JP2580313B2 - サージ吸収素子 - Google Patents

サージ吸収素子

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JP2580313B2
JP2580313B2 JP1030982A JP3098289A JP2580313B2 JP 2580313 B2 JP2580313 B2 JP 2580313B2 JP 1030982 A JP1030982 A JP 1030982A JP 3098289 A JP3098289 A JP 3098289A JP 2580313 B2 JP2580313 B2 JP 2580313B2
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surge
absorbing element
surge absorbing
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microgap
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成夫 吉岡
芳幸 田中
暢也 猿渡
秋夫 内田
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、マイクロギャップ式サージ吸収素子に関す
る。更に、詳しくは、サージ応答電圧を所望値にできる
マイクロギャップ式サージ吸収素子に関する。
[従来の技術] サージ吸収素子であるネオン管は作製方法からガス圧
を大気圧以下とする必要があるためギャップ間隔を150
μm以上として、放電開始電圧及びサージ応答電圧を制
御するものである。然し乍ら、そのギャップ間隔が150
μm以上と大きいため、サージ応答電圧が高いという欠
点を持っている。
[発明が解決しようとする問題点] 本発明は、ギャップ間隔が150μm以下のマイクロギ
ャップを有するサージ吸収素子において、大気圧以上の
ネオンガス下で封止することにより、サージ応答電圧を
低くできるマイクロギャップ式サージ吸収素子を提供す
ることを目的にする。
[発明の構成] [問題点を解決するための手段] 本発明は、封止ガラス管内にマイクロギャップ素子を
有するサージ吸収素子において、マイクロギャップ間隔
150μm以下のマイクロギャップ素子の封止管内に、ネ
オンガスを大気圧以上の高圧下に封入することにより、
サージ応答電圧を所望値に調整したことを特徴とするマ
イクロギャップ式サージ吸収素子を提供する。
[作用] 本発明によると、マイクロギャップ式サージ吸収素子
のガラス管内に封止するネオンガス圧を、大気圧より高
圧にすることにより、形成すべきギャップ幅を小さくで
きると同時に、それによる放電開始電圧及びサージ応答
電圧を任意に制御することのできるサージ吸収素子を可
能にしたものである。
本発明のマイクロギャップ式サージ吸収素子の構造
は、第1図の概略断面図に示される。円柱状セラミック
ス絶縁体3の表面上に導電性被膜2を形成し、絶縁溝
1、即ち、マイクロギャップを形成し、ネオンガス7で
絶縁性外装体6中に封止したものである。円柱状セラミ
ックス絶縁体3の表面上に形成された両側の導電性被膜
2の両端には、電極5を形成し、リード線4を接続し、
図示のように外装体6の外部にまで通じてある。
このような構造のサージ吸収素子において、各ギャッ
プ間隔での、即ち、ギャップ間隔を20、30、40、70、10
0、150、200μmと変えたサージ吸収素子を作製し、各
々について、800℃での封止ガス圧(横軸にとる)とサ
ージ応答電圧(縦軸にとる:(1.2×50)μ秒−2kVのサ
ージ電圧を5回印加したときのサージ応答電圧の平均
値)との関係を測定した結果を、第2図のグラフに示
す。これから、ギャップ間隔が狭いほどガス圧の高いと
ころで、サージ応答電圧は最小値をとり、その値も小さ
くなることが明らかである。また、サージ応答電圧が最
小値を示すときの各ギャップ間隔と封止ガス圧(800℃
での)の関係を測定し、第3図に示す。これより、ギャ
ップ間隔が150μm以下のとき封止温度で大気圧即ち760
Torr以上となることが明らかである。
本発明に用いた導電性被膜は、電気抵抗率の小さい材
料であれば、金属、合金等を用いることができるが、特
にそれに限定されるものではない。
次に、本発明のマイクロギャップ式サージ吸収素子を
具体的な実施例により説明するが、本発明は、次の説明
により限定されるものではない。
[実施例1] 本実施例を断面により第4図に示す。被膜は、BaAlを
用い、ギャップ幅は、20μmである。即ち、鉛ガラス外
装体5内にネオンガス7で封止された円柱状アルミナ碍
子体3の表面上に導電性被膜(BaAl)2を形成し、その
真ん中にギャップ1を形成し、また、その両端に半球状
ステンレスキャップ4を接合した構造のものである。外
部電極6は、そのステンレスキャップ4に先端接続され
たものである。
次に、本実施例における封止ガス圧(800℃での)と
放電開始電圧、サージ応答電圧の関係を測定した結果を
第5図に示す。横軸に800℃での封止ガス圧をとり、縦
軸に放電開始電圧及びサージ応答電圧をとったものであ
る。
サージ応答電圧は、(1.2×50)μ秒−2kVで印加した
ときの応答電圧を測定したものである。
封止ガス圧が4800Torrのとき放電開始電圧は120V、サ
ージ応答電圧は290Vとなり、ネオン管等の放電管に比
べ、1/2以下のサージ応答電圧となった。
[発明の効果] 本発明のサージ吸収素子は、大気圧以上の圧力のネオ
ンガスを封止したマイクロギャップ素子を使用すること
により、 第1に、サージ応答電圧を任意に制御して得られるサ
ージ吸収素子が可能となったこと、 第2に、特に、ネオン管等の放電管に比べ、サージ応
答電圧が低くできるサージ吸収素子を提供できるなどの
技術的な効果が得られた。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明によるマイクロギャップ式サージ吸収
素子の構造を示す断面図である。 第2図は、第1図のサージ吸収素子により測定した封止
ガス圧とサージ応答電圧と関係を示すグラフである。 第3図は、第1図のサージ吸収素子に対して測定したサ
ージ応答電圧が最小値でのギャップ間隔と封止ガス圧と
の関係を示すグラフである。 第4図は、本発明による構造のマイクロギャップ式サー
ジ吸収素子の一例を示す断面図である。 第5図は、第4図のサージ吸収素子により測定した封止
ガス圧とサージ応答電圧、放電開始電圧と関係を示すグ
ラフである。 [主要部分の符号の説明] 1……絶縁溝 2……導電性被膜或いはBaAl被膜 3……セラミックス絶縁体或いはアルミナ碍子 4……リード線或いはキャップ 5……電極或いは外部電極 6……絶縁性外装体或いはガラス管 7……ネオンガス
フロントページの続き (72)発明者 猿渡 暢也 埼玉県秩父郡横瀬町大字横瀬2270番地 三菱鉱業セメント株式会社セラミックス 研究所内 (72)発明者 内田 秋夫 埼玉県秩父郡横瀬町大字横瀬2270番地 三菱鉱業セメント株式会社セラミックス 研究所内 (56)参考文献 特開 昭53−848(JP,A)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】封止ガラス管内にマイクロギャップ素子を
    有するサージ吸収素子において、 該マイクロギャップ間隔150μm以下のマイクロギャッ
    プ素子の封止管内に、ネオンガスを大気圧以上の高圧下
    に封入することにより、サージ応答電圧を所望値に調整
    したことを特徴とするマイクロギャップ式サージ吸収素
    子。
JP1030982A 1989-02-13 1989-02-13 サージ吸収素子 Expired - Lifetime JP2580313B2 (ja)

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JPS53848A (en) * 1976-06-25 1978-01-07 Mitsubishi Mining & Cement Co Surge absorbing element

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