JPH06164185A - Hybrid ic - Google Patents
Hybrid icInfo
- Publication number
- JPH06164185A JPH06164185A JP31193492A JP31193492A JPH06164185A JP H06164185 A JPH06164185 A JP H06164185A JP 31193492 A JP31193492 A JP 31193492A JP 31193492 A JP31193492 A JP 31193492A JP H06164185 A JPH06164185 A JP H06164185A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- parts
- shield layer
- pts
- hybrid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、基板上の電子部品素
子が絶縁性樹脂の保護層により封止され、その上にシー
ルド層が形成されたハイブリッドICに関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a hybrid IC in which an electronic component element on a substrate is sealed with a protective layer made of an insulating resin and a shield layer is formed thereon.
【0002】[0002]
【従来の技術及びその課題】ハイブリッドICはプリン
ト配線基板上に実装して用いられ、その電子部品素子は
絶縁性樹脂の保護層によって被覆されて、外部環境から
の保護がなされ、さらにその上にシールド層が形成され
て、このハイブリッドICから出る電磁波の外部への影
響及び外部からハイブリッドICへの影響を遮断するよ
うになっている。2. Description of the Related Art A hybrid IC is used by mounting it on a printed wiring board, and its electronic component element is covered with a protective layer of an insulating resin to protect it from the external environment. A shield layer is formed to block the external influence of the electromagnetic wave emitted from the hybrid IC and the external influence on the hybrid IC.
【0003】そのシールド層の形成には、金属ケースの
外装を設ける手段と、実開昭61−75192号公報等
に示される導電性物質を塗布する手段とがある。前者は
形状が大型となり高値である。一方、後者はハイブリッ
ドIC全体を小型化し得るとともに製作コストも安価で
あるという利点がある。To form the shield layer, there are means for providing an outer case of a metal case and means for applying a conductive substance as disclosed in Japanese Utility Model Laid-Open No. 61-75192. The former has a large shape and is expensive. On the other hand, the latter has the advantages that the entire hybrid IC can be downsized and the manufacturing cost is low.
【0004】しかしながら、上記導電性物質には通常導
電性塗料が使用されるが、従来では銅箔との高い密着性
を維持しつつ十分な導電性を持つなどのシールド効果を
十分に得ることができるものが提案されていないのが実
情である。However, although a conductive paint is usually used for the above-mentioned conductive material, conventionally, it is possible to obtain a sufficient shielding effect such as having sufficient conductivity while maintaining high adhesion with the copper foil. The reality is that nothing that can be done has been proposed.
【0005】この発明は、上記実情に鑑み、シールド層
を銅箔との密着性を維持しつつ十分な導電性があるもの
とすることを課題とする。In view of the above situation, it is an object of the present invention to make the shield layer have sufficient conductivity while maintaining the adhesion to the copper foil.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、この発明にあっては、基板上に電子部品素子を搭
載し、その上を絶縁性樹脂の保護層で被覆するととも
に、所要数のリード端子をその保護層から突出させ、前
記保護層上に、下記(A)乃至(D)の配合から成る導
電塗料のシールド層を形成し、そのシールド層は前記リ
ード端子のうちのグランドリード端子のみに電気的に接
続した構成としたのである。In order to solve the above problems, according to the present invention, an electronic component element is mounted on a substrate, and a protective layer made of an insulating resin is formed on the electronic component element. A number of lead terminals are projected from the protective layer, and a shield layer of conductive paint having the composition of (A) to (D) below is formed on the protective layer, and the shield layer is the ground of the lead terminals. The structure is such that it is electrically connected only to the lead terminals.
【0007】記 (A)0.05〜0.5重量部のチタネート、ジルコネ
ート、ステアリン酸、ステアリン酸塩、又はそれらの混
合物により表面被覆した、金属銅粉100重量部 (B)レゾール型フェノール樹脂5〜33重量部 (C)キレート層形成剤0.5〜8重量部 (D)カップリング剤 0.1〜2重量部
。Note (A) 100 parts by weight of metal copper powder surface-coated with 0.05 to 0.5 parts by weight of titanate, zirconate, stearic acid, stearate, or a mixture thereof (B) Resol-type phenol resin 5 to 33 parts by weight (C) chelate layer forming agent 0.5 to 8 parts by weight (D) coupling agent 0.1 to 2 parts by weight
.
