JP2504688B2 - ポリシラザンの製造方法及びポリシラザン - Google Patents
ポリシラザンの製造方法及びポリシラザンInfo
- Publication number
- JP2504688B2 JP2504688B2 JP5123979A JP12397993A JP2504688B2 JP 2504688 B2 JP2504688 B2 JP 2504688B2 JP 5123979 A JP5123979 A JP 5123979A JP 12397993 A JP12397993 A JP 12397993A JP 2504688 B2 JP2504688 B2 JP 2504688B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- general formula
- polysilazane
- trichlorosilane
- sicl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/58—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
- C04B35/584—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on silicon nitride
- C04B35/589—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on silicon nitride obtained from Si-containing polymer precursors or organosilicon monomers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/60—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/60—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
- C08G77/62—Nitrogen atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリシラザンの製造方
法に関する。
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリシラザンは一般に公知であり、特
に、炭窒化珪素−ないしは窒化珪素成形体の前駆物質と
して使用される。例えば、ヨーロッパ特許出願公開第２
３５４８６号明細書によれば、Ｒ3ＳｉＣｌ、Ｒ2ＳｉＣ
ｌ2又はＲ4Ｓｉ2Ｃｌ2及びアミンから得られたアミノリ
シス物質をオルガノトリクロルシランと、更に、引続き
再度アミンと反応させることによる、ポリシラザンの製
造方法が記載されている。該方法では、欠点として低い
熱安定性を有するポリシラザンが生じる、すなわち製造
又は貯蔵の際に不溶性かつ不融性であり、ひいては成形
プロセス、例えば紡績に適さない、後架橋により著しく
架橋したポリマーが生じる。
に、炭窒化珪素−ないしは窒化珪素成形体の前駆物質と
して使用される。例えば、ヨーロッパ特許出願公開第２
３５４８６号明細書によれば、Ｒ3ＳｉＣｌ、Ｒ2ＳｉＣ
ｌ2又はＲ4Ｓｉ2Ｃｌ2及びアミンから得られたアミノリ
シス物質をオルガノトリクロルシランと、更に、引続き
再度アミンと反応させることによる、ポリシラザンの製
造方法が記載されている。該方法では、欠点として低い
熱安定性を有するポリシラザンが生じる、すなわち製造
又は貯蔵の際に不溶性かつ不融性であり、ひいては成形
プロセス、例えば紡績に適さない、後架橋により著しく
架橋したポリマーが生じる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の解決
する課題は、上記欠点を有しないポリアラザンの製造方
法を提供することであった。
する課題は、上記欠点を有しないポリアラザンの製造方
法を提供することであった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題は、本発明によ
り、 Ｍｅ6-nＳｉ2Ｃｌn ［式中、ｎは３又は４を表す］のジシランを一般式： ＲＮＨ2 ［式中、Ｒは、アルキル基又はアリール基を表す］のア
ミンと、不活性雰囲気中で−８０〜１００℃の温度範囲
で反応させ、 ｂ）ａ）による反応生成物を一般式： Ｒ′2ＳｉＣｌ2 ［式中、Ｒ′はそれぞれ互いに無関係に水素原子、アル
キル基、アリル基又はアリール基を表す］のジクロルシ
ラン又はテトラメチルジクロルジシランと、不活性雰囲
気中で−２０℃〜１５０℃の温度範囲で反応させ、次い
で ｃ）ｂ）による反応生成物を不活性雰囲気中で、アンモ
ニアと反応させ、引続き形成された塩化アンモニウムを
分離することを特徴とする、ポリシラザンの製造方法に
より解決される。
り、 Ｍｅ6-nＳｉ2Ｃｌn ［式中、ｎは３又は４を表す］のジシランを一般式： ＲＮＨ2 ［式中、Ｒは、アルキル基又はアリール基を表す］のア
ミンと、不活性雰囲気中で−８０〜１００℃の温度範囲
で反応させ、 ｂ）ａ）による反応生成物を一般式： Ｒ′2ＳｉＣｌ2 ［式中、Ｒ′はそれぞれ互いに無関係に水素原子、アル
キル基、アリル基又はアリール基を表す］のジクロルシ
ラン又はテトラメチルジクロルジシランと、不活性雰囲
気中で−２０℃〜１５０℃の温度範囲で反応させ、次い
で ｃ）ｂ）による反応生成物を不活性雰囲気中で、アンモ
ニアと反応させ、引続き形成された塩化アンモニウムを
分離することを特徴とする、ポリシラザンの製造方法に
より解決される。
【０００５】本発明により使用される、一般式： Ｍｅ6-nＳｉ2Ｃｌn ［式中、ｎは３又は４を表す］のジシランは、１，１−
及び１，２−ジメチルテトラクロルジシラン、１，１，
１−及び１，１，２−トリメチルトリクロルジシラン又
はそれらの混合物である。
及び１，２−ジメチルテトラクロルジシラン、１，１，
１−及び１，１，２−トリメチルトリクロルジシラン又
はそれらの混合物である。
【０００６】本発明による方法の有利な実施態様では、
主要成分が１，１，２−トリメチル−１，２，２−トリ
クロルジシラン及び１，２−ジメチル−１，１，２，２
−テトラクロルジシランからなる、大凡の組成Ｍｅ2,6
Ｓｉ2Ｃｌ3,4のジメチルジクロルシランの ロコ（Rocho
w） 合成の蒸留残留物からの高沸点フラクションを使用
する（W.Noll, Chemistry and Technology of Silicone
s, Academic press Inc., Orlando 1968, ｐ.26/27）。
主要成分が１，１，２−トリメチル−１，２，２−トリ
クロルジシラン及び１，２−ジメチル−１，１，２，２
−テトラクロルジシランからなる、大凡の組成Ｍｅ2,6
Ｓｉ2Ｃｌ3,4のジメチルジクロルシランの ロコ（Rocho
w） 合成の蒸留残留物からの高沸点フラクションを使用
する（W.Noll, Chemistry and Technology of Silicone
s, Academic press Inc., Orlando 1968, ｐ.26/27）。
【０００７】一般式： ＲＮＨ2 ［式中、Ｒは、アルキル基又はアリール基、有利にはメ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ−プロピル
