JP2621628B2 - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

Info

Publication number
JP2621628B2
JP2621628B2 JP2269946A JP26994690A JP2621628B2 JP 2621628 B2 JP2621628 B2 JP 2621628B2 JP 2269946 A JP2269946 A JP 2269946A JP 26994690 A JP26994690 A JP 26994690A JP 2621628 B2 JP2621628 B2 JP 2621628B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
output
input
circuit
terminal
external
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2269946A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH04146595A (en
Inventor
毅 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP2269946A priority Critical patent/JP2621628B2/en
Publication of JPH04146595A publication Critical patent/JPH04146595A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2621628B2 publication Critical patent/JP2621628B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体メモリに関し、特に高速動作を実現す
る半導体メモリに関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory, and more particularly, to a semiconductor memory realizing high-speed operation.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、半導体メモリの出力ビット数はその半導体メモ
リと一緒に用いられるマイクロプロセッサーの出力ビッ
ト数に対応して同数のメモリセルを同時に読み出す様に
構成される。この出力ビット数は1ビット、4ビット、
8ビット、16ビットと多種類のものがあるが、一般的に
は8ビットマイコンと対応して8ビット出力のものが多
い。ここでは多ビット出力のうちの1ビットを例にあげ
て説明する。
Conventionally, the number of output bits of a semiconductor memory is configured to simultaneously read the same number of memory cells corresponding to the number of output bits of a microprocessor used together with the semiconductor memory. The number of output bits is 1 bit, 4 bits,
There are many types such as 8-bit and 16-bit, but generally there are many types of 8-bit output corresponding to the 8-bit microcomputer. Here, one bit of the multi-bit output will be described as an example.

第4図は従来の多ビット出力半導体メモリの多ビット
のうちの1ビットの部分を示す回路図である。同図にお
いて半導体メモリは、アドレス入力信号Viを受ける外部
入力端子1と、外部入力端子1にゲートが共通接続され
ソース・ドレイン経路が内部電源線8と内部接地線5と
の間に直列接続されたPチャンネルMOSトランジスタ
(以下PMOSTという)M1とNチャンネルMOSトランジスタ
(以下NMOSTという)M2からなる入力CMOSインバーター
ゲートによって構成される入力回路部と、この入力回路
部の出力端6の出力Vaを入力とし、メモリセルを選択す
るデコーダと複数のメモリセル(ROMセル,EPROMセルま
たはRAMセル)を配列したメモリセルアレイとメモリセ
ルの情報を読み出すセンスアンプ回路とを有する公知の
内容のメモリ部10と、メモリ部10の出力端7にゲートが
共通接続されソース・ドレイン径路が内部電源線8と内
部接地線5との間に直列接続されたPMOST M3およびNMOS
T M4からなるインバータから構成されメモリ部10の出力
すなわちセンスアンプ出力Vbを入力とし外部出力端子2
にデータOiを出力する出力回路部とによって構成され
る。内部電源線8および内部接地線5はそれぞれパッケ
ージのリードフレームの寄生インダクタンスL2およびL1
と寄生抵抗R2およびR1とを介して外部端子4および3に
それぞれ接続される。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a 1-bit portion of a multi-bit of a conventional multi-bit output semiconductor memory. The semiconductor memory in the figure, an external input terminal 1 for receiving an address input signal V i, series connected between the internal ground line 5 the source-drain path connected in common gate and internal power supply line 8 to the external input terminal 1 and P-channel MOS transistor (hereinafter referred to as NMOST) (hereinafter PMOST referred) M 1 and N-channel MOS transistor input circuit portion constituted by the input CMOS inverter gates consisting of M 2, which is the output of the output terminal 6 of the input circuit section as input V a, the memory of the known contents and a sense amplifier circuit for reading decoder and a plurality of selecting a memory cell memory cell (ROM cell, EPROM cells or RAM cell) information of a sequence memory cell array and the memory cell The gate is commonly connected to the output section 7 of the memory section 10 and the memory section 10, and the source / drain path is connected in series between the internal power supply line 8 and the internal ground line 5. The PMOST M 3 and NMOS
An inverter consisting TM 4 receives the output i.e. sense amplifier output V b of the memory portion 10 the external output terminal 2
And an output circuit for outputting data Oi to the output circuit. The internal power line 8 and the internal ground line 5 are connected to the parasitic inductances L 2 and L 1 of the package lead frame, respectively.
Are respectively connected to the external terminals 4 and 3 through the parasitic resistances R 2 and R 1 and.

第4図の半導体メモリの動作を示す第5図のタイミン
グチャートをも参照して第4図の動作を説明する。まず
期間t1において外部入力端子1に加えられるアドレス入
力信号の電圧をTTL入力レベル0.8v(ロウレベル)から
2.2v(ハイレベル)にすると、入力回路部の出力Vaは内
部電源線8の電圧Vcc1の約5V(ハイレベル)から内部接
地線5の電圧Vs1の約0v(ロウレベル)に変化し、メモ
リ部10に加えられて一つのメモリセルを選択する。選択
されたメモリセルのデータが読み出されてセンスアンプ
出力Vbがロウレベル(0V)からハイレベル(5V)に変化
すると想定すると、VbがハイレベルになることによりNM
OS M4がオンしPMOS M3がオフして出力端子2のデータ出
力Oiはハイレベル(H)からロウレベル(L)に変化す
る。この時データ出力端2の容量Cに蓄えられていた電
荷はM4を介して接地線5に放電されるが、接地線5に流
入した電流iはR1およびL1を介して外部接地端子3へ流
れるため電流iによってL di/dtの起電力が発生して内
部接地線5の電位Vs1は0vから1vに上昇する。その結
果、内部接地線5を共有する入力回路のNMOST M2のソー
スは1vに変化し、ゲート入力2.2vとの間の電位差が2.2v
から1.2vに変化し、M2はオフしてしまう。そのため期間
t2において入力回路の出力Vaはロウレベルからハイレベ
ルに変化し、これにより他のメモリセルを選択し読み出
してしまうという誤動作を生じる。その誤読み出しが期
間t3の経過後にデータ出力Oiに出現し、期間t4の間デー
タ出力Oiに影響する。したがって本来期間(t1+t2)で
データ出力Oiはロウレベルを出力するはずであるのに、
t1〜t4の期間を経過してようやくロウレベルを安定出力
することになる。すなわち(t3+t4)の時間だけ出力の
スピードが遅れるという現象が発生する。これを防止す
るために電流iを小さくしようとすると出力回路がハイ
レベルからロウレベルに変化する期間t2が大きくなり、
やはりスピードが遅れてしまう。したがって高速動作を
実現する半導体メモリを開発することは非常に困難であ
った。
The operation of FIG. 4 will be described with reference to the timing chart of FIG. 5 showing the operation of the semiconductor memory of FIG. First, in the period t 1 the voltage of the external input terminal 1 to the applied address input signal from the TTL input level 0.8 v (low)
2.2 v When the (high level), the output V a of the input circuit portion vary from about 0 v (low) voltage V s1 of the internal ground wire 5 to about 5V (high level) of the voltage V cc1 internal power supply line 8 Then, it is applied to the memory unit 10 to select one memory cell. Assuming that the data of the selected memory cell is read and the sense amplifier output Vb changes from the low level (0 V) to the high level (5 V), the Vb goes to the high level and the NM becomes high.
OS M 4 is turned on, PMOS M 3 is turned off, and the data output O i of the output terminal 2 changes from high level (H) to low level (L). Although this time the charge stored in the capacitor C of the data output terminal 2 is discharged to the ground line 5 through M 4, the current i flowing into the grounding line 5 is the external ground terminal via R 1 and L 1 3, the current i generates an electromotive force of L di / dt and the potential V s1 of the internal ground line 5 rises from 0 v to 1 v . As a result, the source of the NMOST M 2 input circuits sharing the internal ground wire 5 is changed to 1 v, the potential difference is 2.2 v between the gate input 2.2 v
From changes to 1.2 v, M 2 would be off. So the period
The output V a of the input circuit in t 2 changes from low level to high level, thereby causing a malfunction that would read select another memory cell. Appear in the data output O i after the lapse the erroneous reading of the period t 3, affecting between data output O i of period t 4. Therefore, although the data output O i should output a low level in the period (t 1 + t 2 ),
becomes stable outputs finally the low level after the lapse of a period of t 1 ~t 4. That is, a phenomenon occurs in which the output speed is delayed by the time of (t 3 + t 4 ). This output circuit attempts to reduce the current i in order to prevent increases the period t 2 which changes from the high level to the low level,
After all the speed is delayed. Therefore, it has been very difficult to develop a semiconductor memory that realizes high-speed operation.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

上述した従来の半導体メモリにおいては高速性を実現
するために出力回路を高速化しようとすると出力回路最
終段のNMOST M4およびPMOST M3のgmを大きくしなければ
ならないが、そうすると充放電時に大きな電流が流れて
内部接地配線や内部電源配線の電位が変動し、これら内
部配線で共通接続している入力回路部に誤動作を起すだ
けでなくセンスアンプ回路やメモリセルの電源または接
地も同様に変動させて誤動作を起こす。したがって高速
化が容易に実現できないという欠点がある。特に最近マ
イクロプロセッサーの多ビット化に伴ってEPROMやマス
クROMは多ビット化が促進している。これにともない充
・放電電流の合計も大きくなり、内部配線上の電源,接
地電位の変動が更に大きくなる。
While in the conventional semiconductor memory described above it is necessary to increase the gm of the NMOST M 4 and PMOST M 3 of the output circuit final stage output circuit attempts to speed up in order to realize a high speed, Then large during charge and discharge Current flows and the potential of the internal ground wiring and internal power supply wiring fluctuates, causing not only malfunction of the input circuit section commonly connected to these internal wirings, but also fluctuation of the power supply or ground of the sense amplifier circuit and memory cell. Cause malfunction. Therefore, there is a disadvantage that high speed cannot be easily realized. In particular, with the recent increase in the number of bits in microprocessors, the number of bits in EPROMs and mask ROMs is increasing. Accordingly, the sum of the charge / discharge currents also increases, and the fluctuations in the power supply and ground potential on the internal wiring further increase.

以上のように高速化を実現するためには出力回路最終
段のトランジスタのgmを大きくしなければならない反面
内部配線の基準電圧にノイズを発生する結果をもたらす
ため、高速で安定な半導体メモリを実現できないという
欠点があった。
As described above, the gm of the transistor in the last stage of the output circuit must be increased in order to realize high speed, but on the other hand, noise is generated in the reference voltage of the internal wiring, and a high-speed and stable semiconductor memory is realized. There was a disadvantage that it could not be done.

したがって本発明の目的は基準電位に発生するノイズ
による悪影響を防止することのできる高速な半導体メモ
リを提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a high-speed semiconductor memory capable of preventing adverse effects due to noise generated at a reference potential.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明の半導体メモリは外部入力端子と、前記外部入
力端子からの入力を受ける入力回路部と、前記入力回路
部の出力を受けメモリセルアレイとセンスアンプとを含
むメモリ部と、前記メモリ部のセンスアンプの出力を受
けて外部出力端子にデータを出力する出力回路部とを有
する半導体メモリにおいて、前記入力回路部と同一の入
力回路構成を有するノイズ検出回路部を設け、前記ノイ
ズ検出回路部の入力回路に入力電圧として一定電圧を加
え、さらに前記ノイズ検出回路部の出力を用いて前記セ
ンスアンプの出力の前記出力回路部への印加を制御する
制御回路を設けたことを特徴とする。
A semiconductor memory according to the present invention includes a memory unit including an external input terminal, an input circuit unit receiving an input from the external input terminal, a memory cell array receiving an output of the input circuit unit, and a sense amplifier. A semiconductor memory having an output circuit receiving an output of an amplifier and outputting data to an external output terminal, wherein a noise detection circuit having the same input circuit configuration as the input circuit is provided; A constant voltage is applied to the circuit as an input voltage, and a control circuit for controlling application of the output of the sense amplifier to the output circuit unit using an output of the noise detection circuit unit is provided.

本発明の一態様においては、入力回路部にインバータ
を有し、ノイズ検出回路部にも同一構成の入力インバー
タを有する。また出力回路部には外部出力端子と電源と
の間および外部出力端子と接地との間にそれぞれ出力ト
ランジスタが設けられ、これら出力トランジスタのゲー
ト電位を制御回路で制御する。
In one embodiment of the present invention, the input circuit portion includes an inverter, and the noise detection circuit portion includes an input inverter having the same configuration. In the output circuit section, output transistors are provided between the external output terminal and the power supply and between the external output terminal and the ground, respectively, and the control circuit controls the gate potential of these output transistors.

〔実施例〕〔Example〕

次に本発明をその実施例について図面を参照して説明
する。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図を参照すると、本発明の実施例によるメモリ回
路の各ビット部の入出力回路は、第4図の従来例と同様
に外部入力端子1に入力ゲートを接続したPMOST M1およ
びNMOST M2によるCMOSインバータからなり出力端6をメ
モリ部10に接続した入力回路と、外部データ出力端子2
に出力端を接続したPMOST M3およびNMOST M4によるCMOS
インバータゲートからなる出力回路と、PMOST M1および
M3のソースに接続し抵抗R2およびインダクタL2を介して
外部Vcc端子4に接続する内部電源線8と、NMOST M2
よびM4のソースに接続し抵抗R1およびインダクタL1を介
して外部接地(Vs)端子3に接続する内部接地配線5と
を有している。本実施例においては、入力回路部のCMOS
ゲートと同一構成のCMOSゲートをトランジスタM5,M6
M7,M8によって形成し、ノイズ検出回路としている。こ
のノイズ検出回路は、一定電圧Vxを印加する端子9にゲ
ートを共通に接続しソース・ドレイン径路を内部電源線
8と内部接地線5との間に直列に接続したPMOST M5およ
びNMOST M6によって第1のCMOSインバータを構成してそ
の出力端61から検出信号VSTを取り出し、ゲートをこの
出力端61に共通に接続しソース・ドレイン径路を内部電
源線8と内部接地線5との間に直列に接続したPMOST M7
およびNMOST M8によって第2のCMOSインバータを構成し
てその出力端62から検出信号STを取り出すものであ
る。第1のCMOSインバータの出力端61はメモリ部10の出
力端7(すなわちセンスアンプの各ビット出力端)とと
もに2入力NORゲート12の入力に接続され、第2のCMOS
インバータの出力端62はセンスアンプの各ビット出力端
7とともに2入力NANDゲート11の入力に接続され、NOR
ゲート12の出力は出力回路部のNMOST M4のゲートにNAND
ゲート11の出力は出力回路部のPMOST M3のゲートにそれ
ぞれ接続されている。すなわち両ゲート11および12は、
メモリ部10の出力Vbの出力回路部への印加をノイズ検出
回路の出力VSTおよびSTを用いて制御する制御回路を
構成している。ノイズ検出回路の入力端子9に印加する
一定電圧VXはNMOST M6が内部接地線5の電位変動によっ
て入力インバータのNMOST M2よりも早く動作するように
外部入力端子1に加わるハイレベル電圧(TTLレベルで
は2.2V)よりも低い電圧とする。たとえば本実施例では
Vxを1.9Vとしている。
Referring to Figure 1, input and output circuits of each bit of the memory circuit according to an embodiment of the present invention, PMOST M 1 and NMOST M connecting the input gate as in the conventional example of FIG. 4 to the external input terminal 1 an input circuit having an output terminal 6 made of CMOS inverters connected to the memory unit 10 by 2, the external data output terminal 2
CMOS by PMOST M 3 and NMOST M 4 and an output end connected to the
Output circuit consisting of inverter gate, PMOST M 1 and
An internal power supply line 8 to be connected to an external V cc terminal 4 via a connected to the source of M 3 resistor R 2 and the inductor L 2, was connected to a source of NMOST M 2 and M 4 resistors R 1 and an inductor L 1 And an internal ground wiring 5 connected to an external ground (V s ) terminal 3 via the external ground (V s ) terminal 3. In this embodiment, the CMOS of the input circuit unit is used.
A CMOS gate having the same configuration as the gate is connected to transistors M 5 , M 6 ,
Formed by M 7, M 8, and the noise detection circuit. The noise detection circuit, PMOST M 5 and NMOST M connected in series between the constant voltage internal power supply line 8 and the internal ground line 5 a source-drain path and a gate connected in common to a terminal 9 for applying a V x 6 , a first CMOS inverter is formed, a detection signal VST is taken out from its output terminal 61, a gate is commonly connected to the output terminal 61, and a source / drain path is connected between the internal power supply line 8 and the internal ground line 5. PMOST M 7 connected in series between
And the NMOST M 8 are those which constitute a second CMOS inverter taking out a detection signal ST from the output terminal 62. The output terminal 61 of the first CMOS inverter is connected to the input terminal of the two-input NOR gate 12 together with the output terminal 7 of the memory unit 10 (that is, each bit output terminal of the sense amplifier).
The output terminal 62 of the inverter is connected to the input of the two-input NAND gate 11 together with each bit output terminal 7 of the sense amplifier.
The output of gate 12 NAND gate of the NMOST M 4 of the output circuit section
The output of gate 11 is connected to the gate of the PMOST M 3 of the output circuit section. That is, both gates 11 and 12
The control circuit controls the application of the output Vb of the memory unit 10 to the output circuit unit using the outputs VST and ST of the noise detection circuit. Constant voltage V X is the high level voltage applied to the external input terminal 1 as NMOST M 6 operates faster than NMOST M 2 input inverter by the potential variation of the internal ground line 5 to be applied to the input terminal 9 of the noise detection circuit ( At TTL level, the voltage is lower than 2.2 V ). For example, in this embodiment,
V x is set to 1.9 V.

第2図を参照して本実施例の半導体メモリの動作を説
明する。まず外部入力端子1へのアドレス信号ViをTTL
レベルの低レベル(0.8V)から高レベル(2.2V)にして
入力CMOSゲートの出力Vaをハイレベル(5v)からロウレ
ベル(L)へ変化させ、メモリ部10内のデコーダによっ
てメモリセルを選択しそのデータをセンスアンプ出力Vb
として読み出す。ここでセンスアンプ出力Vbがハイレベ
ルからロウレベルに変化する時を説明する。Vx=1.9v
設定してあるので、内部接地線5の電位VS1が0vの時ノ
イズ検出信号はVST=0vST=5vになる。したがっ
て、センスアンプ出力Vbのロウレベルへの移行にともな
ってこのVbとロウレベルのVSTとを入力とするNORゲート
12の出力Vn2はロウレベル(0v)からハイレベル(5v
へ変化して出力回路部のNMOST M4をオンにさせる。一
方、VbとハイレベルのSTとを入力とするNANDゲート11
の出力Vn1もロウレベルからハイレベルへ移行して出力P
MOST M3をオフにさせる。したがって出力回路部の外部
出力端子2に得られるデータ出力Oiはハイレベルからロ
ウレベルに変化し始める。この時出力端子2の容量Cに
蓄えられた電荷Q=C×Vccはオンになっている出力NMO
ST M4を介して外部接地端子3に放電されるがその径路
中のR1およびL1に影響されて内部接地線5の電位VS1は0
vから1.0vに浮きあがろうとする。しかしながら入力回
路のNMOST M2がオフして出力Vaがハイレベルになるより
前にノイズ検出回路のNMOST M6がノイズを検出してオフ
となり、その検出信号VSTがハイレベルになってゲート1
2の出力Vn2をロウレベルに変化させる。その結果出力NM
OST M4はオフとなり内部接地線5の電位VS1の浮き上り
を入力回路が誤動作する以前に未然に防止する。これに
よりデータ出力Oiは誤動作を起こさないで安定な動作を
実現できる。内部接地線5の電位VS1が安定すればノイ
ズ検出回路のNMOST M6は再びオンして検出信号VSTをロ
ウレベルに復帰させ、NORゲート12の出力Vn2もハイレベ
ルとなって出力データOiをロウレベルへ落す動作を再開
する。
The operation of the semiconductor memory of this embodiment will be described with reference to FIG. First an address signal V i to the external input terminal 1 TTL
Changing the output V a of the input CMOS gates from the level of the low level (0.8 V) in the high level (2.2 V) from the high level (5 v) to low level (L), the memory cell by a decoder in the memory unit 10 Select the data and output the sense amplifier output V b
Read as Here, the case where the sense amplifier output Vb changes from the high level to the low level will be described. Since it is set to V x = 1.9 v, the potential V S1 of the internal grounding line 5 0 v noise detection signal when the V ST = 0 v, becomes ST = 5 v. Therefore, with the transition to the low level of the sense amplifier output V b NOR gate for receiving the V ST of this V b and the low level
The 12 outputs V n2 are from low level (0 v ) to high level (5 v )
It changes to turn on the NMOST M 4 of the output circuit unit to. On the other hand, a NAND gate 11 that inputs Vb and high-level ST
The output V n1 also changes from the low level to the high level and the output P
To the MOST M 3 off. Thus the data output O i obtained at the external output terminal 2 of the output circuit section starts to change from the high level to the low level. At this time, the charge Q = C × Vcc stored in the capacitor C of the output terminal 2 is equal to the output NMO
Discharged to the external ground terminal 3 via the STM 4 , but the potential V S1 of the internal ground line 5 becomes 0 due to the influence of R 1 and L 1 in the path.
Try to float from v to 1.0 v . However turned off the output V a NMOST M 2 is turned off in the input circuit NMOST M 6 of the noise detection circuit prior to a high level by detecting the noise gate is the detection signal V ST is at the high level 1
Changing the second output V n2 to the low level. The resulting output NM
OST M 4 is prevented prior to malfunction input circuit to the raised potential V S1 of the internal ground line 5 becomes off. Thus, the data output O i is the stable operation can be realized without causing a malfunction. When the potential V S1 of the internal ground line 5 becomes stable, the NMOS M 6 of the noise detection circuit is turned on again to return the detection signal V ST to the low level, and the output V n2 of the NOR gate 12 also becomes the high level, and the output data O The operation of lowering i to the low level is restarted.

第3図は本発明の第2の実施例を示す。本実施例にお
いては入力回路部を2段のインバーター構成として入力
特性を改善し、それに伴ってノイズ検出回路の初段イン
バータも2段としたものである。この結果、誤動作を防
止する効果は更に大きくなる。この実施例ではPMOST M
11,M51およびNMOST M12およびM61を用いて入力回路部
およびノイズ検出回路部の2段目の入力インバータを形
成している。
FIG. 3 shows a second embodiment of the present invention. In this embodiment, the input circuit section has a two-stage inverter configuration to improve the input characteristics, and accordingly, the first-stage inverter of the noise detection circuit has two stages. As a result, the effect of preventing malfunction is further enhanced. In this example, PMOST M
11, using the M 51 and NMOST M 12 and M 61 to form an input inverter of the second stage of the input circuit section and the noise detection circuit unit.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明したように本発明によれば入力回路と同一構
成のノイズ検出回路を設け、その入力電圧を外部入力よ
りも厳しく(低く)設定することにより、入力回路が誤
動作する前にノイズ検出回路を動作させ誤動作を未然に
防ぎ高速動作を実現するという効果がある。
As described above, according to the present invention, the noise detection circuit having the same configuration as the input circuit is provided, and the input voltage is set more strictly (lower) than the external input. This has the effect of preventing malfunction and preventing high-speed operation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の第1の実施例の回路図、第2図は第1
の実施例の回路動作を示す波形図、第3図は本発明の第
2の実施例の回路図、第4図は従来例の回路図、第5図
は従来例の回路動作を示す波形図である。 1……外部入力端子、2……外部出力端子、3……外部
接地端子、4……外部電源端子、5……内部接地線、6
……入力回路の出力端、7……メモリ部の出力端、8…
…内部電源線、9……一定電圧入力端子、10……メモリ
部、11……2入力NAND回路、12……2入力NOR回路。
FIG. 1 is a circuit diagram of a first embodiment of the present invention, and FIG.
3 is a circuit diagram of a second embodiment of the present invention, FIG. 4 is a circuit diagram of a conventional example, and FIG. 5 is a waveform diagram showing a circuit operation of a conventional example. It is. 1 external input terminal, 2 external output terminal, 3 external ground terminal, 4 external power supply terminal, 5 internal ground wire, 6
…… Output terminal of input circuit, 7… Output terminal of memory section, 8…
... internal power supply line, 9 ... constant voltage input terminal, 10 ... memory unit, 11 ... 2-input NAND circuit, 12 ... 2-input NOR circuit.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】外部入力端子と、前記外部入力端子からの
入力を受ける入力回路部と、前記入力回路部の出力を受
けメモリセルアレイとセンスアンプとを含むメモリ部
と、前記メモリ部のセンスアンプの出力を受けて外部出
力端子にデータを出力する出力回路部とを有する半導体
メモリにおいて、前記入力回路部と同一の入力回路構成
を有するノイズ検出回路部を設け、前記ノイズ検出回路
部の入力回路に入力電圧として一定電圧を加え、さらに
前記ノイズ検出回路部の出力を用いて前記センスアンプ
の出力の前記出力回路部への印加を制御する制御回路を
設けたことを特徴とする半導体メモリ。
An input circuit receiving an input from the external input terminal; a memory including an output of the input circuit, a memory cell array and a sense amplifier; and a sense amplifier of the memory. A noise detection circuit having the same input circuit configuration as that of the input circuit, wherein the input circuit of the noise detection circuit has the same input circuit configuration as the input circuit. And a control circuit for controlling application of the output of the sense amplifier to the output circuit unit using an output of the noise detection circuit unit.
JP2269946A 1990-10-08 1990-10-08 Semiconductor memory Expired - Lifetime JP2621628B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2269946A JP2621628B2 (en) 1990-10-08 1990-10-08 Semiconductor memory

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2269946A JP2621628B2 (en) 1990-10-08 1990-10-08 Semiconductor memory

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04146595A JPH04146595A (en) 1992-05-20
JP2621628B2 true JP2621628B2 (en) 1997-06-18

Family

ID=17479411

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2269946A Expired - Lifetime JP2621628B2 (en) 1990-10-08 1990-10-08 Semiconductor memory

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2621628B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100431290B1 (en) * 2001-06-28 2004-05-12 주식회사 하이닉스반도체 Noise detection circuit of semiconductor memory device

Also Published As

Publication number Publication date
JPH04146595A (en) 1992-05-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4899066A (en) OR-type CMOS logic circuit with fast precharging
US4654831A (en) High speed CMOS current sense amplifier
JPH0512890A (en) Semiconductor integrated circuit device and its operating method
US5055713A (en) Output circuit of semiconductor integrated circuit
US4985646A (en) Output buffer circuit of semiconductor integrated circuit
JP2623918B2 (en) Output buffer circuit
JPH0456400B2 (en)
JPH0574161A (en) Integrated circuit memory
JPH0766675B2 (en) Programmable ROM
JP2621628B2 (en) Semiconductor memory
US5654926A (en) Semiconductor memory device
US5475330A (en) Integrated circuit with voltage setting circuit
JPH01211396A (en) Decoder buffer circuit
JP3166740B2 (en) Logic circuit
JPS6027118B2 (en) semiconductor memory device
JPH0512862A (en) Semiconductor integrated circuit device
KR100255542B1 (en) Static semiconductor memory of flip-flop circuit type with driving n-channel transistor
JP3060509B2 (en) Semiconductor device
JP2871902B2 (en) Current cell circuit
JP2822401B2 (en) Bus drive circuit
JPH1140675A (en) Programmable logic array
JP2565913B2 (en) Read-only semiconductor memory
JPH06303123A (en) Semiconductor integrated circuit
JP2626915B2 (en) Output buffer circuit
JPH0311127B2 (en)