JPH025300A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPH025300A
JPH025300A JP63151654A JP15165488A JPH025300A JP H025300 A JPH025300 A JP H025300A JP 63151654 A JP63151654 A JP 63151654A JP 15165488 A JP15165488 A JP 15165488A JP H025300 A JPH025300 A JP H025300A
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JP
Japan
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circuit
memory
image data
display
semiconductor integrated
Prior art date
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Pending
Application number
JP63151654A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ryoichi Hori
堀 陵一
Kiyoo Ito
清男 伊藤
Takashi Tabei
田部井 隆
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH025300A publication Critical patent/JPH025300A/en
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  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PURPOSE:To surely perform the function tests of both a digital circuit and an analog circuit in a short period of time by using a changeover switch which can realize the direct accesses to both circuits. CONSTITUTION:The signal can be directly inputted to a picture memory GRAM from outside via an input terminal 101, a switch SW01 and a wiring 221 after switches SW01 and SW11 are turned on with the switches SW02 and SW12 turned off respectively. Thus the direct access is possible to the memory GRAM and this memory can be tested in the same way as that of a single unit memory device. While the working of a D/A converting circuit DAC serving as an analog circuit can be directly tested from outside by means of the terminal 101 and an output terminal 101 after the switches SW01 and SW11 are turned off with the switches SW02 and SW12 turned on respectively.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体集積回路装置に関し、例えば画像メ
モリ回路とその読み出し信号を受けるD/A変換回路と
を備えた半導体集積回路装置に利用して有効な技術に関
するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and is applicable to, for example, a semiconductor integrated circuit device equipped with an image memory circuit and a D/A conversion circuit that receives a read signal from the image memory circuit. It is about effective techniques.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、メモリ回路とアナログ回路とを同一半導体チップ
上に搭載したものについては、1987年VLS 1回
路シンポジュームにおける技術論文集の第107から第
108 (1987年Symposiumon VLS
I C1rcuits Digest of Tech
nical Paperspp107−108 )にお
いて論じられている0本論文では、記憶容量が16ワー
ド×8ビツト(128ビツト)のECL (エミッタ・
カップルド・ロジック)形スタティックRAM (ラン
ダム・アクセス・メモリ)を2個と、分解能8ビツトの
D/A(ディジタル/アナログ)変換回路を1個とを備
えており、スタティックRAM (以下、SRAMとい
う)内のディジタル信号を256階調(2椰)のアナロ
グ信号に変換して、外部に出力する機能を有した半導体
集積回路装置が開示されている。
Conventionally, regarding devices in which a memory circuit and an analog circuit are mounted on the same semiconductor chip, the 107th to 108th technical papers of the 1987 VLS 1-Circuit Symposium (1987 Symposium VLS
I C1rcuits Digest of Tech
nical Paperspp 107-108) This paper uses an ECL (emitter
It is equipped with two static RAMs (random access memories) of the coupled logic type and one D/A (digital/analog) conversion circuit with an 8-bit resolution. A semiconductor integrated circuit device has been disclosed which has a function of converting a digital signal in ) into an analog signal of 256 gray scales and outputting it to the outside.

本装置は、計算機のグラフィック表示端末などのカラー
ビットマツプ表示の色変調信号発生用として開示されな
もので、本装置を表示における原色の赤、緑及び青に対
応して3個用いることにより、カラー像の表示を行うこ
とが可能になる。ECL形SRAMは、日経エレクトロ
ニクス、1985年5月20日号、257頁〜281頁
などに詳細が述べられている色付表(カラー・ルックア
ップ・テーブル:CLT)として使用され、表示可能f
l全214 (21/eNIP X ffcMIP)色
のうち、任意の21! (24/eNIF +1 IC
MIP)色の組み合わせノカラー画像を表示できる。組
み合わせの色は、各チップ(CHIP)内のSRAMの
記憶データにより指示される。
This device is disclosed for use in generating color modulation signals for color bitmap display in computer graphics display terminals, etc. By using three of this device corresponding to the primary colors red, green, and blue in the display, It becomes possible to display a color image. The ECL type SRAM is used as a color lookup table (CLT), which is described in detail in Nikkei Electronics, May 20, 1985 issue, pages 257 to 281, and can be displayed.
Any 21 of the 214 (21/eNIP X ffcMIP) colors! (24/eNIF +1 IC
MIP) can display color images with combinations of colors. The colors of the combination are dictated by data stored in SRAM within each chip (CHIP).

上述のECL形SRAMは、バイポーラ型トランジスタ
を用いた高速メモリであるのに加え、2個のSRAMを
交互に多重動作させることにより、さらに2倍の高速化
を図っている。また、D/A変換回路も高速に適したバ
イポーラ型トランジスタを用いて高速・低雑音設計がな
されている。これにより、カラービットマツプ表示とし
て必要な高速、低雑音の色変調信号を発生できる。
In addition to being a high-speed memory using bipolar transistors, the above-mentioned ECL type SRAM is designed to double the speed by alternately operating two SRAMs in multiplex mode. Further, the D/A conversion circuit is also designed to have high speed and low noise using bipolar transistors suitable for high speed. This makes it possible to generate high-speed, low-noise color modulation signals necessary for color bitmap display.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上記従来技術は、低占有面積化及び低消費電力化の配慮
が不十分であり、高集積化を進める上では問題があった
。ビットマツプ表示方式においては、表示すべき絵素毎
の色変調用画像データを記憶する大容量の画素メモリ、
いわゆるフレームメモリを用意する必要がある0例えば
、前に述べた2′!色で500X500絵素の表示をす
るためには、12X500X500=3X10”ビット
のフレームメモリを用意する必要がある。このフレーム
メモリと上述のD/A変換回路は、同一チップ化するこ
とが望ましい。しかし、上記従来技術で用いられている
バイポーラ型トランジスタからなるECL形SRAMは
、占有面積及び消費電力が大きいために、このように大
記憶容量化することは不可能で、数百ビットのCLTを
同一チップ化するのが限界であった。したがって、フレ
ームメモリは、別チップとして設ける必要があり、部品
点数の増加をもたらし表示装置全体の規模が大きくなる
。これに応じて、半導体集積回路装置間の配線数が増え
、信鎖性が低下するなどの問題も生じる。また、半導体
集積回路装置の入出力用ビン数や雑音の増大により、高
速化が困難になるという問題も生じる。すなわち、半導
体集積回路装置間の接続用配線は寄生容量が大きいなど
のために、高速信号を伝送するのは困難である。このた
め、低速信号を並列に多数伝送し、これを半導体集積回
路内で並直連変換の技術により多重化して、1個の高速
信号とする方法が用いられるが、低速信号を伝送するた
めの入出力ピン数が増大し、また、これらの多数の低速
信号の電位もしくは電流が同時に変化するとき、大きい
雑音を生じるなどの問題を有する。
The above-mentioned conventional technology has insufficient consideration for reducing the occupied area and lowering power consumption, and has had problems in promoting higher integration. In the bitmap display method, a large-capacity pixel memory that stores color modulation image data for each pixel to be displayed;
It is necessary to prepare a so-called frame memory 0 For example, the 2′ mentioned above! In order to display 500 x 500 pixels in color, it is necessary to prepare a frame memory of 12 x 500 x 500 = 3 x 10" bits. It is desirable that this frame memory and the above-mentioned D/A conversion circuit be on the same chip. However, , ECL-type SRAMs made of bipolar transistors used in the above-mentioned conventional technology occupy a large area and consume a large amount of power, so it is impossible to increase the storage capacity to such a large extent. Therefore, the frame memory must be provided as a separate chip, which increases the number of parts and increases the scale of the entire display device. Problems such as an increase in the number of wiring lines and a decrease in signal chain quality also occur.Additionally, the increase in the number of input/output bins and noise in semiconductor integrated circuit devices also causes problems in that it becomes difficult to increase the speed. It is difficult to transmit high-speed signals because the wiring for connecting circuit devices has large parasitic capacitance.For this reason, a large number of low-speed signals are transmitted in parallel, and these are connected in parallel and serially within a semiconductor integrated circuit. A method of multiplexing into one high-speed signal using conversion technology is used, but the number of input/output pins for transmitting low-speed signals increases, and the potentials or currents of these multiple low-speed signals are When changing, there are problems such as generating a large amount of noise.

この発明の目的は、同一チップ上に大容量のメモリとア
ナログ回路を搭載するとともにその試験を筒素化した半
導体集積回路装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device in which a large-capacity memory and an analog circuit are mounted on the same chip, and in which testing thereof is carried out in a single device.

この発明の他の目的は、同一チップ上に形成された画像
メモリとD/A変換回路を利用して、新規な表示機能を
実現した半導体集積回路装置を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device that realizes a new display function by using an image memory and a D/A conversion circuit formed on the same chip.

この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は
、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、ディジタル回路とアナログ回路とを含む半導
体集積回路装置に対して、テストモード信号に応じて外
部から上記メモリ回路とアナログ回路とをそれぞれ直接
的なアクセスを可能とする切り換えスイッチ回路を設け
る。また、上記半導体集積回路装置に内蔵されるディジ
タル画像データを記憶するメモリ回路と上記画像データ
を受けてアナログ映像信号を出力するD/A変換回路を
用い、上記メモリから時系列的に出力される画像データ
を時間的な処理、あるいは上記メモリ回路の空間的分割
により高階調用の画像データを生成させ、この画像デー
タを用いて選択的に高階調表示を行わせる。
That is, a semiconductor integrated circuit device including a digital circuit and an analog circuit is provided with a changeover switch circuit that enables direct access to the memory circuit and the analog circuit from the outside in response to a test mode signal. Further, by using a memory circuit built in the semiconductor integrated circuit device for storing digital image data and a D/A conversion circuit for receiving the image data and outputting an analog video signal, the data is output from the memory in a time-series manner. Image data for high gradation is generated by temporal processing of image data or spatial division of the memory circuit, and high gradation display is selectively performed using this image data.

〔作 用〕[For production]

上記した手段によれば、切り換えスイッチの制御により
、ディジタル回路やアナログ回路を直接的にアクセスが
可能になるため、テスト時間の短縮化と高信頬性を得る
ことができる。また、上記時間的あるいは空間的な処理
により、ディジタル回路としての画像メモリからのデー
タのビット数を拡張させることができるから、選択的な
高階調表示が可能になる。
According to the above-mentioned means, the digital circuit and the analog circuit can be directly accessed by controlling the changeover switch, so that test time can be shortened and high reliability can be obtained. Furthermore, the number of bits of data from the image memory as a digital circuit can be expanded by the above-mentioned temporal or spatial processing, so that selective high-gradation display becomes possible.

〔実施例〕〔Example〕

第8図には、本願発明が適用される半導体集積回路装置
の理解を容易にするための基本的概念の一実施例のブロ
ック図が示されている。
FIG. 8 shows a block diagram of an embodiment of the basic concept to facilitate understanding of a semiconductor integrated circuit device to which the present invention is applied.

半導体集積回路装置LSIは、メモリ回路RAMと、ア
ナログ回路ACを内蔵している。上記メモリ回路RAM
は、MOSFET (絶縁ゲート型電界効果トランジス
タ)により構成される。アナログ回路ACは、D/A変
換回路や演算増幅回路などのアナログ回路から構成され
る。ここで、メモリRAMの構成は、目的に応じて、任
意の番地のデータを全(ランダムに読み出し、書き込み
が可能な、いわゆるランダム・アクセス・メモリ(Ra
ndaet Access Memory )であって
も、あるいはシフトレジスタのようにシリアルにデータ
を読み出し、書き込みする形式であってもよい、さらに
はこれらの2つの機能を合わせ持つ、アイ・イー・イー
・イー ジャーナル・オブ・ソリッド−ステート・サー
キット 5C−19巻、第6号、1984年12月号、
999頁/1007頁(IEEE  Journal 
of 5olid−3tete C1rcuits V
ol、5C−19,Na6. Dec、1984. p
p、  999〜1007)に述べられているような、
いわゆるデュアル・ボート・メモリ(Dual Por
t Memory )であってもよい。
The semiconductor integrated circuit device LSI includes a memory circuit RAM and an analog circuit AC. The above memory circuit RAM
is composed of a MOSFET (insulated gate field effect transistor). The analog circuit AC is composed of analog circuits such as a D/A conversion circuit and an operational amplifier circuit. Here, the structure of the memory RAM is a so-called random access memory (Ra
Access Memory) or a format that serially reads and writes data like a shift register, or even an IEE journal that combines these two functions. Of Solid-State Circuits Volume 5C-19, No. 6, December 1984 issue,
999 pages/1007 pages (IEEE Journal
of 5olid-3tete C1rcuits V
ol, 5C-19, Na6. Dec, 1984. p
p. 999-1007),
So-called dual boat memory (Dual Port memory)
tMemory).

本実施例によれば、メモリは占有面積及び消費電力が小
さく、高集積化に適したMOSFETを用いたメモリセ
ルで構成されるので、大容量のメモリRAMとアナログ
回路ACとを同一チップ上に容易に搭載できる。また、
本実施例では、メモリ回路RAMとアナログ回路ACと
は、同一チップ上の配線201で接続される。したがっ
て、この配線201の配線長は短(なり、配線201に
おける寄生容量は極めて小さくなるため、信号を高速に
伝送できる。また、信号の伝送が高速であるため配線数
も低減でき、電位もしくは電流の同時変化時の雑音が低
減できる。たとえさらに高速化するために、従来技術と
同様に、信号を多数並列に伝送し、並直列変換により高
速化する手法を採用したとしても、配線長が極めて短い
ため、信号電位もしくは電流変化時の雑音は無視できる
ほど小さ(なり、高速、低雑音の大容量メモリ回路RA
Mとアナログ回路ACとを混在した半導体集積回路装置
LSIを実現できる。
According to this embodiment, since the memory is constructed of memory cells using MOSFETs that occupy a small area and consume less power and are suitable for high integration, a large-capacity memory RAM and an analog circuit AC can be integrated on the same chip. Easy to install. Also,
In this embodiment, the memory circuit RAM and the analog circuit AC are connected by a wiring 201 on the same chip. Therefore, the wiring length of this wiring 201 is short (and the parasitic capacitance in the wiring 201 is extremely small, so signals can be transmitted at high speed. Also, since the signal transmission is high-speed, the number of wirings can be reduced, and the potential or current The noise caused by simultaneous changes in the signals can be reduced.Even if a method of transmitting many signals in parallel and increasing the speed by parallel-to-serial conversion is adopted to further increase the speed, the wiring length would be extremely long. Because of its short length, the noise when signal potential or current changes is negligibly small (high-speed, low-noise, large-capacity memory circuit RA
It is possible to realize a semiconductor integrated circuit device LSI in which M and analog circuits AC are mixed.

第9図には、MOS F ETからなるメモリ回路とア
ナログ回路とを1チツプ化した場合の利点を活かした半
導体集積回路装置の一実施例のプロソり図が示されてい
る。
FIG. 9 shows a schematic diagram of an embodiment of a semiconductor integrated circuit device that takes advantage of integrating a memory circuit consisting of a MOS FET and an analog circuit into one chip.

この実施例において、メモリ回路RAMは欠陥救済のた
めのヒユーズF1を備え、アナログ回路ACは、各種ア
ナログ特性のトリミング(微調整)用ヒユーズF2を備
えている。この実施例においては、これら両ヒユーズF
1とF2とを同一方式とする点に特長がある。大容量メ
モリ回路RAMは、製造歩留まりを高くするために、予
め予備のメモリセルが用意されており、テストの結果不
良メモリセルが発見された場合、これを予備メモリセル
と入れ換えて良品とする、いわゆる欠陥救済技術が採用
される。この不良メモリセルと予備メモリセルの入れ換
えを行うためのスイッチの働きをするのが、欠陥救済用
ヒユーズF1である。
In this embodiment, the memory circuit RAM includes a fuse F1 for relieving defects, and the analog circuit AC includes a fuse F2 for trimming (fine adjustment) of various analog characteristics. In this embodiment, both fuses F
The feature is that 1 and F2 are of the same system. In order to increase the manufacturing yield of the large capacity memory circuit RAM, spare memory cells are prepared in advance, and if a defective memory cell is found as a result of a test, it is replaced with a spare memory cell and a good product is made. A so-called defect relief technique is adopted. The defect relief fuse F1 functions as a switch for replacing the defective memory cell with the spare memory cell.

同図では、1つのヒユーズF1を代表として例示的に示
している。また、アナログ回路ACでは、演算増幅器の
増幅率、A/D (アナログ/ディジタル)変換回路、
D/A変換回路で用いる基準電圧・電流の値などを性能
のテストの結果に基づいてトリミング(@調整)を行い
、高精度化を図ることが必要になる場合がある。このト
リミング用のスイッチとしてヒユーズF2を使用する。
In the figure, one fuse F1 is exemplarily shown as a representative. In addition, in the analog circuit AC, the amplification factor of the operational amplifier, the A/D (analog/digital) conversion circuit,
It may be necessary to trim (adjust) the reference voltage, current values, etc. used in the D/A conversion circuit based on the results of a performance test to improve accuracy. Fuse F2 is used as a switch for this trimming.

同図では、1つのヒユーズF2を代表として例示的に示
している。
In the figure, one fuse F2 is exemplarily shown as a representative.

一般に、半導体集積回路に形成されるヒユーズは、アル
ミニュウム配線、ポリシリコン配線などで形成され、レ
ーザー光を照射したり、あるいは大電流を流したりして
溶断する。このヒユーズの材料、形成法及び切断法など
の方式をメモリ回路RAMのヒユーズF1とアナログ回
路ACのヒユーズF2とで共通化することにより、製造
工程、テスト工程、切断工程及びこれらに用いる装置類
を同一にできるから各工程の高効率化が可能になる。な
お、本実施例において、上記アナログ回路ACのトリミ
ングについては、ヒユーズを回路中の抵抗そのものとし
て用い、これをレーザー光により、一部を削り取ること
によりその抵抗値を変えたり、あるいはポリシリコンヒ
ユーズを用いて、これをレーザー光で熱することにより
、不純物濃度の分布を変えるなどしてその抵抗値を調整
することも可能である。
Generally, fuses formed in semiconductor integrated circuits are formed of aluminum wiring, polysilicon wiring, or the like, and are blown by irradiation with laser light or by flowing a large current. By standardizing the materials, forming method, cutting method, etc. of this fuse for the fuse F1 of the memory circuit RAM and the fuse F2 of the analog circuit AC, manufacturing processes, testing processes, cutting processes, and the equipment used therein can be simplified. Since they can be made the same, each process can be made more efficient. In this example, for trimming the analog circuit AC, the fuse is used as a resistor itself in the circuit, and the resistance value is changed by scraping off a part of it with a laser beam, or a polysilicon fuse is used. It is also possible to adjust the resistance value by heating this with laser light and changing the impurity concentration distribution.

第10図には、第8図の実施例の変形例のブロック図が
示されている。
FIG. 10 shows a block diagram of a modification of the embodiment of FIG. 8. In FIG.

この実施例では、論理回路LOGが新たに付加される0
本実施例によれば、論理回路LOGにより、各種論理演
算処理が可能となり、その結果によりメモリ回路RAM
及びアナログ回路ACの制御もできる。ここで、論理回
路LOGは、単なる論理回路だけでなく、マイクロコン
ピュータなどを含ませるものとし、さらに処理能力を高
めることができる。
In this embodiment, the logic circuit LOG is newly added 0
According to this embodiment, the logic circuit LOG enables various logical operation processes, and the results are used in the memory circuit RAM.
It is also possible to control the analog circuit AC. Here, the logic circuit LOG is assumed to include not only a simple logic circuit but also a microcomputer, etc., so that the processing capacity can be further increased.

第11図には、カラーグラフインク表示用の半導体集積
回路装置の一実施例のブロック図が示されている。
FIG. 11 shows a block diagram of an embodiment of a semiconductor integrated circuit device for color graph ink display.

画像メモリGRAMは、表示の各絵素(画素)に対応し
た画像データを記憶し、MOSメモリで構成される。絵
素毎の画像データは入力端子1゜1から入力される0画
像メモリGRAMの構成は、入力と出力とが同時に並行
して行えるため、表示データを出力しながら、記憶デー
タの書き替えが行える前記のデュールボート形メモリと
するのが望ましい、アナログ回路としてのD/A変換回
路、DACは、画像メモリGRAMからのディジタル出
力信号201をアナログ信号に変換して、各絵素の色変
調信号として出力端子102へ出力する。
The image memory GRAM stores image data corresponding to each picture element (pixel) for display, and is configured with a MOS memory. Image data for each picture element is input from the input terminal 1. The configuration of the image memory GRAM allows input and output to be performed simultaneously in parallel, so stored data can be rewritten while outputting display data. The D/A conversion circuit (DAC) as an analog circuit, which is preferably the above-mentioned Dürbor boat type memory, converts the digital output signal 201 from the image memory GRAM into an analog signal and outputs it as a color modulation signal for each picture element. Output to the output terminal 102.

制御回路C0NTは、上記画像メモリORAM及びD/
A変換回路DACの動作を制御する制御論理回路であり
、制御信号は入力端子103から入力される。
The control circuit C0NT controls the image memory ORAM and D/
This is a control logic circuit that controls the operation of the A conversion circuit DAC, and a control signal is input from the input terminal 103.

本実施例によれば、高速、低雑音のカラーグラフインク
表示用の画像メモリGRAMと、D/A変換回路DAC
を1チツプ化したDAC付画像画像メモリ現できる。
According to this embodiment, an image memory GRAM for high-speed, low-noise color graph ink display and a D/A conversion circuit DAC are provided.
It is possible to create an image memory with a DAC that integrates the image into a single chip.

第12図は、第11図の実施例の変形例のブロック図が
示されている。
FIG. 12 shows a block diagram of a modification of the embodiment of FIG. 11.

この実施例では、画像メモリGRAMの入力部に、入力
論理回路AUが付加される。この入力論理回路AUは、
入力データの論理演算処理を行う。
In this embodiment, an input logic circuit AU is added to the input section of the image memory GRAM. This input logic circuit AU is
Performs logical operation processing on input data.

この実施例によれば、入力論理回路AUを用いて丸や四
角などの任意の図形を発生するなどの各種演算処理を行
うことができる。また、上記入力論理回路AUや制御回
路C0NTとして、マイクロコンピュータなどと同様の
機能を持たせることにより、さらに高度の処理が実現で
き、いっそうの高性能化が可能になる。
According to this embodiment, the input logic circuit AU can be used to perform various calculation processes such as generating arbitrary figures such as circles and squares. Further, by providing the input logic circuit AU and the control circuit C0NT with functions similar to those of a microcomputer, more advanced processing can be realized, and even higher performance can be achieved.

第13図には、第12図の実施例の変形例のブロック図
が示されている。
FIG. 13 shows a block diagram of a modification of the embodiment of FIG. 12.

この実施例では、前に述べた色付表CLTが付加される
。この色付表CLTは、上記画像メモリGRAMの出力
とD/A変換回路DACの間に設けられる0本実施例に
よれば、前にも述べたように画像メモリGRAMの内容
に色付表CLTの内容に従って任意に色付して、表示で
きる色の範囲を拡大できる。
In this embodiment, the coloring table CLT mentioned above is added. This coloring table CLT is provided between the output of the image memory GRAM and the D/A conversion circuit DAC. According to this embodiment, the contents of the coloring table CLT are added to the contents of the image memory GRAM as described above. You can expand the range of colors that can be displayed by adding colors according to your preference.

第14図には、第13図の実施例の変形例のブロック図
が示されている。
FIG. 14 shows a block diagram of a modification of the embodiment of FIG. 13.

この実施例では、高速動作化のために、画像メモリGR
AMと色付表CLT及び色付表CLTとD/A変換回路
DACとの間に、それぞれ並直列変換回路PSCIとP
SC2が挿入される0本実施例によれば並直列変化回路
PSC1,PSC2により、並列信号を多重化する分だ
け出力信号を高速化でき、表示の絵素数が増えたり、あ
るいは単位時間当たりの表示回数(スキャン回数)を増
やしてチラッキの無い画像を作成する際などに好適とな
る。なお、上述の第13図、第14図の実施例のメモリ
構成については、大記憶容量の画像メモリGRAMとし
ては、アドレス選択用MO3FETと記憶用キャパシタ
とからなる公知の1MO8形のダイナミック型メモリセ
ルを用いて高集積化し、一方、高速動作を行う色付表C
LTとしては、ゲートとドレインが交差接続されたラッ
チ形態の駆動(記憶’)MOSFETと、そのドレイン
に設けられたポリシリコン高抵抗及び上記駆動MOS 
F ETのドレインと一対の相補デ―り線との間に設け
られる伝送ゲー)MOSFETからなるMOSスタティ
ック形メセメモリセルバイポーラ型トランジスタを用い
たECL形のスタティックメモリセルを用いて高速化す
る構成が考えられる。
In this embodiment, for high-speed operation, the image memory GR
Parallel-serial conversion circuits PSCI and P are connected between AM and color table CLT, and between color table CLT and D/A conversion circuit DAC, respectively.
According to this embodiment, the parallel-serial change circuits PSC1 and PSC2 can speed up the output signal by multiplexing the parallel signals, increasing the number of display pixels or increasing the display speed per unit time. This is suitable for increasing the number of scans (number of scans) to create flicker-free images. Regarding the memory configuration of the embodiments shown in FIGS. 13 and 14, the large storage capacity image memory GRAM uses a known 1MO8 type dynamic memory cell consisting of an address selection MO3FET and a storage capacitor. Colored table C that uses high integration and high-speed operation
The LT includes a latch-type drive (memory') MOSFET whose gate and drain are cross-connected, a polysilicon high resistance provided at its drain, and the drive MOS described above.
A MOS static type memory cell consisting of a transmission gate (transmission gate) MOSFET provided between the drain of an FET and a pair of complementary data lines.A structure for increasing speed using an ECL type static memory cell using a bipolar type transistor is used. Conceivable.

第15図には、第12図の実施例の変形例のブロック図
が示されている。
FIG. 15 shows a block diagram of a modification of the embodiment of FIG. 12.

この実施例では、前記第12図の実施例に対して、A/
D変換回路ADCが付加される。すなわち、入力端子1
04から入力されたアナログ信号は、A/D変換回路A
DCによりディジタル信号213に変換され、入力論理
回路AUに入力される。
In this embodiment, A/
A D conversion circuit ADC is added. That is, input terminal 1
The analog signal input from 04 is sent to the A/D conversion circuit A.
It is converted into a digital signal 213 by DC and input to the input logic circuit AU.

本実施例によれば、入力端子101から入力されるディ
ジタル形態の表示信号の他に、入力端子104から入力
されるテレビジョン映像信号などのアナログ形態の表示
信号を同時に、画像メモリGRAMに記憶させることが
でき、同一表示画面上に、計算機などの出力とテレビジ
ョン映像信号などを同時に表示させることが可能になる
。また、入力論理回路AUにより、入力端子101と1
04の信号間の演算処理ができ、両者を重ね合わせて表
示させることなども可能になる。さらに本実施例によれ
ば、入力端子104のテレビジョン映像信号などを一部
ディジタル信号に変換し、これを画像メモリGRAMに
蓄え、その信号を入力とは異なる掃引周波数で出力する
、いわゆるスキャンコンバータとして使用することもで
き、異なる仕様の映像装置間の仕様変換装置として使用
するとか可能である。
According to this embodiment, in addition to a digital display signal input from the input terminal 101, an analog display signal such as a television video signal input from the input terminal 104 is simultaneously stored in the image memory GRAM. This makes it possible to simultaneously display the output of a computer and a television video signal on the same display screen. In addition, the input logic circuit AU also controls the input terminals 101 and 1.
It is possible to carry out arithmetic processing between the 04 signals and display them in a superimposed manner. Furthermore, according to this embodiment, a so-called scan converter converts a portion of the television video signal or the like at the input terminal 104 into a digital signal, stores this in the image memory GRAM, and outputs the signal at a sweep frequency different from that of the input. It can also be used as a specification conversion device between video devices with different specifications.

本実施例においては、A/D変換回路ADC1D/A変
換回路DACの動作の基準となる基準電圧もしくは基準
電流は、基準電圧・電流発生回路REFの出力信号21
4を共用している。この結果、A/D変換回路ADCと
D/A変換回路DACのゼロスケールレベル、フルスケ
ールレベルあるいは直流レベルを同一レベルに調整でき
るなど、アナログ信号のチップ入出力特性を全く同一に
することが可能になる。また、低消費電力化、あるいは
微細化されて耐圧の低(なった素子を保護する目的で、
特願昭56−57143号、特願昭56−168698
号などで開示されているような、チップ内部に電源電圧
を低く変換する手段を有し、この低くした電圧で、チッ
プ内の一部もしくは全回路を動作させる、いわゆるオン
チップ電圧リミンタ方式を採用する場合には、動作の基
準となる電圧を上述の基準電圧・電流発生回路REFで
発生した電圧と共通化、もしくはこれを基に発生して使
用することも可能である。これにより、チップ全体の動
作電圧が規準化され、全体の整合性の高い動作が可能に
なる。
In this embodiment, the reference voltage or reference current that serves as the reference for the operation of the A/D conversion circuit ADC1D/A conversion circuit DAC is the output signal 21 of the reference voltage/current generation circuit REF.
4 are shared. As a result, it is possible to make the chip input/output characteristics of analog signals exactly the same, such as adjusting the zero scale level, full scale level, or DC level of the A/D conversion circuit ADC and the D/A conversion circuit DAC to the same level. become. In addition, for the purpose of reducing power consumption or protecting elements that have been miniaturized and have low withstand voltage,
Patent Application No. 56-57143, Patent Application No. 168698-1982
The device employs a so-called on-chip voltage limiter method, which has a means to lower the power supply voltage inside the chip and operates some or all of the circuits within the chip using this lowered voltage, as disclosed in In this case, it is also possible to use a common voltage as the reference voltage for operation with the voltage generated by the above-mentioned reference voltage/current generating circuit REF, or to generate it based on this voltage. This standardizes the operating voltage of the entire chip, allowing highly consistent operation of the entire chip.

なお、本実施例において、入力端子104から入力され
た信号は、予めカラー表示の3原色に分離された信号で
あってもよいし、分離されない信号であってもよい。分
離されない場合には、この信号を画像メモリGRAMの
記憶データのフォーマントに従い分離する回路をチップ
LSI内部に備えればよい0本実施例では、第12図の
実施例にA/D変換回路ADCを付加する例を述べたが
、その他の実施例においても同様にA/D変換回路を付
加することが可能である。
In this embodiment, the signal input from the input terminal 104 may be a signal that has been separated in advance into three primary colors for color display, or may be a signal that is not separated. If the signal is not separated, a circuit for separating this signal according to the format of the data stored in the image memory GRAM may be provided inside the chip LSI. In this embodiment, an A/D conversion circuit ADC is added to the embodiment shown in FIG. Although an example in which an A/D conversion circuit is added has been described, it is possible to add an A/D conversion circuit in the same way in other embodiments.

第16図には、第12図の実施例におけるD/A変換回
路DACを具体化したブロック図が示されている。
FIG. 16 shows a block diagram embodying the D/A conversion circuit DAC in the embodiment of FIG. 12.

この実施例では、D/A変換回路DACは、カラー表示
の3原色である赤、緑及び青毎にそれぞれR,G%Bの
D/A変換回路を備え、外部に3原色の変調信号102
R,102G、102Bを出力する0表示画面上ではこ
れらが合成され、いわゆる加法混色の原理に従い、各種
の色が表示される。したがって、本実施例によれば、1
チツプの半導体集積回路装置LSIにより、カラー画像
の表示が可能になる。なお、上記ではカラー表示の3原
色は、赤、緑、青として説明したが、これは表示装置の
発色法によって異なるもので、これに限定されるもので
はない0例えば、カラープリンタ装置などで1よ、黄、
シアン、マゼランを3原色とした、減法混色による発色
法が用いられる場合があるが、そのような装置に本実施
例を適用する場合には、D/A変換回路DACをそれぞ
れの原色に対応して使用すればよい。
In this embodiment, the D/A conversion circuit DAC includes R, G%B D/A conversion circuits for each of red, green, and blue, which are the three primary colors of color display, and externally receives the modulation signal 102 of the three primary colors.
On the 0 display screen that outputs R, 102G, and 102B, these are combined and various colors are displayed according to the principle of so-called additive color mixing. Therefore, according to this embodiment, 1
The chip semiconductor integrated circuit device LSI enables the display of color images. Note that the three primary colors of color display are explained above as red, green, and blue, but this varies depending on the coloring method of the display device and is not limited to this.For example, in a color printer device, etc. Yo, yellow.
A subtractive color mixing method using cyan and magellan as the three primary colors is sometimes used, but when applying this embodiment to such a device, the D/A conversion circuit DAC must be configured to correspond to each primary color. Just use it.

以上のように本発明により、大容量の画像メモIJGR
AMとD/A変換回路DAC付きの半導体集積回路装置
LSIが実現できるが、場合によってはさらに大容量の
メモリが必要になることも考えられる。そのような場合
には種々の変形が考えられる0例えば、第16図におい
て、D/A変換回路DACは、1色分のみ用意し、画像
メモリGRAMは全て1色のデータ記憶用として使用し
、これを3チップ並列に使用して3原色を発生させるこ
ともできる。これによれば、1色当たりのメモリ容量を
3倍にできる。また、D/A変換回路DACは、第16
図と同様に3色分備え、メモリ容量が小さくてもよい場
合にはそのまま用い、大きいメモリ容量が必要なときに
は、2色分のD/A変換回路を動作を停止して、1色分
のD/A変換回路のみを動作させ、かつ画像メモリGR
AMを1色分のメモリとして使用できるような切り換え
手段を予めチップ内に設けておき、これを上述の如く3
チフブ使用する方法も考えられる。この方法によれば、
必要なメモリ容量が小さい場合、大きい場合のいずれに
も対処できる。第16図において、画像メモリGRAM
に増設用端子を予め設けておき、この端子に増設用のメ
モリを外部から接続する方法も考えられる。上述した種
々の方法は第15図の如き、D/A変換回路を備えた場
合にも同様に適用できる。
As described above, according to the present invention, a large-capacity image memo IJGR
A semiconductor integrated circuit device LSI with an AM and D/A conversion circuit DAC can be realized, but depending on the case, a larger capacity memory may be required. In such a case, various modifications can be made. For example, in FIG. 16, the D/A conversion circuit DAC is prepared for only one color, and the image memory GRAM is all used for storing data for one color. It is also possible to generate three primary colors by using three chips in parallel. According to this, the memory capacity per color can be tripled. Further, the D/A conversion circuit DAC is the 16th D/A conversion circuit DAC.
As shown in the figure, it is provided for three colors, and if the memory capacity is small, it can be used as is, but when a large memory capacity is required, the D/A conversion circuit for two colors can be stopped, and the D/A conversion circuit for one color can be stored. Only the D/A conversion circuit is operated, and the image memory GR
A switching means that allows AM to be used as a memory for one color is provided in advance in the chip, and this is switched to 3 as described above.
Another option is to use chifubu. According to this method,
It can handle both cases where the required memory capacity is small or large. In FIG. 16, the image memory GRAM
Another possible method is to provide an expansion terminal in advance and connect an expansion memory to this terminal from the outside. The various methods described above can be similarly applied to the case where a D/A conversion circuit is provided as shown in FIG.

以上述べたように、MOSメモリを用いることにより、
大容量のメモリとアナログ回路を1チツプ化した半導体
集積回路装置tLsIが実現できる。
As mentioned above, by using MOS memory,
A semiconductor integrated circuit device tLsI in which a large capacity memory and an analog circuit are integrated into one chip can be realized.

このMOSメモリを構成するメモリセルとしては、スタ
ティック形やダイナミック形のものがある。
The memory cells constituting this MOS memory include static type and dynamic type.

スタティック形メモリセルの例としては、前記のように
ドレインとゲートが交差接続されたラッチ形態の一対の
駆動(記憶)MOSFETと、それぞれのドレインに設
けられたポリシリコン高抵抗素子と、上記駆動MOS 
F ETのドレインと一対の相補データ線(ビット線又
はデイジット線)との間に設けられるアドレス選択用の
伝送ゲートMOSFETとから構成されるものがある。
An example of a static memory cell is a pair of latch-type drive (memory) MOSFETs whose drains and gates are cross-connected as described above, a polysilicon high resistance element provided on each drain, and the drive MOS
Some devices are composed of a transmission gate MOSFET for address selection provided between the drain of an FET and a pair of complementary data lines (bit lines or digit lines).

上記各MO3FETは、NチャンネルMO8FETから
構成される。このスタティック形メモリセルは、低雑音
動作が可能であり、低雑音が特に要求される場合に好適
である。また、上記ポリシリコン高抵抗素子を用いた場
合には、PチャンネルMO3FETを用いる場合に比べ
て、その占有面積を小さくできる。
Each MO3FET described above is composed of an N-channel MO8FET. This static type memory cell is capable of low noise operation and is suitable when low noise is particularly required. Further, when the polysilicon high resistance element is used, the occupied area can be made smaller than when a P-channel MO3FET is used.

一方、ダイナミック形メモリセルの例としては、アドレ
ス選択用MO3FETと、情報記憶用キャパシタからな
る1MO3形と、ゲート容量を記憶用キャパシタとする
記憶用MO3FETと、そのドレインに設けられた読み
出し用のMOSFETと、上記記憶用MOS F ET
のゲートに設けられた書き込み用MO3FETとからな
る3MO3形とがある。上記IMO3形メモサメモリセ
ル子数が少ないため高集積性に優れ、また低消費電力で
あるため、特に大容量のメモリが要求される場合に好適
である。上記3MO3形メモリセルは、情報記憶電荷を
記憶用MO3FETにより増幅して出力するものである
ため、高S/N動作に適しており、特に高S/N動作が
要求される場合に好適である。
On the other hand, examples of dynamic memory cells include a 1MO3 type consisting of an address selection MO3FET and an information storage capacitor, a storage MO3FET whose gate capacitance is used as a storage capacitor, and a readout MOSFET provided at its drain. and the above memory MOS FET
There is a 3MO3 type consisting of a writing MO3FET provided at the gate of the 3MO3 type. Since the number of IMO3 type memosa memory cells is small, it is excellent in high integration, and has low power consumption, so it is particularly suitable when a large capacity memory is required. The above-mentioned 3MO3 type memory cell is suitable for high S/N operation, and is particularly suitable when high S/N operation is required, since the information storage charge is amplified by the storage MO3FET and output. .

第17図には、前記第10図の実施例の回路構成を具体
化した一実施例のブロック図が示されている。
FIG. 17 shows a block diagram of an embodiment that embodies the circuit configuration of the embodiment shown in FIG. 10.

メモリ回路RAMのメモリセルアレイは、同図に点線で
示すように、高集積化したlMOSMOSサメモリセル
用いて構成している。また、低雑音で高S/N動作が可
能なようにデータ線対り。
The memory cell array of the memory circuit RAM is constructed using highly integrated IMOSMOS memory cells, as shown by the dotted line in the figure. In addition, the data line pairs are designed to enable low noise and high S/N operation.

Dが平行して配置され、ワード線Wとの交点のいずれか
一方にメモリセルMCが配置されるという、いわゆる折
り返し形データ線(ビット線又はデイジットy> m成
を採用している。
A so-called folded data line (bit line or digit y>m configuration) is adopted in which data lines D are arranged in parallel and a memory cell MC is arranged at one of the intersections with a word line W.

メモリセルMCからの微小信号を増幅するセンスアンプ
SAなどからなる周辺回路は、バイポーラ型トランジス
タとCMOS (相補形MO3)回路とを組み合わせた
BICMO3回路で構成している。すなわち、センスア
ンプSAのように高集積で低消費電力が必要な回路や、
容量の小さな付加を駆動する回路は低消費電力で低占有
面積の0M05回路とし、容量の大きい負荷を駆動する
回路や、微小信号を高速、高感度で増幅する必要がある
回路にはバイポーラ型トランジスタ回路、あるいはCM
OS回路とバイポーラ型トランジスタを組み合わせた回
路とする。上述の他にB i CMOSを用いたダイナ
ミック型メモリとしては、特開昭61−142594号
公報、特開昭61−170992号公報などに開示され
ている技術がそのまま適用できるアナログ回路AC及び
論理回路LOGにおいても同様にBiCMO3″?lI
構成する。
The peripheral circuitry including the sense amplifier SA that amplifies the minute signal from the memory cell MC is composed of a BICMO3 circuit that is a combination of a bipolar transistor and a CMOS (complementary MO3) circuit. In other words, circuits that require high integration and low power consumption, such as the sense amplifier SA,
Circuits that drive small-capacitance additions are 0M05 circuits with low power consumption and small footprint, and bipolar transistors are used for circuits that drive large-capacitance loads and circuits that require high-speed, high-sensitivity amplification of minute signals. circuit or commercial
The circuit is a combination of an OS circuit and a bipolar transistor. In addition to the above-mentioned dynamic memory using B i CMOS, there are analog circuits AC and logic circuits to which the techniques disclosed in JP-A-61-142594 and JP-A-61-170992 can be directly applied. Similarly in LOG, BiCMO3''?lI
Configure.

例えば、アナログ回路ACにおいて、微小な高速信号を
処理する必要のあるA/D変換回路、D/A変換回路は
バイポーラ型トランジスタ回路で構成し、アナログスイ
ッチ回路などはオフセットの少ない0M03回路を用い
て構成する。これにより、高速、高精度のA/D変換回
路、D/A変換回路が実現できる。また、第15図で示
した基準電圧・電流発生回路REFは、良く知られてい
るバイポーラ型トランジスタのバンドギャップ発生回路
を用いれば、高安定の基準電圧・電流が得られる。さら
に、第14図で示した色付表CLTや並直列変換回路P
SCI、PSC2は、バイポーラ型トランジスタを用い
て構成すれば高速動作が可能になる。論理回路LOGに
おいても、上述と同様に0M03回路、バイポーラ型ト
ランジスタ回路あるいは両者の組み合わせの各回路を使
い分けることにより、高速、低消費電力、高集積の論理
回路が実現できる。
For example, in an analog circuit AC, the A/D conversion circuit and D/A conversion circuit that need to process minute high-speed signals are constructed with bipolar transistor circuits, and analog switch circuits are constructed using 0M03 circuits with low offset. Configure. As a result, a high-speed, high-precision A/D conversion circuit and D/A conversion circuit can be realized. Further, the reference voltage/current generating circuit REF shown in FIG. 15 can provide a highly stable reference voltage/current by using a well-known bipolar transistor bandgap generating circuit. Furthermore, the colored table CLT and parallel-to-serial conversion circuit P shown in FIG.
If the SCI and PSC2 are configured using bipolar transistors, high-speed operation is possible. In the logic circuit LOG as well, a high speed, low power consumption, and highly integrated logic circuit can be realized by selectively using the 0M03 circuit, the bipolar transistor circuit, or a combination of both as described above.

以上により、高速、低消費電力の大容量メモリと高速、
高精度のアナログ回路を一体化した半導体集積回路装置
が実現できる。なお、ここではメモリセル以外はB i
 0M03回路を用いる例を示したが、特に低消費電力
、あるいは低製造原価が要求されるなどの場合には、0
M03回路のみで構成することもできる。
As a result, high speed, low power consumption, large capacity memory and high speed,
A semiconductor integrated circuit device that integrates a high-precision analog circuit can be realized. Note that here, everything other than the memory cell is B i
Although we have shown an example of using the 0M03 circuit, in cases where particularly low power consumption or low manufacturing costs are required, the 0M03 circuit may be used.
It can also be configured with only the M03 circuit.

以上述べたような実施例によれば、大容量メモリとアナ
ログ回路とを1チツプ化することにより、両者間の配線
数を少なく、また配線長を短くできるため、これらに発
生する雑音を最小にできる。
According to the embodiments described above, by integrating the large-capacity memory and the analog circuit into one chip, the number of wires between them can be reduced and the length of the wires can be shortened, thereby minimizing the noise generated in these. can.

しかし、メモリ回路をIMO3形メモサメモリセルする
場合には、データ線の充放電動作時などに、電源線に過
渡電流が流れ、これが雑音としてアナログ回路AC側に
影響を与える場合が考えられる。
However, when the memory circuit is an IMO3 type memosa memory cell, a transient current may flow through the power supply line during charging/discharging operations of the data line, and this may affect the analog circuit AC side as noise.

以下、この電源線を介した雑音を低減できる実施例につ
いて説明する。
Hereinafter, an embodiment that can reduce noise through this power supply line will be described.

第18図は、半導体集積回路装置の一実施例の概略構造
平面図が示されている。
FIG. 18 shows a schematic structural plan view of an embodiment of a semiconductor integrated circuit device.

パッケージPKGは、外部端子としての複数のピンを持
つ。上記複数のピンのうち代表として例示的に示された
2つのピンP1とP2は電源ピンとして用いられる。収
容枠FLMには、半導体チップLSIが収容される。上
記ピンP1とP2にには、それぞれボンディング配線L
1とL2が設けられる。ボンディング用配線BWI〜B
W3は、パッケージPKGのボンディング用配線Ll、
L2と半導体チップLSI上のポンディングパッドBP
1.BP2を接続するためのボンディング線であり、通
常はアルミニュウムで形成される。ポンディングパッド
BPIとBF2は、それぞれメモリ回路RAMとアナロ
グ回路ACの接地電位を含む電源供給用のものであり、
配線121と122は、半導体チップLSI上に形成さ
れるxi配線である。
Package PKG has multiple pins as external terminals. Two representative pins P1 and P2 among the plurality of pins are used as power supply pins. A semiconductor chip LSI is accommodated in the accommodation frame FLM. Bonding wiring L is attached to the above pins P1 and P2, respectively.
1 and L2 are provided. Bonding wiring BWI~B
W3 is the bonding wiring Ll of the package PKG,
L2 and the bonding pad BP on the semiconductor chip LSI
1. This is a bonding line for connecting BP2, and is usually made of aluminum. The bonding pads BPI and BF2 are for power supply including ground potential of the memory circuit RAM and analog circuit AC, respectively.
Wirings 121 and 122 are xi wiring formed on the semiconductor chip LSI.

本実施例によれば、メモリ回路RAMとアナログ回路A
Cの電源は、別々のピンPlとP2、ボンディング配線
BWIとBW2及びボンディングパッドBPIとBF2
を通して給電されるため、回路相互間で雑音の干渉を与
えることなない、また、場合によっては、同時に点線で
示したボンディング線BW3のように、パフケージピン
P1とボンディング用配線し1は共通とし、ボンディン
グ線BWIとBW3から両者を分離する方法もある。パ
ッケージピンP1やボンディング用配線し1は、比較的
インダクタンスや抵抗などが小さいため、この方法でも
雑音の干渉を低減することができる。
According to this embodiment, the memory circuit RAM and the analog circuit A
The power supply of C is connected to separate pins Pl and P2, bonding wires BWI and BW2, and bonding pads BPI and BF2.
Since power is supplied through the wire, there is no noise interference between the circuits.In some cases, the bonding wire 1 is shared with the puff cage pin P1, as shown by the dotted line, bonding wire BW3. There is also a method of separating both from lines BWI and BW3. Since the package pin P1 and the bonding wiring 1 have relatively small inductance and resistance, this method can also reduce noise interference.

第19図には、半導体集積回路装置における低雑音給電
回路の他の一実施例を説明するための概略平面図が示さ
れている。
FIG. 19 shows a schematic plan view for explaining another embodiment of a low noise power supply circuit in a semiconductor integrated circuit device.

この実施例では、半導体チップLSI上の電源配線12
1と122で両回路への給電が分離されている。これに
よっても低雑音化が期待できるが、本実施例ではさらに
、アナログ回路ACの電源配線122には、メモリ回路
RAMからの電源雑音を除去するために、抵抗Rとキャ
パシタCからなるデカップリング回路が設けられる。
In this embodiment, the power supply wiring 12 on the semiconductor chip LSI
1 and 122 separate the power supplies to both circuits. This can also be expected to reduce noise, but in this embodiment, a decoupling circuit consisting of a resistor R and a capacitor C is also installed in the power supply wiring 122 of the analog circuit AC in order to remove the power supply noise from the memory circuit RAM. is provided.

本実施例によれば、メモリ回路RAMの動作によって電
源線121に生じる雑音は、上記デカップリング回路に
よって除去されるため、アナログ回路ACへ電源線12
2を通して雑音が伝えられるとこが防止できる。ここで
用いたデカップリング回路の考えは、第18図の実施例
においても適用できる。デカップリング回路の抵抗とし
てはアルミニュウム配線の抵抗が使用でき、場合によっ
てはその自己インダクタンスを用いてさらに効果的なデ
カップリング回路とすることができる。キャパシタとし
ては、配線容量が使えるが、さらに効果を上げるために
、小面積で大きな容量値が得られるMOSFETの反転
層容量などを付加してもよい、さらには、半導体チップ
LSI上では一部に主表面にのみ回路が形成されること
を利用して、チップの裏面に容量を形成し、これを上記
キャパシタCとして利用することも考えられる。
According to this embodiment, the noise generated on the power line 121 due to the operation of the memory circuit RAM is removed by the decoupling circuit, so that the power line 121 is connected to the analog circuit AC.
It is possible to prevent noise from being transmitted through 2. The idea of the decoupling circuit used here can also be applied to the embodiment shown in FIG. As the resistor of the decoupling circuit, a resistor of aluminum wiring can be used, and in some cases, its self-inductance can be used to make the decoupling circuit even more effective. As a capacitor, a wiring capacitor can be used, but to further increase the effect, an inversion layer capacitor such as a MOSFET that can obtain a large capacitance value in a small area may be added. It is also conceivable to form a capacitor on the back surface of the chip and use it as the capacitor C by taking advantage of the fact that the circuit is formed only on the main surface.

上述の実施例ではメモリ回路RAMとアナログ回路AC
の給電法について述べたが、第14図や第15図の如く
多数の回路がある場合でも、上記と同様の低雑音の給電
法を目的に応じて使用できる0例えば、特に低雑音の必
要な基準電圧・電流発生回路REFなどでは単独に上述
の各種低雑音給電圧を採用することも考えられる。
In the above embodiment, the memory circuit RAM and the analog circuit AC
Although we have described the power supply method for It is also conceivable to use the various low-noise supply voltages described above independently in the reference voltage/current generating circuit REF and the like.

以上、電源給電法による低雑音化の手法を述べたが、メ
モリ回路RAMとアナログ回路ACとが一体化されてい
る利点を更に活かして、両回路の動作タイミングを考慮
して低雑音化する方法もある0例えば、第20図に示す
ように、抵抗Rに直列にスイッチSWを設け、メモリ回
路RAMの動作によって雑音が発生するタイミング時に
スイッチSWをオフ状態にして、電源線122を切り離
すことが考えられる。この方法によれば、雑音が発生す
るとき、電源は完全に分離されるので雑音の影響は完全
に除去できる。なお、抵抗RをMOSFETのオン抵抗
で兼ねる方法をとれば、スイッチSWと抵抗Rとを1個
のMOSFETで実現することができる。すなわち、M
OS F ETのゲートにメモリ回路RAMが動作する
とき発生されるパルスを供給し、メモリ回路RAMが雑
音発生を伴い動作を行わないとき、上記MO3FETを
オン状態にして、そのオン抵抗を上記抵抗Rとして作用
させキャパシタCとともにデカップリング回路を構成さ
せる。そして、メモリ回路RAMが雑音発生を伴い動作
を行うとき、MOSFETをオフ状態にして、スイッチ
SWとしての作用を行わせる。また、メモリ回路RAM
で雑音が発生するタイミングと、アナログ回路ACにお
いて電源その他から多少の雑音が入っても問題のないタ
イミングを同時にすることでも、等価的な低雑音化がで
きる0例えば、カラーグラフィック表示に適用する場合
に、メモリ回路RAMで最も大きい雑音を生じ易いデー
タ線の充放電動作のタイミングと、アナログ回路ACに
おけるD/A変換回路において雑音が生じても問題の少
ない表示の水平もしくは垂直掃引時のブランキング動作
のタイミングとを合わせることにより、低雑音化を図る
ことができる。
The method for reducing noise using the power supply method has been described above, but there is also a method for reducing noise by taking advantage of the fact that the memory circuit RAM and analog circuit AC are integrated and considering the operation timing of both circuits. For example, as shown in FIG. 20, a switch SW may be provided in series with the resistor R, and the switch SW may be turned off to disconnect the power line 122 at the timing when noise is generated due to the operation of the memory circuit RAM. Conceivable. According to this method, when noise occurs, the power supply is completely isolated, so the influence of the noise can be completely eliminated. Note that if a method is adopted in which the resistor R is also used as the on-resistance of a MOSFET, the switch SW and the resistor R can be realized by one MOSFET. That is, M
A pulse generated when the memory circuit RAM operates is supplied to the gate of the OS FET, and when the memory circuit RAM generates noise and does not operate, the MO3FET is turned on and its on-resistance is changed to the resistor R. It functions as a decoupling circuit together with the capacitor C. When the memory circuit RAM operates with noise generation, the MOSFET is turned off to function as a switch SW. In addition, the memory circuit RAM
Equivalent noise reduction can be achieved by simultaneously adjusting the timing at which noise occurs in the analog circuit and the timing at which there is no problem even if there is some noise from the power supply or other source in the analog circuit AC.For example, when applying to color graphic display. In addition, the timing of charging and discharging operations of the data line, which is likely to cause the largest noise in the memory circuit RAM, and the blanking during horizontal or vertical sweep of the display, where there is little problem even if noise occurs in the D/A conversion circuit in the analog circuit AC. By matching the timing of the operation, it is possible to reduce noise.

以上、種々の実施例について述べたが、これらの実施例
のように同−半4体チップ上にメモリ回路、ディジタル
回路及びアナログ回路などを混在させると、半導体チッ
プの製造過程におけるウェハブロービング及び完成後の
良品/不良品の判定、あるいは品質保証などのための各
種機能試験が極めて繁雑になるばかりでなく、場合によ
っては充分な試験が実施できなくなる恐れがある。
Various embodiments have been described above, but if memory circuits, digital circuits, analog circuits, etc. are mixed on the same half-quad chip as in these embodiments, wafer probing and Not only do various functional tests for determining whether a product is good or defective after completion or for quality assurance become extremely complicated, but in some cases, it may not be possible to carry out sufficient tests.

第1図には、上記問題を解決した半導体集積回路装置の
一実施例のブロック図が示されている。
FIG. 1 shows a block diagram of an embodiment of a semiconductor integrated circuit device that solves the above problem.

この実施例では、メモリ回路、ディジタル回路及びアナ
ログ回路に対して外部からそれぞれを直接的にテスト可
能にする機能を設ける。
In this embodiment, a function is provided that allows each of the memory circuit, digital circuit, and analog circuit to be directly tested from the outside.

本実施例では、第11図の実施例に示した半導体集積回
路装置の構成を例題としている。スイッチSWO1〜5
W12は、ディジタル回路とアナログ回路の両人出力信
号の切り換えるためのアナログスイッチであり、信号2
25はその制御信号である。実際には、各スイッチSW
O1〜5WI2の制御に応じて、各スイッチSW01〜
5WI2のスイッチ動作に対応して複数の制御信号が必
要とされるが、ここでは図面が複雑になってしまうのを
防止するために簡略化して1つの信号として示している
In this embodiment, the configuration of the semiconductor integrated circuit device shown in the embodiment of FIG. 11 is taken as an example. Switch SWO1~5
W12 is an analog switch for switching the output signals of both the digital circuit and the analog circuit, and the signal 2
25 is its control signal. Actually, each switch SW
Depending on the control of O1-5WI2, each switch SW01-
Although a plurality of control signals are required in response to the switch operation of the 5WI2, they are simplified here and shown as one signal to prevent the drawing from becoming complicated.

本実施例において、スイッチSWO1と5W11をオン
状態に、スイッチ5WO2と5W12をオフ状態にすれ
ば、入力端子101、スイッチ5WOI、配線221を
介して画像メモリGRAMを外部から直接信号を入力で
きる。また、画像メモリORAMの動作状態を配線22
3、スイッチ5WII及び出力端子102を介して外部
へ直接出力させることができる。このようにして、画像
メモリGRAMの直接的なアクセスが可能になるため、
画像メモリGRAMが、前記のような複合的な半導体集
積回路装置LSIに内蔵されるにもかかわらず、1つの
単体のメモリ装置と同様に試験することができる。
In this embodiment, if the switches SWO1 and 5W11 are turned on and the switches 5WO2 and 5W12 are turned off, signals can be directly input from the outside to the image memory GRAM via the input terminal 101, the switch 5WOI, and the wiring 221. Also, the operating state of the image memory ORAM is determined by the wiring 22.
3. The signal can be output directly to the outside via the switch 5WII and the output terminal 102. In this way, direct access to the image memory GRAM becomes possible.
Even though the image memory GRAM is built into the above-mentioned complex semiconductor integrated circuit device LSI, it can be tested in the same manner as a single memory device.

一方、スイッチSWO1と5WIIをオフ状態に、スイ
ッチSWO2と5W12をオン状態にすれば、入力端子
101と出力端子102を用いてアナログ回路としての
D/A変換回路DACの動作を外部から直接テストする
ことができる8以上により、各回路部分毎に用意にテス
トが可能になる。なお、通常動作時は、スイッチ5WO
Iと5W12をオン状態に、スイッチ5WO2と5W1
1をオフ状態にすることにより、前記第11図の実施例
の全く同一の動作をさせることができる。
On the other hand, if the switches SWO1 and 5WII are turned off and the switches SWO2 and 5W12 are turned on, the operation of the D/A conversion circuit DAC as an analog circuit can be directly tested from the outside using the input terminal 101 and the output terminal 102. 8 or more, it becomes possible to easily test each circuit part. In addition, during normal operation, switch 5WO
I and 5W12 are turned on, switches 5WO2 and 5W1
1 is turned off, it is possible to perform exactly the same operation as the embodiment shown in FIG. 11.

また、各テストにおいて、各スイッチは、テストの目的
に応じてディジタル、アナログのいずれかの信号が印加
されてもよい。
Further, in each test, either a digital signal or an analog signal may be applied to each switch depending on the purpose of the test.

本実施例においては、画像メモリGRAMとD/A変換
回路DACを接続する信号線201については、第4図
の実施例と同様にしたが、この信号m201にもスイッ
チ郡を設けて画像メモリGRAMの信号を外部端子へ直
接信号を出力し、あるいは外部端子から直接信号をD/
A変換回路DACへ入力する構成にするものとしてもよ
い。
In this embodiment, the signal line 201 connecting the image memory GRAM and the D/A conversion circuit DAC is the same as in the embodiment shown in FIG. output the signal directly to the external terminal, or directly output the signal from the external terminal to the D/D/
The signal may be configured to be input to the A conversion circuit DAC.

また、制御回路C0NTの試験を行うために、制御回路
C0NTから出力される各種制御信号202.203を
外部に出力させるスイッチを設けてもよい、この場合、
外部端子数を削減するために、制御回路C0NTの試験
を行うときには、画像メモリGRAMは、D/A変換回
路DACを同時に試験を行わないことに着目し、上記画
像メモ’JGRAMに対応した入力端子101や、D/
A変換回路DACの出力端子102を、上記制御回路C
0NTの信号202や203を外部に出力させる端子と
して使用することが望ましい、あるいは、上記信号20
2や203は、試験用のシフトレジスタに入力し、それ
をシリアルに出力させるものであってもよい、この場合
には、1つの端子により制御回路C0NTから出力され
る複数の制御信号を出力させることができる。
Further, in order to test the control circuit C0NT, a switch may be provided to output various control signals 202 and 203 output from the control circuit C0NT to the outside.
In order to reduce the number of external terminals, when testing the control circuit C0NT, we focused on the fact that the image memory GRAM does not test the D/A conversion circuit DAC at the same time. 101, D/
The output terminal 102 of the A conversion circuit DAC is connected to the control circuit C
It is desirable to use it as a terminal to output the 0NT signals 202 and 203 to the outside, or the above signal 20
2 and 203 may be input to a test shift register and serially output. In this case, one terminal outputs a plurality of control signals output from the control circuit C0NT. be able to.

また、テスト動作モードの時のみにスイッチを利用する
例について述べたが、目的によっては通常の実動作状態
において、同一信号を用いてディジタル・アナログの両
信号をスイッチにより切り換えて伝送することも可能で
ある0本実施例では、第11図の実施例に適用した場合
を説明したが、他の実施例の構成にも本実施例と同様な
スイッチを設けて、その各回路ブロック毎に直接的なテ
ストを行うようにできることはいうまでもない。
In addition, although we have described an example in which the switch is used only in the test operation mode, depending on the purpose, it is also possible to use the same signal to switch and transmit both digital and analog signals during normal actual operation. In this embodiment, a case where the switch is applied to the embodiment shown in FIG. Needless to say, it can be used to conduct accurate tests.

第2図には、上記テスト等に用いられるアナログスイッ
チの具体的一実施例の回路が示されている。このスイッ
チ回路は、前記第1図に示したスイッチ5WOI〜SW
I 2として用いられる。このスイッチ回路は、CMO
Sスイッチ回路であり、並列形態にされたNチャンネル
MO3FETQNとPチャンネルMO3FETQPと、
上記NチャンネルMO3FETQNのゲートに供給され
るスイッチ制御信号φを受けてPチャンネルMO3FE
TQPのゲートに伝えるインバータ回路INVから構成
される。例えば、制御信号φがハイレベルのとき、Nチ
ャンネルMO3FETQNとPチャンネルMO3FET
QPがともにオン状態になり、ディジタル信号又はアナ
ログ信号を電圧損失なしに高速で端子A側から端子B側
、あるいは端子B側から端子A側へ双方向に伝達するこ
とができる。制御信号φがロウレベルのときNチャンネ
ルMO5FETQNとPチャンネルMO8FETQPが
共にオフ状態になり、端子AとB間の接続が遮断される
0以上PチャンネルMO3FETQPとNチャンネルM
O3FETQNを用いた回路例を示したが、場合によっ
てはPチャンネルMO3FET又はNチャンネルMO3
FETのいずれか一方のみのMOSFETで構成するも
のとしてもよい。
FIG. 2 shows a circuit of a specific example of an analog switch used for the above-mentioned tests and the like. This switch circuit includes switches 5WOI to SW shown in FIG.
Used as I2. This switch circuit is a CMO
It is an S switch circuit, and includes an N-channel MO3FETQN and a P-channel MO3FETQP that are arranged in parallel.
In response to the switch control signal φ supplied to the gate of the N-channel MO3FETQN, the P-channel MO3FE
It is composed of an inverter circuit INV that transmits information to the gate of TQP. For example, when the control signal φ is at high level, the N-channel MO3FETQN and the P-channel MO3FET
Both QPs are turned on, and a digital signal or an analog signal can be bidirectionally transmitted from the terminal A side to the terminal B side or from the terminal B side to the terminal A side at high speed without voltage loss. When the control signal φ is at a low level, both the N-channel MO5FETQN and the P-channel MO8FETQP are turned off, and the connection between terminals A and B is cut off.
Although we have shown an example of a circuit using O3FETQN, in some cases P-channel MO3FET or N-channel MO3 may be used.
It is also possible to configure only one of the FETs to be a MOSFET.

以上種々の実施例について述べたが、このように大′!
s!メモリ、ディジタル回路、アナログ回路を同一チッ
プ上に搭載した場合には、これらの回路を用いて、従来
にない新しい機能を実現することが可能になる。
Various embodiments have been described above, but this is a great example!
s! When memory, digital circuits, and analog circuits are mounted on the same chip, it becomes possible to use these circuits to realize new functions that have never existed before.

第3A図ないし第3D図は、この発明に係る機能を説明
するための概念図であり、コンピュータ端末装置などの
グラフィック表示用として応用した場合において、表示
の画素数と階調の相互で、表示データとしてのビット数
を相互で可変とし、第3A図に示すように高画素表示、
第3B図に示すように高階調(又は色調)表示、第3C
図と第3D図に示すように両者を組み合わせた表示を行
わせる。すなわち、第3A図ないし第3D図において、
表示画面DSPは、CRT (陰極線管)、液晶表示パ
ネル、あるいはプラズマ表示パネルなどから構成され、
そこに示された黒丸しは比較的階調(又は色調)の低い
(少ない)表示画素(絵素)であり、例えば1画素あた
り4ビツト、すなわち、24階調/画素の表示を行う、
上記表示画面DSPに示された白丸Hは比較的階調の高
い表示画素であり、例えば1画素当たり8ビツト、すな
わち、21階調/画素の表示を行う。
FIGS. 3A to 3D are conceptual diagrams for explaining the functions of the present invention, and when applied to a graphic display of a computer terminal device, etc., the number of pixels and gradation of the display The number of bits as data is mutually variable, and as shown in Figure 3A, high pixel display,
High gradation (or color tone) display as shown in Figure 3B, 3C
A combination of both is displayed as shown in the figure and FIG. 3D. That is, in FIGS. 3A to 3D,
The display screen DSP consists of a CRT (cathode ray tube), liquid crystal display panel, plasma display panel, etc.
The black circles shown there are display pixels (picture elements) with relatively low (few) gradations (or colors), for example, displaying 4 bits per pixel, that is, 24 gradations/pixel.
The white circles H shown on the display screen DSP are display pixels with relatively high gradations, and display, for example, 8 bits per pixel, that is, 21 gradations/pixel.

第3A図は、表示画面DSPの全面を比較的低階調の黒
丸L(4ビット/画素)で表示し、その代わりに表示画
素数を多くした高画素表示の例である。
FIG. 3A is an example of a high-pixel display in which the entire surface of the display screen DSP is displayed with black circles L (4 bits/pixel) of relatively low gradation, and the number of display pixels is increased instead.

第3B図は、表示画面DSPの全面を比較的高階調の白
丸H(8ピント/画素)で表示し、その代わりに表示画
素数を第3A図の1/2と少なくした高階調表示とした
例である。
In Figure 3B, the entire surface of the display screen DSP is displayed with relatively high gradation white circles H (8 focus/pixel), and instead, the number of display pixels is reduced to 1/2 of that in Figure 3A, resulting in a high gradation display. This is an example.

第3C図は、上記第3A図と第3B図を部分的に組み合
わせたものであり、例えば高画素表示(第3A図)を背
景とし、その中に点線で示すような高階調表示領域部D
SP’を設ける。この高階調表示領域部DSP’ は、
表示画素数が前記第3B図のように1/2に少なくされ
る。
FIG. 3C is a partial combination of FIG. 3A and FIG. 3B. For example, the high pixel display (FIG. 3A) is used as a background, and therein there is a high gradation display area D as shown by the dotted line.
SP' is provided. This high gradation display area DSP' is
The number of display pixels is reduced to 1/2 as shown in FIG. 3B.

第3D図は、上記第3C図における高階調表示領域部D
SP’を他の領域と同様に高画素表示とするものである
Figure 3D shows the high gradation display area D in Figure 3C above.
SP' is displayed with a high number of pixels like other areas.

以上述べた各表示例により、目的に応じた種々の表示を
行うことができる0例えば、テレビジラン受像機やVT
R(ビディオ・テープ・レコーダ)などの画像情報を高
階調表示とし、コンピュータ出力などの文字や図形情報
を高画素表示として、それぞれの表示を最良条件として
同一表示画面上に表示するとこが可能になる。上記の例
では、黒丸しの高画素表示を4ビット/画素、白丸Hの
高階調表示を8ビット/画素として説明したが、例えば
高画素表示りを12ビフト/画素とし、高階調表示Hを
24ビット/画素として、さらに高品質のカラー表示を
行うことも勿論可能である。
Each of the display examples described above allows various displays to be performed depending on the purpose.
It is now possible to display image information such as R (video tape recorder) in high gradation, and text and graphic information such as computer output in high pixel display, and display each display on the same display screen under the best conditions. Become. In the above example, the high pixel display of black circles was explained as 4 bits/pixel, and the high gradation display of white circles H was explained as 8 bits/pixel. Of course, it is also possible to perform even higher quality color display using 24 bits/pixel.

第4図には、上記第3A図ないし第3D図の表示動作を
行わせる半導体集積回路装置の一実施例のブロック図が
示されている。
FIG. 4 shows a block diagram of an embodiment of a semiconductor integrated circuit device that performs the display operations shown in FIGS. 3A to 3D.

この実施例は、前記第11図に示した半導体集積回路装
置を基本として、上記表示動作を実現するための回路が
付加される。
This embodiment is based on the semiconductor integrated circuit device shown in FIG. 11, and a circuit for realizing the display operation described above is added.

画像メモリGRAMの出力信号201は、一方において
アンド(AND)ゲート回路G1を通してD/A変換回
路DACの1つの入力231に供給される。上記信号2
01は、他方において遅延回路DLとアンドゲート回路
G2を通して上記D/A変換回路DACの他の1つの入
力232に供給される。上記アンドゲート回路G1とG
2ば、それぞれ制御回路C0NTにより形成された制御
信号233と234により制御される。遅延回路DLは
、上記制御回路C0NTにより形成される制御信号23
5により制御される。この実施例のD/A変換回路DA
Cは、高階調表示に必要な入力ビット(232)を持つ
ようにされる。遅延回路DLは、特に制限されないが、
1ビツトのシフトレジス、夕からなり、制御回路C0N
Tからのクロック信号235に従って画像メモリGRA
Mからの画像データ201を、読み出し動作の1クロッ
ク期間遅らせて出力させる。
The output signal 201 of the image memory GRAM is on the one hand supplied to one input 231 of the D/A conversion circuit DAC through an AND gate circuit G1. Above signal 2
01 is supplied to the other input 232 of the D/A conversion circuit DAC through the delay circuit DL and the AND gate circuit G2. The above AND gate circuits G1 and G
2, controlled by control signals 233 and 234, respectively, generated by control circuit C0NT. The delay circuit DL receives a control signal 23 formed by the control circuit C0NT.
5. D/A conversion circuit DA of this embodiment
C is made to have input bits (232) necessary for high gradation display. Although the delay circuit DL is not particularly limited,
Consists of a 1-bit shift register, control circuit C0N
Image memory GRA according to clock signal 235 from T
Image data 201 from M is output after being delayed by one clock period of the read operation.

第5図には、その表示動作の一例を説明するための概念
図が示されている。
FIG. 5 shows a conceptual diagram for explaining an example of the display operation.

同図は、第3C図における第2行目及び第3行目のよう
に高画素表示(黒丸し)と高階調表示(白丸H)とが混
在する場合を示している。ここでは、上記黒丸しの表示
は4ビット/画素であり、白丸Hの表示は8ビット/画
素として示している。
This figure shows a case where high pixel display (black circles) and high gradation display (white circles H) coexist, as in the second and third lines in FIG. 3C. Here, the black circle indicates 4 bits/pixel, and the white circle H indicates 8 bits/pixel.

また、動作の理解を容易にするために、信号201.2
31及び232は、論理論理“0”1”の2進数で示し
、信号233〜235はパルス(波形)の形で示してい
る。
Also, to facilitate understanding of the operation, the signal 201.2
31 and 232 are shown in binary numbers of logic "0" and "1", and signals 233 to 235 are shown in the form of pulses (waveforms).

同図において、画像メモリGRAMから読みだされる表
示用の4ビツトからなる信号201が、表示装置の掃引
タイミングに同期して時間TO〜T7のように時系列的
に出力される。この時間TO−T7は、上記第3C図に
おける横方向(行方向)の各画素に一対一に対応する。
In the figure, a signal 201 consisting of 4 bits for display read out from the image memory GRAM is output in time series from time TO to T7 in synchronization with the sweep timing of the display device. This time TO-T7 corresponds one-to-one to each pixel in the horizontal direction (row direction) in FIG. 3C.

したがって、上記のように第2行目及び第3行目の表示
のときには、時間TO,TI、T6、T7が高画素表示
(黒丸し)となり、時間T3とT5が高llI調表示(
白丸H)となっている、遅延回路DLの出力信号230
は、制御回路C0NTから供給されるクロックパルス2
35により、上記信号201が1クロック(上記読み出
しタイミングの単位時間)だけ遅れた信号とされる。す
なわち、時間TOで出力される信号201は、時間T1
に信号230として出力される。信号201と230は
、制御回路C0NTにより形成された制御信号233と
234との論理積が採られ、言い換えるならば、上記ア
ンドゲート回路G1とG2のゲートの開閉を信号233
と234により制御して、上記信号201と230のD
/A変換回路DACへの選択的な入力を行う。
Therefore, when displaying the second and third lines as described above, times TO, TI, T6, and T7 are high pixel display (black circles), and times T3 and T5 are high pixel display (black circles).
The output signal 230 of the delay circuit DL is indicated by a white circle H)
is the clock pulse 2 supplied from the control circuit C0NT.
35, the signal 201 is delayed by one clock (the unit time of the read timing). That is, the signal 201 output at time TO is output at time T1.
is output as a signal 230. The signals 201 and 230 are the AND of the control signals 233 and 234 formed by the control circuit C0NT. In other words, the signal 233 controls the opening and closing of the gates of the AND gate circuits G1 and G2.
and 234, the D of the above signals 201 and 230
/A selective input to the A conversion circuit DAC.

したがって、D/A変換回路DACの入力231には、
制御信号233が到来したとき、すなわち、上記表示時
間TO,Tl、T3、T5、T6、T7のとき制御信号
233が発生され、アンドゲ−ト回路G1がそのゲート
を開くので、それぞれのタイミングに同期して画像メモ
リORAMから読み出された表示データ201がそのま
ま信号201が入力される。また、D/A変換回路DA
Cの入力232には、制御信号234が到来したとき、
すなわち、上記表示時間T3、T5のとき制御信号23
4が発生され、アンドゲート回路G2がゲートを開くの
で、遅延回路DLの出力信号230が入力される。上記
遅延回路DLの出力信号230は、上記時間T3及びT
5の1つ前の時間T2とT4にそれぞれ画像メモリGR
AMから読み出された表示データ201である。
Therefore, at the input 231 of the D/A conversion circuit DAC,
When the control signal 233 arrives, that is, at the display times TO, Tl, T3, T5, T6, and T7, the control signal 233 is generated and the AND gate circuit G1 opens its gate, so it is synchronized with each timing. The display data 201 read out from the image memory ORAM is input as the signal 201 as it is. In addition, the D/A conversion circuit DA
When a control signal 234 arrives at the input 232 of C,
That is, at the display times T3 and T5, the control signal 23
4 is generated and the AND gate circuit G2 opens its gate, so that the output signal 230 of the delay circuit DL is input. The output signal 230 of the delay circuit DL is output at the times T3 and T.
Image memory GR at times T2 and T4 one time before 5.
This is display data 201 read from AM.

この結果、時間TOとT1及びT6とT7においては、
D/A変換回路DACの入力231には、それぞれのタ
イミングで画像メモリGRAMから読み出された4ビツ
トの表示データのみ、すなわち、表示しのデータのにか
入力される。一方、時間T3とT5においては、入力2
31に、上記のように時間T3とT5にそれぞれ読み出
された4ビ、トの表示データと、入力232に1つ前に
の時間T2とT4にそれぞれ読み出された表示データが
入力される。したがって、D/A変換回路DACには、
合計8ビツトの表示データが入力されるため、高階調表
示Hを行わせることができる。
As a result, at times TO and T1 and T6 and T7,
Only the 4-bit display data read from the image memory GRAM at each timing, that is, only the display data is input to the input 231 of the D/A conversion circuit DAC. On the other hand, at times T3 and T5, input 2
31, the 4-bit display data read at times T3 and T5 as described above, and the display data read at the previous time T2 and T4, respectively, are input to the input 232. . Therefore, in the D/A conversion circuit DAC,
Since a total of 8 bits of display data is input, high gradation display H can be performed.

なお、時間T2とT4には、ゲート回路G1及びG2を
開<M復信号が形成されない、それ故、上記時間T2と
T4に対応した表示データが出力されず、高階調表示領
域DSP’では表示画素数が172にされる。
It should be noted that at times T2 and T4, the gate circuits G1 and G2 are not opened and the M signal is not formed. Therefore, the display data corresponding to the above-mentioned times T2 and T4 is not output, and the display data is not displayed in the high gradation display area DSP'. The number of pixels is set to 172.

以上述べたように、高画素表示と高階調表示の制御は、
画像メモリGRAMから画像データが時系列的に出力さ
れることを利用し、その時間的な信号処理により高階調
表示のためのビットの拡張を行うものであり、制御信号
233と234によって簡単に行うことができる。この
ように本実施例においては、ゲート回路や遅延回路とい
ったわずかな回路を付加するのみで、第3A図ないし第
3C図のような表示動作を選択的に行わせることが可能
になる。
As mentioned above, the control of high pixel display and high gradation display is
It utilizes the fact that image data is output in time series from the image memory GRAM, and expands the bits for high gradation display through temporal signal processing, and this can be easily done using control signals 233 and 234. be able to. In this manner, in this embodiment, display operations as shown in FIGS. 3A to 3C can be selectively performed by adding only a few circuits such as gate circuits and delay circuits.

第6図には、第3D図の表示動作を実現する半導体集積
回路装置の一実施例のブロック図が示されている。
FIG. 6 shows a block diagram of an embodiment of a semiconductor integrated circuit device that realizes the display operation shown in FIG. 3D.

この実施例では、第3D図に示すように、画素数を下げ
ることなく高階調表示を可能にするため、画像メモリG
RAMに、高階調用画像メモリGRAMHが付加される
。画像メモリGRAMの出力信号201は、そのままD
/A変換回路DACに入力され、高階調用画像メモリG
RAMHの出力信号237は、アンドゲート回路G3を
介してD/A変換回路DACの前記のよな拡張用の入力
232に伝えられる。上記アンドゲート回路G3は、制
御回路C0NTにより形成される制御信号236により
そのゲートの開閉、言い換えるならば、高階調用信号2
37のD/A変換回路DACへの入力が制御される。
In this embodiment, as shown in FIG. 3D, in order to enable high gradation display without reducing the number of pixels, the image memory G
A high gradation image memory GRAMH is added to the RAM. The output signal 201 of the image memory GRAM is directly transferred to D.
/A conversion circuit DAC, high gradation image memory G
The output signal 237 of the RAMH is transmitted to the aforementioned expansion input 232 of the D/A conversion circuit DAC via the AND gate circuit G3. The AND gate circuit G3 opens and closes its gate according to the control signal 236 generated by the control circuit C0NT, in other words, the high gradation signal 2
The input to the D/A conversion circuit DAC No. 37 is controlled.

これにより、高階調表示を行うべき表示領域に対応して
、制御信号236を発生させてアンドゲート回路G3の
ゲートを開いて高階調用画像メモIJGRAMHからの
表示データをD/A変換回路DACに入力する。D/A
変換回路DACは、上記画像メモリGRAMからの表示
データと高階調用画像メモリGRAMHからの表示デー
タとを合わせて1画素分の表示データとして高階調表示
信号を形成する。
This generates a control signal 236 corresponding to the display area where high gradation display is to be performed, opens the gate of the AND gate circuit G3, and inputs the display data from the high gradation image memo IJGRAMH to the D/A conversion circuit DAC. do. D/A
The conversion circuit DAC combines the display data from the image memory GRAM and the display data from the high gradation image memory GRAMH to form a high gradation display signal as display data for one pixel.

上記高階調用信号メモリGRAMHのメモリ容量は、高
階調表示のビット数及び高階調表示すべき領域の広さに
応じて適宜選らぶものである。
The memory capacity of the high gradation signal memory GRAMH is appropriately selected depending on the number of bits for high gradation display and the size of the area for high gradation display.

第7図には、この発明の更に他の一実施例のブロック図
が示されている。
FIG. 7 shows a block diagram of still another embodiment of the invention.

この実施例では、高階調表示信号外の表示では、第13
図の実施例のように色付表CLTを用いて表示できる色
の組み合わせを拡大できるようにするものである。ここ
では、色付表CLTを用いて選択できる色の組み合わせ
を、高階調表示時の階りI(もしくは色調)と同一に設
定されている。このようにすれば、それぞれ色付表CL
Tを用いる場合に用意しであるD/A変換回路DACを
高階調表示用に特別変更することなく、そのまま用いる
ことができる。すなわち、色付表CLTを用いる場合の
D/A変換回路DACは、それぞれ高階調表示の能力を
有している訳である。
In this embodiment, in the display other than the high gradation display signal, the 13th
As in the embodiment shown in the figure, the color combinations that can be displayed using the coloring table CLT can be expanded. Here, the color combinations that can be selected using the coloring table CLT are set to be the same as the level I (or color tone) during high gradation display. If you do this, each colored table CL
When using T, the D/A conversion circuit DAC prepared for use can be used as is without special modification for high gradation display. That is, each D/A conversion circuit DAC in the case of using the colored table CLT has the ability to display high gradations.

この実施例では、高階調表示時には、画像メモIJGR
AMと高階調用画像メモリGRAMHの出力201と2
37は、制御回路C0NTにより制御信号239が論理
“1”のようなレベルにされたとき、アンドゲート02
回路G3とG4及びその出力受けるオア(OR)ゲート
回路G6及びアンドゲート回路G7とG8及びその出力
受けるオア(OR)ゲート回路G9とからそれぞれ構成
される切り換えゲート回路としての論理回路のうち、上
記ゲート回路G5とG6及びG8とG9を通してそのま
ま入力231と232としてD/A変換回路DACに入
力される。一方、上記制御信号239に代わって制御信
号238が論理“1”になると、色付表CLTが参照さ
れてその出力240と241が上記論理回路を構成する
ゲート回路G4とG6及びG7とG9を通して入力23
1と232としてD/A変換回路DACに入力される。
In this embodiment, during high gradation display, the image memo IJGR
AM and high gradation image memory GRAMH outputs 201 and 2
37 is an AND gate 02 when the control signal 239 is set to a logic "1" level by the control circuit C0NT.
Of the logic circuits as switching gate circuits, respectively constituted of circuits G3 and G4, an OR gate circuit G6 receiving their outputs, and an AND gate circuit G7 and G8, and an OR gate circuit G9 receiving their outputs, the above The signals are directly input to the D/A converter circuit DAC as inputs 231 and 232 through the gate circuits G5 and G6 and G8 and G9. On the other hand, when the control signal 238 instead of the control signal 239 becomes logic "1", the colored table CLT is referred to and its outputs 240 and 241 are inputted through the gate circuits G4 and G6 and G7 and G9 forming the logic circuit. 23
1 and 232 are input to the D/A conversion circuit DAC.

これにより、高階調表示以外の場合も色付表CLTによ
り表示できる色の組み合わせを拡張することが可能にな
る。この色付表CLTを用いる方法は、前記第4図の実
施例においてもそのまま適用できるものである。
This makes it possible to expand the combinations of colors that can be displayed using the coloring table CLT even in cases other than high gradation display. This method of using the colored table CLT can be applied as is to the embodiment shown in FIG. 4.

以上、第4図、第6図及び第7図を用いて、各種表示機
能を実現する実施例を示したが、これらの実施例は、前
に述べた各種の実施例回路にもそれぞれ適用できるもの
であることはいうまでもない。
Above, embodiments for realizing various display functions have been shown using FIGS. 4, 6, and 7, but these embodiments can also be applied to the various embodiment circuits described previously. Needless to say, it is a thing.

以上の実施例から得られる作用効果は、下記の通りであ
る。すなわち、 (1)ディジタル回路とアナログ回路とを含む半導体集
積回路装置に対して、テストモード信号に応じて外部か
ら上記ディジタル回路とアナログ回路とをそれぞれ直接
的なアクセスを可能とする切り換えスイッチを設けこと
により、それぞれの回路の機能試験を確実にしかも短時
間で行うことができるという効果が得られる。
The effects obtained from the above examples are as follows. That is, (1) a semiconductor integrated circuit device including a digital circuit and an analog circuit is provided with a changeover switch that enables direct access to the digital circuit and the analog circuit from the outside in response to a test mode signal; As a result, it is possible to perform a functional test of each circuit reliably and in a short time.

(2)上記のようにディジタル回路としての画像メモリ
とアナログ回路としてのD/A変換回路とを備えたグラ
フィック表示用の半導体集積回路装置において、上記メ
モリから時系列的に出力される画像データを時間的な信
号処理又は上記メモリの空間的な分割により高階調用の
画像データを生成させることにより、1つの表示画面上
に選択的に高階調表示領域を形成することができるとい
う効果が得られる。
(2) In a semiconductor integrated circuit device for graphic display that is equipped with an image memory as a digital circuit and a D/A conversion circuit as an analog circuit as described above, image data output from the memory in time series is By generating image data for high gradation through temporal signal processing or spatial division of the memory, an effect can be obtained in that a high gradation display area can be selectively formed on one display screen.

(3)上記(2)により、高階調を必要とするテレビジ
ランやVTR用の映像信号と、高画素を必要とするコン
ピュータ等により生成された文字や図形とを合成した高
品質の表示画面を得ることができるという効果が得られ
る。
(3) Through (2) above, a high-quality display screen is created by combining video signals for television programs and VTRs that require high gradation with characters and graphics generated by computers, etc. that require high pixels. You can get the effect that you can.

(4)高階調用の画像データを記憶する高階調用の画像
メモリを設けることにより、高画素を維持しつつ選択的
な高階調表示が可能になるという効果が得られる。
(4) By providing a high-gradation image memory that stores high-gradation image data, it is possible to selectively display high gradations while maintaining a high number of pixels.

(5)高階調用の画像データを記憶する高階調用の画像
メモリと、高画素用の画像メモリの出力部に色付表を設
けてビットの拡張を行う構成とし、上記高階調表示を行
わないときには、上記色付表で形成された拡張ビットを
用いることにより、高階調表示と表示可能な色の組み合
わせ数を拡張とを行うことができるという効果が得られ
る。
(5) A coloring table is provided in the output section of the image memory for high gradation that stores image data for high gradation and the image memory for high pixel to expand the bits, and when the above-mentioned high gradation display is not performed, By using the expansion bits formed by the coloring table described above, it is possible to achieve the effect of performing high gradation display and expanding the number of displayable color combinations.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本願発明は前記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない0例えば、本発明を計算
機(コンピュータ)端末などのカラーグラフインク表示
に適用した場合を主として説明したが、これに限定され
るものではく、この発明は、カラープリンタ、レーザー
ビームプリンタ、高精細ディジタルテレビジラン受像機
、VTRなどのD/A変換回路付画像メモリ、あるいは
計測器、iui機器などで任意のアナログ物理量をディ
ジタル信号に変換し、これをメモリに記憶しておくなど
の大容量メモリとアナログ回路が必要な各種の半導体集
積回路装置に広く適用できる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained based on Examples above, the present invention is not limited to the above-mentioned Examples, and it goes without saying that various changes can be made without departing from the gist thereof. For example, the present invention has been mainly described in the case where it is applied to a color graph ink display of a computer terminal, etc., but the present invention is not limited to this, and the present invention can be applied to a color printer, a laser beam printer, a high-speed printer, etc. High-capacity devices such as high-definition digital television receivers, image memories with D/A conversion circuits such as VTRs, or converting arbitrary analog physical quantities into digital signals using measuring instruments, IUI devices, etc. and storing them in memory. It can be widely applied to various semiconductor integrated circuit devices that require memory and analog circuits.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。すなわち、ディジタル回路とアナログ回路とを含む半
導体集積回路装置に対して、テストモード信号に応じて
外部から上記ディジタル回路とアナログ回路とをそれぞ
れ直接的なアクセスを可能とする切り換えスイッチを設
けことにより、それぞれの回路の機能試験を確実にしか
も短時間で行うことができる。また、上記のようにディ
ジタル回路としての画像メモリとアナログ回路としての
D/A変換回路とを備えたグラフインク表示用の半導体
集積回路装置において、上記メモリから時系列的に出力
される画像データを時間的な信号処理又は上記メモリの
空間的な分割により高階調用の画像データを生成させる
ことにより、1つの表示画面上に選択的に高階調表示領
域を形成することができる。
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows. That is, by providing a semiconductor integrated circuit device including a digital circuit and an analog circuit with a changeover switch that enables direct access to the digital circuit and analog circuit from the outside in response to a test mode signal, Functional tests of each circuit can be performed reliably and in a short time. Furthermore, in the semiconductor integrated circuit device for graph ink display, which is equipped with an image memory as a digital circuit and a D/A conversion circuit as an analog circuit, as described above, image data output from the memory in time series is By generating image data for high gradation through temporal signal processing or spatial division of the memory, a high gradation display area can be selectively formed on one display screen.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、この発明の一実施例を示すブロック図、 第2図は、上記第1図の実施例に用いられるスイッチの
一実施例を示す具体的回路図、第3A図ないし第3D図
は、この発明の他の一実施例の表示動作を説明するため
の概念図、第4図は、上記第3C図に示した表示動作を
実現するための一実施例を示すブロック図、第5図は、
その動作の一例を説明するための動作概念図、 第6図は、第3D図に示した表示動作を実現するための
一実施例を示すブロック図、 第7図は、他の一実施例を示すブロック図、第8図は、
この発明が適用される半導体集積回路装置における基本
的概念の一実施例を示すブロック図、 第9図は、上記半導体集積回路装置の他の一実施例を示
すブロック図、 第10図は、上記半導体集積回路装置の他の一実施例を
示すブロック図、 第11図は、上記半導体集積回路装置の他の一実施例を
示すブロック図、 第12図は、上記半導体集積回路装置の他の一実施例を
示すブロック図、 第13図は、上記半導体集積回路装置の他の一実施例を
示すブロック図、 第14図は、上記半導体集積回路装置の他の一実施例を
示すブロック図、 第15図は、上記半導体集積回路装置の他の一実施例を
示すブロック図、 第16図は、上記半導体集積回路装置の他の一実施例を
示すブロック図、 第17図は、上記半導体集積回路装置の他の一実施例を
示すブロック図、 第18図は、上記半導体集積回路装置の一実施例を示す
概略平面図、 第19図は、上記半導体集積回路装置の他の一実施例を
示す概略平面図、 第20図は、上記半導体集積回路装置の更に他の一実施
例を示す概略平面図である。 LSI・・半導体チップ、GRAM・・画像メモリ、D
AC・・D/A変換回路、sw、sw。 1〜5W12・・スイッチ、C0NT・・制御回路、Q
N・・NチャンネルMOSFET5QP・・Pチャンネ
ルMO3FET、INV・・インバータ回路、L・・高
画素表示、H・・高階調表示、DSP・・表示画面、D
SP’  ・・高階調表示領域、G1〜G9・・ゲート
回路、DL・・遅延回路、GRAMH・・高階調用画像
メモリ、CLT・・色付表、RAM・・メモリ回路、A
C・・アナログ回路、Fl、F2・・ヒユーズ手段、L
OG・・論理回路、AU・・入力論理回路、pscl、
PSC2・・並直列変換回路、ADC・・A/D変換回
路、REF・・基準電圧・電流発生回路、MC3・・メ
モリセルアレイ、SA・・センスアンプ、MC・・メモ
リセル、PI、F2・・外部ビン、Ll、L2・・ボン
ディング用配線、BWI〜BW3・・ボンディング線、
BPI、BF2・・ボンディングバンド、PKG・・パ
ッケージ、FLM・・収容枠
Fig. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a specific circuit diagram showing an embodiment of the switch used in the embodiment of Fig. 1, and Figs. 3A to 3D. 4 is a conceptual diagram for explaining the display operation of another embodiment of the present invention, FIG. 4 is a block diagram showing an embodiment for realizing the display operation shown in FIG. 3C, and FIG. The diagram is
An operational conceptual diagram for explaining an example of the operation; FIG. 6 is a block diagram showing one embodiment for realizing the display operation shown in FIG. 3D; FIG. 7 is a block diagram showing another embodiment. The block diagram shown in FIG. 8 is as follows.
FIG. 9 is a block diagram showing an embodiment of the basic concept of the semiconductor integrated circuit device to which the present invention is applied; FIG. 9 is a block diagram showing another embodiment of the semiconductor integrated circuit device; FIG. FIG. 11 is a block diagram showing another embodiment of the semiconductor integrated circuit device; FIG. 12 is a block diagram showing another embodiment of the semiconductor integrated circuit device; FIG. 12 is a block diagram showing another embodiment of the semiconductor integrated circuit device; 13 is a block diagram showing another embodiment of the semiconductor integrated circuit device; FIG. 14 is a block diagram showing another embodiment of the semiconductor integrated circuit device; FIG. FIG. 15 is a block diagram showing another embodiment of the semiconductor integrated circuit device, FIG. 16 is a block diagram showing another embodiment of the semiconductor integrated circuit device, and FIG. 17 is a block diagram showing another embodiment of the semiconductor integrated circuit device. A block diagram showing another embodiment of the device; FIG. 18 is a schematic plan view showing one embodiment of the semiconductor integrated circuit device; FIG. 19 is a block diagram showing another embodiment of the semiconductor integrated circuit device. Schematic Plan View FIG. 20 is a schematic plan view showing still another embodiment of the semiconductor integrated circuit device. LSI: Semiconductor chip, GRAM: Image memory, D
AC...D/A conversion circuit, sw, sw. 1~5W12...Switch, C0NT...Control circuit, Q
N...N channel MOSFET5QP...P channel MO3FET, INV...inverter circuit, L...high pixel display, H...high gradation display, DSP...display screen, D
SP'...High gradation display area, G1-G9...Gate circuit, DL...Delay circuit, GRAMH...Image memory for high gradation, CLT...Coloring table, RAM...Memory circuit, A
C...Analog circuit, Fl, F2...Fuse means, L
OG...logic circuit, AU...input logic circuit, pscl,
PSC2...Parallel-serial conversion circuit, ADC...A/D conversion circuit, REF...Reference voltage/current generation circuit, MC3...Memory cell array, SA...Sense amplifier, MC...Memory cell, PI, F2... External bin, Ll, L2... bonding wiring, BWI~BW3... bonding wire,
BPI, BF2...Bonding band, PKG...Package, FLM...Accommodation frame

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、ディジタル回路とアナログ回路とを含み、テストモ
ード信号に応じて外部から上記メモリ回路とアナログ回
路とをそれぞれ直接的なアクセスを可能とする切り換え
スイッチ回路を設けたことを特徴とする半導体集積回路
装置。 2、上記ディジタル回路は、MOSFETからなるメモ
リ回路であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の半導体集積回路装置。 3、上記切り換えスイッチ回路は、CMOSスイッチ回
路により構成されるものであることを特徴とする特許請
求の範囲第1又は第2項記載の半導体集積回路装置。 4、ディジタル画像データを記憶するメモリ回路と、上
記画像データを受けてアナログ映像信号を出力するD/
A変換回路とを含み、上記メモリから時系列的に出力さ
れる画像データを時間的な処理により、又は上記メモリ
回路の空間的分割により高階調用の画像データを生成す
る機能を持つことを特徴とする半導体集積回路装置。 5、上記高階調用の画像データを生成する回路は、メモ
リ回路から時系列的に読み出される画像データを読み出
し1クロック分遅らせる遅延回路と、制御信号に従って
上記画像データと上記遅延回路の出力信号とをそれぞれ
D/A変換回路の入力に伝達する論理ゲート回路とを含
むものであることを特徴とする特許請求の範囲第4項記
載の半導体集積回路装置。 6、上記メモリ回路は、高画素用の画像データを記憶す
る第1の画像メモリと、高階調用の画像データを記憶す
る第2の画像メモリとからなり、上記第2の画像メモリ
から読みされたる高階調用の画像データは、制御信号に
より制御される論理ゲート回路を通してD/A変換回路
の高階調用の入力に伝えられるものであることを特徴と
する特許請求の範囲第4項記載の半導体集積回路装置。
[Claims] 1. A changeover switch circuit that includes a digital circuit and an analog circuit and enables direct access to the memory circuit and the analog circuit from the outside in response to a test mode signal. Features of semiconductor integrated circuit devices. 2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the digital circuit is a memory circuit comprising a MOSFET. 3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1 or 2, wherein the changeover switch circuit is constituted by a CMOS switch circuit. 4. A memory circuit that stores digital image data, and a D/D that receives the image data and outputs an analog video signal.
A conversion circuit, and has a function of generating image data for high gradation by temporally processing the image data outputted from the memory in a time-series manner or by spatially dividing the memory circuit. Semiconductor integrated circuit device. 5. The circuit that generates the image data for high gradation includes a delay circuit that delays the image data read out in time series from the memory circuit by one clock, and a delay circuit that delays the image data read out in time series from the memory circuit by one clock, and outputs the image data and the output signal of the delay circuit according to a control signal. 5. The semiconductor integrated circuit device according to claim 4, further comprising a logic gate circuit for transmitting data to an input of a D/A conversion circuit. 6. The memory circuit includes a first image memory that stores image data for high pixels and a second image memory that stores image data for high gradation, and the memory circuit includes a first image memory that stores image data for high pixels, and a second image memory that stores image data for high gradation. The semiconductor integrated circuit according to claim 4, wherein the image data for high gradation is transmitted to the input for high gradation of a D/A conversion circuit through a logic gate circuit controlled by a control signal. Device.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005128002A (en) * 2003-10-01 2005-05-19 Olympus Corp Encoder

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