JP2613080B2

JP2613080B2 - 画像拡大装置及び方法

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Publication number: JP2613080B2
Application number: JP63084055A
Authority: JP
Inventors: 佳之岡田
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1988-04-07
Filing date: 1988-04-07
Publication date: 1997-05-21
Anticipated expiration: 2012-05-21
Also published as: JPH01256869A

Description

【発明の詳細な説明】〔目次〕概要産業上の利用分野技術の背景（第13,14図）従来の技術（第22図）発明が解決しようとする課題（第16図）課題を解決するための手段（第1,2図）作用（第1,2図）実施例第一の実施例（第３〜12,15図）第二の実施例（第17〜21図）発明の効果〔概要〕被変換画素が配列された平面上に、希望する変換倍率
に応じて投影法により定まる分割領域を設定し、当該平
面上に投影された変換画素が位置する分割領域に対応す
る論理式に従って近傍被変換画素の濃度から変換画素の
濃度を求める画像拡大装置及び方法に関し、画像の拡大により生じる斜線の階段状を目立たせない
ようにする画像拡大装置及び方法を提供することを目的
とし、変換画素の近傍に位置する所定の被変換画素群の濃度
データを順次入力する被変換画素入力手段と、当該濃度
データにより形成される所定の斜線パターン及び該傾斜
角度を検知する斜線パターン検知手段と、該パターン及
び該角度に基づいて対応する分割領域に分割し前記変換
倍率に基づいて前記変換画素が位置する分割領域を判定
する領域分割判定手段と、判定された分割領域及び前記
濃度データに基づいて変換画素の濃度を算出する変換画
素濃度算出手段とを有する構成である。

〔産業上の利用分野〕

本発明はG3からG4ファクシミリ等の低密度から高密度
への画素密度変換または画像編集における画像拡大装置
及び方法に係り、特に被変換画素が配列された平面上に、希望する変換
倍率に応じて投影法により定まる分割領域を設定し、当
該平面上に投影された変換画素が位置する分割領域に対
応する論理式に従って近傍被変換画素の濃度から変換画
素の濃度を求める画像拡大装置及び方法に関する。

〔技術の背景〕

従来、画像の拡大を行う場合にSPC（Selective Proce
ssing Conversion）法、論理和法、九分割法、高速投影
法（特開S58−97958画像電子学会誌第11巻、第２号、
72−83（1982））等が提案されており、いずれも最近傍
の４画素及び隣接被変換画素から変換画素の濃度を決め
る方法である。

SPC法では、拡大倍率が大きい程斜線の凹凸が目立つ
傾向がある。

また論理和法、九分割法では逆に画像が太り、黒画像
による潰れが増える欠点を持っている。

一方、高速投影法は拡大時の潰れが少なく、斜線の適
応平滑化を行う事で斜線の凹凸も少ない。

高速投影法とは変換画素の濃度を決定する際の算術演
算を論理演算に替えて高速処理を実現したものである。
高速投影法は第14図に示すように、被変換画像の平面内
に変換倍率に応じた分割領域を設定し、当該分割領域内
に被変換画素から変換画素の濃度を決定するための論理
式を予め用意し、当該変換画素が位置する前記分割領域
に割り当てられた論理式に基づいて変換画素の濃度を決
定するものである。

第13図に一般的な投影法の原理、表１に高速投影法の
分割領域及び論理式を示す。

第13図に示すように、先ず近傍４画素A,B,C,Dを含む
被変換画像面を４等分する。近傍４画素の画素濃度を
I_A,I_B,I_C,I_Dとし、変換画素Ｒを被変換画素面に投影し
た際に前記４等分した各分割領域に投影される面積比率
をW_A,W_B,W_C,W_Dとする。

投影法では変換画素Ｒの濃度をI_R＝ΣI_i＊W_i（ｉ＝A,
B,C,D）として二値化するので、 I_R≧0.5→I_R＝１（黒）、I_R＜0.5→I_R＝０（白）のよ
うになる。

尚、第13図中のp,qはＸ軸、Ｙ軸方向の変換縮小倍率
である。

しかし、一般に投影法では変換画素Ｒの濃度を高める
のに算術演算が必要なため、高速処理ができない。高速
投影法は、その算術演算を論理演算に置き換えて高速化
を図ったものである。

