JP2638334B2 - 露光方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は露光方法に係り, 特に電
子ビーム(EB)露光方法に関する。半導体デバイスの微細
化, 高集積化に伴い, EB露光はウエハ上への直接描画や
マスク・レチクルのパターン形成に必須となってきた。

【０００２】また，デバイスのパターンデータの膨大化
に対応して, ２個のバッファメモリに露光データを交互
に転送してパターン露光を行う方法が採られているが，
一方のバッファメモリへの転送時間が長い場合に同一箇
所にステージが停止しているため，漏れ電子ビームによ
り感光するため対策が要望されている。

【０００３】本発明はこの要望に対応した露光方法とし
て利用することができる。

【０００４】

【従来の技術】図３は従来例を説明する流れ図である。
図において，２個のバッファメモリをＡ，Ｂとする。

【０００５】以下に流れを説明する。１）例えば, 2 mm
角等の単位露光当たりのデータをＡに転送する。２）Ａ
のデータ転送終了を待つ。

【０００６】３）Ｂにデータ転送を開始する。 ４）Ｂにデータを転送中にＡのデータを露光する。 ５）Ｂのデータ転送終了を待つ。

【０００７】６）Ａにデータ転送を開始する。 ７）Ａにデータを転送中にＢのデータを露光する。 ８）Ａのデータ転送終了を待つ。

【０００８】９）Ｂにデータ転送を開始する。 ・・・・・・・・・・９）以下の過程は３）〜８）の過
程の繰り返しである。

【０００９】以上の過程を経て，全パターンの露光を終
了する。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】図１の流れ図におい
て，例えば，５）の過程において，Ｂのデータ転送時間
が長い場合は被露光体を載せたステージは，４）の過程
の露光位置に停止している。この間に，絞りからの漏れ
ビームとレジストとの反応が無視できなくなり，レジス
トが感光して余分なパターンが形成されてしまうことが
あった。

【００１１】電子ビーム露光装置においては，露光しな
いときは電子ビームは一応ブランキングされている（電
子ビームは偏向されて一応絞りより外される）が，長時
間この状態が続くと漏れビームの影響が無視できなくな
る。

【００１２】このことを気付かずに，プロセスを後工程
まで進めるとできあがったデバイスは当然不良となるた
め，原価面でも大きな損失となっていた。本発明は露光
データを２個のバッファメモリに交互に転送して露光す
る方式において，転送待ち時間が長い場合に発生する余
分な感光を防止することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記課題の解決は， １）２個のバッファメモリに露光データを交互に転送し
てパターン露光を行う際に，露光データ転送終了待ちの
状態で，絞りよりの漏れ電子ビームによる余分な感光を
起こさないような所定時間待っても未だ転送中である場
合に，被露光物を載せたステージを該漏れ電子ビームが
該被露光物に直接当たらない退避場所に移動する露光方
法， あるいは２）前記退避場所はビーム電流を測定するため
にステージに設けられた孔である前記１）記載の露光方
法により達成される。

【００１４】

【作用】本発明は，露光データ転送終了待ちの状態で，
一定時間（漏れ電子ビームによる余分な感光を起こさな
い安全な時間）待っても未だ転送中で有る場合に，ステ
ージを電子ビームの影響がでない場所（漏れ電子ビーム
が直接被露光物に当たらない場所）に移動することによ
り，絞りよりの漏れ電子ビームの悪影響を除外したもの
である。

【００１５】電子ビームの影響がでない場所としては,
ステージに設けられた孔が適当である。例えば，ファラ
デイカップによりビーム電流を測定するためにステージ
に設けられた孔を利用する。

【００１６】この場合は漏れ電子ビームがステージに当
たらないためステージからの反射電子ビームの影響が除
かれ一層効果的である。

【００１７】

【実施例】図１は本発明の一実施例を説明する流れ図で
ある。図の流れは，データの転送待ち〔図３の５），
８），・・・・・・〕の次にはいる。

【００１８】次に例えば，図３の５）の過程と６）の過
程の間に入れられた流れについて説明する。５）Ｂのデ
ータ転送終了を待つ。

【００１９】11) 転送中？ Yes: 12) 感光しない安全な時間 (例えば, 100 msec程
度) 待つ。 No: ６）Ａにデータ転送を開始する。

【００２０】13) 転送中？ Yes: 14) ステージを感光しない安全な場所に移動す
る。 No: ６）Ａにデータ転送を開始する。

【００２１】15) 転送中？ Yes: 15) を繰り返す。 No: ６）Ａにデータ転送を開始する。

【００２２】次に, 以上の流れに対応するシステムにつ
いて説明する。図２は実施例に使用したシステムの構成
の一例を示すブロック図である。図において，運用コン
ピュータ21に露光データ（Ｄ）がMT 24 から, また露光
のスケジュール（Ｓ）はディスプレイ入力装置25から入
力され，運用コンピュータ21から露光データおよびスケ
ジュールはそれぞれディスク26および27に出力される。

【００２３】制御コンピュータ22は運用コンピュータ21
と専用インタフェイスで接続され,露光装置23を制御し,
露光装置23の自動運転のプログラムがディスプレイ入
力装置29から入力される。

【００２４】また，制御コンピュータ22で，図１の流れ
図のプログラムが実行される。露光データのディスク26
より, 露光装置23内のバッファメモリＡ，Ｂにデータ圧
縮を解除した実データが入力され，バッファメモリＡ，
Ｂの出力に従ってパターン発生器（ＰＧ）23A で露光す
る。

【００２５】一方，スケジュールのディスク27はコンピ
ュータのOSが用意する転送プログラムによりディスク28
に転送され, ディスク28と制御コンピュータ22との間で
データの授受を行う。

【００２６】

【発明の効果】露光データを２個のバッファメモリに交
互に転送して露光する方式において，転送待ち時間が長
い場合に発生する余分な感光を防止することができた。

【００２７】この結果, 露光工程の歩留が向上した。ま
た, データ待ちしている間に装置のビーム調整を行うこ
とができ, 装置のスループットの向上にも寄与すること
ができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の一実施例を説明する流れ図

【図２】 実施例に使用したシステムの構成の一例を示
すブロック図

【図３】 従来例を説明する流れ図

【符号の説明】

21 運用コンピュータ 22 制御コンピュータ 23 露光装置 23A 露光装置内のパターン発生器 Ａ ，Ｂ 露光装置内のバッファメモリ Ｄ 露光データ Ｓ 露光スケジュール

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ２個のバッファメモリに露光データを交
   互に転送してパターン露光を行う際に，露光データ転送
   終了待ちの状態で，絞りからの漏れ電子ビームによる余
   分な感光を起こさないような所定時間待っても未だ転送
   中である場合に，被露光物を載せたステージを該漏れ電
   子ビームが該被露光物に直接当たらない退避場所に移動
   することを特徴とする露光方法。
2. 【請求項２】 前記退避場所がステージに設けられた孔
   であることを特徴とする請求項１記載の露光方法。