JP2535028B2 - アミノプロピルアルコキシシラン類の製造方法 - Google Patents
アミノプロピルアルコキシシラン類の製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 32
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 23
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 4
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VXDHQYLFEYUMFY-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-en-1-amine Chemical compound CC(=C)CN VXDHQYLFEYUMFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- PUUULGNNRPBVBA-UHFFFAOYSA-N n-ethylprop-2-en-1-amine Chemical compound CCNCC=C PUUULGNNRPBVBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IOXXVNYDGIXMIP-UHFFFAOYSA-N n-methylprop-2-en-1-amine Chemical compound CNCC=C IOXXVNYDGIXMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DYUWTXWIYMHBQS-UHFFFAOYSA-N n-prop-2-enylprop-2-en-1-amine Chemical compound C=CCNCC=C DYUWTXWIYMHBQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 37
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 10
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 8
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 7
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HXJZEGBVQCRLOD-UHFFFAOYSA-N 1-triethoxysilylpropan-2-amine Chemical compound CCO[Si](CC(C)N)(OCC)OCC HXJZEGBVQCRLOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 4
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- -1 trioctyloxysilane Chemical compound 0.000 description 3
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-1,3-diene Chemical compound C1CC=CC=C1 MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N phosphine group Chemical group P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N (1z,3z)-cycloocta-1,3-diene Chemical compound C1CC\C=C/C=C\C1 RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYXHVRARDIDEHS-UHFFFAOYSA-N 1,5-cyclooctadiene Chemical compound C1CC=CCCC=C1 VYXHVRARDIDEHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004912 1,5-cyclooctadiene Substances 0.000 description 1
- KBRVQAUYZUFKAJ-UHFFFAOYSA-N 1-trimethoxysilylpropan-2-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)N KBRVQAUYZUFKAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQAAEGLATBQCKH-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCO[SiH](C)C Chemical compound CCCCCCCCO[SiH](C)C PQAAEGLATBQCKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000011157 advanced composite material Substances 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cis-cyclohexene Natural products C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URYYVOIYTNXXBN-UPHRSURJSA-N cyclooctene Chemical compound C1CCC\C=C/CC1 URYYVOIYTNXXBN-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000004913 cyclooctene Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 125000004989 dicarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)OCC GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)OC PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- YSLVSGVAVRTLAV-UHFFFAOYSA-N ethyl(dimethoxy)silane Chemical compound CC[SiH](OC)OC YSLVSGVAVRTLAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002527 isonitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- MDLRQEHNDJOFQN-UHFFFAOYSA-N methoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)C MDLRQEHNDJOFQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLLYUERXCMQNHH-UHFFFAOYSA-N methyl(dioctoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCO[SiH](C)OCCCCCCCC XLLYUERXCMQNHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005673 monoalkenes Chemical class 0.000 description 1
- JWAJUTZQGZBKFS-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylprop-2-en-1-amine Chemical compound CCN(CC)CC=C JWAJUTZQGZBKFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBCKRQRXNXQQPW-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylprop-2-en-1-amine Chemical compound CN(C)CC=C GBCKRQRXNXQQPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N norbornadiene Chemical compound C1=CC2C=CC1C2 SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FBEIPJNQGITEBL-UHFFFAOYSA-J tetrachloroplatinum Chemical compound Cl[Pt](Cl)(Cl)Cl FBEIPJNQGITEBL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- UCSBCWBHZLSFGC-UHFFFAOYSA-N tributoxysilane Chemical compound CCCCO[SiH](OCCCC)OCCCC UCSBCWBHZLSFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- OZWKZRFXJPGDFM-UHFFFAOYSA-N tripropoxysilane Chemical compound CCCO[SiH](OCCC)OCCC OZWKZRFXJPGDFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0801—General processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
Description
【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は、アミノプロピルアルコキシシラン類の製造
方法に関し、さらに詳しくは、ロジウムホスフィド錯体
を用いた、シランカップリング剤として用いられるアミ
ノプロピルアルコキシシラン類の製造方法に関する。
方法に関し、さらに詳しくは、ロジウムホスフィド錯体
を用いた、シランカップリング剤として用いられるアミ
ノプロピルアルコキシシラン類の製造方法に関する。
発明の技術的背景ならびにその問題点 シランカップリング剤は、分子内に有機官能性基と、
無機物と反応する加水分解性基とを持った化合物であ
る。このようなシランカップリング剤は、上記のような
官能性基を有するため、有機ポリマーとシリカ等の無機
物とを化学的に結合することができ、有機ポリマーの機
械的強度を飛躍的に向上させることができるので、先端
複合材料の開発に不可欠なものとして需要は拡大すると
考えられる。
無機物と反応する加水分解性基とを持った化合物であ
る。このようなシランカップリング剤は、上記のような
官能性基を有するため、有機ポリマーとシリカ等の無機
物とを化学的に結合することができ、有機ポリマーの機
械的強度を飛躍的に向上させることができるので、先端
複合材料の開発に不可欠なものとして需要は拡大すると
考えられる。
上記のようシランカップリング剤の1つとして、γ−
アミノプロピルアルコキシシラン類が用いられている。
このγ−アミノプロピルアルコキシシラン類は、N−置
換アリルアミンを含むアリルアミン類と、ヒドロシラン
類とのヒドロシリル化反応によって製造しうることが知
られている。
アミノプロピルアルコキシシラン類が用いられている。
このγ−アミノプロピルアルコキシシラン類は、N−置
換アリルアミンを含むアリルアミン類と、ヒドロシラン
類とのヒドロシリル化反応によって製造しうることが知
られている。
たとえば特開昭60−81189号公報には、アリルアミン
類とヒドロシラン類とを、塩化白金酸などの白金触媒を
用いて、無水炭酸ナトリウムなどの反応促進剤の存在下
に反応させることによるアミノアルコキシシラン類の製
造方法が開示されている。しかしながら、塩化白金酸な
どの白金触媒を用いて、アリルアミン類とヒドロシラン
類とを反応させると、γ−アミノプロピルアルコキシシ
ラン類(γ−体ということがある)に加えて多量のβ−
アミノプロピルアルコキシシラン類(β−体ということ
がある)が生成し、γ−体とβ−体との比は4〜6程度
となり、目的化合物としてのγ−体の選択率が低いとい
う問題点があった。なおγ−体とβ−体とを蒸留によっ
て分離しようとすると、かなり高い段数の蒸留塔が必要
となってしまうため、γ−体とβ−体とを蒸留によって
分離することは好ましくない。
類とヒドロシラン類とを、塩化白金酸などの白金触媒を
用いて、無水炭酸ナトリウムなどの反応促進剤の存在下
に反応させることによるアミノアルコキシシラン類の製
造方法が開示されている。しかしながら、塩化白金酸な
どの白金触媒を用いて、アリルアミン類とヒドロシラン
類とを反応させると、γ−アミノプロピルアルコキシシ
ラン類(γ−体ということがある)に加えて多量のβ−
アミノプロピルアルコキシシラン類(β−体ということ
がある)が生成し、γ−体とβ−体との比は4〜6程度
となり、目的化合物としてのγ−体の選択率が低いとい
う問題点があった。なおγ−体とβ−体とを蒸留によっ
て分離しようとすると、かなり高い段数の蒸留塔が必要
となってしまうため、γ−体とβ−体とを蒸留によって
分離することは好ましくない。
また特開昭61−229885号公報には、アリルアミン類と
ヒドロシラン類とを、ロジウム−有機第3級ホスフィン
錯体そして必要によりトリフェニルホスフィンを含んで
なる触媒を用いて反応させることによるアミノプロピル
アルコキシシラン類の製造方法が開示されている。この
方法によれば、高い選択率でγ−アミノプロピルアルコ
キシシラン類を得ることができるが、転化率を高めるた
めには反応に長時間を要するという問題点があった。し
かもγ−体を高い選択率で得るためには、過剰のトリフ
ェニルホスフィンを存在させなれければならず、このた
め蒸留によって得られる製品としてのγ−アミノプロピ
ルアルコキシシラン類中にトリフェニルホスフィンが混
入してくるという問題点があった。
ヒドロシラン類とを、ロジウム−有機第3級ホスフィン
錯体そして必要によりトリフェニルホスフィンを含んで
なる触媒を用いて反応させることによるアミノプロピル
アルコキシシラン類の製造方法が開示されている。この
方法によれば、高い選択率でγ−アミノプロピルアルコ
キシシラン類を得ることができるが、転化率を高めるた
めには反応に長時間を要するという問題点があった。し
かもγ−体を高い選択率で得るためには、過剰のトリフ
ェニルホスフィンを存在させなれければならず、このた
め蒸留によって得られる製品としてのγ−アミノプロピ
ルアルコキシシラン類中にトリフェニルホスフィンが混
入してくるという問題点があった。
発明の目的 本発明は、上記のような従来技術に伴う問題点を解決
しようとするものであって、アリルアミン類とヒドロシ
ラン類とから高い選択率でγ−アミノプロピルアルコキ
シシラン類を製造しうるような、アミノプロピルアルコ
キシシラン類の製造方法を提供することを目的としてい
る。
しようとするものであって、アリルアミン類とヒドロシ
ラン類とから高い選択率でγ−アミノプロピルアルコキ
シシラン類を製造しうるような、アミノプロピルアルコ
キシシラン類の製造方法を提供することを目的としてい
る。
発明の概要 本発明に係るアミノプロピルアルコキシシラン類の製
造方法は、 式[I] [式中、R1およびR2は水素、炭素数1〜10のアルキル
基、炭素数2〜10はアルケニル基、フェニル基または置
換フェニル基、−CH2CH2NHCH2CH2NH2、または−CH2CH2N
H2であり、R3は水素または炭素数1〜6のアルキル基で
ある。]で示されるアリルアミン類と、 式[II] [式中、R4、R5およびR6はアルキル基またはアルコキシ
基であり、R4、R5およびR6のうち少なくとも1つはアル
コキシ基である]で表わされるヒドロシラン類とを、 式 RhP(R8)2Ln (式中、R8はアルキル基、アリール基またはアルコキシ
基であり、Lはオレフィン、ジオレフィン、芳香族アミ
ン、ニトリルまたはカルボニルであり、nは1〜2であ
る)で表わされるロジウムホスフィドまたはそのオリゴ
マーの存在下に反応させることを特徴としている。
造方法は、 式[I] [式中、R1およびR2は水素、炭素数1〜10のアルキル
基、炭素数2〜10はアルケニル基、フェニル基または置
換フェニル基、−CH2CH2NHCH2CH2NH2、または−CH2CH2N
H2であり、R3は水素または炭素数1〜6のアルキル基で
ある。]で示されるアリルアミン類と、 式[II] [式中、R4、R5およびR6はアルキル基またはアルコキシ
基であり、R4、R5およびR6のうち少なくとも1つはアル
コキシ基である]で表わされるヒドロシラン類とを、 式 RhP(R8)2Ln (式中、R8はアルキル基、アリール基またはアルコキシ
基であり、Lはオレフィン、ジオレフィン、芳香族アミ
ン、ニトリルまたはカルボニルであり、nは1〜2であ
る)で表わされるロジウムホスフィドまたはそのオリゴ
マーの存在下に反応させることを特徴としている。
本発明に係るアミノプロピルアルコキシシラン類の製
造方法では、アリルアミン類とヒドロシラン類とを反応
させるに際して、ロジウムホスフィドまたはそのオリゴ
マーを用いているので、γ−アミノプロピルアルコキシ
シラン類を高選択率かつ高収率で短時間で得ることがで
きる。
造方法では、アリルアミン類とヒドロシラン類とを反応
させるに際して、ロジウムホスフィドまたはそのオリゴ
マーを用いているので、γ−アミノプロピルアルコキシ
シラン類を高選択率かつ高収率で短時間で得ることがで
きる。
発明の具体的説明 以下本発明に係るアミノプロピルアルコキシシラン類
の製造方法について具体的に説明する。
の製造方法について具体的に説明する。
アリルアミン類 本発明ではアミノプロピルアルコキシシラン類を製造
する際の原料として、上記式[I]で示されるような、
アリルアミン類が用いられる。
する際の原料として、上記式[I]で示されるような、
アリルアミン類が用いられる。
このようなアリルアミン類としては、具体的には、ア
リルアミン、N,N−ジメチルアリルアミン、N,N−ジエチ
ルアリルアミン、N−メチルアリルアミン、N−エチル
アリルアミン、2−メチルアリルアミン、ジアリルアミ
ン、アリルエチルジアミンなどが用いられる。
リルアミン、N,N−ジメチルアリルアミン、N,N−ジエチ
ルアリルアミン、N−メチルアリルアミン、N−エチル
アリルアミン、2−メチルアリルアミン、ジアリルアミ
ン、アリルエチルジアミンなどが用いられる。
ヒドロシラン類 本発明では、アミノプロピルアルコキシシラン類を製
造するため、上記のようなアリルアミン類と、上記式
[II]で示されるヒドロシラン類とが反応せしめられ
る。
造するため、上記のようなアリルアミン類と、上記式
[II]で示されるヒドロシラン類とが反応せしめられ
る。
上記式[II]で示されるヒドロシラン類としては、具
体的には、トリエトキシシラン、トリメトキシシラン、
トリプロポキシシラン、トリブトキシシラン、メチルジ
メトキシシラン、エチルジメトキシシラン、メチルジエ
トキシシラン、ジメチルメトキシシラン、トリオクチロ
キシシラン、メチルジオクチロキシシラン、ジメチルオ
クチロキシシランなどが用いられる。
体的には、トリエトキシシラン、トリメトキシシラン、
トリプロポキシシラン、トリブトキシシラン、メチルジ
メトキシシラン、エチルジメトキシシラン、メチルジエ
トキシシラン、ジメチルメトキシシラン、トリオクチロ
キシシラン、メチルジオクチロキシシラン、ジメチルオ
クチロキシシランなどが用いられる。
ロジウムホスフィド 本発明では、上記のようなアリルアミン類とヒドロシ
ラン類とを反応させる際に、触媒として式RhP(R8)2Ln
で示されるロジウムホスフィドまたはそのオリゴマーが
用いられる。
ラン類とを反応させる際に、触媒として式RhP(R8)2Ln
で示されるロジウムホスフィドまたはそのオリゴマーが
用いられる。
上記式において、R8はアルキル基、アリール基または
アルコキシ基であり、Lはオレフィン、ジオレフィン、
芳香族アミン、ニトリルまたはカルボニルであり、nは
1〜2である。
アルコキシ基であり、Lはオレフィン、ジオレフィン、
芳香族アミン、ニトリルまたはカルボニルであり、nは
1〜2である。
ロジウムに配位するP(R8)2としては、具体的に
は、ジメチルホスフィド、ジブチルホスフィド、ジ−t
−ブチルホスフィド、ジフェニルホスフィド、ジトリル
ホスフィド、フェニルエチルホスフィド、ジブトキシホ
スフィド、ジフェノキシホスフィドなどが挙げられる。
は、ジメチルホスフィド、ジブチルホスフィド、ジ−t
−ブチルホスフィド、ジフェニルホスフィド、ジトリル
ホスフィド、フェニルエチルホスフィド、ジブトキシホ
スフィド、ジフェノキシホスフィドなどが挙げられる。
またロジウムに配位するLとしては、具体的には、エ
チレン、プロピレン、シクロオクテンなどのモノオレフ
ィン、1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、1,3−シ
クロヘキサジエンなどの共役ジエン、1,5−シクロオク
タジエン、ノルボルナジエン、1,4−ペンタジンエンな
どの非共役ジエン、ピリジンジピリジル、オルトフェナ
ントロリンなどの芳香族アミン、ニトリル、イソニトリ
ル、カルボニルなどが挙げられる。
チレン、プロピレン、シクロオクテンなどのモノオレフ
ィン、1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、1,3−シ
クロヘキサジエンなどの共役ジエン、1,5−シクロオク
タジエン、ノルボルナジエン、1,4−ペンタジンエンな
どの非共役ジエン、ピリジンジピリジル、オルトフェナ
ントロリンなどの芳香族アミン、ニトリル、イソニトリ
ル、カルボニルなどが挙げられる。
これらのロジウムホスフィドは、一般的には単量体と
しては安定に存在せず、二量体、三量体などのオリゴマ
ーとして存在する。ただし反応条件下では単量体として
存在する可能性もある。
しては安定に存在せず、二量体、三量体などのオリゴマ
ーとして存在する。ただし反応条件下では単量体として
存在する可能性もある。
このようなロジウムホスフィドのオリゴマーとして
は、具体的には、以下のようなものが用いられる。
は、具体的には、以下のようなものが用いられる。
[Rh(CO)2PPh2]n (n=3〜4) [Rh3(PPh2)3(CO)5] [Rh4(CO)5(PPh2)5]− [Rh(CO)2P(t−Bu)2]n (n=2〜3) [Rh(COD)PPh2]2 (式中、CODはシクロオクタジエンである) [Rh(COD)PMePh]2など。
このようなロジウムホスフィドまたはそのオリゴマー
は、予めこのロジウムホスフィドまたはそのオリゴマー
を調製した後に反応系に添加してもよく、また場合によ
っては、反応系でロジウムホスフィドまたはそのオリゴ
マーを生成させ、これを触媒として用いることもでき
る。
は、予めこのロジウムホスフィドまたはそのオリゴマー
を調製した後に反応系に添加してもよく、また場合によ
っては、反応系でロジウムホスフィドまたはそのオリゴ
マーを生成させ、これを触媒として用いることもでき
る。
反応条件 上記のようなアリルアミン類とヒドロシラン類とは、
アリルアミン類:ヒドロシラン類とのモル比が1.3:1〜
1:1.3の範囲で用いられることが好ましい。
アリルアミン類:ヒドロシラン類とのモル比が1.3:1〜
1:1.3の範囲で用いられることが好ましい。
反応は、常圧下で行なってもよく、また加圧下で行な
ってもよい。また反応温度は50℃以上好ましくは50〜25
0℃さらに好ましくは100〜200℃であることが望まし
い。反応温度が50℃未満では、γ−アミノプロピルアル
コキシシラン類がほとんど生成しないため好ましくな
く、一方反応温度が250℃を越えると、β−アミノプロ
ピルアルコキシシラン類が多量に生成し、目的とするγ
−アミノプロピルアルコキシシラン類の選択率が低下す
るため好ましくない。
ってもよい。また反応温度は50℃以上好ましくは50〜25
0℃さらに好ましくは100〜200℃であることが望まし
い。反応温度が50℃未満では、γ−アミノプロピルアル
コキシシラン類がほとんど生成しないため好ましくな
く、一方反応温度が250℃を越えると、β−アミノプロ
ピルアルコキシシラン類が多量に生成し、目的とするγ
−アミノプロピルアルコキシシラン類の選択率が低下す
るため好ましくない。
反応系におけるロジウムホスフィドまたはそのオリゴ
マーは、多量に用いることもできるが、アリルアミン類
1モル対して、金属ロジウムとして10-6〜10-3モル程度
存在しておれば充分である。
マーは、多量に用いることもできるが、アリルアミン類
1モル対して、金属ロジウムとして10-6〜10-3モル程度
存在しておれば充分である。
反応は、溶媒の存在下に行なってもよく、また不存在
下に行なってもよい。溶媒を用いる場合には、トルエ
ン、キシレン、ヘプタン、ドデカンなどの炭化水素系溶
媒、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンなどのエー
テル類などが用いられる。
下に行なってもよい。溶媒を用いる場合には、トルエ
ン、キシレン、ヘプタン、ドデカンなどの炭化水素系溶
媒、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンなどのエー
テル類などが用いられる。
反応時間は、反応温度によって大きく変化するが、通
常0.5〜2.0時間程度で充分である。
常0.5〜2.0時間程度で充分である。
アリルアミン類とヒドロシラン類との反応を、ロジウ
ムホスフィドまたはそのオリゴマーを用いて行なうと、
γ−アミノプロピルアルコキシシラン類が、高い選択率
で得られ、たとえば80以上のγ−体/β−体比でγ−体
が得られる。しかもアリルアミン類とヒドロシラン類と
の反応が迅速に進行し、したがって80%にも達する高い
収率でγ−アミノプロピルアルコキシシラン類が得られ
る。
ムホスフィドまたはそのオリゴマーを用いて行なうと、
γ−アミノプロピルアルコキシシラン類が、高い選択率
で得られ、たとえば80以上のγ−体/β−体比でγ−体
が得られる。しかもアリルアミン類とヒドロシラン類と
の反応が迅速に進行し、したがって80%にも達する高い
収率でγ−アミノプロピルアルコキシシラン類が得られ
る。
これに対して、アリルアミン類とヒドロシラン類との
反応を、塩化白金酸触媒を用いて行なうと、γ−体の収
率は40〜50%程度であり、しかもγ−体/β−体の比は
4程度にしか達しない。またアリルアミン類とヒドロシ
ラン類との反応を、ロジウムヒドリドカルボニルトリス
(トリフェニルホスフィン)錯体を用いて行なうと、高
いγ−体/β−体比でγ−体が得られるが、反応速度が
遅いため、反応にたとえば6時間もの長時間を必要とし
てしまう。
反応を、塩化白金酸触媒を用いて行なうと、γ−体の収
率は40〜50%程度であり、しかもγ−体/β−体の比は
4程度にしか達しない。またアリルアミン類とヒドロシ
ラン類との反応を、ロジウムヒドリドカルボニルトリス
(トリフェニルホスフィン)錯体を用いて行なうと、高
いγ−体/β−体比でγ−体が得られるが、反応速度が
遅いため、反応にたとえば6時間もの長時間を必要とし
てしまう。
発明の効果 本発明に係るアミノプロピルアルコキシシラン類の製
造方法では、アリルアミン類とヒドロシラン類とを反応
させるに際して、ロジウムホスフィドまたはそのオリゴ
マーを用いているので、γ−アミノプロピルアルコキシ
シラン類が高選択率かつ高収率で短時間を得ることがで
きる。
造方法では、アリルアミン類とヒドロシラン類とを反応
させるに際して、ロジウムホスフィドまたはそのオリゴ
マーを用いているので、γ−アミノプロピルアルコキシ
シラン類が高選択率かつ高収率で短時間を得ることがで
きる。
以下本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
ら実施例に限定されるものではない。
ら実施例に限定されるものではない。
実施例1 還流冷却管、攪拌棒、温度計を備えた3つ口フラスコ
に、アリルアミン14g(0.25モル)、トリエトキシシラ
ン41g(0.25モル)、パラキシレン20mlおよび[Rh(μ
−PPh2)(COD)]2すなわち[ロジウム(μ−ジフェ
ニルホスフィド)(1,5−シクロオクタジエン)ダイマ
ー]をトリエトキシシランに対して0.1モル%(ロジウ
ムとして)加え、110℃の恒温油槽で加熱した。反応開
始後約1時間で、反応温度は110℃になった。反応終了
後、得られた反応混合物をガスクロマトグラフィー分析
により、分析したところ、γ−アミノプロピルトリエト
キシシランが81%、β−アミノプロピルトリエトキシシ
ランが0.7%の収率(トリエトキシシラン基準)で得ら
れていることがわかった。
に、アリルアミン14g(0.25モル)、トリエトキシシラ
ン41g(0.25モル)、パラキシレン20mlおよび[Rh(μ
−PPh2)(COD)]2すなわち[ロジウム(μ−ジフェ
ニルホスフィド)(1,5−シクロオクタジエン)ダイマ
ー]をトリエトキシシランに対して0.1モル%(ロジウ
ムとして)加え、110℃の恒温油槽で加熱した。反応開
始後約1時間で、反応温度は110℃になった。反応終了
後、得られた反応混合物をガスクロマトグラフィー分析
により、分析したところ、γ−アミノプロピルトリエト
キシシランが81%、β−アミノプロピルトリエトキシシ
ランが0.7%の収率(トリエトキシシラン基準)で得ら
れていることがわかった。
実施例2 実施例1において、トリエトキシシランの代わりにト
リメトキシシラン30.6g(0.25モル)を用い、溶媒とし
てトルエンを用いた以外は、実施例1と同じ条件で、ア
リルアミンとトリメトキシシランとの反応を行った。反
応終了後、得られた反応混合物をガスクロマトグラフィ
ー分析により分析したところ、γ−アミノプロピルトリ
メトキシシランが70%、β−アミノプロピルトリメトキ
シシランが0.9%の収率(トリメトキシシラン基準)で
得られていることがわかった。
リメトキシシラン30.6g(0.25モル)を用い、溶媒とし
てトルエンを用いた以外は、実施例1と同じ条件で、ア
リルアミンとトリメトキシシランとの反応を行った。反
応終了後、得られた反応混合物をガスクロマトグラフィ
ー分析により分析したところ、γ−アミノプロピルトリ
メトキシシランが70%、β−アミノプロピルトリメトキ
シシランが0.9%の収率(トリメトキシシラン基準)で
得られていることがわかった。
実施例3 実施例1において、アリルアミンの代わりにアリルエ
チレンジアミン25g(0.25モル)を用い、溶媒としてn
−ドデカンを用いた以外は、実施例1と同じ条件でアリ
ルアミンとトリエトキシシランとの反応を行った。反応
終了後、得られた反応混合物をガスクロマトグラフィー
分析により分析したところ、γ−体が67%、β−体が0.
8%の収率(トリエトキシシラン基準)で得られている
ことがわかった。
チレンジアミン25g(0.25モル)を用い、溶媒としてn
−ドデカンを用いた以外は、実施例1と同じ条件でアリ
ルアミンとトリエトキシシランとの反応を行った。反応
終了後、得られた反応混合物をガスクロマトグラフィー
分析により分析したところ、γ−体が67%、β−体が0.
8%の収率(トリエトキシシラン基準)で得られている
ことがわかった。
実施例4 実施例1において、触媒をトリエトキシシランに対し
て0.02モル%(ロジウムとして)で用い、さらにテトラ
ヒドロフランを20ml反応系に添加した以外は、実施例1
と同じ条件でアリルアミンとトリエトキシシランとの反
応を行った。反応終了後、得られた反応混合物をガスク
ロマトグラフィー分析により分析したところ、γ−アミ
ノプロピルトリエトキシシランが92%、β−アミノプロ
ピルトリエトキシシランが1.1%の収率(トリエトキシ
シラン基準)で得られていることがわかった。
て0.02モル%(ロジウムとして)で用い、さらにテトラ
ヒドロフランを20ml反応系に添加した以外は、実施例1
と同じ条件でアリルアミンとトリエトキシシランとの反
応を行った。反応終了後、得られた反応混合物をガスク
ロマトグラフィー分析により分析したところ、γ−アミ
ノプロピルトリエトキシシランが92%、β−アミノプロ
ピルトリエトキシシランが1.1%の収率(トリエトキシ
シラン基準)で得られていることがわかった。
実施例5 [ロジウム(ジカルボニル)(μ−クロロ)]ダイマ
ー([Rh(CO)2Cl]2)0.48g(2.5ミリモル)のテト
ラヒドロフラン10mlを溶液に、別に調製したジフェニル
ホスフィドリチウム(Ph2PLi)のテトラヒドロフラン溶
液(約3ミリモル)を滴下し、その後約3時間攪拌し
た。
ー([Rh(CO)2Cl]2)0.48g(2.5ミリモル)のテト
ラヒドロフラン10mlを溶液に、別に調製したジフェニル
ホスフィドリチウム(Ph2PLi)のテトラヒドロフラン溶
液(約3ミリモル)を滴下し、その後約3時間攪拌し
た。
次いでテトラヒドロフランを除去し、得られた固体を
ヘキサンで抽出した。ヘキサンを蒸発させると黒緑色の
固体が得られた。
ヘキサンで抽出した。ヘキサンを蒸発させると黒緑色の
固体が得られた。
このようにして得られた[ロジウム(μ−ジフェニ
ル)ホスフィドジカボニル]オリゴマー([RhP(Ph)
2(CO)2]n)を、[Rh(μ−PPh2)(COD)]2の
代わりに触媒として用いた以外は、実施例1と同様にし
て反応を1時間行なった。反応終了後、得られた反応混
合物をガスクロマトグラフィー分析により分析したとこ
ろ、γ−アミノプロピルトリエトキシシランが81%、β
−アミノプロピルトリエトキシシランが0.9%の収率
(トリエトキシシラン基準)で得られていることがわか
った。
ル)ホスフィドジカボニル]オリゴマー([RhP(Ph)
2(CO)2]n)を、[Rh(μ−PPh2)(COD)]2の
代わりに触媒として用いた以外は、実施例1と同様にし
て反応を1時間行なった。反応終了後、得られた反応混
合物をガスクロマトグラフィー分析により分析したとこ
ろ、γ−アミノプロピルトリエトキシシランが81%、β
−アミノプロピルトリエトキシシランが0.9%の収率
(トリエトキシシラン基準)で得られていることがわか
った。
比較例1 還流冷却管、攪拌棒、温度計を備えた3つ口フラスコ
に、トリエトキシシラン41g(0.25モル)、触媒として
の塩化白金(IV)酸のイソプロピルアルコール溶液を白
金として2×10-5モルに相当する量を加え、120℃の恒
温油槽で加熱しながら、アルリアミン14g(0.25モル)
を滴下ロートから1時間かけて滴下した。さらに9時
間、120℃に保った。反応終了後、得られた反応混合物
をガスクロマトグラフィー分析により分析したところ、
γ−アミノプロピルトリエトキシシランが44%、β−ア
ミノプロピルトリエトキシシランが10%の収率(トリエ
トキシシラン基準)で得られていることがわかった。
に、トリエトキシシラン41g(0.25モル)、触媒として
の塩化白金(IV)酸のイソプロピルアルコール溶液を白
金として2×10-5モルに相当する量を加え、120℃の恒
温油槽で加熱しながら、アルリアミン14g(0.25モル)
を滴下ロートから1時間かけて滴下した。さらに9時
間、120℃に保った。反応終了後、得られた反応混合物
をガスクロマトグラフィー分析により分析したところ、
γ−アミノプロピルトリエトキシシランが44%、β−ア
ミノプロピルトリエトキシシランが10%の収率(トリエ
トキシシラン基準)で得られていることがわかった。
比較例2 還流冷却管、攪拌棒、温度計を備えた3つ口フラスコ
に、トリエトキシシラン41g(0.25モル)、触媒として
のロジウムヒドリドカルボニル−トリス(トリフェニル
ホスフィン)0.12gおよびトリフェニルホスフィン1.4g
を加え、内容物を110℃に加熱し、続いてアリルアミン1
4g(0.25モル)を滴下ロートから1時間かけて滴下し
た。さらに1時間、温度を110℃に維持した。反応終了
後、得られた反応混合物をガスクロマトグラフィー分析
により分析したところ、γ−アミノプロピルトリエトキ
シシランが34%、β−アミノプロピルトリエトキシシラ
ンが3.8%の収率(アリルアミン基準)で得られている
ことがわかった。続いてさらに4時間、温度を110℃に
維持した。反応終了後、得られた反応混合物をガスクロ
マトグラフィー分析により分析したところ、γ−アミノ
プロピルトリエトキシシランが71%、β−アミノプロピ
ルトリエトキシシランが6.9%の収率(トリエトキシシ
ラン基準)で得られていることがわかった。
に、トリエトキシシラン41g(0.25モル)、触媒として
のロジウムヒドリドカルボニル−トリス(トリフェニル
ホスフィン)0.12gおよびトリフェニルホスフィン1.4g
を加え、内容物を110℃に加熱し、続いてアリルアミン1
4g(0.25モル)を滴下ロートから1時間かけて滴下し
た。さらに1時間、温度を110℃に維持した。反応終了
後、得られた反応混合物をガスクロマトグラフィー分析
により分析したところ、γ−アミノプロピルトリエトキ
シシランが34%、β−アミノプロピルトリエトキシシラ
ンが3.8%の収率(アリルアミン基準)で得られている
ことがわかった。続いてさらに4時間、温度を110℃に
維持した。反応終了後、得られた反応混合物をガスクロ
マトグラフィー分析により分析したところ、γ−アミノ
プロピルトリエトキシシランが71%、β−アミノプロピ
ルトリエトキシシランが6.9%の収率(トリエトキシシ
ラン基準)で得られていることがわかった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥村 義治 東京都新宿区下落合3丁目6番29−112 号
Claims (2)
- 【請求項1】式[I] [式中、R1およびR2は水素、炭素数1〜10のアルキル
基、炭素数2〜10はアルケニル基、フェニル基または置
換フェニル基、−CH2CH2NHCH2CH2NH2、または−CH2CH2N
H2であり、R3は水素または炭素数1〜6のアルキル基で
ある。]で示されるアリルアミン類と、 式[II] [式中、R4、R5およびR6はアルキル基またはアルコキシ
基であり、R4、R5およびR6のうち少なくとも1つはアル
コキシ基である]で表わされるヒドロシラン類とを、 式 RhP(R8)2Ln (式中、R8はアルキル基、アリール基またはアルコキシ
基であり、Lはオレフィン、ジオレフィン、芳香族アミ
ン、ニトリルまたはカルボニルであり、nは1〜2であ
る)で表わされるロジウムホスフィドまたはそのオリゴ
マーの存在下に反応させることを特徴とするアミノプロ
ピルアルコキシシラン類の製造方法。 - 【請求項2】アリルアミン類が、アリルアミン、N−メ
チルアリルアミン、N−エチルアリルアミン、2−メチ
ルアリルアミン、ジアリルアミンまたはアリルエチレン
ジアミンである特許請求の範囲第1項に記載の方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62192263A JP2535028B2 (ja) | 1987-07-31 | 1987-07-31 | アミノプロピルアルコキシシラン類の製造方法 |
EP19880307026 EP0302672A3 (en) | 1987-07-31 | 1988-07-29 | Process for preparing aminopropyl alkoxy silanes |
US07/226,086 US4897501A (en) | 1987-07-31 | 1988-07-29 | Process for preparing aminopropyl alkoxy silanes |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62192263A JP2535028B2 (ja) | 1987-07-31 | 1987-07-31 | アミノプロピルアルコキシシラン類の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6438093A JPS6438093A (en) | 1989-02-08 |
JP2535028B2 true JP2535028B2 (ja) | 1996-09-18 |
Family
ID=16288378
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62192263A Expired - Lifetime JP2535028B2 (ja) | 1987-07-31 | 1987-07-31 | アミノプロピルアルコキシシラン類の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4897501A (ja) |
EP (1) | EP0302672A3 (ja) |
JP (1) | JP2535028B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2606924B2 (ja) | 1989-05-31 | 1997-05-07 | 東燃株式会社 | アミノプロピルシラン化合物の製造方法 |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2665250B2 (ja) * | 1989-02-10 | 1997-10-22 | 昭和電工株式会社 | アミノプロピルアルコキシシランの製造法 |
US5068387A (en) * | 1989-12-01 | 1991-11-26 | Dow Corning Corporation | Production of organofunctional alkoxysilanes |
DE4435390C2 (de) * | 1994-10-04 | 2001-07-26 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Aminopropylalkoxysilanen in Gegenwart von geformten polymeren Rhodiumkomplex-Katalysatoren und deren Verwendung |
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DE102015225883A1 (de) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Evonik Degussa Gmbh | Bis(alkylalkoxysilyl)amin-reiche Zusammensetzungen, ein Verfahren zur deren Herstellung und deren Verwendung |
DE102016215255A1 (de) | 2016-08-16 | 2018-02-22 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Bis- und Tris(alkylalkoxysilyl)amine enthaltende Zusammensetzungen und deren Verwendung |
DE102016215256A1 (de) | 2016-08-16 | 2018-02-22 | Evonik Degussa Gmbh | Bis- und Tris(organosilyl)amine enthaltende Zusammensetzungen, deren Herstellung und deren Verwendung |
DE102016215257A1 (de) | 2016-08-16 | 2018-02-22 | Evonik Degussa Gmbh | Mono- und Bis(organosilyl)amine enthaltende Zusammensetzungen, deren Herstellung und deren Verwendung |
DE102016215260A1 (de) | 2016-08-16 | 2018-02-22 | Evonik Degussa Gmbh | Verwendung einer (Alkylalkoxysily)amin-, Bis-(alkylalkoxysilyl)amin und/oder Tris-(alkylalkoxysilyl)amin-enthaltenden Zusammensetzung |
DE102016215259A1 (de) | 2016-08-16 | 2018-02-22 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Mono- und Oligo-(alkoxysilylalkyl)aminen enthaltenden Zusammensetzungen |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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- 1988-07-29 EP EP19880307026 patent/EP0302672A3/en not_active Ceased
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Publication number | Publication date |
---|---|
EP0302672A3 (en) | 1991-03-27 |
EP0302672A2 (en) | 1989-02-08 |
JPS6438093A (en) | 1989-02-08 |
US4897501A (en) | 1990-01-30 |
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