JP2024511023A - 半導体デバイス内の凹状特徴部を低抵抗率金属で充填する方法 - Google Patents
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Abstract
凹状特徴部を低抵抗率金属で充填する方法。本方法は、第1の層内に形成される凹状特徴部と、凹状特徴部内に露出される第2の層とを含むパターン化基板を提供することと、凹状特徴部内の第1の層の側壁上に核形成促進層を形成することと、気相堆積によって凹状特徴部内に金属層を堆積させることであって、金属層は、第2の層上及び核形成促進層上に堆積される、堆積させることとを含む。初期金属層は、核形成促進層を形成する前に、凹状特徴部内の第2の層上に選択的に形成され得る。
Description
関連出願の相互参照
本願は、2021年3月16日に出願された米国仮特許出願第63/161,909号明細書に対する優先権及びその出願日の利益を主張するものであり、その出願の全体が参照により本明細書に組み込まれる。
本願は、2021年3月16日に出願された米国仮特許出願第63/161,909号明細書に対する優先権及びその出願日の利益を主張するものであり、その出願の全体が参照により本明細書に組み込まれる。
本発明は、半導体処理及び半導体デバイスに関し、より具体的には、半導体デバイス内の凹状特徴部を低抵抗率金属で充填する方法に関する。
半導体デバイスは、層間誘電体(ILD)などの誘電体材料内に形成されたトレンチ及びビアを含む充填された凹状特徴部を含む。金属化学気相堆積法(CVD)中、誘電体材料上の金属核形成は、通常、不十分である。この問題は、金属CVD前に凹状特徴部内に1~1.5nmの厚さを有するTiN又はTaNなどのライナを堆積させることによって対処することができる。ライナは、良好な核形成表面及び金属への良好な接着性を提供するが、ライナの存在は、凹状特徴部に堆積され得る金属の量を減少させ、結果として凹状特徴部の底部における高電気抵抗層も生じる。したがって、ライナの厚さを更に薄くするか、又はライナの使用を必要としない、凹状特徴部のボイドのない金属充填のための新しい方法が必要とされている。
本発明の実施形態は、半導体デバイスの凹状特徴部を低抵抗率金属で充填する方法を記載する。一実施形態によれば、本方法は、第1の層内に形成される凹状特徴部と、凹状特徴部内に露出される第2の層とを含むパターン化基板を提供することと、凹状特徴部内の第1の層の側壁上に核形成促進層を形成することと、気相堆積によって凹状特徴部内に金属層を堆積させることであって、金属層は、第2の層上及び核形成促進層上に堆積される、堆積させることとを含む。
別の実施形態によれば、本方法は、第1の層内に形成される凹状特徴部と、凹状特徴部内に露出される第2の層とを含むパターン化基板を提供することと、凹状特徴部内の第2の層上に初期金属層を選択的に形成することと、その後、凹状特徴部内の第1の層の側壁上に核形成促進層を形成することと、気相堆積によって凹状特徴部内に金属層を堆積させることであって、金属層は、初期金属層上及び核形成促進層上に堆積される、堆積させることとを含む。
別の実施形態によれば、本方法は、誘電体材料内に形成される凹状特徴部と、凹状特徴部内に露出される第2の層とを含むパターン化基板を提供することと、誘電体材料上及び第2の層上にコンタクト金属を堆積させることであって、コンタクト金属は、反応して誘電体材料上に金属酸化物層を形成する、堆積させることと、凹状特徴部内の誘電体材料の側壁から金属酸化物層を除去することと、側壁上に核形成促進層を形成することと、気相堆積によって凹状特徴部内に金属層を堆積させることであって、金属層は、コンタクト金属上及び核形成促進層上に堆積される、堆積させることとを含む。
添付の図面と併せて考慮されると、以下の詳細な説明を参照することによって本発明がよりよく理解されるため、本発明及びその付随する利点の多くについてより詳細な理解が容易に得られる。
本発明の実施形態は、半導体デバイスの凹状特徴部に低抵抗率金属を堆積させる方法を説明する。凹状特徴部は、半導体デバイスに見られる単純及び複雑な特徴部、例えばビア、トレンチ及びそれらの組み合わせを含み得る。本方法は、金属充填中にボイドを形成することなく充填することが困難な微細凹状特徴部の良好なボイドフリーの金属充填を提供する。本方法を使用して、凹状特徴部を低抵抗率金属で部分的又は完全に充填することができる。堆積した低抵抗率金属は、例えば、Ru金属、Co金属、W金属又はそれらの組み合わせを含み得る。しかし、他の金属も使用され得る。
