JP2648152B2 - 熱処理可能な要素のための保護層 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、熱処理の間の要素からの揮発性成分の放出
を低下させることを可能にし且つその他の利益を可能に
する、熱処理可能な画像形成要素のためのオーバーコー
ト層に関する。なお、本願明細書において、「オーバー
コート層」なる語に代えて、「保護層」なる語も屡々用
いる点に留意されたい。

〔従来の技術〕

熱処理によって画像を生じさせるための熱処理可能な
要素、特にフォトサーモグラフィック要素及びサーモグ
ラフィック要素（フイルム及び紙を含む）の表面の保護
層は公知である。そのような要素及び保護層は、例え
ば、Research Disclosure、1978年６月、第17029項、米
国特許第3,457,075号及び米国特許第3,933,508号に記載
されている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

熱処理温度（例えば、100℃よりも高い温度）で揮発
性である成分を含むフォトサーモグラフィック要素によ
って示される問題は、その揮発性成分が熱処理の間に要
素から放出される傾向があることである。この例は、熱
現像で要素から放出される傾向のあるトーナー（例え
ば、スクシンイミド）を含み且つポリビニルアルコール
製保護層をん含む後記比較例Ａで例示されるようなハロ
ゲン化銀フォトサーモグラフィックフイルムである。そ
のようなポリビニルアルコール製保護層の例は、例え
ば、米国特許第3,933,508号、米国特許第3,893,860号、
昭和58年12月19日に公開された特開昭58−217930号に記
載されている。比較例Ａによって例示されているよう
に、ポリビニルアルコール単独ではトーナーの放出を防
止しないのでこの問題に対する解決法とはならない。

そのような要素のための保護層として記載されてきて
いるか又は用いられてきているその他のポリマーもま
た、許容できる保護層に関しての要件も十分には満足し
ない。これらのその他のポリマーは、保護層が（ａ）熱
処理の間の要素の諸層の耐変形性を提供する、（ｂ）熱
処理の間の要素中の揮発性成分の損失を防止するか又は
低下させる、（ｃ）要素の製造中に又は画像形成及び熱
処理の前の要素の保管中に必須の画像形成成分が要素の
１層以上の層から保護層中に移動するのを低下させるか
又は防止する、（ｄ）保護層が要素の隣接層に満足に接
着するのを可能にする、及び（ｅ）要素の製造中、保管
中及び処理中に亀裂及び望ましくないマーキング（例え
ば摩擦マーキング）を生じない、という諸要件の１つ以
上を満足しない。通常の保護層物質（例えば、酢酸セル
ロース、ゼラチン及び完全に加水分解されたポリビニル
アルコール）はいずれも十分には満足ではない。

〔問題点を解決するための手段〕

上記の問題は、熱処理可能な要素、特にフォトサーモ
グラフィック要素又はサーモグラフィック要素のため
の、少なくとも50重量％のポリ珪酸を含む保護層によっ
て解決されることが見いだされた。そのような要素のた
めの好ましい保護層は、ポリ珪酸と相容性（以下、「共
存性」と記す）の水溶性のヒドロキシル基含有ポリマー
（例えば、水溶性ポリビニルアルコール又は水溶性セル
ロース誘導体）又はモノマーもまた含有する。

〔作 用〕

ポリ珪酸は式 （式中、ｘは塗布可能なポリ珪酸水溶液を提供するのに
十分な整数、例えば少なくとも３から約600までの範囲
内の整数である） によって表される。

ポリ珪酸は有機合成技術で公知の方法によって、例え
ばオルト珪酸テトラエチルの加水分解によって調製され
る。ポリ珪酸の典型的な調製法は、室温（20℃）で蒸留
水と1Nのｐ−トルエンスルホン酸及び無水アルコールと
を混合し、次いでオルト珪酸テトラエチルと混合するこ
とを含む。数分以内に透明な溶液が得られる。その生成
したポリ珪酸溶液は典型的には20℃で30日以上安定であ
る。1Nのｐ−トルエンスルホン酸水溶液はこの調製にお
いて典型的に好ましいが、0.1〜1.0Nの酸濃度を用いる
ことができる。その調製において一層低い酸濃度を用い
るならばポリ珪酸溶液の安定性はしばしば最適よりは低
い。ｐ−トルエンスルホン酸の代わりの有用な酸として
は塩酸、硫酸、及びその他の鉱酸がある。有機弱酸（例
えば酢酸）は所望の加水分解を提供することはできる
が、しかしその生成ポリ珪酸組成物は数時間以内にゲル
をもたらす。このゲルは追加の混合工程及び調製工程な
しでは好都合には塗布されない。

塗布された状態で有用なポリ珪酸保護層組成物は典型
的には100〜200℃の範囲内の要素の処理温度で不利益に
流動したり、汚したり、ゆがめたりすることはない。

保護層中のポリ珪酸の最適濃度は保護層中の諸成分、
特定のフォトサーモグラフィック要素及び処理条件に依
存して変化する。保護層中にポリビニルアルコールが存
在する時には、ポリ珪酸濃度が50重量％未満であると、
熱処理可能な要素からの揮発性成分の放出を所望程度で
低下させることはない。好ましくは、保護層中にポリビ
ニルアルコールが存在する時には、ポリ珪酸濃度は保護
層の50〜90重量％の範囲内である。ポリ珪酸の最適濃度
は特定の画像形成要素、熱処理条件、ポリ珪酸との組み
合わせで用いられる諸成分等のような因子に依存して変
化することができる。

ポリ珪酸を含む有用な保護層組成物は典型的には無色
透明である。保護層が無色透明でないならば、その時に
は、要素がフォトサーモグラフィック要素であるなら
ば、いずれにしても画像を与えて調べるために用いられ
る輻射線の波長に対して透過性であることが必要であ
る。この保護層は画像形成特性、例えば、フォトサーモ
グラフィック要素の場合のセンシトメトリー特性（例え
ば、最低濃度、最高濃度又は写真感度）に殆ど悪影響を
及ぼさない。

その他の成分、特にその他のポリマーをポリ珪酸と共
に保護層中に用いることができる。保護層においてポリ
珪酸との組み合わせで有用であることができるその他の
成分としては、例えば、その他のポリマー、例えば、ポ
リ珪酸と共存性である水溶性のヒドロキシル基含有ポリ
マー又はモノマー、例えば、アクリルアミドポリマー、
水溶性セルロース誘導体（例えば、水溶性酢酸セルロー
ス及び酢酸ヒドロキシエチルセルロース）等がある。そ
の水溶性ポリマーはポリ珪酸と共存性でなければならな
いことが重要である。

そのような保護層を含むフォトサーモグラフィック要
素及びサーモグラフィック要素は、所望ならば、多重の
ポリマー含有層、特に多重保護層を含むことができる。
例えば、フォトサーモグラフィック要素は、ポリ珪酸以
外のポリマー、例えば、水溶性セルロース誘導体（例え
ば、水溶性酢酸セルロース）を含む第一保護層、及び少
なくとも50重量％のポリ珪酸及びその他のポリマーを含
む第二保護層を含むことができる。

本発明の保護層はポリ珪酸と共存性である上記のよう
ないずれの要素にも有用である。その要素は黒白要素又
は色素形成性要素であることができる。その保護層は乾
式物理現像用に設計されたハロゲン化銀フォトサーモグ
ラフィック要素に特に有用である。保護層が有用である
有用なハロゲン化銀要素は、例えば、米国特許第3,457,
075号、第4,459,350号、第4,264,725号及びResearch Di
sclosure、1978年６月、第17029項に記載されている。
保護層は、例えば、（ａ）現場以外で及び／又は現場で
調製された写真ハロゲン化銀、（ｂ）（ｉ）有機銀塩酸
化剤、好ましくは長鎖脂肪酸の銀塩、例えばベヘン酸銀
と（ii）該有機銀塩酸化剤のための還元剤、好ましくは
フェノール系還元剤とを含む画像形成性組み合わせ、及
び（ｃ）場合によっては存在していてもよい調色剤、を
結合剤中に反応性関連で担持している支持体を含むフォ
トサーモグラフィック要素に特に有用である。

好ましいフォトサーモグラフィック要素は、（ａ）現
場で及び／又は現場以外で調製された写真ハロゲン化
銀、（ｂ）（ｉ）ベヘン酸銀と（ii）該ベベン酸銀のた
めのフェノール系還元剤とを含む画像形成性組み合わ
せ、（ｃ）調色剤、例えば、スクシンイミド、及び
（ｄ）画像安定剤、例えば、２−ブロモ−２−（４−メ
チルフェニルスルホニル）アセトアミド、を結合剤、特
にポリビニルブチラール結合剤中に反応性関連で担持し
ている支持体を含んでおり、且つ前記したような保護
層、好ましくは（Ａ）ポリ珪酸及び（Ｂ）80〜99％加水
分解されている水溶性ポリビニルアルコールを含み、
（Ａ）対（Ｂ）の比が少なくとも１、例えば１〜1.5で
ある保護層をもっている。

保護層は好ましくは要素の製造時に要素に塗布される
が、しかしながら、場合によっては保護層は所望ならば
要素の調製後のいずれかの段階で要素に塗布することが
できる。例えば、場合によっては保護層は露光の後で熱
処理の前に要素に塗布することができる。

最適の保護層厚は種々の因子、例えば、特定の要素、
処理条件、熱処理手段、所望の画像及び特定の保護層に
依存する。特に有用な保護層厚は１〜10μ、好ましくは
１〜３μの範囲内である。

フォトサーモグラフィック要素は、本質的に写真ハロ
ゲン化銀から成る感光性成分を含む。そのようなフォト
サーモグラフィック要素においては、ハロゲン化銀から
の潜像銀は処理の際に前記の酸化−還元画像形成性組み
合わせのための触媒として役立つ。写真ハロゲン化銀の
好ましい濃度はフォトサーモグラフィック要素中の有機
銀塩酸化剤（例えば、ベヘン酸銀）１モル当たり約0.01
〜10モルの範囲内である。所望ならばその他の感光性銀
塩は写真ハロゲン化銀との組み合わせで有用である。好
ましい写真ハロゲン化銀は塩化銀、臭化銀、臭沃化銀、
塩臭沃化銀及びこれらのハロゲン化銀の混合物である。
非常に微細の粒子の写真ハロゲン化銀は特に有用であ
る。写真ハロゲン化銀は写真技術で公知のいずれかの方
法によって調製することができる。写真ハロゲン化銀の
そのような調製法並びに写真ハロゲン化銀の形態は、例
えば、Research Disclosure、1978年６月、第17029項及
びResearch Disclosure、1978年12月、第17643項に記載
されている。平板状の感光性ハロゲン化銀もまた、例え
ば米国特許第4,435,499号に記載されているように有用
である。写真ハロゲン化銀は、上記のResearch Disclos
ure刊行物に記載されているように保管中の感度の損失
に対して安定化することができ、洗浄しないか又は洗浄
することができ、化学増感することができ、またカブリ
の生成に対して保護することができる。ハロゲン化銀
は、例えば米国特許第3,457,075号に記載されているよ
うに現場で調製することができる。

フォトサーモグラフィック要素は典型的には、有機銀
塩酸化剤、好ましくは長鎖脂肪酸の銀塩を含有する酸化
−還元画像形成性組み合わせを含む。そのような有機銀
塩酸化剤は照射の際の暗色化に耐える。好ましい有機銀
塩酸化剤は10〜30個の炭素原子を含有する長鎖脂肪酸の
銀塩である。有用な有機銀塩酸化剤の例はベヘン酸銀、
ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリル酸銀、ヒドロ
キシステアリン酸銀、カプリン酸銀、ミリスチン酸銀及
びパルミチン酸銀である。有機銀塩酸化剤の組み合わせ
も有用である。長鎖脂肪酸の銀塩ではない有用な銀塩酸
化剤の例としては、例えば、安息香酸銀及び銀ベンゾト
リアゾールがある。

