JP2571333Y2 - 蛍光x線分析装置 - Google Patents
蛍光x線分析装置Info
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- JP2571333Y2 JP2571333Y2 JP1206393U JP1206393U JP2571333Y2 JP 2571333 Y2 JP2571333 Y2 JP 2571333Y2 JP 1206393 U JP1206393 U JP 1206393U JP 1206393 U JP1206393 U JP 1206393U JP 2571333 Y2 JP2571333 Y2 JP 2571333Y2
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- JP
- Japan
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- shutter
- ray
- fluorescent
- gas flow
- rays
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】この考案は、試料にX線を照射し
これにより試料から励起されて放出される蛍光X線を分
光分析する蛍光X線分析装置に係わり、特にC元素の分
析に好適な技術に関するものである。
これにより試料から励起されて放出される蛍光X線を分
光分析する蛍光X線分析装置に係わり、特にC元素の分
析に好適な技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図9は、試料にX線を照射しこれにより
試料から励起されて放出される蛍光X線を分光分析す
る、従来の蛍光X線分析装置を一部切り欠いて示す正面
図である。
試料から励起されて放出される蛍光X線を分光分析す
る、従来の蛍光X線分析装置を一部切り欠いて示す正面
図である。
【0003】同図において符号aはX線管球、bは真空
チャンバー、cは分光器、dはX線検出器としてのガス
フロー型比例計数管である。このガスフロー型比例計数
管dは、特に試料e中のB、C、Na等の軽元素を分析す
る場合に検出効率を高めるために使用される。fは真空
チャンバbの底部中央に設けられた試料挿入孔、gはPb
等でできた試料挿入孔開閉用の真空保持用シャッタ、h
は試料eの受け台で、上下動可能に設けられている。
チャンバー、cは分光器、dはX線検出器としてのガス
フロー型比例計数管である。このガスフロー型比例計数
管dは、特に試料e中のB、C、Na等の軽元素を分析す
る場合に検出効率を高めるために使用される。fは真空
チャンバbの底部中央に設けられた試料挿入孔、gはPb
等でできた試料挿入孔開閉用の真空保持用シャッタ、h
は試料eの受け台で、上下動可能に設けられている。
【0004】試料eの分析に際しては、試料eが受け台
hに載置された状態で、この受け台hが図示しないリフ
ト機構によって上昇され、この受け台hによって試料挿
入孔fが密封状態に閉止された後、真空保持用シャッタ
gが開いてX線管aから一次X線が照射され、試料eよ
り励起され放出された蛍光X線が分光器cで分光された
後、検出器dで検出される。試料eの分析が終了すると
真空保持用シャッタgが閉じて真空チャンバb内を外気
と遮断後、受け台hが降下して次の分析に備える。
hに載置された状態で、この受け台hが図示しないリフ
ト機構によって上昇され、この受け台hによって試料挿
入孔fが密封状態に閉止された後、真空保持用シャッタ
gが開いてX線管aから一次X線が照射され、試料eよ
り励起され放出された蛍光X線が分光器cで分光された
後、検出器dで検出される。試料eの分析が終了すると
真空保持用シャッタgが閉じて真空チャンバb内を外気
と遮断後、受け台hが降下して次の分析に備える。
【0005】X線管球aは試料eの交換の都度照射する
ようなことはせず、常時照射している。その理由はX線
管球を頻繁に点滅するとその寿命は著しく低下するとと
もにX線より発生する一次X線の安定性を欠くからであ
る。
ようなことはせず、常時照射している。その理由はX線
管球を頻繁に点滅するとその寿命は著しく低下するとと
