JP2540331B2 - トリチウムの製造方法 - Google Patents

トリチウムの製造方法

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  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Manufacturing Of Micro-Capsules (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はトリチウムの製造方法に関する。
（発明が解決しようとする問題点） リチウム化合物を直接装荷した金属キャプセルを原子
炉等の中性子場内で照射してトリチウムを生成する場
合、キャプセルの温度が数百度まで上昇すると、トリチ
ウム透過率が大きくなり、生成されたトリチウムが金属
キャプセルの金属壁を透過してキャプセル外に放出する
心配がある。
（問題点を解決するための手段） 本発明は、照射期間中の雰囲気温度が数百度まで上昇
しても、トリチウムがキャプセルから外部へ放出する可
能性を極めて小さくし、更にトリチウム生成終了後、こ
れを中性子場から取り出し、容易にトリチウムを回収す
ることによって、トリチウムの製造を可能としたもので
ある。
キャプセルの構造は、第１図に示すように、リチウム
化合物の外側に１層、或いは複数層のトリチウム透過率
が極めて小さいパイロカーボン層を施したものである。
このようにパイロカーボン層を設けることにより、生
成されたトリチウムは、照射期間中パイロカーボン層内
側のリチウム化合物内に確実に保持されるので、外部放
出による生成量の損失及び外部雰囲気の汚染を防止する
ことができる。また、トリチウム生成終了後、中性子場
からこれを取り出し、パイロカーボン層を破壊し、或い
は破壊せずに、高周波誘導炉などの高温加熱器で千数百
度まで加熱することにより容易にトリチウムを放出さ
せ、回収することによりトリチウムを製造することが可
能である。なお、パイロカーボン層を破壊せずにトリチ
ウムを回収する場合には、再びこの破壊粒子を中性子場
内に装荷してトリチウムを繰り返し製造することが可能
である。
【図面の簡単な説明】
第１図は、リチウム化合物に２層のパイロカーボン層を
施した粒子の見取り図である。 図において、 １はリチウム化合物、 ２は低密度パイロカーボン層、 ３は高密度パイロカーボン層 である。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】核融合炉、或いは原子炉等の中性子場内で
    リチウム化合物をパイロカーボン層で被覆した粒子を用
    いトリチウムを生成し、被覆層内部に留め、中性子場外
    で該被覆粒子の被覆を破壊し、或いは破壊せずに、高温
    加熱してトリチウムを放出させ、回収することから成る
    トリチウムの製造方法。
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JPS5923300A (ja) * 1982-07-29 1984-02-06 三菱原子力工業株式会社 トリチウムタ−ゲツト
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