JP2545175Y2 - Liquid crystal display - Google Patents

Liquid crystal display

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JP2545175Y2
JP2545175Y2 JP1988049724U JP4972488U JP2545175Y2 JP 2545175 Y2 JP2545175 Y2 JP 2545175Y2 JP 1988049724 U JP1988049724 U JP 1988049724U JP 4972488 U JP4972488 U JP 4972488U JP 2545175 Y2 JP2545175 Y2 JP 2545175Y2
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liquid crystal
core wire
signal line
coating layer
crystal display
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隆志 居波
裕 高藤
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【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案は、液晶表示装置に関し、特に表示画素を個別
の画素電極で構成して該画素電極を各縁部で一方向に共
通接続する複数本の信号線を備えたマトリクス形液晶表
示装置に関する。
The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device, in which a plurality of display pixels are formed of individual pixel electrodes, and the pixel electrodes are commonly connected in one direction at each edge. The present invention relates to a matrix type liquid crystal display device having a signal line.

従来の技術 典型的な先行技術は、第4図に示されている。この液
晶表示装置1は、マトリクス形の液晶表示装置であっ
て、ガラスなどの材料から成る透明基板2には、行列状
に複数の画素電極3がパターン形成されている。この画
素電極3の一方の配列方向に沿って複数の信号線4が形
成されている。前記一方の配列方向に沿って配列される
複数の画素電極3は、それぞれ同一の信号線4に並列に
接続されており、この信号線4から信号電圧が供給され
る。
Prior Art A typical prior art is shown in FIG. The liquid crystal display device 1 is a matrix type liquid crystal display device. A plurality of pixel electrodes 3 are formed in a matrix pattern on a transparent substrate 2 made of a material such as glass. A plurality of signal lines 4 are formed along one arrangement direction of the pixel electrodes 3. The plurality of pixel electrodes 3 arranged along the one arrangement direction are connected in parallel to the same signal line 4, and a signal voltage is supplied from the signal line 4.

透明基板2に対向して配置される透明基板5の透明基
板2に臨む側の表面には、前記信号線4と交差する方向
に平行に延びる透明電極6がパターン形成されている。
A transparent electrode 6 extending in parallel with a direction intersecting with the signal line 4 is formed in a pattern on a surface of the transparent substrate 5 facing the transparent substrate 2 and facing the transparent substrate 2.

透明基板2,5の間には、たとえばツイステッドネマテ
ィック(以下、「TN」という)形の液晶が充填される。
そのような場合において、透明基板2の透明基板5とは
反対側の表面、および透明基板5の透明電極6が形成さ
れる側とは反対側の表面には、それぞれ偏光板7,8が配
設される。
The space between the transparent substrates 2 and 5 is filled with, for example, a twisted nematic (hereinafter referred to as “TN”) type liquid crystal.
In such a case, polarizing plates 7 and 8 are disposed on the surface of the transparent substrate 2 on the side opposite to the transparent substrate 5 and on the surface of the transparent substrate 5 on the side opposite to the side on which the transparent electrode 6 is formed. Is established.

複数の透明電極6には、順次的に、また循環的に走査
パルスが印加される。複数の信号線4には、表示すべき
映像信号に対応する信号電圧が並列に与えられる。これ
によって、各表示画素は透光性または遮光性となり、映
像の表示が実現される。
A scanning pulse is sequentially and cyclically applied to the plurality of transparent electrodes 6. A signal voltage corresponding to a video signal to be displayed is applied to the plurality of signal lines 4 in parallel. As a result, each display pixel becomes translucent or light-blocking, and an image is displayed.

信号線4の材料としては、信号線4のパターン形成の
後の工程における耐エッチング性、および耐候性、すな
わち温度および湿度などの環境条件の変化ならびにエー
ジングに対する耐性などの問題から、タンタル、チタ
ン、またはクロムなどを用いるようにしている。
As a material of the signal line 4, tantalum, titanium, Alternatively, chrome or the like is used.

しかしながら、これらの材料は比較的比抵抗が高く、
液晶表示装置1において良好な表示特性を得ることがで
きない。各信号線4の端部4aからは、画素電極3の容量
や信号線4に関する容量、あるいは各画素電極3に関連
して能動素子が設けられる場合には、この能動素子に関
する容量などを充電できるだけの電荷が供給されなけれ
ばならないけれども、その充電時定数は信号線4の電気
抵抗に依存する。したがって、前述のような比抵抗が比
較的高い材料を用いて信号線4を形成した場合には、た
とえば大形のマトリクス形液晶表示装置を駆動する場合
に、良好な表示品質を得ることができない。すなわち、
液晶表示装置の大形化に伴って、たとえば信号線4の幅
とピッチはそのままで、信号線4の長さと各信号線4が
負担する画素電極3の数が増える場合、あるいは信号線
4の幅、信号線4の長さ、画素電極3の長さおよび幅、
能動素子の長さおよび幅が全て大きくなる場合のいずれ
の場合においても、各容量成分に対する充電時定数は増
大する。この充電時定数は信号線4が有する抵抗成分に
伴って増加するため、前述のようなマルチプレクス駆動
では、信号線4の信号電圧が供給される端部4aに近い表
示画素と遠い表示画素との間に表示特性の差異が生じ
る。
However, these materials have relatively high specific resistance,
Good display characteristics cannot be obtained in the liquid crystal display device 1. From the end 4 a of each signal line 4, the capacitance of the pixel electrode 3, the capacitance of the signal line 4, or when an active element is provided in connection with each pixel electrode 3, the capacitance of the active element can be charged. The charge time constant depends on the electric resistance of the signal line 4. Therefore, when the signal line 4 is formed using a material having a relatively high specific resistance as described above, good display quality cannot be obtained, for example, when driving a large matrix liquid crystal display device. . That is,
As the size of the liquid crystal display device increases, for example, the width and pitch of the signal lines 4 are kept unchanged, and the length of the signal lines 4 and the number of pixel electrodes 3 borne by each signal line 4 increase. Width, length of signal line 4, length and width of pixel electrode 3,
In any case where the length and width of the active element are all large, the charging time constant for each capacitance component increases. Since the charging time constant increases with the resistance component of the signal line 4, in the multiplex driving as described above, the display pixels near and far from the end 4a to which the signal voltage of the signal line 4 is supplied are connected. Between the display characteristics.

このような問題を解決するために、他の先行技術では
第5図に示されるように、信号線4を低電気抵抗の金属
材料から成る下部信号線41と、耐蝕性および耐候性の高
い金属材料から成る上部信号線42とから構成されるよう
にしている。
In order to solve such a problem, in another prior art, as shown in FIG. 5, a signal line 4 is formed of a lower signal line 41 made of a metal material having a low electric resistance and a metal line having a high corrosion resistance and weather resistance. And an upper signal line 42 made of a material.

考案が解決しようとする課題 このような信号線4のパターン形成にあたっては、下
部信号線41の材料から成る金属薄膜を透明基板2の液晶
層に臨む表面の全域に亘って形成し、さらにこの金属薄
膜上に連続して前記上部信号線42の材料から成る金属薄
膜を形成するようにし、この後たとえばエッチングによ
ってパターンニングを行うようにしている。これによっ
て下部信号線41は露出部分を有することになり、耐蝕性
および耐候性の点では不充分である。
Problems to be Solved by the Invention In forming such a pattern of the signal line 4, a metal thin film made of the material of the lower signal line 41 is formed over the entire surface of the transparent substrate 2 facing the liquid crystal layer. A metal thin film made of the material of the upper signal line 42 is formed continuously on the thin film, and thereafter, patterning is performed by, for example, etching. As a result, the lower signal line 41 has an exposed portion, which is insufficient in corrosion resistance and weather resistance.

本考案の目的は、信号線の耐蝕性および耐候性が損な
われることなく、低電気抵抗の信号線を基板上に形成す
ることができ、したがって良好な表示特性を得ることが
でき、またその大形化に特に有利な液晶表示装置を提供
することである。
An object of the present invention is to form a signal line having a low electric resistance on a substrate without impairing the corrosion resistance and weather resistance of the signal line, thereby obtaining good display characteristics, and its large size. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device that is particularly advantageous for shaping.