図1A~図1Dは、本発明の実施形態による、凹状特徴部における金属形成の方法を概略的に示す。パターン化基板1は、第1の層100内に形成された凹状特徴部110(例えば、ビアホール)の周囲のフィールド領域101を含む。一例では、凹状特徴部110は、上に重なるパターン化マスク(図示せず)を使用する異方性ドライエッチングによって形成することができる。凹状特徴部110は、側壁103と、凹状特徴部110の底部における露出面104を有する第2の層102とを含む。パターン化基板1は、エッチストップ層109を更に含む。
一実施形態によれば、第1の層100は、誘電体材料を含み、及び第2の層102は、金属層を含む。誘電体材料は、例えば、SiO2、SiN、SiCO、SiCN、フッ素化シリコンガラス(FSG)などの低誘電率(low-k)材料、炭素ドープ酸化物、ポリマー、SiCOH含有low-k材料、非多孔質low-k材料、多孔質low-k材料、CVD low-k材料、スピンオン誘電体(SOD)low-k材料又は高誘電率(high-k)材料を含む任意の他の適切な誘電体材料を含有し得る。いくつかの例では、凹状特徴部110の幅(限界寸法(CD))は、約10nm~約100nm、約10nm~約20nm、約20nm~約90又は約40nm~約80nmであり得る。いくつかの例では、凹状特徴部110の深さは、約40nm~約200nm又は約50nm~約150nmであり得る。しかし、本方法は、より小さいか又はより大きいCDを有する凹状特徴部のボイドフリー金属充填にも使用され得る。いくつかの例では、凹状特徴部110は、約2~約20又は約4~約6のアスペクト比(深さ/幅)を有し得る。第2の層102は、Cu金属、Ru金属、Co金属、W金属又はそれらの組み合わせなどの低抵抗率金属を含み得る。一例では、第2の層102は、2つ以上の積み重ねられた金属層を含み得る。積み重ねられた金属層の例は、Cu金属上のCo金属(Co/Cu)及びCu金属上のRu金属(Ru/Cu)を含む。一例では、第1の層100は、SiO2を含有し、及び第2の層102は、半導体デバイスのミドルオブライン(MOL)領域に一般的に見られる構造であるW金属層を含む。
一実施形態によれば、本方法は、パターン化基板1をH2含有ガスに曝露して、第2の層102の露出面104を化学的に還元し、凹状特徴部110から任意の残存するエッチング残留物を除去する洗浄ステップを更に含む。例えば、H2含有ガスは、H2ガスからなり得るか、又はH2ガス及びArガスを含有し得る。洗浄ステップは、H2含有ガスのプラズマ励起の有無に関わらずに実施され得る。一例では、洗浄ステップは、約250℃~約400℃の基板温度、約250mTorr~約7Torrのガス圧力で約30秒~約60秒の期間にわたり、パターン化基板1をH2ガス及びArガスに曝露することを含む。いくつかの例では、第2の層102は、Cu金属又はW金属を含有し、洗浄ステップは、CuOx又はWOx表面種を対応する元素金属に化学的に還元し、それにより最終デバイスにおける電気抵抗を低減する。
本方法は、パターン化基板1上に核形成促進層を形成することを更に含む。核形成促進層は、第1の層100の側壁103及びフィールド領域101上の、そうでなければ不十分な成長表面を、気相堆積による後続の金属堆積のための良好な成長表面に変換する。これは、金属堆積が核形成促進層上及び凹状特徴部110内の第2の層102上の両方で効果的に進行するという効果を有する。これは、凹状特徴部110のボイドフリーの金属充填を可能にする。核形成促進層は、TiN及びTaNの従来の堆積ライナよりも薄く、したがって、凹状特徴部内に堆積させることができる金属の量は、核形成促進層を使用する場合の方が多い。更に、ライナが存在しないことにより、凹状特徴部110の底部における高電気抵抗層の形成が回避される。
一実施形態によれば、核形成促進層は、最初に核形成阻止層を形成し、その後、核形成阻止層を核形成促進層に変換することによって形成される。核形成促進層を形成することは、第1の層100の側壁103上及びフィールド領域101上に核形成阻止層120を形成する反応ガスでパターン化基板1を処理することを含み得る。これは、図1Bに概略的に示されている。反応ガスは、第1の層100上への金属の堆積を妨げる特性を有する表面改質剤を含有するが、第2の層102は、改質されない。
一実施形態によれば、反応ガスは、基板上に自己組織化単分子膜(SAM)を形成することができる分子を含有する。SAMは、吸着により基板表面上に自発的に形成されて、多少大きい秩序ドメインに組織化された分子集合体である。SAMは、先端基、テール基及び官能性末端基を有する分子を含み得、SAMは、室温又は室温超で気相から基板上に先端基を化学吸着させ、その後、テール基をゆっくりと組織化させることによって生成される。最初に、表面上の分子密度が小さいとき、吸着質分子は、無秩序な分子の塊を形成するか、又は秩序化された2次元の「横たわる相」を形成するかのいずれかであり、分子による被覆範囲が広くなると、数分~数時間にわたって基板表面上に3次元の結晶構造体又は半結晶構造体を形成し始める。先端基は、基板上に集合する一方、末端基は、基板から離れて集合する。一実施形態によれば、SAMを形成する分子の先端基としては、チオール、シラン又はホスホネートが挙げられ得る。シランの例は、C、H、Cl、F及びSi原子又はC、H、Cl及びSi原子を含む分子を含む。分子の非限定的な例は、パーフルオロデシルトリクロロシラン(CF3(CF2)7CH2CH2SiCl3)、パーフルオロデカンチオール(CF3(CF2)7CH2CH2SH)、クロロデシルジメチルシラン(CH3(CH2)8CH2Si(CH3)2Cl)及びtert-ブチル(クロロ)ジメチルシラン((CH3)3CSi(CH3)2Cl))を含む。
本発明のいくつかの実施形態によれば、反応ガスは、アルキルアミンシラン、アルキルシラン、アルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン、アルキルシロキサン、アルコキシシロキサン、アルキルアルコキシシロキサン、アリールシラン、アシルシラン、アリールシロキサン、アシルシロキサン、シラザン又はそれらの任意の組み合わせを含むケイ素含有ガスを含有し得る。本発明のいくつかの実施形態によれば、反応ガスは、ジメチルシランジメチルアミン(DMSDMA)、トリメチルシランジメチルアミン(TMSDMA)、ビス(ジメチルアミノ)ジメチルシラン(BDMADMS)及び他のアルキルアミンシランから選択され得る。他の実施形態によれば、反応ガスは、N,Oビストリメチルシリルトリフルオロアセトアミド(BSTFA)及びトリメチルシリルピロール(TMS-ピロール)から選択され得る。
本発明のいくつかの実施形態によれば、反応ガスは、シラザン化合物を含有し得る。シラザンは、飽和シリコン-窒素水素化物である。それらは、構造が--O--の代わりに--NH-を有するシロキサンに類似している。有機シラザン前駆体は、Si原子に結合した少なくとも1つのアルキル基を更に含有し得る。アルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基若しくはブチル基又はそれらの組み合わせであり得る。更に、アルキル基は、フェニル基などの環状炭化水素基であり得る。加えて、アルキル基は、ビニル基であり得る。ジシラザンは、ケイ素原子に結合した1~6個のメチル基若しくはケイ素原子に結合した1~6個のエチル基を有する化合物又はケイ素原子に結合したメチル基とエチル基との組み合わせを有するジシラザン分子である。ジシラザンの例は、ヘキサメチルジシラザン(HMDS)及びトリメチルジシラザン(TMDS)を含む。
一例では、第1の層100は、SiO2層を含み、TMSDMAを含有する反応ガスは、SiO2層上の親水性ヒドロキシル基(-OH)と反応して、疎水性-SiMe3基を含有する核形成阻止層120をSiO2層上に形成する。
本方法は、核形成阻止層120を改質するプラズマ励起H2ガスでパターン化基板1を処理することを更に含む。一例では、H2ガスは、Arガスを更に含み得る。SiO2層上の-SiMe3基の場合、プラズマ励起H2ガスへの曝露は、Me基の1つ以上を除去し、それにより-SiMex基(x<3)の近傍又はそこに新しい吸着部位を作成すると推測される。
その後、本方法は、改質された核形成阻止層にヒドロキシル基(-OH)を添加するH2O蒸気でパターン化基板1を処理することを更に含む。これにより、図1Cに概略的に示す核形成促進層122が形成される。一例では、H2O蒸気曝露は、約160℃の基板温度で実施され得る。SiO2層上の-SiMex基の場合、H2O蒸気への曝露は、SiO2層上に-SiCOH又は-SiCOOH表面種を形成すると考えられる。
H2O蒸気曝露後、H*ラジカル洗浄ステップを任意選択で実施して、パターン化基板1及びプロセスチャンバから残留H2Oを除去し得る。一例では、洗浄ステップは、約400℃の基板温度で実施され得る。
図1B及び図1Cを再び参照すると、別の実施形態によれば、核形成促進層122は、凹状特徴部110内の第1の層100の側壁103を改質するプラズマ励起窒素含有ガスで核形成阻止層120を処理することによって形成され得る。窒素含有ガスの非限定的な例は、NH3ガス、N2ガス又はN2ガス及びH2ガスを含む。窒素含有ガスは、Arなどの化学的に不活性なガスを更に含み得る。
