JP2513160Y2 - Semiconductor wafer-transfer device - Google Patents

Semiconductor wafer-transfer device

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JP2513160Y2
JP2513160Y2 JP1991071619U JP7161991U JP2513160Y2 JP 2513160 Y2 JP2513160 Y2 JP 2513160Y2 JP 1991071619 U JP1991071619 U JP 1991071619U JP 7161991 U JP7161991 U JP 7161991U JP 2513160 Y2 JP2513160 Y2 JP 2513160Y2
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wafer
cassette
holding
pallet
pusher
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Inventor
輝邦 田野
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シール・アンド・セミコン株式会社
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Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本考案は、半導体製造において使
用される半導体ウエハーをカセットから他のカセットに
移載するための装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for transferring a semiconductor wafer used in semiconductor manufacturing from a cassette to another cassette.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体ウエハーの移送には、ウエ
ハーを25枚程度を一まとめに移送できるように、開口
部を有する箱型の容器に仕切りの溝が設けられ、1枚ず
つ垂直に離して保持するように形成されたウエハー用カ
セットが用いられている。そしてそのカセットは、輸送
用カセット、プロセス用カセット等のように目的に応じ
て使い分けられており、カセットから他のカセットへと
移載することが半導体製造の際、頻繁に行われている。
従来、半導体ウエハーを別のカセットへと移載して他の
工程に移す場合、例えば、1)カセットケースの開口部
どうしを合わせて、カセットを反転させて重力で落下さ
せる方法や、又は2)カセットの下からウエハーのみを
押し上げて、両側面からアーム等の別のホルダーでウエ
ハーを保持して別のカセットへと移す方法等を用いた移
載装置が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in the transfer of semiconductor wafers, a box-shaped container having an opening is provided with partition grooves so that about 25 wafers can be transferred in a lump, and the wafers are separated vertically. A wafer cassette formed so as to hold the wafer is used. The cassette is used properly according to the purpose, such as a transport cassette and a process cassette, and it is frequently transferred from one cassette to another cassette during semiconductor manufacturing.
Conventionally, when a semiconductor wafer is transferred to another cassette and transferred to another step, for example, 1) a method of aligning the openings of the cassette case and inverting the cassette to drop it by gravity, or 2) There is known a transfer device that uses a method in which only a wafer is pushed up from under the cassette, and the wafer is held from both side surfaces by another holder such as an arm and transferred to another cassette.

【0003】[0003]

【考案が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の装置では、1)の装置は、ウエハーがカセット内を滑
って行くために、ウエハーの周辺部がカセットの仕切り
用の溝と接触して、この接触の際に傷がついたり、発塵
や帯電の原因となったりする問題があった。又2)の装
置の場合には、下から押上げる場合と、両脇から出した
腕等の別のホルダーで保持する際に、2箇所以上の接触
の機会があり、接触箇所と接触面積が多くなり、ウエハ
ーの接触により汚染される部分が大きくなってしまう問
題があった。近年、半導体の集積度が高まり、よりクリ
ーンな環境が要求されており、上記のような発塵をより
少なくすることが要求されており。又、半導体の生産コ
ストを下げるためにウエハーのサイズが大きくなる傾向
にあり、ウエハーのサイズが大きくなった場合、上記従
来の移載装置を用いて移載を行う際にウエハーがカセッ
トを滑っていく場合、ややもするとウエハーの破損につ
ながるというおそれもあり、特に大きな径のウエハーに
も対応可能な半導体ウエハー移載装置が要求されてい
た。本考案は上記従来技術の欠点を解消するためになさ
れたもので、半導体ウエハーを移載する場合に生じる発
塵、帯電及び汚染等を防止し、大きな径のウエハーも確
実に移載可能な半導体ウエハー移載装置を提供すること
を目的とする。
However, in the above-mentioned conventional apparatus, in the apparatus of 1), since the wafer slides in the cassette, the peripheral portion of the wafer comes into contact with the partitioning groove of the cassette, There were problems such as scratches on contact, dust generation, and charging. Also, in the case of the device of 2), there are two or more opportunities for contact when pushing up from below and holding it with another holder such as an arm that has come out from both sides. However, there is a problem that the number of wafers that are contaminated by the contact of the wafers becomes large. In recent years, the degree of integration of semiconductors has increased and a cleaner environment has been required, and it has been required to reduce the dust generation as described above. Also, there is a tendency that the size of the wafer becomes large in order to reduce the production cost of the semiconductor, and when the size of the wafer becomes large, the wafer slides on the cassette when transferring using the above-mentioned conventional transfer device. In some cases, there is a risk that the wafer may be damaged, and there has been a demand for a semiconductor wafer transfer device capable of handling a wafer having a particularly large diameter. The present invention has been made in order to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art. It is a semiconductor that can prevent dusting, electrification, contamination, etc. that occur when a semiconductor wafer is transferred, and can reliably transfer a wafer with a large diameter. An object is to provide a wafer transfer device.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本考案半導体ウエハー移
載装置は、複数の半導体ウエハーを保持可能なカセット
を用い、一方のソース用カセットから他方のロード用カ
セットへと半導体ウエハーを一括に移載するための装置
であって、ソース用カセットとロード用カセットの2つ
のカセットを水平方向に移動させる手段を備えたカセッ
ト移動ステージと、上記カセット内の半導体ウエハーの
端縁部を挟持して垂直に保持可能なウエハー保持パレッ
トと、該ウエハー保持パレットをカセット上方外部で保
持可能なパレット保持手段と、ウエハー保持パレットに
接続・離脱可能であり該パレットをカセットの下方外部
から上方外部まで上下に移動可能なプッシャーとを備
え、上記カセット移動ステージには、プッシャーのみ及
びウエハー保持パレットが接続されたプッシャーを上下
方向に通過可能な開口部がカセット載置位置に対応して
設けられ、カセットがプッシャーのみ及びウエハー保持
パレットが接続されたプッシャーを上下方向に通過可能
に形成されている構成を有するものである。
A semiconductor wafer transfer device according to the present invention is a cassette capable of holding a plurality of semiconductor wafers.
From one source cassette to the other loading cassette.
Equipment for transferring semiconductor wafers to a set at once
And a cassette moving stage having means for horizontally moving two cassettes , a source cassette and a loading cassette, and a wafer that can vertically hold the semiconductor wafer in the cassette by sandwiching the edge portion of the semiconductor wafer. and holding pallet, holding the wafer holding pallet cassette on Hogaibu
Holdable pallet holding means and wafer holding pallet
Can be connected / disconnected, and the pallet can be placed outside the cassette below
Equipped with a pusher that can be moved vertically from above to outside
Well, only the pusher can be applied to the cassette movement stage.
And pusher with wafer holding pallet connected
The opening that can pass in the direction corresponds to the cassette mounting position
Provided, cassette only pusher and wafer holding
Can pass vertically through the pusher to which the pallet is connected
It has a structure formed in .

【0005】[0005]

【作用】上記のように構成された半導体ウエハー移送装
置は、以下の如く作用する。先ず、半導体ウエハー4が
収納されたソース用カセット21をカセット移動ステー
ジ3に載置した後、該移動ステージ3を水平方向に移動
させ、ソース用カセット21がプッシャー5の上の位置
で停止させ、次に、プッシャー5を作動させてプッシャ
ー5の先端に設けられたウエハー保持パレット6がウエ
ハー4に接近すると、半導体ウエハー4はウエハー保持
パレット6の端縁部を挾持して垂直に保持し、ウエハー
保持パレット6がソースカセット21外部の上方に移動
する際、ウエハー4はカセット2内部で垂直に保持され
ているためにカセットの溝と接触することなくカセット
2の外部に出て、パレット保持アーム15で保持され
る。ウエハー4とウエハー保持パレット6が外部に出た
所で停止して、ウエハー保持パレット6がカセット2外
上部で保持された状態で、カセット移動ステージ3が水
平方向に移動して、ロード用カセット22がウエハー保
持パレット6の下で停止すると、プッシャー5が降下し
てプッシャー5と共にウエハー4とウエハー保持パレッ
ト6がロード用カセット22の内部に移動する。この
際、ウエハー4は垂直に保持されているためにカセット
内部の溝に接触することなく、ロード用カセット22に
入り、ウエハー保持パレット6のウエハー4の挾持が解
除されると、ウエハー保持パレット6は下降して、ウエ
ハー3がロード用カセット22に収納保持され移載が完
了する。
The semiconductor wafer transfer device constructed as described above operates as follows. First, the source cassette 21 in which the semiconductor wafers 4 are stored is placed on the cassette moving stage 3, then the moving stage 3 is moved in the horizontal direction, and the source cassette 21 is stopped at a position above the pusher 5. Next, when the pusher 5 is operated and the wafer holding pallet 6 provided at the tip of the pusher 5 approaches the wafer 4, the semiconductor wafer 4 holds the edge portion of the wafer holding pallet 6 vertically and holds it. When the holding pallet 6 moves above the outside of the source cassette 21, since the wafer 4 is held vertically inside the cassette 2, it comes out of the cassette 2 without coming into contact with the groove of the cassette, and the pallet holding arm 15 Held in. When the wafer 4 and the wafer holding pallet 6 are stopped outside, the cassette holding stage 6 moves horizontally while the wafer holding pallet 6 is held by the upper and outer parts of the cassette 2, and the loading cassette 22 Is stopped under the wafer holding pallet 6, the pusher 5 descends and the wafer 4 and the wafer holding pallet 6 move to the inside of the loading cassette 22 together with the pusher 5. At this time, since the wafer 4 is held vertically, the wafer 4 enters the loading cassette 22 without coming into contact with the groove inside the cassette, and when the holding of the wafer 4 by the wafer holding pallet 6 is released, the wafer holding pallet 6 Moves down, the wafer 3 is stored and held in the loading cassette 22, and the transfer is completed.

【0006】[0006]

【実施例】以下、本考案の実施例を図面に基づき詳細に
説明する。図面は本考案の1実施例を示し、図1は本考
案半導体ウエハー移載装置の1例を示す正面から見た場
合の説明図であり、図2は図1に示す装置を側面から見
た場合を示す説明図である。本考案半導体ウエハー移載
装置1は図1及び図2に示すように、ソース用カセット
21及びロード用カセット22の二つのカセット2を水
平方向に移動させる手段を備えたカセット移動ステージ
3と、カセット2内部の半導体ウエハー4を下から押し
上げるためのプッシャー5を備え、上記プッシャー5の
先端にはウエハー4を垂直に立てた状態で保持するため
のウエハー保持パレット6が設けられ、プッシャー5の
上部のウエハーカセット2の上にはウエハー保持パレッ
ト6をカセット2の上部で保持するためのパレット保持
アーム15が設けられている。又、本考案装置では、図
示したようにソース用カセット21の下部にオリフラ合
わせ機16を設けることもできる。
Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. 1 shows an embodiment of the present invention, FIG. 1 is an explanatory view showing an example of a semiconductor wafer transfer device of the present invention when viewed from the front, and FIG. 2 is a side view of the device shown in FIG. It is explanatory drawing which shows a case. As shown in FIGS. 1 and 2, the semiconductor wafer transfer device 1 of the present invention comprises a cassette moving stage 3 having means for horizontally moving two cassettes 2 of a source cassette 21 and a loading cassette 22, and a cassette moving stage 3. 2 is provided with a pusher 5 for pushing up the semiconductor wafer 4 from below, and a wafer holding pallet 6 for holding the wafer 4 in a vertically standing state is provided at the tip of the pusher 5, and the pusher 5 above the pusher 5 is provided. A pallet holding arm 15 for holding the wafer holding pallet 6 on the upper portion of the cassette 2 is provided on the wafer cassette 2. Further, in the device of the present invention, the orientation flat aligning machine 16 may be provided below the source cassette 21 as shown.

【0007】図3はウエハー保持パレット6の1例を示
す分解斜視図である。図3に示すように、上記ウエハー
保持パレット6は、パレット本体7と移動圧接部8とか
らなる。パレット本体7には、複数のウエハー4の端縁
部を挾持するための溝9が設けられ、更に該溝9に直交
する方向に2本の嵌合溝10が設けられている。移動圧
接部8は、パレット本体7の嵌合溝10に嵌合する2本
の脚部11の上に、パレット本体7のウエハー保持用溝
9の数に応じて、歯山状に設けられた圧接板12が設け
られている。ウエハー保持用溝9の数、サイズ及び位置
等は、ウエハーを確実に垂直に保持することが可能であ
れば任意に形成することができ、移載しようとするウエ
ハー用カセット2の大きさに応じて適宜決めればよい。
例えば、8インチウエハー用の装置の場合、通常25枚
のウエハー3が保持されるように25の溝9を設け、各
溝9の幅は3mm程度であり、溝山91の幅は2.5mm程
度に設けられ、溝9の深さは3mmになるように形成する
のが好ましい。尚、溝山91は図4に示す如く先端を斜
めにカットしておくと、ウエハー4が溝9に入る場合
に、スムーズに収納することができるために好ましい。
又、移動圧接部8の圧接板は溝9の大きさに応じて形成
することができる。ウエハー保持パレット6のパレット
本体7及び移動圧接部8の材質は特に限定されないが、
ウエハー4と接する部分をフッ素系樹脂により形成する
のが好ましい。
FIG. 3 is an exploded perspective view showing an example of the wafer holding pallet 6. As shown in FIG. 3, the wafer holding pallet 6 comprises a pallet body 7 and a moving pressure contact portion 8. The pallet body 7 is provided with a groove 9 for holding the edge portions of the plurality of wafers 4, and two fitting grooves 10 are provided in a direction orthogonal to the groove 9. The moving press contact portions 8 are provided on the two legs 11 that fit into the fitting grooves 10 of the pallet body 7 in a toothed shape according to the number of the wafer holding grooves 9 of the pallet body 7. A pressure contact plate 12 is provided. The number, size, position and the like of the wafer holding grooves 9 can be arbitrarily formed as long as the wafer can be securely held vertically, and can be changed depending on the size of the wafer cassette 2 to be transferred. It may be decided as appropriate.
For example, in the case of a device for an 8-inch wafer, normally 25 grooves 9 are provided so that 25 wafers 3 are held, the width of each groove 9 is about 3 mm, and the width of the groove ridge 91 is 2.5 mm. It is preferable that the groove 9 is provided to a certain extent and the depth of the groove 9 is 3 mm. Incidentally, it is preferable that the tip of the groove ridge 91 is obliquely cut as shown in FIG. 4 because the wafer 4 can be smoothly accommodated when it enters the groove 9.
Further, the pressure contact plate of the moving pressure contact portion 8 can be formed according to the size of the groove 9. Materials of the pallet body 7 and the moving press contact portion 8 of the wafer holding pallet 6 are not particularly limited,
It is preferable that the portion contacting the wafer 4 is made of a fluororesin.

【0008】ウエハー保持パレット6の移動圧接部8を
可動させてウエハー4の保持と解除を行うための手段と
しては、例えば図1に示すように、ウエハー保持パレッ
ト6の下部にアクチエーター14を設け、該アクチエー
ター14によりウエハーの保持と解除を行うことができ
る。具体的には、移動圧接部8をスプリング等の圧力に
より圧接するように形成し、常にウエハー保持の状態
(圧接した状態)としておいて、アクチエーター14を
ソレノイド等の力で、ウエハー保持用パレット6の移動
圧接部8のスプリングの力を弱めるように作動させて圧
接を解除するように形成すればよい。そして再び圧接し
てウエハーを保持する場合には、アクチエーター14の
ソレノイドを切ってやれば、上記と逆にパレットのスプ
リングが作動してウエハーを保持する。
As a means for holding and releasing the wafer 4 by moving the moving pressure contact portion 8 of the wafer holding pallet 6, an actuator 14 is provided below the wafer holding pallet 6 as shown in FIG. 1, for example. The wafer can be held and released by the actuator 14. Specifically, the moving pressing portion 8 is formed so as to be pressed by a pressure of a spring or the like, and is kept in a wafer holding state (a pressed state) at all times, and the actuator 14 is forced by a solenoid or the like to hold the wafer holding pallet. It may be formed so that the force of the spring of the moving pressure contact portion 8 of 6 is weakened to release the pressure contact. When the wafer is held by pressing it again, the solenoid of the actuator 14 is turned off, and the spring of the pallet operates in reverse to hold the wafer.

【0009】図4はウエハー保持パレット6のウエハー
の保持と解除の状態を示す説明図であり、(a)はウエ
ハーを解除した状態を示し、(b)はウエハーを保持し
た状態を示す。図4に示すように上記パレット本体7と
移動圧接部8とは、移動圧接部8の圧接板12がウエハ
ー保持用溝9の内部を移動可能に形成され、通常圧接板
12がスプリングによりパレット本体の保持壁13に圧
接されている。それが、ウエハー4を保持する場合に
は、移動圧接部8を移動させて、溝9を開放してウエハ
ー4の周辺の端部を溝9の保持壁13に接するようにす
る(図3(a))。次に、移動圧接部8を矢印Aの方向
に移動させて、ウエハー4を保持壁13と圧接板12で
挾持して、ウエハー4を垂直に保持することができる。
本考案装置は上記ウエハー保持パレット6を使用するこ
とが重要であり、ウエハー保持パレットを使用すること
により、一度に複数のウエハーを垂直に保持して移動さ
せることができるので、カセットとウエハーの接触を最
小限にして移載することが可能となっている。
4A and 4B are explanatory views showing the state of holding and releasing the wafer on the wafer holding pallet 6, where FIG. 4A shows the state where the wafer is released, and FIG. 4B shows the state where the wafer is held. As shown in FIG. 4, the pallet body 7 and the moving pressure contact portion 8 are formed such that the pressure contact plate 12 of the moving pressure contact portion 8 is movable inside the wafer holding groove 9, and the normal pressure contact plate 12 is formed by a spring. Is pressed against the holding wall 13. When holding the wafer 4, the moving pressure contact portion 8 is moved to open the groove 9 so that the peripheral edge of the wafer 4 contacts the holding wall 13 of the groove 9 (see FIG. a)). Next, the moving pressure contact portion 8 can be moved in the direction of arrow A, and the wafer 4 can be held by the holding wall 13 and the pressure contact plate 12 to hold the wafer 4 vertically.
It is important for the apparatus of the present invention to use the wafer holding pallet 6 described above. By using the wafer holding pallet, a plurality of wafers can be vertically held and moved at one time. It is possible to transfer with the minimum.

【0010】ウエハーを収納するウエハーカセット2
は、この種の半導体製造に使用されるカセットを使用す
ることができ、通常25枚のウエハーが収納できるよう
に、上部と下部が開口している溝が設けられた箱状に形
成されているものを用いる。
Wafer cassette 2 for storing wafers
Can use a cassette used for this kind of semiconductor manufacturing, and is usually formed in a box shape with a groove having an open upper part and a lower part so that 25 wafers can be stored. Use one.

【0011】カセット移動ステージ3は、カセット2を
水平方向に移動させるためにステッピングモーターを備
え、ガイドール7の上を滑らかに動くように形成され、
カセットを所定の位置で停止させることができるよう
に、左右に位置決めセンサーを有し、その他カセットの
有無検出センサー、ウエハー確認用センサー等を備えて
いる。
The cassette moving stage 3 is provided with a stepping motor for moving the cassette 2 in the horizontal direction and is formed so as to move smoothly on the guide rail 7.
It has positioning sensors on the left and right so that the cassette can be stopped at a predetermined position, and is further equipped with a cassette presence detection sensor, a wafer confirmation sensor, and the like.

【0012】プッシャー5はウエハー保持パレット6を
上下に移動させるためのものであり、ウエター保持パレ
ット6がカセット2の外部の下から上までの距離を移動
可能であればよく、更に所定の位置で停止できるよう
に、位置決めセンサーが所定の位置に設けられ、ウエハ
ー保持パレットを任意の速度で移動せしめるためステッ
ピングモーターにより昇降を行うように形成されてい
る。
The pusher 5 is for moving the wafer holding pallet 6 up and down, and it is sufficient that the wetter holding pallet 6 can move a distance from the bottom to the top of the outside of the cassette 2, and at a predetermined position. A positioning sensor is provided at a predetermined position so that the wafer holding pallet can be stopped, and is moved up and down by a stepping motor to move the wafer holding pallet at an arbitrary speed.

【0013】パレット保持アーム15は、カセット上部
に移動したパレットを保持できる機構のものであればよ
く、例えば図2に示す装置では、アーム先端部18がウ
エハー保持パレット6の方向に水平に伸縮可能に形成さ
れており、アーム先端部18を伸ばしてウエハー保持パ
レット6を下方前後から支持することができる。
The pallet holding arm 15 may have a mechanism capable of holding the pallet moved to the upper part of the cassette. For example, in the apparatus shown in FIG. 2, the arm tip portion 18 can extend and contract horizontally in the direction of the wafer holding pallet 6. The wafer holding pallet 6 can be supported from below and forward by extending the arm tip portion 18.

【0014】以下、本考案半導体ウエハー移載装置を使
用して実際にウエハーを移載する場合の使用例を図1及
び図2を用いて説明する。図1及び図2に示す装置にお
いて、先ず電源を投入してカセット移動ステージ3、プ
ッシャー5、オリフラ合わせ機16の各々の位置を原点
に復帰させ、ウエハー保持パレット6の保持部を開放状
態にした後、ウエハーが収納されたソース用カセット2
1をオリフラ合わせの上に載せる。次いで、オリフラ合
わせ機16が上昇しオリフラ合わせを行った後、オリフ
ラ合わせを行ったソース用ウエハーカセット21をウエ
ハー保持パレットの上になるようにステージ3を矢印B
の方向にロード用カセット22のある位置に来るように
水平に移動させ、ロード用カセット22をステージ3上
の所定の位置に設置する。次に、プッシャー5を上昇さ
せて、ウエハー保持パレット6の溝9の底にウエハー4
が接したら、プッシャー5の上昇を停止させ圧接板12
で圧接してウエハー4を垂直に保持する。尚、プッシャ
ーの移動は、ウエハー4と保持パレット6が接する際に
ソフトに接するように移動スピードを制御することが好
ましい。ウエハー4が正常にウエハー保持パレット6の
溝9に入り保持されていることを確認したならば、プッ
シャー5を更に上昇させて、ウエハー保持パレット6が
カセット21の外部に出たところで停止させ、パレット
6を保持するパレット支持アーム15によりパレット6
を水平前後方向両側から挾持して保持した後、プッシャ
ー5の先端がカセットの下になるまで下降させる。この
時点でウエハーソース用カセット21に収納されていた
ウエハー4は、完全にカセット2から取り出された状態
になる。
An example of use when actually transferring a wafer using the semiconductor wafer transfer device of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 and 2. In the apparatus shown in FIGS. 1 and 2, first, the power is turned on to return the respective positions of the cassette moving stage 3, pusher 5, and orientation flat aligning machine 16 to the origin, and the holding portion of the wafer holding pallet 6 is opened. After that, the source cassette 2 containing the wafers
Place 1 on top of the orientation flat. Next, the orientation flat aligning machine 16 is moved up to perform the orientation flat alignment, and the stage 3 is moved so that the source wafer cassette 21 subjected to the orientation flat alignment is on the wafer holding pallet.
The load cassette 22 is horizontally moved so as to come to a certain position of the load cassette 22 in the direction of, and the load cassette 22 is set at a predetermined position on the stage 3. Next, the pusher 5 is raised to bring the wafer 4 into the bottom of the groove 9 of the wafer holding pallet 6.
Contact with the pressure contact plate 12
To hold the wafer 4 vertically. In addition, it is preferable to control the moving speed of the pusher so that the wafer 4 and the holding pallet 6 come into soft contact with each other. When it is confirmed that the wafer 4 is normally held in the groove 9 of the wafer holding pallet 6, the pusher 5 is further raised and stopped when the wafer holding pallet 6 comes out of the cassette 21. The pallet support arm 15 holding the pallet 6
After being held by holding it from both sides in the horizontal front-rear direction, the pusher 5 is lowered until the tip end thereof is below the cassette. At this point, the wafer 4 stored in the wafer source cassette 21 is completely removed from the cassette 2.

【0014】次に、ウエハーを挾持したウエハー保持パ
レットがパレット支持アームによりカセット上部に保持
されている状態で、ウエハーの入っていない空のロード
用ウエハーカセット22を、ウエハー保持パレット6の
下に位置するように、カセット移動ステージを矢印Bの
方向に水平に移動させて、プッシャー5を再び上昇さ
せ、空のロード用ウエハーカセット22の内部を通過し
て上部にあるウエハー保持パレット6と再び接続して一
体とし、カセット内部を下降させウエハー4が所定の位
置(カセット2の底部にウエハー4が接触する位置)ま
で移動し、ウエハー4を圧接している移動圧接部8を移
動させて、ウエハー4の保持を解除する。解除後、プッ
シャー5を下降させてウエハー保持パレット6をウエハ
ー4から切り離すと、ロード用ウエハーカセット22に
ウエハー4が収納されて、移載が完了する。
Next, while the wafer holding pallet holding the wafer is held on the upper part of the cassette by the pallet supporting arm, the empty loading wafer cassette 22 containing no wafer is positioned below the wafer holding pallet 6. As described above, the cassette moving stage is horizontally moved in the direction of arrow B, the pusher 5 is raised again, and the pusher 5 is passed through the inside of the empty loading wafer cassette 22 to be connected again to the upper wafer holding pallet 6. And the inside of the cassette is lowered to move the wafer 4 to a predetermined position (the position where the wafer 4 comes into contact with the bottom of the cassette 2), and the moving press contact portion 8 pressing the wafer 4 is moved to move the wafer 4 Release the hold. After the release, the pusher 5 is lowered to separate the wafer holding pallet 6 from the wafer 4, the wafer 4 is stored in the loading wafer cassette 22, and the transfer is completed.

【0015】本考案半導体ウエハー移載装置に適用され
る半導体ウエハーのサイズとしては4インチ、5イン
チ、6インチ、8インチ等限定されず、どのようなサイ
ズのウエハーであろうとも、ウエハー保持パレットの大
きさ等をそれに応じて適宜に形成して、使用することが
できる。特に本考案装置の場合、8インチウエハー等の
大きなサイズのウエハーの移載に最適である。
The size of the semiconductor wafer applied to the semiconductor wafer transfer apparatus of the present invention is not limited to 4 inches, 5 inches, 6 inches, 8 inches, etc., and a wafer holding pallet of any size can be used. The size and the like can be appropriately formed and used accordingly. In particular, the device of the present invention is most suitable for transferring a large size wafer such as an 8-inch wafer.

【0016】[0016]

【考案の効果】以上説明したように、本考案半導体ウエ
ハー移載装置は上記のような構成を採用したことにより
以下の効果を有する。本考案半導体ウエハー移載装置は
従来の移載装置と比較して、半導体ウエハーの保持にウ
エハー保持パレットを用いることにより、ウエハーを垂
直に保持した状態で、カセット内を昇降させて外部に移
すことができるために、カセットの溝や側壁と擦れるこ
となく移動が可能であり、擦りによる塵の発生や帯電を
抑えることができる効果がある。更に、半導体ウエハー
の端縁部を挾持してウエハー保持パレットで保持するた
め、ウエハーの周辺端部のみが一度だけ移載装置と接触
するにすぎず、移載装置による接触箇所と接触面積を最
小にして、ウエハー自体が接触により汚染されるのを防
止する効果を有する。又、半導体ウエハーの移載の途中
の状態は、ウエハー自体がウエハー保持パレットによっ
て確実に保持されているために、ウエハーに傷がついた
り、破損したりする虞れが全くなく、特に大きなサイズ
のウエハーであっても確実な移載を行うことができる。
As described above, the semiconductor wafer transfer device of the present invention has the following effects by adopting the above-mentioned configuration. The semiconductor wafer transfer device of the present invention, compared with the conventional transfer device, uses a wafer holding pallet to hold semiconductor wafers, so that the wafer can be held vertically and moved up and down inside the cassette. Therefore, it is possible to move without rubbing against the groove or side wall of the cassette, and it is possible to suppress the generation of dust and charging due to rubbing. Furthermore, since the edge of the semiconductor wafer is held by the wafer holding pallet, only the peripheral edge of the wafer comes into contact with the transfer device only once, and the contact point and contact area by the transfer device are minimized. In addition, it has the effect of preventing the wafer itself from being contaminated by contact. In addition, since the wafer itself is securely held by the wafer holding pallet during the transfer of the semiconductor wafer, there is no possibility that the wafer will be scratched or damaged, and the semiconductor wafer of a particularly large size is transferred. Reliable transfer can be performed even on a wafer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本考案半導体ウエハー移載装置の1例を示し、
正面から見た場合の説明図である。
FIG. 1 shows an example of a semiconductor wafer transfer device according to the present invention,
It is explanatory drawing at the time of seeing from the front.

【図2】本考案半導体ウエハー移載装置の1例を示し、
側面から見た場合の説明図である。
FIG. 2 shows an example of a semiconductor wafer transfer device according to the present invention,
It is explanatory drawing at the time of seeing from a side surface.

【図3】本考案移載装置に用いるウエハー保持パレット
の1例を示す分解斜視図である。
FIG. 3 is an exploded perspective view showing an example of a wafer holding pallet used in the transfer device of the present invention.

【図4】ウエハー保持パレットのウエハーの保持と解除
の状態を示す説明図であり、(a)は解除した状態を示
し、(b)は保持した状態を示す。
FIG. 4 is an explanatory view showing a state of holding and releasing a wafer on a wafer holding pallet, (a) showing a released state, and (b) showing a held state.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体ウエハー移載装置 2 ウエハーカセット 3 カセット移動ステージ 4 半導体ウエハー 5 プッシャー 6 ウエハー保持パレット 7 パレット本体 8 移動圧接部 15 パレット保持アーム 1 Semiconductor Wafer Transfer Device 2 Wafer Cassette 3 Cassette Moving Stage 4 Semiconductor Wafer 5 Pusher 6 Wafer Holding Pallet 7 Pallet Main Body 8 Moving Pressing Section 15 Pallet Holding Arm

Claims (1)

(57)【実用新案登録請求の範囲】(57) [Scope of utility model registration request] 【請求項1】 複数の半導体ウエハーを保持可能なカセ
ットを用い、一方のソース用カセットから他方のロード
用カセットへと半導体ウエハーを一括に移載するための
装置であって、ソース用カセットとロード用カセットの
2つのカセットを水平方向に移動させる手段を備えたカ
セット移動ステージと、上記カセット内の半導体ウエハ
ーの端縁部を挟持して垂直に保持可能なウエハー保持パ
レットと、該ウエハー保持パレットをカセット上方外部
で保持可能なパレット保持手段と、ウエハー保持パレッ
トに接続・離脱可能であり該パレットをカセットの下方
外部から上方外部まで上下に移動可能なプッシャーとを
備え、上記カセット移動ステージには、プッシャーのみ
及びウエハー保持パレットが接続されたプッシャーを上
下方向に通過可能な開口部がカセット載置位置に対応し
て設けられ、カセットがプッシャーのみ及びウエハー保
持パレットが接続されたプッシャーを上下方向に通過可
能に形成されていることを特徴とする半導体ウエハー移
載装置。
1. A cassette capable of holding a plurality of semiconductor wafers.
And load one cassette from one source to the other
For transferring semiconductor wafers collectively to a cassette
An apparatus, which is capable of holding a cassette moving stage having means for horizontally moving two cassettes , a source cassette and a loading cassette, and vertically holding the semiconductor wafer in the cassette by sandwiching an end edge portion of the semiconductor wafer. and the wafer holding pallet on a cassette the wafer holding pallet Hogaibu
Pallet holding means that can hold the
The pallet can be connected to or disconnected from the
With a pusher that can move up and down from outside to above
Only the pusher is provided on the cassette moving stage.
And push up the pusher to which the wafer holding pallet is connected.
The opening that allows passage downward corresponds to the cassette mounting position.
The cassette is installed only on the pusher and the wafer
Can pass vertically through pushers to which holding pallets are connected
A semiconductor wafer transfer apparatus characterized by being formed on the ability.
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JPH0518033U JPH0518033U (en) 1993-03-05
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02230753A (en) * 1989-03-03 1990-09-13 Nec Kyushu Ltd Automatic replacing machine for semiconductor substrate
JPH02243427A (en) * 1989-03-14 1990-09-27 Nec Corp Wafer standing transfer machine

Patent Citations (2)

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JPH02243427A (en) * 1989-03-14 1990-09-27 Nec Corp Wafer standing transfer machine

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