JP2525049B2 - プレグナン誘導体及びその製造方法 - Google Patents
プレグナン誘導体及びその製造方法Info
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- JP2525049B2 JP2525049B2 JP63502704A JP50270488A JP2525049B2 JP 2525049 B2 JP2525049 B2 JP 2525049B2 JP 63502704 A JP63502704 A JP 63502704A JP 50270488 A JP50270488 A JP 50270488A JP 2525049 B2 JP2525049 B2 JP 2525049B2
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Description
【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は新規なプレグナン誘導体及びその製造方法に
関する。
関する。
本発明のプレグナン誘導体は慢性腎不全、副甲状腺機
能低下症、骨軟化症、骨粗鬆症などのカドミウム代謝の
欠陥症の治療に有効であることが知られている1α−ヒ
ドロキシビタミンD3などの1α−位に水酸基を有する
ビタミンD3誘導体の合成中間体として有用である。
能低下症、骨軟化症、骨粗鬆症などのカドミウム代謝の
欠陥症の治療に有効であることが知られている1α−ヒ
ドロキシビタミンD3などの1α−位に水酸基を有する
ビタミンD3誘導体の合成中間体として有用である。
背景技術 従来、1α−位に水酸基を有するビタミンD3誘導体
の製造方法としては、例えば、コレステロールを原料と
して使用することにより1α−ヒドロキシビタミンD3
を製造する方法(特開昭48-62750号公報及び特開昭49-9
5956号公報参照)、コレスタ−1,4,6−トリエン−3−
オン−25−オールから誘導されるコレスタ−1,5,7−ト
リエン−3−オン−25−オールを合成中間体として経由
する1α,25−ジヒドロキシビタミンD3の製造方法(特
開昭51-100056号公報参照)、(24R)−1α,3β,24,25
−テトラヒドロキシコレスタ−5,7−ジエンに不活性有
機溶媒中で紫外線を照射し、生成した(24R)−1α,2
4,25−トリヒドロキシプレビタミンD3を異性化するこ
とによつて(24R)−1α,24,25−トリヒドロキシビタ
ミンD3を製造する方法(特開昭51-108046号公報参照)
などが知られている。また(20S)−21−ヒドロキシ−2
0−メチル−6β−メトキシ−3α,5−シクロ−5α−
プレグナン、(20S)−21−ヒドロキシ−20−メチルプ
レグナ−1,4−ジエン−3−オンなどから下記の方法で
誘導される(20S)−1α,3β−ジアセトキシプレグン
−5−エン−20−カルブアルデヒドなどのプレグナン誘
導体が1α,25−ジヒドロキシビタミンD3などに誘導さ
れることが知られている(特開昭53-50152号公報参
照)。
の製造方法としては、例えば、コレステロールを原料と
して使用することにより1α−ヒドロキシビタミンD3
を製造する方法(特開昭48-62750号公報及び特開昭49-9
5956号公報参照)、コレスタ−1,4,6−トリエン−3−
オン−25−オールから誘導されるコレスタ−1,5,7−ト
リエン−3−オン−25−オールを合成中間体として経由
する1α,25−ジヒドロキシビタミンD3の製造方法(特
開昭51-100056号公報参照)、(24R)−1α,3β,24,25
−テトラヒドロキシコレスタ−5,7−ジエンに不活性有
機溶媒中で紫外線を照射し、生成した(24R)−1α,2
4,25−トリヒドロキシプレビタミンD3を異性化するこ
とによつて(24R)−1α,24,25−トリヒドロキシビタ
ミンD3を製造する方法(特開昭51-108046号公報参照)
などが知られている。また(20S)−21−ヒドロキシ−2
0−メチル−6β−メトキシ−3α,5−シクロ−5α−
プレグナン、(20S)−21−ヒドロキシ−20−メチルプ
レグナ−1,4−ジエン−3−オンなどから下記の方法で
誘導される(20S)−1α,3β−ジアセトキシプレグン
−5−エン−20−カルブアルデヒドなどのプレグナン誘
導体が1α,25−ジヒドロキシビタミンD3などに誘導さ
れることが知られている(特開昭53-50152号公報参
照)。
〔上記式中、THPは2−テトラヒドロピラニル基を表わ
し、Acはアセチル基を表わし、点線(……)は置換基が
α−立体配置にあることを表わし、実線(−)は置換基
がβ−立体配置にあることを表わし、波線(〜)は置換
基がα−立体配置又はβ−立体配置のいずれかにあるこ
とを表わす。〕 さらに、上記の(20S)−1α,3β−ジアセトキシプ
レグン−5−エン−20−カルブアルデヒドから1α,25,
26−トリヒドロキシビタミンD3を製造する方法が知ら
れている(特開昭56-51447号公報参照)。
し、Acはアセチル基を表わし、点線(……)は置換基が
α−立体配置にあることを表わし、実線(−)は置換基
がβ−立体配置にあることを表わし、波線(〜)は置換
基がα−立体配置又はβ−立体配置のいずれかにあるこ
とを表わす。〕 さらに、上記の(20S)−1α,3β−ジアセトキシプ
レグン−5−エン−20−カルブアルデヒドから1α,25,
26−トリヒドロキシビタミンD3を製造する方法が知ら
れている(特開昭56-51447号公報参照)。
上記のとおり、1α−位に水酸基を有するビタミンD
3誘導体の製造方法は種々知られているが、該1α−位
に水酸基を有するビタミンD3誘導体を製造するに際
し、合成中間体として使用できる化合物を多くの化合物
の中から選択することができれば、原料事情に応じてそ
の製造プロセスを適宜変更することが可能となり好まし
い。
3誘導体の製造方法は種々知られているが、該1α−位
に水酸基を有するビタミンD3誘導体を製造するに際
し、合成中間体として使用できる化合物を多くの化合物
の中から選択することができれば、原料事情に応じてそ
の製造プロセスを適宜変更することが可能となり好まし
い。
しかして、本発明の目的の1つは、種々の1α−位に
水酸基を有するビタミンD3誘導体に誘導される新規な
化合物を提供することにある。
水酸基を有するビタミンD3誘導体に誘導される新規な
化合物を提供することにある。
本発明の他の目的は当該新規な化合物の製造方法を提
供することにある。
供することにある。
発明の開示 本発明によれば、上記の目的は、一般式 〔式中、A1はα−立体配置にある水素原子若しくは水
酸基を表わし、A2はA1がα−立体配置にある水素原子
を表わすときβ−立体配置にある水酸基、アシルオキシ
基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級アル
キルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイル
オキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオキ
シ基、三置換シリルオキシ基若しくは置換基を有してい
てもよいアルコキシメトキシ基を表わし、A1がα−立
体配置にある水酸基を表わすときβ−立体配置にある水
素原子を表わすか、又はA1及びA2は一緒になつてオキ
ソ基(=O)を表わし;D1はα−立体配置にある水酸
基、アシルオキシ基、低級アルコキシカルボニルオキシ
基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリ
ールカルバモイルオキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)
カルバモイルオキシ基、三置換シリルオキシ基若しくは
置換基を有していてもよいアルコキシメトキシ基を表わ
し、D2はα−立体配置にある水素原子を表わすか、又
はD1及びD2は一緒になつてα−立体配置にあるエポキ
シ基(−O−)若しくは単結合を表わし;D3はα−立体
配置にある水素原子を表わし、D4はα−立体配置にあ
る水素原子を表わし、D5はα−立体配置にある水素原
子を表わし、D6はα−立体配置にある水酸基、低級ア
ルコキシカルボニルオキシ基、アシルオキシ基、N−低
級アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバ
モイルオキシ基又はN,N−ジ(低級アルキル)カルバモ
イルオキシ基を表わし、D7はβ−立体配置にある水素
原子を表わし、ここでD3及びD4は一緒になつてα−立
体配置にあるエポキシ基(−O−)又は単結合を表わし
てもよく、D4及びD5は一緒になつて単結合を表わして
もよく、D5及びD6は一緒になつてα−立体配置にある
エポキシ基(−O−)又は単結合を表わしてもよく、D
6及びD7は一緒になつて単結合を表わしてもよく;X1及
びX2はそれぞれ低級アルコキシル基を表わすか又は一
緒になつて低級アルキレンジオキシ基若しくはオキソ基
(=O)を表わす。〕 で示されるプレグナン誘導体及び下記〜の製造方法
を提供することによつて達成される。
酸基を表わし、A2はA1がα−立体配置にある水素原子
を表わすときβ−立体配置にある水酸基、アシルオキシ
基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級アル
キルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイル
オキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオキ
シ基、三置換シリルオキシ基若しくは置換基を有してい
てもよいアルコキシメトキシ基を表わし、A1がα−立
体配置にある水酸基を表わすときβ−立体配置にある水
素原子を表わすか、又はA1及びA2は一緒になつてオキ
ソ基(=O)を表わし;D1はα−立体配置にある水酸
基、アシルオキシ基、低級アルコキシカルボニルオキシ
基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリ
ールカルバモイルオキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)
カルバモイルオキシ基、三置換シリルオキシ基若しくは
置換基を有していてもよいアルコキシメトキシ基を表わ
し、D2はα−立体配置にある水素原子を表わすか、又
はD1及びD2は一緒になつてα−立体配置にあるエポキ
シ基(−O−)若しくは単結合を表わし;D3はα−立体
配置にある水素原子を表わし、D4はα−立体配置にあ
る水素原子を表わし、D5はα−立体配置にある水素原
子を表わし、D6はα−立体配置にある水酸基、低級ア
ルコキシカルボニルオキシ基、アシルオキシ基、N−低
級アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバ
モイルオキシ基又はN,N−ジ(低級アルキル)カルバモ
イルオキシ基を表わし、D7はβ−立体配置にある水素
原子を表わし、ここでD3及びD4は一緒になつてα−立
体配置にあるエポキシ基(−O−)又は単結合を表わし
てもよく、D4及びD5は一緒になつて単結合を表わして
もよく、D5及びD6は一緒になつてα−立体配置にある
エポキシ基(−O−)又は単結合を表わしてもよく、D
6及びD7は一緒になつて単結合を表わしてもよく;X1及
びX2はそれぞれ低級アルコキシル基を表わすか又は一
緒になつて低級アルキレンジオキシ基若しくはオキソ基
(=O)を表わす。〕 で示されるプレグナン誘導体及び下記〜の製造方法
を提供することによつて達成される。
3α,7α−ジヒドロキシ−5β−コラン酸及び/又
はその塩を基質として7α−ヒドロキシプレグナ−1,4
−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒドを生産する
能力を有するアルカリゲネス(Alcaligenes)属に属す
る細菌を3α,7α−ジヒドロキシ−5β−コラン酸及び
/又はその塩を含む培地で培養することを特徴とする7
α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オン−20
−カルブアルデヒドの製造方法。
はその塩を基質として7α−ヒドロキシプレグナ−1,4
−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒドを生産する
能力を有するアルカリゲネス(Alcaligenes)属に属す
る細菌を3α,7α−ジヒドロキシ−5β−コラン酸及び
/又はその塩を含む培地で培養することを特徴とする7
α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オン−20
−カルブアルデヒドの製造方法。
一般式 〔式中、A11はα−立体配置にある水素原子を表わし、
A12はβ−立体配置にある水酸基、アシルオキシ基、低
級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級アルキルカ
ルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ
基若しくはN,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオキ
シ基を表わすか、又はA11及びA12は一緒になつてオキ
ソ基(=O)を表わし;X3及びX4はそれぞれ低級アルコ
キシル基を表わすか又は一緒になつて低級アルキレンジ
オキシ基を表わす。〕 で示されるプレグナン誘導体を還元することを特徴とす
る一般式 (式中、X3及びX4は前記定義のとおりである。) で示されるプレグナン誘導体の製造方法。
A12はβ−立体配置にある水酸基、アシルオキシ基、低
級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級アルキルカ
ルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ
基若しくはN,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオキ
シ基を表わすか、又はA11及びA12は一緒になつてオキ
ソ基(=O)を表わし;X3及びX4はそれぞれ低級アルコ
キシル基を表わすか又は一緒になつて低級アルキレンジ
オキシ基を表わす。〕 で示されるプレグナン誘導体を還元することを特徴とす
る一般式 (式中、X3及びX4は前記定義のとおりである。) で示されるプレグナン誘導体の製造方法。
一般式 (式中、A13はβ−立体配置にある三置換シリルオキシ
基又は置換基を有していてもよいアルコキシメトキシ基
を表わし;X3及びX4は前記定義のとおりである) で示されるプレグナン誘導体を還元することを特徴とす
る一般式 (式中、A13、X3及びX4は前記定義のとおりであ
る。) で示されるプレグナン誘導体の製造方法。
基又は置換基を有していてもよいアルコキシメトキシ基
を表わし;X3及びX4は前記定義のとおりである) で示されるプレグナン誘導体を還元することを特徴とす
る一般式 (式中、A13、X3及びX4は前記定義のとおりであ
る。) で示されるプレグナン誘導体の製造方法。
一般式 〔式中、A14はβ−立体配置にある水酸基、アシルオキ
シ基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級ア
ルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイ
ルオキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオ
キシ基、三置換シリルオキシ基又は置換基を有していて
もよいアルコキシメトキシ基を表わし;D16はα−立体配
置にある水酸基、アシルオキシ基、低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ
基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジ(低
級アルキル)カルバモイルオキシ基、三置換シリルオキ
シ基又は置換基を有していてもよいアルコキシメトキシ
基を表わし;X1及びX2は前記定義のとおりである。〕 で示されるプレグナン誘導体を脱水反応させることを特
徴とする一般式 (式中、A14、D16、X1及びX2は前記定義のとおりで
ある。) で示されるプレグナン誘導体の製造方法。
シ基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級ア
ルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイ
ルオキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオ
キシ基、三置換シリルオキシ基又は置換基を有していて
もよいアルコキシメトキシ基を表わし;D16はα−立体配
置にある水酸基、アシルオキシ基、低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ
基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジ(低
級アルキル)カルバモイルオキシ基、三置換シリルオキ
シ基又は置換基を有していてもよいアルコキシメトキシ
基を表わし;X1及びX2は前記定義のとおりである。〕 で示されるプレグナン誘導体を脱水反応させることを特
徴とする一般式 (式中、A14、D16、X1及びX2は前記定義のとおりで
ある。) で示されるプレグナン誘導体の製造方法。
一般式 〔式中、A15はβ−立体配置にある水酸基、アシルオキ
シ基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級ア
ルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイ
ルオキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオ
キシ基、三置換シリルオキシ基又は置換基を有していて
もよいアルコキシメトキシ基を表わし;D17はα−立体配
置にある水酸基、アシルオキシ基、低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ
基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジ(低
級アルキル)カルバモイルオキシ基、三置換シリルオキ
シ基又は低級アルコキシメトキシ基を表わし;D18はα−
立体配置にあるアシルオキシ基、低級アルコキシカルボ
ニルオキシ基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ
基、N−アリールカルバモイルオキシ基又はN,N−ジ
(低級アルキル)カルバモイルオキシ基を表わし;X1及
びX2は前記定義のとおりである。〕 で示されるプレグナン誘導体をパラジウム化合物の存在
下に反応させることを特徴とする一般式 (式中、A15、A17、X1及びX2は前記定義のとおりで
ある。) で示されるプレグナン誘導体の製造方法。
シ基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級ア
ルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイ
ルオキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオ
キシ基、三置換シリルオキシ基又は置換基を有していて
もよいアルコキシメトキシ基を表わし;D17はα−立体配
置にある水酸基、アシルオキシ基、低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ
基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジ(低
級アルキル)カルバモイルオキシ基、三置換シリルオキ
シ基又は低級アルコキシメトキシ基を表わし;D18はα−
立体配置にあるアシルオキシ基、低級アルコキシカルボ
ニルオキシ基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ
基、N−アリールカルバモイルオキシ基又はN,N−ジ
(低級アルキル)カルバモイルオキシ基を表わし;X1及
びX2は前記定義のとおりである。〕 で示されるプレグナン誘導体をパラジウム化合物の存在
下に反応させることを特徴とする一般式 (式中、A15、A17、X1及びX2は前記定義のとおりで
ある。) で示されるプレグナン誘導体の製造方法。
本発明の一般式(I)で示されるプレグナン誘導体
は、一般式 (式中、X1及びX2は前記定義のとおりである。) で示されるプレグナン誘導体〔以下、これをプレグナン
誘導体(I−1)と称することがある〕、一般式 〔式中、D8及びD9は一緒になつてα−立体配置にある
エポキシ基(−O−)若しくは単結合を表わし、X1及
びX2は前記定義のとおりである。〕 で示されるプレグナン誘導体〔以下、これをプレグナン
誘導体(I−2)と称することがある〕、一般式 〔式中、A3はα−立体配置にある水素原子を表わし、
A4はβ−立体配置にある水酸基若しくは低級アルカノ
イルオキシ基を表わすか、又はA3及びA4は一緒になつ
てオキシ基(=O)を表わし、X1及びX2は前記定義の
とおりである。〕 で示されるプレグナン誘導体〔以下、これをプレグナン
誘導体(I−3)と称することがある〕、一般式 〔式中、A5はβ−立体配置にある水酸基又は低級アル
カノイルオキシ基を表わし;D10はα−立体配置にある水
酸基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、低級アルカ
ノイルオキシ基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ
基、N−アリールカルバモイルオキシ基若しくはN,N−
ジ(低級アルキル)カルバモイルオキシ基を表わし、D
11はβ−立体配置にある水素原子を表わすか、又はD10
及びD11は一緒になつて単結合を表わし;X1及びX2は前
記定義のとおりである。〕 で示されるプレグナン誘導体〔以下、これをプレグナン
誘導体(I−4)と称することがある〕、一般式 〔式中、A6はβ−立体配置にある水酸基、アシルオキ
シ基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級ア
ルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイ
ルオキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオ
キシ基、三置換シリルオキシ基又は置換基を有していて
もよいアルコキシメトキシ基を表わし;D12はα−立体配
置にある水酸基、アシルオキシ基、低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ
基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジ(低
級アルキル)カルバモイルオキシ基、三置換シリルオキ
シ基又は置換基を有していてもよいアルコキシメトキシ
基を表わし;X1及びX2は前記定義のとおりである。〕 で示されるプレグナン誘導体〔以下、これをプレグナン
誘導体(I−5)と称することがある〕、一般式 (式中、X1及びX2は前記定義のとおりである。) で示されるプレグナン誘導体〔以下、これをプレグナン
誘導体(I−6)と称することがある〕、一般式 〔式中、A7はα−立体配置にある水素原子若しくは水
酸基を表わし、A8はA7がα−立体配置にある水素原子
を表わすときβ−立体配置にある水酸基、アシルオキシ
基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級アル
キルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイル
オキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオキ
シ基、三置換シリルオキシ基若しくは置換基を有してい
てもよいアルコキシメトキシ基を表わし、A7がα−立
体配置にある水酸基を表わすときβ−立体配置にある水
素原子を表わすか、又はA7及びA8は一緒になつてオキ
ソ基(=O)を表わし;X1及びX2は前記定義のとおりで
ある。〕 で示されるプレグナン誘導体〔以下、これをプレグナン
誘導体(I−7)と称することがある)、一般式 〔式中、A9はβ−立体配置にある水酸基、アシルオキ
シ基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級ア
ルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイ
ルオキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオ
キシ基、三置換シリルオキシ基又は置換基を有していて
もよいアルコキシメトキシ基を表わし;D13はα−立体配
置にある水酸基、アシルオキシ基、低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ
基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジ(低
級アルキル)カルバモイルオキシ基、三置換シリルオキ
シ基又は置換基を有していてもよいアルコキシメトキシ
基を表わし;X1及びX2は前記定義のとおりである。〕 で示されるプレグナン誘導体〔以下、これをプレグナン
誘導体(I−8)と称することがある〕及び一般式 〔式中、A10はβ−立体配置にある水酸基、アシルオキ
シ基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級ア
ルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイ
ルオキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオ
キシ基、三置換シリルオキシ基又は置換基を有していて
もよいアルコキシメトキシ基を表わし;D14はα−立体配
置にある水酸基、アシルオキシ基、低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ
基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジ(低
級アルキル)カルバモイルオキシ基、三置換シリルオキ
シ基又は置換を有していてもよいアルコキシメトキシ基
を表わし;D15はα−立体配置にある水酸基、アシルオキ
シ基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級ア
ルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイ
ルオキシ基又はN,N−ジ(低級アルキル)カルバモイル
オキシ基を表わし;X1及びX2は前記定義のとおりであ
る。〕 で示されるプレグナン誘導体〔以下、これをプレグナン
誘導体(I−9)と称することがある〕に大別される。
は、一般式 (式中、X1及びX2は前記定義のとおりである。) で示されるプレグナン誘導体〔以下、これをプレグナン
誘導体(I−1)と称することがある〕、一般式 〔式中、D8及びD9は一緒になつてα−立体配置にある
エポキシ基(−O−)若しくは単結合を表わし、X1及
びX2は前記定義のとおりである。〕 で示されるプレグナン誘導体〔以下、これをプレグナン
誘導体(I−2)と称することがある〕、一般式 〔式中、A3はα−立体配置にある水素原子を表わし、
A4はβ−立体配置にある水酸基若しくは低級アルカノ
イルオキシ基を表わすか、又はA3及びA4は一緒になつ
てオキシ基(=O)を表わし、X1及びX2は前記定義の
とおりである。〕 で示されるプレグナン誘導体〔以下、これをプレグナン
誘導体(I−3)と称することがある〕、一般式 〔式中、A5はβ−立体配置にある水酸基又は低級アル
カノイルオキシ基を表わし;D10はα−立体配置にある水
酸基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、低級アルカ
ノイルオキシ基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ
基、N−アリールカルバモイルオキシ基若しくはN,N−
ジ(低級アルキル)カルバモイルオキシ基を表わし、D
11はβ−立体配置にある水素原子を表わすか、又はD10
及びD11は一緒になつて単結合を表わし;X1及びX2は前
記定義のとおりである。〕 で示されるプレグナン誘導体〔以下、これをプレグナン
誘導体(I−4)と称することがある〕、一般式 〔式中、A6はβ−立体配置にある水酸基、アシルオキ
シ基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級ア
ルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイ
ルオキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオ
キシ基、三置換シリルオキシ基又は置換基を有していて
もよいアルコキシメトキシ基を表わし;D12はα−立体配
置にある水酸基、アシルオキシ基、低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ
基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジ(低
級アルキル)カルバモイルオキシ基、三置換シリルオキ
シ基又は置換基を有していてもよいアルコキシメトキシ
基を表わし;X1及びX2は前記定義のとおりである。〕 で示されるプレグナン誘導体〔以下、これをプレグナン
誘導体(I−5)と称することがある〕、一般式 (式中、X1及びX2は前記定義のとおりである。) で示されるプレグナン誘導体〔以下、これをプレグナン
誘導体(I−6)と称することがある〕、一般式 〔式中、A7はα−立体配置にある水素原子若しくは水
酸基を表わし、A8はA7がα−立体配置にある水素原子
を表わすときβ−立体配置にある水酸基、アシルオキシ
基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級アル
キルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイル
オキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオキ
シ基、三置換シリルオキシ基若しくは置換基を有してい
てもよいアルコキシメトキシ基を表わし、A7がα−立
体配置にある水酸基を表わすときβ−立体配置にある水
素原子を表わすか、又はA7及びA8は一緒になつてオキ
ソ基(=O)を表わし;X1及びX2は前記定義のとおりで
ある。〕 で示されるプレグナン誘導体〔以下、これをプレグナン
誘導体(I−7)と称することがある)、一般式 〔式中、A9はβ−立体配置にある水酸基、アシルオキ
シ基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級ア
ルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイ
ルオキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオ
キシ基、三置換シリルオキシ基又は置換基を有していて
もよいアルコキシメトキシ基を表わし;D13はα−立体配
置にある水酸基、アシルオキシ基、低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ
基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジ(低
級アルキル)カルバモイルオキシ基、三置換シリルオキ
シ基又は置換基を有していてもよいアルコキシメトキシ
基を表わし;X1及びX2は前記定義のとおりである。〕 で示されるプレグナン誘導体〔以下、これをプレグナン
誘導体(I−8)と称することがある〕及び一般式 〔式中、A10はβ−立体配置にある水酸基、アシルオキ
シ基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級ア
ルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイ
ルオキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオ
キシ基、三置換シリルオキシ基又は置換基を有していて
もよいアルコキシメトキシ基を表わし;D14はα−立体配
置にある水酸基、アシルオキシ基、低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ
基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジ(低
級アルキル)カルバモイルオキシ基、三置換シリルオキ
シ基又は置換を有していてもよいアルコキシメトキシ基
を表わし;D15はα−立体配置にある水酸基、アシルオキ
シ基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級ア
ルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイ
ルオキシ基又はN,N−ジ(低級アルキル)カルバモイル
オキシ基を表わし;X1及びX2は前記定義のとおりであ
る。〕 で示されるプレグナン誘導体〔以下、これをプレグナン
誘導体(I−9)と称することがある〕に大別される。
上記各一般式中におけるA2、A4、A5、A6、A8、
A9、A10、A12、A13、A14、A15、D1、D6、
D10、D12、D13、D14、D15、D16、D17、D18、X
1、X2、X3及びX4を以下に詳しく説明する。
A9、A10、A12、A13、A14、A15、D1、D6、
D10、D12、D13、D14、D15、D16、D17、D18、X
1、X2、X3及びX4を以下に詳しく説明する。
A2、A6、A8、A9、A10、A12、A14、A15、
D1、D6、D12、D13、D14、D15、D16、D17及びD
18がそれぞれ表わすアシルオキシ基としては、例えば、
アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ
基、バレリオキシ基などの低級アルカノイルオキシ基;
ベンゾイルオキシ基、メチルベンゾイルオキシ基、ナフ
トイルオキシ基などのアロイルオキシ基などが挙げられ
る。A4、A5及びD10がそれぞれ表わす低級アルカノイ
ルオキシ基としては、アセトキシ基、プロピオニル基、
ブチルオキシ基、バレリルオキシ基などが例示される。
A2、A6、A8、A9、A10、A12、A14、A15、D1、
D6、D10、D12、D13、D14、D15、D16、D17及び
D18がそれぞれ表わす低級アルコキシカルボニルオキシ
基としては、例えば、メトキシカルボニルオキシ基、エ
トキシカルボニルオキシ基、プロポキシカルボニルオキ
シ基、ブトキシカルボニルオキシ基などが挙げられる。
A2、A6、A8、A9、A10、A12、A14、A15、D1、
D6、D10、D12、D13、D14、D15、D16、D17及び
D18がそれぞれ表わすN−低級アルキルカルバモイルオ
キシ基としては、例えば、N−メチルカルバモイルオキ
シ基、N−エチルカルバモイルオキシ基、N−プロピル
カルバモイルオキシ基、N−ブチルカルバモイルオキシ
基などが挙げられる。A2、A6、A8、A9、A10、
A12、A14、A15、D1、D6、D10、D12、D13、
D14、D15、D16、D17及びD18がそれぞれ表わすN−
アリールカルバモイルオキシ基としては、例えば、N−
フエニルカルバモイルオキシ基、N−トリルカルバモイ
ルオキシ基、N−ナフチルカルバモイルオキシ基などが
挙げられる。A2、A6、A8、A9、A10、A12、A14、
A15、D1、D6、D10、D12、D13、D14、D15、D16
及びD17がそれぞれ表わすN,N−ジ(低級アルキル)カ
ルバモイルオキシ基としては、例えば、N,N−ジ(メチ
ル)カルバモイルオキシ基、N,N−ジ(エチル)カルバ
モイルオキシ基、N,N−ジ(プロピル)カルバモイルオ
キシ基、N−エチル−N−メチルカルバモイルオキシ基
などが挙げられる。A2、A6、A8、A9、A10、A13、
A14、A15、D1、D12、D13、D14、D16、D17及び
D18がそれぞれ表わす三置換シリルオキシ基としては、
例えば、トリメチルシリルオキシ基、t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ基、t−ブチルジフエニルシリルオキシ
基、トリプロピルシリルオキシ基などが挙げられる。A
2、A6、A8、A9、A10、A13、A14、A15、D1、D
12、D13、D14、D16及びD17がそれぞれ表わす置換基
を有していてもよいアルコキシメトキシ基としては、例
えば、メトキシメトキシ基、エトキシエトキシ基、プロ
ポキシメトキシ基、ブトキシメトキシ基、メトキシエト
キシメトキシ基、テトラヒドロピラニルオキシ基、テト
ラヒドロフラニルオキシ基、メトキシイソプロピル基な
どが挙げられる。X1、X2、X3及びX4がそれぞれ表わ
す低級アルコキシル基としては、例えば、メトキシ基、
エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などが挙げられ
る。X1及びX2が一緒になつて表わす低級アルキレンジ
オキシ基並びにX3及びX4が一緒になつて表わす低級ア
ルキレンジオキシ基としては、それぞれエチレンジオキ
シ基、メチルエチレンジオキシ基、1,1−ジメチルエチ
レンジオキシ基、1,2−ジメチルエチレンジオキシ基、
トリメチレンジオキシ基、1−メチルトリメチレンジオ
キシ基、2−メチルトリメチレンジオキシ基、2,2−ジ
メチルトリメチレンジオキシ基などが挙げられる。
D1、D6、D12、D13、D14、D15、D16、D17及びD
18がそれぞれ表わすアシルオキシ基としては、例えば、
アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ
基、バレリオキシ基などの低級アルカノイルオキシ基;
ベンゾイルオキシ基、メチルベンゾイルオキシ基、ナフ
トイルオキシ基などのアロイルオキシ基などが挙げられ
る。A4、A5及びD10がそれぞれ表わす低級アルカノイ
ルオキシ基としては、アセトキシ基、プロピオニル基、
ブチルオキシ基、バレリルオキシ基などが例示される。
A2、A6、A8、A9、A10、A12、A14、A15、D1、
D6、D10、D12、D13、D14、D15、D16、D17及び
D18がそれぞれ表わす低級アルコキシカルボニルオキシ
基としては、例えば、メトキシカルボニルオキシ基、エ
トキシカルボニルオキシ基、プロポキシカルボニルオキ
シ基、ブトキシカルボニルオキシ基などが挙げられる。
A2、A6、A8、A9、A10、A12、A14、A15、D1、
D6、D10、D12、D13、D14、D15、D16、D17及び
D18がそれぞれ表わすN−低級アルキルカルバモイルオ
キシ基としては、例えば、N−メチルカルバモイルオキ
シ基、N−エチルカルバモイルオキシ基、N−プロピル
カルバモイルオキシ基、N−ブチルカルバモイルオキシ
基などが挙げられる。A2、A6、A8、A9、A10、
A12、A14、A15、D1、D6、D10、D12、D13、
D14、D15、D16、D17及びD18がそれぞれ表わすN−
アリールカルバモイルオキシ基としては、例えば、N−
フエニルカルバモイルオキシ基、N−トリルカルバモイ
ルオキシ基、N−ナフチルカルバモイルオキシ基などが
挙げられる。A2、A6、A8、A9、A10、A12、A14、
A15、D1、D6、D10、D12、D13、D14、D15、D16
及びD17がそれぞれ表わすN,N−ジ(低級アルキル)カ
ルバモイルオキシ基としては、例えば、N,N−ジ(メチ
ル)カルバモイルオキシ基、N,N−ジ(エチル)カルバ
モイルオキシ基、N,N−ジ(プロピル)カルバモイルオ
キシ基、N−エチル−N−メチルカルバモイルオキシ基
などが挙げられる。A2、A6、A8、A9、A10、A13、
A14、A15、D1、D12、D13、D14、D16、D17及び
D18がそれぞれ表わす三置換シリルオキシ基としては、
例えば、トリメチルシリルオキシ基、t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ基、t−ブチルジフエニルシリルオキシ
基、トリプロピルシリルオキシ基などが挙げられる。A
2、A6、A8、A9、A10、A13、A14、A15、D1、D
12、D13、D14、D16及びD17がそれぞれ表わす置換基
を有していてもよいアルコキシメトキシ基としては、例
えば、メトキシメトキシ基、エトキシエトキシ基、プロ
ポキシメトキシ基、ブトキシメトキシ基、メトキシエト
キシメトキシ基、テトラヒドロピラニルオキシ基、テト
ラヒドロフラニルオキシ基、メトキシイソプロピル基な
どが挙げられる。X1、X2、X3及びX4がそれぞれ表わ
す低級アルコキシル基としては、例えば、メトキシ基、
エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などが挙げられ
る。X1及びX2が一緒になつて表わす低級アルキレンジ
オキシ基並びにX3及びX4が一緒になつて表わす低級ア
ルキレンジオキシ基としては、それぞれエチレンジオキ
シ基、メチルエチレンジオキシ基、1,1−ジメチルエチ
レンジオキシ基、1,2−ジメチルエチレンジオキシ基、
トリメチレンジオキシ基、1−メチルトリメチレンジオ
キシ基、2−メチルトリメチレンジオキシ基、2,2−ジ
メチルトリメチレンジオキシ基などが挙げられる。
本発明の一般式(I)で示されるプレグナン誘導体は
次の方法により製造することができる。なお、式(I−
1−1)で示される化合物及び一般式(I−1−2)で
示される化合物〔以下、これらをそれぞれ化合物(I−
1−1)及び化合物(I−1−2)と称することがあ
る〕はプレグナン誘導体(I−1)に包含され、一般式
(I−2−1)で示される化合物及び一般式(I−2−
2)で示される化合物〔以下、これらをそれぞれ化合物
(I−2−1)及び化合物(I−2−2)と称すること
がある〕はプレグナン誘導体(I−2)に包含され、一
般式(I−3−1)で示される化合物、一般式(I−3
−2)で示される化合物及び一般式(I−3−3)で示
される化合物〔以下、これらをそれぞれ化合物(I−3
−1)、化合物(I−3−2)及び化合物(I−3−
3)と称することがある〕はプレグナン誘導体(I−
3)に包含され、一般式(I−4−1)で示される化合
物、一般式(I−4−2)で示される化合物、一般式
(I−4−3)で示される化合物及び一般式(I−4−
4)で示される化合物〔以下、これらをそれぞれ化合物
(I−4−1)、化合物(I−4−2)、化合物(I−
4−3)及び化合物(I−4−4)と称することがあ
る〕はプレグナン誘導体(I−4)に包含され、一般式
(I−5−1)で示される化合物、式(I−5−2)で
示される化合物、一般式(I−5−3)で示される化合
物、一般式(I−5−4a)で示される化合物、一般式
(I−5−4b)で示される化合物及び一般式(I−5−
4c)で示される化合物〔以下、これらをそれぞれ化合物
(I−5−1)、化合物(I−5−2)、化合物(I−
5−3)、化合物(I−5−4a)、化合物(I−5−4
b)及び化合物(I−5−4c)と称することがある〕は
プレグナ誘導体(I−5)に包含され、一般式(I−6
−1)で示される化合物〔以下、これを化合物(I−6
−1)と称することがある〕はプレグナン誘導体(I−
6)に包含され、一般式(I−7−1)で示される化合
物、一般式(I−7−2)で示される化合物及び一般式
(I−7−3)で示される化合物〔以下、これらをそれ
ぞれ化合物(I−7−1)、化合物(I−7−2)及び
化合物(I−7−3)と称することがある〕はプレグナ
ン誘導体(I−7)に包含され、一般式(I−8−1)
で示される化合物、一般式(I−8−2)で示される化
合物及び一般式(I−8−3)で示される化合物〔以
下、これらをそれぞれ化合物(I−8−1)、化合物
(I−8−2)及び化合物(I−8−3)と称すること
がある〕はプレグナン誘導体(I−8)に包含され、ま
た一般式(I−9−1a)、一般式(I−9−1b)及び一
般式(I−9−1c)で示される化合物〔以下、これらを
それぞれ化合物(I−9−1a)、化合物(I−9−1b)
及び化合物(I−9−1c)と称することがある〕はプレ
グナン誘導体(I−9)に包含される。
次の方法により製造することができる。なお、式(I−
1−1)で示される化合物及び一般式(I−1−2)で
示される化合物〔以下、これらをそれぞれ化合物(I−
1−1)及び化合物(I−1−2)と称することがあ
る〕はプレグナン誘導体(I−1)に包含され、一般式
(I−2−1)で示される化合物及び一般式(I−2−
2)で示される化合物〔以下、これらをそれぞれ化合物
(I−2−1)及び化合物(I−2−2)と称すること
がある〕はプレグナン誘導体(I−2)に包含され、一
般式(I−3−1)で示される化合物、一般式(I−3
−2)で示される化合物及び一般式(I−3−3)で示
される化合物〔以下、これらをそれぞれ化合物(I−3
−1)、化合物(I−3−2)及び化合物(I−3−
3)と称することがある〕はプレグナン誘導体(I−
3)に包含され、一般式(I−4−1)で示される化合
物、一般式(I−4−2)で示される化合物、一般式
(I−4−3)で示される化合物及び一般式(I−4−
4)で示される化合物〔以下、これらをそれぞれ化合物
(I−4−1)、化合物(I−4−2)、化合物(I−
4−3)及び化合物(I−4−4)と称することがあ
る〕はプレグナン誘導体(I−4)に包含され、一般式
(I−5−1)で示される化合物、式(I−5−2)で
示される化合物、一般式(I−5−3)で示される化合
物、一般式(I−5−4a)で示される化合物、一般式
(I−5−4b)で示される化合物及び一般式(I−5−
4c)で示される化合物〔以下、これらをそれぞれ化合物
(I−5−1)、化合物(I−5−2)、化合物(I−
5−3)、化合物(I−5−4a)、化合物(I−5−4
b)及び化合物(I−5−4c)と称することがある〕は
プレグナ誘導体(I−5)に包含され、一般式(I−6
−1)で示される化合物〔以下、これを化合物(I−6
−1)と称することがある〕はプレグナン誘導体(I−
6)に包含され、一般式(I−7−1)で示される化合
物、一般式(I−7−2)で示される化合物及び一般式
(I−7−3)で示される化合物〔以下、これらをそれ
ぞれ化合物(I−7−1)、化合物(I−7−2)及び
化合物(I−7−3)と称することがある〕はプレグナ
ン誘導体(I−7)に包含され、一般式(I−8−1)
で示される化合物、一般式(I−8−2)で示される化
合物及び一般式(I−8−3)で示される化合物〔以
下、これらをそれぞれ化合物(I−8−1)、化合物
(I−8−2)及び化合物(I−8−3)と称すること
がある〕はプレグナン誘導体(I−8)に包含され、ま
た一般式(I−9−1a)、一般式(I−9−1b)及び一
般式(I−9−1c)で示される化合物〔以下、これらを
それぞれ化合物(I−9−1a)、化合物(I−9−1b)
及び化合物(I−9−1c)と称することがある〕はプレ
グナン誘導体(I−9)に包含される。
〔上記式中、R1は水素原子、アルカリ金属原子又は1/2
個のアルカリ土類金属原子を表わし、Y1及びY2はそれ
ぞれ低級アルコキシル基を表わすか又は一緒になつて低
級アルキレンジオキシ基を表わし、Z1は低級アルカノ
イル基を表わし、Z2は低級アルコキシカルボニル基、
低級アルカノイル基、N−低級アルキルカルバモイル
基、N−アリールカルバモイル基又はN,N−ジ(低級ア
ルキル)カルバモイル基を表わし、Z3及びZ4はそれぞ
れアシル基、低級アルコキシカルボニル基、N−低級ア
ルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、
N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイル基、三置換シリ
ル基、又は置換基を有していてもよいアルコキシメチル
基を表わし、Z5は低級アルコキシカルボニル基を表わ
し、Z6及びZ7はそれぞれ水素原子、アシル基、低級ア
ルコキシカルボニル基、N−低級アルキルカルバモイル
基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジ(低級アル
キル)カルバモイル基、三置換シリル基又は置換基を有
していてもよいアルコキシメチル基を表わし、Z8はア
シル基、N−低級アルキルカルバモイル基、N−アリー
ルカルバモイル基又はN,N−ジ(低級アルキル)カルバ
モイル基を表わす。〕 一般式(II)で示される3α,7α−ジヒドロキシ−5
β−コラン酸(以下、ケノデオキシコール酸と称す)及
び/又はその塩の式(I−1−1)で示される7α−ヒ
ドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カル
ブアルデヒドへの微生物変換は、ケノデオキシコール酸
及び/又はその塩を基質として7α−ヒドロキシプレグ
ナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒドを
生産する能力を有するアルカリゲネス(Alcaligenes)
属に属する細菌をケノデオキシコール酸及び/又はその
塩を含む培地に培養することによつて行われる。ケノデ
オキシコール酸及び/又はその塩を基質として7α−ヒ
ドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カル
ブアルデヒドを生産する能力を有するアルカリゲネス属
に属する細菌としては、例えばアルカリゲネス・フエカ
リスD4020-K15(Alcaligenes faecalis D4020-K15)菌
株〔寄託機関:通商産業省工業技術院微生物工業技術研
究所(あて名:〒305日本国茨城県筑波群谷田部町東1
丁目1番3);寄託日:昭和57年11月1日(昭和57年1
月4日に寄託された微工研菌寄第6300号より移管);受
託番号:微工研条寄第204号〕がある。この菌株は土壌
中から取得したアルカリゲネス・フエカリスD4020(Alc
aligenes faecalis D4020)菌株〔寄託機関:通商産業
省工業技術院微生物工業技術研究所(あて名:〒305日
本国茨城県筑波群谷田部町東1丁目1番3);寄託日:
昭和57年9月11日(昭和57年1月4日に寄託された微工
研菌寄第6298号より移管);受託番号:微工研条寄第18
2号〕に突然変異処理を施して得られた変異株である。
これらの菌株の菌学的性質は特開昭58-148900号公報、
特開昭58-204000号公報、特開昭59-157100号公報又は特
開昭59-205396号公報に記載されているとおりである。
ケノデオキシコール酸の塩としては具体的にはケノデオ
キシコール酸のナトリウム、カリウムなどのアルカリ金
属の塩又はカルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土
類金属の塩が挙げられる。ケノデオキシコール酸及び/
又はその塩の培地中での濃度は通常約1〜200g/lの範囲
でよいが、生産される7α−ヒドロキシプレグナ−1,4
−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒドの収量、培
養条件及び操作性などの経済的観点から約10〜100g/lの
範囲が好ましい。培養方法は原則的には一般微生物の好
気培養で採用される方法と同じであるが、通常は液体培
地による振盪培養法又は通気攪拌培養法が用いられる。
培地は上記のケノデオキシコール酸及び/又はその塩を
基質として7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−
3−オン−20−カルブアルデヒドを生産する能力を有す
るアルカリゲネス属に属する細菌が資化利用できる栄養
源を含有するものであればよい。炭素源としてはケノデ
オキシコール酸及び/又はその塩を単一炭素源としても
よく、またケノデオキシコール酸及び/又はその塩にグ
ルコース、グリセリン、ペプトン、肉エキス、酵母エキ
スなどを併用してもよい。また窒素源としては、例えば
硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム、燐酸アンモニウ
ム、硝酸アンモニウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム
などの無機窒素源、又はポリペプトン、ペプトン、肉エ
キスなどの有機窒素源が用いられる。また、この他に燐
酸水素2カリウム、燐酸2水素カリウム、硫酸マグネシ
ウムなどの無機塩類が培地に添加される。培養条件に特
徴はないが、通常約25〜30℃の範囲内の温度で約10時間
〜約7日間振盪培養又は通気攪拌培養を行う。
個のアルカリ土類金属原子を表わし、Y1及びY2はそれ
ぞれ低級アルコキシル基を表わすか又は一緒になつて低
級アルキレンジオキシ基を表わし、Z1は低級アルカノ
イル基を表わし、Z2は低級アルコキシカルボニル基、
低級アルカノイル基、N−低級アルキルカルバモイル
基、N−アリールカルバモイル基又はN,N−ジ(低級ア
ルキル)カルバモイル基を表わし、Z3及びZ4はそれぞ
れアシル基、低級アルコキシカルボニル基、N−低級ア
ルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、
N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイル基、三置換シリ
ル基、又は置換基を有していてもよいアルコキシメチル
基を表わし、Z5は低級アルコキシカルボニル基を表わ
し、Z6及びZ7はそれぞれ水素原子、アシル基、低級ア
ルコキシカルボニル基、N−低級アルキルカルバモイル
基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジ(低級アル
キル)カルバモイル基、三置換シリル基又は置換基を有
していてもよいアルコキシメチル基を表わし、Z8はア
シル基、N−低級アルキルカルバモイル基、N−アリー
ルカルバモイル基又はN,N−ジ(低級アルキル)カルバ
モイル基を表わす。〕 一般式(II)で示される3α,7α−ジヒドロキシ−5
β−コラン酸(以下、ケノデオキシコール酸と称す)及
び/又はその塩の式(I−1−1)で示される7α−ヒ
ドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カル
ブアルデヒドへの微生物変換は、ケノデオキシコール酸
及び/又はその塩を基質として7α−ヒドロキシプレグ
ナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒドを
生産する能力を有するアルカリゲネス(Alcaligenes)
属に属する細菌をケノデオキシコール酸及び/又はその
塩を含む培地に培養することによつて行われる。ケノデ
オキシコール酸及び/又はその塩を基質として7α−ヒ
ドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カル
ブアルデヒドを生産する能力を有するアルカリゲネス属
に属する細菌としては、例えばアルカリゲネス・フエカ
リスD4020-K15(Alcaligenes faecalis D4020-K15)菌
株〔寄託機関:通商産業省工業技術院微生物工業技術研
究所(あて名:〒305日本国茨城県筑波群谷田部町東1
丁目1番3);寄託日:昭和57年11月1日(昭和57年1
月4日に寄託された微工研菌寄第6300号より移管);受
託番号:微工研条寄第204号〕がある。この菌株は土壌
中から取得したアルカリゲネス・フエカリスD4020(Alc
aligenes faecalis D4020)菌株〔寄託機関:通商産業
省工業技術院微生物工業技術研究所(あて名:〒305日
本国茨城県筑波群谷田部町東1丁目1番3);寄託日:
昭和57年9月11日(昭和57年1月4日に寄託された微工
研菌寄第6298号より移管);受託番号:微工研条寄第18
2号〕に突然変異処理を施して得られた変異株である。
これらの菌株の菌学的性質は特開昭58-148900号公報、
特開昭58-204000号公報、特開昭59-157100号公報又は特
開昭59-205396号公報に記載されているとおりである。
ケノデオキシコール酸の塩としては具体的にはケノデオ
キシコール酸のナトリウム、カリウムなどのアルカリ金
属の塩又はカルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土
類金属の塩が挙げられる。ケノデオキシコール酸及び/
又はその塩の培地中での濃度は通常約1〜200g/lの範囲
でよいが、生産される7α−ヒドロキシプレグナ−1,4
−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒドの収量、培
養条件及び操作性などの経済的観点から約10〜100g/lの
範囲が好ましい。培養方法は原則的には一般微生物の好
気培養で採用される方法と同じであるが、通常は液体培
地による振盪培養法又は通気攪拌培養法が用いられる。
培地は上記のケノデオキシコール酸及び/又はその塩を
基質として7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−
3−オン−20−カルブアルデヒドを生産する能力を有す
るアルカリゲネス属に属する細菌が資化利用できる栄養
源を含有するものであればよい。炭素源としてはケノデ
オキシコール酸及び/又はその塩を単一炭素源としても
よく、またケノデオキシコール酸及び/又はその塩にグ
ルコース、グリセリン、ペプトン、肉エキス、酵母エキ
スなどを併用してもよい。また窒素源としては、例えば
硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム、燐酸アンモニウ
ム、硝酸アンモニウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム
などの無機窒素源、又はポリペプトン、ペプトン、肉エ
キスなどの有機窒素源が用いられる。また、この他に燐
酸水素2カリウム、燐酸2水素カリウム、硫酸マグネシ
ウムなどの無機塩類が培地に添加される。培養条件に特
徴はないが、通常約25〜30℃の範囲内の温度で約10時間
〜約7日間振盪培養又は通気攪拌培養を行う。
このようにして培養液中に蓄積された7α−ヒドロキ
シプレグナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアル
デヒドは基質のケノデオキシコール酸又はその塩と比較
して水に対する溶解度が著しく小さく、通常は蓄積に伴
つて培養液中に析出沈殿してくる。蓄積された7α−ヒ
ドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カル
ブアルデヒドの分離・取得は例えば次の方法により行う
ことができる。培養物から遠心分離又は濾過により分離
された不溶成分を、必要に応じて水洗することにより残
存基質のケノデオキシコール酸及び/又はその塩を除去
したのち、7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−
3−オン−20−カルブアルデヒドを溶解する有機溶媒、
例えば酢酸エチル、クロロホルム、メタノールなどの単
溶媒又は酢酸エチルとメタノールとの混合溶媒などを用
いて抽出することによって、7α−ヒドロキシプレグナ
−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒドを含
有する抽出物を得ることができる。また沈殿物及び菌体
を含んだ状態の培養物そのものを、7α−ヒドロキシプ
レグナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒ
ドを溶解し、かつ水と相分離する有機溶媒、例えば酢酸
エチル、クロロホルムなどの単溶媒又は酢酸エチルとメ
タノールとの混合溶媒などを用いて抽出することによ
り、7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オ
ン−20−カルブアルデヒドを含有する抽出物を得ること
ができる。これらの方法により得られた抽出物から、必
要に応じて菌体その他の不溶物を遠心分離又は濾過によ
り分離除去したのち、有機溶媒を留去することにより、
7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オン−2
0−カルブアルデヒドを取得することができる。上記の
方法で得られた7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエ
ン−3−オン−20−カルブアルデヒドには残存基質のケ
ノデオキシコール酸若しくはその塩又は副産物はほとん
ど含まれておらず、該7α−ヒドロキシプレグナ−1,4
−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒドを必要に応
じて例えばメタノール水溶液からの再結晶の操作に付す
ることにより容易に高純度の7α−ヒドロキシプレグナ
−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒドを取
得することができる。
シプレグナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアル
デヒドは基質のケノデオキシコール酸又はその塩と比較
して水に対する溶解度が著しく小さく、通常は蓄積に伴
つて培養液中に析出沈殿してくる。蓄積された7α−ヒ
ドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カル
ブアルデヒドの分離・取得は例えば次の方法により行う
ことができる。培養物から遠心分離又は濾過により分離
された不溶成分を、必要に応じて水洗することにより残
存基質のケノデオキシコール酸及び/又はその塩を除去
したのち、7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−
3−オン−20−カルブアルデヒドを溶解する有機溶媒、
例えば酢酸エチル、クロロホルム、メタノールなどの単
溶媒又は酢酸エチルとメタノールとの混合溶媒などを用
いて抽出することによって、7α−ヒドロキシプレグナ
−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒドを含
有する抽出物を得ることができる。また沈殿物及び菌体
を含んだ状態の培養物そのものを、7α−ヒドロキシプ
レグナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒ
ドを溶解し、かつ水と相分離する有機溶媒、例えば酢酸
エチル、クロロホルムなどの単溶媒又は酢酸エチルとメ
タノールとの混合溶媒などを用いて抽出することによ
り、7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オ
ン−20−カルブアルデヒドを含有する抽出物を得ること
ができる。これらの方法により得られた抽出物から、必
要に応じて菌体その他の不溶物を遠心分離又は濾過によ
り分離除去したのち、有機溶媒を留去することにより、
7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オン−2
0−カルブアルデヒドを取得することができる。上記の
方法で得られた7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエ
ン−3−オン−20−カルブアルデヒドには残存基質のケ
ノデオキシコール酸若しくはその塩又は副産物はほとん
ど含まれておらず、該7α−ヒドロキシプレグナ−1,4
−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒドを必要に応
じて例えばメタノール水溶液からの再結晶の操作に付す
ることにより容易に高純度の7α−ヒドロキシプレグナ
−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒドを取
得することができる。
式(I−1−1)で示される7α−ヒドロキシプレグ
ナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒドの
化合物(I−2−1)への変換は、7α−ヒドロキシプ
レグナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒ
ドを脱水反応を伴うアセタール化反応に付するか、又は
7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オン−2
0−カルブアルデヒドをアセタール化して対応する化合
物(I−1−2)に変換し、次いで該化合物(I−1−
2)を脱水反応に付することによつて実施される。前者
の脱水反応を伴うアセタール化反応は、7α−ヒドロキ
シプレグナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアル
デヒド及びそのアセタール化剤をベンゼン、トルエンな
どの芳香族炭化水素系溶媒中でp−トルエンスルホン
酸、p−トルエンスルホン酸ピリジン塩、カンフアース
ルホン、三臭化リンなどの酸触媒の存在下に共沸脱水条
件下で加熱還流することによつて行われる。アセタール
化剤としては例えばメタノール、エタノール、プロピル
アルコール、ブチルアルコールなどの低級アルコール;
エチレングリコール、1,2−プルパンジオール、2−メ
チル−1,2−プルパンジオール、2,3−ブタンジオールな
どのエチレングリコール類、1,3−プロパンジオール、
1,3−ブタンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオ
ール、3−メチル−1,3−ブタンジオール、2−メチル
−1,3−ブタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパ
ンジオールなどのトリメチレングリコール類などの低級
アルキレングリコール;2−ブタノンエチレンアセター
ル、3−ペンタノンエチレンアセタール、2−ブタノン
(2,2−ジメチルトリメチレン)アセタールなどのケト
ンの低級アルキレンアセタールなどが使用される。また
後者のアセタール化反応と脱水反応とを独立に行う方法
は、まず、7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−
3−オン−20−カルブアルデヒド及び前記のアセタール
化剤のうちの低級アルコール若しくはトリメチレングリ
コール類などを塩化メチレン、クロロホルムなどのハロ
ゲン化炭化水素系溶媒中でモレキユラーシーブ、硫酸銅
などの脱水剤及びp−トルエンスルホン酸、p−トルエ
ンスルホン酸ピリジン塩、カンフアースルホン酸などの
酸触媒の存在下に約0〜50℃の範囲内の温度で反応さ
せ、得られた反応混合物から脱水剤を除去したのち溶媒
を留去し、その残渣をクロマトグラフイー、再結晶など
の分離・精製の操作に付することによつて化合物(I−
1−2)を得、次いで該化合物(I−1−2)を上記と
同じ芳香族炭化水素系溶媒中でp−トルエンスルホン
酸、カンファースルホン酸などの酸触媒の存在下に共沸
脱水条件下で加熱還流下に反応させることによつて実施
される。脱水反応を伴うアセタール化反応及び脱水反応
に先立つて行うアセタール化反応において、アセタール
化剤は通常7α−ヒドロプレグナ−1,4−ジエン−3−
オン−20−カルブアルデヒドの1モルに対して約2〜10
モル、好ましくは約2.5〜5モル使用される。溶媒の使
用量は通常7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−
3−オン−20−カルブアルデヒドに対して約10〜200倍
重量であり、また酸触媒の使用量は通常7α−ヒドロキ
シプレグナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアル
デヒドの1モルに対して約0.001〜0.3モルであり、好ま
しくは約0.005〜0.1モルである。脱水反応に先立つて行
うアセタール化反応において、脱水剤は通常7α−ヒド
ロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブ
アルデヒドの1モルに対して1モル以上の水を反応系か
ら除去しうる量で使用され、好ましくは約2〜10モルの
水を反応系から除去しうる量で使用される。また化合物
(I−1−2)の脱水反応において、溶媒は通常化合物
(I−1−2)に対して約10〜200倍重量で用いられ、
酸触媒は通常化合物(I−1−2)の1モルに対して約
0.001〜0.3モル、好ましくは約0.005〜0.1モルの量で使
用される。
ナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒドの
化合物(I−2−1)への変換は、7α−ヒドロキシプ
レグナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒ
ドを脱水反応を伴うアセタール化反応に付するか、又は
7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オン−2
0−カルブアルデヒドをアセタール化して対応する化合
物(I−1−2)に変換し、次いで該化合物(I−1−
2)を脱水反応に付することによつて実施される。前者
の脱水反応を伴うアセタール化反応は、7α−ヒドロキ
シプレグナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアル
デヒド及びそのアセタール化剤をベンゼン、トルエンな
どの芳香族炭化水素系溶媒中でp−トルエンスルホン
酸、p−トルエンスルホン酸ピリジン塩、カンフアース
ルホン、三臭化リンなどの酸触媒の存在下に共沸脱水条
件下で加熱還流することによつて行われる。アセタール
化剤としては例えばメタノール、エタノール、プロピル
アルコール、ブチルアルコールなどの低級アルコール;
エチレングリコール、1,2−プルパンジオール、2−メ
チル−1,2−プルパンジオール、2,3−ブタンジオールな
どのエチレングリコール類、1,3−プロパンジオール、
1,3−ブタンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオ
ール、3−メチル−1,3−ブタンジオール、2−メチル
−1,3−ブタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパ
ンジオールなどのトリメチレングリコール類などの低級
アルキレングリコール;2−ブタノンエチレンアセター
ル、3−ペンタノンエチレンアセタール、2−ブタノン
(2,2−ジメチルトリメチレン)アセタールなどのケト
ンの低級アルキレンアセタールなどが使用される。また
後者のアセタール化反応と脱水反応とを独立に行う方法
は、まず、7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−
3−オン−20−カルブアルデヒド及び前記のアセタール
化剤のうちの低級アルコール若しくはトリメチレングリ
コール類などを塩化メチレン、クロロホルムなどのハロ
ゲン化炭化水素系溶媒中でモレキユラーシーブ、硫酸銅
などの脱水剤及びp−トルエンスルホン酸、p−トルエ
ンスルホン酸ピリジン塩、カンフアースルホン酸などの
酸触媒の存在下に約0〜50℃の範囲内の温度で反応さ
せ、得られた反応混合物から脱水剤を除去したのち溶媒
を留去し、その残渣をクロマトグラフイー、再結晶など
の分離・精製の操作に付することによつて化合物(I−
1−2)を得、次いで該化合物(I−1−2)を上記と
同じ芳香族炭化水素系溶媒中でp−トルエンスルホン
酸、カンファースルホン酸などの酸触媒の存在下に共沸
脱水条件下で加熱還流下に反応させることによつて実施
される。脱水反応を伴うアセタール化反応及び脱水反応
に先立つて行うアセタール化反応において、アセタール
化剤は通常7α−ヒドロプレグナ−1,4−ジエン−3−
オン−20−カルブアルデヒドの1モルに対して約2〜10
モル、好ましくは約2.5〜5モル使用される。溶媒の使
用量は通常7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−
3−オン−20−カルブアルデヒドに対して約10〜200倍
重量であり、また酸触媒の使用量は通常7α−ヒドロキ
シプレグナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアル
デヒドの1モルに対して約0.001〜0.3モルであり、好ま
しくは約0.005〜0.1モルである。脱水反応に先立つて行
うアセタール化反応において、脱水剤は通常7α−ヒド
ロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブ
アルデヒドの1モルに対して1モル以上の水を反応系か
ら除去しうる量で使用され、好ましくは約2〜10モルの
水を反応系から除去しうる量で使用される。また化合物
(I−1−2)の脱水反応において、溶媒は通常化合物
(I−1−2)に対して約10〜200倍重量で用いられ、
酸触媒は通常化合物(I−1−2)の1モルに対して約
0.001〜0.3モル、好ましくは約0.005〜0.1モルの量で使
用される。
このようにして脱水反応を伴うアセタール化反応はア
セタール化反応に続く脱水反応によつて得られた反応混
合物(I−2−1)の分離・精製は、一般有機合成反応
により得られる生成物の反応混合物からの分離・精製に
用いられる方法により同様に行われる。例えば、反応混
合物を重曹水と混合したのち、ヘキサン、ジエチルエー
テル、ベンゼン、酢酸エチル、塩化メチレンなどの溶媒
で抽出し、抽出液から溶媒を留去し、その残渣をクロマ
トグラフイー、再結晶などの分離・精製の操作に付する
ことによつて化合物(I−2−1)を取得することがで
きる。
セタール化反応に続く脱水反応によつて得られた反応混
合物(I−2−1)の分離・精製は、一般有機合成反応
により得られる生成物の反応混合物からの分離・精製に
用いられる方法により同様に行われる。例えば、反応混
合物を重曹水と混合したのち、ヘキサン、ジエチルエー
テル、ベンゼン、酢酸エチル、塩化メチレンなどの溶媒
で抽出し、抽出液から溶媒を留去し、その残渣をクロマ
トグラフイー、再結晶などの分離・精製の操作に付する
ことによつて化合物(I−2−1)を取得することがで
きる。
化合物(I−2−1)の化合物(I−2−2)への変
換は、化合物(I−2−1)をメタノール、エタノール
などの低級アルコールと水との混合溶媒中で水酸化ナト
リウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物な
どの塩基の存在下に約0〜30℃の範囲内の温度で過酸化
水素と反応させることによつて実施される。塩基の使用
量は通常化合物(I−2−1)の1モルに対して約0.2
〜0.5モルである。過酸化水素は通常化合物(I−2−
1)の1モルに対して約2〜20モル、好ましくは約3〜
10モルの量で使用される。この1α,2α−エポキシ化反
応は、化合物(I−2−1)を該化合物に対して約10〜
100倍重量の低級アルコールに溶解して得られた溶液
に、塩基とともに市販されている約30%の濃度の過酸化
水素水を加え、室温下で約12〜24時間攪拌することによ
つて行うのが簡便である。
換は、化合物(I−2−1)をメタノール、エタノール
などの低級アルコールと水との混合溶媒中で水酸化ナト
リウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物な
どの塩基の存在下に約0〜30℃の範囲内の温度で過酸化
水素と反応させることによつて実施される。塩基の使用
量は通常化合物(I−2−1)の1モルに対して約0.2
〜0.5モルである。過酸化水素は通常化合物(I−2−
1)の1モルに対して約2〜20モル、好ましくは約3〜
10モルの量で使用される。この1α,2α−エポキシ化反
応は、化合物(I−2−1)を該化合物に対して約10〜
100倍重量の低級アルコールに溶解して得られた溶液
に、塩基とともに市販されている約30%の濃度の過酸化
水素水を加え、室温下で約12〜24時間攪拌することによ
つて行うのが簡便である。
このようにして1α,2α−エポキシ化反応によつて得
られた反応混合物からの化合物(I−2−2)の分離・
精製は、例えば次の方法により行うことができる。反応
混合物を水で希釈したのち、その希釈液から溶媒として
用いた低級アルコールの一部を減圧下に留去し、その残
渣をジエチルエーテル、酢酸エチル、クロロホルム、塩
化メチレンなどの溶媒で抽出する。抽出液をヨウ化カリ
ウム水溶液及び食塩水で順次洗滌し、得られた溶液から
減圧下に溶媒を留去し、その残渣をクロマトグラフイ
ー、再結晶などの分離・精製の操作に付することによつ
て化合物(I−2−2)を取得することができる。
られた反応混合物からの化合物(I−2−2)の分離・
精製は、例えば次の方法により行うことができる。反応
混合物を水で希釈したのち、その希釈液から溶媒として
用いた低級アルコールの一部を減圧下に留去し、その残
渣をジエチルエーテル、酢酸エチル、クロロホルム、塩
化メチレンなどの溶媒で抽出する。抽出液をヨウ化カリ
ウム水溶液及び食塩水で順次洗滌し、得られた溶液から
減圧下に溶媒を留去し、その残渣をクロマトグラフイ
ー、再結晶などの分離・精製の操作に付することによつ
て化合物(I−2−2)を取得することができる。
なお、化合物(I−2−1)及び化合物(I−2−
2)は脱保護反応に付することによつてそれぞれ対応す
るアルデヒドに変換される。
2)は脱保護反応に付することによつてそれぞれ対応す
るアルデヒドに変換される。
化合物(I−2−1)の式(I−2−3)で示される
プレグナ−1,4,6−トリエン−3−オン−20−カルブア
ルデヒド〔以下、これを化合物(I−2−3)と称する
ことがある〕への変換及び化合物(I−2−2)の式
(I−2−4)で示される1α,2α−エポキシプレグナ
−4,6−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒド〔以
下、これを化合物(I−2−4)と称することがある〕
への変換は、化合物(I−2−1)又は化合物(I−2
−2)をその1モルに対して約0.001〜0.1モルの量のp
−トルエンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸ピリジ
ン塩などの酸の存在下に約20〜80℃の範囲内の温度でア
セトン、2−ブタノン、3−ペンタノンなどの低級アル
カノンと反応させるか、又は化合物(I−2−1)又は
化合物(I−2−2)をその1モルに対して約0.01〜1
モルの量の塩酸、p−トルエンスルホン酸などの酸の存
在下に約−10℃〜約60℃の範囲内の温度で水若しくはメ
タノール、エタノールなどの低級アルコールと反応させ
ることによつて実施される。低級アルカノンの使用量は
通常化合物(I−2−1)又は化合物(I−2−2)に
対して約100〜1000倍重量である。また水又は低級アル
コールは通常化合物(I−2−1)又は化合物(I−2
−2)に対して約10〜200倍重量使用する。なお水を使
用する場合には、反応系にテトラヒドロフラン、1,2−
ジメトキシエタンなどの水と混和しうる有機溶媒を存在
させるのが好ましく、有機溶媒は化合物(I−2−1)
又は化合物(I−2−2)に対して約20〜100倍重量で
用いるのが好適である。
プレグナ−1,4,6−トリエン−3−オン−20−カルブア
ルデヒド〔以下、これを化合物(I−2−3)と称する
ことがある〕への変換及び化合物(I−2−2)の式
(I−2−4)で示される1α,2α−エポキシプレグナ
−4,6−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒド〔以
下、これを化合物(I−2−4)と称することがある〕
への変換は、化合物(I−2−1)又は化合物(I−2
−2)をその1モルに対して約0.001〜0.1モルの量のp
−トルエンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸ピリジ
ン塩などの酸の存在下に約20〜80℃の範囲内の温度でア
セトン、2−ブタノン、3−ペンタノンなどの低級アル
カノンと反応させるか、又は化合物(I−2−1)又は
化合物(I−2−2)をその1モルに対して約0.01〜1
モルの量の塩酸、p−トルエンスルホン酸などの酸の存
在下に約−10℃〜約60℃の範囲内の温度で水若しくはメ
タノール、エタノールなどの低級アルコールと反応させ
ることによつて実施される。低級アルカノンの使用量は
通常化合物(I−2−1)又は化合物(I−2−2)に
対して約100〜1000倍重量である。また水又は低級アル
コールは通常化合物(I−2−1)又は化合物(I−2
−2)に対して約10〜200倍重量使用する。なお水を使
用する場合には、反応系にテトラヒドロフラン、1,2−
ジメトキシエタンなどの水と混和しうる有機溶媒を存在
させるのが好ましく、有機溶媒は化合物(I−2−1)
又は化合物(I−2−2)に対して約20〜100倍重量で
用いるのが好適である。
このようにして脱保護反応によつて得られた反応混合
物からの化合物(I−2−3)又は化合物(I−2−
4)の分離・精製は、例えば次の方法により行うことが
できる。反応混合物から必要に応じて減圧下に反応に使
用した低級アルカノン、低級アルコール又は有機溶媒を
留去したのち、その残渣を水に加え、次いで塩化メチレ
ンで抽出する。抽出液を水、重曹水及び食塩水で順次洗
滌したのち、これより減圧下に溶媒を留去し、その残渣
をクロマトグラフイー、再結晶などの分離・精製の操作
に付することによつて化合物(I−2−3)又は化合物
(I−2−4)を取得することができる。
物からの化合物(I−2−3)又は化合物(I−2−
4)の分離・精製は、例えば次の方法により行うことが
できる。反応混合物から必要に応じて減圧下に反応に使
用した低級アルカノン、低級アルコール又は有機溶媒を
留去したのち、その残渣を水に加え、次いで塩化メチレ
ンで抽出する。抽出液を水、重曹水及び食塩水で順次洗
滌したのち、これより減圧下に溶媒を留去し、その残渣
をクロマトグラフイー、再結晶などの分離・精製の操作
に付することによつて化合物(I−2−3)又は化合物
(I−2−4)を取得することができる。
化合物(I−2−3)又は化合物(I−2−4)を、
例えば、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素中で
p−トルエンスルホン酸ピリジンなどの酸触媒の存在下
に加熱還流下で2−ブタノン(2,2−ジメチルトリメチ
レン)アセタールなどのケトンの低級アルキレンアセタ
ールと反応させることによつて、一般式(I−2)にお
いてX1及びX2が一緒になつて低級アルキレンジオキシ
基を表わすプレグナン誘導体に変換することができる。
例えば、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素中で
p−トルエンスルホン酸ピリジンなどの酸触媒の存在下
に加熱還流下で2−ブタノン(2,2−ジメチルトリメチ
レン)アセタールなどのケトンの低級アルキレンアセタ
ールと反応させることによつて、一般式(I−2)にお
いてX1及びX2が一緒になつて低級アルキレンジオキシ
基を表わすプレグナン誘導体に変換することができる。
化合物(I−2−2)の化合物(I−3−1)への変
換は、化合物(I−2−2)を過酢酸、過安息香酸、m
−クロロ過安息香酸などの有機過酸と反応させることに
よつて行われる。有機過酸の使用量は通常、化合物(I
−2−2)の1モルに対して約1〜10モルであり、好ま
しくは約2〜8モルである。この反応は通常クロロホル
ム、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒中で
約0〜30℃の範囲内の温度下に実施される。この6α,7
α−エポキシ化反応は、化合物(I−2−2)をそれに
対して約10〜100倍重量のハロゲン化炭化水素系溶媒に
溶解して得られた溶液に、有機過酸又はそれを該有機過
酸に対して約50〜200倍重量のハロゲン化炭化水素系溶
媒に溶解して得られた溶液を加え、得られた混合液を室
温で約6時間〜約3日間攪拌することによつて行うのが
簡便である。なお、有機過酸から生成する有機酸を中和
するうえで、反応系に炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどの塩基性化
合物を化合物(I−2−2)の1モルに対して約1〜5
モルの量存在させることが好ましい。
換は、化合物(I−2−2)を過酢酸、過安息香酸、m
−クロロ過安息香酸などの有機過酸と反応させることに
よつて行われる。有機過酸の使用量は通常、化合物(I
−2−2)の1モルに対して約1〜10モルであり、好ま
しくは約2〜8モルである。この反応は通常クロロホル
ム、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒中で
約0〜30℃の範囲内の温度下に実施される。この6α,7
α−エポキシ化反応は、化合物(I−2−2)をそれに
対して約10〜100倍重量のハロゲン化炭化水素系溶媒に
溶解して得られた溶液に、有機過酸又はそれを該有機過
酸に対して約50〜200倍重量のハロゲン化炭化水素系溶
媒に溶解して得られた溶液を加え、得られた混合液を室
温で約6時間〜約3日間攪拌することによつて行うのが
簡便である。なお、有機過酸から生成する有機酸を中和
するうえで、反応系に炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどの塩基性化
合物を化合物(I−2−2)の1モルに対して約1〜5
モルの量存在させることが好ましい。
このようにして6α,7α−エポキシ化反応によつて得
られた反応混合物からの化合物(I−3−1)の分離・
精製は、例えば次の方法により行うことができる。反応
混合物をヨウ化カリウム水溶液及び食塩水で順次洗滌し
たのち、得られた溶液から減圧下に溶媒を留去し、その
残渣をクロマトグラフイー、再結晶などの分離・精製の
操作に付することによつて化合物(I−3−1)を取得
することができる。
られた反応混合物からの化合物(I−3−1)の分離・
精製は、例えば次の方法により行うことができる。反応
混合物をヨウ化カリウム水溶液及び食塩水で順次洗滌し
たのち、得られた溶液から減圧下に溶媒を留去し、その
残渣をクロマトグラフイー、再結晶などの分離・精製の
操作に付することによつて化合物(I−3−1)を取得
することができる。
化合物(I−3−1)を化合物(I−3−2)に変換
する還元反応は化合物(I−3−1)水素化ホウ素ナト
リウムなどの還元剤と接触させることによつて行われ
る。還元剤の使用量は通常、化合物(I−3−1)の1
モルに対して約0.5〜2.0モルであり、好ましくは約0.8
〜1.2モルである。この反応は通常メタノール、エタノ
ールなどのアルコール系溶媒中又はテトラヒドロフラ
ン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル系溶媒中で
約0〜25℃の範囲内の温度下に実施される。溶媒の使用
量は通常化合物(I−3−1)に対して約20〜100倍重
量である。この反応は、化合物(I−3−1)を溶媒に
溶解し、攪拌下に約0℃に冷却しながら、この溶液に還
元剤を徐々に加え、次いで得られた混合物を約0℃の温
度下に約10分間〜約1時間攪拌することによつて行うの
が好適である。
する還元反応は化合物(I−3−1)水素化ホウ素ナト
リウムなどの還元剤と接触させることによつて行われ
る。還元剤の使用量は通常、化合物(I−3−1)の1
モルに対して約0.5〜2.0モルであり、好ましくは約0.8
〜1.2モルである。この反応は通常メタノール、エタノ
ールなどのアルコール系溶媒中又はテトラヒドロフラ
ン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル系溶媒中で
約0〜25℃の範囲内の温度下に実施される。溶媒の使用
量は通常化合物(I−3−1)に対して約20〜100倍重
量である。この反応は、化合物(I−3−1)を溶媒に
溶解し、攪拌下に約0℃に冷却しながら、この溶液に還
元剤を徐々に加え、次いで得られた混合物を約0℃の温
度下に約10分間〜約1時間攪拌することによつて行うの
が好適である。
このようにして還元反応によつて得られた反応混合物
からの化合物(I−3−2)の分離・精製は、例えば次
の方法により行うことができる。反応混合物に水と冷却
した少量の塩酸とを順次加えたのち、塩化メチレンで抽
出する。抽出液を冷却した重曹水及び食塩水で順次洗滌
し、得られた溶液から減圧下に溶媒を留去し、次いでそ
の残渣をクロマトグラフイー、再結晶などの分離・精製
の操作に付することによつて化合物(I−3−2)を取
得することができる。
からの化合物(I−3−2)の分離・精製は、例えば次
の方法により行うことができる。反応混合物に水と冷却
した少量の塩酸とを順次加えたのち、塩化メチレンで抽
出する。抽出液を冷却した重曹水及び食塩水で順次洗滌
し、得られた溶液から減圧下に溶媒を留去し、次いでそ
の残渣をクロマトグラフイー、再結晶などの分離・精製
の操作に付することによつて化合物(I−3−2)を取
得することができる。
化合物(I−3−2)の化合物(I−3−3)への変
換は、化合物(I−3−2)をピリジン、トリエチルア
ミンなどの塩基化合物の存在下に約0〜25℃の範囲内の
温度で無水酢酸、プロピオン酸無水物、酪酸無水物、吉
草酸無水物などの低級アリカン酸無水物又は塩化アセチ
ル、塩化プロピオニル、塩化ブチリル、塩化バレリルな
どの低級アルカン酸ハロゲン化物と反応させることによ
つて実施される。低級アリカン酸無水物又は低級アルカ
ン酸ハロゲン化物は通常、化合物(I−3−2)の1モ
に対して約1〜10モル使用される。また塩基性化合物の
使用量は通常、化合物(I−3−2)の1モルに対して
約2〜20モルであるが、低級アルカン酸無水物又は低級
アルカン酸ハロゲン化物の1モルに対して約2モル以上
である量が好ましい。このアシル化反応は塩化メチレ
ン、ジエチルエーテルなどの有機溶媒中で行うこともで
き、その有機溶媒の使用量は通常、化合物(I−3−
2)に対して約200倍重量以下の量である。反応は、化
合物(I−3−2)と塩基性化合物との混合物又はそれ
に有機溶媒を加えて得られた溶液を約0℃に冷却しなが
ら、これに低級アルカン酸無水物又は低級アルカン酸ハ
ロゲン化物を徐々に加え、得られた混合物を室温下で約
2〜12時間攪拌することによつて行うのが好適である。
なお反応系に、4−(ジメチルアミノ)ピリジンなどの
エステル化触媒を化合物(I−3−2)の1モルに対し
て約0.01〜0.1モルの量で存在させることによつて上記
のアシル化反応を促進することができる。
換は、化合物(I−3−2)をピリジン、トリエチルア
ミンなどの塩基化合物の存在下に約0〜25℃の範囲内の
温度で無水酢酸、プロピオン酸無水物、酪酸無水物、吉
草酸無水物などの低級アリカン酸無水物又は塩化アセチ
ル、塩化プロピオニル、塩化ブチリル、塩化バレリルな
どの低級アルカン酸ハロゲン化物と反応させることによ
つて実施される。低級アリカン酸無水物又は低級アルカ
ン酸ハロゲン化物は通常、化合物(I−3−2)の1モ
に対して約1〜10モル使用される。また塩基性化合物の
使用量は通常、化合物(I−3−2)の1モルに対して
約2〜20モルであるが、低級アルカン酸無水物又は低級
アルカン酸ハロゲン化物の1モルに対して約2モル以上
である量が好ましい。このアシル化反応は塩化メチレ
ン、ジエチルエーテルなどの有機溶媒中で行うこともで
き、その有機溶媒の使用量は通常、化合物(I−3−
2)に対して約200倍重量以下の量である。反応は、化
合物(I−3−2)と塩基性化合物との混合物又はそれ
に有機溶媒を加えて得られた溶液を約0℃に冷却しなが
ら、これに低級アルカン酸無水物又は低級アルカン酸ハ
ロゲン化物を徐々に加え、得られた混合物を室温下で約
2〜12時間攪拌することによつて行うのが好適である。
なお反応系に、4−(ジメチルアミノ)ピリジンなどの
エステル化触媒を化合物(I−3−2)の1モルに対し
て約0.01〜0.1モルの量で存在させることによつて上記
のアシル化反応を促進することができる。
このようにしてアシル化反応によつて得られた反応混
合物からの化合物(I−3−3)の分離・精製は、例え
ば次の方法により行うことができる。反応混合物をジエ
チルエーテル、塩化メチレンなどの溶媒に加え、得られ
た溶液を水洗する。なお、ピリジンを塩基性化合物とし
て使用した場合には、硫酸銅水溶液で洗滌するのが好ま
しい。洗滌後、有機装から減圧下に溶媒を留去し、その
残渣をクロマトグラフイー、再結晶などの分離・精製の
操作に付することによつて化合物(I−3−3)を取得
することができる。
合物からの化合物(I−3−3)の分離・精製は、例え
ば次の方法により行うことができる。反応混合物をジエ
チルエーテル、塩化メチレンなどの溶媒に加え、得られ
た溶液を水洗する。なお、ピリジンを塩基性化合物とし
て使用した場合には、硫酸銅水溶液で洗滌するのが好ま
しい。洗滌後、有機装から減圧下に溶媒を留去し、その
残渣をクロマトグラフイー、再結晶などの分離・精製の
操作に付することによつて化合物(I−3−3)を取得
することができる。
なお、化合物(I−3−1)、(I−3−2)及び
(I−3−3)は脱保護反応に付することによつてそれ
ぞれ対応するアルデヒドに変換される。
(I−3−3)は脱保護反応に付することによつてそれ
ぞれ対応するアルデヒドに変換される。
(式中、Z1は前記定義のとおりである。) 式(I−3−4)で示される1α,2α;6α,7α−ジエ
ポキシ−3−オキソプレグン−4−エン−20−カルブア
ルデヒド〔以下、これを化合物(I−3−4)と称する
ことがある〕、式(I−3−5)で示される1α,2α;6
α,7α−ジエポキシ−3β−ヒドロキシプレグン−4−
エン−20−カルブアルデヒド〔以下、これを化合物(I
−3−5)と称することがある〕及び一般式(I−3−
6)で示される化合物〔以下、これを化合物(I−3−
6)と称することがある〕は、前記の化合物(I−2−
1)及び化合物(I−2−2)をそれぞれ化合物(I−
2−3)又は化合物(I−2−4)に変換する方法にお
いて該化合物(I−2−1)又は化合物(I−2−2
)の代りにそれぞれ化合物(I−3−1)、化合物
(I−3−2)又は化合物(I−3−3)を脱保護反応
に付する以外に同様にして反応及び分離・精製を行うこ
とによつて取得することができる。
ポキシ−3−オキソプレグン−4−エン−20−カルブア
ルデヒド〔以下、これを化合物(I−3−4)と称する
ことがある〕、式(I−3−5)で示される1α,2α;6
α,7α−ジエポキシ−3β−ヒドロキシプレグン−4−
エン−20−カルブアルデヒド〔以下、これを化合物(I
−3−5)と称することがある〕及び一般式(I−3−
6)で示される化合物〔以下、これを化合物(I−3−
6)と称することがある〕は、前記の化合物(I−2−
1)及び化合物(I−2−2)をそれぞれ化合物(I−
2−3)又は化合物(I−2−4)に変換する方法にお
いて該化合物(I−2−1)又は化合物(I−2−2
)の代りにそれぞれ化合物(I−3−1)、化合物
(I−3−2)又は化合物(I−3−3)を脱保護反応
に付する以外に同様にして反応及び分離・精製を行うこ
とによつて取得することができる。
化合物(I−3−4)、化合物(I−3−5)及び化
合物(I−3−6)を、例えば、トリメチルシリルトリ
フルオロメタンスルホナートの存在下に約−100℃〜約
−60℃の範囲内の温度でメトキシトリメチルシラン、エ
トキシトリメチルシランなどの低級アルコキシトリメチ
ルシラン;又は1,2−ビス(トリメチルシリルオキシ)
エタン、2,2−ジメチル−1,3−ビス(トリメチルシリル
オキシ)プロパンなどのビス(トリメチルシリルオキ
シ)低級アルカンと反応させることによつて、それぞれ
対応する化合物(I−3−1)、化合物(I−3−2)
又は化合物(I−3−3)に変換することができる。な
お、この反応は塩化メチレン、クロロホルムなどの溶媒
中で行つてもよい。
合物(I−3−6)を、例えば、トリメチルシリルトリ
フルオロメタンスルホナートの存在下に約−100℃〜約
−60℃の範囲内の温度でメトキシトリメチルシラン、エ
トキシトリメチルシランなどの低級アルコキシトリメチ
ルシラン;又は1,2−ビス(トリメチルシリルオキシ)
エタン、2,2−ジメチル−1,3−ビス(トリメチルシリル
オキシ)プロパンなどのビス(トリメチルシリルオキ
シ)低級アルカンと反応させることによつて、それぞれ
対応する化合物(I−3−1)、化合物(I−3−2)
又は化合物(I−3−3)に変換することができる。な
お、この反応は塩化メチレン、クロロホルムなどの溶媒
中で行つてもよい。
化合物(I−3−3)を化合物(I−4−1)に変換
する還元反応は、化合物(I−3−3)をパラジウム化
合物及び第三級ホスフインの存在下に還元剤を処理する
ことによつて行われる。パラジウム化合物としてはトリ
ス(ジベンジリデンアセトン)2パラジウム(クロロホ
ルム)、酢酸パラジウム、硝酸パラジウム、塩化パラジ
ウム、ビス(アセチルアセトナト)パラジウム、テトラ
キス(トリフエニルホスフイン)パラジウムなどが使用
され、その使用量は通常、化合物(I−3−3)の1モ
ルに対して約0.01〜0.5モルである。第三級ホスフイン
としてはトリブチルホスフイン、トリエチルホスフイ
ン、トリフエニルホスフイン、トリトリルホスフイン、
1,2−ビス(ジフエニルホスフイノ)エタンなどが使用
され、その使用量は通常パラジウム化合物の1モルに対
して約1〜20モルである。また使用し得る還元剤として
はギ酸アンモニウム、ギ酸トリエチルアンモニウム、ギ
酸トリメチルアンモニウムなどのギ酸塩;水素化ホウ素
ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化トリ
エチルホウ素リチウム、水素化ジイソブチルアルミニウ
ム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリブチル
スズ、ポリメチルヒドロシロキサンなどの水素化金属化
合物などが挙げられる。還元剤の使用量は通常、化合物
(I−3−3)の1モルに対して約2〜10モルである。
この反応はテトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタ
ン、1,4−ジオキサンなどのエーテル系溶媒中において
約0〜120℃の範囲内の温度で行うのが好ましい。溶媒
の使用量は化合物(I−3−3)に対して約30〜100倍
重量が好適である。反応は、アルゴン、窒素などの不活
性ガス雰囲気下に室温下でパラジウム化合物と第三級ホ
スフインとをエーテル系溶媒中に加え、約5〜60分間か
く拌したのち、この溶液に還元剤を加えて約10〜60分間
攪拌し、得られた混合物に化合物(I−3−3)をエー
テル系溶媒に溶解して得られた溶液を加え、加熱還流下
に約10分間〜約24時間攪拌することによつて行うのが好
ましい。
する還元反応は、化合物(I−3−3)をパラジウム化
合物及び第三級ホスフインの存在下に還元剤を処理する
ことによつて行われる。パラジウム化合物としてはトリ
ス(ジベンジリデンアセトン)2パラジウム(クロロホ
ルム)、酢酸パラジウム、硝酸パラジウム、塩化パラジ
ウム、ビス(アセチルアセトナト)パラジウム、テトラ
キス(トリフエニルホスフイン)パラジウムなどが使用
され、その使用量は通常、化合物(I−3−3)の1モ
ルに対して約0.01〜0.5モルである。第三級ホスフイン
としてはトリブチルホスフイン、トリエチルホスフイ
ン、トリフエニルホスフイン、トリトリルホスフイン、
1,2−ビス(ジフエニルホスフイノ)エタンなどが使用
され、その使用量は通常パラジウム化合物の1モルに対
して約1〜20モルである。また使用し得る還元剤として
はギ酸アンモニウム、ギ酸トリエチルアンモニウム、ギ
酸トリメチルアンモニウムなどのギ酸塩;水素化ホウ素
ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化トリ
エチルホウ素リチウム、水素化ジイソブチルアルミニウ
ム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリブチル
スズ、ポリメチルヒドロシロキサンなどの水素化金属化
合物などが挙げられる。還元剤の使用量は通常、化合物
(I−3−3)の1モルに対して約2〜10モルである。
この反応はテトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタ
ン、1,4−ジオキサンなどのエーテル系溶媒中において
約0〜120℃の範囲内の温度で行うのが好ましい。溶媒
の使用量は化合物(I−3−3)に対して約30〜100倍
重量が好適である。反応は、アルゴン、窒素などの不活
性ガス雰囲気下に室温下でパラジウム化合物と第三級ホ
スフインとをエーテル系溶媒中に加え、約5〜60分間か
く拌したのち、この溶液に還元剤を加えて約10〜60分間
攪拌し、得られた混合物に化合物(I−3−3)をエー
テル系溶媒に溶解して得られた溶液を加え、加熱還流下
に約10分間〜約24時間攪拌することによつて行うのが好
ましい。
このようにして還元反応によつて得られた反応混合物
からの化合物(I−4−1)の分離・精製は、例えば次
の方法により行うことができる。反応混合物を塩化メチ
レンに加えたのち、冷却した塩酸、重曹水及び食塩水で
順次洗滌する。得られた有機装から減圧下に溶媒を留去
し、その残渣をクロマトグラフイー、再結晶などの分離
・精製の操作に付することによつて化合物(I−4−
1)を取得することができる。
からの化合物(I−4−1)の分離・精製は、例えば次
の方法により行うことができる。反応混合物を塩化メチ
レンに加えたのち、冷却した塩酸、重曹水及び食塩水で
順次洗滌する。得られた有機装から減圧下に溶媒を留去
し、その残渣をクロマトグラフイー、再結晶などの分離
・精製の操作に付することによつて化合物(I−4−
1)を取得することができる。
上記の還元反応において一般式 (式中、Y1、Y2及びZ1は前記定義のとおりであ
る。) で示される3β−アルカノイルオキシ−1α,2α−エポ
キシプレグン−4−エン−7α−オール誘導体〔以下、
これを化合物(III)と称することがある〕が副生する
ことがあるが、化合物(III)は例えば次の方法により
化合物(I−2−2)に変換することができる。
る。) で示される3β−アルカノイルオキシ−1α,2α−エポ
キシプレグン−4−エン−7α−オール誘導体〔以下、
これを化合物(III)と称することがある〕が副生する
ことがあるが、化合物(III)は例えば次の方法により
化合物(I−2−2)に変換することができる。
(上記式中、Y1及びY2は前記定義のとおりである。) すなわち、化合物(III)を無水炭酸カリウム、無水
炭酸ナトリウムなどの塩基性化合物の存在下に約0〜30
℃の範囲内の温度においてメタノール、エタノールなど
の低級アルコールで加アルコール分解することによつて
一般式(IV)で示される1α,2α−エポキシプレグン−
4−エン−3β,7α−ジオール誘導体が得られる。次い
で、一般式(IV)で示される1α,2α−エポキシプレグ
ン−4−エン−3β,7α−ジオール誘導体をヘキサン、
ジエチルエーテル、塩化メチレン、クロロホルムなどの
溶媒中で室温下に二酸化マンガンで酸化することによつ
て一般式(V)で示される1α,2α−エポキシ−7α−
ヒドロキシプレグン−4−エン−3−オン誘導体を得、
得られた1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグ
ン−4−エン−3−オン誘導体をt−ブチルアルコール
中でカリウムt−ブトキシドの存在下に室温下に行う脱
水反応に付することによつて化合物(I−2−2)を得
ることができる。このようにして得られた化合物(I−
2−2)は、前記の化合物(I−2−3)への6α,7α
−エポキシ化反応及び後述の化合物(I−6−1)への
還元反応に供することができる。
炭酸ナトリウムなどの塩基性化合物の存在下に約0〜30
℃の範囲内の温度においてメタノール、エタノールなど
の低級アルコールで加アルコール分解することによつて
一般式(IV)で示される1α,2α−エポキシプレグン−
4−エン−3β,7α−ジオール誘導体が得られる。次い
で、一般式(IV)で示される1α,2α−エポキシプレグ
ン−4−エン−3β,7α−ジオール誘導体をヘキサン、
ジエチルエーテル、塩化メチレン、クロロホルムなどの
溶媒中で室温下に二酸化マンガンで酸化することによつ
て一般式(V)で示される1α,2α−エポキシ−7α−
ヒドロキシプレグン−4−エン−3−オン誘導体を得、
得られた1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグ
ン−4−エン−3−オン誘導体をt−ブチルアルコール
中でカリウムt−ブトキシドの存在下に室温下に行う脱
水反応に付することによつて化合物(I−2−2)を得
ることができる。このようにして得られた化合物(I−
2−2)は、前記の化合物(I−2−3)への6α,7α
−エポキシ化反応及び後述の化合物(I−6−1)への
還元反応に供することができる。
化合物(I−4−1)の化合物(I−4−2)への変
換は、化合物(I−4−1)をピリジン、トリエチルア
ミンなどの塩基性化合物の存在下に約0〜100℃の範囲
内の温度でエステル化剤と反応させることによつて実施
される。エステル化剤としてはクロロ炭酸メチル、クロ
ロ炭酸エチル、クロロ炭酸プロピル、クロロ炭酸イソプ
ロピル、クロロ炭酸ブチル、ブロモ炭酸メチル、ブロモ
炭酸エチルなどのハロゲノ炭酸低級アルキルエステル;
無水酢酸、プロピオン酸無水物、酪酸無水物、吉草酸無
水物などの低級アルカン酸無水物;塩化アセチル、塩化
プロピオニル、塩化ブチリル、塩化バレリルなどの低級
アルカン酸ハロゲン化物;塩化N,N−ジメチルカルバモ
イル、塩化N,N−ジエチルカルバモイル、塩化N,N−ジプ
ロピルカルバモイルなどのN,N−ジ(低級アルキル)カ
ルバモイルハライド;メチルイソシアナート、エチルイ
ソシアナート、プロピルイソシアナートなどの低級アル
キルイソシアナート;又はフエニルイソシアナート、ト
リルイソシアナートなどのアリールイソシアナートが使
用される。エステル化剤としてハロゲノ炭酸低級アルキ
ルエステルを使用する場合には、一般式(I−4−2)
においてZ2が低級アルコキシカルボニル基を表わすプ
レグナン誘導体が生成し、低級アルカン酸無水物又は低
級アルカン酸ハロゲン化物を使用する場合には、一般式
(I−4−2)においてZ2が低級アルカノイル基を表
わすプレグナン誘導体が生成する。エステル化剤として
N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルハライドを使用
する場合には、一般式(I−4−2)においてZ2がN,N
−ジ(低級アルキル)カルバモイル基を表わすプレグナ
ン誘導体が生成し、低級アルキルイソシアナートを使用
する場合には、一般式(I−4−2)においてZ2がN
−低級アルキルカルバモイル基を表わすプレグナン誘導
体が生成し、またN−アリールイソシアナートを使用す
る場合には、一般式(I−4−2)においてZ2がN−
アリールカルバモイル基を表わすプレグナン誘導体が生
成する。エステル化剤の使用量は通常、化合物(I−4
−1)の1モルに対して約1.2〜20モルである。エステ
ル化剤としてハロゲノ炭酸低級アルキルエステル、低級
アルカン酸無水物、低級アルカン酸ハロゲン化物又はN,
N−ジ(低級アルキル)カルバモイルハライドを使用す
る場合には、塩基性化合物は通常、化合物(I−4−
1)の1モルに対して約2〜40モル使用し、またエステ
ル化剤の1モルに対して約2モル以上使用するのが好ま
しい。またエステル化剤として低級アルキルイソシアナ
ート又はアリールイソシアナートを使用する場合には、
塩基性化合物は通常、化合物(I−4−1)の1モルに
対して約0.0001〜10モル使用する。このエステル化反応
は塩化メチレン、ジエチルエーテル、ベンゼン、トルエ
ンなどの溶媒中で行うこともでき、溶媒の使用量は通
常、化合物(I−4−1)に対して約200倍重量以下で
ある。反応は、化合物(I−4−1)と塩基性化合物と
の混合物又はそれに溶媒を加えて得られた溶液を約0℃
に冷却しながら、これにエステル化剤を徐々に加え、得
られた混合物を約0〜100℃の範囲内の温度で約10分間
〜約12時間攪拌することによつて行うのが好適である。
なお、エステル化剤としてハロゲノ炭酸低級アルキルエ
ステル、低級アルカン酸無水物、低級アルカン酸ハロゲ
ン化物又はN,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルハラ
イドを使用して反応を行う場合には、反応系に4−(ジ
メチルアミノ)ピリジンなどのエステル化触媒を化合物
(I−4−1)の1モルに対して約0.01〜0.1モルの量
で存在させることによつてエステル化反応を促進するこ
とができる。
換は、化合物(I−4−1)をピリジン、トリエチルア
ミンなどの塩基性化合物の存在下に約0〜100℃の範囲
内の温度でエステル化剤と反応させることによつて実施
される。エステル化剤としてはクロロ炭酸メチル、クロ
ロ炭酸エチル、クロロ炭酸プロピル、クロロ炭酸イソプ
ロピル、クロロ炭酸ブチル、ブロモ炭酸メチル、ブロモ
炭酸エチルなどのハロゲノ炭酸低級アルキルエステル;
無水酢酸、プロピオン酸無水物、酪酸無水物、吉草酸無
水物などの低級アルカン酸無水物;塩化アセチル、塩化
プロピオニル、塩化ブチリル、塩化バレリルなどの低級
アルカン酸ハロゲン化物;塩化N,N−ジメチルカルバモ
イル、塩化N,N−ジエチルカルバモイル、塩化N,N−ジプ
ロピルカルバモイルなどのN,N−ジ(低級アルキル)カ
ルバモイルハライド;メチルイソシアナート、エチルイ
ソシアナート、プロピルイソシアナートなどの低級アル
キルイソシアナート;又はフエニルイソシアナート、ト
リルイソシアナートなどのアリールイソシアナートが使
用される。エステル化剤としてハロゲノ炭酸低級アルキ
ルエステルを使用する場合には、一般式(I−4−2)
においてZ2が低級アルコキシカルボニル基を表わすプ
レグナン誘導体が生成し、低級アルカン酸無水物又は低
級アルカン酸ハロゲン化物を使用する場合には、一般式
(I−4−2)においてZ2が低級アルカノイル基を表
わすプレグナン誘導体が生成する。エステル化剤として
N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルハライドを使用
する場合には、一般式(I−4−2)においてZ2がN,N
−ジ(低級アルキル)カルバモイル基を表わすプレグナ
