JP2024516094A - ガス分析器の部品のためのシーリングシステム - Google Patents

Abstract

シーリングシステムは、第１のシールと、第１のシールから間隔を置いて配置される第２のシールと、第１のシールと第２のシールとの間に規定されるシーリングチャンバとを備える。シーリングチャンバは真空源に流体接続される。動作中、シーリングチャンバは大気圧よりも低い圧力に維持される。第１のシールおよび第２のシールのうちの１つを破壊する汚染物質はシーリングチャンバ内に引き込まれ、真空源によって除去される。【選択図】図１Ａ

Description

関連出願／優先権の主張の相互参照
本出願は、２０２１年４月８日に出願された共同所有の仮特許出願第６３／１７２，３３８号に関連しており、その優先権を主張する。前記出願の全内容は参照により本明細書に組み込まれる。

本開示は、概して、真空チャンバに取り付けられる部品のためのシーリングシステムに関する。

ガス分析器システムは、様々な産業における製造プロセス中に放出されたガスをサンプリングして分析するために使用される。例えば、ガス分析器は、半導体製造プロセス中に生成されたガスを分析するために使用され得る。多くのガス分析器は、低圧または真空条件下で動作し、バルブおよびセンサの周囲に真空シールを必要とする。これらのシールは、シーリング面の欠陥、ガスケットなどのシーリング部品の欠陥、不適切な取り付け、および非金属製シールが使用されている場合のガス透過に起因して漏れが発生しやすくなる。また、機械的ストレスおよび／またはプロセス化学物質との相互作用に起因するシーリング部品の劣化の結果として時間の経過とともに漏れが発生する場合もある。注入口部品（ｉｎｌｅｔ ｃｏｍｐｏｎｅｎｔｓ）は試験されるデバイスまたはプロセスツールと接続するため、その注入口部品は特に漏れに対して脆弱である。これらの漏れは、ガス分析器によって採取されたサンプルおよび半導体製造プロセスの最終的な監視に支障を来す。

いくつかのガス分析器では、真空シールが、堅牢なシールまたは金属シール、例えばコンフラットシール（ｃｏｎｆｌａｔ ｓｅａｌｓ）を生成するように溶接され、ガス分析器に必要な真空条件を達成するために使用される。これらのタイプのシールはより高価であり、ガス分析器システムに余分な重量が追加される。

これらは、現在ガス分析器で使用されているシールシステムに関連する問題のほんの一部にすぎない。

一実施形態では、シーリングシステムは、真空チャンバへの部品の導管または接続部を囲む内側シールを備えることができる。外側シールは、内側シールの周囲に配置され、その内側シールとの間に規定される内部容積またはポンプチャンバなどの容積を備えて内側シールから間隔を置いて配置される。ポンプチャンバは、大気圧よりも顕著に低い圧力まで排気または減圧され得る。内側シールに漏れがある場合、高圧（例えば１ａｔｍ）からではなく、低圧に維持されているシール間の容積からのみガスが漏れる。これにより、システムに漏れるガスの量が何桁も減少する。その結果、通常は重大な漏れとなるはずの漏れがここで非常に小さくなり、機器の性能に影響を与えず、ガス分析器で試験される機器に悪影響を与えることはない。さらに、内側シールに漏れがあった場合、有毒ガスまたはその他の揮発性ガスの全てはポンプチャンバを介して排出され、外部環境に放出されることはない。

一実施形態では、ポンプチャンバは、二重シールされたターボ分子（ターボ）ポンプと接続されている。センサ（最も一般的には質量分析計）を保持する真空マニホールド（ｍａｎｉｆｏｌｄ）にはサンプリング接続部が取り付けられており、ポンピング容積をターボの下段に接続する加工されたチャネルを有してもよい。一実施形態では、ポンプチャンバは、真空マニホールドに一体化された１つまたは複数の真空導管を介してターボに結合され得る。別の実施形態では、ポンプチャンバは、真空マニホールドの外部にある１つまたは複数の真空導管を介してターボに結合され得る。さらに別の実施形態では、ポンプチャンバは、システムまたは真空マニホールドの外部に配置された別個の真空ポンプに結合され、これによって排気されてもよい。

一実施形態では、ガス分析器の部品のためのシーリングシステムは、内側シーリング部材と、内側シーリング部材から間隔を置いて配置される外側シーリング部材と、内側シーリング部材と外側シーリング部材との間に規定されるシーリングチャンバと、シーリングチャンバを真空源に流体接続するように構成された１つまたは複数の導管とを備える。動作中、シーリングチャンバは大気圧よりも低い圧力に維持される。内側シーリング部材および外側シーリング部材のうちの１つを破壊する汚染物質は、シーリングチャンバ内に引き込まれ、１つまたは複数の導管を介して除去される。

一実施形態では、内側シーリング部材は、ガス分析器の２つの部品の間の通路を囲む。一実施形態では、内側シーリング部材および外側シーリング部材のうちの少なくとも１つはエラストマー材料から構成される。一実施形態では、内側シーリング部材および外側シーリング部材のうちの少なくとも１つはポリマー材料から構成される。一実施形態では、外側シーリング部材は、ガス分析器の表面に規定された溝内に少なくとも部分的に配置される。さらなる実施形態では、１つまたは複数の導管はガス分析器の一部として形成される。

シーリングシステムの別の実施形態は、第１のシールと、第１のシールから間隔を置いて配置されるシールと、第１のシールと第２のシールとの間に規定されるシーリングチャンバとを備える。シーリングチャンバは真空源に流体接続され、動作中、シーリングチャンバは大気圧よりも低い圧力に維持される。第１のシールおよび第２のシールのうちの１つを破壊する汚染物質は、シーリングチャンバ内に引き込まれ、真空源によって除去される。

一実施形態では、第１のシールは、ガス分析器の２つの部品の間の通路を囲むように構成される。一実施形態では、第１のシールおよび第２のシールのうちの少なくとも１つはエラストマー材料から構成される。一実施形態では、第１のシールおよび第２のシールのうちの少なくとも１つはポリマー材料から構成される。さらなる実施形態では、第２のシールは、ガス分析器の表面に規定された溝内に少なくとも部分的に配置される。一実施形態では、シーリングチャンバは、ガス分析器の一部として形成される１つまたは複数の導管を使用して真空源に流体結合される。一実施形態では、真空源はガス分析器から離れて配置される。一実施形態では、真空源はガス分析器のためのシステム真空ポンプである。

ガス分析器の部品の間の接合部をシールする実施形態は、部品間にシーリングシステムを、第１のシールと、第１のシールから間隔を置いて配置されるシールと、第１のシールと第２のシールとの間に規定されるシーリングチャンバとを備えるように構築するステップを含む。シーリングチャンバは、動作中の場合、シーリングチャンバを大気圧よりも低い圧力に維持する真空源に流体接続される。第１のシールおよび第２のシールのうちの１つを破壊し、シーリングチャンバ内に引き込まれる汚染物質は、真空源を使用して除去される。

本明細書に開示されるシーリングシステムおよび方法は、その開示されるシーリングシステムおよび方法が、より使いやすく、より軽量で安価なエラストマーまたはポリマーシールを利用できるため、重くてより高価な金属シーリング技術（例えば、コンフラットフランジ）を置き換えるために使用することができる。このシーリングシステムはさらに、漏れに対して堅牢な超高真空シールを提供することができる。本明細書に開示されるシーリングシステムの例は、バルブおよび注入口部品に焦点を当てているが、シーリングシステムの実施形態はまた、互換性があり、ゲージ、センサなどのガス分析器の真空チャンバに取り付けられる任意の部品とともに使用することができる。

上記に簡潔に概説した本発明のより詳細な説明は、その一部が添付の図面に例示されている実施形態を参照することによって得ることができる。しかしながら、添付の図面は本発明の典型的な実施形態のみを例示しており、したがって本発明は他の同様に効果的な実施形態を許容し得るため、その範囲を限定するものとみなされないことに留意されたい。したがって、本発明の性質および目的をさらに理解するために、以下の詳細な説明を図面と併せて参照することができる。

シーリングシステムの実施形態を備えたガス分析器の一部の実施形態の概略断面図を示す。 図１Ａのシーリングシステムの実施形態の拡大図を示す。 シーリングシステムの一実施形態によってシールされているバルブの開口部の拡大概略図を示す。 シーリングシステムの別の実施形態を備えたガス分析器の一部の実施形態の概略断面図を示す。 シーリングシステムの一実施形態によってシールされているバルブの二重開口部の拡大概略図を示す。 図４Ａの実施形態のＡ－Ａに沿った概略断面図を示す。 シーリングシステムの別の実施形態を備えたガス分析器の一部の別の実施形態の概略断面図を示す。 図５のシーリングシステムの実施形態の拡大図を示す。 図６のシーリングシステムの実施形態の拡大概略断面図を示し、バルブ接続部における、およびポンプチャンバ内の空気の流れの例を示す。 図６のシーリングシステムの実施形態の拡大概略断面図を示し、バルブ接続部における、およびポンプチャンバ内の空気の流れの別の例を示す。 シーリングシステムの別の実施形態を備えたガス分析器の一部の実施形態の概略断面図を示す。 シーリングシステムの別の実施形態を備えたガス分析器の一部の実施形態の概略断面図を示す。 シーリングシステムの別の実施形態を備えたガス分析器の一部の実施形態の概略断面図を示す。 シーリングシステムの別の実施形態を備えたガス分析器の一部の実施形態の概略断面図を示す。 図１０Ａの実施形態の一部の拡大図を示す。 シーリングシステムの別の実施形態を備えたガス分析器の一部の実施形態の概略断面図を示す。 ターボ真空ポンプの一実施形態の斜視図を示す。 ターボ真空ポンプの一実施形態の上面斜視図を示す。

添付の図面は例示を目的としたものであり、必ずしも縮尺通りではない。

以下の説明は、ガス分析器に結合された部品のためのシーリングシステムの様々な実施形態に関する。本明細書に説明される変形例は、本明細書に詳述されるように、特定の発明概念を具体的に表現する例であることが理解されるであろう。そのために、他の変形例および修正は、当業者に容易に明らかになるであろう。加えて、添付の図面に関して適切な見解を提供するために、本説明の至る所で特定の用語が使用される。「上方」、「下方」、「前方」、「後方」、「内部」、「外部」、「前面」、「後面」、「上端」、「底面」、「内側」、「外側」、「第１」、「第２」などのこれらの用語は、特にそのように表示した場合を除いて、これらの概念を制限することを意図するものではない。本明細書に使用される場合、「約」、「およそ」または「実質的に」という用語は、他に述べられていない限り、特許請求された又は開示された値の８０％～１２５％の範囲を指し得る。図面に関して、それらの目的は、ガス分析器に結合された部品のためのシーリングシステムの顕著な特徴を描写することであり、特に縮尺通りに提供されるものではない。

ガス分析器１０の一部が図１Ａ～図２に示される。ガス分析器１０は概して、真空チャンバ３０を囲むハウジング４０に結合されたバルブ２０を備える。バルブ２０は、注入口２３および排出口２４を備える。１つまたは複数の内部導管２６は、注入口２３および排出口２４に流体接続され、排出口２４は真空チャンバ３０に流体接続される。図１Ａに示されるように、注入口２３は、追加の外部または補足的な注入口チャネル２２に流体結合され得る。センサ７０は、真空チャンバハウジング４０に結合され、真空チャンバ３０内のガスを検出するように構成され得る。一実施形態では、センサ７０は質量分析計であり得る。システム真空ポンプ５０は、真空マニホールド６０に囲まれており、真空チャンバ３０を所望の圧力レベルに減圧するように構成される。示されるように、シーリングシステム１００は、バルブ２０および／または監視プロセスの機能を損なう漏れを防ぐためにバルブ２０と真空チャンバ３０との間の接続をシールするために使用される。

図１Ｂおよび図２を参照すると、シーリングシステム１００は、第１のシールおよび第２のシールを備える。示されるように、シーリングシステムは、チャネルまたは導管を受け入れるかまたは囲むように構成される開口部１１９を規定する内側シール１１２または内側シーリング部材を有し、バルブ２０の注入口２３または排出口２４などのチャネルまたは導管の外周の周囲に配置される。内側容積またはシールチャンバ１１８が内側シール１１２と外側シール１１４との間に規定されるように、外側シール１１４または外側シーリング部材は、内側シール１１２の周囲で、それから離れて配置される。図１Ａ、図１Ｂ、図５～７Ｂ、図９Ａ、図１０Ａ、および図１０Ｂに示される実施形態を含むいくつかの実施形態では、外側シール１１４は、バルブ２０または真空チャンバ３０のハウジング４０に形成される溝１１６に少なくとも部分的に配置され得る。いくつかの実施形態では、外側シール１１４は、エラストマーまたはポリマー材料から構成されるＯリングであり得る。図１Ｂおよび図２に概略的に示される実施形態では、シールチャンバ１１８は、１つまたは複数の真空導管１１５を使用してシステム真空ポンプ５０に流体接続される。しかしながら、図１Ａおよび図３に示される実施形態などのいくつかの実施形態では、シールチャンバ１１８は代わりに真空チャンバ３０に流体接続され、真空チャンバ３０が減圧されると減圧される。

図３～４Ｂは、少なくとも１つの内側シール２１２またはシーリング部材と、バルブ２０または真空チャンバ３０のハウジング４０に形成される溝またはチャネルに配置されていない外側シール２１４またはシーリング部材とを備えるシーリングシステム２００の実施形態を備えたガス分析器１０Ａの一部を示す。代わりに、外側シール２１４は、バルブの接続部分、および真空チャンバ３０のハウジング４０に配置され得る。外側シール２１４は、１つもしくは複数の内側シール２１２から部品を分離し得るか、またはそれらは図４Ａに示される実施形態などの単一の部品として形成されてもよい。少なくとも１つの内側シール２１２は、バルブ２０の注入口２３または排出口２４などのチャネルまたは導管を受け入れるか、またはそうでなければ囲むように構成された開口部２１９を規定する。外側シール２１４は、バルブ２０と真空チャンバ３０のハウジング４０との間に配置される。外側シール２１４および少なくとも１つの内側シール２１２の両方は、エラストマーもしくはポリマー材料などの同じ材料から構成されてもよいか、またはそれらは、各々異なる材料から構成されてもよい。外側シールおよび内側シール、ならびに導管の実施形態の多くは、楕円形（円形など）または長円形であると示されているが、当業者はこれらの部品について他の形状が可能であることを理解するであろう。図４Ｂは、図４Ａの線Ａ－Ａに沿って示された概略断面図である。示されるように、１つまたは複数の内側シール２１２と外側シール２１４との間に規定される２つ以上の開口部２１３が、外側シール２１４と１つまたは複数の内側シール２１２との間に延びるシールチャンバ２１８を規定する。１つまたは複数の真空導管２１５は、シーリングシステム１００のようにシールチャンバ２１８を真空チャンバ３０に流体接続する。

図５～７Ｂは、図１Ａおよび図１Ｂのものと同様の外側シール３１４を備えるシーリングシステム３００を備えたガス分析器１０Ａの一部を示す。この実施形態では、外側シール３１４は、バルブ２０および／または真空チャンバ３０のハウジング４０に形成された溝またはチャネル３１６内に配置される。シールチャンバ３１８は、外側シール３１４と１つまたは複数の内側シール３１２との間に形成される。この実施形態では、シールチャンバ３１８は、真空チャンバ３０のハウジング４０と一体化されるか、またはその中に形成される真空導管３１５に流体接続される。次いで真空導管３１５は、真空チャンバハウジング４０および／またはガス分析器１０Ａの外部にある補足的な真空導管３１７に流体接続される。図５～７Ｂに示されるように、補足的な真空導管３１７は、ガス分析器１０Ａの外部にあり得る二次真空ポンプ８０に流体接続される。この二次真空ポンプ８０は、真空チャンバ３０を個別に減圧するように構成されるシステム真空５０とは別個である。したがって、シールチャンバ３１８の環境は、真空チャンバ３０の環境とは独立して制御され得る。

図７Ａおよび７Ｂは、シーリングシステム３００を通る空気流パターンの例を示す。図７Ａに複数の矢印として概略的に示される外側シール３１４における大気漏れの場合、大気漏れはポンプチャンバ３１８に入り、二次真空ポンプ８０によって真空導管３１５（および補足的な真空導管３１７）を通じて排気される。あるいは、図７Ｂに複数の矢印として概略的に示されているように、１つまたは複数の内側シール３１２に漏れが発生した場合、漏れたあらゆるガスはポンプチャンバ３１８に入り、真空導管３１５（および補足的な真空導管３１７）を通じて排気される。このように、有毒ガスまたはその他の揮発性ガスが周囲環境に漏れることはない。図８に示されるように、ガス分析器１０Ａの一部は、真空チャンバ３０のハウジング４０に対してバルブ２０をシールするシーリングシステム４００を備えて示される。この実施形態では、外側シール４１４および１つまたは複数の内側シール４１２は図３および／または図４Ｂのものと同様である。シールチャンバ４１８は、外側シール４１４と１つまたは複数の内側シール４１２との間に形成される。シールチャンバ４１８は、真空チャンバ３０のハウジング４０と一体化されるか、またはその中に形成される真空導管４１５に結合される。真空導管４１５は、真空チャンバハウジング４０および／またはガス分析器１０Ａの外部にあり得る補足的な真空導管４１７に流体接続される。図８に示されるように、補足的な真空導管４１７は、ガス分析器１０Ａから外部にあり得る二次真空ポンプ８０に流体接続される。この二次真空ポンプ８０は、真空チャンバ３０を減圧するように構成されるシステム真空ポンプ５０から分離しており、したがって、システム真空ポンプ５０とは独立して制御され得る。

図９Ａは、二次真空ポンプ８０に接続されていない図５～７Ｂのシーリングシステム３００の実施形態を備えたガス分析器１０Ｂの一部を示す。ここで、シーリングシステム３００の補足的な真空導管３１７は、真空導管３１５、したがってポンプチャンバ３１８を、真空マニホールド６０に形成される１つまたは複数のシステムチャネル６２を介してシステム真空ポンプ５０に接続する。このように、システム真空ポンプ５０は、真空チャンバ３０およびポンプチャンバ３１８を減圧または排気するために使用され得る。補足的な真空導管３１７は、システム真空ポンプ５０または図５～７Ｂのような二次真空ポンプ８０に流体接続するために使用され得るように、補足的な真空導管３１７は取り外し可能であってもよい。補足的な真空導管３１７が二次真空ポンプ８０に流体接続されると、１つまたは複数のシステムチャネル６２が塞がれ得るか、またはそうでなければ外部汚染から遮断され得る。

図９Ｂは、真空チャンバ３０のハウジング４０に対してバルブ２０をシールするシーリングシステム４００の一実施形態を備えたガス分析器１０Ｂの一部を示す。この実施形態では、１つまたは複数の内側シール４１２および外側シール４１６は、図３および／または図４Ｂのものと同様である。したがって、シールチャンバ４１８は、外側シール４１４と１つまたは複数の内側シール４１２との間に形成される。シールチャンバ４１８は、真空チャンバ３０のハウジング４０と一体化されるか、またはその中に形成される真空導管４１５に結合される。次いで真空導管４１５は、真空チャンバハウジング４０および／またはガス分析器１０Ａの外部にあり得る補足的な真空導管４１７に流体接続することができる。図８に示されるように、補足的な真空導管４１７は、ガス分析器１０Ｂから外部にあり得る二次真空ポンプ８０に流体接続される。この二次真空ポンプ８０は、真空チャンバ３０を減圧するように構成されるシステム真空ポンプ５０から分離されており、したがって、システム真空ポンプ５０とは独立して制御され得る。

図１０Ａおよび図１０Ｂに示される実施形態では、シーリングシステム５００の別の実施形態を備えたガス分析器１０Ｃの一部が示される。ここで、外側シール５１４は、図１Ａ～２で説明した外側シール１１４と同様である。外側シール５１４は、バルブ２０または真空チャンバ３０のハウジング４０の一部として形成される溝またはチャネル５１６内に少なくとも部分的に配置され得る。シーリングチャンバ５１８は、外側シール５１４と少なくとも１つの内側シール５１２との間に規定される。シーリングチャンバ５１８は、真空チャンバ３０のハウジング４０と一体化されるか、またはその中に形成される真空導管５１５に結合される。特に図１０Ａに示されるように、真空導管５１５は、システム真空ポンプ５０に結合される真空マニホールド６０の中に形成されるか、またはそれと一体化される１つまたは複数のシステム導管５６２、５６４に結合される。システム導管５６２、５６４の直径は、所望の真空特性またはガス分析器の設計に応じて変化させてもよい。例えば、真空チャンバ３０または真空チャンバハウジング４０の近くに配置されるシステム導管５６１、５６３の一部は、システム真空ポンプ５０まで延びるシステム導管５６２、５６４の残りの部分よりも大きな直径を有してもよい。したがって、ガス分析器１０Ｃのこの実施形態は、真空マニホールド６０および真空チャンバ３０のハウジング４０と一体化されるか、またはそれとともに形成される導管を介してシステム真空ポンプ５０に結合されるシーリングチャンバ５１８を備えるシーリングシステム５００を有する。

シーリングシステム６００の別の実施形態が図１１に示される。この実施形態では、外側シール６１４は、図３および図４Ａ～４Ｂで説明した外側シール２１４と同様である。外側シール６１４は、バルブ２０と真空チャンバ３０のハウジング４０との間、またはそれらの接続部（ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）に配置される。少なくとも１つの内側シール６１２は、外側シール６１４の内側に配置され、バルブ２０の注入口２３または排出口２４などのチャネルまたは導管を受け入れ、そうでなければ囲むように構成された少なくとも１つの開口部を規定する。シーリングチャンバ６１８は、外側シール６１４と少なくとも１つの内側シール６１２との間に規定される。シーリングチャンバ６１８は、真空チャンバ３０のハウジング４０と一体化されるか、またはその中に形成される真空導管６１５に流体接続される。真空導管６１５は、システム真空ポンプ５０に流体接続される真空マニホールド６０内に形成されるか、またはそれと一体化される１つまたは複数のシステム導管６６２、６６４に流体接続され得る。システム導管６６２、６６４の直径は、所望の真空特性またはガス分析器の設計に応じて変化させてもよい。例えば、真空チャンバ３０または真空チャンバハウジング４０の近くに配置されるシステム導管６６１、６６３の一部は、システム真空ポンプ５０まで延びるシステム導管６６２、６６４の残りの部分よりも大きな直径を有してもよい。したがって、ガス分析器１０Ｃのこの実施形態はまた、真空マニホールド６０および真空チャンバ３０のハウジング４０と一体化されるか、またはそれとともに形成される導管を介してシステム真空ポンプ５０に流体接続されるシーリングチャンバ６１８を備えるシーリングシステム６００を有する。

前述の説明において記載した１つまたは複数の内側シールおよび外側シールは、ゴムなどのエラストマー材料から構成され得る。ポンプチャンバは、１ａｔｍまたは７６０トルよりはるかに低いレベルまで減圧され得る。一実施形態では、ポンプチャンバ内の圧力は、１トル未満まで減圧され、１トル未満に維持され得る。別の実施形態では、ポンプチャンバ内の圧力は、０．５トル未満まで減圧され、０．５トル未満に維持され得る。シーリングシステム１００、２００、３００、４００、５００、６００の実施形態をバルブ２０に関して説明してきたが、シーリングシステムのそのような実施形態は、任意の表面実装部品をセンサ７０などのガス分析器の真空チャンバにシールするために使用される。

説明される実施形態で使用される真空ポンプは、任意の公知の真空ポンプであってもよい。一実施形態では、システム真空ポンプ５０または二次真空ポンプ８０は、ポンプチャンバ内に配置されたゲッタ材料（ｇｅｔｔｅｒ ｍａｔｅｒｉａｌ）と組み合わせて使用されてもよい。図１２Ａおよび図１２Ｂを参照して説明される別の実施形態では、システムポンプ５０は、アクチュエータに動作可能に結合され、ブレードチャンバ５３内で回転するように構成された複数のブレード５１を備えるターボポンプであってもよい。内側シール５２は、真空マニホールド６０または真空チャンバ３０のハウジング４０に対してブレードチャンバをシールするためにブレードチャンバ５３の開口部の周りに配置される。外側シール５４は、内側シール５２の外側に配置され、内側シール５２を囲む。シール５２、５４の間に規定される容積５５は、１つまたは複数のポンプ導管５６を介して１ａｔｍまたは７６０トルよりはるかに低いレベルまで減圧され得る。図１２Ａおよび図１２Ｂに示されるものなどのターボポンプがシステム真空ポンプ５０として使用される場合、１つまたは複数のポンプ導管５６が、ポンプチャンバを減圧するためにシーリングシステムのポンプチャンバに結合され得る。例えば、シーリングシステム５００、６００のシーリングチャンバ５１８、６１８、真空導管５１５、６１５、システム導管５６２、５６４、６６２、６６４およびシステム真空ポンプ５０が全てガス分析器１０Ｃのマニホールド６０またはハウジング４０内に配置されるように、１つ以上のポンプ導管５６は、内部または一体化された真空導管５１５、６１５およびシステム導管５６２、５６４、６６２、６６４を介してポンプチャンバに結合され得る。

本発明は、特定の例示的な実施形態を参照して具体的に示され、説明されてきたが、記載されている説明および図面によって支持され得る本発明の精神および範囲から逸脱することなく、詳細に様々な変更を本発明に加えることができることが当業者によって理解されるであろう。さらに、例示的な実施形態が特定の数の要素を参照して説明されている場合、例示的な実施形態は、特定の数の要素よりも少ないまたは多い要素を利用して実施できることが理解されるであろう。

Claims (20)

1. ガス分析器のためのシーリングシステムであって、
   内側シーリング部材と、
   前記内側シーリング部材から間隔を置いて配置される外側シーリング部材と、
   前記内側シーリング部材と前記外側シーリング部材との間に規定されるシーリングチャンバと、
   前記シーリングチャンバを真空源に流体接続するように構成された１つまたは複数の導管と、
   を備え、
   動作中、前記シーリングチャンバは大気圧よりも低い圧力に維持され、
   前記内側シーリング部材および前記外側シーリング部材のうちの１つを破壊する汚染物質が、前記シーリングチャンバ内に引き込まれ、前記１つまたは複数の導管を介して除去される、シーリングシステム。
2. 前記内側シーリング部材は、前記ガス分析器の２つの部品の間の通路を囲むように構成される、請求項１に記載のシーリングシステム。
3. 前記内側シーリング部材および前記外側シーリング部材のうちの少なくとも１つはエラストマー材料から構成される、請求項１に記載のシーリングシステム。
4. 前記内側シーリング部材および前記外側シーリング部材のうちの少なくとも１つはポリマー材料から構成される、請求項１に記載のシーリングシステム。
5. 前記外側シーリング部材は、前記ガス分析器の表面に規定された溝内に少なくとも部分的に配置される、請求項１に記載のシーリングシステム。
6. 前記１つまたは複数の導管は、前記ガス分析器の一部として形成される、請求項１に記載のシーリングシステム。
7. 第１のシールと、
   前記第１のシールから間隔を置いて配置される第２のシールと、
   前記第１のシールと前記第２のシールとの間に規定されるシーリングチャンバと、
   を備えるシーリングシステムであって、
   前記シーリングチャンバは真空源に流体接続され、
   動作中、前記シーリングチャンバは大気圧よりも低い圧力に維持され、
   前記第１のシールおよび前記第２のシールのうちの１つを破壊する汚染物質は、シーリングチャンバ内に引き込まれ、前記真空源によって除去される、シーリングシステム。
8. 前記第１のシールは、ガス分析器の２つの部品の間の通路を囲むように構成される、請求項７に記載のシーリングシステム。
9. 前記第１のシールおよび前記第２のシールのうちの少なくとも１つはエラストマー材料から構成される、請求項７に記載のシーリングシステム。
10. 前記第１のシールおよび前記第２のシールのうちの少なくとも１つはポリマー材料から構成される、請求項７に記載のシーリングシステム。
11. 前記第２のシールは、ガス分析器の表面に規定された溝内に少なくとも部分的に配置される、請求項７に記載のシーリングシステム。
12. 前記シーリングチャンバは、ガス分析器の一部として形成される１つまたは複数の導管を使用して前記真空源に流体結合される、請求項７に記載のシーリングシステム。
13. 前記真空源はガス分析器から離れて配置されている、請求項７に記載のシーリングシステム。
14. 前記真空源はガス分析器のためのシステム真空ポンプである、請求項７に記載のシーリングシステム。
15. ガス分析器の２つの部品の間の接合部をシールする方法であって、前記方法は、
    シーリングシステムを、
    第１のシールと、
    前記第１のシールから間隔を置いて配置される第２のシールと、
    前記第１のシールと前記第２のシールとの間に規定されるシーリングチャンバと、
    を備えるように構築するステップと、
    前記シーリングチャンバを真空源に流体接続するステップと、
    動作中の場合、前記シーリングチャンバを大気圧よりも低い圧力に維持するステップと、
    前記第１のシールおよび前記第２のシールのうちの１つを破壊し、前記真空源を使用して前記シーリングチャンバ内に引き込まれる汚染物質を除去するステップと、
    を含む、方法。
16. エラストマー材料を含むように前記第１のシールおよび前記第２のシールのうちの少なくとも１つを構築するステップをさらに含む、請求項１５に記載の方法。
17. ガス分析器の表面に規定された溝内に前記第２のシールを少なくとも部分的に配置するステップをさらに含む、請求項１５に記載の方法。
18. 前記シーリングチャンバを真空源に流体接続するステップは、ガス分析器の一部として形成される１つまたは複数の導管を含む、請求項１５に記載の方法。
19. 前記真空源はガス分析器から離れて配置されている、請求項１５に記載の方法。
20. 前記真空源はガス分析器のためのシステム真空ポンプである、請求項１５に記載の方法。

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