JP2501760B2 - 表面被覆処理装置 - Google Patents
表面被覆処理装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、被処理物を電気的に処
理する表面被処理装置に関するものである。
理する表面被処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】比較的深い凹部を有する被処理物とし
て、例えば図３に示すようなエアコンのスクロール型ロ
ータ21がある。該ロータ21には、表面被覆処理を施す部
分即ち処理部分と、非処理部分があり、処理部分はロー
タ摺動部即ち凹部22を形成するスクロール部23の周面24
および内底面25であり、非処理部分は閉塞部27上面中央
部に設けられたベアリングハウジング部26である。
て、例えば図３に示すようなエアコンのスクロール型ロ
ータ21がある。該ロータ21には、表面被覆処理を施す部
分即ち処理部分と、非処理部分があり、処理部分はロー
タ摺動部即ち凹部22を形成するスクロール部23の周面24
および内底面25であり、非処理部分は閉塞部27上面中央
部に設けられたベアリングハウジング部26である。
【０００３】従来、処理部分と非処理部分とがある被処
理物を表面被覆処理する場合、非処理部分をマスクした
状態で、凹部22の開口22A を上向きにして被処理物全体
を処理液内の電極間に浸漬し、通電するのが一般的であ
る。しかし、従来方法では、手間のかかるマスキング作
業が不可欠であるという問題があった。このマスキング
作業を省略する表面被覆処理方法として、被処理物の処
理部分のみを処理液に浸漬する方法が考えられる。
理物を表面被覆処理する場合、非処理部分をマスクした
状態で、凹部22の開口22A を上向きにして被処理物全体
を処理液内の電極間に浸漬し、通電するのが一般的であ
る。しかし、従来方法では、手間のかかるマスキング作
業が不可欠であるという問題があった。このマスキング
作業を省略する表面被覆処理方法として、被処理物の処
理部分のみを処理液に浸漬する方法が考えられる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、被処理物の
処理部分のみを処理液に浸漬する方法では、マスキング
作業が不要となるが、図３に示すロータ21の場合、電極
間で発生したガスがロータ21の処理部分に付着して、表
面被覆処理を妨げ、個々の製品において均一な被膜形成
ができないという問題がある。
処理部分のみを処理液に浸漬する方法では、マスキング
作業が不要となるが、図３に示すロータ21の場合、電極
間で発生したガスがロータ21の処理部分に付着して、表
面被覆処理を妨げ、個々の製品において均一な被膜形成
ができないという問題がある。
【０００５】即ち、表面被覆処理過程で発生したガス
(例えば、アルマイト処理の場合には酸素ガス) が凹部2
2内に閉じ込められるため、スクロール部23の周面24お
よび内底面25にガスが付着して気泡が成長し、部分的に
表面被覆処理ができないという問題が生じ、さらに、対
極側で発生したガス (例えばアルマイト処理の場合には
水素ガス) も、前記凹部22内に保留されてスクロール周
面24および内底面25に付着する。また、処理物を処理液
に浸漬する際に凹部22内にガスが入り込み、このガスが
凹部内底面25の表面被覆処理を妨げるなどの問題が生じ
る。
(例えば、アルマイト処理の場合には酸素ガス) が凹部2
2内に閉じ込められるため、スクロール部23の周面24お
よび内底面25にガスが付着して気泡が成長し、部分的に
表面被覆処理ができないという問題が生じ、さらに、対
極側で発生したガス (例えばアルマイト処理の場合には
水素ガス) も、前記凹部22内に保留されてスクロール周
面24および内底面25に付着する。また、処理物を処理液
に浸漬する際に凹部22内にガスが入り込み、このガスが
凹部内底面25の表面被覆処理を妨げるなどの問題が生じ
る。
【０００６】本発明は、上述のような問題点を解消すべ
くなされたもので、その目的とするところは、被処理物
の凹部に集まるガスを排出除去して、均一な膜厚の被覆
膜を処理部分全面に形成することができる表面被覆処理
装置を提供するにある。
くなされたもので、その目的とするところは、被処理物
の凹部に集まるガスを排出除去して、均一な膜厚の被覆
膜を処理部分全面に形成することができる表面被覆処理
装置を提供するにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明では、上記目的を
達成するために、次の技術的手段を講じた。即ち、本発
明は、表面被覆処理液を貯溜する処理槽と、該槽内に被
処理物の下方に位置して設けられた被処理物を電気的に
処理するための対極と、被処理物の処理すべき部分に前
記液を噴射する噴射手段と、前記液を撹拌する撹拌手段
とを備え、撹拌手段は前記噴射手段により駆動するよう
にした表面被覆処理装置であって、前記撹拌手段は回転
羽根から成りかつ該羽根の羽部に多数の孔を備えている
ことを特徴としている。
達成するために、次の技術的手段を講じた。即ち、本発
明は、表面被覆処理液を貯溜する処理槽と、該槽内に被
処理物の下方に位置して設けられた被処理物を電気的に
処理するための対極と、被処理物の処理すべき部分に前
記液を噴射する噴射手段と、前記液を撹拌する撹拌手段
とを備え、撹拌手段は前記噴射手段により駆動するよう
にした表面被覆処理装置であって、前記撹拌手段は回転
羽根から成りかつ該羽根の羽部に多数の孔を備えている
ことを特徴としている。
【０００８】また、本発明は、前記回転羽根を収容しか
つ軸支する支持筒体の周壁に、回転羽根の軸と直交する
方向に貫通する処理液吸入開口を設けたことを特徴とし
ている。さらに、本発明は、前記処理槽内には処理液供
給循環用の噴射管マニホールドを配設し、複数の対極を
列設して夫々に前記マニホールドに接続した噴射管の各
先端部を臨入し、各噴射管の途中に流量調整弁を設けた
ことを特徴としている。
つ軸支する支持筒体の周壁に、回転羽根の軸と直交する
方向に貫通する処理液吸入開口を設けたことを特徴とし
ている。さらに、本発明は、前記処理槽内には処理液供
給循環用の噴射管マニホールドを配設し、複数の対極を
列設して夫々に前記マニホールドに接続した噴射管の各
先端部を臨入し、各噴射管の途中に流量調整弁を設けた
ことを特徴としている。
【０００９】
【作用】請求項１の発明によれば、まず凹部を有する被
処理物を、凹部の開口を下に向けて対極と対向させ、か
つ処理部分のみを処理液に浸漬してセットする。そこ
で、被処理物と対極との間に通電すると共に、処理液噴
射手段の運転を開始すると、被処理物を処理液に浸漬す
る際に被処理物の凹部に入り込んだガス、および表面被
覆処理中に処理部分等で発生したガスは、噴射手段によ
って生じた噴流および撹拌手段によって生じた処理液の
撹拌作用により、大きな気泡に成長する前に除去され、
また、対極側で発生したガスは、処理液の噴射流および
撹拌によって被処理物の凹部に移動することなく、放出
される。
処理物を、凹部の開口を下に向けて対極と対向させ、か
つ処理部分のみを処理液に浸漬してセットする。そこ
で、被処理物と対極との間に通電すると共に、処理液噴
射手段の運転を開始すると、被処理物を処理液に浸漬す
る際に被処理物の凹部に入り込んだガス、および表面被
覆処理中に処理部分等で発生したガスは、噴射手段によ
って生じた噴流および撹拌手段によって生じた処理液の
撹拌作用により、大きな気泡に成長する前に除去され、
また、対極側で発生したガスは、処理液の噴射流および
撹拌によって被処理物の凹部に移動することなく、放出
される。
【００１０】特に、回転羽根に設けた多数の孔を噴射手
段によって噴射された処理液の一部が通過するため、回
転羽根の回転が和らげられ、被処理物の凹部に集まろう
とするガスを円滑に排出して、気泡の付着、成長を防止
し、処理膜形成を妨げることなく、均一な被膜を形成す
ることができる。なお、被処理物の非処理部を、処理液
に浸漬しないで済むものには、マスキングが不要である
ことは勿論である。
段によって噴射された処理液の一部が通過するため、回
転羽根の回転が和らげられ、被処理物の凹部に集まろう
とするガスを円滑に排出して、気泡の付着、成長を防止
し、処理膜形成を妨げることなく、均一な被膜を形成す
ることができる。なお、被処理物の非処理部を、処理液
