JP2576444B2 - マルチ・ビーム・プロジェクタおよびそれを利用した形状認識装置 - Google Patents
マルチ・ビーム・プロジェクタおよびそれを利用した形状認識装置Info
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- JP2576444B2 JP2576444B2 JP15022788A JP15022788A JP2576444B2 JP 2576444 B2 JP2576444 B2 JP 2576444B2 JP 15022788 A JP15022788 A JP 15022788A JP 15022788 A JP15022788 A JP 15022788A JP 2576444 B2 JP2576444 B2 JP 2576444B2
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Description
【発明の詳細な説明】 発明の背景 技術分野 この発明は，回折による多数のスポット光を照射する
マルチ・ビーム・プロジェクタ，およびそれを利用した
形状認識装置に関する。
マルチ・ビーム・プロジェクタ，およびそれを利用した
形状認識装置に関する。
従来技術とその問題点 マルチ・ビーム・プロジェクタに用いられ、回折光に
よるマルチ・ビーム・スポットを生じさせる光学系に
は、ファイバ・グレーティング、振幅変調グレーティン
グ等があり、集光スポットを利用するものにはインコヒ
ーレント型レンズ・アレイがある。
よるマルチ・ビーム・スポットを生じさせる光学系に
は、ファイバ・グレーティング、振幅変調グレーティン
グ等があり、集光スポットを利用するものにはインコヒ
ーレント型レンズ・アレイがある。
第７図および第８図は、ファイバ・グレーティングを
示している。ファイバ・グレーティングは複数の光ファ
イバ21を互いに平行にＹ方向に並べ，これに重ねるよう
に複数の光フィバ22を互いに平行にＸ方向に配列して構
成されている。しかし、ファイバ・グレーティングでは
第８図（Ａ），（Ｂ）に示すように、光ファイバ21によ
ってＹ方向に集光されるスポット位置と、光ファイバ22
によってＸ方向に集光されるスポット位置がΔｆずれ
る。このため集光スポットがぼけ、これが回折光スポッ
トPs2のぼけを生じさせる。
示している。ファイバ・グレーティングは複数の光ファ
イバ21を互いに平行にＹ方向に並べ，これに重ねるよう
に複数の光フィバ22を互いに平行にＸ方向に配列して構
成されている。しかし、ファイバ・グレーティングでは
第８図（Ａ），（Ｂ）に示すように、光ファイバ21によ
ってＹ方向に集光されるスポット位置と、光ファイバ22
によってＸ方向に集光されるスポット位置がΔｆずれ
る。このため集光スポットがぼけ、これが回折光スポッ
トPs2のぼけを生じさせる。
第９図は振幅変調グレーティング23を示すもので、不
透明平板23に一定周期で孔23aをあけてこの孔を透過す
る光の回折を利用してスポット光Ps3を得ている。振幅
変調グレーティングでは不透明板23を透過しない光を利
用することができないので光の利用効率が低い。
透明平板23に一定周期で孔23aをあけてこの孔を透過す
る光の回折を利用してスポット光Ps3を得ている。振幅
変調グレーティングでは不透明板23を透過しない光を利
用することができないので光の利用効率が低い。
第10図はインコヒーレント型レンズ・アレイを示すも
ので、これはψ数mm以内の凸レンズ24を平面的に配列し
て構成される。これらの凸レンズ24の焦点面に多数の光
スポットPs4が形成されるので、スポットの焦点深度が
浅いという問題がある。
ので、これはψ数mm以内の凸レンズ24を平面的に配列し
て構成される。これらの凸レンズ24の焦点面に多数の光
スポットPs4が形成されるので、スポットの焦点深度が
浅いという問題がある。
さらに形状認識に使用される光学系には第11図に示す
ようなシリンドリカル・レンズ25がある。シリンドリカ
ル・レンズ25を用いた光学系ではスリット光Plにより被
検物26を照射するので１次元の形状認識しか行なうこと
ができない。また、被検物26がＺ方向（主軸方向）に変
位するとスリット光照射位置が変化する。
ようなシリンドリカル・レンズ25がある。シリンドリカ
ル・レンズ25を用いた光学系ではスリット光Plにより被
検物26を照射するので１次元の形状認識しか行なうこと
ができない。また、被検物26がＺ方向（主軸方向）に変
位するとスリット光照射位置が変化する。
発明の概要 発明の目的 この発明は、光スポットがぼけることなく、光の利用
率が高くかつ距離の変化に対してスポット径の変化が少
なく、３次元の形状の認識に利用することができるマル
チ・ビーム・プロジェクタを提供することを目的とす
る。
率が高くかつ距離の変化に対してスポット径の変化が少
なく、３次元の形状の認識に利用することができるマル
チ・ビーム・プロジェクタを提供することを目的とす
る。
この発明はまた，このマルチ・ビーム・プロジェクタ
を利用した形状認識装置を提供するものである。
を利用した形状認識装置を提供するものである。
発明の構成、作用および効果 この発明によるマルチ・ビーム・プロジェクタは、光
源と、光源の前方に配置され、複数個のマイクロ集光レ
ンズが平面的に配列されてなるマイクロ・レンズ・アレ
イとから構成され、マイクロ・レンズ・アレイがその遠
方に複数個の回折光スポットを生じさせることを特徴と
する。
源と、光源の前方に配置され、複数個のマイクロ集光レ
ンズが平面的に配列されてなるマイクロ・レンズ・アレ
イとから構成され、マイクロ・レンズ・アレイがその遠
方に複数個の回折光スポットを生じさせることを特徴と
する。
この発明によると、光源からの出射光が、マイクロ・
レンズ・アレイを構成する複数のマイクロ集光レンズに
よってそれぞれ集光され、この集光位置より遠方では拡
散し回折される。したがって遠方位置に回折光による光
スポットが形成される。
レンズ・アレイを構成する複数のマイクロ集光レンズに
よってそれぞれ集光され、この集光位置より遠方では拡
散し回折される。したがって遠方位置に回折光による光
スポットが形成される。
この発明によると，平面上に配列されたマイクロ集光
レンズによって構成されるマイクロ・レンズ・アレイを
用いて回折光スポットを生じさせているため，ファイバ
・グレーティングのようにスポットがぼけることがな
い。また，マイクロ・レンズ・アレイは位相変調型グレ
ーティングであるので，振幅変調型グレーティングのよ
うに遮光される光はなく，入射光のほとんどすべての光
がスポット形成に用いられるので光の利用効率が高くな
る。また，光スポットは回折光によって生じるので，距
離の変動に対するスポットの径の変化が小さい。
レンズによって構成されるマイクロ・レンズ・アレイを
用いて回折光スポットを生じさせているため，ファイバ
・グレーティングのようにスポットがぼけることがな
い。また，マイクロ・レンズ・アレイは位相変調型グレ
ーティングであるので，振幅変調型グレーティングのよ
うに遮光される光はなく，入射光のほとんどすべての光
がスポット形成に用いられるので光の利用効率が高くな
る。また，光スポットは回折光によって生じるので，距
離の変動に対するスポットの径の変化が小さい。
さらにマイクロ・レンズ・アレイは２次元のスポット
・アレイを作成することができるため，形状認識装置に
利用した場合に３次元の形状を認識することができる。
・アレイを作成することができるため，形状認識装置に
利用した場合に３次元の形状を認識することができる。
この発明による形状認識装置は投光光学系と受光光学
系とから構成される。投光光学系として上記のマルチ・
ビーム・プロジェクタが用いられ，被検出物に複数個の
スポット光が投射される。受光光学系は，被検出物から
の反射光を結像する対物レンズと，この対物レンズによ
って結像された光像を検知するイメージ・ディバイスと
から構成される。
系とから構成される。投光光学系として上記のマルチ・
ビーム・プロジェクタが用いられ，被検出物に複数個の
スポット光が投射される。受光光学系は，被検出物から
の反射光を結像する対物レンズと，この対物レンズによ
って結像された光像を検知するイメージ・ディバイスと
から構成される。
マイクロ・レンズ・アレイは小型，軽量であるためマ
ルチ・ビーム・プロジェクタを小型，軽量化することが
でき，レンズの複製が比較的容易で量産が可能なため装
置を安価に提供できる。
ルチ・ビーム・プロジェクタを小型，軽量化することが
でき，レンズの複製が比較的容易で量産が可能なため装
置を安価に提供できる。
実施例の説明 第１図はこの発明によるマルチ・ビーム・プロジェク
タを利用した形状認識装置のヘッド部分の一部を切欠い
て示す斜視図である。マルチ・ビーム・プロジェクタは
半導体レーザ光源１とマイクロ・フレネル・レンズ・ア
レイ７とから構成される。
タを利用した形状認識装置のヘッド部分の一部を切欠い
て示す斜視図である。マルチ・ビーム・プロジェクタは
半導体レーザ光源１とマイクロ・フレネル・レンズ・ア
レイ７とから構成される。
形状認識装置のヘッド部分は箱20内に納められてい
る。この箱20の前面には横方向に一定の距離をおいて、
投光用の窓９と受光用の窓12とが形成されている。窓９
にはマイクロ・フレネル・レンズ・アレイ７が取付けら
れている。窓12には対物レンズ11が設けられている。箱
20内において、マイクロ・フレネル・レンズ・アレイ７
の後方には半導体レーザ光源１が設けられ、対物レンズ
11の後方にはイメージ・ディバイス15が配置されてい
る。
る。この箱20の前面には横方向に一定の距離をおいて、
投光用の窓９と受光用の窓12とが形成されている。窓９
にはマイクロ・フレネル・レンズ・アレイ７が取付けら
れている。窓12には対物レンズ11が設けられている。箱
20内において、マイクロ・フレネル・レンズ・アレイ７
の後方には半導体レーザ光源１が設けられ、対物レンズ
11の後方にはイメージ・ディバイス15が配置されてい
る。
マイクロ・フレネル・レンズ・アレイ７の斜視図が第
２図に示されている。マイクロ・フレネル・レンズ・ア
レイ７は数μｍ〜数100μｍ程度の直径の集光用マイク
ロ・フレネル・レンズ８が一平面上に規則的に配列され
て構成されている。このようなマイクロ・フレネル・レ
ンズ・アレイ７はその全体をたとえば成形法により作製
してもよいし、透明平板上に多数のマイクロ・フレネル
・レンズを接着することによりつくることもできる。
２図に示されている。マイクロ・フレネル・レンズ・ア
レイ７は数μｍ〜数100μｍ程度の直径の集光用マイク
ロ・フレネル・レンズ８が一平面上に規則的に配列され
て構成されている。このようなマイクロ・フレネル・レ
ンズ・アレイ７はその全体をたとえば成形法により作製
してもよいし、透明平板上に多数のマイクロ・フレネル
・レンズを接着することによりつくることもできる。
半導体レーザ光源１は、レーザ・ダイオード２を備え
ており、このレーザ・ダイオード２がヒート・シンクを
介してステム６に取付けられている。レーザ・ダイオー
ド２は端子５にワイヤ・ボンディング等によって接続さ
れている。レーザ・ダイオード２の前面には、レーザ・
ダイオード２からの発散光をコリメート光とするコリメ
ータ・レンズ３が固定部材４を介してステム６に取付け
られている。マイクロ・フレネル・レンズ・アレイ７は
コリメータ・レンズ３からのコリメート光とマイクロ・
フレネル・レンズ・アレイ７の面とが垂直になるように
取付けられている。
ており、このレーザ・ダイオード２がヒート・シンクを
介してステム６に取付けられている。レーザ・ダイオー
ド２は端子５にワイヤ・ボンディング等によって接続さ
れている。レーザ・ダイオード２の前面には、レーザ・
ダイオード２からの発散光をコリメート光とするコリメ
ータ・レンズ３が固定部材４を介してステム６に取付け
られている。マイクロ・フレネル・レンズ・アレイ７は
コリメータ・レンズ３からのコリメート光とマイクロ・
フレネル・レンズ・アレイ７の面とが垂直になるように
取付けられている。
後に詳しく示すように、半導体レーザ１とマイクロ・
フレネル・レンズ・アレイ７とからなるマルチ・ビーム
・プロジェクタによって多数の回折光スポットが被検出
物10に投射される。被検出物10からの反射光は対物レン
ズ11で集光され、イメージ・ディバイス15上に結像す
る。イメージ・ディバイス15はたとえばポジション・セ
ンシティブ・ディバイス（Position Sensitive Devic
e）であり、４辺に電極を設けた２次元計測用のものが
用いられている。
フレネル・レンズ・アレイ７とからなるマルチ・ビーム
・プロジェクタによって多数の回折光スポットが被検出
物10に投射される。被検出物10からの反射光は対物レン
ズ11で集光され、イメージ・ディバイス15上に結像す
る。イメージ・ディバイス15はたとえばポジション・セ
ンシティブ・ディバイス（Position Sensitive Devic
e）であり、４辺に電極を設けた２次元計測用のものが
用いられている。
第３図にマイクロ・フレネル・レンズ・アレイ７によ
って回折光スポットが形成される様子が示されている。
また、第４図にはマイクロ・フレネル・レンズ・アレイ
７の作用を説明するために振幅変調型グレーティング23
によって光が回折される様子が示されている。
って回折光スポットが形成される様子が示されている。
また、第４図にはマイクロ・フレネル・レンズ・アレイ
７の作用を説明するために振幅変調型グレーティング23
によって光が回折される様子が示されている。
第４図において、振幅変調型グレーティングでは回折
光は次式で与えられる回折角θ１の方向に回折される。
光は次式で与えられる回折角θ１の方向に回折される。
θ１＝sin-1（ｎλ／Λ） …（１） ここで、ｎは０および正，負の整数（ｎ＝0,±1,±2,
…），λは光の波長，Λはグレーティング周期（すなわ
ち孔23a間の距離）である。
…），λは光の波長，Λはグレーティング周期（すなわ
ち孔23a間の距離）である。
第３図において、半導体レーザ光源１からマイクロ・
フレネル・レンズ・アレイ７に投射されるコリメート光
は、各マイクロ・フレネル・レンズ８によってその焦点
面に集光される。これは、第４図との対比から分るよう
に、各マイクロ・フレネル・レンズ８の焦点位置に孔を
もつ振幅変調型グレーティングＡが配置されると等価で
ある。したがって、この焦点面より遠方においては光は
発散しかつ回折される。このときの回折光の回折角θ１
は上記の第（１）式によって表される。グレーティング
周期Λは隣接するマイクロ・フレネル・レンズ８の中心
間の距離となる。このようにして、遠方位置には多数の
回折光による光スポットが生じる。第３図においては
（第４図において同じ）０次および±１次の回折光スポ
ットとその強度が示されている。マイクロ・フレネル・
レンズ・アレイ７においては入射光のほとんどすべてが
スポット形成に寄与するので、振幅変調型グレーティン
グによる光スポットよりも強度の大きい光スポットが得
られる。
フレネル・レンズ・アレイ７に投射されるコリメート光
は、各マイクロ・フレネル・レンズ８によってその焦点
面に集光される。これは、第４図との対比から分るよう
に、各マイクロ・フレネル・レンズ８の焦点位置に孔を
もつ振幅変調型グレーティングＡが配置されると等価で
ある。したがって、この焦点面より遠方においては光は
発散しかつ回折される。このときの回折光の回折角θ１
は上記の第（１）式によって表される。グレーティング
周期Λは隣接するマイクロ・フレネル・レンズ８の中心
間の距離となる。このようにして、遠方位置には多数の
回折光による光スポットが生じる。第３図においては
（第４図において同じ）０次および±１次の回折光スポ
ットとその強度が示されている。マイクロ・フレネル・
レンズ・アレイ７においては入射光のほとんどすべてが
スポット形成に寄与するので、振幅変調型グレーティン
グによる光スポットよりも強度の大きい光スポットが得
られる。
次に第５図および第６図を参照して被検出物10の形状
認識の原理について説明する。第５図は測定系を平面か
らみた様子を、第６図は斜視的にみた様子をそれぞれ示
している。
認識の原理について説明する。第５図は測定系を平面か
らみた様子を、第６図は斜視的にみた様子をそれぞれ示
している。
レーザ・ダイオード２から出射された発散光はコリメ
ータ・レンズ３（第５図および第６図においては図示が
省略されている）によってコリメート光とされる。コリ
メート光はマイクロ・フレネル・レンズ・アレイ７によ
って回折して被検出物10に照射する。回折光は被検出物
10によって反射し、この反射光は対物レンズ11を通して
イメージ・ディバイス15の一点に結像する。
ータ・レンズ３（第５図および第６図においては図示が
省略されている）によってコリメート光とされる。コリ
メート光はマイクロ・フレネル・レンズ・アレイ７によ
って回折して被検出物10に照射する。回折光は被検出物
10によって反射し、この反射光は対物レンズ11を通して
イメージ・ディバイス15の一点に結像する。
マルチ・ビーム・プロジェクタの光軸と対物レンズ11
の光軸とが平行であり、これらの光軸間の距離をｄとす
る。対物レンズ11の光軸をＺ軸とし、その原点を対物レ
ンズ11の中心にとる。Ｚ軸に垂直な平面内でX,Y軸を考
える。Ｙ軸はマルチ・ビーム・プロジェクタの光軸と対
物レンズ11の光軸とを結ぶ方向にとる。投射光の回折角
をθ１、被検出物10からの反射光と対物レンズ11の光軸
とが交わる角度をθ２とする。対物レンズ11とイメージ
・ディバイス15との間の距離をｌとする。
の光軸とが平行であり、これらの光軸間の距離をｄとす
る。対物レンズ11の光軸をＺ軸とし、その原点を対物レ
ンズ11の中心にとる。Ｚ軸に垂直な平面内でX,Y軸を考
える。Ｙ軸はマルチ・ビーム・プロジェクタの光軸と対
物レンズ11の光軸とを結ぶ方向にとる。投射光の回折角
をθ１、被検出物10からの反射光と対物レンズ11の光軸
とが交わる角度をθ２とする。対物レンズ11とイメージ
・ディバイス15との間の距離をｌとする。
被検出物10上の回折光の光スポット位置の座標系を
（x,y,z）、その反射光のイメージ・ディバイス15上に
おける結像点の位置座標を（x1,y1）とする。
（x,y,z）、その反射光のイメージ・ディバイス15上に
おける結像点の位置座標を（x1,y1）とする。
被検出物10上における回折光のスポット位置座標（x,
y,z）はイメージ・ディバイス15上の検出位置（x1,y1）
を用いて次のようにして求めることができる。
y,z）はイメージ・ディバイス15上の検出位置（x1,y1）
を用いて次のようにして求めることができる。
まず、光学系の幾何学的性質より（x,y,x1,y1の符号
は考慮せず、絶対値を考える） ｘ＝（x1/l）ｚ …（２） ｙ＝（y1/l）ｚ …（３） ｚ＝d/（tanθ１＋tanθ２） …（４） である。
は考慮せず、絶対値を考える） ｘ＝（x1/l）ｚ …（２） ｙ＝（y1/l）ｚ …（３） ｚ＝d/（tanθ１＋tanθ２） …（４） である。
第（４）式の角度θ１は第（１）式で与えられ、角度
θ２は、 θ２＝tan-1（y1/l） …（５） で与えられる。
θ２は、 θ２＝tan-1（y1/l） …（５） で与えられる。
上述の実施例においてはマイクロ・フレネル・レンズ
・アレイ７が箱20に取付けられているがマイクロ・フレ
ネル・レンズ・アレイ７をコリメータ・レンズ３の位置
に取付けるようにしてもよい。
・アレイ７が箱20に取付けられているがマイクロ・フレ
ネル・レンズ・アレイ７をコリメータ・レンズ３の位置
に取付けるようにしてもよい。
第１図は形状認識装置の外観を示す斜視図、第２図はマ
イクロ・フレネル・レンズ・アレイを示す斜視図、第３
図はマイクロ・フレネル・レンズ・アレイにより回折光
が生じる様子と回折光強度を示し、第４図は振幅変調型
グレーティングにより回折光が生じる様子と回折光強度
を示す。 第５図および第６図は形状認識の原理を示すもので、第
５図は平面図、第６図は斜視図である。 第７図から第10図はスポット光を投射する従来の光学系
の例を示すもので、第７図はファイバ・グレーティング
を示す斜視図、第８図（Ａ），（Ｂ）はファイバ・グレ
ーティングにより生じるスポット光のぼけを説明するた
めの図、第９図は振幅変調グレーティングを示す側面
図、第10図はインコヒーレント型レンズ・アレーを示す
側面図である。 第11図はシリンドリカル・レンズの斜視図である。 １……半導体レーザ光源、 ２……レーザ・ダイオード、 ７……マイクロ・フレネル・レンズ・アレイ、 ８……マイクロ・フレネル・レンズ。
イクロ・フレネル・レンズ・アレイを示す斜視図、第３
図はマイクロ・フレネル・レンズ・アレイにより回折光
が生じる様子と回折光強度を示し、第４図は振幅変調型
グレーティングにより回折光が生じる様子と回折光強度
を示す。 第５図および第６図は形状認識の原理を示すもので、第
５図は平面図、第６図は斜視図である。 第７図から第10図はスポット光を投射する従来の光学系
の例を示すもので、第７図はファイバ・グレーティング
を示す斜視図、第８図（Ａ），（Ｂ）はファイバ・グレ
ーティングにより生じるスポット光のぼけを説明するた
めの図、第９図は振幅変調グレーティングを示す側面
図、第10図はインコヒーレント型レンズ・アレーを示す
側面図である。 第11図はシリンドリカル・レンズの斜視図である。 １……半導体レーザ光源、 ２……レーザ・ダイオード、 ７……マイクロ・フレネル・レンズ・アレイ、 ８……マイクロ・フレネル・レンズ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭49−56663（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−606（ＪＰ，Ａ) 実開 昭58−37507（ＪＰ，Ｕ)
Claims (2)
- 【請求項１】光源と，光源の前方に配置され，複数個の
マイクロ集光レンズが平面的に配列されてなるマイクロ
・レンズ・アレイとから構成され，マイクロ・レンズ・
アレイがその遠方に複数個の回折光スポットを生じさせ
るマルチ・ビーム・プロジェクタ。 - 【請求項２】投光光学系と受光光学系とを含み， 上記投光光学系が請求項１に記載のマルチ・ビーム・ブ
ロジェクタによって構成され， 上記受光光学系が，上記投光光学系によって被検出物に
投射された光の反射光を結像する対物レンズと，上記対
物レンズによって結像された光像を検知するイメージ・
ディバイスとから構成されている， 形状認識装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15022788A JP2576444B2 (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | マルチ・ビーム・プロジェクタおよびそれを利用した形状認識装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15022788A JP2576444B2 (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | マルチ・ビーム・プロジェクタおよびそれを利用した形状認識装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01318905A JPH01318905A (ja) | 1989-12-25 |
| JP2576444B2 true JP2576444B2 (ja) | 1997-01-29 |
Family
ID=15492324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15022788A Expired - Lifetime JP2576444B2 (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | マルチ・ビーム・プロジェクタおよびそれを利用した形状認識装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2576444B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017073982A1 (ko) * | 2015-10-30 | 2017-05-04 | 한국생산기술연구원 | 3차원 스캐닝 시스템 |
| KR101744610B1 (ko) * | 2015-10-30 | 2017-06-21 | 한국생산기술연구원 | 3차원 스캐닝 시스템 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7295375B2 (en) * | 2005-08-02 | 2007-11-13 | International Business Machines Corporation | Injection molded microlenses for optical interconnects |
| WO2012117614A1 (ja) * | 2011-03-03 | 2012-09-07 | 三洋電機株式会社 | 情報取得装置及びその情報取得装置を有する物体検出装置 |
| JP2014102073A (ja) * | 2011-03-10 | 2014-06-05 | Sanyo Electric Co Ltd | 物体検出装置および情報取得装置 |
| JP2014102074A (ja) * | 2011-03-16 | 2014-06-05 | Sanyo Electric Co Ltd | 発光装置、物体検出装置および情報取得装置 |
| CN102822622A (zh) * | 2011-03-25 | 2012-12-12 | 三洋电机株式会社 | 物体检测装置及信息取得装置 |
| JP2014167387A (ja) * | 2011-06-24 | 2014-09-11 | Sanyo Electric Co Ltd | 物体検出装置および情報取得装置 |
| WO2015030127A1 (ja) * | 2013-09-02 | 2015-03-05 | 旭硝子株式会社 | 回折光学素子、投影装置及び計測装置 |
| CN112782059B (zh) * | 2020-12-30 | 2024-03-05 | 西安理工大学 | 一种无透镜成像系统中的准球细胞高度方向位移测量方法 |
-
1988
- 1988-06-20 JP JP15022788A patent/JP2576444B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
| WO2017073982A1 (ko) * | 2015-10-30 | 2017-05-04 | 한국생산기술연구원 | 3차원 스캐닝 시스템 |
| KR101744610B1 (ko) * | 2015-10-30 | 2017-06-21 | 한국생산기술연구원 | 3차원 스캐닝 시스템 |
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| Publication number | Publication date |
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| JPH01318905A (ja) | 1989-12-25 |
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