JP2698770B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、高密度の塗布型磁気記
録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体は、録音用テープ、ビデオ
テープ、コンピューターテープ、ディスクなどとして広
く用いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され、
記録方式もアナログ方式から、デジタル方式まで検討さ
れている。この高密度化の要求に対して、磁性層に金属
薄膜を用いた磁気記録媒体が提案されているが、生産
性、腐食等の実用信頼性の点で磁性粉末を結合剤中に分
散して、支持体上に塗布したいわゆる塗布型の磁気記録
媒体が優れる。しかしながら、金属薄膜に対して塗布型
媒体は磁性物の充填度が低いために、電磁変換特性が劣
る。塗布型媒体の電磁変換特性の向上には、磁性体の磁
気特性の改良、表面の平滑化などがあり種々の方法が提
案されているが、高密度化に対しては充分なものではな
い。

【０００３】またデジタル用の媒体の性能向上に対して
は、磁性層の薄層化が知られている。しかし原理的には
有効ながら、塗布型媒体の薄層化には生産上の問題点が
ある。それは磁性層の薄層化によってピンホール、すじ
と言った塗布欠陥が発生し易く、充分な歩留まりが得ら
れない。またカレンダーによる成形効果が小さくなるた
めに表面性が悪く、電磁変換特性が良くない。この様な
問題を解決するためには、ある程度の厚みを有する非磁
性層の上に１μｍ以下の薄い磁性層を同時に形成させた
後に、カレンダー処理を行なうことが考えられる。この
様な目的に使用できる手段として非磁性の粒状研磨剤、
またはフィラーを下塗層に含ませることが提案されてい
る。（特開昭６２−２２２４２７号、特開平２−２５７
４２４号） しかしながらこれらの技術の問題点として、磁性層と非
磁性層を同時に塗布し、上層の磁性体を配向するとき
に、磁場による磁性体の回転運動のため上下層の界面で
の混合が発生し、充分な表面性がえられないばかりか、
配向が充分に行なわれないので充分な電磁変換特性が得
られなかった。

【０００４】そこで本出願人らは非磁性の鱗片状粒子で
非磁性下層を形成させることによって、上層の磁性粒子
の配向性を改善しようと試みた。非磁性の鱗片状粒子層
を設けることに関してはグラファイトを用いた導電性中
間層が提案されている。（特開昭５５−５５４３８号）
しかしながらこの様な物質では、配向性の改善はなされ
るが、グラファイト自身には膜の補強効果がないため耐
久性上不十分である。この問題には、モース硬度５以上
の無機粉体を混合する提案がなされている。（特開昭６
０−１２５９２６号） 又、本出願人らは非磁性の針状粒子で非磁性下層を形成
させることによって、上層の磁性粒子の配向性を改善し
ようと試みた。非磁性の針状粒子層を設けることに関し
ては針状の蓚酸塩を用いた補強層が提案されている。
（特公昭５８−５１３２７号）。これら提案により配向
性向上と耐久性の確保はなされるが、実際に媒体を製造
する段階では鱗片状粒子はスタッキングをおこしやす
く、また、蓚酸塩のような物質は結合剤への分散性がよ
くないため、磁性面の平滑性を損なうことが判明した。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の第１の目的
は、優れた電磁変換特性を有し、生産性の優れた磁気記
録媒体を提供することにある。本発明の第２の目的は、
ＲＦ出力が高く、かつ走行耐久性に優れドロップアウト
が少なく、ブロックエラーレート（ＢＥＲ）が低い磁気
記録媒体を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明の上記目
的は、下記に記載の発明により達成できる。（１）支持体上に少なくとも非磁性粉末と結合剤を含む
下層非磁性層を設け、その上に強磁性粉末と結合剤を含
む上層磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記上層
磁性層は乾燥厚みが１μｍ以下であり、前記強磁性粉末
は針状または板状で、その最も長い軸長が０．３μｍ以
下である強磁性粉末であり、かつ前記下層非磁性層は鱗
片状又は板状の非磁性粉末と分子量３万以上のエポキシ
基を含む結合剤を含むことを特徴とする磁気記録媒体。 （２）前記下層非磁性層が前記鱗片状又は板状の非磁性
粉末の他にモース硬度５以上の研磨剤を重量混合比で９
５／５〜６０／４０含むことを特徴とする前記（１）記
載の磁気記録媒体。 （３）少なくとも非磁性粉末と結合剤を含む下層非磁性
層用塗布液と、強磁性粉末と結合剤を含む上層磁性層用
塗布液をそれぞれ調製し、これらの塗布液を支持体上に
塗布する磁気記録媒体の製造方法において、前記上層磁
性層用塗布液は針状または板状で、その最も長い軸長が
０．３μｍ以下である強磁性粉末と結合剤を含み、前記
下層非磁性層用塗布液は鱗片状又は板状の非磁性粉末と
分子量３万以上のエポキシ基を含む結合剤を含み、前記
支持体上に下層非磁性層用塗布液を塗布し、得られた下
層非磁性層が湿潤状態のうちに、乾燥厚みが１μｍ以下
に上層磁性層用塗布液を塗布することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。 すなわち本発明は、好ましくは下
層非磁性層が湿潤状態のうちに上層磁性層を同時または
逐次に塗布した、いわゆるウエット−オン−ウエットの
塗布により複数層を設けた磁気記録媒体の改良を図った
ものである。つまりウエット−オン−ウエット塗布では
界面が柔らかいために互いに他の層の影響を受けやす
く、例えば、塗布後配向すると上層磁性層の強磁性粉末
が回転運動するが、その回転運動によって下層非磁性層
がその影響を受け、界面で混合が生じる。これを本発明
では下層非磁性層に工夫を加えることにより、界面で混
合が生じない。従って、混合領域がない磁気記録媒体を
初めて得たものである。

【０００７】この下層非磁性層と上層磁性層との界面に
おいて混合領域が生じないようにするためには、この発
明では下層非磁性層に鱗片状又は板状の非磁性粉末を用
いて、いわばタイル状に敷きつめることであり、従来の
粒状の非磁性粉末に比べ、鱗片状の非磁性粉末が配列し
て存在すると未乾燥状態でも強固な塗膜を形成し、上層
磁性層の強磁性粉末が回転しても、その界面で混合を生
じない。このタイル状に敷き詰めることは、分散性を改
良するため分子量３万以上のエポキシ基を含む結合剤を
用いることによって達成できるものである。即ち、本発
明は下層非磁性層に形状的に特徴のある非磁性粉末を用
いることによって上層磁性層を設けても、界面に混合領
域が生じず、従って、極めて薄層な、かつ平滑な磁性層
が得られたものである。

【０００８】このように本発明の基本思想は、下層非磁
性層用塗布液として非磁性粉末を結合剤に分散した分散
液と強磁性粉末が結合剤に分散された上層磁性層用磁性
塗料を使用し、非磁性支持体上に該下層非磁性層用塗布
液を塗設して、これが湿潤状態のうちにこの上に上層磁
性層用磁性塗料を重層塗布することにより製造され得る
ものでであり、これにより上層磁性層厚を薄膜化、例え
ば、１μｍ以下に歩留り良く調製できる。本発明により
得られる磁気記録媒体は、該上層磁性層の乾燥厚みは１
μｍ以下であり、かつ下層非磁性層と上層磁性層の間に
混合領域がない磁気記録媒体である。

【０００９】ここで、下層非磁性層と上層磁性層の間に
混合領域がないとは、具体的には、下層非磁性層と上層
磁性層との界面においては、上層磁性層成分と下層非磁
性層成分とが混在する領域がないこと、具体的には上層
磁性層成分の強磁性粉末と下層非磁性層成分の非磁性粉
末とが該界面において混在しないことをいう。従って、
界面近傍での強磁性粉末および非磁性粉末の配向の乱れ
も少なく、表面性を改善すると共に配向性が改善される
のでＲＦ出力を高くし、ＢＥＲ（ブロックエラーレー
ト）、ドロップアウト等を効果的に低減する。また、磁
性層を１μｍ以下にすることで短波長記録に適する磁気
記録媒体を安定に得ることができる。本発明の磁気記録
媒体を製造するための具体的方法は、前記したような鱗
片状又は板状の非磁性粉末が敷きつめられた状態を形成
することができる方法であれば特に制限されないが、本
発明における目的を達成することができるに十分な手段
を適用することができる。即ち、それに適した強磁性粉
末および／または非磁性粉末の形状、サイズ等の規定、
結合剤の種類の選定等を種々選択することにより製造で
きる。

【００１０】本発明は、形状を鱗片状又は板状に規定し
た非磁性粉末と官能基としてエポキシ基を有する結合剤
を含む下層非磁性層と形状を針状又は板状に規定した強
磁性粉末を含む上層磁性層からなる。

【００１１】ここで、非磁性粉末の鱗片状又は板状にお
いて、ｒ₃ は最も長い軸長で、通常板径といわれる。ｒ
₄ は最も短い軸長で、板厚である。ｒ₃ は０．０１〜５
μｍ、好ましくは０．０１〜３μｍである。ｒ₃ ／ｒ₄
は２．５以上、好ましくは５〜２０である。鱗片状又は
板状の非磁性粉末としては、特に制限はないがグラファ
イト、雲母、窒化硼素、α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 等が好ましい。
「鱗片状」の非磁性粉末とは、例えばグラファイト、窒
化硼素のようなウロコ（鱗）状の非磁性粉末のことをい
い、魚の鱗のような丸みを帯びた形状で、比較的厚みが
不均一な非磁性粉末をいう。また、「板状」の非磁性粉
末とは、例えばα−Ｆｅ2 Ｏ3 のような板状の非磁性粉
末のことをいい、板のような角を持った形状で、比較的
厚みが均一な非磁性粉末をいう。この発明は強磁性粉末
の形状を針状、板状に規定したが、φ₁ を最も長い軸
長、φ₂ は最も短い軸長として強磁性粉末の軸比φ₁ ／
φ₂ を使用することができるが、前記発明と区別するた
めにφ₃ ／φ₄ と記す。針状の場合は、φ₃ は、０．３
μｍ以下であり、かつφ₃ ／φ₄ は２．５以上、板状の
場合は、φ₃ ／φ₄は２．５以上で、φ₃ は０．３μｍ
以下である。針状強磁性粉末としては、γ酸化鉄、Ｃｏ
変性酸化鉄、ＣｒＯ₂ 、Ｆｅを主成分とした合金粉末等
が挙げられる。板状強磁性粉末としては、六方晶フェラ
イト系強磁性粉末（Ｂａフェライト、Ｓｒフェライト
等）Ｃｏ合金粉末、α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 等が挙げられる。

【００１２】強磁性粉末を分散、結合する結合剤は公知
のものが使用できる。また必要に応じて研磨材、カーボ
ンブラック、潤滑剤等を使用してもよい。下層非磁性層
に使用される結合剤は、エポキシ基を有する分子量３万
以上の樹脂を少なくとも使用するもので、該エポキシ基
は、非磁性粉末の表面に分布するＯＨ基と反応して非磁
性粉末のスタッキングを防止して分散性を改善するもの
と考えられ、かつ非磁性粉末を鱗片状に規定したために
下層非磁性層に非磁性粉末が例えばタイルを敷き詰める
ように流動配向するために上層磁性層の強磁性粉末は塗
布、磁場配向を行っても下層非磁性層と上層磁性層の界
面に存在する整列した非磁性粉末の規制を受けて互いの
成分の混合を来すことなく、良好な強磁性粉末の配向を
得ることができる。従って、充填性、表面性が改善され
出力を向上できる。

【００１３】これら非磁性粉末を分散、結合するために
用いる結合剤は、エポキシ基を含有し分子量３万以上の
ものである。エポキシ基は１×１０^-5〜２０×１０^-4ｅ
ｑ／ｇ、好ましくは４×１０^-5〜１６×１０^-4ｅｑ／ｇ
含有される。エポキシ基の導入方法は公知の技術が適応
できる。例えば、グリシジル基を有するビニルモノマー
を他のモノマーと共重合させるなどがあげられる。その
他、このエポキシ基を含有する分子量３万以上の樹脂の
製造方法は下記エポキシ基含有塩化ビニル系樹脂の記載
を適用できる。

【００１４】また、この発明は、モース硬度５以上の研
磨剤を下層非磁性層に非磁性粉末との配合比が、非磁性
粉末／研磨剤＝９５／５〜６０／４０となるように混在
させることが好ましく、これにより下層非磁性層、引い
ては磁気記録媒体の機械的強度を増強し、いわゆる粉落
ちを防止して、ＢＥＲ（ブロックエラーレート）、ドロ
ップアウトを低減すると共に耐久性を向上させることが
できる。モース硬度５以上の研磨材としてはα−Ａｌ₂
Ｏ₃ 、Ｃｒ₂ Ｏ₃ 、α−Ｆｅ₂Ｏ₃ 、ＺｒＯ₂ 、ＴｉＯ
₂ 、ＴｉＣ、ＳｉＯ₂ 、ＳｉＣ、ＣｅＯ₂ などが挙げら
れる。該研磨材の粒子サイズは塗布される下塗の厚み以
下が好ましく、０．１〜５μ程度、更に好ましくは０．
１〜２μである。粒子の形状は粒状、針状どちらでも使
用出来る。該鱗片状非磁性粉体と研磨材の混合比は９５
／５〜６０／４０である。研磨材量が少ないと充分な耐
久性が得られず、多すぎると鱗片状粒子の上層磁性体配
向効果が損なわれる。

【００１５】以下、本発明の実施に際して選択可能な一
般的事項を挙げる。本発明において上層磁性層および下
層非磁性層は通常各々単層で構成されるが、各々単層構
成でも複層構成でも上記組成、規定条件を満足すればか
まわない。以下、上層磁性層、下層非磁性層を単に上
層、下層という場合がある。上記の非磁性粉末は必ずし
も１００％純粋である必要はなく、目的に応じて表面を
他の化合物で処理してもよい。その際、純度は７０％以
上であれば効果を減ずることにはならない。強熱減量は
２０％以下であることが好ましい。上層の強磁性粉末含
有率は７０％以上が好ましい。強磁性粉末含有率が７０
％未満では、充填度が低下して電磁変換特性が劣化す
る。ここでいう強磁性粉末含有率とは（強磁性粉末）／
（強磁性粉末＋結合剤＋添加剤等の磁性層に含有される
もの）の重量％を表している。

【００１６】本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場５
ＫOeで測定した場合、角型比が各層とも０．７以上、好
ましくは０．８以上、さらに好ましくは０．９以上が好
ましい。本発明に使用される強磁性粉末のσ_S は５０ｅ
ｍｕ／ｇ以上、好ましくは７０ｅｍｕ／ｇ以上であり、
金属微粉末の場合は１００ｅｍｕ／ｇ以上が好ましい。
また、含水率は０．０１〜２％とするのが好ましい。結
合剤の種類によって強磁性粉末の含水率は最適化するの
が好ましい。本発明の強磁性粉末としてコバルト変成酸
化鉄を用いる場合は、２価の鉄の３価の鉄に対する比は
好ましくは０〜３３．３％であり、さらに好ましくは５
〜１０％である。また鉄原子に対するコバルト原子の量
は０〜１５％、好ましくは３〜８％である。強磁性粉末
のｐＨは用いる結合剤との組合せにより最適化すること
が好ましい。その範囲は４〜１２である。

【００１７】強磁性粉末はＡｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれら
の酸化物などで表面処理を施してもかまわない。その量
は強磁性粉末に対し０．１〜１０％である。上層の強磁
性粉末は、可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒ等の
無機イオンを含む場合があるが５００ｐｐｍ以下であれ
ば特に影響を与えない。強磁性粉末としてはγ−ＦｅＯ
ｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、Ｃｏ変性γ−ＦｅＯｘ
（ｘ＝１．３３〜１．５）、ＦｅまたはＮｉまたはＣｏ
を主成分（７５％以上）とする強磁性合金微粉末など公
知の強磁性粉末が使用できる。これらの強磁性粉末には
所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃ
ｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、
Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂ
ｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、
Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。これ
らの強磁性微粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界
面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を
行ってもかまわない。上記強磁性粉末の中で強磁性合金
微粉末については少量の水酸化物、または酸化物を含ん
でもよい。強磁性合金微粉末の公知の製造方法により得
られたものを用いることができ、下記の方法をあげるこ
とができる。

【００１８】複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水
素などの還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素など
の還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子な
どを得る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方
法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次
亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して
還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて
微粉末を得る方法などである。このようにして得られた
強磁性合金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤
に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したの
ち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したの
ち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性
ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法の
いずれを施したものでも用いることができる。また、本
発明に用いられる強磁性粉末は空孔が少ないほうが好ま
しくその値は２０容量％以下、さらに好ましくは５容量
％以下である。本発明に用いられる強磁性粉末は公知の
方法に従って製造することができる。

【００１９】本発明の下層非磁性層に使用される結合剤
はエポキシ基含有樹脂を用いるが、他の樹脂も併用する
ことができる。また、上層磁性層に使用される結合剤と
しては従来公知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型
樹脂やこれらの混合物が使用されるが、該エポキシ基含
有樹脂を併用することができる。熱可塑系樹脂として
は、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子
量が１０００〜２０００００、好ましくは１００００〜
１０００００、重合度が約５０〜１０００程度のもので
ある。このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニ
ル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アク
リル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、
メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタ
ジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセター
ル、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合体ま
たは共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂があ
る。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフエ
ノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、
尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反
応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポ
キシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネ
ートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールと
ポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソ
シアネートの混合物等があげられる。

【００２０】これらの樹脂については朝倉書店発行の
「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されてい
る。また、公知の電子線硬化型樹脂を使用することも可
能である。これらの例とその製造方法については特開昭
６２−２５６２１９号に詳細に記載されている。以上の
樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいもの
として塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹脂、塩
化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール樹脂、塩化ビニル
酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、中から選ばれる少
なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、またはこれ
らにポリイソシアネートを組合せたものがあげられる。
ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレタン、
ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステル
ポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエ
ステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラク
トンポリウレタンなど公知のものが使用できる。

【００２１】ここに示したすべての結合剤について、よ
り優れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、Ｃ
ＯＯＭ、ＳＯ₃ Ｍ、ＯＳＯ₃ Ｍ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、Ｏ
−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、（以上につきＭは水素原子、また
はアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ² 、Ｎ⁺ Ｒ³ 、Ｒは
炭化水素基）、ＳＨ、ＣＮ、などから選ばれる少なくと
も一つ以上の極性基を共重合または付加反応で導入した
ものを用いることが好ましい。このような極性基の量は
１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好ましくは１０^-2〜１
０^-6モル／ｇである。塩化ビニル系共重合体としては、
好ましくは、エポキシ基含有塩化ビニル系共重合体が挙
げられ、塩化ビニル繰返し単位と、エポキシ基を有する
繰返し単位と、所望により−ＳＯ₃ Ｍ、−ＯＳＯ₃ Ｍ、
−ＣＯＯＭおよび−ＰＯ（ＯＭ）₂ （以上につきＭは水
素原子、またはアルカリ金属塩基）等の極性基を有する
繰返し単位とを含む塩化ビニル系共重合体が挙げられ
る。エポキシ基を有する繰返し単位との併用では、−Ｓ
Ｏ₃ Ｎａを有する繰返し単位を含むエポキシ基含有塩化
ビニル系共重合体が好ましい。

【００２２】極性基を有する繰返し単位の共重合体中に
おける含有率は、通常０．０１〜５．０モル％（好まし
くは、０．５〜３．０モル％）の範囲内にある。エポキ
シ基を有する繰返し単位の共重合体中における含有率
は、通常１．０〜３０モル％（好ましくは１〜２０モル
％）の範囲内にある。そして、塩化ビニル系重合体は、
塩化ビニル繰返し単位１モルに対して通常０．０１〜
０．５モル（好ましくは０．０１〜０．３モル）のエポ
キシ基を有する繰返し単位を含有するものである。

【００２３】エポキシ基を有する繰返し単位の含有率が
１モル％より低いか、あるいは塩化ビニル繰返し単位１
モルに対するエポキシ基を有する繰返し単位の量が０．
０１モルより少ないと塩化ビニル系共重合体からの塩酸
ガスの放出を有効に防止することができないことがあ
り、一方、３０モル％より高いか、あるいは塩化ビニル
繰返し単位１モルに対するエポキシ基を有する繰返し単
位の量が０．５モルより多いと塩化ビニル系共重合体の
硬度が低くなることがあり、これを用いた場合には磁性
層の走行耐久性が低下することがある。また、特定の極
性基を有する繰返し単位の含有率が０．０１モル％より
少ないと強磁性粉末の分散性が不充分となることがあ
り、５．０モル％より多いと共重合体が吸湿性を有する
ようになり耐候性が低下することがある。通常、このよ
うな塩化ビニル系共重合体の数平均分子量は、１．５万
〜６万の範囲内にある。

【００２４】このようなエポキシ基と特定の極性基を有
する塩化ビニル系共重合体は、例えば、次のようにして
製造することができる。例えばエポキシ基と、極性基と
して−ＳＯ₃ Ｎａとが導入されている塩化ビニル系共重
合体を製造する場合には、反応性二重結合と、極性基と
して−ＳＯ₃ Ｎａとを有する２−（メタ）アクリルアミ
ド−２−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム（反応性
二重結合と極性基とを有する単量体）およびジグリシジ
ルアクリレートを低温で混合し、これと塩化ビニルとを
加圧下に、１００℃以下の温度で重合させることにより
製造することができる。

【００２５】上記の方法による極性基の導入に使用され
る反応性二重結合と極性基とを有する単量体の例として
は、上記の２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプ
ロパンスルホン酸ナトリウムの外に２−（メタ）アクリ
ルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ビニルスル
ホン酸およびそのナトリウムあるいはカリウム塩、（メ
タ）アクリル酸−２−スルホン酸エチルおよびナトリウ
ムあるいはカリウム塩、（無水）マレイン酸および（メ
タ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸−２−リン酸エス
テルを挙げることができる。また、エポキシ基の導入に
は、反応性二重結合とエポキシ基とを有する単量体とし
て一般にグリシジル（メタ）アクリレートを用いる。な
お、上記の製造法の外に、例えば、塩化ビニルとビニル
アルコールなどとの重合反応により多官能−ＯＨを有す
る塩化ビニル系共重合体を製造し、この共重合体と、以
下に記載する極性基および塩素原子を含有する化合物と
を反応（脱塩酸反応）させて共重合体に極性基を導入す
る方法を利用することができる。

【００２６】ＣｌＣＨ₂ ＣＨ₂ ＳＯ₃ Ｍ、ＣｌＣＨ₂ Ｃ
Ｈ₂ ＯＳＯ₃ Ｍ、ＣｌＣＨ₂ ＣＯＯＭ、ＣｌＣＨ₂ ＰＯ
（ＯＭ）₂ また、この脱塩酸反応を利用するエポキシ基の導入には
通常はエピクロルヒドリンを用いる。なお、該塩化ビニ
ル系共重合体は、他の単量体を含むものであってもよ
い。他の単量体の例としては、ビニルエーテル（例、メ
チルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ラウ
リルビニルエーテル）、α−モノオレフィン（例、エチ
レン、プロピレン）、アクリル酸エステル（例、（メ
タ）アクリル酸メチル、ヒドロキシエチル（メタ）アク
リレート等の官能基を含有する（メタ）アクリル酸エス
テル）、不飽和ニトリル（例、（メタ）アクリロニトリ
ル）、芳香族ビニル（例、スチレン、α−メチルスチレ
ン）、ビニルエステル（例、酢酸ビニル、プロピオン酸
ビニル等）が例示される。

【００２７】本発明に用いられるこれらのエポキシ基含
有樹脂又は併用できる他の樹脂の具体的な例としてはユ
ニオンカーバイト社製：ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣ
Ｈ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮ
Ｃ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨ
Ｊ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業社製：ＭＰＲ−
ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰＲ−ＴＳ
Ｎ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、電
気化学社製：１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８
２、ＤＸ８３、日本ゼオン社製：ＭＲ１１０、ＭＲ１０
０、４００Ｘ１１０Ａ、日本ポリウレタン社製：ニッポ
ランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本イン
キ社製：パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、
Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８
０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社製：バイ
ロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＲＶ５３０、ＲＶ２
８０、大日精化社製：ダイフエラミン４０２０、５０２
０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２
０、三菱化成社製：ＭＸ５００４、三洋化成社製：サン
プレンＳＰ−１５０、旭化成社製：サランＦ３１０、Ｆ
２１０などがあげられる。

【００２８】本発明に用いられる結合剤は上層にあって
は、強磁性粉末に対し、５〜５０重量％の範囲、好まし
くは１０〜３５重量％の範囲で用いられる。また、塩化
ビニル系樹脂を用いる場合は、５〜３０重量％、ポリウ
レタン樹脂を用いる場合は２〜２０重量％、ポリイソシ
アネートは２〜２０重量％の範囲でこれらを組合せて用
いるのが好ましい。本発明にあっては、分子量３万以上
のエポキシ基含有樹脂を非磁性粉末に対し、３〜３０重
量％使用でき、かつエポキシ基含有樹脂以外の樹脂を非
磁性粉末に対し３〜３０重量％使用でき、ポリウレタン
樹脂を用いる場合は３〜３０重量％、ポリイソシアネー
トは０〜２０重量％使用できるが、エポキシ基は、結合
剤（硬化剤を含む）全重量に対し、４×１０^-5〜１６×
１０^-4ｅｑ／ｇの範囲で含まれることが好ましい。本発
明において、ポリウレタン樹脂を用いる場合はガラス転
移温度が−５０〜１００℃、破断伸びが１００〜２００
０％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ² 、降伏点
は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ² が好ましい。

【００２９】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４−４′−ジフエニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジイソシアネート、
イソホロンジイソシアネート、トリフエニルメタントリ
イソシアネート等のイソシアネート類、また、これらの
イソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、
イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシア
ネート等を使用することができる。これらのイソシアネ
ート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレ
タン社製：コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート
２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミ
リオネートＭＴＬ、武田薬品社製：タケネートＤ−１０
２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、
タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製：デスモジュ
ールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デス
モジュールＨＬ等があり、これらを単独または硬化反応
性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで下
層、上層ともに用いることができる。

【００３０】本発明においては、上層および／または下
層に必要に応じて任意の添加剤、例えば、カーボンブラ
ック等の帯電防止剤、研磨剤、着色剤、潤滑剤、分散剤
等を使用できる。カーボンブラックはゴム用フアーネ
ス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブ
ラック、等を用いることができる。カーボンブラックを
分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使
用しても、表面の一部をグラフアイト化したものを使用
してもかまわない。また、カーボンブラックを磁性塗料
に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわな
い。これらのカーボンブラックは単独、または組合せで
使用することができる。カーボンブラックは上層磁性層
の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上な
どの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックによ
り異なる。従って本発明に使用されるこれらのカーボン
ブラックはその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、
吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに
目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。本
発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボン
ブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にす
ることができる。

【００３１】本発明に用いられる研磨剤としてはα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカー
バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主
としてモース硬度６以上の公知の材料が単独または組合
せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体
（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用して
もよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または
元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれ
ば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは
０．０１〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイ
ズの異なる研磨剤を組合せたり、単独の研磨剤でも粒径
分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。本
発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ
状、のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するもの
が研磨性が高く好ましい。

【００３２】本発明に用いられる研磨剤の具体的な例と
しては、住友化学社製：ＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，
ＡＫＰ−５０，ＨＩＴ−５０、日本化学工業社製：Ｇ
５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製：１００ＥＤ，１４０
ＥＤ、などがあげられる。これらの研磨剤はあらかじめ
結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添加してもかま
わない。研磨剤の使用量は、上層磁性層にあっては強磁
性粉末の２０重量％以下で使用される。

【００３３】潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑
効果、などをもつ添加剤としては下記のものが列挙され
る。二硫化モリブデン、二硫化タングステン、グラフア
イト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、カーボンブラック等の
固体潤滑剤。シリコーンオイル、極性基をもつシリコー
ン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フ
ッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフ
イン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルおよびそ
のアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよびそのア
ルカリ金属塩、ポリフエニルエーテル、フッ素含有アル
キル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１
０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、ま
た分岐していてもかまわない）、および、これらの金属
塩（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｃｕなど）または、炭素数１２〜
２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール
（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわな
い）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素
数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んで
も、また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２
の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのい
ずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していて
もかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ
脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレン
オキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステ
ル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の
脂肪族アミン、などの有機質潤滑剤が使用できる。

【００３４】これらの具体例としてはラウリン酸、ミリ
スチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ス
テアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレン
酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン
酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オ
クチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソル
ビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステ
アレート、アンヒドロソルビタントリステアレート、オ
レイルアルコール、ラウリルアルコール、があげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシドール系、アルキルフエノールエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。

【００３５】これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも
１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応
物、副反応物、分解物、酸化物、等の不純分が含まれて
もかまわない。これらの不純分は３０％以下が好まし
く、さらに好ましくは１０％以下である。本発明で使用
されるこれらの潤滑剤、界面活性剤は下層非磁性層、上
層磁性層でその種類、量を必要に応じ使い分けることが
できる。例えば、下層非磁性層、上層磁性層で融点の異
なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、沸点
や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを
制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性
を向上させる、潤滑剤の添加量を中間層で多くして潤滑
効果を向上させるなどが考えられ、無論ここに示した例
のみに限られるものではない。

【００３６】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、下層非磁性層用塗料、上層磁性塗料製
造のどの工程で添加してもかまわない、例えば、混練工
程前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤
と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加
する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する
場合などがある。

【００３７】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチ
ルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用で
きる。

【００３８】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性
支持体が１〜１００μｍ、好ましくは６〜２０μｍ、上
層磁性層は１μｍ以下、好ましくは１〜０．２μｍ、下
層非磁性層が０．５μｍ以上で好ましくは０．５〜５μ
ｍである。上層磁性層１μｍを越えると電磁変換特性に
対する薄膜化の効果がなくなり、下層非磁性層が０．５
μｍより薄いと生産性が低下すると共にカレンダー成形
性が劣化し充分な電磁変換特性が得られなくなる。ま
た、非磁性支持体性と下層非磁性層の間に密着性向上の
ための下塗り層を設けてもよい。これらの厚みは０．０
１〜２μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μｍである。
また、非磁性支持体性の磁性層側と反対側にバックコー
ト層を設けてもかまわない。この厚みは０．１〜２μ
ｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍである。これらの下
塗り層、バックコート層は公知のものが使用できる。

【００３９】本発明に用いられる非磁性支持体はポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポ
リフェニレンサルファイド、ポリアラミド、ポリカーボ
ネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、
ポリスルフオン、アラミド、芳香族ポリアミドなどの公
知のフイルムが使用できる。これらの支持体にはあらか
じめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処
理、除塵処理、などをおこなっても良い。非磁性支持体
として中心線平均表面粗さは０．１μｍ以下、好ましく
は０．０５μｍ以下である。また、これらの非磁性支持
体は単に中心線平均表面粗さが小さいだけではなく、１
μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の
粗さ形状は必要に応じて支持体に添加されるフイラーの
大きさと量により自由にコントロールされるものであ
る。これらのフイラーとしては一例としてはＣａ，Ｓ
ｉ，Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの
有機微粉末があげられる。

【００４０】本発明に用いられる非磁性支持体のテープ
走行方向のＦ−５値は好ましくは５〜５０ｋｇ／ｍ
ｍ² 、テープ幅方向のＦ−５値は好ましくは３〜３０ｋ
ｇ／ｍｍ² であり、テープ長手方向のＦ−５値がテープ
幅方向のＦ−５値より高いのが一般的であるが、特に幅
方向の強度を高くする必要があるときはその限りでな
い。また、支持体のテープ走行方向および幅方向の１０
０℃３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに
好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は
好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下で
ある。破断強度は両方向とも５〜１００ｋｇ／ｍｍ² 、
弾性率は１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ² が好ましい。

【００４１】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料、非磁性
塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工
程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混
合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわ
かれていてもかまわない。本発明に使用する強磁性粉
末、非磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、
帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程
の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々
の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわな
い。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散
後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよ
い。

【００４２】本発明の目的を達成するためには、従来の
公知の製造技術を一部の工程として用いることができる
ことはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加
圧ニーダなど強い混練力をもつものを使用できる。連続
ニーダまたは加圧ニーダを用いる場合は各粉末と結合剤
のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０％以上
が好ましい）および粉末１００部に対し１５〜５００部
の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細につ
いては特願昭６２−２６４７２２号、特願昭６２−２３
６８７２号に記載されている。本発明では、特開昭６２
−２１２９３３号に示されるような同時重層塗布方式を
用いることにより、より効率的に生産することができ
る。本発明の媒体を得るためには強力な配向を行う必要
がある。１０００Ｇ以上のソレノイドと２０００Ｇ以上
のコバルト磁石を併用することが好ましく、さらには乾
燥後の配向性が最も高くなるように配向前に予め適度の
乾燥工程を設けることが好ましい。

【００４３】さらに、カレンダ処理ロールとしてエポキ
シ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐
熱性のあるプラスチックロールを使用する。また、金属
ロール同志で処理することもできる。処理温度は、好ま
しくは７０℃以上、さらに好ましくは８０℃以上であ
る。線圧力は好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ、さらに好ま
しくは３００ｋｇ／ｃｍ以上である。本発明の磁気記録
媒体の上層磁性層面およびその反対面のＳＵＳ４２０Ｊ
に対する摩擦係数は好ましくは０．５以下、さらに０．
３以下、表面固有抵抗は好ましくは１０^-5〜１０^-12 オ
ーム／ｓｑ、磁性層の０．５％伸びでの弾性率は走行方
向、幅方向とも好ましくは１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ
² 、破断強度は好ましくは１〜３０ｋｇ／ｃｍ² 、磁気
記録媒体の弾性率は走行方向、長手方向とも好ましくは
１００〜１５００ｋｇ／ｍｍ² 、残留のびは好ましくは
０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮
率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以
下、もっとも好ましくは０．１％以下である。

【００４４】上層磁性層中に含まれる残留溶媒は好まし
くは１００ｍｇ／ｍ² 以下、さらに好ましくは１０ｍｇ
／ｍ² 以下であり、上層磁性層に含まれる残留溶媒が下
層非磁性層に含まれる残留溶媒より少ないほうが好まし
い。上層磁性層が有する空隙率は好ましくは３０容量％
以下、さらに好ましくは１０容量％以下である。本発明
の磁気記録媒体の磁気特性は磁場５ＫＯｅで測定した場
合、テープ走行方向の角形比は０．７０以上であり、好
ましくは０．８０以上さらに好ましくは０．９０以上で
ある。テープ走行方向に直角な二つの方向の角型比は走
行方向の角型比の８０％以下となることが好ましい。上
層磁性層のＳＦＤは０．６以下であることが好ましい。

【００４５】

【実施例】次に実施例と比較例を示し、本発明を更に具
体的に説明する。各例において、「部」は特に指定しな
い限り「重量部」を意味する。以下の処方で磁性塗布
液、及び非磁性塗布液を調整した。 実施例１ 上層磁性層用塗布液 強磁性粉末 Ｆｅ合金粉末（Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ） １００部 組成；Ｆｅ：Ｎｉ：Ｃｏ＝９２：６：２ Ｈｃ１６００Ｏｅ，σ_S １３５ｅｍｕ／ｇ， 長軸長０．１８μｍ，針状比９ 塩化ビニル共重合体 １０部 −ＳＯ₃ Ｎａ，エポキシ基含有 ポリウレタン樹脂 ５部 −ＳＯ₃ Ｎａ含有，分子量４５０００ αアルミナ ５部 平均粒径０．２μｍ シクロヘキサノン １５０部 メチルエチルケトン １５０部 上記組成物をサンドミル中で６時間混合分散したのち、
ポリイソシアナート（コロネートＬ）及びステアリン酸
５部、ステアリン酸ブチル１０部を加えて磁性塗布液を
得た。

【００４６】 下層非磁性層用塗布液 グラファイト ９０部 粒径０．５μｍ α−Ａｌ₂ Ｏ₃ １０部 平均粒径０．２μｍ 塩化ビニル共重合体 １５部 エポキシ基含有量８×１０^-4ｅｑ／ｇ 分子量４５０００ ポリウレタン樹脂 ５部 −ＳＯ₃ Ｎａ含有、分子量４５０００ シクロヘキサン １００部 メチルエチルケトン １００部 上記組成物をサンドミル中で４時間混合分散したのち、
ポリイソシアナート（コロネートＬ）及びステアリン酸
５部、ステアリン酸ブチル１０部を加えて下層非磁性層
用塗布液を得た。

【００４７】上記の塗布液をギャップの異なる２つのド
クターを用いて、湿潤状態で塗布したのち、永久磁石に
て配向処理後、乾燥した。その後にスーパーカレンダー
処理を行なった。塗布厚みは磁性層０．３μｍ、非磁性
層３．０μｍであった。この様にして得られた原反を
３．８１ｍｍ幅に裁断しデジタルオーディオテープ（Ｄ
ＡＴ）を作成した。その他実施例２〜９、比較例１〜５
は実施例１に対して、表１に示す因子を変更してテープ
を作成した。尚、比較例２における逐次重層とは、下層
非磁性層を塗布し、乾燥後上層磁性層を塗布することを
言う。また、Ｂａフェライトの物性値は以下の通りであ
る。

【００４８】これらテープは以下の方法で評価し、結果
を表１、２に示した。 使用デッキ：ＳＯＮＹ製ＤＴＣ−１０００ 混合領域の有無の判別：切断面をＴＥＭで観察し、磁性
層と非磁性層の界面近傍の磁性層中に含まれる非磁性粒
子の個数を測定し、磁性粒子の個数に対する非磁性粒子
の個数の割合（％）を求めた。 混合領域がない・・・上記割合が０．５％以下 （この数値は、切断する際に下層の非磁性粒子が一部磁
性層にめり混むことがあることを考慮した数値であ
る。） サンプルの調製 サンプルテープをエポキシ樹脂ではさみ液体窒素で冷却
し、これをテープの長手方向、巾方向にミクロトームを
用いて切断する。 観察 ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）を用いて倍率５００００倍
で上記切断面を観察し、磁性層と非磁性層の界面近傍の
磁性層中に含まれる非磁性粒子の個数を測定した。

【００４９】 評価 磁性層と非磁性層の界面近傍の磁性層中に含まれる磁性
粒子の個数に対する非磁性粒子の個数の割合（％）を求
めた。 混合領域がない・・・上記割合が０．５％以下 混合領域がある・・・上記割合が０．５％を越える ｉ）粒子形状が異なる場合 例えば、上層磁性層の強磁性粉末が針状で下層非磁性層
の非磁性粉末が粒状または鱗片状である場合、形状の異
なるものの混ざり具合をみて混合領域の有無を評価し
た。 ｉｉ）粒子形状は同じだが最も長い軸長の平均径が異な
る場合 上層磁性層の強磁性粉末が板状で、下層非磁性層の非磁
性粉末が鱗片状であるような場合は、その平均径の異な
るものがどの程度混ざっているかによって混合領域の有
無を評価した。

【００５０】ｉｉｉ）粒子形状、平均径ともに等しい場
合 上層磁性層と下層非磁性層の界面付近をマイクロオージ
ェ電子分光分析法にて各層に含まれる特有な元素を検知
することにより、混合領域の有無を評価した。 再生出力：４．７ＭＨｚ単一周波数の信号を入力し、再
生信号をスペクトラムアナライザーに出力させ、信号の
ピーク値を読みとった。スペアナはＨＰ−３５８５Ａ
ＯｄＢは比較例２−１の磁性層単層のテープ ＢＥＲ（ブロックエラーレート）：コンピューターにて
ランダム信号を２４−２５変換した。スクランブルドイ
ンターリーブドＮＲＺ−Ｉ信号をテスト信号とし、本テ
スト信号を記録／再生したデータをＰＲ４復調して得た
データを、テスト信号と比較して、エラーを検出して、
そのエラーの比率をＢＥＲとする。 ドロップアウト（ＤＯ）：４．７ＭＨｚ単一周波数の信
号を入力、スレッシュホールドレベル−１０ｄＢで長さ
０．５μＳＥＣのドロップアウトをドロップアウトカウ
ンターで測定した。 ドロップアウト増加：上記デッキで室温（２３℃７０
％）で１００パス走行させたのちに再生のみ行なったと
きのＤＯの初期に対するＤＯ増加。

【００５１】上層磁性層の乾燥厚みの測定は、混合領域
の有無の判断方法と同様にしてサンプルを調製し、ＴＥ
Ｍで観察した切断面より測定した。

【００５２】

【表１】

【００５３】

【表２】

【００５４】表１〜表２の結果より明らかな如く、本発
明の鱗片状非磁性粉末を用いたサンプル実施例１〜９は
耐久性（ドロップアウト増加）が改良され、かつ低いＢ
ＥＲ（ブロックエラーレート）を示すことがわかった。
本発明の範囲に入らないサンプルＮｏ．比較例１〜５は
ＢＥＲ、ドロップアウト、ＲＦ出力の少なくとも何れか
が良好な結果が得られなかった。尚、ＢＥＲの目標レベ
ルは１０^-4以下、ドロップアウトは１００個以下、ＲＦ
出力は３．０ｄＢ以上である。

【００５５】

【発明の効果】下層非磁性層が湿潤状態の内に上層磁性
層を同時又は逐次に塗布した、いわゆるウエット オン
ウエットの塗布により複数層を設けた磁気記録媒体に
おいて、下層非磁性層に鱗片状の非磁性粉末を用いるこ
とにより、その界面において混合領域を生じない磁気記
録媒体が得られ、それに伴い電磁変換特性が良好で生産
性に優れ、具体的にはＲＦ出力が高く、走行耐久性に優
れ、ドロップアウトがすくなくかつブロックエラーレー
トの低い磁気記録媒体が得られ、さらに下層非磁性層に
モース硬度５以上の研磨剤を重量混合比で９５／５〜６
０／４０含むことにより一層前記の特性が優れた磁気記
録媒体が得られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−238111（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−283416（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−321924（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−325915（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−12650（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−154225（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−123521（ＪＰ，Ａ)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に少なくとも非磁性粉末と結合
   剤を含む下層非磁性層を設け、その上に強磁性粉末と結
   合剤を含む上層磁性層を設けた磁気記録媒体において、
   前記上層磁性層は乾燥厚みが１μｍ以下であり、前記強
   磁性粉末は針状または板状で、その最も長い軸長が０．
   ３μｍ以下である強磁性粉末であり、かつ前記下層非磁
   性層は鱗片状又は板状の非磁性粉末と分子量３万以上の
   エポキシ基を含む結合剤を含むことを特徴とする磁気記
   録媒体。
2. 【請求項２】 前記下層非磁性層が前記鱗片状又は板状
   の非磁性粉末の他にモース硬度５以上の研磨剤を重量混
   合比で９５／５〜６０／４０含むことを特徴とする請求
   項１記載の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 少なくとも非磁性粉末と結合剤を含む下
   層非磁性層用塗布液と、強磁性粉末と結合剤を含む上層
   磁性層用塗布液をそれぞれ調製し、これらの塗布液を支
   持体上に塗布する磁気記録媒体の製造方法において、前
   記上層磁性層用塗布液は針状または板状で、その最も長
   い軸長が０．３μｍ以下である強磁性粉末と結合剤を含
   み、前記下層非磁性層用塗布液は鱗片状又は板状の非磁
   性粉末と分子量３万以上のエポキシ基を含む結合剤を含
   み、前記支持体上に下層非磁性層用塗布液を塗布し、得
   られた下層非磁性層が湿潤状態のうちに、乾燥厚みが１
   μｍ以下に上層磁性層用塗布液を塗布することを特徴と
   する磁気記録媒体の製造方法。