JP2536574B2 - Hybrid IC resin coating method - Google Patents

Hybrid IC resin coating method

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JP2536574B2
JP2536574B2 JP63024841A JP2484188A JP2536574B2 JP 2536574 B2 JP2536574 B2 JP 2536574B2 JP 63024841 A JP63024841 A JP 63024841A JP 2484188 A JP2484188 A JP 2484188A JP 2536574 B2 JP2536574 B2 JP 2536574B2
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  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、基板上に集積回路(ICという。)やチップ
コンデンサ等の電子回路部品を実装してなるハイブリッ
ドICに樹脂コーティングを施す方法に関するものであ
る。
The present invention relates to a method of applying resin coating to a hybrid IC formed by mounting electronic circuit components such as integrated circuits (referred to as IC) and chip capacitors on a substrate. It is a thing.

〈従来の技術〉 ハイブリッドICは、周知のように、アルミナやSiCあ
るいはホーロー等からなる基板上に厚膜導体回路を形成
し、さらにICやチップコンデンサ等の電子回路部品を実
装したもので、前記基板及び電子回路部品は、シリコー
ン系、エポキシ系、ウレタン系等の各種樹脂でコーティ
ング、いわゆるパッケージ化され、耐湿性及び耐衝撃性
等の信頼性が高められている。
<Prior Art> As is well known, a hybrid IC is one in which a thick film conductor circuit is formed on a substrate made of alumina, SiC, enamel, etc., and electronic circuit parts such as an IC and a chip capacitor are mounted. Substrates and electronic circuit components are coated with various resins such as silicone-based, epoxy-based, and urethane-based resins, that is, packaged, and reliability such as moisture resistance and impact resistance is improved.

前記樹脂のコーティングには、ディップコーティング
法が採用される。すなわち、第10図に示すように、ハイ
ブリッドIC1のリード端子2を上向きにしてハンガー等
(図示省略)に吊下げた状態(同図a状態参照)で、同
IC1のチップ部品やIC等の電子回路部品3を実装した基
板4を、樹脂槽5内の液状樹脂6に浸漬して(同図b状
態参照)引上げた後(同図c状態参照)、そのIC1を加
熱することにより、樹脂層7が乾燥硬化される(同図d
状態参照)。なお、ハイブリッドIC1のディップコーテ
ィングについては、例えば、実開昭57−94903号公報、
特開昭57−133603号公報に開示されている。
A dip coating method is used for coating the resin. That is, as shown in FIG. 10, when the lead terminal 2 of the hybrid IC 1 is hung up on a hanger or the like (not shown) (see state a in FIG. 10),
A substrate 4 on which a chip component of IC1 or an electronic circuit component 3 such as an IC is mounted is dipped in a liquid resin 6 in a resin tank 5 (see state b in the same figure) and pulled up (see state c in the same figure). The resin layer 7 is dried and hardened by heating the IC1 (see FIG.
See state). Regarding the dip coating of the hybrid IC1, for example, Japanese Utility Model Publication No. 57-94903,
It is disclosed in JP-A-57-133603.

しかし、前記樹脂層7の硬化にあたり、ハイブリッド
IC1は、樹脂層7が硬化するまでにリード端子2に垂れ
て付着することのないように、リード端子2を上側にし
た状態に保持されたまま、加熱されることによって、樹
脂層7が乾燥硬化される。
However, when the resin layer 7 is cured, the hybrid
The IC 1 is heated while the lead terminal 2 is held upward so that the IC 1 does not hang down and adhere to the lead terminal 2 before the resin layer 7 is cured. Hardened.

このとき、樹脂層7が硬化完了するまでに、樹脂層7
が重力の作用によって下方へ垂れ(いわゆる液だれ)
し、その樹脂がリード端子2とは反対方向、すなわち基
板4の先端部に多く付着することになる(第10図d参
照)。
At this time, by the time the curing of the resin layer 7 is completed, the resin layer 7
Drips downward due to the action of gravity (so-called dripping)
However, a large amount of the resin adheres to the direction opposite to the lead terminal 2, that is, to the tip of the substrate 4 (see FIG. 10d).

このため、第11図に示すように、回路基板8上に上記
ハイブリッドIC1が実装された場合、ハイブリッドIC1の
重心が高い位置にくることになり、耐振動性に不利とな
る。特に、シングルインラインパッケージ型(SIP型)
ハイブリッドICでは、その形態からして耐振動性に関し
非常に不利であり、その対策が切望されている。
Therefore, as shown in FIG. 11, when the hybrid IC1 is mounted on the circuit board 8, the center of gravity of the hybrid IC1 is located at a high position, which is disadvantageous in vibration resistance. Especially, single in-line package type (SIP type)
The hybrid IC is extremely disadvantageous in terms of vibration resistance due to its form, and countermeasures against it are desired.

さらに、車両、航空機等の移動体に搭載されるハイブ
リッドICには、より高い耐振動性が求められる。
Furthermore, higher vibration resistance is required for hybrid ICs mounted on vehicles, vehicles, and other moving bodies.

また、ハイブリッドICの耐振動性を向上する従来技術
としては、例えば、特開昭57−94903号公報、特開昭61
−275670号公報がある。
Further, as a conventional technique for improving the vibration resistance of the hybrid IC, for example, JP-A-57-94903, JP-A-61-61
-275670 is available.

前者のものは、電子部品に樹脂を被覆する際に、振動
を加えることにより、被覆される樹脂被覆を均一な厚さ
にするものである。
In the former case, vibration is applied when the resin is coated on the electronic component so that the resin coating to be coated has a uniform thickness.

また、後者のものは、SIP型ハイブリッドICの表面に
ダミー素子をわざと実装して、見かけのICの重心位置を
低くするものである。
In the latter, the dummy element is purposely mounted on the surface of the SIP hybrid IC to lower the apparent center of gravity of the IC.

〈発明が解決しようとする課題〉 上記した前者の電子部品に振動を加えるものでは、樹
脂が完全に硬化するまでに、少なからず液だれが生じ、
耐振動性を向上するに充分とは言えない。また、電子部
品に振動を加えるために複雑な機構装置が必要であり、
コストも高くつくことになる。
<Problems to be Solved by the Invention> In the former one that applies vibration to the electronic component, a considerable amount of dripping occurs until the resin is completely cured,
It is not enough to improve the vibration resistance. In addition, a complicated mechanical device is required to apply vibration to electronic parts,
The cost will be high.

また、後者のダミー素子を設けるものでは、部品点
数、及び重量の増加を招くことになり、これまた好まし
い対策とは言えない。
Further, in the latter case where the dummy element is provided, the number of parts and the weight are increased, which is not a preferable measure.

なお、コーティングした直後にリード端子を下向きに
して樹脂層を乾燥硬化させることが安易に考えられる
が、これでは、流動した樹脂でリード端子が覆われてし
まい、ハイブリッドICを回路基板上へ実装するとき、す
なわちはんだ付けする場合に、はんだが前記樹脂ではじ
かれてしまって、そのはんだ付けが困難となり、実用に
供することはできない。
It is easy to dry and cure the resin layer with the lead terminals facing down immediately after coating, but this will cover the lead terminals with the flowing resin, and mount the hybrid IC on the circuit board. At this time, that is, when soldering, the solder is repelled by the resin, which makes soldering difficult and cannot be put to practical use.

そこで、本発明の目的は、上記した従来の技術におけ
る問題点を解決することを課題としている。
Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems in the conventional technique.

〈課題を解決するための手段〉 前記課題を解決するための本発明は、 ハイブリッドICに液状樹脂をコーティングする工程
と、 所定温度以下でリード端子を上向きにしかつ所定温度
以上でリード端子を下向きとする反転機能を備えた治具
により前記ハイブリッドICを支持した状態で、所定温度
以下でリード端子を上向きにして乾燥する工程と、 乾燥途中において所定温度以上に加熱することで治具
の反転機能により前記ハイブリッドICを反転させ、リー
ド端子を下向きにして乾燥する工程と、 を備えたハイブリッドICの樹脂コーティング方法であ
る。
<Means for Solving the Problem> The present invention for solving the above-mentioned problems includes a step of coating a liquid resin on a hybrid IC, and a lead terminal facing upward at a predetermined temperature or lower and a lead terminal facing downward at a predetermined temperature or higher. While the hybrid IC is supported by a jig equipped with a reversing function, the process of drying the lead terminals facing upward at a specified temperature or lower, and the reversing function of the jig by heating above the specified temperature during drying And a resin coating method for the hybrid IC, comprising the step of inverting the hybrid IC and drying with the lead terminal facing downward.

〈作用〉 上記した手段によれば、液状樹脂がコーティングされ
たハイブリッドICを治具に支持した状態で、所定温度以
下でリード端子を上向きにして乾燥することで、液状樹
脂の樹脂層の表面を乾燥する。その後、所定温度以上に
加熱することで治具の反転機能により前記ハイブリッド
ICを反転させ、リード端子を下向きにして乾燥すること
で、前記樹脂層の内部を乾燥硬化する。
<Operation> According to the above-mentioned means, the surface of the resin layer of the liquid resin is dried by supporting the hybrid IC coated with the liquid resin on the jig and drying it with the lead terminal facing upward at a predetermined temperature or lower. dry. After that, by heating to a temperature above a certain temperature, the hybrid can be operated by the inversion function of the jig.
The inside of the resin layer is dried and hardened by inverting the IC and drying with the lead terminal facing downward.

このように乾燥途中においてハイブリッドICを反転さ
せることにより、樹脂層の乾燥した表面によってリード
端子への樹脂の垂れ落ちを防止しながら、樹脂層の内部
の樹脂を重力を利用して流動させることで、ハイブリッ
ドICの重心点を低い位置におくことができる。
In this way, by inverting the hybrid IC during the drying process, the resin inside the resin layer can flow using gravity while preventing the resin from dripping onto the lead terminals due to the dried surface of the resin layer. , The center of gravity of the hybrid IC can be set at a low position.

〈実施例〉 以下、本発明の一実施例を図面にしたがって説明す
る。なお、樹脂コーティング前のハイブリッドIC11は、
第5図aに示すように、リード端子12を有する基板14
に、チップ部品やIC等の電子回路部品13を実装してな
る。
<Example> An example of the present invention will be described below with reference to the drawings. The hybrid IC11 before resin coating is
A substrate 14 having lead terminals 12 as shown in FIG.
An electronic circuit component 13 such as a chip component or an IC is mounted on the.

ハイブリッドIC11のコーティング方法を説明するにあ
たり、まず、ハイブリッドIC11を支持する形状記憶合金
製治具20について、第2〜4図を参照して説明する。治
具20は、一端部に基部21を有し他端部にクリップ部22を
有する四角形平板状をなしている。基部21は、支持台25
の上端に設けた取付溝26に着脱可能に嵌合される。ま
た、クリップ部22には、ハイブリッドIC11のリード端子
12の端部がその弾性を利用して着脱可能に差込まれる。
In describing the coating method of the hybrid IC 11, first, the shape memory alloy jig 20 that supports the hybrid IC 11 will be described with reference to FIGS. The jig 20 has a rectangular flat plate shape having a base portion 21 at one end and a clip portion 22 at the other end. The base 21 has a support base 25.
Is removably fitted in a mounting groove 26 provided at the upper end of the. In addition, the clip 22 has a lead terminal of the hybrid IC 11.
12 ends are detachably inserted by utilizing the elasticity.

しかして、治具20は、所定の変形温度、本例では条件
温度TAにおいて、それ以下の低温状態と、それ以上の高
温状態とに変形する。この治具20は、低温状態において
は、第2図に示すように、基部21から先端に向けて逆U
字状に折曲し、先端部のクリップ部22を下方へ指向させ
た状態(この状態を形状PBという。)に変形し、また、
高温状態においては、第3図に示すように、基部21から
先端に向けて垂立状となり、先端部のクリップ部22が上
方へ指向させた状態(この状態を形状PAという。)に変
形しうる形状記憶合金によって形成される。すなわち、
形状記憶合金は、その特性として、最初の条件温度TAで
形状PAを記憶し、異なる条件温度TB(温度TA以下)で別
の形状PBにした場合、条件温度TB下では形状PBに変形
し、条件温度TAにすると、形状PBから形状PAに戻り変形
する。しかして、条件温度TAは、ハイブリッドIC11にコ
ーティングされる樹脂層17の指触乾燥温度TC、すなわち
樹脂層17の表面に指先を触れても指紋が付かない程度の
乾燥状態でかつ内部がまだ未硬化の状態(これを表面乾
燥状態ともいう。)の温度よりもいくらか高い温度に設
定される。
Then, the jig 20 deforms at a predetermined deformation temperature, which is the condition temperature TA in this example, into a low temperature state below that and a high temperature state above it. In a low temperature state, this jig 20 has an inverted U shape from the base portion 21 toward the tip as shown in FIG.
It is bent into a letter shape and is deformed into a state in which the clip portion 22 at the tip portion is directed downward (this state is referred to as shape PB).
In the high temperature state, as shown in FIG. 3, the base portion 21 becomes vertical toward the tip, and the clip portion 22 of the tip portion is deformed to a state in which it is directed upward (this state is referred to as shape PA). It is made of a shape memory alloy. That is,
As a characteristic of the shape memory alloy, when the shape PA is memorized at the first condition temperature TA and another shape PB is made at a different condition temperature TB (temperature TA or less), the shape memory alloy is deformed to the shape PB under the condition temperature TB, When the temperature reaches the condition temperature TA, the shape PB returns to the shape PA and is deformed. However, the condition temperature TA is a finger touch drying temperature TC of the resin layer 17 coated on the hybrid IC 11, that is, a dry state in which a fingerprint is not attached even if the fingertip is touched on the surface of the resin layer 17, and the inside is not yet formed. The temperature is set to be slightly higher than the temperature of the cured state (also referred to as the surface dry state).

次に、ハイブリッドIC11を加熱するためのバッチ型硬
化炉30を、第1図に基づいて説明する。
Next, a batch type curing furnace 30 for heating the hybrid IC 11 will be described with reference to FIG.

加熱エリア32を備えた外郭ケース31内には、ヒーター
33及びフアン34が組込まれる。外郭ケース31の加熱エリ
ア32には、前記治具20を備えた支持台25を載置可能な棚
板35が設けられる。なお、加熱エリア32への支持台25の
出入れは、図示しない開閉扉を介して行われる。
Inside the outer case 31 with heating area 32, the heater
33 and Juan 34 are incorporated. The heating area 32 of the outer case 31 is provided with a shelf plate 35 on which the support 25 including the jig 20 can be placed. The support table 25 is put in and taken out of the heating area 32 via an opening / closing door (not shown).

前記フアン34の回転によって、ヒーター33の熱が加熱
エリア32内に送気されると共に、加熱エリア32内の雰囲
気が攪拌される。ヒーター33は、加熱温度を切換え調節
可能である。しかして、ヒーター33の出力は、加熱エリ
ア32の雰囲気温度が第8図に示す加熱プロファイルに沿
うように調節される。加熱プロファイルは、加熱開始温
度TBから前記指触乾燥温度TCに加熱された後、その温度
TCが所定時間ta保持された後、硬化温度TDに加熱され、
その温度TDを所定時間tb保持された後、その加熱が停止
される。なお、例えば、樹脂層17が熱硬化性シリコーン
樹脂の場合、温度TAは約80℃、指触乾燥温度TCは約70
℃、硬化温度TDは約120℃、時間taは約30分、時間tbは
約60分に設定される。
By the rotation of the fan 34, the heat of the heater 33 is sent to the heating area 32 and the atmosphere in the heating area 32 is agitated. The heater 33 can switch and adjust the heating temperature. Therefore, the output of the heater 33 is adjusted so that the ambient temperature of the heating area 32 follows the heating profile shown in FIG. After the heating profile is heated from the heating start temperature TB to the touch drying temperature TC,
After TC is held for a predetermined time ta, it is heated to the curing temperature TD,
After holding the temperature TD for a predetermined time tb, the heating is stopped. Note that, for example, when the resin layer 17 is a thermosetting silicone resin, the temperature TA is about 80 ° C and the touch-drying temperature TC is about 70.
C., the curing temperature TD is set to about 120.degree. C., the time ta is set to about 30 minutes, and the time tb is set to about 60 minutes.

次に、上記した治具20及びバッチ型硬化炉30を使用し
て、ハイブリッドIC11に樹脂、本例では熱硬化性シリコ
ーン樹脂をコーティングする方法について説明する。
Next, a method of coating the hybrid IC 11 with a resin, in this example, a thermosetting silicone resin, using the jig 20 and the batch-type curing furnace 30 described above will be described.

まず、ハイブリッドIC11は、従来と同様にして、ディ
ップコーティング法によって液状樹脂に浸漬される。す
なわち、第5図に示すように、リード端子12を上向きに
してハンガー等(図示省略)に吊下げた状態(同図a状
態参照)で、同IC11のチップ部品やIC等の電子回路部品
13を実装した基板14を、樹脂槽15内の液状樹脂(熱硬化
性シリコーン樹脂)16に浸漬し(同図b状態参照)で引
上げられる(同図c状態参照)。浸漬処理されたハイブ
リッドIC11は、リード端子12が上向き状態のまま、室温
でしばらく放置される(第5図d状態参照)。なお、こ
のディップコーティング工程以前において、ハイブリッ
ドIC11のリード端子12に予め治具20が取付けられる。
First, the hybrid IC 11 is immersed in a liquid resin by a dip coating method as in the conventional case. That is, as shown in FIG. 5, in a state in which the lead terminal 12 is hung up on a hanger or the like (not shown) (see the state a in FIG. 5), the chip parts of the IC 11 and electronic circuit parts such as the IC are shown.
A substrate 14 on which 13 is mounted is dipped in a liquid resin (thermosetting silicone resin) 16 in a resin tank 15 (see state b in FIG. 13) and pulled up (see state c in FIG. 16). The hybrid IC 11 that has been subjected to the immersion treatment is left for a while at room temperature with the lead terminal 12 facing upward (see the state in FIG. 5D). Before this dip coating step, the jig 20 is attached to the lead terminal 12 of the hybrid IC 11 in advance.

そして、ハイブリッドIC11に取付けた治具20の基部21
が第2図及び第4図に示すように支持台25の取付溝26に
嵌合され、かつ、硬化炉30の棚板35上に載置される(第
1図の実線状態参照)。
Then, the base 21 of the jig 20 attached to the hybrid IC 11
2 is fitted into the mounting groove 26 of the support base 25 as shown in FIGS. 2 and 4, and is placed on the shelf plate 35 of the curing furnace 30 (see the solid line state in FIG. 1).

硬化炉30の開閉扉が閉止された後、ヒーター33及びフ
アン34が運転され、加熱エリア32内の雰囲気が第8図に
示す加熱プロファイルに沿って昇温される。
After the opening / closing door of the curing furnace 30 is closed, the heater 33 and the fan 34 are operated, and the atmosphere in the heating area 32 is heated according to the heating profile shown in FIG.

そして、加熱エリア32内の雰囲気温度が、指触乾燥温
度TCである70℃で、時間ta(約30分)保持されること
で、ハイブリッドIC11の樹脂層17は、指触乾燥状態、す
なわち表面乾燥状態となり、その樹脂の表面が乾燥した
状態であるが、一方、樹脂の内部には、まだ流動性が残
っている状態とされる。
Then, the atmosphere temperature in the heating area 32 is maintained at 70 ° C., which is the touch-drying temperature TC, for the time ta (about 30 minutes), so that the resin layer 17 of the hybrid IC 11 is in the touch-free state, that is, the surface. The resin is in a dry state, and the surface of the resin is in a dry state. On the other hand, fluidity still remains inside the resin.

その後、加熱エリア32内の雰囲気温度が徐々に上が
り、条件温度TAである80℃になると、治具20は、形状PB
から第3図に示す形状TAに変形し、ハイブリッドIC11を
そのリード端子12が下向きとなる状態に支持する(第1
図二点鎖線参照)。
After that, when the ambient temperature in the heating area 32 gradually rises to 80 ° C. which is the condition temperature TA, the jig 20 moves to the shape PB
To the shape TA shown in FIG. 3 to support the hybrid IC 11 with its lead terminal 12 facing downward (first
(See the chain double-dashed line in Fig.).

このようにしてハイブリッドIC12が反転されると、今
まで、基板14の先端方向へ流動しようとしていた樹脂
が、こんどは基板14の基端方向へ流動を始める。ただ
し、樹脂は、その表面がすでに指触乾燥状態になってい
るので、リード端子12に流動を起すことはない、即ち、
リード端子12がコーティング樹脂により、覆われてしま
うことはない。この樹脂層17の基板14の基部方向への流
動により、第3図に示すようにハイブリッドIC11の重心
点が低く位置におかれ、耐振動性が良好になる。
When the hybrid IC 12 is inverted in this manner, the resin that has been trying to flow toward the tip of the substrate 14 until now begins to flow toward the base of the substrate 14. However, since the surface of the resin is already dry to the touch, it does not cause flow to the lead terminals 12, that is,
The lead terminal 12 is not covered with the coating resin. By the flow of the resin layer 17 toward the base of the substrate 14, the center of gravity of the hybrid IC 11 is located at a low position as shown in FIG. 3, and the vibration resistance is improved.

さらに、雰囲気温度が上がり、硬化温度TDである約12
0℃で、時間tb(60分)保持されることにより、樹脂層1
7が完全に乾燥硬化される。すなわち、前記したように
ハイブリッドIC11の重心点が低い位置で樹脂層17が硬化
されるわけである。その後、硬化炉30から適宜ハイブリ
ッドIC11を取出すと共に治具20を取外せばよい。
Furthermore, the ambient temperature rises and the curing temperature TD is about 12
The resin layer 1 is retained at 0 ° C for a time tb (60 minutes).
7 is completely dry and cured. That is, as described above, the resin layer 17 is cured at the position where the center of gravity of the hybrid IC 11 is low. After that, the hybrid IC 11 may be appropriately taken out from the curing furnace 30 and the jig 20 may be removed.

以上のようにして、樹脂層17でコーティングされたハ
イブリッドIC11が製造される(第6図参照)。
As described above, the hybrid IC 11 coated with the resin layer 17 is manufactured (see FIG. 6).

このハイブリッドIC11を第7図に示すように回路基板
18上に実装した場合、重心点が低い位置にあるため、良
好な耐振動性が得られる。
This hybrid IC11 can be used as a circuit board as shown in FIG.
When mounted on the 18, the center of gravity is at a low position, so good vibration resistance can be obtained.

また、加熱温度により変形する形状記憶合金製治具20
を使用することにより、特別な機構装置や作業等を必要
とせず、安価なコストでかつ高い信頼性をもって、ハイ
ブリッドIC11を反転させることができる。また、形状記
憶合金製治具20は、繰り返し使用することができるため
ランニングコストも少なくて済む。
Also, the shape memory alloy jig 20 that deforms depending on the heating temperature
By using, it is possible to invert the hybrid IC 11 at a low cost and with high reliability without requiring a special mechanical device or work. Further, since the shape memory alloy jig 20 can be repeatedly used, the running cost can be reduced.

なお、本例におけるバッチ型硬化炉30によれば、棚板
35や治具20の数を増減することにより、任意の個数のハ
イブリッドIC11の加熱が行なえると共に、ひとたび加熱
エリア32内にハイブリッドIC11をセットすれば、所定の
加熱プロファイルに沿って加熱されることにより、加熱
途中に何ら作業を加えることなく、ハイブリッドIC11の
樹脂層17を乾燥硬化させることができる。
According to the batch type curing furnace 30 in this example, the shelf board
By increasing or decreasing the number of 35 and jigs 20, any number of hybrid ICs 11 can be heated, and once the hybrid ICs 11 are set in the heating area 32, they can be heated according to a predetermined heating profile. Thus, the resin layer 17 of the hybrid IC 11 can be dried and cured without any work during heating.

また、上記実施例のバッチ型硬化炉30に代えて、第9
図に示す連続型硬化炉40も考えられる。この硬化炉40
は、外郭ケース41内の加熱エリア42が指触乾燥ゾーン42
aと硬化ゾーン42bとに区画されており、各ゾーン42a,42
bの上部及び下部にそれぞれヒーター43が組込まれる。
なお、ヒーター43は、上部あるいは下部の一方に設ける
のみでも良い。
Further, instead of the batch-type curing furnace 30 of the above embodiment,
The continuous curing oven 40 shown is also conceivable. This curing oven 40
In the outer case 41, the heating area 42 is the touch dry zone 42.
a and a curing zone 42b, and each zone 42a, 42
Heaters 43 are incorporated in the upper and lower parts of b.
The heater 43 may be provided only on one of the upper part and the lower part.

さらに、外郭ケース41内の下部には、ベルトコンベヤ
44が設置される。ベルトコンベヤ44は、ベルト45の回転
によって、支持台25を図示左方から右方へと搬送、すな
わち入口41aから加熱エリア42の指触乾燥ゾーン42a及び
硬化ゾーン42bを通して出口41bへと搬送する。
In addition, a belt conveyor is installed at the bottom of the outer case 41.
44 will be installed. The belt conveyor 44 conveys the support base 25 from the left side to the right side in the figure by the rotation of the belt 45, that is, conveys it from the inlet 41a to the outlet 41b through the touch drying zone 42a and the curing zone 42b of the heating area 42.

そして、上記加熱エリア42の各ゾーン42a,42bの各ヒ
ーター43の出力を、ベルトコンベヤ44の搬送速度に合わ
せて、所定の加熱プロファイル(例えば、第8図参照)
を実現できるように設定しておけば、外郭ケース41の入
口41aから投入されるハイブリッドIC11は、前記バッチ
式硬化炉30の場合と同様にして加熱がなされることによ
り、重心点の低いハイブリッドIC11として出口41bから
搬出される。
Then, the output of each heater 43 in each zone 42a, 42b of the heating area 42 is adjusted to a predetermined heating profile in accordance with the conveyance speed of the belt conveyor 44 (see, for example, FIG. 8).
If it is set so as to be realized, the hybrid IC 11 charged from the inlet 41a of the outer case 41 is heated in the same manner as in the case of the batch-type curing furnace 30, so that the hybrid IC 11 has a low center of gravity. Is discharged from the exit 41b.

この連続型硬化炉40によっても、加熱途中に何ら作業
を加えることなく、ハイブリッドIC11を乾燥硬化させる
ことができる。
The continuous curing furnace 40 can also dry and cure the hybrid IC 11 without adding any work during heating.

なお、コーティングする液状樹脂としては、上記実施
例のシリコーン系樹脂の他、エポキシ系、ウレタン系、
アクリル系、ポリブタジエン系、フェノール系、ポリイ
ミド系等の樹脂を使うことができる。
As the liquid resin to be coated, in addition to the silicone resin of the above example, epoxy resin, urethane resin,
Acrylic, polybutadiene, phenol and polyimide resins can be used.

また、上記実施例では、治具20の形状を四角形平板状
としたが、当該ハイブリッドICを保持し、上記実施例で
述べた温度変化に伴う形状変化を行なえるものであれ
ば、その形状は四角形平板状の以外の形状であってもか
まわない。
Further, in the above-mentioned embodiment, the shape of the jig 20 is a quadrangular flat plate shape, but if the hybrid IC can be held and the shape change accompanying the temperature change described in the above-mentioned embodiment can be performed, the shape thereof is It may be a shape other than the rectangular flat plate shape.

〈発明の効果〉 すなわち本発明によれば、樹脂層の乾燥した表面によ
ってリード端子への樹脂の垂れ落ちを防止するとともに
ハイブリッドICの重心点を低い位置におくことができる
から、従来の方法による部品点数の増加及び重量の増加
といった不具合を招くことなく、耐振動性に有利なハイ
ブリッドICを得ることができる。
<Effects of the Invention> That is, according to the present invention, the dried surface of the resin layer can prevent the resin from dripping onto the lead terminals, and the center of gravity of the hybrid IC can be set at a low position. It is possible to obtain a hybrid IC that is advantageous in vibration resistance without causing problems such as an increase in the number of parts and an increase in weight.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1〜9図は本発明の一実施例を示すもので、第1図は
バッチ型硬化炉の略体断面図、第2図は支持台に取付け
た治具の所定温度以下の状態の一部破断側面図、第3図
は同治具の所定温度以上の状態の側面図、第4図は同治
具の斜視図、第5図はディップコーティング法を示す説
明図、第6図は硬化後のハイブリッドICの斜視図、第7
図はハイブリッドICの実装状態の断面図、第8図は加熱
プロファイルを示す線図、第9図は連続型硬化炉の略体
断面図である。第10図及び第11図は従来例を示すもの
で、第10図はディップコーティング法を示す説明図、第
11図はハイブリッドICの実装状態の断面図である。 11……ハイブリッドIC 12……リード端子 17……樹脂層 20……形状記憶合金製治具
1 to 9 show an embodiment of the present invention. FIG. 1 is a schematic sectional view of a batch-type curing furnace, and FIG. 2 is an example of a jig attached to a support table at a temperature lower than a predetermined temperature. Partly broken side view, FIG. 3 is a side view of the jig at a predetermined temperature or higher, FIG. 4 is a perspective view of the jig, FIG. 5 is an explanatory view showing a dip coating method, and FIG. Hybrid IC perspective view, 7th
The figure is a cross-sectional view of the mounted state of the hybrid IC, FIG. 8 is a diagram showing a heating profile, and FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of a continuous curing furnace. 10 and 11 show a conventional example, and FIG. 10 is an explanatory view showing the dip coating method,
FIG. 11 is a sectional view of the mounted state of the hybrid IC. 11 …… Hybrid IC 12 …… Lead terminal 17 …… Resin layer 20 …… Shape memory alloy jig

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】ハイブリッドICに液状樹脂をコーティング
する工程と、 所定温度以下でリード端子を上向きにしかつ所定温度以
上でリード端子を下向きとする反転機能を備えた治具に
より前記ハイブリッドICを支持した状態で、所定温度以
下でリード端子を上向きにして乾燥する工程と、 乾燥途中において所定温度以上に加熱することで治具の
反転機能により前記ハイブリッドICを反転させ、リード
端子を下向きにして乾燥する工程と、 を備えたハイブリッドICの樹脂コーティング方法。
1. A step of coating a liquid resin on a hybrid IC, and the hybrid IC is supported by a jig having a reversing function in which a lead terminal faces upward at a predetermined temperature or lower and a lead terminal faces downward at a predetermined temperature or higher. In this state, the process of drying the lead terminals facing upward at a predetermined temperature or lower, and heating the temperature above the predetermined temperature during drying to reverse the hybrid IC by the reversing function of the jig and dry the lead terminals downward. A hybrid IC resin coating method comprising the following steps:
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