JP2597784B2 - アンテナ反射鏡面用メッシュ材料の製造方法 - Google Patents
アンテナ反射鏡面用メッシュ材料の製造方法Info
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- JP2597784B2 JP2597784B2 JP4025137A JP2513792A JP2597784B2 JP 2597784 B2 JP2597784 B2 JP 2597784B2 JP 4025137 A JP4025137 A JP 4025137A JP 2513792 A JP2513792 A JP 2513792A JP 2597784 B2 JP2597784 B2 JP 2597784B2
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- Japan
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- mesh material
- antenna
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- Knitting Of Fabric (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、例えば人工衛星に搭
載される鏡面アンテナの反射鏡面を形成するのに用いる
アンテナ反射鏡面用メッシュ材料の製造方法に関する。
載される鏡面アンテナの反射鏡面を形成するのに用いる
アンテナ反射鏡面用メッシュ材料の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】周知のように、鏡面アンテナにおいて
は、その特性の向上を図る手段として、アンテナ反射鏡
面の大口径化と共に、形状精度の高精度化が不可欠であ
る。このように大口径で、しかも精度の高い鏡面精度を
得る方法としては、柔軟性と共に、弾力性に富んだメッ
シュ材料を用いたアンテナ反射鏡面を形成するのが有利
とされている。このメッシュ材料を用いたアンテナ反射
鏡面は、その支持構造体を小さくすることが可能である
ことにより、高い建物や山間僻地への運搬・設置が容易
なうえ、雨水や融雪水の反射鏡面からの排水が容易であ
るという利点を有する。そして、このような鏡面アンテ
ナは宇宙空間に構築する場合、そのアンテナ反射鏡面の
折り畳み展開が容易なことから、打上げ用フェアリング
スペースの確保が容易となるという利点を有する。
は、その特性の向上を図る手段として、アンテナ反射鏡
面の大口径化と共に、形状精度の高精度化が不可欠であ
る。このように大口径で、しかも精度の高い鏡面精度を
得る方法としては、柔軟性と共に、弾力性に富んだメッ
シュ材料を用いたアンテナ反射鏡面を形成するのが有利
とされている。このメッシュ材料を用いたアンテナ反射
鏡面は、その支持構造体を小さくすることが可能である
ことにより、高い建物や山間僻地への運搬・設置が容易
なうえ、雨水や融雪水の反射鏡面からの排水が容易であ
るという利点を有する。そして、このような鏡面アンテ
ナは宇宙空間に構築する場合、そのアンテナ反射鏡面の
折り畳み展開が容易なことから、打上げ用フェアリング
スペースの確保が容易となるという利点を有する。
【０００３】第３図はこのような鏡面アンテナを示すも
ので、図示しない支持構造体を介してメッシュ材料が展
張されてメッシュ鏡面１が形成され、このメッシュ鏡面
上には給電部２が給電支持部材３を介して対向配置され
る。
ので、図示しない支持構造体を介してメッシュ材料が展
張されてメッシュ鏡面１が形成され、このメッシュ鏡面
上には給電部２が給電支持部材３を介して対向配置され
る。
【０００４】このような鏡面アンテナのアンテナ反射鏡
面に用いられるメッシュ材料としては、高精度な鏡面精
度が要求されることにより、支持構造体が組立てられた
状態で、展張されて所望の鏡面精度に設定されるため
に、高強度で、柔軟性及び弾性力に富み、所望の電気的
特性を有した導電性材料で形成される。そして、この導
電性材料は、宇宙環境を含む過酷な環境に対応し得るよ
うに、熱膨張が小さく、耐蝕姓、耐候性を有することも
要求される。
面に用いられるメッシュ材料としては、高精度な鏡面精
度が要求されることにより、支持構造体が組立てられた
状態で、展張されて所望の鏡面精度に設定されるため
に、高強度で、柔軟性及び弾性力に富み、所望の電気的
特性を有した導電性材料で形成される。そして、この導
電性材料は、宇宙環境を含む過酷な環境に対応し得るよ
うに、熱膨張が小さく、耐蝕姓、耐候性を有することも
要求される。
【０００５】また、宇宙空間に構築する場合には、宇宙
空間に輸送するまで極力小さく折畳まれ、宇宙空間に到
達した状態で、展開されて地上において設定された所望
の鏡面精度を確保することが要求される。
空間に輸送するまで極力小さく折畳まれ、宇宙空間に到
達した状態で、展開されて地上において設定された所望
の鏡面精度を確保することが要求される。
【０００６】ところで、このような従来のメッシュ材料
としては、米国特許(US Patent Nunber:4,609,923 、Da
te of Patent :Sep.2,1986) に記載されているところの
金メッキモリブデン線またはタングステン線を用いたも
のがある。そして、このメッシュ材料は、基線となるモ
リブデン線またはタングステン線が材質上、酸化し易い
ことために、金メッキ処理が施されてメッシュ鏡面を構
成するメッシュが形成される。
としては、米国特許(US Patent Nunber:4,609,923 、Da
te of Patent :Sep.2,1986) に記載されているところの
金メッキモリブデン線またはタングステン線を用いたも
のがある。そして、このメッシュ材料は、基線となるモ
リブデン線またはタングステン線が材質上、酸化し易い
ことために、金メッキ処理が施されてメッシュ鏡面を構
成するメッシュが形成される。
【０００７】しかしながら、このメッシュ材料では、メ
ッキ処理により形成されるメッキ層にピンホールや水素
ガスが残留して、バルクの金より機械的強度が低下し、
脆性となると共に、その表面形状がミクロ的に平滑でな
く、弾力性が劣るために、その基線で形成したメッシュ
が鏡面展張、鏡面調整または折畳み展開形の場合の展開
時における抵抗が大きいと、メッキ層との相乗効果によ
り高精度な展張作業や調整作業の実現が困難となるとい
う問題を有していた。また、メッシュが十分な柔軟性及
び弾性力を有しないために、メッキ層の剥離が起り、基
線が腐食したりする虞を有していた。
ッキ処理により形成されるメッキ層にピンホールや水素
ガスが残留して、バルクの金より機械的強度が低下し、
脆性となると共に、その表面形状がミクロ的に平滑でな
く、弾力性が劣るために、その基線で形成したメッシュ
が鏡面展張、鏡面調整または折畳み展開形の場合の展開
時における抵抗が大きいと、メッキ層との相乗効果によ
り高精度な展張作業や調整作業の実現が困難となるとい
う問題を有していた。また、メッシュが十分な柔軟性及
び弾性力を有しないために、メッキ層の剥離が起り、基
線が腐食したりする虞を有していた。
【０００８】
【発明が解決しようと課題】以上述べたように、従来の
アンテナ反射鏡用メッシュ材料では、高精度な展張作業
及び鏡面調整作業が困難であると共に、メッキ層の剥離
による腐食の虞を有していた。
アンテナ反射鏡用メッシュ材料では、高精度な展張作業
及び鏡面調整作業が困難であると共に、メッキ層の剥離
による腐食の虞を有していた。
【０００９】この発明は上記の事情に鑑みてなされたも
ので、簡便にして、高精度な展張作業と共に、高精度な
鏡面調整作業を実現し得るアンテナ反射鏡面用メッシュ
材料の製造方法を提供することを目的とする。
ので、簡便にして、高精度な展張作業と共に、高精度な
鏡面調整作業を実現し得るアンテナ反射鏡面用メッシュ
材料の製造方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【００１１】
【００１２】
【課題を解決するための手段及び作用】この発明は導電
性繊維を複数本撚った繊維束を製作する第１の工程と、
この第１の工程で製作した繊維束に被覆層を形成する第
２の工程と、この第２の工程で被覆層を形成した繊維束
を織込んでメッシュを製作する第３の工程と、この第３
の工程で製作したメッシュを洗浄して前記被覆層を除去
する第４の工程とを備えて、アンテナ反射鏡面用メッシ
ュ材料を製造するように構成したものである。
性繊維を複数本撚った繊維束を製作する第１の工程と、
この第１の工程で製作した繊維束に被覆層を形成する第
２の工程と、この第２の工程で被覆層を形成した繊維束
を織込んでメッシュを製作する第３の工程と、この第３
の工程で製作したメッシュを洗浄して前記被覆層を除去
する第４の工程とを備えて、アンテナ反射鏡面用メッシ
ュ材料を製造するように構成したものである。
【００１３】上記構成によれば、所望の弾性力及び柔軟
性を有したメッシュの形成が容易に実現されることによ
り、メッシュ材料の高精度な展張作業と共に、高精度な
鏡面調整作業の実現に寄与される。 実施例 以下、この発明は実施例について、図面を参照して詳細
に説明する。
性を有したメッシュの形成が容易に実現されることによ
り、メッシュ材料の高精度な展張作業と共に、高精度な
鏡面調整作業の実現に寄与される。 実施例 以下、この発明は実施例について、図面を参照して詳細
に説明する。
【００１４】第１図はこの発明の一実施例に係るアンテ
ナ反射鏡面用メッシュ材料を示すもので、複数の導電性
繊維１０を撚った繊維束１１がメッシュ状に織られてメ
ッシュ１２が形成される。すなわち、このメッシュ材料
を製造する場合は、先ず第１の工程で第２図に示すよう
に、例えば線径が２０μｍのモリブデン金属合金製の繊
維１０ｂに０．５μｍの金メッキ層１０ａを形成した導
電性繊維１０が複数、例えば４本を（撚り回数：１回／
２５ｍｍ）で撚って繊維束が形成される。次に、第２の
工程では、繊維束１１に、例えば図示しない被覆層とし
てＰＶＡ（ポリビニールアルコール）等の水溶性接着剤
が被着され、第３の工程で被覆層（図示せず）の形成さ
れた繊維束１１をトリコット編み機にかけて２ｍｍ×２
ｍｍのメッシュ１２が製作される。このメッシュ１２
は、鏡面調整作業や展張作業の容易性を考慮した場合、
少なくとも２方向に伸縮自在に織込むことが望ましい。
そして、このメッシュ１２は第４の工程ににおいて、洗
浄されて繊維束１０に被覆した被覆層（図示せず）が取
り除かれる。このように製作されたメッシュ１０は実験
的に、その織込み作業による不良率を目測により検査す
ると、１ｍ2 当り、織りむら数または破断数が０である
ことが確認される。
ナ反射鏡面用メッシュ材料を示すもので、複数の導電性
繊維１０を撚った繊維束１１がメッシュ状に織られてメ
ッシュ１２が形成される。すなわち、このメッシュ材料
を製造する場合は、先ず第１の工程で第２図に示すよう
に、例えば線径が２０μｍのモリブデン金属合金製の繊
維１０ｂに０．５μｍの金メッキ層１０ａを形成した導
電性繊維１０が複数、例えば４本を（撚り回数：１回／
２５ｍｍ）で撚って繊維束が形成される。次に、第２の
工程では、繊維束１１に、例えば図示しない被覆層とし
てＰＶＡ（ポリビニールアルコール）等の水溶性接着剤
が被着され、第３の工程で被覆層（図示せず）の形成さ
れた繊維束１１をトリコット編み機にかけて２ｍｍ×２
ｍｍのメッシュ１２が製作される。このメッシュ１２
は、鏡面調整作業や展張作業の容易性を考慮した場合、
少なくとも２方向に伸縮自在に織込むことが望ましい。
そして、このメッシュ１２は第４の工程ににおいて、洗
浄されて繊維束１０に被覆した被覆層（図示せず）が取
り除かれる。このように製作されたメッシュ１０は実験
的に、その織込み作業による不良率を目測により検査す
ると、１ｍ2 当り、織りむら数または破断数が０である
ことが確認される。
【００１５】上記メッシュ材料は、例えば実験的に直径
２．５ｍのアンテナ反射鏡面１（第３図参照）を形成し
た場合、理想鏡面に設定するための鏡面調整回数が２回
の調整作業で理想的鏡面精度に設定することができた。
これは、メッシュ１２としての柔軟性及び弾力性が優れ
ていることにより、従来のものに比してその調整作業を
含む取扱いが容易であることを表す。そして、このアン
テナ反射鏡面１の反射率としては、１４ＧＨz において
９８〜９９％となることが確認され、これは、アンテナ
としての所望の電気特性の確保も容易に実現されること
を表す。
２．５ｍのアンテナ反射鏡面１（第３図参照）を形成し
た場合、理想鏡面に設定するための鏡面調整回数が２回
の調整作業で理想的鏡面精度に設定することができた。
これは、メッシュ１２としての柔軟性及び弾力性が優れ
ていることにより、従来のものに比してその調整作業を
