highly stable reference voltage / current generation circuit using a well-known Bip Tr band gap generation circuit.
A current is obtained. Furthermore, if the CLT 41 and the parallel-to-serial conversion circuits 51 and 52 shown in FIG. 7 are configured using Bip Trs, high-speed operation becomes possible. In the 30 logic circuits as well,
A high-speed, low-power-consumption, highly-integrated logic circuit can be realized by using CMOS, Bip Tr, or a combination of both circuits.

以上により、高速、低消費電力の大容量メモリと高
速、高精度のアナログ回路を一体化した半導体装置が実
現できる。なお、ここではメモリセル以外はBiCMOS回路
を用いる例を示したが、特に低消費電力、あるいは低製
造原価が要求されるなどの場合には、CMOS回路のみで構
成することもできる。
As described above, a semiconductor device in which a high-speed, low-power-consumption large-capacity memory and a high-speed, high-precision analog circuit are integrated can be realized. Here, an example is shown in which a BiCMOS circuit is used except for the memory cell. However, particularly when low power consumption or low manufacturing cost is required, the circuit may be configured only with a CMOS circuit.

以上述べたように本発明によれば、大容量メモリとア
ナログ回路を1チップ化することにより、両者間の配線
数を少なく、また配線長を短かくできるため、これらに
発生する雑音を最小にできる。しかし、メモリを1トラ
ンジスタ形メモリセルで構成する場合は、データ線の充
放電動作時などに、電源線に過渡電流が流れ、これが雑
音としてアナログ回路部に影響を与える場合が考えられ
る。以下、この電源線を介した雑音を低減できる実施例
について説明する。
As described above, according to the present invention, by integrating the large-capacity memory and the analog circuit into one chip, the number of wirings between them can be reduced and the wiring length can be shortened. it can. However, when the memory is formed of one-transistor memory cells, a transient current may flow through the power supply line during a data line charge / discharge operation or the like, which may affect the analog circuit unit as noise. Hereinafter, an embodiment capable of reducing the noise via the power supply line will be described.

第14図はその一実施例である。同図で300はパッケー
ジ、311,312はパッケージのピンであり、ここでは後で
述べる電源ピンとして用いる。301は半導体チップの収
容枠、321,322ボンディング用配線、331〜333はパッケ
ージピンと半導体チップ上のボンデングパッド111,112
を接続するためのボンディング線であり、通常はAlなど
で形成される。
FIG. 14 shows an embodiment thereof. In this figure, reference numeral 300 denotes a package, and reference numerals 311 and 312 denote pins of the package, which are used here as power supply pins. 301 is a semiconductor chip housing frame, 321 and 322 bonding wires, 331 to 333 are package pins and bonding pads 111 and 112 on the semiconductor chip.
And is usually formed of Al or the like.

111,112はそれぞれ、メモリ11,アナログ回路123の接
地を含む電源給電用のボンディングパッド、121,123は
チップ上の電源配線である。
111 and 112 are bonding pads for power supply including ground of the memory 11 and the analog circuit 123, respectively, and 121 and 123 are power supply wires on the chip.

本実施例によれば、メモリとアナログ回路の電源は、
別々のピン、ボンディング線、ボンディングパッド、電
源配線を通して給電されるため、回路相互間で雑音の干
渉を与えることはない。また、場合によっては、同図破
線の333のように、パッケージピンとボンディング配線
は共通とし、ボンディング線から両者を分離する方法も
ある、パッケージピン、ボンディング配線は比較的イン
ダクタンス、抵抗などが小さいため、この方法でも雑音
を低減することができる。
According to this embodiment, the power supplies for the memory and the analog circuit are:
Since power is supplied through separate pins, bonding lines, bonding pads, and power supply wiring, noise interference does not occur between circuits. Also, depending on the case, as shown by a broken line 333 in the figure, there is also a method in which the package pin and the bonding wiring are common and both are separated from the bonding line.Since the package pin and the bonding wiring have relatively small inductance, resistance, etc., This method can also reduce noise.

第15図は低雑音給電法の他の実施例である。本実施例
では、半導体チップ上の電源配線で両回路への給電が分
離されている。これによっても低雑音化が期待できる
が、本実施例ではさらに、アナログ回路の電源配線に
は、メモリからの電源雑音を除去するために、抵抗RW
容量CWからなるデカップング回路が設けられている。
FIG. 15 shows another embodiment of the low-noise feeding method. In this embodiment, power supply to both circuits is separated by power supply wiring on the semiconductor chip. Although low noise can be expected by this, furthermore, in this embodiment, the power supply wiring of the analog circuit includes a resistor R W ,
Dekappungu circuit is provided comprising a capacitance C W.

本実施例によれば、メモリの動作によって電源に生じ
る雑音は、デカップリング回路によっ除去されるため、
アナログ回路へ雑音が影響を与えることはない。ここで
用いたデカップリング回路の考えは、第14図の実施例に
おいても適用できる。デカップリング回路の抵抗として
はAl配線の抵抗が使用でき、場合によってはその自己イ
ンダクタンスを用いてさらに効果的なデカップリング回
路とすることができる。容量としては、配線容量が使え
るが、さらに効果を上げるため、小面積で大きい容量値
の得られるMOSトランジスタの反転層容量などを付加し
てもよい。さらには、半導体チップは一部に主表面にの
み回路が形成されるのを利用して、チップの裏面に容量
を形成し、これをCWとして利用することも考えられる。
According to the present embodiment, noise generated in the power supply due to the operation of the memory is removed by the decoupling circuit.
Noise does not affect analog circuits. The concept of the decoupling circuit used here can be applied to the embodiment shown in FIG. The resistance of the Al wiring can be used as the resistance of the decoupling circuit, and in some cases, a more effective decoupling circuit can be obtained by using the self-inductance. As the capacitance, a wiring capacitance can be used, but in order to further enhance the effect, an inversion layer capacitance of a MOS transistor having a small area and a large capacitance value may be added. Furthermore, it is conceivable that a semiconductor chip is partially formed with a circuit only on the main surface, a capacitance is formed on the back surface of the chip, and this is used as CW .

上述の実施例ではメモリとアナログ回路の給電法につ
いて述べたが、第7図、第8図の如く多数の回路がある
場合でも、上記と同様の低雑音の給電法を目的に応じて
使用できる。たとえば、特に低雑音の必要な、基準電圧
・電流発生回路などでは単独に上述の各種低雑音給電圧
を採用することも考えられる。
In the above-described embodiment, the power supply method for the memory and the analog circuit has been described. However, even when there are a large number of circuits as shown in FIGS. 7 and 8, the same low-noise power supply method as described above can be used according to the purpose. . For example, it is conceivable that the above-described various low-noise supply voltages are used alone in a reference voltage / current generating circuit or the like that requires particularly low noise.

以上、電源給電法による低雑音化の手法を述べたが、
メモリとアナログ回路が一体化されている利点をさらに
活して、両回路の動作タイミングを考慮して低雑音化す
る方法もある。たとえば、第16図のように、RWと直列に
スイッチを設け、メモリ10の動作によって雑音が発生す
るタイミング時にはスイッチをオフにして、電源線を切
り離すことが考えられる。この方法によれば、雑音が発
生するときも、電源は完全に分離されるので、雑音の影
響は完全に除去できる。なお、抵抗RWを第17図のように
MOSトランジスタQRのオン抵抗で兼ねる方法を採れば、
スイッチと抵抗を1個のMOSトランジスタ実現すること
もできる。すなわち、パルスφによって、通常はQR
オンして、そのオン抵抗がRWとして作用するようにし、
雑音発生的には、QRをオフにすればよい。またさらに、
10で雑音が発生するタイミングと、20において電源その
他から多少の雑音が入っても問題のないタイミングを同
時にすることでも、等価的な低雑音化ができる。たとえ
ば、カラーグラフィック表示に適用する場合に10で最も
大きい雑音を生じ易いデータ線の充放電動作のタイミン
グと、20のDACにおいて雑音を生じても問題の少ない表
示の水平もしくは垂直掃引時のブランキング動作のタイ
ミングとを合せることにより、低雑音化を図ることがで
きる。
As mentioned above, the method of noise reduction by the power supply method has been described.
There is also a method of taking advantage of the fact that the memory and the analog circuit are integrated, and reducing the noise in consideration of the operation timing of both circuits. For example, as shown in Figure 16, the switch provided in the R W series, during timing noise is generated by the operation of the memory 10 by turning off the switch, it is conceivable to disconnect the power line. According to this method, even when noise occurs, the power supply is completely separated, so that the influence of the noise can be completely eliminated. Incidentally, the resistor R W as FIG. 17
Taking a method which also serves as an on-resistance of the MOS transistor Q R,
The switch and the resistor can be realized by one MOS transistor. That is, the pulse phi R, typically Q R is turned on, the on-resistance so as to act as a R W,
The noise occurring, may be set to turn off the Q R. In addition,
Equivalent noise reduction can also be achieved by simultaneously performing the timing at which noise is generated at 10 and the timing at which there is no problem even if some noise enters from a power source or the like at 20. For example, when applying to color graphic display, 10 is the timing of the charge / discharge operation of the data line where noise is most likely to occur, and 20 DAC is the blanking at the time of horizontal or vertical sweep of the display that causes little problem even if noise occurs. By matching the operation timing, noise can be reduced.

以上本発明の詳細を各実施例により説明したが、本発
明の適用範囲はこれらに限定されるものではない。たと
えば、本発明の適用範囲として、計算機端末などのカラ
ーグラフィック表示を主として説明したが、これに限定
されず、カラープリンタ、レーザビームプリンタ、高精
細ディジタルTV、VTRなどのDAC付画像メモリ、あるいは
計測器、制御機器などで、任意のアナログ物質量をディ
ジタル信号に変換し、これをメモリに記憶しておくなど
の大容量メモリとアナログ回路が必要な場合のすべてに
適用できる。
Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the scope of the present invention is not limited to these embodiments. For example, as an application range of the present invention, color graphic display of a computer terminal or the like has mainly been described. However, the present invention is not limited to this, and an image memory with a DAC such as a color printer, a laser beam printer, a high-definition digital TV, a VTR, or a measurement device The present invention can be applied to all cases where a large-capacity memory and an analog circuit are required, such as converting an arbitrary amount of an analog substance into a digital signal in a device or a control device and storing the digital signal in a memory.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明によれば、大容量のメモリとアナログ回路を同
一チップ上に搭載でき、これにより、高測、低雑音の大
容量メモリ、アナログ回路混在の半導体装置が実現でき
る。
According to the present invention, a large-capacity memory and an analog circuit can be mounted on the same chip, thereby realizing a high-capacity, low-noise large-capacity memory and a semiconductor device in which analog circuits are mixed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図乃至第3図は本発明の基本的実施例を示す図、第
4図乃至第9図は本発明をグラフィック表示に適用した
実施例を示す図、第10図〜第13図は本発明のメモリ、そ
の他の具体的実施例を示す図、第14図、第15図乃至第17
図は本発明の低雑音給電法に関する実施例を示す図であ
る。 100……半導体チップ 10……メモリ 20……アナログ回、 30……論理回路 300……パッケージ
1 to 3 are diagrams showing a basic embodiment of the present invention, FIGS. 4 to 9 are diagrams showing an embodiment in which the present invention is applied to a graphic display, and FIGS. FIG. 14, FIG. 14, FIG. 15 to FIG.
FIG. 1 is a diagram showing an embodiment relating to the low-noise feeding method of the present invention. 100: Semiconductor chip 10: Memory 20: Analog circuit, 30: Logic circuit 300: Package

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−61040(JP,A) 特開 昭61−77357(JP,A) 特開 昭57−20995(JP,A) 特開 昭62−212713(JP,A) 特開 昭63−244486(JP,A) 特開 昭64−13561(JP,A) 特開 昭60−136364(JP,A) 特開 昭59−105378(JP,A) 特開 昭59−86253(JP,A) 特開 昭62−122262(JP,A) 実開 昭57−160215(JP,U) 特公 昭55−51389(JP,B2) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-59-61040 (JP, A) JP-A-61-77357 (JP, A) JP-A-57-20995 (JP, A) JP-A-62 212713 (JP, A) JP-A-63-244486 (JP, A) JP-A-64-13561 (JP, A) JP-A-60-136364 (JP, A) JP-A-59-105378 (JP, A) JP-A-59-86253 (JP, A) JP-A-62-122262 (JP, A) JP-A-57-160215 (JP, U) JP-B-55-51389 (JP, B2)

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】第1の電位と第2の電位との間に設けられ
たメモリ回路とアナログ回路とを同一半導体チップ上に
具備してなる半導体装置であって、 上記メモリ回路はMOSトランジスタからなるダイナミッ
クランダムアクセスメモリであり、 上記第1の電位に接続されるとともに上記MOSトランジ
スタからなるダイナミックランダムアクセスメモリであ
る上記メモリ回路と上記アナログ回路とに共通に設けら
れたボンディングパッドと、 上記ボンディングパッドと上記アナログ回路の電源入力
との間に接続された抵抗素子と、 上記アナログ回路の上記電源入力と上記第2の電位との
間に接続された容量素子とを上記同一半導体チップ上に
更に具備してなることを特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor device comprising a memory circuit and an analog circuit provided between a first potential and a second potential on the same semiconductor chip, wherein the memory circuit comprises a MOS transistor. A bonding pad connected to the first potential and provided in common with the memory circuit and the analog circuit, the bonding pad being a dynamic random access memory comprising the MOS transistor; And a resistor connected between the power supply input of the analog circuit and a capacitor connected between the power input of the analog circuit and the second potential on the same semiconductor chip. A semiconductor device, comprising:
【請求項2】上記抵抗素子はスイッチMOSトランジスタ
のオン抵抗により実現され、上記MOSトランジスタから
なるダイナミックランダムアクセスメモリである上記メ
モリ回路の雑音発生時に上記スイッチMOSトランジスタ
をオフとされることを特徴とする特許請求の範囲第1項
に記載の半導体装置。
2. The method according to claim 1, wherein the resistance element is realized by an on-resistance of a switch MOS transistor, and the switch MOS transistor is turned off when noise occurs in the memory circuit which is a dynamic random access memory including the MOS transistor. The semiconductor device according to claim 1, wherein
【請求項3】上記MOSトランジスタからなるダイナミッ
クランダムアクセスメモリである上記メモリ回路は画像
表示用のメモリであり、 上記スイッチMOSトランジスタがオフとされる上記MOSト
ランジスタからなるダイナミックランダムアクセスメモ
リである上記メモリ回路の雑音発生時には、上記メモリ
回路のデータ線の充放電動作のタイミングと、画面表示
の水平もしくは垂直の掃引時のブランキング動作のタイ
ミングとが、ほぼ同時とされたことを特徴とする特許請
求の範囲第1項または第2項に記載の半導体装置。
3. The memory circuit according to claim 2, wherein the memory circuit is a dynamic random access memory including the MOS transistor, the memory circuit is a memory for displaying an image, and the memory is a dynamic random access memory including the MOS transistor in which the switch MOS transistor is turned off. The timing of charging / discharging operation of the data line of the memory circuit and the timing of blanking operation at the time of horizontal or vertical sweep of the screen display are substantially simultaneous at the time of occurrence of circuit noise. 3. The semiconductor device according to item 1 or 2.
【請求項4】上記アナログ回路は、アナログ・ディジタ
ル変換器、ディジタル・アナログ変換器、演算増幅器の
少なくともいずれかを含むことを特徴とする特許請求の
範囲第1項から第3項までのいずれかに記載の半導体装
置。
4. An apparatus according to claim 1, wherein said analog circuit includes at least one of an analog-to-digital converter, a digital-to-analog converter, and an operational amplifier. 3. The semiconductor device according to claim 1.
【請求項5】上記MOSトランジスタからなるダイナミッ
クランダムアクセスメモリである上記メモリ回路の欠陥
救済用フューズと上記アナログ回路の特性トリミング用
フューズとを同一方式としたことを特徴とする特許請求
の範囲第1項から第4項までのいずれかに記載の半導体
装置。
5. The fuse according to claim 1, wherein a defect relief fuse of said memory circuit, which is a dynamic random access memory comprising said MOS transistor, and a characteristic trimming fuse of said analog circuit are of the same type. Item 5. The semiconductor device according to any one of Items 4 to 4.
【請求項6】第1の電位と第2の電位との間に設けられ
たメモリ回路とアナログ回路とを同一半導体チップ上に
具備してなる半導体装置であって、 上記メモリ回路はMOSトランジスタからなるダイナミッ
クランダムアクセスメモリであり、 上記アナログ回路は、アナログ・ディジタル変換器、デ
ィジタル・アナログ変換器、演算増幅器の少なくともい
ずれかを含んでなり、 上記MOSトランジスタからなるダイナミックランダムア
クセスメモリである上記メモリ回路と、アナログ・ディ
ジタル変換器とディジタル・アナログ変換器と演算増幅
器との少なくともいずれかを含む上記アナログ回路とを
制御する論理演算回路とを上記同一半導体チップ上に更
に具備してなることを特徴とする半導体装置。
6. A semiconductor device comprising a memory circuit and an analog circuit provided between a first potential and a second potential on an identical semiconductor chip, wherein the memory circuit comprises a MOS transistor. Wherein said analog circuit includes at least one of an analog-to-digital converter, a digital-to-analog converter, and an operational amplifier, and wherein said memory circuit is a dynamic random-access memory comprising said MOS transistor. And a logic operation circuit for controlling the analog circuit including at least one of an analog-to-digital converter, a digital-to-analog converter, and an operational amplifier on the same semiconductor chip. Semiconductor device.
【請求項7】上記MOSトランジスタからなるダイナミッ
クランダムアクセスメモリである上記メモリ回路は、画
像表示用のメモリであり、 上記アナログ回路は、上記画像表示用のメモリから出力
される画素データをアナログ信号に変換するディジタル
・アナログ変換器であることを特徴とする特許請求の範
囲第6項に記載の半導体装置。
7. The memory circuit, which is a dynamic random access memory including the MOS transistor, is a memory for displaying an image, and the analog circuit converts pixel data output from the memory for displaying an image into an analog signal. 7. The semiconductor device according to claim 6, wherein the semiconductor device is a digital / analog converter for performing conversion.
【請求項8】上記論理演算回路は、マイクロコンピュー
タであることを特徴とする特許請求の範囲第6項または
第7項に記載の半導体装置。
8. The semiconductor device according to claim 6, wherein said logical operation circuit is a microcomputer.
【請求項9】上記MOSトランジスタからなるダイナミッ
クランダムアクセスメモリである上記メモリ回路の欠陥
救済用フューズと上記アナログ回路の特性トリミング用
フューズとを同一方式としたことを特徴とする特許請求
の範囲第6項から第8項までのいずれかに記載の半導体
装置。
9. The fuse according to claim 6, wherein a defect relief fuse of said memory circuit which is a dynamic random access memory comprising said MOS transistor and a characteristic trimming fuse of said analog circuit are of the same type. Item 9. The semiconductor device according to any one of items 8 to 8.
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