課題を解決するための手段 本考案は、二枚の対向する基板間に液晶が充填され、
一方の基板の内面には、行列状に配列された複数の画素
電極と該画素電極の配列間隙内のそれぞれに配置され該
画素電極を行方向に沿って共通接続する複数本の信号線
とがパターン形成され、他方の基板の内面には、前記画
素電極に対面し列方向に沿って平行配列された複数本の
電極がパターン形成され、該電極及び前記画素電極に選
択的に供給される駆動電圧によって前記液晶が画素単位
で表示駆動される液晶表示装置において、前記画素電極
には、前記一方の基板の周辺から前記信号線の端に供給
される駆動電圧が前記信号線を介してそれぞれ伝達さ
れ、前記信号線は、耐蝕性及び耐候性の高い金属材料か
らなる被覆層と該被覆層より電気抵抗の低い金属材料か
らなる芯線とで構成され、前記被覆層は前記芯線表面に
沿って前記芯線表面を被覆してなりかつ前記被覆層と前
記芯線の断面はともに四角形状に成形され、前記芯線の
両側方に位置する前記被覆層の厚さは、前記芯線形成後
に堆積したフォトレジストの露光現像で生じる過現像に
よる該フォトレジストと前記芯線との間の生成間隙に略
対応していることを特徴としている。
Means for Solving the Problems In the present invention, a liquid crystal is filled between two opposing substrates,
On the inner surface of one of the substrates, a plurality of pixel electrodes arranged in a matrix and a plurality of signal lines arranged in the arrangement gap of the pixel electrodes and commonly connecting the pixel electrodes along the row direction are provided. On the inner surface of the other substrate, a plurality of electrodes facing the pixel electrodes and arranged in parallel along the column direction are patterned, and a drive is selectively supplied to the electrodes and the pixel electrodes. In a liquid crystal display device in which the liquid crystal is displayed and driven in pixel units by a voltage, a drive voltage supplied from the periphery of the one substrate to an end of the signal line is transmitted to the pixel electrode via the signal line. The signal line is composed of a coating layer made of a metal material having high corrosion resistance and weather resistance and a core wire made of a metal material having a lower electric resistance than the coating layer, and the coating layer is formed along the surface of the core wire. Core wire surface The covering layer and the cross section of the core wire are both formed into a square shape, and the thickness of the coating layer located on both sides of the core wire is caused by exposure and development of a photoresist deposited after the formation of the core wire. It is characterized in that the gap substantially corresponds to a gap generated between the photoresist and the core wire due to overdeveloping.

作用 本考案においては、液晶表示装置を表示駆動するため
の画素電極に信号を供給する信号線は、フォトレジスト
の露光現像で生じる過現像を利用して膜厚調整された耐
蝕性および耐候性の比較的高い金属材料から成る被覆層
と、被覆層より低電気抵抗の金属材料から成り、被覆層
によって露出部分が全面に被覆される芯線とを含んで構
成されている。これによって、低電気抵抗の信号線が、
耐蝕性および耐候性が損なわれることなく、画素領域の
開口率低下を招くことなく、液晶表示装置の少なくとも
一方の基板に形成されるようになる。これによって、液
晶表示装置において良好な表示特性を実現することがで
きるとともに、液晶表示装置が大形化された場合におい
ても、その表示領域の全域に亘って均一な表示特性を得
ることができる。
In the present invention, a signal line for supplying a signal to a pixel electrode for driving a liquid crystal display device is provided with a film thickness adjusted by utilizing over-development caused by exposure and development of a photoresist. It comprises a coating layer made of a relatively high metal material and a core wire made of a metal material having lower electric resistance than the coating layer, and the exposed portion is entirely covered by the coating layer. As a result, the signal line with low electrical resistance
It is formed on at least one substrate of the liquid crystal display device without deteriorating the corrosion resistance and weather resistance and without lowering the aperture ratio of the pixel region. As a result, good display characteristics can be realized in the liquid crystal display device, and even when the size of the liquid crystal display device is increased, uniform display characteristics can be obtained over the entire display area.

実施例 第1図は、本考案の一実施例である液晶表示装置11の
基本的な構成を示す斜視図である。たとえばガラスなど
の材料から成る透明基板12の一方側の表面には、複数の
画素電極13が行列状に配列されて形成されている。この
複数の画素電極13の一方の配列方向に沿って、各画素電
極13に映像信号に対応する信号電圧を供給するための複
数の信号線14がパターン形成されている。
Embodiment FIG. 1 is a perspective view showing a basic configuration of a liquid crystal display device 11 according to an embodiment of the present invention. For example, a plurality of pixel electrodes 13 are formed in a matrix on one surface of a transparent substrate 12 made of a material such as glass. A plurality of signal lines 14 for supplying a signal voltage corresponding to a video signal to each pixel electrode 13 are formed in a pattern along one arrangement direction of the plurality of pixel electrodes 13.

透明基板12の画素電極13などが形成される側の表面に
対向して、透明基板15が配置される。この透明基板15の
透明基板12に臨む側の表面には、前記複数の信号線14に
交差する方向に延びる複数の透明電極16がパターン形成
されている。透明基板12,15の間には、たとえばツイス
テッドネマティック(以下、「TN」という)形の液晶
(図示せず)が充填される。この場合において、透明基
板12,15の液晶層とは反対側の表面には、偏光板17,18が
配設される。
The transparent substrate 15 is disposed so as to face the surface of the transparent substrate 12 on which the pixel electrodes 13 and the like are formed. On a surface of the transparent substrate 15 facing the transparent substrate 12, a plurality of transparent electrodes 16 extending in a direction intersecting the plurality of signal lines 14 are formed in a pattern. The space between the transparent substrates 12 and 15 is filled with, for example, a twisted nematic (hereinafter, referred to as “TN”) type liquid crystal (not shown). In this case, polarizing plates 17 and 18 are provided on the surfaces of the transparent substrates 12 and 15 opposite to the liquid crystal layer.

透明基板12,15において、それぞれの液晶層に臨む表
面を被覆して配向膜(図示せず)が形成され、たとえば
相互に90度の角度をなすようにして配向処理が施され
る。これによって、前記液晶層を構成する液晶分子は、
前記配向膜の間で90度の捩れ配向をなすことになる。こ
のような場合において、たとえば偏光板17,18は、それ
ぞれの偏光軸の方向が、互いに平行または垂直となるよ
うに配設される。
An alignment film (not shown) is formed on the transparent substrates 12 and 15 so as to cover the surfaces facing the respective liquid crystal layers, and alignment processing is performed, for example, at an angle of 90 degrees with each other. Thereby, the liquid crystal molecules constituting the liquid crystal layer are:
A 90-degree twist alignment is formed between the alignment films. In such a case, for example, the polarizing plates 17 and 18 are arranged such that the directions of the respective polarization axes are parallel or perpendicular to each other.

複数の透明電極16には、順次的に、かつ循環的に走査
パルスが与えられる。また、複数の信号線14の一方側の
端部14aからは、走査パルスが印加される透明電極16に
対応する映像信号に基づく信号電圧が並列に与えられ
る。このようにして液晶表示装置11では、各透明電極16
に対応する複数の画素電極13毎に、いわば時分割駆動さ
れる。いわゆるマルチプレクス方式によって表示駆動が
行われて映像の表示が行われる。
A scanning pulse is sequentially and cyclically applied to the plurality of transparent electrodes 16. From one end 14a of each of the plurality of signal lines 14, a signal voltage based on a video signal corresponding to the transparent electrode 16 to which the scanning pulse is applied is applied in parallel. Thus, in the liquid crystal display device 11, each transparent electrode 16
Are time-divisionally driven for each of the plurality of pixel electrodes 13 corresponding to. Display driving is performed by a so-called multiplex method to display an image.

信号線14は、後述する第2図の製造工程にて詳細説明
するごとく、たとえばアルミニウム、金、銀、あるいは
これらを含む合金を材料とする芯線141と、この芯線141
を被覆して形成され、チタン、タンタル、クロム、ある
いはこれらを含む合金を材料とする被覆層142とから構
成されている。アルミニウム、金、銀、あるいはこれら
を含む合金は、その電気抵抗が充分に低く、またチタ
ン、タンタル、クロム、あるいはこれらを含む合金は酸
やアルカリなどのエッチング液に対して良好な耐性を有
しており、さらに温度、湿度の変化、およびエージング
に対する耐性、すなわち耐候性が良好である。したがっ
て前述のようにして構成される信号線14は、比較的低い
電気抵抗を有して形成され、また液晶表示装置の製造の
工程において浸食されたり、また性質が変化したりする
ことがない。
As will be described in detail later in the manufacturing process of FIG. 2, the signal line 14 includes a core wire 141 made of, for example, aluminum, gold, silver, or an alloy containing these, and
And a coating layer 142 made of titanium, tantalum, chromium, or an alloy containing them. Aluminum, gold, silver or alloys containing them have sufficiently low electric resistance, and titanium, tantalum, chromium or alloys containing these have good resistance to etching solutions such as acids and alkalis. In addition, resistance to changes in temperature and humidity and aging, that is, weather resistance is good. Therefore, the signal line 14 configured as described above is formed with a relatively low electric resistance, and is not eroded or changed in properties during the manufacturing process of the liquid crystal display device.

第2図は、信号線14をパターン形成する工程を示す断
面図である。透明基板12の一方側の表面に、たとえばア
ルミニウムからなる芯線141がパターン形成される。そ
のような状態で透明基板12の前記芯線141がパターン形
成される側の表面全体に、ネガ型フォトレジスト20が塗
布される。このような状態は、第2図(1)に示されて
いる。この状態から透明基板12の背面側、すなわち芯線
141がパターン形成される側とは反対側から、第2図
(1)図示矢符21方向に光が照射される。
FIG. 2 is a sectional view showing a step of patterning the signal line 14. A core wire 141 made of, for example, aluminum is pattern-formed on one surface of the transparent substrate 12. In such a state, the negative photoresist 20 is applied to the entire surface of the transparent substrate 12 on the side where the core wire 141 is patterned. Such a state is shown in FIG. 2 (1). From this state, the back side of the transparent substrate 12, that is, the core wire
Light is irradiated in the direction of arrow 21 shown in FIG. 2A from the side opposite to the side on which the pattern 141 is formed.

次に、露光されたネガ型フォトレジスト20を現像す
る。このとき、現像時間あるいは現像液濃度を通常より
増加させ、過現像(芯線によって露光時に遮光されてい
た直上部のフォトレジスト以外にその側方の露光硬化し
たフォトレジスト領域も一部余分に現像除去される現像
を称す。)によってレジスト抜き幅22(第2図(2)参
照)が、芯線141の幅23よりも大きくなるように調整す
る。現像後の状態は、第2図(2)に示されている。
Next, the exposed negative photoresist 20 is developed. At this time, the developing time or the developer concentration is increased more than usual. Is adjusted so that the resist removal width 22 (see FIG. 2 (2)) is larger than the width 23 of the core wire 141. The state after the development is shown in FIG.

このような状態から、透明基板12の芯線141およびネ
ガ型フォトレジスト20が形成された側の露出する全表面
を被覆して、被覆層142の材料から成る金属材料膜24が
被着される。そのような状態は、第2図(3)に示され
ている。
From such a state, the metal material film 24 made of the material of the coating layer 142 is applied to cover the entire exposed surface on the side where the core wire 141 and the negative photoresist 20 of the transparent substrate 12 are formed. Such a state is shown in FIG. 2 (3).

この状態からネガ型フォトレジスト20を剥離する、い
わゆるリフトオフの方法によって、被覆層142がパター
ン形成される。そのような状態は、第2図(4)に示さ
れている。
The cover layer 142 is patterned by a so-called lift-off method of peeling the negative photoresist 20 from this state. Such a state is shown in FIG. 2 (4).

第3図には、信号線14を透明基板12上にパターン形成
するための他の方法が示されている。すなわち、透明基
板12上に芯線141がパターン形成された状態で、透明基
板12の前記芯線141が形成される側の表面を被覆して、
ネガ型フォトレジスト20が塗布され、そのような状態で
透明基板12の背後側、すなわち芯線141がパターン形成
される側とは反対側から、光が矢符25方向に照射され
る。このとき透明基板12の芯線141とは反対側には、光
散乱板26が配置される。これによって、芯線141の近傍
の露光量を比較的少なくすることができるため、この後
の現像工程において前述のような過現像を行う必要がな
い。
FIG. 3 shows another method for patterning the signal line 14 on the transparent substrate 12. That is, in a state where the core wire 141 is patterned on the transparent substrate 12, covering the surface of the transparent substrate 12 on the side where the core wire 141 is formed,
A negative photoresist 20 is applied, and in such a state, light is irradiated in the direction of arrow 25 from the back side of the transparent substrate 12, that is, the side opposite to the side on which the core wire 141 is patterned. At this time, the light scattering plate 26 is arranged on the side of the transparent substrate 12 opposite to the core wire 141. As a result, the exposure amount in the vicinity of the core wire 141 can be relatively reduced, so that it is not necessary to perform the above-described overdevelopment in the subsequent development process.

以上のように本実施例においては、信号線14は比較的
低電気抵抗の金属材料から成る芯線141と、この芯線141
を被覆して形成され、耐蝕性および耐候性の高い金属材
料から成る被覆層142とから構成されるようにしてい
る。これによって、耐蝕性および耐候性が損なわれるこ
となく、低電気抵抗の信号線14を構成することができ、
したがって、信号線14に関する容量の充電時定数を小さ
くすることができる。
As described above, in the present embodiment, the signal line 14 includes the core 141 made of a metal material having a relatively low electrical resistance, and the core 141
And a coating layer 142 made of a metal material having high corrosion resistance and high weather resistance. As a result, the signal line 14 having a low electric resistance can be configured without impairing the corrosion resistance and the weather resistance,
Therefore, the charging time constant of the capacitance related to the signal line 14 can be reduced.

これによって液晶表示装置11において、その表示特性
が格段に向上される。さらに、信号線14が低電気抵抗で
あるために、液晶表示装置11が比較的大形である場合に
おいても、良好な表示特性を得ることができるようにな
る。
Thus, the display characteristics of the liquid crystal display device 11 are significantly improved. Further, since the signal line 14 has a low electric resistance, good display characteristics can be obtained even when the liquid crystal display device 11 is relatively large.

考案の効果 以上のように本考案に従えば、信号線は、耐蝕性およ
び耐候性を損なうことなく、低電気抵抗に構成されるよ
うになり、したがって液晶表示装置においてその表示特
性を格段に向上することができる。さらに信号線が低電
気抵抗に構成されることにより、液晶表示装置の大型化
に伴って信号線が表示画面の開口率を低下させるという
不都合な問題を生ずることなく表示特性が劣化すること
はない。
Effect of the Invention As described above, according to the present invention, the signal line is configured to have a low electric resistance without deteriorating the corrosion resistance and the weather resistance, and therefore, the display characteristics of the liquid crystal display device are significantly improved. can do. Further, since the signal lines are configured to have a low electric resistance, the display characteristics do not deteriorate without the disadvantage that the signal lines lower the aperture ratio of the display screen as the size of the liquid crystal display device increases. .

すなわち本考案では特に、低抵抗金属材料である芯線
を、耐蝕性および耐候性の優れた被覆層で全面に被覆す
ることを特徴とする。したがって芯線部分の全面を保護
することができるので、液晶表示素子製造における金属
配線形成後の工程において、顕著な耐蝕性および耐候性
が得られる。
That is, the present invention is characterized in that the core wire, which is a low-resistance metal material, is entirely coated with a coating layer having excellent corrosion resistance and weather resistance. Therefore, since the entire surface of the core wire portion can be protected, remarkable corrosion resistance and weather resistance can be obtained in the step after the formation of the metal wiring in the production of the liquid crystal display device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本考案の一実施例である液晶表示装置11の基本
的な構成を示す斜視図、第2図は透明基板12上に信号線
14を形成する工程を示す断面図、第3図は信号線14を形
成する他の工程を示す断面図、第4図は典型的な先行技
術の液晶表示装置1の基本的な構成を示す斜視図、第5
図は他の先行技術において用いられる信号線4の構成を
拡大して示す斜視図である。 11…液晶表示装置、12,15…透明基板、13…画素電極、1
4…信号線、16…透明電極、20…ネガ型フォトレジス
ト、141…芯線、142…被覆層
FIG. 1 is a perspective view showing a basic structure of a liquid crystal display device 11 according to an embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a process for forming the signal line 14, FIG. 3 is a cross-sectional view showing another process for forming the signal line 14, and FIG. 4 is a perspective view showing a basic configuration of a typical prior art liquid crystal display device 1. Figure, fifth
The figure is an enlarged perspective view showing a configuration of a signal line 4 used in another prior art. 11: liquid crystal display device, 12, 15, transparent substrate, 13: pixel electrode, 1
4 ... Signal line, 16 ... Transparent electrode, 20 ... Negative photoresist, 141 ... Core wire, 142 ... Coating layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭55−138259(JP,A) 特開 昭60−9167(JP,A) 特公 昭51−3194(JP,B1) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-55-138259 (JP, A) JP-A-60-9167 (JP, A) JP-B-51-3194 (JP, B1)

Claims (1)

(57)【実用新案登録請求の範囲】(57) [Scope of request for utility model registration] 【請求項1】二枚の対向する基板間に液晶が充填され、
一方の基板の内面には、行列状に配列された複数の画素
電極と該画素電極の配列間隙内のそれぞれに配置され該
画素電極を行方向に沿って共通接続する複数本の信号線
とがパターン形成され、他方の基板の内面には、前記画
素電極に対面し列方向に沿って平行配列された複数本の
電極がパターン形成され、該電極及び前記画素電極に選
択的に供給される駆動電圧によって前記液晶が画素単位
で表示駆動される液晶表示装置において、 前記画素電極には、前記一方の基板の周辺から前記信号
線の端に供給される駆動電圧が前記信号線を介してそれ
ぞれ伝達され、 前記信号線は、耐蝕性及び耐候性の高い金属材料からな
る被覆層と該被覆層より電気抵抗の低い金属材料からな
る芯線とで構成され、 前記被覆層は前記芯線表面に沿って前記芯線表面を被覆
してなりかつ前記被覆層と前記芯線の断面はともに四角
形状に成形され、前記芯線の両側方に位置する前記被覆
層の厚さは、前記芯線形成後に堆積したフォトレジスト
の露光現像で生じる過現像による該フォトレジストと前
記芯線との間の生成間隙に略対応していることを特徴と
する液晶表示装置。
A liquid crystal is filled between two opposing substrates,
On the inner surface of one of the substrates, a plurality of pixel electrodes arranged in a matrix and a plurality of signal lines arranged in the arrangement gap of the pixel electrodes and commonly connecting the pixel electrodes along the row direction are provided. On the inner surface of the other substrate, a plurality of electrodes facing the pixel electrodes and arranged in parallel along the column direction are patterned, and a drive is selectively supplied to the electrodes and the pixel electrodes. In a liquid crystal display device in which the liquid crystal is displayed and driven in a pixel unit by a voltage, a driving voltage supplied from the periphery of the one substrate to an end of the signal line is transmitted to the pixel electrode via the signal line. The signal line is composed of a coating layer made of a metal material having high corrosion resistance and weather resistance, and a core wire made of a metal material having a lower electric resistance than the coating layer, and the coating layer is formed along the surface of the core wire. Core table The coating layer and the cross section of the core wire are both formed into a square shape, and the thickness of the coating layer located on both sides of the core wire is determined by exposure and development of a photoresist deposited after the formation of the core wire. A liquid crystal display device substantially corresponding to a generated gap between the photoresist and the core wire caused by overdeveloping.
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JPS609167A (en) * 1983-06-28 1985-01-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor device and manufacture thereof

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