第14図中の直線は４画素の中の１画素のみで変換画素
Ｒの濃度が決定できる境界を示している。

例えば、G₃とG₇とを分ける曲線は次式で与えられる。

px＋qy＝0.5 尚、この直線は拡大時の斜線平滑化を行う為の式で、
前記直線式でのp,qは共に１で一定とする。p,q＝１にす
る理由は、変換倍率に応じて前記直線式を決めた場合、
１画素で変換画素の濃度を決める領域が増え、結果的に
はSPC法と変らず、斜線の平滑化にならない為である。

〔従来の技術〕

従来、以上の投影法を用いて画像の拡大を行う場合に
は、第22図に示すように投影により変換画素の近傍に位
置する被変換画素群Ａ〜Ｌの各濃度データを順次入力す
る被変換画素入力手段241と、希望する変換倍率に基づ
いて変換画素がどの分割領域に属するかを判定する分割
領域判定手段234と、被変換画素入力手段241が入力した
前記被変換画素群の濃度データ及び各変換画素が属する
分割領域に基づいて変換画素の濃度を算出する変換画素
濃度算出手段244とを有する画像拡大装置を用いて画像
の拡大を行っていた。

投影法の論理式は、前述した表１に示すように領域G₁
〜G₄では１画素のみ、領域G₅〜G₈では他の３画素との結
合及びその周辺２画素から斜線と直角部分とを区別する
適応平滑化を考慮した論理式となっている。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで、従来の画像拡大装置にあっては、拡大時に
おいて、被変換画像中の斜線パターンの角度が45度の場
合のみ良好であって、パターンの角度が他の場合、斜線
平滑化が不自然な形となる。

例えば、第16図に示したような３つの斜線パターンを
従来の高速投影法で３倍に拡大した場合を考える。

第16図の斜線パターン（ａ）では角度が45度なので全
体に斜線平滑化が行われている。

しかし、斜線パターン（ｂ），（ｃ）では階段状の部
分のみ斜線平滑化が行われ、全体的に平滑化が行われな
いという問題点を有していた。

また、変換倍率が大きくなる程、斜線の階段状が目立
つ傾向があるという問題点があった。

そこで、本発明は以上の問題点を解決することを技術
的課題とするものであり、斜線の階段状を目立たせない
よう自然な斜線平滑化がなされるように拡大を行うこと
ができる画像拡大装置及び方法を提供することを目的と
してなされたものである。

〔課題を解決するための手段〕以上の技術的課題を解決するため第一の発明は、第１
図に示すように、被変換画素が配列された平面上に、希
望する変換倍率に応じて投影法により定まる分割領域を
設定し、当該平面上に投影された変換画素が位置する分
割領域に対応する論理式に従って近傍被変換画素の濃度
から各変換画素の濃度を決定する画像拡大装置におい
て、変換画素の近傍に位置する所定の被変換画素群の濃
度データを順次入力する被変換画素入力手段１と、前記
変換倍率に基づいて定まる前記平面上における前記変換
画素が位置する所定の区分領域を指定する区分領域指定
手段35と、指定された当該領域に基づいて前記被変換画
素群の濃度データにより形成される所定の傾斜角度を有
する斜線パターン及びその傾斜角度を検知する斜線パタ
ーン検知手段32と、少なくとも当該斜線パターン及び傾
斜角度に基づいて対応する分割領域に分割するととも
に、前記変換倍率に基づいて前記変換画素が位置する分
割領域を判定する領域分割判定手段33と、判定された当
該分割領域及び前記被変換画素の濃度データに基づいて
変換画素の濃度を算出する変換画素濃度算出手段４とを
有するものである。

一方、第二の発明は、第２図に示すように、被変換画
素が配列された平面上に、希望する変換倍率に応じて投
影法により定まる分割領域を設定し、当該平面上に投影
された変換画素が位置する分割領域に対応する論理式に
従って近傍被変換画素の濃度から変換画素の濃度を決定
する画素拡大方法において、前記変換画素の近傍に位置
する所定の被変換画素群の濃度データを順次入力する過
程（S1）と、前記変換倍率に基づいて定まる前記平面上
における前記変換画素が位置する所定の区分領域を指定
する過程（S32）と、当該区分領域に基づいて当該被変
換画素群の濃度データにより形成される所定の傾斜角度
を有する斜線パターン及びその傾斜角度を検知する過程
（S33）と、少なくとも当該斜線パターン及び傾斜角度
に基づいて分割領域に分割するとともに、前記変換倍率
に基づいて前記変換画素が位置する当該分割領域の判定
を行う過程（S34）と、判定された当該分割領域及び前
記被変換画素の濃度データに基づいて前記変換画素の濃
度を算出する過程（S4）とを有するものである。

