JP2526194B2 - Hybrid IC - Google Patents

Hybrid IC

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JP2526194B2
JP2526194B2 JP4047105A JP4710592A JP2526194B2 JP 2526194 B2 JP2526194 B2 JP 2526194B2 JP 4047105 A JP4047105 A JP 4047105A JP 4710592 A JP4710592 A JP 4710592A JP 2526194 B2 JP2526194 B2 JP 2526194B2
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conductivity
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健一朗 杉本
真一 脇田
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Tatsuta Electric Wire and Cable Co Ltd
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Tatsuta Electric Wire and Cable Co Ltd
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    • HELECTRICITY
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    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/403Edge contacts; Windows or holes in the substrate having plural connections on the walls thereof

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  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、基板上の電子部品素
子が絶縁性樹脂の保護層により封止され、その上にシー
ルド層が形成されたハイブリッドICに関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a hybrid IC in which an electronic component element on a substrate is sealed with a protective layer made of an insulating resin and a shield layer is formed thereon.

【0002】[0002]

【従来の技術及びその課題】ハイブリッドICはプリン
ト配線基板上に実装して用いられ、その電子部品素子は
絶縁性樹脂の保護層によって被覆されて、外部環境から
の保護がなされ、さらにその上にシールド層が形成され
て、このハイブリッドICから出る電磁波の外部への影
響及び外部からハイブリッドICへの影響を遮断するよ
うになっている。
2. Description of the Related Art A hybrid IC is used by mounting it on a printed wiring board, and its electronic component element is covered with a protective layer of an insulating resin to protect it from the external environment. A shield layer is formed to block the external influence of the electromagnetic wave emitted from the hybrid IC and the external influence on the hybrid IC.

【0003】そのシールド層の形成には、金属ケースの
外装を設ける手段と、実開昭61−75192号公報等
に示される導電性物質を塗布する手段とがある。前者は
形状が大型となり高値である。一方、後者はハイブリッ
ドIC全体を小型化し得るとともに製作コストも安価で
あるという利点がある。
To form the shield layer, there are means for providing an outer case of a metal case and means for applying a conductive substance as disclosed in Japanese Utility Model Laid-Open No. 61-75192. The former has a large shape and is expensive. On the other hand, the latter has the advantages that the entire hybrid IC can be downsized and the manufacturing cost is low.

【0004】しかしながら、上記導電性物質には通常導
電性塗料が使用されるが、従来では塗布に適した粘性で
かつ十分な導電性を持つなどのシールド効果を十分に得
ることができるものが提案されていないのが実情であ
る。とくに作業性のよいディップコーティングに使用し
得る満足できるものはない。
However, a conductive paint is usually used as the above-mentioned conductive substance, but conventionally, a paint which has a viscosity suitable for coating and a sufficient conductivity and which can sufficiently obtain a shielding effect is proposed. The reality is that it has not been done. There is nothing satisfactory that can be used for dip coating, which has particularly good workability.

【0005】この発明は、上記実情に鑑み、シールド層
を、ディップコーティングが可能で、かつ十分な導電性
があるものとすることを課題とする。
In view of the above situation, it is an object of the present invention to make the shield layer dip-coatable and have sufficient conductivity.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、この発明にあっては、基板上に電子部品素子を搭
載し、その上を絶縁性樹脂の保護層で被覆するととも
に、所要数のリード端子をその保護層から突出させ、前
記保護層上に下記(A)乃至(D)の配合の導電塗料の
シールド層を形成し、そのシールド層は前記リード端子
のうちのグランドリード端子のみに電気的に接続した従
来周知のハイブリッドICにおいて、上記シールド層を
下記(A)乃至(D)の配合の導電塗料より成すことと
したのである。
In order to solve the above-mentioned problems, according to the present invention, an electronic component element is mounted on a substrate, and a protective layer of an insulating resin is formed on the electronic component element. A number of lead terminals are protruded from the protective layer, and a shield layer of conductive paint having the following composition (A) to (D) is formed on the protective layer, and the shield layer is a ground lead terminal among the lead terminals. In the well-known hybrid IC electrically connected only to the above, the shield layer is made of a conductive coating material having the composition of (A) to (D) below.

【0007】 記 (A)0.05〜0.2重量部のチタネート、ジルコネ
ート、またはその混合物により表面被覆した、金属銅粉
100重量部 (B)レゾール型フェノール樹脂5〜33重量部 (C)アミノ化合物0.5〜3.5重量部 (D)キレート層形成剤3.0〜10重量部。
Note (A) 100 parts by weight of metallic copper powder surface-coated with 0.05 to 0.2 parts by weight of titanate, zirconate, or a mixture thereof (B) 5 to 33 parts by weight of resol type phenolic resin (C) Amino compound 0.5 to 3.5 parts by weight (D) Chelate layer forming agent 3.0 to 10 parts by weight.

【0008】上記導電塗料は下記(A)乃至(E)の配
合のものとすることができる。 記 (A)0.05〜0.2重量部のチタネート、ジルコネ
ート、またはその混合物により表面被覆した、金属銅粉
100重量部 (B)レゾール型フェノール樹脂5〜30重量部 (C)チキソトロピック調整材0.5〜4重量部 (D)アミノ化合物0.5〜3.5重量部 (E)キレート層形成材3.0〜10重量部。
The above-mentioned conductive paint can be blended with the following (A) to (E). Note (A) 100 parts by weight of metallic copper powder surface-coated with 0.05 to 0.2 parts by weight of titanate, zirconate, or a mixture thereof (B) 5 to 30 parts by weight of resol type phenolic resin (C) thixotropic adjustment Material 0.5 to 4 parts by weight (D) Amino compound 0.5 to 3.5 parts by weight (E) Chelate layer forming material 3.0 to 10 parts by weight.

【0009】上記レゾール型フェノール樹脂は下記のも
のとするとよい。 記 2−1置換体、2,4−2置換体、2,4,6−3置換
体、メチロール基、ジメチレンエーテル、フェニル基の
各赤外線透過率をl,m,n,a,b,cとするとき、
各透過率の間に、 (イ)l/n=0.8〜1.2 (ロ)m/n=0.8〜1.2 (ハ)b/a=0.8〜1.2 (ニ)c/a=1.2〜1.5 なる関係が成り立つレゾール型フェノール樹脂。
The above-mentioned resol type phenol resin is preferably the following. The 2-1 substitution product, 2,4-2 substitution product, 2,4,6-3 substitution product, methylol group, dimethylene ether, each infrared transmittance of phenyl group is 1, m, n, a, b, When c,
Between each transmittance, (a) l / n = 0.8 to 1.2 (b) m / n = 0.8 to 1.2 (c) b / a = 0.8 to 1.2 ( D) A resole type phenolic resin in which the relationship of c / a = 1.2 to 1.5 is established.

【0010】上記保護層及びシールド層は、電子部品素
子を搭載した基板を絶縁性樹脂浴及び導電塗料浴に順次
浸漬するディップコーティングにより形成するとよい。
The protective layer and the shield layer may be formed by dip coating in which the substrate on which the electronic component element is mounted is sequentially dipped in an insulating resin bath and a conductive paint bath.

【0011】基板材料は、エポキシ樹脂、フェノール樹
脂、ガラス繊維、セラミックスなどの絶縁材とする。
The substrate material is an insulating material such as epoxy resin, phenol resin, glass fiber or ceramics.

【0012】上記金属銅粉は、片状、樹枝状、球状、不
定形状などのいずれの形状であってもよい。粒径は10
0μm以下が好ましく、特に1〜30μmが好ましい。
粒径が1μm未満のものは酸化されやすく、得られる塗
膜(コーティング膜)の導電性が低下するので好ましく
ない。
The metallic copper powder may have any shape such as flakes, dendritic shapes, spherical shapes, and irregular shapes. Particle size is 10
It is preferably 0 μm or less, and particularly preferably 1 to 30 μm.
Particles having a particle size of less than 1 μm are easily oxidized and the conductivity of the resulting coating film (coating film) is lowered, which is not preferable.

【0013】また、金属銅粉は、チタネート、ジルコネ
ート、またはその混合物(以下、分散性付与剤という)
により表面被覆することにより、樹脂混和物中への微細
分散が促進され、これにより導電塗料の品質の安定化お
よび導電性の改良をはかる。この分散性付与剤の添加量
は、金属銅粉100重量部に対して、0.05〜0.2
重量部である。分散性付与剤の添加量が0.05重量部
未満のときは、塗膜の導電性が低下し、0.2重量部を
超えるときは、銅箔(銅合金箔)との密着性及び半田耐
熱性が好ましくない。分散性付与剤はそれ自体を単体で
添加してもよく、また、溶液として添加した後、溶剤を
除去してもよい。因みに、この表面処理をすれば、分散
剤の添加が不要となる。
The metallic copper powder is titanate, zirconate, or a mixture thereof (hereinafter referred to as dispersibility-imparting agent).
The surface coating of the resin promotes fine dispersion in the resin mixture, thereby stabilizing the quality of the conductive paint and improving the conductivity. The amount of the dispersibility-imparting agent added is 0.05 to 0.2 with respect to 100 parts by weight of the metal copper powder.
Parts by weight. When the added amount of the dispersibility-imparting agent is less than 0.05 parts by weight, the conductivity of the coating film is reduced, and when it exceeds 0.2 parts by weight, the adhesion to the copper foil (copper alloy foil) and the solder Heat resistance is not preferable. The dispersibility-imparting agent may be added alone, or the solvent may be removed after being added as a solution. Incidentally, this surface treatment makes it unnecessary to add a dispersant.

【0014】上記レゾール型フェノール樹脂は、その含
有量が5重量部未満では、金属銅粉が十分にバインドさ
れず、得られる塗膜が脆くなる。また、33重量部、チ
キソトロピック調整剤を添加の場合には30重量部をこ
えると、導電性が低下する。好ましくは9〜20重量部
とする。
When the content of the resol-type phenol resin is less than 5 parts by weight, the metallic copper powder is not sufficiently bound and the resulting coating film becomes brittle. Further, if the amount exceeds 33 parts by weight, and if the amount exceeds 30 parts by weight in the case of adding the thixotropic adjusting agent, the conductivity will decrease. It is preferably 9 to 20 parts by weight.

【0015】また、その化学量、2−1置換体量をλ、
2,4−2置換体量をμ、2,4,6−3置換体量を
ν、メチロール基量をα、ジメチレンエーテル量をβ、
フェニル基量をγとすると、前記構成のl/n、m/n
が大きいということは、λ/ν、μ/νが小さいという
ことになる。すなわち、2−1置換体量λ、2,4−2
置換体量μに比して、2,4,6−3置換体量νが多い
ということを意味する。また、前記構成のb/a、c/
aが大きいということは、β/α、λ/αが小さいとい
うことになる。すなわち、ジメチレンエーテル量β、フ
ェニル基量λに比して、メチロール基量αが多いという
ことを意味する。
Further, the stoichiometry, the amount of the 2-1 substitution product is λ,
The amount of 2,4-2 substitution product is μ, the amount of 2,4,6-3 substitution product is ν, the amount of methylol group is α, the amount of dimethylene ether is β,
When the amount of phenyl group is γ, 1 / n and m / n of the above-mentioned constitution
Is large, it means that λ / ν and μ / ν are small. That is, the amount of 2-1 substitution product λ, 2,4-2
This means that the amount of 2,4,6-3 substitution product ν is larger than the substitution product amount μ. In addition, b / a, c /
A large a means that β / α and λ / α are small. That is, it means that the amount of methylol groups α is larger than the amount of dimethylene ether β and the amount of phenyl groups λ.

【0016】一般に、2,4,6−3置換体量νが大き
くなると、レゾール型フェノール樹脂の架橋密度が大き
くなるため、前記λ/ν、μ/νが小さい方が、すなわ
ち、l/n、m/nが大きい方が塗膜の導電性は良くな
る。しかし、逆に塗膜が硬く、脆くなる傾向を示し、物
理的特性が悪くなる。また、β/αが小さいと塗膜の半
田付性が悪くなり、γ/αが大きいと塗膜の導電性が悪
くなる。
Generally, when the 2,4,6-3 substitution product amount ν increases, the crosslink density of the resol-type phenol resin also increases, so that the smaller λ / ν and μ / ν, that is, 1 / n. , M / n is larger, the conductivity of the coating film is better. However, on the contrary, the coating film tends to be hard and brittle, and the physical properties deteriorate. If β / α is small, the solderability of the coating film is poor, and if γ / α is large, the conductivity of the coating film is poor.

【0017】従って、得られる導電塗料において、塗膜
の硬さを適切にし、良好な導電性と半田付性とを兼備す
るレゾール型フェノール樹脂としては、前記構成に示す
l/n、m/n、b/aがそれぞれ0.8〜1.2、c
/aが1.2〜1.5とするのが適している。
Therefore, in the obtained conductive coating material, the resol type phenolic resin having suitable hardness of the coating film and having good conductivity and solderability is the l / n, m / n shown in the above-mentioned constitution. , B / a are 0.8 to 1.2, and c, respectively.
It is suitable that / a is 1.2 to 1.5.

【0018】キレート層形成剤は、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、エチ
レンジアミン、トリエチレンジアミン、トリエチレンテ
トラミンなどの脂肪族アミンから選ばれる少なくとも1
種である。キレート層形成剤は、金属銅粉の酸化を防止
し、導電性の維持に寄与する。その配合量は、金属銅粉
100重量部に対して3.0〜10重量部である。配合
量が3.0重量部未満であると、塗膜の導電性が低下
し、逆に10重量部を超えた場合にも塗膜の導電性が低
下する。
The chelate layer forming agent is at least one selected from aliphatic amines such as monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, ethylenediamine, triethylenediamine and triethylenetetramine.
It is a seed. The chelate layer forming agent prevents oxidation of the metal copper powder and contributes to maintaining conductivity. The blending amount is 3.0 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the metal copper powder. If the blending amount is less than 3.0 parts by weight, the conductivity of the coating film decreases, and conversely, if it exceeds 10 parts by weight, the conductivity of the coating film also decreases.

【0019】チキソトロピック調整剤は、コーティング
時におけるだれを解消しようとするものである。この調
整剤としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニル
ホルマール樹脂、アクリル樹脂、パラビニルフェノール
樹脂などから選ばれる少なくとも1種類である。この調
整剤の配合量は、金属銅粉100重量部に対して0.5
〜4重量部である。この調整剤が0.5重量部未満であ
るときは、だれを改善することはできず、逆に4重量部
を越えるときは、塗膜の導電性が著しく低下する。
The thixotropic modifier is intended to eliminate sagging during coating. The adjusting agent is at least one selected from polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, acrylic resin, paravinylphenol resin and the like. The blending amount of this regulator is 0.5 with respect to 100 parts by weight of metallic copper powder.
~ 4 parts by weight. When the amount of this adjusting agent is less than 0.5 parts by weight, the sagging cannot be improved, and when it exceeds 4 parts by weight, the conductivity of the coating film is remarkably lowered.

【0020】アミノ化合物は、導電性向上剤に加え還元
剤として働き、金属銅粉の酸化を防止し、導電性の維持
に寄与する。その配合量は、金属銅粉100重量部に対
して0.5〜3.5重量部である。配合量が0.5重量
部未満では、塗膜の導電性が著しく低下し、逆に3.5
重量部を超えると、導電性が飽和して、それ以上の向上
は見られない。
The amino compound acts as a reducing agent in addition to the conductivity enhancer, prevents oxidation of the copper metal powder, and contributes to maintenance of conductivity. The blending amount is 0.5 to 3.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the metal copper powder. If the blending amount is less than 0.5 parts by weight, the conductivity of the coating film is remarkably lowered, and conversely 3.5.
When it exceeds the weight part, the conductivity is saturated and no further improvement is observed.

【0021】そのアミノ化合物の具体例としては、アニ
リン、ジフェニルアミン、フェニレンジアミン、ジアミ
ノナフタリン、アニシジン、アミノフェノール,ジアミ
ノフェノール、アセチルアミノフェノール、アミノベン
ゾイックアシッド、N,N−ジフェニルベンジジン等の
1種または数種が挙げられるが、これに限定されるもの
ではない。
Specific examples of the amino compound include aniline, diphenylamine, phenylenediamine, diaminonaphthalene, anisidine, aminophenol, diaminophenol, acetylaminophenol, aminobenzoic acid, N, N-diphenylbenzidine and the like, or There are several types, but the present invention is not limited thereto.

【0022】なお、導電塗料には、粘度調整をするため
に、通常の有機溶剤を適宜使用することができる。例え
ば、セルソルブアセテート、カルビトール、ブチルカル
ビトール、ブチルセロソルブアセテートなどの公知の溶
剤である。
For the conductive paint, a usual organic solvent can be appropriately used in order to adjust the viscosity. For example, known solvents such as cellosolve acetate, carbitol, butyl carbitol, and butyl cellosolve acetate.

【0023】[0023]

【作用】このように構成するこの発明に係る導電塗料は
上述の記載から理解できるように、塗膜の導電性および
密着性がすぐれ、かつ粘性が低くても塗膜の導電性が高
いものである。このため、保護層と同様に、シールド層
も導電塗料浴へのディップコーティングにより容易に形
成し得る。
As can be understood from the above description, the conductive coating material according to the present invention having such a structure has excellent conductivity and adhesiveness of the coating film, and has high conductivity even when the viscosity is low. is there. Therefore, like the protective layer, the shield layer can be easily formed by dip coating on the conductive paint bath.

【0024】[0024]

【実施例】まず、導電塗料は、粒径5〜10μmの比表
面積0.4m2 /g以下、水素還元減量0.25%以下
の樹枝状金属銅粉100重量部を攪拌機に入れて、チタ
ネートを少量ずつ添加しながら攪拌して、チタネートを
金属銅粉の表面に被覆させた。しかるのち、その金属銅
粉に、還元剤のアミノフェノール、キレート層形成剤の
トリエタノールアミン、表1に示す赤外線透過率比のレ
ゾール型フェノール樹脂、チキソトロピック調整剤であ
るポリビニルブチラール樹脂(BM−1、積水化学社
製)をそれぞれ表1に示す割合で配合し、溶剤として、
エチルカルビトールとブチルセロソルブの混合溶剤を加
え、20分間3軸ロールで定位置練りし、粘度がリオン
社製の測定機VT−04により20〜40Pとなるよう
にして、導電塗料浴を得た。
EXAMPLE First, 100 parts by weight of a dendritic metal copper powder having a particle size of 5 to 10 μm and a specific surface area of 0.4 m 2 / g or less and a hydrogen reduction weight loss of 0.25% or less was put into a stirrer to prepare a titanate. Was added little by little and stirred to coat the surface of the metal copper powder with titanate. After that, the copper metal powder was mixed with aminophenol as a reducing agent, triethanolamine as a chelate layer forming agent, a resol type phenol resin having an infrared transmittance ratio shown in Table 1, and a polyvinyl butyral resin (BM- 1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., respectively, in the proportions shown in Table 1, and used as a solvent.
A mixed solvent of ethyl carbitol and butyl cellosolve was added, and the mixture was kneaded in place with a triaxial roll for 20 minutes, and the viscosity was adjusted to 20 to 40 P using a measuring machine VT-04 manufactured by Rion Co., Ltd. to obtain a conductive paint bath.

【0025】エチルカルビトールや、ブチルセロソルブ
に代えて、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールア
セテート、ブチルセロソルブアセテート、メチルイソブ
チルケトン、トルエン、キシレン等公知のものを使用す
ることができる。
In place of ethyl carbitol or butyl cellosolve, known ones such as butyl carbitol, butyl carbitol acetate, butyl cellosolve acetate, methyl isobutyl ketone, toluene and xylene can be used.

【0026】[0026]

【表1】 [Table 1]

【0027】[0027]

【表2】 [Table 2]

【0028】一方、図1に示すように、エポキシ樹脂基
板1上に、各種チップ部品2、抵抗3等の電子部品素子
を搭載又は印刷して設けるとともに、その回路から所要
数のリード端子4……、4aを突出させる。
On the other hand, as shown in FIG. 1, electronic component elements such as various chip components 2 and resistors 3 are mounted or printed on the epoxy resin substrate 1 and the required number of lead terminals 4 ... ... 4a is projected.

【0029】その基板1を、グランドリード端子4aの
基部4a′をマスキングしてエポキシ樹脂浴中に浸漬
し、所要厚の保護層5を形成する。その浸漬の際、グラ
ンドリード端子4aの露出部(接続部)まで、すなわ
ち、接続部を残して浸漬し、他のリード端子4……間が
確実に樹脂で充填被覆されるようにする。これは、後述
のシールド層6とリード端子4を短絡させないためであ
る。
The substrate 1 is masked at the base portion 4a 'of the ground lead terminal 4a and immersed in an epoxy resin bath to form a protective layer 5 having a required thickness. At the time of the immersion, the ground lead terminals 4a are soaked up to the exposed portion (connection portion), that is, the connection portion is left so that the other lead terminals 4 ... Are reliably filled and covered with resin. This is to prevent short-circuiting between the shield layer 6 and the lead terminal 4 described later.

【0030】つづいて、その基板1を、前記マスキング
を外した状態で、前記導電塗料浴に浸漬して、所要厚の
シールド層6を形成する。その浸漬深さはリード端子
4、4a側の保護層5の縁に到らないようにする。この
浸漬により、前記マスキング部分4a′に導電塗料が入
り込んで、グランドリード端子4aとシールド層6が電
気的に接続される。
Subsequently, the substrate 1 is dipped in the conductive paint bath with the masking removed to form a shield layer 6 having a required thickness. The immersion depth should not reach the edge of the protective layer 5 on the side of the lead terminals 4 and 4a. By this immersion, the conductive paint enters the masking portion 4a ', and the ground lead terminal 4a and the shield layer 6 are electrically connected.

【0031】この実施例のハイブリッドICが優れてい
ることはつぎの試験によって理解できる。
The superiority of the hybrid IC of this embodiment can be understood by the following test.

【0032】すなわち、図2に示すように、表1の各導
電塗料bを80メッシュのテトロンスクリーンを用い
て、厚み1.6mmの紙フェノール基板32のスルーホー
ル33(穴径0.8mm)にスクリーン印刷によって埋め
込んだ。その後、25℃±5℃で24時間乾燥させた
後、エアーオーブンを用いて160℃で30分間加熱し
て、塗膜を硬化させた。
That is, as shown in FIG. 2, each conductive paint b shown in Table 1 was applied to a through hole 33 (hole diameter 0.8 mm) of a paper phenol substrate 32 having a thickness of 1.6 mm by using a 80 mesh Tetoron screen. Embedded by screen printing. Then, after drying at 25 ° C. ± 5 ° C. for 24 hours, it was heated at 160 ° C. for 30 minutes using an air oven to cure the coating film.

【0033】なお、図3に示すように、前記のスルーホ
ール33は穴20個が横方向に列をなし、このような列
A〜Kが多数設けられている。基板32の表側において
は、隣り合う各2つのスルーホール33、33……が銅
箔34により接続されており(同図a参照)、表側にお
いて銅箔34により接続されていない各2つのスルーホ
ール33、33……は、裏側において銅箔34’、3
4’により接続されている(同図b参照)。
As shown in FIG. 3, the through hole 33 has 20 holes forming a row in the lateral direction, and a large number of such rows A to K are provided. On the front side of the substrate 32, two adjacent through holes 33, 33 ... Are connected by a copper foil 34 (see a in the figure), and on the front side two through holes are not connected by the copper foil 34. 33, 33 ... are copper foils 34 ', 3 on the back side.
4 '(see b).

【0034】端部41〜42、42〜43、43〜44
の間における穴20個の直列抵抗値を測定し、20で除
してスルーホール1穴当りの抵抗値を得た。この抵抗値
により塗膜bの導電性を評価した結果を表2下欄に示
す。
Ends 41 to 42, 42 to 43, 43 to 44
The series resistance value of 20 holes in the interval was measured and divided by 20 to obtain the resistance value per hole. The results of evaluating the conductivity of the coating film b by this resistance value are shown in the lower column of Table 2.

【0035】この結果から明らかなように、実施例1〜
9においては、本発明に使用する特定の配合材料が適切
に組み合わされており、高い導電性を得ている。この導
電性が高いことは、塗膜b(導電塗料)自身の導電性が
高いことと併せて、スルーホール33内に円滑に塗料b
が流れこんだことを示し、ディップコーティングにおい
ても十分な塗布(コーティング)効果を得ることができ
ることを示す。
As is clear from this result, Examples 1 to 1
In No. 9, the specific compounding materials used in the present invention are properly combined and high conductivity is obtained. This high conductivity, together with the high conductivity of the coating film b (conductive coating material) itself, allows the coating material b to smoothly flow into the through hole 33.
Indicates that it has flowed in and that a sufficient coating (coating) effect can be obtained even in dip coating.

【0036】これに対して、比較例1は、ポリビニルブ
チラールが多すぎるので、導電性はよくない。また、比
較例2は、トリエタノールアミンが少ないため、導電性
が著しく低下している。比較例3はアミノフェノールを
有していないため、また、比較例4はレゾール型フェノ
ール樹脂が多すぎるため、いずれも導電性が悪い。比較
例5は導電性はレゾール型フェノール樹脂が少なく導電
性を測定し得る塗膜を形成できなかった。
On the other hand, in Comparative Example 1, since the amount of polyvinyl butyral is too large, the conductivity is not good. Further, in Comparative Example 2, since the amount of triethanolamine is small, the conductivity is remarkably lowered. Comparative Example 3 does not have aminophenol, and Comparative Example 4 has too much resol-type phenol resin, and thus has poor conductivity. In Comparative Example 5, the conductivity was low in the resol-type phenol resin, and a coating film capable of measuring the conductivity could not be formed.

【0037】また、チキソトロピック調整剤(ポリビニ
ルブチラール樹脂)を添加しない表3に示す実施例10
〜17及び比較例6〜9を用意し、前述と同様にして抵
抗値を測定した結果をその表の下欄に示す。
Further, Example 10 shown in Table 3 in which no thixotropic modifier (polyvinyl butyral resin) was added
-17 and Comparative Examples 6-9 were prepared, and the resistance values were measured in the same manner as described above. The results are shown in the lower column of the table.

【0038】[0038]

【表3】 [Table 3]

【0039】これからも実施例10〜17が導電性にお
いて優れていることが理解できる。比較例9は塗膜形成
に問題がある。
From this, it can be understood that Examples 10 to 17 are excellent in conductivity. Comparative Example 9 has a problem in forming a coating film.

【0040】なお、実施例1〜9はチキソトロピック調
整剤を添加しているので、添加していない実施例10〜
17に比べ、ディップコーティング後にだれを生じない
という利点がある。また、各実施例1〜5、10〜14
はレゾール型フェノール樹脂が表1の(I)のもので、
請求項3の要件を満たし、その樹脂が同一含有量の場合
には他のものに比べ、高い導電性を得る(実施例2と実
施例7〜9、実施例10と実施例15〜17参照)。
In Examples 1 to 9, the thixotropic adjusting agent was added, so that Examples 10 to 10 were not added.
Compared with No. 17, there is an advantage that no sagging occurs after dip coating. Moreover, each Example 1-5, 10-14.
Is a resol type phenolic resin (I) in Table 1,
When the content of the resin satisfies the requirement of claim 3 and the resin has the same content, higher conductivity is obtained compared to other resins (see Example 2 and Examples 7 to 9 and Example 10 and Examples 15 to 17). ).

【0041】[0041]

【発明の効果】この発明は以上のように構成したので、
ディップコーティングによって導電性の優れたシールド
層のハイブリッドICを得ることができる。また、作業
性もよく、製造コストの低減を図り得る。
Since the present invention is constructed as described above,
A hybrid IC with a shield layer having excellent conductivity can be obtained by dip coating. Further, the workability is good, and the manufacturing cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】aは一実施例の正面図、bは同図のX−X線断
面図
1 is a front view of one embodiment, and b is a sectional view taken along line XX of FIG.

【図2】抵抗値試験片の断面図FIG. 2 is a sectional view of a resistance test piece.

【図3】aは同試験片の平面図、bは同裏面の概略図FIG. 3A is a plan view of the same test piece, and b is a schematic view of the same back surface.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 チップ部品 3 抵抗 4 リード端子 4a グランドリード端子 5 保護層 6 シールド層 1 substrate 2 chip component 3 resistor 4 lead terminal 4a ground lead terminal 5 protective layer 6 shield layer

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 基板上に電子部品素子を搭載し、その上
を絶縁性樹脂の保護層で被覆するとともに、所要数のリ
ード端子をその保護層から突出させ、前記保護層上に下
記(A)乃至(D)の配合の導電塗料のシールド層を形
成し、そのシールド層は前記リード端子のうちのグラン
ドリード端子のみに電気的に接続して成ることを特徴と
するハイブリッドIC。 記 (A)0.05〜0.2重量部のチタネート、ジルコネ
ート、またはその混合物により表面被覆した、金属銅粉
100重量部 (B)レゾール型フェノール樹脂5〜33重量部 (C)アミノ化合物0.5〜3.5重量部 (D)キレート層形成剤3.0〜10重量部
1. An electronic component element is mounted on a substrate, the insulating layer is covered with a protective layer, and a required number of lead terminals are projected from the protective layer. ) To (D), a shield layer of conductive paint is formed, and the shield layer is electrically connected only to the ground lead terminal of the lead terminals. Note (A) 100 parts by weight of metallic copper powder surface-coated with 0.05 to 0.2 parts by weight of titanate, zirconate, or a mixture thereof (B) 5 to 33 parts by weight of resol type phenol resin (C) amino compound 0 0.5 to 3.5 parts by weight (D) Chelate layer forming agent 3.0 to 10 parts by weight
【請求項2】 上記導電塗料を下記(A)乃至(E)の
配合のものとしたことを特徴とする請求項1記載のハイ
ブリッドIC。 記 (A)0.05〜0.2重量部のチタネート、ジルコネ
ート、またはその混合物により表面被覆した、金属銅粉
100重量部 (B)レゾール型フェノール樹脂5〜30重量部 (C)チキソトロピック調整材0.5〜4重量部 (D)アミノ化合物0.5〜3.5重量部 (E)キレート層形成材3.0〜10重量部
2. The hybrid IC according to claim 1, wherein the conductive coating material is a mixture of the following (A) to (E). Note (A) 100 parts by weight of metallic copper powder surface-coated with 0.05 to 0.2 parts by weight of titanate, zirconate, or a mixture thereof (B) 5 to 30 parts by weight of resol type phenolic resin (C) thixotropic adjustment Material 0.5 to 4 parts by weight (D) Amino compound 0.5 to 3.5 parts by weight (E) Chelate layer forming material 3.0 to 10 parts by weight
【請求項3】 上記レゾール型フェノール樹脂を下記の
ものとしたことを特徴とする請求項1又は2記載のハイ
ブリッドIC。 記 2−1置換体、2,4−2置換体、2,4,6−3置換
体、メチロール基、ジメチレンエーテル、フェニル基の
各赤外線透過率をl,m,n,a,b,cとするとき、
各透過率の間に、 (イ)l/n=0.8〜1.2 (ロ)m/n=0.8〜1.2 (ハ)b/a=0.8〜1.2 (ニ)c/a=1.2〜1.5 なる関係が成り立つレゾール型フェノール樹脂。
3. The hybrid IC according to claim 1 or 2, wherein the resol type phenolic resin is as follows. The 2-1 substitution product, 2,4-2 substitution product, 2,4,6-3 substitution product, methylol group, dimethylene ether, each infrared transmittance of phenyl group is 1, m, n, a, b, When c,
Between each transmittance, (a) l / n = 0.8 to 1.2 (b) m / n = 0.8 to 1.2 (c) b / a = 0.8 to 1.2 ( D) A resole type phenolic resin in which the relationship of c / a = 1.2 to 1.5 is established.
【請求項4】 請求項1、2又は3のいずれか1つに記
載のハイブリッドICを製造するに際し、その保護層及
びシールド層を、電子部品素子を搭載した基板を絶縁性
樹脂浴又は導電塗料浴に浸漬するディップコーティング
により形成することを特徴とするハイブリッドICの製
造方法。
4. When manufacturing the hybrid IC according to any one of claims 1, 2 and 3, a protective layer and a shield layer of the hybrid IC are used as a substrate on which an electronic component element is mounted, an insulating resin bath or a conductive paint. A method for producing a hybrid IC, which is characterized in that the hybrid IC is formed by dip coating which is immersed in a bath.
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