JP2557187B2 - 間欠吸引装置 - Google Patents

間欠吸引装置

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JP2557187B2 JP32455993A JP32455993A JP2557187B2 JP 2557187 B2 JP2557187 B2 JP 2557187B2 JP 32455993 A JP32455993 A JP 32455993A JP 32455993 A JP32455993 A JP 32455993A JP 2557187 B2 JP2557187 B2 JP 2557187B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、患者の体腔から流体
(体液)を取り出すための間欠吸引装置に関し、より詳
しくは、患者に真空/非真空の定時シーケンスを与えて
このような流体を取り出す手段に関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】間欠
吸引装置は病院の回復室などの医療環境において日常的
に使用されており、患者に常時取り付けられて、手術後
に胃など患者の体腔から流体を排出するのに使用されて
いる。このような装置の典型的なものとして、Sielaff
の米国特許第 3,359,605号に開示されたものがある。こ
の米国特許の装置では、間欠定時サイクルを使用して2
つの状態、すなわち患者の体腔に実際に真空が供給され
る一方の状態と、患者の体腔への真空の供給が終了し
て、流体排出チューブ内の流体を患者側に僅かに逆流さ
せてラインを浄化すべく大気圧が患者の体腔に供給され
る他方の状態との間を交互に変えている。また、通常、
このような装置は、病院内の手術室および回復室等で利
用される普通のパイプ配給真空により作動される。上記
米国特許に係る装置は信頼性があり広く使用されている
装置であるが、可動部品数が最少で、磨耗する部品が殆
どなく、大きな信頼性および作動寿命が得られるよう
に、信頼性を損なうことなく極めて簡単化された改良形
装置を提供することは有益である。また、現在のこのよ
うな装置は比較的安価であるので、新しいいかなる装置
も低コストで容易に製造できることが好ましい。
【0003】
【発明の目的】本発明の目的は、構造が簡単で、大きな
信頼性および作動寿命が得られ且つ低コストで製造でき
る間欠吸引装置を提供することにある。
【0004】
【発明の構成および作用】本発明のかかる目的は、患者
から流体を取り出すべく真空源から患者に定時真空を供
給するための間欠吸引装置において、チャンバを有する
ハウジングを備え、前記チャンバが、該チャンバを第1
および第2サブチャンバに分離する可撓性ダイアフラム
を有し、前記第1サブチャンバが、真空源に連結できる
入口と、真空源からの真空を患者に供給するための出口
とを有し、前記可撓性ダイアフラムが、前記出口を開放
して真空源からの真空を前記出口に連通させる第1の位
置と、前記出口を閉鎖して前記入口と出口との間の真空
の連通を防止する第2の位置とを有し、前記ダイアフラ
ムが磁力に対して敏感であり、さらに、前記装置が、前
記可撓性ダイアフラムを前記第1の位置に偏倚させる磁
力手段と、所定の時間間隔で前記ダイアフラムを前記第
1の位置と第2の位置との間で移動させるべく、前記第
1サブチャンバと第2サブチャンバとの間の圧力差を制
御する制御手段とを備えたことを特徴とする間欠吸引装
置により達成される。したがって、本発明の間欠吸引装
置は、病院の環境で利用されているライン真空により駆
動され且つ可動部品を殆ど使用していない。本発明の装
置は非常に簡単であるため、上記米国特許にかかる装置
に比べて製造コストを低減できる。また、簡単な機械的
組立体で分解および掃除が比較的簡単なため補修が殆ど
不要であり、且つ僅かに2つの可動部品があるに過ぎな
いため磨耗も最小であり、同時に信頼性も高い。更に、
簡単化された設計のため、比較的大きなポートを使用で
き、したがって、小さなポートであれば詰まらせてしま
うような粒子を捕捉するための微細フィルタを用いる必
要がない。
【0005】本発明の装置は、チャンバを2つのサブチ
ャンバに分割する可撓性ダイアフラムによって患者に対
する定時真空/大気圧サイクルの制御を行うというユニ
ークな構造を有している。可撓性ダイアフラムは磁力に
敏感である。すなわち、可撓性ダイアフラム自体に永久
磁石を設けるか、磁気的な極性をもつダイアフラム材料
を用いて可撓性ダイアフラムを作ることもできる。一方
のサブチャンバは、真空源に連結できる入口と、チュー
ブ又は患者の体腔に通じる装置に連結できる出口とを有
している。可撓性ダイアフラムは、2つの位置のうちの
一方の位置に磁気的に偏倚されている。好ましい実施例
では、ダイアフラムは、入口と出口とを互いに連通さ
せ、入口で利用できる真空を出口を介して患者に供給す
る位置である第1の位置に向かって磁気的に偏倚されて
いる。2つのサブチャンバ、すなわち、可撓性ダイアフ
ラムの両側のチャンバの間の圧力差を制御して、この圧
力差を、磁気偏倚力に打ち勝つ充分な大きさに到達さ
せ、ダイアフラムを、入口と出口とを閉塞し、患者への
真空の供給を遮断する位置である第2の位置に移動させ
る。したがって、本発明の設計において、可撓性ダイア
フラムに作用する磁気偏倚力の大きさを設計し、且つサ
ブチャンバ間の圧力差を、ダイアフラムをその偏倚位置
から他の位置に移動させる所定の閾値になるように変化
させることにより、信頼性のある切換え弁を構成でき
る。
【0006】本発明の他の特徴は、上記サブチャンバ内
の圧力差の変化を制御してダイアフラムを移動させるタ
イミング手段も、磁気的に引きつけることができるダイ
アフラムを備えたチャンバを用いて構成されており、ダ
イアフラム自体がサブチャンバ間の相対圧力差に基づい
て2つの位置間で移動することである。好ましい実施態
様においては、両ダイアフラムが共通ハウジング内に組
み込まれ、両可撓性ダイアフラムに加えられる磁気偏倚
力が、これらのダイアフラムの中間に配置された永久磁
石等の共通の源から与えられる。また、タイミング手段
は、患者から流体を取り出す間欠吸引装置の制御以外の
他の目的にも使用でき、このような他の用途は、本件出
願人の係属中の米国特許出願に記載されている。
【0007】
【実施例】以下、添付図面を参照して、本発明の実施例
につき詳細に説明を加える。図1は、本発明にしたがっ
て構成された患者用の間欠吸引装置を示す概略図であ
る。この間欠吸引装置には、ハウジング10が設けられ
ており、ハウジング10内には第1チャンバ12と、第
2チャンバ14とが形成されている。最初に第1チャン
バ12について説明すると、第1チャンバ12の内部に
は可撓性ダイアフラム16がシールされており、ダイア
フラム16は、第1チャンバ12を、第1および第2サ
ブチャンバ18、20に分離している。可撓性ダイアフ
ラム16は、磁力に敏感で、磁力により引きつけられお
よび/または反発されるように製造されている。図示の
実施例では永久磁石22が非磁性ダイアフラムに取り付
けられているが、別の構成として、可撓性ダイアフラム
16自体を、磁気的極性を帯びたダイアフラム材料を用
いて製造することもできる。いずれの場合でも、或いは
他の何らかの構成でも、ダイアフラムに要求される重要
な特性は、極性、すなわち、NおよびSの磁極をもつ磁
力に敏感なことである。
【0008】第1チャンバ12の第1サブチャンバ18
には入口24が形成されており、この入口24はチュー
ブ29等の手段を介して真空源26に連結できる。真空
源26は、病院の種々の場所で見られる定圧真空を用い
ることができる。一般に、真空は、病院の中央部に配置
される中央真空ポンプ装置から、手術室および回復室を
含む各室にパイプ送給される。この様な病院システムの
真空は、一般に300ないし600mmHgの範囲内に
ある。第1チャンバ12の第1サブチャンバ18には出
口28も形成されており、該出口28は、流体すなわち
体液を排出すべき患者の特定の体腔に真空を連通させる
何らかの手段に連結できる。このような装置は良く知ら
れており、患者の体内に配置され且つ可撓性チューブを
介して間欠吸引装置に連結される。第1チャンバ12の
第2サブチャンバ20にも開口30が形成されており、
該開口30も適当なチューブ32を介して真空源26に
連結できる。しかしながら、開口30と真空源26との
間の連通経路には可変絞り弁34が配置されており、そ
の理由は後で説明する。好ましい実施例においては、可
変絞り弁を備えた間欠吸引装置として説明するけれど
も、デューティサイクルが固定で、ユーザが容易にデュ
ーティサイクルの変更を行うことを要求されない間欠吸
引装置には固定絞り弁を使用できることは明らかであ
る。
【0009】第1チャンバ12の可撓性ダイアフラム1
6は2つの位置、すなわち、図1および図3に示す第1
の位置と、図2に示す第2の位置との間で移動でき、こ
れらの両位置に関する移動についても装置の作動に関連
して説明する。第2チャンバ14も可撓性ダイアフラム
36を有しており、ダイアフラム36は第2チャンバ1
4を第1および第2サブチャンバ38、40に分離して
いる。第2チャンバ14の可撓性ダイアフラム36も第
1チャンバ12の可撓性ダイアフラム16と同様に構成
されており、好ましい実施例においては、可撓性ダイア
フラム36が永久磁石42を有している。第2チャンバ
14の第1サブチャンバ38には真空ポート44が形成
されており、該真空ポート44は適当なチューブ46を
介して真空源26に連結できる。ここでも、第1サブチ
ャンバ38と真空源26との間に形成された経路に可変
絞り弁34が設けられている。第1サブチャンバ38に
はバイパス開口48も形成されており、その目的につい
ては後で説明する。本発明の説明を通じて、便宜上、流
体通路をチューブと呼ぶことがあるが、このような通路
は、成形プラスチック材料でハウジング自体に容易に形
成することもできる。
【0010】第2チャンバ14の第2サブチャンバ40
には大気圧開口50が形成されており、大気圧開口50
は、適当なチューブ52を介して周囲の大気に通じてい
る。第2チャンバ14の第2サブチャンバ40に形成さ
れたバイパスポート54は、チューブ56を介して、バ
イパス開口48に、したがって第2チャンバ14の第1
サブチャンバ38に連通している。しかしながら、チュ
ーブ56にも可変絞り弁58およびコンプライアンスチ
ャンバ60が設けられている。この可変絞り弁58も固
定形にすることができる。第2チャンバ14内の可撓性
ダイアフラム36は、2つの位置、すなわち、図1およ
び図2に示す第1の位置と、図3に示す第2の位置との
間で移動できる。最後に、可撓性ダイアフラム16、3
6内の永久磁石22、42の中間には、永久磁石62が
配置されており、永久磁石62は、これらのダイアフラ
ム16、36に対して磁気による吸引力、すなわち偏倚
力を及ぼす。種々の磁石および/または磁気ダイアフラ
ムの極性は、次のように、すなわち、ダイアフラムの永
久磁石22、42に対面する永久磁石62の磁極が永久
磁石22、42の磁極とは逆の磁極を有し、これらの可
撓性ダイアフラム16、36が図1に示すこれらの第1
の位置に磁気的に偏倚されるように定められている。
【0011】以上、本発明の間欠吸引装置の全体的構造
を説明したが、その作動の概要を図1ないし図3を参照
して説明する。まず、間欠吸引装置は、供給真空の付勢
前には図1に示す状態にある。前述のように、永久磁石
62が磁力に敏感な可撓性ダイアフラム16、36に作
用する磁気偏倚力により、これらのダイアフラム16、
36は、図1に示す第1の位置に保持される。真空源2
6が付勢されると、直ちに、可変絞り弁34の前後に圧
力降下が生じる。真空源26からの真空は、直ちに、第
1チャンバ12の第1サブチャンバ18に加えられる。
第1サブチャンバ18内の相対的に低圧により、第1サ
ブチャンバ18内のこの低圧と第2サブチャンバ20内
の圧力との間に所定の圧力差が生じる。前述のように、
第2サブチャンバ20は第1サブチャンバ18と同じ真
空源26に連結されているけれども、可変絞り弁34が
圧力差を発生させる。第1サブチャンバ18と第2サブ
チャンバ20との間の圧力差は、可撓性ダイアフラム1
6に対してシールされた永久磁石22に及ぼされる磁気
偏倚力に打ち勝って、可撓性ダイアフラム16を、迅速
に、その第1の位置から図2に示す第2の位置、すなわ
ち、可撓性ダイアフラム16が出口28をシールし、真
空が真空源26から患者に到達することが防止される第
2の位置に切り換えることができる充分な大きさになる
ように設計されている。したがって、間欠吸引装置はそ
の「オフ」位置になり、流体が患者から引き出されなく
なる。
【0012】同時に、真空源26からの真空が、可変絞
り弁34および開放真空ポート44(図1参照)を介し
て、コンプライアンスチャンバ60に加えられる。した
がって、コンプライアンスチャンバ60内の圧力が、可
変絞り弁34でセットされた抵抗値およびコンプライア
ンスチャンバ60の容量すなわち体積により決定される
速度で低下し始める。明らかになるであろうが、コンプ
ライアンスチャンバ60内の圧力の低下速度は、「オ
フ」サイクル(すなわち間欠吸引装置のデューティサイ
クルが「オフ」状態に維持される時間)の決定要因であ
る。したがって、「オフ」サイクルの継続時間は、可変
絞り弁34での抵抗値を変えることにより、所望のまま
に設定すなわち調節される。やがて、第2チャンバ14
の第1サブチャンバ38内の圧力が充分に低下して、永
久磁石62により可撓性ダイアフラム36に及ぼされる
磁気偏倚力に打ち勝つのに充分な圧力差が第2チャンバ
14の第1サブチャンバ38と第2サブチャンバ40と
の間に生成される。これにより、可撓性ダイアフラム3
6は、図2に示す第1の位置から図3に示す第2の位置
まで移動する。この第2の位置で、可撓性ダイアフラム
36は真空ポート44をシールし、これにより、第2チ
ャンバ14への、したがって、コンプライアンスチャン
バ60への真空の供給が遮断される。
【0013】今や真空ポート44が閉鎖されコンプライ
アンスチャンバ60がチューブ46から遮断されるの
で、チューブ46内の圧力および第1チャンバ12の第
2サブチャンバ20内への開口30での圧力が急激に低
下し、真空源26により真空にされる。したがって、第
1チャンバ12の第1サブチャンバ18と第2サブチャ
ンバ20との間の圧力差は、永久磁石62により可撓性
ダイアフラム16の永久磁石22に及ぼされる磁気偏倚
力によって、可撓性ダイアフラム16が図3に示すよう
にその第1の位置に戻される大きさまで低下される。し
たがって、可撓性ダイアフラム16がその第1の位置に
戻ると、出口28が開放され且つ真空源26からの真空
が第1チャンバ12の第1サブチャンバ18を通って患
者の体腔に加えられ、流体が引き出される。したがっ
て、間欠吸引装置の「オン」サイクルが開始される。
「オン」サイクルが継続すると、コンプライアンスチャ
ンバ60が、バイパスポート54および可変絞り弁58
を介して大気に通気される。したがって、コンプライア
ンスチャンバ60内の圧力が、可変絞り弁58でセット
された抵抗とコンプライアンスチャンバ60の容量との
関数として決定された速度で増大する。再び「オフ」サ
イクルになると、可変絞り弁58を調節して、オペレー
タが所望の値を選択することが可能になり、この選択が
「オン」サイクルの継続時間を決定する。
【0014】したがって「オン」サイクルは、コンプラ
イアンスチャンバ60内の圧力が増大して、可撓性ダイ
アフラム16の前後の圧力差が閾値まで減少し、永久磁
石62により可撓性ダイアフラム36に及ぼされる磁気
偏倚力によって可撓性ダイアフラム36が図1に示すよ
うなその第1の位置に戻されるまで継続する。この時点
で、間欠吸引装置は全サイクルを完了したことになり、
図1に示す状態に戻って、そのサイクルが上述したよう
に続けられる。したがって、間欠吸引装置は、磁気的に
偏倚された1対の可撓性ダイアフラムの使用を通して、
および、可撓性ダイアフラムに及ぼされる磁気偏倚力に
関連して作動するこれらの可撓性ダイアフラムの前後に
生じる圧力差の制御およびタイミングを通してサイクル
運動する。図4には、本発明の間欠吸引装置の別の実施
例が概略的に示されており、図1ないし図3の実施例の
部品および特徴と対応する部品および特徴については、
同じ参照番号が使用されている。この実施例では、患者
からの流体の取出しを行う装置の作動性を高めるため、
別の特徴が付加されている。より詳しくは、極めて重要
なことは、可撓性ダイアフラム36がその第1および第
2の位置にあるとき、第2チャンバ14のバイパスポー
ト54および真空ポート44が完全にシールされること
である。この理由は、閉鎖されたポートを通る漏洩があ
ると、いかなる漏洩もタイミングサイクルに重要な効
果、すなわち、デューティサイクル、又は装置が「オ
ン」サイクルおよび「オフ」サイクルにある時間を与え
るからである。
【0015】したがって、図4の実施例は、可撓性ダイ
アフラム36がその第1の位置および第2の位置にある
ときに、可撓性ダイアフラム36と、それぞれのバイパ
スポート54および真空ポート44との間に良好なシー
ルを形成する。第2チャンバ14のバイパスポート54
では、シール磁石64がバイパスポート54内に配置さ
れており、且つ小孔68を備えた追従座(コンプライア
ントシート)66がバイパスポート54上をシールして
いる。追従座66は、約0.030インチ(約0.8 mm)の厚
さをもつ薄いラテックスのような可撓性材料で製造さ
れ、バイパスポート54の周囲をシールしている。可撓
性ダイアフラム36が永久磁石62によってその第1の
位置に引きつけられているとき、シール磁石64が可撓
性ダイアフラム36の永久磁石42により引きつけら
れ、したがって小孔68が永久磁石42とシール磁石6
4との間にサンドイッチされて閉鎖され、バイパスポー
ト54のための良好な漏洩防止シールが保証される。理
解されようが、シール磁石64の極性は、可撓性ダイア
フラム36の永久磁石42に対面する磁極が永久磁石4
2の磁極とは逆の極性をもち、したがって両磁石間に吸
引力が生じるように配置する必要がある。シール磁石6
4の磁気による吸引力は、決してとるに足りない程のも
のではないが、永久磁石22、42に作用する永久磁石
62の磁気による吸引力と比べれば有効無視できるもの
である。したがって、「オン」/「オフ」デューティサ
イクルのタイミングが、シール磁石64を付加したこと
による影響を受けることはない。
【0016】装置の作動の説明にしたがって、可撓性ダ
イアフラム36が、バイパスポート54を開放し且つ真
空ポート44を閉鎖する位置である第2の位置に移動す
るとき、永久磁石42とシール磁石64との間の吸引力
が減少し、シール磁石64は、永久磁石62の吸引力に
よって追従座66から引き離されて図4に示す位置に引
っ込められる。したがって、真空ポート44は完全に開
放される。真空ポート44においても同様な形式のシー
ルが見られる。真空ポート44内にはシール磁石70が
設けられており、シール磁石70は永久磁石42に吸引
されて、永久磁石42とシール磁石70との間に追従座
72をサンドイッチし、追従座72の小孔74を閉鎖す
る。また、ハウジング10内には、負偏倚磁石(負の偏
倚力を与える磁石)76がシール磁石70に隣接して配
置されており、シール磁石70および負偏倚磁石76の
逆の磁極が互いに対面している。負偏倚磁石76は、永
久磁石42およびダイアフラム36が第1の位置にあっ
て永久磁石42の吸引力がもはやシール磁石70に影響
を及ぼさなくなったときに、シール磁石70を追従座7
2から離れる方向に引きつけ、これにより小孔74が開
放される。
【0017】図4の実施例の他の特徴は、大気通孔(ベ
ント)78が、患者にもはや真空が供給されなくなった
ときに患者の体腔を通気させる手段を形成していること
にある。このような通気を行うための多くの方法がある
ことは明らかであるが、図4の実施例においては、間欠
吸引装置の他の作動要素と同じハウジング10内に通孔
78が設けられている。大気ベント78を覆う閉鎖位置
に向かって押圧された可撓性フラッパ80が、ステム8
2のような手段により開放位置に移動される。ステム8
2は、第1チャンバ12内に所定距離だけ突出している
端部84を有している。可撓性ダイアフラム16内の永
久磁石22がその第2の位置に移動すると、永久磁石2
2がステム82の端部84と係合し、可撓性フラッパ8
0を開放させるのに充分なだけステム82を移動させ、
患者に通じるライン(図4には示されていない)を通気
させる。このようにして、米国特許第 3,359,605号の装
置と同様に、患者への真空が遮断されるとき、すなわ
ち、間欠吸引装置が「オフ」位置にあるときはいつで
も、患者へのラインが自動的に大気圧に開放される。最
後に、図5には、患者に通じるラインの有効通気を行う
ための、磁石弁を用いた別の手段が示されている。この
実施例では、出口28と大気への開口88との間の通気
導管86が、ハウジング10内に形成されている。
【0018】通気導管86には、該通気導管を横断する
追従座90からなる磁石弁が設けられており、該追従座
90には開口92が形成されている。追従座90に隣接
して通気シール磁石94が配置されており、該通気シー
ル磁石94には永久磁石62が作用し、時々は、可撓性
ダイアフラム16の永久磁石22が作用する。したがっ
て、磁石の極性は、ダイアフラム16がその第1の位
置、すなわち、出口28から離れた位置にあるとき(こ
のとき、真空が患者に供給されている)、ダイアフラム
16内の永久磁石22が通気シール磁石94を引きつけ
て、通気シール磁石94を追従座90に対して密接さ
せ、通気開口92を閉鎖させるように配置されている。
その一方、可撓性ダイアフラム16がその第2の位置
(「オフ」位置)にあるとき、永久磁石22と通気シー
ル磁石94との間の磁気による吸引力が喪失され、この
磁気による吸引力に代わって、通気シール磁石94が永
久磁石62により引きつけられる。これにより、開口9
2が開放され、大気圧が通気導管86内に流入されて出
口28に通じる。出口28の大気圧は、上記米国特許第
第 3,359,605号に開示されているように患者に導かれ、
患者から出る細い通路を塞ぐ虞れのある物質を放出させ
る。
【0019】以上、本発明を単一実施例に関連して説明
したが、該実施例には種々の変更を施すことができ、し
たがって、特許請求の範囲の記載は、このようなあらゆ
る変更を本発明の精神および範囲内に包含されるものと
してカバーするものである。
【0020】
【発明の効果】本発明によれば、構造が簡単で、大きな
信頼性および作動寿命が得られ且つ低コストで製造でき
る間欠吸引装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の間欠吸引装置が真空源の付勢前の最
初の位置にあるところを示す概略図である。
【図2】 本発明の間欠吸引装置が、患者に真空が供給
されない、デューティサイクルのうちの「オフ」部分に
あるところを示す概略図である。
【図3】 本発明の間欠吸引装置が、デューティサイク
ルのうちの「オン」部分において患者に大気圧を供給し
ているところを示す概略図である。
【図4】 或る磁石弁を備えた本発明の間欠吸引装置の
別の実施例を示す概略図である。
【図5】 大気通気磁石弁を備えた本発明の間欠吸引装
置の更に別の実施例を示す部分概略図である。
【符号の説明】
10 ハウジング 12 第1チャンバ 14 第2チャンバ 16 可撓性ダイアフラム 18 第1サブチャンバ 20 第2サブチャンバ 22 永久磁石 24 入口 26 真空源 28 出口 29 チューブ 30 開口 32 チューブ 34 可変絞り弁 36 可撓性ダイアフラム 38 第1サブチャンバ 40 第2サブチャンバ 42 永久磁石 44 真空ポート 46 チューブ 48 バイパス開口 50 大気圧開口 52 チューブ 54 バイパスポート 56 チューブ 58 可変絞り弁 60 コンプライアンスチャンバ 62 永久磁石 64 シール磁石
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マイケル ディー レスナー アメリカ合衆国 メリーランド州 21046 コロンビア ベルヴィュー ド ライヴ 6481

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 患者から流体を取り出すべく真空源から
    患者に定時真空を供給するための間欠吸引装置におい
    て、 チャンバを有するハウジングを備え、前記チャンバが、
    該チャンバを第1および第2サブチャンバに分離する可
    撓性ダイアフラムを有し、前記第1サブチャンバが、真
    空源に連結されるように構成された入口と、真空源から
    の真空を患者に供給するための出口とを有し、前記可撓
    性ダイアフラムが、前記出口を開放して真空源からの真
    空を前記出口に連通させる第1の位置と、前記出口を閉
    鎖して前記入口と出口との間の真空の連通を防止する第
    2の位置とを有し、前記ダイアフラムが磁力に対して敏
    感であり、 さらに、前記装置が、前記可撓性ダイアフラムを前記第
    1の位置に偏倚させる磁力手段と、所定の時間間隔で前
    記ダイアフラムを前記第1の位置と第2の位置との間で
    移動させるべく、前記第1サブチャンバと第2サブチャ
    ンバとの間の圧力差を制御する制御手段とを備えたこと
    を特徴とする間欠吸引装置。
  2. 【請求項2】 前記可撓性ダイアフラムが、永久磁石を
    有し、前記永久磁石が磁石弁に作用するように構成され
    たことを特徴とする請求項1に記載の間欠吸引装置。
  3. 【請求項3】 前記制御手段が、前記可撓性ダイアフラ
    ムを偏倚させる磁力に打ち勝って、可撓性ダイアフラム
    を第1の位置から第2の位置に移動させるのに充分な大
    きさの正の圧力差を前記第2サブチャンバと第1サブチ
    ャンバとの間に発生させる手段を有することを特徴とす
    る請求項1に記載の間欠吸引装置。
  4. 【請求項4】 前記制御手段が、前記第2サブチャンバ
    と第1サブチャンバとの間の圧力差を、磁気偏倚力が前
    記可撓性ダイアフラムを第2の位置から第1の位置へと
    移動させる所定の閾値まで減少させる手段を有すること
    を特徴とする請求項3に記載の間欠吸引装置。
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