JP2587872B2 - Fe―Si合金軟質磁性焼結体の製造方法 - Google Patents
Fe―Si合金軟質磁性焼結体の製造方法Info
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- B22F2998/00—Supplementary information concerning processes or compositions relating to powder metallurgy
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、軟磁気特性、焼結寸法精度に優れている製
品を得ることができるFe−Si合金軟質磁性焼結体の製造
方法に関するものである。
品を得ることができるFe−Si合金軟質磁性焼結体の製造
方法に関するものである。
(従来の技術) Fe−Si系合金は、磁性材料として、たとえば、ドット
プリンター用のヘッドヨーク材としてFe−3%Si合金が
多用されているように広く用いられている。
プリンター用のヘッドヨーク材としてFe−3%Si合金が
多用されているように広く用いられている。
一般に、FeにSiを添加すると透磁率、電気抵抗が増加
し、交流磁気特性が向上する。しかし、Siの添加量が増
すとともに材料が硬くなり、かつ、脆くなるためにFe−
Si合金を塑性加工することや切削加工することが困難に
なり、加工歩留りがいちじるしく低減するものである。
このために、溶解、鋳造、加工という工程で、たとえ
ば、複雑な形状をもつヘッドヨークを製造する場合など
には、その製造価格が高くなるものである。
し、交流磁気特性が向上する。しかし、Siの添加量が増
すとともに材料が硬くなり、かつ、脆くなるためにFe−
Si合金を塑性加工することや切削加工することが困難に
なり、加工歩留りがいちじるしく低減するものである。
このために、溶解、鋳造、加工という工程で、たとえ
ば、複雑な形状をもつヘッドヨークを製造する場合など
には、その製造価格が高くなるものである。
そこで、このような欠点を補うため、通常、所定形状
のセラミック製の型を使用して型内にFe−Si合金の融液
を注入し、これを冷却した後、型から取出すという精密
鋳造法を用いて複雑形状品が製造されるようになってい
る。しかしながら、この精密鋳造法では、金属を溶解
し、所望の形状に鋳造する方法であるために、凝固時に
偏析が生じたり、大きな気孔が残留してしまう場合があ
り、軟磁気特性の優れた製品を安定して製造することが
困難である。
のセラミック製の型を使用して型内にFe−Si合金の融液
を注入し、これを冷却した後、型から取出すという精密
鋳造法を用いて複雑形状品が製造されるようになってい
る。しかしながら、この精密鋳造法では、金属を溶解
し、所望の形状に鋳造する方法であるために、凝固時に
偏析が生じたり、大きな気孔が残留してしまう場合があ
り、軟磁気特性の優れた製品を安定して製造することが
困難である。
このような欠点を補うために、最近、Fe−Si合金製部
品を粉末冶金法によって製造する試みがなされている。
しかしながら、通常の粉末冶金法では、Si粉やFe−Si合
金粉が硬質であるために、圧縮成形時に大きな圧力をか
けても成形し難く、クラックが発生し易い。それを解決
するために、平均粒径が44〜100μmのような比較的大
きなFe粉の中に、平均粒径が44μm以下の細かい粒子の
Si粉、Fe−Si合金粉の両者の中の一方又は両方を分散さ
せて目的の組成とし、圧縮成形を向上させる方法が提案
されている。(特開昭62−27545号公報など) (発明が解決しようとする課題) しかしながら、前記のような改良された分散方法によ
って得た成形体を焼結するときに、寸法精度を維持しよ
うとすると、焼結後の最終相対密度が、せいぜい90%程
度までしか上昇できず、その上、44〜100μmの粗粒Fe
粉を用いているために、SiのFe粉中への拡散が不十分と
なり、Siの分布が不均一になる。このために、軟磁気特
性は、空隙率が高く、Siの分布が不均一なものほど劣化
するから、前記方法による成形体の焼結体は、従来から
行なわれている溶製法と比較していちじるしく劣るとい
う問題があった。
品を粉末冶金法によって製造する試みがなされている。
しかしながら、通常の粉末冶金法では、Si粉やFe−Si合
金粉が硬質であるために、圧縮成形時に大きな圧力をか
けても成形し難く、クラックが発生し易い。それを解決
するために、平均粒径が44〜100μmのような比較的大
きなFe粉の中に、平均粒径が44μm以下の細かい粒子の
Si粉、Fe−Si合金粉の両者の中の一方又は両方を分散さ
せて目的の組成とし、圧縮成形を向上させる方法が提案
されている。(特開昭62−27545号公報など) (発明が解決しようとする課題) しかしながら、前記のような改良された分散方法によ
って得た成形体を焼結するときに、寸法精度を維持しよ
うとすると、焼結後の最終相対密度が、せいぜい90%程
度までしか上昇できず、その上、44〜100μmの粗粒Fe
粉を用いているために、SiのFe粉中への拡散が不十分と
なり、Siの分布が不均一になる。このために、軟磁気特
性は、空隙率が高く、Siの分布が不均一なものほど劣化
するから、前記方法による成形体の焼結体は、従来から
行なわれている溶製法と比較していちじるしく劣るとい
う問題があった。
本発明は、前記問題を解決し、優れた軟磁気特性を有
する高密度のFe−Si合金焼結体を製造し得る手段を得る
ことを目的とするものである。
する高密度のFe−Si合金焼結体を製造し得る手段を得る
ことを目的とするものである。
(課題を解決するための手段) 本発明者等は、前記問題を解決し、前記目的を達成す
るために鋭意研究の結果、特定の割合で配合したFe,Si
混合粉末を射出成形した後、脱バインダー処理、脱ガス
処理、拡散処理などを行なった後、焼結すること、又、
さらに特定温度に熱処理することによって目的を達し得
ることを見出して本発明を完成するに至った。すなわ
ち、本発明の第1の実施態様は、Si1〜10重量%残部が
実質的にFeからなるように、平均粒径20〜50μmのFe粉
又はFe−Si合金粉のいずれか一方あるいは両方の50〜80
重量%と平均粒径4〜10μmのFe−Si合金粉の50〜20重
量%とを配合して構成するか、あるいは平均粒径4〜10
μmのFe粉20〜50重量%と平均粒径20〜50μmのFe−Si
合金粉80〜50重量%とを配合して構成するように、いず
れか一方を大きな粒度とし他方を細かい粒度として配合
されたFe、Si混合粉末60〜80重量%とバインダー40〜20
重量%とを混合して調製した組成物を、射出成形し、得
られた成形体を、加熱して脱バインダー処理した後、又
は脱バインダー処理と同時に脱ガス処理及びSiの拡散処
理を行ない、その後、焼結処理を行なうFe−Si合金軟質
磁性焼結体の製造方法であり、第2の実施態様は、第1
の実施態様によって得た焼結体を、さらに、800〜1100
℃の温度で熱処理を行なうFe−Si合金軟質磁性焼結体の
製造方法である。
るために鋭意研究の結果、特定の割合で配合したFe,Si
混合粉末を射出成形した後、脱バインダー処理、脱ガス
処理、拡散処理などを行なった後、焼結すること、又、
さらに特定温度に熱処理することによって目的を達し得
ることを見出して本発明を完成するに至った。すなわ
ち、本発明の第1の実施態様は、Si1〜10重量%残部が
実質的にFeからなるように、平均粒径20〜50μmのFe粉
又はFe−Si合金粉のいずれか一方あるいは両方の50〜80
重量%と平均粒径4〜10μmのFe−Si合金粉の50〜20重
量%とを配合して構成するか、あるいは平均粒径4〜10
μmのFe粉20〜50重量%と平均粒径20〜50μmのFe−Si
合金粉80〜50重量%とを配合して構成するように、いず
れか一方を大きな粒度とし他方を細かい粒度として配合
されたFe、Si混合粉末60〜80重量%とバインダー40〜20
重量%とを混合して調製した組成物を、射出成形し、得
られた成形体を、加熱して脱バインダー処理した後、又
は脱バインダー処理と同時に脱ガス処理及びSiの拡散処
理を行ない、その後、焼結処理を行なうFe−Si合金軟質
磁性焼結体の製造方法であり、第2の実施態様は、第1
の実施態様によって得た焼結体を、さらに、800〜1100
℃の温度で熱処理を行なうFe−Si合金軟質磁性焼結体の
製造方法である。
本発明において使用するFe,Si混合粉末は、Fe粉とFe
−Si合金粉、又は、2種類のFe−Si合金粉を配合して調
製されるものであって、Fe粉としては、たとえば、アト
マイズ法によって製造された純度が99〜99.9%、平均粒
度が4〜10μm又は20〜40μmの粉体を使用する。Fe−
Si合金粉としては、たとえば、ガスアトマイズ法によっ
て製造されたSi含有量が1.5〜19.7重量%のFe−Si合金
粉であって、平均粒径が20〜40μm又は4〜10μmの粉
体を使用する。
−Si合金粉、又は、2種類のFe−Si合金粉を配合して調
製されるものであって、Fe粉としては、たとえば、アト
マイズ法によって製造された純度が99〜99.9%、平均粒
度が4〜10μm又は20〜40μmの粉体を使用する。Fe−
Si合金粉としては、たとえば、ガスアトマイズ法によっ
て製造されたSi含有量が1.5〜19.7重量%のFe−Si合金
粉であって、平均粒径が20〜40μm又は4〜10μmの粉
体を使用する。
しかして、Fe,Si混合粉末は、このようなFe粉とFe−S
i合金粉とを使用して、Si含有量が1〜10重量%となる
ように調製するものであって、平均粒径20〜50μmのFe
粉又はFe−Si合金粉のいずれか一方あるいは両方の50〜
80重量%と平均粒径4〜10μmのFe−Si合金粉の50〜20
重量%とを配合して構成するか、あるいは、平均粒径4
〜10μmのFe粉20〜50重量%と平均粒径20〜50μmのFe
−Si合金粉80〜50重量%とを配合して構成するように、
いずれか一方を大きな粒度とし他方を細かい粒度として
配合する。
i合金粉とを使用して、Si含有量が1〜10重量%となる
ように調製するものであって、平均粒径20〜50μmのFe
粉又はFe−Si合金粉のいずれか一方あるいは両方の50〜
80重量%と平均粒径4〜10μmのFe−Si合金粉の50〜20
重量%とを配合して構成するか、あるいは、平均粒径4
〜10μmのFe粉20〜50重量%と平均粒径20〜50μmのFe
−Si合金粉80〜50重量%とを配合して構成するように、
いずれか一方を大きな粒度とし他方を細かい粒度として
配合する。
軟磁性材料として要求される特性として、飽和磁束密
度が高く、磁気異方性定数や磁歪定数が小であることが
あげられ、又、交流で使用される場合には、電気抵抗が
大きく、鉄損失を少なくする必要がある。これらの要望
特性に対して、Siは、有効な添加元素であるが、Siが1
重量%未満では、添加の効果があまりなく、10重量%を
超えると飽和磁束密度が極端に低下するので実用性がな
くなるものである。又、Fe,Si混合粉末の調製におい
て、平均粒径20〜50μmの粉末が50重量%未満、又は、
80重量%を超えた場合、射出成形体中の粉末原料の充填
密度が減少し、焼結密度が上らないばかりでなく、焼結
体中のSi分布も不均一となる可能性が大きいものであ
る。
度が高く、磁気異方性定数や磁歪定数が小であることが
あげられ、又、交流で使用される場合には、電気抵抗が
大きく、鉄損失を少なくする必要がある。これらの要望
特性に対して、Siは、有効な添加元素であるが、Siが1
重量%未満では、添加の効果があまりなく、10重量%を
超えると飽和磁束密度が極端に低下するので実用性がな
くなるものである。又、Fe,Si混合粉末の調製におい
て、平均粒径20〜50μmの粉末が50重量%未満、又は、
80重量%を超えた場合、射出成形体中の粉末原料の充填
密度が減少し、焼結密度が上らないばかりでなく、焼結
体中のSi分布も不均一となる可能性が大きいものであ
る。
又、本発明におけるバインダーは、射出成形粉末冶金
法用として公知のバインダーを使用することができる
が、焼結炉をバインダーで汚染させないために脱バイン
ダー処理をする必要があり、バインダー除去のときに、
残留カーボンが発生して、Fe−Si合金中にカーボンが侵
入すると、磁気特性が低下するから、残留カーボンの発
生しにくい、ワックスを主体としたバインダーを使用す
ることが好ましい。
法用として公知のバインダーを使用することができる
が、焼結炉をバインダーで汚染させないために脱バイン
ダー処理をする必要があり、バインダー除去のときに、
残留カーボンが発生して、Fe−Si合金中にカーボンが侵
入すると、磁気特性が低下するから、残留カーボンの発
生しにくい、ワックスを主体としたバインダーを使用す
ることが好ましい。
このようなFe,Si混合粉末とバインダーとからなる組
成物は、Fe,Si混合粉末60〜80容量%とバインダー40〜2
0容量%とを混合して調製する。しかして、バインダー
量が20容量%より少ないと射出成形が困難であり、40容
量%を超えると射出成形体中の原料粉末の充填密度が低
くなり過ぎ、焼結したときに面引けや内部欠陥が発生し
易くなるものである。
成物は、Fe,Si混合粉末60〜80容量%とバインダー40〜2
0容量%とを混合して調製する。しかして、バインダー
量が20容量%より少ないと射出成形が困難であり、40容
量%を超えると射出成形体中の原料粉末の充填密度が低
くなり過ぎ、焼結したときに面引けや内部欠陥が発生し
易くなるものである。
バインダーの除去方法としては、使用するバインダー
の種類によって、加熱脱脂、溶剤脱脂、その他公知の方
法があるが、加熱脱脂装置は、他の方法の装置と比較し
て簡便であるために、量産時には、窒素又は水素雰囲気
中あるいは真空中で、500〜900℃で行なう加熱脱脂がも
っとも好ましい方法である。
の種類によって、加熱脱脂、溶剤脱脂、その他公知の方
法があるが、加熱脱脂装置は、他の方法の装置と比較し
て簡便であるために、量産時には、窒素又は水素雰囲気
中あるいは真空中で、500〜900℃で行なう加熱脱脂がも
っとも好ましい方法である。
成形体の脱ガス処理及びSiの拡散処理は、水素雰囲気
あるいは真空中で、500〜900℃に加熱して行なう。500
℃未満では、Siの拡散速度が遅く、脱ガスも不十分であ
り、900℃を超えると、Fe粉がα相からγ相に変態し、F
e中へのSiの拡散速度が低下してしまうからである。な
お、拡散処理方法としては、500〜900℃の間で一定温度
で30〜60分間保持してもよいし、500〜900℃まで30〜60
分間で昇温してもよく、脱バインダー処理をした後、あ
るいは、脱バインダー処理と同時に行なうものである。
あるいは真空中で、500〜900℃に加熱して行なう。500
℃未満では、Siの拡散速度が遅く、脱ガスも不十分であ
り、900℃を超えると、Fe粉がα相からγ相に変態し、F
e中へのSiの拡散速度が低下してしまうからである。な
お、拡散処理方法としては、500〜900℃の間で一定温度
で30〜60分間保持してもよいし、500〜900℃まで30〜60
分間で昇温してもよく、脱バインダー処理をした後、あ
るいは、脱バインダー処理と同時に行なうものである。
これらの処理を行なうことによって、成形体の清浄度
が増し、焼結体中の粒界や粒内の酸化物などの異物がな
くなり、さらに、Siの拡散を促進して焼結体中のSiの分
布が均一となって焼結体の軟磁気特性が向上する。
が増し、焼結体中の粒界や粒内の酸化物などの異物がな
くなり、さらに、Siの拡散を促進して焼結体中のSiの分
布が均一となって焼結体の軟磁気特性が向上する。
次に、焼結処理は、1200〜1350℃で水素雰囲気中ある
いは真空中で30〜180分間保持して行なう。この温度
は、圧縮成形を用いた粉末冶金と比較して高温であり、
これは、成形体中の粉末充填が圧縮成形した成形体と比
較して疎充填であるために、1200℃未満の温度では、焼
結密度が上らず、又、1200℃以上の高温で焼結すること
により結晶粒の成長が促進されるために、歪のない大き
な結晶粒の焼結体となり、単位体積当りの結晶粒界の面
積が小さくなり軟磁気特性が向上し、1350℃より高い温
度では、液相が全体積の30%を超えるために、焼結変形
がいちじるしくなり、寸法精度のよい焼結体が得られな
いからである。
いは真空中で30〜180分間保持して行なう。この温度
は、圧縮成形を用いた粉末冶金と比較して高温であり、
これは、成形体中の粉末充填が圧縮成形した成形体と比
較して疎充填であるために、1200℃未満の温度では、焼
結密度が上らず、又、1200℃以上の高温で焼結すること
により結晶粒の成長が促進されるために、歪のない大き
な結晶粒の焼結体となり、単位体積当りの結晶粒界の面
積が小さくなり軟磁気特性が向上し、1350℃より高い温
度では、液相が全体積の30%を超えるために、焼結変形
がいちじるしくなり、寸法精度のよい焼結体が得られな
いからである。
このような本発明の方法によって得られたままの焼結
体製品でも十分優れた軟磁気特性が得られるものである
が、さらに特性を良くするために、前記のようにして得
られた焼結体を、好ましくは水素雰囲気中あるいは真空
中で、800〜1100℃に、30〜120分間加熱保持する熱処理
を行ない、その後、500℃まで徐冷することが有効であ
って、この温度範囲外では得られないさらに優れた軟磁
気特性が得られるものである。
体製品でも十分優れた軟磁気特性が得られるものである
が、さらに特性を良くするために、前記のようにして得
られた焼結体を、好ましくは水素雰囲気中あるいは真空
中で、800〜1100℃に、30〜120分間加熱保持する熱処理
を行ない、その後、500℃まで徐冷することが有効であ
って、この温度範囲外では得られないさらに優れた軟磁
気特性が得られるものである。
(実施例) 次に、本発明の実施例を述べる。
実施例 1〜7 表1に示すような組成と粒度のFe粉とFe−Si合金粉と
を使用して、表1に示す配合比でFe−1%Si(実施例
1)、Fe−3%Si(実施例2〜5)、Fe−6.5%Si(実
施例6)、Fe−10%Si(実施例7)のようなFe,Si混合
粉末を調製し、これら各Fe,Si混合粉末に、ワックス、
ポリエチレンより構成されたバインダーを、それぞれに
30容量%添加し、150℃で十分に混練した後、ペレット
状に造粒し、このペレットを射出成形機を用いて、外径
45mm、内径34mm、厚さ2.2mmのリング状に成形した。得
られたリング状成形体を、N2雰囲気中で、450℃まで20
℃/時の昇温速度で加熱して、バインダーを加熱分解し
て除去した。その後、水素雰囲気中あるいは真空中で、
30℃/分の昇温速度で700℃まで加熱した後、700℃で30
分間保持して脱ガス処理及びSiの拡散処理を行なった。
ついで、1350℃まで15℃/分の昇温速度で加熱し、1350
℃で60分間保持した後、1000℃まで炉冷し、ひき続きN2
ガスによる冷却を行なう焼結処理を行なった。得られた
焼結体の外径は40mm、内径30mm、厚さ2mmであった。
を使用して、表1に示す配合比でFe−1%Si(実施例
1)、Fe−3%Si(実施例2〜5)、Fe−6.5%Si(実
施例6)、Fe−10%Si(実施例7)のようなFe,Si混合
粉末を調製し、これら各Fe,Si混合粉末に、ワックス、
ポリエチレンより構成されたバインダーを、それぞれに
30容量%添加し、150℃で十分に混練した後、ペレット
状に造粒し、このペレットを射出成形機を用いて、外径
45mm、内径34mm、厚さ2.2mmのリング状に成形した。得
られたリング状成形体を、N2雰囲気中で、450℃まで20
℃/時の昇温速度で加熱して、バインダーを加熱分解し
て除去した。その後、水素雰囲気中あるいは真空中で、
30℃/分の昇温速度で700℃まで加熱した後、700℃で30
分間保持して脱ガス処理及びSiの拡散処理を行なった。
ついで、1350℃まで15℃/分の昇温速度で加熱し、1350
℃で60分間保持した後、1000℃まで炉冷し、ひき続きN2
ガスによる冷却を行なう焼結処理を行なった。得られた
焼結体の外径は40mm、内径30mm、厚さ2mmであった。
得られた焼結体に、励磁コイル及びサーチコイルをそ
れぞれ50ターン巻き、直流磁束記録計によってBHヒステ
リシス曲線を描かせ、磁束密度(B20)、保持力(Hc)
及び最大透磁率(μmax)を求め、又、鉄損評価装置に
より交流磁気特性である鉄損を求めた。これらの結果を
表1に示す。
れぞれ50ターン巻き、直流磁束記録計によってBHヒステ
リシス曲線を描かせ、磁束密度(B20)、保持力(Hc)
及び最大透磁率(μmax)を求め、又、鉄損評価装置に
より交流磁気特性である鉄損を求めた。これらの結果を
表1に示す。
実施例 8〜9 粒度6μmのFe粉と粒度44μmのFe−4.5%Si合金粉
とを33:67の割合で配合して、Fe−3%Si粉末を調製
し、以後、実施例1と同様にしてリング状焼結体を製造
し、ついで、真空雰囲気中850℃に1時間保持し(実施
例8)、及び1050℃に1時間保持(実施例9)した後、
500℃まで炉冷し、ひき続きN2ガスによるガス冷却を行
なった。得られた製品について、実施例1と同様にして
各種測定値を求めた。ただし、磁束密度は外部磁場50e
での測定値B5を求めた。これらの結果を表2に示す。
とを33:67の割合で配合して、Fe−3%Si粉末を調製
し、以後、実施例1と同様にしてリング状焼結体を製造
し、ついで、真空雰囲気中850℃に1時間保持し(実施
例8)、及び1050℃に1時間保持(実施例9)した後、
500℃まで炉冷し、ひき続きN2ガスによるガス冷却を行
なった。得られた製品について、実施例1と同様にして
各種測定値を求めた。ただし、磁束密度は外部磁場50e
での測定値B5を求めた。これらの結果を表2に示す。
比較例 1 粒径6μm及び44μmのFe粉を使用して、配合比33:6
7の割合で配合し、実施例1と同様にして焼結体を製造
し、実施例1と同様にして各測定を行なった。これらの
結果を表3に示す。
7の割合で配合し、実施例1と同様にして焼結体を製造
し、実施例1と同様にして各測定を行なった。これらの
結果を表3に示す。
比較例 2〜4 表3に示すようにFe粉とFe−Si合金粉を使用して、Fe
−3%Si粉末を調製し、実施例1と同様にして焼結体を
製造し、実施例1と同様にして各測定を行なった。これ
らの結果を表3に示す。
−3%Si粉末を調製し、実施例1と同様にして焼結体を
製造し、実施例1と同様にして各測定を行なった。これ
らの結果を表3に示す。
比較例 5 粒径6μmのFe粉と粒度44μmのFe−4.5%Si合金粉
を使用して、33:67の割合で配合して、Fe−3%Si粉末
を調製し、実施例1と同様にして焼結体を製造し、さら
に、実施例8と同様にして、650℃で1時間で熱処理を
行なった。得られた製品について、実施例1と同様にし
て測定を行なった。これらの結果を表3に示す。
を使用して、33:67の割合で配合して、Fe−3%Si粉末
を調製し、実施例1と同様にして焼結体を製造し、さら
に、実施例8と同様にして、650℃で1時間で熱処理を
行なった。得られた製品について、実施例1と同様にし
て測定を行なった。これらの結果を表3に示す。
比較例 6〜7 粒径6μmのFe粉と粒径44μmのFe−4.5%Si合金粉
を使用して、Fe−3%Si粉末を調製し、焼結温度を1180
℃(比較例6)、1370℃(比較例7)とした以外は実施
例1と同様に処理し、同様の測定を行った結果を表3に
示す。
を使用して、Fe−3%Si粉末を調製し、焼結温度を1180
℃(比較例6)、1370℃(比較例7)とした以外は実施
例1と同様に処理し、同様の測定を行った結果を表3に
示す。
比較例 8 Fe−3%Si合金を使用して、ロストワックス法によっ
て実施例1と同様なリング状製品を製造し、実施例1と
同様にして各測定を行なった。これらの結果を表3に示
す。
て実施例1と同様なリング状製品を製造し、実施例1と
同様にして各測定を行なった。これらの結果を表3に示
す。
比較例 9 粒径6μmのFe粉と粒径44μmのFe−4.5%Si合金粉
とを33:67の割合で配合してFe−3%Si粉末を調製し、
圧力5t/cm2でプレス加工して製品を得、実施例1と同様
にして各測定を行なった。これらの結果を表3に示す。
とを33:67の割合で配合してFe−3%Si粉末を調製し、
圧力5t/cm2でプレス加工して製品を得、実施例1と同様
にして各測定を行なった。これらの結果を表3に示す。
以上の結果から、本発明による焼結体は、高透磁率、
低保磁力、高磁束密度であり、さらに鉄損が低く、ロス
トワックス法で製造した製品と同等以上の軟磁気特性を
有していることが認められ、プレス成形法によった場
合、軟磁気特性は本発明製品とあまり差のない製品が得
られるが、クラックが発生し、製品としての価値のある
ものが得にくいことが認められた。
低保磁力、高磁束密度であり、さらに鉄損が低く、ロス
トワックス法で製造した製品と同等以上の軟磁気特性を
有していることが認められ、プレス成形法によった場
合、軟磁気特性は本発明製品とあまり差のない製品が得
られるが、クラックが発生し、製品としての価値のある
ものが得にくいことが認められた。
(発明の効果) 本発明は、FeとSiを特定範囲に配合したFe,Si混合粉
末とバインダーからなる組成物を、射出成形し、脱バイ
ンダー、脱ガス、Siの拡散などの各処理を行なった後、
焼結するものであり、さらに、熱処理するものであるか
ら、得られた製品のSi偏析がほとんどなく、大きな気孔
のない健全なものであって、ロストワックス法製品と比
較しても同等以上の軟磁気特性を有し、従来の粉末冶金
法と比較して、軟磁気特性を向上し得、複雑な形状で高
性能の軟磁気特性を有する軟磁性焼結体を安定して供給
し得るなど工業的に非常に有用である顕著な効果が認め
られる。
末とバインダーからなる組成物を、射出成形し、脱バイ
ンダー、脱ガス、Siの拡散などの各処理を行なった後、
焼結するものであり、さらに、熱処理するものであるか
ら、得られた製品のSi偏析がほとんどなく、大きな気孔
のない健全なものであって、ロストワックス法製品と比
較しても同等以上の軟磁気特性を有し、従来の粉末冶金
法と比較して、軟磁気特性を向上し得、複雑な形状で高
性能の軟磁気特性を有する軟磁性焼結体を安定して供給
し得るなど工業的に非常に有用である顕著な効果が認め
られる。
Claims (2)
- 【請求項1】Si1〜10重量%残部が実質的にFeからなる
ように、平均粒径20〜50μmのFe粉又はFe−Si合金粉の
いずれか一方あるいは両方の50〜80重量%と平均粒径4
〜10μmのFe−Si合金粉の50〜20重量%とを配合して構
成するか、あるいは平均粒径4〜10μmのFe粉20〜50重
量%と平均粒径20〜50μmのFe−Si合金粉80〜50重量%
とを配合して構成するように、いずれか一方を大きな粒
度とし他方を細かい粒度として配合されたFe、Si混合粉
末60〜80重量%とバインダー40〜20重量%とを混合して
調製した組成物を、射出成形し、得られた成形体を、加
熱して脱バインダー処理した後、又は、脱バインダー処
理と同時に脱ガス処理及びSiの拡散処理を行い、その
後、焼結処理を行うことを特徴とするFe−Si合金軟質磁
性焼結体の製造方法。 - 【請求項2】Si1〜10重量%残部が実質的にFeからなる
ように、平均粒径20〜50μmのFe粉又はFe−Si合金粉の
いずれか一方あるいは両方の50〜80重量%と平均粒径4
〜10μmのFe−Si合金粉の50〜20重量%とを配合して構
成するか、あるいは平均粒径4〜10μmのFe粉20〜50重
量%と平均粒径20〜50μmのFe−Si合金粉80〜50重量%
とを配合して構成するように、いずれか一方を大きな粒
度とし他方を細かい粒度として配合されたFe、Si混合粉
末60〜80重量%とバインダー40〜20重量%とを混合して
調製した組成物を、射出成形し、得られた成形体を、加
熱して脱バインダー処理した後、又は、脱バインダー処
理と同時に脱ガス処理及びSiの拡散処理を行い、その
後、焼結処理を行い、さらに、800〜1100℃の温度で熱
処理を行うことを特徴とするFe−Si合金軟質磁性焼結体
の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63319951A JP2587872B2 (ja) | 1988-12-19 | 1988-12-19 | Fe―Si合金軟質磁性焼結体の製造方法 |
US07/451,947 US5002728A (en) | 1988-12-19 | 1989-12-18 | Method of manufacturing soft magnetic Fe-Si alloy sintered product |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63319951A JP2587872B2 (ja) | 1988-12-19 | 1988-12-19 | Fe―Si合金軟質磁性焼結体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02164008A JPH02164008A (ja) | 1990-06-25 |
JP2587872B2 true JP2587872B2 (ja) | 1997-03-05 |
Family
ID=18116066
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63319951A Expired - Lifetime JP2587872B2 (ja) | 1988-12-19 | 1988-12-19 | Fe―Si合金軟質磁性焼結体の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5002728A (ja) |
JP (1) | JP2587872B2 (ja) |
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WO1991018125A1 (en) * | 1990-05-15 | 1991-11-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Sputtering target and production thereof |
JPH0539566A (ja) * | 1991-02-19 | 1993-02-19 | Mitsubishi Materials Corp | スパツタリング用ターゲツト及びその製造方法 |
JPH0525506A (ja) * | 1991-07-15 | 1993-02-02 | Mitsubishi Materials Corp | 高強度を有する射出成形純鉄焼結材の製造法 |
JP3400027B2 (ja) * | 1993-07-13 | 2003-04-28 | ティーディーケイ株式会社 | 鉄系軟磁性焼結体の製造方法およびその方法により得られた鉄系軟磁性焼結体 |
US5977230A (en) * | 1998-01-13 | 1999-11-02 | Planet Polymer Technologies, Inc. | Powder and binder systems for use in metal and ceramic powder injection molding |
DE10031923A1 (de) * | 2000-06-30 | 2002-01-17 | Bosch Gmbh Robert | Weichmagnetischer Werkstoff mit heterogenem Gefügebau und Verfahren zu dessen Herstellung |
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CN103824670B (zh) * | 2014-01-26 | 2016-05-18 | 武汉中磁浩源科技有限公司 | 一种铁硅磁粉芯及其制备方法 |
US10364477B2 (en) | 2015-08-25 | 2019-07-30 | Purdue Research Foundation | Processes for producing continuous bulk forms of iron-silicon alloys and bulk forms produced thereby |
CN107914007B (zh) * | 2017-11-06 | 2019-09-27 | 江苏精研科技股份有限公司 | 一种粉末注射成型用软磁材料及其制备工艺 |
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JPS5846609A (ja) * | 1981-09-12 | 1983-03-18 | Fujitsu Ltd | ドツトプリンタヘツド用コアおよびその製造方法 |
US4603062A (en) * | 1985-01-07 | 1986-07-29 | Cdp, Ltd. | Pump liners and a method of cladding the same |
JPS6452005A (en) * | 1987-08-20 | 1989-02-28 | Canon Denshi Kk | Production of magnetized compact |
JPH01212706A (ja) * | 1988-02-18 | 1989-08-25 | Seiko Epson Corp | 磁性材料の製造方法 |
JP2703939B2 (ja) * | 1988-08-20 | 1998-01-26 | 川崎製鉄株式会社 | Fe−Si系軟磁性焼結材料の製造方法 |
-
1988
- 1988-12-19 JP JP63319951A patent/JP2587872B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-12-18 US US07/451,947 patent/US5002728A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH02164008A (ja) | 1990-06-25 |
US5002728A (en) | 1991-03-26 |
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