【0008】上記レゾール型フェノール樹脂は下記のも
のとするとよい。 記 2−1置換体、2,4−2置換体、2,4,6−3置換
体、メチロール基、ジメチレンエーテル、フェニル基の
各赤外線透過率をl,m,n,a,b,cとするとき、
各透過率の間に、 (イ)l/n=0.8〜1.2 (ロ)m/n=0.8〜1.2 (ハ)b/a=0.8〜1.2 (ニ)c/a=1.2〜1.5 なる関係が成り立つレゾール型フェノール樹脂。The above-mentioned resol type phenol resin is preferably the following. The 2-1 substitution product, 2,4-2 substitution product, 2,4,6-3 substitution product, methylol group, dimethylene ether, each infrared transmittance of phenyl group is 1, m, n, a, b, When c,
Between each transmittance, (a) l / n = 0.8 to 1.2 (b) m / n = 0.8 to 1.2 (c) b / a = 0.8 to 1.2 ( D) A resole type phenolic resin in which the relationship of c / a = 1.2 to 1.5 is established.
【0009】上記保護層及びシールド層は、電子部品素
子を搭載した基板を絶縁性樹脂浴及び導電塗料浴に順次
浸漬するディップコーティングにより形成するとよい。The protective layer and the shield layer may be formed by dip coating in which the substrate on which the electronic component element is mounted is successively dipped in an insulating resin bath and a conductive paint bath.
【0010】基板材料は、エポキシ樹脂、フェノール樹
脂、ガラス繊維、セラミックスなどの絶縁材とする。The substrate material is an insulating material such as epoxy resin, phenol resin, glass fiber or ceramics.
【0011】上記金属銅粉は、片状、樹枝状、球状、不
定形状などのいずれの形状であってもよい。粒径は10
0μm以下が好ましく、特に1〜30μmが好ましい。
粒径が1μm未満のものは酸化されやすく、得られる塗
膜(コーティング膜)の導電性が低下するので好ましく
ない。The metallic copper powder may have any shape such as flakes, dendritic shapes, spherical shapes, and irregular shapes. Particle size is 10
It is preferably 0 μm or less, and particularly preferably 1 to 30 μm.
Particles having a particle size of less than 1 μm are easily oxidized and the conductivity of the resulting coating film (coating film) is lowered, which is not preferable.
【0012】また、金属銅粉は、チタネート、ジルコネ
ート、ステアリン酸、ステアリン酸塩、又はそれらの混
合物(以下、分散性付与剤という)により表面被覆する
ことにより、樹脂混和物中への微細分散が促進され、こ
れにより導電塗料の品質の安定化および導電性の改良を
はかる。この分散性付与剤の添加量は、金属銅粉100
重量部に対して、0.05〜0.5重量部である。分散
性付与剤の添加量が0.05重量部未満のときは、塗膜
の導電性が低下し、0.5重量部を超えるときは、半田
耐熱性が好ましくない。分散性付与剤はそれ自体を単体
で添加してもよく、また、溶液として添加した後、溶剤
を除去してもよい。因みに、この表面処理をすれば、分
散剤の添加が不要となる。Further, the metallic copper powder is finely dispersed in the resin mixture by surface-coating it with titanate, zirconate, stearic acid, stearate, or a mixture thereof (hereinafter referred to as a dispersibility-imparting agent). It is promoted, thereby stabilizing the quality of conductive paint and improving conductivity. The amount of the dispersibility-imparting agent added is 100
It is 0.05 to 0.5 parts by weight with respect to parts by weight. When the amount of the dispersibility-imparting agent added is less than 0.05 parts by weight, the conductivity of the coating film decreases, and when it exceeds 0.5 parts by weight, the solder heat resistance is unfavorable. The dispersibility-imparting agent may be added alone, or the solvent may be removed after being added as a solution. Incidentally, this surface treatment makes it unnecessary to add a dispersant.
【0013】上記レゾール型フェノール樹脂は、その含
有量が5重量部未満では、金属銅粉が十分にバインドさ
れず、得られる塗膜が脆くなり、導電性も悪くなる。ま
た、33重量部をこえると、導電性が低下する。好まし
くは9〜20重量部とする。When the content of the resol-type phenol resin is less than 5 parts by weight, the metallic copper powder is not sufficiently bound, the resulting coating film becomes brittle, and the electrical conductivity also deteriorates. Further, if it exceeds 33 parts by weight, the conductivity decreases. It is preferably 9 to 20 parts by weight.
【0014】また、その化学量、2−1置換体量をλ、
2,4−2置換体量をμ、2,4,6−3置換体量を
ν、メチロール基量をα、ジメチレンエーテル量をβ、
フェニル基量をγとすると、前記構成のl/n、m/n
が大きいということは、λ/ν、μ/νが小さいという
ことになる。すなわち、2−1置換体量λ、2,4−2
置換体量μに比して、2,4,6−3置換体量νが多い
ということを意味する。また、前記構成のb/a、c/
aが大きいということは、β/α、λ/αが小さいとい
うことになる。すなわち、ジメチレンエーテル量β、フ
ェニル基量λに比して、メチロール基量αが多いという
ことを意味する。Further, the stoichiometry, the amount of the 2-1 substitution product is λ,
The amount of 2,4-2 substitution product is μ, the amount of 2,4,6-3 substitution product is ν, the amount of methylol group is α, the amount of dimethylene ether is β,
When the amount of phenyl group is γ, 1 / n and m / n of the above-mentioned constitution
Is large, it means that λ / ν and μ / ν are small. That is, the amount of 2-1 substitution product λ, 2,4-2
This means that the amount of 2,4,6-3 substitution product ν is larger than the substitution product amount μ. In addition, b / a, c /
A large a means that β / α and λ / α are small. That is, it means that the amount of methylol groups α is larger than the amount of dimethylene ether β and the amount of phenyl groups λ.
【0015】一般に、2,4,6−3置換体量νが大き
くなると、レゾール型フェノール樹脂の架橋密度が大き
くなるため、前記λ/ν、μ/νが小さい方が、すなわ
ち、l/n、m/nが大きい方が塗膜の導電性は良くな
る。しかし、逆に塗膜が硬く、脆くなる傾向を示し、物
理的特性が悪くなる。また、γ/αが大きいと塗膜の導
電性が悪くなる。Generally, when the 2,4,6-3 substitution product amount ν increases, the crosslink density of the resol type phenol resin increases, so that the smaller λ / ν and μ / ν, that is, 1 / n. , M / n is larger, the conductivity of the coating film is better. However, on the contrary, the coating film tends to be hard and brittle, and the physical properties deteriorate. Further, if γ / α is large, the conductivity of the coating film is deteriorated.
【0016】従って、得られる導電塗料において、塗膜
の硬さを適切にし、良好な導電性とするレゾール型フェ
ノール樹脂としては、前記構成に示すl/n、m/n、
b/aがそれぞれ0.8〜1.2、c/aが1.2〜
1.5とするのが適している。Therefore, in the obtained conductive coating material, the resol type phenolic resin which has appropriate hardness of the coating film and has good conductivity has 1 / n, m / n,
b / a is 0.8-1.2, c / a is 1.2-
A value of 1.5 is suitable.
【0017】キレート層形成剤は、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、エチ
レンジアミン、トリエチレンジアミン、トリエチレンテ
トラミンなどの脂肪族アミンから選ばれる少なくとも1
種である。キレート層形成剤は、金属銅粉の酸化を防止
し、導電性の維持に寄与する。その配合量は、金属銅粉
100重量部に対して0.5〜8重量部である。配合量
が0.5重量部未満であると、塗膜の導電性が低下し、
逆に8重量部を超えた場合にはそれ以上の効果は望めな
い。The chelate layer forming agent is at least one selected from aliphatic amines such as monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, ethylenediamine, triethylenediamine and triethylenetetramine.
It is a seed. The chelate layer forming agent prevents oxidation of the metal copper powder and contributes to maintaining conductivity. The blending amount is 0.5 to 8 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the metal copper powder. If the blending amount is less than 0.5 parts by weight, the conductivity of the coating film decreases,
On the contrary, when the amount exceeds 8 parts by weight, no further effect can be expected.
【0018】カップリング剤は、金属銅粉のバインダー
中における分散性を向上させて導電性の向上に働き、シ
ランカップリング剤、チタンカップリング剤、ジルコネ
ート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤
の中から選ばれる少なくとも1種である。その配合量
は、金属銅粉に対して0.1部〜2重量部である。0.
1重量部未満ではその効果は望めず、2重量部をこえる
と、それ以上の効果は望めない。The coupling agent serves to improve the dispersibility of the copper metal powder in the binder and to improve the conductivity, and it can be used as a silane coupling agent, a titanium coupling agent, a zirconate coupling agent, or an aluminum coupling agent. At least one selected from the above. The blending amount is 0.1 part to 2 parts by weight with respect to the metal copper powder. 0.
If it is less than 1 part by weight, the effect cannot be expected, and if it exceeds 2 parts by weight, no further effect can be expected.
【0019】なお、導電塗料には、粘度調整をするため
に、通常の有機溶剤を適宜使用することができる。例え
ば、セルソルブアセテート、カルビトール、ブチルカル
ビトール、ブチルセロソルブアセテートなどの公知の溶
剤である。In the conductive paint, a usual organic solvent can be appropriately used in order to adjust the viscosity. For example, known solvents such as cellosolve acetate, carbitol, butyl carbitol, and butyl cellosolve acetate.
【0020】[0020]
【作用】このように構成するこの発明に係る導電塗料は
上述の記載から理解できるように、その塗膜は、密着性
の劣化を招くことなく、導電性の高いものとなる。As can be understood from the above description, the conductive coating material according to the present invention having such a structure has a high conductivity without causing deterioration of adhesion.
【0021】[0021]
【実施例】まず、導電塗料は、粒径5〜10μmの比表
面積0.4m2 /g以下、水素還元減量0.25%以下
の樹枝状金属銅粉100重量部を攪拌機に入れて、チタ
ネートを少量ずつ添加しながら攪拌して、チタネートを
金属銅粉の表面に被覆させた。しかるのち、その金属銅
粉に、キレート層形成剤のトリエタノールアミン、赤外
線透過率比(l/n:1.03、m/n:1.02、b
/a:0.96、c/a:1.31)のレゾール型フェ
ノール樹脂をそれぞれ表1に示す割合で配合し、溶剤と
してブチルセロソルブを加え、20分間3軸ロールで定
位置練りし、粘度がリオン社製の測定機VT−04によ
り20〜40Pとなるようにして、導電塗料浴を得た。EXAMPLE First, 100 parts by weight of a dendritic metal copper powder having a particle size of 5 to 10 μm and a specific surface area of 0.4 m 2 / g or less and a hydrogen reduction weight loss of 0.25% or less was put into a stirrer to prepare a titanate. Was added little by little and stirred to coat the surface of the metal copper powder with titanate. After that, the metal copper powder was mixed with triethanolamine as a chelate layer forming agent and an infrared transmittance ratio (l / n: 1.03, m / n: 1.02, b
/ A: 0.96, c / a: 1.31) in the proportions shown in Table 1, butyl cellosolve is added as a solvent, and the mixture is kneaded in place with a triaxial roll for 20 minutes to give a viscosity of A conductive paint bath was obtained with a measuring machine VT-04 manufactured by Rion Co., Ltd. so as to be 20 to 40 P.
【0022】ブチルセロソルブに代えて、ブチルカルビ
トール、ブチルカルビトールアセテート、ブチルセロソ
ルブアセテート、メチルイソブチルケトン、トルエン、
キシレン等公知のものを使用することができる。In place of butyl cellosolve, butyl carbitol, butyl carbitol acetate, butyl cellosolve acetate, methyl isobutyl ketone, toluene,
Known materials such as xylene can be used.
【0023】[0023]
【表1】 [Table 1]
【0024】一方、図1に示すように、銅箔回路パター
ンを形成したエポキシ樹脂基板1上に、各種チップ部品
2、抵抗3等の電子部品素子を搭載又は印刷して設ける
とともに、その回路から所要数のリード端子4……、4
aを突出させる。On the other hand, as shown in FIG. 1, electronic component elements such as various chip components 2 and resistors 3 are mounted or printed on an epoxy resin substrate 1 on which a copper foil circuit pattern is formed, and from the circuit. Required number of lead terminals 4 ... 4
a is projected.
【0025】その基板1を、グランドリード端子4aの
基部4a′に銅箔の導電材7を添わせてエポキシ樹脂浴
中に浸漬し、所要厚の保護層5を形成する。その浸漬の
際、各リード端子4……、4aの露出部(接続部)ま
で、すなわち、接続部を残して浸漬し、各リード端子4
……間が確実に樹脂で充填被覆されるようにする。これ
は、後述のシールド層6とリード端子4……を短絡させ
ないためである。The substrate 1 is dipped in an epoxy resin bath with the conductive material 7 made of copper foil added to the base 4a 'of the ground lead terminal 4a to form a protective layer 5 having a required thickness. At the time of the immersion, the lead terminals 4 ... 4a are soaked up to the exposed portions (connection portions) of the lead terminals, that is, leaving the connection portions.
…… Make sure that the space is filled and covered with resin. This is to prevent short-circuiting between the shield layer 6 and the lead terminals 4, which will be described later.
【0026】つづいて、導電材7の突出部分を保護層5
側(内側)に屈曲し、その状態の基板1を、前記導電塗
料浴に浸漬して、所要厚のシールド層6を形成する。そ
の浸漬深さはリード端子4、4a側の保護層5の縁に到
らないようにする。このとき、導電材7上にもシールド
層6が形成され、導電材7を介し、グランドリード端子
4aとシールド層6が電気的に接続される。Subsequently, the protruding portion of the conductive material 7 is attached to the protective layer 5.
The substrate 1 bent to the side (inside) and in that state is immersed in the conductive paint bath to form a shield layer 6 having a required thickness. The immersion depth should not reach the edge of the protective layer 5 on the side of the lead terminals 4 and 4a. At this time, the shield layer 6 is also formed on the conductive material 7, and the ground lead terminal 4 a and the shield layer 6 are electrically connected via the conductive material 7.
【0027】この実施例の導電塗料bが優れていること
はつぎの試験によって理解できる。The superiority of the conductive paint b of this example can be understood by the following test.
【0028】すなわち、図2に示すように、ガラスエポ
キシ基板11上に銅箔電極10、10を形成して、その
上を前記保護層5と同一樹脂で被覆し、その上に、表1
の各導電塗料bを80メッシュのテトロンスクリーンを
用い印刷して、幅:5mm、長さ:60mmのパターンを形
成し、100℃で10分間予備乾燥後、160℃で30
分加熱して硬化させた。つぎに、電極10、10間の抵
抗値を4端子法により測定し、単位面積当りの抵抗値を
得た。その結果を表1下欄に示す。That is, as shown in FIG. 2, copper foil electrodes 10 and 10 are formed on a glass epoxy substrate 11, and the copper foil electrodes 10 and 10 are coated with the same resin as the protective layer 5, and then, on top of that, Table 1
Each of the conductive paints b) is printed using an 80-mesh Tetoron screen to form a pattern with a width of 5 mm and a length of 60 mm, which is pre-dried at 100 ° C for 10 minutes and then at 160 ° C for 30 minutes.
It was heated for a minute and cured. Next, the resistance value between the electrodes 10 and 10 was measured by the 4-terminal method to obtain the resistance value per unit area. The results are shown in the lower column of Table 1.
【0029】また、グランドリード端子4と同種の金属
プレート上に80メッシュテトロンスクリーンを使用し
て表1の各導電塗料bを印刷し、100℃で10分間仮
乾燥後、160℃で30分加熱し、得られた塗膜をJI
S K5400の碁盤目テープ法により試験し、完全に
剥がれないで残った碁盤目数を目視により調べ、全ての
ます目が剥がれた場合0/100、全てのます目が残っ
た場合100/100として、密着性の評価を行い、結
果を表1下欄に示す。Also, each conductive paint b in Table 1 was printed on a metal plate of the same type as the ground lead terminal 4 using an 80 mesh Tetron screen, and after temporary drying at 100 ° C. for 10 minutes, heating at 160 ° C. for 30 minutes. Then, the obtained coating film is JI
Tested using the SK5400 cross-cut tape method and visually inspected the number of cross-cuts left without being completely peeled off. 0/100 if all squares were peeled, 100/100 if all squares remained The adhesion was evaluated, and the results are shown in the lower column of Table 1.
【0030】この結果から明らかなように、実施例1〜
4においては、本発明に係る導電塗料bが特定の配合で
適切に組み合わされており、密着性の劣化を招くことな
く高い導電性を得ている。As is clear from this result, Examples 1 to 1
In No. 4, the conductive coating material b according to the present invention is appropriately combined in a specific composition, and high conductivity is obtained without causing deterioration of adhesion.
【0031】これに対して、比較例1はレゾール型フェ
ノール樹脂が多すぎるため、又比較例2はキレート層形
成剤が少ないため、いずれも導電性が悪い。比較例3は
レゾール型フェノール樹脂が少ないため、密着性が悪
い。比較例4はカップリング剤を添加しなかったため、
導電性に問題がある。On the other hand, in Comparative Example 1, the amount of the resol-type phenol resin is too large, and in Comparative Example 2, the amount of the chelate layer forming agent is small, so that the conductivity is poor. In Comparative Example 3, since the resol type phenol resin is small, the adhesion is poor. In Comparative Example 4, since no coupling agent was added,
There is a problem with conductivity.
【0032】[0032]
【発明の効果】この発明は以上のように構成したので、
導電性及び密着性の優れたシールド層のハイブリッドI
Cを得ることができる。Since the present invention is constructed as described above,
Hybrid I of shield layer with excellent conductivity and adhesion
C can be obtained.
【図1】aは一実施例の正面図、bは同図のX−X線断
面図1 is a front view of one embodiment, and b is a sectional view taken along line XX of FIG.
【図2】抵抗値試験片の斜視図FIG. 2 is a perspective view of a resistance test piece.
1 基板 2 チップ部品 3 抵抗 4 リード端子 4a グランドリード端子 5 保護層 6 シールド層 7 銅箔導電材 10 銅箔電極 11 ガラスエポキシ基板 b 導電塗料(塗膜) 1 substrate 2 chip parts 3 resistance 4 lead terminal 4a ground lead terminal 5 protective layer 6 shield layer 7 copper foil conductive material 10 copper foil electrode 11 glass epoxy substrate b conductive paint (coating film)
Claims (2)
を絶縁性樹脂の保護層で被覆するとともに、所要数のリ
ード端子をその保護層から突出させ、前記保護層上に、
下記(A)乃至(D)の配合から成る導電塗料のシール
ド層を形成し、そのシールド層は前記リード端子のうち
のグランドリード端子のみに電気的に接続して成ること
を特徴とするハイブリッドIC。 記 (A)0.05〜0.5重量部のチタネート、ジルコネ
ート、ステアリン酸、ステアリン酸塩、又はそれらの混
合物により表面被覆した、金属銅粉100重量部(B)
レゾール型フェノール樹脂5〜33重量部 (C)キレート層形成剤0.5〜8重量部 (D)カップリング剤 0.1〜2重量部1. An electronic component element is mounted on a substrate, a protective layer made of an insulating resin is coated on the electronic component element, and a required number of lead terminals are projected from the protective layer.
A hybrid IC, characterized in that a conductive paint shield layer comprising the following blends (A) to (D) is formed, and the shield layer is electrically connected only to the ground lead terminal of the lead terminals. . Note (A) 100 parts by weight of metal copper powder surface-coated with 0.05 to 0.5 parts by weight of titanate, zirconate, stearic acid, stearate, or a mixture thereof (B).
Resol type phenol resin 5 to 33 parts by weight (C) Chelate layer forming agent 0.5 to 8 parts by weight (D) Coupling agent 0.1 to 2 parts by weight
ものとしたことを特徴とする請求項1記載のハイブリッ
ドIC。 記 2−1置換体、2,4−2置換体、2,4,6−3置換
体、メチロール基、ジメチレンエーテル、フェニル基の
各赤外線透過率をl,m,n,a,b,cとするとき、
各透過率の間に、 (イ)l/n=0.8〜1.2 (ロ)m/n=0.8〜1.2 (ハ)b/a=0.8〜1.2 (ニ)c/a=1.2〜1.5 なる関係が成り立つレゾール型フェノール樹脂。2. The hybrid IC according to claim 1, wherein the resol type phenolic resin is as follows. The 2-1 substitution product, 2,4-2 substitution product, 2,4,6-3 substitution product, methylol group, dimethylene ether, each infrared transmittance of phenyl group is 1, m, n, a, b, When c,
Between each transmittance, (a) l / n = 0.8 to 1.2 (b) m / n = 0.8 to 1.2 (c) b / a = 0.8 to 1.2 ( D) A resole type phenolic resin in which the relationship of c / a = 1.2 to 1.5 is established.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31193492A JPH06164185A (en) | 1992-11-20 | 1992-11-20 | Hybrid ic |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31193492A JPH06164185A (en) | 1992-11-20 | 1992-11-20 | Hybrid ic |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06164185A true JPH06164185A (en) | 1994-06-10 |
Family
ID=18023196
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31193492A Pending JPH06164185A (en) | 1992-11-20 | 1992-11-20 | Hybrid ic |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06164185A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5932927A (en) * | 1996-07-24 | 1999-08-03 | Nec Corporation | High-frequency device package |
JP2005279172A (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Aloka Co Ltd | Transmitting and receiving circuit of ultrasonic diagnostic apparatus |
CN109791920A (en) * | 2016-08-18 | 2019-05-21 | 原子能和替代能源委员会 | In the method for optimum density connection cross portion |
-
1992
- 1992-11-20 JP JP31193492A patent/JPH06164185A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5932927A (en) * | 1996-07-24 | 1999-08-03 | Nec Corporation | High-frequency device package |
JP2005279172A (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Aloka Co Ltd | Transmitting and receiving circuit of ultrasonic diagnostic apparatus |
CN109791920A (en) * | 2016-08-18 | 2019-05-21 | 原子能和替代能源委员会 | In the method for optimum density connection cross portion |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2619289B2 (en) | Copper conductive composition | |
JPH05212579A (en) | Conductive paste which can be soldered | |
JPH0753843B2 (en) | Conductive paint that can be soldered | |
JP5881613B2 (en) | Conductive composition and method for forming conductive film | |
JPH06164185A (en) | Hybrid ic | |
JPH06184409A (en) | Electrically conductive curable composition | |
JP3243655B2 (en) | Hybrid IC | |
JP3079396B2 (en) | Hybrid IC | |
JPS5874759A (en) | Electrically conductive copper paste composition | |
JPS62179566A (en) | Electrically conductive resin composition | |
JP2526194B2 (en) | Hybrid IC | |
JPH0897587A (en) | Hybrid ic | |
JPH0662900B2 (en) | Conductive paint | |
JP3047069B2 (en) | Conductive paints and printed circuit boards | |
JPH0892525A (en) | Electrically conductive coating material | |
JP2963518B2 (en) | Conductive paste composition | |
JPH06157946A (en) | Electrically conductive paint | |
JP2628734B2 (en) | Conductive paste | |
JPH07116389B2 (en) | Conductive paint | |
JPH09255900A (en) | Thermosetting type carbon-based electroconductive coating material | |
JPH0812904A (en) | Electromagnetic wave-absorbing paste and electronic part treated therewith | |
JPH0537516Y2 (en) | ||
JPS6389577A (en) | Electrically conductive paint | |
JP3316746B2 (en) | Conductive paint | |
JP2543805B2 (en) | Conductive paint |