核形成促進層122を形成した後、本方法は、気相堆積によって凹状特徴部110内に金属層106を堆積させることを更に含み、金属層106は、第2の層102上及び核形成促進層122上に堆積される。一実施形態によれば、図1Dに概略的に示すように、凹状特徴部110は、金属層106によってボイドなしに完全に充填され得る。一例では、フィールド領域101上の金属被覆層は、エッチング又は化学機械研磨(CMP)によって除去され得る。
金属層106は、例えば、Ru金属、Co金属及びW金属からなる群から選択することができる。本発明の一実施形態によれば、Ru金属は、CVD又は原子層堆積物(ALD)によって堆積され得る。Ru含有前駆体の例は、トリルテニウムドデカカルボニル(Ru3(CO)12)、(2,4-ジメチルペンタジエニル)(エチルシクロペンタジエニル)ルテニウム(Ru(DMPD)(EtCp))、ビス(2,4-ジメチルペンタジエニル)ルテニウム(Ru(DMPD)2)、4-ジメチルペンタジエニル)(メチルシクロペンタジエニル)ルテニウム(Ru(DMPD)(MeCp))及びビス(エチルシクロペンタジエニル)ルテニウム(Ru(EtCp)2)並びにこれらと他のRu前駆体との組み合わせを含む。
一例では、Ru金属は、約120℃~約250℃の基板温度、約5mTorr~約500mTorrのガス圧及び約100秒~約1000秒のガス曝露時間でCOキャリアガス中のRu3(CO)12前駆体を使用してCVDによって堆積され得る。
図5は、本発明の一実施形態による凹状特徴部のRu金属充填のTEM画像を示す。凹状特徴部は、誘電体材料500内に形成され、金属層502の上方の頂部付近で約24.7nmの幅を有し、底部付近で約11.5nmの幅を有していた。TMSDMAを含有する反応ガスを使用して、側壁上及びフィールド領域上に核形成阻止層を形成し、核形成阻止層をプラズマ励起H2ガスに曝露し、続いてH2O蒸気に曝露することにより、核形成促進層を形成した。Ru金属506は、約155℃の基板温度、約20mTorrのガス圧及び約600秒のガス曝露時間でCOキャリアガス中のRu3(CO)12前駆体を使用してCVDによって堆積された。
図2A~図2Eは、本発明の実施形態による、凹状特徴部における金属形成の方法を概略的に示す。図1Bからのパターン化基板1は、図2Aにおいてパターン化基板2として再現されている。パターン化基板2は、第1の層100の側壁103上及びフィールド領域101上に核形成阻止層120を含む。
本方法は、初期金属層106aを気相堆積によってパターン化基板2上に堆積させることを含み、初期金属層106aは、凹状特徴部110内の第2の層102上に優先的に堆積され、初期金属層106aは、凹状特徴部110を完全には充填しない。図2Bに概略的に示すように、金属堆積は、第2の層102に対して完全に選択的でなくてもよく、金属核107aは、側壁103及びフィールド領域101上に堆積され得る。金属核107aの堆積は、側壁103上及びフィールド領域101上に適切な核形成サイトがないため、第2の層102上と比較して時間的に遅延する。初期金属層106aと異なり、金属核107aは、金属核107a内の堆積金属の総量が初期金属層106a内の金属の量よりも少ない非連続層を形成することができる。一実施形態によれば、金属核107aが側壁103上及びフィールド領域101上に形成される前に金属堆積を停止し得る。
方法は、パターン化基板2から金属核107aを除去して、凹状特徴部110内の第2の層102上に初期金属層106aを選択的に形成することを更に含む。これは、図2Cに概略的に示されている。金属核107aが大きくなりすぎて、効率的に除去することがより困難になる前に、金属堆積を中断し、金属核107aの除去を実行することが好ましい場合がある。一例では、Ru金属核107aを、オゾン(O3)とキャリアガスとを含有するエッチングガスを用いるエッチングにより除去した。O3を含有するエッチングガスに曝露した後のパターン化基板2の分析では、第1の層100の誘電体材料にほとんど又は全く損傷が見られなかった。O3を含有するエッチングガスは、パターン化基板2を含むプロセスチャンバ内でのプラズマ励起によって生成され得るか、又はO3を含有するエッチングガスは、オゾン発生器を使用して遠隔で生成され得、O3は、パターン化基板2に曝露されるプロセスチャンバ内に流され得る。
その後、金属核107aを除去するためのエッチングガスへの曝露に続いて、初期金属層106aの露出面を化学的に還元するために、パターン化基板2をH2含有ガスに曝露することを含む熱処理ステップが実施され得る。例えば、H2含有ガスは、H2ガスからなり得るか、又はH2ガス及びArガスを含有し得る。任意選択の熱処理ステップは、H2含有ガスのプラズマ励起の有無に関わらずに実施され得る。一例では、熱処理は、約300℃~約350℃の基板温度、約250mTorr~約7Torrのガス圧で約30秒~約60秒の期間にわたり、パターン化基板2をH2ガス及びArガスに曝露することを含む。一例では、初期金属層106aは、Ru金属を含有し、任意選択の第2の熱処理ステップは、任意のRuOx表面種を対応するRu元素金属に化学的に還元する。
一実施形態によれば、初期金属層106a及び金属核107を堆積させるステップと、金属核107aを除去するステップとを少なくとも1回繰り返して、凹状特徴部110内の初期金属層106aの厚さを増加させ得る。
本方法は、凹状特徴部110内の初期金属層106aの上方の側壁103上の核形成阻止層120を改質するプラズマ励起H2ガスでパターン化基板2を処理することを更に含む。一例では、H2ガスは、Arガスを更に含み得る。その後、本方法は、改質された核形成阻止層にヒドロキシル基(-OH)を添加するH2O蒸気でパターン化基板2を処理することを更に含む。これにより、凹状特徴部110内の初期金属層106aの上方に核形成促進層122が形成される。これは、図2Dに概略的に示されている。SiO2層上の-SiMex基の場合、H2O蒸気への曝露は、SiO2層上に-SiCOH又は-SiCOOH種を形成すると考えられる。
H2O蒸気曝露後、H*ラジカル洗浄ステップを実施して、パターン化基板2及びプロセスチャンバから残留H2Oを除去し得る。一例では、洗浄ステップは、約400℃の基板温度で実施され得る。
本方法は、気相堆積によって凹状特徴部110内に金属層106bを堆積させることを更に含み、金属層106bは、初期金属層106a上及び側壁103上の核形成促進層122上に堆積される。図2Eに示す一実施形態によれば、凹状特徴部110は、金属層106a及び106bによって完全に充填され得る。一例では、金属被覆層は、エッチング又はCMPによって除去され得る。
図2A~2Eに記載する方法は、図1A~1Dに記載する方法よりも狭い高アスペクト比の凹状特徴部の改善されたボイドレス金属充填を提供する可能性がある。これは、凹状特徴部110の体積の一部が金属層106aにより既に充填された後、図2Dの核形成促進層122が側壁表面103上に形成され、それにより必要とされる追加の金属の量を低減し、凹状特徴部110を完全に充填する場合のボイドの可能性を低減するという事実によるものである。
図3A~3Fは、本発明の別の実施形態による、凹状特徴部における金属形成の方法を概略的に示す。パターン化基板3は、図1Aのパターン化基板1と同様であるが、第1の層300に形成される凹状特徴部310(例えば、ビア)及び312(例えば、トレンチ)を含む凹状特徴部314の周囲にフィールド領域301を含むデュアルダマシン構造を含む。凹状特徴部312は、側壁303及び底部313を含み、凹状特徴部310は、側壁305及び露出面304を有する第2の層302を含む。パターン化基板3は、エッチストップ層309を更に含む。一例では、第1の層300は、low-k材料を含有し、及び第2の層302は、Cu金属層を含む。この構造は、一般に、半導体デバイスのバックエンドオブライン(BEOL)領域に見られる。
本方法は、パターン化基板3をH2含有ガスに曝露して、第2の層302の露出面304を化学的に還元することを含む洗浄ステップを更に含み得る。例えば、H2含有ガスは、H2ガスからなり得るか、又はH2ガス及びArガスを含有し得る。洗浄ステップは、H2含有ガスのプラズマ励起の有無に関わらずに実施され得る。一例では、洗浄することは、約250℃~約400℃の基板温度、約250mTorr~約7Torrのガス圧力で約30秒~約60秒の期間にわたり、パターン化基板3をH2ガス及びArガスに曝露することを含む。いくつかの例では、第2の層302は、Cu金属又はW金属を含有し、洗浄ステップは、CuOx又はWOx表面種を対応する元素金属に化学的に還元し、結果として最終デバイスにおける電気抵抗を低減する。
本方法は、第1の層300の側壁303及び305、底部313並びにフィールド領域301上に核形成阻止層320を形成する反応ガスでパターン化基板3を処理することを更に含む。これは、図3Bに概略的に示されている。核形成阻止層の形成は、図1Bを参照して上で説明している。
本方法は、気相堆積によってパターン化基板3上に初期金属層306aを堆積することを更に含み、初期金属層306aは、凹状特徴部310内の第2の層302上に優先的に堆積される。図3Cに概略的に示すように、金属堆積は、完全に選択的でなくてもよく、金属核307aは、側壁303及び305、底部313並びにフィールド領域301上に堆積され得る。初期金属層306aと異なり、金属核307aは、金属核307a内の金属の総量が初期金属層306a内の金属の量よりも少ない非連続層を形成することができる。
方法は、パターン化基板3から金属核307aを除去して、凹状特徴部310内の第2の層302上に初期金属層306aを選択的に形成することを更に含む。これは、図3Dに概略的に示されている。金属核307aが大きくなりすぎて、効率的に除去することがより困難になる前に、金属堆積を中断し、金属核307aの除去を実行することが好ましい場合がある。一例では、Ru金属核307aを、オゾン(O3)とキャリアガスとを含有するエッチングガスを用いるエッチングにより除去した。O3を含有するエッチングガスは、パターン化基板3を含むプロセスチャンバ内でのプラズマ励起によって生成され得るか、又はO3を含有するエッチングガスは、オゾン発生器を使用して遠隔で生成され得、パターン化基板3に曝露されるプロセスチャンバ内に流され得る。
その後、金属核307aを移動させるためのエッチングガスへの曝露に続いて、初期金属層306aの露出面を化学的に還元するために、パターン化基板3をH2含有ガスに曝露することを含む熱処理ステップが実施され得る。例えば、H2含有ガスは、H2ガスからなり得るか、又はH2ガス及びArガスを含有し得る。任意選択の熱処理ステップは、H2含有ガスのプラズマ励起の有無に関わらずに実施され得る。一例では、洗浄することは、約300℃~約350℃の基板温度、約250mTorr~約7Torrのガス圧力で約30秒~約60秒の期間にわたり、パターン化基板3をH2ガス及びArガスに曝露することを含む。一例では、初期金属層306aは、Ru金属を含有し、任意選択の第2の熱処理ステップは、任意のRuOx表面種を対応するRu元素金属に化学的に還元する。
一実施形態によれば、金属層を堆積させるステップと、金属核を除去するステップとを少なくとも1回繰り返して、凹状特徴部310内の初期金属層306aの厚さを増加させ得る。一例では、金属層を堆積させるステップ及び金属核を除去するステップは、凹状特徴部310が完全に充填されるまで繰り返され得る。
本方法は、凹状特徴部110内の初期金属層306aの上方の側壁305上、凹状特徴部312内の側壁303上及び底部313上並びにフィールド領域301上の核形成阻止層320を改質するプラズマ励起H2ガスでパターン化基板3を処理することを更に含む。その後、本方法は、改質された核形成阻止層にヒドロキシル基(-OH)を添加するH2O蒸気でパターン化基板3を処理することを更に含む。これにより、図3Eに概略的に示すように、初期金属層306aの上方に核形成促進層322が形成される。SiO2層上の-SiMex基の場合、H2O蒸気への曝露は、-SiCOH又は-SiCOOH種を形成すると考えられる。
H2O蒸気曝露後、H*ラジカル洗浄ステップを実施して、パターン化基板3及びプロセスチャンバから残留H2Oを除去し得る。一例では、洗浄ステップは、約400℃の基板温度で実施され得る。
本方法は、気相堆積によって凹状特徴部310内に金属層306bを堆積させることを更に含み、金属層306bは、初期金属層306a上及び核形成促進層322上に堆積される。図3Fに示す一実施形態によれば、凹状特徴部310及び312は、金属層306a及び306bによって完全に充填され得る。一例では、金属被覆層は、エッチング又はCMPによって除去され得る。
図4A~4Fは、本発明の別の実施形態による、凹状特徴部における金属形成の方法を概略的に示す。図4Aでは、パターン化基板4は、第1の層400内に形成される凹状特徴部410の周囲のフィールド領域401を含む。凹状特徴部410は、側壁403と、凹状特徴部410の底部における第2の層402とを含む。第2の層402は、その上に酸化物層415を含む。一例では、第1の層300は、low-k材料を含有し、第2の層402は、エピタキシャルSi又はSiGe層を含み、酸化物層415は、SiOx又はSiGeOxを含む。
本方法は、酸化物層415を除去する化学的酸化物除去(COR)を実行することを含む洗浄ステップを含む。酸化物の除去により、図4Bに概略的に示すように、第2の層402上に清浄面404が形成される。一例では、CORは、NH3及びHFのガス曝露と、それに続くパターン化基板4から揮発性反応副生成物を除去する熱処理とを含む。
本方法は、パターン化基板4上にコンタクト金属をコンフォーマルに堆積させることを更に含む。例えば、コンタクト金属は、チタン(Ti)金属又はコバルト(Co)金属を含むことができる。Ti金属の例では、Ti金属は、第1の層400の表面上の酸素と反応して、側壁403上及びフィールド領域401上にTiOx層423を形成するが、Ti金属層425は、清浄面404上に堆積する。これは、図4Cに概略的に示されている。一例では、Ti金属層は、プラズマCVDによって堆積され得る。
その後、本方法は、ドライエッチングプロセスによって側壁403及びフィールド領域401からTiOx層423を選択的に除去することを更に含む。これは、図4Dに概略的に示されている。
その後、側壁403及びフィールド領域401を改質するプラズマ励起窒素含有ガスでパターン化基板4を処理することによって核形成促進層427が形成される。窒素含有ガスの非限定的な例は、NH3ガス、N2ガス又はN2ガス及びH2ガスを含む。窒素含有ガスは、Arなどの化学的に不活性なガスを更に含み得る。
別の実施形態によれば、核形成促進層427は、図1Cの核形成促進層122を参照して上で説明したように形成され得る。
本方法は、気相堆積によって凹状特徴部410内に金属層406を堆積させることを更に含み、金属層406は、Ti金属層425上及び核形成促進層427上に堆積される。一実施形態によれば、図4Fに概略的に示すように、凹状特徴部410は、金属層406によってボイドなしに完全に充填され得る。一例では、金属被覆層は、エッチング又はCMPによって除去され得る。
半導体デバイスの凹状特徴部を低抵抗率の金属で充填する方法が様々な実施形態で開示されてきた。本発明の実施形態の上記の説明は、例示及び解説のために提示されている。この説明は、網羅的であること又は開示されているまさにその形態に本発明を限定することを意図するものではない。本明細書及び以下の特許請求の範囲は、説明目的でのみ使用され、限定するものとして解釈されるべきではない用語を含む。関連する技術分野の当業者であれば、上記の教示に照らして多くの修正形態及び変形形態が可能であることを理解し得る。当業者は、図面に示されている様々な構成要素の様々な均等な組み合わせ及び置換形態を認識するであろう。したがって、本発明の範囲は、この詳細な説明によってではなく、むしろ本明細書に添付された特許請求の範囲によって限定されることを意図する。
Claims (25)
- 半導体デバイスを形成する方法であって、
第1の層内に形成される凹状特徴部と、前記凹状特徴部内に露出される第2の層とを含むパターン化基板を提供することと、
前記凹状特徴部内の前記第1の層の側壁上に核形成促進層を形成することと、
気相堆積によって前記凹状特徴部内に金属層を堆積させることであって、前記金属層は、 前記第2の層上及び前記核形成促進層上に堆積される、堆積させることと
を含む方法。 - 前記核形成促進層を形成することは、
前記パターン化基板を、前記側壁上に核形成阻止層を形成する反応ガスに曝露することと、
前記核形成阻止層を改質するプラズマ励起H2ガスで前記パターン化基板を処理することと、
前記パターン化基板を、前記改質された核形成阻止層にヒドロキシル基を添加するH2O蒸気に曝露することと
を含む、請求項1に記載の方法。 - 前記核形成阻止層は、自己組織化単分子膜(SAM)を含む、請求項2に記載の方法。
- 前記反応ガスは、アルキルアミンシラン、アルキルシラン、アルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン、アルキルシロキサン、アルコキシシロキサン、アルキルアルコキシシロキサン、アリールシラン、アシルシラン、アリールシロキサン、アシルシロキサン、シラザン又はそれらの組み合わせを含有する、請求項2に記載の方法。
- 前記核形成促進層を形成することは、
前記パターン化基板を、前記側壁上に核形成阻止層を形成する反応ガスに曝露することと、
前記パターン化基板を、前記核形成阻止層を改質するプラズマ励起窒素含有ガスに曝露することと
を含む、請求項1に記載の方法。 - 前記反応ガスは、アルキルアミンシラン、アルキルシラン、アルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン、アルキルシロキサン、アルコキシシロキサン、アルキルアルコキシシロキサン、アリールシラン、アシルシラン、アリールシロキサン、アシルシロキサン、シラザン又はそれらの組み合わせを含有する、請求項5に記載の方法。
- 前記第1の層は、誘電体材料を含み、及び前記第2の層は、金属を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記凹状特徴部は、ビアホールと、前記ビアホールの上方のトレンチとを含み、前記金属層は、前記ビアホールの全体未満を充填する、請求項1に記載の方法。
- 前記第2の層は、Ru金属、Co金属及びW金属からなる群から選択され、及び前記金属層は、Cu金属、Ru金属、Co金属、W金属及びそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項1に記載の方法。
- 半導体デバイスを形成する方法であって、
第1の層内に形成される凹状特徴部と、前記凹状特徴部内に露出される第2の層とを含むパターン化基板を提供することと、
前記凹状特徴部内の前記第2の層上に初期金属層を選択的に形成することと、
その後、前記凹状特徴部内の前記第1の層の側壁上に核形成促進層を形成することと、
気相堆積によって前記凹状特徴部内に金属層を堆積させることであって、前記金属層は、前記初期金属層上及び前記核形成促進層上に堆積される、堆積させることと
を含む方法。 - 前記初期金属層を堆積させることは、前記第1の層の前記側壁上に金属核を更に堆積させ、前記方法は、前記側壁から前記金属核を除去することを更に含む、請求項10に記載の方法。
- 前記金属層を堆積させること及び前記金属核を除去することを少なくとも1回繰り返して、前記凹状特徴部内の前記初期金属層の厚さを増大させることを更に含む、請求項11に記載の方法。
- 前記核形成促進層を形成することは、
前記パターン化基板を、前記側壁上に核形成阻止層を形成する反応ガスに曝露することと、
前記核形成阻止層を改質するプラズマ励起H2ガスで前記パターン化基板を処理することと、
前記パターン化基板を、前記改質された核形成阻止層にヒドロキシル基を添加するH2O蒸気に曝露することと
を含む、請求項10に記載の方法。 - 前記核形成阻止層は、自己組織化単分子膜(SAM)を含む、請求項13に記載の方法。
- 前記反応ガスは、アルキルアミンシラン、アルキルシラン、アルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン、アルキルシロキサン、アルコキシシロキサン、アルキルアルコキシシロキサン、アリールシラン、アシルシラン、アリールシロキサン、アシルシロキサン、シラザン又はそれらの組み合わせを含有する、請求項13に記載の方法。
- 前記核形成促進層を形成することは、
前記パターン化基板を、前記側壁上に核形成阻止層を形成する反応ガスに曝露することと、
前記パターン化基板を、前記核形成阻止層を改質するプラズマ励起窒素含有ガスに曝露することと
を含む、請求項10に記載の方法。 - 前記反応ガスは、アルキルアミンシラン、アルキルシラン、アルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン、アルキルシロキサン、アルコキシシロキサン、アルキルアルコキシシロキサン、アリールシラン、アシルシラン、アリールシロキサン、アシルシロキサン、シラザン又はそれらの組み合わせを含有する、請求項16に記載の方法。
- 前記第1の層は、誘電体材料を含み、及び前記第2の層は、金属を含む、請求項10に記載の方法。
- 前記凹状特徴部は、ビアホールと、前記ビアホールの上方のトレンチとを含み、前記初期金属層は、前記ビアホールを部分的に充填する、請求項10に記載の方法。
- 半導体デバイスを形成する方法であって、
誘電体材料内に形成される凹状特徴部と、前記凹状特徴部内に露出される第2の層とを含むパターン化基板を提供することと、
前記誘電体材料上及び前記第2の層上にコンタクト金属を堆積させることであって、前記コンタクト金属は、反応して前記誘電体材料上に金属酸化物層を形成する、堆積させることと、
前記凹状特徴部内の前記誘電体材料の側壁から前記金属酸化物層を除去することと、
前記側壁上に核形成促進層を形成することと、
気相堆積によって前記凹状特徴部内に金属層を堆積させることであって、前記金属層は、前記コンタクト金属上及び前記核形成促進層上に堆積される、堆積させることと
を含む方法。 - 前記金属層は、前記凹状特徴部を完全に充填する、請求項20に記載の方法。
- 前記コンタクト金属は、Ti又はCoを含有する、請求項20に記載の方法。
- 前記核形成促進層を形成することは、
前記パターン化基板を、側壁表面上に核形成阻止層を形成する反応ガスに曝露することと、
前記凹状特徴部内の第1の層の前記側壁を改質するプラズマ励起窒素含有ガスで前記パターン化基板を処理することと
を含む、請求項20に記載の方法。 - 前記核形成阻止層は、自己組織化単分子膜(SAM)を含む、請求項23に記載の方法。
- 前記反応ガスは、アルキルアミンシラン、アルキルシラン、アルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン、アルキルシロキサン、アルコキシシロキサン、アルキルアルコキシシロキサン、アリールシラン、アシルシラン、アリールシロキサン、アシルシロキサン、シラザン又はそれらの組み合わせを含有する、請求項23に記載の方法。
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