〔作用〕

本発明（第一及び第二の発明）の作用を説明する。

本発明により画像の拡大を行う場合には、現時点で濃
度を定めようとする対象である変換画素に対して、ステ
ップS1において投影により当該変換画素の近傍に位置す
る所定の被変換画素群の濃度データを順次被変換画素入
力手段１により入力する。

ここで、「所定の」とは当該変換画素の濃度を定める
際に影響を与える被変換画素群であって、例えば被変換
画素平面上に投影した場合に当該変換画素から一定の距
離内にある被変換画素である。

ステップS32で斜線パターン及び傾斜角度を検知する
際に前記変換倍率に基づいて前記区分領域指定手段35が
前記平面上における前記変換画素が位置する所定の区分
領域を指定し、ステップS33で前記斜線パターン検知手
段32により指定された当該領域に基づいて前被変換画素
群の濃度データにより形成される所定の傾斜角度を有す
る斜線パターン及びその傾斜角度を検知し、ステップS3
4で当該斜線パターン及び傾斜角度に基づいて前記領域
分割判定手段33は分割領域への分割及び変換画素が位置
する分割領域の判定を行っている。

これは指定により限定された前記区分領域について斜
線パターンを検知する方が広い領域内から斜線パターン
を検知する場合に比較してより少ない被変換画素数を参
照すれば足りるからである。

ステップS4において前記変換画素算出手段４は当該分
割領域及び変換画素の近傍に位置する被変換画素群の濃
度データに基づいて対応する論理式により現時点の変換
画素の濃度の算出を行う。以上の手順は各変換画素毎に
順次繰り返される。

〔実施例〕

続いて、本発明の第一及び第二の実施例について説明
する。

＜第一の実施例＞第一及び第二の発明に係る第一の実施例の画像拡大装
置として第３図に示すものがある。

本装置は被変換画素平面内に現時点の変換画素を投影
させた場合に当該変換画素の近傍に位置する被変換画素
群の濃度データを順次入力する被変換画素入力手段１と
してのシフトレジスタ11a,11b,11c,11dと、斜線パター
ン及び当該傾斜角度を検知するための斜線パターン検知
手段２としての斜線パターン検知用論理回路12と、前記
斜線パターン検知用論理回路12から出力された斜線パタ
ーン及び傾斜角度に基づいて分割領域を決定し、かつ希
望する変換倍率（ｘ軸変換倍率p,y軸変換倍率ｑ）に基
づいて前記変換画素が位置する分割領域の判定を行うと
ともに前記被変換画素入力手段11に対する制御を行う制
御部13と、前記被変換画素入力手段11から入力した被変
換画素群としての濃度データ及び前記制御部13により判
定された分割領域に基づいて変換画素の濃度を算出する
変換画素濃度算出手段４としての変換画素濃度決定用論
理回路14とを有する。

前記シフトレジスタ11a,11b,11c,11dは各々1,2,3,4ラ
イン目毎に現時点の変換画素の近傍に位置する被変換画
素を入力保持及び移動するものであり、第11図に示すよ
うに参照する各格子点に位置する被変換画素Ａ〜Ｐの16
画素を各ライン毎に（M,L,K,P）、（E,A,D,J）、（F,B,
C,I）、（N,C,H,O）の被変換画素を入力保持する。

前記斜線パターン検知用論理回路12は現時点の変換画
素の近傍に位置する被変換画素群Ａ〜Ｐの16個の濃度デ
ータの配列のパターンが第10図に示したP1〜P8（No.1〜
No.8）のどの斜線パターンであるかを判定して当該斜線
パターンを前記制御部13に通知するものである。