ン誘導体が生成し、低級アルキルイソシアナートを使用
する場合には、一般式(I−4−2)においてZ2がN
−低級アルキルカルバモイル基を表わすプレグナン誘導
体が生成し、またN−アリールイソシアナートを使用す
る場合には、一般式(I−4−2)においてZ2がN−
アリールカルバモイル基を表わすプレグナン誘導体が生
成する。エステル化剤の使用量は通常、化合物(I−4
−1)の1モルに対して約1.2〜20モルである。エステ
ル化剤としてハロゲノ炭酸低級アルキルエステル、低級
アルカン酸無水物、低級アルカン酸ハロゲン化物又はN,
N−ジ(低級アルキル)カルバモイルハライドを使用す
る場合には、塩基性化合物は通常、化合物(I−4−
1)の1モルに対して約2〜40モル使用し、またエステ
ル化剤の1モルに対して約2モル以上使用するのが好ま
しい。またエステル化剤として低級アルキルイソシアナ
ート又はアリールイソシアナートを使用する場合には、
塩基性化合物は通常、化合物(I−4−1)の1モルに
対して約0.0001〜10モル使用する。このエステル化反応
は塩化メチレン、ジエチルエーテル、ベンゼン、トルエ
ンなどの溶媒中で行うこともでき、溶媒の使用量は通
常、化合物(I−4−1)に対して約200倍重量以下で
ある。反応は、化合物(I−4−1)と塩基性化合物と
の混合物又はそれに溶媒を加えて得られた溶液を約0℃
に冷却しながら、これにエステル化剤を徐々に加え、得
られた混合物を約0〜100℃の範囲内の温度で約10分間
〜約12時間攪拌することによつて行うのが好適である。
なお、エステル化剤としてハロゲノ炭酸低級アルキルエ
ステル、低級アルカン酸無水物、低級アルカン酸ハロゲ
ン化物又はN,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルハラ
イドを使用して反応を行う場合には、反応系に4−(ジ
メチルアミノ)ピリジンなどのエステル化触媒を化合物
(I−4−1)の1モルに対して約0.01〜0.1モルの量
で存在させることによつてエステル化反応を促進するこ
とができる。
このようにしてエステル化反応によつて得られた反応
混合物からの化合物(I−4−2)の分離・精製は、例
えば次の方法により行うことができる。反応混合物を必
要に応じて水に加えたのち、塩化メチレンに加え、得ら
れた溶液を水洗する。得られた有機層から減圧下に溶媒
を留去し、その残渣をクロマトグラフイー、再結晶など
の分離・精製の操作に付することによつて化合物(I−
4−2)を取得することができる。
混合物からの化合物(I−4−2)の分離・精製は、例
えば次の方法により行うことができる。反応混合物を必
要に応じて水に加えたのち、塩化メチレンに加え、得ら
れた溶液を水洗する。得られた有機層から減圧下に溶媒
を留去し、その残渣をクロマトグラフイー、再結晶など
の分離・精製の操作に付することによつて化合物(I−
4−2)を取得することができる。
化合物(I−4−2)の化合物(I−4−3)への変
換は、化合物(I−4−2)をパラジウム化合物の存在
下に反応させることによつて実施される。パラジウム化
合物としてはトリス(ジベンジリデンアセトン)2パラ
ジウム(クロロホルム)、酢酸パラジウム、硝酸パラジ
ウム、塩化パラジウム、ビス(アセチルアセトナト)パ
ラジウム、テトラキス(トリフエニルホスフイン)パラ
ジウムなどが使用され、その使用量は通常、化合物(I
−4−2)の1モルに対して約0.01〜0.5モルである。
該パラジウム化合物に由来するパラジウム原子は反応系
中において第三級ホスフインと配位結合を形成している
ことが望ましく、必要に応じて反応系に第三級ホスフイ
ンを添加してもよい。第三級ホスフインとしてはトリブ
チルホスフイン、トリエチルホスフイン、トリフエニル
ホスフイン、トリトリルホスフイン、1,2−ビス(ジフ
エニルホスフイノ)エタンなどが使用され、その使用量
は通常パラジウム化合物の1モルに対して約1〜20モル
である。反応温度は通常約20〜150℃の範囲内の温度で
ある。この共役ジエン形成反応は1,4−ジオキサン、テ
トラヒドロフランなどのエーテル系溶媒中で行うのが好
ましく、溶媒の使用量は化合物(I−4−2)に対して
約5〜500倍重量が好適である。反応は、アルゴン、窒
素などの不活性ガス雰囲気下に室温下でパラジウム化合
物及び所望により第三級ホスフインを上記のエーテル系
溶媒中に加え、約5〜60分間攪拌したのち、この溶液に
化合物(I−4−2)を上記と同じエーテル系溶媒に溶
解して得られた溶液を加え、加熱還流下に約1〜15時間
攪拌することによつて行うのが好ましい。
換は、化合物(I−4−2)をパラジウム化合物の存在
下に反応させることによつて実施される。パラジウム化
合物としてはトリス(ジベンジリデンアセトン)2パラ
ジウム(クロロホルム)、酢酸パラジウム、硝酸パラジ
ウム、塩化パラジウム、ビス(アセチルアセトナト)パ
ラジウム、テトラキス(トリフエニルホスフイン)パラ
ジウムなどが使用され、その使用量は通常、化合物(I
−4−2)の1モルに対して約0.01〜0.5モルである。
該パラジウム化合物に由来するパラジウム原子は反応系
中において第三級ホスフインと配位結合を形成している
ことが望ましく、必要に応じて反応系に第三級ホスフイ
ンを添加してもよい。第三級ホスフインとしてはトリブ
チルホスフイン、トリエチルホスフイン、トリフエニル
ホスフイン、トリトリルホスフイン、1,2−ビス(ジフ
エニルホスフイノ)エタンなどが使用され、その使用量
は通常パラジウム化合物の1モルに対して約1〜20モル
である。反応温度は通常約20〜150℃の範囲内の温度で
ある。この共役ジエン形成反応は1,4−ジオキサン、テ
トラヒドロフランなどのエーテル系溶媒中で行うのが好
ましく、溶媒の使用量は化合物(I−4−2)に対して
約5〜500倍重量が好適である。反応は、アルゴン、窒
素などの不活性ガス雰囲気下に室温下でパラジウム化合
物及び所望により第三級ホスフインを上記のエーテル系
溶媒中に加え、約5〜60分間攪拌したのち、この溶液に
化合物(I−4−2)を上記と同じエーテル系溶媒に溶
解して得られた溶液を加え、加熱還流下に約1〜15時間
攪拌することによつて行うのが好ましい。
このようにして共役ジエン形成反応によつて得られた
反応混合物からの化合物(I−4−3)の分離・精製
は、例えば次の方法により行うことができる。反応混合
物を上部にフロリジルを充填したガラスフイルターを用
いて濾過し、その濾液を減圧下に濃縮し、次いで濃縮物
をクロマトグラフイー、再結晶などの分離・精製の操作
に付することによつて化合物(I−4−3)を取得する
ことができる。
反応混合物からの化合物(I−4−3)の分離・精製
は、例えば次の方法により行うことができる。反応混合
物を上部にフロリジルを充填したガラスフイルターを用
いて濾過し、その濾液を減圧下に濃縮し、次いで濃縮物
をクロマトグラフイー、再結晶などの分離・精製の操作
に付することによつて化合物(I−4−3)を取得する
ことができる。
化合物(I−4−3)の化合物(I−4−4)への変
換は、化合物(I−4−3)を無水炭酸カリウム、無水
炭酸ナトリウムなどの塩基性化合物の存在下にメタノー
ル、エタノールなどの低級アルコールと反応させること
によつて実施される。塩基性化合物の使用量は通常、化
合物(I−4−3)の1モルに対して約2〜10モルであ
る。また低級アルコールは通常、化合物(I−4−3)
に対して約100〜1000倍重量使用する。反応温度は通常
約0〜30℃の範囲内の温度である。この加アルコール分
解反応は、化合物(I−4−3)を低級アルコールに溶
解して得られた溶液に塩基性化合物を加え、得られた混
合物を室温下に約0.5〜12時間攪拌することによつて行
うのが好ましい。
換は、化合物(I−4−3)を無水炭酸カリウム、無水
炭酸ナトリウムなどの塩基性化合物の存在下にメタノー
ル、エタノールなどの低級アルコールと反応させること
によつて実施される。塩基性化合物の使用量は通常、化
合物(I−4−3)の1モルに対して約2〜10モルであ
る。また低級アルコールは通常、化合物(I−4−3)
に対して約100〜1000倍重量使用する。反応温度は通常
約0〜30℃の範囲内の温度である。この加アルコール分
解反応は、化合物(I−4−3)を低級アルコールに溶
解して得られた溶液に塩基性化合物を加え、得られた混
合物を室温下に約0.5〜12時間攪拌することによつて行
うのが好ましい。
このようにして加アルコール分解反応によつて得られ
た反応混合物からの化合物(I−4−4)の分離・精製
は、例えば次の方法により行うことができる。反応混合
物を上部にセライトを充填したガラスフイルターを用い
て濾過し、その濾液を減圧下に濃縮し、次いでその濃縮
物を水に加えたのち塩化メチレンで抽出する。抽出液か
ら減圧下に溶媒を留去し、得られた残渣をクロマトグラ
フイー、再結晶などの分離・精製の操作に付することに
よつて化合物(I−4−4)を取得することができる。
た反応混合物からの化合物(I−4−4)の分離・精製
は、例えば次の方法により行うことができる。反応混合
物を上部にセライトを充填したガラスフイルターを用い
て濾過し、その濾液を減圧下に濃縮し、次いでその濃縮
物を水に加えたのち塩化メチレンで抽出する。抽出液か
ら減圧下に溶媒を留去し、得られた残渣をクロマトグラ
フイー、再結晶などの分離・精製の操作に付することに
よつて化合物(I−4−4)を取得することができる。
化合物(I−4)のうち、一般式 (式中、Y1及びY2は前記定義のとおりである。
で示される化合物〔以下、これを化合物(I−4−5)
と称することがある〕及び一般式 (式中、Y1、Y2及びZ2は前記定義のとおりであ
る。) で示される化合物〔以下、これを化合物(I−4−6)
と称することがある〕は、前記の化合物(I−4−3)
を化合物(I−4−4)に変換する方法において、該化
合物(I−4−3)の代りにそれぞれ化合物(I−4−
1)又は化合物(I−4−2)を加アルコール分解に付
すること以外は同様にして反応及び分解・精製を行うこ
とによつて取得することができる。
と称することがある〕及び一般式 (式中、Y1、Y2及びZ2は前記定義のとおりであ
る。) で示される化合物〔以下、これを化合物(I−4−6)
と称することがある〕は、前記の化合物(I−4−3)
を化合物(I−4−4)に変換する方法において、該化
合物(I−4−3)の代りにそれぞれ化合物(I−4−
1)又は化合物(I−4−2)を加アルコール分解に付
すること以外は同様にして反応及び分解・精製を行うこ
とによつて取得することができる。
化合物(I−4)のうち、一般式 (式中、A5,D10及びD11は前記定義のとおりであ
る。) で示されるアルデヒド〔以下、これを化合物(I−4−
7)と称することがある〕は、化合物(I−4−1)、
化合物(I−4−2)、化合物(I−4−3)、化合物
(I−4−4)、化合物(I−4−5)及び化合物(I
−4−6)の如き一般式 (式中、A5、D10、D11、Y1及びY2は前記定義のと
おりである) で示されるアセタール〔以下、これを化合物(I−
4′)と称することがある〕から誘導される。この化合
物(I−4−7)は、前記の化合物(I−2−1)及び
化合物(I−2−2)をそれぞれ化合物(I−2−3)
又は化合物(I−2−4)に変換する方法において該化
合物(I−2−1)又は化合物(I−2−2)の代りに
化合物(I−4′)を脱保護に付すること以外は同様に
して反応及び分離・精製を行うことによつて取得するこ
とができる。
る。) で示されるアルデヒド〔以下、これを化合物(I−4−
7)と称することがある〕は、化合物(I−4−1)、
化合物(I−4−2)、化合物(I−4−3)、化合物
(I−4−4)、化合物(I−4−5)及び化合物(I
−4−6)の如き一般式 (式中、A5、D10、D11、Y1及びY2は前記定義のと
おりである) で示されるアセタール〔以下、これを化合物(I−
4′)と称することがある〕から誘導される。この化合
物(I−4−7)は、前記の化合物(I−2−1)及び
化合物(I−2−2)をそれぞれ化合物(I−2−3)
又は化合物(I−2−4)に変換する方法において該化
合物(I−2−1)又は化合物(I−2−2)の代りに
化合物(I−4′)を脱保護に付すること以外は同様に
して反応及び分離・精製を行うことによつて取得するこ
とができる。
化合物(I−4−5)又は化合物(I−4−6)を、
例えば前記の化合物(I−3−2)を化合物(I−3−
3)に変換する反応におけると同様にしてアシル化する
ことによつて、それぞれ化合物(I−4−1)又は化合
物(I−4−2)に変換することができる。また化合物
(I−4−7)を、例えば、前記の化合物(I−2−
3)及び化合物(I−2−4)を一般式(I−2)にお
いてX1及びX2が一緒になつて低級アルキレンジオキシ
基を表わすプレグナン誘導体に変換する反応におけると
同様にしてアセタール化することによつて一般式(I−
4′)においてY1及びY2が一緒になつて低級アルキレ
ンジオキシ基を表わす化合物に変換することができる。
例えば前記の化合物(I−3−2)を化合物(I−3−
3)に変換する反応におけると同様にしてアシル化する
ことによつて、それぞれ化合物(I−4−1)又は化合
物(I−4−2)に変換することができる。また化合物
(I−4−7)を、例えば、前記の化合物(I−2−
3)及び化合物(I−2−4)を一般式(I−2)にお
いてX1及びX2が一緒になつて低級アルキレンジオキシ
基を表わすプレグナン誘導体に変換する反応におけると
同様にしてアセタール化することによつて一般式(I−
4′)においてY1及びY2が一緒になつて低級アルキレ
ンジオキシ基を表わす化合物に変換することができる。
化合物(I−4−4)の化合物(I−5−1)への変
換は、化合物(I−4−4)を水素化アルミニウムリチ
ウム、水素化ホウ素亜鉛などの還元剤と反応させること
によつて行われる。還元剤の使用量は通常、化合物(I
−4−4)の1モルに対して約0.5〜20モルである。こ
の還元反応はテトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエ
タン、ジエチルエーテルなどのエーテル系溶媒中におい
て約25〜120℃の範囲内の温度で行うのが好ましく、エ
ーテル系溶媒の使用量は化合物(I−4−4)に対して
約20〜2000倍重量が好適である。反応は、還元剤とエー
テル系溶媒との混合物に化合物(I−4−4)をエーテ
ル系溶媒に溶解して得られた溶液を室温下で徐々に加
え、次いで得られた混合物を約10分間〜約2時間、加熱
還流することによつて行うのが好ましい。
換は、化合物(I−4−4)を水素化アルミニウムリチ
ウム、水素化ホウ素亜鉛などの還元剤と反応させること
によつて行われる。還元剤の使用量は通常、化合物(I
−4−4)の1モルに対して約0.5〜20モルである。こ
の還元反応はテトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエ
タン、ジエチルエーテルなどのエーテル系溶媒中におい
て約25〜120℃の範囲内の温度で行うのが好ましく、エ
ーテル系溶媒の使用量は化合物(I−4−4)に対して
約20〜2000倍重量が好適である。反応は、還元剤とエー
テル系溶媒との混合物に化合物(I−4−4)をエーテ
ル系溶媒に溶解して得られた溶液を室温下で徐々に加
え、次いで得られた混合物を約10分間〜約2時間、加熱
還流することによつて行うのが好ましい。
このようにして還元反応によつて得られた反応混合物
からの化合物(I−5−1)の分離・精製は、例えば次
の方法により行うことができる。反応混合物に水を徐々
に加えることによつて過剰の還元剤を分解し、得られた
混合物から減圧下にエーテル系溶媒を留去し、その残渣
に冷却した塩酸を加え、次いで塩化メチレン又はクロロ
ホルムで抽出を行う。抽出液を食塩水で洗滌し、これよ
り減圧下に溶媒を留去し、得られた残渣をクロマトグラ
フイー、再結晶などの分離・精製の操作に付することに
よつて化合物(I−5−1)を取得することができる。
からの化合物(I−5−1)の分離・精製は、例えば次
の方法により行うことができる。反応混合物に水を徐々
に加えることによつて過剰の還元剤を分解し、得られた
混合物から減圧下にエーテル系溶媒を留去し、その残渣
に冷却した塩酸を加え、次いで塩化メチレン又はクロロ
ホルムで抽出を行う。抽出液を食塩水で洗滌し、これよ
り減圧下に溶媒を留去し、得られた残渣をクロマトグラ
フイー、再結晶などの分離・精製の操作に付することに
よつて化合物(I−5−1)を取得することができる。
式(I−5−2)で示される1α,3α−ジヒドロキシ
プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドは、前
記の化合物(I−2−1)及び化合物(I−2−2)を
それぞれ化合物(I−2−3)又は化合物(I−2−
4)に変換する方法において該化合物(I−2−1)の
代りに化合物(I−5−1)を脱保護反応に付すること
以外は同様にして反応及び分離・精製を行うことによつ
て取得される。
プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドは、前
記の化合物(I−2−1)及び化合物(I−2−2)を
それぞれ化合物(I−2−3)又は化合物(I−2−
4)に変換する方法において該化合物(I−2−1)の
代りに化合物(I−5−1)を脱保護反応に付すること
以外は同様にして反応及び分離・精製を行うことによつ
て取得される。
化合物(I−2−2)の化合物(I−6−1)への変
換は、化合物(I−2−2)を水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化ホウ素亜鉛などの還元剤と接触させることに
より行うことができる。還元剤の使用量は通常、化合物
(I−2−2)の1モルに対して約0.25〜2.0モルであ
り、好ましくは約0.8〜1.2モルである。この還元反応は
通常、メタノール、エタノールなどのアルコール系溶
媒;テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなど
のエーテル系溶媒;又はそれらの混合溶媒などの溶媒
中、約0〜40℃の範囲内の温度で行われる。溶媒の使用
量は通常、化合物(I−2−2)に対して約10〜100倍
重量である。この反応は、化合物(I−2−2)を溶媒
に溶解し、攪拌下に約0℃に冷却しながら、この溶液に
還元剤を徐々に加え、次いで得られた混合物を約0℃の
温度下に約10分間〜約5時間攪拌することによつて行う
のが好適である。
換は、化合物(I−2−2)を水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化ホウ素亜鉛などの還元剤と接触させることに
より行うことができる。還元剤の使用量は通常、化合物
(I−2−2)の1モルに対して約0.25〜2.0モルであ
り、好ましくは約0.8〜1.2モルである。この還元反応は
通常、メタノール、エタノールなどのアルコール系溶
媒;テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなど
のエーテル系溶媒;又はそれらの混合溶媒などの溶媒
中、約0〜40℃の範囲内の温度で行われる。溶媒の使用
量は通常、化合物(I−2−2)に対して約10〜100倍
重量である。この反応は、化合物(I−2−2)を溶媒
に溶解し、攪拌下に約0℃に冷却しながら、この溶液に
還元剤を徐々に加え、次いで得られた混合物を約0℃の
温度下に約10分間〜約5時間攪拌することによつて行う
のが好適である。
このようにして還元反応によつて得られた反応混合物
から化合物(I−6−1)の分離・精製は、例えば次の
方法によつて行うことができる。反応混合物に水と冷却
した少量の希塩酸とを順次加えた後、塩化メチレンで抽
出する。抽出物を冷却した重曹水及び食塩水で順次洗浄
し、得られた溶液から減圧下に溶媒を留去し、次いでそ
の残渣をクロマトグラフイー、再結晶などの分離・精製
の操作に付することによつて化合物(I−6−1)を取
得することができる。
から化合物(I−6−1)の分離・精製は、例えば次の
方法によつて行うことができる。反応混合物に水と冷却
した少量の希塩酸とを順次加えた後、塩化メチレンで抽
出する。抽出物を冷却した重曹水及び食塩水で順次洗浄
し、得られた溶液から減圧下に溶媒を留去し、次いでそ
の残渣をクロマトグラフイー、再結晶などの分離・精製
の操作に付することによつて化合物(I−6−1)を取
得することができる。
化合物(I−6−1)の化合物(I−7−1)への変
換は、化合物(I−6−1)をm−クロロ過安息香酸、
過安息香酸などの過酸を反応させることにより行うこと
ができる。過酸の使用量は通常、化合物(I−6−1)
の1モルに対して約1〜2モルである。この4α,5α−
エポキシ化反応は通常、塩化メチレン、クロロホルムな
どの不活性溶媒中、飽和重曹水の存在下又は不存在下に
行われる。溶媒の使用量は通常、化合物(I−6−1)
に対して約10〜200倍重量であり、重曹水の使用量は通
常、化合物(I−6−1)に対して約200倍重量以下の
量である。反応は、化合物(I−6−1)を有機溶媒に
溶解又は懸濁し、0〜40℃好ましくは15〜30℃の範囲内
の温度で、好ましくは化合物(I−6−1)に対して約
10〜20倍重量の飽和重曹水の存在下、過酸を徐々に加
え、得られた混合物を室温下で約1〜12時間攪拌するこ
とによつて行うのが好適である。
換は、化合物(I−6−1)をm−クロロ過安息香酸、
過安息香酸などの過酸を反応させることにより行うこと
ができる。過酸の使用量は通常、化合物(I−6−1)
の1モルに対して約1〜2モルである。この4α,5α−
エポキシ化反応は通常、塩化メチレン、クロロホルムな
どの不活性溶媒中、飽和重曹水の存在下又は不存在下に
行われる。溶媒の使用量は通常、化合物(I−6−1)
に対して約10〜200倍重量であり、重曹水の使用量は通
常、化合物(I−6−1)に対して約200倍重量以下の
量である。反応は、化合物(I−6−1)を有機溶媒に
溶解又は懸濁し、0〜40℃好ましくは15〜30℃の範囲内
の温度で、好ましくは化合物(I−6−1)に対して約
10〜20倍重量の飽和重曹水の存在下、過酸を徐々に加
え、得られた混合物を室温下で約1〜12時間攪拌するこ
とによつて行うのが好適である。
このようにしてエポキシ化反応によつて得られた反応
混合物からの化合物(I−7−1)の分離・精製は、例
えば次の方法により行うことができる。反応混合物を分
液し、水層をジエチルエーテル、酢酸エチル、塩化メチ
レンなどの有機溶媒で抽出し、有機層と抽出液を合わせ
て水、ヨウ化カリウム水溶液、チオ硫酸ナトリウム水溶
液、水、重曹水及び食塩水で順次洗浄することにより過
剰に使用した過酸と生成したm−クロロ安息香酸、安息
香酸などの酸を除去する。次いで、減圧下に溶媒を留去
することにより化合物(I−7−1)の粗製物を得、こ
の粗製物を再結晶に付することにより化合物(I−7−
1)の精製物を取得することができる。なお、化合物
(I−7−1)の粗製物を精製することなく次の化合物
(I−7−2)又は化合物(I−7−3)への変換反応
に供することができる。
混合物からの化合物(I−7−1)の分離・精製は、例
えば次の方法により行うことができる。反応混合物を分
液し、水層をジエチルエーテル、酢酸エチル、塩化メチ
レンなどの有機溶媒で抽出し、有機層と抽出液を合わせ
て水、ヨウ化カリウム水溶液、チオ硫酸ナトリウム水溶
液、水、重曹水及び食塩水で順次洗浄することにより過
剰に使用した過酸と生成したm−クロロ安息香酸、安息
香酸などの酸を除去する。次いで、減圧下に溶媒を留去
することにより化合物(I−7−1)の粗製物を得、こ
の粗製物を再結晶に付することにより化合物(I−7−
1)の精製物を取得することができる。なお、化合物
(I−7−1)の粗製物を精製することなく次の化合物
(I−7−2)又は化合物(I−7−3)への変換反応
に供することができる。
化合物(I−7−1)の化合物(I−8−1)への変
換は、化合物(I−7−1)をコリンズ試薬と反応させ
ることにより行うことができる。コリンズ試薬は、酸化
クロムに対して約1〜20倍重量のピリジンを酸化クロム
に対して約20倍重量以下の塩化メチレン、クロロホルム
等の不活性溶媒に溶解し、氷冷下に攪拌しながら酸化ク
ロムを徐々に加えることによつて調製することができ
る。コリンズ試薬の使用量は化合物(I−7−1)の1
モルに対して約1〜50モル好ましくは2〜20モルであ
る。この酸化反応は通常、塩化メチレン、クロロホルム
などの不活性溶媒中で行われ、該溶媒の使用量は化合物
(I−7−1)の約10〜200倍重量である。この反応は
化合物(I−7−1)を溶媒に溶解し、この溶液を−20
〜40℃、好ましくは−10〜20℃の範囲内の温度で攪拌し
ながらコリンズ試薬の懸濁液に加え、次いで約0.5〜12
時間、好ましくは0.5〜3時間攪拌することによつて行
うのが好適である。なお、コリンズ試薬は溶媒中で調製
し、該溶媒中で引き続き化合物(I−7−1)との反応
を行うのが実用上簡便である。
換は、化合物(I−7−1)をコリンズ試薬と反応させ
ることにより行うことができる。コリンズ試薬は、酸化
クロムに対して約1〜20倍重量のピリジンを酸化クロム
に対して約20倍重量以下の塩化メチレン、クロロホルム
等の不活性溶媒に溶解し、氷冷下に攪拌しながら酸化ク
ロムを徐々に加えることによつて調製することができ
る。コリンズ試薬の使用量は化合物(I−7−1)の1
モルに対して約1〜50モル好ましくは2〜20モルであ
る。この酸化反応は通常、塩化メチレン、クロロホルム
などの不活性溶媒中で行われ、該溶媒の使用量は化合物
(I−7−1)の約10〜200倍重量である。この反応は
化合物(I−7−1)を溶媒に溶解し、この溶液を−20
〜40℃、好ましくは−10〜20℃の範囲内の温度で攪拌し
ながらコリンズ試薬の懸濁液に加え、次いで約0.5〜12
時間、好ましくは0.5〜3時間攪拌することによつて行
うのが好適である。なお、コリンズ試薬は溶媒中で調製
し、該溶媒中で引き続き化合物(I−7−1)との反応
を行うのが実用上簡便である。
このようにして酸化反応によつて得られた反応混合物
からの化合物(I−7−2)の分離・精製は、例えば次
の方法によつて行うことができる。反応混合物を酢酸エ
チルで希釈した後、セライトを通して濾過し、濾液を
水、硫酸銅水溶液、水、重曹水及び食塩水で順次洗浄す
る。得られた溶液を濃縮し、濃縮物を再結晶によつて精
製することにより化合物(I−7−2)を取得すること
ができる。なお、化合物(I−7−2)の粗製物を精製
することなく、化合物(I−7−3)又は化合物(I−
8−1)への変換反応に供することができる。
からの化合物(I−7−2)の分離・精製は、例えば次
の方法によつて行うことができる。反応混合物を酢酸エ
チルで希釈した後、セライトを通して濾過し、濾液を
水、硫酸銅水溶液、水、重曹水及び食塩水で順次洗浄す
る。得られた溶液を濃縮し、濃縮物を再結晶によつて精
製することにより化合物(I−7−2)を取得すること
ができる。なお、化合物(I−7−2)の粗製物を精製
することなく、化合物(I−7−3)又は化合物(I−
8−1)への変換反応に供することができる。
化合物(I−7−2)の化合物(I−8−1)への変
換は、化合物(I−7−2)を水素化アルミニウムリチ
ウム、水素化ビス(メトキシエトキシ)アルミニウムナ
トリウム、水素化ホウ素リチウムなどの還元剤と接触さ
せることにより行うことができる。還元剤の使用量は通
常、化合物(I−7−2)の1モルに対して約0.75〜5
モルであり、好ましくは約0.8〜2.5モルである。この還
元反応は通常、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
などのエーテル系溶媒などの不活性溶媒中で行われ、該
溶媒の使用量は化合物(I−7−2)の約10〜200倍重
量である。この反応は化合物(I−7−2)を溶媒に溶
解し、この溶液を−20〜80℃、好ましくは−10〜40℃の
範囲内の温度で攪拌しながら還元剤の溶液を徐々に加
え、次いで10〜40℃の範囲内の温度で0.5〜12時間攪拌
することによつて行うのが好適である。
換は、化合物(I−7−2)を水素化アルミニウムリチ
ウム、水素化ビス(メトキシエトキシ)アルミニウムナ
トリウム、水素化ホウ素リチウムなどの還元剤と接触さ
せることにより行うことができる。還元剤の使用量は通
常、化合物(I−7−2)の1モルに対して約0.75〜5
モルであり、好ましくは約0.8〜2.5モルである。この還
元反応は通常、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
などのエーテル系溶媒などの不活性溶媒中で行われ、該
溶媒の使用量は化合物(I−7−2)の約10〜200倍重
量である。この反応は化合物(I−7−2)を溶媒に溶
解し、この溶液を−20〜80℃、好ましくは−10〜40℃の
範囲内の温度で攪拌しながら還元剤の溶液を徐々に加
え、次いで10〜40℃の範囲内の温度で0.5〜12時間攪拌
することによつて行うのが好適である。
このようにして還元反応によつて得られた反応混合物
からの化合物(I−8−1)の分離・精製は、例えば次
の方法によつて行うことができる。反応混合物をエーテ
ルで希釈し、過剰の還元剤を飽和硫酸ナトリウム水溶液
によつて分解し、セライトを通して濾過する。得られた
濾液を濃縮し、酢酸エチルで再結晶することによつて化
合物(I−8−1)を取得することができる。
からの化合物(I−8−1)の分離・精製は、例えば次
の方法によつて行うことができる。反応混合物をエーテ
ルで希釈し、過剰の還元剤を飽和硫酸ナトリウム水溶液
によつて分解し、セライトを通して濾過する。得られた
濾液を濃縮し、酢酸エチルで再結晶することによつて化
合物(I−8−1)を取得することができる。
化合物(I−7−3)は、化合物(I−7−1)を光
延反応により、3−位の水酸基を立体反転し、必要に応
じて加水分解・保護基の変換をすることによつて製造す
ることができる。
延反応により、3−位の水酸基を立体反転し、必要に応
じて加水分解・保護基の変換をすることによつて製造す
ることができる。
化合物(I−7−1)の、化合物(I−7−3)のう
ち、一般式(I−7−3)においてZ3がアシル基を表
わす化合物〔以下、これを化合物(I−7−3a)と称す
ることがある〕への変換は、化合物(I−7−1)をト
リフエニルホスフインなどの第三級ホスフイン及びアゾ
ジカルボン酸ジエチルなどのアゾジカルボン酸低級アル
キルエステルの存在下に対応するアシル基を有するカル
ボン酸と反応させることにより実施される。第三級ホス
フインの使用量は化合物(I−7−1)の1モルに対し
て約1〜3モル、好ましくは約1.5〜2モルである。カ
ルボン酸の使用量は化合物(I−7−1)の1モルに対
して約1〜3モル、好ましくは約0.9〜1.2モルである。
アジゾカルボン酸低級アルキルエステルの使用量は化合
物(I−7−1)の1モルに対して約1〜3モル、好ま
しくは約1.5〜2モルである。この反応は通常、トルエ
ン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素;テトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテルなどのエーテルなどの不活性溶媒
中で行われ、該溶媒の使用量は化合物(I−7−1)の
約10〜200倍重量である。反応は化合物(I−7−
1)、第三級ホスフイン及びカルボン酸の溶液又は懸濁
液に、−10〜80℃、好ましくは0〜30℃でアゾジカルボ
ン酸低級アルキルエスエルを徐々に加えた後、0.5〜12
時間攪拌することによつて行うのが好適である。
ち、一般式(I−7−3)においてZ3がアシル基を表
わす化合物〔以下、これを化合物(I−7−3a)と称す
ることがある〕への変換は、化合物(I−7−1)をト
リフエニルホスフインなどの第三級ホスフイン及びアゾ
ジカルボン酸ジエチルなどのアゾジカルボン酸低級アル
キルエステルの存在下に対応するアシル基を有するカル
ボン酸と反応させることにより実施される。第三級ホス
フインの使用量は化合物(I−7−1)の1モルに対し
て約1〜3モル、好ましくは約1.5〜2モルである。カ
ルボン酸の使用量は化合物(I−7−1)の1モルに対
して約1〜3モル、好ましくは約0.9〜1.2モルである。
アジゾカルボン酸低級アルキルエステルの使用量は化合
物(I−7−1)の1モルに対して約1〜3モル、好ま
しくは約1.5〜2モルである。この反応は通常、トルエ
ン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素;テトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテルなどのエーテルなどの不活性溶媒
中で行われ、該溶媒の使用量は化合物(I−7−1)の
約10〜200倍重量である。反応は化合物(I−7−
1)、第三級ホスフイン及びカルボン酸の溶液又は懸濁
液に、−10〜80℃、好ましくは0〜30℃でアゾジカルボ
ン酸低級アルキルエスエルを徐々に加えた後、0.5〜12
時間攪拌することによつて行うのが好適である。
このようにして得られた反応混合物からの化合物(I
−7−3a)の分離・精製は、例えば次の方法により行う
ことができる。反応混合物を水で希釈したのち、ジエチ
ルエーテル、酢酸エチルなどの溶媒で抽出し、抽出液を
食塩水などで洗浄する。得られた溶液から減圧下に溶媒
を留去し、その残渣をクロマトグラフイー、再結晶など
の分離・精製操作に付することによつて化合物(I−7
−3a)を取得することができる。
−7−3a)の分離・精製は、例えば次の方法により行う
ことができる。反応混合物を水で希釈したのち、ジエチ
ルエーテル、酢酸エチルなどの溶媒で抽出し、抽出液を
食塩水などで洗浄する。得られた溶液から減圧下に溶媒
を留去し、その残渣をクロマトグラフイー、再結晶など
の分離・精製操作に付することによつて化合物(I−7
−3a)を取得することができる。
化合物(I−7−3a)は、エタノール、メタノールな
どのアルコール系溶媒中で炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの塩基性物
質を作用させることにより一般式(I−7−3)におい
てZ3が水素原子を表わす化合物〔以下、これを化合物
(I−7−3b)と称することがある〕に変換される。塩
基性物質の使用量は通常、化合物(I−7−3a)の1モ
ルに対して0.05〜3モル、好ましくは0.1〜1.5モルであ
る。この脱保護反応は通常、0〜40℃の範囲内の温度で
行われる。
どのアルコール系溶媒中で炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの塩基性物
質を作用させることにより一般式(I−7−3)におい
てZ3が水素原子を表わす化合物〔以下、これを化合物
(I−7−3b)と称することがある〕に変換される。塩
基性物質の使用量は通常、化合物(I−7−3a)の1モ
ルに対して0.05〜3モル、好ましくは0.1〜1.5モルであ
る。この脱保護反応は通常、0〜40℃の範囲内の温度で
行われる。
このようにして得られた反応混合物からの化合物(I
−7−3b)の分離・精製は、例えば反応混合物を水で希
釈したのち、ジエチルエーテル、酢酸エチルなどの溶媒
で抽出し、抽出液を水、重曹水及び食塩水で順次洗浄す
る。得られた溶液から減圧下に溶媒を留去し、その残渣
を再結晶などの分離・精製操作に付することによつて化
合物(I−7−3b)を取得することができる。
−7−3b)の分離・精製は、例えば反応混合物を水で希
釈したのち、ジエチルエーテル、酢酸エチルなどの溶媒
で抽出し、抽出液を水、重曹水及び食塩水で順次洗浄す
る。得られた溶液から減圧下に溶媒を留去し、その残渣
を再結晶などの分離・精製操作に付することによつて化
合物(I−7−3b)を取得することができる。
また化合物(I−7−3b)は、化合物(I−7−2)
を還元することによつても製造することができる。例え
ば、化合物(I−7−2)を水素化ホウ素ナトリウムな
どの還元剤と接触させることにより行うことができる。
還元剤の使用量は通常、化合物(I−7−2)の1モル
に対して約0.25〜2.0モルであり、好ましくは約0.8〜1.
2モルである。この還元反応は通常エタノール、メタノ
ールなどのアルコール系溶媒中で行され、該溶媒の使用
量は通常、化合物(I−7−2)に対して約10〜100倍
重量である。反応温度は通常、約0〜40℃の範囲内の温
度である。この反応は、化合物(I−7−2)を溶媒に
溶解し、攪拌下に約0℃に冷却しながら、この溶液に還
元剤を徐々に加え、次いで得られた混合物を約0℃の温
度下に約10分間〜約5時間攪拌することによつて行うの
が好適である。
を還元することによつても製造することができる。例え
ば、化合物(I−7−2)を水素化ホウ素ナトリウムな
どの還元剤と接触させることにより行うことができる。
還元剤の使用量は通常、化合物(I−7−2)の1モル
に対して約0.25〜2.0モルであり、好ましくは約0.8〜1.
2モルである。この還元反応は通常エタノール、メタノ
ールなどのアルコール系溶媒中で行され、該溶媒の使用
量は通常、化合物(I−7−2)に対して約10〜100倍
重量である。反応温度は通常、約0〜40℃の範囲内の温
度である。この反応は、化合物(I−7−2)を溶媒に
溶解し、攪拌下に約0℃に冷却しながら、この溶液に還
元剤を徐々に加え、次いで得られた混合物を約0℃の温
度下に約10分間〜約5時間攪拌することによつて行うの
が好適である。
このようにして還元反応によつて得られた反応混合物
から化合物(I−7−3b)の分離・精製は、例えば次の
方法によつて行うことができる。反応混合物に氷冷下で
希塩酸を加えることにより過剰の還元剤を分解し、水を
加えて希釈し、エーテル、酢酸エチル、塩化メチレンな
どの有機溶媒で抽出し、抽出物を冷却した重曹水及び食
塩水で順次洗浄する。次いで得られた溶液から減圧下に
溶媒を留去し、得られた残渣を再結晶により精製するこ
とによつて化合物(I−7−3b)を取得することができ
る。なお、化合物(I−7−3b)の粗製物を精製するこ
となく次の反応に供することもできる。
から化合物(I−7−3b)の分離・精製は、例えば次の
方法によつて行うことができる。反応混合物に氷冷下で
希塩酸を加えることにより過剰の還元剤を分解し、水を
加えて希釈し、エーテル、酢酸エチル、塩化メチレンな
どの有機溶媒で抽出し、抽出物を冷却した重曹水及び食
塩水で順次洗浄する。次いで得られた溶液から減圧下に
溶媒を留去し、得られた残渣を再結晶により精製するこ
とによつて化合物(I−7−3b)を取得することができ
る。なお、化合物(I−7−3b)の粗製物を精製するこ
となく次の反応に供することもできる。
化合物(I−7−3b)が有する3β−位の水酸基を保
護することによつて一般式(I−7−3)においてZ3
が低級アルコキシカルボニル基、N−低級アルキルカル
バモイル基、N−アリールカルバモイル基又はN,N−ジ
(低級アルキル)カルバモイル基を表わす化合物〔以
下、これを化合物(I−7−3c)と称することがある〕
及び一般式(I−7−3)においてZ3が三置換シリル
基又は置換基を有していてもよいアルコキシメトキシ基
を表わす化合物〔以下、これを化合物(I−7−3d)と
称することがある〕に変換される。これらの3β−位の
水酸基の保護は、水酸基の保護において採用される通常
の方法に準じて行うことができる。
護することによつて一般式(I−7−3)においてZ3
が低級アルコキシカルボニル基、N−低級アルキルカル
バモイル基、N−アリールカルバモイル基又はN,N−ジ
(低級アルキル)カルバモイル基を表わす化合物〔以
下、これを化合物(I−7−3c)と称することがある〕
及び一般式(I−7−3)においてZ3が三置換シリル
基又は置換基を有していてもよいアルコキシメトキシ基
を表わす化合物〔以下、これを化合物(I−7−3d)と
称することがある〕に変換される。これらの3β−位の
水酸基の保護は、水酸基の保護において採用される通常
の方法に準じて行うことができる。
化合物(I−7−3a)、化合物(I−7−3b)及び化
合物(I−7−3c)〔以下、これらを化合物(I−7−
3a〜c)と称することがある〕の化合物(I−8−1)
への変換は、化合物(I−7−3a〜c)を水素化リチウ
ムアルミニウム、水素化ビス(メトキシエトキシ)アル
ミニウムナトリウム、水素化トリsec−ブチルホウ素リ
チウム、水素化ホウ素リチウムなどの還元剤と接触させ
ることにより行うことができる。還元剤の使用量は通
常、化合物(I−7−3a〜c)の1モルに対して約0.75
〜5モルであり、好ましくは約0.8〜2.5モルである。こ
の還元反応は通常テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ルなどのエーテル系溶媒などの不活性溶媒中で行われ、
該溶媒の使用量は化合物(I−7−3a〜c)の約10〜20
0倍重量である。この反応は化合物(I−7−3a〜c)
を溶媒に溶解し、−20〜80℃、好ましくは−10〜40℃の
範囲内の温度で攪拌しながら還元剤の溶液又は懸濁液に
徐々に加え、次いで10〜40℃の範囲内の温度で0.5〜12
時間攪拌を続けることによつて行うのが好適である。
合物(I−7−3c)〔以下、これらを化合物(I−7−
3a〜c)と称することがある〕の化合物(I−8−1)
への変換は、化合物(I−7−3a〜c)を水素化リチウ
ムアルミニウム、水素化ビス(メトキシエトキシ)アル
ミニウムナトリウム、水素化トリsec−ブチルホウ素リ
チウム、水素化ホウ素リチウムなどの還元剤と接触させ
ることにより行うことができる。還元剤の使用量は通
常、化合物(I−7−3a〜c)の1モルに対して約0.75
〜5モルであり、好ましくは約0.8〜2.5モルである。こ
の還元反応は通常テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ルなどのエーテル系溶媒などの不活性溶媒中で行われ、
該溶媒の使用量は化合物(I−7−3a〜c)の約10〜20
0倍重量である。この反応は化合物(I−7−3a〜c)
を溶媒に溶解し、−20〜80℃、好ましくは−10〜40℃の
範囲内の温度で攪拌しながら還元剤の溶液又は懸濁液に
徐々に加え、次いで10〜40℃の範囲内の温度で0.5〜12
時間攪拌を続けることによつて行うのが好適である。
このようにして還元反応によつて得られた反応混合物
からの化合物(I−8−1)の分離・精製は、例えば次
の方法によつて行うことができる。反応混合物をエーテ
ルで希釈し、過剰の還元剤を飽和硫酸ナトリウム水溶液
で分解し、セライトで濾過する。濾液を濃縮し、酢酸エ
チルで再結晶することによつて化合物(I−8−1)を
取得することができる。
からの化合物(I−8−1)の分離・精製は、例えば次
の方法によつて行うことができる。反応混合物をエーテ
ルで希釈し、過剰の還元剤を飽和硫酸ナトリウム水溶液
で分解し、セライトで濾過する。濾液を濃縮し、酢酸エ
チルで再結晶することによつて化合物(I−8−1)を
取得することができる。
化合物(I−8−1)の、一般式(I−8−2)にお
いてZ3がアシル基、低級アルコキシカルボニル基、N
−低級アルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモ
イル基又はN,N−ジ(低級アルキル)カルバモイル基を
表わす化合物〔以下、これを化合物(I−8−2a)と称
することがある〕への変換は、化合物(I−8−1)を
ピリジン、トリエチルアミンなどの塩基性化合物の存在
下にエステル化剤と反応させることにより実施すること
ができる。エステル化剤としてはクロロ炭酸メチル、ク
ロロ炭酸エチル、クロロ炭酸プロピル、クロロ炭酸ブチ
ル、ブロモ炭酸メチル、ブロモ炭酸エチルなどのハロゲ
ノ炭酸低級アルキルエステル;無水酢酸、プロピオン酸
無水物、酪酸無水物、吉草酸無水物などの低級アルカン
酸無水物、無水安息香酸などの芳香族カルボン酸無水物
などのカルボン酸無水物;塩化アセチル、塩化プロピオ
ニル、塩化ブチリル、塩化バレリルなどの低級アルカン
酸ハロゲン化物、塩化ベンゾイル、p−メチルベンゾイ
ルクロリド、ナフトイルクロリドなどの芳香族カルボン
酸ハロゲン化物などのカルボン酸ハロゲン化物;塩化N,
N−ジメチルカルバモイル、塩化N,N−ジエチルカルバモ
イル、塩化N,N−ジプロピルカルバモイルなどのN,N−ジ
(低級アルキル)カルバモイルハライド;メチルイソシ
アナート、エチルイソシアナート、プロピルイソシアナ
ートなどの低級アルキルイソシアナート;又はフエニル
イソシアナート、トリルイソシアナートなどのアリール
イソシアナートが使用される。エステル化剤としてハロ
ゲノ炭酸アルキルエステルを使用する場合には一般式
(I−8−2)においてZ3が低級アルコキシカルボニ
ル基を表わす化合物が生成し、エステル化剤としてカル
ボン酸無水物又はカルボン酸ハロゲン化物を使用する場
合には一般式(I−8−2)においてZ3がアシル基を
表わす化合物が生成し、エステル化剤としてN,N−ジ
(低級アルキル)カルバモイルハライドを使用する場合
には、一般式(I−8−2)においてZ3がN,N−ジ(低
級アルキル)カルバモイル基を表わす化合物が生成し、
エステル化剤として低級アルキルイソシアナートを使用
する場合には一般式(I−8−2)においてZ3がN−
低級アルキルカルバモイル基を表わす化合物が生成し、
エステル化剤としてアリールイソシアナートを使用する
場合には一般式(I−8−2)においてZ3がN−アリ
ールカルバモイル基を表わす化合物が生成する。エステ
ル化剤の使用量は通常、化合物(I−8−1)の1モル
に対して約1.0〜5モルである。エステル化剤としてハ
ロゲノ炭酸アルキルエステル、カルボン酸無水物、カル
ボン酸ハロゲン化物又はN,N−ジ(低級アルキル)カル
バモイルハライドを使用する場合には、塩基性化合物は
通常、化合物(I−8−1)の1モルに対して約2〜40
モル使用し、またエステル化剤の1モルに対して約2モ
ル以上使用するのが好ましい。また、この場合、反応系
に4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジン、4−ピロリ
ジノピリジンなどの触媒を化合物(I−8−1)の1モ
ルに対して約0.001〜0.1モルの量で存在させるのが好適
である。またエステル化剤として低級アルキルイソシア
ナート又はアリールイソシアナートを使用する場合に
は、塩基性化合物は通常、化合物(I−8−1)の1モ
ルに対して約0.0001〜10モル使用する。これらのエステ
ル化反応は通常約0〜100℃の範囲内の温度で実施され
る。このエステル化反応は塩化メチレン、クロロホル
ム、ジエチルエーテル、ベンゼン、トルエンなどの溶媒
中で行うこともでき、溶媒の使用量は通常、化合物(I
−8−1)に対して約200倍重量以下である。反応は、
化合物(I−8−1)、塩基性化合物及び所望により使
用される触媒の混合物又はそれに溶媒を加えて得られた
溶液を約0℃に冷却しながら、これにエステル化剤を徐
々に加え、得られた混合物を約0〜100℃の範囲内の温
度で約10分間〜約12時間攪拌することによつて行うのが
好適である。
いてZ3がアシル基、低級アルコキシカルボニル基、N
−低級アルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモ
イル基又はN,N−ジ(低級アルキル)カルバモイル基を
表わす化合物〔以下、これを化合物(I−8−2a)と称
することがある〕への変換は、化合物(I−8−1)を
ピリジン、トリエチルアミンなどの塩基性化合物の存在
下にエステル化剤と反応させることにより実施すること
ができる。エステル化剤としてはクロロ炭酸メチル、ク
ロロ炭酸エチル、クロロ炭酸プロピル、クロロ炭酸ブチ
ル、ブロモ炭酸メチル、ブロモ炭酸エチルなどのハロゲ
ノ炭酸低級アルキルエステル;無水酢酸、プロピオン酸
無水物、酪酸無水物、吉草酸無水物などの低級アルカン
酸無水物、無水安息香酸などの芳香族カルボン酸無水物
などのカルボン酸無水物;塩化アセチル、塩化プロピオ
ニル、塩化ブチリル、塩化バレリルなどの低級アルカン
酸ハロゲン化物、塩化ベンゾイル、p−メチルベンゾイ
ルクロリド、ナフトイルクロリドなどの芳香族カルボン
酸ハロゲン化物などのカルボン酸ハロゲン化物;塩化N,
N−ジメチルカルバモイル、塩化N,N−ジエチルカルバモ
イル、塩化N,N−ジプロピルカルバモイルなどのN,N−ジ
(低級アルキル)カルバモイルハライド;メチルイソシ
アナート、エチルイソシアナート、プロピルイソシアナ
ートなどの低級アルキルイソシアナート;又はフエニル
イソシアナート、トリルイソシアナートなどのアリール
イソシアナートが使用される。エステル化剤としてハロ
ゲノ炭酸アルキルエステルを使用する場合には一般式
(I−8−2)においてZ3が低級アルコキシカルボニ
ル基を表わす化合物が生成し、エステル化剤としてカル
ボン酸無水物又はカルボン酸ハロゲン化物を使用する場
合には一般式(I−8−2)においてZ3がアシル基を
表わす化合物が生成し、エステル化剤としてN,N−ジ
(低級アルキル)カルバモイルハライドを使用する場合
には、一般式(I−8−2)においてZ3がN,N−ジ(低
級アルキル)カルバモイル基を表わす化合物が生成し、
エステル化剤として低級アルキルイソシアナートを使用
する場合には一般式(I−8−2)においてZ3がN−
低級アルキルカルバモイル基を表わす化合物が生成し、
エステル化剤としてアリールイソシアナートを使用する
場合には一般式(I−8−2)においてZ3がN−アリ
ールカルバモイル基を表わす化合物が生成する。エステ
ル化剤の使用量は通常、化合物(I−8−1)の1モル
に対して約1.0〜5モルである。エステル化剤としてハ
ロゲノ炭酸アルキルエステル、カルボン酸無水物、カル
ボン酸ハロゲン化物又はN,N−ジ(低級アルキル)カル
バモイルハライドを使用する場合には、塩基性化合物は
通常、化合物(I−8−1)の1モルに対して約2〜40
モル使用し、またエステル化剤の1モルに対して約2モ
ル以上使用するのが好ましい。また、この場合、反応系
に4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジン、4−ピロリ
ジノピリジンなどの触媒を化合物(I−8−1)の1モ
ルに対して約0.001〜0.1モルの量で存在させるのが好適
である。またエステル化剤として低級アルキルイソシア
ナート又はアリールイソシアナートを使用する場合に
は、塩基性化合物は通常、化合物(I−8−1)の1モ
ルに対して約0.0001〜10モル使用する。これらのエステ
ル化反応は通常約0〜100℃の範囲内の温度で実施され
る。このエステル化反応は塩化メチレン、クロロホル
ム、ジエチルエーテル、ベンゼン、トルエンなどの溶媒
中で行うこともでき、溶媒の使用量は通常、化合物(I
−8−1)に対して約200倍重量以下である。反応は、
化合物(I−8−1)、塩基性化合物及び所望により使
用される触媒の混合物又はそれに溶媒を加えて得られた
溶液を約0℃に冷却しながら、これにエステル化剤を徐
々に加え、得られた混合物を約0〜100℃の範囲内の温
度で約10分間〜約12時間攪拌することによつて行うのが
好適である。
このようにしてエステル化反応によつて得られた反応
混合物からの化合物(I−8−2a)の分離・精製は、例
えば次の方法によつて行うことができる。反応混合物を
冷希塩酸にあけ、塩化メチレンで抽出し、抽出液を重曹
水及び食塩水で順次洗浄する。これより溶媒を留去し、
必要に応じ再結晶又はカラムクロマトグラフイーにより
精製することによつて化合物(I−8−2a)を取得する
ことができる。
混合物からの化合物(I−8−2a)の分離・精製は、例
えば次の方法によつて行うことができる。反応混合物を
冷希塩酸にあけ、塩化メチレンで抽出し、抽出液を重曹
水及び食塩水で順次洗浄する。これより溶媒を留去し、
必要に応じ再結晶又はカラムクロマトグラフイーにより
精製することによつて化合物(I−8−2a)を取得する
ことができる。
また化合物(I−8−1)の、一般式(I−8−2)
においてZ3が三置換シリル基又は置換基を有していて
もよいアルコキシメチル基を表わす化合物〔以下、これ
を化合物(I−8−2b)を称することがある〕への変換
は、化合物(I−8−1)を塩基性物質の存在下にトリ
メチルシリルクロリド、t−ブチルジメチルシリルクロ
リド、t−ブチルジフエニルシリルクロリド、トリベン
ジルシリルクロリド、トリイソプロピルシリルクロリド
などの三置換シリルハライド又はメトキシメチルクロリ
ド、メトキシエトキシメチルクロリドなどのアルコキシ
メチルクロリドと反応させるか、又は酸触媒の存在下に
エチルビニルエーテル、3,4−ジヒドロピラン、メチル
イソプロペニルエーテルなどのビニルエーテルと反応さ
せることによつて実施される。
においてZ3が三置換シリル基又は置換基を有していて
もよいアルコキシメチル基を表わす化合物〔以下、これ
を化合物(I−8−2b)を称することがある〕への変換
は、化合物(I−8−1)を塩基性物質の存在下にトリ
メチルシリルクロリド、t−ブチルジメチルシリルクロ
リド、t−ブチルジフエニルシリルクロリド、トリベン
ジルシリルクロリド、トリイソプロピルシリルクロリド
などの三置換シリルハライド又はメトキシメチルクロリ
ド、メトキシエトキシメチルクロリドなどのアルコキシ
メチルクロリドと反応させるか、又は酸触媒の存在下に
エチルビニルエーテル、3,4−ジヒドロピラン、メチル
イソプロペニルエーテルなどのビニルエーテルと反応さ
せることによつて実施される。
上記の三置換シリルハライド又はアルコキシメチルク
ロリドを用いる保護反応において、三置換シリルハライ
ドの使用量は化合物(I−8−1)の1モルに対して0.
9〜10モルであり、好ましくは1.0〜2.5モルであり、ア
ルコキシメチルクロリドの使用量は化合物(I−8−
1)の1モルに対して0.9〜10モルであり、好ましくは
1.0〜2.5モルである。塩基性物質としては、ピリジン、
トリエチルアミンなどの有機塩基;水素化ナトリウム、
水素化カリウムなどの金属水素化物;メチルリチウム、
ブチルリチウム、フエニルリチウムなどの有機金属化合
物などが挙げられる。塩基性物質の使用量は通常、化合
物(I−8−1)の1モルに対して0.9〜50モルであ
り、好ましくは1.0〜20モルである。この保護反応は溶
媒の存在下に実施してもよく、使用可能な溶媒としては
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、N,N−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、塩化メチレン
などの反応を阻害しない溶媒が挙げられる。溶媒の使用
量は化合物(I−8−1)に対して約10〜200倍重量で
ある。反応は、化合物(I−8−1)、塩基性物質及び
溶媒の混合物に三置換シリルハライド又はアルコキシメ
チルクロリドを加え、0〜80℃で1〜12時間攪拌するこ
とによつて実施するのが好適であるが、該塩基性物質と
して金属水素化物を使用する場合には−20℃〜80℃で、
また有機金属化合物を使用する場合には−100〜0℃で
それぞれ化合物(I−8−1)、塩基性物質及び溶媒の
混合物を0.5〜6時間攪拌したのちに三置換シリルハラ
イド又はアルコキシメチルクロリドとの反応に供するの
が好ましい。このようにして得られた反応混合物からの
化合物(I−8−2b)の分離・精製は、例えば次の方法
によつて行うことができる。反応混合物を水にあけてエ
ーテルなどで抽出し、抽出液を冷希塩酸、水、重曹水及
び食塩水で順次洗浄し、得られた溶液より溶媒を留去
し、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフイーな
どの精製操作に付することによつて化合物(I−8−2
b)を取得することができる。
ロリドを用いる保護反応において、三置換シリルハライ
ドの使用量は化合物(I−8−1)の1モルに対して0.
9〜10モルであり、好ましくは1.0〜2.5モルであり、ア
ルコキシメチルクロリドの使用量は化合物(I−8−
1)の1モルに対して0.9〜10モルであり、好ましくは
1.0〜2.5モルである。塩基性物質としては、ピリジン、
トリエチルアミンなどの有機塩基;水素化ナトリウム、
水素化カリウムなどの金属水素化物;メチルリチウム、
ブチルリチウム、フエニルリチウムなどの有機金属化合
物などが挙げられる。塩基性物質の使用量は通常、化合
物(I−8−1)の1モルに対して0.9〜50モルであ
り、好ましくは1.0〜20モルである。この保護反応は溶
媒の存在下に実施してもよく、使用可能な溶媒としては
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、N,N−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、塩化メチレン
などの反応を阻害しない溶媒が挙げられる。溶媒の使用
量は化合物(I−8−1)に対して約10〜200倍重量で
ある。反応は、化合物(I−8−1)、塩基性物質及び
溶媒の混合物に三置換シリルハライド又はアルコキシメ
チルクロリドを加え、0〜80℃で1〜12時間攪拌するこ
とによつて実施するのが好適であるが、該塩基性物質と
して金属水素化物を使用する場合には−20℃〜80℃で、
また有機金属化合物を使用する場合には−100〜0℃で
それぞれ化合物(I−8−1)、塩基性物質及び溶媒の
混合物を0.5〜6時間攪拌したのちに三置換シリルハラ
イド又はアルコキシメチルクロリドとの反応に供するの
が好ましい。このようにして得られた反応混合物からの
化合物(I−8−2b)の分離・精製は、例えば次の方法
によつて行うことができる。反応混合物を水にあけてエ
ーテルなどで抽出し、抽出液を冷希塩酸、水、重曹水及
び食塩水で順次洗浄し、得られた溶液より溶媒を留去
し、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフイーな
どの精製操作に付することによつて化合物(I−8−2
b)を取得することができる。
また化合物(I−8−1)のビニルエーテルを用いる
保護反応において、ビニルエーテルの使用量は化合物
(I−8−1)の1モルに対して通常0.8〜50モル、好
ましくは1.1〜20モルである。酸触媒としてはp−トル
エンスルホン酸などのスルホン酸;p−トルエンスルホン
酸ピリジン塩などのスルホン酸塩;塩酸などの無機酸;
オキシ塩化リンなどが挙げられ、その使用量は化合物
(I−8−1)の1モルに対して通常0.01〜2モル、好
ましくは0.05〜0.2モルである。反応は溶媒の存在下で
実施してもよく、使用可能な溶媒として塩化メチレン、
クロロホルム、ベンゼンなどの反応を阻害しない溶媒が
挙げられる。溶媒の使用量は通常、化合物(I−8−
1)に対して10〜1000倍重量である。反応は化合物(I
−8−1)とビニルエーテルとを混和し、所望に応じ溶
媒を加え、−10〜30℃の範囲内の温度で酸触媒を加え、
次いで−10〜60℃の範囲内の温度で5分〜24時間攪拌す
ることにより行われる。このようにして得られた反応混
合物からの化合物(I−8−2b)の分離・精製は、例え
ば次の方法により行うことができる。反応混合物をエー
テルで希釈し、重曹水及び食塩水で洗浄する。これより
溶媒を留去し、必要に応じて再結晶、クロマトグラフイ
ーなどの精製操作に付することにより化合物(I−8−
2b)を取得することができる。
保護反応において、ビニルエーテルの使用量は化合物
(I−8−1)の1モルに対して通常0.8〜50モル、好
ましくは1.1〜20モルである。酸触媒としてはp−トル
エンスルホン酸などのスルホン酸;p−トルエンスルホン
酸ピリジン塩などのスルホン酸塩;塩酸などの無機酸;
オキシ塩化リンなどが挙げられ、その使用量は化合物
(I−8−1)の1モルに対して通常0.01〜2モル、好
ましくは0.05〜0.2モルである。反応は溶媒の存在下で
実施してもよく、使用可能な溶媒として塩化メチレン、
クロロホルム、ベンゼンなどの反応を阻害しない溶媒が
挙げられる。溶媒の使用量は通常、化合物(I−8−
1)に対して10〜1000倍重量である。反応は化合物(I
−8−1)とビニルエーテルとを混和し、所望に応じ溶
媒を加え、−10〜30℃の範囲内の温度で酸触媒を加え、
次いで−10〜60℃の範囲内の温度で5分〜24時間攪拌す
ることにより行われる。このようにして得られた反応混
合物からの化合物(I−8−2b)の分離・精製は、例え
ば次の方法により行うことができる。反応混合物をエー
テルで希釈し、重曹水及び食塩水で洗浄する。これより
溶媒を留去し、必要に応じて再結晶、クロマトグラフイ
ーなどの精製操作に付することにより化合物(I−8−
2b)を取得することができる。
化合物(I−8−2b)は化合物(I−7−3d)を還元
することによつて得ることもできる。化合物(I−7−
3d)の化合物(I−8−2b)への変換は、前記の化合物
(I−7−3a〜c)を化合物(I−8−1)に変換する
方法において、該化合物(I−7−3a〜c)の代りに化
合物(I−7−3d)を還元反応に付すること以外は同様
にして反応及び分離・精製を行うことによつて実施され
る。
することによつて得ることもできる。化合物(I−7−
3d)の化合物(I−8−2b)への変換は、前記の化合物
(I−7−3a〜c)を化合物(I−8−1)に変換する
方法において、該化合物(I−7−3a〜c)の代りに化
合物(I−7−3d)を還元反応に付すること以外は同様
にして反応及び分離・精製を行うことによつて実施され
る。
化合物(I−8−2)の、一般式(I−8−3)にお
いてZ4がアシル基、低級アルコキシカルボニル基、N
−低級アルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモ
イル基又は、N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイル基
を表わす化合物〔以下、これを化合物(I−8−3a)と
称することがある〕への変換は、前記の化合物(I−8
−1)を化合物(I−8−2a)に変換する方法におい
て、該化合物(I−8−1)の代りに化合物(I−8−
2)をエステル化反応に付すること以外は同様にして反
応及び分離・精製を行うことによつて実施される。
いてZ4がアシル基、低級アルコキシカルボニル基、N
−低級アルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモ
イル基又は、N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイル基
を表わす化合物〔以下、これを化合物(I−8−3a)と
称することがある〕への変換は、前記の化合物(I−8
−1)を化合物(I−8−2a)に変換する方法におい
て、該化合物(I−8−1)の代りに化合物(I−8−
2)をエステル化反応に付すること以外は同様にして反
応及び分離・精製を行うことによつて実施される。
化合物(I−8−2)の、一般式(I−8−3)にお
いてZ4が三置換シリル基又は置換基を有していてもよ
いアルコキシメチル基を表わす化合物〔以下、これを化
合物(I−8−3b)と称することがある〕への変換は、
前記の化合物(I−8−1)を化合物(I−8−2b)に
変換する方法において、該化合物(I−8−1)の代り
に化合物(I−8−2)を保護反応に付すること以外は
同様にして反応及び分離・精製を行うことによつて実施
される。
いてZ4が三置換シリル基又は置換基を有していてもよ
いアルコキシメチル基を表わす化合物〔以下、これを化
合物(I−8−3b)と称することがある〕への変換は、
前記の化合物(I−8−1)を化合物(I−8−2b)に
変換する方法において、該化合物(I−8−1)の代り
に化合物(I−8−2)を保護反応に付すること以外は
同様にして反応及び分離・精製を行うことによつて実施
される。
なお、化合物(I−8−3)は化合物(I−8−1)
から中間体である化合物(I−8−2)を単離すること
なく製造することもできる。
から中間体である化合物(I−8−2)を単離すること
なく製造することもできる。
化合物(I−8−3)の化合物(I−5−3)への変
換は、化合物(I−8−3)を酸触媒下における脱水反
応に付することにより実施される。この脱水反応は例え
ば、化合物(I−8−3)を炭酸ジメチル、炭酸ジエチ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、ベン
ゼン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの有機溶媒中で約0
〜150℃の範囲の温度下に、硫酸、塩酸などの無機酸;
ギ酸、酢酸、プロピオン酸、モノクロル酢酸、ジクロル
酢酸などの有機酸;パラトルエンスルホン酸、カンフア
ースルホン酸などのスルホン酸;パラトルエンスルホン
酸ピリジン塩などのスルホン酸塩などの酸類と接触させ
ることにより行うことができる。酸類の使用量は、用い
る酸によつても異なるが、通常、化合物(I−8−3)
の1モルに対して約0.01〜50モルである。溶媒の使用量
は、通常、化合物(I−8−3)に対して約10〜100倍
重量である。この反応は、化合物(I−8−3)を溶媒
に溶解し、酸類を加え、次いで約0〜150℃の温度下で
5分間〜24時間攪拌することにより実施される。
換は、化合物(I−8−3)を酸触媒下における脱水反
応に付することにより実施される。この脱水反応は例え
ば、化合物(I−8−3)を炭酸ジメチル、炭酸ジエチ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、ベン
ゼン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの有機溶媒中で約0
〜150℃の範囲の温度下に、硫酸、塩酸などの無機酸;
ギ酸、酢酸、プロピオン酸、モノクロル酢酸、ジクロル
酢酸などの有機酸;パラトルエンスルホン酸、カンフア
ースルホン酸などのスルホン酸;パラトルエンスルホン
酸ピリジン塩などのスルホン酸塩などの酸類と接触させ
ることにより行うことができる。酸類の使用量は、用い
る酸によつても異なるが、通常、化合物(I−8−3)
の1モルに対して約0.01〜50モルである。溶媒の使用量
は、通常、化合物(I−8−3)に対して約10〜100倍
重量である。この反応は、化合物(I−8−3)を溶媒
に溶解し、酸類を加え、次いで約0〜150℃の温度下で
5分間〜24時間攪拌することにより実施される。
このようにして脱水反応によつて得られた反応混合物
からの化合物(I−5−3)の分離・精製は例えば次の
方法によつて行うことができる。反応混合物を氷水にあ
け、エーテルで抽出し、水酸化ナトリウム水溶液、重曹
水などで中和し、食塩水で洗浄する。これより溶媒を留
去し、必要に応じ再結晶、カラムクロマトグラフイーな
どの精製操作に付することによつて化合物(I−5−
3)を取得することができる。
からの化合物(I−5−3)の分離・精製は例えば次の
方法によつて行うことができる。反応混合物を氷水にあ
け、エーテルで抽出し、水酸化ナトリウム水溶液、重曹
水などで中和し、食塩水で洗浄する。これより溶媒を留
去し、必要に応じ再結晶、カラムクロマトグラフイーな
どの精製操作に付することによつて化合物(I−5−
3)を取得することができる。
化合物(I−8−3)の化合物(I−9−1a)への変
換は、化合物(I−8−3)をギ酸、酢酸、プロピオン
酸、モノクロル酢酸などの有機酸の存在下に炭酸ジ低級
アルキルエステルと反応させることにより行われる。炭
酸ジ低級アルキルエステルとしては、炭酸ジメチル、炭
酸ジエチル、炭酸ジプロピルなどが挙げられ、その使用
量は通常、化合物(I−8−3)に対して約10〜200倍
重量である。有機酸の使用量は、通常、化合物(I−8
−3)に対して約0.1〜10倍重量である。反応温度とし
ては、約50〜150℃の範囲内の温度が好ましい。この転
位・炭酸エステル化反応は化合物(I−8−3)を炭酸
ジ低級アルキルエステルに溶解し、有機酸を加えて約50
〜150℃で1〜48時間加熱することにより実施される。
換は、化合物(I−8−3)をギ酸、酢酸、プロピオン
酸、モノクロル酢酸などの有機酸の存在下に炭酸ジ低級
アルキルエステルと反応させることにより行われる。炭
酸ジ低級アルキルエステルとしては、炭酸ジメチル、炭
酸ジエチル、炭酸ジプロピルなどが挙げられ、その使用
量は通常、化合物(I−8−3)に対して約10〜200倍
重量である。有機酸の使用量は、通常、化合物(I−8
−3)に対して約0.1〜10倍重量である。反応温度とし
ては、約50〜150℃の範囲内の温度が好ましい。この転
位・炭酸エステル化反応は化合物(I−8−3)を炭酸
ジ低級アルキルエステルに溶解し、有機酸を加えて約50
〜150℃で1〜48時間加熱することにより実施される。
このようにして得られた反応混合物からの化合物(I
−9−1a)の分離・精製は、例えば次の方法によつて行
うことができる。反応混合物を冷水にあけ、ジエチルエ
ーテルにより抽出し、抽出液を冷水酸化ナトリウム水溶
液、重曹水及び食塩水で順次洗浄し、これより溶媒を留
去し、再傾斜または、カラムクロマトグラフイーにより
精製することによつて化合物(I−9−1a)を取得する
ことができる。
−9−1a)の分離・精製は、例えば次の方法によつて行
うことができる。反応混合物を冷水にあけ、ジエチルエ
ーテルにより抽出し、抽出液を冷水酸化ナトリウム水溶
液、重曹水及び食塩水で順次洗浄し、これより溶媒を留
去し、再傾斜または、カラムクロマトグラフイーにより
精製することによつて化合物(I−9−1a)を取得する
ことができる。
化合物(I−9−1a)の化合物(I−9−1b)への変
換は、前記の化合物(I−7−3a)を化合物(I−7−
3b)に変換する方法において、該化合物(I−7−3a)
の代りに化合物(I−9−1a)を脱保護反応に付するこ
と以外は同様にして反応及び分離・精製を行うことによ
つて実施される。
換は、前記の化合物(I−7−3a)を化合物(I−7−
3b)に変換する方法において、該化合物(I−7−3a)
の代りに化合物(I−9−1a)を脱保護反応に付するこ
と以外は同様にして反応及び分離・精製を行うことによ
つて実施される。
化合物(I−9−1b)の化合物(I−9−1c)への変
換は、前記の化合物(I−8−1)を化合物(I−8−
2a)に変換する方法において、該化合物(I−8−1)
の代りに化合物(I−9−1b)をエステル化反応に付す
ること以外は同様にして反応及び分離・精製を行うこと
によつて実施される。
換は、前記の化合物(I−8−1)を化合物(I−8−
2a)に変換する方法において、該化合物(I−8−1)
の代りに化合物(I−9−1b)をエステル化反応に付す
ること以外は同様にして反応及び分離・精製を行うこと
によつて実施される。
化合物(I−5−3)は、化合物(I−9−1a)又は
化合物(I−9−1c)をパラジウム化合物の存在下に反
応させることによつて取得することができる。パラジウ
ム化合物としては、トリス(ジベンジリデンアセトン)
2パラジウム(クロロホルム)、酢酸パラジウム、硝酸
パラジウム、塩化パラジウム、ビス(アセチルアセトナ
ト)パラジウム、テトラキス(トリフエニルホスフイ
ン)パラジウムなどが使用され、その使用量は通常、化
合物(I−9−1a)又は化合物(I−9−1c)の1モル
に対して約0.01〜0.5モルである。該パラジウム化合物
に由来するパラジウム原子は反応系中において第三級ホ
スフインと配位結合を形成していることが望ましく、必
要に応じて反応系に第三級ホスフインを添加してもよ
い。第三級ホスフインとしてはトリブチルホスフイン、
トリエチルホスフイン、トリフエニルホスフイン、トリ
トリルホスフイン、1,2−ビス(ジフエニルホスフイ
ノ)エタンなどが使用され、その使用量は通常パラジウ
ム化合物の1モルに対して約1〜20モルである。反応温
度は通常約20〜150℃の範囲内の温度である。溶媒とし
ては1,4−ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエー
テル系溶媒が好適である。溶媒の使用量は化合物(I−
9−1a)及び化合物(I−9−1c)に対して約5〜500
倍重量が好適である。反応は、アルゴン、窒素などの不
活性ガス雰囲気下に室温下でパラジウム化合物及び所望
により使用される第三級ホステインを上記のエーテル系
溶媒中に加え、約5〜60分間攪拌したのち、この溶液に
化合物(I−9−1a)又は化合物(I−9−1c)を上記
と同じエーテル系溶媒に溶解して得られた溶液を加え、
加熱還流下に約1〜24時間攪拌することによつて行うの
が好ましい。
化合物(I−9−1c)をパラジウム化合物の存在下に反
応させることによつて取得することができる。パラジウ
ム化合物としては、トリス(ジベンジリデンアセトン)
2パラジウム(クロロホルム)、酢酸パラジウム、硝酸
パラジウム、塩化パラジウム、ビス(アセチルアセトナ
ト)パラジウム、テトラキス(トリフエニルホスフイ
ン)パラジウムなどが使用され、その使用量は通常、化
合物(I−9−1a)又は化合物(I−9−1c)の1モル
に対して約0.01〜0.5モルである。該パラジウム化合物
に由来するパラジウム原子は反応系中において第三級ホ
スフインと配位結合を形成していることが望ましく、必
要に応じて反応系に第三級ホスフインを添加してもよ
い。第三級ホスフインとしてはトリブチルホスフイン、
トリエチルホスフイン、トリフエニルホスフイン、トリ
トリルホスフイン、1,2−ビス(ジフエニルホスフイ
ノ)エタンなどが使用され、その使用量は通常パラジウ
ム化合物の1モルに対して約1〜20モルである。反応温
度は通常約20〜150℃の範囲内の温度である。溶媒とし
ては1,4−ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエー
テル系溶媒が好適である。溶媒の使用量は化合物(I−
9−1a)及び化合物(I−9−1c)に対して約5〜500
倍重量が好適である。反応は、アルゴン、窒素などの不
活性ガス雰囲気下に室温下でパラジウム化合物及び所望
により使用される第三級ホステインを上記のエーテル系
溶媒中に加え、約5〜60分間攪拌したのち、この溶液に
化合物(I−9−1a)又は化合物(I−9−1c)を上記
と同じエーテル系溶媒に溶解して得られた溶液を加え、
加熱還流下に約1〜24時間攪拌することによつて行うの
が好ましい。
このようにして得られた反応混合物から化合物(I−
5−3)の分離・精製は、例えば次の方法により行うこ
とができる。反応混合物をフロリジルを用いて濾過し、
その濾液を減圧下に濃縮し、次いで濃縮物をクロマトグ
ラフイー、再結晶などの分離・精製の操作に付すること
により化合物(I−5−3)を取得することができる。
5−3)の分離・精製は、例えば次の方法により行うこ
とができる。反応混合物をフロリジルを用いて濾過し、
その濾液を減圧下に濃縮し、次いで濃縮物をクロマトグ
ラフイー、再結晶などの分離・精製の操作に付すること
により化合物(I−5−3)を取得することができる。
化合物(I−5−3)の化合物(I−5−4a)への変
換は、例えば、化合物(I−5−3)の1モルに対して
約0.001〜0.1モルの量のp−トルエンスルホン酸、p−
トルエンスルホン酸ピリジン塩、硫酸、塩酸、硫酸銅な
どの酸の存在下に約20〜80℃の範囲内の温度でアセト
ン、2−ブタノン、3−ペンタノンなどの低級アルカノ
ンと反応させるか、又はブレグナン誘導体(I−5−
3)の1モルに対して約0.01〜5モルの量の塩酸、酢
酸、p−トルエンスルホン酸、硫酸銅などの酸の存在下
に約−10〜60℃の範囲内の温度で加水分解反応を行うこ
とによつて実施される。低級アルカノンの使用量は通
常、化合物(I−5−3)に対して約10〜1000倍重量で
ある。又加水分解反応を行う場合には、通常、水を化合
物(I−5−3)に対して約10〜200倍重量使用する。
この場合には、反応系にテトラヒドロフラン、1,2−ジ
メトキシエタン、メタノール、エタノールなどの水と混
和し得る有機溶媒を共存させることが望ましく、該有機
溶媒は化合物(I−5−3)に対して約20〜100倍重量
で用いるのが好適である。
換は、例えば、化合物(I−5−3)の1モルに対して
約0.001〜0.1モルの量のp−トルエンスルホン酸、p−
トルエンスルホン酸ピリジン塩、硫酸、塩酸、硫酸銅な
どの酸の存在下に約20〜80℃の範囲内の温度でアセト
ン、2−ブタノン、3−ペンタノンなどの低級アルカノ
ンと反応させるか、又はブレグナン誘導体(I−5−
3)の1モルに対して約0.01〜5モルの量の塩酸、酢
酸、p−トルエンスルホン酸、硫酸銅などの酸の存在下
に約−10〜60℃の範囲内の温度で加水分解反応を行うこ
とによつて実施される。低級アルカノンの使用量は通
常、化合物(I−5−3)に対して約10〜1000倍重量で
ある。又加水分解反応を行う場合には、通常、水を化合
物(I−5−3)に対して約10〜200倍重量使用する。
この場合には、反応系にテトラヒドロフラン、1,2−ジ
メトキシエタン、メタノール、エタノールなどの水と混
和し得る有機溶媒を共存させることが望ましく、該有機
溶媒は化合物(I−5−3)に対して約20〜100倍重量
で用いるのが好適である。
このようにして脱保護反応によつて得られた反応混合
物からの化合物(I−5−4a)の分離・精製は、例えば
次の方法により行うことができる。反応混合物から必要
に応じ反応に使用した低級アルカノン、有機溶媒などを
留去した後、その残渣を水に加え、次いで塩化メチレ
ン、ジエチルエーテルなどの有機溶媒で抽出する。抽出
物を水、重曹水及び食塩水で順次洗浄した後、これより
減圧下に溶媒を留去し、その残渣をクロマトグラフイ
ー、再結晶などの分離・精製の操作に付することにより
化合物(I−5−4a)を取得することができる。
物からの化合物(I−5−4a)の分離・精製は、例えば
次の方法により行うことができる。反応混合物から必要
に応じ反応に使用した低級アルカノン、有機溶媒などを
留去した後、その残渣を水に加え、次いで塩化メチレ
ン、ジエチルエーテルなどの有機溶媒で抽出する。抽出
物を水、重曹水及び食塩水で順次洗浄した後、これより
減圧下に溶媒を留去し、その残渣をクロマトグラフイ
ー、再結晶などの分離・精製の操作に付することにより
化合物(I−5−4a)を取得することができる。
化合物(I−5−4a)を脱保護反応に付することによ
り、一般式(I−5−4b)、一般式(I−5−4c)又は
式(I−5−2)で示されるプレグナン誘導体を得るこ
とができる。また化合物(I−5−3)を脱保護反応に
付することにより化合物(I−5−1)を取得すること
ができる。これらの脱保護反応は、保護された水酸基を
有する有機化合物を遊離の水酸基を有する有機化合物に
変換する際に採用される通常の方法に準じて行うことが
できる。
り、一般式(I−5−4b)、一般式(I−5−4c)又は
式(I−5−2)で示されるプレグナン誘導体を得るこ
とができる。また化合物(I−5−3)を脱保護反応に
付することにより化合物(I−5−1)を取得すること
ができる。これらの脱保護反応は、保護された水酸基を
有する有機化合物を遊離の水酸基を有する有機化合物に
変換する際に採用される通常の方法に準じて行うことが
できる。
なお、化合物(I−5−1)、化合物(I−5−
2)、化合物(I−5−4a)、化合物(I−5−4b)及
び化合物(I−5−4c)のごとき1α−位及び/又は3
β−位に遊離の水酸基を有するプレグナン誘導体(I−
5)を、例えば、前記の化合物(I−8−1)を化合物
(I−8−2)又は化合物(I−8−3)に変換する方
法において採用されるような保護反応に付することによ
り、該遊離の水酸基の保護を行うことができる。
2)、化合物(I−5−4a)、化合物(I−5−4b)及
び化合物(I−5−4c)のごとき1α−位及び/又は3
β−位に遊離の水酸基を有するプレグナン誘導体(I−
5)を、例えば、前記の化合物(I−8−1)を化合物
(I−8−2)又は化合物(I−8−3)に変換する方
法において採用されるような保護反応に付することによ
り、該遊離の水酸基の保護を行うことができる。
化合物(I−6−1)、化合物(I−7−1)、化合
物(I−7−2)、化合物(I−7−3)、化合物(I
−8−1)、化合物(I−8−2)、化合物(I−8−
3)、化合物(I−9−1a)、化合物(I−9−1b)及
び化合物(I−9−1c)のごとき一般式(I−6)、
(I−7)、(I−8)又は(I−9)においてX1及
びX2がそれぞれ低級アルコキシル基を表わすか又は一
緒になつて低級アルキレンジオキシ基を表わすプレグナ
ン誘導体は、脱保護反応に付することによりそれぞれ一
般式(I−6)、(I−7)、(I−8)又は(I−
9)においてX1及びX2が一緒になつてオキソ基を表わ
すプレグナン誘導体に変換される。例えば、前記の化合
物(I−5−3)を化合物(I−5−4a)に変換する方
法において、該化合物(I−5−3)の代りに一般式
(I−6)、(I−7)、(I−8)又は(I−9)に
おいてX1及びX2がそれぞれ低級アルコキシル基を表わ
すか又は一緒になつて低級アルキレンジオキシ基を表わ
すプレグナン誘導体を脱保護反応に付すること以外は同
様にして反応及び分離・精製を行うことによつて、それ
ぞれ対応するアルデヒドを取得することができる。
物(I−7−2)、化合物(I−7−3)、化合物(I
−8−1)、化合物(I−8−2)、化合物(I−8−
3)、化合物(I−9−1a)、化合物(I−9−1b)及
び化合物(I−9−1c)のごとき一般式(I−6)、
(I−7)、(I−8)又は(I−9)においてX1及
びX2がそれぞれ低級アルコキシル基を表わすか又は一
緒になつて低級アルキレンジオキシ基を表わすプレグナ
ン誘導体は、脱保護反応に付することによりそれぞれ一
般式(I−6)、(I−7)、(I−8)又は(I−
9)においてX1及びX2が一緒になつてオキソ基を表わ
すプレグナン誘導体に変換される。例えば、前記の化合
物(I−5−3)を化合物(I−5−4a)に変換する方
法において、該化合物(I−5−3)の代りに一般式
(I−6)、(I−7)、(I−8)又は(I−9)に
おいてX1及びX2がそれぞれ低級アルコキシル基を表わ
すか又は一緒になつて低級アルキレンジオキシ基を表わ
すプレグナン誘導体を脱保護反応に付すること以外は同
様にして反応及び分離・精製を行うことによつて、それ
ぞれ対応するアルデヒドを取得することができる。
一般式(I−6)、(I−7)、(I−8)又は(I
−9)においてX1及びX2が一緒になつてオキソ基を表
わすプレングナン誘導体を、例えば、ベンゼン、トルエ
ンなどの有機溶媒中でp−トルエンスルホン酸ピリジン
塩などの酸触媒の存在下に加熱還流下で2−ブタノン
(2,2−ジメチルトリメチレン)アセタールなどのケト
ンの低級アルキレンアセタールと反応させることによつ
て、それぞれ一般式(I−6)、(I−7)、(I−
8)又は(I−9)においてX1及びX2が一緒になつて
低級アルキレンジオキシ基を表わすプレグナン誘導体に
変換することができる。
−9)においてX1及びX2が一緒になつてオキソ基を表
わすプレングナン誘導体を、例えば、ベンゼン、トルエ
ンなどの有機溶媒中でp−トルエンスルホン酸ピリジン
塩などの酸触媒の存在下に加熱還流下で2−ブタノン
(2,2−ジメチルトリメチレン)アセタールなどのケト
ンの低級アルキレンアセタールと反応させることによつ
て、それぞれ一般式(I−6)、(I−7)、(I−
8)又は(I−9)においてX1及びX2が一緒になつて
低級アルキレンジオキシ基を表わすプレグナン誘導体に
変換することができる。
なお、一般式(I−5)においてA6がβ−立体配置
にあるアシルオキシ基、低級アルコキシカルボニルオキ
シ基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ基、N−ア
リールカルバモイルオキシ基、N,N−ジ(低級アルキ
ル)カルバモイルオキシ基、三置換シリルオキシ基又は
置換基を有していてもよいアルコキシメトキシ基を表わ
し、D12がα−立体配置にあるアシルオキシ基、低級ア
ルコキシカルボニルオキシ基、N−低級アルキルカルバ
モイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、
N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオキシ基、三置
換シリルオキシ基又は置換基を有していてもよいアルコ
キシメトキシ基を表わし、かつX1及びX2が一緒になつ
てオキソ基を表わすプレグナン誘導体〔以下、これを化
合物(I−5′)と称することがある〕は、一般式(I
−8)においてA9が化合物(I−5′)が有する一般
式(I−5)中のA6と同じ基を表わし、D13が化合物
(I−5′)が有する一般(I−5)中のD12と同じ基
を表わし、かつX1及びX2が一緒になつてオキソ基を表
わすプレグナン誘導体〔以下、これを化合物(I−
8′)と称することがある〕又は一般式(I−9)にお
いてA10が化合物(I−5′)が有する一般式(I−
5)中のA6と同じ基を表わし、D14が化合物(I−
5′)が有する一般式(I−5)中のD12と同じ基を表
わし、D15がα−立体配置にあるアシルオキシ基、低級
アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級アルキルカル
バモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基
又はN,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオキシ基を
表わし、かつX1及びX2が一緒になつてオキソ基を表わ
すプレグナン誘導体〔以下、これを化合物(I−9′)
と称することがある〕から取得することもできる。すな
わち、化合物(I−5′)は、前記の化合物(I−8−
3)を化合物(I−5−3)に変換する方法において、
該化合物(I−8−3)の代りに化合物(I−8′)を
脱水反応に付すること以外は同様にして反応及び分離・
精製を行うことによつて取得され、また前記の化合物
(I−9−1a)又は化合物(I−9−1c)を化合物(I
−5−3)に変換する方法において、該化合物(I−9
−1a)又は化合物(I−9−1c)の代りに化合物(I−
9′)を共役ジエン形成反応に付すること以外は同様に
して反応及び分離・精製を行うことによつて取得され
る。
にあるアシルオキシ基、低級アルコキシカルボニルオキ
シ基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ基、N−ア
リールカルバモイルオキシ基、N,N−ジ(低級アルキ
ル)カルバモイルオキシ基、三置換シリルオキシ基又は
置換基を有していてもよいアルコキシメトキシ基を表わ
し、D12がα−立体配置にあるアシルオキシ基、低級ア
ルコキシカルボニルオキシ基、N−低級アルキルカルバ
モイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、
N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオキシ基、三置
換シリルオキシ基又は置換基を有していてもよいアルコ
キシメトキシ基を表わし、かつX1及びX2が一緒になつ
てオキソ基を表わすプレグナン誘導体〔以下、これを化
合物(I−5′)と称することがある〕は、一般式(I
−8)においてA9が化合物(I−5′)が有する一般
式(I−5)中のA6と同じ基を表わし、D13が化合物
(I−5′)が有する一般(I−5)中のD12と同じ基
を表わし、かつX1及びX2が一緒になつてオキソ基を表
わすプレグナン誘導体〔以下、これを化合物(I−
8′)と称することがある〕又は一般式(I−9)にお
いてA10が化合物(I−5′)が有する一般式(I−
5)中のA6と同じ基を表わし、D14が化合物(I−
5′)が有する一般式(I−5)中のD12と同じ基を表
わし、D15がα−立体配置にあるアシルオキシ基、低級
アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級アルキルカル
バモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基
又はN,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオキシ基を
表わし、かつX1及びX2が一緒になつてオキソ基を表わ
すプレグナン誘導体〔以下、これを化合物(I−9′)
と称することがある〕から取得することもできる。すな
わち、化合物(I−5′)は、前記の化合物(I−8−
3)を化合物(I−5−3)に変換する方法において、
該化合物(I−8−3)の代りに化合物(I−8′)を
脱水反応に付すること以外は同様にして反応及び分離・
精製を行うことによつて取得され、また前記の化合物
(I−9−1a)又は化合物(I−9−1c)を化合物(I
−5−3)に変換する方法において、該化合物(I−9
−1a)又は化合物(I−9−1c)の代りに化合物(I−
9′)を共役ジエン形成反応に付すること以外は同様に
して反応及び分離・精製を行うことによつて取得され
る。
式(I−5−2)で示される1α,3β−ジヒドロキシ
プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドは、例
えば次の方法により、1α−ヒドロキシビタミンD3に
誘導される。
プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドは、例
えば次の方法により、1α−ヒドロキシビタミンD3に
誘導される。
〔上記式中、THP、点線(……)、実線(−)及び波線
()は前記定義のとおりである。〕 式(I−5−2)で示される1α,3β−ジヒドロキシ
プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを塩化
メチレンなどの溶媒中でp−トルエンスルホン酸ピリジ
ン塩などの酸触媒の存在下に約0〜20℃の範囲内の温度
で3,4−ジヒドロ−2H−ピランと反応させることによっ
て式(VI)で示される化合物に変換する。式(VI)で示
される化合物をジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
などのエーテル系溶媒中で約−10p℃〜70℃の範囲内の
温度で臭化イソアミルマグネシウムと反応させることに
よつて式(VII)で示される化合物に変換する。式(VI
I)で示される化合物をピリジン、トリエチルアミンな
どの塩基性化合物の存在下に約0〜20℃の範囲内の温度
でメタンスルホニルクロリドと反応させることによつて
式(VIII)で示される化合物に変換する。なお、この反
応は塩化メチレンなどの溶媒中で行つてもよい。式(VI
II)で示される化合物をテトラヒドロフラン、1,2−ジ
メトキシエタンなどのエーテル系溶媒中で約20〜70℃の
範囲内の温度で水素化アルミニウムリチウムと反応させ
ることによつて式(IX)で示される化合物に誘導する。
式(IX)で示される化合物を塩酸、p−トルエンスルホ
ン酸ピリジン塩などの酸触媒の存在下に約10〜60℃の範
囲内の温度で水又はメタノール、エタノールなどの低級
アルコールと反応させることによつて式(X)で示され
る化合物に変換する。次いで、式(X)で示される化合
物を、これに例えば特開昭52-108964号公報に記載され
ている公知の方法に従つて紫外線を照射し、その生成物
を異性化することによつて式(XI)で示される1α−ヒ
ドロキシビタミンD3に誘導する。
()は前記定義のとおりである。〕 式(I−5−2)で示される1α,3β−ジヒドロキシ
プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを塩化
メチレンなどの溶媒中でp−トルエンスルホン酸ピリジ
ン塩などの酸触媒の存在下に約0〜20℃の範囲内の温度
で3,4−ジヒドロ−2H−ピランと反応させることによっ
て式(VI)で示される化合物に変換する。式(VI)で示
される化合物をジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
などのエーテル系溶媒中で約−10p℃〜70℃の範囲内の
温度で臭化イソアミルマグネシウムと反応させることに
よつて式(VII)で示される化合物に変換する。式(VI
I)で示される化合物をピリジン、トリエチルアミンな
どの塩基性化合物の存在下に約0〜20℃の範囲内の温度
でメタンスルホニルクロリドと反応させることによつて
式(VIII)で示される化合物に変換する。なお、この反
応は塩化メチレンなどの溶媒中で行つてもよい。式(VI
II)で示される化合物をテトラヒドロフラン、1,2−ジ
メトキシエタンなどのエーテル系溶媒中で約20〜70℃の
範囲内の温度で水素化アルミニウムリチウムと反応させ
ることによつて式(IX)で示される化合物に誘導する。
式(IX)で示される化合物を塩酸、p−トルエンスルホ
ン酸ピリジン塩などの酸触媒の存在下に約10〜60℃の範
囲内の温度で水又はメタノール、エタノールなどの低級
アルコールと反応させることによつて式(X)で示され
る化合物に変換する。次いで、式(X)で示される化合
物を、これに例えば特開昭52-108964号公報に記載され
ている公知の方法に従つて紫外線を照射し、その生成物
を異性化することによつて式(XI)で示される1α−ヒ
ドロキシビタミンD3に誘導する。
発明を実施するための最良の形態 以下に本発明を実施例により具体的に説明する。な
お、本発明はこれらの実施例により限定されるものでは
ない。
お、本発明はこれらの実施例により限定されるものでは
ない。
実施例1 アルカリゲネス・フエカリスD4020-K15歯株(微工研
条寄第204号)を次に示す方法で培養した。ケノデオキ
シコール酸2.0g、グルコース0.05g、硝酸アンモニウム
0.2g、燐酸2水素カリウム0.1g、燐酸水素2カリウム0.
6g、硫酸マグネシウム・7水和物0.05g、酵母エキス0.0
5g、ペプトン0.05g及び水酸化ナトリウム0.2gに水道水
を加えて容量を100ml(pH7.5)に調整し、これを培地と
した。この培地を500ml容坂口フラスコに入れ、120℃で
15分間、蒸気殺菌を行つた。予め上記の培地と同じ培地
で試験管振盪機にて1夜増殖させた種菌の5mlを上記500
ml容坂口フラスコに添加し、30℃で2日間振盪培養し
た。培養後、この培養液に1規定の水酸化ナトリウム水
溶液を加えることによつてpHを9.0に調整したのち、遠
心分離機で培養中に生じた沈殿物及び菌体を培養液上清
と分離した。取得された沈殿物及び菌体を酢酸エチル50
0mlと混合し、この混合物を遠心分離することにより酢
酸エチル層を菌体と分離した。得られた酢酸エチル層を
無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、これから酢酸エチルを
減圧下に留去することにより、7α−ヒドロキシプレグ
ナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒドを
1.4g得た。
条寄第204号)を次に示す方法で培養した。ケノデオキ
シコール酸2.0g、グルコース0.05g、硝酸アンモニウム
0.2g、燐酸2水素カリウム0.1g、燐酸水素2カリウム0.
6g、硫酸マグネシウム・7水和物0.05g、酵母エキス0.0
5g、ペプトン0.05g及び水酸化ナトリウム0.2gに水道水
を加えて容量を100ml(pH7.5)に調整し、これを培地と
した。この培地を500ml容坂口フラスコに入れ、120℃で
15分間、蒸気殺菌を行つた。予め上記の培地と同じ培地
で試験管振盪機にて1夜増殖させた種菌の5mlを上記500
ml容坂口フラスコに添加し、30℃で2日間振盪培養し
た。培養後、この培養液に1規定の水酸化ナトリウム水
溶液を加えることによつてpHを9.0に調整したのち、遠
心分離機で培養中に生じた沈殿物及び菌体を培養液上清
と分離した。取得された沈殿物及び菌体を酢酸エチル50
0mlと混合し、この混合物を遠心分離することにより酢
酸エチル層を菌体と分離した。得られた酢酸エチル層を
無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、これから酢酸エチルを
減圧下に留去することにより、7α−ヒドロキシプレグ
ナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒドを
1.4g得た。
得られた7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−
3−オン−20−カルブアルデヒドの一部を取り、これに
メタノールを加えて1%溶液とし、この溶液25μlをミ
クロボンダパツクC−18カラムを備えた高速液体クロマ
トグラフイー(米国ウオーターズ社製、HLC-GPC-244
型)に注入した。移動相としてpH4.0に調整した水/メ
タノールの25/75容量比の混合液を流速1ml/分で流し、
検出を屈折率方式で行つた。得られた液体クロマトグラ
ムにおける各ピークの面積比を積分計(島津製作所製、
島津クロマトパツクC−R3A)で求め、この面積比から
上記の7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−
オン−20−カルブアルデヒドの純度を求めたところ96.6
%であつた。
3−オン−20−カルブアルデヒドの一部を取り、これに
メタノールを加えて1%溶液とし、この溶液25μlをミ
クロボンダパツクC−18カラムを備えた高速液体クロマ
トグラフイー(米国ウオーターズ社製、HLC-GPC-244
型)に注入した。移動相としてpH4.0に調整した水/メ
タノールの25/75容量比の混合液を流速1ml/分で流し、
検出を屈折率方式で行つた。得られた液体クロマトグラ
ムにおける各ピークの面積比を積分計(島津製作所製、
島津クロマトパツクC−R3A)で求め、この面積比から
上記の7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−
オン−20−カルブアルデヒドの純度を求めたところ96.6
%であつた。
7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オン
−20−カルブアルデヒドの確認を下記の方法で行つた。
−20−カルブアルデヒドの確認を下記の方法で行つた。
Massスペクトル(m/e):342〔M〕+,324〔M−H2O〕+ 実施例2 実施例1においてケノデオキシコール酸の使用量を2.
0gから1.0gに変更し、かつ水酸化ナトリウムの使用量を
0.2gから0.1gに変更し、また培養時間を2日間から1日
間に変更した以外は実施例1と同様にして培養を行つ
た。得られた培養液に1規定の水酸化ナトリウム水溶を
加えることによつてpHを9.0に調整したのち、遠心分離
機で培養中に生じた沈殿物及び菌体を培養液上清と分離
した。取得された沈殿物及び菌体を水50mlと混合し、こ
の混合物を遠心分離することにより不溶物を水層と分離
した。この不溶物をメタノール200mlと混合し、この混
合物を遠心分離することによりメタノール層を菌体と分
離した。このメタノール層に水10mlを加え、混合液から
メタノールを減圧下に留去した。生じた沈殿物を残渣か
ら濾別し乾燥することにより、7α−ヒドロキシプレグ
ナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒドを
0.77g得た。このものを高速液体クロマトグラフイーで
分析した結果、その純度は95.1%であることが判明し
た。
0gから1.0gに変更し、かつ水酸化ナトリウムの使用量を
0.2gから0.1gに変更し、また培養時間を2日間から1日
間に変更した以外は実施例1と同様にして培養を行つ
た。得られた培養液に1規定の水酸化ナトリウム水溶を
加えることによつてpHを9.0に調整したのち、遠心分離
機で培養中に生じた沈殿物及び菌体を培養液上清と分離
した。取得された沈殿物及び菌体を水50mlと混合し、こ
の混合物を遠心分離することにより不溶物を水層と分離
した。この不溶物をメタノール200mlと混合し、この混
合物を遠心分離することによりメタノール層を菌体と分
離した。このメタノール層に水10mlを加え、混合液から
メタノールを減圧下に留去した。生じた沈殿物を残渣か
ら濾別し乾燥することにより、7α−ヒドロキシプレグ
ナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒドを
0.77g得た。このものを高速液体クロマトグラフイーで
分析した結果、その純度は95.1%であることが判明し
た。
また上記で得られた7α−ヒドロキシプレグナ−1,4
−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒドにメタノー
ルを10ml加え、この混合物を加温することによつて均一
に溶解させ、これに温水を7ml加えたのち室温まで冷却
することによつて、純度98%の精製物を結晶として0.62
g得た。
−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒドにメタノー
ルを10ml加え、この混合物を加温することによつて均一
に溶解させ、これに温水を7ml加えたのち室温まで冷却
することによつて、純度98%の精製物を結晶として0.62
g得た。
実施例3 7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オン
−20−カルブアルデヒド5.00g(14.6ミリモル)及び2,2
−ジメチル−1,3−プロパンジオール4.56g(43.8ミリモ
ル)をベンゼン200mlに溶解し、この溶液にp−トルエ
ンスルホン酸100mgを加えたのち、デイーン・スターク
(Dean-Stark)の装置を用いて生成する水を反応系外に
除去しながら5時間加熱還流した。反応混合物を室温ま
で冷却し、重曹水で洗滌した。水層をエーテル/ヘキサ
ンの70/30容量比の混合液で抽出し、その抽出液を有機
層と合した。この混合液を食塩水で洗滌し、硫酸マグネ
シウム上で乾燥させたのち、これより溶媒を減圧下に留
去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフイー
(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/10容量比の混合
液)で精製することによつて、20−(5,5−ジメチル−
1,3−ジオキサン−2−イル)プレグナ−1,4,6−トリエ
ン−3−オンを5.53g得た(収率:92%)。
−20−カルブアルデヒド5.00g(14.6ミリモル)及び2,2
−ジメチル−1,3−プロパンジオール4.56g(43.8ミリモ
ル)をベンゼン200mlに溶解し、この溶液にp−トルエ
ンスルホン酸100mgを加えたのち、デイーン・スターク
(Dean-Stark)の装置を用いて生成する水を反応系外に
除去しながら5時間加熱還流した。反応混合物を室温ま
で冷却し、重曹水で洗滌した。水層をエーテル/ヘキサ
ンの70/30容量比の混合液で抽出し、その抽出液を有機
層と合した。この混合液を食塩水で洗滌し、硫酸マグネ
シウム上で乾燥させたのち、これより溶媒を減圧下に留
去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフイー
(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/10容量比の混合
液)で精製することによつて、20−(5,5−ジメチル−
1,3−ジオキサン−2−イル)プレグナ−1,4,6−トリエ
ン−3−オンを5.53g得た(収率:92%)。
IRスペクトル(KBr):2940,2860,1655,1605,1100cm-1 実施例4 7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オン
−20−カルブアルデヒド5.00g(14.6ミリモル)及び2,2
−ジメチル−1,3−プロパンジオール4.56g(43.8ミリモ
ル)を塩化メチレン200mlに溶解し、この溶液にp−ト
ルエンスルホン酸100mg及びモレキユラーシーブ4A1/162
0gを加えたのち、室温下で12時間ゆるやかに攪拌した。
得られた反応混合物からモレキユラーシーブを濾別し、
濾液より溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲルク
ロマトグラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの
1/10容量比の混合液)で精製することによつて、20−
(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−7α
−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オンを3.14g
得た(収率:50%)。
−20−カルブアルデヒド5.00g(14.6ミリモル)及び2,2
−ジメチル−1,3−プロパンジオール4.56g(43.8ミリモ
ル)を塩化メチレン200mlに溶解し、この溶液にp−ト
ルエンスルホン酸100mg及びモレキユラーシーブ4A1/162
0gを加えたのち、室温下で12時間ゆるやかに攪拌した。
得られた反応混合物からモレキユラーシーブを濾別し、
濾液より溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲルク
ロマトグラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの
1/10容量比の混合液)で精製することによつて、20−
(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−7α
−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オンを3.14g
得た(収率:50%)。
実施例5 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オン
3.00g(6.98ミリモル)とベンゼン200mlとの溶液にp−
トルエンスルホン酸50mgを加えたのち、デイーン・スタ
ークの装置を用いて生成する水を反応系外に除去しなが
ら5時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却し、
重曹水で洗滌した。水層をエーテルで抽出し、その抽出
液を有機層と合した。この混合液を食塩水で洗滌し、硫
酸マグネシウム上で乾燥させたのち、これより溶媒を減
圧下に留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/10容量
比の混合液)で精製することによつて、20−(5,5−ジ
メチル−1,3−ジオキサン−2−イル)プレグナ−1,4,6
−トリエン−3−オンを2.58g得た(収率:90%)。この
ものの1H-NMRスペクトルは実施例3で得られた20−(5,
5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)プレグナ−
1,4,6−トリエン−3−オンの1H-NMRスペクトルと一致
した。
−7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−3−オン
3.00g(6.98ミリモル)とベンゼン200mlとの溶液にp−
トルエンスルホン酸50mgを加えたのち、デイーン・スタ
ークの装置を用いて生成する水を反応系外に除去しなが
ら5時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却し、
重曹水で洗滌した。水層をエーテルで抽出し、その抽出
液を有機層と合した。この混合液を食塩水で洗滌し、硫
酸マグネシウム上で乾燥させたのち、これより溶媒を減
圧下に留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/10容量
比の混合液)で精製することによつて、20−(5,5−ジ
メチル−1,3−ジオキサン−2−イル)プレグナ−1,4,6
−トリエン−3−オンを2.58g得た(収率:90%)。この
ものの1H-NMRスペクトルは実施例3で得られた20−(5,
5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)プレグナ−
1,4,6−トリエン−3−オンの1H-NMRスペクトルと一致
した。
実施例6 10重量%の水酸化ナトリウムのメタノール(1.16ml)
溶液及び30重量%の過酸化水素水6.36ml(過酸化水素を
62.3ミリモル含有する)を20−(5,5−ジメチル−1,3−
ジオキサン−2−イル)プレグナ−1,4,6−トリエン−
3−オン4.66g(11.3ミリモル)とメタノール150mlとの
溶液に加え、この溶液を室温下で16時間攪拌した。反応
混合物を水で希釈し、これよりメタノールの一部を室温
下で減圧下に留去し、残渣をエーテルで抽出した。抽出
液をヨウ化カリウム水溶液及び食塩水で順次洗滌し、得
られた有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥させたのち、
これより溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲルク
ロマトグラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの
1/10容量比の混合液)で精製することによつて、20−
(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1
α,2α−エポキシプレグナ−4,6−ジエン−3−オンを
3.72g得た(収率:77%)。
溶液及び30重量%の過酸化水素水6.36ml(過酸化水素を
62.3ミリモル含有する)を20−(5,5−ジメチル−1,3−
ジオキサン−2−イル)プレグナ−1,4,6−トリエン−
3−オン4.66g(11.3ミリモル)とメタノール150mlとの
溶液に加え、この溶液を室温下で16時間攪拌した。反応
混合物を水で希釈し、これよりメタノールの一部を室温
下で減圧下に留去し、残渣をエーテルで抽出した。抽出
液をヨウ化カリウム水溶液及び食塩水で順次洗滌し、得
られた有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥させたのち、
これより溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲルク
ロマトグラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの
1/10容量比の混合液)で精製することによつて、20−
(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1
α,2α−エポキシプレグナ−4,6−ジエン−3−オンを
3.72g得た(収率:77%)。
IRスペクトル(KBr):2940,2860,1670,1615,1105cm-1 実施例7 m−クロロ過安息香酸0.664g(3.85ミリモル)とクロ
ロホルム50mlとの溶液を20−(5,5−ジメチル−1,3−ジ
オキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−
4,6−ジエン−3−オン0.328g(0.769ミリモル)とクロ
ロホルム10mlとの溶液と混合し、この混合物を室温下で
3日間攪拌した。得られた反応混合物を濾過し、析出物
をクロロホルムで洗滌した。濾液と洗滌液とを合し、こ
れをクロロホルムで希釈したのち、ヨウ化カリウム水溶
液及び食塩水で順次洗滌した。有機層を硫酸マグネシウ
ム上で乾燥させ、これより溶媒を減圧下に留去した。残
渣をシリカゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:酢酸エ
チル/ヘキサンの1/10容量比の混合液)で精製すること
によつて、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2
−イル)−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレグン−4
−エン−3−オンを0.258g得た(収率:76%)。
ロホルム50mlとの溶液を20−(5,5−ジメチル−1,3−ジ
オキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−
4,6−ジエン−3−オン0.328g(0.769ミリモル)とクロ
ロホルム10mlとの溶液と混合し、この混合物を室温下で
3日間攪拌した。得られた反応混合物を濾過し、析出物
をクロロホルムで洗滌した。濾液と洗滌液とを合し、こ
れをクロロホルムで希釈したのち、ヨウ化カリウム水溶
液及び食塩水で順次洗滌した。有機層を硫酸マグネシウ
ム上で乾燥させ、これより溶媒を減圧下に留去した。残
渣をシリカゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:酢酸エ
チル/ヘキサンの1/10容量比の混合液)で精製すること
によつて、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2
−イル)−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレグン−4
−エン−3−オンを0.258g得た(収率:76%)。
IRスペクトル(KBr):2900,1680,1150,1105,870cm-1 実施例8 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α−エポキシプレグナ−4,6−ジエン−3−オ
ン0.43g(1.0ミリモル)と塩化メチレン10mlとの溶液
に、氷水浴により冷却しながら攪拌下で0.5モル/lの重
曹水を3ml加え、次いでm−クロロ過安息香酸を0.34g
(2.0ミリモル)徐々に加えた。この混合物を室温下で
2日間攪拌した。得られた反応混合物を分液し、水層を
塩化メチレンを10mlずつ用いて2回抽出した。抽出液を
先に得られた有機層と合し、これをヨウ化カリウム水溶
液及び食塩水で順次洗滌し、硫酸マグネシウム上で乾燥
させたのち、これより溶媒を減圧下に留去した。残渣を
シリカゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:酢酸エチル
/ヘキサンの1/10容量比の混合液)で精製することによ
つて20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレグン−4−エ
ン−3−オンを0.35g得た(収率:79%)。このものの1H
-NMRスペクトル及びIRスペクトルは実施例7で得られた
20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−
1α,2α;6α,7α−ジエキシペレグン−4−エン−3−
オンの1H-NMRスペクトル及びIRスペクトルと一致した。
−1α,2α−エポキシプレグナ−4,6−ジエン−3−オ
ン0.43g(1.0ミリモル)と塩化メチレン10mlとの溶液
に、氷水浴により冷却しながら攪拌下で0.5モル/lの重
曹水を3ml加え、次いでm−クロロ過安息香酸を0.34g
(2.0ミリモル)徐々に加えた。この混合物を室温下で
2日間攪拌した。得られた反応混合物を分液し、水層を
塩化メチレンを10mlずつ用いて2回抽出した。抽出液を
先に得られた有機層と合し、これをヨウ化カリウム水溶
液及び食塩水で順次洗滌し、硫酸マグネシウム上で乾燥
させたのち、これより溶媒を減圧下に留去した。残渣を
シリカゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:酢酸エチル
/ヘキサンの1/10容量比の混合液)で精製することによ
つて20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレグン−4−エ
ン−3−オンを0.35g得た(収率:79%)。このものの1H
-NMRスペクトル及びIRスペクトルは実施例7で得られた
20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−
1α,2α;6α,7α−ジエキシペレグン−4−エン−3−
オンの1H-NMRスペクトル及びIRスペクトルと一致した。
実施例9 水素化ホウ素ナトリウム9mg(0.237ミリモル)を0℃
の温度で20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−
イル)−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレグン−4−
エン−3−オン0.105g(0.237ミリモル)とエタノール6
mlとの溶液に加え、この混合物を0℃の温度で30分間攪
拌した。反応混合物に水及び冷却した1規定の塩酸を順
次加えたのち、この混合物を塩化メチレンで抽出した。
得られた水層を塩化メチレンで抽出し、この抽出液を先
の塩化メチレン抽出における抽出液と合した。この混合
液を冷却した飽和重曹水及び食塩水で順次洗滌し、有機
層を硫酸マグネシウム上で乾燥させたのち、これより溶
媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラ
フイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/10容量比
の混合液)で精製することによつて20−(5,5−ジメチ
ル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α;6α,7α
−ジエポキシプレグン−4−エン−3β−オールを0.08
4g得た(収率:80%)。
の温度で20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−
イル)−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレグン−4−
エン−3−オン0.105g(0.237ミリモル)とエタノール6
mlとの溶液に加え、この混合物を0℃の温度で30分間攪
拌した。反応混合物に水及び冷却した1規定の塩酸を順
次加えたのち、この混合物を塩化メチレンで抽出した。
得られた水層を塩化メチレンで抽出し、この抽出液を先
の塩化メチレン抽出における抽出液と合した。この混合
液を冷却した飽和重曹水及び食塩水で順次洗滌し、有機
層を硫酸マグネシウム上で乾燥させたのち、これより溶
媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラ
フイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/10容量比
の混合液)で精製することによつて20−(5,5−ジメチ
ル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α;6α,7α
−ジエポキシプレグン−4−エン−3β−オールを0.08
4g得た(収率:80%)。
IRスペクトル(CHCl3):3400,2940,1105cm-1 実施例10 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレグン−4−エン−
3β−オール0.084g(0.189ミリモル)、乾燥させたピ
リジン0.5ml(6.18ミリモル)及び塩化メチレン5mlから
なる溶液に無水酢酸0.1ml(1.06ミリモル)を0℃の温
度で徐々に滴下し、この溶液を室温下で8時間攪拌し
た。反応混合物を塩化メチレンで希釈し、飽和硫酸銅
(II)水溶液で洗滌した。得られた水層(洗滌液)を塩
化メチレンで抽出し、この抽出液を先に得られた有機層
と合した。この混合液を水及び食塩水で順次洗滌し、硫
酸マグネシウム上で乾燥させたのち、これより溶媒を減
圧下に留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフイー
(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/10容量比の混合
液)で精製することによつて、20−(5,5−ジメチル−
1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α;6α,7α−ジ
エポキシプレグン−4−エン−3β−イルアセタートを
0.083g得た(収率:90%)。
−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレグン−4−エン−
3β−オール0.084g(0.189ミリモル)、乾燥させたピ
リジン0.5ml(6.18ミリモル)及び塩化メチレン5mlから
なる溶液に無水酢酸0.1ml(1.06ミリモル)を0℃の温
度で徐々に滴下し、この溶液を室温下で8時間攪拌し
た。反応混合物を塩化メチレンで希釈し、飽和硫酸銅
(II)水溶液で洗滌した。得られた水層(洗滌液)を塩
化メチレンで抽出し、この抽出液を先に得られた有機層
と合した。この混合液を水及び食塩水で順次洗滌し、硫
酸マグネシウム上で乾燥させたのち、これより溶媒を減
圧下に留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフイー
(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/10容量比の混合
液)で精製することによつて、20−(5,5−ジメチル−
1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α;6α,7α−ジ
エポキシプレグン−4−エン−3β−イルアセタートを
0.083g得た(収率:90%)。
実施例11 トリス(ジベンジリデンアセトン)2パラジウム(ク
ロロホルム)11.6mg(0.0112ミリモル)、トリブチルホ
スフイン22.4μl(0.0898ミリモル)及び乾燥させたテ
トラヒドロフラン2mlからなる混合物をアルゴン雰囲気
中、室温下で10分間攪拌したのち、この混合物にギ酸ア
ンモニウム14.2mg(0.224ミリモル)を加え、これを30
分間攪拌した。この混合物に、20−(5,5−ジメチル−
1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α;6α,7α−ジ
エポキシプレグン−4−エン−3β−イルアセタート2
7.3mg(0.0561ミリモル)と乾燥させたテトラヒドロフ
ラン2mlとの溶液を加え、これを10分間加熱還流した。
反応混合物を室温まで冷却したのち、塩化メチレンで希
釈し、冷却した1規定の塩酸で洗滌した。得られた水層
(洗滌液)を塩化メチレンで抽出し、この抽出液を先に
得られた有機層と合した。この混合液を冷却した飽和重
曹水及び食塩水で順次洗滌し、硫酸マグネシウム上で乾
燥させたのち、これより溶媒を減圧下に留去した。残渣
をシリカゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:酢酸エチ
ル/ヘキサンの1/5容量比の混合液)で精製することに
よつて、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−
イル)−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグ
ン−5−エン−3β−イルアセタートを11.0mg得た(収
率:40%)。また副生物として、20−(5,5−ジメチル−
1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−
7α−ヒドロキシプレグン−4−エン−3β−イルアセ
タートを11.8mg得た(収率:43%)。
ロロホルム)11.6mg(0.0112ミリモル)、トリブチルホ
スフイン22.4μl(0.0898ミリモル)及び乾燥させたテ
トラヒドロフラン2mlからなる混合物をアルゴン雰囲気
中、室温下で10分間攪拌したのち、この混合物にギ酸ア
ンモニウム14.2mg(0.224ミリモル)を加え、これを30
分間攪拌した。この混合物に、20−(5,5−ジメチル−
1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α;6α,7α−ジ
エポキシプレグン−4−エン−3β−イルアセタート2
7.3mg(0.0561ミリモル)と乾燥させたテトラヒドロフ
ラン2mlとの溶液を加え、これを10分間加熱還流した。
反応混合物を室温まで冷却したのち、塩化メチレンで希
釈し、冷却した1規定の塩酸で洗滌した。得られた水層
(洗滌液)を塩化メチレンで抽出し、この抽出液を先に
得られた有機層と合した。この混合液を冷却した飽和重
曹水及び食塩水で順次洗滌し、硫酸マグネシウム上で乾
燥させたのち、これより溶媒を減圧下に留去した。残渣
をシリカゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:酢酸エチ
ル/ヘキサンの1/5容量比の混合液)で精製することに
よつて、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−
イル)−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグ
ン−5−エン−3β−イルアセタートを11.0mg得た(収
率:40%)。また副生物として、20−(5,5−ジメチル−
1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−
7α−ヒドロキシプレグン−4−エン−3β−イルアセ
タートを11.8mg得た(収率:43%)。
20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−
1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−5−
エン−3β−イルアセタートの分析結果 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−
1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−4−
エン−3β−イルアセタートの分析結果 IRスペクトル(CHCl3):2940,1730,1240,1105cm-1 実施例12 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−5
−エン−3β−イルアセタート49.0mg(0.1ミリモ
ル)、ピリジン0.24ml(3ミリモル)及び乾燥させた塩
化メチレン10mlからなる溶液にクロロ炭酸メチル0.1ml
(1.3ミリモル)を0℃の温度で滴下したのち、この溶
液を室温下で8時間攪拌した。反応混合物を冷却した1
規定の塩酸で洗滌し、水層(洗滌液)を塩化メチレンで
抽出したのち、この抽出液を先に得られた有機層と合し
た。この混合液を水、重曹水及び食塩水で順次洗滌し、
硫酸マグネシウム上で乾燥させたのち、これより溶媒を
減圧下に留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフイ
ー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/10の容量比の
混合液)で精製することによつて、20−(5,5−ジメチ
ル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポキ
シ−7α−メトキシカルボニルオキシプレグン−5−エ
ン−3β−イルアセタートを43.7mg得た(収率:80
%)。
1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−5−
エン−3β−イルアセタートの分析結果 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−
1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−4−
エン−3β−イルアセタートの分析結果 IRスペクトル(CHCl3):2940,1730,1240,1105cm-1 実施例12 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−5
−エン−3β−イルアセタート49.0mg(0.1ミリモ
ル)、ピリジン0.24ml(3ミリモル)及び乾燥させた塩
化メチレン10mlからなる溶液にクロロ炭酸メチル0.1ml
(1.3ミリモル)を0℃の温度で滴下したのち、この溶
液を室温下で8時間攪拌した。反応混合物を冷却した1
規定の塩酸で洗滌し、水層(洗滌液)を塩化メチレンで
抽出したのち、この抽出液を先に得られた有機層と合し
た。この混合液を水、重曹水及び食塩水で順次洗滌し、
硫酸マグネシウム上で乾燥させたのち、これより溶媒を
減圧下に留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフイ
ー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/10の容量比の
混合液)で精製することによつて、20−(5,5−ジメチ
ル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポキ
シ−7α−メトキシカルボニルオキシプレグン−5−エ
ン−3β−イルアセタートを43.7mg得た(収率:80
%)。
実施例13 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−5
−エン−3β−イルアセタート49.0mg(0.1ミリモ
ル)、ピリジン0.24ml(3ミリモル)、4−(ジメチル
アミノ)ピリジン0.5mg(0.004ミリモル)及び乾燥させ
た塩化メチレン10mlからなる溶液に無水酢酸0.12ml(1.
3ミリモル)を0℃の温度で滴下したのち、この溶液を
室温下で10時間攪拌した。反応混合物を塩化メチレン20
mlで希釈し、冷却した1規定の塩酸で洗滌した。水層
(洗滌液)を塩化メチレンで抽出し、この抽出液を先に
得られた有機層と合した。この混合液を水、重曹水及び
食塩水で順次洗滌し、硫酸マグネシウム上で乾燥させた
のち、これより溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキ
サンの1/10容量比の混合液)で精製することによつて、
7α−アセトキシ−20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグン−5−
エン−3β−イルアセタートを45mg得た(収率:85
%)。
−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−5
−エン−3β−イルアセタート49.0mg(0.1ミリモ
ル)、ピリジン0.24ml(3ミリモル)、4−(ジメチル
アミノ)ピリジン0.5mg(0.004ミリモル)及び乾燥させ
た塩化メチレン10mlからなる溶液に無水酢酸0.12ml(1.
3ミリモル)を0℃の温度で滴下したのち、この溶液を
室温下で10時間攪拌した。反応混合物を塩化メチレン20
mlで希釈し、冷却した1規定の塩酸で洗滌した。水層
(洗滌液)を塩化メチレンで抽出し、この抽出液を先に
得られた有機層と合した。この混合液を水、重曹水及び
食塩水で順次洗滌し、硫酸マグネシウム上で乾燥させた
のち、これより溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキ
サンの1/10容量比の混合液)で精製することによつて、
7α−アセトキシ−20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグン−5−
エン−3β−イルアセタートを45mg得た(収率:85
%)。
実施例14 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−5
−エン−3β−イルアセタート49.0mg(0.1ミリモ
ル)、ピリジン0.24ml(3ミリモル)、4−(ジメチル
アミノ)ピリジン0.5mg(0.004ミリモル)、塩化N,N−
ジメチルカルバモイル0.12ml(1.3ミリモル)及び乾燥
させたトリエン10mlからなる溶液を60℃の温度10時間攪
拌した。反応混合物を室温まで冷却し、塩化メチレン50
mlで希釈し、水で3回洗滌したのちさらに食塩水で洗滌
した。得られた有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥させ
たのち、これより溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリ
カゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘ
キサンの1/10容量比の混合液)で精製することによつ
て、7α−(N,N−ジメチルカルバモイルオキシ)−20
−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1
α,2α−エポキシプレグン−5−エン−3β−イルアセ
タートを37mg得た(収率:70%)。
−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−5
−エン−3β−イルアセタート49.0mg(0.1ミリモ
ル)、ピリジン0.24ml(3ミリモル)、4−(ジメチル
アミノ)ピリジン0.5mg(0.004ミリモル)、塩化N,N−
ジメチルカルバモイル0.12ml(1.3ミリモル)及び乾燥
させたトリエン10mlからなる溶液を60℃の温度10時間攪
拌した。反応混合物を室温まで冷却し、塩化メチレン50
mlで希釈し、水で3回洗滌したのちさらに食塩水で洗滌
した。得られた有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥させ
たのち、これより溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリ
カゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘ
キサンの1/10容量比の混合液)で精製することによつ
て、7α−(N,N−ジメチルカルバモイルオキシ)−20
−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1
α,2α−エポキシプレグン−5−エン−3β−イルアセ
タートを37mg得た(収率:70%)。
実施例15 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−5
−エン−3β−イルアセタート49.0mg(0.1ミリモル)
をトルエン5mlに溶解し、これにピリジンを1滴加えた
のち、0℃の温度でメチルイソシアナート0.1ml(1.7ミ
リモル)を滴下し、この溶液を60℃の温度で30分間攪拌
した。得られた反応混合物を室温まで冷却し、氷水中に
注ぎ、塩化メチレンを20mlずつ用いて3回抽出した。抽
出液を合し、これを水及び食塩水で順次洗滌したのち、
硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次いでこれより減圧下
に溶媒を留去した。この残渣をシリカゲルクロマトグラ
フイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/10容量比
の混合液)で精製することによつて、20−(5,5−ジメ
チル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポ
キシ−7α−(N−メチルカルバモイルオキシ)プレグ
ン−5−エン−3β−イルアセタートを35mg得た(収
率:65%)。
−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−5
−エン−3β−イルアセタート49.0mg(0.1ミリモル)
をトルエン5mlに溶解し、これにピリジンを1滴加えた
のち、0℃の温度でメチルイソシアナート0.1ml(1.7ミ
リモル)を滴下し、この溶液を60℃の温度で30分間攪拌
した。得られた反応混合物を室温まで冷却し、氷水中に
注ぎ、塩化メチレンを20mlずつ用いて3回抽出した。抽
出液を合し、これを水及び食塩水で順次洗滌したのち、
硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次いでこれより減圧下
に溶媒を留去した。この残渣をシリカゲルクロマトグラ
フイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/10容量比
の混合液)で精製することによつて、20−(5,5−ジメ
チル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポ
キシ−7α−(N−メチルカルバモイルオキシ)プレグ
ン−5−エン−3β−イルアセタートを35mg得た(収
率:65%)。
実施例16 実施例15においてメチルイソシアナート0.1mlの代り
にフエニルイソシアナート0.14ml(1.3ミリモル)を用
いる以外は実施例15と同様の操作を行うことによつて、
20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−
1α,2α−エポキシ−7α−(N−フエニルカルバモイ
ルオキシ)プレグン−5−エン−3β−イルアセタート
を43mg得た(収率:71%)。
にフエニルイソシアナート0.14ml(1.3ミリモル)を用
いる以外は実施例15と同様の操作を行うことによつて、
20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−
1α,2α−エポキシ−7α−(N−フエニルカルバモイ
ルオキシ)プレグン−5−エン−3β−イルアセタート
を43mg得た(収率:71%)。
実施例17 トリス(ジベンジリデンアセトン)2パラジウム(ク
ロロホルム10.3mg(0.00997ミリモル)、トリブチルホ
スフイン19.9μl)0.0798ミリモル)及び乾燥させた1,
4−ジオキサン5mlからなる混合物をアルゴン雰囲気中、
室温下で10分間攪拌した。この混合物に、20−(5,5−
ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−
エポキシ−7α−メトキシカルボニルオキシプレグン−
5−エン−3β−イルアセタート43.6mg(0.0798ミリモ
ル)と乾燥させた1,4−ジオキサン2mlとの溶液を加え、
これを8時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却
し、上部にフロリジルを充填したガラスフイルターを用
いて濾過した。濾液を減圧下に濃縮し、その濃縮物をシ
リカゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:エーテル/ヘ
キサンの1/10容量比の混合液)で精製することによつ
て、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3
β−イルアセタートを17.4mg得た。また出発物質である
20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−
1α,2α−エポキシ−7α−メトキシカルボニルオキシ
プレグン−5−エン−3β−イルアセタートを15.3mg回
収した。20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−
イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−
3β−イルアセタートの収率は、消費された20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α
−エポキシ−7α−メトキシカルボニルオキシプレグン
−5−エン−3β−イルアセタート基準で71%である。
ロロホルム10.3mg(0.00997ミリモル)、トリブチルホ
スフイン19.9μl)0.0798ミリモル)及び乾燥させた1,
4−ジオキサン5mlからなる混合物をアルゴン雰囲気中、
室温下で10分間攪拌した。この混合物に、20−(5,5−
ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−
エポキシ−7α−メトキシカルボニルオキシプレグン−
5−エン−3β−イルアセタート43.6mg(0.0798ミリモ
ル)と乾燥させた1,4−ジオキサン2mlとの溶液を加え、
これを8時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却
し、上部にフロリジルを充填したガラスフイルターを用
いて濾過した。濾液を減圧下に濃縮し、その濃縮物をシ
リカゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:エーテル/ヘ
キサンの1/10容量比の混合液)で精製することによつ
て、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3
β−イルアセタートを17.4mg得た。また出発物質である
20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−
1α,2α−エポキシ−7α−メトキシカルボニルオキシ
プレグン−5−エン−3β−イルアセタートを15.3mg回
収した。20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−
イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−
3β−イルアセタートの収率は、消費された20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α
−エポキシ−7α−メトキシカルボニルオキシプレグン
−5−エン−3β−イルアセタート基準で71%である。
実施例18 実施例17において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−メトキ
シカルボニルオキシプレグン−5−エン−3β−イルア
セタート43.6mgの代りに7α−アセトキシ−20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α
−エポキシプレグン−5−エン−3β−イル−アセター
ト42.3mg(0.0798ミリモル)を用いる以外は実施例17と
同様の操作を行うことによつて、20−(5,5−ジメチル
−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシ
プレグナ−5,7−ジエン−3β−イルアセタートを17.6m
g得た。また7α−アセトキシ−20−(5,5ジメチル−1,
3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシブレ
グン−5−エン−3β−イルアセタートを14.0mg回収し
た。20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3
β−イルアセタートの収率は、消費された7α−アセト
キシ−20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1α,2α−エポキシプレグン−5−エン−3β−
イルアセタート基準で70%である。なお、得られた20−
(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1
α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3β−イル
アセタートの1H-NMRスペクトルは実施例17で得られた20
−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1
α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3β−イル
アセタートの1H-NMRスペクトルと一致した。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−メトキ
シカルボニルオキシプレグン−5−エン−3β−イルア
セタート43.6mgの代りに7α−アセトキシ−20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α
−エポキシプレグン−5−エン−3β−イル−アセター
ト42.3mg(0.0798ミリモル)を用いる以外は実施例17と
同様の操作を行うことによつて、20−(5,5−ジメチル
−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシ
プレグナ−5,7−ジエン−3β−イルアセタートを17.6m
g得た。また7α−アセトキシ−20−(5,5ジメチル−1,
3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシブレ
グン−5−エン−3β−イルアセタートを14.0mg回収し
た。20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3
β−イルアセタートの収率は、消費された7α−アセト
キシ−20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1α,2α−エポキシプレグン−5−エン−3β−
イルアセタート基準で70%である。なお、得られた20−
(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1
α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3β−イル
アセタートの1H-NMRスペクトルは実施例17で得られた20
−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1
α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3β−イル
アセタートの1H-NMRスペクトルと一致した。
実施例19 実施例17において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−メトキ
シカルボニルオキシプレグン−5−エン−3β−イルア
セタート43.6mgの代りに7α−(N,N−ジメチルカルバ
モイルオキシ)−20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサ
ン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグン−5−エ
ン−3β−イルアセタート44.6mg(0.0798ミリモル)を
用いる以外は実施例17と同様の操作を行うことによつ
て、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3
β−イルアセタートを16.6mg得た。また7α−(N,N−
ジメチルカルバモイルオキシ)−20−(5,5−ジメチル
−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシ
プレグン−5−エン−3β−イルアセタートを16.0mg回
収した。20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−
イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−
3β−イルアセタートの収率は、消費された7α−(N,
N−ジメチルカルバモイルオキシ)−20−(5,5−ジメチ
ル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポキ
シプレグン−5−エン−3β−イルアセタート基準で69
%である。なお、得られた20−(5,5−ジメチル−1,3−
ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ
−5,7−ジエン−3β−イルアセタートの1H-NMRスペク
トルは実施例17で得られた20−(5,5−ジメチル−1,3−
ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ
−5,7−ジエン−3β−イルアセタートの1H-NMRスペク
トルと一致した。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−メトキ
シカルボニルオキシプレグン−5−エン−3β−イルア
セタート43.6mgの代りに7α−(N,N−ジメチルカルバ
モイルオキシ)−20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサ
ン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグン−5−エ
ン−3β−イルアセタート44.6mg(0.0798ミリモル)を
用いる以外は実施例17と同様の操作を行うことによつ
て、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3
β−イルアセタートを16.6mg得た。また7α−(N,N−
ジメチルカルバモイルオキシ)−20−(5,5−ジメチル
−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシ
プレグン−5−エン−3β−イルアセタートを16.0mg回
収した。20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−
イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−
3β−イルアセタートの収率は、消費された7α−(N,
N−ジメチルカルバモイルオキシ)−20−(5,5−ジメチ
ル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポキ
シプレグン−5−エン−3β−イルアセタート基準で69
%である。なお、得られた20−(5,5−ジメチル−1,3−
ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ
−5,7−ジエン−3β−イルアセタートの1H-NMRスペク
トルは実施例17で得られた20−(5,5−ジメチル−1,3−
ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ
−5,7−ジエン−3β−イルアセタートの1H-NMRスペク
トルと一致した。
実施例20 実施例17において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−メトキ
シカルボニルオキシプレグン−5−エン−3β−イルア
セタート43.6mgの代りに20−(5,5−ジメチル−1,3−ジ
オキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α(N
−メチルカルバモイルオキシ)プレグン−5−エン−3
β−イルアセタート43.5mg(0.0798ミリモル)を用いる
以外は実施例17と同様の操作を行うことによつて、20−
(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1
α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3β−イル
アセタートを16.6mg得た。また20−(5,5−ジメチル−
1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−
7α(N−メチルカルバモイルオキシ)プレグン−5−
エン−3β−イルアセタートを15.2mg回収した。20−
(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1
α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3β−イル
アセタートの収率は、消費された20−(5,5−ジメチル
−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシ
−7α−(N−メチルカルバモイルオキシ)プレグン−
5−エン−3β−イルアセタート基準で68%である。な
お、得られた20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−
2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエ
ン−3β−イルアセタートの1H-NMRスペクトルは実施例
17で得られた20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−
2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエ
ン−3β−イルアセタートの1H-NMRスペクトルと一致し
た。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−メトキ
シカルボニルオキシプレグン−5−エン−3β−イルア
セタート43.6mgの代りに20−(5,5−ジメチル−1,3−ジ
オキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α(N
−メチルカルバモイルオキシ)プレグン−5−エン−3
β−イルアセタート43.5mg(0.0798ミリモル)を用いる
以外は実施例17と同様の操作を行うことによつて、20−
(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1
α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3β−イル
アセタートを16.6mg得た。また20−(5,5−ジメチル−
1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−
7α(N−メチルカルバモイルオキシ)プレグン−5−
エン−3β−イルアセタートを15.2mg回収した。20−
(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1
α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3β−イル
アセタートの収率は、消費された20−(5,5−ジメチル
−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシ
−7α−(N−メチルカルバモイルオキシ)プレグン−
5−エン−3β−イルアセタート基準で68%である。な
お、得られた20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−
2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエ
ン−3β−イルアセタートの1H-NMRスペクトルは実施例
17で得られた20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−
2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエ
ン−3β−イルアセタートの1H-NMRスペクトルと一致し
た。
実施例21 実施例17において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−メトキ
シカルボニルオキシプレグン−5−エン−3β−イルア
セタート43.6mgの代りに20−(5,5−ジメチル−1,3−ジ
オキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−
(N−フエニルカルバモイルオキシ)プレグン−5−エ
ン−3β−イルアセタート48.4mg(0.0798ミリモル)を
用いる以外は実施例17と同様の操作を行うことによつ
て、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3
β−イルアセタートを16.3mg得た。また20−(5,5−ジ
メチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エ
ポキシ−7α−(N−フエニルカルバモイルオキシ)プ
レグン−5−エン−3β−イルアセタートを17.4mg回収
した。20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3
β−イルアセタートの収率は、消費された20−(5,5−
ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−
エポキシ−7α−(N−フエニルカルバモイルオキシ)
プレグン−5−エン−3β−イルアセタート基準で68%
である。なお、得られた20−(5,5−ジメチル−1,3−ジ
オキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−
5,7−ジエン−3β−イルアセタートの1H-NMRスペクト
ルは実施例17で得られた20−(5,5−ジメチル−1,3−ジ
オキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−
5,7−ジエン−3β−イルアセタートの1H-NMRスペクト
ルと一致した。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−メトキ
シカルボニルオキシプレグン−5−エン−3β−イルア
セタート43.6mgの代りに20−(5,5−ジメチル−1,3−ジ
オキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−
(N−フエニルカルバモイルオキシ)プレグン−5−エ
ン−3β−イルアセタート48.4mg(0.0798ミリモル)を
用いる以外は実施例17と同様の操作を行うことによつ
て、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3
β−イルアセタートを16.3mg得た。また20−(5,5−ジ
メチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エ
ポキシ−7α−(N−フエニルカルバモイルオキシ)プ
レグン−5−エン−3β−イルアセタートを17.4mg回収
した。20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3
β−イルアセタートの収率は、消費された20−(5,5−
ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−
エポキシ−7α−(N−フエニルカルバモイルオキシ)
プレグン−5−エン−3β−イルアセタート基準で68%
である。なお、得られた20−(5,5−ジメチル−1,3−ジ
オキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−
5,7−ジエン−3β−イルアセタートの1H-NMRスペクト
ルは実施例17で得られた20−(5,5−ジメチル−1,3−ジ
オキサン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−
5,7−ジエン−3β−イルアセタートの1H-NMRスペクト
ルと一致した。
実施例22 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−5
−エン−3β−イルアセタート49.0mg(0.1ミリモ
ル)、ピリジン0.24ml(3ミリモル)、4−(ジメチル
アミノ)ピリジン0.5mg(0.004ミリモル)及び乾燥させ
た塩化メチレン10mlからなる溶液にメタンスルホニルク
ロリド0.10ml(1.3ミリモル)を0℃の温度で滴下した
のち、この溶液を室温下で12時間攪拌した。反応混合物
を塩化メチレン20mlで希釈し、冷却した1規定の塩酸、
水、重曹水及び食塩水で順次洗滌し、硫酸マグネシウム
上で乾燥させたのち、これより溶媒を減圧下に留去し
た。残渣をシリカゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:
酢酸エチル/ヘキサンの1/10容量比の混合液)で精製す
ることによつて、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサ
ン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−
ジエン−3β−イルアセタートを25.5mg得た(収率:54
%)。このものの1H-NMRスペクトルは実施例17で得られ
た20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3β−
イルアセタートの1H-NMRスペクトルと一致した。
−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−5
−エン−3β−イルアセタート49.0mg(0.1ミリモ
ル)、ピリジン0.24ml(3ミリモル)、4−(ジメチル
アミノ)ピリジン0.5mg(0.004ミリモル)及び乾燥させ
た塩化メチレン10mlからなる溶液にメタンスルホニルク
ロリド0.10ml(1.3ミリモル)を0℃の温度で滴下した
のち、この溶液を室温下で12時間攪拌した。反応混合物
を塩化メチレン20mlで希釈し、冷却した1規定の塩酸、
水、重曹水及び食塩水で順次洗滌し、硫酸マグネシウム
上で乾燥させたのち、これより溶媒を減圧下に留去し
た。残渣をシリカゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:
酢酸エチル/ヘキサンの1/10容量比の混合液)で精製す
ることによつて、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサ
ン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−
ジエン−3β−イルアセタートを25.5mg得た(収率:54
%)。このものの1H-NMRスペクトルは実施例17で得られ
た20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3β−
イルアセタートの1H-NMRスペクトルと一致した。
実施例23 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3β−
イルアセタート5mg(0.0106ミリモル)と乾燥させたメ
タノール2mlとの溶液に無水炭酸カリウム7.3mg(0.0528
ミリモル)を加え、これを室温下で2時間攪拌した。反
応混合物を上部にセライトを充填したガラスフイルター
を用いて濾過し、濾液を減圧下に濃縮した。濃縮物をシ
リカゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/
ヘキサンの1/5容量比の混合液)で精製することによつ
て、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3
β−オールを4mg得た(収率:約90%)。
−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3β−
イルアセタート5mg(0.0106ミリモル)と乾燥させたメ
タノール2mlとの溶液に無水炭酸カリウム7.3mg(0.0528
ミリモル)を加え、これを室温下で2時間攪拌した。反
応混合物を上部にセライトを充填したガラスフイルター
を用いて濾過し、濾液を減圧下に濃縮した。濃縮物をシ
リカゲルクロマトグラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/
ヘキサンの1/5容量比の混合液)で精製することによつ
て、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3
β−オールを4mg得た(収率:約90%)。
UVスペクトル(エタノール)λmax:278nm(ε:5847) 実施例24 水素化アルミニウムリチウム4mg(0.1ミリモル)と乾
燥させたテトラヒドロフラン4mlからなる懸濁液に、20
−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1
α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3β−オー
ル3.8mg(0.00887ミリモル)と乾燥させたテトラヒドロ
フラン2mlとの溶液を60℃の温度で加え、これを60℃の
温度で30分間攪拌した。反応混合物に水を加えることに
よつて過剰の水素化アルミニウムリチウムを分解したの
ち、これよりテトラヒドロフランを減圧下に60℃以下の
温度で留去した。残渣に冷却した1規定の塩酸を加え、
この混合物をクロロホルムで抽出した。抽出液を食塩水
で洗滌し、硫酸ナトリウム上で乾燥させたのち、これよ
り溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲルクロマト
グラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/5容
量比の混合液)で精製することによつて、20−(5,5−
ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)プレグナ−5,7
−ジエン−1α,3β−ジオールを3mg得た(収率:約80
%)。
燥させたテトラヒドロフラン4mlからなる懸濁液に、20
−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1
α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3β−オー
ル3.8mg(0.00887ミリモル)と乾燥させたテトラヒドロ
フラン2mlとの溶液を60℃の温度で加え、これを60℃の
温度で30分間攪拌した。反応混合物に水を加えることに
よつて過剰の水素化アルミニウムリチウムを分解したの
ち、これよりテトラヒドロフランを減圧下に60℃以下の
温度で留去した。残渣に冷却した1規定の塩酸を加え、
この混合物をクロロホルムで抽出した。抽出液を食塩水
で洗滌し、硫酸ナトリウム上で乾燥させたのち、これよ
り溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲルクロマト
グラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/5容
量比の混合液)で精製することによつて、20−(5,5−
ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)プレグナ−5,7
−ジエン−1α,3β−ジオールを3mg得た(収率:約80
%)。
UVスペクトル(エタノール)λmax:271,282(ε:584
7),293nm 実施例25 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
プレグナ−5,7−ジエン−1α,3β−ジオール4.3mg(0.
010ミリモル)をアセトン10mlに溶解し、これに1ミリ
モル/lのp−トルエンスルホン酸のアセトン溶液1ml
(p−トルエンスルホン酸を0.001ミリモル含有する)
を加えたのち、溶液を2時間加熱還流した。反応混合物
を室温まで冷却し、これより溶液を減圧下に留去したの
ち、残渣に塩化メチレンを40ml加えた。この塩化メチレ
ン溶液を飽和重曹水及び飽和食塩水で順次洗滌し、硫酸
マグネシウム上が乾燥させたのち、これより溶媒を減圧
下に留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフイー
(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/5容量比の混合
液)で精製することによつて、1α,3β−ジヒドロキシ
プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを2.8mg
得た(収率:82%)。
7),293nm 実施例25 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
プレグナ−5,7−ジエン−1α,3β−ジオール4.3mg(0.
010ミリモル)をアセトン10mlに溶解し、これに1ミリ
モル/lのp−トルエンスルホン酸のアセトン溶液1ml
(p−トルエンスルホン酸を0.001ミリモル含有する)
を加えたのち、溶液を2時間加熱還流した。反応混合物
を室温まで冷却し、これより溶液を減圧下に留去したの
ち、残渣に塩化メチレンを40ml加えた。この塩化メチレ
ン溶液を飽和重曹水及び飽和食塩水で順次洗滌し、硫酸
マグネシウム上が乾燥させたのち、これより溶媒を減圧
下に留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフイー
(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/5容量比の混合
液)で精製することによつて、1α,3β−ジヒドロキシ
プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを2.8mg
得た(収率:82%)。
実施例26 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
プレグナ−1,4,6−トリエン−3−オン0.410g(1.0ミリ
モル)をアセトン100mlに溶解し、これにp−トルエン
スルホン酸10mg(0.05ミリモル)を加えたのち、溶液を
室温下で12時間攪拌した。得られた反応混合物から減圧
下に溶媒を留去したのち、残渣に塩化メチレンを加え
た。この塩化メチレン溶液を飽和重曹水及び飽和食塩水
で順次洗滌し、硫酸マグネシウム上で乾燥させたのち、
これより溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲルク
ロマトグラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの
1/5容量比の混合液)で精製することによつて、3−オ
キソプレグナ−1,4,6−トリエン−20−カルブアルデヒ
ドを0.243g得た(収率:75%)。
プレグナ−1,4,6−トリエン−3−オン0.410g(1.0ミリ
モル)をアセトン100mlに溶解し、これにp−トルエン
スルホン酸10mg(0.05ミリモル)を加えたのち、溶液を
室温下で12時間攪拌した。得られた反応混合物から減圧
下に溶媒を留去したのち、残渣に塩化メチレンを加え
た。この塩化メチレン溶液を飽和重曹水及び飽和食塩水
で順次洗滌し、硫酸マグネシウム上で乾燥させたのち、
これより溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲルク
ロマトグラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの
1/5容量比の混合液)で精製することによつて、3−オ
キソプレグナ−1,4,6−トリエン−20−カルブアルデヒ
ドを0.243g得た(収率:75%)。
実施例27 実施例26において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)プレグナ−1,4,6−トリエン−3−オ
ン0.410gの代りに20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサ
ン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−4,6−
ジエン−3−オン0.426g(1.0ミリモル)を用いる以外
は実施例26と同様の操作を行うことによつて、1α,2α
−エポキシ−3−オキソプレグナ−4,6−ジエン−20−
カルブアルデヒドを0.205g得た(収率:60%)。
サン−2−イル)プレグナ−1,4,6−トリエン−3−オ
ン0.410gの代りに20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサ
ン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−4,6−
ジエン−3−オン0.426g(1.0ミリモル)を用いる以外
は実施例26と同様の操作を行うことによつて、1α,2α
−エポキシ−3−オキソプレグナ−4,6−ジエン−20−
カルブアルデヒドを0.205g得た(収率:60%)。
実施例28 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレグン−4−エン−
3−オン44.2mg(0.1ミリモル)をアセトン10mlに溶解
し、これにp−トルエンスルホン酸ピリジン塩5mg(0.0
2ミリモル)を加えたのち、溶液を2時間加熱還流し
た。反応混合物を室温まで冷却し、これより溶媒を減圧
下に留去したのち、残渣に塩化メチレンを加えた。この
塩化メチレン溶液を飽和重曹水及び飽和食塩水で順次洗
滌し、硫酸マグネシウム上で乾燥させたのち、これより
溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/5容量
比の混合液)で精製することによつて、1α,2α;6α,7
α−ジエポキシ−3−オキソプレグン−4−エン−20−
カルブアルデヒドを19.6mg得た(収率:55%)。
−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレグン−4−エン−
3−オン44.2mg(0.1ミリモル)をアセトン10mlに溶解
し、これにp−トルエンスルホン酸ピリジン塩5mg(0.0
2ミリモル)を加えたのち、溶液を2時間加熱還流し
た。反応混合物を室温まで冷却し、これより溶媒を減圧
下に留去したのち、残渣に塩化メチレンを加えた。この
塩化メチレン溶液を飽和重曹水及び飽和食塩水で順次洗
滌し、硫酸マグネシウム上で乾燥させたのち、これより
溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/5容量
比の混合液)で精製することによつて、1α,2α;6α,7
α−ジエポキシ−3−オキソプレグン−4−エン−20−
カルブアルデヒドを19.6mg得た(収率:55%)。
実施例29 実施例28において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレ
グン−4−エン−3−オン44.2mgの代りに20−(5,5−
ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α;6
α,7α−ジエポキシプレグン−4−エン−3β−オール
44.4mg(0.1ミリモル)を用いる以外は実施例28と同様
の操作を行うことによつて、1α,2α;6α,7α−ジエポ
キシ−3β−ヒドロキシプレグン−4−エン−20−カル
ブアルデヒドを19.0mg得た(収率:53%)。
サン−2−イル)−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレ
グン−4−エン−3−オン44.2mgの代りに20−(5,5−
ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α;6
α,7α−ジエポキシプレグン−4−エン−3β−オール
44.4mg(0.1ミリモル)を用いる以外は実施例28と同様
の操作を行うことによつて、1α,2α;6α,7α−ジエポ
キシ−3β−ヒドロキシプレグン−4−エン−20−カル
ブアルデヒドを19.0mg得た(収率:53%)。
実施例30 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレグン−4−エン−
3β−イルアセタート24.3mg(0.05ミリモル)をアセト
ン5mlに溶解し、これにp−トルエンスルホン酸ピリジ
ン塩2.5mg(0.01ミリモル)を加えたのち、溶液を2時
間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却し、これよ
り溶媒を減圧下に留去したのち、残渣に塩化メチレンを
加えた。この塩化メチレン溶液を飽和重曹水及び飽和食
塩水で順次洗滌し、硫酸マグネシウム上で乾燥させたの
ち、これより溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサ
ンの1/5容量比の混合液)で精製することによつて、3
β−アセトキシ−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレグ
ン−4−エン−20−カルブアルデヒドを9.6mg得た(収
率:48%)。
−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレグン−4−エン−
3β−イルアセタート24.3mg(0.05ミリモル)をアセト
ン5mlに溶解し、これにp−トルエンスルホン酸ピリジ
ン塩2.5mg(0.01ミリモル)を加えたのち、溶液を2時
間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却し、これよ
り溶媒を減圧下に留去したのち、残渣に塩化メチレンを
加えた。この塩化メチレン溶液を飽和重曹水及び飽和食
塩水で順次洗滌し、硫酸マグネシウム上で乾燥させたの
ち、これより溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサ
ンの1/5容量比の混合液)で精製することによつて、3
β−アセトキシ−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレグ
ン−4−エン−20−カルブアルデヒドを9.6mg得た(収
率:48%)。
実施例31 実施例23において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7
−ジエン−3β−イルアセタート5mgの代りに20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α
−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−5−エン−3
β−イルアセタート4.9mg(0.01ミリモル)を用いた以
外は実施例23と同様の操作を行うことによつて、20−
(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1
α,2α−エポキシプレグン−5−エン−3β,7α−ジオ
ールを3.7mg得た(収率:83%)。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7
−ジエン−3β−イルアセタート5mgの代りに20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α
−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−5−エン−3
β−イルアセタート4.9mg(0.01ミリモル)を用いた以
外は実施例23と同様の操作を行うことによつて、20−
(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1
α,2α−エポキシプレグン−5−エン−3β,7α−ジオ
ールを3.7mg得た(収率:83%)。
実施例32 実施例23において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7
−ジエン−3β−イルアセタート5mgの代りに20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α
−エポキシ−7α−メトキシカルボニルオキシプレグン
−5−エン−3β−イルアセタート5.5mg(0.01ミリモ
ル)を用いた以外は実施例23と同様の操作を行うことに
よつて、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−
イル)−1α,2α−エポキシ−7α−メトキシカルボニ
ルオキシプレグン−5−エン−3β−オールを2.9mg得
た(収率:58%)。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7
−ジエン−3β−イルアセタート5mgの代りに20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α
−エポキシ−7α−メトキシカルボニルオキシプレグン
−5−エン−3β−イルアセタート5.5mg(0.01ミリモ
ル)を用いた以外は実施例23と同様の操作を行うことに
よつて、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−
イル)−1α,2α−エポキシ−7α−メトキシカルボニ
ルオキシプレグン−5−エン−3β−オールを2.9mg得
た(収率:58%)。
実施例33 実施例23において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7
−ジエン−3β−イルアセタート5mgの代りに20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−7α−
(N,N−ジメチルカルバモイルオキシ)−1α,2α−エ
ポキシプレグン−5−エン−3β−イルアセタート5.6m
g(0.01ミリモル)を用いた以外は実施例23と同様の操
作を行うことによつて、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジ
オキサン−2−イル)−7α−(N,N−ジメチルカルバ
モイルオキシ)−1α,2α−エポキシプレグン−5−エ
ン−3β−オールを3.7mg得た(収率:72%)。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7
−ジエン−3β−イルアセタート5mgの代りに20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−7α−
(N,N−ジメチルカルバモイルオキシ)−1α,2α−エ
ポキシプレグン−5−エン−3β−イルアセタート5.6m
g(0.01ミリモル)を用いた以外は実施例23と同様の操
作を行うことによつて、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジ
オキサン−2−イル)−7α−(N,N−ジメチルカルバ
モイルオキシ)−1α,2α−エポキシプレグン−5−エ
ン−3β−オールを3.7mg得た(収率:72%)。
実施例34 実施例23において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7
−ジエン−3β−イルアセタート5mgの代りに20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α
−エポキシ−7α−(N−フエニルカルバモイルオキ
シ)プレグン−5−エン−3β−イルアセタート6.1mg
(0.01ミリモル)を用いた以外は実施例23と同様の操作
を行うことによつて、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−(N
−フエニルカルバモイルオキシ)プレグン−5−エン−
3β−オールを4.2mg得た(収率:74%)。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7
−ジエン−3β−イルアセタート5mgの代りに20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α
−エポキシ−7α−(N−フエニルカルバモイルオキ
シ)プレグン−5−エン−3β−イルアセタート6.1mg
(0.01ミリモル)を用いた以外は実施例23と同様の操作
を行うことによつて、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−(N
−フエニルカルバモイルオキシ)プレグン−5−エン−
3β−オールを4.2mg得た(収率:74%)。
実施例35 実施例23において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7
−ジエン−3β−イルアセタート5mgの代りに20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α
−エポキシ−7α−(N−メチルカルバモイルオキシ)
プレグン−5−エン−3β−イルアセタート5.5mg(0.0
1ミリモル)を用いた以外は実施例23と同様の操作を行
うことによつて、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサ
ン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−(N−メ
チルカルバモイルオキシ)プレグン−5−エン−3β−
オールを3.8mg得た(収率:76%)。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7
−ジエン−3β−イルアセタート5mgの代りに20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α
−エポキシ−7α−(N−メチルカルバモイルオキシ)
プレグン−5−エン−3β−イルアセタート5.5mg(0.0
1ミリモル)を用いた以外は実施例23と同様の操作を行
うことによつて、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサ
ン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−(N−メ
チルカルバモイルオキシ)プレグン−5−エン−3β−
オールを3.8mg得た(収率:76%)。
実施例36 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α−エポキシプレグン−5−エン−3β,7α−
ジオール2.2mg(0.005ミリモル)をアセトン2.5mlに溶
解し、これに1ミリモル/lのp−トルエンスルホン酸の
アセトン溶液0.5ml(p−トルエンスルホン酸を0.0005
ミリモル含有する)を加えたのち、溶液を室温下で12時
間攪拌した。反応混合物から溶媒を減圧下に留去したの
ち、残渣に塩化メチレンを加えた。この塩化メチレン溶
液を飽和重曹水及び飽和食塩水で順次洗滌し、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥されたのち、これより溶媒を減圧下に
留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフイー(展開
溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/5容量比の混合液)で
精製することによつて、1α,2α−エポキシ−3β,7α
−ジヒドロキシプレグン−5−エン−20−カルブアルデ
ヒドを1.2mg得た(収率:67%)。
−1α,2α−エポキシプレグン−5−エン−3β,7α−
ジオール2.2mg(0.005ミリモル)をアセトン2.5mlに溶
解し、これに1ミリモル/lのp−トルエンスルホン酸の
アセトン溶液0.5ml(p−トルエンスルホン酸を0.0005
ミリモル含有する)を加えたのち、溶液を室温下で12時
間攪拌した。反応混合物から溶媒を減圧下に留去したの
ち、残渣に塩化メチレンを加えた。この塩化メチレン溶
液を飽和重曹水及び飽和食塩水で順次洗滌し、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥されたのち、これより溶媒を減圧下に
留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフイー(展開
溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/5容量比の混合液)で
精製することによつて、1α,2α−エポキシ−3β,7α
−ジヒドロキシプレグン−5−エン−20−カルブアルデ
ヒドを1.2mg得た(収率:67%)。
実施例37 実施例36において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグン−5−
エン−3β,7α−ジオール2.2mgの代りに20−(5,5−ジ
メチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エ
ポキシ−7α−メトキシカルボニルオキシプレグン−5
−エン−3β−オール2.5mg(0.005ミリモル)を用いる
以外は実施例36と同様の操作を行うことによつて、1
α,2α−エポキシ−3β−ヒドロキシ−7α−メトキシ
カルボニルオキシプレグン−5−エン−20−カルブアル
デヒドを1.3mg得た(収率:62%)。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグン−5−
エン−3β,7α−ジオール2.2mgの代りに20−(5,5−ジ
メチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エ
ポキシ−7α−メトキシカルボニルオキシプレグン−5
−エン−3β−オール2.5mg(0.005ミリモル)を用いる
以外は実施例36と同様の操作を行うことによつて、1
α,2α−エポキシ−3β−ヒドロキシ−7α−メトキシ
カルボニルオキシプレグン−5−エン−20−カルブアル
デヒドを1.3mg得た(収率:62%)。
実施例38 実施例36において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグン−5−
エン−3β,7α−ジオール2.2mgの代りに20−(5,5−ジ
メチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−7α−(N,N−
ジメチルカルバモイルオキシ)−1α,2α−エポキシプ
レグン−5−エン−3β−オール2.5mg(0.005ミリモ
ル)を用いる以外は実施例36と同様の操作を行うことに
よつて、7α−(N,N−ジメチルカルバモイルオキシ)
−1α,2α−エポキシ−3β−ヒドロキシプレグン−5
−エン−20−カルブアルデヒドを1.5mg得た(収率:70
%)。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグン−5−
エン−3β,7α−ジオール2.2mgの代りに20−(5,5−ジ
メチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−7α−(N,N−
ジメチルカルバモイルオキシ)−1α,2α−エポキシプ
レグン−5−エン−3β−オール2.5mg(0.005ミリモ
ル)を用いる以外は実施例36と同様の操作を行うことに
よつて、7α−(N,N−ジメチルカルバモイルオキシ)
−1α,2α−エポキシ−3β−ヒドロキシプレグン−5
−エン−20−カルブアルデヒドを1.5mg得た(収率:70
%)。
実施例39 実施例36において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグン−5−
エン−3β,7α−ジオール2.2mgの代りに20−(5,5−ジ
メチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エ
ポキシ−7α−(N−フエニルカルバモイルオキシ)プ
レグン−5−エン−3β−オール2.8mg(0.005ミリモ
ル)を用いる以外は実施例36と同様の操作を行うことに
よつて、1α,2α−エポキシ−3β−ヒドロキシ−7α
−(N−フエニルカルバモイルオキシ)プレグン−5−
エン−20−カルブアルデヒドを1.5mg得た(収率:63
%)。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグン−5−
エン−3β,7α−ジオール2.2mgの代りに20−(5,5−ジ
メチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エ
ポキシ−7α−(N−フエニルカルバモイルオキシ)プ
レグン−5−エン−3β−オール2.8mg(0.005ミリモ
ル)を用いる以外は実施例36と同様の操作を行うことに
よつて、1α,2α−エポキシ−3β−ヒドロキシ−7α
−(N−フエニルカルバモイルオキシ)プレグン−5−
エン−20−カルブアルデヒドを1.5mg得た(収率:63
%)。
実施例40 実施例36において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグン−5−
エン−3β,7α−ジオール2.2mgの代りに20−(5,5−ジ
メチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エ
ポキシ−7α−(N−メチルカルバモイルオキシ)プレ
グン−5−エン−3β−オール2.5mg(0.005ミリモル)
を用いる以外は実施例36と同様の操作を行うことによつ
て、1α,2α−エポキシ−3β−ヒドロキシ−7α−
(N−メチルカルバモイルオキシ)プレグン−5−エン
−20−カルブアルデヒドを1.3mg得た(収率:62%)。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグン−5−
エン−3β,7α−ジオール2.2mgの代りに20−(5,5−ジ
メチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エ
ポキシ−7α−(N−メチルカルバモイルオキシ)プレ
グン−5−エン−3β−オール2.5mg(0.005ミリモル)
を用いる以外は実施例36と同様の操作を行うことによつ
て、1α,2α−エポキシ−3β−ヒドロキシ−7α−
(N−メチルカルバモイルオキシ)プレグン−5−エン
−20−カルブアルデヒドを1.3mg得た(収率:62%)。
実施例41 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−5
−エン−3β−イルアセタート4.9mg(0.01ミリモル)
をアセトン4mlに溶解し、これに1ミリモル/lのp−ト
ルエンスルホン酸のアセトン溶液1ml(p−トルエンス
ルホン酸を0.001ミリモル含有する)を加えたのち、溶
液を室温下で12時間攪拌した。反応混合物から溶媒を減
圧下に留去したのち、残渣に塩化メチレンを加えた。こ
の塩化メチレン溶液を飽和重曹水及び飽和食塩水で順次
洗滌し、硫酸マグネシウム上で乾燥させたのち、これよ
り溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲルクロマト
グラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/5容
量比の混合液)で精製することによつて、3β−アセト
キシ−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン
−5−エン−20−カルブアルデヒドを2.7mg得た(収率:
67%)。
−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−5
−エン−3β−イルアセタート4.9mg(0.01ミリモル)
をアセトン4mlに溶解し、これに1ミリモル/lのp−ト
ルエンスルホン酸のアセトン溶液1ml(p−トルエンス
ルホン酸を0.001ミリモル含有する)を加えたのち、溶
液を室温下で12時間攪拌した。反応混合物から溶媒を減
圧下に留去したのち、残渣に塩化メチレンを加えた。こ
の塩化メチレン溶液を飽和重曹水及び飽和食塩水で順次
洗滌し、硫酸マグネシウム上で乾燥させたのち、これよ
り溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲルクロマト
グラフイー(展開溶媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/5容
量比の混合液)で精製することによつて、3β−アセト
キシ−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン
−5−エン−20−カルブアルデヒドを2.7mg得た(収率:
67%)。
実施例42 実施例41において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロ
キシプレグン−5−エン−3β−イルアセタート4.9mg
の代りに20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−
イル)−1α,2α−エポキシ−7α−メトキシカルボニ
ルオキシプレグン−5−エン−3β−イルアセタート5.
5mg(0.01ミリモル)を用いる以外は実施例41と同様に
して操作を行うことにより、3β−アセトキシ−1α,2
α−エポキシ−7α−メトキシカルボニルオキシプレグ
ン−5−エン−20−カルブアルデヒドを3.4mg得た(収
率:74%)。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロ
キシプレグン−5−エン−3β−イルアセタート4.9mg
の代りに20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−
イル)−1α,2α−エポキシ−7α−メトキシカルボニ
ルオキシプレグン−5−エン−3β−イルアセタート5.
5mg(0.01ミリモル)を用いる以外は実施例41と同様に
して操作を行うことにより、3β−アセトキシ−1α,2
α−エポキシ−7α−メトキシカルボニルオキシプレグ
ン−5−エン−20−カルブアルデヒドを3.4mg得た(収
率:74%)。
実施例43 実施例41において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロ
キシプレグン−5−エン−3β−イルアセタート4.9mg
の代りに20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−
イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−
3β−イルアセタート4.7mg(0.01ミリモル)を用いる
以外は実施例41と同様にして操作を行うことにより、3
β−アセトキシ−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−
ジエン−20−カルブアルデヒドを2.6mg得た(収率:68
%)。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロ
キシプレグン−5−エン−3β−イルアセタート4.9mg
の代りに20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−
イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−
3β−イルアセタート4.7mg(0.01ミリモル)を用いる
以外は実施例41と同様にして操作を行うことにより、3
β−アセトキシ−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−
ジエン−20−カルブアルデヒドを2.6mg得た(収率:68
%)。
実施例44 実施例36において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグン−5−
エン−3β,7α−ジオール2.2mgの代りに20−(5,5−ジ
メチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エ
ポキシプレグナ−5,7−ジエン−3β−オール2.2mg(0.
005ミリモル)を用いる以外は実施例36と同様の操作を
行うことによつて、1α,2α−エポキシ−3β−ヒドロ
キシプレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを
1.0mg得た(収率:58%)。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグン−5−
エン−3β,7α−ジオール2.2mgの代りに20−(5,5−ジ
メチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,2α−エ
ポキシプレグナ−5,7−ジエン−3β−オール2.2mg(0.
005ミリモル)を用いる以外は実施例36と同様の操作を
行うことによつて、1α,2α−エポキシ−3β−ヒドロ
キシプレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを
1.0mg得た(収率:58%)。
実施例45 実施例3において2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオ
ール4.56gの代りにエチレングリコール2.72g(43.8ミリ
モル)を用いる以外は実施例3と同様の操作を行うこと
によつて、20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)プレ
グナ−1,4,6−トリエン−3−オンを4.56g得た(収率:8
6%)。
ール4.56gの代りにエチレングリコール2.72g(43.8ミリ
モル)を用いる以外は実施例3と同様の操作を行うこと
によつて、20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)プレ
グナ−1,4,6−トリエン−3−オンを4.56g得た(収率:8
6%)。
実施例46 実施例6において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)プレグナ−1,4,6−トリエン−3−オ
ン4.66gの代りに20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)
プレグナ−1,4,6−トリエン−3−オン4.16g(11.3ミリ
モル)を用いる以外は実施例6と同様の操作を行うこと
によつて、20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1
α,2α−エポキシプレグナ−4,6−ジエン−3−オンを
3.25g得た(収率:75%)。
サン−2−イル)プレグナ−1,4,6−トリエン−3−オ
ン4.66gの代りに20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)
プレグナ−1,4,6−トリエン−3−オン4.16g(11.3ミリ
モル)を用いる以外は実施例6と同様の操作を行うこと
によつて、20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1
α,2α−エポキシプレグナ−4,6−ジエン−3−オンを
3.25g得た(収率:75%)。
実施例47 実施例7において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−4,6
−ジエン−3−オン0.328gの代りに20−(1,3−ジオキ
ソラン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−4,
6−ジエン−3−オン0.295g(0.769ミリモル)を使用す
る以外は実施例7と同様の操作を行うことによつて、20
−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α;6α,7
α−ジエポキシプレグン−4−エン−3−オンを0.231g
得た(収率:75%)。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−4,6
−ジエン−3−オン0.328gの代りに20−(1,3−ジオキ
ソラン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−4,
6−ジエン−3−オン0.295g(0.769ミリモル)を使用す
る以外は実施例7と同様の操作を行うことによつて、20
−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α;6α,7
α−ジエポキシプレグン−4−エン−3−オンを0.231g
得た(収率:75%)。
実施例48 実施例9において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレ
グン−4−エン−3−オン0.105gの代りに20−(1,3−
ジオキソラン−2−イル)−1α,2α;6α,7α−ジエポ
キシプレグン−4−エン−3−オン0.095g(0.237ミリ
モル)を使用する以外は実施例9と同様の操作を行うこ
とによつて、20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−
1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレグン−4−エン−3
β−オールを0.074g得た(収率:78%)。
サン−2−イル)−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレ
グン−4−エン−3−オン0.105gの代りに20−(1,3−
ジオキソラン−2−イル)−1α,2α;6α,7α−ジエポ
キシプレグン−4−エン−3−オン0.095g(0.237ミリ
モル)を使用する以外は実施例9と同様の操作を行うこ
とによつて、20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−
1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレグン−4−エン−3
β−オールを0.074g得た(収率:78%)。
実施例49 実施例10において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレ
グン−4−エン−3β−オール0.084gの代りに20−(1,
3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α;6α,7α−ジ
エポキシプレグン−4−エン−3β−オール0.076g(0.
189ミリモル)を用いる以外は実施例10と同様の操作を
行うことによつて、20−(1,3−ジオキソラン−2−イ
ル)−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレグン−4−エ
ン−3β−イルアセタートを0.074g得た(収率:88
%)。
サン−2−イル)−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレ
グン−4−エン−3β−オール0.084gの代りに20−(1,
3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α;6α,7α−ジ
エポキシプレグン−4−エン−3β−オール0.076g(0.
189ミリモル)を用いる以外は実施例10と同様の操作を
行うことによつて、20−(1,3−ジオキソラン−2−イ
ル)−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレグン−4−エ
ン−3β−イルアセタートを0.074g得た(収率:88
%)。
実施例50 実施例11において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレ
グン−4−エン−3β−イルアセタート27.3mgの代りに
20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α;6α,
7α−ジエポキシプレグン−4−エン−3β−イルアセ
タート24.9mg(0.0561ミリモル)を使用する以外は実施
例11と同様の操作を行うことによつて、20−(1,3−ジ
オキソラン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−
ヒドロキシプレグン−5−エン−3β−イルアセタート
を9.5mg(収率:38%)得、また副生物として20−(1,3
−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7
α−ヒドロキシプレグン−4−エン−3β−イルアセタ
ートを10.3mg(収率:41%)得た。
サン−2−イル)−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレ
グン−4−エン−3β−イルアセタート27.3mgの代りに
20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α;6α,
7α−ジエポキシプレグン−4−エン−3β−イルアセ
タート24.9mg(0.0561ミリモル)を使用する以外は実施
例11と同様の操作を行うことによつて、20−(1,3−ジ
オキソラン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−
ヒドロキシプレグン−5−エン−3β−イルアセタート
を9.5mg(収率:38%)得、また副生物として20−(1,3
−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7
α−ヒドロキシプレグン−4−エン−3β−イルアセタ
ートを10.3mg(収率:41%)得た。
20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α−エ
ポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−5−エン−3β−
イルアセタートの分析結果 20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α−エ
ポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−4−エン−3β−
イルアセタートの分析結果 実施例51 実施例12において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロ
キシプレグン−5−エン−3β−イルアセタート49.0mg
の代りに20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,
2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−5−エン
−3β−イルアセタート44.6mg(0.1ミリモル)を用い
る以外は実施例12と同様の操作を行うことによつて、20
−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α−エポ
キシ−7α−メトキシカルボニルオキシプレグン−5−
エン−3β−イルアセタートを37.8mg得た(収率:75
%)。
ポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−5−エン−3β−
イルアセタートの分析結果 20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α−エ
ポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−4−エン−3β−
イルアセタートの分析結果 実施例51 実施例12において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロ
キシプレグン−5−エン−3β−イルアセタート49.0mg
の代りに20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,
2α−エポキシ−7α−ヒドロキシプレグン−5−エン
−3β−イルアセタート44.6mg(0.1ミリモル)を用い
る以外は実施例12と同様の操作を行うことによつて、20
−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α−エポ
キシ−7α−メトキシカルボニルオキシプレグン−5−
エン−3β−イルアセタートを37.8mg得た(収率:75
%)。
実施例52 実施例17において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−メトキ
シカルボニルオキシプレグン−5−エン−3β−イルア
セタート43.6mgの代りに20−(1,3−ジオキソラン−2
−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−メトキシカルボ
ニルオキシプレグン−5−エン−3β−イルアセタート
40.2mg(0.0798ミリモル)を使用する以外は実施例17と
同様の操作を行うことによつて、20−(1,3−ジオキソ
ラン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7
−ジエン−3β−イルアセタートを15.5mg得た。また出
発物質である20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−
1α,2α−エポキシ−7α−メトキシカルボニルオキシ
プレグン−5−エン−3β−イルアセタートを14.2mg回
収した。20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,
2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3β−イルアセ
タートの収率は、消費された20−(1,3−ジオキソラン
−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−メトキシカ
ルボニルオキシプレグン−5−エン−3β−イルアセタ
ート基準で70%である。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−メトキ
シカルボニルオキシプレグン−5−エン−3β−イルア
セタート43.6mgの代りに20−(1,3−ジオキソラン−2
−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−メトキシカルボ
ニルオキシプレグン−5−エン−3β−イルアセタート
40.2mg(0.0798ミリモル)を使用する以外は実施例17と
同様の操作を行うことによつて、20−(1,3−ジオキソ
ラン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7
−ジエン−3β−イルアセタートを15.5mg得た。また出
発物質である20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−
1α,2α−エポキシ−7α−メトキシカルボニルオキシ
プレグン−5−エン−3β−イルアセタートを14.2mg回
収した。20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,
2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3β−イルアセ
タートの収率は、消費された20−(1,3−ジオキソラン
−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−メトキシカ
ルボニルオキシプレグン−5−エン−3β−イルアセタ
ート基準で70%である。
実施例53 実施例23において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7
−ジエン−3β−イルアセタート5mgの代りに20−(1,3
−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレ
グナ−5,7−ジエン−3β−イルアセタート4.5mg(0.01
06ミリモル)を使用する以外は実施例23と同様の操作を
行うことによつて、20−(1,3−ジオキソラン−2−イ
ル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3
β−オールを3.7mg得た(収率:90%)。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7
−ジエン−3β−イルアセタート5mgの代りに20−(1,3
−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレ
グナ−5,7−ジエン−3β−イルアセタート4.5mg(0.01
06ミリモル)を使用する以外は実施例23と同様の操作を
行うことによつて、20−(1,3−ジオキソラン−2−イ
ル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7−ジエン−3
β−オールを3.7mg得た(収率:90%)。
実施例54 実施例24において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7
−ジエン−3β−オール3.8mgの代りに20−(1,3−ジオ
キソラン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−
5,7−ジエン−3β−オール3.4mg(0.00887ミリモル)
を使用する以外は実施例24と同様の操作を行うことによ
つて、20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−プレグ
ナ−5,7−ジエン−1α,3β−ジオールを2.7mg得た(収
率:78%)。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7
−ジエン−3β−オール3.8mgの代りに20−(1,3−ジオ
キソラン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−
5,7−ジエン−3β−オール3.4mg(0.00887ミリモル)
を使用する以外は実施例24と同様の操作を行うことによ
つて、20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−プレグ
ナ−5,7−ジエン−1α,3β−ジオールを2.7mg得た(収
率:78%)。
実施例55 実施例25において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−プレグナ−5,7−ジエン−1α,3β
−ジオール4.3mgの代りに20−(1,3−ジオキソラン−2
−イル)プレグナ−5,7−ジエン−1α,3β−ジオール
3.9mg(0.010ミリモル)を使用する以外は実施例25と同
様の操作を行うことによつて、1α,3β−ジヒドロキシ
プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを2.7mg
得た(収率:78%)。
サン−2−イル)−プレグナ−5,7−ジエン−1α,3β
−ジオール4.3mgの代りに20−(1,3−ジオキソラン−2
−イル)プレグナ−5,7−ジエン−1α,3β−ジオール
3.9mg(0.010ミリモル)を使用する以外は実施例25と同
様の操作を行うことによつて、1α,3β−ジヒドロキシ
プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを2.7mg
得た(収率:78%)。
実施例56 実施例4において2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオ
ール4.56gの代りにメタノール3.2g(100ミリモル)を用
いる以外は実施例4と同様の操作を行うことによつて、
7α−ヒドロキシ−21,21−ジメトキシ−20−メチルプ
レグナ−1,4−ジエン−3−オンを2.55g得た(収率:45
%)。
ール4.56gの代りにメタノール3.2g(100ミリモル)を用
いる以外は実施例4と同様の操作を行うことによつて、
7α−ヒドロキシ−21,21−ジメトキシ−20−メチルプ
レグナ−1,4−ジエン−3−オンを2.55g得た(収率:45
%)。
実施例57 実施例5において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−
ジエン−3−オン3.00gの代りに7α−ヒドロキシ−21,
21−ジメトキシ−20−メチルプレグナ−1,4−ジエン−
3−オン2.50g(6.44ミリモル)を用いる以外は実施例
5と同様の操作を行うことによつて、21,21−ジメトキ
シ−20−メチルプレグナ−1,4,6−トリエン−3−オン
を2.00g得た(収率:84%)。
サン−2−イル)−7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−
ジエン−3−オン3.00gの代りに7α−ヒドロキシ−21,
21−ジメトキシ−20−メチルプレグナ−1,4−ジエン−
3−オン2.50g(6.44ミリモル)を用いる以外は実施例
5と同様の操作を行うことによつて、21,21−ジメトキ
シ−20−メチルプレグナ−1,4,6−トリエン−3−オン
を2.00g得た(収率:84%)。
実施例58 10重量%の水酸化ナトリウムのメタノール(0.55ml)
溶液及び30重量%の過酸化水素水3.04ml(過酸化水素を
29.8ミリモル含有する)を21,21−ジメトキシ−20−メ
チルプレグナ−1,4,6−トリエン−3−オン2.00g(5.4
ミリモル)とメタノール70mlとの溶液に加え、この溶液
を室温下で14時間攪拌した。反応混合物を実施例6と同
様の分離・精製操作に付することによつて、1α,2α−
エポキシ−21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグナ−
4,6−ジエン−3−オンを1.56g得た(収率:75%)。
溶液及び30重量%の過酸化水素水3.04ml(過酸化水素を
29.8ミリモル含有する)を21,21−ジメトキシ−20−メ
チルプレグナ−1,4,6−トリエン−3−オン2.00g(5.4
ミリモル)とメタノール70mlとの溶液に加え、この溶液
を室温下で14時間攪拌した。反応混合物を実施例6と同
様の分離・精製操作に付することによつて、1α,2α−
エポキシ−21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグナ−
4,6−ジエン−3−オンを1.56g得た(収率:75%)。
実施例59 m−クロロ過安息香酸0.836g(0.5ミリモル)とクロ
ロホルム70mlとの溶液を1α,2α−エポキシ−21,21−
ジメトキシ−20−メチルプレグナ−4,6−ジエン−3−
オン0.772g(2.0ミリモル)とクロロホルム20mlとの溶
液と混合し、この混合物を室温下で1日間攪拌した。反
応混合物を実施例7と同様の分離・精製操作に付するこ
とによつて、1α,2α;6α,7α−ジエポキシ−21,21−
ジメトキシ−20−メチルプレグン−4−エン−3−オン
を0.498g得た(収率:62%)。
ロホルム70mlとの溶液を1α,2α−エポキシ−21,21−
ジメトキシ−20−メチルプレグナ−4,6−ジエン−3−
オン0.772g(2.0ミリモル)とクロロホルム20mlとの溶
液と混合し、この混合物を室温下で1日間攪拌した。反
応混合物を実施例7と同様の分離・精製操作に付するこ
とによつて、1α,2α;6α,7α−ジエポキシ−21,21−
ジメトキシ−20−メチルプレグン−4−エン−3−オン
を0.498g得た(収率:62%)。
実施例60 水素化ホウ素ナトリウム38mg(1ミリモル)を0℃の
温度で1α,2α;6α,7α−ジエポキシ−21,21−ジメト
キシ−20−メチルプレグン−4−エン−3−オン0.402g
(1ミリモル)とテトラヒドロフラン30mlとの溶液に加
え、この混合物を0℃の温度で30分間攪拌した。反応混
合物に水を加え、次いで冷却した1規定の塩酸を少しず
つ加えることによつて混合物を中性にした。この混合物
からテトラヒドロフランを20℃以下の温度で減圧下に留
去し、残渣を水で希釈したのち、塩化メチレンで抽出し
た。この抽出液を食塩水で洗滌し、硫酸マグネシウム上
で乾燥させたのち、これより溶媒を減圧下に留去した。
得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフイー(展開溶
媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/10容量比の混合液)で精
製することによつて、1α,2α;6α,7α−ジエポキシ−
21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグン−4−エン−
3β−オールを0.250g得た(収率:62%)。
温度で1α,2α;6α,7α−ジエポキシ−21,21−ジメト
キシ−20−メチルプレグン−4−エン−3−オン0.402g
(1ミリモル)とテトラヒドロフラン30mlとの溶液に加
え、この混合物を0℃の温度で30分間攪拌した。反応混
合物に水を加え、次いで冷却した1規定の塩酸を少しず
つ加えることによつて混合物を中性にした。この混合物
からテトラヒドロフランを20℃以下の温度で減圧下に留
去し、残渣を水で希釈したのち、塩化メチレンで抽出し
た。この抽出液を食塩水で洗滌し、硫酸マグネシウム上
で乾燥させたのち、これより溶媒を減圧下に留去した。
得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフイー(展開溶
媒:酢酸エチル/ヘキサンの1/10容量比の混合液)で精
製することによつて、1α,2α;6α,7α−ジエポキシ−
21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグン−4−エン−
3β−オールを0.250g得た(収率:62%)。
実施例61 1α,2α;6α,7α−ジエポキシ−21,21−ジメトキシ
−20−メチルプレグン−4−エン−3β−オール0.202g
(0.50ミリモル)、塩素させたピリジン0.5ml(6.18ミ
リモル)及び塩化メチレン10mlからなる溶液に無水酢酸
0.1ml(1.06ミリモル)を0℃の温度で徐々に滴下し、
この溶液を室温下で14時間攪拌した。反応混合物を実施
例10と同様の分離・精製操作に付することによつて、1
α,2α;6α,7α−ジエポキシ−21,21−ジメトキシ−20
−メチルプレグン−4−エン−3β−イルアセタートを
0.185g得た(収率:83%)。
−20−メチルプレグン−4−エン−3β−オール0.202g
(0.50ミリモル)、塩素させたピリジン0.5ml(6.18ミ
リモル)及び塩化メチレン10mlからなる溶液に無水酢酸
0.1ml(1.06ミリモル)を0℃の温度で徐々に滴下し、
この溶液を室温下で14時間攪拌した。反応混合物を実施
例10と同様の分離・精製操作に付することによつて、1
α,2α;6α,7α−ジエポキシ−21,21−ジメトキシ−20
−メチルプレグン−4−エン−3β−イルアセタートを
0.185g得た(収率:83%)。
実施例62 実施例11において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレ
グン−4−エン−3β−イルアセタート27.3mgの代りに
1α,2α;6α,7α−ジエポキシ−21,21−ジメトキシ−2
0−メチルプレグン−4−エン−3β−イルアセタート2
5.0mg(0.0561ミリモル)を用いる以外は実施例11と同
様の操作を行うことによつて、1α,2α−エポキシ−7
α−ヒドロキシ−21,21−ジメトキシ−20−メチルプレ
グン−5−エン−3β−イルアセタートを9.8mg(収率:
39%)得、また副生物として1α,2α−エポキシ−7α
−ヒドロキシ−21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグ
ン−4−エン−3β−イルアセタートを10.6mg(収率:4
2%)得た。
サン−2−イル)−1α,2α;6α,7α−ジエポキシプレ
グン−4−エン−3β−イルアセタート27.3mgの代りに
1α,2α;6α,7α−ジエポキシ−21,21−ジメトキシ−2
0−メチルプレグン−4−エン−3β−イルアセタート2
5.0mg(0.0561ミリモル)を用いる以外は実施例11と同
様の操作を行うことによつて、1α,2α−エポキシ−7
α−ヒドロキシ−21,21−ジメトキシ−20−メチルプレ
グン−5−エン−3β−イルアセタートを9.8mg(収率:
39%)得、また副生物として1α,2α−エポキシ−7α
−ヒドロキシ−21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグ
ン−4−エン−3β−イルアセタートを10.6mg(収率:4
2%)得た。
1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシ−21,21−ジメ
トキシ−20−メチルプレグン−5−エン−3β−イルア
セタートの分析結果 1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシ−21,21−ジメ
トキシ−20−メチルプレグン−4−エン−3β−イルア
セタートの分析結果 実施例63 実施例12において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロ
キシプレグン−5−エン−3β−イルアセタート49.0mg
の代りに1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシ−21,2
1−ジメトキシ−20−メチルプレグン−5−エン−3β
−イルアセタート45.0mg(0.1ミリモル)を用いる以外
は実施例12と同様の操作を行うことによつて、1α,2α
−エポキシ−21,21−ジメトキシ−7α−メトキシカル
ボニルオキシ−20−メチルプレグン−5−エン−3β−
イルアセタートを39.0mg得た(収率:77%)。
トキシ−20−メチルプレグン−5−エン−3β−イルア
セタートの分析結果 1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシ−21,21−ジメ
トキシ−20−メチルプレグン−4−エン−3β−イルア
セタートの分析結果 実施例63 実施例12において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロ
キシプレグン−5−エン−3β−イルアセタート49.0mg
の代りに1α,2α−エポキシ−7α−ヒドロキシ−21,2
1−ジメトキシ−20−メチルプレグン−5−エン−3β
−イルアセタート45.0mg(0.1ミリモル)を用いる以外
は実施例12と同様の操作を行うことによつて、1α,2α
−エポキシ−21,21−ジメトキシ−7α−メトキシカル
ボニルオキシ−20−メチルプレグン−5−エン−3β−
イルアセタートを39.0mg得た(収率:77%)。
実施例64 実施例17において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−メトキ
シカルボニルオキシプレグン−5−エン−3β−イルア
セタート43.6mgの代りに1α,2α−エポキシ−21,21−
ジメトキシ−7α−メトキシカルボニルオキシ−20−メ
チルプレグン−5−エン−3β−イルアセタート40.4mg
(0.0798ミリモル)を用いる以外は実施例17と同様の操
作を行うことによつて、1α,2α−エポキシ−21,21−
ジメトキシ−20−メチルプレグナ−5,7−ジエン−3β
−イルアセタートを15.6mg得た。また出発物質である1
α,2α−エポキシ−21,21−ジメトキシ−7α−メトキ
シカルボニルオキシ−20−メチルプレグン−5−エン−
3β−イルアセタートを14.1mg回収した。1α,2α−エ
ポキシ−21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグナ−5,7
−ジエン−3β−イルアセタートの収率は、消費された
1α,2α−エポキシ−21,21−ジメトキシ−7α−メト
キシカルボニルオキシ−20−メチルプレグン−5−エン
−3β−イルアセタート基準で70%である。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシ−7α−メトキ
シカルボニルオキシプレグン−5−エン−3β−イルア
セタート43.6mgの代りに1α,2α−エポキシ−21,21−
ジメトキシ−7α−メトキシカルボニルオキシ−20−メ
チルプレグン−5−エン−3β−イルアセタート40.4mg
(0.0798ミリモル)を用いる以外は実施例17と同様の操
作を行うことによつて、1α,2α−エポキシ−21,21−
ジメトキシ−20−メチルプレグナ−5,7−ジエン−3β
−イルアセタートを15.6mg得た。また出発物質である1
α,2α−エポキシ−21,21−ジメトキシ−7α−メトキ
シカルボニルオキシ−20−メチルプレグン−5−エン−
3β−イルアセタートを14.1mg回収した。1α,2α−エ
ポキシ−21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグナ−5,7
−ジエン−3β−イルアセタートの収率は、消費された
1α,2α−エポキシ−21,21−ジメトキシ−7α−メト
キシカルボニルオキシ−20−メチルプレグン−5−エン
−3β−イルアセタート基準で70%である。
実施例65 実施例23において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7
−ジエン−3β−イルアセタート5mgの代りに1α,2α
−エポキシ−21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグナ
−5,7−ジエン−3β−イルアセタート4.6mg(0.0106ミ
リモル)を用いる以外は実施例23と同様の操作を行うこ
とによつて、1α,2α−エポキシ−21,21−ジメトキシ
−20−メチルプレグナ−5,7−ジエン−3β−オールを
3.5mg得た(収率:約85%)。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7
−ジエン−3β−イルアセタート5mgの代りに1α,2α
−エポキシ−21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグナ
−5,7−ジエン−3β−イルアセタート4.6mg(0.0106ミ
リモル)を用いる以外は実施例23と同様の操作を行うこ
とによつて、1α,2α−エポキシ−21,21−ジメトキシ
−20−メチルプレグナ−5,7−ジエン−3β−オールを
3.5mg得た(収率:約85%)。
実施例66 実施例24において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7
−ジエン−3β−オール3.8mgの代りに1α,2α−エポ
キシ−21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグナ−5,7−
ジエン−3β−オール3.4mg(0.00887ミリモル)を用い
る以外は実施例24と同様の操作を行うことによつて、2
1,21−ジメトキシ−20−メチルプレグナ−5,7−ジエン
−1α,3β−ジオールを2.6mg得た(収率:約75%)。
サン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−5,7
−ジエン−3β−オール3.8mgの代りに1α,2α−エポ
キシ−21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグナ−5,7−
ジエン−3β−オール3.4mg(0.00887ミリモル)を用い
る以外は実施例24と同様の操作を行うことによつて、2
1,21−ジメトキシ−20−メチルプレグナ−5,7−ジエン
−1α,3β−ジオールを2.6mg得た(収率:約75%)。
実施例67 実施例25において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)プレグン−5,7−ジエン−1α,3β−
ジオール4.3mgの代りに21,21−ジメトキシ−20−メチル
プレグナ−5,7−ジエン−1α,3β−ジオール2.6mg(0.
00667ミリモル)を用いる以外は実施例25と同様の操作
を行うことによつて、1α,3β−ジヒドロキシプレグナ
−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを1.8mg得た(収
率:78%)。
サン−2−イル)プレグン−5,7−ジエン−1α,3β−
ジオール4.3mgの代りに21,21−ジメトキシ−20−メチル
プレグナ−5,7−ジエン−1α,3β−ジオール2.6mg(0.
00667ミリモル)を用いる以外は実施例25と同様の操作
を行うことによつて、1α,3β−ジヒドロキシプレグナ
−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを1.8mg得た(収
率:78%)。
実施例68 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α−エポキシプレグナ−4,6−ジエン−3−オ
ン13.0gをエタノール200mlに溶解し、氷冷下に水素化ホ
ウ素ナトリウム1.0gを加え、室温で2時間攪拌した。得
られた反応混合物に氷冷下に希塩酸を加えて中和し、水
で希釈した後に塩化メチレンで抽出した。抽出液を食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下に
濃縮して12.1gの粗製物を得た。この粗製物をシリカゲ
ルクロマトグラフイーで精製することにより、下記の物
性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−
2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−4,6ジエン
−3−オールを10.6g得た(収率:81%)。
−1α,2α−エポキシプレグナ−4,6−ジエン−3−オ
ン13.0gをエタノール200mlに溶解し、氷冷下に水素化ホ
ウ素ナトリウム1.0gを加え、室温で2時間攪拌した。得
られた反応混合物に氷冷下に希塩酸を加えて中和し、水
で希釈した後に塩化メチレンで抽出した。抽出液を食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下に
濃縮して12.1gの粗製物を得た。この粗製物をシリカゲ
ルクロマトグラフイーで精製することにより、下記の物
性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−
2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−4,6ジエン
−3−オールを10.6g得た(収率:81%)。
IRスペクトル(KBr):3480cm-1 実施例69 20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α−
エポキシプレグナ−4,6−ジエン−3−オン11.7gをテト
ラヒドロフラン200mlに溶解し、水素化ジイソブチルア
ルミニウムの1.0Mトルエン溶液36mlを氷冷下に加え、氷
冷下で15分間攪拌した。実施例68と同様の方法によつて
反応混合物より分離・精製を行い、下記の物性値を有す
る20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α−
エポキシプレグナ−4,6−ジエン−3−オールを9.4g得
た(収率:80%)。
エポキシプレグナ−4,6−ジエン−3−オン11.7gをテト
ラヒドロフラン200mlに溶解し、水素化ジイソブチルア
ルミニウムの1.0Mトルエン溶液36mlを氷冷下に加え、氷
冷下で15分間攪拌した。実施例68と同様の方法によつて
反応混合物より分離・精製を行い、下記の物性値を有す
る20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α−
エポキシプレグナ−4,6−ジエン−3−オールを9.4g得
た(収率:80%)。
IRスペクトル(KBr):3480cm-1 実施例70 1α,2α−エポキシ−21,21−ジメトキシ−20−メチ
ルプレグナ−4,6−ジエン−3−オン11.8gをテトラヒド
ロフラン200mlに溶解し、水素化トリエチルホウ素ナト
リウムの1.0Mテトラヒドロフラン溶液36mlを氷冷却下に
加え、氷冷下で15分間攪拌した。実施例68と同様の方法
によつて反応混合物より分離・精製を行い、下記の物性
値を有する1α,2α−エポキシ−21,21−ジメトキシ−2
0−メチルプレグナ−4,6−ジエン−3α−オールを10.2
4g得た(収率:85%)。
ルプレグナ−4,6−ジエン−3−オン11.8gをテトラヒド
ロフラン200mlに溶解し、水素化トリエチルホウ素ナト
リウムの1.0Mテトラヒドロフラン溶液36mlを氷冷却下に
加え、氷冷下で15分間攪拌した。実施例68と同様の方法
によつて反応混合物より分離・精製を行い、下記の物性
値を有する1α,2α−エポキシ−21,21−ジメトキシ−2
0−メチルプレグナ−4,6−ジエン−3α−オールを10.2
4g得た(収率:85%)。
IRスペクトル(KBr):3480cm-1 実施例71 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α−エポキシプレグナ−4,6−ジエン−3α−
オール10.6gを塩化メチレン250mlに溶解し、氷冷下に攪
拌した。飽和重曹200ml及び80%メタクロロ過安息香酸
7.67gを加え、室温で2時間攪拌した。得られた反応混
合物から有機層を分け、水層を酢酸エチルで抽出した。
有機層と抽出液とを合わせ、水、ヨウ化カリウム水溶
液、チオ硫酸ナトリウム水溶液、水、重曹水及び食塩水
で順次洗浄し、炭酸カリウム上で乾燥したのち減圧下に
濃縮することにより下記に示す物性値を有するほぼ純粋
な20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグナ−6−エン−
3α−オールを15.5g得た。
−1α,2α−エポキシプレグナ−4,6−ジエン−3α−
オール10.6gを塩化メチレン250mlに溶解し、氷冷下に攪
拌した。飽和重曹200ml及び80%メタクロロ過安息香酸
7.67gを加え、室温で2時間攪拌した。得られた反応混
合物から有機層を分け、水層を酢酸エチルで抽出した。
有機層と抽出液とを合わせ、水、ヨウ化カリウム水溶
液、チオ硫酸ナトリウム水溶液、水、重曹水及び食塩水
で順次洗浄し、炭酸カリウム上で乾燥したのち減圧下に
濃縮することにより下記に示す物性値を有するほぼ純粋
な20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグナ−6−エン−
3α−オールを15.5g得た。
IRスペクトル(KBr):3400cm-1 実施例72 実施例71において、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−4,
6−ジエン−3α−オール10.6gの代わりに20−(1,3−
ジオキソラン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグ
ナ−4,6−ジエン−3α−オール9.56gを用い、かつ重曹
水の非存在下で反応を行つた以外は実施例71と同様の操
作を行うことにより、下記に示す物性値を有するほぼ純
粋な20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α;
4α,5α−ジエポキシプレグナ−6−エン−3α−オー
ルを13.3g得た。
キサン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−4,
6−ジエン−3α−オール10.6gの代わりに20−(1,3−
ジオキソラン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグ
ナ−4,6−ジエン−3α−オール9.56gを用い、かつ重曹
水の非存在下で反応を行つた以外は実施例71と同様の操
作を行うことにより、下記に示す物性値を有するほぼ純
粋な20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α;
4α,5α−ジエポキシプレグナ−6−エン−3α−オー
ルを13.3g得た。
IRスペクトル(KBr):3420cm-1 実施例73 実施例71において、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−4,
6−ジエン−3α−オール10.6gの代わりに1α,2α−エ
ポキシ−21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグナ−4,6
−ジエン−3α−オール9.61gを用いる以外は実施例71
と同様の操作を行うことにより、下記に示す物性値を有
するほぼ純粋な1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,21
−ジメトキシ−20−メチルプレグナ−6−エン−3α−
オールを14.2g得た。
キサン−2−イル)−1α,2α−エポキシプレグナ−4,
6−ジエン−3α−オール10.6gの代わりに1α,2α−エ
ポキシ−21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグナ−4,6
−ジエン−3α−オール9.61gを用いる以外は実施例71
と同様の操作を行うことにより、下記に示す物性値を有
するほぼ純粋な1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,21
−ジメトキシ−20−メチルプレグナ−6−エン−3α−
オールを14.2g得た。
IRスペクトル(KBr):3450cm-1 実施例74 実施例71にて得られた20−(5,5−ジメチル−1,3−ジ
オキサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ
プレグナ−6−エン−3α−オール15.5gを塩化メチレ
ン100mlに溶解した。この溶液をピリジン45ml及び酸化
クロム24.8gより塩化メチレン160ml中で調製した錯体に
氷冷下で滴下し、滴下後、氷冷下で1時間攪拌した。得
られた反応混合物を酢酸エチルで希釈し、セライトを用
いて濾過した。濾液を水、硫酸銅水溶液、水、重曹水及
び食塩水で順次洗滌し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。
減圧下に濃縮することにより下記に示す物性値を有する
ほぼ純粋な20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2
−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグナ−6
−エン−3−オンを8.9g得た。
オキサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ
プレグナ−6−エン−3α−オール15.5gを塩化メチレ
ン100mlに溶解した。この溶液をピリジン45ml及び酸化
クロム24.8gより塩化メチレン160ml中で調製した錯体に
氷冷下で滴下し、滴下後、氷冷下で1時間攪拌した。得
られた反応混合物を酢酸エチルで希釈し、セライトを用
いて濾過した。濾液を水、硫酸銅水溶液、水、重曹水及
び食塩水で順次洗滌し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。
減圧下に濃縮することにより下記に示す物性値を有する
ほぼ純粋な20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2
−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグナ−6
−エン−3−オンを8.9g得た。
IRスペクトル(KBr):1705cm-1 実施例75 実施例74において、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプ
レグナ−6−エン−3α−オール15.5gの代わりに実施
例72で得られた20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)
−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグナ−6−エン−
3α−オール13.3gを用いる以外は実施例74と同様の操
作を行うことにより、下記に示す物性値を有するぼ純粋
な20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α;4
α,5α−ジエポキシプレグナ−6−エン−3−オンを9.
5g得た。
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプ
レグナ−6−エン−3α−オール15.5gの代わりに実施
例72で得られた20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)
−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグナ−6−エン−
3α−オール13.3gを用いる以外は実施例74と同様の操
作を行うことにより、下記に示す物性値を有するぼ純粋
な20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α;4
α,5α−ジエポキシプレグナ−6−エン−3−オンを9.
5g得た。
IRスペクトル(KBr):1705cm-1 実施例76 実施例74において、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプ
レグナ−6−エン−3α−オール15.5gの代わりに実施
例73で得られた1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,21
−ジメトキシ−20−メチルプレグナ−6−エン−3α−
オール14.2gを用いる以外は実施例74と同様の操作を行
うことにより、下記に示す物性値を有するほぼ純粋な1
α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,21−ジメトキシ−20
−メチルプレグナ−6−エン−3−オンを8.5g得た。
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプ
レグナ−6−エン−3α−オール15.5gの代わりに実施
例73で得られた1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,21
−ジメトキシ−20−メチルプレグナ−6−エン−3α−
オール14.2gを用いる以外は実施例74と同様の操作を行
うことにより、下記に示す物性値を有するほぼ純粋な1
α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,21−ジメトキシ−20
−メチルプレグナ−6−エン−3−オンを8.5g得た。
IRスペクトル(KBr):1705cm-1 実施例77 実施例71で得られた20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプ
レグナ−6−エン−3α−オール1.5gをトルエン10mlに
溶解し、安息香酸0.62g及びトリフエニルホスフイン1.0
7gを加え、氷冷下に攪拌した。得られた混合物にアゾジ
カルボン酸ジエチル0.71gを滴下し、氷冷下で30分間攪
拌した。得られた反応混合物を水にあけ、エーテル抽出
した。抽出液を合わせ、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。減圧下に濃縮し、下記に示す物性値を
有するほぼ純粋な20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサ
ン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−3β
−ベンゾイルオキシプレグン−6−エンを1.6g得た。
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプ
レグナ−6−エン−3α−オール1.5gをトルエン10mlに
溶解し、安息香酸0.62g及びトリフエニルホスフイン1.0
7gを加え、氷冷下に攪拌した。得られた混合物にアゾジ
カルボン酸ジエチル0.71gを滴下し、氷冷下で30分間攪
拌した。得られた反応混合物を水にあけ、エーテル抽出
した。抽出液を合わせ、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。減圧下に濃縮し、下記に示す物性値を
有するほぼ純粋な20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサ
ン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−3β
−ベンゾイルオキシプレグン−6−エンを1.6g得た。
IRスペクトル(KBr):1720cm-1 実施例78 実施例77.において、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジ
オキサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ
プレグン−6−エン−3α−オール1.5gの代わりに実施
例72で得られた20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)
−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6−エン−
3α−オール1.4gを用い、かつ安息香酸0.62gの代わり
に酢酸0.27gを用いる以外は実施例77と同様の操作を行
うことにより、下記に示す物性値を有するほぼ純粋な20
−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−3β−アセトキ
シ−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6−エン
を1.5g得た。
オキサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ
プレグン−6−エン−3α−オール1.5gの代わりに実施
例72で得られた20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)
−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6−エン−
3α−オール1.4gを用い、かつ安息香酸0.62gの代わり
に酢酸0.27gを用いる以外は実施例77と同様の操作を行
うことにより、下記に示す物性値を有するほぼ純粋な20
−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−3β−アセトキ
シ−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6−エン
を1.5g得た。
IRスペクトル(KBr):1735cm-1 実施例79 実施例77において、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプ
レグン−6−エン−3α−オール1.5gの代わりに実施例
73で得られた1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,21−
ジメトキシ−20−メチルプレグナ−6−ジエン−3α−
オール1.4gを用いる以外は実施例77と同様の操作を行う
ことにより、下記に示す物性値を有するほぼ純粋な3β
−ベンゾイルオキシ−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−
21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグナ−6−エンを
1.6g得た。
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプ
レグン−6−エン−3α−オール1.5gの代わりに実施例
73で得られた1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,21−
ジメトキシ−20−メチルプレグナ−6−ジエン−3α−
オール1.4gを用いる以外は実施例77と同様の操作を行う
ことにより、下記に示す物性値を有するほぼ純粋な3β
−ベンゾイルオキシ−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−
21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグナ−6−エンを
1.6g得た。
IRスペクトル(KBr):1720cm-1 実施例80 実施例77で得られた20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−
3β−ベンゾイルオキシプレグン−6−エン1.6gをメタ
ノール20mlに溶解し、炭酸カリウム1.0gを加え、氷冷下
2時間攪拌した。得られた反応混合物を水にあけ、エー
テルで抽出した。抽出液を合わせ、食塩水で洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥した。減圧下に濃縮し、下記に示
す物性値を有するほぼ純粋な20−(5,5−ジメチル−1,3
−ジオキサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポ
キシプレグン−6−エン−3β−オール1.2gを得た。
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−
3β−ベンゾイルオキシプレグン−6−エン1.6gをメタ
ノール20mlに溶解し、炭酸カリウム1.0gを加え、氷冷下
2時間攪拌した。得られた反応混合物を水にあけ、エー
テルで抽出した。抽出液を合わせ、食塩水で洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥した。減圧下に濃縮し、下記に示
す物性値を有するほぼ純粋な20−(5,5−ジメチル−1,3
−ジオキサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポ
キシプレグン−6−エン−3β−オール1.2gを得た。
IRスペクトル(KBr):3450cm-1 実施例81 実施例80において、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−
3β−ベンゾイルオキシプレグン−6−エン1.6gの代わ
りに、実施例78で得られた20−(1,3−ジオキソラン−
2−イル)−3β−アセトキシ−1α,2α;4α,5α−ジ
エポキシプレグン−6−エン1.5gを用いる以外は実施例
80と同様の操作を行うことにより、下記に示す物性値を
有するほぼ純粋な20−(1,3−ジオキソラン−2−イ
ル)−3β−アセトキシ−1α,2α;4α,5α−ジエポキ
シプレグン−6−エン−3β−オールを1.1g得た。
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−
3β−ベンゾイルオキシプレグン−6−エン1.6gの代わ
りに、実施例78で得られた20−(1,3−ジオキソラン−
2−イル)−3β−アセトキシ−1α,2α;4α,5α−ジ
エポキシプレグン−6−エン1.5gを用いる以外は実施例
80と同様の操作を行うことにより、下記に示す物性値を
有するほぼ純粋な20−(1,3−ジオキソラン−2−イ
ル)−3β−アセトキシ−1α,2α;4α,5α−ジエポキ
シプレグン−6−エン−3β−オールを1.1g得た。
IRスペクトル(KBr):3450cm-1 実施例82 実施例80において、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−
3β−ベンゾイルオキシプレグン−6−エン1.6gの代わ
りに、実施例79で得られた3β−ベンゾイルオキシ−1
α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,21−ジメトキシ−20
−メチルプレグン−6−エン1.6gを用いる以外は実施例
80と同様の操作を行うことにより、下記に示す物性値を
有するほぼ純粋な1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,2
1−ジメトキシ−20−メチルプレグン−6−エン−3β
−オールを1.1g得た。
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−
3β−ベンゾイルオキシプレグン−6−エン1.6gの代わ
りに、実施例79で得られた3β−ベンゾイルオキシ−1
α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,21−ジメトキシ−20
−メチルプレグン−6−エン1.6gを用いる以外は実施例
80と同様の操作を行うことにより、下記に示す物性値を
有するほぼ純粋な1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,2
1−ジメトキシ−20−メチルプレグン−6−エン−3β
−オールを1.1g得た。
IRスペクトル(KBr):3450cm-1 実施例83 実施例74で得られた20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプ
レグン−6−エン−3−オン2.0gをエタノール20mlに溶
解し、この溶液に氷冷下で水素化ホウ素ナトリウム0.2g
を加え、氷冷下で2時間攪拌した。得られた反応混合物
を水にあけ、エーテルで抽出した。抽出液を合わせ、食
塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧下に
濃縮し、実施例80で得られたものと同じ物性値を有する
ほぼ純粋な20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2
−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6
−エン−3β−オールを1.5g得た。
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプ
レグン−6−エン−3−オン2.0gをエタノール20mlに溶
解し、この溶液に氷冷下で水素化ホウ素ナトリウム0.2g
を加え、氷冷下で2時間攪拌した。得られた反応混合物
を水にあけ、エーテルで抽出した。抽出液を合わせ、食
塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧下に
濃縮し、実施例80で得られたものと同じ物性値を有する
ほぼ純粋な20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2
−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6
−エン−3β−オールを1.5g得た。
実施例84 実施例83において、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプ
レグン−6−エン−3−オン2.0gの代わりに実施例75で
得られた20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,
2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6−エン−3−オ
ン1.8gを用いる以外は実施例83と同様の操作を行うこと
により、実施例81で得られたものと同じ物性値を有する
ほぼ純粋な20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1
α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6−エン−3β
−オールを1.1g得た。
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプ
レグン−6−エン−3−オン2.0gの代わりに実施例75で
得られた20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,
2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6−エン−3−オ
ン1.8gを用いる以外は実施例83と同様の操作を行うこと
により、実施例81で得られたものと同じ物性値を有する
ほぼ純粋な20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1
α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6−エン−3β
−オールを1.1g得た。
実施例85 実施例83において、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプ
レグン−6−エン−3−オン2.0gの代わりに、実施例76
で得られた1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,21−ジ
メトキシ−20−メチルプレグナ−6−エン−3−オン1.
8gを用いる以外は実施例83と同様の操作を行うことによ
り、実施例82で得られたものと同じ物性値を有するほぼ
純粋な1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,21−ジメト
キシ−20−メチルプレグン−6−エン−3β−オールを
1.1g得た。
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプ
レグン−6−エン−3−オン2.0gの代わりに、実施例76
で得られた1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,21−ジ
メトキシ−20−メチルプレグナ−6−エン−3−オン1.
8gを用いる以外は実施例83と同様の操作を行うことによ
り、実施例82で得られたものと同じ物性値を有するほぼ
純粋な1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,21−ジメト
キシ−20−メチルプレグン−6−エン−3β−オールを
1.1g得た。
実施例86 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6−エン−
3β−オール0.1gを塩化メチレン10mlに溶解し、ピリジ
ン1ml及びN,N−ジメチル−4−アミノピリジン0.05gを
加えたのち氷冷下でクロロ炭酸メチル0.1mlをゆつくり
と滴下し、得られた混合物を室温で3時間攪拌した。得
られた反応混合物を冷希塩酸にあけ、塩化メチレンで抽
出した。抽出液を合わせ、水、硫酸銅水溶液、水、重曹
水及び食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。減圧下濃縮して、上記に示す物性値を有するほぼ純
粋な20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−3β−メトキシ
カルボニルオキシプレグン−6−エンを0.11g得た。
−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6−エン−
3β−オール0.1gを塩化メチレン10mlに溶解し、ピリジ
ン1ml及びN,N−ジメチル−4−アミノピリジン0.05gを
加えたのち氷冷下でクロロ炭酸メチル0.1mlをゆつくり
と滴下し、得られた混合物を室温で3時間攪拌した。得
られた反応混合物を冷希塩酸にあけ、塩化メチレンで抽
出した。抽出液を合わせ、水、硫酸銅水溶液、水、重曹
水及び食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。減圧下濃縮して、上記に示す物性値を有するほぼ純
粋な20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−3β−メトキシ
カルボニルオキシプレグン−6−エンを0.11g得た。
IRスペクトル(KBr):1745cm-1 実施例87 20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α;4
α,5α−ジエポキシプレグン−6−エン−3β−オール
0.1gをトルエン10mlに溶解し、ピリジンを1滴加え、さ
らに氷冷下にメチルイソシアナートを0.2ml加えた。こ
の溶液を60℃の温度で30分間攪拌した。反応混合液を氷
水にあけ、塩化メチレンで抽出した。抽出液を合わせ、
水及び食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。
減圧下で濃縮し、下記に示す物性値を有するほぼ純粋な
20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α;4α,
5α−ジエポキシ−3β−(N−メチルカルバモイル)
オキシプレグン−6−エンを0.11g得た。
α,5α−ジエポキシプレグン−6−エン−3β−オール
0.1gをトルエン10mlに溶解し、ピリジンを1滴加え、さ
らに氷冷下にメチルイソシアナートを0.2ml加えた。こ
の溶液を60℃の温度で30分間攪拌した。反応混合液を氷
水にあけ、塩化メチレンで抽出した。抽出液を合わせ、
水及び食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。
減圧下で濃縮し、下記に示す物性値を有するほぼ純粋な
20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α;4α,
5α−ジエポキシ−3β−(N−メチルカルバモイル)
オキシプレグン−6−エンを0.11g得た。
IRスペクトル(KBr):1710cm-1 実施例88 1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,21−ジメトキシ
−20−メチルプレグン−6−エン−3β−オール0.1gを
トルエン10mlに溶解し、ピリジンを1滴加え、さらに氷
冷下にフエニルイソシアナートを0.14ml加えた。この溶
液を60℃の温度で30分間攪拌した。反応混合液を氷水に
あけ、塩化メチレンで抽出した。抽出液を合わせ、水及
び食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧
下に濃縮し、下記に示す物性値を有するほぼ純粋な1
α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,21−ジメトキシ−20
−メチル−3β−(N−フエニルカルバモイル)オキシ
プレグン−6−エンを0.12g得た。
−20−メチルプレグン−6−エン−3β−オール0.1gを
トルエン10mlに溶解し、ピリジンを1滴加え、さらに氷
冷下にフエニルイソシアナートを0.14ml加えた。この溶
液を60℃の温度で30分間攪拌した。反応混合液を氷水に
あけ、塩化メチレンで抽出した。抽出液を合わせ、水及
び食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧
下に濃縮し、下記に示す物性値を有するほぼ純粋な1
α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,21−ジメトキシ−20
−メチル−3β−(N−フエニルカルバモイル)オキシ
プレグン−6−エンを0.12g得た。
IRスペクトル(KBr):1725cm-1 実施例89 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6−エン−
3β−オール0.1gをトルエン10mlに溶解し、ピリジン1m
l及びN,N−ジメチル−4−アミノピリジン0.05gを加
え、さらに氷冷下で塩化N,N−ジメチルカルバモイル0.1
mlをゆつくりと滴下した。混合物を60℃で10時間攪拌し
た後に、得られた反応混合物を冷希塩酸にあけ、塩化メ
チレンで抽出した。抽出液を合わせ、水、硫酸銅水溶
液、水、重曹水及び食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。減圧下に濃縮し、下記に示す物性値を
有するほぼ純粋な20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサ
ン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−3β
−(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシプレグン−6
−エンを0.12g得た。
−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6−エン−
3β−オール0.1gをトルエン10mlに溶解し、ピリジン1m
l及びN,N−ジメチル−4−アミノピリジン0.05gを加
え、さらに氷冷下で塩化N,N−ジメチルカルバモイル0.1
mlをゆつくりと滴下した。混合物を60℃で10時間攪拌し
た後に、得られた反応混合物を冷希塩酸にあけ、塩化メ
チレンで抽出した。抽出液を合わせ、水、硫酸銅水溶
液、水、重曹水及び食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。減圧下に濃縮し、下記に示す物性値を
有するほぼ純粋な20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサ
ン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−3β
−(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシプレグン−6
−エンを0.12g得た。
IRスペクトル(KBr):1690cm-1 実施例90 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6−エン−
3β−オール0.1gをN,N−ジメチルホルムアミド5mlに溶
解し、この溶液にイミダゾール0.15g及び塩化tert−ブ
チルジメチルシリル0.17gを加え、室温で10時間攪拌し
た。得られた反応混合物を水にあけ、エーテルで抽出し
た。抽出液を合わせ水及び食塩水で洗浄し、硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。減圧下で濃縮し、下記に示す物性値
を有するほぼ純粋な20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−3
β−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシプレグン−
6−エンを0.12g得た。
−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6−エン−
3β−オール0.1gをN,N−ジメチルホルムアミド5mlに溶
解し、この溶液にイミダゾール0.15g及び塩化tert−ブ
チルジメチルシリル0.17gを加え、室温で10時間攪拌し
た。得られた反応混合物を水にあけ、エーテルで抽出し
た。抽出液を合わせ水及び食塩水で洗浄し、硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。減圧下で濃縮し、下記に示す物性値
を有するほぼ純粋な20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−3
β−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシプレグン−
6−エンを0.12g得た。
実施例91 20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α;4
α,5α−ジエポキシプレグン−6−エン−3β−オール
0.1gをテトラヒドロフラン2mlに溶解し、この溶液を60
%水素化ナトリウム0.015gのテトラヒドロフラン5ml懸
濁液に加えた。室温で1時間攪拌した後、クロロメチル
メチルエーテル0.03gを加え、40℃の温度で4時間攪拌
した。反応混合液を氷水にあけ、エーテルで抽出した。
抽出液を合わせ、重曹水及び食塩水で順次洗浄し、硫酸
ナトリウム上で乾燥した。減圧下に濃縮し、下記に示す
物性値を有するほぼ純粋な20−(1,3−ジオキソラン−
2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−3β−
(メトキシメチル)オキシプレグン−6−エンを0.10g
得た。
α,5α−ジエポキシプレグン−6−エン−3β−オール
0.1gをテトラヒドロフラン2mlに溶解し、この溶液を60
%水素化ナトリウム0.015gのテトラヒドロフラン5ml懸
濁液に加えた。室温で1時間攪拌した後、クロロメチル
メチルエーテル0.03gを加え、40℃の温度で4時間攪拌
した。反応混合液を氷水にあけ、エーテルで抽出した。
抽出液を合わせ、重曹水及び食塩水で順次洗浄し、硫酸
ナトリウム上で乾燥した。減圧下に濃縮し、下記に示す
物性値を有するほぼ純粋な20−(1,3−ジオキソラン−
2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−3β−
(メトキシメチル)オキシプレグン−6−エンを0.10g
得た。
実施例92 実施例90において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレ
グン−6−エン−3β−オール0.1gの代わりに1α,2
α;4α,5α−ジエポキシ−21,21−ジメトキシ−20−メ
チルプレグン−6−エン−3β−オール0.1gを用いる以
外は同様にして操作を行い、下記に示す物性値を有する
ほぼ純粋な3β−(tert−ブチルジメチルシリル)オキ
シ−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,21−ジメトキ
シ−20−メチルプレグン−6−エンを0.11g得た。
サン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレ
グン−6−エン−3β−オール0.1gの代わりに1α,2
α;4α,5α−ジエポキシ−21,21−ジメトキシ−20−メ
チルプレグン−6−エン−3β−オール0.1gを用いる以
外は同様にして操作を行い、下記に示す物性値を有する
ほぼ純粋な3β−(tert−ブチルジメチルシリル)オキ
シ−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,21−ジメトキ
シ−20−メチルプレグン−6−エンを0.11g得た。
実施例93 実施例74で得られた20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプ
レグン−6−エン−3−オン8.9gをテトラヒドロフラン
20mlに溶解し、この溶液を水酸化アルミニウムリチウム
2.8gをテトラヒドロフラン50mlに懸濁させた懸濁液中に
氷冷下に滴下した。滴下終了後、室温で2時間攪拌し
た。過剰の還元剤を飽和硫酸ナトリウム水溶液を加えて
分解し、セライトで濾過した。残渣を酢酸エチルで十分
洗浄し、洗浄液と濾液とを合わせた。この溶液を減圧下
に濃縮し、得られる濃縮物を酢酸エチルより再結晶する
ことにより、下記に示す物性値を有する20−(5,5−ジ
メチル−1,3−ジオキサン−2−イル)プレグン−6−
エン−1α,3β,5α−トリオールを2.93g得た。
キサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプ
レグン−6−エン−3−オン8.9gをテトラヒドロフラン
20mlに溶解し、この溶液を水酸化アルミニウムリチウム
2.8gをテトラヒドロフラン50mlに懸濁させた懸濁液中に
氷冷下に滴下した。滴下終了後、室温で2時間攪拌し
た。過剰の還元剤を飽和硫酸ナトリウム水溶液を加えて
分解し、セライトで濾過した。残渣を酢酸エチルで十分
洗浄し、洗浄液と濾液とを合わせた。この溶液を減圧下
に濃縮し、得られる濃縮物を酢酸エチルより再結晶する
ことにより、下記に示す物性値を有する20−(5,5−ジ
メチル−1,3−ジオキサン−2−イル)プレグン−6−
エン−1α,3β,5α−トリオールを2.93g得た。
IRスペクトル(KBr):3500cm-1 実施例94 実施例75で得られた20−(1,3−ジオキソラン−2−
イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6−
エン−3−オン9.1gをテトラヒドロフラン50mlに溶解
し、この溶液に氷冷下に3.4M水素化ビス(2−メトキシ
エトキシ)アルミニウムナトリウムトルエン溶液22mlを
加え、室温で2時間攪拌した。過剰の還元剤を飽和硫酸
ナトリウム水溶液を加えて分解し、セライトで濾過し
た。残渣を酢酸エチルで十分洗浄し、洗浄液と濾液とを
合わせた。この溶液を減圧下に濃縮し、得られる濃縮物
を酢酸エチルより再結晶することにより、下記に示す物
性値を有する20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)プ
レグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオールを2.75g
得た。
イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6−
エン−3−オン9.1gをテトラヒドロフラン50mlに溶解
し、この溶液に氷冷下に3.4M水素化ビス(2−メトキシ
エトキシ)アルミニウムナトリウムトルエン溶液22mlを
加え、室温で2時間攪拌した。過剰の還元剤を飽和硫酸
ナトリウム水溶液を加えて分解し、セライトで濾過し
た。残渣を酢酸エチルで十分洗浄し、洗浄液と濾液とを
合わせた。この溶液を減圧下に濃縮し、得られる濃縮物
を酢酸エチルより再結晶することにより、下記に示す物
性値を有する20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)プ
レグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオールを2.75g
得た。
IRスペクトル(KBr):3450cm-1 実施例95 実施例76で得られた1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−
21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグン−6−エン−
3−オン8.5gをテトラヒドロフラン50mlに溶解し、この
溶液に氷冷下に1.0M水素化トリsec−ブチルホウ素リチ
ウムテトラヒドロフラン溶液100mlを滴下し、滴下後、
室温で2時間攪拌した。過剰の還元剤を水を加えて分解
し、更に残存するアルキルボランをアルカリ性過酸化水
素で分解した後に酢酸エチルにより抽出した。抽出液を
合わせ食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。
減圧下に濃縮して得られる濃縮物を酢酸エチルより再結
晶することにより、下記に示す物性値を有する21,21−
ジメトキシ−20−メチルプレグン−6−エン−1α,3
β,5α−トリオールを2.90g得た。
21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグン−6−エン−
3−オン8.5gをテトラヒドロフラン50mlに溶解し、この
溶液に氷冷下に1.0M水素化トリsec−ブチルホウ素リチ
ウムテトラヒドロフラン溶液100mlを滴下し、滴下後、
室温で2時間攪拌した。過剰の還元剤を水を加えて分解
し、更に残存するアルキルボランをアルカリ性過酸化水
素で分解した後に酢酸エチルにより抽出した。抽出液を
合わせ食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。
減圧下に濃縮して得られる濃縮物を酢酸エチルより再結
晶することにより、下記に示す物性値を有する21,21−
ジメトキシ−20−メチルプレグン−6−エン−1α,3
β,5α−トリオールを2.90g得た。
IRスペクトル(KBr):3450cm-1 実施例96 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6−エン−
3β−オール0.1gをテトラヒドロフラン5mlに溶解し、
この溶液を水素化アルミニウムリチウム0.05gをテトラ
ヒドロフラン5mlに懸濁させた懸濁液中に氷冷下に滴下
した。滴下終了後、室温で2時間攪拌した。以下実施例
93と同様の分離・精製操作を行うことにより、実施例93
で得られたものと同じ物性値を有する20−(5,5−ジメ
チル−1,3−ジオキサン−2−イル)プレグン−6−エ
ン−1α,3β,5α−トリオールを0.07g得た。
−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6−エン−
3β−オール0.1gをテトラヒドロフラン5mlに溶解し、
この溶液を水素化アルミニウムリチウム0.05gをテトラ
ヒドロフラン5mlに懸濁させた懸濁液中に氷冷下に滴下
した。滴下終了後、室温で2時間攪拌した。以下実施例
93と同様の分離・精製操作を行うことにより、実施例93
で得られたものと同じ物性値を有する20−(5,5−ジメ
チル−1,3−ジオキサン−2−イル)プレグン−6−エ
ン−1α,3β,5α−トリオールを0.07g得た。
実施例97 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−3β−メトキシカル
ボニルオキシプレグン−6−エン0.1gをテトラヒドロフ
ラン5mlに溶解し、この溶液に氷冷下に3.4Mビス水素化
(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウムトル
エン溶液0.2mlを加え、室温で2時間攪拌した。以下実
施例94と同様の分離・精製操作を行うことにより、実施
例93で得られたものと同じ物性値を有する20−(5,5−
ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)プレグン−6
−エン−1α,3β,5α−トリオールを0.05g得た。
−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−3β−メトキシカル
ボニルオキシプレグン−6−エン0.1gをテトラヒドロフ
ラン5mlに溶解し、この溶液に氷冷下に3.4Mビス水素化
(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウムトル
エン溶液0.2mlを加え、室温で2時間攪拌した。以下実
施例94と同様の分離・精製操作を行うことにより、実施
例93で得られたものと同じ物性値を有する20−(5,5−
ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)プレグン−6
−エン−1α,3β,5α−トリオールを0.05g得た。
実施例98 20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−3β−アセ
トキシ−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6−
エン0.1gをテトラヒドロフラン5mlに溶解し、この溶液
に氷冷下に1.0M水素化トリsec−ブチルホウ素リチウム
テトラヒドロフラン溶液1mlを滴下した。滴下後、室温
で2時間攪拌した。以下実施例95と同様の分離・精製操
作を行うことにより、実施例94で得られたものと同じ物
性値を有する20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)プ
レグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオールを0.06g
得た。
トキシ−1α,2α;4α,5α−ジエポキシプレグン−6−
エン0.1gをテトラヒドロフラン5mlに溶解し、この溶液
に氷冷下に1.0M水素化トリsec−ブチルホウ素リチウム
テトラヒドロフラン溶液1mlを滴下した。滴下後、室温
で2時間攪拌した。以下実施例95と同様の分離・精製操
作を行うことにより、実施例94で得られたものと同じ物
性値を有する20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)プ
レグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオールを0.06g
得た。
実施例99 20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α;4
α,5α−ジエポキシ−3β−(N−メチルカルバモイ
ル)オキシプレグン−6−エン0.1gをテトラヒドロフラ
ン5mlに溶解し、この溶液を水素化アルミニウムリチウ
ム0.05gをテトラヒドロフラン5mlに懸濁させた懸濁液中
に氷冷下に滴下した。滴下終了後、室温で2時間攪拌し
た。以下実施例93と同様の分離・精製操作を行うことに
より、実施例94で得られたものと同じ物性値を有する20
−(1,3−ジオキソラン−2−イル)プレグン−6−エ
ン−1α,3β,5α−トリオールを0.07g得た。
α,5α−ジエポキシ−3β−(N−メチルカルバモイ
ル)オキシプレグン−6−エン0.1gをテトラヒドロフラ
ン5mlに溶解し、この溶液を水素化アルミニウムリチウ
ム0.05gをテトラヒドロフラン5mlに懸濁させた懸濁液中
に氷冷下に滴下した。滴下終了後、室温で2時間攪拌し
た。以下実施例93と同様の分離・精製操作を行うことに
より、実施例94で得られたものと同じ物性値を有する20
−(1,3−ジオキソラン−2−イル)プレグン−6−エ
ン−1α,3β,5α−トリオールを0.07g得た。
実施例100 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−3β−(N,N−ジメ
チルカルバモイル)オキシプレグン−6−エン0.1gをテ
トラヒドロフラン5mlに溶解し、この溶液を水素化アル
ミニウムリチウム0.05gをテトラヒドロフラン5mlに懸濁
させた懸濁液中に氷冷下に滴下した。滴下終了後、室温
で2時間攪拌した。以下実施例93と同様の分離・精製操
作を行うことにより、実施例93で得られたものと同じ物
性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−
2−イル)プレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオ
ールを0.06g得た。
−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−3β−(N,N−ジメ
チルカルバモイル)オキシプレグン−6−エン0.1gをテ
トラヒドロフラン5mlに溶解し、この溶液を水素化アル
ミニウムリチウム0.05gをテトラヒドロフラン5mlに懸濁
させた懸濁液中に氷冷下に滴下した。滴下終了後、室温
で2時間攪拌した。以下実施例93と同様の分離・精製操
作を行うことにより、実施例93で得られたものと同じ物
性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−
2−イル)プレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオ
ールを0.06g得た。
実施例101 1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−21,21−ジメトキシ
−20−メチル−3β−(N−フエニルカルバモイル)オ
キシプレグン−6−エン0.1gをテトラヒドロフラン5ml
に溶解し、この溶液を水素化アルミニウムリチウム0.05
gをテトラヒドロフラン5mlに懸濁させた懸濁液中に氷冷
下に滴下した。滴下終了後、室温で2時間攪拌した。以
下実施例93と同様の分離・精製操作を行うことにより、
実施例95で得られたものと同じ物性値を有する21,21−
ジメトキシ−20−メチルプレグン−6−エン−1α,3
β,5α−トリオールを0.07g得た。
−20−メチル−3β−(N−フエニルカルバモイル)オ
キシプレグン−6−エン0.1gをテトラヒドロフラン5ml
に溶解し、この溶液を水素化アルミニウムリチウム0.05
gをテトラヒドロフラン5mlに懸濁させた懸濁液中に氷冷
下に滴下した。滴下終了後、室温で2時間攪拌した。以
下実施例93と同様の分離・精製操作を行うことにより、
実施例95で得られたものと同じ物性値を有する21,21−
ジメトキシ−20−メチルプレグン−6−エン−1α,3
β,5α−トリオールを0.07g得た。
実施例102 3β−ベンゾイルオキシ−1α,2α;4α,5α−ジエポ
キシ−21,21−ジメトキシ−2−メチルプレグン−6−
エン0.1gをテトラヒドロフラン5mlに溶解し、この溶液
を水素化アルミニウムリチウム0.05gをテトラヒドロフ
ラン5mlに懸濁させた懸濁液中に氷冷下に滴下した。滴
下終了後、室温で2時間攪拌した。以下実施例93と同様
の分離・精製操作を行うことにより、実施例95で得られ
たものと同じ物性値を有する21,21−ジメトキシ−20−
メチルプレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオール
を0.07g得た。
キシ−21,21−ジメトキシ−2−メチルプレグン−6−
エン0.1gをテトラヒドロフラン5mlに溶解し、この溶液
を水素化アルミニウムリチウム0.05gをテトラヒドロフ
ラン5mlに懸濁させた懸濁液中に氷冷下に滴下した。滴
下終了後、室温で2時間攪拌した。以下実施例93と同様
の分離・精製操作を行うことにより、実施例95で得られ
たものと同じ物性値を有する21,21−ジメトキシ−20−
メチルプレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオール
を0.07g得た。
実施例103 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
プレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオール400mg
を塩化メチレン9mlに懸濁し、ピリジン2.2ml及び触媒量
のN,N−ジメチル−4−アミノピリジンを加えた。この
混合物に氷冷下にクロル炭酸メチル0.75mlをゆつくりと
滴下したのち室温で45分間攪拌した。得られた反応混合
物を冷希塩酸にあけ、塩化メチレンで抽出した。抽出液
を合わせ、重曹水及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ム上で乾燥した。減圧下に濃縮し、得られた濃縮物をシ
リカゲルクロマトグラフイーで精製することにより下記
に示す物性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−3β−(メトキシカルボニル)オ
キシプレグン−6−エン−1α,5α−ジオールを486mg
得た。
プレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオール400mg
を塩化メチレン9mlに懸濁し、ピリジン2.2ml及び触媒量
のN,N−ジメチル−4−アミノピリジンを加えた。この
混合物に氷冷下にクロル炭酸メチル0.75mlをゆつくりと
滴下したのち室温で45分間攪拌した。得られた反応混合
物を冷希塩酸にあけ、塩化メチレンで抽出した。抽出液
を合わせ、重曹水及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ム上で乾燥した。減圧下に濃縮し、得られた濃縮物をシ
リカゲルクロマトグラフイーで精製することにより下記
に示す物性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−3β−(メトキシカルボニル)オ
キシプレグン−6−エン−1α,5α−ジオールを486mg
得た。
IRスペクトル(KBr):3250,1750cm-1 実施例104 20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)プレグン−6
−エン−1α,3β,5α−トリオール400mgをピリジン5ml
に溶解した。この溶液に−10〜0℃の温度範囲内で無水
酢酸0.11mlを加え、氷冷下で2時間攪拌した。得られた
反応混合物を氷水にあけ、室温で30分間攪拌した。エー
テルで抽出し、抽出液を合わせ、水、冷希塩酸、水、重
曹水及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し
た。減圧下で濃縮し、得られた濃縮物をシリカゲルクロ
マトグラフイーで精製することにより下記に示す物性値
を有する20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−3β
−アセトキシプレグン−6−エン−1α,5α−ジオール
を420mg得た。
−エン−1α,3β,5α−トリオール400mgをピリジン5ml
に溶解した。この溶液に−10〜0℃の温度範囲内で無水
酢酸0.11mlを加え、氷冷下で2時間攪拌した。得られた
反応混合物を氷水にあけ、室温で30分間攪拌した。エー
テルで抽出し、抽出液を合わせ、水、冷希塩酸、水、重
曹水及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し
た。減圧下で濃縮し、得られた濃縮物をシリカゲルクロ
マトグラフイーで精製することにより下記に示す物性値
を有する20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−3β
−アセトキシプレグン−6−エン−1α,5α−ジオール
を420mg得た。
IRスペクトル(KBr):3240,1730cm-1 実施例105 21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグン−6−エン
−1α,3β,5α−トリオール400mgを塩化メチレンに懸
濁させ、ピリジン2mlを加えた。この懸濁液に氷冷下に
塩化ベンゾイル0.14mlを加え、2時間攪拌した。以下実
施例103と同様に分離操作を行うことにより、下記に示
す物性値を有する3β−ベンゾイルオキシ−21,21−ジ
メトキシ−20−メチルプレグン−6−エン−1α,5α−
ジオールを430mg得た。
−1α,3β,5α−トリオール400mgを塩化メチレンに懸
濁させ、ピリジン2mlを加えた。この懸濁液に氷冷下に
塩化ベンゾイル0.14mlを加え、2時間攪拌した。以下実
施例103と同様に分離操作を行うことにより、下記に示
す物性値を有する3β−ベンゾイルオキシ−21,21−ジ
メトキシ−20−メチルプレグン−6−エン−1α,5α−
ジオールを430mg得た。
IRスペクトル(KBr):3240,1720cm-1 実施例106 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
プレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオール400mg
をトルエン20mlに懸濁し、ピリジンを1滴加えた。この
懸濁液に氷冷下にメチルイソシアナート0.8mlを加え、6
0℃で45分間攪拌した。得られた反応混合物を氷水にあ
け、塩化メチレンで抽出した。抽出液を合わせ、水及び
食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧下
に濃縮し、得られた濃縮物をシリカゲルクロマトグラフ
イーで精製することにより下記に示す物性値を有する20
−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−3
β−(N−メチルカルバモイル)オキシプレグン−6−
エン−1α,5α−ジオールを486mg得た。
プレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオール400mg
をトルエン20mlに懸濁し、ピリジンを1滴加えた。この
懸濁液に氷冷下にメチルイソシアナート0.8mlを加え、6
0℃で45分間攪拌した。得られた反応混合物を氷水にあ
け、塩化メチレンで抽出した。抽出液を合わせ、水及び
食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧下
に濃縮し、得られた濃縮物をシリカゲルクロマトグラフ
イーで精製することにより下記に示す物性値を有する20
−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−3
β−(N−メチルカルバモイル)オキシプレグン−6−
エン−1α,5α−ジオールを486mg得た。
IRスペクトル(KBr):3250,1710cm-1 実施例107 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
プレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオール400mg
をトルエン20mlに懸濁し、ピリジンを1滴加えた。この
懸濁液に氷冷下にフエニルイソシアナート0.8mlを加
え、60℃で45分間攪拌した。得られた反応混合物を氷水
にあけ、塩化メチレンで抽出した。抽出液を合わせ、水
及び食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減
圧下に濃縮し、得られた濃縮物をシリカゲルクロマトグ
ラフイーで精製することにより下記に示す物性値を有す
る20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−3β−(N−フエニルカルバモイル)オキシプレグン
−6−エン−1α,5α−ジオールを412mg得た。
プレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオール400mg
をトルエン20mlに懸濁し、ピリジンを1滴加えた。この
懸濁液に氷冷下にフエニルイソシアナート0.8mlを加
え、60℃で45分間攪拌した。得られた反応混合物を氷水
にあけ、塩化メチレンで抽出した。抽出液を合わせ、水
及び食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減
圧下に濃縮し、得られた濃縮物をシリカゲルクロマトグ
ラフイーで精製することにより下記に示す物性値を有す
る20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−3β−(N−フエニルカルバモイル)オキシプレグン
−6−エン−1α,5α−ジオールを412mg得た。
IRスペクトル(KBr):3350,1720cm-1 実施例108 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
プレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオール400mg
をトルエン20mlに懸濁し、ピリジン5ml及びN,N−ジメチ
ル−4−アミノピリジン0.1gを加えた。この懸濁液に氷
冷下に塩化N,N−ジメチルカルバモイル0.8mlを加え、60
℃で10時間攪拌した。得られた反応混合物を冷希塩酸に
あけ、塩化メチレンで抽出した。抽出液を合わせ、重曹
水及び食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。
減圧下に濃縮し、得られた濃縮物をシリカゲルクロマト
グラフイーで精製することにより下記に示す物性値を有
する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−3β−(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシプ
レグン−6−エン−1α,5α−ジオールを435mg得た。
プレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオール400mg
をトルエン20mlに懸濁し、ピリジン5ml及びN,N−ジメチ
ル−4−アミノピリジン0.1gを加えた。この懸濁液に氷
冷下に塩化N,N−ジメチルカルバモイル0.8mlを加え、60
℃で10時間攪拌した。得られた反応混合物を冷希塩酸に
あけ、塩化メチレンで抽出した。抽出液を合わせ、重曹
水及び食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。
減圧下に濃縮し、得られた濃縮物をシリカゲルクロマト
グラフイーで精製することにより下記に示す物性値を有
する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル)−3β−(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシプ
レグン−6−エン−1α,5α−ジオールを435mg得た。
IRスペクトル(KBr):3300,1695cm-1 実施例109 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
プレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオール400mg
をN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解し、イミダゾ
ール0.6g加え、氷冷下に塩化tert−ブチルジメチルシリ
ル0.7gを加えたのち室温で10時間攪拌した。得られた反
応混合物を水にあけ、エーテルで抽出した。抽出液を合
わせ、水及び食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
した。減圧下に濃縮し、得られた濃縮物をシリカゲルク
ロマトグラフイーで精製することにより下記に示す物性
値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2
−イル)−3β−(tert−ブチルジメチルシリル)オキ
シプレグン−6−エン−1α,5α−ジオールを490mg得
た。
プレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオール400mg
をN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解し、イミダゾ
ール0.6g加え、氷冷下に塩化tert−ブチルジメチルシリ
ル0.7gを加えたのち室温で10時間攪拌した。得られた反
応混合物を水にあけ、エーテルで抽出した。抽出液を合
わせ、水及び食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
した。減圧下に濃縮し、得られた濃縮物をシリカゲルク
ロマトグラフイーで精製することにより下記に示す物性
値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2
−イル)−3β−(tert−ブチルジメチルシリル)オキ
シプレグン−6−エン−1α,5α−ジオールを490mg得
た。
IRスペクトル(KBr):3350cm-1 実施例110 20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)プレグン−6
−エン−1α,3β,5α−トリオール400mgをテトラヒド
ロフラン5mlに溶解した。この溶液を氷冷下に、60%水
素化ナトリウム60mgをテトラヒドロフラン5mlに懸濁さ
せた懸濁液中に加え、室温で1時間攪拌した。得られた
混合物にクロルメチルエーテル120mgを加え、60℃の温
度で2時間攪拌した。反応混合液を氷水にあけ、エーテ
ルで抽出し、抽出液を合わせたのち重曹水及び食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下で濃縮
し、得られた濃縮物をシリカゲルクロマトグラフイーで
精製することにより下記に示す物性値を有する20−(1,
3−ジオキソラン−2−イル)−3β−(メトキシメチ
ル)オキシプレグン−6−エン−1α,5α−ジオールを
420mg得た。
−エン−1α,3β,5α−トリオール400mgをテトラヒド
ロフラン5mlに溶解した。この溶液を氷冷下に、60%水
素化ナトリウム60mgをテトラヒドロフラン5mlに懸濁さ
せた懸濁液中に加え、室温で1時間攪拌した。得られた
混合物にクロルメチルエーテル120mgを加え、60℃の温
度で2時間攪拌した。反応混合液を氷水にあけ、エーテ
ルで抽出し、抽出液を合わせたのち重曹水及び食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧下で濃縮
し、得られた濃縮物をシリカゲルクロマトグラフイーで
精製することにより下記に示す物性値を有する20−(1,
3−ジオキソラン−2−イル)−3β−(メトキシメチ
ル)オキシプレグン−6−エン−1α,5α−ジオールを
420mg得た。
IRスペクトル(KBr):3240cm-1 実施例111 実施例109において、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジ
オキサン−2−イル)プレグン−6−エン−1α,3β,5
α−トリオール400mgの代わりに21,21−ジメトキシ−20
−メチルプレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオー
ル400mgを用いる以外は同様にして反応及び分離・精製
の操作を行うことにより、下記に示す物性値を有する3
β−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−21,21−ジメ
トキシ−20−メチルプレグン−6−エン−1α,5α−ジ
オールを500mg得た。
オキサン−2−イル)プレグン−6−エン−1α,3β,5
α−トリオール400mgの代わりに21,21−ジメトキシ−20
−メチルプレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオー
ル400mgを用いる以外は同様にして反応及び分離・精製
の操作を行うことにより、下記に示す物性値を有する3
β−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−21,21−ジメ
トキシ−20−メチルプレグン−6−エン−1α,5α−ジ
オールを500mg得た。
IRスペクトル(KBr):3240cm-1 実施例112 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−3β−(tert−ブチ
ルジメチルシリル)オキシプレグン−6−エン100mgを
テトラヒドロフラン5mlに溶解し、この溶液を水素化ア
ルミニウムリチウム50mgをテトラヒドロフラン5mlに懸
濁させた懸濁液中に氷冷下で滴下した。この混合物を室
温で2時間攪拌した。以下実施例93と同様の分離・精製
操作を行うことにより、実施例109で得られたものと同
じ物性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサ
ン−2−イル)−3β−(tert−ブチルジメチルシリ
ル)オキシプレグン−6−エン−1α,5α−ジオールを
49mg得た。
−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ−3β−(tert−ブチ
ルジメチルシリル)オキシプレグン−6−エン100mgを
テトラヒドロフラン5mlに溶解し、この溶液を水素化ア
ルミニウムリチウム50mgをテトラヒドロフラン5mlに懸
濁させた懸濁液中に氷冷下で滴下した。この混合物を室
温で2時間攪拌した。以下実施例93と同様の分離・精製
操作を行うことにより、実施例109で得られたものと同
じ物性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサ
ン−2−イル)−3β−(tert−ブチルジメチルシリ
ル)オキシプレグン−6−エン−1α,5α−ジオールを
49mg得た。
実施例113 20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α,2α;4
α,5α−ジエポキシ−3β−(メトキシメチル)オキシ
プレグン−6−エン100mgをテトラヒドロフラン5mlに溶
解した。この溶液に氷冷下に3.4M水素化ビス(2−メト
キシエトキシ)アルミニウムナトリウムトルエン溶液0.
2mlを加え、室温で2時間攪拌した。以下実施例94と同
様の分離・精製操作を行うことにより、実施例110で得
られたものと同じ物性値を有する20−(1,3−ジオキソ
ラン−2−イル)−3β−(メトキシメチル)オキシプ
レグン−6−エン−1α,5α−ジオール42mg得た。
α,5α−ジエポキシ−3β−(メトキシメチル)オキシ
プレグン−6−エン100mgをテトラヒドロフラン5mlに溶
解した。この溶液に氷冷下に3.4M水素化ビス(2−メト
キシエトキシ)アルミニウムナトリウムトルエン溶液0.
2mlを加え、室温で2時間攪拌した。以下実施例94と同
様の分離・精製操作を行うことにより、実施例110で得
られたものと同じ物性値を有する20−(1,3−ジオキソ
ラン−2−イル)−3β−(メトキシメチル)オキシプ
レグン−6−エン−1α,5α−ジオール42mg得た。
実施例114 実施例112において、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジ
オキサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ
−3β−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシプレグ
ン−6−エン100mgの代わりに1α,2α;4α,5α−ジエ
ポキシ−21,21−ジメトキシ−20−メチル−3β−(ter
t−ブチルジメチルシリル)オキシプレグン−6−エン1
00mgを用いる以外は同様にして反応及び分離・精製の操
作を行うことにより、実施例111で得られたものと同じ
物性値を有する3β−tert−ブチルジメチルシリルオキ
シ−21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグン−6−エ
ン−1α,5α−ジオールを50mg得た。
オキサン−2−イル)−1α,2α;4α,5α−ジエポキシ
−3β−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシプレグ
ン−6−エン100mgの代わりに1α,2α;4α,5α−ジエ
ポキシ−21,21−ジメトキシ−20−メチル−3β−(ter
t−ブチルジメチルシリル)オキシプレグン−6−エン1
00mgを用いる以外は同様にして反応及び分離・精製の操
作を行うことにより、実施例111で得られたものと同じ
物性値を有する3β−tert−ブチルジメチルシリルオキ
シ−21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグン−6−エ
ン−1α,5α−ジオールを50mg得た。
実施例115 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−3β−(メトキシカルボニルオキシ)プレグン−6−
エン−1α,5α−ジオール262mgを塩化メチレン5mlに溶
解し、ジイソプロピルエチルアミン1.7ml及び触媒量の
4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジンを加え、氷冷下
に攪拌した。この混合物にクロル炭酸メチル0.19mlをゆ
つくりと加え、室温で2.5時間攪拌した。得られた反応
混合液を氷水にあけ、エーテルで抽出した。抽出液を合
わせ、水、重曹水及び食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネ
シウム上で乾燥した。減圧下に濃縮し、濃縮物をカラム
クロマトグラフイーにより精製することにより、下記に
示す物性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,3β−ビス(メトキシカルボニ
ルオキシ)プレグン−6−エン−5α−オールを243mg
得た。
−3β−(メトキシカルボニルオキシ)プレグン−6−
エン−1α,5α−ジオール262mgを塩化メチレン5mlに溶
解し、ジイソプロピルエチルアミン1.7ml及び触媒量の
4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジンを加え、氷冷下
に攪拌した。この混合物にクロル炭酸メチル0.19mlをゆ
つくりと加え、室温で2.5時間攪拌した。得られた反応
混合液を氷水にあけ、エーテルで抽出した。抽出液を合
わせ、水、重曹水及び食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネ
シウム上で乾燥した。減圧下に濃縮し、濃縮物をカラム
クロマトグラフイーにより精製することにより、下記に
示す物性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イル)−1α,3β−ビス(メトキシカルボニ
ルオキシ)プレグン−6−エン−5α−オールを243mg
得た。
IRスペクトル(KBr):3320,1750cm-1 実施例116 実施例105において21,21−ジメトキシ−20−メチルプ
レグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオール400mgの
代わりに20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−3β
−アセトキシプレグン−6−エン−1α,5α−ジオール
350mgを用いる以外は同様にして反応及び分離・精製の
操作を行うことにより、下記に示す物性値を有する20−
(1,3−ジオキソラン−2−イル)−3β−アセトキシ
−1α−ベンゾイルオキシプレグン−6−エン−5α−
オールを400mg得た。
レグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオール400mgの
代わりに20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−3β
−アセトキシプレグン−6−エン−1α,5α−ジオール
350mgを用いる以外は同様にして反応及び分離・精製の
操作を行うことにより、下記に示す物性値を有する20−
(1,3−ジオキソラン−2−イル)−3β−アセトキシ
−1α−ベンゾイルオキシプレグン−6−エン−5α−
オールを400mg得た。
IRスペクトル(KBr):3320,1735,1720cm-1 実施例117 実施例106において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)プレグン−6−エン−1α,3β,5α
−トリオール400mgの代わりに3β−ベンゾイルオキシ
−21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグン−6−エン
−1α,5α−ジオール350mgを用いる以外は同様にして
反応及び分離・精製の操作を行うことにより、下記に示
す物性値を有する3β−ベンゾイルオキシ−21,21−ジ
メトキシ−20−メチル−1α−(N−メチルカルバモイ
ル)オキシプレグン−6−エン−1α,5α−ジオールを
380mg得た。
キサン−2−イル)プレグン−6−エン−1α,3β,5α
−トリオール400mgの代わりに3β−ベンゾイルオキシ
−21,21−ジメトキシ−20−メチルプレグン−6−エン
−1α,5α−ジオール350mgを用いる以外は同様にして
反応及び分離・精製の操作を行うことにより、下記に示
す物性値を有する3β−ベンゾイルオキシ−21,21−ジ
メトキシ−20−メチル−1α−(N−メチルカルバモイ
ル)オキシプレグン−6−エン−1α,5α−ジオールを
380mg得た。
IRスペクトル(KBr):3240,1720,1710cm-1 実施例118 実施例107において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)プレグン−6−エン−1α,3β,5α
−トリオール400mgの代わりに20−(5,5−ジメチル−1,
3−ジオキサン−2−イル)−3β−(N−メチルカル
バモイル)オキシプレグン−1α,5α−ジオール350mg
を用いる以外は同様にして反応及び分離・精製の操作を
行うことにより、下記に示す物性値を有する20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−3β−
(N−メチルカルバモイル)オキシ−1α−(N−フエ
ニルカルバモイル)オキシプレグン−6−エン−5α−
オールを355mg得た。
キサン−2−イル)プレグン−6−エン−1α,3β,5α
−トリオール400mgの代わりに20−(5,5−ジメチル−1,
3−ジオキサン−2−イル)−3β−(N−メチルカル
バモイル)オキシプレグン−1α,5α−ジオール350mg
を用いる以外は同様にして反応及び分離・精製の操作を
行うことにより、下記に示す物性値を有する20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−3β−
(N−メチルカルバモイル)オキシ−1α−(N−フエ
ニルカルバモイル)オキシプレグン−6−エン−5α−
オールを355mg得た。
IRスペクトル(KBr):3250,1720,1710cm-1 実施例119 実施例108において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)プレグン−6−エン−1α,3β,5α
−トリオール400mgの代わりに20−(5,5−ジメチル−1,
3−ジオキサン−2−イル)−3β−(N−フエニルカ
ルバモイル)オキシプレグン−6−エン−1α,5α−ジ
オール350mgを用いる以外は同様にして反応及び分離・
精製の操作を行うことにより、下記に示す物性値を有す
る20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α−(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシ−3β
−(N−フエニルカルバモイル)オキシプレグン−6−
エン−5α−オール340mg得た。
キサン−2−イル)プレグン−6−エン−1α,3β,5α
−トリオール400mgの代わりに20−(5,5−ジメチル−1,
3−ジオキサン−2−イル)−3β−(N−フエニルカ
ルバモイル)オキシプレグン−6−エン−1α,5α−ジ
オール350mgを用いる以外は同様にして反応及び分離・
精製の操作を行うことにより、下記に示す物性値を有す
る20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α−(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシ−3β
−(N−フエニルカルバモイル)オキシプレグン−6−
エン−5α−オール340mg得た。
IRスペクトル(KBr):3350,1720,1690cm-1 実施例120 実施例109において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)プレグン−6−エン−1α,3β,5α
−トリオール400mgの代わりに20−(5,5−ジメチル−1,
3−ジオキサン−2−イル)−3β−(N,N−ジメチルカ
ルバモイル)オキシプレグン−6−エン−1α,5α−ジ
オール350mgを用いる以外は同様にして反応及び分離・
精製の操作を行うことにより、下記に示す物性値を有す
る20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α−(tert−ブチルジメチルシリ)オキシ−3β−
(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシプレグン−6−
エン−5α−オールを335mg得た。
キサン−2−イル)プレグン−6−エン−1α,3β,5α
−トリオール400mgの代わりに20−(5,5−ジメチル−1,
3−ジオキサン−2−イル)−3β−(N,N−ジメチルカ
ルバモイル)オキシプレグン−6−エン−1α,5α−ジ
オール350mgを用いる以外は同様にして反応及び分離・
精製の操作を行うことにより、下記に示す物性値を有す
る20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α−(tert−ブチルジメチルシリ)オキシ−3β−
(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシプレグン−6−
エン−5α−オールを335mg得た。
IRスペクトル(KBr):3320,1695cm-1 実施例121 実施例110において20−(1,3−ジオキソラン−2−イ
ル)プレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオール40
0mgの代わりに20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン
−2−イル)−3β−(tert−プチルジメチルシリル)
オキシプレグン−6−エン−1α,5α−ジオール400mg
を用いる以外は同様にして反応及び分離・精製の操作を
行い、下記に示す物性値を有する20−(5,5−ジメチル
−1,3−ジオキサン−2−イル)−3β−(tert−ブチ
ルジメチルシリル)オキシ−1α−(メトキシメチル)
オキシプレグン−6−エン−5α−オールを320mg得
た。
ル)プレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオール40
0mgの代わりに20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン
−2−イル)−3β−(tert−プチルジメチルシリル)
オキシプレグン−6−エン−1α,5α−ジオール400mg
を用いる以外は同様にして反応及び分離・精製の操作を
行い、下記に示す物性値を有する20−(5,5−ジメチル
−1,3−ジオキサン−2−イル)−3β−(tert−ブチ
ルジメチルシリル)オキシ−1α−(メトキシメチル)
オキシプレグン−6−エン−5α−オールを320mg得
た。
IRスペクトル(KBr):3350cm-1 実施例122 実施例104において、20−(1,3−ジオキソラン−2−
イル)プレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオール
400mgの代わりに20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)
−3β−(メトキシメチル)オキシプレグン−6−エン
−1α,5α−ジオール350mgを用いる以外は同様にして
反応及び分離・精製の操作を行うことにより、下記に示
す物性値を有する20−(1,3−ジオキソラン−2−イ
ル)−1α−アセトキシ−3β−(メトキシメチル)オ
キシプレグン−6−エン−1α,5α−ジオールを360mg
得た。
イル)プレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオール
400mgの代わりに20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)
−3β−(メトキシメチル)オキシプレグン−6−エン
−1α,5α−ジオール350mgを用いる以外は同様にして
反応及び分離・精製の操作を行うことにより、下記に示
す物性値を有する20−(1,3−ジオキソラン−2−イ
ル)−1α−アセトキシ−3β−(メトキシメチル)オ
キシプレグン−6−エン−1α,5α−ジオールを360mg
得た。
IRスペクトル(KBr):3240,1735cm-1 実施例123 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
プレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオール400mg
をピリジン5mlに溶解し、4−(N,N−ジメチルアミノ)
ピリジン50mg及び無水酢酸1mlを加え、室温で2時間攪
拌した。以下、実施例104と同様の分離・精製操作を行
い、下記に示す物性値を有する20−(5,5−ジメチル−
1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,3β−ジアセトキ
シプレグン−6−エン−5α−オールを420mg得た。
プレグン−6−エン−1α,3β,5α−トリオール400mg
をピリジン5mlに溶解し、4−(N,N−ジメチルアミノ)
ピリジン50mg及び無水酢酸1mlを加え、室温で2時間攪
拌した。以下、実施例104と同様の分離・精製操作を行
い、下記に示す物性値を有する20−(5,5−ジメチル−
1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,3β−ジアセトキ
シプレグン−6−エン−5α−オールを420mg得た。
IRスペクトル(KBr):3320,1735cm-1 実施例124 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)プレグ
ン−6−エン−5α−オール345mgを炭酸ジメチル10ml
に溶解し、酢酸0.2mlを加え、アルゴン雰囲気下に10時
間加熱還流した。反応混合物を氷水にあけ、エーテルで
抽出した。抽出液を合わせ、冷水酸化ナトリウム水溶液
及び重曹水で中和し、食塩水で洗浄した。減圧下に濃縮
し、カラムクロマトグラフイーで精製することにより、
下記に示す物性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−
ジオキサン−2−イル)−1α,3β−ビス(メトキシカ
ルボニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエンを40mg得た。
−1α,3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)プレグ
ン−6−エン−5α−オール345mgを炭酸ジメチル10ml
に溶解し、酢酸0.2mlを加え、アルゴン雰囲気下に10時
間加熱還流した。反応混合物を氷水にあけ、エーテルで
抽出した。抽出液を合わせ、冷水酸化ナトリウム水溶液
及び重曹水で中和し、食塩水で洗浄した。減圧下に濃縮
し、カラムクロマトグラフイーで精製することにより、
下記に示す物性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−
ジオキサン−2−イル)−1α,3β−ビス(メトキシカ
ルボニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエンを40mg得た。
IRスペクトル(KBr):1740cm-1 実施例125 20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−3β−アセ
トキシ−1α−ベンゾイルオキシプレグン−6−エン−
5α−オール350mgを炭酸ジエチル10mlに溶解し、モノ
クロル酢酸0.1mlを加え、アルゴン雰囲気下100℃の温度
で10時間加熱攪拌した。以下実施例124と同様の分離・
精製を行うことにより、下記に示す物性値を有する20−
(1,3−ジオキソラン−2−イル)−3β−アセトキシ
−1α−ベンゾイルオキシプレグナ−5,7−ジエンを120
mg得た。
トキシ−1α−ベンゾイルオキシプレグン−6−エン−
5α−オール350mgを炭酸ジエチル10mlに溶解し、モノ
クロル酢酸0.1mlを加え、アルゴン雰囲気下100℃の温度
で10時間加熱攪拌した。以下実施例124と同様の分離・
精製を行うことにより、下記に示す物性値を有する20−
(1,3−ジオキソラン−2−イル)−3β−アセトキシ
−1α−ベンゾイルオキシプレグナ−5,7−ジエンを120
mg得た。
IRスペクトル(KBr):1735,1720cm-1 実施例126 3β−ベンゾイルオキシ−21,21−ジメトキシ−20−
メチル−1α−(N−メチルカルバモイル)オキシプレ
グン−6−エン−5α−オール350mgをテトラヒドロフ
ラン10mlに溶解し、ジクロル酢酸50mgを加え、アルゴン
雰囲気下に12時間還流した。以下実施例124と同様の分
離・精製操作を行うことにより、下記に示す物性値を有
する3β−ベンゾイルオキシ−21,21−ジメトキシ−20
−メチル−1α−(N−メチルカルバモイル)オキシプ
レグナ−5,7−ジエンを120mg得た。
メチル−1α−(N−メチルカルバモイル)オキシプレ
グン−6−エン−5α−オール350mgをテトラヒドロフ
ラン10mlに溶解し、ジクロル酢酸50mgを加え、アルゴン
雰囲気下に12時間還流した。以下実施例124と同様の分
離・精製操作を行うことにより、下記に示す物性値を有
する3β−ベンゾイルオキシ−21,21−ジメトキシ−20
−メチル−1α−(N−メチルカルバモイル)オキシプ
レグナ−5,7−ジエンを120mg得た。
IRスペクトル(KBr):1720,1710cm-1 実施例127 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α−(N−フエニルカルバモイル)オキシ−3β−
(N−メチルカルバモイル)オキシプレグン−5α−オ
ール350mgをジオキサン10mlに溶解し、p−トルエンス
ルホン酸50mgを加え、アルゴン雰囲気下室温で3時間攪
拌した。以下、実施例124と同様の分離・精製操作を行
うことにより、下記に示す物性値を有する20−(5,5−
ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−3β−(N
−メチルカルバモイル)オキシ−1α−(N−フエニル
カルバモイル)オキシプレグナ−5,7−ジエンを110mg得
た。
−1α−(N−フエニルカルバモイル)オキシ−3β−
(N−メチルカルバモイル)オキシプレグン−5α−オ
ール350mgをジオキサン10mlに溶解し、p−トルエンス
ルホン酸50mgを加え、アルゴン雰囲気下室温で3時間攪
拌した。以下、実施例124と同様の分離・精製操作を行
うことにより、下記に示す物性値を有する20−(5,5−
ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−3β−(N
−メチルカルバモイル)オキシ−1α−(N−フエニル
カルバモイル)オキシプレグナ−5,7−ジエンを110mg得
た。
IRスペクトル(KBr):1720,1710cm-1 実施例128 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α−(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシ−3β
−(N−フエニルカルバモイル)オキシプレグン−6−
エン−5α−オール350mgをトルエン10mlに溶解し、p
−トルエンスルホン酸ピリジン塩50mgを加え、アルゴン
雰囲気下室温で10時間攪拌した。以下実施例124と同様
にして分離・精製操作を行うことにより、下記に示す物
性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−
2−イル)−1α−(N,N−ジメチルカルバモイル)オ
キシ−3β−(N−フエニルカルバモイル)オキシプレ
グナ−5,7−ジエンを100mg得た。
−1α−(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシ−3β
−(N−フエニルカルバモイル)オキシプレグン−6−
エン−5α−オール350mgをトルエン10mlに溶解し、p
−トルエンスルホン酸ピリジン塩50mgを加え、アルゴン
雰囲気下室温で10時間攪拌した。以下実施例124と同様
にして分離・精製操作を行うことにより、下記に示す物
性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−
2−イル)−1α−(N,N−ジメチルカルバモイル)オ
キシ−3β−(N−フエニルカルバモイル)オキシプレ
グナ−5,7−ジエンを100mg得た。
IRスペクトル(KBr):1720,1695cm-1 実施例129 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ−3β
−(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシプレグン−6
−エン−5α−オール350mgをベンゼン10mlに溶解し、
濃硫酸1滴を加え、アルゴン雰囲気下氷冷下に1時間攪
拌した。以下実施例124と同様にして分離・精製操作を
行うことにより、下記に示す物性値を有する20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α−(t
ert−ブチルジメチルシリル)オキシ−3β−(N,N−ジ
メチルカルバモイル)オキシプレグナ−5,7−ジエンを1
35mg得た。
−1α−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ−3β
−(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシプレグン−6
−エン−5α−オール350mgをベンゼン10mlに溶解し、
濃硫酸1滴を加え、アルゴン雰囲気下氷冷下に1時間攪
拌した。以下実施例124と同様にして分離・精製操作を
行うことにより、下記に示す物性値を有する20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α−(t
ert−ブチルジメチルシリル)オキシ−3β−(N,N−ジ
メチルカルバモイル)オキシプレグナ−5,7−ジエンを1
35mg得た。
IRスペクトル(KBr):1695cm-1 実施例130 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−3β−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ−1α
−(メトキシメチル)オキシプレグン−6−エン−5α
−オール400mgを酢酸エチル10mlに溶解し、酢酸0.2mlを
加え、アルゴン雰囲気下で12時間加熱還流した。以下、
実施例124と同様にして分離・精製を行い、下記に示す
物性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン
−2−イル)−3β−(tert−ブチルジメチルシリル)
オキシ−1α−(メトキシメチル)オキシプレグナ−5,
7−ジエンを150mg得た。
−3β−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ−1α
−(メトキシメチル)オキシプレグン−6−エン−5α
−オール400mgを酢酸エチル10mlに溶解し、酢酸0.2mlを
加え、アルゴン雰囲気下で12時間加熱還流した。以下、
実施例124と同様にして分離・精製を行い、下記に示す
物性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン
−2−イル)−3β−(tert−ブチルジメチルシリル)
オキシ−1α−(メトキシメチル)オキシプレグナ−5,
7−ジエンを150mg得た。
実施例131 20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α−アセ
トキシ−3β−(メトキシメチル)オキシプレグン−6
−エン−5α−オール350mgを酢酸ブチル10mlに溶解
し、酢酸0.2mlを加え、アルゴン雰囲気下100℃の温度で
12時間加熱攪拌した。以下、実施例124と同様にして分
離・精製操作を行うことにより、下記に示す物性値を有
する20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α−ア
セトキシ−3β−(メトキシメチル)オキシプレグナ−
5,7−ジエンを100mg得た。
トキシ−3β−(メトキシメチル)オキシプレグン−6
−エン−5α−オール350mgを酢酸ブチル10mlに溶解
し、酢酸0.2mlを加え、アルゴン雰囲気下100℃の温度で
12時間加熱攪拌した。以下、実施例124と同様にして分
離・精製操作を行うことにより、下記に示す物性値を有
する20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α−ア
セトキシ−3β−(メトキシメチル)オキシプレグナ−
5,7−ジエンを100mg得た。
IRスペクトル(KBr):1735cm-1 実施例132 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)プレグ
ン−6−エン−5α−オール345mgを炭酸ジメチル10ml
に溶解し、酢酸0.2mlを加え、アルゴン雰囲気下に10時
間加熱還流した。反応混合物を氷水にあけ、エーテルで
抽出した。抽出液を合わせ、冷水酸化ナトリウム水溶液
及び重曹水で中和し、食塩水で洗浄した。減圧下に濃縮
し、得られた濃縮物をカラムクロマトグラフイーで精製
することにより、下記に示す物性値を有する20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,3β,
7α−トリス(メトキシカルボニルオキシ)プレグン−
5−エンを140mg得た。
−1α,3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)プレグ
ン−6−エン−5α−オール345mgを炭酸ジメチル10ml
に溶解し、酢酸0.2mlを加え、アルゴン雰囲気下に10時
間加熱還流した。反応混合物を氷水にあけ、エーテルで
抽出した。抽出液を合わせ、冷水酸化ナトリウム水溶液
及び重曹水で中和し、食塩水で洗浄した。減圧下に濃縮
し、得られた濃縮物をカラムクロマトグラフイーで精製
することにより、下記に示す物性値を有する20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,3β,
7α−トリス(メトキシカルボニルオキシ)プレグン−
5−エンを140mg得た。
IRスペクトル(KBr):1745cm-1 実施例133 20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−3β−アセ
トキシ−1α−ベンゾイルオキシプレグン−6−エン−
5α−オール350mgを炭酸ジメチル10mlに溶解し、モノ
クロル酢酸0.1mlを加え、アルゴン雰囲気下100℃の温度
で10時間加熱攪拌した。以下、実施例132と同様に分離
・精製操作を行うことにより、下記に示す物性値を有す
る20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−3β−アセ
トキシ−1α−ベンゾイルオキシ−7α−(メトキシカ
ルボニル)オキシプレグン−5−エンを100mg得た。
トキシ−1α−ベンゾイルオキシプレグン−6−エン−
5α−オール350mgを炭酸ジメチル10mlに溶解し、モノ
クロル酢酸0.1mlを加え、アルゴン雰囲気下100℃の温度
で10時間加熱攪拌した。以下、実施例132と同様に分離
・精製操作を行うことにより、下記に示す物性値を有す
る20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−3β−アセ
トキシ−1α−ベンゾイルオキシ−7α−(メトキシカ
ルボニル)オキシプレグン−5−エンを100mg得た。
IRスペクトル(KBr):1745,1735,1720cm-1 実施例134 3β−ベンゾイルオキシ−21,21−ジメトキシ−20−
メチル−1α−(N−メチルカルバモイル)オキシプレ
グン−6−エン−5α−オール350mgを炭酸ジメチル10m
lに溶解し、ジクロル酢酸50mgを加え、アルゴン雰囲気
下に12時間加熱した。以下、実施例132と同様に分離・
精製操作を行うことにより、下記に示す物性値を有する
3β−ベンゾイルオキシ−21,21−ジメトキシ−20−メ
チル−1α−(N−メチルカルバモイル)オキシ−7α
−(メトキシカルボニル)オキシプレグン−5−エンを
90mg得た。
メチル−1α−(N−メチルカルバモイル)オキシプレ
グン−6−エン−5α−オール350mgを炭酸ジメチル10m
lに溶解し、ジクロル酢酸50mgを加え、アルゴン雰囲気
下に12時間加熱した。以下、実施例132と同様に分離・
精製操作を行うことにより、下記に示す物性値を有する
3β−ベンゾイルオキシ−21,21−ジメトキシ−20−メ
チル−1α−(N−メチルカルバモイル)オキシ−7α
−(メトキシカルボニル)オキシプレグン−5−エンを
90mg得た。
IRスペクトル(KBr):1750,1720,1710cm-1 実施例135 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α−(N−フエニルカルバモイル)オキシ−3β−
(N−メチルカルバモイル)オキシプレグン−5α−オ
ール350mgを炭酸ジメチル10mlに溶解し、p−トルエン
スルホン酸50mgを加え、アルゴン雰囲気下室温で3時間
攪拌した。以下、実施例132と同様の分離・精製操作を
行うことにより、下記に示す物性値を有する20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−3β−
(N−メチルカルバモイル)オキシ−1α−(N−フエ
ニルカルバモイル)オキシ−7α−(メトキシカルボニ
ル)オキシプレグン−5−エンを120mg得た。
−1α−(N−フエニルカルバモイル)オキシ−3β−
(N−メチルカルバモイル)オキシプレグン−5α−オ
ール350mgを炭酸ジメチル10mlに溶解し、p−トルエン
スルホン酸50mgを加え、アルゴン雰囲気下室温で3時間
攪拌した。以下、実施例132と同様の分離・精製操作を
行うことにより、下記に示す物性値を有する20−(5,5
−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−3β−
(N−メチルカルバモイル)オキシ−1α−(N−フエ
ニルカルバモイル)オキシ−7α−(メトキシカルボニ
ル)オキシプレグン−5−エンを120mg得た。
IRスペクトル(KBr):1745,1720,1710cm-1 実施例136 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α−(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシ−3β
−(N−フエニルカルバモイル)オキシプレグン−6−
エン−5α−オール350mgを炭酸ジメチル10mlに溶解
し、p−トルエンスルホン酸ピリジン塩50mgを加え、ア
ルゴン雰囲気下室温で10時間攪拌した。以下、実施例13
2と同様にして分離・精製操作を行うことにより、下記
に示す物性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α−(N,N−ジメチルカルバモ
イル)オキシ−3β−(N−フエニルカルバモイル)オ
キシ−7α−(メトキシカルボニル)オキシプレグン−
5−エンを150mg得た。
−1α−(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシ−3β
−(N−フエニルカルバモイル)オキシプレグン−6−
エン−5α−オール350mgを炭酸ジメチル10mlに溶解
し、p−トルエンスルホン酸ピリジン塩50mgを加え、ア
ルゴン雰囲気下室温で10時間攪拌した。以下、実施例13
2と同様にして分離・精製操作を行うことにより、下記
に示す物性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α−(N,N−ジメチルカルバモ
イル)オキシ−3β−(N−フエニルカルバモイル)オ
キシ−7α−(メトキシカルボニル)オキシプレグン−
5−エンを150mg得た。
IRスペクトル(KBr):1745,1720,1695cm-1 実施例137 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ−3β
−(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシプレグン−6
−エン−5α−オール350mgを炭酸ジメチル10mlに溶解
し、濃硫酸1滴を加え、アルゴン雰囲気下氷冷下に1時
間攪拌した。以下、実施例132と同様にして分離・精製
操作を行うことにより、下記に示す物性値を有する20−
(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α
−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ−3β−(N,
N−ジメチルカルバモイル)オキシ−7α−(メトキシ
カルボニル)オキシプレグン−5−エンを95mg得た。
−1α−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ−3β
−(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシプレグン−6
−エン−5α−オール350mgを炭酸ジメチル10mlに溶解
し、濃硫酸1滴を加え、アルゴン雰囲気下氷冷下に1時
間攪拌した。以下、実施例132と同様にして分離・精製
操作を行うことにより、下記に示す物性値を有する20−
(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α
−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ−3β−(N,
N−ジメチルカルバモイル)オキシ−7α−(メトキシ
カルボニル)オキシプレグン−5−エンを95mg得た。
IRスペクトル(KBr):1745,1695cm-1 実施例138 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−3β−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ−1α
−(メトキシメチル)オキシプレグン−6−エン−5α
−オール400mgを炭酸ジメチル10mlに溶解し、酢酸0.2ml
を加え、アルゴン雰囲気下で12時間加熱還流した。以
下、実施例132と同様にして分離・精製操作を行い、下
記に示す物性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジ
オキサン−2−イル)−3β−(tert−ブチルジメチル
シリル)オキシ−1α−(メトキシメチル)オキシ−7
α−(メトキシカルボニル)オキシプレグン−5−エン
を120mg得た。
−3β−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ−1α
−(メトキシメチル)オキシプレグン−6−エン−5α
−オール400mgを炭酸ジメチル10mlに溶解し、酢酸0.2ml
を加え、アルゴン雰囲気下で12時間加熱還流した。以
下、実施例132と同様にして分離・精製操作を行い、下
記に示す物性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジ
オキサン−2−イル)−3β−(tert−ブチルジメチル
シリル)オキシ−1α−(メトキシメチル)オキシ−7
α−(メトキシカルボニル)オキシプレグン−5−エン
を120mg得た。
IRスペクトル(KBr):1745cm-1 実施例139 20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α−アセ
トキシ−3β−(メトキシメチル)オキシプレグン−6
−エン−5α−オール350mgを炭酸ジメチル10mlに溶解
し、酢酸0.2mlを加え、アルゴン雰囲気下100℃の温度で
12時間加熱攪拌した。以下実施例132と同様にして分離
・精製操作を行うことにより、下記に示す物性値を有す
る20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α−アセ
トキシ−3β−(メトキシメチル)オキシ−7α−(メ
トキシカルボニル)オキシプレグン−5−エンを130mg
得た。
トキシ−3β−(メトキシメチル)オキシプレグン−6
−エン−5α−オール350mgを炭酸ジメチル10mlに溶解
し、酢酸0.2mlを加え、アルゴン雰囲気下100℃の温度で
12時間加熱攪拌した。以下実施例132と同様にして分離
・精製操作を行うことにより、下記に示す物性値を有す
る20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α−アセ
トキシ−3β−(メトキシメチル)オキシ−7α−(メ
トキシカルボニル)オキシプレグン−5−エンを130mg
得た。
IRスペクトル(KBr):1745,1735cm-1 実施例140 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,3β,7α−トリス(メトキシカルボニルオキシ)
プレグン−5−エン100mgをメタノール5mlに溶解し、ナ
トリウムメチラート30mgを加え室温で5時間攪拌した。
反応混合物を水にあけ、塩化メチレンで抽出した。抽出
液を合わせ、食塩水で洗浄した。減圧下に濃縮し、得ら
れた濃縮物を酢酸エチルより再結晶することにより、下
記に示す物性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジ
オキサン−2−イル)プレグン−5−エン−1α,3β,7
α−トリオールを65mg得た。
−1α,3β,7α−トリス(メトキシカルボニルオキシ)
プレグン−5−エン100mgをメタノール5mlに溶解し、ナ
トリウムメチラート30mgを加え室温で5時間攪拌した。
反応混合物を水にあけ、塩化メチレンで抽出した。抽出
液を合わせ、食塩水で洗浄した。減圧下に濃縮し、得ら
れた濃縮物を酢酸エチルより再結晶することにより、下
記に示す物性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3−ジ
オキサン−2−イル)プレグン−5−エン−1α,3β,7
α−トリオールを65mg得た。
IRスペクトル(KBr):3450cm-1 実施例141 実施例140において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α,3β,7α−トリス(メトキシ
カルボニルオキシ)プレグン−5−エン100mgの代わり
に20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ−3β
−(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシ−7α−(メ
トキシカルボニル)オキシプレグン−5−エン95mgを用
いる以外は同様にして反応及び分離・精製の操作を行う
ことにより、下記に示す物性値を有する20−(5,5−ジ
メチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α−(tert
−ブチルジメチルシリル)オキシプレグン−5−エン−
3β,7α−ジオールを55mg得た。
キサン−2−イル)−1α,3β,7α−トリス(メトキシ
カルボニルオキシ)プレグン−5−エン100mgの代わり
に20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ−3β
−(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシ−7α−(メ
トキシカルボニル)オキシプレグン−5−エン95mgを用
いる以外は同様にして反応及び分離・精製の操作を行う
ことにより、下記に示す物性値を有する20−(5,5−ジ
メチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α−(tert
−ブチルジメチルシリル)オキシプレグン−5−エン−
3β,7α−ジオールを55mg得た。
IRスペクトル(KBr):3350cm-1 実施例142 実施例140において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α,3β,7α−トリス(メトキシ
カルボニルオキシ)プレグン−5−エン100mgの代わり
に20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−3β−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ−1α
−(メトキシメチル)オキシ−7α−(メトキシカルボ
ニル)オキシプレグン−5−エン120mgを用いる以外は
同様にして反応及び分離・精製の操作を行うことによ
り、下記に示す物性値を有する20−(5,5−ジメチル−
1,3−ジオキサン−2−イル)−3β−(tert−ブチル
ジメチルシリル)オキシ−1α−(メトキシメチル)オ
キシプレグン−5−エン−7α−オールを65mg得た。
キサン−2−イル)−1α,3β,7α−トリス(メトキシ
カルボニルオキシ)プレグン−5−エン100mgの代わり
に20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−3β−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ−1α
−(メトキシメチル)オキシ−7α−(メトキシカルボ
ニル)オキシプレグン−5−エン120mgを用いる以外は
同様にして反応及び分離・精製の操作を行うことによ
り、下記に示す物性値を有する20−(5,5−ジメチル−
1,3−ジオキサン−2−イル)−3β−(tert−ブチル
ジメチルシリル)オキシ−1α−(メトキシメチル)オ
キシプレグン−5−エン−7α−オールを65mg得た。
IRスペクトル(KBr):3400cm-1 実施例143 実施例140において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α,3β,7α−トリス(メトキシ
カルボニルオキシ)プレグン−5−エン100mgの代わり
に20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α−アセ
トキシ−3β−(メトキシメチル)オキシ−7α−(メ
トキシカルボニル)オキシプレグン−5−エン90mgを用
いる以外は同様にして反応及び分離・精製の操作を行う
ことにより、下記に示す物性値を有する20−(1,3−ジ
オキソラン−2−イル)−3β−(メトキシメチル)オ
キシプレグン−5−エン−1α,7α−ジオールを65mg得
た。
キサン−2−イル)−1α,3β,7α−トリス(メトキシ
カルボニルオキシ)プレグン−5−エン100mgの代わり
に20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α−アセ
トキシ−3β−(メトキシメチル)オキシ−7α−(メ
トキシカルボニル)オキシプレグン−5−エン90mgを用
いる以外は同様にして反応及び分離・精製の操作を行う
ことにより、下記に示す物性値を有する20−(1,3−ジ
オキソラン−2−イル)−3β−(メトキシメチル)オ
キシプレグン−5−エン−1α,7α−ジオールを65mg得
た。
IRスペクトル(KBr):3400cm-1 実施例144 実施例140において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α,3β,7α−トリス(メトキシ
カルボニルオキシ)プレグン−5−エン100mgの代わり
に3β−ベンゾイルオキシ−21,21−ジメトキシ−20−
メチル−1α−(N−メチルカルバモイル)オキシ−7
α−(メトキシカルボニル)オキシプレグン−5−エン
85mgを用いる以外は同様にして反応及び分離・精製の操
作を行うことにより、下記に示す物性値を有する21,21
−ジメトキシ−20−メチルプレグン−5−エン−1α,3
β,7α−トリオールを45mg得た。
キサン−2−イル)−1α,3β,7α−トリス(メトキシ
カルボニルオキシ)プレグン−5−エン100mgの代わり
に3β−ベンゾイルオキシ−21,21−ジメトキシ−20−
メチル−1α−(N−メチルカルバモイル)オキシ−7
α−(メトキシカルボニル)オキシプレグン−5−エン
85mgを用いる以外は同様にして反応及び分離・精製の操
作を行うことにより、下記に示す物性値を有する21,21
−ジメトキシ−20−メチルプレグン−5−エン−1α,3
β,7α−トリオールを45mg得た。
IRスペクトル(KBr):3350cm-1 実施例145〜149 化合物(I−9−1b)(100mg)の7α−位の水酸基
でのエステル化反応及び生成物である化合物(I−9−
1c)の分離・精製を実施例104〜108に記載された方法に
準じて行つた。反応に使用した化合物(I−9−1b)が
有する基を第1表に、また生成した化合物(I−9−1
c)が有する基並びに該化合物の収量及びIRスペクトル
(KBr法)を第2表にそれぞれ示す。
でのエステル化反応及び生成物である化合物(I−9−
1c)の分離・精製を実施例104〜108に記載された方法に
準じて行つた。反応に使用した化合物(I−9−1b)が
有する基を第1表に、また生成した化合物(I−9−1
c)が有する基並びに該化合物の収量及びIRスペクトル
(KBr法)を第2表にそれぞれ示す。
実施例150 トリス(ジベンジリデンアセトン)2パラジウム(ク
ロロホルム)25mgをジオキサン10mlに溶解し、トリn−
ブチルホスフイン45μlを加え、アルゴン雰囲気下に室
温で10分間攪拌した。この混合物に、20−(5,5−ジメ
チル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,3β,7α−
トリス(メトキシカルボニルオキシ)プレグン−5−エ
ン270mgをジオキサン10mlに溶解して得られた溶液を加
え、12時間加熱還流した。得られた反応混合液を室温ま
で冷却した後に、フロリジルを用い濾過した。濾液を減
圧下に濃縮し、得られた濃縮物をカラムクロマトグラフ
イーによつて精製することにより、実施例124で得られ
たものと同じ物性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3
−ジオキサン−2−イル)−1α,3β−ビス(メトキシ
カルボニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエンを118mg得
た。
ロロホルム)25mgをジオキサン10mlに溶解し、トリn−
ブチルホスフイン45μlを加え、アルゴン雰囲気下に室
温で10分間攪拌した。この混合物に、20−(5,5−ジメ
チル−1,3−ジオキサン−2−イル)−1α,3β,7α−
トリス(メトキシカルボニルオキシ)プレグン−5−エ
ン270mgをジオキサン10mlに溶解して得られた溶液を加
え、12時間加熱還流した。得られた反応混合液を室温ま
で冷却した後に、フロリジルを用い濾過した。濾液を減
圧下に濃縮し、得られた濃縮物をカラムクロマトグラフ
イーによつて精製することにより、実施例124で得られ
たものと同じ物性値を有する20−(5,5−ジメチル−1,3
−ジオキサン−2−イル)−1α,3β−ビス(メトキシ
カルボニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエンを118mg得
た。
実施例151〜155 パラジウム化合物及び第三級ホスフインの存在下(た
だし、実施例155においては第三級ホスフインを反応系
に添加しなかつた)における所定量の化合物(I−9−
1c)の共役ジエン形成反応及びその生成物である化合物
(I−5−3)の分離・精製を実施例150に記載された
方法に準じて行つた。反応に使用した化合物(I−9−
1c)が有する基、該化合物の使用量並びに使用したパラ
ジウム化合物及び第三級ホスフインの種類を第3表に、
また生成した化合物(I−5−3)の収量及び物性値を
第4表にそれぞれ示す。なお、パラジウム化合物及び第
三級ホスフインの使用量はそれぞれ化合物(I−9−1
c)に対して0.1当量及び0.4当量であつた。
だし、実施例155においては第三級ホスフインを反応系
に添加しなかつた)における所定量の化合物(I−9−
1c)の共役ジエン形成反応及びその生成物である化合物
(I−5−3)の分離・精製を実施例150に記載された
方法に準じて行つた。反応に使用した化合物(I−9−
1c)が有する基、該化合物の使用量並びに使用したパラ
ジウム化合物及び第三級ホスフインの種類を第3表に、
また生成した化合物(I−5−3)の収量及び物性値を
第4表にそれぞれ示す。なお、パラジウム化合物及び第
三級ホスフインの使用量はそれぞれ化合物(I−9−1
c)に対して0.1当量及び0.4当量であつた。
実施例156 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α,3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)プレグ
ナ−5,7−ジエン100mgをアセトン5mlに溶解し、濃硫酸
1滴を加え、アルゴン雰囲気下に3時間加熱還流した。
反応混合物を氷水にあけ、エーテルで抽出した。抽出液
を合わせ、重曹水および食塩水で洗浄した。減圧下に濃
縮し、得られた濃縮物をエーテルより再結晶することに
より精製し、下記に示す物性値を有する1α,3β−ビス
(メトキシカルボニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン
−20−カルブアルデヒドを55mg得た。
−1α,3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)プレグ
ナ−5,7−ジエン100mgをアセトン5mlに溶解し、濃硫酸
1滴を加え、アルゴン雰囲気下に3時間加熱還流した。
反応混合物を氷水にあけ、エーテルで抽出した。抽出液
を合わせ、重曹水および食塩水で洗浄した。減圧下に濃
縮し、得られた濃縮物をエーテルより再結晶することに
より精製し、下記に示す物性値を有する1α,3β−ビス
(メトキシカルボニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン
−20−カルブアルデヒドを55mg得た。
IRスペクトル(KBr):1740,1725cm-1 実施例157 20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−3β−アセ
トキシ−1α−ベンゾイルオキシプレグナ−5,7−ジエ
ン100mgをテトラヒドロフラン5mlに溶解し、水1ml及び
p−トルエンスルホン酸10mgを加え、アルゴン雰囲気下
50℃の温度で3時間加熱攪拌した。以下、実施例156と
同様に分離・精製操作を行うことにより、下記に示す物
性値を有する3β−アセトキシ−1α−ベンゾイルオキ
シプレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを45m
g得た。
トキシ−1α−ベンゾイルオキシプレグナ−5,7−ジエ
ン100mgをテトラヒドロフラン5mlに溶解し、水1ml及び
p−トルエンスルホン酸10mgを加え、アルゴン雰囲気下
50℃の温度で3時間加熱攪拌した。以下、実施例156と
同様に分離・精製操作を行うことにより、下記に示す物
性値を有する3β−アセトキシ−1α−ベンゾイルオキ
シプレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを45m
g得た。
IRスペクトル(KBr):1735,1725,1720cm-1 実施例158 3β−ベンゾイルオキシ−21,21−ジメトキシ−20−
メチル−1α−(N−メチルカルバモイル)オキシプレ
グナ−5,7−ジエン100mgをメタノール5mlに溶解し、水5
ml及び硫酸銅100mgを加え、アルゴン雰囲気下60℃の温
度で7時間加熱攪拌した。以下、実施例156と同様の分
離・精製操作を行うことにより、下記に示す物性値を有
する3β−ベンゾイルオキシ−1α−(N−メチルカル
バモイル)オキシプレグナ−5,7−ジエン−20−カルブ
アルデヒドを60mg得た。
メチル−1α−(N−メチルカルバモイル)オキシプレ
グナ−5,7−ジエン100mgをメタノール5mlに溶解し、水5
ml及び硫酸銅100mgを加え、アルゴン雰囲気下60℃の温
度で7時間加熱攪拌した。以下、実施例156と同様の分
離・精製操作を行うことにより、下記に示す物性値を有
する3β−ベンゾイルオキシ−1α−(N−メチルカル
バモイル)オキシプレグナ−5,7−ジエン−20−カルブ
アルデヒドを60mg得た。
IRスペクトル(KBr):1725,1720,1710cm-1 実施例159 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α−(N−フエニルカルバモイル)オキシ−3β−
(N−メチルカルバモイル)オキシプレグナ−5,7−ジ
エン105mgをエタノール5mlに溶解し、3規定塩酸1mlを
加え、アルゴン雰囲気下40℃の温度で3時間加熱攪拌し
た。以下、実施例156と同様の分離・精製操作を行うこ
とにより、下記に示す物性値を有する3β−(N−メチ
ルカルバモイル)オキシ−1α−(N−フエニルカルバ
モイル)オキシプレグナ−5,7−ジエン−20−カルブア
ルデヒドを52mg得た。
−1α−(N−フエニルカルバモイル)オキシ−3β−
(N−メチルカルバモイル)オキシプレグナ−5,7−ジ
エン105mgをエタノール5mlに溶解し、3規定塩酸1mlを
加え、アルゴン雰囲気下40℃の温度で3時間加熱攪拌し
た。以下、実施例156と同様の分離・精製操作を行うこ
とにより、下記に示す物性値を有する3β−(N−メチ
ルカルバモイル)オキシ−1α−(N−フエニルカルバ
モイル)オキシプレグナ−5,7−ジエン−20−カルブア
ルデヒドを52mg得た。
IRスペクトル(KBr):1725,1720,1710cm-1 実施例160 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α−(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシ−3β
−(N−フエニルカルバモイル)オキシプレグナ−5,7
−ジエン95mgを2−ブタノン10mlに溶解し、p−トルエ
ンスルホン酸ピリジン塩50mgを加え、アルゴン雰囲気下
50℃の温度で10時間攪拌した。以下、実施例156と同様
にして分離・精製操作を行うことにより、下記に示す物
性値を有する1α−(N,N−ジメチルカルバモイル)オ
キシ−3β−(N−フエニルカルバモイル)オキシプレ
グナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを45mg得
た。
−1α−(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシ−3β
−(N−フエニルカルバモイル)オキシプレグナ−5,7
−ジエン95mgを2−ブタノン10mlに溶解し、p−トルエ
ンスルホン酸ピリジン塩50mgを加え、アルゴン雰囲気下
50℃の温度で10時間攪拌した。以下、実施例156と同様
にして分離・精製操作を行うことにより、下記に示す物
性値を有する1α−(N,N−ジメチルカルバモイル)オ
キシ−3β−(N−フエニルカルバモイル)オキシプレ
グナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを45mg得
た。
IRスペクトル(KBr):1725,1720,1695cm-1 実施例161 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−1α−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ−3β
−(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシプレグナ−5,7
−ジエン110mgをアセトン10mlに溶解し、p−トルエン
スルホン酸10mgを加え、アルゴン雰囲気下で4時間加熱
還流した。以下、実施例156と同様にして分離・精製操
作を行うことにより、下記に示す物性値を有する1α−
(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ−3β−(N,N
−ジメチルカルバモイル)オキシプレグナ−5,7−ジエ
ン−20−カルブアルデヒドを63mg得た。
−1α−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ−3β
−(N,N−ジメチルカルバモイル)オキシプレグナ−5,7
−ジエン110mgをアセトン10mlに溶解し、p−トルエン
スルホン酸10mgを加え、アルゴン雰囲気下で4時間加熱
還流した。以下、実施例156と同様にして分離・精製操
作を行うことにより、下記に示す物性値を有する1α−
(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ−3β−(N,N
−ジメチルカルバモイル)オキシプレグナ−5,7−ジエ
ン−20−カルブアルデヒドを63mg得た。
IRスペクトル(KBr):1725,1695cm-1 実施例162 20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)
−3β−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ−1α
−(メトキシメチル)オキシプレグナ−5,7−ジエン100
mgをテトラヒドロフラン5mlに溶解し、80%酢酸5mlを加
え、アルゴン雰囲気下で12時間加熱還流した。以下、実
施例156と同様にして分離・精製操作を行い、下記に示
す物性値を有する3β−(tert−ブチルジメチルシリ
ル)オキシ−1α−(メトキシメチル)オキシプレグナ
−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを50mg得た。
−3β−(tert−ブチルジメチルシリル)オキシ−1α
−(メトキシメチル)オキシプレグナ−5,7−ジエン100
mgをテトラヒドロフラン5mlに溶解し、80%酢酸5mlを加
え、アルゴン雰囲気下で12時間加熱還流した。以下、実
施例156と同様にして分離・精製操作を行い、下記に示
す物性値を有する3β−(tert−ブチルジメチルシリ
ル)オキシ−1α−(メトキシメチル)オキシプレグナ
−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを50mg得た。
IRスペクトル(KBr):1725cm-1 実施例163 20−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1α−アセ
トキシ−3β−(メトキシメチル)オキシプレグナ−5,
7−ジエン100mgをアセトン10mlに溶解し、70%過塩素酸
1滴を加え、アルゴン雰囲気下で2時間加熱還流した。
以下、実施例156と同様にして分離・精製操作を行うこ
とにより、下記に示す物性値を有する1α−アセトキシ
−3β−(メトキシメチル)オキシプレグナ−5,7−ジ
エン−20−カルブアルデヒドを40mg得た。
トキシ−3β−(メトキシメチル)オキシプレグナ−5,
7−ジエン100mgをアセトン10mlに溶解し、70%過塩素酸
1滴を加え、アルゴン雰囲気下で2時間加熱還流した。
以下、実施例156と同様にして分離・精製操作を行うこ
とにより、下記に示す物性値を有する1α−アセトキシ
−3β−(メトキシメチル)オキシプレグナ−5,7−ジ
エン−20−カルブアルデヒドを40mg得た。
IRスペクトル(KBr):1735,1725cm-1 実施例164 1α,3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)プレグ
ナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒド100mgをメタノ
ール10mlに溶解し、炭酸カリウム100mgを加え、室温で
1時間攪拌した。反応混合物を水にあけ、塩化メチレン
で抽出した。抽出液を合わせ、食塩水で洗浄した。減圧
下に濃縮し、エーテルより再結晶することにより精製
し、下記に示す物性値を有する3β−ヒドロキシ−1α
−(メトキシカルボニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエ
ン−20−カルブアルデヒドを78mg得た。
ナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒド100mgをメタノ
ール10mlに溶解し、炭酸カリウム100mgを加え、室温で
1時間攪拌した。反応混合物を水にあけ、塩化メチレン
で抽出した。抽出液を合わせ、食塩水で洗浄した。減圧
下に濃縮し、エーテルより再結晶することにより精製
し、下記に示す物性値を有する3β−ヒドロキシ−1α
−(メトキシカルボニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエ
ン−20−カルブアルデヒドを78mg得た。
IRスペクトル(KBr):3450,1740,1725cm-1 実施例165 1α−アセトキシ−3β−(メトキシメチル)オキシ
プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒド100mgを
メタノール10mlに溶解し、ナトリウムメチラート50mgを
加え、アルゴン雰囲気下で2時間攪拌した。以下、実施
例164と同様にして分離・精製操作を行うことにより、
下記に示す物性値を有する1α−ヒドロキシ−3β−
(メトキシメチル)オキシプレグナ−5,7−ジエン−20
−カルブアルデヒドを80mg得た。
プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒド100mgを
メタノール10mlに溶解し、ナトリウムメチラート50mgを
加え、アルゴン雰囲気下で2時間攪拌した。以下、実施
例164と同様にして分離・精製操作を行うことにより、
下記に示す物性値を有する1α−ヒドロキシ−3β−
(メトキシメチル)オキシプレグナ−5,7−ジエン−20
−カルブアルデヒドを80mg得た。
IRスペクトル(KBr):3450,1725cm-1 実施例166 実施例164において、1α,3β−ビス(メトキシカル
ボニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブア
ルデヒド100mgの代わりに20−(5,5−ジメチル−1,3−
ジオキサン−2−イル)−1α,3β−ビス(メトキシカ
ルボニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン100mgを用いる
以外は同様にして反応及び分離・精製の操作を行うこと
により、下記の物性値を有する20−(5,5−ジメチル−
1,3−ジオキサン−2−イル)−1α−(メトキシカル
ボニル)オキシプレグナ−5,7−ジエン−3β−オール
を85mg得た。
ボニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブア
ルデヒド100mgの代わりに20−(5,5−ジメチル−1,3−
ジオキサン−2−イル)−1α,3β−ビス(メトキシカ
ルボニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン100mgを用いる
以外は同様にして反応及び分離・精製の操作を行うこと
により、下記の物性値を有する20−(5,5−ジメチル−
1,3−ジオキサン−2−イル)−1α−(メトキシカル
ボニル)オキシプレグナ−5,7−ジエン−3β−オール
を85mg得た。
IRスペクトル(KBr):3450,1740cm-1 実施例167 実施例164において1α,3β−ビス(メトキシカルボ
ニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアル
デヒド100mgの代わりに3β−ベンゾイルオキシ−21,21
−ジメトキシ−20−メチル−1α−(N−メチルカルバ
モイル)オキシプレグナ−5,7−ジエン100mgを用いる以
外は同様にして反応及び分離・精製の操作を行うことに
より、下記に示す物性値を有する21,21−ジメトキシ−2
0−メチルプレグナ−5,7−ジエン−1α,3β−ジオール
を65mg得た。
ニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアル
デヒド100mgの代わりに3β−ベンゾイルオキシ−21,21
−ジメトキシ−20−メチル−1α−(N−メチルカルバ
モイル)オキシプレグナ−5,7−ジエン100mgを用いる以
外は同様にして反応及び分離・精製の操作を行うことに
より、下記に示す物性値を有する21,21−ジメトキシ−2
0−メチルプレグナ−5,7−ジエン−1α,3β−ジオール
を65mg得た。
IRスペクトル(KBr):3400cm-1 実施例168 実施例164において1α,3β−ビス(メトキシカルボ
ニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアル
デヒド100mgの代わりに20−(1,3−ジオキソラン−2−
イル)−1α−アセトキシ−3β−(メトキシメチル)
オキシプレグナ−5,7−ジエン100mgを用いる以外は同様
にして反応及び分離・精製の操作を行うことにより、下
記に示す物性値を有する20−(1,3−ジオキソラン−2
−イル)−3β−(メトキシメチル)オキシプレグナ−
5,7−ジエン−1α−オールを72mg得た。
ニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン−20−カルブアル
デヒド100mgの代わりに20−(1,3−ジオキソラン−2−
イル)−1α−アセトキシ−3β−(メトキシメチル)
オキシプレグナ−5,7−ジエン100mgを用いる以外は同様
にして反応及び分離・精製の操作を行うことにより、下
記に示す物性値を有する20−(1,3−ジオキソラン−2
−イル)−3β−(メトキシメチル)オキシプレグナ−
5,7−ジエン−1α−オールを72mg得た。
IRスペクトル(KBr):3350cm-1 実施例169 実施例156において、20−(5,5−ジメチル−1,3−ジ
オキサン−2−イル)−1α,3β−ビス(メトキシカル
ボニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン100mgの代わりに
20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−
3β−(メトキシカルボニル)オキシプレグナ−5,7−
ジエン−1α−オール100mgを用いる以外は同様にして
反応及び分離・精製の操作を行うことにより、下記に示
す物性値を有する3β−ヒドロキシ−1α−(メトキシ
カルボニル)オキシプレグナ−5,7−ジエン−20−カル
ブアルデヒドを55mg得た。
オキサン−2−イル)−1α,3β−ビス(メトキシカル
ボニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン100mgの代わりに
20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−
3β−(メトキシカルボニル)オキシプレグナ−5,7−
ジエン−1α−オール100mgを用いる以外は同様にして
反応及び分離・精製の操作を行うことにより、下記に示
す物性値を有する3β−ヒドロキシ−1α−(メトキシ
カルボニル)オキシプレグナ−5,7−ジエン−20−カル
ブアルデヒドを55mg得た。
IRスペクトル(KBr):3450,1740,1725cm-1 実施例170 実施例156において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α,3β−ビス(メトキシカルボ
ニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン100mgの代わりに2
1,21−ジメトキシ−20−メチル−プレグナ−5,7−ジエ
ン−1α,3β−ジオールを100mg用いる以外は同様にし
て反応及び分離・精製の操作を行うことにより、下記に
示す物性値を有する1α,3β−ジヒドロキシ−プレグナ
−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを45mg得た。
キサン−2−イル)−1α,3β−ビス(メトキシカルボ
ニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン100mgの代わりに2
1,21−ジメトキシ−20−メチル−プレグナ−5,7−ジエ
ン−1α,3β−ジオールを100mg用いる以外は同様にし
て反応及び分離・精製の操作を行うことにより、下記に
示す物性値を有する1α,3β−ジヒドロキシ−プレグナ
−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを45mg得た。
IRスペクトル(KBr):3400,1725cm-1 実施例171 実施例156において20−(5,5−ジメチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル)−1α,3β−ビス(メトキシカルボ
ニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン100mgの代わりに20
−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−3β−(メトキ
シメチル)オキシプレグナ−5,7−ジエン−1α−オー
ル100mgを用いる以外は同様にして反応及び分離・精製
の操作を行うことにより、下記に示す物性値を有する1
α−ヒドロキシ−3β−(メトキシメチル)オキシプレ
グナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを53mg得
た。
キサン−2−イル)−1α,3β−ビス(メトキシカルボ
ニルオキシ)プレグナ−5,7−ジエン100mgの代わりに20
−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−3β−(メトキ
シメチル)オキシプレグナ−5,7−ジエン−1α−オー
ル100mgを用いる以外は同様にして反応及び分離・精製
の操作を行うことにより、下記に示す物性値を有する1
α−ヒドロキシ−3β−(メトキシメチル)オキシプレ
グナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを53mg得
た。
IRスペクトル(KBr):3350,1725cm-1 実施例172 1α,3β−ジヒドロキシプレグナ−5,7−ジエン−20
−カルブアルデヒド0.50gを塩化メチレン10mlに溶解
し、3,4−ジヒドロピラン1ml及びp−トルエンスルホン
酸0.05gを加え、室温で2時間攪拌した。反応混合液を
エーテルで希釈し、重曹水及び食塩水で順次洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥した。減圧下に濃縮し、得られた
濃縮物をカラムクロマトグラフイーにより精製すること
により、下記に示す物性値を有する1α,3β−ビス(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)プレグナ−5,7−
ジエン−20−カルブアルデヒドを0.48g得た。
−カルブアルデヒド0.50gを塩化メチレン10mlに溶解
し、3,4−ジヒドロピラン1ml及びp−トルエンスルホン
酸0.05gを加え、室温で2時間攪拌した。反応混合液を
エーテルで希釈し、重曹水及び食塩水で順次洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥した。減圧下に濃縮し、得られた
濃縮物をカラムクロマトグラフイーにより精製すること
により、下記に示す物性値を有する1α,3β−ビス(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)プレグナ−5,7−
ジエン−20−カルブアルデヒドを0.48g得た。
IRスペクトル(KBr):1725cm-1 参考例 (1) 臭化イソアミル2.27g及びマグネシウム0.48gを
用いて調製した臭化イソアミルマグネシウムのテトラヒ
ドロフラン溶液20mlに、氷冷下で1α,3β−ビス(テト
ラヒドロピラン−2−イルオキシ)プレグナ−5,7−ジ
エン−20−カルブアルデヒド5.12gとテトラヒドロフラ
ン30mlからなる溶液を徐々に加えた。添加後1時間0℃
で攪拌を続けた。得られた反応混合物を2Nの水酸化ナト
リウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出した。得
られた抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥したのち、低沸点物を減圧下に留去した。得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーで精製する
ことにより、下記に示す物性値を有する1α,3β−ビス
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)コレスタ−5,
7−ジエン−22−オールを4.84g得た(収率83%)。
用いて調製した臭化イソアミルマグネシウムのテトラヒ
ドロフラン溶液20mlに、氷冷下で1α,3β−ビス(テト
ラヒドロピラン−2−イルオキシ)プレグナ−5,7−ジ
エン−20−カルブアルデヒド5.12gとテトラヒドロフラ
ン30mlからなる溶液を徐々に加えた。添加後1時間0℃
で攪拌を続けた。得られた反応混合物を2Nの水酸化ナト
リウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出した。得
られた抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥したのち、低沸点物を減圧下に留去した。得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーで精製する
ことにより、下記に示す物性値を有する1α,3β−ビス
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)コレスタ−5,
7−ジエン−22−オールを4.84g得た(収率83%)。
FDマススペクトル:〔M〕+584 (2) 上記の方法により得られた1α,3β−ビス(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)コレスタ−5,7−
ジエン−22−オール0.58gを20mlのピリジンに溶解し
た。この溶液にメタンスルホニルクロリド0.12gを加
え、0℃で2時間攪拌した。次いで室温に戻し、水を加
えたのちジエチルエーテルで抽出した。抽出液を水洗
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、低沸点物を減圧
下に留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイーで精製することにより、1α,3β−ビス
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)コレスタ−5,
7−ジエン−22−イル メタンスルホナートを0.57g得た
(収率86%)。
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)コレスタ−5,7−
ジエン−22−オール0.58gを20mlのピリジンに溶解し
た。この溶液にメタンスルホニルクロリド0.12gを加
え、0℃で2時間攪拌した。次いで室温に戻し、水を加
えたのちジエチルエーテルで抽出した。抽出液を水洗
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、低沸点物を減圧
下に留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイーで精製することにより、1α,3β−ビス
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)コレスタ−5,
7−ジエン−22−イル メタンスルホナートを0.57g得た
(収率86%)。
(3) 水素化リチウムアルミニウム0.10g及びテトラ
ヒドロフラン5mlからなる溶液に加熱しながら1α,3β
−ビス(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)コレス
タ−5,7−ジエン−22−イル メタンスルホナート0.66g
を加え、添加後2時間加熱還流を続けた。得られた反応
混合液を冷却し、水及び希塩酸を順次加えて室温で2時
間攪拌した。得られた溶液を水で希釈し、ジエチルエー
テルで抽出した。抽出液を希塩酸及び食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。これより減圧下に
低沸点物を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフイーで精製した後、メタノールで再結晶す
ることにより、下記に示す物性値を有するコレスタ−5,
7−ジエン−1α,3β−ジオールを0.18g得た(収率45
%)。
ヒドロフラン5mlからなる溶液に加熱しながら1α,3β
−ビス(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)コレス
タ−5,7−ジエン−22−イル メタンスルホナート0.66g
を加え、添加後2時間加熱還流を続けた。得られた反応
混合液を冷却し、水及び希塩酸を順次加えて室温で2時
間攪拌した。得られた溶液を水で希釈し、ジエチルエー
テルで抽出した。抽出液を希塩酸及び食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。これより減圧下に
低沸点物を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフイーで精製した後、メタノールで再結晶す
ることにより、下記に示す物性値を有するコレスタ−5,
7−ジエン−1α,3β−ジオールを0.18g得た(収率45
%)。
融点:155〜158℃ UVスペクトルλmax(エタノール):263,272,282nm FDマススペクトル:〔M〕+400 産業上の利用可能性 本発明によれば、1α−ヒドロキシビタミンD3をは
じめとする1α−位に水酸基を有するビタミンD3誘導
体の合成中間体として有用な新規なプレグナン誘導体が
提供される。
じめとする1α−位に水酸基を有するビタミンD3誘導
体の合成中間体として有用な新規なプレグナン誘導体が
提供される。
規則第13規則の2の寄託された微生物への言及 寄託機関:通商産業省工業技術院微生物工業技術研究所 あて名:日本国茨城県つくば市東1丁目1番3号 受託番号及び寄託した日付: 1.微工研条寄第182号 昭和57年1月4日 2.微工研条寄第204号 昭和57年1月4日
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C12P 33/00 C12P 33/00 //(C12P 33/00 (C12P 33/00 C12R 1:05) C12R 1:05) (31)優先権主張番号 特願昭62−80588 (32)優先日 昭62(1987)3月31日 (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願昭62−80589 (32)優先日 昭62(1987)3月31日 (33)優先権主張国 日本(JP) 微生物の受託番号 FERM BP−182 微生物の受託番号 FERM BP−204 (56)参考文献 米国特許4201716(US,A)
Claims (11)
- 【請求項1】一般式 〔式中、A1はα−立体配置にある水素原子若しくは水
酸基を表わし、A2はA1がα−立体配置にある水素原子
を表わすときβ−立体配置にある水酸基、アシルオキシ
基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級アル
キルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイル
オキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオキ
シ基、三置換シリルオキシ基若しくは置換基を有してい
てもよいアルコキシメトキシ基を表わし、A1がα−立
体配置にある水酸基を表わすときβ−立体配置にある水
素原子を表わすか、又はA1及びA2は一緒になつてオキ
ソ基(=O)を表わし;D1はα−立体配置にある水酸
基、アシルオキシ基、低級アルコキシカルボニルオキシ
基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリ
ールカルバモイルオキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)
カルバモイルオキシ基、三置換シリルオキシ基若しくは
置換基を有していてもよいアルコキシメトキシ基を表わ
し、D2はα−立体配置にある水素原子を表わすか、又
はD1及びD2は一緒になつてα−立体配置にあるエポキ
シ基(−O−)若しくは単結合を表わし;D3はα−立体
配置にある水素原子を表わし、D4はα−立体配置にあ
る水酸基を表わし、D5はα−立体配置にある水素原子
を表わし、D6はα−立体配置にある水酸基、低級アル
コキシカルボニルオキシ基、アシルオキシ基、N−低級
アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモ
イルオキシ基又はN,N−ジ(低級アルキル)カルバモイ
ルオキシ基を表わし、D7はβ−立体配置にある水素原
子を表わし、ここでD3及びD4は一緒になつてα−立体
配置にあるエポキシ基(−O−)又は単結合を表わして
もよく、D4及びD5は一緒になつて単結合を表わしても
よく、D5及びD6は一緒になつてα−立体配置にあるエ
ポキシ基(−O−)又は単結合を表わしてもよく、D6
及びD7は一緒になつて単結合を表わしてもよく;X1及び
X2はそれぞれ低級アルコキシル基を表わすか又は一緒
になつて低級アルキレンジオキシ基若しくはオキソ基
(=O)を表わす。〕 で示されるプレグナン誘導体。 - 【請求項2】一般式 〔式中、X1及びX2はそれぞれ低級アルコキシル基を表
わすか又は一緒になつて低級アルキレンジオキシ基若し
くはオキソ基(=O)を表わす。〕 で示される請求の範囲第1項記載のプレグナン誘導体。 - 【請求項3】一般式 〔式中、D8及びD9は一緒になつてα−立体配置にある
エポキシ基(−O−)若しくは単結合を表わし;X1及び
X2はそれぞれ低級アルコキシル基を表わすか又は一緒
になつて低級アルキレンジオキシ基若しくはオキソ基
(=O)を表わす。〕 で示される請求の範囲第1項記載のプレグナン誘導体。 - 【請求項4】一般式 〔式中、A3はα−立体配置にある水素原子を表わし、
A4はβ−立体配置にある水酸基若しくは低級アルカノ
イルオキシ基を表わすか、又はA3及びA4は一緒になつ
てオキソ基(=O)を表わし;X1及びX2はそれぞれ低級
アルコキシル基を表わすか又は一緒になつて低級アルキ
レンジオキシ基若しくはオキソ基(=O)を表わす。〕 で示される請求の範囲第1項記載のプレグナン誘導体。 - 【請求項5】一般式 〔式中、A5はβ−立体配置にある水酸基又は低級アル
カノイルオキシ基を表わし;D10はα−立体配置にある水
酸基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、低級アルカ
ノイルオキシ基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ
基、N−アリールカルバモイルオキシ基若しくはN,N−
ジ(低級アルキル)カルバモイルオキシ基を表わし、D
11はβ−立体配置にある水素原子を表わすか、又はD10
及びD11は一緒になつて単結合を表わし;X1及びX2はそ
れぞれ低級アルコキシル基を表わすか又は一緒になって
低級アルキレンジオキシ基若しくはオキソ基(=O)を
表わす。〕 で示される請求の範囲第1項記載のプレグナン誘導体。 - 【請求項6】一般式 〔式中、A6はβ−立体配置にある水酸基、アシルオキ
シ基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級ア
ルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイ
ルオキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオ
キシ基、三置換シリルオキシ基又は置換基を有していて
もよいアルコキシメトキシ基を表わし;D12はα−立体配
置にある水酸基、アシルオキシ基、低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ
基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジ(低
級アルキル)カルバモイルオキシ基、三置換シリルオキ
シ基又は置換基を有していてもよいアルコキシメトキシ
基を表わし;X1及びX2はそれぞれ低級アルコキシル基を
表わすか又は一緒になつて低級アルキレンジオキシ基若
しくはオキソ基(=O)を表わす。〕 で示される請求の範囲第1項記載のプレグナン誘導体。 - 【請求項7】一般式 〔式中、X1及びX2はそれぞれ低級アルコキシル基を表
わすか又は一緒になつて低級アルキレンジオキシ基若し
くはオキソ基(=O)を表わす。〕 で示される請求の範囲第1項記載のプレグナン誘導体。 - 【請求項8】一般式 〔式中、A7はα−立体配置にある水素原子若しくは水
酸基を表わし、A8はA7がα−立体配置にある水素原子
を表わすときβ−立体配置にある水酸基、アシルオキシ
基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級アル
キルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイル
オキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオキ
シ基、三置換シリルオキシ基若しくは置換基を有してい
てもよいアルコキシメトキシ基を表わし、A7がα−立
体配置にある水酸基を表わすときβ−立体配置にある水
素原子を表わすか、又はA7及びA8は一緒になつてオキ
ソ基(=O)を表わし;X1及びX2はそれぞれ低級アルコ
キシル基を表わすか又は一緒になつて低級アルキレンジ
オキシ基若しくはオキソ基(=O)を表わす。〕 で示される請求の範囲第1項記載のプレグナン誘導体。 - 【請求項9】一般式 〔式中、A9はβ−立体配置にある水酸基、アシルオキ
シ基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級ア
ルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイ
ルオキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオ
キシ基、三置換シリルオキシ基又は置換基を有していて
もよいアルコキシメトキシ基を表わし;D13はα−立体配
置にある水酸基、アシルオキシ基、低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ
基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジ(低
級アルキル)カルバモイルオキシ基、三置換シリルオキ
シ基又は置換基を有していてもよいアルコキシメトキシ
基を表わし;X1及びX2はそれぞれ低級アルコキシル基を
表わすか又は一緒になつて低級アルキレンジオキシ基若
しくはオキソ基(=O)を表わす。〕 で示される請求の範囲第1項記載のプレグナン誘導体。 - 【請求項10】一般式 〔式中、A10はβ−立体配置にある水酸基、アシルオキ
シ基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級ア
ルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイ
ルオキシ基、N,N−ジ(低級アルキル)カルバモイルオ
キシ基、三置換シリルオキシ基又は置換基を有していて
もよいアルコキシメトキシ基を表わし;D14はα−立体配
置にある水酸基、アシルオキシ基、低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、N−低級アルキルカルバモイルオキシ
基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジ(低
級アルキル)カルバモイルオキシ基、三置換シリルオキ
シ基又は置換基を有していてもよいアルコキシメトキシ
基を表わし;D15はα−立体配置にある水酸基、アシルオ
キシ基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、N−低級
アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモ
イルオキシ基又はN,N−ジ(低級アルキル)カルバモイ
ルオキシ基を表わし;X1及びX2はそれぞれ低級アルコキ
シル基を表わすか又は一緒になつて低級アルキレンジオ
キシ基若しくはオキソ基(=O)を表わす。〕 で示される請求の範囲第1項記載のプレグナン誘導体。 - 【請求項11】3α,7α−ジヒドロキシ−5β−コラン
酸及び/又はその塩を基質として7α−ヒドロキシプレ
グナ−1,4−ジエン−3−オン−20−カルブアルデヒド
を生産する能力を有するアルカリゲネス(Alcaligene
s)属に属する細菌を3α,7α−ジヒドロキシ−5β−
コラン酸及び/又はその塩を含む培地で培養することを
特徴とする7α−ヒドロキシプレグナ−1,4−ジエン−
3−オン−20−カルブアルデヒドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63502704A JP2525049B2 (ja) | 1987-03-30 | 1988-03-29 | プレグナン誘導体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62-77850 | 1987-03-30 | ||
JP62-77851 | 1987-03-30 | ||
JP7784987 | 1987-03-30 | ||
JP7785087 | 1987-03-30 | ||
JP7785187 | 1987-03-30 | ||
JP62-77849 | 1987-03-30 | ||
JP8058887 | 1987-03-31 | ||
JP62-80589 | 1987-03-31 | ||
JP62-80588 | 1987-03-31 | ||
JP8058987 | 1987-03-31 | ||
JP63502704A JP2525049B2 (ja) | 1987-03-30 | 1988-03-29 | プレグナン誘導体及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2525049B2 true JP2525049B2 (ja) | 1996-08-14 |
Family
ID=27551403
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63502704A Expired - Lifetime JP2525049B2 (ja) | 1987-03-30 | 1988-03-29 | プレグナン誘導体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2525049B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7153988B2 (en) | 2001-09-04 | 2006-12-26 | Kuraray Co., Ltd. | 7α-hydroxy-pregn-4-en-3-one-20-carbaldehyde, process for producing the same, and process for producing 7α, 21-dihydroxy-20-methyl-pregn-4-en-3-one from the same |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4201716A (en) * | 1978-03-27 | 1980-05-06 | Henkel Corporation | Preparation of 22-steroid acetals |
-
1988
- 1988-03-29 JP JP63502704A patent/JP2525049B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4201716A (en) * | 1978-03-27 | 1980-05-06 | Henkel Corporation | Preparation of 22-steroid acetals |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7153988B2 (en) | 2001-09-04 | 2006-12-26 | Kuraray Co., Ltd. | 7α-hydroxy-pregn-4-en-3-one-20-carbaldehyde, process for producing the same, and process for producing 7α, 21-dihydroxy-20-methyl-pregn-4-en-3-one from the same |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |