JP2545649B2 - 改良ゼオライトβ触媒および改良ゼオライトβ触媒を使用したジイソプロピルベンゼンの製造方法 - Google Patents
改良ゼオライトβ触媒および改良ゼオライトβ触媒を使用したジイソプロピルベンゼンの製造方法Info
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Description
【０００１】
【技術分野】本発明はイソプロピルの不均化反応により
ジイソプロピルベンゼンを生成させるゼオライトβ触媒
の改良に関する。
ジイソプロピルベンゼンを生成させるゼオライトβ触媒
の改良に関する。
【０００２】
【発明の背景】ジイソプロピルベンゼン、特にｍ−及び
ｐ−ジイソプロピルベンゼン異性体は酸化防止剤、安定
剤であり、現像剤、ポリカーボネートの重要な中間体で
ある。また、ジイソプロピルベンゼンは脱水素によりス
チレン単量体に似た構造のジイソプロピレンベンゼンに
することもできる。例えば、 H. A. Covin & J. Muse,"
Polymers Diisopropenylbenzene" Chemtech, 500 (198
6)に記載の通り、ジイソプロピレンベンゼンは構造修飾
上の多様性により、スチレン単量体より更に発展性のあ
る中間体である。ジイソプロピルベンゼンは工程プラス
チック、エポキシ樹脂、ポリウレタンにも発展応用され
ているので、ジイソプロピルベンゼンの製造は極めて産
業上利用價値のある研究である。
ｐ−ジイソプロピルベンゼン異性体は酸化防止剤、安定
剤であり、現像剤、ポリカーボネートの重要な中間体で
ある。また、ジイソプロピルベンゼンは脱水素によりス
チレン単量体に似た構造のジイソプロピレンベンゼンに
することもできる。例えば、 H. A. Covin & J. Muse,"
Polymers Diisopropenylbenzene" Chemtech, 500 (198
6)に記載の通り、ジイソプロピレンベンゼンは構造修飾
上の多様性により、スチレン単量体より更に発展性のあ
る中間体である。ジイソプロピルベンゼンは工程プラス
チック、エポキシ樹脂、ポリウレタンにも発展応用され
ているので、ジイソプロピルベンゼンの製造は極めて産
業上利用價値のある研究である。
【０００３】ジイソプロピルベンゼンの一般的製造方法
は下記二種の方法がある。第１の方法は触媒を使い、プ
ロピル基を直接ベンゼンに結合する。適用する触媒はフ
リーデル・クラフツ、ＺＳＭ−５，ＺＳＭ−１２等があ
る。第２の方法はイソプロピルベンゼンの不均化反応で
あり、２分子のイソプロパンを触媒の存在下、互いに反
応させ、１分子のベンゼンと１分子のジイソプロピルベ
ンゼンを生成することができる。一般に、不均化反応の
製造方法はアルキル化反応より反応選擇性が優れてい
る。
は下記二種の方法がある。第１の方法は触媒を使い、プ
ロピル基を直接ベンゼンに結合する。適用する触媒はフ
リーデル・クラフツ、ＺＳＭ−５，ＺＳＭ−１２等があ
る。第２の方法はイソプロピルベンゼンの不均化反応で
あり、２分子のイソプロパンを触媒の存在下、互いに反
応させ、１分子のベンゼンと１分子のジイソプロピルベ
ンゼンを生成することができる。一般に、不均化反応の
製造方法はアルキル化反応より反応選擇性が優れてい
る。
【０００４】ソ連特許第192,109 号はＡｌＣｌ3 触媒の
存在下のイソプロピルベンゼンの不均化反応によるジイ
ソプロピルベンゼンの製造方法を開示している。このＡ
ｌＣｌ3 触媒は異性体の選擇性が劣るばかりか、環境汚
染の問題も起こす。米国特許第3,780,123 号はアルキル
ベンゼンの不均化反応を開示している。その反応は複合
触媒の存在下で行い、複合触媒はＨ型モルデナイト、酸
化アルミニウム及びVIII族金属硫化物より組成される。
存在下のイソプロピルベンゼンの不均化反応によるジイ
ソプロピルベンゼンの製造方法を開示している。このＡ
ｌＣｌ3 触媒は異性体の選擇性が劣るばかりか、環境汚
染の問題も起こす。米国特許第3,780,123 号はアルキル
ベンゼンの不均化反応を開示している。その反応は複合
触媒の存在下で行い、複合触媒はＨ型モルデナイト、酸
化アルミニウム及びVIII族金属硫化物より組成される。
【０００５】W. W. Kaeding は、 J. Catal. 120号, 4
09 頁(1989)の "Shape-SelectiveReactions with Zeoli
te Catalysts VII. Alkylation and Dispropotionatio
nof Cumene to Produce Diisopropylbenzene"の論文に
てＺＳＭ−１２触媒の存在下、イソプロピルベンゼンを
触媒反応によりジイソプロピルベンゼンを製造する方法
を開示した。このＺＳＭ−１２触媒のイソプロピルベン
ゼン不均化反応に対する選擇性はＡｌＣｌ3 触媒より優
れているが、まだ改良の余地がある。
09 頁(1989)の "Shape-SelectiveReactions with Zeoli
te Catalysts VII. Alkylation and Dispropotionatio
nof Cumene to Produce Diisopropylbenzene"の論文に
てＺＳＭ−１２触媒の存在下、イソプロピルベンゼンを
触媒反応によりジイソプロピルベンゼンを製造する方法
を開示した。このＺＳＭ−１２触媒のイソプロピルベン
ゼン不均化反応に対する選擇性はＡｌＣｌ3 触媒より優
れているが、まだ改良の余地がある。
【０００６】米国特許第3,308,069 号はゼオライトβ触
媒を開示している。その化学組成計算式は次の通りであ
る
媒を開示している。その化学組成計算式は次の通りであ
る
【数１】 ■ 〔XNa(1.0 ±0.1-X)TEA 〕AlO2 ・ YSiO2 ・ WH2O 数１式中、Ｘは１より小さい。Ｙは５より大きいが１０
０より小さい。Ｗは４以下で、ＴＥＡはテトラエチルア
ンモニウムイオンを示す。
０より小さい。Ｗは４以下で、ＴＥＡはテトラエチルア
ンモニウムイオンを示す。
【０００７】米国特許第4,615,997 号はｎ−パラフィン
の異性化に適用する触媒を開示している。その触媒はゼ
オライト触媒( ゼオライトβを含む) に貴金属を均一に
分散している。ソプロピルベンゼンを生成する。
の異性化に適用する触媒を開示している。その触媒はゼ
オライト触媒( ゼオライトβを含む) に貴金属を均一に
分散している。ソプロピルベンゼンを生成する。
【０００８】本発明者が先に発表した論文 "Dispropoti
onation of Toluene and Trimethylbenzene and Their
Transalkylation over Zeolite Beta", Ind. Eng. Che
m. Resarch, 1990.9 に水素アニオン型のゼオライトβ
触媒がトルエンとトリメチルベンゼンの不均化とトラン
スアルキル化反応にて優れた反応活性、選擇性と安定性
を示すことを開示している。
onation of Toluene and Trimethylbenzene and Their
Transalkylation over Zeolite Beta", Ind. Eng. Che
m. Resarch, 1990.9 に水素アニオン型のゼオライトβ
触媒がトルエンとトリメチルベンゼンの不均化とトラン
スアルキル化反応にて優れた反応活性、選擇性と安定性
を示すことを開示している。
【０００９】本発明者が１９９０年１０月１８日の出願
した台湾第７９１０８８０３号特許出願はゼオライトβ
触媒でイソプロピルベンゼンの不均化反応を起こさせる
ジイソプロピルベンゼンの製造を開示した。このゼオラ
イトβ触媒は周知のイソプロピルベンゼン不均化反応触
媒より優れた反応活性、選擇性と安定性を示す。
した台湾第７９１０８８０３号特許出願はゼオライトβ
触媒でイソプロピルベンゼンの不均化反応を起こさせる
ジイソプロピルベンゼンの製造を開示した。このゼオラ
イトβ触媒は周知のイソプロピルベンゼン不均化反応触
媒より優れた反応活性、選擇性と安定性を示す。
【００１０】本発明者の一人である王亦凱らは "Select
ivation of p-Dialkylbenzene withIn-Site Vapor Phas
e Modification of HZSM-5", 9th. Int. Congr. Cata
l., 1987, 324-331 頁にｐ−ジアルキルベンゼンの製造
反応に応用される珪素付着触媒であるＳｉ／ＨＺＳＭ−
５を開示し、この珪素付着触媒Ｓｉ／ＨＺＳＭ−５の製
造は、触媒を１８０−２３０℃の蒸気化した５０％トル
エン＋４５％メタノール＋５％Ｓｉ（ＯＲ）4 〔但しＲ
はＣ1-4 アルキル基を示す〕液體溶媒供給原料に曝す。
ivation of p-Dialkylbenzene withIn-Site Vapor Phas
e Modification of HZSM-5", 9th. Int. Congr. Cata
l., 1987, 324-331 頁にｐ−ジアルキルベンゼンの製造
反応に応用される珪素付着触媒であるＳｉ／ＨＺＳＭ−
５を開示し、この珪素付着触媒Ｓｉ／ＨＺＳＭ−５の製
造は、触媒を１８０−２３０℃の蒸気化した５０％トル
エン＋４５％メタノール＋５％Ｓｉ（ＯＲ）4 〔但しＲ
はＣ1-4 アルキル基を示す〕液體溶媒供給原料に曝す。
【００１１】本発明の主な目的は改良したゼオライトβ
触媒を提供するもので、この改良ゼオライトβ触媒をイ
ソプロピルの不均化反応によるジイソプロピルベンゼン
の製造法に使用し優れた安定性を示す。
触媒を提供するもので、この改良ゼオライトβ触媒をイ
ソプロピルの不均化反応によるジイソプロピルベンゼン
の製造法に使用し優れた安定性を示す。
【００１２】
【発明の構成】本発明は改良したゼオライトβ触媒に関
する。その改良は周知のゼオライトβ触媒にゼオライト
β触媒１グラム毎に0.００１−0.５グラムのＳｉＯ2 を
付着させる。
する。その改良は周知のゼオライトβ触媒にゼオライト
β触媒１グラム毎に0.００１−0.５グラムのＳｉＯ2 を
付着させる。
【００１３】ＳｉＯ2 付着の適切の方法は、式Ｓｉ（Ｏ
Ｒ）4 〔但しＲはＣ1-5 アルキル基を示す〕で示される
ｎ−珪酸エステル化合物を蒸気相にて周知のゼオライト
β触媒と所定の時間接触処理し、好ましくはｎ−珪酸エ
ステル化合物をメタノール、トルエン、水又はそれらの
混合物等の適した非反応性希釈溶媒と混合使用し、更に
４００−６６０℃の空気で２−４８時間焼き付ける。
Ｒ）4 〔但しＲはＣ1-5 アルキル基を示す〕で示される
ｎ−珪酸エステル化合物を蒸気相にて周知のゼオライト
β触媒と所定の時間接触処理し、好ましくはｎ−珪酸エ
ステル化合物をメタノール、トルエン、水又はそれらの
混合物等の適した非反応性希釈溶媒と混合使用し、更に
４００−６６０℃の空気で２−４８時間焼き付ける。
【００１４】本発明の改良したゼオライトβ触媒はジイ
ソプロピルベンゼンの製造方法に応用される。この改良
ゼオライトβ触媒の存在下、イソプロピルを含む原料を
９０−２５０℃にて接触反応させる。この改良ゼオライ
トβ触媒は優れた安定性を示すと共に、元来の優れた不
均化生成物選擇率を保持している。
ソプロピルベンゼンの製造方法に応用される。この改良
ゼオライトβ触媒の存在下、イソプロピルを含む原料を
９０−２５０℃にて接触反応させる。この改良ゼオライ
トβ触媒は優れた安定性を示すと共に、元来の優れた不
均化生成物選擇率を保持している。
【００１５】本発明者が前に出願した台湾第７９１０８
８０３号特許出願はゼオライトβ触媒でイソプロピルベ
ンゼンの不均化反応を起こさせるジイソプロピルベンゼ
ンの製造方法を開示した。このゼオライトβ触媒の存在
下、イソプロピルを含む原料を９０−２５０℃にて接触
反応させる。このゼオライトβ触媒は他の触媒と比べ、
優れた反応活性、選擇性及び安定性を示すが、ゼオライ
ト触媒はモノアルキルベンゼンの不均化反応には一般に
いずれも活性減退の問題がある。
８０３号特許出願はゼオライトβ触媒でイソプロピルベ
ンゼンの不均化反応を起こさせるジイソプロピルベンゼ
ンの製造方法を開示した。このゼオライトβ触媒の存在
下、イソプロピルを含む原料を９０−２５０℃にて接触
反応させる。このゼオライトβ触媒は他の触媒と比べ、
優れた反応活性、選擇性及び安定性を示すが、ゼオライ
ト触媒はモノアルキルベンゼンの不均化反応には一般に
いずれも活性減退の問題がある。
【００１６】本発明はイソプロピルベンゼンの不均化反
応に優れた安定性を示す改良したゼオライトβ触媒を提
供する。ゼオライトβ触媒１グラム毎に0.００１−0.５
グラムのＳｉＯ2 を付着させている。
応に優れた安定性を示す改良したゼオライトβ触媒を提
供する。ゼオライトβ触媒１グラム毎に0.００１−0.５
グラムのＳｉＯ2 を付着させている。
【００１７】周知のゼオライトβ触媒の製造は、前記米
国特許第3,308,069 号及びParienteらが Appl. Catal.
第31号、第35頁(1987)に発表した論文 "Crystallizatio
nMechanism of Zeolite Beta from (TEA)2O , Na2O an
d K2O Containing Aluminosilicate Gels" により周知
である。この論文の内容は本発明の参考とする。一般
に、ゼオライト触媒は定温水熱法(hydrothermal metho
d) によりＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 −水酸化テトラエチル
アンモニウム−水の混合物から結晶固体を製造する。毎
回得られた固体の生成物を濾過、水洗し、120 ℃にて一
夜乾燥すると、ＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 のモル比が１０−
１５０の間のものが得られる。得られた製品を４５０℃
−６６０℃にて２−４８時間焼き、ＮＨ4 ＮＯ3 溶液で
イオン交換を行い、濾過、水洗い、乾燥して、望む寸
法、形の粒子にし、及び／又は更に望ましいサイズの粒
子に粉砕する。
国特許第3,308,069 号及びParienteらが Appl. Catal.
第31号、第35頁(1987)に発表した論文 "Crystallizatio
nMechanism of Zeolite Beta from (TEA)2O , Na2O an
d K2O Containing Aluminosilicate Gels" により周知
である。この論文の内容は本発明の参考とする。一般
に、ゼオライト触媒は定温水熱法(hydrothermal metho
d) によりＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 −水酸化テトラエチル
アンモニウム−水の混合物から結晶固体を製造する。毎
回得られた固体の生成物を濾過、水洗し、120 ℃にて一
夜乾燥すると、ＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 のモル比が１０−
１５０の間のものが得られる。得られた製品を４５０℃
−６６０℃にて２−４８時間焼き、ＮＨ4 ＮＯ3 溶液で
イオン交換を行い、濾過、水洗い、乾燥して、望む寸
法、形の粒子にし、及び／又は更に望ましいサイズの粒
子に粉砕する。
【００１８】本発明におけるＳｉＯ2 付着の適切の方法
は、式Ｓｉ（ＯＲ）4 〔但しＲはＣ1-5 アルキル基を示
す〕で示されるｎ−珪酸エステル化合物を蒸気相にて周
知のゼオライトβ触媒と所定の時間接触処理する。好ま
しくはｎ−珪酸エステル化合物をメタノール、トルエ
ン、水又はそれらの混合物等の適した非反応性希釈溶媒
と混合使用し、更に４００−６００℃の空気で２−４８
時間焼き付ける。好ましくは約４５０℃にて６時間焼
く。
は、式Ｓｉ（ＯＲ）4 〔但しＲはＣ1-5 アルキル基を示
す〕で示されるｎ−珪酸エステル化合物を蒸気相にて周
知のゼオライトβ触媒と所定の時間接触処理する。好ま
しくはｎ−珪酸エステル化合物をメタノール、トルエ
ン、水又はそれらの混合物等の適した非反応性希釈溶媒
と混合使用し、更に４００−６００℃の空気で２−４８
時間焼き付ける。好ましくは約４５０℃にて６時間焼
く。
【００１９】この改良ゼオライトβ触媒をイソプロピル
ベンゼンの不均化反応を起こさせるジイソプロピルベン
ゼンの製造に応用する方法は、基本的には出願人が前に
出願した台湾第７９１０８８０３号特許出願と同じで、
該出願の内容は本出願の参考資料とする。反応温度は１
００℃−２００℃の間が好ましい、反応壓力は特に制限
がないが、約１大気圧が好ましい。本発明の方法の反応
雰囲気も特に制限がない。例えば何のガスも添加しな
い、又はＮ2 、Ｈ2 などを反応器に添加する。一般に、
添加したガスとイソプロピルベンゼン原料のモル比は0.
０５以上である。その接触反応は何れの周知の反応器系
統でも行うことができるが、本発明の好ましい実施例に
は連続固定床反応器系統を使用し、固定床反応器系統を
通過する原料の重量空間速度（ＷＨＳＶ）は0.２−５０
g hr-1gcat-1で、2.８−3.４g hr-1gcat-1の間が好まし
い。
ベンゼンの不均化反応を起こさせるジイソプロピルベン
ゼンの製造に応用する方法は、基本的には出願人が前に
出願した台湾第７９１０８８０３号特許出願と同じで、
該出願の内容は本出願の参考資料とする。反応温度は１
００℃−２００℃の間が好ましい、反応壓力は特に制限
がないが、約１大気圧が好ましい。本発明の方法の反応
雰囲気も特に制限がない。例えば何のガスも添加しな
い、又はＮ2 、Ｈ2 などを反応器に添加する。一般に、
添加したガスとイソプロピルベンゼン原料のモル比は0.
０５以上である。その接触反応は何れの周知の反応器系
統でも行うことができるが、本発明の好ましい実施例に
は連続固定床反応器系統を使用し、固定床反応器系統を
通過する原料の重量空間速度（ＷＨＳＶ）は0.２−５０
g hr-1gcat-1で、2.８−3.４g hr-1gcat-1の間が好まし
い。
【００２０】
【実施例】本発明の方法を下記の実施例により更に詳し
く説明するが、これらの実施例は只説明にするだけで、
本発明の範囲を制限するものではない。 〔実施例１〕： ゼオライトβ触媒の製造 ゼオライトβ触媒の製造は定温水熱法によりＳｉＯ2 −
Ａｌ2 Ｏ3 −水酸化テトラエチルアンモニウム−水の混
合物から結晶生成し水洗いし、120 ℃にて一夜乾燥す
る。得られた製品をSimens D-500 X- 線回析計で分析す
ると、X-線粉末回折図は前記本発明人が発表した"Dispr
opotionation of Toluene and Trimethyl-benzene and
Their Transalkylation over Zeolite Beta"論文の図１
に示す通りである。又、誘導カップリングプラズマで測
定したＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 のモル比は１5.３である。
く説明するが、これらの実施例は只説明にするだけで、
本発明の範囲を制限するものではない。 〔実施例１〕： ゼオライトβ触媒の製造 ゼオライトβ触媒の製造は定温水熱法によりＳｉＯ2 −
Ａｌ2 Ｏ3 −水酸化テトラエチルアンモニウム−水の混
合物から結晶生成し水洗いし、120 ℃にて一夜乾燥す
る。得られた製品をSimens D-500 X- 線回析計で分析す
ると、X-線粉末回折図は前記本発明人が発表した"Dispr
opotionation of Toluene and Trimethyl-benzene and
Their Transalkylation over Zeolite Beta"論文の図１
に示す通りである。又、誘導カップリングプラズマで測
定したＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 のモル比は１5.３である。
【００２１】上記乾燥製品を４５０℃にて６時間焼いた
後、次のイオン交換を行う：(1) 固体と８０℃の１Ｎ
ＮＨ4 ＮＯ3 溶液を該固体／溶液重量比１：２０で８時
間接触させ、(2) 該固体を濾過回収し、(3) 該固体を熱
い脱イオン水で洗う。このイオン交換工程を６回繰り返
してから、このＮＨ4 + イオン交換固体を１２０℃にて
一夜乾燥した後、４５０℃の空氣中で６時間焼いて、こ
のＨ型ゼオライトを造粒し、１２−２０メッシュの粒子
にした。
後、次のイオン交換を行う：(1) 固体と８０℃の１Ｎ
ＮＨ4 ＮＯ3 溶液を該固体／溶液重量比１：２０で８時
間接触させ、(2) 該固体を濾過回収し、(3) 該固体を熱
い脱イオン水で洗う。このイオン交換工程を６回繰り返
してから、このＮＨ4 + イオン交換固体を１２０℃にて
一夜乾燥した後、４５０℃の空氣中で６時間焼いて、こ
のＨ型ゼオライトを造粒し、１２−２０メッシュの粒子
にした。
【００２２】ＳｉＯ2 の修飾は2.５４グラムの上記の通
り製造したゼオライトβ触媒と4.６５グラムのセラミッ
クフレークスを反応器に混合充填し、４５０℃の熱空氣
を通して６時間活性化した後、窒素を通して望む修飾温
度まで冷却する。次に反応器に下記の組成であるテトラ
エチルｎ−珪酸エステル（ＴＥＯＳ）、Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ
5 ）4 の溶液を導入する
り製造したゼオライトβ触媒と4.６５グラムのセラミッ
クフレークスを反応器に混合充填し、４５０℃の熱空氣
を通して６時間活性化した後、窒素を通して望む修飾温
度まで冷却する。次に反応器に下記の組成であるテトラ
エチルｎ−珪酸エステル（ＴＥＯＳ）、Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ
5 ）4 の溶液を導入する
【００２３】ＳｉＯ2 の付着量は修飾温度と修飾時間の
変化により制御される。修飾の進行に伴う排出液は回収
し、ジメチルシロキサンカラム、ＨＰＵｌｔｒａ １を
配備したHewllett-Packard 5890 ガスクロマトグラフィ
で分析した。トルエンは２００℃以下では反応性がない
から、希釈剤となすと共に、ＴＥＯＳ転化率を計算する
内部指標ともなる。ＳｉＯ2 の付着量は下記の公式によ
り計算される：
変化により制御される。修飾の進行に伴う排出液は回収
し、ジメチルシロキサンカラム、ＨＰＵｌｔｒａ １を
配備したHewllett-Packard 5890 ガスクロマトグラフィ
で分析した。トルエンは２００℃以下では反応性がない
から、希釈剤となすと共に、ＴＥＯＳ転化率を計算する
内部指標ともなる。ＳｉＯ2 の付着量は下記の公式によ
り計算される：
【００２４】
【数２】 数２式中、τ：修飾進行時間（分） （TEOS,wt%) F ：修飾供給組成物中のTEOSの重量％ （TEOS,wt%) P ：修飾完了後排出液中のTEOSの重量％ （トルエン,wt%) F ：修飾供給組成物中のトルエンの重
量％ （トルエン,wt%) P ：修飾完了後排出液中のトルエンの
重量％ ＷＨＳＶ：全体修飾供給の重量空間流速、g hr-1gcat-1 修飾完了後、反応器に窒素を導入し３時間洗ってから、
更に４５０℃の空氣中に導入して６時間焼いた。
量％ （トルエン,wt%) P ：修飾完了後排出液中のトルエンの
重量％ ＷＨＳＶ：全体修飾供給の重量空間流速、g hr-1gcat-1 修飾完了後、反応器に窒素を導入し３時間洗ってから、
更に４５０℃の空氣中に導入して６時間焼いた。
【００２５】〔実施例２〕：イソプロピルベンゼンの不
均化反応 2.54グラムの上記実施例１にて製造した未修飾ゼオライ
トβと4.65グラムのセラミックフレークスを上記実施例
１と同様の反応器に混合充填し、４５０℃の熱空氣を通
して６時間活性化した後、窒素を通して望む反応温度ま
で冷却する。又上記実施例１中のＳｉＯ2 修飾済のゼオ
ライトβ触媒を充填した反応器系統はそのまま使用し、
窒素を望む反応温度になるまで導入した。
均化反応 2.54グラムの上記実施例１にて製造した未修飾ゼオライ
トβと4.65グラムのセラミックフレークスを上記実施例
１と同様の反応器に混合充填し、４５０℃の熱空氣を通
して６時間活性化した後、窒素を通して望む反応温度ま
で冷却する。又上記実施例１中のＳｉＯ2 修飾済のゼオ
ライトβ触媒を充填した反応器系統はそのまま使用し、
窒素を望む反応温度になるまで導入した。
【００２６】Jassen Chemical 社から購入したイソプ
ロピルベンゼンを計量ポンプで反応器に通すと共に、別
に計量された窒素気流を通し、イソプロピルベンゼン／
窒素のモル比を＝１４．５にして反応を行う。反応器か
ら流出した反応生成物を１５分毎に回収し、ジメチルシ
ロキサンカラム、ＨＰ Ultra １を配備したHewllett
-Packard 5890 ガスクロマトグラフィで分析した。
ロピルベンゼンを計量ポンプで反応器に通すと共に、別
に計量された窒素気流を通し、イソプロピルベンゼン／
窒素のモル比を＝１４．５にして反応を行う。反応器か
ら流出した反応生成物を１５分毎に回収し、ジメチルシ
ロキサンカラム、ＨＰ Ultra １を配備したHewllett
-Packard 5890 ガスクロマトグラフィで分析した。
【００２７】イソプロピルベンゼンの転化率ＸC 及び不
均化反応の選擇率ＳD の定義はそれぞれ下記の通りであ
る。
均化反応の選擇率ＳD の定義はそれぞれ下記の通りであ
る。
【数３】 ＸC （重量％）＝１００−（イソプロピルベンゼン、重量％）p
【数４】 数３式中及び数４式中、（イソプロピルベンゼン、重量
％）p と（ＤＰＢ，重量％）p はそれぞれ生成物流れ中
のイソプロピルベンゼン組成成分とジプロピルベンゼン
（ＤＰＢと略す）の組成成分を示す。
％）p と（ＤＰＢ，重量％）p はそれぞれ生成物流れ中
のイソプロピルベンゼン組成成分とジプロピルベンゼン
（ＤＰＢと略す）の組成成分を示す。
【００２８】反応の結果と条件は表１の通りである。粘
結率は反応時間終了後、窒素で反応温度にて３時間洗
い、沈着したコールタール量をDupont 951 Thermogravi
metryで測定した。
結率は反応時間終了後、窒素で反応温度にて３時間洗
い、沈着したコールタール量をDupont 951 Thermogravi
metryで測定した。
【表１】ＳｉＯ2 修飾のゼオライトβ触媒の反応活性と
安定性に対する影響1 １ イソプロピルベンゼン／窒素＝１4.５モル／モル、
反応時間：６０分間 ２ 反応時間：３時間 ３ 反応時間：１時間
安定性に対する影響1 １ イソプロピルベンゼン／窒素＝１4.５モル／モル、
反応時間：６０分間 ２ 反応時間：３時間 ３ 反応時間：１時間
【００２９】ゼオライト触媒反応活性の老化は、一般に
いずれも下記指数公式で表す。
いずれも下記指数公式で表す。
【数５】 数５式中、Ｘt は反応時間がｔの時のイソプロピルベン
ゼン転化率を示す。Ｘo は反応時間を０に外挿した時の
転化率を示す。αは衰退指数であり、α値が小さい程、
安定性がよいことを示す。例えば表１に示す通り、ゼオ
ライトβ触媒はＳｉＯ2 を付着させると優れた安定性を
示す。又この改良によりｐ−ジイソプロピルベンゼンの
選擇率が向上する。
ゼン転化率を示す。Ｘo は反応時間を０に外挿した時の
転化率を示す。αは衰退指数であり、α値が小さい程、
安定性がよいことを示す。例えば表１に示す通り、ゼオ
ライトβ触媒はＳｉＯ2 を付着させると優れた安定性を
示す。又この改良によりｐ−ジイソプロピルベンゼンの
選擇率が向上する。
Claims (5)
- 【請求項１】 ゼオライトβ触媒１グラム毎に0.００１
−0.５グラムのＳｉＯ2 を付着させることにより得られ
た改良されたゼオライトβ触媒であり、 前記ＳｉＯ2 の付着は、ゼオライトβ触媒を式Ｓｉ（Ｏ
Ｒ）4 〔但しＲはＣ1-5 アルキル基を示す〕で示される
ｎ−珪酸エステル化合物と蒸気相にて接触処理し、更に
４００−６００℃の空気で２−４８時間焼くことにより
行われることを特徴とする改良ゼオライトβ触媒。 - 【請求項２】 ゼオライトβ触媒は水素アニオン型であ
り、そのＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 のモル比が１０−１５０
の間である請求項１の改良触媒。 - 【請求項３】 ｎ−珪酸エステル化合物は非反応性希釈
溶媒と混合して使用されることを特徴とする請求項１の
改良触媒。 - 【請求項４】 イソプロピルを含む原料に改良ゼオライ
トβ触媒の存在下、９０−２５０℃にて触媒反応を与え
ることによりジイソプロピルベンゼンを製造する方法で
あり、前記改良ゼオライトβ触媒として、 ゼ オライトβ触媒１グラム毎に0.００１−0.５グラムの
ＳｉＯ2 を付着させることにより得られ、 前記ＳｉＯ2 の付着は、ゼオライトβ触媒を式Ｓｉ（Ｏ
Ｒ）4 〔但しＲはＣ1-5 アルキル基を示す〕で示される
ｎ−珪酸エステル化合物と蒸気相にて接触処理し、更に
４００−６００℃の空気で２−４８時間焼くことにより
行われたものを使用することを特徴とする改良ゼオライ
トβ触媒を使用したジイソプロピルベンゼンの製造方
法。 - 【請求項５】 触媒反応を連続固定床反応器系統にて行
う請求項４のジイソプロピルベンゼンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3124811A JP2545649B2 (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | 改良ゼオライトβ触媒および改良ゼオライトβ触媒を使用したジイソプロピルベンゼンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3124811A JP2545649B2 (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | 改良ゼオライトβ触媒および改良ゼオライトβ触媒を使用したジイソプロピルベンゼンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04338238A JPH04338238A (ja) | 1992-11-25 |
| JP2545649B2 true JP2545649B2 (ja) | 1996-10-23 |
Family
ID=14894708
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3124811A Expired - Fee Related JP2545649B2 (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | 改良ゼオライトβ触媒および改良ゼオライトβ触媒を使用したジイソプロピルベンゼンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2545649B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115155652B (zh) * | 2022-08-18 | 2024-06-18 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种催化剂的制备方法及其催化剂的应用 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4477583A (en) * | 1983-06-09 | 1984-10-16 | Mobil Oil Corporation | Silica-modified catalyst and use for selective production of para-dialkyl substituted benzenes |
| US4849386A (en) * | 1987-04-08 | 1989-07-18 | Taiwan Styrene Monomer Corporation | Novel silicon-modified catalyst Si/HZSM-5 preparation |
| US4851604A (en) * | 1987-09-02 | 1989-07-25 | Mobil Oil Corp. | Toluene disproportionation |
-
1991
- 1991-04-26 JP JP3124811A patent/JP2545649B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04338238A (ja) | 1992-11-25 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |