JP2024501391A - 表示パネル及び表示パネルの製造方法、電子機器 - Google Patents
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Abstract
本願は表示パネル及び表示パネルの製造方法、電子機器を提供し、該電子機器は、発光素子層と、封止層と、遮断膜とを含む表示パネルを含み、封止層に第１散乱粒子が分布し、第１散乱粒子による発光素子層における光線の散乱作用を利用して、表示パネルの視野角を改善することができる。遮断膜は屈折率が異なる少なくとも２層の反射防止層を含み、それにより遮断膜の透過率を向上させて、表示パネルの光取り出し効率を改善する。【選択図】図１
Description
本発明は、表示技術の分野に関し、特に表示パネル及び表示パネルの製造方法、電子機器に関する。
近年、有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ、ＯＬＥＤ）表示技術は、飛躍的に発展し、有機発光ダイオード表示パネルは、薄型で軽量で、応答が速く、視野角が広く、コントラストが高く、折り曲げ可能であるなどの利点を有するため、ますます多くの注目を集め、応用が広がっており、主に携帯電話、タブレットパソコン、テレビなどの表示分野に応用される。
有機発光ダイオード表示パネルは、ＯＬＥＤ素子の発光方式によって、トップエミッション型、ボトムエミッション型及び透過型に分けることができ、トップエミッション型の有機発光ダイオード表示パネルは、トップエミッション光線を用い、基板において回路の外形に関わらずにＯＬＥＤ素子の発光効率に直接的に影響を与えないため、トップエミッション型の有機発光ダイオード表示パネルは、ボトムエミッション型の有機発光ダイオード表示パネルに比べて光取り出し効率がより高く、現在の有機発光ダイオード表示パネルの主流の設計方式となっている。しかしながら、トップエミッション型の有機発光ダイオード表示パネルは、光線の伝播過程において、表示パネルの各膜層の間の屈折率が一致しないため、一部の放出された光子が導波効果によりパネル内に捕獲されて、光取り出しを最大限に実現することができず、表示パネルの光取り出し効率が低くなる。
上述したように、従来のトップエミッション型の有機発光ダイオード表示パネルは、光取り出し効率が低いという問題がある。したがって、この欠陥を解消するために、表示パネル及び表示パネルの製造方法、電子機器を提供する必要がある。
本願の実施例は、従来のトップエミッション型の有機発光ダイオード表示パネルの光取り出し効率が低いという問題を解決するための表示パネル及び表示パネルの製造方法、電子機器を提供する。
本願の実施例によれば、
発光素子層と、
前記発光素子層の光出射側に設けられ、前記発光素子層を被覆する封止層と、
前記封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられた遮断膜と、を含み、
前記封止層に第１散乱粒子が分布し、前記遮断膜は、屈折率が異なる少なくとも２層の反射防止層を含む表示パネルが提供される。
発光素子層と、
前記発光素子層の光出射側に設けられ、前記発光素子層を被覆する封止層と、
前記封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられた遮断膜と、を含み、
前記封止層に第１散乱粒子が分布し、前記遮断膜は、屈折率が異なる少なくとも２層の反射防止層を含む表示パネルが提供される。
本願の一実施例において、前記封止層は、
前記発光素子層の光出射側に設けられた第１無機封止層と、
前記第１無機封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられた有機封止層と、
前記第１無機封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられ、前記有機封止層を被覆する第２無機封止層と、を含み、
前記第１散乱粒子は、前記有機封止層に分布する。
前記発光素子層の光出射側に設けられた第１無機封止層と、
前記第１無機封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられた有機封止層と、
前記第１無機封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられ、前記有機封止層を被覆する第２無機封止層と、を含み、
前記第１散乱粒子は、前記有機封止層に分布する。
本願の一実施例において、前記第１散乱粒子の屈折率は、前記有機封止層の屈折率より大きい。
本願の一実施例において、前記反射防止層は、
前記封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられた第１反射防止層と、
前記第１反射防止層の前記封止層から離れた一側に設けられた第２反射防止層と、を含み、
前記第１反射防止層の屈折率は、前記第２反射防止層の屈折率より大きい。
前記封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられた第１反射防止層と、
前記第１反射防止層の前記封止層から離れた一側に設けられた第２反射防止層と、を含み、
前記第１反射防止層の屈折率は、前記第２反射防止層の屈折率より大きい。
本願の一実施例において、前記第１反射防止層の屈折率は、１．８以上であり、前記第２反射防止層の屈折率は、１．３以上１．６以下である。
本願の一実施例において、前記遮断膜は、前記第１反射防止層と前記第２反射防止層との間に設けられた遮断層をさらに含み、
前記遮断層の屈折率は、前記第１反射防止層の屈折率より小さく、かつ前記第２反射防止層の屈折率より大きい。
前記遮断層の屈折率は、前記第１反射防止層の屈折率より小さく、かつ前記第２反射防止層の屈折率より大きい。
本願の一実施例において、前記表示パネルは、前記封止層と前記遮断膜との間に設けられた接着層をさらに含み、
前記接着層に第２散乱粒子が分布する。
前記接着層に第２散乱粒子が分布する。
本願の一実施例において、前記接着剤層の屈折率は、前記第１反射防止層の屈折率より小さい。
本願の一実施例において、前記第２散乱粒子の屈折率は、前記接着層の屈折率より大きい。
本願の実施例によれば、表示パネルを含み、前記表示パネルは、
発光素子層と、
前記発光素子層の光出射側に設けられ、前記発光素子層を被覆する封止層と、
前記封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられた遮断膜と、を含み、
前記封止層に第１散乱粒子が分布し、前記遮断膜は、屈折率が異なる少なくとも２層の反射防止層を含む電子機器が提供される。
発光素子層と、
前記発光素子層の光出射側に設けられ、前記発光素子層を被覆する封止層と、
前記封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられた遮断膜と、を含み、
前記封止層に第１散乱粒子が分布し、前記遮断膜は、屈折率が異なる少なくとも２層の反射防止層を含む電子機器が提供される。
本願の一実施例において、前記封止層は、
前記発光素子層の光出射側に設けられた第１無機封止層と、
前記第１無機封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられた有機封止層と、
前記第１無機封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられ、前記有機封止層を被覆する第２無機封止層と、を含み、
前記第１散乱粒子は、前記有機封止層に分布する。
前記発光素子層の光出射側に設けられた第１無機封止層と、
前記第１無機封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられた有機封止層と、
前記第１無機封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられ、前記有機封止層を被覆する第２無機封止層と、を含み、
前記第１散乱粒子は、前記有機封止層に分布する。
本願の一実施例において、前記第１散乱粒子の屈折率は、前記有機封止層の屈折率より大きい。
本願の実施例において、前記反射防止層は、
前記封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられた第１反射防止層と、
前記第１反射防止層の前記封止層から離れた一側に設けられた第２反射防止層と、を含み、
前記第１反射防止層の屈折率は、前記第２反射防止層の屈折率より大きい。
前記封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられた第１反射防止層と、
前記第１反射防止層の前記封止層から離れた一側に設けられた第２反射防止層と、を含み、
前記第１反射防止層の屈折率は、前記第２反射防止層の屈折率より大きい。
本願の一実施例において、前記第１反射防止層の屈折率は、１．８以上であり、前記第２反射防止層の屈折率は、１．３以上１．６以下である。
本願の実施例によれば、
発光素子層を形成するステップと、
前記発光素子層の光出射側に前記発光素子層を被覆する封止層を形成するステップと、
前記封止層の前記発光素子層から離れた一側に遮断膜を形成するステップと、を含み、
前記封止層に第１散乱粒子が分布し、前記遮断膜は、屈折率が異なる少なくとも２層の反射防止層を含む表示パネルの製造方法が提供される。
発光素子層を形成するステップと、
前記発光素子層の光出射側に前記発光素子層を被覆する封止層を形成するステップと、
前記封止層の前記発光素子層から離れた一側に遮断膜を形成するステップと、を含み、
前記封止層に第１散乱粒子が分布し、前記遮断膜は、屈折率が異なる少なくとも２層の反射防止層を含む表示パネルの製造方法が提供される。
本願の一実施例において、前記発光素子層の光出射側に前記発光素子層を被覆する封止層を形成する前記ステップは、
前記発光素子層の光出射側に第１無機封止層を形成するステップと、
前記第１無機封止層の前記発光素子層から離れた一側に有機封止層を形成するステップと、
前記第１無機封止層の前記発光素子層から離れた一側に、前記有機封止層を被覆する第２無機封止層を形成するステップと、を含み、
前記第１散乱粒子は、前記有機封止層に分布する。
前記発光素子層の光出射側に第１無機封止層を形成するステップと、
前記第１無機封止層の前記発光素子層から離れた一側に有機封止層を形成するステップと、
前記第１無機封止層の前記発光素子層から離れた一側に、前記有機封止層を被覆する第２無機封止層を形成するステップと、を含み、
前記第１散乱粒子は、前記有機封止層に分布する。
本願の一実施例において、前記第１散乱粒子の屈折率は、前記有機封止層の屈折率より大きい。
本願の一実施例において、前記封止層の前記発光素子層から離れた一側に遮断膜を形成する前記ステップは、
前記第１反射防止層を形成するステップと、
前記第１反射防止層の一側に第２反射防止層を形成するステップと、を含み、
前記第１反射防止層の屈折率は、前記第２反射防止層の屈折率より大きい。
前記第１反射防止層を形成するステップと、
前記第１反射防止層の一側に第２反射防止層を形成するステップと、を含み、
前記第１反射防止層の屈折率は、前記第２反射防止層の屈折率より大きい。
本願の一実施例において、前記封止層の前記発光素子層から離れた一側に遮断膜を形成する前記ステップは、
前記第２反射防止層を形成する前に、前記第１反射防止層の一側に遮断層を形成するステップと、
前記遮断層の前記第１反射防止層から離れた一側に前記第２反射防止層を形成するステップと、をさらに含み、
前記遮断層の屈折率は、前記第１反射防止層の屈折率より小さく、かつ前記第２反射防止層の屈折率より大きい。
前記第２反射防止層を形成する前に、前記第１反射防止層の一側に遮断層を形成するステップと、
前記遮断層の前記第１反射防止層から離れた一側に前記第２反射防止層を形成するステップと、をさらに含み、
前記遮断層の屈折率は、前記第１反射防止層の屈折率より小さく、かつ前記第２反射防止層の屈折率より大きい。
本願の一実施例において、前記封止層の前記発光素子層から離れた一側に遮断膜を形成する前記ステップは、
前記第１反射防止層の前記遮断層から離れた一側と前記封止層の前記発光素子層から離れた一側とを接着層により貼り合わせるステップをさらに含み、
前記接着層に第２散乱粒子が分布する。
前記第１反射防止層の前記遮断層から離れた一側と前記封止層の前記発光素子層から離れた一側とを接着層により貼り合わせるステップをさらに含み、
前記接着層に第２散乱粒子が分布する。
本発明の実施例の有益な効果は、以下のとおりである：本願の実施例は、表示パネル及び表示パネルの製造方法、電子機器を提供し、上記表示パネルは、発光素子層と、上記発光素子層の光出射側に設けられ、上記発光素子層を被覆する封止層と、上記封止層の上記発光素子層から離れた一側に設けられた遮断膜とを含み、上記封止層に第１散乱粒子が分布し、第１散乱粒子による発光素子層における光線の散乱作用を利用して、表示パネルの視野角を改善することができ、上記遮断膜は、遮断膜の透過率を向上させるために、屈折率が異なる少なくとも２層の反射防止層を含むため、表示パネルの光取り出し効率を向上させる。
実施例又は従来の技術における技術手段をより明確に説明するために、以下、実施例又は従来の技術の説明に必要な図面を簡単に説明する。以下に説明される図面は、本発明のいくつかの実施例に過ぎず、当業者であれば、創造的な労働をしない前提で、これらの図面に基づいて他の図面を得ることができることは明らかである。
以下の各実施例の説明は、添付図面を参照し、本発明が実施され得る特定の実施例を例示するためのものである。本発明で言及している方向用語、例えば、［上］、［下］、［前］、［後］、［左］、［右］、［内］、［外］、［側面］などは、添付図面を参照した方向である。したがって、使用される方向用語は、本説明を説明し理解するためのものであり、本発明を限定するものではない。図面には、構造が類似するユニットは同一の符号で示される。
以下、図面及び具体的な実施例を参照しながら本発明をさらに説明する。