フォトサーモグラフィック要素中の有機銀塩酸化剤の
最適濃度は所望の画像、特定の有機銀塩酸化剤、特定の
還元剤及び特定のフォトサーモグラフィック要素に依存
して変化する。有機銀塩酸化剤の好ましい濃度は好まし
くはAg1モル当たり有機銀塩酸化物約0.1〜約100モルの
範囲内である。有機銀塩酸化剤の組み合わせが存在する
時には、有機銀塩酸化剤の合計濃度は好ましくは上記の
濃度範囲内である。

フォトサーモグラフィック要素においては種々の還元
剤が有用である。有用な還元剤の例としては、置換フェ
ノール及び置換ナフトール、例えばビス−β−ナフトー
ル；ポリヒドロキシベンゼン、例えばヒドロキノン類
（ヒドロキノン、アルキル置換ヒドロキノン、例えば第
三ブチルヒドロキノン、メチルヒドロキノン、2,5−ジ
メチルヒドロキノン及び2,6−ジメチルヒドロキノンを
含む）；カテコール及びピロガロール；アミノフェノー
ル還元剤、例えば2,4−ジアミノフェノール及びメチル
アミノフェノール；アスコルビン酸還元剤、例えばアス
コルビン酸、アスコルビン酸ケタール及びその他のアス
コルビン酸誘導体；ヒドロキシルアミン還元剤;3−ピラ
ゾリドン還元剤、例えば１−フェニル−３−ピラゾリド
ン及び４−メチル−４−ヒドロキシメチル−１−フェニ
ル−３−ピラゾリドン；スルホンアミドフェノール及び
米国特許第3,933,508号及びResearch Disclosure、1978
年６月、第17029項に記載されているその他の有機還元
剤（その記載は参照文として本明細書に含まれるものと
する）がある。有機還元剤の組み合わせも有用である。

フォトサーモグラフィック要素において好ましい有機
還元剤は米国特許第3,801,321号に記載されているよう
なスルホンアミドフェノール還元剤である。有用なスル
ホンアミドフェノール還元剤の例としては2,6−ジクロ
ロ−４−ベンゼンスルホンアミドフェノール、ベンゼン
スルホンアミドフェノール、2,6−ジブロモ−４−ベン
ゼンスルホンアミドフェノール及びそれらの混合物であ
る。

フォトサーモグラフィック要素中の還元剤の最適濃度
は特定のフォトサーモグラフィック要素、所望の画像、
処理条件、特定の有機銀塩酸化剤及び特定の安定剤先駆
物質のような因子に依存して変化する。還元剤の飲まし
い濃度はフォトサーモグラフィック材料中の銀１モル当
たり約0.2〜約2.0モルの範囲内である。還元剤の組み合
わせが存在する時には、還元剤の合計濃度は好ましくは
上記した濃度範囲内である。

フォトサーモグラフィック要素は好ましくは、活性剤
−調色剤又はトーナー−促進剤としても知られている調
色剤を含む。フォトサーモグラフィック要素においては
調色剤の組み合わせが有用である。最適な調色剤又は調
色剤の組み合わせは、特定のフォトサーモグラフィック
要素、フォトサーモグラフィック要素中の特定の成分、
所望の画像及び処理条件のような因子に依存する。有用
な調色剤及び調色剤の組み合わせの例は、例えば、Rese
arch Disclosure、1978年６月、第17029項及び米国特許
第4,123,282号に記載されている。有用な調色剤の例と
しては、例えば、フタルイミド、Ｎ−ヒドロキシフタル
イミド、Ｎ−カリウムフタルイミド、スクシンイミド、
Ｎ−ヒドロキシ−1,8−ナフタールイミド、フタルアジ
ン、１−（2H）−フタルアジノン及び２−アセチルフタ
ルアジノンがある。

フォトサーモグラフィック要素で有用な安定剤として
は、例えば米国特許第4,459,350号に記載されているよ
うな光分解的に活性な安定剤及び安定剤先駆物質があ
り、また、例えば、アゾールチオエーテル及びブロック
ドアゾリンチオン安定剤先駆物質及び米国特許第3,877,
940号に記載されているようなカルバモイル安定剤先駆
物質がある。

フォトサーモグラフィック要素は好ましくは、ビヒク
ル、結合剤として及び種々の層中に種々のコロイド及び
ポリマーを単独で又は組み合わせで含有する。有用な物
質は疎水性又は親水性である。それらは透明又は半透明
であり、天然産物質、例えば蛋白質、例えばゼラチン、
ゼラチン誘導体、セルロース誘導体、多糖類、例えばデ
キストラン、アラビアゴム等；及び合成ポリマー物質、
例えばポリビニルピロリドンのような水溶性ポリビニル
化合物及びアクリルアミドポリマーの両方を含む。有用
なその他の合成ポリマー化合物としてはラテックス形態
のような分散ビニル化合物及び特に写真材料の寸法安定
性を増加させるものがある。有効なポリマーとしては水
不溶性ポリマーであるアクリル酸アルキル、メタクリル
酸アルキル、アクリル酸、アクリル酸スルホアルキル及
び硬化又はキュアーを容易にする架橋座をもつものがあ
る。好ましい高分子量物質及び樹脂としてはポリビニル
ブチラール、酢酸酪酸セルロース、ポリメタクリル酸メ
チル、ポリビニルピロリドン、エチルセルロース、ポリ
スチレン、ポリ塩化ビニル、塩素化ゴム、ポリイソブチ
レン、ブタジエン−スチレンコポリマー、塩化ビニル−
酢酸ビニルコポリマー、酢酸ビニルと塩化ビニルとのコ
ポリマー、ポリビニルアルコール及びポリカーボネート
がある。

フォトサーモグラフィック要素は、Research Disclos
ure、1978年６月、第17029項及びResearch Disclosur
e、1978年12月、第17643項に記載されているような、感
度増強化合物、増感色素、硬膜剤、帯電防止層、可塑剤
兼滑剤、塗布助剤、増白剤、吸収及び濾過色素として機
能する現像調整剤を含有することができる。

熱処理可能な要素、特にフォトサーモグラフィック要
素又はサーモグラフィック要素は種々の支持体を含む。
有用な支持体の例としてはポリビニルアセタールフイル
ム、ポリスチレンフイルム、ポリエチレンテレフタレー
トフイルム、ポリカーボネートフイルム及び関連したフ
イルム又は樹脂物質、並びにガラス、紙、金属及び熱処
理温度に耐えることのできるその他の支持体がある。

フォトサーモグラフィック要素又はサーモグラフィッ
ク要素の諸層（保護層を含む）は写真技術で公知の塗布
法（浸漬被覆、エアナイフ塗布、カーテンコーチング又
はホッパーを用いての押出被覆を含む）によって支持体
上に塗布される。所望ならば、２つ以上の層を同時に塗
布する。

分光増感色素は追加の感度を与えるために上記のフォ
トサーモグラフィック要素に有用である。有用な増感色
素は、例えば、Research Disclosure、1978年６月、第1
7029項及びResearch Disclosure、1978年12月、第17643
項に記載されている。

フォトサーモグラフィック要素は好ましくは、像様露
光及び熱処理の前にフォトサーモグラフィック要素を安
定化するのを助けるために熱安定剤を含む。そのような
熱安定剤は保管中のフォトサーモグラフィック要素の安
定性の改良を助ける。好ましい熱安定剤は （ａ）２−ブロモ−２−アリールスルホニルアセトアミ
ド、例えば２−ブロモ−２−ｐ−トリルスルホニルアセ
トアミド、 （ｂ）２−（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾチア
ゾール、及び （ｃ）６−置換−2,4−ビス（トリブロモメチル）−ｓ
−トリアジン、例えば６−メチル又は６−フェニル−2,
4−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン である。

フォトサーモグラフィック要素は、ハロゲン化銀フォ
トサーモグラフィック要素の場合には、種々のエネルギ
ー形態によって像様露光される。そのようなエネルギー
形態は、感光性ハロゲン化銀が感応するものであり、電
磁スペクトルの紫外領域、可視領域及び赤外領域並びに
電子ビーム及びβ線、γ線、ｘ線、α粒子、中性子線、
及び非干渉性（ランダム相）形態又はレーザーによって
作られるような干渉性（同相）形態のいずれかであるそ
の他の形態の微粒子波様輻射エネルギーを包含する。露
光は写真ハロゲン化銀の分光増感に依存して単色、オル
ソ、又はパンクロである。像様露光は好ましくはフォト
サーモグラフィック要素中に現像可能な潜像を作るのに
十分な時間及び強さである。フォトサーモグラフィック
要素の像様露光の後に、その生成潜像は単にその要素を
適度に高い温度に全体的に加熱することによって現像さ
れる。この全体的な加熱はフォトサーモグラフィック要
素を約90〜約150℃の範囲内の温度に、現像された像が
生成されるまで、例えば約0.5〜約60秒の範囲内で加熱
することを伴うに過ぎない。加熱時間を長くするか又は
短くするかによって、所望の画像、フォトサーモグラフ
ィック要素の特定の成分及び加熱手段に依存して上記の
範囲内の一層高いか又は一層低い温度が有用である。好
ましい処理温度は約100〜約130℃の範囲内である。

サーモグラフィック要素の場合には、熱エネルギー源
及び像形成手段は総ての像様熱暴露源及びサーモグラフ
ィック像形成技術で公知の手段であることができる。像
様加熱手段は、例えば、赤外線加熱手段、レーザー、マ
イクロ波加熱手段等であるとができる。

フォトサーモグラフィック技術及びサーモグラフィッ
ク技術で公知の加熱手段は所望の処理温度範囲を提供す
るのに有用である。加熱手段は、例えば、簡単な熱板、
アイロン、ローラー、加熱ドラム、マイクロ波加熱手
段、加熱空気等である。

熱処理は好ましくは周囲の圧力及び湿度条件下で実施
される。所望ならば、通常の大気圧及び湿度以外の条件
も有用である。

その要素の諸成分は所望の画像を提供する要素中のい
ずれかの位置に存在することができる。所望ならば、そ
の要素の１種以上の成分がその要素の１つ以上の層中に
存在する。例えば、ある場合には、その要素のフォトサ
ーモグラフィック層の上の保護層中にある割合の還元
剤、トーナー、安定剤先駆物質及び／又はその他の添加
物を含むことが望ましい。ある場合には、このことはフ
ォトサーモグラフィック要素の諸層中のある種の添加物
の移動を低下させる。

画像形成性組み合わせの諸成分が所望の画像を作るた
めに相互に“関連している”ことが必要である。本明細
書において用語“関連している”は、フォトサーモグラ
フィック要素において感光性ハロゲン化銀及び画像形成
性組み合わせは相互に、所望の処理を可能にしそして有
用な画像を作る位置にあることを意味する。

上記の保護層が有用であるサーモグラフィック要素
は、ポリ珪酸と共存できるいかなるものも含む。そのよ
うなサーモグラフィック要素は、例えば、米国特許第2,
663,657号、第2,910,377号、第3,028,254号、第3,031,3
29号及び第3,080,254号に記載されているものを含む。
有用なサーモグラフィック要素の例は、画像形成技術で
公知の電気的に活性化された記録及びサーモグラフィー
のために設計された物質を含むサーモグラフィック層を
担持する支持体、及び少なくとも50重量％のポリ珪酸を
含む保護層を含んでいる。

本明細書において用語“水溶性”は、90℃で２時間以
内に少なくとも2gの化合物又は組成物が水１に溶解す
ることを意味する。

〔実施例〕

以下の諸実施例は本発明を更に例証する。

実施例１〜３ I.対照の調製 下記の組成をもつ対照フォトサーモグラフィック要素
を調製した：保護層 mg/m²（mg/ft²） 写真ゼラチン 1733.0（161.0） マツト 107.6（10.0） ホルムアルデヒド 45.2（4.2） 界面活性剤（ｐ−イソノニル フェノキシポリグリシドール であるSurfactant 10G、米国のOlin Corp.の登録商標であり、同社から 入手できる） 50.6（4.7） フォトサーモグラフィック層 ベヘン酸銀（Ag） 861.1（80.0） HgBr₂（Hg） 1.1（0.1） AgBr（Ag） 430.6（40.0） NaI 37.7（3.5） スクシンイミドトーナー／現像調整剤 452.1（42.0） 界面活性剤（SF−96、これは ポリシロキサン流体であり、 米国のGeneral Electric Co.から入手 でき、同社の登録商標である） 16.1（1.5） モノブロモ安定剤： 64.6（6.0） ナフチルトリアジン安定剤： 64.6（6.0） ポリビニルブチラール結合剤 （ButvarB−76、米国のMonsanto Co. の登録商標） 4305.6（400.0） 増感色素 5.4（0.5） ベンゼンスルホンアミドフェノール現像主薬： 1076.4（100.0） MIBK溶剤 322.9（30.0） 支持体 0.1mm（４ミル）の青色ポリエチレンテレフタレートフ
イルム 以下の実施例においては保護層の組成のみを特定す
る。実施例全般で用いたフォトサーモグラフィック層の
組成は上記した通りである。

II.ポリ珪酸（PSA）を生成させるためのオルト珪酸テト
ラエチル（TEOS）の加水分解 下記の諸成分を下記の順序で混合した： 蒸留水 144g 1Nのｐ−トルエンスルホン酸 36g エチルアルコール 200g TEOS 208g 10分以内にPSAの透明溶液を得た。

III.ポリビニルアルコール（PVA）の溶液 水中のポリビニルアルコール８重量％の水溶液を調製
した（水中の８重量％のELVANOL52/22、ELVANOL52/22は
米国のE.I.duPont deNemours,Co.の登録商標である）。

IV.下記のPSA/PVA溶液を調製した： V.下記のポリビニルアルコールを用いた： ＊ELVANOLは米国のE.I.duPont deNemours,Co.の登録商
標であり、同社から入手できる。

＊＊VINOLは米国のAir Products＆Chemicals,Inc.の登
録商標であり、同社から入手できる。

VI.下記の解析法を用いた： ａ）保留されたスクシンイミド及びMIBK（４−メチル−
２−ペンタノン）の決定 既知面積の被覆物質をアセトン及び水中で内部標準と
してＮ−メチルスクシンイミドで抽出した。その抽出物
１μを30M、BD−５溶融シリカ細管カラムに注入し
た。確証された標準、保持時間、及び火炎イオン化検知
器は同定及び定量を提供した。

ｂ）保護層亀裂欠陥試験 152.4cm（5ft）のフイルムストリップ又は５個の30.4
8cm（12in）×35mmのフイルムストリップを14gパケット
のリンデモレキュラーシーブ（乾燥剤）と一緒に金属フ
イルム缶中にいれた。そのボックスを密封した後に、そ
のストリップを60℃で４日間温置し、次いでそのサンプ
ルを、保護層の亀裂の存在について肉眼で検査する。ゼ
ラチンから成る保護層を対照として用いる。

ｃ）画像の汚れ フイルムを構成する諸層の示差的熱膨張挙動に起因し
て、端のすぐ近く（１〜4mm）に位置する微小画像特性
は熱処理の間に望ましくない変形を受ける。保護層が画
像の汚れをもたらす傾向についての評価は、フイルムの
端での画像の顕微鏡的評価からなり、その規模を０（汚
れなし）から10₊₊₊（最も悪い汚れ）までの自由栽量単
位で報告する。1.6mmでの３〜５の画像汚れは許容でき
ると考えられる。０に近い画像汚れ値は極めて望まし
い。

ｄ）ベルトマーク 露光したKodak Dacomatic DLフイルムの、又は試験下
の実験物質の標準ストリップを、標準Kodak Komstar Pr
ocessorを用いて熱現像する（Kodak Dacomatic DL、及
びKomstarは米国のEastman Kodak Companyの登録商標で
ある）。フイルムの底面を加熱ドラムと接触させ且つ保
護層を処理の間、処理用織物ベルトと接触したままであ
るようにストリップを通すことが通常のやり方である。
保護層とベルトとの間の接触の結果として生じるいかな
る表面変形も“ベルトマーク”として報告される。

VII.保護層の遮断性に対するPSA/PVA比の影響 上記Ｉで記載したフォトサーモグラフィック要素を、
PSA対PVAの比を０〜1.5の間で変化させたPSA/PVAで被覆
した。その生成要素を保留されたスクシンイミドについ
て分析し（130℃で２分間加熱した原料及びストリッ
プ）、その結果を下記の第１表に表示する： その結果は、部分的に加水分解されたPVA（ELVANOL52
/22）単独はスクシンイミドに対して極めて貧弱な遮断
層であるが、しかしPSAとの混合層として被覆される時
にはPSA/PVAの比が少なくとも1.0であると、満足になる
ことを示している。

実施例４〜9:ポリビリルアルコールの影響 実施例１のＩで記載したフォトサーモグラフィック要
素を下記の第２表で特定した保護層の１つで被覆した。
実施例４〜９においてPSA/PVAの比は1.25であった。130
℃で２分間加熱した原料及び材料を保留されたスクシン
イミドについて分析した。その結果を第２表に表示す
る。

第２表の結果は、ポリビニルアルコールは1.25の比で
被覆されたPSA/PVAと比較してスクシンイミドに対して
貧弱な遮断層であることを示している。PSA/PVA組成物
は、用いたポリビニルアルコールとは無関係に、130℃
での加熱の間にスクシンイミドの損失の点でゼラチン対
照に匹敵する。そのPSA/PVA保護層には望ましくない処
理パターン（ベルトマーク）はない。

実施例10〜12:PSA/PVAの比の影響 実施例１のＩで記載したフォトサーモグラフィック要
素を、種々の量のポリビニルアルコール（Elvanol 71/3
0）を含有するPSA/PVAで被覆した。ゼラチン保護層を対
照として用いた。材料を130℃で２分間加熱した際のス
クシンイミドの損失及び処理パターンの生成度を次の第
３表に表示する： 第３表の結果は、保護層中でのPSAの量が増加するに
つれて遮断性が改良されることを示している。PSA/PVA
の比0.67でのスクシンイミドの損失はゼラチン対照より
もすでに低いが、ベルトマークはその比が1.0よりも上
に増加したときにのみ排除される。

実施例13〜18:保護層の遮断性に対するPSA/水溶性酢酸
セルロース（WSCA）の影響 実施例１のＩで記載したフォトサーモグラフィック要
素を、PSA対WSCAの比を０〜1.25の間で変化させたPSA/W
SCAで被覆した。その生成塗膜を保留されたスクシンイ
ミドについて分析した（130℃で２分間加熱した原料及
びストリップ）。その結果を下記の第４表に表示する： その水溶性酢酸セルロースは16.5％のアセチルを含有
していた。

〔発明の効果〕

本発明においては、少なくとも50重量％のポリ珪酸を
含有する保護層は、熱処理の間の要素中の揮発性成分の
損失を防止するか又は低下させることができ、熱処理の
間の要素の諸層の耐変形性を提供し、画像成分が要素の
１つ以上の層から保護層中に移動するのを低下させるか
又は防止し、保護層が要素の隣接層に満足に接着するの
を可能にし、又望ましくない亀裂及びマーキングのない
保護層を可能にする。このことは上記したように要素中
の改良された画像を可能にする。

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】熱処理可能な画像形成要素であって、熱処
   理中にその要素から放出させられ得る１種もしくはそれ
   以上の揮発性成分を含有する画像形成要素のためのオー
   バーコート層において、前記オーバーコート層が、少な
   くとも50重量％のポリ珪酸を含むことを特徴とする、熱
   処理可能な画像形成要素のためのオーバーコート層。
2. 【請求項２】前記ポリ珪酸との相容性を有している水溶
   性のヒドロキシル基含有ポリマー又はモノマーをさらに
   含むことを特徴とする、特許請求の範囲第１項に記載の
   オーバーコート層。