JP2616970B2 - Ｍｓ／ｍｓ装置 - Google Patents
Ｍｓ／ｍｓ装置Info
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Description
【発明の詳細な説明】 ４産業上の利用分野］ 本発明は、２台の質量分析装置を縦続接続した所謂MS
/MS装置に関する。
/MS装置に関する。
［従来技術］ MS/MS装置は、複雑な構造を持つ物質の分子構造解析
を行う上で極めて有用な装置である。このMS/MS装置で
は、第１の質量分析装置（MS−１）において特定の質量
を持つイオンのみを選択的に取出し、取出した親イオン
を例えばガス分子と衝突させて解離させ、派生した娘イ
オンを第２の質量分析装置（MS−２）に導入して質量分
析し、娘イオンのマススペクトルを得ている。
を行う上で極めて有用な装置である。このMS/MS装置で
は、第１の質量分析装置（MS−１）において特定の質量
を持つイオンのみを選択的に取出し、取出した親イオン
を例えばガス分子と衝突させて解離させ、派生した娘イ
オンを第２の質量分析装置（MS−２）に導入して質量分
析し、娘イオンのマススペクトルを得ている。
この娘イオンスペクトルの分解能を向上させるために
は、MS−２として二重収束質量分析装置を用いることが
必要であり、現在、円筒電場と扇形磁場を組み合わせた
二重収束質量分析装置をMS−１及びMS−２として使用す
る大型のMS/MS装置が実用化されている。
は、MS−２として二重収束質量分析装置を用いることが
必要であり、現在、円筒電場と扇形磁場を組み合わせた
二重収束質量分析装置をMS−１及びMS−２として使用す
る大型のMS/MS装置が実用化されている。
この実用化されているMS/MS装置では、MS−２として
掃引型の二重収束質量分析装置が用いられている。しか
しながら掃引型の質量分析装置では、イオン検出器が１
つで、検出器に入射していないイオンは全て捨てられる
ため感度の面では不利で、感度が要求される場合には、
乾板等の空間分解能を持つイオン検出器を用いる同時検
出型の質量分析装置をMS−２として使用する方が好まし
い。
掃引型の二重収束質量分析装置が用いられている。しか
しながら掃引型の質量分析装置では、イオン検出器が１
つで、検出器に入射していないイオンは全て捨てられる
ため感度の面では不利で、感度が要求される場合には、
乾板等の空間分解能を持つイオン検出器を用いる同時検
出型の質量分析装置をMS−２として使用する方が好まし
い。
［発明が解決しようとする課題］ ところで、親イオンから派生する娘イオンは、全て親
イオンとほぼ同じ速度v0で飛行すると考えられており、
各娘イオンはその質量ｍに比例したエネルギー（mv0 2/
2）を持つ。
イオンとほぼ同じ速度v0で飛行すると考えられており、
各娘イオンはその質量ｍに比例したエネルギー（mv0 2/
2）を持つ。
従って、MS−２にはその質量に比例した広い範囲にわ
たるエネルギーを持った娘イオンが入射することにな
る。ところが、円筒電場と一様磁場を組み合わせ、空間
分解能を持つイオン検出器を設けた同時検出型二重収束
質量分析装置をMS−２として使用した場合、円筒電場を
通過できる娘イオンは、エネルギーが所定値の±５％程
度（エネルギー幅で10％程度）のものに限られるため、
広いエネルギー範囲（即ち広い質量範囲）の娘イオンを
質量分析することができない。
たるエネルギーを持った娘イオンが入射することにな
る。ところが、円筒電場と一様磁場を組み合わせ、空間
分解能を持つイオン検出器を設けた同時検出型二重収束
質量分析装置をMS−２として使用した場合、円筒電場を
通過できる娘イオンは、エネルギーが所定値の±５％程
度（エネルギー幅で10％程度）のものに限られるため、
広いエネルギー範囲（即ち広い質量範囲）の娘イオンを
質量分析することができない。
以上のような理由により、MS/MS装置において、広い
質量範囲の娘イオンを同時検出型質量分析装置により感
度良く質量分析することは従来不可能であった。
質量範囲の娘イオンを同時検出型質量分析装置により感
度良く質量分析することは従来不可能であった。
本発明は、広い質量範囲の娘イオンスペクトルを感度
良く取得することのできるMS/MS装置を提供することを
目的としている。
良く取得することのできるMS/MS装置を提供することを
目的としている。
［課題を解決するための手段］ 上記目的を達成するため、本発明のMS/MS装置は、イ
オン源と、該イオン源からの被分析イオンが導入される
第１の質量分析系と、該第１の質量分析系を通過したイ
オンが入射するコレクタスリットと、該コレクタスリッ
トを通過したイオンを解離させる手段と、解離により生
成されたイオンが導入される第２の質量分析系と、該第
２の質量分析系を出射したイオンが質量電荷比に応じて
展開収束される収束面に沿って配置される空間分解能を
有するイオン検出器と、前記イオン源で生成されるイオ
ンの運動エネルギーを掃引する第１の掃引手段と、該第
１の掃引手段によるイオンの運動エネルギー掃引にかか
わらず、常に所定の質量電荷比のイオンが前記コレクタ
スリットを通過するように、前記第１の質量分析系を上
記運動エネルギー掃引に関連して掃引する第２の掃引手
段とを備えたことを特徴としている。
オン源と、該イオン源からの被分析イオンが導入される
第１の質量分析系と、該第１の質量分析系を通過したイ
オンが入射するコレクタスリットと、該コレクタスリッ
トを通過したイオンを解離させる手段と、解離により生
成されたイオンが導入される第２の質量分析系と、該第
２の質量分析系を出射したイオンが質量電荷比に応じて
展開収束される収束面に沿って配置される空間分解能を
有するイオン検出器と、前記イオン源で生成されるイオ
ンの運動エネルギーを掃引する第１の掃引手段と、該第
１の掃引手段によるイオンの運動エネルギー掃引にかか
わらず、常に所定の質量電荷比のイオンが前記コレクタ
スリットを通過するように、前記第１の質量分析系を上
記運動エネルギー掃引に関連して掃引する第２の掃引手
段とを備えたことを特徴としている。
［作用］ 本発明のMS/MS装置においては、イオン源におけるイ
オン加速電圧が掃引されるとともに、そのイオン加速電
圧掃引にかかわらず、常に所定の質量電荷比のイオンが
前記コレクタスリットを通過するように、前記第１の質
量分析系がイオン加速電圧掃引に関連して掃引される。
これにより、コレクタスリットを通過し解離手段に入射
する親イオンの質量電荷比は常に一定に保たれ、しか
も、そのエネルギーが掃引される。この様に、質量電荷
比が一定で、エネルギーが変化する親イオンを解離手段
へ導入することにより、第２の質量分析系へ入射する娘
イオンのエネルギーを掃引することができ、この様な娘
イオンを第２の質量分析系により空間分解能を有するイ
オン検出器上へ展開収束すれば、広い質量範囲に渡る娘
イオンスペクトルを取得することができる。
オン加速電圧が掃引されるとともに、そのイオン加速電
圧掃引にかかわらず、常に所定の質量電荷比のイオンが
前記コレクタスリットを通過するように、前記第１の質
量分析系がイオン加速電圧掃引に関連して掃引される。
これにより、コレクタスリットを通過し解離手段に入射
する親イオンの質量電荷比は常に一定に保たれ、しか
も、そのエネルギーが掃引される。この様に、質量電荷
比が一定で、エネルギーが変化する親イオンを解離手段
へ導入することにより、第２の質量分析系へ入射する娘
イオンのエネルギーを掃引することができ、この様な娘
イオンを第２の質量分析系により空間分解能を有するイ
オン検出器上へ展開収束すれば、広い質量範囲に渡る娘
イオンスペクトルを取得することができる。
以下、図面に基づいて本発明の実施例を詳説する。
［実施例］ 第１図は本発明の一実施例を示すイオン光学図であ
る。第１図において第１の質量分析装置MS−１として
は、イオン源１、主スリット２、円筒電場３、扇形磁場
４、コレクタスリット５から構成される通常の掃引型二
重収束質量分析装置が用いられ、その後方に衝突室６及
び第２の質量分析装置MS−２が配置される。MS−２とし
ては、スリット7,円筒電場8,スリット9,扇形磁場10,2次
元イオン検出器11から構成される同時検出型二重収束質
量分析装置が用いられる。12は掃引信号を発生する掃引
回路で、掃引信号は、イオン加速電源13へ送られると共
に、演算回路14を介して電場電源15及び磁場電源16へ供
給される。
る。第１図において第１の質量分析装置MS−１として
は、イオン源１、主スリット２、円筒電場３、扇形磁場
４、コレクタスリット５から構成される通常の掃引型二
重収束質量分析装置が用いられ、その後方に衝突室６及
び第２の質量分析装置MS−２が配置される。MS−２とし
ては、スリット7,円筒電場8,スリット9,扇形磁場10,2次
元イオン検出器11から構成される同時検出型二重収束質
量分析装置が用いられる。12は掃引信号を発生する掃引
回路で、掃引信号は、イオン加速電源13へ送られると共
に、演算回路14を介して電場電源15及び磁場電源16へ供
給される。
上記構成において、イオン源１で生成されイオン加速
電源13から発生するイオン加速電圧により等しいエネル
ギーが与えられたイオンは、円筒電場３及び扇形磁場４
を通過し、この円筒電場３及び扇形磁場４から構成され
る二重収束質量分析系の二重収束点に配置されるコレク
タスリット５上にマススペクトルとして展開収束され
る。磁場強度を変更することによりこのマススペクトル
がコレクタスリット上を移動するため、磁場強度を適宜
選ぶことにより、スペクトル中の所望のイオンがコレク
タスリットを通過するように設定することができる。
電源13から発生するイオン加速電圧により等しいエネル
ギーが与えられたイオンは、円筒電場３及び扇形磁場４
を通過し、この円筒電場３及び扇形磁場４から構成され
る二重収束質量分析系の二重収束点に配置されるコレク
タスリット５上にマススペクトルとして展開収束され
る。磁場強度を変更することによりこのマススペクトル
がコレクタスリット上を移動するため、磁場強度を適宜
選ぶことにより、スペクトル中の所望のイオンがコレク
タスリットを通過するように設定することができる。
このようにしてMS−１で選ばれた特定イオンすなわち
親イオンは、衝突室６へ入射し、衝突室内のガス分子と
衝突する。このガス分子との衝突解離により発生した娘
イオンは、スリット９を介して電場強度及び磁場強度が
一定に保持されるMS−２へ導入され、MS−２の２次元イ
オン検出器11上の、質量に応じて定まった位置へ到達す
る。
親イオンは、衝突室６へ入射し、衝突室内のガス分子と
衝突する。このガス分子との衝突解離により発生した娘
イオンは、スリット９を介して電場強度及び磁場強度が
一定に保持されるMS−２へ導入され、MS−２の２次元イ
オン検出器11上の、質量に応じて定まった位置へ到達す
る。
本発明ではイオン源１におけるイオン加速電圧を掃引
すると共に、そのイオン加速電圧掃引にかかわらず、常
に所定の質量電荷比の親イオンが前記コレクタスリット
５を通過するように、MS−１の質量分析系がイオン加速
電圧掃引に関連して掃引される。このように、所定の質
量電荷比の親イオンが常にコレクタスリット５を通過す
るようにするためのMS−１の電場強度及び磁場強度の条
件について以下に検討する。
すると共に、そのイオン加速電圧掃引にかかわらず、常
に所定の質量電荷比の親イオンが前記コレクタスリット
５を通過するように、MS−１の質量分析系がイオン加速
電圧掃引に関連して掃引される。このように、所定の質
量電荷比の親イオンが常にコレクタスリット５を通過す
るようにするためのMS−１の電場強度及び磁場強度の条
件について以下に検討する。
一般に、二重収束質量分析装置においては、質量m0,
運動エネルギーU0のイオンが中心軌道を通って二重収束
点に達するためには、（１），（２）式が成立すること
が必要であり、MS−１についても当然（１），（２）式
が成立する。
運動エネルギーU0のイオンが中心軌道を通って二重収束
点に達するためには、（１），（２）式が成立すること
が必要であり、MS−１についても当然（１），（２）式
が成立する。
E0＝βU0 ……（１） （１），（２）式においてE0,B0は二重収束質量分析
装置を構成する電場と磁場の強度であり、α，βは装置
固有の定数である。
装置を構成する電場と磁場の強度であり、α，βは装置
固有の定数である。
ここで、イオン加速電圧を変化させることにより、運
動エネルギーをUxに変化させた時も、質量m0の親イオン
が中心軌道を通って二重収束点に達するとすると、その
時の電場及び磁場強度をEx,Bxとすれば、（３），
（４）式が成立する。
動エネルギーをUxに変化させた時も、質量m0の親イオン
が中心軌道を通って二重収束点に達するとすると、その
時の電場及び磁場強度をEx,Bxとすれば、（３），
（４）式が成立する。
Ex＝βUx ……（３） （１）〜（４）式より、α，βを消去すると下式が得
られる。
られる。
Ex＝E0（Ux/U0） ……（５） 従って、予めU0,E0,B0を求めておき、その後イオン加
速電圧を掃引することによりUxを掃引すると同時に、電
場強度Exを（５）式に従って掃引し、且つ磁場強度Bxを
（６）式に従って掃引すれば、イオン加速電圧の掃引に
かかわらず常に所定質量m0の親イオンがコレクタスリッ
ト５を通過することになる。換言すれば、掃引の期間中
常に一定質量m0の親イオンがコレクタスリット５から取
り出されると共に、その質量m0の親イオンの運動エネル
ギーが時間と共に掃引されることになる。
速電圧を掃引することによりUxを掃引すると同時に、電
場強度Exを（５）式に従って掃引し、且つ磁場強度Bxを
（６）式に従って掃引すれば、イオン加速電圧の掃引に
かかわらず常に所定質量m0の親イオンがコレクタスリッ
ト５を通過することになる。換言すれば、掃引の期間中
常に一定質量m0の親イオンがコレクタスリット５から取
り出されると共に、その質量m0の親イオンの運動エネル
ギーが時間と共に掃引されることになる。
実際の掃引は、掃引回路12及び演算回路14によって行
われる。掃引回路12からの鋸歯状掃引信号により、イオ
ン加速電圧が掃引されると、それに対応してイオンの運
動エネルギーUxが鋸歯状に掃引される。演算回路14は、
掃引信号，オペレータから入力された親イオンの質量m0
及び該親イオンについて予め求めてあるE0,B0の値に基
づき、（５），（６）式からEx,Bxを求め、Ex信号を電
場電源15へ送り、Bx信号を磁場電源16へ送る。
われる。掃引回路12からの鋸歯状掃引信号により、イオ
ン加速電圧が掃引されると、それに対応してイオンの運
動エネルギーUxが鋸歯状に掃引される。演算回路14は、
掃引信号，オペレータから入力された親イオンの質量m0
及び該親イオンについて予め求めてあるE0,B0の値に基
づき、（５），（６）式からEx,Bxを求め、Ex信号を電
場電源15へ送り、Bx信号を磁場電源16へ送る。
尚、（５），（６）式を変形すると、下式が得られ
る。
る。
Bx 2/Ex＝B0 2/E0＝一定 ……（７） この（７）式から分るように、イオン加速電圧の掃引
に連動して掃引される電場強度Exと磁場強度Bxの間に
は、Bx 2/Ex＝一定なる関係が維持される。
に連動して掃引される電場強度Exと磁場強度Bxの間に
は、Bx 2/Ex＝一定なる関係が維持される。
以上のような掃引に伴ってコレクタスリット５から取
り出された一定質量m0の親イオンが衝突室６へ入射して
解離し、質量m1及びm2の２種の娘イオンが生成されるも
のとする。この２種のイオンは、親イオンと同じ速度で
飛行を続けるため、それぞれの娘イオンの持つエネルギ
ーU1,U2は下式で表わされるように質量に比例した値と
なり、第２図に示すように、親イオンのエネルギーUxの
掃引につれて掃引される。
り出された一定質量m0の親イオンが衝突室６へ入射して
解離し、質量m1及びm2の２種の娘イオンが生成されるも
のとする。この２種のイオンは、親イオンと同じ速度で
飛行を続けるため、それぞれの娘イオンの持つエネルギ
ーU1,U2は下式で表わされるように質量に比例した値と
なり、第２図に示すように、親イオンのエネルギーUxの
掃引につれて掃引される。
U1＝（m1/m0）Ux ……（７） U2＝（m2/m0）Ux ……（８） このようにして生成された２種の娘イオン及び解離し
なかった親イオンは、スリット７を通過してMS−２へ導
入される。MS−２の電場８の強度は、例えばエネルギー
U0のイオンが該電場の中心軌道を通るような値に固定さ
れているため、そのU2±５％の範囲のイオンだけが該電
場８及びスリット９を通過することができる。第２図に
おいて斜線を施したエネルギー範囲がその通過許容範囲
であり、Ux,U1,U2がその範囲を通過する期間t0,t1,t2の
み、それぞれのイオンが電場８及びスリット９を通過し
て磁場10へ入射する。この磁場10の強度も一定値に固定
されており、期間t0に磁場10へ入射した質量m0の親イオ
ンは、第３図に示すように、磁場10によってその質量に
応じた偏向を受け、イオン検出器11上の質量によって決
まった位置Ｐ（m0）（例えばイオン検出器11の右端）へ
到達する。また、期間t1に磁場10へ入射した質量m1の娘
イオンは、同様にイオン検出器11上の位置Ｐ（m1）へ到
達し、期間t2に磁場10へ入射した質量m2の娘イオンは、
同様にイオン検出器11上に位置Ｐ（m2）へ到達する。イ
オン検出器11として例えば写真乾板が使用されていると
すれば、掃引終了時点では、乾板には質量m0の親イオン
から始まるマススペクトルが記録されている。このスペ
クトルは、電場を通過したあるエネルギー幅のイオンを
同時にとらえており、掃引がそのエネルギー幅進む期間
にわたり積分されるため、空間分解能を持たない単一の
イオン検出器を用いる通常の掃引型質量分析装置をMS−
２として使用する場合に比べ桁違いに感度の向上したも
のとなる。
なかった親イオンは、スリット７を通過してMS−２へ導
入される。MS−２の電場８の強度は、例えばエネルギー
U0のイオンが該電場の中心軌道を通るような値に固定さ
れているため、そのU2±５％の範囲のイオンだけが該電
場８及びスリット９を通過することができる。第２図に
おいて斜線を施したエネルギー範囲がその通過許容範囲
であり、Ux,U1,U2がその範囲を通過する期間t0,t1,t2の
み、それぞれのイオンが電場８及びスリット９を通過し
て磁場10へ入射する。この磁場10の強度も一定値に固定
されており、期間t0に磁場10へ入射した質量m0の親イオ
ンは、第３図に示すように、磁場10によってその質量に
応じた偏向を受け、イオン検出器11上の質量によって決
まった位置Ｐ（m0）（例えばイオン検出器11の右端）へ
到達する。また、期間t1に磁場10へ入射した質量m1の娘
イオンは、同様にイオン検出器11上の位置Ｐ（m1）へ到
達し、期間t2に磁場10へ入射した質量m2の娘イオンは、
同様にイオン検出器11上に位置Ｐ（m2）へ到達する。イ
オン検出器11として例えば写真乾板が使用されていると
すれば、掃引終了時点では、乾板には質量m0の親イオン
から始まるマススペクトルが記録されている。このスペ
クトルは、電場を通過したあるエネルギー幅のイオンを
同時にとらえており、掃引がそのエネルギー幅進む期間
にわたり積分されるため、空間分解能を持たない単一の
イオン検出器を用いる通常の掃引型質量分析装置をMS−
２として使用する場合に比べ桁違いに感度の向上したも
のとなる。
また、空間分解能をもつイオン検出器を用いるが掃引
は行わない従来の同時検出型質量分析装置をMS−２とし
て使用する場合に比べ、広い質量範囲にわたる娘イオン
スペクトルを得ることが可能である。
は行わない従来の同時検出型質量分析装置をMS−２とし
て使用する場合に比べ、広い質量範囲にわたる娘イオン
スペクトルを得ることが可能である。
なお、本発明は上述した実施例に限定されることなく
幾多の変形が可能である。例えば、イオン検出器とし
て、乾板ではなく、半導体技術により微小検出器を数多
く並べた２次元検出器を用いれば、電気的な検出が可能
となる。その場合には、各微小検出器毎にその出力を電
気的に積分あるいは積算する手段を設ける必要がある。
幾多の変形が可能である。例えば、イオン検出器とし
て、乾板ではなく、半導体技術により微小検出器を数多
く並べた２次元検出器を用いれば、電気的な検出が可能
となる。その場合には、各微小検出器毎にその出力を電
気的に積分あるいは積算する手段を設ける必要がある。
また、上記実施例ではMS−１として電場と磁場を備え
た二重収束質量分析装置を使用したが、必ずしもその必
要はなく、例えば磁場のみを備えた単収束の質量分析装
置をMS−１として使用することもできる。その場合で
も、（５）式に基づく電場の掃引がなくなるだけで、MS
−１の磁場強度Bxを（６）式に基づいて掃引することに
変わりはない。
た二重収束質量分析装置を使用したが、必ずしもその必
要はなく、例えば磁場のみを備えた単収束の質量分析装
置をMS−１として使用することもできる。その場合で
も、（５）式に基づく電場の掃引がなくなるだけで、MS
−１の磁場強度Bxを（６）式に基づいて掃引することに
変わりはない。
さらに、MS−２として用いる同時検出型質量分析装置
としては、例えばMattauch Herzog型質量分析装置も採
用でき、そうすれば、更に広い質量範囲にわたる娘イオ
ンスペクトルを取得することが可能である。
としては、例えばMattauch Herzog型質量分析装置も採
用でき、そうすれば、更に広い質量範囲にわたる娘イオ
ンスペクトルを取得することが可能である。
［効果］ 以上詳述した如く、本発明によれば、空間分解能を有
するイオン検出器を備えた同時検出型質量分析装置をMS
−２として用いたMS/MS装置において、イオン源で生成
されるイオンの運動エネルギーを掃引すると共に、その
掃引にかかわらずMS−１で常に一定質量のイオンが選択
されるようにMS−１の質量分析場を掃引することによ
り、MS−１で一定質量の親イオンを選択し且つその運動
エネルギーを掃引するようにしたため、広い質量範囲に
わたる娘イオンスペクトルを高い感度で取得することの
できるMS/MS装置が実現される。
するイオン検出器を備えた同時検出型質量分析装置をMS
−２として用いたMS/MS装置において、イオン源で生成
されるイオンの運動エネルギーを掃引すると共に、その
掃引にかかわらずMS−１で常に一定質量のイオンが選択
されるようにMS−１の質量分析場を掃引することによ
り、MS−１で一定質量の親イオンを選択し且つその運動
エネルギーを掃引するようにしたため、広い質量範囲に
わたる娘イオンスペクトルを高い感度で取得することの
できるMS/MS装置が実現される。
第１図は本発明の一実施例を示すイオン光学図であり、
第２図および第３図はその動作を説明するための図であ
る。 1:イオン源、2:主スリット 3,8:円筒電場、4,10:扇形磁場 5:コレクタスリット、6:衝突室 11:2次元イオン検出器 12:掃引回路、13:イオン加速電源 14:演算回路、15:電場電源 16:磁場電源
第２図および第３図はその動作を説明するための図であ
る。 1:イオン源、2:主スリット 3,8:円筒電場、4,10:扇形磁場 5:コレクタスリット、6:衝突室 11:2次元イオン検出器 12:掃引回路、13:イオン加速電源 14:演算回路、15:電場電源 16:磁場電源
Claims (4)
- 【請求項１】イオン源と、該イオン源からの被分析イオ
ンが導入される第１の質量分析系と、該第１の質量分析
系を通過したイオンが入射するコレクタスリットと、該
コレクタスリットを通過したイオンを解離させる手段
と、解離により生成されたイオンが導入される第２の質
量分析系と、該第２の質量分析系を出射したイオンが質
量電荷比に応じて展開収束される収束面に沿って配置さ
れる空間分解能を有するイオン検出器と、前記イオン源
で生成されるイオンの運動エネルギーを掃引する第１の
掃引手段と、該第１の掃引手段によるイオンの運動エネ
ルギー掃引にかかわらず、常に所定の質量電荷比のイオ
ンが前記コレクタスリットを通過するように、前記第１
の質量分析系を上記運動エネルギー掃引に関連して掃引
する第２の掃引手段とを備えたことを特徴とするMS/MS
装置。 - 【請求項２】前記第１の質量分析系は電場と磁場を備え
た二重収束質量分析系で、前記第２の掃引手段は、該二
重収束質量分析系を構成する磁場の強度Ｂと電場の強度
Ｅを、前記第１の掃引手段による掃引に関連してB2/E比
を一定値に保持しつつ同時に掃引することを特徴とする
請求項１記載のMS/MS装置。 - 【請求項３】前記第１の質量分析系は電場と磁場を備え
た二重収束質量分析系で、前記第２の掃引手段は、該二
重収束質量分析系を構成する磁場の強度Ｂと電場の強度
Ｅを、前記第１の掃引手段によるイオンの運動エネルギ
ーＵの掃引に関連して次式にしたがって同時に掃引する
ことを特徴とする請求項１記載のMS/MS装置。 Ｅ＝K1U （K1は定数） - 【請求項４】前記第１の質量分析系は磁場を備えた単収
束質量分析系で、前記第２の掃引手段は、該単収束質量
分析系を構成する磁場の強度Ｂを、前記第１の掃引手段
によるイオンの運動エネルギーＵの掃引に関連して次式
に従って掃引することを特徴とする請求項１記載のMS/M
S装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63176692A JP2616970B2 (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | Ｍｓ／ｍｓ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63176692A JP2616970B2 (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | Ｍｓ／ｍｓ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0227650A JPH0227650A (ja) | 1990-01-30 |
| JP2616970B2 true JP2616970B2 (ja) | 1997-06-04 |
Family
ID=16018068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63176692A Expired - Fee Related JP2616970B2 (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | Ｍｓ／ｍｓ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2616970B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5688250A (en) * | 1979-12-20 | 1981-07-17 | Jeol Ltd | Mass spectrograph |
| JPS5946550A (ja) * | 1982-09-09 | 1984-03-15 | Jeol Ltd | 質量分析装置 |
-
1988
- 1988-07-15 JP JP63176692A patent/JP2616970B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0227650A (ja) | 1990-01-30 |
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