JPH02243427A - Wafer standing transfer machine - Google Patents
Wafer standing transfer machineInfo
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- JPH02243427A JPH02243427A JP1061581A JP6158189A JPH02243427A JP H02243427 A JPH02243427 A JP H02243427A JP 1061581 A JP1061581 A JP 1061581A JP 6158189 A JP6158189 A JP 6158189A JP H02243427 A JPH02243427 A JP H02243427A
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- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
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- Sheets, Magazines, And Separation Thereof (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は円板状の製品をキャリヤからキャリヤに移し替
える立替機に関し、特に半導体工場で用いられるウェハ
立替機に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a transfer machine for transferring disc-shaped products from one carrier to another, and particularly to a wafer transfer machine used in a semiconductor factory.
従来、この種のウェハ立替機はウェハを水平に収納した
ウェハキャリヤから、ウェハを水平状態にして一枚ずつ
取り出し他のキャリヤへ移し替えていた。Conventionally, this type of wafer transfer machine takes out wafers one by one from a wafer carrier that stores wafers in a horizontal state and transfers them to another carrier.
また、ウェハを垂直状態にして多数のウェハを一括同時
に移し替えるウェハ立替機はあったが、ウェハを垂直状
態にして、移し替えるべきウェハを一枚毎に指定し、選
択的に移し替えできるウェハ立替機はなかった。Additionally, there was a wafer transfer machine that held the wafers vertically and transferred a large number of wafers at the same time. There was no advance payment machine.
上述した従来のウェハ立替機は一枚ずつ取り出すため1
時間がかかるという欠点があった。また、−枚ずつ取り
出すには、ウェハ裏面を吸着して搬送するか、又はベル
ト搬送する必要があり、ウェハに傷が付き、塵埃が付着
するという欠点があった。また、ウェハを水平状態にし
てハンドリングするため、ダウンフローのクリーンルー
ム内では塵埃が付着しやすいという欠点があった。The conventional wafer advance machine mentioned above takes out one wafer at a time.
The drawback was that it was time consuming. Furthermore, in order to take out the wafers one by one, it is necessary to transport the wafers by suctioning their back surfaces or to transport the wafers with a belt, which has the disadvantage that the wafers are damaged and dust is deposited on them. In addition, since the wafer is handled in a horizontal state, there is a drawback that dust tends to accumulate in a downflow clean room.
本発明の目的は前記課題を解決したウェハ立替機を提供
することにある。An object of the present invention is to provide a wafer advance machine that solves the above problems.
前記目的を達成するため、本発明に係るウェハ立替機は
、ウェハを垂直に収納したウェハキャリヤと、空ウェハ
キャリヤを水平移動して位置決めするキャリヤ位置決め
部と、ウェハキャリヤの下方よりウェハキャリヤ内のウ
ェハを上方に押し上げるプッシャー部と、押し上げられ
たウェハを一枚ずつ垂直に案内するウェハ案内部と、ウ
ェハ案内部の上方に位置し、案内されたウェハを一枚ず
つ垂直に収納するウェハ収納部と、ウェハ案内部とウェ
ハ収納部との中間に位置し、ウェハ一枚毎に対応して開
閉するシャッター部とを含むものである。In order to achieve the above object, the wafer unloading machine according to the present invention includes a wafer carrier that stores wafers vertically, a carrier positioning section that horizontally moves and positions the empty wafer carrier, and a wafer positioning section that moves the empty wafer carrier horizontally to position it, and a A pusher section that pushes the wafers upward, a wafer guide section that vertically guides the pushed wafers one by one, and a wafer storage section that is located above the wafer guide section and stores the guided wafers vertically one by one. and a shutter section that is located between the wafer guide section and the wafer storage section and opens and closes for each wafer.
次に、本発明について図面を参照して説明する。 Next, the present invention will be explained with reference to the drawings.
第1図は本発明の一実施例の斜視図であり、第2図は主
要部の断面図である。FIG. 1 is a perspective view of an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view of the main parts.
図において、キャリヤ位置決め部1はウェハ2を垂直に
収納したウェハキャリヤ3と、空ウェハキャリヤ4を保
持した移動台5と、固定台6と、モータ7と、ねじ8と
から構成され、プッシャー部9はプッシャー10と上下
機構11とから構成される。プッシャー10は第2図に
示すようにキャリヤ3を貫通してウェハ2を上方へ持上
げる。ウェハ案内部12はウェハ2を一枚ずつ案内する
溝13を有し、ウェハ収納部14はウェハ案内部12と
同様な溝を有する。シャッター部15はウェハ一枚毎に
対応した複数のシャッター16と、シャッターを駆動す
るソレノイド群17と、ソレノイド群17からシャッタ
ー16へ駆動力を伝達する駆動力伝達ケーブル群18と
から構成される。In the figure, a carrier positioning section 1 is composed of a wafer carrier 3 that vertically stores a wafer 2, a moving table 5 holding an empty wafer carrier 4, a fixed table 6, a motor 7, and a screw 8, and a pusher section. 9 is composed of a pusher 10 and a vertical mechanism 11. The pusher 10 passes through the carrier 3 and lifts the wafer 2 upward, as shown in FIG. The wafer guide section 12 has a groove 13 for guiding the wafers 2 one by one, and the wafer storage section 14 has a groove similar to the wafer guide section 12. The shutter section 15 is composed of a plurality of shutters 16 corresponding to each wafer, a solenoid group 17 that drives the shutters, and a driving force transmission cable group 18 that transmits driving force from the solenoid group 17 to the shutter 16.
次に本発明の動作について詳細に説明する。Next, the operation of the present invention will be explained in detail.
ウェハキャリヤ3に収納されているウェハ2はプッシャ
ー部9によって押し上げられウェハ案内部12を通って
ウェハ収納部14に収納され、シャッター部15が閉じ
、ウェハ2はウェハ収納部14に収納される0次に、プ
ッシャー10が下降し、空ウェハキャリヤ4が水平移動
してウェハ案内部12の下に位置決めされる1次に、プ
ッシャーlOが上昇し、空ウェハキャリヤに移し替えた
いウェハに対応したシャッター16が開き、該ウェハは
落下する。落下したウェハはプッシャー10がストッパ
ーとなって停止し、その後、プッシャー10の下降に従
い。The wafer 2 stored in the wafer carrier 3 is pushed up by the pusher part 9, passes through the wafer guide part 12, and is stored in the wafer storage part 14, the shutter part 15 is closed, and the wafer 2 is stored in the wafer storage part 14. Next, the pusher 10 is lowered, and the empty wafer carrier 4 is horizontally moved and positioned under the wafer guide section 12. Next, the pusher 10 is raised, and the shutter corresponding to the wafer to be transferred to the empty wafer carrier is moved. 16 opens and the wafer falls. The dropped wafer is stopped by the pusher 10 as a stopper, and then the pusher 10 is moved downward.
ウェハは下方に案内され、空ウェハキャリヤ4に収納さ
れる1次に、再びウェハキャリヤ3がウェハ案内部12
の真下に位置決めされ、プッシャー10を上昇させ、シ
ャッター16を開き、プッシャー10を下降させること
により、残りのウェハを再び、キャリヤ3に収納する0
以上の動作により、ウェハキャリヤ3から移し替えたい
ウェハのみを、空ウェハキャリヤ4へ移し替えできるこ
とになる。The wafer is guided downward and stored in the empty wafer carrier 4. Next, the wafer carrier 3 is moved again to the wafer guide section 12.
The remaining wafers are stored in the carrier 3 again by raising the pusher 10, opening the shutter 16, and lowering the pusher 10.
By the above operation, only the wafers to be transferred from the wafer carrier 3 can be transferred to the empty wafer carrier 4.
以上説明したように本発明は移し替えたいウェハのみを
一括同時に移し替えができるので、−枚ずつハンドリン
・グして移し替えた場合に比較して短時間にでき、経済
的であるという効果がある。As explained above, in the present invention, only the wafers that need to be transferred can be transferred at the same time, so compared to the case where wafers are handled and transferred one by one, the process can be carried out in a shorter time and is more economical. be.
また、ウェハは垂直状態のまま移し替え、かつ、ウェハ
は外周及び外周より少し内側の部分のみが案内に接触す
るのみであるので、ウェハに傷が付きにくく、塵埃も付
着しにくいという効果がある。In addition, since the wafer is transferred in a vertical position and only the outer periphery and the slightly inner part of the wafer come into contact with the guide, the wafer is less likely to be scratched and dust is less likely to adhere to it. .
多品種少量生産のウェハプロセス工程では、同一ウェハ
キャリヤ内に多数のロフトを混載し、工程の途中でロッ
ト分割やロット総合が必要となり、これら多品種少量生
産工程で本発明は、非常に大きな経済的効果がある。ま
た1本発明は磁気ディスク製造工程においても使用可能
であり、キャリア間の移し替え作業が効率的にできると
いう効果がある。In the wafer process process for high-mix low-volume production, many lofts are loaded together in the same wafer carrier, and it is necessary to divide lots or combine lots in the middle of the process. It has a positive effect. Furthermore, the present invention can also be used in the magnetic disk manufacturing process, and has the effect that transfer operations between carriers can be performed efficiently.
第1図は本発明の一実施例を示す斜視−図、第2図は本
発明の主要部を示す断面図である。
1・・・キャリヤ位置決め部 2・・・ウェハ3・・・
ウェハキャリヤ 4・・・空ウェハキャリヤ5・・
・移動台 6・・・固定台7・・・モータ
8・・・ねじ9・・・プッシャー部
10・・・プッシャー11・・・上下機構
12・・・ウェハ案内部13・・・溝
14・・・ウェハ収納部15・・・シャッター
部 16・・・シャッターl7・・・ソレノイド
群
18・・・駆動力伝達ケーブル群
第1図FIG. 1 is a perspective view showing one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view showing the main part of the present invention. 1...Carrier positioning section 2...Wafer 3...
Wafer carrier 4...Empty wafer carrier 5...
・Moving base 6...Fixed base 7...Motor 8...Screw 9...Pusher part
10... Pusher 11... Vertical mechanism
12...Wafer guide part 13...Groove
14... Wafer storage section 15... Shutter section 16... Shutter l7... Solenoid group 18... Driving force transmission cable group Fig. 1
Claims (1)
ェハキャリヤを水平移動して位置決めするキャリヤ位置
決め部と、ウェハキャリヤの下方よりウェハキャリヤ内
のウェハを上方に押し上げるプッシャー部と、押し上げ
られたウェハを一枚ずつ垂直に案内するウェハ案内部と
、ウェハ案内部の上方に位置し、案内されたウェハを一
枚ずつ垂直に収納するウェハ収納部と、ウェハ案内部と
ウェハ収納部との中間に位置し、ウェハ一枚毎に対応し
て開閉するシャッター部とを含むことを特徴とするウェ
ハ立替機。(1) A wafer carrier that stores wafers vertically, a carrier positioning section that horizontally moves and positions an empty wafer carrier, a pusher section that pushes up the wafer in the wafer carrier from below the wafer carrier, and the pushed wafer a wafer guide section that vertically guides the wafers one by one; a wafer storage section located above the wafer guide section that vertically stores the guided wafers one by one; and a wafer storage section located between the wafer guide section and the wafer storage section. 1. A wafer advance machine, comprising: a shutter section located at the shutter section, which opens and closes correspondingly to each wafer.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1061581A JPH02243427A (en) | 1989-03-14 | 1989-03-14 | Wafer standing transfer machine |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1061581A JPH02243427A (en) | 1989-03-14 | 1989-03-14 | Wafer standing transfer machine |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02243427A true JPH02243427A (en) | 1990-09-27 |
Family
ID=13175243
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1061581A Pending JPH02243427A (en) | 1989-03-14 | 1989-03-14 | Wafer standing transfer machine |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02243427A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0518033U (en) * | 1991-08-12 | 1993-03-05 | シール・アンド・セミコン株式会社 | Semiconductor wafer transfer device |
-
1989
- 1989-03-14 JP JP1061581A patent/JPH02243427A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0518033U (en) * | 1991-08-12 | 1993-03-05 | シール・アンド・セミコン株式会社 | Semiconductor wafer transfer device |
JP2513160Y2 (en) * | 1991-08-12 | 1996-10-02 | シール・アンド・セミコン株式会社 | Semiconductor wafer-transfer device |
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