JP2596259Y2 - ガスサンプリング装置 - Google Patents
ガスサンプリング装置Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本考案はガスサンプリング装置に
関する。さらに詳しくは、サンプリング経路中のダスト
による閉塞が改善されてなるガスサンプリング装置に関
する。
関する。さらに詳しくは、サンプリング経路中のダスト
による閉塞が改善されてなるガスサンプリング装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来より、軸受け部材等の耐磨耗性を必
要とする鋼材においては、その耐磨耗性を向上させるた
めに、アンモニアガスを用いて窒化処理を行った後、油
浴させることにより焼入れおよび冷却がなされている。
この窒化炉のアンモニアガスの使用量のコントロールお
よび窒化深さのコントロールを目的として、窒化炉排ガ
ス中のアンモニア濃度の測定がなされている。図7はか
かる目的のために用いられている従来のガスサンプリン
グ装置Sの一例の概略図である。図7に示すガスサンプ
リング装置においては、煙道から採取されたサンプリン
グガスは、サンプリング配管107により接続されてい
る1次フィルター101、2次フィルター102、ガス
サンプリングポンプ103、ニードルバルブ104、流
量計105を介して光学式ガス分析計106に導かれ分
析される。
要とする鋼材においては、その耐磨耗性を向上させるた
めに、アンモニアガスを用いて窒化処理を行った後、油
浴させることにより焼入れおよび冷却がなされている。
この窒化炉のアンモニアガスの使用量のコントロールお
よび窒化深さのコントロールを目的として、窒化炉排ガ
ス中のアンモニア濃度の測定がなされている。図7はか
かる目的のために用いられている従来のガスサンプリン
グ装置Sの一例の概略図である。図7に示すガスサンプ
リング装置においては、煙道から採取されたサンプリン
グガスは、サンプリング配管107により接続されてい
る1次フィルター101、2次フィルター102、ガス
サンプリングポンプ103、ニードルバルブ104、流
量計105を介して光学式ガス分析計106に導かれ分
析される。
【0003】なお、図7に示すガスサンプリング装置S
では、ガスサンプリングポンプ103の下流側に、ニー
ドルバルブ108と流量計109とを有するバイパス1
10が設けられて、その流量をニードルバルブ108に
より調節してガス分析計106への流入ガス量の調整が
なされている。
では、ガスサンプリングポンプ103の下流側に、ニー
ドルバルブ108と流量計109とを有するバイパス1
10が設けられて、その流量をニードルバルブ108に
より調節してガス分析計106への流入ガス量の調整が
なされている。
【0004】ところで、よく知られているように、窒化
処理は、多量のアンモニアガスとともに二酸化炭素と窒
素ガスを供給して550°C前後の高温でなされる。こ
れらのアンモニアガスと二酸化炭素は、約60°C以下
の温度で反応して炭酸アンモニウム塩の結晶が生成され
るために、炭酸アンモニウム塩が析出する。また、当然
のことながら、油浴させた際にはオイルも飛散し、オイ
ルミストの状態でオイルもサンプルガス中に存在する。
処理は、多量のアンモニアガスとともに二酸化炭素と窒
素ガスを供給して550°C前後の高温でなされる。こ
れらのアンモニアガスと二酸化炭素は、約60°C以下
の温度で反応して炭酸アンモニウム塩の結晶が生成され
るために、炭酸アンモニウム塩が析出する。また、当然
のことながら、油浴させた際にはオイルも飛散し、オイ
ルミストの状態でオイルもサンプルガス中に存在する。
【0005】このため、従来のガスサンプリング装置S
においては、図7に示すように、1次フィルター101
および2次フィルター102を設けて、析出した炭酸ア
ンモニウム塩の結晶やオイルの除去がなされている。図
8は1次フィルター101および2次フィルター102
に用いられている糸巻式フィルター120の概略図を示
すものである。
においては、図7に示すように、1次フィルター101
および2次フィルター102を設けて、析出した炭酸ア
ンモニウム塩の結晶やオイルの除去がなされている。図
8は1次フィルター101および2次フィルター102
に用いられている糸巻式フィルター120の概略図を示
すものである。
【0006】しかしながら、かかる従来のフィルター1
20では炭酸アンモニウム塩の結晶やオイルミストの除
去が充分になしえないために、サンプリング配管の閉塞
やサンプリング能力の低下を招来している。また、これ
らのダストにより分析計の光学系が汚染されて測定の際
にドリフトを生じている。
20では炭酸アンモニウム塩の結晶やオイルミストの除
去が充分になしえないために、サンプリング配管の閉塞
やサンプリング能力の低下を招来している。また、これ
らのダストにより分析計の光学系が汚染されて測定の際
にドリフトを生じている。
【0007】さらに、図7に示す従来のガスサンプリン
グ装置Sにおいては、サンプリング経路においてサンプ
リングガス中のアンモニア成分が炭酸アンモニウム塩と
して析出するため、サンプリングガス中のアンモニアガ
スが消耗してその濃度が低下する。そのため、測定値が
実際値よりも小さくでるという問題もある。また、前述
したように、バイパス110により分析計106へのガ
ス流量の調整がなされているが、手動操作のためにその
流量調整にはバラツキが大きいという問題もある。
グ装置Sにおいては、サンプリング経路においてサンプ
リングガス中のアンモニア成分が炭酸アンモニウム塩と
して析出するため、サンプリングガス中のアンモニアガ
スが消耗してその濃度が低下する。そのため、測定値が
実際値よりも小さくでるという問題もある。また、前述
したように、バイパス110により分析計106へのガ
ス流量の調整がなされているが、手動操作のためにその
流量調整にはバラツキが大きいという問題もある。
【0008】
【考案が解決しようとする課題】本考案はかかる従来技
術の問題点に鑑みなされたものであって、サンプリング
ガス中のダスト除去が充分になされ、しかもサンプリン
グ経路における炭酸アンモニウム塩の析出ができるだけ
少ないガスサンプリリング装置を提供することを主たる
目的とする。
術の問題点に鑑みなされたものであって、サンプリング
ガス中のダスト除去が充分になされ、しかもサンプリン
グ経路における炭酸アンモニウム塩の析出ができるだけ
少ないガスサンプリリング装置を提供することを主たる
目的とする。
【0009】また、本考案はオイルミストの除去が充分
になしえるダスト除去手段を提供することをも目的とし
ている。
になしえるダスト除去手段を提供することをも目的とし
ている。
【0010】
【課題を解決するための手段】本考案のガスサンプリン
グ装置は、少なくともダスト除去手段とサンプリングガ
ス吸引手段と流量計測手段と流量調節手段と光学式ガス
分析手段と前記各手段を接続するサンプリング配管とを
備えてなり、前記ダスト除去手段とサンプリングガス吸
引手段と流量計測手段と流量調節手段と光学式ガス分析
手段と前記サンプリング配管とが所定温度に加熱されて
なることを特徴とする。
グ装置は、少なくともダスト除去手段とサンプリングガ
ス吸引手段と流量計測手段と流量調節手段と光学式ガス
分析手段と前記各手段を接続するサンプリング配管とを
備えてなり、前記ダスト除去手段とサンプリングガス吸
引手段と流量計測手段と流量調節手段と光学式ガス分析
手段と前記サンプリング配管とが所定温度に加熱されて
なることを特徴とする。
【0011】本考案のガスサンプリング装置において
は、前記ダスト除去手段が複数の除去手段からなり、そ
のうちの一つの除去手段の加熱温度が他よりも若干低く
されているのが好ましい。
は、前記ダスト除去手段が複数の除去手段からなり、そ
のうちの一つの除去手段の加熱温度が他よりも若干低く
されているのが好ましい。
【0012】また、本考案のガスサンプリング装置にお
いては、圧力調節手段および該圧力調節手段を前記配管
に接続する接続配管とが付加されてなり、前記圧力調節
手段および前記接続配管が所定温度に加熱されてなるの
が好ましい。
いては、圧力調節手段および該圧力調節手段を前記配管
に接続する接続配管とが付加されてなり、前記圧力調節
手段および前記接続配管が所定温度に加熱されてなるの
が好ましい。
【0013】さらに、本考案のガスサンプリング装置に
おいては、例えば3方口電磁弁などの流路切替手段が付
加されるとともに、この流路切替手段のサンプリング配
管と接続されていない口にゼロ・スパンガスラインが接
続されてなり、該流路切替手段が所定温度に加熱されて
なるのが好ましく、また前記ダスト除去手段が、並列に
配設され、その各列が定期的に切替え可能とされている
のが好ましい。
おいては、例えば3方口電磁弁などの流路切替手段が付
加されるとともに、この流路切替手段のサンプリング配
管と接続されていない口にゼロ・スパンガスラインが接
続されてなり、該流路切替手段が所定温度に加熱されて
なるのが好ましく、また前記ダスト除去手段が、並列に
配設され、その各列が定期的に切替え可能とされている
のが好ましい。
【0014】その上、本考案のガスサンプリング装置に
おいては、少なくとも前記サンプリングガス吸引手段の
加熱が加熱室内でなされるのがさらに好ましい。
おいては、少なくとも前記サンプリングガス吸引手段の
加熱が加熱室内でなされるのがさらに好ましい。
【0015】
【作用】本考案のガスサンプリング装置においては、サ
ンプリング系が所定温度に加熱されているので、炭酸ア
ンモニウム塩の析出が防止できる。そのため、炭酸アン
モニウム塩の析出によりサンプリング系が閉塞すること
はない。また、炭酸アンモニウム塩の析出が従来のガス
サンプリング装置と比較して著しく低減されるので、測
定誤差を小さくできる。
ンプリング系が所定温度に加熱されているので、炭酸ア
ンモニウム塩の析出が防止できる。そのため、炭酸アン
モニウム塩の析出によりサンプリング系が閉塞すること
はない。また、炭酸アンモニウム塩の析出が従来のガス
サンプリング装置と比較して著しく低減されるので、測
定誤差を小さくできる。
【0016】ダスト除去手段が複数の除去手段、例えば
第1次除去手段と第2次除去手段と第3次除去手段とか
らなり、そのうちの一つの除去手段、例えば前記第2次
除去手段の加熱温度が他よりも若干低くされている好ま
しい実施例においては、ダスト除去が確実になしえると
ともに、他の除去手段よりも低く加熱されている第2次
除去手段ではオイルミストの除去が集中的かつ確実にな
される。
第1次除去手段と第2次除去手段と第3次除去手段とか
らなり、そのうちの一つの除去手段、例えば前記第2次
除去手段の加熱温度が他よりも若干低くされている好ま
しい実施例においては、ダスト除去が確実になしえると
ともに、他の除去手段よりも低く加熱されている第2次
除去手段ではオイルミストの除去が集中的かつ確実にな
される。
【0017】圧力調節手段が付加され、その圧力調節手
段およびそれの接続配管が所定温度に加熱されている好
ましい実施例においては、サンプリング系の圧力が調節
できるので、圧力調節によりガス分析計にサンプリング
ガスを定量供給できる。したがって、測定精度が一段と
向上する。
段およびそれの接続配管が所定温度に加熱されている好
ましい実施例においては、サンプリング系の圧力が調節
できるので、圧力調節によりガス分析計にサンプリング
ガスを定量供給できる。したがって、測定精度が一段と
向上する。
【0018】流路切替手段が付加されるとともに、それ
のサンプリング配管と接続されている口にゼロ・スパン
ガスラインが接続されてなり、この流路切替手段が所定
温度に加熱されている好ましい実施例においては、流路
切替手段により流路を切り替えることによりサンプリン
グ系にゼロガスあるいはスパンガスを流して、ガス分析
計のゼロ点調整およびスパン調整を随時行うことができ
る。したがって、ガス分析計のゼロ点変動およびスパン
変動を随時補正することができる。
のサンプリング配管と接続されている口にゼロ・スパン
ガスラインが接続されてなり、この流路切替手段が所定
温度に加熱されている好ましい実施例においては、流路
切替手段により流路を切り替えることによりサンプリン
グ系にゼロガスあるいはスパンガスを流して、ガス分析
計のゼロ点調整およびスパン調整を随時行うことができ
る。したがって、ガス分析計のゼロ点変動およびスパン
変動を随時補正することができる。
【0019】ダスト除去手段が並列に配設され、その各
列が定期的に切替え可能とされている好ましい実施例に
おいては、ガスサンプリングを中断することなくダスト
除去手段のメンテナンスあるいは濾材の再生作業がなし
得る。
列が定期的に切替え可能とされている好ましい実施例に
おいては、ガスサンプリングを中断することなくダスト
除去手段のメンテナンスあるいは濾材の再生作業がなし
得る。
【0020】
【実施例】以下、添付図面を参照しながら本考案を実施
例に基づいて説明するが、本考案はかかる実施例のみに
限定されるものではない。
例に基づいて説明するが、本考案はかかる実施例のみに
限定されるものではない。
【0021】図1は本考案の一実施例の概略図、図2は
同実施例に用いられているダスト除去手段の概略図であ
る。図において、1は1次フィルター、2は2次フィル
ター、3は3次フィルター、4はサンプリングポンプ、
5はニードルバルブ、6は3方口電磁弁、7は流量計、
8は光学式ガス分析計、9はサンプリング配管、10は
バイパス配管、11は圧力調節弁、12はゼロ・スパン
ガスライン、13はゼロガスライン、14はスパンガス
ライン、Rは加熱室、Sはサンプリング装置を示す。
同実施例に用いられているダスト除去手段の概略図であ
る。図において、1は1次フィルター、2は2次フィル
ター、3は3次フィルター、4はサンプリングポンプ、
5はニードルバルブ、6は3方口電磁弁、7は流量計、
8は光学式ガス分析計、9はサンプリング配管、10は
バイパス配管、11は圧力調節弁、12はゼロ・スパン
ガスライン、13はゼロガスライン、14はスパンガス
ライン、Rは加熱室、Sはサンプリング装置を示す。
【0022】図1に示す本考案の一実施例のガスサンプ
リング装置Sでは、煙道からサンプリングされたサンプ
リングガスは、サンプリング配管9により接続されてい
る1次フィルター1、2次フィルター2、3次フィルタ
ー3、ガスサンプリングポンプ4、ニードルバルブ5、
3方口電磁弁6、流量計7を介して光学式ガス分析計8
に導かれガス分析がなされる。なお、本実施例において
は、ニードルバルブ5の下流から分析計8の下流へのバ
イパスライン10が設けられている。このバイパスライ
ン10には圧力調節弁11が設けられて、流量計7入口
の圧力調節がなされている。これにより、ガス分析計8
には一定量のガスが供給される。また、3方口電磁弁6
のガスサンプリングライン9と接続されていない口に
は、ゼロ・スパンガスライン12が接続されている。こ
のゼロ・スパンガスライン12にはゼロガスライン13
からのゼロガスあるいはスパンガスライン14からのス
パンガスが供給されている。そして、3方口電磁弁6に
より流路の切り替えがなされると、ゼロガスあるいはス
パンガスが分析計8に供給されてそのゼロ点調整あるい
はスパン調整がなされる。
リング装置Sでは、煙道からサンプリングされたサンプ
リングガスは、サンプリング配管9により接続されてい
る1次フィルター1、2次フィルター2、3次フィルタ
ー3、ガスサンプリングポンプ4、ニードルバルブ5、
3方口電磁弁6、流量計7を介して光学式ガス分析計8
に導かれガス分析がなされる。なお、本実施例において
は、ニードルバルブ5の下流から分析計8の下流へのバ
イパスライン10が設けられている。このバイパスライ
ン10には圧力調節弁11が設けられて、流量計7入口
の圧力調節がなされている。これにより、ガス分析計8
には一定量のガスが供給される。また、3方口電磁弁6
のガスサンプリングライン9と接続されていない口に
は、ゼロ・スパンガスライン12が接続されている。こ
のゼロ・スパンガスライン12にはゼロガスライン13
からのゼロガスあるいはスパンガスライン14からのス
パンガスが供給されている。そして、3方口電磁弁6に
より流路の切り替えがなされると、ゼロガスあるいはス
パンガスが分析計8に供給されてそのゼロ点調整あるい
はスパン調整がなされる。
【0023】本実施例のガスサンプリング装置Sにおい
ては、炭酸アンモニウム塩の析出を防止するために、サ
ンプリングライン9およびバイパスライン10はその機
器を含めて80°C〜100°Cに加熱されている。た
だし、2次フィルター2はオイルミストと一部の炭酸ア
ンモニウム塩を集中的かつ効率よく除去するために、そ
の加熱温度より若干低めの温度、例えば70°C程度に
加熱されている。
ては、炭酸アンモニウム塩の析出を防止するために、サ
ンプリングライン9およびバイパスライン10はその機
器を含めて80°C〜100°Cに加熱されている。た
だし、2次フィルター2はオイルミストと一部の炭酸ア
ンモニウム塩を集中的かつ効率よく除去するために、そ
の加熱温度より若干低めの温度、例えば70°C程度に
加熱されている。
【0024】この加熱は、例えばニクロム線を折り込ん
だシート状加熱体をサンプリング配管9、1次フィルタ
ー1、2次フィルター2、3次フィルター6、ガスサン
プリングポンプ4、ニードルバルブ5、3方口電磁弁
6、流量計7、分析計8、パイパス配管10、圧力調節
弁11に巻き付けることによって行ってもよく、ニクロ
ム線を折り込んだシート状加熱体に代えてスチームトレ
スにより行ってもよい。また、3次フィルター3、サン
プリングポンプ4、ニードルバルブ5、3方口電磁弁
6、圧力調節弁11およびそれに関連する配管9、10
の加熱は、加熱室Rにそれらを設置することにより行っ
てもよい。この加熱室Rによる加熱による場合には、部
品間の配管を加熱することと、また部品の加熱も同時に
温度制御できるため、加熱温度の均一化と、かかる費用
の低減できるという利点がある。
だシート状加熱体をサンプリング配管9、1次フィルタ
ー1、2次フィルター2、3次フィルター6、ガスサン
プリングポンプ4、ニードルバルブ5、3方口電磁弁
6、流量計7、分析計8、パイパス配管10、圧力調節
弁11に巻き付けることによって行ってもよく、ニクロ
ム線を折り込んだシート状加熱体に代えてスチームトレ
スにより行ってもよい。また、3次フィルター3、サン
プリングポンプ4、ニードルバルブ5、3方口電磁弁
6、圧力調節弁11およびそれに関連する配管9、10
の加熱は、加熱室Rにそれらを設置することにより行っ
てもよい。この加熱室Rによる加熱による場合には、部
品間の配管を加熱することと、また部品の加熱も同時に
温度制御できるため、加熱温度の均一化と、かかる費用
の低減できるという利点がある。
【0025】なお、本実施例における1次フィルター
1、3次フィルター3、ガスサンプリングポンプ4、ニ
ードルバルブ5、3方口電磁弁6、流量計7、光学式ガ
ス分析計8および圧力調節弁11はその耐熱度が80〜
100°Cである点を除いては、その構成は従来のもの
と同様であるので、その構成の詳細な説明は省略する。
1、3次フィルター3、ガスサンプリングポンプ4、ニ
ードルバルブ5、3方口電磁弁6、流量計7、光学式ガ
ス分析計8および圧力調節弁11はその耐熱度が80〜
100°Cである点を除いては、その構成は従来のもの
と同様であるので、その構成の詳細な説明は省略する。
【0026】本実施例における2次フィルター2は、そ
の概略が図2に示されるように、本体21と、本体21
に装填されている濾過エレメント22とを主要構成要素
としてなる。
の概略が図2に示されるように、本体21と、本体21
に装填されている濾過エレメント22とを主要構成要素
としてなる。
【0027】本体21の一方の端部21aの略中央には
サンプリングガス入口211が設けられており、入口か
ら遠い方の端部21bの近傍の胴部21cにはサンプリ
ングガス出口212が設けられている。これらのガス入
口211および出口212にはサンプリング配管9が着
脱自在に接続されている。また、本体21の適宜位置に
は、2次フィルター2の加熱温度を制御するための温度
センサー23が取り付けられている。
サンプリングガス入口211が設けられており、入口か
ら遠い方の端部21bの近傍の胴部21cにはサンプリ
ングガス出口212が設けられている。これらのガス入
口211および出口212にはサンプリング配管9が着
脱自在に接続されている。また、本体21の適宜位置に
は、2次フィルター2の加熱温度を制御するための温度
センサー23が取り付けられている。
【0028】濾過エレメント22は、例えば図3〜図5
に示すように、所定間隔で設けられている内縁部および
外縁部につば221aが内側を向けて設けられている一
対のリング状エンドプレート221,221と、このエ
ンドプレート221の内縁部に設けられているつば22
1aに外嵌しているインナーパイプ222と、このイン
ナーパイプ222の外周を取り巻いて設けられているい
る濾材223と、この濾材223を補強している濾材2
23の両面に設けられたステンレス製の金網224とか
らなっている。そして、このインナーパイプ222に
は、導入されたサンプリングガスを放出するために多数
の穴が散点状に設けられている。また、濾材223は蛇
腹状とされ、その濾過面積が大きくされている。その蛇
腹状の谷部はインナーパイプ222の外周と当接し、山
部の端部はエンドプレート221の外縁部に設けられて
いるつば221aの内側に当接している。その上、濾材
223の端部はエンドプレート221に接着剤で固定さ
れ、この部分からのサンプリングガスのリークが防止さ
れている。ここで濾材223としては、例えばポリエス
テル繊維をフェルト状にしたもの、繊維状活性炭をフェ
ルト状にしたものなどが用いられる。また、インナーパ
イプ222のエンドプレート221に外嵌されている部
分も接着剤で固定されて、その部分からのサンプリング
ガスのリークが防止されている。そして、かかる構成を
有する濾過エレメント22をガス入口211に設けられ
た接続管213をエンドプレート221の内縁部のつば
221aに嵌入した状態で本体21に装填する。
に示すように、所定間隔で設けられている内縁部および
外縁部につば221aが内側を向けて設けられている一
対のリング状エンドプレート221,221と、このエ
ンドプレート221の内縁部に設けられているつば22
1aに外嵌しているインナーパイプ222と、このイン
ナーパイプ222の外周を取り巻いて設けられているい
る濾材223と、この濾材223を補強している濾材2
23の両面に設けられたステンレス製の金網224とか
らなっている。そして、このインナーパイプ222に
は、導入されたサンプリングガスを放出するために多数
の穴が散点状に設けられている。また、濾材223は蛇
腹状とされ、その濾過面積が大きくされている。その蛇
腹状の谷部はインナーパイプ222の外周と当接し、山
部の端部はエンドプレート221の外縁部に設けられて
いるつば221aの内側に当接している。その上、濾材
223の端部はエンドプレート221に接着剤で固定さ
れ、この部分からのサンプリングガスのリークが防止さ
れている。ここで濾材223としては、例えばポリエス
テル繊維をフェルト状にしたもの、繊維状活性炭をフェ
ルト状にしたものなどが用いられる。また、インナーパ
イプ222のエンドプレート221に外嵌されている部
分も接着剤で固定されて、その部分からのサンプリング
ガスのリークが防止されている。そして、かかる構成を
有する濾過エレメント22をガス入口211に設けられ
た接続管213をエンドプレート221の内縁部のつば
221aに嵌入した状態で本体21に装填する。
【0029】2次フィルター2をかかる構成とすること
により、ガス入口211から導入されたサンプリングガ
スを、インナーパイプ222、濾材223を通ってガス
出口212から排出することができる。この間に、濾材
223によりオイルミストが除去される。
により、ガス入口211から導入されたサンプリングガ
スを、インナーパイプ222、濾材223を通ってガス
出口212から排出することができる。この間に、濾材
223によりオイルミストが除去される。
【0030】次に、かかる構成を有する2次フィルター
2のオイル除去能力についてテストを行った。
2のオイル除去能力についてテストを行った。
【0031】実験例1 ポリエステル繊維をフェルト状にしたものを濾材223
として用いて2次フィルター2を作製し、その温度を8
0°Cに調節してオイルミストの濃度が483.4pp
mのテストガスを、同じく80°Cに加熱された配管よ
り流した。このフィルター2の出口でオイルミストの濃
度を測定したところ91.4ppmであった。このこと
から、このフィルター2のオイルミスト除去効率は8
1.1%であることがわかる。
として用いて2次フィルター2を作製し、その温度を8
0°Cに調節してオイルミストの濃度が483.4pp
mのテストガスを、同じく80°Cに加熱された配管よ
り流した。このフィルター2の出口でオイルミストの濃
度を測定したところ91.4ppmであった。このこと
から、このフィルター2のオイルミスト除去効率は8
1.1%であることがわかる。
【0032】実験例2 繊維状活性炭をフェルト状にしたものを濾材223とし
て用いて2次フィルター2を作製し、その温度を80°
Cに調節してオイルミストの濃度が779ppmのテス
トガスを、同じく80°Cに加熱された配管より流し
た。このフィルター2の出口でオイルミストの濃度を測
定したところ72.9ppmであった。このことから、
このフィルター2のオイルミスト除去効率は90.5%
であることがわかる。
て用いて2次フィルター2を作製し、その温度を80°
Cに調節してオイルミストの濃度が779ppmのテス
トガスを、同じく80°Cに加熱された配管より流し
た。このフィルター2の出口でオイルミストの濃度を測
定したところ72.9ppmであった。このことから、
このフィルター2のオイルミスト除去効率は90.5%
であることがわかる。
【0033】実験例3 繊維状活性炭をフェルト状にしたものを濾材223とし
て用いて2次フィルター2を作製し、その温度を80°
Cに調節してオイルミストの濃度が697ppmのテス
トガスを、同じく80°Cに加熱された配管より流し
た。このフィルター2の出口でオイルミストの濃度を測
定したところ35.1ppmであった。このことから、
このフィルター2のオイルミスト除去効率は95.0%
であることがわかる。
て用いて2次フィルター2を作製し、その温度を80°
Cに調節してオイルミストの濃度が697ppmのテス
トガスを、同じく80°Cに加熱された配管より流し
た。このフィルター2の出口でオイルミストの濃度を測
定したところ35.1ppmであった。このことから、
このフィルター2のオイルミスト除去効率は95.0%
であることがわかる。
【0034】このように本実施例に用いている2次フィ
ルター2はオイルミスト除去効率が高いものであるとい
える。
ルター2はオイルミスト除去効率が高いものであるとい
える。
【0035】図6は2次フィルター2を並列に配設した
ものであって、1次フィルター1からのサンプリング配
管9を4方口電磁弁15で2本の配管9A,9Bに分岐
し、並列に配列された2次フィルター2A,2Bの各々
に接続する。ここで、4方口電磁弁15の残りの口はパ
ージ用ガスの注入口として使用される。また、並列に配
列された2次フィルター2A,2Bからのサンプリング
配管9A,9Bは再び4方口電磁弁16により1本の配
管9にまとめられて3次フィルター3接続される。そし
て、4方口電磁弁16の残りの口はパージ用ガスの排出
口として使用される。かかる構成とすることにより、例
えば使用中の2次フィルター2Aの効率が低下してきた
ときには、4方口電磁弁15,16を切り替えて、使用
中のフィルター2Aと待機中のフィルター2Bを切り替
えるとともに、今まで使用していたフィルター2Aにパ
ージ用ガスを流すことにより、ガスサンプリングを継続
しながらその再生を図ることができる。
ものであって、1次フィルター1からのサンプリング配
管9を4方口電磁弁15で2本の配管9A,9Bに分岐
し、並列に配列された2次フィルター2A,2Bの各々
に接続する。ここで、4方口電磁弁15の残りの口はパ
ージ用ガスの注入口として使用される。また、並列に配
列された2次フィルター2A,2Bからのサンプリング
配管9A,9Bは再び4方口電磁弁16により1本の配
管9にまとめられて3次フィルター3接続される。そし
て、4方口電磁弁16の残りの口はパージ用ガスの排出
口として使用される。かかる構成とすることにより、例
えば使用中の2次フィルター2Aの効率が低下してきた
ときには、4方口電磁弁15,16を切り替えて、使用
中のフィルター2Aと待機中のフィルター2Bを切り替
えるとともに、今まで使用していたフィルター2Aにパ
ージ用ガスを流すことにより、ガスサンプリングを継続
しながらその再生を図ることができる。
【0036】ここでは2次フィルター2を並列にした場
合について説明したが、1次フィルター1および/また
は3次フィルター3も並列配列とすることができる。
合について説明したが、1次フィルター1および/また
は3次フィルター3も並列配列とすることができる。
【0037】また、本実施例において2次フィルターと
して用いているフィルターを、1次フィルターおよび/
または3次フィルターとして用いてもよい。
して用いているフィルターを、1次フィルターおよび/
または3次フィルターとして用いてもよい。
【0038】
【考案の効果】以上説明したように、本考案によれば、
サンプリング系が所定温度に加熱されているので、炭酸
アンモニウム塩の析出が防止できる。そのため、炭酸ア
ンモニウムの析出によりサンプリング系が閉塞すること
はない。また、炭酸アンモニウム塩の析出が従来のガス
サンプリング装置と比較して著しく低減されるので、測
定誤差を小さくできる。さらに、オイルミストの除去も
充分になされているので、光学式ガス分析計にドリフト
が生ずることもない。
サンプリング系が所定温度に加熱されているので、炭酸
アンモニウム塩の析出が防止できる。そのため、炭酸ア
ンモニウムの析出によりサンプリング系が閉塞すること
はない。また、炭酸アンモニウム塩の析出が従来のガス
サンプリング装置と比較して著しく低減されるので、測
定誤差を小さくできる。さらに、オイルミストの除去も
充分になされているので、光学式ガス分析計にドリフト
が生ずることもない。
【図1】本考案のガスサンプリング装置の一実施例の概
略図である。
略図である。
【図2】同実施例に用いる2次フィルターの概略図であ
る。
る。
【図3】同フィルターの濾過エレメントの長手方向部分
断面図である。
断面図である。
【図4】図3のAーA線断面図である。
【図5】濾材の要部構造図である。
【図6】2次フィルターを並列に配列した場合の説明図
である。
である。
【図7】従来のガスサンプリング装置の概略図である。
【図8】従来の糸巻き式フィルターの概略図である。
1 1次フィルター 2 2次フィルター 21 本体 22 濾過エレメント 3 3次フィルター 4 サンプリングポンプ 5 ニードルバルブ 6 3方口電磁弁 7 流量計 8 光学式ガス分析装置 9 サンプリング配管 10 バイパス配管 11 圧力調節弁 12 ゼロ・スパンガスライン 13 ゼロガスライン 14 スパンガスライン 15,16 4方口電磁弁 R 加熱室 S ガスサンプリング装置
Claims (2)
- 【請求項1】 少なくともダスト除去手段とサンプリン
グガス吸引手段と流量計測手段と流量調節手段と光学式
ガス分析手段と前記各手段を接続するサンプリング配管
とを備えてなり、 前記ダスト除去手段とサンプリングガス吸引手段と流量
計測手段と流量調節手段と光学式ガス分析手段と前記サ
ンプリング配管とが所定温度に加熱されてなることを特
徴とするガスサンプリング装置。 - 【請求項2】 前記ダスト除去手段が複数の除去手段か
らなり、そのうちの一つの除去手段の加熱温度が他より
も若干低くされていることを特徴とする請求項1記載の
ガスサンプリング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1993031310U JP2596259Y2 (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | ガスサンプリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1993031310U JP2596259Y2 (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | ガスサンプリング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0684351U JPH0684351U (ja) | 1994-12-02 |
JP2596259Y2 true JP2596259Y2 (ja) | 1999-06-07 |
Family
ID=12327720
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1993031310U Expired - Fee Related JP2596259Y2 (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | ガスサンプリング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2596259Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7083359B2 (ja) * | 2019-03-11 | 2022-06-10 | エレククア カンパニー リミテッド | 直接熱交換による水槽用水温調節方法及び装置 |
-
1993
- 1993-05-18 JP JP1993031310U patent/JP2596259Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0684351U (ja) | 1994-12-02 |
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