ここで、第10図は傾斜角度がtanθ＝2,tanθ＝1,tan
θ＝0.5の傾斜角度に対応した斜線パターンについて示
したものであり、参照する被変換画素別にP1〜P8に分け
られており、P1〜P4は階段状の部分であり、P5〜P8は斜
線の延長線上とみなされる直線部分のパターンであり、
P1〜P8の各パターンの内訳は以下の通りである。

P1〜P4:No.1,5 :tanθ＝１の斜線パターン No.2,6 :tanθ＝２の斜線パターン No.3,7 :tanθ＝0.5の斜線パターン No.4,8 :直角部分の斜線パターン P5,P6 :No.1〜4:tanθ＝２の斜線延長線上の直線パター
ン P7,P8 :No.1〜4:tanθ＝0.5の斜線延長線上の直線パタ
ーン前記制御部13は当該斜線パターン及び当該斜線パター
ンに対応する傾斜角度に基づいて対応する分割領域を分
割する境界線を演算して確定し、前記変換倍率に基づい
て定められる各変換画素が位置する分割領域G₁〜G₁₂を
特定して前記変換画素濃度決定用論理回路14に送出する
ものである。

ここで、傾斜角度をθとした場合の分割領域を定める
境界線は以下のように定める。

tanθ＞1:tanθ＊ｘ＋ｙ＝tanθ/2（ｘ＞0,y＞０の場
合） tanθ≦1:x＋y/tanθ＝1/2tanθ （ｘ＞0,y＞０の場
合）他の象限についても同様にして決定される。

第4,5図に，の境界線により決定される分割領域
の例を示す。第６図にはtanθ＝１即ち、θ＝45゜及び
斜線以外のパターンに対する分割領域を示すもので従来
の分割領域の場合と同一である。

尚、第4,5図の（ａ）には斜線の階段状になっている
部分での分割領域、同図（ｂ）は階段状における当該斜
線の延長線上にある直線パターンに対応する分割領域で
ある。尚、分割領域（ｂ）のG₉〜G₁₂については斜線パ
ターン一つに対して領域一つが対応し、他の領域は無視
される。例えば第４図（ｂ）において斜線パターンと領
域G₉の分割領域だけが有効で、他のG₁₀〜G₁₂の分割領域
は各々G₂〜G₄の分割領域と同じとする。

また、本制御部13は前記変換倍率に基づいて定まる各
変換画素の位置に基づいて、現時点の変換画素が位置す
る当該分割領域の特定を行い前記変換画素濃度決定論理
回路14に送出するものである。

以下、本実施例の動作について説明する。

当該装置により原画像の３倍の像の拡大を行う場合に
は、所定の変換画素に対して、投影により当該変換画素
の近傍に属する被変換画素群、すなわち、当該被変換画
素を囲む被変換画素群を順次前記被変換画素入力手段11
に入力させる。

当該入力手段11が有する各シフトレジスタ11a,b,c,d
には各々、第11図に示した当該変換画素（Ｘ印で表示）
の近傍にある被変換画素Ａ〜Ｐが各ライン毎に順次入力
して、当該レジスタ11a,b,c,dに前記制御部13からの指
令により移動する。

当該各画素は前記斜線パターン検知用論理回路12に入
力し、当該被変換画素について前記斜線パターンとの対
応がとられることになる。

例えば第15図（ｃ）の左側に示すような被変換画素の
配列があった場合に、３倍に拡大をする場合を考える。

第12図に示すように被変換画像上に投影された変換画
素（α）を囲む４個の被変換画素A,B,C,Dについては濃
度について階段状であるので第10図に示した斜線パター
ンP1〜P8のうちP4のNo.3に対応する。

ところで、P4のNo.3は前述したように傾斜角度θはta
nθ＝0.5に対応する。

当該情報は７ビットの信号により前記制御部13に送出
される。

また、第12図に示すように変換画素（β）については
同様にして当該画素を囲む４個の被変換画素A,B,C,Dに
ついては濃度について階段状であるので第10図に示した
斜線パターンP1〜P8のうちP2のNo.7に対応し、傾斜角度
は前述したようにθはtan＝0.5に対応する。

当該情報は７ビットの信号により前記制御部13に送出
されることになる。

制御部13は当該信号を受けると前述した式に基づ
いて定まる境界線により分割することになる。

尚、第7,8,9図に各傾斜角度θが各々tanθ＝２の場
合、tanθ＝0.5の場合、tanθ＝１の場合に相当する分
割領域を示す。

尚、各図に表された分割領域の境界となる直線は次の
通りである。

第７図（ａ）の場合:2x＋ｙ＝１（ｘ＞0,y＞0:G3,G7の
境界）第７図（ｂ）の場合:2x−ｙ＝０（ｘ＞0,y＞0:G3,G11の
境界）第８図（ａ）の場合:x＋2y＝１（ｘ＞0,y＞0:G3,G7の境
界）第８図（ｂ）の場合:x−2y＝０（ｘ＞0,y＞0:G3,G11の
境界）第９図の場合:x＋ｙ＝0.5（ｘ＞0,y＞0:G3,G7の境界）制御部13はこうして得られた分割領域の中から前記変
換画素が位置する分割領域が領域判定される。例えば第
12図に示した変換画素αに対しては前記斜線パターン検
知用論理回路12により傾斜角度はtan＝0.5であり第８図
の分割領域が対応することになり、当該変換画素αは階
段状の部分に相当する斜線パターンを有するから第８図
の（ａ）に相当する分割領域が対応することになる。

こうして、各変換画素に対して分割領域が対応付けら
れ制御部13から前記変換画素濃度決定用論理回路14に送
出されることになる。

当該変換画素濃度決定用論理回路14は判定された当該
分割領域及び前記被変換画素入力手段11より入力した前
記被変換画素の濃度データに基づいて対応する論理式に
より変換画素の濃度が決定されることになる。

ここで、対応する論理式は表２に各分割領域毎に記載
されている。

同様にして次の変換画素について前述した手順を繰り
返すことになる。

本実施例に係る装置を使用することにより、例えば、第15図に示すように左側に示した被変換画素
は右側に示した変換画素を得ることができる。

＜第二の実施例＞続いて、第一及び第二の発明に係る第二の実施例につ
いて説明する。

本実施例は第一の実施例と異なり、斜線パターン及び
傾斜角度の検知を行う際に、現時点の変換画素の近傍に
位置する４個の被変換画素で形成される格子上を４等分
した四等区分領域に区分し、変換画素が位置する当該四
等区分領域を指定して前記被変換画素群より斜線パター
ン及び傾斜角度を検知し、当該角度に応じて分割領域を
定め（または複数種類用意した分割領域から１つを選択
し）、当該分割領域に予め対応させた論理式に従って変
換画素の濃度を決定するようにしたものである。

四等区分領域に区分することによって、各区分領域毎
に参照する被変換画素数を各々９個の被変換画素に限定
して変換画素の濃度を決定する際に必要となる被変換画
素の個数の減少を図ることができる。

第18図に変換画素α近傍に位置する被変換画素群Ａ〜
Ｐの中から当該変換画素に最近傍の４個の被変換画素Ａ
〜Ｄにより定められる格子内の領域を四等分した四等区
分領域R1,R2,R3,R4を示す。

第17図に本実施例に係る画像拡大装置のブロック図を
示す。

本装置は被変換画素からなる原画像を格納している二
次元画像メモリ110と、被変換画素群の濃度データを順
次入力する被変換画素入力手段111と、当該入力手段111
が入力した被変換画素の濃度データにより形成される所
定の傾斜角度を有する斜線パターン及び該傾斜角度を有
する斜線パターン及び該傾斜角度を後述す指定された領
域に基づいて検知する斜線パターン検知手段32としての
斜線パターン検知用論理回路112と、少なくとも当該斜
線パターン及び傾斜角度に基づいて対応する分割領域に
分割し、かつ前記変換倍率に基づいて前記変換倍率が位
置する分割領域の判定する前記領域分割判定手段33及び
当該変換画素が位置する前記四等区分領域の指定を行う
区分領域指定手段35として、並びに前記変換画素入力手
段111及び前記二次元画像メモリ110に対するアクセス指
令等の制御を行う制御部113と、判定された前記分割領
域及び入力した前記被変換画素群に基づいて変換画素の
濃度を算出する変換画素濃度算出手段４としての変換画
素濃度決定用論理回路114とを有する。

前記被変換画素入力手段111は第17図に示すように、
６個のシフトレジスタ111a〜111fを有している。

シフトレジスタ111a,bは第１の画像ライン上にある被
変換画素を保持するものである。

同様にシフトレジスタ111c,dは第２のライン上、シフ
トレジスタ111e,fは第３のライン上にある被変換画素を
順次移動保持するものである。

前記斜線パターン検知用論理回路112は前記制御部113
により指定された前記四等区分領域R1〜R4に基づいて斜
線パターンを検知するものであって、第19図に示すよう
に各区分領域R1〜R4毎に現時点の変換画素の所定の近傍
に位置する９個の被変換画素について各々P1−No.1〜8,
P2−No.1,2,P3−No.1,2の斜線パターンを対応させてい
る。

ここで、斜線パターンの種類は斜線パターンP1−No.
1,2:傾斜角度tan＝θ１（θ＝45゜）斜線パターンP1−No.3,4:直角部分に相当する斜線パタ
ーン斜線パターンP1−No5,6:傾斜角度tanθ＝２の斜線パタ
ーン（斜線の中心部分）斜線パターンP1−No.7,8:傾斜角度tanθ＝0.5の斜線パ
ターン（斜線の中心部分）斜線パターンP2−No.1,2:傾斜角度tanθ＝２の斜線パタ
ーン（斜線の末端部分）斜線パターンP3−No.1,2:傾斜角度tanθ＝0.5の斜線パ
ターン（斜線の末端部分）を意味する。

制御部113は第20図及び第21図に示すように、前記斜
線パターン検知用論理回路112から出力された各区分領
域毎の斜線パターン及び傾斜角度に基づいて各分割領域
の境界が前述した，の直線方程式により定められる
各分割領域に分割し、現時点の変換画素が位置する当該
分割領域G₁〜G₁₂を判定するものである。

また、前記変換画素濃度決定用論理回路114は当該各
分割領域に対応する表３に記載した論理式に基づいて当
該変換画素の濃度の算出を行うものである。

以下に本実施例に係る画像拡大装置の動作を説明す
る。

本装置により画像の拡大対象となる原画像が格納され
ている前記二次元メモリ110に対して前記制御部113は一
定語長単位（例えば４ビット）毎にアクセス指令を行
う。

現時点の変換画素の近傍に位置する読み出された３ラ
イン分の被変換画素群は順次シリアルに１画素ずつライ
ン毎に前記被変換画素入力手段111としてのシフトレジ
スタ111a,c,eに順次入力させ、前記制御部113は所定の
タイミングで各画素をシフトレジスタ11b,d,fに移動さ
せパラレルに前記斜線パターン検知用論理回路112に入
力させる。

一方、前記制御部113は前記変換倍率p,qに基づいて現
時点の変換画素が位置する前記四等区分領域R1〜R4を指
定するとともに、２ビットの信号により前記斜線パター
ン検知用論理回路112に送出する。

すなわち、例えば第18図に示すように希望する変換倍
率p,qより定まる現時点の変換画素γは前記四等区分領
域R1に位置するので、当該制御部113は前記斜線パター
ン検知用論理回路112に対して２ビットの信号でR1を表
示する信号を送出する。

すると、斜線パターン検知用論理回路112は当該変換
画素が位置する当該四等区分領域毎の斜線パターンに対
応させて第20,21図に示すような境界線で各分割領域に
分割して、当該変換画素が位置する分割領域をG₁〜G₁₂
を判定して変換画素濃度決定用論理回路114に４ビット
の信号で出力する。

当該変換画素濃度決定用論理回路114は当該分割に応
じて表３から変換画素の濃度を算出して出力する。

こうして、本実施例によると、最初に四等区分領域の
指定を行うことにより９個の被変換画素に限定して斜線
パターンを検知することができることになる。

各分割領域の境界線を一義的に定めることができるた
め、領域に分割及び判定を高速に行うことができる。

尚、従来では12画素または16画素（４ライン分のデー
タ）の被変換画素を参照する必要があった。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明では原画像の拡大について
は、予め定めた斜線パターン及び傾斜角度を検知するこ
とにより、当該斜線パターン及び傾斜角度に基づいて各
分割領域の境界線を定めるようにしている。

したがって、当該境界線の形状により大きく影響され
る斜線を、当該境界線を斜線の傾斜に合わせて設定する
ことにより自然に平滑化された斜線を有する変換画像を
高速に得ることができるので、信頼性の高い画像拡大装
置及び方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は第一の発明の原理ブロック図、第２図は第二の
発明の原理流れ図、第３図は第一の実施例に係る画像拡
大装置を示す回路図、第４図は第一の実施例に係る分割
領域（２＞tanθ＞１の斜線パターン）を示す図、第５
図は第一の実施例に係る分割領域（１＞tanθ＞0.5の斜
線パターン）を示す図、第６図は第一の実施例に係る分
割領域（tanθ＝１の斜線パターン及び他のパターン）
を示す図、第７図は第一の実施例に係る分割領域（tan
θ＝２の斜線パターン）を示す図、第８図は第一の実施
例に係る分割領域（tanθ＝0.5の斜線パターン）を示す
図、第９図は第一の実施例に係る分割領域（tanθ＝１
の斜線パターン）を示す図、第10図は第一の実施例に係
る斜線パターンを示す図、第11図は第一の実施例におい
て参照する16の被変換画素を示す図、第12図は15図
（Ｃ）の場合の判定結果（３倍拡大）を示す図、第13図
は投影法の原理を示す説明図、第14図は高速投影法の分
割領域を示す図、第15図は第一の実施例に係る斜線パタ
ーンの３倍拡大例を示す図、第16図は従来例に係る斜線
パターンの３倍拡大例を示す図、第17図は第二の実施例
に係る画像拡大装置を示す回路図、第18図は第二の実施
例において参照する16の被変換画素と四等区分領域を示
す図、第19図は第二の実施例に係る斜線パターンを示す
図、第20図は第二の実施例に係る斜線パターンに対応す
る分割領域の境界線を示す図（１）、第21図は第二の実
施例に係る斜線パターンに対応する分割領域の境界線を
示す図（２）、第22図は従来例に係るブロック図であ
る。１……被変換画素入力手段 32……斜線パターン検知手段 33……領域分割判定手段４……変換画素濃度算出手段 35……区分領域指定手段

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】被変換画素が配列された平面上に、希望す
る変換倍率に応じて投影法により定まる分割領域を設定
し、当該平面上に投影された変換画素が位置する分割領
域に対応する論理式に従って近傍被変換画素の濃度から
各変換画素の濃度を決定する画像拡大装置において、変換画素の近傍に位置する所定の被変換画素群の濃度デ
ータを順次入力する被変換画素入力手段（１）と、前記変換倍率に基づいて定まる前記平面上における前記
変換画素が位置する所定の区分領域を指定する区分領域
指定手段（35）と、指定された当該領域に基づいて前記被変換画素群の濃度
データにより形成される所定の傾斜角度を有する斜線パ
ターン及びその傾斜角度を検知する斜線パターン検知手
段（32）と、少なくとも当該斜線パターン及び傾斜角度に基づいて対
応する分割領域に分割するとともに、前記変換倍率に基
づいて前記変換画素が位置する分割領域を判定する領域
分割判定手段（33）と、判定された当該分割領域及び前記被変換画素の濃度デー
タに基づいて変換画素の濃度を算出する変換画素濃度算
出手段（４）とを有することを特徴とする画像拡大装
置。
【請求項２】被変換画素が配列された平面上に、希望す
る変換倍率に応じて投影法により定まる分割領域を設定
し、当該平面上に投影された変換画素が位置する分割領
域に対応する論理式に従って近傍被変換画素の濃度から
変換画素の濃度を決定する画素拡大方法において、前記変換画素の近傍に位置する所定の被変換画素群の濃
度データを順次入力する過程（S1）と、前記変換倍率に基づいて定まる前記平面上における前記
変換画素が位置する所定の区分領域を指定する過程（S3
2）と、当該区分領域に基づいて当該被変換画素群の濃度データ
により形成される所定の傾斜角度を有する斜線パターン
及びその傾斜角度を検知する過程（S33）と、少なくとも当該斜線パターン及び傾斜角度に基づいて分
割領域に分割するとともに、前記変換倍率に基づいて前
記変換画素が位置する当該分割領域の判定を行う過程
（S34）と、判定された当該分割領域及び前記被変換画素の濃度デー
タに基づいて前記変換画素の濃度を算出する過程（S4）
とを有することを特徴とする画像拡大方法。