JP2505572B2 - ストリップ塗布膜の連続乾燥焼付け装置 - Google Patents
ストリップ塗布膜の連続乾燥焼付け装置Info
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- JP2505572B2 JP2505572B2 JP1067531A JP6753189A JP2505572B2 JP 2505572 B2 JP2505572 B2 JP 2505572B2 JP 1067531 A JP1067531 A JP 1067531A JP 6753189 A JP6753189 A JP 6753189A JP 2505572 B2 JP2505572 B2 JP 2505572B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、走行ストリップの表裏両面に表面及び裏面
塗布用コータロールで塗布液を連続的に塗布後、ストリ
ップを前記裏面塗布用コータロールからカテナリ支持し
て乾燥帯を搬送し、次いで焼付帯をフロータ又はハース
ロールにより支持して搬送するストリップ塗布膜の連続
乾燥焼付け装置において、ストリップの振動による塗布
ムラを無くすようにした装置に関するものである。
塗布用コータロールで塗布液を連続的に塗布後、ストリ
ップを前記裏面塗布用コータロールからカテナリ支持し
て乾燥帯を搬送し、次いで焼付帯をフロータ又はハース
ロールにより支持して搬送するストリップ塗布膜の連続
乾燥焼付け装置において、ストリップの振動による塗布
ムラを無くすようにした装置に関するものである。
〈従来の技術〉 第４図により、ストリップの両面にカラー塗膜、絶縁
皮膜或いはクロメート液膜等の塗布膜をコーティング
し、それを乾燥、焼付する一般的な連続乾燥焼付装置に
ついて説明する。
皮膜或いはクロメート液膜等の塗布膜をコーティング
し、それを乾燥、焼付する一般的な連続乾燥焼付装置に
ついて説明する。
第４図において、張力付加装置（図示せず）により張
力を付加されたストリップは、コーティング室２内で表
面塗布用コータロール３、次いで裏面塗布用コータロー
ル４により両面に塗布液を連続的に塗布された後、乾燥
炉の乾燥帯５、焼付帯６で加熱され、塗布膜の乾燥、焼
付が行われ、次いで冷却帯７で冷却され炉外へ搬送され
る。この例では、加熱、冷却は上風箱８及び下風箱９か
ら加熱ガス又は冷却ガスをストリップ１に吹付けること
により行われる。なお図中10はデフレクタロール、11は
出口ロールである。
力を付加されたストリップは、コーティング室２内で表
面塗布用コータロール３、次いで裏面塗布用コータロー
ル４により両面に塗布液を連続的に塗布された後、乾燥
炉の乾燥帯５、焼付帯６で加熱され、塗布膜の乾燥、焼
付が行われ、次いで冷却帯７で冷却され炉外へ搬送され
る。この例では、加熱、冷却は上風箱８及び下風箱９か
ら加熱ガス又は冷却ガスをストリップ１に吹付けること
により行われる。なお図中10はデフレクタロール、11は
出口ロールである。
そして、乾燥帯５では塗布膜が未乾燥であるから、ス
トリップ１を非接触で通過させることが必要であり、ス
トリップ１を裏面塗布用コータロール４からカテナリ支
持するのが一般的である。
トリップ１を非接触で通過させることが必要であり、ス
トリップ１を裏面塗布用コータロール４からカテナリ支
持するのが一般的である。
また、コーティング皮膜に疵などを発生させないため
に、第４図のように、焼付帯６と冷却帯７にはいわゆる
フロータと呼ばれるガスによる非接触浮上方式を採用す
るのが一般的であるが、ハースローラを使用する場合も
ある。
に、第４図のように、焼付帯６と冷却帯７にはいわゆる
フロータと呼ばれるガスによる非接触浮上方式を採用す
るのが一般的であるが、ハースローラを使用する場合も
ある。
〈発明が解決しようとする課題〉 しかし、第４図の装置では、ストリップ１は裏面塗布
用コータロール４からカテナリ支持され、更にフロータ
による非接触浮上方式により炉外へ搬送されるため、風
箱８、９からストリップ１に吹付けるガス流の流量、圧
力及びそれらの変動量、或いはストリップ１の非接触部
の長さや板厚等により、ストリップ１が上下に振動する
ことがある。そして、ストリップ１がある振幅以上に振
動すると、裏面塗布用コータロール４部で塗布むらが発
生し、乾燥後のストリップに縞状の文様ができ品質欠陥
となる。なお、このストリップの振動は、焼付帯、乾燥
帯にフロータではなく、ハースローラを使用する場合で
も発生することがある。
用コータロール４からカテナリ支持され、更にフロータ
による非接触浮上方式により炉外へ搬送されるため、風
箱８、９からストリップ１に吹付けるガス流の流量、圧
力及びそれらの変動量、或いはストリップ１の非接触部
の長さや板厚等により、ストリップ１が上下に振動する
ことがある。そして、ストリップ１がある振幅以上に振
動すると、裏面塗布用コータロール４部で塗布むらが発
生し、乾燥後のストリップに縞状の文様ができ品質欠陥
となる。なお、このストリップの振動は、焼付帯、乾燥
帯にフロータではなく、ハースローラを使用する場合で
も発生することがある。
このストリップの振動の防止対策として、従来、風箱
からストリップに吹付けるガス流の変動を減少させた
り、ガス流の圧力を調節する手段がとられてきたが、こ
れらの手段によっても、ストリップの振動の振幅を或る
値以下に減少させることができず、塗布むらを無くすこ
とができなかった。
からストリップに吹付けるガス流の変動を減少させた
り、ガス流の圧力を調節する手段がとられてきたが、こ
れらの手段によっても、ストリップの振動の振幅を或る
値以下に減少させることができず、塗布むらを無くすこ
とができなかった。
本発明は、このようなストリップの振動による塗布む
らを無くすようにしたストリップ塗布膜の塗布むらを無
くすようにしたストリップ塗布膜の連続乾燥焼付け装置
を提供することを目的とする。
らを無くすようにしたストリップ塗布膜の塗布むらを無
くすようにしたストリップ塗布膜の連続乾燥焼付け装置
を提供することを目的とする。
なお、特開昭57−201562号公報には、乾燥帯がカテナ
リ方式である場合に生じるストリップ裏面への塗料の塗
着不良を改善するために、乾燥帯を入口側の方が高い傾
斜型に構成することによりストリップがその裏面に塗料
を塗着させるコータロールから乾燥帯に斜め下向の直線
状に導かれるようにする装置が提案されているが、この
装置は、前記のストリップの振動を防止するためのもの
ではなく、この装置によりストリップの振動を防止する
ことはできない。
リ方式である場合に生じるストリップ裏面への塗料の塗
着不良を改善するために、乾燥帯を入口側の方が高い傾
斜型に構成することによりストリップがその裏面に塗料
を塗着させるコータロールから乾燥帯に斜め下向の直線
状に導かれるようにする装置が提案されているが、この
装置は、前記のストリップの振動を防止するためのもの
ではなく、この装置によりストリップの振動を防止する
ことはできない。
また、特開昭61−274769号公報には、カテナリ量を調
節することにより、ストリップの表裏面と熱風吹出し部
の距離を相対的に変化させて、ストリップの表裏面にお
ける塗布膜の焼付け状態を制御する方法が提案されてい
るが、この方法も上記の公報と同様ストリップの振動を
防止するためのものではなく、この方法によりストリッ
プの振動を防止することはできない。
節することにより、ストリップの表裏面と熱風吹出し部
の距離を相対的に変化させて、ストリップの表裏面にお
ける塗布膜の焼付け状態を制御する方法が提案されてい
るが、この方法も上記の公報と同様ストリップの振動を
防止するためのものではなく、この方法によりストリッ
プの振動を防止することはできない。
〈課題を解決するための手段〉 本発明は、走行ストリップ（１）の表裏両面に表面及
び裏面塗布用コータロール（３、４）で塗布液を連続的
に塗布後、ストリップ（１）を前記裏面塗布用コータロ
ール（４）からカテナリ支持して乾燥帯（５）を搬送
し、次いで焼付帯（６）をフロータ又はハースロールに
より支持して搬送するストリップ塗布膜の連続乾燥焼付
け装置において、前記裏面塗布用コータロール（４）の
出側直後のストリップ下面側にストリップ（１）を浮揚
支持する静圧パッド（12）を設けたことを特徴とするス
トリップ塗布膜の連続乾燥焼付け装置である。
び裏面塗布用コータロール（３、４）で塗布液を連続的
に塗布後、ストリップ（１）を前記裏面塗布用コータロ
ール（４）からカテナリ支持して乾燥帯（５）を搬送
し、次いで焼付帯（６）をフロータ又はハースロールに
より支持して搬送するストリップ塗布膜の連続乾燥焼付
け装置において、前記裏面塗布用コータロール（４）の
出側直後のストリップ下面側にストリップ（１）を浮揚
支持する静圧パッド（12）を設けたことを特徴とするス
トリップ塗布膜の連続乾燥焼付け装置である。
〈作用〉 カテナリの一方の支点である裏面塗布用コータロール
の出側直後で、ストリップはストリップ下面側に設けた
静圧パッドの静圧により支持されるので、乾燥帯で発生
したストリップの振動が裏面塗布用コータロールに伝播
するのを防ぐことができる。これにより塗布むらの発生
を防止できる。
の出側直後で、ストリップはストリップ下面側に設けた
静圧パッドの静圧により支持されるので、乾燥帯で発生
したストリップの振動が裏面塗布用コータロールに伝播
するのを防ぐことができる。これにより塗布むらの発生
を防止できる。
また、ストリップを静圧で支持するので、塗布膜を乱
すことはない。
すことはない。
〈実施例〉 本発明の装置の一実施例を図面に基づいて説明する。
第１図は、本発明の連続乾燥焼付け装置の全体構成図
であり、第４図の一般的な連続乾燥焼付装置を同様のも
のは同一の番号を付してある。即ち、張力付加装置（図
