JP2532126B2 - Waveguide type film carrier and its terminal connection method - Google Patents

Waveguide type film carrier and its terminal connection method

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JP2532126B2
JP2532126B2 JP63099616A JP9961688A JP2532126B2 JP 2532126 B2 JP2532126 B2 JP 2532126B2 JP 63099616 A JP63099616 A JP 63099616A JP 9961688 A JP9961688 A JP 9961688A JP 2532126 B2 JP2532126 B2 JP 2532126B2
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insulating flexible
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    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は高周波マイクロ波デバイスを実装するために
用いる導波路形フィルムキャリアおよびその端子接続方
法に関するものである。
The present invention relates to a waveguide type film carrier used for mounting a high frequency microwave device and a terminal connecting method thereof.

〔従来の技術および発明が解決しようとする課題) 従来、この種のフィルムキャリアは第11図に示すよう
に、絶縁性フレキシブル基板1、該絶縁性フレキシブル
基板1に設けられた開口部2、該絶縁性フレキシブル基
板1の表面に形成された高周波用電極3、バイアス供給
用電極4、接地用電極5等の導電体、さらに該絶縁性フ
レキシブル基板1に設けられた開口部2において高周波
用電極3、バイアス供給用電極4、接地用電極5の延長
線上にそれぞれ高周波用電極3、バイアス供給用電極
4、接地用電極5と接続されたリードRとからなる単純
な構造ものであった。
[Prior Art and Problems to be Solved by the Invention] Conventionally, as shown in FIG. 11, this type of film carrier has an insulating flexible substrate 1, an opening 2 provided in the insulating flexible substrate 1, Conductors such as the high frequency electrode 3, the bias supply electrode 4, and the ground electrode 5 formed on the surface of the insulating flexible substrate 1, and the high frequency electrode 3 in the opening 2 provided in the insulating flexible substrate 1. , A high-frequency electrode 3, a bias-supplying electrode 4, and a lead R connected to the grounding electrode 5 on the extension lines of the bias-supplying electrode 4 and the grounding electrode 5, respectively.

この種のフィルムキャリアは第12図に示すように、高
周波用電極3、バイアス供給用電極4、接地用電極5お
よびリードRは該絶縁性フレキシブル基板1に接着剤7
等で接着した銅等の導電体箔をエッチングすることによ
って一括して形成される。さらに、リードRと先端部に
おいてメッキ等によってバンプ8を形成する場合もあ
る。
In this type of film carrier, as shown in FIG. 12, the high frequency electrode 3, the bias supply electrode 4, the ground electrode 5 and the lead R are attached to the insulating flexible substrate 1 with an adhesive 7.
It is formed in a lump by etching a conductor foil made of copper or the like that is adhered with the above. Further, the bump 8 may be formed on the lead R and the tip end portion by plating or the like.

ベアチップ半導体素子とフィルムキャリアとの接続は
第13図(a)に示すように、該ベアチップ半導体素子9
等の表面に形成された電極パッド10と、このフィルムキ
ャリアの該リードRの先端との間をキャピラリー11で加
熱し熱圧着あるいは熱超音波等の技術を用いて接続する
ことによって行なわれる。フィルムキャリアは該ベアチ
ップ半導体素子9等を接続した状態で、第13図(b)に
示すように実装用基板12等の所定の位置に持って行き、
該実装用基板12上に形成された電極13とベアチップ半導
体素子9を接続した反対側の該リードRとをキャピラリ
ー11で加熱し熱圧着あるいは熱超音波等の技術を用いて
接続した後、第13図(a)に示す切断部14で切断し不要
なリードおよび該絶縁性フレキシブル基板1を廃棄する
構成であった。
As shown in FIG. 13 (a), the bare chip semiconductor element and the film carrier are connected to each other by the bare chip semiconductor element 9
The electrode pad 10 formed on the surface of the film carrier and the tip of the lead R of the film carrier are heated by the capillary 11 and connected by using a technique such as thermocompression bonding or thermosonic wave. With the bare chip semiconductor element 9 and the like connected, take the film carrier to a predetermined position of the mounting substrate 12 or the like as shown in FIG. 13 (b),
After the electrode 13 formed on the mounting substrate 12 and the lead R on the opposite side to which the bare chip semiconductor element 9 is connected are heated by a capillary 11 and connected by a technique such as thermocompression bonding or thermosonic wave, The structure is such that unnecessary leads and the insulating flexible substrate 1 are discarded by cutting at the cutting portion 14 shown in FIG. 13 (a).

フィルムキャリアの複数の該リードRはそれらの一側
をベアチップ半導体素子9等の表面の複数の該電極パッ
ド10に、さらに他側を該実装用基板12等に形成された複
数の電極13上に、それぞれ一括して接続することを主眼
として構成されていたので、2ケ所接続に要する該リー
ドRの長さに余裕を持たせる必要があり、該リードRの
長さに応じたインダクタンス成分によって、該ベアチッ
プ半導体素子9あるいは複数の該ベアチップ半導体素子
9で構成された高周波モジュールの周波数特性ををさせ
るという欠点があった。
The plurality of leads R of the film carrier have one side on the plurality of electrode pads 10 on the surface of the bare chip semiconductor element 9 or the like, and the other side on the plurality of electrodes 13 formed on the mounting substrate 12 or the like. Since the main purpose is to connect each of them at once, it is necessary to provide a margin for the length of the lead R required for the connection at two places, and by the inductance component according to the length of the lead R, There is a drawback that the frequency characteristics of the bare chip semiconductor element 9 or the high frequency module composed of a plurality of the bare chip semiconductor elements 9 are improved.

さらに該リードRのみで該ベアチップ半導体素子9と
該実装要基板12との間を電気的に接続する構成となって
いるため、複数の該ベアチップ半導体素子9を1つのフ
ィルムキャリアに接続することは不要のリードおよび該
絶縁性フレキシブル基板1を廃棄するための切断を該ベ
アチップ半導体素子9の内側で行う必要があり、該ベア
チップ半導体素子9を損傷させるという欠点があった。
Further, since the bare chip semiconductor element 9 and the mounting substrate 12 are electrically connected only by the lead R, it is possible to connect a plurality of bare chip semiconductor elements 9 to one film carrier. It is necessary to perform cutting for discarding unnecessary leads and the insulating flexible substrate 1 inside the bare chip semiconductor element 9, and there is a drawback that the bare chip semiconductor element 9 is damaged.

第14図、第15図は、本発明者等がこのような欠点を解
決することを目的として先に案出した導波路形フィルム
キャリア(特許出願中)である。この導波路形フィルム
キャリアは絶縁性フレキシブル基板1に開口部2,15を有
し、該高周波用電極3、該バイアス供給用電極4、該接
地用電極5の内、少なくとも高周波信号の伝搬に寄与す
る該高周波用電極3、該接地用電極5が該絶縁性フレキ
シブル基板1の表面に形成されたコプレーナ導波路構造
であり、かつ該絶縁性フレキシブル基板1の開口部2,15
において該高周波用電極3、該バイアス供給用電極4、
該接地用電極5等と接続された該リードRを有する構造
である。
FIG. 14 and FIG. 15 show a waveguide type film carrier (patent pending) which the present inventors have previously devised for the purpose of solving such a drawback. This waveguide type film carrier has openings 2 and 15 in the insulating flexible substrate 1 and contributes to at least propagation of a high frequency signal among the high frequency electrode 3, the bias supply electrode 4 and the ground electrode 5. The high frequency electrode 3 and the ground electrode 5 are coplanar waveguide structures formed on the surface of the insulating flexible substrate 1, and the openings 2, 15 of the insulating flexible substrate 1 are formed.
At the high frequency electrode 3, the bias supply electrode 4,
This structure has the lead R connected to the ground electrode 5 and the like.

しかし、この先行技術においても、接続用リードRの
インダクタンスによって高周波モジュールの周波数特性
が劣化し、またリードRが各種電極との接続部のみで保
持されているためボンディング時のリード断線、リード
間のショートを生じ易いという欠点があった。
However, also in this prior art, the frequency characteristic of the high frequency module is deteriorated by the inductance of the connecting lead R, and since the lead R is held only at the connection portion with various electrodes, the lead wire breakage at the time of bonding and the gap between the leads are caused. There was a drawback that short circuits were likely to occur.

本発明は上記背景のものになされたものであり、その
目的とするところは、周波数特性の向上を図ったマイク
ロ波デバイスのマルチチップ一括実装が行なえ、かつ高
密度実装が容易に行なえるとともに機械的強度にも優れ
る導波路形フィルムキャリアおよびその端子接続方法を
提供することにある。
The present invention has been made in the above background, and an object of the present invention is to enable multi-chip collective mounting of microwave devices with improved frequency characteristics, and easy high-density mounting as well as a machine. An object of the present invention is to provide a waveguide type film carrier excellent in dynamic strength and a terminal connecting method thereof.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

上記目的を達成するために、請求項1記載の導波路形
フィルムキャリアにおいては、絶縁性フレキシブル基板
と、前記絶縁性フレキシブル基板の表面に形成された高
周波用電極およびバイアス供給用電極と、前記高周波電
極およびバイアス供給用電極のうち少なくとも前記高周
波用電極の両側に形成された接地用電極と、それら電極
とそれぞれ接続されて前記絶縁性フレキシブル基板の裏
面まで貫通して形成されたボンディング用導電体柱とか
ら構成されたことを特徴としている。
In order to achieve the above object, in the waveguide type film carrier according to claim 1, an insulating flexible substrate, a high frequency electrode and a bias supplying electrode formed on the surface of the insulating flexible substrate, and the high frequency. Of the electrodes and the bias supply electrodes, at least grounding electrodes formed on both sides of the high frequency electrode, and a bonding conductor column formed by penetrating to the back surface of the insulating flexible substrate respectively connected to the electrodes. It is characterized by being composed of and.

また、請求項2記載の導波路形フィルムキャリアにお
いては、絶縁性フレキシブル基板と、前記絶縁性フレキ
シブル基板の表面あるいは内部に形成された高周波用電
極およびバイアス供給用電極と、前記絶縁性フレキシブ
ル基板の裏面において前記高周波用電極と対向する位置
に形成された接地用電極と、前記高周波用電極および前
記バイアス供給用電極とそれぞれ接続されて前記絶縁性
フレキシブル基板の裏面まで貫通して形成されたボンデ
ィング用導電体柱とから構成され、前記ボンディング用
導電体柱を少なくとも3方向から取り囲むように前記接
地用電極の一部を切り欠いてあることを特徴としてい
る。
Further, in the waveguide type film carrier according to claim 2, an insulating flexible substrate, a high frequency electrode and a bias supplying electrode formed on the surface or inside of the insulating flexible substrate, and the insulating flexible substrate. A grounding electrode formed on the back surface at a position facing the high-frequency electrode, and a bonding formed by penetrating to the back surface of the insulative flexible substrate connected to the high-frequency electrode and the bias supply electrode, respectively. And a part of the grounding electrode is cut out so as to surround the bonding conductor pillar in at least three directions.

また、請求項3記載の導波路形フィルムキャリアにお
いては、前記絶縁性フレキシブル基板には、高周波用電
極、バイアス供給用電極および接地用電極が複数組形成
されていることを特徴としている。
Further, in the waveguide type film carrier according to claim 3, a plurality of sets of high frequency electrodes, bias supply electrodes and ground electrodes are formed on the insulating flexible substrate.

さらに、上記各構成において、前記絶縁性フレキシブ
ル基板には、高周波用電極、バイアス供給用電極および
接地用電極が複数組形成されていれば、より好ましい。
Further, in each of the above configurations, it is more preferable that a plurality of sets of high frequency electrodes, bias supply electrodes, and ground electrodes are formed on the insulating flexible substrate.

また、上記導波路形フィルムキャリアをベアチップ半
導体素子、実装用基板等の被接続物に接続するには、ボ
ンディング用導電体柱の接続面と反対側の面からキャピ
ラリー等によって熱および、または超音波振動を加える
ことにより行なえばよい。
Further, in order to connect the waveguide type film carrier to an object to be connected such as a bare chip semiconductor element and a mounting substrate, heat and / or ultrasonic waves are applied from a surface opposite to the connection surface of the bonding conductor pillar by a capillary or the like. It may be performed by applying vibration.

〔作用〕[Action]

高周波用電極、バイアス供給用電極等をボンディング
用導電体柱によってベアチップ半導体素子に電気的に接
続することができ、従来のワイヤ,リボン等を用いる接
続に比べて、上記導電体柱は絶縁性フレキシブル基板中
に貫通されたままであることから、機械的に強固な固定
が実現でき、また導電体柱同士が接触することもないた
め、高密度実装が行なえる。
Electrodes for high frequency, electrodes for bias supply, etc. can be electrically connected to the bare chip semiconductor element by the conductor pillars for bonding, and the conductor pillars have insulating flexibility compared to the conventional connection using wires, ribbons, etc. Since it is still penetrated through the substrate, it can be mechanically firmly fixed, and since the conductor columns do not contact each other, high density mounting can be performed.

また、周波用電極と接地用電極および絶縁性フレキシ
ブル基板を組合せて導波路を構成する場合には、上記の
如く電極にボンディング用導電体柱が接続されて形成さ
れていることと相まって、導波路をベアチップ半導体素
子等に電気的に真近に接続することができ、従来のワイ
ヤ,リボン等による接続に比べて高周波特性の改善が図
れる。
Further, in the case of forming a waveguide by combining a frequency electrode, a ground electrode, and an insulating flexible substrate, the waveguide is connected to the electrode as described above to form a waveguide. Can be electrically connected to a bare chip semiconductor element or the like, and high-frequency characteristics can be improved as compared with the conventional connection using wires, ribbons, or the like.

さらに、高周波用電極、バイアス供給用電極および接
地用電極を複数組有する場合には、複数のベアチップ半
導体素子を一度で接続でき、作業性が非常に良くなる。
Furthermore, when a plurality of sets of high frequency electrodes, bias supply electrodes and ground electrodes are provided, a plurality of bare chip semiconductor elements can be connected at one time, and workability is greatly improved.

また、導波路形フィルムキャリアをベアチップ半導体
素子等に接続するに際し、ボンディング用導電体柱の接
続面と反対面の面からキャピラリー等によって熱およ
び、または超音波振動を加えるように行えば、容易に接
続が行なえる。
Further, when connecting the waveguide film carrier to the bare chip semiconductor element or the like, it is easy to apply heat and / or ultrasonic vibration by a capillary or the like from the surface opposite to the connection surface of the bonding conductor column, which is easy. You can connect.

〔実施例〕〔Example〕

実施例1 第1図〜第5図は本発明の第1の実施例を説明する図
であって、第1図は上面図、第2図は高周波用電極3部
分の導波路形フィルムキャリアの信号伝搬方向の断面
図、第3図はコプレーナ導波路を説明する斜視図、第4
図(a)〜(e)はボンディング用導電体柱の製造工程
を説明する図、第5図(a)〜(c)はベアチップ半導
体を接続する場合および実装基板に接続する場合の断面
図である。
Embodiment 1 FIGS. 1 to 5 are views for explaining a first embodiment of the present invention. FIG. 1 is a top view and FIG. 2 is a waveguide type film carrier of a high frequency electrode 3 portion. Sectional view in the signal propagation direction, FIG. 3 is a perspective view illustrating a coplanar waveguide, and FIG.
FIGS. 5 (a) to 5 (e) are views for explaining the manufacturing process of the conductor pillar for bonding, and FIGS. 5 (a) to 5 (c) are cross-sectional views for connecting bare chip semiconductors and connecting to a mounting substrate. is there.

図において符号1は絶縁性フレキシブル基板、3は該
絶縁性フレキシブル基板1の表面に形成された高周波用
電極、4は該絶縁性フレキシブル基板1の表面に形成さ
れたバイアス供給用電極、5は該絶縁性フレキシブル基
板1の表面に形成された接地用電極である。高周波用電
極3、接地用電極5および絶縁性フレキシブル基板1は
導波路6を構成する。
In the figure, reference numeral 1 is an insulating flexible substrate, 3 is a high frequency electrode formed on the surface of the insulating flexible substrate 1, 4 is a bias supply electrode formed on the surface of the insulating flexible substrate 1, and 5 is a bias supply electrode. It is a grounding electrode formed on the surface of the insulating flexible substrate 1. The high frequency electrode 3, the ground electrode 5 and the insulating flexible substrate 1 form a waveguide 6.

また、20はボンディング用導電体柱である。ボンディ
ング用導電体柱20は絶縁性フレキシブル基板1を貫通
し、前記それぞれの電極3,4,5と接続している。また、
該導電体柱20の少なくとも一側は第2図,第5図に示す
ようにフレキシブル基板1の表面から突起されるのが好
ましい。
Further, 20 is a conductor pillar for bonding. The bonding conductor column 20 penetrates the insulating flexible substrate 1 and is connected to the respective electrodes 3, 4, 5. Also,
At least one side of the conductor column 20 is preferably projected from the surface of the flexible substrate 1 as shown in FIGS.

はじめに、本発明の第1の実施例での導波路形フィル
ムキャリアの製造方法における導電体柱の形成法の1例
を第4図(a)〜(e)を用いて説明する。本実施例の
導波路形フィルムキャリアを製造するには、ポリイミド
樹脂、エポキシ樹脂等の絶縁性フレキシブル基板1の表
裏面に、たとえば銅等の導電体膜16をスパッタ、蒸着等
により堆積した後(第4図(a))、両面にホトレジス
ト17を塗布、露光、現像する(第4図(b))。現像に
よって開口した領域18で該絶縁性フレキシブル基板1に
堆積した金属および絶縁性フレキシブル基板1を除去
し、貫通孔19を形成し(第4図(c)(d))、さら
に、該貫通孔19をメッキ等により金属で充填しボンディ
ング用導電体柱20を形成する(第4図(e))。
First, an example of the method of forming the conductor columns in the method of manufacturing the waveguide type film carrier according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 (a) to 4 (e). In order to manufacture the waveguide type film carrier of this embodiment, a conductor film 16 of copper or the like is deposited on the front and back surfaces of the insulating flexible substrate 1 of polyimide resin, epoxy resin or the like by sputtering, vapor deposition or the like ( 4 (a)), a photoresist 17 is applied on both sides, exposed and developed (FIG. 4 (b)). The metal deposited on the insulative flexible substrate 1 and the insulative flexible substrate 1 are removed in a region 18 opened by development, and a through hole 19 is formed (FIGS. 4 (c) and (d)). 19 is filled with metal by plating or the like to form a conductor column 20 for bonding (FIG. 4 (e)).

その後、ホトレジストの塗布、露光、現像を行い、該
絶縁性フレキシブル基板1に堆積した金属をエッチング
により除去し、高周波用電極3、バイアス供給用電極
4、接地用電極5等のパターニングを行う。さらに所定
の個所にホト工程、メッキ工程を繰り返すことによっ
て、該絶縁性フレキシブル基板1の上の高周波用電極
3、バイアス供給用電極4、接地用電極5およびボンデ
ィング用導電体柱20の補強をするとともに、バンプ8を
さらに形成する場合もある。
After that, a photoresist is applied, exposed, and developed, the metal deposited on the insulating flexible substrate 1 is removed by etching, and the high frequency electrode 3, the bias supply electrode 4, the ground electrode 5 and the like are patterned. Further, the high frequency electrode 3, the bias supply electrode 4, the ground electrode 5 and the bonding conductor column 20 on the insulating flexible substrate 1 are reinforced by repeating the photo process and the plating process at predetermined locations. At the same time, bumps 8 may be further formed.

次に第5図(a)を用いて導波路形フィルムキャリア
とベアチップ半導体素子9を接続する方法の一例を説明
する。ボンディング用導電体柱20とベアチップ半導体素
子9上に形成された電極パッド10が重なるように導波路
形フィルムキャリアをベアチップ半導体素子9の所定の
位置に持って行き、ボンディング用導電体柱20とベアチ
ップ半導体素子9表面の電極パッド10との間をキャピラ
リー11で加熱し熱圧着あるいは超音波等の技術を用いて
接続して、導波路形フィルムキャリアとベアチップ半導
体素子9とを接続・実装する。
Next, an example of a method of connecting the waveguide type film carrier and the bare chip semiconductor element 9 will be described with reference to FIG. The waveguide type film carrier is brought to a predetermined position of the bare chip semiconductor element 9 so that the bonding conductor pillar 20 and the electrode pad 10 formed on the bare chip semiconductor element 9 overlap each other, and the bonding conductor pillar 20 and the bare chip are carried. The waveguide 11 and the bare chip semiconductor element 9 are connected and mounted by heating the electrode pad 10 on the surface of the semiconductor element 9 with the capillary 11 and connecting them by using a technique such as thermocompression bonding or ultrasonic waves.

次に、ベアチップ半導体素子9を接続・実装した導波
路形フィルムキャリアを実装用基板12に接続・実装する
方法について第5図(b),(c)を用いて説明する。
Next, a method of connecting and mounting the waveguide type film carrier to which the bare chip semiconductor element 9 is connected and mounted on the mounting substrate 12 will be described with reference to FIGS. 5 (b) and 5 (c).

まず、第1の実施例は第5図(b)に示すように導波
路形フィルムキャリアごと実装用基板12上の所定の位置
に持って行き、ボンディング用導電体柱20と実装用基板
12表面の電極13との間をキャピラリー11で加熱し熱圧着
あるいは超音波等の技術を用いて導波路形フィルムキャ
リアと実装用基板12を接続・実装し、その後ベアチップ
半導体素子9の裏面と実装用基板12の間をはんだ等によ
り溶融接続する(図示せず)。
First, in the first embodiment, as shown in FIG. 5 (b), the waveguide type film carrier is brought to a predetermined position on the mounting substrate 12, and the conductor column 20 for bonding and the mounting substrate are mounted.
12 The surface of the electrode 13 is heated by the capillary 11, and the waveguide type film carrier and the mounting substrate 12 are connected and mounted by using a technique such as thermocompression bonding or ultrasonic waves, and then the back surface of the bare chip semiconductor element 9 is mounted. The substrates 12 are fused and connected by solder or the like (not shown).

また、第2の実装の実装例は第5(c)図に示すよう
にベアチップ半導体素子9を接続・実装した導波路形フ
ィルムキャリアをベアチップ半導体素子9の電極面が実
装用基板12の電極13面となるように導波路形フィルムキ
ャリアを反転させて、導波路形フィルムキャリアごと実
装用基板12上の所定の位置に持って行き、ボンディング
用導電体柱20と実装用基板12表面の電極13との間をキャ
ピラリー11で加熱し熱圧着あるいは超音波等の技術を用
いて接続して導波路形フィルムキャリアと実装用基板12
とを接続・実装する。
In the mounting example of the second mounting, as shown in FIG. 5 (c), the waveguide type film carrier to which the bare chip semiconductor element 9 is connected and mounted is provided with the electrode surface of the bare chip semiconductor element 9 on the electrode 13 of the mounting substrate 12. The waveguide type film carrier is inverted so that it becomes a surface, and it is brought to a predetermined position on the mounting substrate 12 together with the waveguide type film carrier, and the bonding conductor pillar 20 and the electrode 13 on the surface of the mounting substrate 12 And a substrate 11 for mounting the waveguide type film carrier and the mounting substrate 12 by connecting with a capillary 11 by using a technique such as thermocompression bonding or ultrasonic waves.
Connect and implement.

最後に、第5図(b)および第5図(c)に示すいず
れの実装例の場合も、切断部14(第5図(a))で切断
して不要の絶縁性フレキシブル基板を廃棄する。
Finally, in any of the mounting examples shown in FIG. 5 (b) and FIG. 5 (c), unnecessary insulating flexible boards are discarded by cutting at the cutting portion 14 (FIG. 5 (a)). .

第1図に示す導波路形フィルムキャリアによれば、ベ
アチップ半導体素子9と実装用基板12との間をインピー
ダンス的に整合を取ったコプレーナ導波路6(第3図参
照)で接続し、しかもボンディング用導電体柱20を用い
ることで該導波路6をベアチップ半導体素子9、実装用
基板12に対して電気的に直近で接続することができるた
め、従来のワイヤ,リボン等による接続に比べて高周波
特性の改善が図れるとともに高密度にベアチップ半導体
実装を可能にできる。また、ボンディング用導電体柱20
が該絶縁性フレキシブル基板1を貫通して形成されてい
るため、キャピラリー11で与えられるボンディングエネ
ルギをボンディング用導電体柱20からベアチップ半導体
素子9表面の電極パッド10、実装用基板12表面の電極13
等の被接続部に容易に伝達でき、接続の信頼性を改善で
きる。
According to the waveguide type film carrier shown in FIG. 1, the bare chip semiconductor element 9 and the mounting substrate 12 are connected by the coplanar waveguide 6 (see FIG. 3) which is impedance-matched, and the bonding is performed. Since the waveguide 6 can be electrically connected to the bare chip semiconductor element 9 and the mounting substrate 12 in the immediate vicinity by using the conductor pillars 20 for a high frequency, compared with the conventional connection using a wire, a ribbon, or the like, The characteristics can be improved and the bare chip semiconductor mounting can be performed at high density. In addition, the conductor column 20 for bonding
Since the insulating flexible substrate 1 is formed through the insulating flexible substrate 1, the bonding energy provided by the capillary 11 is transferred from the bonding conductor pillar 20 to the electrode pad 10 on the surface of the bare chip semiconductor element 9 and the electrode 13 on the surface of the mounting substrate 12.
It can be easily transmitted to the connected part such as, and the reliability of the connection can be improved.

コプレーナ導波路の特性インピーダンスは、フィル
ムの誘電率、フィルムの厚さ、高周波用電極3のパ
ターン幅l1、高周波用電極3と接地用電極5との間の
ギャップ寸法l2、により決まる。ここでは、導波路形フ
ィルムキャリアにおいて高周波用電極3のパターン幅
および高周波用電極3と接地用電極5との間のギャッ
プ寸法を変えて、インピーダンス的に整合を取った導波
路形フィルムキャリアを実現することが可能である。パ
ターン変更は、フォトマスクパターンの変更により対処
は容易である。
The characteristic impedance of the coplanar waveguide is determined by the dielectric constant of the film, the thickness of the film, the pattern width l 1 of the high frequency electrode 3, and the gap dimension l 2 between the high frequency electrode 3 and the ground electrode 5. Here, in the waveguide type film carrier, the pattern width of the high frequency electrode 3 and the gap size between the high frequency electrode 3 and the ground electrode 5 are changed to realize a waveguide type film carrier in which impedance matching is achieved. It is possible to The pattern change can be easily dealt with by changing the photomask pattern.

なお、バイアス供給用電極4は高周波用電極3と異な
るように記載しているが、バイアス供給用電極4の一部
を接地用電極として扱うことにより接地用電極に挟まれ
たバイアス供給用電極が構成され、コプレーナ導波路構
造となる。したがって、バイアス供給用電極4にも、コ
プレーナ導波路構造の考え方を適用できるのは明らかで
ある。以下の実施例についても同様である。
Although the bias supply electrode 4 is described differently from the high frequency electrode 3, the bias supply electrode sandwiched between the ground electrodes is treated by treating a part of the bias supply electrode 4 as a ground electrode. As a result, a coplanar waveguide structure is formed. Therefore, it is obvious that the idea of the coplanar waveguide structure can be applied to the bias supply electrode 4. The same applies to the following examples.

また、上記した図示例では、高周波用電極3と接地用
電極5を構成する導電体を絶縁性フレキシブル基板1の
片面にのみ形成しているが、さらに絶縁性フレキシブル
基板1の他の片面にも接地用電極用の導電体を形成して
もよい。
Further, in the above-described illustrated example, the conductors forming the high frequency electrode 3 and the ground electrode 5 are formed only on one surface of the insulative flexible substrate 1, but also on the other surface of the insulative flexible substrate 1. A conductor for the ground electrode may be formed.

実施例2 第6図〜第9図は本発明の第2の実施例を説明する図
であって、第6図は上面図、第7図は高周波用電極3部
分の導波路形フィルムキャリアの信号伝搬方向の断面
図、第8図はマイクロストリップ線路の断面図、第9図
は高周波用電極接続するボンディング用導電体柱と接地
用電極との関係を説明する斜視図である。
Embodiment 2 FIGS. 6 to 9 are views for explaining the second embodiment of the present invention. FIG. 6 is a top view and FIG. 7 is a waveguide type film carrier of the high frequency electrode 3 portion. FIG. 8 is a cross-sectional view in the signal propagation direction, FIG. 8 is a cross-sectional view of a microstrip line, and FIG. 9 is a perspective view for explaining the relationship between a bonding conductor column for connecting a high frequency electrode and a grounding electrode.

図中符号1は絶縁性フレキシブル基板、3は該絶縁性
フレキシブル基板1の表面に形成された高周波用電極、
4は該絶縁性フレキシブル基板1の表面に形成されたバ
イアス供給用電極、5は該絶縁性フレキシブル基板1の
裏面に形成された接地用電極、6は高周波用電極3、接
地用電極5および絶縁性フレキシブル基板1から成る導
波路、8はバンプ、20はボンディング用導電体柱、21は
高周波用電極3と接地用電極5の短絡防止用開口部であ
る。
In the figure, reference numeral 1 is an insulating flexible substrate, 3 is a high frequency electrode formed on the surface of the insulating flexible substrate 1,
Reference numeral 4 is a bias supply electrode formed on the surface of the insulating flexible substrate 1, 5 is a grounding electrode formed on the back surface of the insulating flexible substrate 1, 6 is a high frequency electrode 3, a grounding electrode 5 and insulation. Of the flexible flexible substrate 1, 8 is a bump, 20 is a conductor column for bonding, and 21 is an opening for preventing short circuit between the high frequency electrode 3 and the ground electrode 5.

この実施例は、第8図に示すように高周波用電極3、
接地用電極5および絶縁性フレキシブル基板1から成る
導波路6の構造をマイクロストリップ路構造としたもの
である。このように導波路構造がマイクロストリップ路
構造であるため、高周波用電極3の裏面には接地用電極
5が必ず形成されるので、第9図に示すように接地用電
極5の一部に開口部21を設け、高周波用電極3と接地用
電5との短絡を防ぐ構造とした。
In this embodiment, as shown in FIG.
The structure of the waveguide 6 including the grounding electrode 5 and the insulating flexible substrate 1 is a microstrip path structure. Since the waveguide structure is the microstrip structure as described above, the ground electrode 5 is always formed on the back surface of the high-frequency electrode 3, so that an opening is formed in a part of the ground electrode 5 as shown in FIG. The portion 21 is provided so as to prevent a short circuit between the high frequency electrode 3 and the grounding electrode 5.

この実施例で導波路形フィルムキャリアの製造方法、
ベアチップ半導体素子の導波路形フィルムキャリアへの
接続方法、導波路形フィルムキャリアの実装基板への接
続方法は第1の実施例とほぼ同様である。
In this embodiment, a method of manufacturing a waveguide type film carrier,
The method of connecting the bare chip semiconductor element to the waveguide film carrier and the method of connecting the waveguide film carrier to the mounting substrate are almost the same as those in the first embodiment.

マイクロストリップ線路の特性インピーダンスは、
フィルムの誘電率、フィルムの厚さ、高周波用電極
のパターン幅、により決まる。ここでは、導波路形フィ
ルムキャリアにおいて高周波用電極のパターン幅を変
えて、インピーダンス的に整合を取った導波路形フィル
ムキャリアを実現することが可能である。パターン変更
は、フォトマスクパターンの変更により対処は容易であ
る。なお、実施例では、電極幅を変えていないのは、チ
ップの入出力インピーダンスが一定と仮定したためであ
る。
The characteristic impedance of the microstrip line is
It is determined by the dielectric constant of the film, the thickness of the film, and the pattern width of the high frequency electrode. Here, it is possible to realize a waveguide-type film carrier that is impedance-matched by changing the pattern width of the high-frequency electrode in the waveguide-type film carrier. The pattern change can be easily dealt with by changing the photomask pattern. In the embodiment, the electrode width is not changed because it is assumed that the input / output impedance of the chip is constant.

この実施例によれば前記した第1の実施例と同様、ベ
アチップ半導体素子9と実装用基板12との間をインピー
ダンス的に整合を取った導波路6で接続し、しかもボン
ディング用導電体柱20を用いることで該導波路6をベア
チップ半導体素子に電気的に直近で接続することができ
るため、従来のワイヤ,リボン等による接続に比べて高
周波特性の改善が図れるとともに高密度にベアチップ半
導体実装を可能にできる。また、ボンディング用導電体
柱20が該絶縁性フレキシブル基板1を貫通して形成され
ているため、キャピラリーで与えられるボンディングエ
ネルギをボンディング用導電体柱からベアチップ半導体
素子表面の電極パッド、実装用基板表面の電極等の被接
続部に容易に伝達でき、接続の信頼性を改善できる。
According to this embodiment, similarly to the first embodiment, the bare chip semiconductor element 9 and the mounting substrate 12 are connected by the waveguide 6 which is impedance-matched, and moreover, the bonding conductor pillar 20. Since it is possible to electrically connect the waveguide 6 to the bare chip semiconductor element in the immediate vicinity by using, the high frequency characteristics can be improved and the bare chip semiconductor can be mounted at high density as compared with the conventional connection by a wire, a ribbon or the like. Can be possible. Further, since the bonding conductor pillar 20 is formed so as to penetrate the insulating flexible substrate 1, the bonding energy provided by the capillary is transferred from the bonding conductor pillar to the electrode pads on the surface of the bare chip semiconductor element and the mounting substrate surface. It can be easily transmitted to the connected part such as the electrode, and the reliability of the connection can be improved.

なお、上記した図示例では、高周波用電極3を構成す
る導電体を絶縁性フレキシブル基板1の片面に形成して
いるが、これに代えて高周波用電極3の導電体を絶縁性
フレキシブル基板1の内部に形成してもよい。
In the illustrated example described above, the conductor forming the high frequency electrode 3 is formed on one surface of the insulating flexible substrate 1, but instead of this, the conductor of the high frequency electrode 3 is formed on the insulating flexible substrate 1. It may be formed inside.

実施例3 第10図は本発明の第3の実施例を説明する図であっ
て、複数のベアチップ半導体素子を接続する導波路形フ
ィルムキャリアの例である。図において符号1は絶縁性
フレキシブル基板、3は該絶縁性フレキシブル基板1の
表面に形成された高周波用電極、4は該絶縁性フレキシ
ブル基板1の表面に形成されたバイアス供給用電極、5
は該絶縁性フレキシブル基板1の表面に形成された接地
用電極、6は導波路、20はボンディング用導電体柱であ
る。
Embodiment 3 FIG. 10 is a view for explaining a third embodiment of the present invention, which is an example of a waveguide type film carrier for connecting a plurality of bare chip semiconductor elements. In the figure, reference numeral 1 is an insulating flexible substrate, 3 is a high frequency electrode formed on the surface of the insulating flexible substrate 1, 4 is a bias supply electrode formed on the surface of the insulating flexible substrate 1, 5
Is a grounding electrode formed on the surface of the insulating flexible substrate 1, 6 is a waveguide, and 20 is a conductor pillar for bonding.

この実施例は複数のベアチップ半導体素子を接続する
コプレーナ導波路形フィルムキャリアの例であり、高周
波用電極3、バイアス供給用電極4および接地用電極5
が複数組形成されている。本実施例の製造方法は第1の
実施例とほぼ同様である。また、複数のベアチップ半導
体素子(図示せず)を導波路形フィルムキャリアに接続
・実装するには、1つ1つのベアチップ半導体素子(図
示せず)を導波路形フィルムキャリアに第1の実施例で
述べた方法で接続・実装し、これを繰り返して行う。こ
の導波路形フィルムキャリアを実装用基板に接続・実装
する方法は第1の実施例とほぼ同様に、第5図(b),
(c)で示す2つの方法で実装される。
This embodiment is an example of a coplanar waveguide type film carrier for connecting a plurality of bare chip semiconductor elements, and includes a high frequency electrode 3, a bias supply electrode 4 and a ground electrode 5.
Are formed in plural sets. The manufacturing method of this embodiment is almost the same as that of the first embodiment. In addition, in order to connect and mount a plurality of bare chip semiconductor devices (not shown) to the waveguide type film carrier, one bare chip semiconductor device (not shown) is used as the waveguide type film carrier. Connect and implement by the method described in, and repeat this. The method of connecting / mounting this waveguide type film carrier to the mounting substrate is similar to that of the first embodiment, as shown in FIG.
It is implemented by two methods shown in (c).

この実施例でも前記した第1,第2の実施例と同様の効
果が得られる。また、この実施例では、さらに導波路形
フィルムキャリアのパターンは通常のホトリソ技術で容
易に変更できるため、パッケージの統一化が容易である
等の利点も得られる。
Also in this embodiment, the same effect as that of the first and second embodiments can be obtained. Further, in this embodiment, since the pattern of the waveguide type film carrier can be easily changed by the usual photolithography technique, it is possible to obtain an advantage that the package can be easily unified.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明の導波路形フィルムキャリアによれば、高周波
用電極、バイアス供給用電極等をボンディング用導電体
柱によってベアチップ半導体素子に電気的に接続するこ
とができ、従来のワイヤ,リボン等を用いる接続に比べ
て、上記導電体柱は絶縁性フレキシブル基板中に貫通さ
れたままであることから、機械的に強固な固定が実現で
き、また導電体柱同士が接触することもないため、高密
度実装が行なえる。
According to the waveguide type film carrier of the present invention, it is possible to electrically connect the high frequency electrode, the bias supply electrode and the like to the bare chip semiconductor element by the bonding conductor pillar, and the conventional connection using the wire, ribbon and the like. Compared with the above, since the conductor pillar is still pierced in the insulating flexible substrate, mechanically strong fixing can be realized, and since the conductor pillars are not in contact with each other, high-density mounting is possible. I can do it.

また、高周波用電極と接地用電極および絶縁性フレキ
シブル基板を組合せて導波路を構成する場合には、上記
の如く電極にボンディング用導電体柱が接続されて形成
されていることと相まって、導波路をベアチップ半導体
素子等に電気的に真近に接続することができ、従来のワ
イヤ,リボン等による接続に比べて高周波特性の改善が
図れる。
When the high frequency electrode, the ground electrode, and the insulating flexible substrate are combined to form a waveguide, the waveguide is connected to the electrode as described above to form a waveguide. Can be electrically connected to a bare chip semiconductor element or the like, and high-frequency characteristics can be improved as compared with the conventional connection using wires, ribbons, or the like.

さらに、高周波用電極、バイアス供給用電極および接
地用電極を複数組有する場合には、マイクロ波デバイス
のマルチチップあるいは複数のベアチップ半導体素子を
一括して接続でき、作業性が非常に良くなる。また製造
過程において導波路形フィルムキャリアパターン変更が
容易であることから、マルチチップ実装用パッケージの
統一化も図れる。
Furthermore, when a plurality of sets of high frequency electrodes, bias supply electrodes, and ground electrodes are provided, multichip or a plurality of bare chip semiconductor elements of a microwave device can be collectively connected, and workability is greatly improved. Further, since it is easy to change the waveguide type film carrier pattern in the manufacturing process, it is possible to unify the packages for multi-chip mounting.

また、導波路形フィルムキャリアをベアチップ半導体
素子等に接続するに際し、ボンディング用導電体柱の接
続面は反対面の面からキャピラリー等によって熱およ
び、または超音波振動を加えるように行えば、容易に接
続が行なえる等の効果を有する。
Further, when connecting the waveguide film carrier to the bare chip semiconductor element or the like, it is easy to apply heat and / or ultrasonic vibration by a capillary or the like from the surface opposite to the connection surface of the bonding conductor pillar, which is easy. It has effects such as connection.

また、ボンディング用導電体柱によってフィルムキャ
リアと半導体素子等とを接続させる工程とは別に、ボン
ディング用導電体柱を形成する工程を専用に備えるの
で、ボンディング用導電体柱を所望通りの形状に仕上げ
るのは、端子接続前の段階であり機械的な成形方法が自
由に行えることもあってきわめて容易に行え、したがっ
て、設計どおりの導波路を得るのに有利になる。
Further, in addition to the step of forming the bonding conductor pillars separately from the step of connecting the film carrier and the semiconductor element etc. by the bonding conductor pillars, the bonding conductor pillars are finished in a desired shape. This is a step before connecting the terminals and can be performed very easily because the mechanical forming method can be freely performed. Therefore, it is advantageous to obtain the waveguide as designed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の第1の実施例のコプレーナ導波路形フ
ィルムキャリアの上面図、第2図は高周波用電極部分の
導波路形フィルムキャリアの信号伝搬方向の断面図、第
3図はコプレーナ導波路を説明する斜視図、第4図
(a)〜(e)はボンディング用導電体柱の製造工程を
説明する図、第5図(a)はベアチップ半導体素子を接
続した場合の断面図、第5図(b),(c)は実装用基
板に接続した場合の断面図、第6図は本発明第2の実施
例の導波路形フィルムキャリアの上面図、第7図は高周
波用電極部分の導波路形フィルムキャリアの信号伝搬方
向の断面図、第8図はマイクロストリップ線路の断面
図、第9図は高周波用電極接続するボンディング用導電
体柱と接地用電極との関係を説明する斜視図、第10図は
本発明第3の実施例の導波路形フィルムキャリアの上面
図である。 また、第11図、第12図はそれぞれ従来のフィルムキャリ
アの上面図、断面図、第13図(a)はフィルムキャリア
にベアチップ半導体素子を接続した場合の断面図、第13
図(b)はフィルムキャリアを実装用基板に接続した場
合の断面図、第14図,第15図は先行技術の導波路形フィ
ルムキャリアの上面図、断面図である。 1……絶縁性フレキシブル基板、2……開口部、3……
高周波電極、4……バイアス供給用電極、5……接地用
電極、6……導波路、R……リード、7……接着剤、8
……バンプ、9……ベアチップ半導体素子、10……電極
パッド、11……キャピラリー、12……実装用基板、13…
…電極、14……接続部、15……第2の開口部、16……導
電体膜、17……レジスト膜、18……レジスト膜における
開口部、19……貫通孔、20……導電体柱、21……高周波
用電極と接地用電極の短絡防止用開口部。
FIG. 1 is a top view of a coplanar waveguide type film carrier according to the first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view of the waveguide type film carrier of a high frequency electrode portion in a signal propagation direction, and FIG. 3 is a coplanar. FIG. 4A is a perspective view illustrating a waveguide, FIGS. 4A to 4E are diagrams illustrating a manufacturing process of a bonding conductor column, and FIG. 5A is a cross-sectional view when a bare chip semiconductor element is connected. 5 (b) and 5 (c) are cross-sectional views when connected to a mounting substrate, FIG. 6 is a top view of a waveguide type film carrier according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a high frequency electrode. 8 is a sectional view of the waveguide type film carrier in the signal propagation direction, FIG. 8 is a sectional view of a microstrip line, and FIG. 9 is a diagram illustrating the relationship between a bonding conductor column for connecting a high frequency electrode and a grounding electrode. FIG. 10 is a perspective view showing the third embodiment of the present invention. It is a top view of a road-shaped film carrier. Further, FIGS. 11 and 12 are a top view and a sectional view of a conventional film carrier, respectively, and FIG. 13 (a) is a sectional view when a bare chip semiconductor element is connected to the film carrier, and
FIG. 1B is a sectional view when the film carrier is connected to a mounting substrate, and FIGS. 14 and 15 are a top view and a sectional view of a waveguide type film carrier of the prior art. 1 ... Insulating flexible substrate, 2 ... Aperture, 3 ...
High frequency electrode, 4 ... Bias supply electrode, 5 ... Grounding electrode, 6 ... Waveguide, R ... Lead, 7 ... Adhesive, 8
...... Bumps, 9 ... Bare chip semiconductor elements, 10 ... Electrode pads, 11 ... Capillaries, 12 ... Mounting substrate, 13 ...
… Electrode, 14… Connection part, 15… Second opening, 16… Conductor film, 17… Resist film, 18… Opening in resist film, 19… Through hole, 20… Conductivity Body column, 21 ... Opening to prevent short circuit between high frequency electrode and ground electrode.

フロントページの続き (72)発明者 大崎 孝明 東京都千代田区内幸町1丁目1番6号 日本電信電話株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−199023(JP,A) 特開 昭64−84626(JP,A) 特開 昭64−84625(JP,A)Front Page Continuation (72) Inventor Takaaki Osaki 1-1-6 Uchisaiwaicho, Chiyoda-ku, Tokyo Inside Nippon Telegraph and Telephone Corporation (56) Reference JP 62-199023 (JP, A) JP 64-84626 (JP, A) JP-A-64-84625 (JP, A)

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】絶縁性フレキシブル基板と、 前記絶縁性フレキシブル基板の表面に形成された高周波
用電極およびバイアス供給用電極と、 前記高周波電極およびバイアス供給用電極のうち少なく
とも前記高周波用電極の両側に形成された接地用電極
と、 それら電極とそれぞれ接続されて前記絶縁性フレキシブ
ル基板の裏面まで貫通して形成されたボンディング用導
電体柱と から構成されたことを特徴とする導波路形フィルムキャ
リア。
1. An insulating flexible substrate, a high frequency electrode and a bias supply electrode formed on the surface of the insulating flexible substrate, and at least both sides of the high frequency electrode of the high frequency electrode and the bias supply electrode. A waveguide type film carrier, comprising: formed grounding electrodes; and bonding conductor columns that are respectively connected to the electrodes and penetrate to the back surface of the insulating flexible substrate.
【請求項2】絶縁性フレキシブル基板と、 前記絶縁性フレキシブル基板の表面あるいは内部に形成
された高周波用電極およびバイアス供給用電極と、 前記絶縁性フレキシブル基板の裏面において前記高周波
用電極と対向する位置に形成された接地用電極と、 前記高周波用電極および前記バイアス供給用電極とそれ
ぞれ接続されて前記絶縁性フレキシブル基板の裏面まで
貫通して形成されたボンディング用導電体柱と から構成され、 前記ボンディング用導電体柱を少なくとも3方向から取
り囲むように前記接地用電極の一部を切り欠いてあるこ
とを特徴とする導波路形フィルムキャリア。
2. An insulating flexible substrate, a high frequency electrode and a bias supplying electrode formed on the surface or inside of the insulating flexible substrate, and a position on the back surface of the insulating flexible substrate facing the high frequency electrode. A grounding electrode formed on the insulating high-frequency electrode and a biasing electrode connected to the high-frequency electrode and the biasing electrode, and a bonding conductor column formed to penetrate to the back surface of the insulating flexible substrate. A waveguide-type film carrier, wherein a part of the ground electrode is cut out so as to surround the conductor column for at least three directions.
【請求項3】前記絶縁性フレキシブル基板には、高周波
用電極、バイアス供給用電極および接地用電極が複数組
形成されていることを特徴とする請求項1または請求項
2記載の導波路形フィルムキャリア。
3. The waveguide film according to claim 1, wherein the insulating flexible substrate is formed with a plurality of sets of high frequency electrodes, bias supply electrodes and ground electrodes. Career.
【請求項4】請求項1〜3のいずれかに記載の導波路形
フィルムキャりアをベアチップ半導体素子、実装用基板
等の被接続物に端子接続する方法であって、 前記絶縁性フレキシブル基板を貫通するように予め形成
したボンディング用導電体柱の前記被接続物への接続面
とは反対側の面からキャピラリー等の連結用治具によっ
て熱および、または超音波振動を加えることにより、導
波路形フィルムキャリアと前記被接続物とを接続させる
ことを特徴とする導波路形フィルムキャリアの端子接続
方法。
4. A method of terminal-connecting the waveguide film carrier according to any one of claims 1 to 3 to an object to be connected such as a bare chip semiconductor element and a mounting substrate, wherein the insulating flexible substrate is used. By applying heat and / or ultrasonic vibration with a connecting jig such as a capillary from the surface of the bonding conductor column previously formed so as to penetrate through the surface opposite to the connection surface to the object to be connected, A terminal connection method for a waveguide film carrier, comprising connecting the waveguide film carrier and the object to be connected.
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JP3242817B2 (en) * 1995-07-13 2001-12-25 三菱電機株式会社 Microwave circuit device
JP3362636B2 (en) * 1997-06-24 2003-01-07 日立電線株式会社 Method for manufacturing TAB tape carrier

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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