基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シ
クロヘキシル基、ｎ−ヘキサデシル基、フェニル基又は
トリル基を表す］のアミンを単独で又は混合物として使
用する。
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ−プロピル
基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シ
クロヘキシル基、ｎ−ヘキサデシル基、フェニル基又は
トリル基を表す］のアミンを単独で又は混合物として使
用する。
【０００８】特にメチルアミン又はメチルアミンと上記
一般式の別のアミンとの混合物を使用する。混合物を使
用する場合には、メチルアミンの別のアミンに対するモ
ル比は有利には９：１〜９．９：０．１の範囲である。
一般式の別のアミンとの混合物を使用する。混合物を使
用する場合には、メチルアミンの別のアミンに対するモ
ル比は有利には９：１〜９．９：０．１の範囲である。
【０００９】本発明によるもう１つの実施態様において
は、ａ）によるジシランを、一般式： Ｒ″ＳｉＣｌ3 ［式中、Ｒ″は、水素原子、アルキル基、アリル基又は
アリール基を表す］のトリクロルシランと混合して使用
する。
は、ａ）によるジシランを、一般式： Ｒ″ＳｉＣｌ3 ［式中、Ｒ″は、水素原子、アルキル基、アリル基又は
アリール基を表す］のトリクロルシランと混合して使用
する。
【００１０】ａ）によるジシランのトリクロルシランに
対するモル比は、１０〜０．５、特に３〜１の範囲が有
利である。
対するモル比は、１０〜０．５、特に３〜１の範囲が有
利である。
【００１１】一般式： Ｒ″ＳｉＣｌ3 のトリクロルシランの例は、トリクロルシラン、メチル
トリクロルシラン、エチルトリクロルシラン、ビニルト
リクロルシラン、プロピルトリクロルシラン及びフェニ
ルトリクロルシラン並びにそれらの混合物である。
トリクロルシラン、エチルトリクロルシラン、ビニルト
リクロルシラン、プロピルトリクロルシラン及びフェニ
ルトリクロルシラン並びにそれらの混合物である。
【００１２】本発明の意味する不活性雰囲気とは、実質
的な酸素及び水不含の雰囲気である。使用される雰囲気
の例は、窒素及びアルゴンである。
的な酸素及び水不含の雰囲気である。使用される雰囲気
の例は、窒素及びアルゴンである。
【００１３】場合により一般式：Ｒ″ＳｉＣｌ3のトリ
クロルシラン及びアミンＲＮＨ2と混合した、ａ）によ
るジシランの反応は、不活性雰囲気中で−８０℃〜１０
０℃、有利には２０℃〜６０℃で実施する。有利には、
クロルシランを、乾燥した、すなわち、十分に水不含の
クロルシランと反応しない溶剤、例えば芳香族化合物、
例えばトルエン、炭化水素、例えば石油エーテル、ヘキ
サン、エーテル、例えばジエチルエーテル、メチル−ｔ
−ブチルエーテル又は塩素化炭化水素中に溶解し、次い
でアミンをガス状又は液状で加える。該反応は周囲雰囲
気の圧力、すなわち１０８０ｈＰａ又は約１０８０ｈＰ
ａで実施するのが有利である。
クロルシラン及びアミンＲＮＨ2と混合した、ａ）によ
るジシランの反応は、不活性雰囲気中で−８０℃〜１０
０℃、有利には２０℃〜６０℃で実施する。有利には、
クロルシランを、乾燥した、すなわち、十分に水不含の
クロルシランと反応しない溶剤、例えば芳香族化合物、
例えばトルエン、炭化水素、例えば石油エーテル、ヘキ
サン、エーテル、例えばジエチルエーテル、メチル−ｔ
−ブチルエーテル又は塩素化炭化水素中に溶解し、次い
でアミンをガス状又は液状で加える。該反応は周囲雰囲
気の圧力、すなわち１０８０ｈＰａ又は約１０８０ｈＰ
ａで実施するのが有利である。
【００１４】クロルシランとアミンの反応の際には、塩
化水素が生じ、これは別の窒素含有化合物、有利には第
三アミン、例えばトリエチルアミン、ピリジン又は尿素
で捕捉することができる。このような場合には、本発明
により使用されるａ）のアミンは、反応混合物中に生じ
るクロルシランの塩素含量に対して等モル量で使用する
のが有利である。
化水素が生じ、これは別の窒素含有化合物、有利には第
三アミン、例えばトリエチルアミン、ピリジン又は尿素
で捕捉することができる。このような場合には、本発明
により使用されるａ）のアミンは、反応混合物中に生じ
るクロルシランの塩素含量に対して等モル量で使用する
のが有利である。
【００１５】しかしながら、最も簡単な場合には、本発
明により使用されるアミンは、ＨＣｌ捕捉体でもある。
その際、アミンを、窒素原子の数が使用されるクロルシ
ラン化合物の塩素原子の数の２倍になるような量で加え
るのが有利である。
明により使用されるアミンは、ＨＣｌ捕捉体でもある。
その際、アミンを、窒素原子の数が使用されるクロルシ
ラン化合物の塩素原子の数の２倍になるような量で加え
るのが有利である。
【００１６】場合により濾過又は遠心分離により形成さ
れたアミノ塩酸塩を分離した、ａ）による反応生成物
を、ｂ）に基づき一般式： Ｒ′2ＳｉＣｌ2 ［式中、Ｒ′はそれぞれ互いに無関係に水素原子、アル
キル基、アリル基又はアリール基を表す］のジクロルシ
ラン、又はテトラメチルジクロルジシラン、すなわち
１，１，２，２−及び／又は１，１，１，２−テトラメ
チルジクロルジシランと不活性雰囲気中で周囲雰囲気圧
で、かつ−２０℃〜１５０℃の温度範囲で、オリゴマー
のアミノジシランないしはアミノジシラン／アミノシラ
ン混合物を架橋させるために反応させる。
れたアミノ塩酸塩を分離した、ａ）による反応生成物
を、ｂ）に基づき一般式： Ｒ′2ＳｉＣｌ2 ［式中、Ｒ′はそれぞれ互いに無関係に水素原子、アル
キル基、アリル基又はアリール基を表す］のジクロルシ
ラン、又はテトラメチルジクロルジシラン、すなわち
１，１，２，２−及び／又は１，１，１，２−テトラメ
チルジクロルジシランと不活性雰囲気中で周囲雰囲気圧
で、かつ−２０℃〜１５０℃の温度範囲で、オリゴマー
のアミノジシランないしはアミノジシラン／アミノシラ
ン混合物を架橋させるために反応させる。
【００１７】一般式： Ｒ′2ＳｉＣｌ2 のジクロルシランの例は、ジクロルシラン、メチルジク
ロルシラン、ジメチルジクロルシラン、ビニルメチルジ
クロルシラン、エチルメチルジクロルシラン、ｎ−オク
チル−メチルジクロルシラン及びｎ−オクタデシルメチ
ルジクロルシラン並びにそれらの混合物である。
ロルシラン、ジメチルジクロルシラン、ビニルメチルジ
クロルシラン、エチルメチルジクロルシラン、ｎ−オク
チル−メチルジクロルシラン及びｎ−オクタデシルメチ
ルジクロルシラン並びにそれらの混合物である。
【００１８】ａ）によるジシラン及び場合によりトリク
ロルシランのジクロルシランに対する使用量の有利なモ
ル比は、１０〜０．５、特に７〜２の範囲内にある。
ロルシランのジクロルシランに対する使用量の有利なモ
ル比は、１０〜０．５、特に７〜２の範囲内にある。
【００１９】その際、温度は、シラン組成及び所望の架
橋度に依存して有利には０〜１００℃である。
橋度に依存して有利には０〜１００℃である。
【００２０】引続き、有利には０〜６０℃の温度で、ガ
ス状のアンモニア（最大、使用されるジクロルシランの
４倍の等モル量まで）を、反応溶液にアンモニアがもは
や吸収されなくなるまで導入する。生成するアンモニウ
ム塩酸塩を例えば濾過又は遠心分離により分離し、濾液
から場合により溶剤を留去する。
ス状のアンモニア（最大、使用されるジクロルシランの
４倍の等モル量まで）を、反応溶液にアンモニアがもは
や吸収されなくなるまで導入する。生成するアンモニウ
ム塩酸塩を例えば濾過又は遠心分離により分離し、濾液
から場合により溶剤を留去する。
【００２１】残留物として残留するポリシラザンが１５
〜２５℃の温度範囲で液状である場合には、これを熱的
に、１００〜４００℃、有利には１５０〜２５０℃の温
度で、低沸点オリゴマーを真空中（１０5〜１Ｐａの圧
力）で留去した後に、融点５０〜２００℃、有利には１
００〜１５０℃を有する高縮合したポリシラザンに転化
することができる。
〜２５℃の温度範囲で液状である場合には、これを熱的
に、１００〜４００℃、有利には１５０〜２５０℃の温
度で、低沸点オリゴマーを真空中（１０5〜１Ｐａの圧
力）で留去した後に、融点５０〜２００℃、有利には１
００〜１５０℃を有する高縮合したポリシラザンに転化
することができる。
【００２２】本発明による方法で製造したポリシラザン
は、有利には以下の特性値： 分子量： １０００〜１００００ｇ／モ
ル、有利には２０００〜５０００ｇ／モル、 セラミック収率： ４０〜８０重量％、有利には６
０〜７５重量％、 融点： ＜２００℃、有利には１００〜
１５０℃ を有する。
は、有利には以下の特性値： 分子量： １０００〜１００００ｇ／モ
ル、有利には２０００〜５０００ｇ／モル、 セラミック収率： ４０〜８０重量％、有利には６
０〜７５重量％、 融点： ＜２００℃、有利には１００〜
１５０℃ を有する。
【００２３】ポリシラザンは、多くの使用目的に用いら
れる。１つの概要は、M.Peuckert,T.Vaahs, M.Bruek, A
dv. Mater. 2 （1990） 398 に記載されている。
れる。１つの概要は、M.Peuckert,T.Vaahs, M.Bruek, A
dv. Mater. 2 （1990） 398 に記載されている。
【００２４】本発明により製造されたポリシラザンは、
炭化−／窒化珪素をベースとする繊維、コーティング及
びマトリックスの使用範囲で特に有利である。
炭化−／窒化珪素をベースとする繊維、コーティング及
びマトリックスの使用範囲で特に有利である。
【００２５】炭化−／窒化珪素をベースとする繊維の製
造は、例えばJ. Lipowitz, CeramicBulletin; Vol. 70
（1991） 1888 又は B.G.Penn, F.E. Ledbetter III,
J.M.Clemons 及び J.G.Daniels, J.of Applied Polymer
Science； Vol. 27 （1982） 3751 に記載されてい
る。
造は、例えばJ. Lipowitz, CeramicBulletin; Vol. 70
（1991） 1888 又は B.G.Penn, F.E. Ledbetter III,
J.M.Clemons 及び J.G.Daniels, J.of Applied Polymer
Science； Vol. 27 （1982） 3751 に記載されてい
る。
【００２６】該方法によれば、大抵ポリシラザン樹脂を
溶融物から紡績してポリシラザン繊維にする。これらを
架橋工程により不融性にし、次いで不活性ガス雰囲気、
例えば窒素又は貴ガス下で又は真空中で熱分解する、そ
の際、ＳｉＣ／Ｓｉ3Ｎ4をベースとする非常に堅い無機
繊維が得られる。架橋を、空気湿気により又は水蒸気を
使用して空気中でアミノ基を部分的に加水分解除去する
ことにより、アンモニア、ヒドラジン又はエチレンジア
ミンでアルキルアミノ基を部分的に又は完全に置換する
ことにより、アセチレン又はアルカンジエン又はアルカ
ンジイン及びその他のジビニルないしはポリビニル又は
ジアリル−ないしはポリアリル化合物を用いて触媒架橋
することにより、又は真空中で加熱することにより部分
的にアミン除去することにより行うことができる。最初
の架橋方法を除いて、後に記載した３つの方法では酸素
はポリマーに、従ってＳｉＯ2は繊維に導入されない。
アンモニアを用いた架橋は、ポリマーひいてはセラミッ
ク繊維中の炭素含量を減少させるという利点を有する。
同時に、このことにより繊維の熱分解の際のセラミック
収率を上昇させることができる。不活性ガス雰囲気中の
代わりに、反応性ガス、例えばアンモニア又は水素の存
在下でも熱分解を実施することができる。従って、最初
の方法の場合には、無色のＳｉ3Ｎ4繊維が生成し、第２
の方法の場合には、ポリマー中の炭素成分を除去するこ
とにより、同様に、それぞれの熱分解及び時間により並
びに水素濃度により、黒からゴールドイエローを経て白
までの異なる色調を呈するＳｉ3Ｎ4繊維が得られる。
溶融物から紡績してポリシラザン繊維にする。これらを
架橋工程により不融性にし、次いで不活性ガス雰囲気、
例えば窒素又は貴ガス下で又は真空中で熱分解する、そ
の際、ＳｉＣ／Ｓｉ3Ｎ4をベースとする非常に堅い無機
繊維が得られる。架橋を、空気湿気により又は水蒸気を
使用して空気中でアミノ基を部分的に加水分解除去する
ことにより、アンモニア、ヒドラジン又はエチレンジア
ミンでアルキルアミノ基を部分的に又は完全に置換する
ことにより、アセチレン又はアルカンジエン又はアルカ
ンジイン及びその他のジビニルないしはポリビニル又は
ジアリル−ないしはポリアリル化合物を用いて触媒架橋
することにより、又は真空中で加熱することにより部分
的にアミン除去することにより行うことができる。最初
の架橋方法を除いて、後に記載した３つの方法では酸素
はポリマーに、従ってＳｉＯ2は繊維に導入されない。
アンモニアを用いた架橋は、ポリマーひいてはセラミッ
ク繊維中の炭素含量を減少させるという利点を有する。
同時に、このことにより繊維の熱分解の際のセラミック
収率を上昇させることができる。不活性ガス雰囲気中の
代わりに、反応性ガス、例えばアンモニア又は水素の存
在下でも熱分解を実施することができる。従って、最初
の方法の場合には、無色のＳｉ3Ｎ4繊維が生成し、第２
の方法の場合には、ポリマー中の炭素成分を除去するこ
とにより、同様に、それぞれの熱分解及び時間により並
びに水素濃度により、黒からゴールドイエローを経て白
までの異なる色調を呈するＳｉ3Ｎ4繊維が得られる。
【００２７】該繊維は、ガラス、ガラスセラミック、セ
ラミック、金属及びプラスチックを強化するために短繊
維又は長い繊維の形で使用することができる。
ラミック、金属及びプラスチックを強化するために短繊
維又は長い繊維の形で使用することができる。
【００２８】炭化／窒化珪素をベースとするコーティン
グ及びマトリックスの製造は、例えば K.E.Gonsalves,
R.Yazici 及び S.Han; J.Mater. Sci. Lett. 10 （199
1） 834, 及び S.T.Schwab, R.C.Graef, D,L.Davidson
及び Y.Pan; polym. Prepr. 32（1991） 556 に記載さ
れている。
グ及びマトリックスの製造は、例えば K.E.Gonsalves,
R.Yazici 及び S.Han; J.Mater. Sci. Lett. 10 （199
1） 834, 及び S.T.Schwab, R.C.Graef, D,L.Davidson
及び Y.Pan; polym. Prepr. 32（1991） 556 に記載さ
れている。
【００２９】その際、ポリシラザン樹脂は、特に種々の
支持体を被覆するために、例えば金属用並びにセラミッ
ク物質用焼き付けラッカーとして適している。ある程度
は、弱酸化性工業材料、例えばグラファイト、ガラス炭
素、ＣＦＣ又は硼素の酸化保護が可能である。
支持体を被覆するために、例えば金属用並びにセラミッ
ク物質用焼き付けラッカーとして適している。ある程度
は、弱酸化性工業材料、例えばグラファイト、ガラス炭
素、ＣＦＣ又は硼素の酸化保護が可能である。
【００３０】溶融液含浸又は溶液含浸により、セラミッ
ク又は金属からなる多孔性の工業材料もシールにするこ
とができる。更に、該ポリシラザンは、多孔性又は気密
性のセラミック材料を製造する際に、例えば酸化パウダ
ー、ないしは炭化物、窒化物、硼化物、珪化物又はシア
ロン（Sialonen）を焼結する際に、結合剤として使用す
ることができる。
ク又は金属からなる多孔性の工業材料もシールにするこ
とができる。更に、該ポリシラザンは、多孔性又は気密
性のセラミック材料を製造する際に、例えば酸化パウダ
ー、ないしは炭化物、窒化物、硼化物、珪化物又はシア
ロン（Sialonen）を焼結する際に、結合剤として使用す
ることができる。
【００３１】ポリシラザンを熱分解することにより、そ
の都度熱分解条件に基づきＳｉＣ／Ｓｉ3Ｎ4パウダーな
いしはＳｉ3Ｎ4パウダーが得られ、該パウダーを焼結助
剤の存在下で焼結して緻密な成形体にすることができ
る。
の都度熱分解条件に基づきＳｉＣ／Ｓｉ3Ｎ4パウダーな
いしはＳｉ3Ｎ4パウダーが得られ、該パウダーを焼結助
剤の存在下で焼結して緻密な成形体にすることができ
る。
【００３２】ポリシラザンを熱分解する際にガスが発生
するので、主に断熱剤として又は溶解した金属のための
フィルターとして使用することができる気泡セラミック
も製造することができる。
するので、主に断熱剤として又は溶解した金属のための
フィルターとして使用することができる気泡セラミック
も製造することができる。
【００３３】更に、セラミック繊維、例えばＡｌ2Ｏ3又
はＳｉＣ繊維ないしはホイスカーに、ポリシラザンを含
浸させ、熱分解して繊維強化セラミックを得ることがで
きる。
はＳｉＣ繊維ないしはホイスカーに、ポリシラザンを含
浸させ、熱分解して繊維強化セラミックを得ることがで
きる。
【００３４】
【実施例】次に本発明を以下の実施例につき詳細に説明
する。
する。
【００３５】還流冷却器及びガス導入管を有する４リッ
トルの三つ首フラスコ中で、ジメチルジクロルシランの
ロコ合成の高沸点フラクションから得られた大凡の組成
Ｍｅ2,6Ｓｉ2Ｃｌ3,4の１，１，２−トリメチル−１，
２，２−トリクロルジシラン及び１，２−ジメチル−
１，１，２，２−テトラクロルジシランからなるメチル
クロルジシラン混合物３００ｇを、不活性ガス下でトル
エン２０００ｍｌ中に溶解した。
トルの三つ首フラスコ中で、ジメチルジクロルシランの
ロコ合成の高沸点フラクションから得られた大凡の組成
Ｍｅ2,6Ｓｉ2Ｃｌ3,4の１，１，２−トリメチル−１，
２，２−トリクロルジシラン及び１，２−ジメチル−
１，１，２，２−テトラクロルジシランからなるメチル
クロルジシラン混合物３００ｇを、不活性ガス下でトル
エン２０００ｍｌ中に溶解した。
【００３６】引続き、ガスがもはや反応しなくなくなる
までガス状のメチルアミンを導入した。その際、反応溶
液の温度は５０℃に上昇した。冷却後、メチルアミン塩
酸塩を濾別し、トルエン１００ｍｌで洗浄した。
までガス状のメチルアミンを導入した。その際、反応溶
液の温度は５０℃に上昇した。冷却後、メチルアミン塩
酸塩を濾別し、トルエン１００ｍｌで洗浄した。
【００３７】得られたアミノリシス生成物に、メチルジ
クロルシラン４２ｇを加え、該反応溶液を４０℃で２時
間保持した。引続き、ガスがもはや吸収されなくなるま
でアンモニアを導入した。生成した塩化アンモニウムを
濾別し、濾液から溶剤を除去した。残留物として油状物
質が得られ、該物質を４時間にわたって２５０℃に加熱
し、低沸点の生成物成分を真空中で除去した後に、９５
℃で溶融するポリシラザン２６２ｇ（使用したＳｉに対
して５８重量％）が生成した。ゲルクロマトグラムによ
り、１５００ｇ／モルで最大を有する単一モードの分子
量分布が明示された（元素分析：Ｃ３３．４重量％、Ｈ
８．４重量％、Ｎ１５．９重量％、Ｓｉ４０．２重量
％；1Ｈ−ＮＭＲ ＮＭｅ／ＳｉＭｅ／ＳｉＨ：３０／
１００／５）。
クロルシラン４２ｇを加え、該反応溶液を４０℃で２時
間保持した。引続き、ガスがもはや吸収されなくなるま
でアンモニアを導入した。生成した塩化アンモニウムを
濾別し、濾液から溶剤を除去した。残留物として油状物
質が得られ、該物質を４時間にわたって２５０℃に加熱
し、低沸点の生成物成分を真空中で除去した後に、９５
℃で溶融するポリシラザン２６２ｇ（使用したＳｉに対
して５８重量％）が生成した。ゲルクロマトグラムによ
り、１５００ｇ／モルで最大を有する単一モードの分子
量分布が明示された（元素分析：Ｃ３３．４重量％、Ｈ
８．４重量％、Ｎ１５．９重量％、Ｓｉ４０．２重量
％；1Ｈ−ＮＭＲ ＮＭｅ／ＳｉＭｅ／ＳｉＨ：３０／
１００／５）。
【００３８】例２ 例１に相応して、組成Ｍｅ2.6Ｓｉ2Ｃｌ3.4のメチルク
ロルジシラン３００ｇ及びトリクロルシラン１００ｇか
らなる混合物をトルエン３リットル中に溶解し、ガスが
もはや溶液に吸収されなくなるまでメチルアミンと反応
させた。該反応混合物にジメチルジクロルシラン５０ｇ
を加え、６０℃に２時間で加熱し、引続き、ガスがもは
や溶剤に吸収されなくなるまでアンモニアを導入した。
生成したアンモニウム塩酸塩を分離し、次いで濾液から
真空中で溶剤を除去した。残留物として、帯黄色の油状
のアミノジシラン混合物２６０ｇが得られた（元素分
析：Ｓｉ３７．０重量％、Ｃ３２．４重量％、Ｈ８．３
重量％、Ｎ２０．３重量％、ゲルクロマトクラム：１０
００〜５０００ｇ／モル；セラミック収率：使用したア
ミノジシランに対して６０重量％）。該アミノジシラン
混合物を２５０℃に５時間加熱し、僅かに低沸点のオリ
ゴマーのアミノジシランを２・１０3パスカルの圧力で
留去した後、１０５℃で溶融するポリシラザン１８８ｇ
（使用したＳｉに対して７２重量％）が得られた（元素
分析：Ｓｉ４１．６重量％、Ｃ２７．３重量％、Ｈ７．
９重量％、Ｎ２０．３重量％；ゲルクロマトグラム：５
０００ｇ／モルで最大、１０００ｇ／モルで肩部を有す
る；1Ｈ−ＮＭＲ ＮＭｅ／ＳｉＭｅ／ＳｉＨ：８３／
１００／１９；セラミック収率：使用したポリシラザン
に対して６８重量％）。
ロルジシラン３００ｇ及びトリクロルシラン１００ｇか
らなる混合物をトルエン３リットル中に溶解し、ガスが
もはや溶液に吸収されなくなるまでメチルアミンと反応
させた。該反応混合物にジメチルジクロルシラン５０ｇ
を加え、６０℃に２時間で加熱し、引続き、ガスがもは
や溶剤に吸収されなくなるまでアンモニアを導入した。
生成したアンモニウム塩酸塩を分離し、次いで濾液から
真空中で溶剤を除去した。残留物として、帯黄色の油状
のアミノジシラン混合物２６０ｇが得られた（元素分
析：Ｓｉ３７．０重量％、Ｃ３２．４重量％、Ｈ８．３
重量％、Ｎ２０．３重量％、ゲルクロマトクラム：１０
００〜５０００ｇ／モル；セラミック収率：使用したア
ミノジシランに対して６０重量％）。該アミノジシラン
混合物を２５０℃に５時間加熱し、僅かに低沸点のオリ
ゴマーのアミノジシランを２・１０3パスカルの圧力で
留去した後、１０５℃で溶融するポリシラザン１８８ｇ
（使用したＳｉに対して７２重量％）が得られた（元素
分析：Ｓｉ４１．６重量％、Ｃ２７．３重量％、Ｈ７．
９重量％、Ｎ２０．３重量％；ゲルクロマトグラム：５
０００ｇ／モルで最大、１０００ｇ／モルで肩部を有す
る；1Ｈ−ＮＭＲ ＮＭｅ／ＳｉＭｅ／ＳｉＨ：８３／
１００／１９；セラミック収率：使用したポリシラザン
に対して６８重量％）。
【００３９】該ポリマーから溶融物から１１０℃で直径
２０μｍを有する繊維を紡績した。空気中で１日間貯蔵
した後、繊維を（酸化アルミニウム容器中で）不連続的
に、また煙管炉中アルゴン下で１２５０℃まで連続的に
熱分解した。その際、高い強度を有する炭窒化珪素繊維
が得られた（繊維直径：１３〜１６μｍ；分析：Ｓｉ５
０．８重量％、Ｃ１７．０重量％、Ｎ１９．８重量％、
Ｏ１２．０重量％；引張強さ２０００〜２５００ＭＰ
ａ；Ｅ−モジュール：２００ＧＰａ；比抵抗１０6オー
ム／ｃｍ；アルゴン下で１４５０℃まで重量損失なし；
１５００℃、１０時間で重量損失１％；繊維は１４００
℃まで非晶質で、それ以上の高温でβ−ＳｉＣの結晶化
を開始した）。
２０μｍを有する繊維を紡績した。空気中で１日間貯蔵
した後、繊維を（酸化アルミニウム容器中で）不連続的
に、また煙管炉中アルゴン下で１２５０℃まで連続的に
熱分解した。その際、高い強度を有する炭窒化珪素繊維
が得られた（繊維直径：１３〜１６μｍ；分析：Ｓｉ５
０．８重量％、Ｃ１７．０重量％、Ｎ１９．８重量％、
Ｏ１２．０重量％；引張強さ２０００〜２５００ＭＰ
ａ；Ｅ−モジュール：２００ＧＰａ；比抵抗１０6オー
ム／ｃｍ；アルゴン下で１４５０℃まで重量損失なし；
１５００℃、１０時間で重量損失１％；繊維は１４００
℃まで非晶質で、それ以上の高温でβ−ＳｉＣの結晶化
を開始した）。
【００４０】例３ 例１に相応して、組成Ｍｅ2,6Ｓｉ2Ｃｌ3,4のメチルク
ロルジシラン２００ｇとトリクロルシラン１３３ｇの混
合物をトルエン１．５リットル中に溶解し、ｎ−ヘキサ
デシルアミン１０ｇを加え、ガスがもはや溶液に吸収さ
れなくなるまでメチルアミンと反応させた。沈殿物を除
去した後、濾液をジメチルジクロルシラン４０ｇと一緒
に６０℃に２時間加熱し、引続き、ガスがもはや溶液か
ら吸収されなくなるまでアンモニアを導入した。生成し
たアンモニウム塩酸塩を分離し、濾液から真空中で溶剤
を除去した。残留物として帯黄色の油状のアミノジシラ
ン混合物１９６ｇが得られた。２００℃に３時間加熱
し、僅かに低沸点のオリゴマーのアミノジシランを真空
中で留去した後、１０５℃で溶融するポリシラザン１６
６ｇ（使用したＳｉに対して収率６９％）が得られた
（元素分析：Ｓｉ３６．７重量％、Ｃ３０．１重量％、
Ｈ８．５重量％、２０００ｇ／モル；1Ｈ−ＮＭＲ強度
ＮＭｅ／ＳｉＭｅ／ＳｉＨ：１００／９９／２７；セラ
ミック収率：使用したポリシラザンに対して５０重量
％）。
ロルジシラン２００ｇとトリクロルシラン１３３ｇの混
合物をトルエン１．５リットル中に溶解し、ｎ−ヘキサ
デシルアミン１０ｇを加え、ガスがもはや溶液に吸収さ
れなくなるまでメチルアミンと反応させた。沈殿物を除
去した後、濾液をジメチルジクロルシラン４０ｇと一緒
に６０℃に２時間加熱し、引続き、ガスがもはや溶液か
ら吸収されなくなるまでアンモニアを導入した。生成し
たアンモニウム塩酸塩を分離し、濾液から真空中で溶剤
を除去した。残留物として帯黄色の油状のアミノジシラ
ン混合物１９６ｇが得られた。２００℃に３時間加熱
し、僅かに低沸点のオリゴマーのアミノジシランを真空
中で留去した後、１０５℃で溶融するポリシラザン１６
６ｇ（使用したＳｉに対して収率６９％）が得られた
（元素分析：Ｓｉ３６．７重量％、Ｃ３０．１重量％、
Ｈ８．５重量％、２０００ｇ／モル；1Ｈ−ＮＭＲ強度
ＮＭｅ／ＳｉＭｅ／ＳｉＨ：１００／９９／２７；セラ
ミック収率：使用したポリシラザンに対して５０重量
％）。
【００４１】例４ 例１に相応して、組成Ｍｅ2,6Ｓｉ2Ｃｌ3,4のメチルク
ロルジシラン３００ｇとビニルトリクロルシラン１００
ｇの混合物をトルエン１．５リットル中に取り、ガスが
もはや溶液に吸収されなくなるまでメチルアミンと反応
させた。該反応混合物にメチルジクロルシラン５０ｇを
滴加し、４０℃で２時間撹拌した。引続き、アンモニア
を完全に飽和するまで溶液に導入した。生成したアンモ
ニウム塩酸塩を分離し、１２０℃の温度及び１０5〜１
０3Ｐａの圧力まで濾液から溶剤及び低沸点アミノシラ
ンを除去した。残留物として、７０〜８０℃で溶融する
帯黄色のポリシラザン２１０ｇ（使用したＳｉに対して
収率６７重量％）が得られた（元素分析：Ｓｉ３３．６
％、Ｃ３５．１％、Ｎ１８．５％、Ｈ８．６％；ゲルク
ロマトグラム：１０００〜６０００ｇ／モルの広い分子
量分布；セラミック収率：使用したポリシラザンに対し
て４７重量％）。
ロルジシラン３００ｇとビニルトリクロルシラン１００
ｇの混合物をトルエン１．５リットル中に取り、ガスが
もはや溶液に吸収されなくなるまでメチルアミンと反応
させた。該反応混合物にメチルジクロルシラン５０ｇを
滴加し、４０℃で２時間撹拌した。引続き、アンモニア
を完全に飽和するまで溶液に導入した。生成したアンモ
ニウム塩酸塩を分離し、１２０℃の温度及び１０5〜１
０3Ｐａの圧力まで濾液から溶剤及び低沸点アミノシラ
ンを除去した。残留物として、７０〜８０℃で溶融する
帯黄色のポリシラザン２１０ｇ（使用したＳｉに対して
収率６７重量％）が得られた（元素分析：Ｓｉ３３．６
％、Ｃ３５．１％、Ｎ１８．５％、Ｈ８．６％；ゲルク
ロマトグラム：１０００〜６０００ｇ／モルの広い分子
量分布；セラミック収率：使用したポリシラザンに対し
て４７重量％）。
Claims (9)
- 【請求項１】 ポリシラザンを製造する方法において、 ａ）一般式： Ｍｅ6-nＳｉ2Ｃｌn ［式中、ｎは３又は４を表す］のジシランを一般式： ＲＮＨ2 ［式中、Ｒは、アルキル基又はアリール基を表す］のア
ミンと、不活性雰囲気中で−８０〜１００℃の温度範囲
で反応させ、 ｂ）ａ）による反応生成物を一般式： Ｒ′2ＳｉＣｌ2 ［式中、Ｒ′はそれぞれ互いに無関係に水素原子、アル
キル基、アリル基又はアリール基を表す］のジクロルシ
ラン又はテトラメチルジクロルジシランと不活性雰囲気
中で、−２０℃〜１５０℃の温度範囲で反応させ、次い
で ｃ）ｂ）による該反応生成物を不活性雰囲気中でアンモ
ニアと反応させ、引続き形成された塩化アンモニウムを
分離することを特徴とする、ポリシラザンの製造方法。 - 【請求項２】 一般式： ＲＮＨ2 ［式中、Ｒは、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、
イソ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−
ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘキサデシル基、
フェニル基又はトルイル基を表す］のアミンを単独で又
は混合物として使用する、請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 メチルアミン又はメチルアミンと一般
式： ＲＮＨ2 ［式中、Ｒは、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、
イソ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−
ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘキサデシル基、
フェニル基又はトルイル基を表す］のその他のアミンと
の混合物を使用する、請求項１又は２記載の方法。 - 【請求項４】 ａ）によるジシランを、一般式： Ｒ″ＳｉＣｌ3 ［式中、Ｒ″は、水素原子、アルキル基、アリル基又は
アリール基を表す］のトリクロルシランと混合して使用
する、請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。 - 【請求項５】 ａ）によるジシランの、トリクロルシラ
ンに対するモル比が１０〜０．５の範囲内にある、請求
項４記載の方法。 - 【請求項６】 使用される一般式： Ｒ″ＳｉＣｌ3 のトリクロルシランが、トリクロルシラン、メチルトリ
クロルシラン、エチルトリクロルシラン、ビニルトリク
ロルシラン、プロピルトリクロルシラン及びフェニルト
リクロルシラン又はそれらの混合物である、請求項4又
は5記載の方法。 - 【請求項７】 使用される一般式： Ｒ′2ＳｉＣｌ2 のジクロルシランが、ジクロルシラン、メチルジクロル
シラン、ジメチルジクロルシラン、ビニルメチルジクロ
ルシラン、エチルメチルジクロルシラン、ｎ−オクチル
メチルジクロルシラン及びｎ−オクタデシルメチルジク
ロルシラン又はそれらの混合物である、請求項１から６
までのいずれか１項記載の方法。 - 【請求項８】 ａ）によるジシラン及び場合によりトリ
クロルシランの、ジクロルシランに対する使用量のモル
比が１０〜０．５の範囲内にある、請求項１から７まで
のいずれか１項記載の方法。 - 【請求項９】 以下の特性値： 分子量： １０００〜１００００ｇ／モル セラミック収率：４０〜８０重量％ 融点： ＜２００℃ を有することを特徴とする、ポリシラザン。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4217579.8 | 1991-05-27 | ||
| DE4217579A DE4217579A1 (de) | 1992-05-27 | 1992-05-27 | Verfahren zur Herstellung von Polysilazanen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06157764A JPH06157764A (ja) | 1994-06-07 |
| JP2504688B2 true JP2504688B2 (ja) | 1996-06-05 |
Family
ID=6459862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5123979A Expired - Lifetime JP2504688B2 (ja) | 1991-05-27 | 1993-05-26 | ポリシラザンの製造方法及びポリシラザン |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5268496A (ja) |
| EP (1) | EP0572007B1 (ja) |
| JP (1) | JP2504688B2 (ja) |
| DE (2) | DE4217579A1 (ja) |
| ES (1) | ES2094962T3 (ja) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5596062A (en) * | 1994-08-24 | 1997-01-21 | Tonen Corporation | Silicon-containing copolymer and method of producing same |
| DE19613473A1 (de) * | 1996-04-04 | 1997-10-09 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Herstellung von hochvernetzten Siliciumcarbonitridmaterialien |
| US7005392B2 (en) * | 2001-03-30 | 2006-02-28 | Advanced Technology Materials, Inc. | Source reagent compositions for CVD formation of gate dielectric thin films using amide precursors and method of using same |
| US7084080B2 (en) * | 2001-03-30 | 2006-08-01 | Advanced Technology Materials, Inc. | Silicon source reagent compositions, and method of making and using same for microelectronic device structure |
| WO2008029834A1 (fr) * | 2006-09-08 | 2008-03-13 | Az Electronic Materials (Japan) K.K. | Composition pour former un film siliceux et procédé de production de film siliceux à partir de celle-ci |
| US7750173B2 (en) | 2007-01-18 | 2010-07-06 | Advanced Technology Materials, Inc. | Tantalum amido-complexes with chelate ligands useful for CVD and ALD of TaN and Ta205 thin films |
| US20090087561A1 (en) * | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Advanced Technology Materials, Inc. | Metal and metalloid silylamides, ketimates, tetraalkylguanidinates and dianionic guanidinates useful for cvd/ald of thin films |
| US8330136B2 (en) | 2008-12-05 | 2012-12-11 | Advanced Technology Materials, Inc. | High concentration nitrogen-containing germanium telluride based memory devices and processes of making |
| WO2011053551A1 (en) | 2009-10-28 | 2011-05-05 | Dow Corning Corporation | Polysilane - polysilazane copolymers and methods for their preparation and use |
| US9012876B2 (en) | 2010-03-26 | 2015-04-21 | Entegris, Inc. | Germanium antimony telluride materials and devices incorporating same |
| WO2011146913A2 (en) | 2010-05-21 | 2011-11-24 | Advanced Technology Materials, Inc. | Germanium antimony telluride materials and devices incorporating same |
| US9640757B2 (en) | 2012-10-30 | 2017-05-02 | Entegris, Inc. | Double self-aligned phase change memory device structure |
| US9359479B2 (en) | 2013-05-30 | 2016-06-07 | General Electric Company | Methods of using boron-containing additives as silicon carbide crosslinking agents |
| KR102075336B1 (ko) * | 2014-04-24 | 2020-02-10 | 에이제트 일렉트로닉 머티어리얼스 (룩셈부르크) 에스.에이.알.엘. | 공중합 폴리실라잔, 이의 제조 방법 및 이를 함유하는 조성물 및 이를 사용한 실리카질막의 형성 방법 |
| US9593210B1 (en) * | 2015-06-03 | 2017-03-14 | General Electric Company | Methods of preparing polysilazane resin with low halogen content |
| WO2018164709A1 (en) * | 2017-03-09 | 2018-09-13 | Purple Solutions, Llc | Process for preparing polysilazanes |
| CN112321836A (zh) * | 2020-12-08 | 2021-02-05 | 库贝化学（上海）有限公司 | 一种甲基聚硅氮烷树脂及其制备方法 |
| CN112500573B (zh) * | 2020-12-11 | 2022-08-26 | 湖南博望碳陶有限公司 | 一种有机聚硅氮烷及其规模化生产方法 |
| CN114456392B (zh) * | 2022-03-14 | 2022-12-30 | 江西信达航科新材料科技有限公司 | 一种苯甲酰聚硅氮烷及其制备方法 |
| CN114805820B (zh) * | 2022-04-12 | 2023-05-02 | 中国船舶重工集团公司第七一八研究所 | 一种疏水有机聚硅氮烷及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3393218A (en) * | 1964-05-18 | 1968-07-16 | Monsanto Co | Polymeric silazane compounds |
| US3467686A (en) * | 1967-10-03 | 1969-09-16 | Union Carbide Corp | Preparation of organosilicon-nitrogen compounds |
| US3809713A (en) * | 1973-03-01 | 1974-05-07 | Union Carbide Corp | Process for producing silazane compounds |
| US4340619A (en) * | 1981-01-15 | 1982-07-20 | Dow Corning Corporation | Process for the preparation of poly(disilyl)silazane polymers and the polymers therefrom |
| US4395460A (en) * | 1981-09-21 | 1983-07-26 | Dow Corning Corporation | Preparation of polysilazane polymers and the polymers therefrom |
| US4482669A (en) * | 1984-01-19 | 1984-11-13 | Massachusetts Institute Of Technology | Preceramic organosilazane polymers |
| FR2590584B1 (fr) * | 1985-11-28 | 1988-03-04 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede de preparation, en deux etapes, de reticulats d'organopolysilazanes de tenue thermique amelioree pouvant servir notamment comme precurseur ceramique |
| US4778907A (en) * | 1985-12-20 | 1988-10-18 | The Dexter Corporation | Method for making organosilazanes |
| US4745205A (en) * | 1986-11-03 | 1988-05-17 | Dow Corning Corporation | Novel preceramic polymers derived from cyclic silazanes and halogenated disilanes and a method for their preparation |
| DE3639511A1 (de) * | 1986-11-20 | 1988-06-01 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur herstellung von silazanpolymeren |
| FR2616436B1 (fr) * | 1987-06-10 | 1989-12-29 | Europ Propulsion | Copolymeres a liaisons si-n et si-si, polycarbosilazanes obtenus par pyrolyse desdits copolymeres et utilisation desdits polycarbosilazanes pour la preparation de carbonitrure de silicium |
| DE3733727A1 (de) * | 1987-10-06 | 1989-04-20 | Hoechst Ag | Polymere hydridochlorsilazane und verfahren zu ihrer herstellung |
-
1992
- 1992-05-27 DE DE4217579A patent/DE4217579A1/de not_active Withdrawn
-
1993
- 1993-04-26 US US08/051,981 patent/US5268496A/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-05-26 JP JP5123979A patent/JP2504688B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1993-05-27 DE DE59304719T patent/DE59304719D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-05-27 ES ES93108589T patent/ES2094962T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1993-05-27 EP EP93108589A patent/EP0572007B1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE59304719D1 (de) | 1997-01-23 |
| EP0572007B1 (de) | 1996-12-11 |
| DE4217579A1 (de) | 1993-12-02 |
| ES2094962T3 (es) | 1997-02-01 |
| EP0572007A1 (de) | 1993-12-01 |
| US5268496A (en) | 1993-12-07 |
| JPH06157764A (ja) | 1994-06-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2504688B2 (ja) | ポリシラザンの製造方法及びポリシラザン | |
| EP0153008B1 (en) | Preceramic organosilazane polymers | |
| US5008422A (en) | Polysilazanes and related compositions, processes and uses | |
| US4689252A (en) | Polysilazane composition which can crosslink in the presence of a metal compound catalyzing a hydrosilylation reaction | |
| KR840001536B1 (ko) | 폴리실란의 제조방법 | |
| EP0259366B1 (en) | Polysilazanes and related compositions, processes and uses | |
| EP0304239B1 (en) | Reformed polysilazane and method of producing same | |
| EP0295062B1 (en) | Polysilacyclobutasilazanes | |
| US4656300A (en) | Process for a thermal treatment of a polysilazane containing .tbd.SiH groups and .tbd.Si--NH-- groups | |
| JPH037221B2 (ja) | ||
| CA1281477C (en) | Method for converting si-h containing polysiloxanes to new and useful preceramic polymers and ceramic materials | |
| JP2651464B2 (ja) | 改質ポリシラザン、その製造方法及びその用途 | |
| JPS6357454B2 (ja) | ||
| CA1287432C (en) | Preceramic polymers derived from cyclic silazanes and halogenated disilanes and a method for their preparation | |
| US4929742A (en) | Silane modified polysilacyclobutasilazanes | |
| CA1287433C (en) | Preceramic polymers derived from cyclic silazanes, and halosilanes anda method for their preparation | |
| US4916200A (en) | Silane modified polysilacyclobutasilazanes | |
| EP0619280A2 (en) | Polymetalosilazane, process of producing same, silicon nitride based ceramic, and process of preparing same | |
| US4694060A (en) | Process for the treatment of polyorganosilazanes and/or of polyorgano(disilyl)silazanes by means of a treatment of polyorganosilazanes with a catalyst system comprising an ionic inorganic salt and a complexing compound | |
| US5250648A (en) | Preparation of organic silizane polymers and ceramic materials therefrom | |
| JPS6158086B2 (ja) | ||
| US5071935A (en) | Boron/nitrogen preceramic polymers and boron nitride ceramic materials produced therefrom | |
| AU623951B2 (en) | Polysilane-based ceramic precursor compositions and ceramics obtained by pyrolysis of the said compositions | |
| KR100341432B1 (ko) | 프리세라믹폴리보로실라잔,그의제조방법,및이로부터유도된세라믹물질 | |
| US4861532A (en) | Method of preparing ceramics from polymers derived from cyclic silazanes, and halosilanes |