示せず）により張力を付加されたストリップ１は、コー
ティング室２内で表面塗布用コータロール３、次いで裏
面塗布用コータロール４により両面に塗布液を連続的に
塗布された後、乾燥帯５、焼付帯６で加熱され、塗布膜
の乾燥、焼付が行われ、次いで冷却帯７で冷却され炉外
へ搬送される。加熱、冷却は上風箱８及び下風箱９から
加熱ガス又は冷却ガスをストリップ１に吹付けることに
より行われる。10はデフレクタロール、11は出口ロール
である。
であり、第４図の一般的な連続乾燥焼付装置を同様のも
のは同一の番号を付してある。即ち、張力付加装置（図
示せず）により張力を付加されたストリップ１は、コー
ティング室２内で表面塗布用コータロール３、次いで裏
面塗布用コータロール４により両面に塗布液を連続的に
塗布された後、乾燥帯５、焼付帯６で加熱され、塗布膜
の乾燥、焼付が行われ、次いで冷却帯７で冷却され炉外
へ搬送される。加熱、冷却は上風箱８及び下風箱９から
加熱ガス又は冷却ガスをストリップ１に吹付けることに
より行われる。10はデフレクタロール、11は出口ロール
である。
そして、乾燥帯５ではストリップ１は裏面塗布用コー
タロール４からカテナリ支持され、また焼付帯６と冷却
帯７ではフロータにより非接触に支持されて搬送され
る。
タロール４からカテナリ支持され、また焼付帯６と冷却
帯７ではフロータにより非接触に支持されて搬送され
る。
12は、裏面塗布用コータロール４の出側直後に設けた
ストリップ１を静圧で浮揚支持する静圧パッドである。
ストリップ１を静圧で浮揚支持する静圧パッドである。
次に、静圧パッド12の構造の一例を第２、３図に基づ
き説明する。第２図は静圧パッド12の側面図、第３図は
第２図Ｉ−Ｉ線断面図である。
き説明する。第２図は静圧パッド12の側面図、第３図は
第２図Ｉ−Ｉ線断面図である。
第２、３図において、13は静圧パッド12のボックスで
あり、架台14により支持されている。ボックス13の下面
には、ファン（図示せず）に連結した配管15が連結して
おり、所定圧力のガスが配管15からボックス13内に送込
まれる。
あり、架台14により支持されている。ボックス13の下面
には、ファン（図示せず）に連結した配管15が連結して
おり、所定圧力のガスが配管15からボックス13内に送込
まれる。
16は、ボックス13の上面に締結具17により取付けられ
た抵抗であり、その上面はストリップ１の傾きとほぼ一
致している。ボックス13内の圧力ガスは抵抗16を通過す
る際に十分な圧力損失を受けて上方へ吹出し、この吹出
したガスとストリップ１の間に静圧が生じ、ストリップ
１は支持される。これにより、乾燥帯５で発生したスト
リップ１の振動が裏面塗布用コータロール４に伝播する
のを防ぐことができ、塗布むらの発生を防止できる。
た抵抗であり、その上面はストリップ１の傾きとほぼ一
致している。ボックス13内の圧力ガスは抵抗16を通過す
る際に十分な圧力損失を受けて上方へ吹出し、この吹出
したガスとストリップ１の間に静圧が生じ、ストリップ
１は支持される。これにより、乾燥帯５で発生したスト
リップ１の振動が裏面塗布用コータロール４に伝播する
のを防ぐことができ、塗布むらの発生を防止できる。
なお、抵抗16から吹出すガスの流速は、塗布膜が乱れ
ないように、低速に抑えなければならない。
ないように、低速に抑えなければならない。
次に、更に本発明の具体的な実施例について説明す
る。
る。
板幅1m、板厚0.5mmのストリップを張力1.5kg/mm2を加
えて、非接触部長さが約80mの第１図の本発明の装置に
より塗布膜の乾燥、焼付けを行った際の、裏面塗布用コ
ータロールにおけるストリップの振動を測定した。ここ
で使用した静圧パッドの仕様は、静圧パッドの幅1m、長
さ1.5m,静圧パッド内圧力320mmAq、ガス流量70m3/minで
あり、この静圧パッドの中心を裏面塗布用コータロール
の後方3mに設置した。
えて、非接触部長さが約80mの第１図の本発明の装置に
より塗布膜の乾燥、焼付けを行った際の、裏面塗布用コ
ータロールにおけるストリップの振動を測定した。ここ
で使用した静圧パッドの仕様は、静圧パッドの幅1m、長
さ1.5m,静圧パッド内圧力320mmAq、ガス流量70m3/minで
あり、この静圧パッドの中心を裏面塗布用コータロール
の後方3mに設置した。
測定結果を従来の第４図の装置を使用した場合と比較
して第１表に示す。
して第１表に示す。
ここで、第１表における振幅比とは、同一の操業条件
のもとで、従来装置において発生した振幅に対する、本
発明の装置で発生した振幅の比を表す。
のもとで、従来装置において発生した振幅に対する、本
発明の装置で発生した振幅の比を表す。
第１表より、本発明の装置では従来の装置よりも裏面
塗布用コータロールにおけるストリップの振幅が著しく
減少したことが分かる。また、本発明の装置では塗布む
らは全く発生しなかった。
塗布用コータロールにおけるストリップの振幅が著しく
減少したことが分かる。また、本発明の装置では塗布む
らは全く発生しなかった。
〈発明の効果〉 以上説明したように、本発明の装置は塗布むらを発生
させることなく塗布膜の乾燥、焼付、冷却を行うことが
でき、塗布膜の品質欠陥が無くなり極めて優れた効果を
奏する。
させることなく塗布膜の乾燥、焼付、冷却を行うことが
でき、塗布膜の品質欠陥が無くなり極めて優れた効果を
奏する。
第１図は本発明の装置の全体構成図、第２図は本発明に
使用する静圧パッドの一例の側面図、第３図は第２図の
Ｉ−Ｉ線断面図、第４図は従来の一般的な連続乾燥、焼
付け装置の説明図である。 １…ストリップ、２…コーティング室、３…表面塗布用
コータロール、４…裏面塗布用コータロール、５…乾燥
帯、６…焼付帯、７…冷却帯、８…上風箱、９…下風
箱、10…デフレクタロール、11…出口ロール、12…静圧
パッド、13…ボックス、14…架台、15…配管、16…抵
抗、17…締結具。
使用する静圧パッドの一例の側面図、第３図は第２図の
Ｉ−Ｉ線断面図、第４図は従来の一般的な連続乾燥、焼
付け装置の説明図である。 １…ストリップ、２…コーティング室、３…表面塗布用
コータロール、４…裏面塗布用コータロール、５…乾燥
帯、６…焼付帯、７…冷却帯、８…上風箱、９…下風
箱、10…デフレクタロール、11…出口ロール、12…静圧
パッド、13…ボックス、14…架台、15…配管、16…抵
抗、17…締結具。
Claims (1)
- 【請求項１】走行ストリップ（１）の表裏両面に表面及
び裏面塗布用コータロール（３、４）で塗布液を連続的
に塗布後、ストリップ（１）を前記裏面塗布用コータロ
ール（４）からカテナリ支持して乾燥帯（５）を搬送
し、次いで焼付帯（６）をフロータ又はハースロールに
より支持して搬送するストリップ塗布膜の連続乾燥焼付
け装置において、 前記裏面塗布用コータロール（４）の出側直後のストリ
ップ下面側にストリップ（１）を浮揚支持する静圧パッ
ド（12）を設けたことを特徴とするストリップ塗布膜の
連続乾燥焼付け装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1067531A JP2505572B2 (ja) | 1989-03-22 | 1989-03-22 | ストリップ塗布膜の連続乾燥焼付け装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1067531A JP2505572B2 (ja) | 1989-03-22 | 1989-03-22 | ストリップ塗布膜の連続乾燥焼付け装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02251267A JPH02251267A (ja) | 1990-10-09 |
| JP2505572B2 true JP2505572B2 (ja) | 1996-06-12 |
Family
ID=13347655
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1067531A Expired - Fee Related JP2505572B2 (ja) | 1989-03-22 | 1989-03-22 | ストリップ塗布膜の連続乾燥焼付け装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2505572B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103357548B (zh) * | 2013-07-02 | 2016-01-06 | 徐敖奎 | 一种微孔基材电池的制作工艺及该工艺中采用的双面涂布机 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53127332A (en) * | 1977-04-13 | 1978-11-07 | Hitachi Ltd | Gas wiping plating equipment |
| JPS56152757A (en) * | 1980-04-30 | 1981-11-26 | Daido Steel Co Ltd | Continuous painting and baking device |
| JPS5849467A (ja) * | 1981-09-17 | 1983-03-23 | Daido Steel Co Ltd | 連続乾燥焼付け方法及び装置 |
-
1989
- 1989-03-22 JP JP1067531A patent/JP2505572B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02251267A (ja) | 1990-10-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |