JP2500293B2 - エッチング装置及びエッチング方法 - Google Patents
エッチング装置及びエッチング方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、とくにプリント回路な
どに有用なエッチング装置に関する。
どに有用なエッチング装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、プリント回路は高多層化、ファイ
ンライン化の傾向を強めますます高密度化している。こ
れに伴い基板上の銅箔のエッチングも高い精度が要求さ
れている。エッチング法としては化学薬剤を使用する方
法や真空下のプラズマ雰囲気を利用する方法が行なわれ
ている。
ンライン化の傾向を強めますます高密度化している。こ
れに伴い基板上の銅箔のエッチングも高い精度が要求さ
れている。エッチング法としては化学薬剤を使用する方
法や真空下のプラズマ雰囲気を利用する方法が行なわれ
ている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、化学薬剤によ
るエッチングでは、エッチング溶液による浸透、膨潤に
より想定どおりの精密さでエッチングができず、絶縁不
良を生ずるという問題がある。また、プラズマエッチン
グは、精密加工は可能だが、処理速度が遅く、効率が悪
いという問題の他に切粉を除去しにくいという問題もあ
る。本発明は、こうした実情の下に高度に精密でかつ処
理速度も格段に迅速で、しかも切粉の除去も容易なエッ
チング方法及びそのための装置を提供することを目的と
するものである。
るエッチングでは、エッチング溶液による浸透、膨潤に
より想定どおりの精密さでエッチングができず、絶縁不
良を生ずるという問題がある。また、プラズマエッチン
グは、精密加工は可能だが、処理速度が遅く、効率が悪
いという問題の他に切粉を除去しにくいという問題もあ
る。本発明は、こうした実情の下に高度に精密でかつ処
理速度も格段に迅速で、しかも切粉の除去も容易なエッ
チング方法及びそのための装置を提供することを目的と
するものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討し
た結果、コロナ放電をエッチングに利用することが有効
であることを知見し、本発明に至った。すなわち、本発
明は、（１）被加工材料の載置装置及び該被加工材料上
に微小間隔を介して配設された陽電極と陰電極とからな
るコロナ放電発生用電極対から構成される被加工材料の
エッチング装置、及び（２）被加工材料上に微小間隔を
介して陽電極と陰電極とからなる電極対を配置し、この
電極に電圧を印加し、気圧１０〜２×１０3Ｔｏｒｒ下
でコロナ放電を発生させて被加工材料をエッチングする
エッチング方法を要旨とするものである。
た結果、コロナ放電をエッチングに利用することが有効
であることを知見し、本発明に至った。すなわち、本発
明は、（１）被加工材料の載置装置及び該被加工材料上
に微小間隔を介して配設された陽電極と陰電極とからな
るコロナ放電発生用電極対から構成される被加工材料の
エッチング装置、及び（２）被加工材料上に微小間隔を
介して陽電極と陰電極とからなる電極対を配置し、この
電極に電圧を印加し、気圧１０〜２×１０3Ｔｏｒｒ下
でコロナ放電を発生させて被加工材料をエッチングする
エッチング方法を要旨とするものである。
【０００５】本発明によるエッチングは、コロナ放電を
利用するものである。この方式は従来のプラズマ放電に
よるエッチングが０．０５〜０．１Ｔｏｒｒといったか
なりの減圧状態下で行なわれているのに対して、１０〜
２×１０3Ｔｏｒｒ、好ましくは大気圧という相対的に
非常に高い圧力の下でエッチング処理が行われる点が特
徴的である。
利用するものである。この方式は従来のプラズマ放電に
よるエッチングが０．０５〜０．１Ｔｏｒｒといったか
なりの減圧状態下で行なわれているのに対して、１０〜
２×１０3Ｔｏｒｒ、好ましくは大気圧という相対的に
非常に高い圧力の下でエッチング処理が行われる点が特
徴的である。
【０００６】本発明の処理方式によるエッチング法は、
高精度であるとともにエッチング速度が格段に大きく、
生産性に優れている。その上エッチングにより発生する
切粉のイオン化などによる除去も容易であるから、これ
が異物として回路基板などの被加工材料上に残留するこ
ともない。これは、エッチング処理後の異物除去のため
の後処理工程を省略することを可能とするものでこの点
からも生産性に優れている。加えて、本発明のコロナ放
電によるエッチング面は、分極化されて活性化されてお
り、水との親和性が著しく向上し、その接触角は少なく
とも９０°以上となる。このため、その後の水洗、各種
めっき工程において微細穴、凹部にも洗浄水やめっき液
がよく浸透し、これらの穴ないし凹部内での洗浄やめっ
きが不完全となることを皆無とすることができる。
高精度であるとともにエッチング速度が格段に大きく、
生産性に優れている。その上エッチングにより発生する
切粉のイオン化などによる除去も容易であるから、これ
が異物として回路基板などの被加工材料上に残留するこ
ともない。これは、エッチング処理後の異物除去のため
の後処理工程を省略することを可能とするものでこの点
からも生産性に優れている。加えて、本発明のコロナ放
電によるエッチング面は、分極化されて活性化されてお
り、水との親和性が著しく向上し、その接触角は少なく
とも９０°以上となる。このため、その後の水洗、各種
めっき工程において微細穴、凹部にも洗浄水やめっき液
がよく浸透し、これらの穴ないし凹部内での洗浄やめっ
きが不完全となることを皆無とすることができる。
【０００７】さらに、本発明によるエッチング面は、イ
オンプレーティングによるめっき膜の密着性にも優れて
いる。これは、コロナ放電によりエッチング面がミクロ
的に粗面化されることによるものと推測される。本発明
のエッチング装置を図面により説明する。図１は、本発
明のエッチング装置の説明図である。図１中、１はコロ
ナ放電処理室、２は回路基板３を載置する載置装置で、
この載置装置は好ましくはここに載置された基板をエッ
チング位置に正確に位置決めできるように数値制御され
た移動が可能とする。４はコロナ放電発生装置でコロナ
放電発生用電極５を備えている。このコロナ放電発生装
置も、好ましくは基板のエッチング域上を移動できるよ
うにするための移動装置６を付帯する。７は銅箔、８は
樹脂などの基板材料を示す。
オンプレーティングによるめっき膜の密着性にも優れて
いる。これは、コロナ放電によりエッチング面がミクロ
的に粗面化されることによるものと推測される。本発明
のエッチング装置を図面により説明する。図１は、本発
明のエッチング装置の説明図である。図１中、１はコロ
ナ放電処理室、２は回路基板３を載置する載置装置で、
この載置装置は好ましくはここに載置された基板をエッ
チング位置に正確に位置決めできるように数値制御され
た移動が可能とする。４はコロナ放電発生装置でコロナ
放電発生用電極５を備えている。このコロナ放電発生装
置も、好ましくは基板のエッチング域上を移動できるよ
うにするための移動装置６を付帯する。７は銅箔、８は
樹脂などの基板材料を示す。
【０００８】本発明にコロナ放電発生のための電極対
は、１〜数μ径の陽電極と陰電極とから構成され、その
電極間の間隔は１〜５×１０4μ、好ましくは２〜５×
１０2μである。また、被加工材料である基板との間隔
は１〜１×１０3μ、好ましくは２〜５×１０2μであ
る。図２に示すものは電極対の例を説明するもので両極
が端部において近接するように構成されている。図３に
示すものは他の例を説明するものでリング状の陽極と、
そのリング内に配設した偏心回転軸を有する陰極とから
構成される。
は、１〜数μ径の陽電極と陰電極とから構成され、その
電極間の間隔は１〜５×１０4μ、好ましくは２〜５×
１０2μである。また、被加工材料である基板との間隔
は１〜１×１０3μ、好ましくは２〜５×１０2μであ
る。図２に示すものは電極対の例を説明するもので両極
が端部において近接するように構成されている。図３に
示すものは他の例を説明するものでリング状の陽極と、
そのリング内に配設した偏心回転軸を有する陰極とから
構成される。
【０００９】本発明に使用するコロナ放電処理雰囲気
は、空気、非酸化性ガス、反応ガス、蒸気のいずれかで
ある。例えば、被加工材料としてアルミナ基板やシリコ
ン基板のように耐熱、耐食性の良い材料を用いた基板の
場合は、例えば一般にセラミックスエッチング用として
使われるフッ化水素系ガス以外にも水酸化ナトリウムや
水酸化カリウム水を５０〜６０℃に温め、アルカリ蒸気
として使用することができる。燃えやすい紙製品の如き
基板については、Ａｒ、Ｎ2ガス雰囲気でプラズマ放電
処理すれば良い。この他、処理雰囲気は、空気、例えば
Ａｒ、Ｈｅ、Ｎ2などの非酸化性ガス、例えばＣＨ4、Ｃ
Ｃｌ4、Ｃ2Ｈ2などの反応性ガス、例えばＮａＯＨ水蒸
気などの蒸気を適宜選択して適用する。
は、空気、非酸化性ガス、反応ガス、蒸気のいずれかで
ある。例えば、被加工材料としてアルミナ基板やシリコ
ン基板のように耐熱、耐食性の良い材料を用いた基板の
場合は、例えば一般にセラミックスエッチング用として
使われるフッ化水素系ガス以外にも水酸化ナトリウムや
水酸化カリウム水を５０〜６０℃に温め、アルカリ蒸気
として使用することができる。燃えやすい紙製品の如き
基板については、Ａｒ、Ｎ2ガス雰囲気でプラズマ放電
処理すれば良い。この他、処理雰囲気は、空気、例えば
Ａｒ、Ｈｅ、Ｎ2などの非酸化性ガス、例えばＣＨ4、Ｃ
Ｃｌ4、Ｃ2Ｈ2などの反応性ガス、例えばＮａＯＨ水蒸
気などの蒸気を適宜選択して適用する。
【００１０】本発明において気圧の制御は重要で１０Ｔ
ｏｒｒ未満では、沿面放電が生じ、グロー放電となり、
目的とするコロナ放電によるエッチング効率が悪くなる
ばかりでなく、コロナ放電処理の不必要な箇所まで処理
することになってくる。又、２×１０3Ｔｏｒｒを超え
るとコロナ放電処理室の高圧化に問題が生じると共に放
電も生じ難くなる。本発明においてエッチング処理の際
電極に印加する電圧は、電極間隔と基板材質、雰囲気に
よって変わる。電極間隔は狭い時は電圧は低く、広い時
は電圧は高く、基板材質は誘電率の高いエポキシ系は電
圧は低く誘電率の低いフッ素樹脂系は電圧は高く、雰囲
気圧が低い時は電圧は低く、気圧が高い時は電圧は高目
がよく放電し易い。
ｏｒｒ未満では、沿面放電が生じ、グロー放電となり、
目的とするコロナ放電によるエッチング効率が悪くなる
ばかりでなく、コロナ放電処理の不必要な箇所まで処理
することになってくる。又、２×１０3Ｔｏｒｒを超え
るとコロナ放電処理室の高圧化に問題が生じると共に放
電も生じ難くなる。本発明においてエッチング処理の際
電極に印加する電圧は、電極間隔と基板材質、雰囲気に
よって変わる。電極間隔は狭い時は電圧は低く、広い時
は電圧は高く、基板材質は誘電率の高いエポキシ系は電
圧は低く誘電率の低いフッ素樹脂系は電圧は高く、雰囲
気圧が低い時は電圧は低く、気圧が高い時は電圧は高目
がよく放電し易い。
【００１１】本発明は、とくに回路基板のエッチングに
好適であるが、これに制限されるものではなく、精密さ
が要求される他のエッチングにも有用である。また、本
発明は特定の態様において特筆されるべき有用性を有す
る。それはフッ素系樹脂基材のエッチングに対してとく
に好適であることである。周知のようにフッ素系樹脂の
ドライエッチングにはフロンガスが専ら使用されている
が、このフロンガスの使用は環境保全の見地から国際的
に大きな制限が課されており、代替技術の開発が強く要
望されている。本発明は、こうした要望にも応えること
ができる。さらに、本発明のエッチング法によればすで
に述べたようにエッチング面が活性化されて水に対する
親和性を著しく向上することができるが、フッ素系樹脂
の場合においてこの作用効果は特に重要である。フッ素
系樹脂は撥水性を有することでよく知られており、この
樹脂面にめっきを施すにあたっては、めっき液との濡れ
性をよくするためにめっき面を予め腐食剤により粗面化
する前処理が必要となっている。この腐食剤としては現
在フッ酸系の強酸液を使用しているが、この前処理によ
っても濡れ性の向上は十分とはいえず、０．３ｍｍφの
穴には液が入り難い。しかも周囲の銅箔が著しく腐蝕す
るなど問題が多かった。これに対して本願発明のコロナ
放電方式のエッチング面は、水との親和性が大きく十分
な濡れ性を有しているので、フッ素系樹脂基材にめっき
をする場合であっても従来のような濡れ性向上のための
前処理を要せずに欠陥のないめっきを形成することがで
きる。
好適であるが、これに制限されるものではなく、精密さ
が要求される他のエッチングにも有用である。また、本
発明は特定の態様において特筆されるべき有用性を有す
る。それはフッ素系樹脂基材のエッチングに対してとく
に好適であることである。周知のようにフッ素系樹脂の
ドライエッチングにはフロンガスが専ら使用されている
が、このフロンガスの使用は環境保全の見地から国際的
に大きな制限が課されており、代替技術の開発が強く要
望されている。本発明は、こうした要望にも応えること
ができる。さらに、本発明のエッチング法によればすで
に述べたようにエッチング面が活性化されて水に対する
親和性を著しく向上することができるが、フッ素系樹脂
の場合においてこの作用効果は特に重要である。フッ素
系樹脂は撥水性を有することでよく知られており、この
樹脂面にめっきを施すにあたっては、めっき液との濡れ
性をよくするためにめっき面を予め腐食剤により粗面化
する前処理が必要となっている。この腐食剤としては現
在フッ酸系の強酸液を使用しているが、この前処理によ
っても濡れ性の向上は十分とはいえず、０．３ｍｍφの
穴には液が入り難い。しかも周囲の銅箔が著しく腐蝕す
るなど問題が多かった。これに対して本願発明のコロナ
放電方式のエッチング面は、水との親和性が大きく十分
な濡れ性を有しているので、フッ素系樹脂基材にめっき
をする場合であっても従来のような濡れ性向上のための
前処理を要せずに欠陥のないめっきを形成することがで
きる。
【００１２】
実施例１ コロナ放電処理装置内載置装置上に１ｍｍ厚みの４層銅
箔回路エポキシ樹脂基板を設置した。電極は１００μｍ
φのタングステン線で先端を図２のような形状とし、先
端は約５μｍφとした。その電極間の間隔は１０μｍと
した。このようなコロナ放電電極は数値制御により基板
表面上を４μｍ以下の間隔で移動できるようにした。エ
ッチング面が銅箔の場合はエッチング処理の際、電極に
印加する電圧Ｖpは５０Ｖ、パルス幅τon１０ｍｓとし
た。雰囲気は空気中７６０Ｔｏｒｒ下で、電極移動速度
は５ｍｍ／ｓｅｃでエッチング処理を行った。その結
果、エッチング深さは２μｍであった。
箔回路エポキシ樹脂基板を設置した。電極は１００μｍ
φのタングステン線で先端を図２のような形状とし、先
端は約５μｍφとした。その電極間の間隔は１０μｍと
した。このようなコロナ放電電極は数値制御により基板
表面上を４μｍ以下の間隔で移動できるようにした。エ
ッチング面が銅箔の場合はエッチング処理の際、電極に
印加する電圧Ｖpは５０Ｖ、パルス幅τon１０ｍｓとし
た。雰囲気は空気中７６０Ｔｏｒｒ下で、電極移動速度
は５ｍｍ／ｓｅｃでエッチング処理を行った。その結
果、エッチング深さは２μｍであった。
【００１３】実施例２ 同様に１ｍｍ厚み銅箔４層回路エポキシ基板のエポキシ
樹脂面のエッチング処理を行った。電極間の間隔は１０
ｍｍとした。コロナ放電電極は基板表面上を４μｍ以下
の間隔で移動できるようにした。エッチング処理時の印
加電圧Ｖpは６０００Ｖ、パルス幅τonは１０ｍｓとし
た。雰囲気は空気中、７６０Ｔｏｒｒ下で電極移動速度
は１．５ｍｍ／ｓｅｃで、エッチング深さは３μｍであ
った。水に対する濡れ性を調べた結果、接触角は９０°
以上あり、濡れ性は良好であった。なお、処理前は９０
°以下で球状化した。
樹脂面のエッチング処理を行った。電極間の間隔は１０
ｍｍとした。コロナ放電電極は基板表面上を４μｍ以下
の間隔で移動できるようにした。エッチング処理時の印
加電圧Ｖpは６０００Ｖ、パルス幅τonは１０ｍｓとし
た。雰囲気は空気中、７６０Ｔｏｒｒ下で電極移動速度
は１．５ｍｍ／ｓｅｃで、エッチング深さは３μｍであ
った。水に対する濡れ性を調べた結果、接触角は９０°
以上あり、濡れ性は良好であった。なお、処理前は９０
°以下で球状化した。
【００１４】実施例３ フッ素樹脂（商品名テフロン）基板についてエッチング
を行った。実施例１で使用したのと同一の電極を使用
し、電極間の間隔を３ｍｍとし、印加電圧Ｖpを４００
０Ｖ、パルス幅τon１０ｍｓとした。空気中７６０Ｔｏ
ｒｒ、電極移動速度は１ｍｍ／ｓｅｃで行った。基板面
との間隔は４μｍ以下とした。その結果、エッチング深
さは１．５μｍであって、水に対する濡れ性を調べたと
ころ接触角は９０°以上であり、濡れ性は良好で、未処
理面では水は球状となり９０°以下となって全く濡れな
かった。コロナ放電による効果は極めて大なることを示
している。
を行った。実施例１で使用したのと同一の電極を使用
し、電極間の間隔を３ｍｍとし、印加電圧Ｖpを４００
０Ｖ、パルス幅τon１０ｍｓとした。空気中７６０Ｔｏ
ｒｒ、電極移動速度は１ｍｍ／ｓｅｃで行った。基板面
との間隔は４μｍ以下とした。その結果、エッチング深
さは１．５μｍであって、水に対する濡れ性を調べたと
ころ接触角は９０°以上であり、濡れ性は良好で、未処
理面では水は球状となり９０°以下となって全く濡れな
かった。コロナ放電による効果は極めて大なることを示
している。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように、コロナ放電を利用
する本発明は精密なエッチングに好適で、その処理速度
は従来の真空プラズマ処理によるものに比べて格段に大
きく、また、エッチング面の水に対する親和性が向上す
るので、めっき工程や洗浄工程など後処理工程での処理
液との濡れ性がよく、めっきや洗浄を欠陥なく完全に行
うことができる。
する本発明は精密なエッチングに好適で、その処理速度
は従来の真空プラズマ処理によるものに比べて格段に大
きく、また、エッチング面の水に対する親和性が向上す
るので、めっき工程や洗浄工程など後処理工程での処理
液との濡れ性がよく、めっきや洗浄を欠陥なく完全に行
うことができる。
【図１】本発明のエッチング装置の説明図、
【図２】コロナ放電発生用電極対の実施例を示す説明
図、
図、
【図３】同上別の実施例を示す説明図、
２ 載置装置 ３ 回路基板 ５ コロナ放電発生用電極対 ７ 銅箔
フロントページの続き (72)発明者 嶋 好範 神奈川県川崎市麻生区王禅寺768番地15 (72)発明者 大場 章 埼玉県朝霞市浜崎１丁目９番地の３− 205 (56)参考文献 特開 昭54−47756（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−41897（ＪＰ，Ａ) 特公 平３−16757（ＪＰ，Ｂ２)
Claims (2)
- 【請求項１】 被加工材料の載置装置及び該被加工材料
上に微小間隔を介して配設された陽電極と陰電極とから
なるコロナ放電発生用電極対から構成される被加工材料
のエッチング装置。 - 【請求項２】 被加工材料上に微小間隔を介して陽電極
と陰電極とからなる電極対を配置し、この電極に電圧を
印加し、気圧１０〜２×１０3Ｔｏｒｒ下でコロナ放電
を発生させて被加工材料をエッチングすることを特徴と
するエッチング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5207728A JP2500293B2 (ja) | 1993-08-23 | 1993-08-23 | エッチング装置及びエッチング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5207728A JP2500293B2 (ja) | 1993-08-23 | 1993-08-23 | エッチング装置及びエッチング方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0762566A JPH0762566A (ja) | 1995-03-07 |
| JP2500293B2 true JP2500293B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=16544563
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5207728A Expired - Lifetime JP2500293B2 (ja) | 1993-08-23 | 1993-08-23 | エッチング装置及びエッチング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2500293B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2919293A1 (en) * | 2016-01-29 | 2017-07-29 | Alain Carel | Flexible conductive circuit |
-
1993
- 1993-08-23 JP JP5207728A patent/JP2500293B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0762566A (ja) | 1995-03-07 |
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