JP2651995B2 - 透過型液晶マスクマーカ及びレーザ刻印方法 - Google Patents
透過型液晶マスクマーカ及びレーザ刻印方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、透過型液晶マスクマー
カ及びレーザ刻印方法に関する。
カ及びレーザ刻印方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】透過型液晶マスクマーカは、各種静止画
像を表示した透過型液晶マスク（以下、強調するとき以
外は、単に「液晶マスク」と呼ぶ）上に、レーザ光のよ
うな高密度エネルギービームを照射し、静止画像を透過
したビームをワーク表面に照射し、これにより、ワーク
表面に前記静止画像を印字するものである。
像を表示した透過型液晶マスク（以下、強調するとき以
外は、単に「液晶マスク」と呼ぶ）上に、レーザ光のよ
うな高密度エネルギービームを照射し、静止画像を透過
したビームをワーク表面に照射し、これにより、ワーク
表面に前記静止画像を印字するものである。
【０００３】かかる従来の透過型液晶マスクマーカの液
晶マスクはマーク用静止画像のみを表示しているのが普
通である。
晶マスクはマーク用静止画像のみを表示しているのが普
通である。
【０００４】ところで本発明者は先に、透過型液晶マス
クマーカの印字性能を維持するための提案（特願平４−
１４２０４４号参照、レーザ液晶マーカ及び液晶の劣化
度判定方法）を行っている。これ（以下、第１提案とす
る）は、「透過型液晶マスクは温度が高くなるにつれ、
また劣化が進むにつれ、その光透過率が大きくなり、こ
の結果、印字精度が低下すること」及び「駆動電圧を調
整すると、透過型液晶マスクの光透過率を調整できるこ
と」に着目して構成したものである。
クマーカの印字性能を維持するための提案（特願平４−
１４２０４４号参照、レーザ液晶マーカ及び液晶の劣化
度判定方法）を行っている。これ（以下、第１提案とす
る）は、「透過型液晶マスクは温度が高くなるにつれ、
また劣化が進むにつれ、その光透過率が大きくなり、こ
の結果、印字精度が低下すること」及び「駆動電圧を調
整すると、透過型液晶マスクの光透過率を調整できるこ
と」に着目して構成したものである。
【０００５】即ち、在来の透過型液晶マスクマーカに発
光素子及び受光素子を（所望によっては、液晶マスク用
温度センサも）追設し、制御器に次のプログラムを追設
するものである。液晶マスク上の静止画像に発光素子か
ら光を照射し、その透過光を受光素子で受光し、これら
発光強度Ｒ１と受光強度Ｒ２とから、実際光透過率Ｑを
算出し、この実際光透過率Ｑが当該使用温度における最
適光透過率Ｑｏと一致するように、該静止画像の印加電
圧を調整するようになっている。
光素子及び受光素子を（所望によっては、液晶マスク用
温度センサも）追設し、制御器に次のプログラムを追設
するものである。液晶マスク上の静止画像に発光素子か
ら光を照射し、その透過光を受光素子で受光し、これら
発光強度Ｒ１と受光強度Ｒ２とから、実際光透過率Ｑを
算出し、この実際光透過率Ｑが当該使用温度における最
適光透過率Ｑｏと一致するように、該静止画像の印加電
圧を調整するようになっている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】第１提案は、上述した
ように、各種在来の透過型液晶マスクマーカの印字性能
を維持する手段として提案したものである。しかるに、
近時、高精度連続高速印字性能を有する透過型液晶マス
クマーカが登場するに及んでこれらとのマッチングが新
たな課題となっている。
ように、各種在来の透過型液晶マスクマーカの印字性能
を維持する手段として提案したものである。しかるに、
近時、高精度連続高速印字性能を有する透過型液晶マス
クマーカが登場するに及んでこれらとのマッチングが新
たな課題となっている。
【０００７】例えば本出願人は先にＹＡＧレーザマスク
マーカ（特開平５−４２３７９号）なる透過型液晶マス
クマーカを提案している。これ（以下、第２提案とす
る）は、液晶マスクの前に第ＩＸＹ偏向器と、後に第２
ＸＹ偏向器とを備えたもので、制御器は、予め分割され
た全体画像の各分割画像を記憶し液晶マスク上に前記各
分割静止画像を順次表示させ、第ＩＸＹ偏向器によりレ
ーザ光を表示分割静止画像上へラスタ走査させ、各分割
静止画像の透過レーザ光を第２ＸＹ偏向器により、順次
ワーク表面へ全体印字が完成するまで偏向照射してゆく
ものであり、これにより、高精度連続高速印字を達成し
ている。
マーカ（特開平５−４２３７９号）なる透過型液晶マス
クマーカを提案している。これ（以下、第２提案とす
る）は、液晶マスクの前に第ＩＸＹ偏向器と、後に第２
ＸＹ偏向器とを備えたもので、制御器は、予め分割され
た全体画像の各分割画像を記憶し液晶マスク上に前記各
分割静止画像を順次表示させ、第ＩＸＹ偏向器によりレ
ーザ光を表示分割静止画像上へラスタ走査させ、各分割
静止画像の透過レーザ光を第２ＸＹ偏向器により、順次
ワーク表面へ全体印字が完成するまで偏向照射してゆく
ものであり、これにより、高精度連続高速印字を達成し
ている。
【０００８】かかる第２提案のような高精度連続高速印
字が可能なる透過型液晶マスクマーカにあっては、第１
提案とのタイミングがさらに難しい。即ち、タイミング
に際しての新たな問題の検討が必要となってくる。
字が可能なる透過型液晶マスクマーカにあっては、第１
提案とのタイミングがさらに難しい。即ち、タイミング
に際しての新たな問題の検討が必要となってくる。
【０００９】本発明は、在来の透過型液晶マスクマーカ
に印字精度を維持するためのプログラムを不都合なく織
り込んでなる透過型液晶マスクマーカ及びレーザ刻印方
法を提供することを目的とする。
に印字精度を維持するためのプログラムを不都合なく織
り込んでなる透過型液晶マスクマーカ及びレーザ刻印方
法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記課題を達成するた
め、発明１の透過型液晶マスクマーカは、レーザ発振器
１、液晶マスク２、発光手段５、受光手段６、制御器
７、制御器７と液晶マスク２との接続経路、制御器７と
発光手段５との接続経路及び制御器７と受光手段６との
接続経路を具備し、受光手段６から発せられた受光強度
に対応する第２の信号が制御器７に入力され、発光手段
５から発せられた光Ｒ１を液晶マスク２に照射して光Ｒ
１が液晶マスク２を透過した後の光Ｒ２を受光手段６で
受光する配置であり、かつ、制御器７はマーキング用の
静止画像のデータ、テスト用の静止画像のデータ、さら
に、制御器７に記憶されている発光手段５から発せられ
る光Ｒ１の強度に係る第１の信号と前記第２の信号とか
ら光透過率を算出して前記液晶マスク２の光透過率を計
測する第１制御手段、前記光透過率に応じて静止画像を
液晶マスク２に表示させる電圧を変化させる第２制御手
段及び液晶マスク２に静止画像を表示する第３制御手段
を有し、レーザ発振器１から発せられたレーザ光Ｌ１を
液晶マスク２に照射し、レーザ光Ｌ１が液晶マスク２を
透過した後のレーザ光Ｌ２を刻印対象物に照射し、刻印
対象物上に液晶マスク２上に表示されたマーキング用の
静止画像の刻印を行う透過型液晶マスクマーカであっ
て、前記制御器７は、 （１）前記刻印の実施が終了した後、次回の刻印の実施
がされる前に、 （１１）前記テスト用の静止画像を表示させる制御を実
施し、 （１２）前記テスト用の静止画像を表示中に、液晶マス
ク２の光透過率を計測する前記第１制御を実施し、計測
された光透過率に応じて液晶マスク２へ次回の刻印に使
用するマーキング用の静止画像を表示させる電圧を変化
させる前記第２制御を実施することを特徴としている。
め、発明１の透過型液晶マスクマーカは、レーザ発振器
１、液晶マスク２、発光手段５、受光手段６、制御器
７、制御器７と液晶マスク２との接続経路、制御器７と
発光手段５との接続経路及び制御器７と受光手段６との
接続経路を具備し、受光手段６から発せられた受光強度
に対応する第２の信号が制御器７に入力され、発光手段
５から発せられた光Ｒ１を液晶マスク２に照射して光Ｒ
１が液晶マスク２を透過した後の光Ｒ２を受光手段６で
受光する配置であり、かつ、制御器７はマーキング用の
静止画像のデータ、テスト用の静止画像のデータ、さら
に、制御器７に記憶されている発光手段５から発せられ
る光Ｒ１の強度に係る第１の信号と前記第２の信号とか
ら光透過率を算出して前記液晶マスク２の光透過率を計
測する第１制御手段、前記光透過率に応じて静止画像を
液晶マスク２に表示させる電圧を変化させる第２制御手
段及び液晶マスク２に静止画像を表示する第３制御手段
を有し、レーザ発振器１から発せられたレーザ光Ｌ１を
液晶マスク２に照射し、レーザ光Ｌ１が液晶マスク２を
透過した後のレーザ光Ｌ２を刻印対象物に照射し、刻印
対象物上に液晶マスク２上に表示されたマーキング用の
静止画像の刻印を行う透過型液晶マスクマーカであっ
て、前記制御器７は、 （１）前記刻印の実施が終了した後、次回の刻印の実施
がされる前に、 （１１）前記テスト用の静止画像を表示させる制御を実
施し、 （１２）前記テスト用の静止画像を表示中に、液晶マス
ク２の光透過率を計測する前記第１制御を実施し、計測
された光透過率に応じて液晶マスク２へ次回の刻印に使
用するマーキング用の静止画像を表示させる電圧を変化
させる前記第２制御を実施することを特徴としている。
【００１１】上記発明１の構成において、その構成要素
「（１１）前記テスト用の静止画像を表示させる制御を
実施し、（１２）前記テスト用の静止画像を表示中
に、」は、図４（ａ）に示される通りであるが、これに
は各種態様があり、例えば、次の発明２〜発明４であ
る。即ち、発明２は、図４（ｂ）に示す通り、上記発明
１の構成要素を「（１１）前記テスト用の静止画像を表
示させる制御を実施し、その後、液晶マスク２の全ての
走査電極端子と信号電極端子とを同電位化させ、その
後、最後が前記同電位化となるように、前記テスト用の
静止画像の表示と前記同電位化とをこの順で繰り返し、
（１２）前記テスト用の静止画像を表示中に、」とし
た。さらに発明３は、図４（ｃ）に示す通り、上記発明
１の構成要素を「（１１）前記テスト用の静止画像を表
示させる制御を実施し、その後、液晶マスク２の全ての
走査電極端子と信号電極端子とを同電位化させ、その
後、次回の刻印に使用するマーキング用の静止画像の表
示と前記同電位化とをこの順で繰り返し、（１２）前記
テスト用の静止画像を表示中に、」とした。また、発明
４は、図４（ｄ）に示す通り、制御器７は「（１）前記
刻印の実施が終了した後、次回の刻印が実施される前
に、（１１）次回の刻印に使用するマーキング用の静止
画像を表示させる制御を実施し、（１２）その後、液晶
マスク２の全ての走査電極端子と信号電極端子とを同電
位化させ、（１３）前記次回の刻印に使用するマーキン
グ用の静止画像の表示と前記同電位化とをこの順で繰り
返す一連の制御を実施する」としてもよい。尚、発明５
〜発明８は方法発明であり、上記発明１は発明５の具現
化例、上記発明２は発明６の具現化例、上記発明３は発
明７の具現化例、上記発明４は発明８の具現化例であ
る。
「（１１）前記テスト用の静止画像を表示させる制御を
実施し、（１２）前記テスト用の静止画像を表示中
に、」は、図４（ａ）に示される通りであるが、これに
は各種態様があり、例えば、次の発明２〜発明４であ
る。即ち、発明２は、図４（ｂ）に示す通り、上記発明
１の構成要素を「（１１）前記テスト用の静止画像を表
示させる制御を実施し、その後、液晶マスク２の全ての
走査電極端子と信号電極端子とを同電位化させ、その
後、最後が前記同電位化となるように、前記テスト用の
静止画像の表示と前記同電位化とをこの順で繰り返し、
（１２）前記テスト用の静止画像を表示中に、」とし
た。さらに発明３は、図４（ｃ）に示す通り、上記発明
１の構成要素を「（１１）前記テスト用の静止画像を表
示させる制御を実施し、その後、液晶マスク２の全ての
走査電極端子と信号電極端子とを同電位化させ、その
後、次回の刻印に使用するマーキング用の静止画像の表
示と前記同電位化とをこの順で繰り返し、（１２）前記
テスト用の静止画像を表示中に、」とした。また、発明
４は、図４（ｄ）に示す通り、制御器７は「（１）前記
刻印の実施が終了した後、次回の刻印が実施される前
に、（１１）次回の刻印に使用するマーキング用の静止
画像を表示させる制御を実施し、（１２）その後、液晶
マスク２の全ての走査電極端子と信号電極端子とを同電
位化させ、（１３）前記次回の刻印に使用するマーキン
グ用の静止画像の表示と前記同電位化とをこの順で繰り
返す一連の制御を実施する」としてもよい。尚、発明５
〜発明８は方法発明であり、上記発明１は発明５の具現
化例、上記発明２は発明６の具現化例、上記発明３は発
明７の具現化例、上記発明４は発明８の具現化例であ
る。
【００１２】
【作用】第１提案を透過型液晶マスクマーカに具体的に
織り込む場合、印字プロセス中に、透過率Ｑを測定し最
適光透過率Ｑｏと等しくなるように、静止画像用印加電
圧を調整する必要がある。そこで、発明１は、液晶マス
ク２上に各マーク用静止画像を次々と制御するその刻印
の間に、テスト用静止画像を割込み表示させることと
し、この表示中に、透過率Ｑを測定することとした。
尚、静止画像用印加電圧とはテスト用静止画像用印加電
圧と、マーク用静止画像用印加電圧とを指すことは言う
までもない。
織り込む場合、印字プロセス中に、透過率Ｑを測定し最
適光透過率Ｑｏと等しくなるように、静止画像用印加電
圧を調整する必要がある。そこで、発明１は、液晶マス
ク２上に各マーク用静止画像を次々と制御するその刻印
の間に、テスト用静止画像を割込み表示させることと
し、この表示中に、透過率Ｑを測定することとした。
尚、静止画像用印加電圧とはテスト用静止画像用印加電
圧と、マーク用静止画像用印加電圧とを指すことは言う
までもない。
【００１３】ところで、第２提案のような高精度連続高
速印字が可能な透過型液晶マスクマーカでのテスト用静
止画像の割り込みは、スループットを低下させない為に
も、ワーク待機時間中に行なうのが最良である。ところ
が、単純に割り込ませると、該ワーク待機時間ですら極
めて短期間である場合、制御器７がテスト用静止画像を
消す指令を発しても、残像が消えない内に、次のマーク
用静止画像が表示されたのでは、印字性能が低下する。
そこでかかる場合、テスト用静止画像を表示させた直
後、該液晶マスク２の総ての走査電極端子と信号電極端
子とを同電位化させる（単に「同電位化」とする）と、
残像がほぼ消える。また、液晶マスク２は、画像表示用
の電圧印加時間が長くなるにつれ、光透過率Ｑが大きく
なると言う特性があり、これでは、本発明での光透過率
Ｑの測定値が不安定なものとなり易い。そこで短時間の
テスト用静止画像の表示後、上記同電位化を行うと、安
定的な光透過率Ｑを得られる。ところで、このような効
用のある同電位化であっても、この時間を長くすると、
液晶マスク２の静止画像の表示立ち上がり時間が長くな
ってしまい、高速印字を行う上で不都合となる。そこ
で、発明３、発明４では、テスト用静止画像の表示、又
は、先ずテスト用静止画像を表示して同電位化のあと次
のマーク用静止画像を表示する各表示を前記同電位化で
分割することにより（即ち、表示と同電位化との繰り返
すことにより）、次のマーク用静止画像表示の早期立ち
上がりを確保した。即ち、発明３、発明４によれば、残
像の消去、安定的光透過率の確保及び静止画像の早期立
ち上げ表示を確保することができる。尚、発明３、発明
４では、少なくとも最後の表示はマーク用静止画像と同
電位化との組み合わせになるが、このようにすると、書
き替え時間終了後の次のマーク用静止画像の立ち上げ表
示が円滑になる。また、当該使用温度が刻印に影響が出
るほどには変化しない場合には液晶マスクを最適光透過
率になるように最初に調整しておけば、透過率は変化し
ないのであるが、この場合にも該制御器７は先ず、テス
ト用静止画像を表示されその後液晶マスクの全ての走査
電極端子と信号電極端子とを同電位化させ、その後、最
後が前記同電位化となるように前記書き換え時間が終了
するまで、前記テスト用画像の表示と前記同電位化とを
この順で繰り返すことを特徴とすることとしたことによ
って、マーク用静止画像の早期立ち上がりを確保するこ
とができる。また、最後の表示をマーク用静止画像と同
電位化との組み合わせにすることによる書き換え時間終
了後の次のマーク用静止画像の立ち上げ表示が円滑にな
ることも同様である。
速印字が可能な透過型液晶マスクマーカでのテスト用静
止画像の割り込みは、スループットを低下させない為に
も、ワーク待機時間中に行なうのが最良である。ところ
が、単純に割り込ませると、該ワーク待機時間ですら極
めて短期間である場合、制御器７がテスト用静止画像を
消す指令を発しても、残像が消えない内に、次のマーク
用静止画像が表示されたのでは、印字性能が低下する。
そこでかかる場合、テスト用静止画像を表示させた直
後、該液晶マスク２の総ての走査電極端子と信号電極端
子とを同電位化させる（単に「同電位化」とする）と、
残像がほぼ消える。また、液晶マスク２は、画像表示用
の電圧印加時間が長くなるにつれ、光透過率Ｑが大きく
なると言う特性があり、これでは、本発明での光透過率
Ｑの測定値が不安定なものとなり易い。そこで短時間の
テスト用静止画像の表示後、上記同電位化を行うと、安
定的な光透過率Ｑを得られる。ところで、このような効
用のある同電位化であっても、この時間を長くすると、
液晶マスク２の静止画像の表示立ち上がり時間が長くな
ってしまい、高速印字を行う上で不都合となる。そこ
で、発明３、発明４では、テスト用静止画像の表示、又
は、先ずテスト用静止画像を表示して同電位化のあと次
のマーク用静止画像を表示する各表示を前記同電位化で
分割することにより（即ち、表示と同電位化との繰り返
すことにより）、次のマーク用静止画像表示の早期立ち
上がりを確保した。即ち、発明３、発明４によれば、残
像の消去、安定的光透過率の確保及び静止画像の早期立
ち上げ表示を確保することができる。尚、発明３、発明
４では、少なくとも最後の表示はマーク用静止画像と同
電位化との組み合わせになるが、このようにすると、書
き替え時間終了後の次のマーク用静止画像の立ち上げ表
示が円滑になる。また、当該使用温度が刻印に影響が出
るほどには変化しない場合には液晶マスクを最適光透過
率になるように最初に調整しておけば、透過率は変化し
ないのであるが、この場合にも該制御器７は先ず、テス
ト用静止画像を表示されその後液晶マスクの全ての走査
電極端子と信号電極端子とを同電位化させ、その後、最
後が前記同電位化となるように前記書き換え時間が終了
するまで、前記テスト用画像の表示と前記同電位化とを
この順で繰り返すことを特徴とすることとしたことによ
って、マーク用静止画像の早期立ち上がりを確保するこ
とができる。また、最後の表示をマーク用静止画像と同
電位化との組み合わせにすることによる書き換え時間終
了後の次のマーク用静止画像の立ち上げ表示が円滑にな
ることも同様である。
【００１４】
【実施例】以下、図面を参照し、先ず、実施例をハード
構成とソフト構成とに分けて説明する。ハード構成は、
図３に示すように、レーザ発振器１から射出されたレー
ザ光Ｌ１が、ビームスプリッタ８１を介して先ずガルバ
ノスキャナ９ＹによってＹ方向へ、またポリゴンミラー
９ＸによってＸ方向へ偏向されることにより、透過型液
晶マスク２のマーク用静止画像をラスタ走査する構成と
なっている。偏向されたレーザ光Ｌ１はレンズ８２によ
って反射鏡８３に集光され、この反射鏡８３からの反射
レーザ光Ｌ２が対物レンズ８４を経てワークフィーダ１
０上のワーク表面３に照射され、該ワーク表面にマーク
用静止画像を刻印する。上記において、レーザ発振器
１、Ｘ偏光器９Ｘ、Ｙ偏光器９Ｙ、透過型液晶マスク２
及びワークフィーダ１０の駆動系は、制御器７に電気的
に接続され、該制御器７によって同期制御されている。
構成とソフト構成とに分けて説明する。ハード構成は、
図３に示すように、レーザ発振器１から射出されたレー
ザ光Ｌ１が、ビームスプリッタ８１を介して先ずガルバ
ノスキャナ９ＹによってＹ方向へ、またポリゴンミラー
９ＸによってＸ方向へ偏向されることにより、透過型液
晶マスク２のマーク用静止画像をラスタ走査する構成と
なっている。偏向されたレーザ光Ｌ１はレンズ８２によ
って反射鏡８３に集光され、この反射鏡８３からの反射
レーザ光Ｌ２が対物レンズ８４を経てワークフィーダ１
０上のワーク表面３に照射され、該ワーク表面にマーク
用静止画像を刻印する。上記において、レーザ発振器
１、Ｘ偏光器９Ｘ、Ｙ偏光器９Ｙ、透過型液晶マスク２
及びワークフィーダ１０の駆動系は、制御器７に電気的
に接続され、該制御器７によって同期制御されている。
【００１５】上記において液晶マスク２は、制御器７か
らの電圧印加により、マーク用静止画像の外、テスト用
静止画像をも適宜表示するようになっている。またさら
に発光素子５と、受光素子６とが付設されている。受光
素子６は、液晶マスク２上に表示されたテスト用静止画
像を透過した発光素子５からの透過光を受光し、この受
光強度Ｒ２を制御器７に出力している。尚、従って、前
記テスト用静止画像は、少なくとも、液晶マスク２面に
おいて、発光手段５からの照射光の入射面積よりも大き
いことが肝要である。ここで発光素子５と受光素子６と
は、制御器７に電気的に接続され、該制御器７によって
同期制御されている。また制御器７は、予め最適光透過
率Ｑｏと、発光素子５の発光強度Ｒ１とを記憶してい
る。尚、最適光透過率Ｑｏは、本実施例なる透過型液晶
マスクマーカの常用時における透過型液晶マスク２の特
性を元に予め制御器７内に記憶させた値である。尚、テ
スト用静止画像とマーキング用静止画像とを区別する理
由は次の通りである。マーキング用静止画像は、刻印内
容によって光Ｒ１が照射される部分のパターンが変化す
る。従って、マーキング用静止画像を用いて、液晶マス
ク２の光透過率を計測する制御手段を実施すると、光透
過率のデータに光Ｒ１が照射される部分のパターンの影
響が現れるため、正確な計測ができなくなる。そこで予
め少なくとも光Ｒ１が照射される部分のパターンが一定
であるテストパターンを用意しておいて、上記計測時に
はこのテストパターンを用いることにすると、光透過率
のデータに光Ｒ１が照射される部分のパターンの影響が
現れることなく、正確な計測が可能になる。尚、光透過
率のデータの精度を向上させるためには、上記一定のパ
ターンは全て透過状態であることが、光Ｒ２の光量を大
きく取る面で有利である。
らの電圧印加により、マーク用静止画像の外、テスト用
静止画像をも適宜表示するようになっている。またさら
に発光素子５と、受光素子６とが付設されている。受光
素子６は、液晶マスク２上に表示されたテスト用静止画
像を透過した発光素子５からの透過光を受光し、この受
光強度Ｒ２を制御器７に出力している。尚、従って、前
記テスト用静止画像は、少なくとも、液晶マスク２面に
おいて、発光手段５からの照射光の入射面積よりも大き
いことが肝要である。ここで発光素子５と受光素子６と
は、制御器７に電気的に接続され、該制御器７によって
同期制御されている。また制御器７は、予め最適光透過
率Ｑｏと、発光素子５の発光強度Ｒ１とを記憶してい
る。尚、最適光透過率Ｑｏは、本実施例なる透過型液晶
マスクマーカの常用時における透過型液晶マスク２の特
性を元に予め制御器７内に記憶させた値である。尚、テ
スト用静止画像とマーキング用静止画像とを区別する理
由は次の通りである。マーキング用静止画像は、刻印内
容によって光Ｒ１が照射される部分のパターンが変化す
る。従って、マーキング用静止画像を用いて、液晶マス
ク２の光透過率を計測する制御手段を実施すると、光透
過率のデータに光Ｒ１が照射される部分のパターンの影
響が現れるため、正確な計測ができなくなる。そこで予
め少なくとも光Ｒ１が照射される部分のパターンが一定
であるテストパターンを用意しておいて、上記計測時に
はこのテストパターンを用いることにすると、光透過率
のデータに光Ｒ１が照射される部分のパターンの影響が
現れることなく、正確な計測が可能になる。尚、光透過
率のデータの精度を向上させるためには、上記一定のパ
ターンは全て透過状態であることが、光Ｒ２の光量を大
きく取る面で有利である。
【００１６】次にソフト構成を説明する。図１に示すよ
うに、本実施例は、印字サイクルｔが約０．８秒の高精
度連続高速印字型の透過型液晶マスクマーカである。内
訳は、マーク用静止画像表示時間（印字時間）ｔ１が約
０．３秒、ワーク待機時間（ワーク移動及び印字位置固
定時間）ｔ２が約０．５秒である。ここで、ワーク待機
時間ｔ２内における、テスト用静止画像の割り込み表示
時間ｔ２１は約０．１秒であり、その後の液晶マスク２
の総ての走査電極端子と信号電極端子とを０Ｖ（即ち、
全端子をアース）にするという同電位化時間ｔ２２は約
０．０４秒であり、これら表示と同電位化とが３回の繰
り返されている。尚、この繰り返しのフローチャートを
図２及びタイムテーブルを図４（ｂ）に示しておく。
うに、本実施例は、印字サイクルｔが約０．８秒の高精
度連続高速印字型の透過型液晶マスクマーカである。内
訳は、マーク用静止画像表示時間（印字時間）ｔ１が約
０．３秒、ワーク待機時間（ワーク移動及び印字位置固
定時間）ｔ２が約０．５秒である。ここで、ワーク待機
時間ｔ２内における、テスト用静止画像の割り込み表示
時間ｔ２１は約０．１秒であり、その後の液晶マスク２
の総ての走査電極端子と信号電極端子とを０Ｖ（即ち、
全端子をアース）にするという同電位化時間ｔ２２は約
０．０４秒であり、これら表示と同電位化とが３回の繰
り返されている。尚、この繰り返しのフローチャートを
図２及びタイムテーブルを図４（ｂ）に示しておく。
【００１７】ここで本実施例は、上記３回のテスト用静
止画像の割込み表示の繰り返しの内、最初のテスト用静
止画像の割込み表示時間ｔ２１の約０．１秒内に、制御
器７は、受光手段６から受光強度Ｒ２を入力し、この受
光強度Ｒ２と発光手段５の発光強度Ｒ１とにより透過型
液晶マスク２の実際光透過率Ｑを算出し、そして該実際
光透過率Ｑが最適光透過率Ｑｏと等しくなるように、液
晶マスク２への静止画像用印可電圧を調整している。尚
勿論、上記３回のテスト用静止画像の割込み表示時間の
総てにおいて、それぞれ、入力、計算、比較及び調整を
繰り返してもよい。本実施例によれば、残像の消去は元
より、受光強度Ｒ２（即ち、透過率Ｑ、以下同じ）が安
定し、次の印字用の正式なマーク用静止画像の表示立ち
上げも高速になった。
止画像の割込み表示の繰り返しの内、最初のテスト用静
止画像の割込み表示時間ｔ２１の約０．１秒内に、制御
器７は、受光手段６から受光強度Ｒ２を入力し、この受
光強度Ｒ２と発光手段５の発光強度Ｒ１とにより透過型
液晶マスク２の実際光透過率Ｑを算出し、そして該実際
光透過率Ｑが最適光透過率Ｑｏと等しくなるように、液
晶マスク２への静止画像用印可電圧を調整している。尚
勿論、上記３回のテスト用静止画像の割込み表示時間の
総てにおいて、それぞれ、入力、計算、比較及び調整を
繰り返してもよい。本実施例によれば、残像の消去は元
より、受光強度Ｒ２（即ち、透過率Ｑ、以下同じ）が安
定し、次の印字用の正式なマーク用静止画像の表示立ち
上げも高速になった。
【００１８】尚、ともかくマーク用静止画像間の書き替
え時間中にテスト用静止画像を表示する場合もある。こ
の場合、書き替え終了時は、マーク用静止画像の表示に
代わるため、必然的に、テスト用静止画像は消去される
が、この消去に際し、残像が消えるに充分な時間を有す
るような透過型液晶マスクマーカであるならば、上述の
通り、ともかくマーク用静止画像間の書き替え時間中に
テスト用静止画像を表示すればよいわけである。このタ
イムテーブルを図４（ａ）に示しておく。
え時間中にテスト用静止画像を表示する場合もある。こ
の場合、書き替え終了時は、マーク用静止画像の表示に
代わるため、必然的に、テスト用静止画像は消去される
が、この消去に際し、残像が消えるに充分な時間を有す
るような透過型液晶マスクマーカであるならば、上述の
通り、ともかくマーク用静止画像間の書き替え時間中に
テスト用静止画像を表示すればよいわけである。このタ
イムテーブルを図４（ａ）に示しておく。
【００１９】また、図４（ｃ）に示すように、制御器７
は、書き替え時間ｔ２中に、先ずテスト用静止画像を表
示して受光高度Ｒ２を入力した（上述の通り、液晶マス
ク２の印加電圧の適正化演算を行う）。次に、同電位
化、マーク用静止画像表示、同電位化、マーク用静止画
像表示、同電位化をこの順で行った。本実施例によれ
ば、残像がなく、受光強度Ｒ２が安定し、次の印字用の
正式なマーク用静止画像の表示立ち上げもさらに高速、
かつ、円滑に行えるようになった。尚、本実施例では、
静止画像の表示回数は、３回としたが、透過型液晶マス
クマーカの本体の仕様によって、その回数は自在であ
る。
は、書き替え時間ｔ２中に、先ずテスト用静止画像を表
示して受光高度Ｒ２を入力した（上述の通り、液晶マス
ク２の印加電圧の適正化演算を行う）。次に、同電位
化、マーク用静止画像表示、同電位化、マーク用静止画
像表示、同電位化をこの順で行った。本実施例によれ
ば、残像がなく、受光強度Ｒ２が安定し、次の印字用の
正式なマーク用静止画像の表示立ち上げもさらに高速、
かつ、円滑に行えるようになった。尚、本実施例では、
静止画像の表示回数は、３回としたが、透過型液晶マス
クマーカの本体の仕様によって、その回数は自在であ
る。
【００２０】また、図４（ｄ）に示すように、制御器７
は、書き替え時間ｔ２中に、先ずテスト用静止画像を表
示して受光高度Ｒ２を入力した。次に、同電位化、テス
ト用静止画像表示、同電位化、マーク用静止画像表示、
同電位化をこの順で行った。本実施例によれば、上記実
施例同様、残像の消去は元より、受光強度Ｒ２が安定
し、次の印字用の正式なマーク用静止画像の表示立ち上
げもさらに高速、かつ、円滑に行えるようになった。
尚、本実施例では、静止画像の表示回数は、３回である
が、仮に５回とした場合、例えば最初の２回（図４
（ｄ）上ではＮ＝２となる）はテスト用静止画像、後の
３回はマーク用静止画像にしたり、その逆としたりする
等してもよい．。また、テスト用静止画像の表示回数
（Ｎ）が複数回である場合、受光強度Ｒ２は少なくとも
１回入力すればよい。
は、書き替え時間ｔ２中に、先ずテスト用静止画像を表
示して受光高度Ｒ２を入力した。次に、同電位化、テス
ト用静止画像表示、同電位化、マーク用静止画像表示、
同電位化をこの順で行った。本実施例によれば、上記実
施例同様、残像の消去は元より、受光強度Ｒ２が安定
し、次の印字用の正式なマーク用静止画像の表示立ち上
げもさらに高速、かつ、円滑に行えるようになった。
尚、本実施例では、静止画像の表示回数は、３回である
が、仮に５回とした場合、例えば最初の２回（図４
（ｄ）上ではＮ＝２となる）はテスト用静止画像、後の
３回はマーク用静止画像にしたり、その逆としたりする
等してもよい．。また、テスト用静止画像の表示回数
（Ｎ）が複数回である場合、受光強度Ｒ２は少なくとも
１回入力すればよい。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
液晶マスクの透過率を測定して、これを最適透過率と比
較することにより、該液晶マスクの最適透過率を維持す
ることにより、高精度印字を維持する透過型液晶マスク
マーカに対し、そのマーク用静止画像間の書き替え中
に、テスト用静止画像を割り込み表示したこと、また、
テスト用静止画像の表示後直ちに同電位化したこと、そ
の後、テスト用静止画像又はマーク用静止画像の表示と
同電位化との繰り返しとさせたことにより、次の効果を
奏する。
液晶マスクの透過率を測定して、これを最適透過率と比
較することにより、該液晶マスクの最適透過率を維持す
ることにより、高精度印字を維持する透過型液晶マスク
マーカに対し、そのマーク用静止画像間の書き替え中
に、テスト用静止画像を割り込み表示したこと、また、
テスト用静止画像の表示後直ちに同電位化したこと、そ
の後、テスト用静止画像又はマーク用静止画像の表示と
同電位化との繰り返しとさせたことにより、次の効果を
奏する。
【００２２】（１）テスト用静止画像表示、マーク用静
止画像表示及び同電位化の割り込みは、制御器のプログ
ラムを変更するだけでよく、透過型液晶マスクマーカ及
びワークフィーダ等の本体構成を変える必要がない。即
ち、在来の透過型液晶マスクマーカに印字精度を維持す
るためのプログラムを不都合なく織り込める。 （２）上記割り込みは高速に行えるため、在来の透過型
液晶マスクマーカやワークフィーダ本体の構成をより高
速化したり、より高精度印字化するための一助となる。 （３）上記割り込みだけを見ても、同電位化による残像
の消去及び安定的受光強度の入力（即ち、実際光透過率
Ｑが正確に検出でき、この結果、液晶マスクへの静止画
像用印加電圧の調整が正確になる）、並びに、画像表示
と同電位化との繰り返しによる次の表示画像の円滑な立
ち上げを達成している。以上の結果、本発明によれば、
高速高精度の印字を維持することができ、スループット
の増大を図ることができる。
止画像表示及び同電位化の割り込みは、制御器のプログ
ラムを変更するだけでよく、透過型液晶マスクマーカ及
びワークフィーダ等の本体構成を変える必要がない。即
ち、在来の透過型液晶マスクマーカに印字精度を維持す
るためのプログラムを不都合なく織り込める。 （２）上記割り込みは高速に行えるため、在来の透過型
液晶マスクマーカやワークフィーダ本体の構成をより高
速化したり、より高精度印字化するための一助となる。 （３）上記割り込みだけを見ても、同電位化による残像
の消去及び安定的受光強度の入力（即ち、実際光透過率
Ｑが正確に検出でき、この結果、液晶マスクへの静止画
像用印加電圧の調整が正確になる）、並びに、画像表示
と同電位化との繰り返しによる次の表示画像の円滑な立
ち上げを達成している。以上の結果、本発明によれば、
高速高精度の印字を維持することができ、スループット
の増大を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例のタイムチャートであって、（ａ）はマ
ーキングチャート、（ｂ）は割り込みチャートを表す。
ーキングチャート、（ｂ）は割り込みチャートを表す。
【図２】実施例のフローチャートである。
【図３】実施例のハード例を説明する図である。
【図４】実施例のタイムテーブルであって、（ａ）〜
（ｄ）はそれぞれ１つの実施例を示す。
（ｄ）はそれぞれ１つの実施例を示す。
２ 透過型液晶マスク ５ 発光手段 ６ 受光手段 ７ 制御器 Ｒ１ 発光強度 Ｒ２ 受光強度 Ｑｏ 最適光透過率 Ｑ 実際光透過率
Claims (8)
- 【請求項１】 レーザ発振器１、液晶マスク２、発光手
段５、受光手段６、制御器７、制御器７と液晶マスク２
との接続経路、制御器７と発光手段５との接続経路及び
制御器７と受光手段６との接続経路を具備し、 受光手段６から発せられた受光強度に対応する第２の信
号が制御器７に入力され、発光手段５から発せられた光
Ｒ１を液晶マスク２に照射して光Ｒ１が液晶マスク２を
透過した後の光Ｒ２を受光手段６で受光する配置であ
り、かつ、 制御器７はマーキング用の静止画像のデータ、テスト用
の静止画像のデータ、さらに、制御器７に記憶されてい
る発光手段５から発せられる光Ｒ１の強度に係る第１の
信号と前記第２の信号とから光透過率を算出して前記液
晶マスク２の光透過率を計測する第１制御手段、前記光
透過率に応じて静止画像を液晶マスク２に表示させる電
圧を変化させる第２制御手段及び液晶マスク２に静止画
像を表示する第３制御手段を有し、 レーザ発振器１から発せられたレーザ光Ｌ１を液晶マス
ク２に照射し、レーザ光Ｌ１が液晶マスク２を透過した
後のレーザ光Ｌ２を刻印対象物に照射し、刻印対象物上
に液晶マスク２上に表示されたマーキング用の静止画像
の刻印を行う透過型液晶マスクマーカであって、前記制
御器７は、 （１）前記刻印の実施が終了した後、次回の刻印の実施
がされる前に、 （１１）前記テスト用の静止画像を表示させる制御を実
施し、 （１２）前記テスト用の静止画像を表示中に、液晶マス
ク２の光透過率を計測する前記第１制御を実施し、計測
された光透過率に応じて液晶マスク２へ次回の刻印に使
用するマーキング用の静止画像を表示させる電圧を変化
させる前記第２制御を実施することを特徴とする透過型
液晶マスクマーカ。 - 【請求項２】 前記「（１１）前記テスト用の静止画像
を表示させる制御を実施し、（１２）前記テスト用の静
止画像を表示中に、」は、 「（１１）前記テスト用の静止画像を表示させる制御を
実施し、 その後、液晶マスク２の全ての走査電極端子と信号電極
端子とを同電位化させ、その後、最後が前記同電位化と
なるように、前記テスト用の静止画像の表示と前記同電
位化とをこの順で繰り返し、 （１２）前記テスト用の静止画像を表示中に、」である
請求項１記載の透過型液晶マスクマーカ。 - 【請求項３】 前記「（１１）前記テスト用の静止画像
を表示させる制御を実施し、（１２）前記テスト用の静
止画像を表示中に、」は、 「（１１）前記テスト用の静止画像を表示させる制御を
実施し、 その後、液晶マスク２の全ての走査電極端子と信号電極
端子とを同電位化させ、その後、次回の刻印に使用する
マーキング用の静止画像の表示と前記同電位化とをこの
順で繰り返し、 （１２）前記テスト用の静止画像を表示中に、」である
請求項１記載の透過型液晶マスクマーカ。 - 【請求項４】 レーザ発振器１、液晶マスク２、制御器
７及び制御器７と液晶マスク２との接続経路を具備し、 前記制御器７にはマーキング用の静止画像のデータ及び
液晶マスク２に静止画像を表示する制御手段を有し、 レーザ発振器１から発せられたレーザ光Ｌ１を液晶マス
ク２に照射し、レーザ光Ｌ１が液晶マスク２を透過した
後のレーザ光Ｌ２を刻印対象物に照射し、刻印対象物に
液晶マスク２上に表示されたマーキング用の静止画像の
刻印を行う透過型液晶マスクマーカであって、前記制御
器７は、 （１）前記刻印の実施が終了した後、次回の刻印が実施
される前に、 （１１）次回の刻印に使用するマーキング用の静止画像
を表示させる制御を実施し、 （１２）その後、液晶マスク２の全ての走査電極端子と
信号電極端子とを同電位化させ、 （１３）前記次回の刻印に使用するマーキング用の静止
画像の表示と前記同電位化とをこの順で繰り返す一連の
制御を実施することを特徴とする透過型液晶マスクマー
カ。 - 【請求項５】（１）レーザ発振器１から発せられたレー
ザ光Ｌ１を液晶マスク２に照射し、液晶マスク２を透過
したレーザ光Ｌ２を被刻印物に照射することで液晶マス
ク２上に表示されたマーキング用の静止画像を刻印し、 （２）前記刻印の実施が終了した後に、 （２１）テスト用の静止画像を表示させ、 （２２）テスト用の静止画像を表示中に、 （２３）発光手段５から発せられた光Ｒ１を液晶マスク
２に照射し、 （２４）光Ｒ１が液晶マスク２を透過した後の光Ｒ２を
受光手段６で受光し、 （２５）光Ｒ１の強度と光Ｒ２の強度から光透過率を算
出し、 （２６）前記算出された光透過率を使って液晶マスク２
へ次回の刻印に使用するマーキング用の静止画像を表示
させる電圧を変化させ、 （３）その後に次回の刻印を実施することを特徴とする
レーザ刻印方法。 - 【請求項６】 前記「（２１）テスト用の静止画像を表
示させ、（２２）テスト用の静止画像を表示中に、」
は、 「（２１）テスト用の静止画像を表示させ、 その後、液晶マスク２の全ての走査電極端子と信号電極
端子とを同電位化させ、その後、最後が前記同電位化と
なるように、前記テスト用の静止画像の表示と前記同電
位化とをこの順で繰り返し、 （２２）前記テスト用の静止画像を表示中に、」 である請求項５記載のレーザ刻印方法。 - 【請求項７】 前記「（２１）テスト用の静止画像を表
示させ、（２２）テスト用の静止画像を表示中に、」
は、 「（２１）テスト用の静止画像を表示させ、 その後、液晶マスク２の全ての走査電極端子と信号電極
端子とを同電位化させ、その後、次回の刻印に使用する
マーキング用の静止画像の表示と前記同電位化とをこの
順で繰り返し、 （２２）前記テスト用の静止画像を表示中に、」 である請求項５記載のレーザ刻印方法。 - 【請求項８】 （１）レーザ発振器１から発せられたレ
ーザ光Ｌ１を液晶マスク２に照射し、液晶マスク２を透
過したレーザ光Ｌ２を被刻印物に照射することで液晶マ
スク２上に表示されたマーキング用画像を刻印し、 （２）前記刻印の実施が終了した後に、 （２１）次回の刻印に使用するマーキング用の静止画像
を表示させる制御を実施し、 （２２）その後、液晶マスク２の全ての走査電極端子と
信号電極端子とを同電位化させ、 （２３）前記次回の刻印に使用するマーキング用画像の
表示と前記同電位化とをこの順で繰り返し、 （３）その後に次回の刻印を実施することを特徴とする
レーザ刻印方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5312876A JP2651995B2 (ja) | 1993-05-13 | 1993-11-19 | 透過型液晶マスクマーカ及びレーザ刻印方法 |
| PCT/JP1994/001574 WO1995009067A1 (fr) | 1993-09-30 | 1994-09-26 | Marqueur pour masque a cristaux liquides semi-transparent |
| EP94927099A EP0724928A1 (en) | 1993-09-30 | 1994-09-26 | Transmission type liquid crystal mask marker |
| KR1019960701573A KR960704672A (ko) | 1993-09-30 | 1994-09-26 | 투과형 액정마스크마커(transmission type liqutd crystal mask marker) |
| US08/619,546 US5663826A (en) | 1993-09-30 | 1994-09-26 | Transmission type liquid crystal mask marker |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13409193 | 1993-05-13 | ||
| JP5-134091 | 1993-05-13 | ||
| JP5312876A JP2651995B2 (ja) | 1993-05-13 | 1993-11-19 | 透過型液晶マスクマーカ及びレーザ刻印方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0724586A JPH0724586A (ja) | 1995-01-27 |
| JP2651995B2 true JP2651995B2 (ja) | 1997-09-10 |
Family
ID=26468280
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5312876A Expired - Fee Related JP2651995B2 (ja) | 1993-05-13 | 1993-11-19 | 透過型液晶マスクマーカ及びレーザ刻印方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2651995B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111897154B (zh) * | 2020-08-21 | 2023-08-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 透过率测试治具及测试方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2640321B2 (ja) * | 1992-05-08 | 1997-08-13 | 株式会社小松製作所 | 液晶マスク式レーザマーカ及びレーザマーキング方法 |
-
1993
- 1993-11-19 JP JP5312876A patent/JP2651995B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0724586A (ja) | 1995-01-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |