JP2566126C

JP2566126C -

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Publication number: JP2566126C
Authority: JP
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Publication date: 1999-01-06

Description

【発明の詳細な説明】【産業上の利用分野】【０００１】本発明は、高密度の塗布型磁気記録媒体に関する。【０００２】【従来の技術】磁気記録媒体は、録音用テープ、ビデオテープ、コンピューターテープ、ディ
スクなどとして広く用いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され、記録方
式もアナログ方式から、デジタル方式まで検討されている。この高密度化の要求
に対して、磁性層に金属薄膜を用いた磁気記録媒体が提案されているが、生産性
、腐食等の実用信頼性の点で磁性粉末を結合剤中に分散して、支持体上に塗布し
たいわゆる塗布型の磁気記録媒体が優れる。しかしながら、金属薄膜に対して塗
布型媒体は磁性物の充填度が低いために、電磁変換特性が劣る。塗布型媒体の電磁変換特性の向上には、磁性体の磁気特性の改良、表面の平滑
化などがあり種々の方法が提案されているが、高密度化に対しては充分なもので
はない。【０００３】またデジタル用の媒体の性能向上に対しては、磁性層の薄層化が知られている
。しかし原理的には有効ながら、塗布型媒体の薄層化には生産上の問題点がある
。それは磁性層の薄層化によってピンホール、すじと言った塗布欠陥が発生し易
く、充分な歩留まりが得られない。またカレンダーによる成形効果が小さくなる
ために表面性が悪く、電磁変換特性が良くない。この様な問題を解決するためには、ある程度の厚みを有する非磁性層の上に１
μｍ以下の薄い磁性層を同時に形成させた後に、カレンダー処理を行なうことが
考えられる。この様な目的に使用できる手段として非磁性の粒状研磨剤、または
フィラーを下塗層に含ませることが提案されている。（特開昭６２−２２２４２
７号、特開平２−２５７４２４号）しかしながらこれらの技術の問題点として、磁性層と非磁性層を同時に塗布し
、上層の磁性体を配向するときに、磁場による磁性体の回転運動のため上下層の界面での混合が発生し、充分な表面性がえられないばかりか、配向が充分に行な
われないので充分な電磁変換特性が得られなかった。【０００４】そこで本出願人らは非磁性の鱗片状粒子で非磁性下層を形成させることによっ
て、上層の磁性粒子の配向性を改善しようと試みた。非磁性の鱗片状粒子層を設
けることに関してはグラファイトを用いた導電性中間層が提案されている。（特
開昭５５−５５４３８号）しかしながらこの様な物質では、配向性の改善はなさ
れるが、グラファイト自身には膜の補強効果がないため耐久性上不十分である。
この問題には、モース硬度５以上の無機粉体を混合する提案がなされている。（
特開昭６０−１２５９２６号）又、本出願人らは非磁性の針状粒子で非磁性下層を形成させることによって、
上層の磁性粒子の配向性を改善しようと試みた。非磁性の針状粒子層を設けるこ
とに関しては針状の蓚酸塩を用いた補強層が提案されている。（特公昭５８−５
１３２７号）。これら提案により配向性向上と耐久性の確保はなされるが、実際に媒体を製造
する段階では鱗片状粒子はスタッキングをおこしやすく、また、蓚酸塩のような
物質は結合剤への分散性がよくないため、磁性面の平滑性を損なうことが判明し
た。【０００５】【発明が解決しようとする課題】本発明の第１の目的は、優れた電磁変換特性を有し、生産性の優れた磁気記録
媒体を提供することにある。本発明の第２の目的は、ＲＦ出力が高く、かつ走行
耐久性に優れドロップアウトが少なく、ブロックエラーレート（ＢＥＲ）が低い
磁気記録媒体を提供することにある。【０００６】【課題を解決するための手段】すなわち本発明の上記目的は、下記〜に記載の発明により達成できる。非磁性支持体上に少なくとも非磁性粉末と結合剤を含む下層非磁性層を設け
、その上に強磁性粉末と結合剤を含む上層磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記上層磁性層の乾燥厚みが１μｍ以下であり、前記下層非磁性層の乾燥厚み
は０．５μｍ以上であり、かつ前記非磁性粉末の最も長い軸長ｒ₁と最も短い軸
長ｒ₂との比ｒ₁／ｒ₂が２．５以上２０未満であることを特徴とする磁気記録媒
体。非磁性支持体上に少なくとも非磁性粉末と結合剤を含む下層非磁性層を設け
、その上に強磁性粉末と結合剤を含む上層磁性層を設けた磁気記録媒体において
、前記非磁性粉末が針状比が２．５以上２０未満であり、前記下層非磁性層の乾
燥厚みは０．５μｍ以上であり、かつ前記上層磁性層の乾燥厚みが１μｍ以下で
あり、前記強磁性粉末の最も長い軸長の平均径が０．３μｍ以下であることを特
徴とする磁気記録媒体。本発明の磁気記録媒体において、好ましい態様を挙げれば、次のとおりである
。（１）前記下層非磁性層は最も長い軸長が３μｍ以下の非磁性粉末を含むことを
特徴とする前記及びの磁気記録媒体。（２）前記下層非磁性層はＡｌ₂Ｏ₃（α、γ），Ｃｒ₂Ｏ₃，αＦｅ₂Ｏ₃，ゲータ
イト，ＳｉＯ₂，ＺｒＯ₂，ＣｅＯ₂，ＴｉＯ₂（ルチル、アナターゼ）の非磁性粉
末のうち少なくとも１種を含むことを特徴とする前記及びの磁気記録媒体。（３）前記強磁性粉末はＦｅ又はＮｉ又はＣｏを主成分とする針状の強磁性合金
粉末であることを特徴とする前記及びの磁気記録媒体。（４）前記磁気記録媒体が録音用テープ、ビデオテープ、コンピューターテープ
、ディスク用などのデジタル用であることを特徴とする前記及びの磁気記録
媒体。【０００７】すなわち本発明は下層非磁性層の上に上層磁性層を塗布した、いわゆるウエッ
ト−オン−ウエットの塗布により複数層を設けた磁気記録媒体の改良を図ったも
のである。つまりウエット−オン−ウエット塗布では界面が柔らかいために互い
に他の層の影響を受けやすく、例えば、塗布後配向すると上層磁性層の強磁性粉
末が回転運動するが、その回転運動によって下層非磁性層がその影響を受け、界面で混合が生じる。これを本発明では下層非磁性層に工夫を加えることにより、
界面で混合が生じない。従って、混合領域がない磁気記録媒体を初めて得たもの
である。【０００８】この下層非磁性層と上層磁性層との界面において混合領域が生じないようにす
るための１つの発明は下層非磁性層に針状非磁性粉末を用いることである。従来
の粒状の非磁性粉末に比べ、針状の非磁性粉末が整列して存在すると未乾燥状態
でも強固な塗膜を形成し、上層磁性層の強磁性粉末が回転しても、その界面で混
合を生じない。【０００９】このように本発明の基本思想は、下層非磁性層用塗布液として非磁性粉末を結
合剤に分散した分散液と強磁性粉末が結合剤に分散された上層磁性層用磁性塗料
を使用し、非磁性支持体上に該下層非磁性層用塗布液を塗設して、その上に上層
磁性層用磁性塗料を重層塗布するという条件下に製造され得るものであり、特に
その際上層磁性層厚を薄膜化、例えば、１μｍ以下に歩留り良く調製できる点に
ある。【００１０】本発明は、該上層磁性層の乾燥厚みは１μｍ以下であり、かつ下層非磁性層と
上層磁性層の間に混合領域がない磁気記録媒体を与える。ここで、下層非磁性層と上層磁性層の間に混合領域がないとは、具体的には、
下層非磁性層と上層磁性層との界面においては、上層磁性層成分と下層非磁性層
成分とが混在する領域がないこと、具体的には上層磁性層成分の強磁性粉末と下
層非磁性層成分の非磁性粉末とが該界面において混在しないことをいう。従って
、界面近傍での強磁性粉末および非磁性粉末の配向の乱れも少なく、表面性を改
善すると共に配向性が改善されるのでＲＦ出力を高くし、ＢＥＲ（ブロックエラ
ーレート）、ドロップアウト等を効果的に低減する。また、磁性層を１μｍ以下
にすることで短波長記録に適する磁気記録媒体を安定に得ることができる。【００１１】本発明の磁気記録媒体を製造するための具体的方法は特に制限されないが、特に〜の発明において使用する手段を適用することができる。即ち、強磁性粉
末および／または非磁性粉末の形状、サイズ等の規定、結合剤の種類の選定等を
種々選択することにより製造できる。本発明の特徴は、該上層磁性層の乾燥厚みは１μｍ以下であり、前記下層非
磁性層の乾燥厚みは０．５μｍ以上であり、かつ該下層非磁性層にｒ₁／ｒ₂（即
ち軸比）を２．５以上２０未満に規定した非磁性粉末を含有するものである。こ
のように形状を規定することにより、塗布時の流動配向で長手方向に非磁性粉末
が配向するので、上層磁性層の強磁性粉末への磁場配向による回転運動を抑止す
ることができ、結果的に該下層非磁性層と上層磁性層との界面の乱れを抑え、強
磁性粉末の配向も改善することができる。【００１２】ここで、ｒ₁は最も長い軸長、ｒ₂は最も短い軸長であるが、非磁性粉末の具体
的形状は、基本的には任意であり、針状でも板状でもよく、電子顕微鏡等により
実測される。また、該軸とは厳密な意味での対称軸を意味するものではない。針
状の場合、ｒ₁は通常、即ち長軸長といわれるもので、３μｍ以下、好ましくは
１．５ μｍ以下の範囲であり（即ちｒ₂は単軸長あるいは太さである）、好ま
しい軸比は５〜２０である。鱗片状あるいは板状の場合は、ｒ₁は通常板径とい
われるものをさし、その値としては、０．０１〜３μｍ、好ましくは０．０５〜
１．５μｍの範囲であり（即ちｒ₂は板厚である）、好ましい板状比は５〜２０
である。【００１３】また、上層磁性層の強磁性粉末の物性、形状、サイズは特に制限はないが、好
ましくは最も長い軸長の平均径が０．３μｍ以下の針状強磁性粉末、板状強磁性
粉末で、具体例として針状強磁性粉末は、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｆｅ₃Ｏ₄、Ｃｏ−γ−
Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｒＯ₂、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ合金等の合金強磁性粉
末、板状強磁性粉末はバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト等の六方
晶フェライト、及びＣｏ合金粉末であり、特に好ましくはＦｅを主体とした合金
あるいは六方晶フェライトが挙げられる。【００１４】本発明の特徴は、該上層磁性層の乾燥厚みは１μｍ以下であり、前記下層非
磁性層の乾燥厚みは０．５μｍ以上であり、かつ該下層非磁性層に針状比を２．
５以上２０未満に規定した非磁性粉末を含有し、かつ上層磁性層に平均粒径を０
．３μｍ以下に規定した強磁性粉末を含有するものであり、特にと相違する点
は下層非磁性層の非磁性粉末の形状を針状に限定すると共に上層磁性層の強磁性
粉末の最も長い軸長の平均径を０．３μｍ以下に限定した点であり、微粒子化に
よる充填度の向上、出力の向上を計ることができる。ここで、針状比とは、前記ｒ₁／ｒ₂において定義した場合の非磁性粉末の形状
を針状に限定した場合と同じ意味であるが、前記と区別するためにＲ₁／Ｒ₂と記
す。ここで、Ｒ₁は最も長い軸長、Ｒ₂は最も短い軸長である。Ｒ₁としては、３
μｍ以下、好ましくは１．５μｍ以下の範囲であり、軸比としては好ましくは５
以上である。【００１５】針状非磁性粉末としては、非磁性の金属（Ｃｕ、Ｃｒ、Ａｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｗ
等）あるいは酸化物が好ましく、例えば、Ａｌ₂Ｏ₃（α、γ）、Ｃｒ₂Ｏ₃、αフ
ェライト、ゲーサイト、ＳｉＯ₂（ガラスも含む）、ＺｒＯ₂、ＣｅＯ₂、ＴｉＯ₂
（ルチル、アナターゼ）等が挙げられる。また、下層非磁性層の厚みは０．５μｍ以上、特に０．５〜５．０μｍが好ま
しい。下層非磁性層が０．５μｍより薄いと生産性が低下すると共にカレンダー
成形性が劣化し充分な電磁変換特性が得られにくくなる。強磁性粉末の形状は任意であり、例えば、針状でも板状でもよい。この場合の
平均粒径の定義も前記発明の軸比：ｒ₁／ｒ₂で定義したことがあてはまり、物
の違いを除きｒ₁と同じ意味である。以下、ｒ₁／ｒ₂にならって強磁性粉末の軸
比をφ₁／φ₂と記す。強磁性粉末が針状の場合、φ₁は、０．３μｍ以下、好ま
しくは０．２５μｍ以下の範囲であり、かつφ₁／φ₂は２．５以上、板状の場合
は、φ₁／φ₂は２．５以上で、φ₁は０．０１〜０．３μｍ、好ましくは０．０
５〜０．２μｍの範囲である。【００１６】これら非磁性粉末を分散、結合するために用いる結合剤としてエポキシ基を含有する樹脂を用いる場合には、この樹脂は、分子量３万以上のものである。エポ
キシ基は１×１０^-5〜２０×１０^-4ｅｑ／ｇ、好ましくは４×１０^-5〜１６×１
０^-4ｅｑ／ｇ含有される。エポキシ基の導入方法は公知の技術が適応できる。例
えば、グリシジル基を有するビニルモノマーを他のモノマーと共重合させるなど
があげられる。その他、このエポキシ基を含有する分子量３万以上の樹脂の製造
方法は下記エポキシ基含有塩化ビニル系樹脂の記載を適用できる。また、この発明では、モース硬度５以上の研磨剤を下層非磁性層に非磁性粉末
との配合比が、非磁性粉末／研磨剤＝９５／５〜６０／４０となるように混在さ
せることが好ましく、これにより下層非磁性層、引いては磁気記録媒体の機械的
強度を増強し、いわゆる粉落ちを防止して、ＢＥＲ（ブロックエラーレート）、
ドロップアウトを低減すると共に耐久性を向上させることができる。【００１７】モース硬度５以上の研磨材としてはα−Ａｌ₂Ｏ₃、Ｃｒ₂Ｏ₃、 α−Ｆｅ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、ＴｉＣ、ＳｉＯ₂、ＳｉＣ、ＣｅＯ₂などが
挙げられる。該研磨材の粒子サイズは塗布される下塗の厚み以下が好ましく、０
．１〜５μ程度、更に好ましくは０．１〜２μである。粒子の形状は粒状、針状
どちらでも使用出来る。該鱗片状非磁性粉体と研磨材の混合比は９５／５〜６０
／４０である。研磨材量が少ないと充分な耐久性が得られず、多すぎると鱗片状
粒子の上層磁性体配向効果が損なわれる。【００１８】以下、本発明〜の規定に従って選択可能な一般的事項を挙げる。本発明において上層磁性層および下層非磁性層は通常各々単層で構成されるが、
各々単層構成でも複層構成でも上記組成、規定条件を満足すればかまわない。以
下、上層磁性層、下層非磁性層を単に上層、下層という場合がある。上記の非磁性粉末は必ずしも１００％純粋である必要はなく、目的に応じて表面
を他の化合物で処理してもよい。その際、純度は７０％以上であれば効果を減ず
ることにはならない。例えば、酸化チタンを用いる場合、表面をアルミナで処理
することが一般的に用いられている。強熱減量は２０％以下であることが好まし
い。上層の強磁性粉末含有率は７０％以上が好ましい。強磁性粉末含有率が７０％
未満では、充填度が低下して電磁変換特性が劣化する。ここでいう強磁性粉末含
有率とは（強磁性粉末）／（強磁性粉末＋結合剤＋添加剤等の磁性層に含有され
るもの）の重量％を表している。【００１９】本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場５ＫOeで測定した場合、角型比が各層
とも０．７以上、好ましくは０．８以上、さらに好ましくは０．９以上が好まし
い。本発明に使用される強磁性粉末のσ_sは５０ｅｍｕ／ｇ以上、好ましくは７０
ｅｍｕ／ｇ以上であり、金属微粉末の場合は１００ｅｍｕ／ｇ以上が好ましい。
また、含水率は０．０１〜２％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁
性粉末の含水率は最適化するのが好ましい。本発明の強磁性粉末としてコバルト変成酸化鉄を用いる場合は、２価の鉄の３価
の鉄に対する比は好ましくは０〜３３．３％であり、さらに好ましくは５〜１０
％である。また鉄原子に対するコバルト原子の量は０〜１５％、好ましくは３〜
８％である。【００２０】強磁性粉末のｐＨは用いる結合剤との組合せにより最適化することが好ましい
。その範囲は４〜１２である。強磁性粉末はＡｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を施しても
かまわない。その量は強磁性粉末に対し０．１〜１０％である。上層の強磁性粉末は、可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒ等の無機イオンを
含む場合があるが５００ｐｐｍ以下であれば特に影響を与えない。強磁性粉末としてはγ−ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、Ｃｏ変性γ−Ｆｅ
Ｏｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、ＦｅまたはＮｉまたはＣｏを主成分（７５％以
上）とする強磁性合金微粉末など公知の強磁性粉末が使用できる。これらの強磁
性粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ
、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、
Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。【００２１】これらの強磁性微粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防
止剤などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわない。上記強磁性粉末の中で強磁性合金微粉末については少量の水酸化物、または酸化
物を含んでもよい。強磁性合金微粉末の公知の製造方法により得られたものを用
いることができ、下記の方法をあげることができる。複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法
、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを
得る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素
化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して
還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法などで
ある。このようにして得られた強磁性合金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有
機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを
送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素
ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施
したものでも用いることができる。また、本発明に用いられる強磁性粉末は空孔が少ないほうが好ましくその値は
２０容量％以下、さらに好ましくは５容量％以下である。本発明に用いられる強磁性粉末は公知の方法に従って製造することができる。【００２２】本発明の下層非磁性層、上層磁性層に使用される結合剤としては従来公知の熱
可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。尚、本
発明にあってはエポキシ基含有樹脂を用いることができ、該エポキシ基含有樹脂
にこれらを併用することができる。熱可塑系樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量
が１０００〜２０００００、好ましくは１００００〜１０００００、重合度が約
５０〜１０００程度のものである。このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、
メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニ
ルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重
合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。【００２３】また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフエノール樹脂、エポキシ樹脂
、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル
系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹
脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポ
リオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの
混合物等があげられる。これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に
記載されている。【００２４】また、公知の電子線硬化型樹脂を使用することも可能である。これらの例とそ
の製造方法については特開昭６２−２５６２１９号に詳細に記載されている。以
上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹
脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール樹脂、
塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、中から選ばれる少なくとも１種
とポリウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組合せたも
のがあげられる。ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレ
タン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン
、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタ
ンなど公知のものが使用できる。【００２５】ここに示したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るため
には必要に応じ、ＣＯＯＭ、ＳＯ₃Ｍ、ＯＳＯ₃Ｍ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、Ｏ−Ｐ＝
Ｏ（ＯＭ）₂、（以上につきＭは水素原子、またはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ²、Ｎ⁺Ｒ³、Ｒは炭化水素基）、ＳＨ、ＣＮ、などから選ばれる少
なくとも一つ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものを用いること
が好ましい。このような極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好ましく
は１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。塩化ビニル系共重合体としては、好ましくは、エポキシ基含有塩化ビニル系共
重合体が挙げられ、塩化ビニル繰返し単位と、エポキシ基を有する繰返し単位と
、所望により−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−ＣＯＯＭおよび−ＰＯ（ＯＭ）₂（以
上につきＭは水素原子、またはアルカリ金属塩基）等の極性基を有する繰返し単
位とを含む塩化ビニル系共重合体が挙げられる。エポキシ基を有する繰返し単位
との併用では、−ＳＯ₃Ｎａを有する繰返し単位を含むエポキシ基含有塩化ビニ
ル系共重合体が好ましい。【００２６】極性基を有する繰返し単位の共重合体中における含有率は、通常０．０１〜５
．０モル％（好ましくは、０．５〜３．０モル％）の範囲内にある。エポキシ基を有する繰返し単位の共重合体中における含有率は、通常１．０〜３
０モル％（好ましくは１〜２０モル％）の範囲内にある。そして、塩化ビニル系
重合体は、塩化ビニル繰返し単位１モルに対して通常０．０１〜０．５モル（好
ましくは０．０１〜０．３モル）のエポキシ基を有する繰返し単位を含有するも
のである。エポキシ基を有する繰返し単位の含有率が１モル％より低いか、あるいは塩化
ビニル繰返し単位１モルに対するエポキシ基を有する繰返し単位の量が０．０１
モルより少ないと塩化ビニル系共重合体からの塩酸ガスの放出を有効に防止する
ことができないことがあり、一方、３０モル％より高いか、あるいは塩化ビニル
繰返し単位１モルに対するエポキシ基を有する繰返し単位の量が０．５モルより
多いと塩化ビニル系共重合体の硬度が低くなることがあり、これを用いた場合に
は磁性層の走行耐久性が低下することがある。【００２７】また、特定の極性基を有する繰返し単位の含有率が０．０１モル％より少ない
と強磁性粉末の分散性が不充分となることがあり、５．０モル％より多いと共重合体が吸湿性を有するようになり耐候性が低下することがある。通常、このような塩化ビニル系共重合体の数平均分子量は、１．５万〜６万の範
囲内にある。このようなエポキシ基と特定の極性基を有する塩化ビニル系共重合体は、例え
ば、次のようにして製造することができる。【００２８】例えばエポキシ基と、極性基として−ＳＯ₃Ｎとが導入されている塩化ビニル
系共重合体を製造する場合には、反応性二重結合と、極性基として−ＳＯ₃Ｎａ
とを有する２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸ナトリ
ウム（反応性二重結合と極性基とを有する単量体）およびジグリシジルアクリレ
ートを低温で混合し、これと塩化ビニルとを加圧下に、１００℃以下の温度で重
合させることにより製造することができる。上記の方法による極性基の導入に使用される反応性二重結合と極性基とを有す
る単量体の例としては、上記の２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパ
ンスルホン酸ナトリウムの外に２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパ
ンスルホン酸、ビニルスルホン酸およびそのナトリウムあるいはカリウム塩、（
メタ）アクリル酸−２−スルホン酸エチルおよびナトリウムあるいはカリウム塩
、（無水）マレイン酸および（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸−２−リ
ン酸エステルを挙げることができる。【００２９】また、エポキシ基の導入には、反応性二重結合とエポキシ基とを有する単量体
として一般にグリシジル（メタ）アクリレートを用いる。なお、上記の製造法の外に、例えば、塩化ビニルとビニルアルコールなどとの
重合反応により多官能−ＯＨを有する塩化ビニル系共重合体を製造し、この共重
合体と、以下に記載する極性基および塩素原子を含有する化合物とを反応（脱塩
酸反応）させて共重合体に極性基を導入する方法を利用することができる。ＣｌＣＨ₂ＣＨ₂ＳＯ₃Ｍ、ＣｌＣＨ₂ＣＨ₂ＯＳＯ₃Ｍ、ＣｌＣＨ₂ＣＯＯＭ、ＣｌＣＨ₂ＰＯ（ＯＭ）₂ 【００３０】また、この脱塩酸反応を利用するエポキシ基の導入には通常はエピクロルヒド
リンを用いる。なお、該塩化ビニル系共重合体は、他の単量体を含むものであってもよい。他
の単量体の例としては、ビニルエーテル（例、メチルビニルエーテル、イソブチ
ルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル）、α−モノオレフィン（例、エチ
レン、プロピレン）、アクリル酸エステル（例、（メタ）アクリル酸メチル、ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート等の官能基を含有する（メタ）アクリル酸
エステル）、不飽和ニトリル（例、（メタ）アクリロニトリル）、芳香族ビニル
（例、スチレン、α−メチルスチレン）、ビニルエステル（例、酢酸ビニル、プ
ロピオン酸ビニル等）が例示される。【００３１】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体的な例としてはユニオンカーバイト
社製：ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥ
Ｓ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ
、ＰＫＦＥ、日信化学工業社製：ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡ
Ｌ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、電気化学
社製：１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、日本ゼオン社製
：ＭＲ１１０、ＭＲ１００、４００Ｘ１１０Ａ、日本ポリウレタン社製：ニッポ
ランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製：パンデックスＴ
−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１
０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社製：バイロンＵＲ８２００
、ＵＲ８３００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製：ダイフエラミン４０
２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０、三菱化
成社製：ＭＸ５００４、三洋化成社製：サンプレンＳＰ−１５０、旭化成社製：
サランＦ３１０、Ｆ２１０などがあげられる。【００３２】本発明に用いられる結合剤は上層にあっては、強磁性粉末に対し、５〜５０重量％の範囲、好ましくは１０〜３５重量％の範囲で用いられる。また、塩化ビニ
ル系樹脂を用いる場合は、５〜３０重量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２
〜２０重量％、ポリイソシアネートは２〜２０重量％の範囲でこれらを組合せて
用いるのが好ましい。本発明〜に用いられる結合剤は下層にあっては、非磁性粉末に対し、合計
で５〜５０重量％の範囲、好ましくは１０〜３５重量％の範囲で用いられる。ま
た、塩化ビニル系樹脂を用いる場合は、３〜３０重量％、ポリウレタン樹脂を用
いる場合は３〜３０重量％、ポリイソシアネートは０〜２０重量％の範囲でこれ
らを組合せて用いるのが好ましい。また、本発明にあっては、分子量３万以上のエポキシ基含有樹脂を用いる場合
、該樹脂を非磁性粉末に対し、３〜３０重量％使用でき、かつエポキシ基含有樹
脂以外の樹脂を非磁性粉末に対し３〜３０重量％使用でき、ポリウレタン樹脂を
用いる場合は３〜３０重量％、ポリイソシアネートは０〜２０重量％使用できる
が、エポキシ基は、結合剤（硬化剤を含む）全重量に対し、４×１０^-5〜１６×
１０^-4ｅｑ／ｇの範囲で含まれることが好ましい。【００３３】本発明において、ポリウレタン樹脂を用いる場合はガラス転移温度が−５０〜
１００℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃ
ｍ²、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ²が好ましい。本発明に用いるポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４
−４′−ジフエニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート
、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−
トルイジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフエニルメタント
リイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポ
リアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリ
イソシアネート等を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販さ
れている商品名としては、日本ポリウレタン社製：コロネートＬ、コロネートＨ
Ｌ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネー
トＭＴＬ、武田薬品社製：タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製：デスモジュー
ルＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ等があり、
これらを単独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで
下層、上層ともに用いることができる。【００３４】本発明においては、上層および／または下層に必要に応じて任意の添加剤、例
えば、カーボンブラック等の帯電防止剤、研磨剤、着色剤、潤滑剤、分散剤等を
使用できる。カーボンブラックはゴム用フアーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、
アセチレンブラック、等を用いることができる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用
しても、表面の一部をグラフアイト化したものを使用してもかまわない。また、
カーボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかま
わない。これらのカーボンブラックは単独、または組合せで使用することができ
る。【００３５】カーボンブラックは上層磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強
度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従っ
て本発明に使用されるこれらのカーボンブラックはその種類、量、組合せを変え
、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応
じて使い分けることはもちろん可能である。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カ
ーボンブラック協会編）を参考にすることができる。【００３６】本発明に用いられる研磨剤としてはα化率９０％以上のα−アルミナ、β−ア
ルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人
造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪
素、窒化ホウ素、など主としてモース硬度６以上の公知の材料が単独または組合
せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物
または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれば効果にかわりは
ない。これら研磨剤の粒子サイズは０．０１〜２μｍが好ましいが、必要に応じ
て粒子サイズの異なる研磨剤を組合せたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くし
て同様の効果をもたせることもできる。本発明に用いられる研磨剤の形状は針状
、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨
性が高く好ましい。【００３７】本発明に用いられる研磨剤の具体的な例としては、住友化学社製：ＡＫＰ−２
０，ＡＫＰ−３０，ＡＫＰ−５０，ＨＩＴ−５０、日本化学工業社製：Ｇ５，Ｇ
７，Ｓ−１、戸田工業社製：１００ＥＤ，１４０ＥＤ、などがあげられる。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添加しても
かまわない。研磨剤の使用量は、本発明においては、上層磁性層にあっては強磁性粉末の２
０重量％以下、下層非磁性層にあっては非磁性粉末の２０重量％以下で使用され
る。【００３８】潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつ添加剤としては下
記のものが列挙される。二硫化モリブデン、二硫化タングステン、グラフアイト、窒化ホウ素、フッ化
黒鉛、カーボンブラック等の固体潤滑剤。シリコーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素
含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフイン
、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル
硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフエニルエーテル、フッ素含有ア
ルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂
肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、および、これ
らの金属塩（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、二
価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜
２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない
）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれ
か一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）とからなるモ
ノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレ
ンオキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の
脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、などの有機質潤滑剤が使用でき
る。【００３９】これらの具体例としてはラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリ
ン酸、ベヘン酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、
エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソ
オクチル、ミリスチン酸オクチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソ
ルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロ
ソルビタントリステアレート、オレイルアルコール、ラウリルアルコール、があ
げられる。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフ
エノールエチレンオキサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エ
ステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホス
ホニウムまたはスルホニウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スル
フォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基を含むアニオ
ン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸また
は燐酸エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用できる。
これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）
に詳細に記載されている。【００４０】これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外
に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、等の不純分が含まれてもかま
わない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面活性剤は下層非磁性層、上層磁性層
でその種類、量を必要に応じ使い分けることができる。例えば、下層非磁性層、
上層磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、沸点や
極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を
調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を中間層で多くして
潤滑効果を向上させるなどが考えられ、無論ここに示した例のみに限られるもの
ではない。また本発明で用いられる添加剤のすべてまたはその一部は、下層非磁性層用塗
料、上層磁性塗料製造のどの工程で添加してもかまわない、例えば、混練工程前
に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加
する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加す
る場合などがある。【００４１】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン
、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール
、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル
、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコール
ジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、などのグリコ
ールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン
、などの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化
炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン、等の塩素化
炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用できる。【００４２】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性支持体が１〜１００μｍ、好ましく
は６〜２０μｍ、上層磁性層は１μｍ以下、好ましくは１〜０．２μｍ、下層非
磁性層が０．５μｍ以上が好ましく、特に好ましくは０．５〜５μｍである。上層磁性層１μｍを越えると電磁変換特性に対する薄膜化の効果がなくなり、下層
非磁性層が０．５μｍより薄いと生産性が低下すると共にカレンダー成形性が劣
化し充分な電磁変換特性が得られなくなる。また、非磁性支持体性と下層非磁性
層の間に密着性向上のための下塗り層を設けてもよい。これらの厚みは０．０１
〜２μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μｍである。また、非磁性支持体性の磁
性層側と反対側にバックコート層を設けてもかまわない。この厚みは０．１〜２
μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍである。これらの下塗り層、バックコート
層は公知のものが使用できる。【００４３】本発明に用いられる非磁性支持体はポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリアラミド、ポリカーボネー
ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフオン、アラミド、
芳香族ポリアミドなどの公知のフイルムが使用できる。これらの支持体にはあら
かじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などを
おこなっても良い。非磁性支持体として中心線平均表面粗さは０．１μｍ以下、
好ましくは０．０５μｍ以下である。また、これらの非磁性支持体は単に中心線
平均表面粗さが小さいだけではなく、１μｍ以上の粗大突起がないことが好まし
い。また表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に添加されるフイラーの大きさと
量により自由にコントロールされるものである。これらのフイラーとしては一例
としてはＣａ，Ｓｉ，Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機微
粉末があげられる。【００４４】本発明に用いられる非磁性支持体のテープ走行方向のＦ−５値は好ましくは５
〜５０ｋｇ／ｍｍ²、テープ幅方向のＦ−５値は好ましくは３〜３０ｋｇ／ｍｍ²
であり、テープ長手方向のＦ−５値がテープ幅方向のＦ−５値より高いのが一般
的であるが、特に幅方向の強度を高くする必要があるときはその限りでない。また、支持体のテープ走行方向および幅方向の１００℃３０分での熱収縮率は
好ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮
率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１００ｋｇ／ｍｍ²、弾性率は１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ²が好ま
しい。【００４５】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料、非磁性塗料を製造する工程は、少なくとも
混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程
からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていてもかまわない。本発
明に使用する強磁性粉末、非磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、帯
電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添加し
てもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかま
わない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のため
の混合工程で分割して投入してもよい。本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工程として
用いることができることはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加圧ニ
ーダなど強い混練力をもつものを使用できる。連続ニーダまたは加圧ニーダを用
いる場合は各粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０％以
上が好ましい）および粉末１００部に対し１５〜５００部の範囲で混練処理され
る。これらの混練処理の詳細については特願昭６２−２６４７２２号、特願昭６
２−２３６８７２号に記載されている。【００４６】本発明では、特開昭６２−２１２９３３号に示されるような同時重層塗布方式
を用いることにより、より効率的に生産することができる。本発明の媒体を得るためには強力な配向を行う必要がある。１０００Ｇ以上の
ソレノイドと２０００Ｇ以上のコバルト磁石を併用することが好ましく、さらに
は乾燥後の配向性が最も高くなるように配向前に予め適度の乾燥工程を設けるこ
とが好ましい。さらに、カレンダ処理ロールとしてエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリ
イミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロールを使用する。また、金属ロー
ル同志で処理することもできる。処理温度は、好ましくは７０℃以上、さらに好
ましくは８０℃以上である。線圧力は好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ、さらに好ましくは３００ｋｇ／ｃｍ以上である。【００４７】本発明の磁気記録媒体の上層磁性層面およびその反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対
する摩擦係数は好ましくは０．５以下、さらに０．３以下、表面固有抵抗は好ま
しくは１０^-5〜１０^-12オーム／ｓｑ、磁性層の０．５％伸びでの弾性率は走行
方向、幅方向とも好ましくは１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ²、破断強度は好まし
くは１〜３０ｋｇ／ｃｍ²、磁気記録媒体の弾性率は走行方向、長手方向とも好
ましくは１００〜１５００ｋｇ／ｍｍ²、残留のびは好ましくは０．５％以下、
１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好まし
くは０．５％以下、もっとも好ましくは０．１％以下である。上層磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍｇ／ｍ²以下、さらに
好ましくは１０ｍｇ／ｍ²以下であり、上層磁性層に含まれる残留溶媒が下層非
磁性層に含まれる残留溶媒より少ないほうが好ましい。【００４８】上層磁性層が有する空隙率は好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは１
０容量％以下である。本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場５ＫＯｅで測定した場合、テープ走行
方向の角形比は０．７０以上であり、好ましくは０．８０以上さらに好ましくは
０．９０以上である。テープ走行方向に直角な二つの方向の角型比は走行方向の
角型比の８０％以下となることが好ましい。上層磁性層のＳＦＤは０．６以下で
あることが好ましい。【００４９】【実施例】次に実施例と比較例を示し、本発明を更に具体的に説明する。各例において、
「部」は特に指定しない限り「重量部」を意味する。以下の処方で磁性塗布液、及び非磁性塗布液を調整した。【００５０】実施例１−１上層磁性層用磁性塗布液処方強磁性粉末：Ｆｅ合金粉末（Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ）１００部組成；Ｆｅ：Ｎｉ：Ｃｏ＝９２：６：２Ｈｃｌ６００Oe、σ_s１３５ｅｍｕ／ｇ長軸長０．１８μｍ，針状比９塩化ビニル共重合体１０部 −ＳＯ₃Ｎａ，エポキシ基含有ポリウレタン樹脂５部 −ＳＯ₃Ｎａ含有，分子量４５０００ αアルミナ（平均粒径０．２μｍ）５部シクロヘキサノン１５０部メチルエチルケトン１５０部上記組成物をサンドミル中で６時間混合分散したのち、ポリイソシアナート（
コロネートＬ）及びステアリン酸５部、ステアリン酸ブチル１０部を加えて磁性
塗布液を得た。【００５１】下層非磁性層用塗布液処方針状α−Ｆｅ₂Ｏ₃ １００部長軸長０．５μｍ針状比１０カーボンブラック５部平均粒径２０ｍμ 塩化ビニル共重合体８部 −ＳＯ₃Ｎａ，エポキシ基含有分子量４５０００ポリウレタン樹脂５部 −ＳＯ₃Ｎａ含有、分子量４５０００シクロヘキサン１００部メチルエチルケトン１００部上記組成物をサンドミル中で４時間混合分散したのち、ポリイソシアナート（
コロネートＬ）及びステアリン酸５部、ステアリン酸ブチル１０部を加えて下層非磁性層用塗布液を得た。【００５２】上記の塗布液をギャップの異なる２つのドクターを用いて、湿潤状態で塗布し
たのち、永久磁石にて配向処理後、乾燥した。その後にスーパーカレンダー処理
を行なった。塗布厚みは磁性層０．３μｍ、非磁性層３．０μｍであった。この
様にして得られた原反を３．８１ｍｍ幅に裁断しデジタルオーディオテープ（Ｄ
ＡＴ）を作成した。その他の実施例、比較例は実施例１に対して、表１、２に示す因子を変更して
テープを作成した。また、Ｂａフェライトの物性値は以下の通りである。強磁性粉末：ＢａフェライトＨｃｌ１００Oe、σ_s ７０ｅｍｕ／ｇ板径０．０５μｍ，板状比５【００５３】これらテープは以下の方法で評価し、結果を表１、表２に示した。使用デッキ：ＳＯＮＹ製ＤＴＣ−１０００混合領域の有無の判別：サンプルの調製サンプルテープをエポキシ樹脂ではさみ液体窒素で冷却し、これをテープの長
手方向、巾方向にミクロトームを用いて切断する。観察ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）を用いて倍率５００００倍で上記切断面を観察し
、磁性層と非磁性層の界面近傍の磁性層中に含まれる非磁性粒子の個数を測定し
た。【００５４】評価磁性粒子の個数に対する非磁性粒子の個数の割合（％）を求めた。混合領域がない・・・上記割合が０．５％以下混合領域がある・・・上記割合が０．５％を越えるｉ）粒子形状が異なる場合例えば、上層磁性層の強磁性粉末が針状で下層非磁性層の非磁性粉末が粒状ま
たは鱗片状である場合、又は上層磁性層の強磁性粉末が板状で下層非磁性層の非
磁性粉末が粒状又は針状の場合は形状の異なるものの混ざり具合をみて混合領域
の有無を評価した。ｉｉ）粒子形状は同じだが最も長い軸長の平均径が異なる場合例えば、上層磁性層の強磁性粉末、下層非磁性層の非磁性粉末が共に針状だが
、前記平均径が異なる場合、又は上層磁性層の強磁性粉末が板状で、下層非磁性
層の非磁性粉末が鱗片状であるような場合は、その平均径の異なるものがどの程
度混ざっているかによって混合領域の有無を評価した。【００５５】ｉｉｉ）粒子形状、平均径ともに等しい場合上層磁性層と下層非磁性層の界面付近をマイクロオージェ電子分光分析法にて
各層に含まれる特有な元素を検知することにより、混合領域の有無を評価した。再生出力：４．７ＭＨｚ単一周波数の信号を入力し、再生信号をスペクトラムアナライザーに出力させ、信号のピーク値を読みとった。スペアナはＨＰ−３５８５ＡＯｄＢは比較例１の磁性層単層のテープＢＥＲ（ブロックエラーレート）：コンピューターにてランダム信号を２４− ２５変換した。スクランブルドインターリーブドＮＲＺ−Ｉ信号をテスト信号とし、本テスト信号を記録／再生したデータをＰＲ復調して得たデータを、テスト信号と比較して、エラーを検出して、そのエラーの比率をＢＥＲとする。ドロップアウト：４．７ＭＨｚ単一周波数の信号を入力、スレッシュホールド（ＤＯ）レベル−１０ｄＢで長さ０．５μＳＥＣのドロップアウトをドロップアウトカウンターで測定した。尚、本実施例においては、上層磁性層の乾燥厚みは、混合領域の有無の判断方
法と同様にしてサンプルを調整し、ＴＥＭで観察した切断面より測定した。【００５６】【表１】【００５７】【表２】【００５８】表１〜表２の結果より明らかな如く、本発明の針状非磁性粉末を用いたサンプ
ルＮｏ．実施例１−１〜１−７はＲＦ出力の改善と同時にドロップアウトが少な
く、かつ低いＢＥＲ（ブロックエラーレート）を示すことがわかった。本発明の範囲に入らないサンプルＮｏ．比較例１−１〜１−３はＢＥＲ、ドロ
ップアウト、ＲＦ出力の少なくとも何れかが良好な結果が得られなかった。尚、
ＢＥＲの目標レベルは１０^-4以下、ドロップアウトは１００個以下、ＲＦ出力は
３．０ｄＢ以上である。【００５９】【発明の効果】下層非磁性層が湿潤状態の内に上層磁性層を同時又は逐次に塗布した、いわゆ
るウエットオンウエットの塗布により複数層を設けた磁気記録媒体において
、その界面において混合領域を生じない磁気記録媒体、具体的には下層非磁性層
に針状又は鱗片状の非磁性粉末を用いることにより電磁変換特性が良好で生産性
に優れ、具体的にはＲＦ出力が高く、走行耐久性に優れ、ドロップアウトがすく
なくかつブロックエラーレートの低い磁気記録媒体が得られる。

Claims

【特許請求の範囲】【請求項１】非磁性支持体上に少なくとも非磁性粉末と結合剤を含む下層非
磁性層を設け、その上に強磁性粉末と結合剤を含む上層磁性層を設けた磁気記録
媒体において、前記上層磁性層の乾燥厚みが１μｍ以下であり、前記下層非磁性
層の乾燥厚みは０．５μｍ以上であり、かつ前記非磁性粉末の最も長い軸長ｒ₁
と最も短い軸長ｒ₂との比ｒ₁／ｒ₂が２．５以上２０未満であることを特徴とす
る磁気記録媒体。【請求項２】前記強磁性粉末の最も長い軸長の平均径が０．３μｍ以下であ
ることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。【請求項３】非磁性支持体上に少なくとも非磁性粉末と結合剤を含む下層非
磁性層を設け、その上に強磁性粉末と結合剤を含む上層磁性層を設けた磁気記録
媒体において、前記非磁性粉末が針状比が２．５以上２０未満であり、かつ前記
上層磁性層の乾燥厚みが１μｍ以下であり、前記下層非磁性層の乾燥厚みは０．
５μｍ以上であり、前記強磁性粉末の最も長い軸長の平均径が０．３μｍ以下で
あることを特徴とする磁気記録媒体。【請求項４】前記下層非磁性層は最も長い軸長が３μｍ以下の非磁性粉末を
含むことを特徴とする請求項１又は請求項３に記載の磁気記録媒体。【請求項５】前記下層非磁性層はＡｌ₂Ｏ₃（α、γ），Ｃｒ₂Ｏ₃，αＦｅ₂
Ｏ₃，ゲータイト，ＳｉＯ₂，ＺｒＯ₂，ＣｅＯ₂，ＴｉＯ₂（ルチル、アナターゼ
）の非磁性粉末のうち少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項１又は請求
項３に記載の磁気記録媒体。【請求項６】前記強磁性粉末はＦｅ又はＮｉ又はＣｏを主成分とする針状の
強磁性合金粉末であることを特徴とする請求項１又は請求項３に記載の磁気記録
媒体。【請求項７】前記磁気記録媒体が録音用テープ、ビデオテープ、コンピュー
ターテープ、ディスク用などのデジタル用であることを特徴とする請求項１又は
請求項３に記載の磁気記録媒体。