に浸漬しないで済むものには、マスキングが不要である
ことは勿論である。
【００１１】また、請求項２の発明によれば、回転羽根
の回転によって、処理液吸入開口から支持筒体外周の処
理液を吸入して処理液撹拌流量を多くするので、被処理
物の凹部に集まろうとするガスをより円滑にかつ確実に
排出することができる。さらに、請求項３の発明によれ
ば、複数の対極の内部に臨入する噴射管の各先端部から
噴出する処理液流量を、流量調整弁により調整して、均
等にすることができ、各被処理物に当たる処理液撹拌流
を同じ状態にすることができ、各被処理物を同条件下で
処理できる。
の回転によって、処理液吸入開口から支持筒体外周の処
理液を吸入して処理液撹拌流量を多くするので、被処理
物の凹部に集まろうとするガスをより円滑にかつ確実に
排出することができる。さらに、請求項３の発明によれ
ば、複数の対極の内部に臨入する噴射管の各先端部から
噴出する処理液流量を、流量調整弁により調整して、均
等にすることができ、各被処理物に当たる処理液撹拌流
を同じ状態にすることができ、各被処理物を同条件下で
処理できる。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づき説明す
る。図１および図２は本発明の実施例を示し、被処理物
として、図３に示すエアコンのスクロール型ロータ21を
用いて、複数の該ロータ21の処理部分であるスクロール
23の周面24および凹部22の内底面25をアルマイト処理す
る表面被覆処理装置1 である。
る。図１および図２は本発明の実施例を示し、被処理物
として、図３に示すエアコンのスクロール型ロータ21を
用いて、複数の該ロータ21の処理部分であるスクロール
23の周面24および凹部22の内底面25をアルマイト処理す
る表面被覆処理装置1 である。
【００１３】本装置1 は、表面被覆処理液2 を貯溜する
処理槽3 と、該槽3 の内底上に設けた処理液噴射管マニ
ホールド4 と、該マニホールド4 の上側に取付けた円筒
状の複数の対極 (電極) 5 と、該対極5 内下部に偏心的
にかつ上向きに臨入された処理液噴射手段 (噴射管) 6
と、前記対極5 の外周に同心的にかつ上方に延出状に取
付けられた支持筒体7 および支持筒体7 の上端内側に設
けた回転羽根8 とからなる処理液撹拌手段9 と、処理液
2 を前記マニホールド4 に供給し循環させる循環ポンプ
10と、前記各噴射管6 の途中に設けた流量調整弁11とか
ら成っている。
処理槽3 と、該槽3 の内底上に設けた処理液噴射管マニ
ホールド4 と、該マニホールド4 の上側に取付けた円筒
状の複数の対極 (電極) 5 と、該対極5 内下部に偏心的
にかつ上向きに臨入された処理液噴射手段 (噴射管) 6
と、前記対極5 の外周に同心的にかつ上方に延出状に取
付けられた支持筒体7 および支持筒体7 の上端内側に設
けた回転羽根8 とからなる処理液撹拌手段9 と、処理液
2 を前記マニホールド4 に供給し循環させる循環ポンプ
10と、前記各噴射管6 の途中に設けた流量調整弁11とか
ら成っている。
【００１４】前記マニホールド4 は、絶縁性物質からな
る対極支持板12A,12B 間の下部に形成され、処理槽3 内
の処理液2 が前記ポンプ10により供給されるようになっ
ており、図２に示すように、複数の処理液噴射管6 の基
端がマニホールド4 に連通連結されている。そして、前
記流量調整弁11は、各噴射管6 の先端から噴出する処理
液の流量が均一になるように調整するために設けられて
おり、各被処理物を同状態、同条件下で処理できるよう
にしてある。
る対極支持板12A,12B 間の下部に形成され、処理槽3 内
の処理液2 が前記ポンプ10により供給されるようになっ
ており、図２に示すように、複数の処理液噴射管6 の基
端がマニホールド4 に連通連結されている。そして、前
記流量調整弁11は、各噴射管6 の先端から噴出する処理
液の流量が均一になるように調整するために設けられて
おり、各被処理物を同状態、同条件下で処理できるよう
にしてある。
【００１５】前記対極支持板12A,12B の上端部対向内側
面には、導電性材料からなる共通の対極支持部材13A,13
B が固着され、該部材13B には陰極が接続されており、
該部材13A,13B 上に各対極5 の外周に設けた鍔部5Aが載
り、該鍔5Aを対極挿通孔14Aを有する絶縁性物質からな
る取付板14により前記支持板12A,12B に取替自在に固定
するようになっている。
面には、導電性材料からなる共通の対極支持部材13A,13
B が固着され、該部材13B には陰極が接続されており、
該部材13A,13B 上に各対極5 の外周に設けた鍔部5Aが載
り、該鍔5Aを対極挿通孔14Aを有する絶縁性物質からな
る取付板14により前記支持板12A,12B に取替自在に固定
するようになっている。
【００１６】そして、前記対極5 は鉛管製でその下半分
の周面には、処理液噴射管臨入切欠部15が設けられ、該
対極5 内に前記噴射管6 の先端部6Aが上向きにかつ偏心
して臨入されている。なお、噴射管先端部6Aは一方の対
極支持板12A の貫通孔に挿入固着された噴射管6 に、前
記貫通孔内で接続し、フランジ16により対極支持板12A
の内面に取付けられている。
の周面には、処理液噴射管臨入切欠部15が設けられ、該
対極5 内に前記噴射管6 の先端部6Aが上向きにかつ偏心
して臨入されている。なお、噴射管先端部6Aは一方の対
極支持板12A の貫通孔に挿入固着された噴射管6 に、前
記貫通孔内で接続し、フランジ16により対極支持板12A
の内面に取付けられている。
【００１７】前記取付板14の上面には、各対極挿通孔14
A と同心にかつ対極5 を貫通させうる絶縁性物質からな
る撹拌手段9 の取付管17が夫々立設されており、各取付
管17に前記支持筒体7 が夫々外嵌固定されている。前記
回転羽根8 は、羽部8Aが略半円形を呈しかつ多数の処理
液通孔18を備え、そのボス部8Bがマニホールド4 の長手
方向と平行な水平軸8Cにより、支持筒体7内上端部に回
転自在に取付けられている。そして、支持筒体7 の上端
部周面には、前記噴射管6 側に水平軸8Cと直交する方向
に貫通する横長の処理液吸入開口19が設けられている。
A と同心にかつ対極5 を貫通させうる絶縁性物質からな
る撹拌手段9 の取付管17が夫々立設されており、各取付
管17に前記支持筒体7 が夫々外嵌固定されている。前記
回転羽根8 は、羽部8Aが略半円形を呈しかつ多数の処理
液通孔18を備え、そのボス部8Bがマニホールド4 の長手
方向と平行な水平軸8Cにより、支持筒体7内上端部に回
転自在に取付けられている。そして、支持筒体7 の上端
部周面には、前記噴射管6 側に水平軸8Cと直交する方向
に貫通する横長の処理液吸入開口19が設けられている。
【００１８】20は被処理物吊チャックで、前記ロータ21
の非処理部分であるベアリングハウジング部26をチャッ
キングして、凹部22が下向きになるよう吊り下げて対極
5 の直上に夫々対向させ、処理部分であるスクロール部
23の周面24およびその内底面25が、処理液2 中に浸漬さ
れ、ロータ21には陽極が接続されている。次に、上記実
施例によりロータ21の処理部分をアルマイト処理する場
合について説明する。
の非処理部分であるベアリングハウジング部26をチャッ
キングして、凹部22が下向きになるよう吊り下げて対極
5 の直上に夫々対向させ、処理部分であるスクロール部
23の周面24およびその内底面25が、処理液2 中に浸漬さ
れ、ロータ21には陽極が接続されている。次に、上記実
施例によりロータ21の処理部分をアルマイト処理する場
合について説明する。
【００１９】まず、被処理物であるロータ21は、前記チ
ャック20によりその凹部22の開口が下向きでかつ対極5
の直上に位置すると共に、凹部22の内底面25と処理液2
の界面が一致する高さに吊下げられ、処理部分のみが処
理液2 に浸漬されている。この状態で、ロータ21と対極
5 に通電すると同時に、処理液循環ポンプ10を運転開始
する。
ャック20によりその凹部22の開口が下向きでかつ対極5
の直上に位置すると共に、凹部22の内底面25と処理液2
の界面が一致する高さに吊下げられ、処理部分のみが処
理液2 に浸漬されている。この状態で、ロータ21と対極
5 に通電すると同時に、処理液循環ポンプ10を運転開始
する。
【００２０】なお、各処理液噴射管6 の先端部6Aから噴
出される処理液量は、前もって流量計を用いかつ流量調
整弁11を操作して、均一になるように調整されている。
したがって、各噴射管6 から噴出された処理液流は、撹
拌手段9 の回転羽根8 の羽部8Aに当って、回転羽根8 を
図１に矢印（イ）で示す方向に回転させ、処理液流の一
部は羽部8Aの処理液通孔18を通って流れるので、回転羽
根8 の回転が和らげられ、しかも処理液吸入開口19から
支持筒体7 外周の処理液が吸入され、処理液撹拌流量が
多くなるため、処理液の撹拌作用がロータ21の凹部22内
のガスを排出するのに最適な状態となる。
出される処理液量は、前もって流量計を用いかつ流量調
整弁11を操作して、均一になるように調整されている。
したがって、各噴射管6 から噴出された処理液流は、撹
拌手段9 の回転羽根8 の羽部8Aに当って、回転羽根8 を
図１に矢印（イ）で示す方向に回転させ、処理液流の一
部は羽部8Aの処理液通孔18を通って流れるので、回転羽
根8 の回転が和らげられ、しかも処理液吸入開口19から
支持筒体7 外周の処理液が吸入され、処理液撹拌流量が
多くなるため、処理液の撹拌作用がロータ21の凹部22内
のガスを排出するのに最適な状態となる。
【００２１】他方、通電によってロータ21 (アノード)
は酸化されて、ロータ21の処理部分に酸化皮膜が形成さ
れる。このとき、ロータ21で生じた酸素ガスがスクロー
ル部23の周面24および内底面25に付着するが、噴射手段
6 および撹拌手段9 による処理液の撹拌流によって、前
記凹部22内に付着し或いは滞留するガスを凹部22外に排
出し、凹部22内で気泡が成長するのを防止すると共に、
対極5(カソード) 側で発生したガスが凹部22内に入り込
むのを防止する。
は酸化されて、ロータ21の処理部分に酸化皮膜が形成さ
れる。このとき、ロータ21で生じた酸素ガスがスクロー
ル部23の周面24および内底面25に付着するが、噴射手段
6 および撹拌手段9 による処理液の撹拌流によって、前
記凹部22内に付着し或いは滞留するガスを凹部22外に排
出し、凹部22内で気泡が成長するのを防止すると共に、
対極5(カソード) 側で発生したガスが凹部22内に入り込
むのを防止する。
【００２２】このようにして、水素ガス等の気泡付着が
防止されることにより、ロータ21の処理部分が均等に表
面被覆処理される状態となり、均一な酸化皮膜が得られ
る。また、被処理物であるロータ21を、対極5 に対して
個々に吊下げかつ同じ状態に処理液撹拌流を生じさせる
ので、従来のように被処理物の引掛け位置による製品毎
の酸化皮膜のバラツキがなく、品質の向上を図ることが
できる。
防止されることにより、ロータ21の処理部分が均等に表
面被覆処理される状態となり、均一な酸化皮膜が得られ
る。また、被処理物であるロータ21を、対極5 に対して
個々に吊下げかつ同じ状態に処理液撹拌流を生じさせる
ので、従来のように被処理物の引掛け位置による製品毎
の酸化皮膜のバラツキがなく、品質の向上を図ることが
できる。
【００２３】さらに、上記実施例によれば、被処理物内
部に処理液が溜まらないので、被処理物の処理槽への浸
漬、支持および取り出しという一連の作業の自動化が容
易となり、被処理物取り出し時の処理液持出し量が少な
くなる。そして、被処理物のマスキング作業を不要とす
ることができ、またマスキング作業を要する場合でもマ
スキング精度が緩和され、作業性が向上する。また、多
数個の被処理物を１度に処理でき、大幅に生産性の向上
を図ることができる。
部に処理液が溜まらないので、被処理物の処理槽への浸
漬、支持および取り出しという一連の作業の自動化が容
易となり、被処理物取り出し時の処理液持出し量が少な
くなる。そして、被処理物のマスキング作業を不要とす
ることができ、またマスキング作業を要する場合でもマ
スキング精度が緩和され、作業性が向上する。また、多
数個の被処理物を１度に処理でき、大幅に生産性の向上
を図ることができる。
【００２４】本発明の上記実施例では、アルマイト処理
を行なう陽極酸化について述べたが、本発明はこれに限
定されるものではなく、メッキにも適用できる。また、
上記実施例では、対極、噴射手段および撹拌手段を一体
的に構成しているが、これらを処理槽内に夫々個別に設
けることができ、この場合、対極および噴射手段は表面
被覆処理および気泡排出を効率的に行ないうるように、
被処理物の凹部開口に対向する位置に設けるのが好まし
い。さらに、対極、噴射手段および撹拌手段は、処理槽
内に１組設け、一個の被処理物を処理する装置としうる
ことは勿論であり、この場合、マニホールド4 および流
量調整弁11を省略できる。
を行なう陽極酸化について述べたが、本発明はこれに限
定されるものではなく、メッキにも適用できる。また、
上記実施例では、対極、噴射手段および撹拌手段を一体
的に構成しているが、これらを処理槽内に夫々個別に設
けることができ、この場合、対極および噴射手段は表面
被覆処理および気泡排出を効率的に行ないうるように、
被処理物の凹部開口に対向する位置に設けるのが好まし
い。さらに、対極、噴射手段および撹拌手段は、処理槽
内に１組設け、一個の被処理物を処理する装置としうる
ことは勿論であり、この場合、マニホールド4 および流
量調整弁11を省略できる。
【００２５】
【発明の効果】本発明は、上述のように、表面被覆処理
液を貯溜する処理槽と、該槽内に被処理物の下方に位置
して設けられた被処理物を電気的に処理するための対極
と、被処理物の処理すべき部分に前記液を噴射する噴射
手段と、前記液を撹拌する撹拌手段とを備え、撹拌手段
は前記噴射手段により駆動するようにした表面被覆処理
装置であって、前記撹拌手段は回転羽根から成りかつ該
羽根の羽部に多数の孔を備えていることを特徴とするも
のであるから、処理液撹拌流が最適に処理部分に作用
し、被処理物に凹部がある場合でも、付着するガスを排
出除去して、均一な膜厚の被覆膜を処理部分全面に形成
でき、被処理物の品質向上を図ることができる。
液を貯溜する処理槽と、該槽内に被処理物の下方に位置
して設けられた被処理物を電気的に処理するための対極
と、被処理物の処理すべき部分に前記液を噴射する噴射
手段と、前記液を撹拌する撹拌手段とを備え、撹拌手段
は前記噴射手段により駆動するようにした表面被覆処理
装置であって、前記撹拌手段は回転羽根から成りかつ該
羽根の羽部に多数の孔を備えていることを特徴とするも
のであるから、処理液撹拌流が最適に処理部分に作用
し、被処理物に凹部がある場合でも、付着するガスを排
出除去して、均一な膜厚の被覆膜を処理部分全面に形成
でき、被処理物の品質向上を図ることができる。
【００２６】また、本発明は、前記回転羽根を収容しか
つ軸支する支持筒体の周壁に、回転羽根の軸と直交する
方向に貫通する処理液吸入開口を設けたことを特徴とす
るものであるから、処理液撹拌流量が多くなり、処理部
分全表面に撹拌流が到達し、付着するガスの除去および
気泡の成長防止を有効に行なうことができる。さらに、
本発明は、前記処理槽内には処理液供給循環用の噴射管
マニホールドを配設し、複数の対極を列設して夫々に前
記マニホールドに接続した噴射管の各先端部を臨入し、
各噴射管の途中に流量調整弁を設けたことを特徴とする
ものであるから、複数の各噴射手段からの処理液噴出流
量を均等にして、被処理物個々の被覆膜厚を均一にする
と共に被処理物毎の品質のバラツキをなくすことができ
る。
つ軸支する支持筒体の周壁に、回転羽根の軸と直交する
方向に貫通する処理液吸入開口を設けたことを特徴とす
るものであるから、処理液撹拌流量が多くなり、処理部
分全表面に撹拌流が到達し、付着するガスの除去および
気泡の成長防止を有効に行なうことができる。さらに、
本発明は、前記処理槽内には処理液供給循環用の噴射管
マニホールドを配設し、複数の対極を列設して夫々に前
記マニホールドに接続した噴射管の各先端部を臨入し、
各噴射管の途中に流量調整弁を設けたことを特徴とする
ものであるから、複数の各噴射手段からの処理液噴出流
量を均等にして、被処理物個々の被覆膜厚を均一にする
と共に被処理物毎の品質のバラツキをなくすことができ
る。
【図１】本発明の実施例を示す縦断側面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿う一部省略正面図である。
【図３】被処理物であるエアコンのスクロール型ロータ
を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線断
面図である。
を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線断
面図である。
１ 表面被覆処理装置 ２ 処理液 ３ 処理槽 ４ マニホールド ５ 対極 ６ 噴射管（噴射手段） ７ 支持筒体 ８ 回転羽根 8A 羽部 ９ 撹拌手段 11 流量調整弁 18 処理液通孔 19 処理液吸入開口
Claims (3)
- 【請求項１】 表面被覆処理液を貯溜する処理槽と、該
槽内に被処理物の下方に位置して設けられた被処理物を
電気的に処理するための対極と、被処理物の処理すべき
部分に前記液を噴射する噴射手段と、前記液を撹拌する
撹拌手段とを備え、撹拌手段は前記噴射手段により駆動
するようにした表面被覆処理装置であって、前記撹拌手
段は回転羽根から成りかつ該羽根の羽部に多数の孔を備
えていることを特徴とする表面被覆処理装置。 - 【請求項２】 前記回転羽根を収容しかつ軸支する支持
筒体の周壁に、回転羽根の軸と直交する方向に貫通する
処理液吸入開口を設けたことを特徴とする請求項１の表
面被覆処理装置。 - 【請求項３】 前記処理槽内には処理液供給循環用の噴
射管マニホールドを配設し、複数の対極を列設して夫々
に前記マニホールドに接続した噴射管の各先端部を臨入
し、各噴射管の途中に流量調整弁を設けたことを特徴と
する請求項１又は２の表面被覆処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11617193A JP2501760B2 (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | 表面被覆処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11617193A JP2501760B2 (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | 表面被覆処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06330397A JPH06330397A (ja) | 1994-11-29 |
| JP2501760B2 true JP2501760B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=14680555
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11617193A Expired - Lifetime JP2501760B2 (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | 表面被覆処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2501760B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5901269B2 (ja) * | 2011-12-15 | 2016-04-06 | 三菱重工業株式会社 | アルマイト処理方法 |
| US20160138181A1 (en) * | 2013-05-13 | 2016-05-19 | Jcu Corporation | Substrate plating device |
| CN114214671A (zh) * | 2021-12-08 | 2022-03-22 | 中航西安飞机工业集团股份有限公司 | 一种在电化学过程中消除零件槽腔滞留气体的方法 |
-
1993
- 1993-05-18 JP JP11617193A patent/JP2501760B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06330397A (ja) | 1994-11-29 |
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