JP2508888B2 - Nonvolatile semiconductor memory device - Google Patents

Nonvolatile semiconductor memory device

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JP2508888B2
JP2508888B2 JP13305390A JP13305390A JP2508888B2 JP 2508888 B2 JP2508888 B2 JP 2508888B2 JP 13305390 A JP13305390 A JP 13305390A JP 13305390 A JP13305390 A JP 13305390A JP 2508888 B2 JP2508888 B2 JP 2508888B2
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康 寺田
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好和 宮脇
真一 小林
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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は不揮発性半導体記憶装置に関し、特に電気的
に一括消去可能なフラッシュE2PROMに関するものであ
る。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device, and more particularly to a flash E 2 PROM which can be collectively erased electrically.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

フラッシュE2PROMは、書込み時にメモリトランジスタ
のドレイン近傍より電子を注入してしきい値電圧の高い
状態にし、消去時にソースより電子を引き抜いてしきい
値電圧の低い状態にする。また、書込みはバイトあるい
はワード単位に行ない、消去はチップ全体に一括に行な
う。この消去の時プロセス上のばらつきにより消去の速
いメモリトランジスタと遅いメモリトランジスタが現れ
る。もし、消去の遅いメモリトランジスタに合わせて消
去時間が充分長くしてしまうと、消去の速いメモリトラ
ンジスタのしき値電圧は負になってしまう。読出しはメ
モリトランジスタを介して電流が流れるか流れないかを
検出して消去状態か書込み状態かを判定するが、ビット
線につながるメモリトランジスタの1つでもしきい値電
圧が負のものであると、該メモリトランジスタが非選択
状態でゲート電位(ワード線電位)が0Vでも非常に電流
が流れて正しい情報が読めなくなる。そこで、消去をチ
ップ内部で自動制御する方法が考えられた。これは、短
い消去パルスを与えて、次に読出しを行ない、消去され
ていないメモリトランジスタがあれば、もう一度消去パ
ルスを与えるという動作を全てのメモリセルが消去され
るまで繰り返すものである。
The flash E 2 PROM injects electrons from the vicinity of the drain of the memory transistor at the time of writing to make it have a high threshold voltage, and at the time of erasing, pulls out electrons from the source to make it have a low threshold voltage. In addition, writing is performed in byte or word units, and erasing is collectively performed in the entire chip. At the time of this erasing, a memory transistor with a fast erasing and a memory transistor with a slow erasing appear due to process variations. If the erasing time is made sufficiently long in accordance with the memory transistor with slow erasing, the threshold voltage of the memory transistor with fast erasing becomes negative. In reading, whether the current flows or does not flow through the memory transistor is determined to determine whether it is in the erased state or the written state. Even if one of the memory transistors connected to the bit line has a negative threshold voltage. Even if the memory transistor is in a non-selected state and the gate potential (word line potential) is 0 V, a very large current flows and correct information cannot be read. Therefore, a method of automatically controlling erasing inside the chip has been considered. In this method, a short erase pulse is applied, then reading is performed, and if there is a non-erased memory transistor, the operation of applying the erase pulse again is repeated until all memory cells are erased.

第2図は自動消去を示すフローチャート、第3図は不
揮発性半導体記憶装置全体を示すブロック系統図、第4
図は第3図の消去制御回路を示すブロック系統図、第5
図は第3図のセンスアンプ,書込み回路、Yゲート,Zゲ
ート,メモリセルアレイの一部を示す回路図である。
FIG. 2 is a flowchart showing automatic erasing, FIG. 3 is a block system diagram showing the entire nonvolatile semiconductor memory device, and FIG.
FIG. 5 is a block system diagram showing the erase control circuit of FIG.
The drawing is a circuit diagram showing a part of the sense amplifier, write circuit, Y gate, Z gate, and memory cell array of FIG.

第3図および第5図において、1,2,3はメモリトラン
ジスタ、4,5,6はビット線、7はワード線、8はソース
線、9,10,11はYゲート線、12,13,14はYゲート、15,1
6,17はNANDゲート、18,19,20はインバータ、21はNANDゲ
ート15〜17とインバータ18〜20とから成るYデコーダ、
22はZデコーダ、23はZゲート、24は書込みトランジス
タ、25はセンスアンプ、26,29はPチャネルトランジス
タ、27,28,30はNチャネルトランジスタ、31はインバー
タ、32は読出しデータRDの出力端子、33は高電圧Vpp
供給端子、34は書込み回路、40はデータが入出力される
DQバッファ、41は制御信号ERのバッファ、42は消去制御
回路、43はメモリセルアレイ、44はアレイソーススイッ
チ、45はロウデコーダ、46はアドレスデータが入力され
るアドレスバッファ、47は高電圧Vppが入力される高電
圧制御回路である。また、第4図において、42は消去制
御回路、421はアドレスデータをデコーダ21,22,45へ出
力するアドレスカウンタ、422は読出しデータRDが入力
される消去ベリファイ回路、423は高電圧Vppを入力して
アレイソーススイッチ44に消去パルスを出力する消去パ
ルス発生回路である。
In FIGS. 3 and 5, 1,2,3 are memory transistors, 4,5,6 are bit lines, 7 is a word line, 8 is a source line, 9,10,11 are Y gate lines, and 12,13. , 14 is Y gate, 15,1
6, 17 are NAND gates, 18, 19 and 20 are inverters, 21 is a Y decoder composed of NAND gates 15 to 17 and inverters 18 to 20,
22 is a Z decoder, 23 is a Z gate, 24 is a write transistor, 25 is a sense amplifier, 26 and 29 are P channel transistors, 27, 28 and 30 are N channel transistors, 31 is an inverter, and 32 is an output terminal of read data RD. , 33 is a high voltage V pp supply terminal, 34 is a writing circuit, and 40 is data input / output.
DQ buffer, 41 buffer of control signal ER, 42 erase control circuit, 43 memory cell array, 44 array source switch, 45 row decoder, 46 address buffer to which address data is input, 47 high voltage V pp Is a high voltage control circuit to which is input. In FIG. 4, 42 is an erase control circuit, 421 is an address counter that outputs address data to the decoders 21, 22, 45, 422 is an erase verify circuit into which read data RD is input, and 423 is a high voltage V pp . An erase pulse generation circuit that inputs and outputs an erase pulse to the array source switch 44.

次に、従来例の動作を第2図〜第5図を用いて説明す
る。前記の説明のように、フラッシュE2PROMでは消去を
チップ内部で自動制御している。ここでは、この消去に
ついて説明する。消去は、比較的短い消去パルスを全て
のメモリトランジスタのソースに印加する消去パルス印
加動作と、全メモリトランジスタが消去されたかどうか
を判断する消去ベリファイ動作がある。消去をエネーブ
ルにする制御信号ERを入力すると消去モードにはいり、
まず消去パルス印加動作を行なう(第2図のステップS
1)。消去動作全体の制御を消去制御回路で行なう。消
去パルス印加動作ではメモリトランジスタのワード線7
を全て「L」レベル、Yゲート12,13,14を全てオフし、
アレイソーススイッチ44から全てのメモリトランジスタ
のソースに高電圧を与える。この状態でメモリトランジ
スタのフローティングゲートからソースに電子が引き抜
かれ、メモリトランジスタのしきい値電圧は低くなる。
次に、消去ベリファイ動作が自動的に行なわれる(第2
図のステップS2)。消去ベリファイでは、消去制御回路
42内のアドレスカウンタ421より発生したアドレスデー
タをロウデコーダ45、Yデコーダ21、Zデコーダ22に与
える。ロウデコーダ45により1本のワード線7が選択さ
れ、Yデコーダ21、Zデコーダ22により1つのYゲート
12、1つのZゲート23が選択されて、1本のビット線4
が1つのセンスアンプ25に接続される。ここで、センス
アンプ25を活性化して、選択されたメモリトランジスタ
1の情報を読み出す。もし、読み出されたメモリトラン
ジスタのデータが「1」(消去状態)であれば、アドレ
スカウンタ421は次のアドレスデータを発生して、次の
アドレスのメモリトランジスタの情報が読み出される
(第2図のステップS3)。また、読み出されたメモリト
ランジスタのデータが「0」(書込み状態)であれば、
消去ベリファイ動作を中止して、再び消去パルス印加動
作に移る(第2図のステップS1,S2)。全てのメモリト
ランジスタの読出しデータが「1」になると、消去モー
ドが終了する(第2図のステップS3)。
Next, the operation of the conventional example will be described with reference to FIGS. As described above, in the flash E 2 PROM, erasing is automatically controlled inside the chip. Here, this erasure will be described. Erasing includes an erase pulse applying operation for applying a relatively short erase pulse to the sources of all memory transistors, and an erase verify operation for determining whether or not all memory transistors have been erased. When the control signal ER that enables erasing is input, it enters the erasing mode,
First, erase pulse application operation is performed (step S in FIG. 2).
1). The erase control circuit controls the entire erase operation. In the erase pulse application operation, the word line 7 of the memory transistor
To "L" level, turn off all Y gates 12,13,14,
A high voltage is applied from the array source switch 44 to the sources of all memory transistors. In this state, electrons are extracted from the floating gate of the memory transistor to the source, and the threshold voltage of the memory transistor becomes low.
Next, the erase verify operation is automatically performed (second
Step S2 in the figure). In erase verify, erase control circuit
The address data generated by the address counter 421 in 42 is applied to the row decoder 45, Y decoder 21, and Z decoder 22. One word line 7 is selected by the row decoder 45, and one Y gate is selected by the Y decoder 21 and the Z decoder 22.
12, one Z gate 23 is selected and one bit line 4
Are connected to one sense amplifier 25. Here, the sense amplifier 25 is activated to read the information of the selected memory transistor 1. If the read data of the memory transistor is "1" (erased state), the address counter 421 generates the next address data, and the information of the memory transistor at the next address is read (FIG. 2). Step S3). If the read data of the memory transistor is “0” (write state),
The erase verify operation is stopped and the erase pulse applying operation is resumed (steps S1 and S2 in FIG. 2). When the read data of all the memory transistors become "1", the erase mode ends (step S3 in FIG. 2).

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be Solved by the Invention]

従来の装置は以上のように構成されているので、消去
ベリファイの時、通常の読出しと同様に1つのアドレス
のデータだけを読み出していた。そのため消去ベリファ
イに時間がかかり、消去時間を長くする原因になってい
た。また、大容量化が進みベリファイするメモリトラン
ジスタが増えると、さらにこの時間は長くなる。
Since the conventional device is configured as described above, at the time of erase verify, only the data of one address is read as in the normal read. Therefore, it takes a long time to perform the erase verify, which causes a long erase time. Further, as the capacity increases and the number of memory transistors to be verified increases, this time becomes even longer.

本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、
その目的とするところは、消去時間が短縮される不揮発
性半導体記憶装置を得ることにある。
The present invention has been made in view of such a point,
The purpose is to obtain a non-volatile semiconductor memory device in which the erase time is shortened.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

このような目的を達成するために本発明は、複数行,
複数列にマトリックス状に配置され、電気的に書込みお
よび消去可能なメモリセルと、メモリセルの行毎にそれ
ぞれ対応して配置され、各行のメモリセルに共通に接続
された複数のワード線と、メモリセルの列毎にそれぞれ
対応して配置され、各列のメモリセルに共通に接続され
た複数のビット線と、ビット線に対応してそれぞれ設け
られ、対応するビット線と共通ノードとの間に接続され
た複数のトランスファゲートと、アドレス信号を入力
し、このアドレス信号によってトランスファゲートを選
択的にオン・オフ制御するYデコーダと、共通ノードに
接続され、消去ベリファイ時と読出し時とで読出し感度
が異なる電流増幅型のセンスアンプとを備えたものであ
る。
In order to achieve such an object, the present invention provides a plurality of lines,
Memory cells arranged in a matrix in a plurality of columns, electrically writable and erasable, and a plurality of word lines arranged corresponding to each row of the memory cells and commonly connected to the memory cells in each row, A plurality of bit lines arranged corresponding to each column of the memory cells and commonly connected to the memory cells of each column, and provided respectively corresponding to the bit lines, between the corresponding bit line and the common node. Connected to a common node, and a plurality of transfer gates connected to the Y-decoder for inputting an address signal and selectively controlling ON / OFF of the transfer gate by the address signal, and reading at the time of erase verify and reading A current amplification type sense amplifier having different sensitivities is provided.

〔作用〕[Action]

本発明による不揮発性半導体記憶装置では、消去ベリ
ファイ時と読み出し時とでセンスアンプの読出し感度を
異なるようにしているため、消去ベリファイのときは消
去ベリファイに最適のレベルでセンス出力できる。
In the non-volatile semiconductor memory device according to the present invention, the read sensitivity of the sense amplifier is made different at the time of erase verify and at the time of read. Therefore, at the time of erase verify, the sense output can be performed at the optimum level for erase verify.

〔実施例〕〔Example〕

本発明による不揮発性半導体記憶装置の一実施例を図
について説明する。従来例と同様な部分については説明
を省略する。第1図は、本発明の一実施例を示すブロッ
ク系統図である。同図において、35,36,37はNANDゲー
ト、38は消去ベリファイに入ると「L」レベルになる▲
▼信号の入力端子、39はPチャネルトランジスタで
あり、Pチャネルトランジスタ39はトランジスタ29より
も電流供給能力の高いサイズになっている。
An embodiment of a nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention will be described with reference to the drawings. Description of the same parts as those in the conventional example will be omitted. FIG. 1 is a block system diagram showing an embodiment of the present invention. In the figure, 35, 36, and 37 are NAND gates, and 38 is at "L" level when the erase verify is started.
A signal input terminal 39 is a P-channel transistor, and the P-channel transistor 39 has a size higher than the transistor 29 in current supply capability.

次に動作について説明する。消去モードにおいては、
消去パルス印加動作は従来例と同様であるため、説明は
省略する。消去ベリファイ動作に入ると、信号▲▼
が「L」レベルになるため、Yデコーダ21のNANDゲート
35,36,37により全てのYゲート線9,10,11は「H」レベ
ルになり、Yゲート12,13,14はオンする。同時にZデコ
ーダ22により1つのZゲート23が選別され、Zゲート23
につながる全てのビット線4,5,6はセンスアンプ25に接
続される。センスアンプ25では、信号▲▼が「L」
になり、Pチャネルトランジスタ39がオンするため、セ
ンスするビット線が増えてもビット線が1本の時と変わ
らないセンス感度で読み出すことができる。例えば、メ
モリトランジスタ1,2は消去状態、メモリトランジスタ
3はまだ書込み状態であるとき、ビット線4,5には電流
が流れるが、ビット線6には流れないので、センスアン
プ25は書込み状態と判定する。メモリトランジスタ1,2,
3の全てが消去状態になり、ビット線4,5,6の全てに電流
が流れれば、消去状態と判定する。また、アドレスカウ
ンタ421(第4図参照)はYアドレスを除くアドレスの
みをカウントする。
Next, the operation will be described. In erase mode,
Since the erase pulse applying operation is similar to that of the conventional example, the description thereof is omitted. When the erase verify operation starts, the signal ▲ ▼
Becomes the “L” level, so the NAND gate of the Y decoder 21
35, 36, 37 bring all the Y gate lines 9, 10, 11 to "H" level, and the Y gates 12, 13, 14 are turned on. At the same time, one Z gate 23 is selected by the Z decoder 22, and the Z gate 23 is selected.
All bit lines 4, 5 and 6 connected to are connected to the sense amplifier 25. In the sense amplifier 25, the signal ▲ ▼ is “L”
Since the P-channel transistor 39 is turned on, even if the number of bit lines to be sensed is increased, it is possible to read with the same sense sensitivity as when there is one bit line. For example, when the memory transistors 1 and 2 are in the erased state and the memory transistor 3 is still in the written state, current flows to the bit lines 4 and 5, but not to the bit line 6, so the sense amplifier 25 is set to the written state. judge. Memory transistor 1,2,
If all 3 are in the erased state and current flows through all of the bit lines 4, 5 and 6, it is determined to be the erased state. The address counter 421 (see FIG. 4) counts only addresses excluding the Y address.

本実施例では、Yゲートの全てを選択する場合につい
て説明したが、2つ以上を同時に選択すれば同様に消去
ベリファイを速くすることができる。
In this embodiment, the case where all the Y gates are selected has been described, but if two or more gates are selected at the same time, the erase verify can be similarly speeded up.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明したように本発明によれば、センスアンプに
おける消去ベリファイ時のセンス感度を読出し時のセン
サ感度と異なるようにしているため、消去ベリファイに
適したセンス動作が行えるという効果がある。
As described above, according to the present invention, the sense sensitivity at the time of erase verify in the sense amplifier is made different from the sensor sensitivity at the time of reading, so that there is an effect that a sensing operation suitable for erase verify can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明による不揮発性半導体記憶装置の一実施
例を示す回路図、第2図は自動消去を示すフローチャー
ト、第3図はチップ全体を示すブロック系統図、第4図
は消去制御回路を示すブロック系統図、第5図は従来の
不揮発性半導体記憶装置を示す回路図である。 1〜3……メモリトランジスタ、4〜6……ビット線、
7……ワード線、8……ソース線、9〜11……Yゲート
線、12〜14……Yゲート、15〜17,35〜37……NANDゲー
ト、18〜20……インバータ、21……Yデコーダ、22……
Zデコーダ、23……Zゲート、24……書込みトランジス
タ、25……センスアンプ、26,29,39……Pチャネルトラ
ンジスタ、27,28,30……Nチャネルトランジスタ、31…
…インバータ、32……出力端子、33……供給端子、34…
…書込み回路、38……入力端子。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of a nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention, FIG. 2 is a flow chart showing automatic erasing, FIG. 3 is a block system diagram showing the entire chip, and FIG. 4 is an erasing control circuit. FIG. 5 is a circuit diagram showing a conventional nonvolatile semiconductor memory device. 1-3 ... memory transistors, 4-6 ... bit lines,
7 ... Word line, 8 ... Source line, 9-11 ... Y gate line, 12-14 ... Y gate, 15-17, 35-37 ... NAND gate, 18-20 ... Inverter, 21 ... … Y decoder, 22 ……
Z decoder, 23 ... Z gate, 24 ... writing transistor, 25 ... sense amplifier, 26,29,39 ... P-channel transistor, 27,28,30 ... N-channel transistor, 31 ...
… Inverter, 32 …… Output terminal, 33 …… Supply terminal, 34…
… Writing circuit, 38… Input terminal.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮脇 好和 兵庫県伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電 機株式会社エル・エス・アイ研究所内 (72)発明者 小林 真一 兵庫県伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電 機株式会社エル・エス・アイ研究所内 (56)参考文献 特開 昭57−100690(JP,A) 特開 昭63−7600(JP,A) 特開 昭62−84499(JP,A) 特開 平2−158999(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Yoshikazu Miyawaki 4-chome, Mizuhara, Itami City, Hyogo Prefecture Mitsubishi Electric Corporation ELS Research Institute (72) Shinichi Kobayashi 4-chome, Mizuhara Itami City, Hyogo Prefecture No. 1 Mitsubishi Electric Corporation LSI Research Laboratory (56) Reference JP-A-57-100690 (JP, A) JP-A-63-7600 (JP, A) JP-A-62-84499 (JP, A) JP-A-2-158999 (JP, A)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】複数行,複数列にマトリックス状に配置さ
れ、電気的に書込みおよび消去可能なメモリセルと、 前記メモリセルの行毎にそれぞれ対応して配置され、各
行のメモリセルに共通に接続された複数のワード線と、 前記メモリセルの列毎にそれぞれ対応して配置され、各
列のメモリセルに共通に接続された複数のビット線と、 前記ビット線に対応してそれぞれ設けられ、対応するビ
ット線と共通ノードとの間に接続された複数のトランス
ファゲートと、 アドレス信号を入力し、このアドレス信号によって前記
トランスファゲートを選択的にオン・オフ制御するYデ
コーダと、 前記共通ノードに接続され、消去ベリファイ時と読出し
時とで読出し感度が異なる電流増幅型のセンスアンプと を備えたことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
1. An electrically writable and erasable memory cell, which is arranged in a matrix in a plurality of rows and a plurality of columns, and is arranged so as to correspond to each row of the memory cells, and is shared by the memory cells in each row. A plurality of connected word lines, a plurality of bit lines arranged corresponding to each column of the memory cells and commonly connected to the memory cells of each column, and a plurality of bit lines provided corresponding to the bit lines, respectively. A plurality of transfer gates connected between corresponding bit lines and a common node, a Y decoder for inputting an address signal and selectively turning on / off the transfer gate by the address signal, and the common node And a current amplification type sense amplifier having different read sensitivities in erase verify and read. Apparatus.
【請求項2】複数行,複数列にマトリックス状に配置さ
れ、電気的に書込みおよび消去可能な、コントロールゲ
ート電極,フローティングゲート電極,ソース電極およ
びドレイン電極を有する複数のメモリトランジスタと、 複数行に配置され、それぞれが対応した行に配置された
複数のメモリトランジスタのコントロールゲート電極に
接続された複数のワード線と、 複数列に配置され、それぞれが対応した列に配置された
複数のメモリトランジスタのドレイン電極に接続された
複数のビット線と、 それぞれが対応したビット線と共通ノードとの間に接続
されたYゲート用トランジスタと、 アドレス信号を受け、このアドレス信号によって前記Y
ゲート用トランジスタを選択的にオン・オフ制御するY
デコーダと、 前記共通ノードに接続され、消去ベリファイ規定信号を
受けると読み出し時のセンス感度と異なるセンス感度で
動作するセンスアンプと を備えたことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
2. A plurality of memory transistors having a control gate electrode, a floating gate electrode, a source electrode and a drain electrode, which are arranged in a matrix in a plurality of rows and a plurality of columns, and which are electrically writable and erasable. A plurality of word lines connected to the control gate electrodes of a plurality of memory transistors arranged in corresponding rows and a plurality of memory transistors arranged in a plurality of columns and arranged in a corresponding column. A plurality of bit lines connected to the drain electrodes, a Y gate transistor connected between the corresponding bit line and a common node, and an address signal, and the address signal causes the Y
Y for selectively turning on / off the gate transistor
A nonvolatile semiconductor memory device comprising: a decoder; and a sense amplifier which is connected to the common node and operates with a sense sensitivity different from a sense sensitivity at the time of reading when receiving an erase verify definition signal.
【請求項3】複数行,複数列にマトリックス状に配置さ
れ、電気的に書込みおよび消去可能な、コントロールゲ
ート電極,フローティングゲート電極,ソース電極およ
びドレイン電極を有する複数のメモリトランジスタと、 複数行に配置され、それぞれが対応した行に配置された
複数のメモリトランジスタのコントロールゲート電極に
接続された複数のワード線と、 複数列に配置され、それぞれが対応した列に配置された
複数のメモリトランジスタのドレイン電極に接続された
複数のビット線と、 それぞれが対応したビット線と共通ノードとの間に接続
されたYゲート用トランジスタと、 アドレス信号を受け、このアドレス信号によって前記Y
ゲート用トランジスタを選択的にオン・オフ制御するY
デコーダと、 前記共通ノードと電源ノードとの間に接続された第1の
トランジスタ、この第1のトランジスタのゲート電極と
前記共通ノードとの間に接続されたインバータ手段、出
力ノードと前記共通ノードとの間に接続され、ゲート電
極が前記第1のトランジスタのゲート電極に接続された
第2のトランジスタ、電源ノードと前記出力ノードとの
間に接続され、消去ベリファイ規定信号を受けると読み
出し時における前記出力ノードに対する電流供給能力と
異なる電流供給能力となる電流供給手段を有するセンス
アンプと を備えたことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
3. A plurality of memory transistors having a control gate electrode, a floating gate electrode, a source electrode and a drain electrode, which are arranged in a matrix in a plurality of rows and a plurality of columns, and which are electrically writable and erasable. A plurality of word lines connected to the control gate electrodes of a plurality of memory transistors arranged in corresponding rows and a plurality of memory transistors arranged in a plurality of columns and arranged in a corresponding column. A plurality of bit lines connected to the drain electrodes, a Y gate transistor connected between the corresponding bit line and a common node, and an address signal, and the address signal causes the Y
Y for selectively turning on / off the gate transistor
A decoder, a first transistor connected between the common node and a power supply node, inverter means connected between the gate electrode of the first transistor and the common node, an output node and the common node A second transistor whose gate electrode is connected to the gate electrode of the first transistor, is connected between the power supply node and the output node, and receives the erase verify definition signal, and is read at the time of reading. A non-volatile semiconductor memory device comprising: a sense amplifier having a current supply unit having a current supply capability different from that of an output node.
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