もにX線より発生する一次X線の安定性を欠くからであ
る。
【0006】一方、試料eの非分析時には、真空チャン
バbが真空保持用シャッタgで閉止されるとともに、図
示しない真空ポンプが稼動されて真空チャンバb内が真
空状態に保持されているが、上記のように、X線管aは
点灯状態にあって一次X線が発生されているため、この
一次X線が真空保持用シャッタgに向けて照射されるこ
とになる。このとき、真空保持用シャッタgはPb等でで
きているため、真空チャンバb外部への一次X線の漏洩
は防止される。
バbが真空保持用シャッタgで閉止されるとともに、図
示しない真空ポンプが稼動されて真空チャンバb内が真
空状態に保持されているが、上記のように、X線管aは
点灯状態にあって一次X線が発生されているため、この
一次X線が真空保持用シャッタgに向けて照射されるこ
とになる。このとき、真空保持用シャッタgはPb等でで
きているため、真空チャンバb外部への一次X線の漏洩
は防止される。
【0007】しかし、真空チャンバb内は真空ポンプに
よって真空排気している関係上、真空ポンプから蒸散し
た油分が真空保持用シャッタgの真空チャンバ側の内
面、その他に付着する。そして、この付着した油分にX
線管aからの一次X線が照射されるため、この油分に含
まれるC、S等の元素の蛍光X線が発生することにな
る。
よって真空排気している関係上、真空ポンプから蒸散し
た油分が真空保持用シャッタgの真空チャンバ側の内
面、その他に付着する。そして、この付着した油分にX
線管aからの一次X線が照射されるため、この油分に含
まれるC、S等の元素の蛍光X線が発生することにな
る。
【0008】通常、多元素同時測定方式のものでは、分
光器cの分光結晶の角度が各元素の波長に合わせて固定
されているので、上述したように、試料eの非分析時に
おいても、油分に含まれるC元素の蛍光X線が発生して
いるような場合には、このC元素を分析するためのガス
フロー型比例計数管dに対して、長期間にわたって蛍光
X線が入射し、そのため、ガスフロー型比例計数管dの
受光窓を構成するAl蒸着マイラ膜を早期に消耗させて寿
命が短くなる等の不具合が生じていた。
光器cの分光結晶の角度が各元素の波長に合わせて固定
されているので、上述したように、試料eの非分析時に
おいても、油分に含まれるC元素の蛍光X線が発生して
いるような場合には、このC元素を分析するためのガス
フロー型比例計数管dに対して、長期間にわたって蛍光
X線が入射し、そのため、ガスフロー型比例計数管dの
受光窓を構成するAl蒸着マイラ膜を早期に消耗させて寿
命が短くなる等の不具合が生じていた。
【0009】そこで、本考案者らはガスフロー型比例計
数管正面に蛍光X線遮断シャッタを設けた構成の装置を
利用し、試料eの非分析時はシャッタを閉じガスフロー
型比例計数管に蛍光X線が入射しないようにしていた。
例えば、図10は図9B部の拡大図であるが、分光器cと
X線検出器dとの間に蛍光X線遮断用シャッタ3を備え
たシャッタ取付部4を設けていた。
数管正面に蛍光X線遮断シャッタを設けた構成の装置を
利用し、試料eの非分析時はシャッタを閉じガスフロー
型比例計数管に蛍光X線が入射しないようにしていた。
例えば、図10は図9B部の拡大図であるが、分光器cと
X線検出器dとの間に蛍光X線遮断用シャッタ3を備え
たシャッタ取付部4を設けていた。
【0010】
【考案が解決しようとする課題】しかし、本考案者らが
利用していた装置では、蛍光X線遮断用シャッタ3を取
り付けたために蒸散油分中のCの影響はなくなったもの
の、相対X線強度がシャッタ3を用いないものに比べ1
0〜20%程度の低下が認められた。この原因はX線強
度は距離の2乗に反比例して低下する原理にもとづくも
ので、遮断用シャッタ3およびその取付部4を設けた分
だけ分光器cから検出器までのX線の照射距離が長くな
ったためである。
利用していた装置では、蛍光X線遮断用シャッタ3を取
り付けたために蒸散油分中のCの影響はなくなったもの
の、相対X線強度がシャッタ3を用いないものに比べ1
0〜20%程度の低下が認められた。この原因はX線強
度は距離の2乗に反比例して低下する原理にもとづくも
ので、遮断用シャッタ3およびその取付部4を設けた分
だけ分光器cから検出器までのX線の照射距離が長くな
ったためである。
【0011】この考案は、従来技術の以上のような問題
に鑑み創案されたもので、散油分中のCの影響を排除す
るとともに、蛍光X線強度の低下を抑止し得る蛍光X線
分析装置を提供しようとするものである。
に鑑み創案されたもので、散油分中のCの影響を排除す
るとともに、蛍光X線強度の低下を抑止し得る蛍光X線
分析装置を提供しようとするものである。
【0012】
【課題を解決するための手段】ガスフロー型比例計数管
正面に蛍光X線遮断シャッタを設けた構成の装置につい
て、蛍光X線強度の低下の原因が分光器から検出器まで
のX線の照射距離が長くなったことに鑑み、本考案者ら
は、その照射距離を短くする構成を種々検討した。この
結果、その直接の原因が前記遮断用シャッタおよび取付
部によることに着目し、しかも取付部のサイズは遮断用
シャッタの厚みに左右されることから、特に遮断用シャ
ッタの厚みがX線強度にどのような影響を与えるか試験
を行なうに至った。
正面に蛍光X線遮断シャッタを設けた構成の装置につい
て、蛍光X線強度の低下の原因が分光器から検出器まで
のX線の照射距離が長くなったことに鑑み、本考案者ら
は、その照射距離を短くする構成を種々検討した。この
結果、その直接の原因が前記遮断用シャッタおよび取付
部によることに着目し、しかも取付部のサイズは遮断用
シャッタの厚みに左右されることから、特に遮断用シャ
ッタの厚みがX線強度にどのような影響を与えるか試験
を行なうに至った。
【0013】図1は前記遮断用シャッタの厚みを8mm
(A)、6mm(B)、シャッタなし(C)の構成についてCの波
高分布曲線を描いたグラフである。この結果よりも明ら
かなように、シャッタ厚みが8mmの場合(A)はX線強度
が弱く波高分布の切れが悪い。一方、シャッタ厚みが6
mmの場合(B)はX線強度が約3.5kcpsと感度が良好とな
り、波高分布は正規分布(C)に近づくものとなり、X線
強度上問題のない程度になっている。
(A)、6mm(B)、シャッタなし(C)の構成についてCの波
高分布曲線を描いたグラフである。この結果よりも明ら
かなように、シャッタ厚みが8mmの場合(A)はX線強度
が弱く波高分布の切れが悪い。一方、シャッタ厚みが6
mmの場合(B)はX線強度が約3.5kcpsと感度が良好とな
り、波高分布は正規分布(C)に近づくものとなり、X線
強度上問題のない程度になっている。
【0014】また、これらのC分析精度(C:4.5%)
は、8mm(A):σ=0.06mm、6mm(B):σ=0.05mm、シャ
ッタなし(C):σ=0.05mm(ただし、長期使用できず)
であり、シャッタ厚みが6mm以下であればCが高い精度
で測定できることを知見した。
は、8mm(A):σ=0.06mm、6mm(B):σ=0.05mm、シャ
ッタなし(C):σ=0.05mm(ただし、長期使用できず)
であり、シャッタ厚みが6mm以下であればCが高い精度
で測定できることを知見した。
【0015】本考案に係る蛍光X線分析装置は、本考案
者らの以上の知見に基づき創案されたもので、試料から
励起されて放出する蛍光X線を分光する分光器と、この
分光器で分光して得られる特定波長の蛍光X線を検出す
るガスフロー型比例計数管とを備え、該ガスフロー型比
例計数管の直前に、ガスフロー型比例計数管の受光窓を
遮る蛍光X線遮断用シャッタを開閉自在に設けた蛍光X
線分析装置において、前記蛍光X線シャッタの厚みを6
mm以下にしたことをその基本的特徴とするものである。
者らの以上の知見に基づき創案されたもので、試料から
励起されて放出する蛍光X線を分光する分光器と、この
分光器で分光して得られる特定波長の蛍光X線を検出す
るガスフロー型比例計数管とを備え、該ガスフロー型比
例計数管の直前に、ガスフロー型比例計数管の受光窓を
遮る蛍光X線遮断用シャッタを開閉自在に設けた蛍光X
線分析装置において、前記蛍光X線シャッタの厚みを6
mm以下にしたことをその基本的特徴とするものである。
【0016】
【作用】本考案は上述のように、蛍光X線遮断用シャッ
タ厚みを6mm以下とし、X線強度の低下が問題とならな
い限界値を限度としていることから、C分析精度を低下
させない程度のX線強度が得られるものとなる。
タ厚みを6mm以下とし、X線強度の低下が問題とならな
い限界値を限度としていることから、C分析精度を低下
させない程度のX線強度が得られるものとなる。
【0017】もちろん、蛍光X線遮断用シャッタを開閉
自在に設けているので、非分析中にその遮断用シャッタ
を閉じておけば蒸散油分中のCの影響はない。
自在に設けているので、非分析中にその遮断用シャッタ
を閉じておけば蒸散油分中のCの影響はない。
【0018】
【実施例】本考案の具体的実施例を図面に基づき説明す
る。
る。
【0019】図2は本考案の実施例に係る蛍光X線分析
装置の要部を示す断面図、図3は図2のAーA矢視図で
ある。図中、1は試料から励起されて放出される蛍光X
線を分光する分光器、2は分光器1で分光して得られる
特定波長の蛍光X線を検出するガスフロー型比例係数
管、3は蛍光X線遮断用シャッタ、4はその遮断用シャ
ッタの取付部を各示し、本実施例では前記分光器1とガ
スフロー型比例計数管2との間に前記蛍光X線遮断用シ
ャッタ3を備えた取付部4が配置されている。この取付
部4は、端部に固定されるエアシリンダ6と、そのエア
シリンダ6に一体的に連結されるピストン7・連結部材
8・支持棒9と、前記蛍光X線遮断用シャッタ3を覆う
シャッタ枠10とから構成されている。
装置の要部を示す断面図、図3は図2のAーA矢視図で
ある。図中、1は試料から励起されて放出される蛍光X
線を分光する分光器、2は分光器1で分光して得られる
特定波長の蛍光X線を検出するガスフロー型比例係数
管、3は蛍光X線遮断用シャッタ、4はその遮断用シャ
ッタの取付部を各示し、本実施例では前記分光器1とガ
スフロー型比例計数管2との間に前記蛍光X線遮断用シ
ャッタ3を備えた取付部4が配置されている。この取付
部4は、端部に固定されるエアシリンダ6と、そのエア
シリンダ6に一体的に連結されるピストン7・連結部材
8・支持棒9と、前記蛍光X線遮断用シャッタ3を覆う
シャッタ枠10とから構成されている。
【0020】蛍光X線遮断用シャッタ3は、エアシリン
ダ6により伸縮自在な支持棒9の端部上側に固定され、
支持棒9の伸縮によりガスフロー型比例計数管2の受光
窓5を開閉する機構となっている。また、この蛍光X線
遮断用シャッタ3は前記受光窓5に対向する位置に移動
した際、その受光窓5をすべて遮るようなサイズの略半
円形よりなる。したがって、試料非分析時には、エアシ
リンダ6のピストン7を上方に伸長させて蛍光X線遮断
用シャッタ3を閉じるとこのシャッタ3がガスフロー型
比例計数管2の受光窓5の前面に位置するため、図示し
ない真空保持用シャッタおよび真空チャンバに付着した
油分に起因するC元素の蛍光X線が発生している場合で
もこの蛍光X線は蛍光X線遮断用シャッタ3に遮られ
て、ガスフロー型比例計数管2の受光窓5に入射されな
い。一方、試料の分析時にはエアシリンダ6のピストン
7を下方に縮小させ、蛍光X線遮断用シャッタ3を開く
と、分光器1で分光された蛍光X線はそのシャッタ3に
遮られることなくガスフロー型比例計数管2の受光窓5
に入射して検出されることになる。そして、X線遮断用
シャッタ3の厚さは、その取付部4のサイズを可能な限
り小さくするため6mmとした。なお、蛍光X線遮断用シ
ャッタ3が移動する際のガイドとして、前記シャッタ枠
10には図4に示すように3mmの溝12が設けられており、
蛍光X線遮断用シャッタ3の両端はこの溝12に係合して
移動するものとなっている。もちろん、これは蛍光X線
遮断用シャッタ3の振れ止めにもなる。
ダ6により伸縮自在な支持棒9の端部上側に固定され、
支持棒9の伸縮によりガスフロー型比例計数管2の受光
窓5を開閉する機構となっている。また、この蛍光X線
遮断用シャッタ3は前記受光窓5に対向する位置に移動
した際、その受光窓5をすべて遮るようなサイズの略半
円形よりなる。したがって、試料非分析時には、エアシ
リンダ6のピストン7を上方に伸長させて蛍光X線遮断
用シャッタ3を閉じるとこのシャッタ3がガスフロー型
比例計数管2の受光窓5の前面に位置するため、図示し
ない真空保持用シャッタおよび真空チャンバに付着した
油分に起因するC元素の蛍光X線が発生している場合で
もこの蛍光X線は蛍光X線遮断用シャッタ3に遮られ
て、ガスフロー型比例計数管2の受光窓5に入射されな
い。一方、試料の分析時にはエアシリンダ6のピストン
7を下方に縮小させ、蛍光X線遮断用シャッタ3を開く
と、分光器1で分光された蛍光X線はそのシャッタ3に
遮られることなくガスフロー型比例計数管2の受光窓5
に入射して検出されることになる。そして、X線遮断用
シャッタ3の厚さは、その取付部4のサイズを可能な限
り小さくするため6mmとした。なお、蛍光X線遮断用シ
ャッタ3が移動する際のガイドとして、前記シャッタ枠
10には図4に示すように3mmの溝12が設けられており、
蛍光X線遮断用シャッタ3の両端はこの溝12に係合して
移動するものとなっている。もちろん、これは蛍光X線
遮断用シャッタ3の振れ止めにもなる。
【0021】また本実施例では、可能な限り蛍光X線の
強度を図るため、分光器1に当接される取付板11の厚さ
を2mmに抑え、さらに前記受光窓5の長さを4mmに拡大
した。
強度を図るため、分光器1に当接される取付板11の厚さ
を2mmに抑え、さらに前記受光窓5の長さを4mmに拡大
した。
【0022】以上よりなる本実施例の蛍光X線強度およ
び分析精度について、従来の装置と比較した試験を行な
ったので、その結果を図5および図6に示す。
び分析精度について、従来の装置と比較した試験を行な
ったので、その結果を図5および図6に示す。
【0023】ここで、比較に用いた従来装置は、図7お
よび図8に示すもので、ガスフロー型比例計数管2正面
に蛍光X線遮断用シャッタ3が配置されているものの、
その厚さは8mm、取付板11の厚さは3mm、受光窓5の長
さは2mmであった。
よび図8に示すもので、ガスフロー型比例計数管2正面
に蛍光X線遮断用シャッタ3が配置されているものの、
その厚さは8mm、取付板11の厚さは3mm、受光窓5の長
さは2mmであった。
【0024】図5はC元素に関するガスフロー型比例計
数管2の波高分布曲線を測定した結果を示すグラフであ
り、これより本実施例の方が波高分布曲線が正規分布に
近く、さらにピーク強度も従来装置よりも約1.8倍も強
く、C元素に対するエネルギー分解能が向上しているこ
とがわかる。
数管2の波高分布曲線を測定した結果を示すグラフであ
り、これより本実施例の方が波高分布曲線が正規分布に
近く、さらにピーク強度も従来装置よりも約1.8倍も強
く、C元素に対するエネルギー分解能が向上しているこ
とがわかる。
【0025】図6はC元素検量線を求めた結果を示す特
性図である。従来装置がC濃度5%で2.3kcpsであるの
に対し、本実施例では3.3kcpsと、本実施例の方が約1.4
2倍になり、X線強度(kcps/%)が0.46から0.66と、約
0.2kcpsの検出感度の向上が図れた。
性図である。従来装置がC濃度5%で2.3kcpsであるの
に対し、本実施例では3.3kcpsと、本実施例の方が約1.4
2倍になり、X線強度(kcps/%)が0.46から0.66と、約
0.2kcpsの検出感度の向上が図れた。
【0026】
【考案の効果】以上説明したように、本考案に係る蛍光
X線分析装置によれば、散油分中のCの影響を排除でき
ることはもちろん、従来装置で問題となっていた蛍光X
線強度の低下を極力抑止できるという優れた効果を有す
るものとなる。
X線分析装置によれば、散油分中のCの影響を排除でき
ることはもちろん、従来装置で問題となっていた蛍光X
線強度の低下を極力抑止できるという優れた効果を有す
るものとなる。
【図1】本考案を創案する過程で行なった、C元素に対
するガスフロー型比例計数管の波高分布曲線を測定した
結果を示すグラフである。
するガスフロー型比例計数管の波高分布曲線を測定した
結果を示すグラフである。
【図2】本考案の実施例に係る蛍光X線分析装置の要部
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図3】図3のAーA矢視図である。
【図4】本実施例のシャッタガイド部の説明図である。
【図5】本実施例と従来装置とについて、C元素に対す
るガスフロー型比例計数管の波高分布曲線を測定した結
果を示すグラフである。
るガスフロー型比例計数管の波高分布曲線を測定した結
果を示すグラフである。
【図6】本実施例と従来装置とについて、C元素に対す
るガスフロー型比例計数管の検量線を測定した結果を示
すグラフである。
るガスフロー型比例計数管の検量線を測定した結果を示
すグラフである。
【図7】従来の蛍光X線分析装置の要部を示す断面図で
ある。
ある。
【図8】図7のAーA矢視図である。
【図9】一般的な蛍光X線分析装置を一部切り欠いて示
す正面図である。
す正面図である。
【図10】図9のB部拡大図である。
1 分光器 2 ガスフロー型比例計数管 3 蛍光X線遮断用シャッタ 4 取付部 5 受光窓 6 エアシリンダ 7 ピストン 8 連結部材 9 支持棒 10 シャッタ枠 11 取付板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 國澤 ▲たかし▼ 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日本鋼管株式会社内 (72)考案者 池田 良彦 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日本鋼管株式会社内 (72)考案者 小川 隆司 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日本鋼管株式会社内 (72)考案者 中野 恵司 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日本鋼管株式会社内 (72)考案者 福島 安志 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日本鋼管株式会社内 (72)考案者 金高 範武 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日本鋼管株式会社内 (56)参考文献 特開 平6−34581(JP,A) 特開 平5−60704(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】 試料から励起されて放出する蛍光X線を
分光する分光器と、この分光器で分光して得られる特定
波長の蛍光X線を検出するガスフロー型比例計数管とを
備え、該ガスフロー型比例計数管の直前に、ガスフロー
型比例計数管の受光窓を遮る蛍光X線遮断用シャッタを
開閉自在に設けた蛍光X線分析装置において、前記蛍光
X線シャッタの厚みを6mm以下にしたことを特徴とする
蛍光X線分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1206393U JP2571333Y2 (ja) | 1993-02-24 | 1993-02-24 | 蛍光x線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1206393U JP2571333Y2 (ja) | 1993-02-24 | 1993-02-24 | 蛍光x線分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0665853U JPH0665853U (ja) | 1994-09-16 |
JP2571333Y2 true JP2571333Y2 (ja) | 1998-05-18 |
Family
ID=11795149
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1206393U Expired - Lifetime JP2571333Y2 (ja) | 1993-02-24 | 1993-02-24 | 蛍光x線分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2571333Y2 (ja) |
-
1993
- 1993-02-24 JP JP1206393U patent/JP2571333Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0665853U (ja) | 1994-09-16 |
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