含む取扱いが容易であることを表す。そして、このアン
テナ反射鏡面１の反射率としては、１４ＧＨz において
９８〜９９％となることが確認され、これは、アンテナ
としての所望の電気特性の確保も容易に実現されること
を表す。
【００１６】
【００１７】このように、上記アンテナ反射鏡面用メッ
シュ材料の製造方法は導電性繊維１０を複数本撚った繊
維束１１を形成して、この繊維束１１に被覆層を形成し
た後、メッシュ上に織込んでメッシュ１２を形成し、そ
の後、メッシュ１２を洗浄して被覆層を除去するように
構成した。これによれば、導電性繊維１０に損傷を起こ
すことなく、所望の弾性力及び柔軟性を有したメッシュ
１２の形成が実現され、メッシュ材料の高精度な展張作
業と共に、高精度な鏡面調整作業の実現に寄与できる。
シュ材料の製造方法は導電性繊維１０を複数本撚った繊
維束１１を形成して、この繊維束１１に被覆層を形成し
た後、メッシュ上に織込んでメッシュ１２を形成し、そ
の後、メッシュ１２を洗浄して被覆層を除去するように
構成した。これによれば、導電性繊維１０に損傷を起こ
すことなく、所望の弾性力及び柔軟性を有したメッシュ
１２の形成が実現され、メッシュ材料の高精度な展張作
業と共に、高精度な鏡面調整作業の実現に寄与できる。
【００１８】なお、上記実施例では、繊維束１１に形成
する被覆層を水溶性接着剤を用いて構成した場合で説明
したが、この水溶性接着剤で形成した被覆層に限ること
なく、構成可能である。
する被覆層を水溶性接着剤を用いて構成した場合で説明
したが、この水溶性接着剤で形成した被覆層に限ること
なく、構成可能である。
【００１９】また、上記実施例では、導電性繊維１０と
して、モリブデン金属合金を用いて構成したが、これに
限ることなく、タングステン、ピアノ、ステンレス、ニ
ブオ等の金属合金や、炭素繊維、sic 繊維、B 繊維、si
3N4 繊維、BN繊維、Al203 繊維、sio2繊維等の無機質繊
維、アラミッド繊維、ポリイミド繊維等の高分子繊維を
用いることも可能である。
して、モリブデン金属合金を用いて構成したが、これに
限ることなく、タングステン、ピアノ、ステンレス、ニ
ブオ等の金属合金や、炭素繊維、sic 繊維、B 繊維、si
3N4 繊維、BN繊維、Al203 繊維、sio2繊維等の無機質繊
維、アラミッド繊維、ポリイミド繊維等の高分子繊維を
用いることも可能である。
【００２０】さらに、上記実施例では２０μｍの導電性
繊維１０を４本撚って繊維束１１を形成したが、この本
数に限ることなく、２本以上を撚ることにより有効な効
果が期待される。この場合、導電性繊維としては、２５
μｍ以下であることが望ましい。
繊維１０を４本撚って繊維束１１を形成したが、この本
数に限ることなく、２本以上を撚ることにより有効な効
果が期待される。この場合、導電性繊維としては、２５
μｍ以下であることが望ましい。
【００２１】また、さらに上記実施例では、導電性繊維
１０として金メッキ処理を施した場合を代表して説明し
たが、これに限ることなく、金メッキ処理を施さないで
構成することも可能である。よって、この発明は上記実
施例に限ることなく、その他、この発明の要旨を逸脱し
ない範囲で種々の変形を実施し得ることは勿論のことで
ある。
１０として金メッキ処理を施した場合を代表して説明し
たが、これに限ることなく、金メッキ処理を施さないで
構成することも可能である。よって、この発明は上記実
施例に限ることなく、その他、この発明の要旨を逸脱し
ない範囲で種々の変形を実施し得ることは勿論のことで
ある。
【００２２】
【発明の効果】以上詳述しように、この発明によれば、
簡便にして、高精度な展張作業と共に、高精度な鏡面調
整作業を実現し得るアンテナ反射鏡面用メッシュ材料の
製造方法を提供することができる。
簡便にして、高精度な展張作業と共に、高精度な鏡面調
整作業を実現し得るアンテナ反射鏡面用メッシュ材料の
製造方法を提供することができる。
【図１】この発明の一実施例に係るアンテナ反射鏡面用
メッシュ材料を拡大して示す図。
メッシュ材料を拡大して示す図。
【図２】図１の導電性繊維を取出して示す図。
【図３】この発明の適用される鏡面アンテナを示す図。
１…アンテナ反射鏡面、２…給電部、３…給電部支持部
材、１０…導電性繊維、１０ａ…繊維、１０ｂ…メッキ
層、１１…繊維束、１２…メッシュ。
材、１０…導電性繊維、１０ａ…繊維、１０ｂ…メッキ
層、１１…繊維束、１２…メッシュ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｄ０４Ｂ 21/12 Ｄ０４Ｂ 21/12 Ｈ０１Ｑ 15/20 Ｈ０１Ｑ 15/20 (72)発明者 逢坂 達吉 神奈川県川崎市幸区小向東芝町１番地 株式会社東芝小向工場内 (56)参考文献 特公 昭62−55723（ＪＰ，Ｂ２)
Claims (4)
- 【請求項１】 導電性繊維を複数本撚った繊維束を製作
する第１の工程と、 この第１の工程で製作した繊維束に被覆層を形成する第
２の工程と、 この第２の工程で被覆層を形成した繊維束を織込んでメ
ッシュを製作する第３の工程と、 この第３の工程で製作したメッシュを洗浄して前記被覆
層を除去する第４の工程と を具備したことを特徴とするアンテナ反射鏡面用メッシ
ュ材料の製造方法。 - 【請求項２】 前記導電性繊維は線径が２５μｍ以下の
モリブデン金属合金まいはタングステン金属合金で形成
されてなることを特徴とする請求項１記載のアンテナ反
射鏡面用メッシュ材料の製造方法。 - 【請求項３】 前記被覆層は水溶性接着剤で形成されて
なることを特徴とする請求項１又は２に記載のアンテナ
反射鏡面用メッシュ材料の製造方法。 - 【請求項４】 前記メッシュは少なくともに方向に伸縮
自在に形成されてなることを特徴とする請求項１乃至３
のいずれかに記載のアンテナ反射鏡面用メッシュ材料の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4025137A JP2597784B2 (ja) | 1992-02-12 | 1992-02-12 | アンテナ反射鏡面用メッシュ材料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4025137A JP2597784B2 (ja) | 1992-02-12 | 1992-02-12 | アンテナ反射鏡面用メッシュ材料の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05226931A JPH05226931A (ja) | 1993-09-03 |
| JP2597784B2 true JP2597784B2 (ja) | 1997-04-09 |
Family
ID=12157585
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4025137A Expired - Lifetime JP2597784B2 (ja) | 1992-02-12 | 1992-02-12 | アンテナ反射鏡面用メッシュ材料の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2597784B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109071041B (zh) * | 2016-02-29 | 2022-08-23 | 乐加德公司 | 紧凑型rf薄膜天线 |
| JP7425432B2 (ja) * | 2019-01-28 | 2024-01-31 | 国立研究開発法人宇宙航空研究開発機構 | メッシュ構造体およびその製造方法、アンテナ反射鏡、電磁シールド材、導波管 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4641247A (en) * | 1985-08-30 | 1987-02-03 | Advanced Micro Devices, Inc. | Bit-sliced, dual-bus design of integrated circuits |
-
1992
- 1992-02-12 JP JP4025137A patent/JP2597784B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05226931A (ja) | 1993-09-03 |
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