本願の実施例は表示パネル及び電子機器を提供し、上記電子機器は、上記表示パネルと、上記表示パネルを載置する筐体と、上記筐体内に設けられ、上記表示パネルが画面表示機能を実現するように駆動するプロセッサ、電源などのアセンブリとを含む。上記電子機器は、スマートフォン、タブレットパソコン、ノートパソコンなどの移動端末であってもよく、スマートウォッチ、スマートブレスレット、スマートメガネ、拡張現実装置などのウェアラブル端末であってもよく、デスクトップパソコン、テレビなどの固定端末であってもよい。
図１は、本願の実施例に係る表示パネルの概略構成図であり、図１に示すように、上記表示パネルは、ベース基板１０、上記ベース基板１０に順に積層して設けられたアレイ層１１及び発光素子層１２を含み、上記発光素子層１２に複数の発光ユニットが設けられ、上記アレイ層１１に上記発光ユニットが発光するように制御し駆動する複数の画素駆動回路が設けられ、上記画素駆動回路は複数の薄膜トランジスタ、コンデンサ、信号線及び走査線などで構成される。
本願の実施例において、上記発光ユニットは、有機発光ダイオードを含む。実際の応用において、上記発光ユニットは、種類が上記実施例における有機発光ダイオードに限定されず、マイクロ発光ダイオード（Ｍｉｃｒｏ ＬＥＤ）又はミニ発光ダイオード（Ｍｉｎｉ ＬＥＤ）などであってもよい。
上記表示パネルは、封止層１３をさらに含み、上記封止層１３は、上記発光素子層１２の光出射側に設けられ、上記発光素子層１２を被覆して、水蒸気及び酸素ガスが発光素子層１２内に侵入して発光ユニットを損傷することを防止する。
さらに、上記封止層１３に第１散乱粒子１４が分布する。第１散乱粒子１４は、ナノ粒子であり、かつ屈折率が封止層１３の屈折率と異なるため、封止層１３との界面に照射された光線に対して屈折作用を有し、封止層１３における第１散乱粒子１４の含有量又は質量比を制御することにより、封止層１３の屈折率を調節することができるため、発光素子層１２が放出した光線の出射角度を増加させるか又は減少させることにより、表示パネルの視野角を改善することができる。
本願の実施例において、図１に示すように、上記封止層１３は、第１無機封止層１３１、有機封止層１３２及び第２無機封止層１３３を含み、上記第１無機封止層１３１は、上記発光素子層１２の光出射側に設けられ、上記有機封止層１３２は、上記第１無機封止層の上記発光素子層１２から離れた一側に設けられ、上記第２無機封止層１３３は、上記第１無機封止層１３１の上記発光素子層１２から離れた一側に設けられ、上記有機封止層１３２を被覆する。
具体的には、上記第１無機封止層１３１は、無機透明材料で製造され、上記無機透明材料は、ＳｉＯ、ＳｉＮ又はＳｉＯＮのうちの少なくとも１種を含んでもよいが、これらに限定されない。実際の製造プロセスにおいて、プラズマ励起化学気相堆積（ｐｌａｓｍａ ｅｎｈａｎｃｅｄ ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＰＥＣＶＤ）又は原子層堆積（ａｔｏｍｉｃ ｌａｙｅｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＡＬＤ）などの方法で上記第１無機封止層１３１を製造してもよい。
本願の実施例において、上記第１無機封止層１３１の厚さは１μｍである。実際の応用において、上記第１無機封止層１３１の厚さは、上記実施例における１μｍに限定されず、０．８μｍ、０．６μｍ、１．２μｍ又は１．４μｍなどであってもよい。
上記有機封止層１３２は、有機透明材料で製造され、上記有機透明材料は、エポキシ樹脂又はアクリル系材料を含んでもよいが、これらに限定されない。実際の製造プロセスにおいて、インクジェットプリンタ、スクリーン印刷、電子スプレー塗布などの方法で上記有機封止層１３２を製造してもよい。
本願の実施例において、上記有機封止層１３２の厚さは１０μｍである。実際の応用において、上記有機封止層１３２の厚さは、上記実施例における１０μｍに限定されず、８μｍ、６μｍ、１２μｍ又は１４μｍなどであってもよい。
上記第２無機封止層１３３は、無機透明材料で製造され、上記無機透明材料は、ＳｉＯ、ＳｉＮ又はＳｉＯＮのうちの少なくとも１種を含んでもよいが、これらに限定されない。実際の製造プロセスにおいて、第１無機封止層１３１と同じ材料及び同じ製造プロセスを用いて上記第２無機封止層１３３を製造してもよい。
図１に示すように、上記第１散乱粒子１４は、上記有機封止層１３２に分布する。
本願の実施例において、上記第１散乱粒子１４は、ナノスケールの有機シリコン材料で製造される。実際の応用において、上記第１散乱粒子１４は、材料が上記実施例におけるナノスケールの有機シリコン材料に限定されず、無機材料で製造されてもよく、無機材料は、ＳｉＮｘ、Ｓｉ３Ｎ４、ＴｉＯ２、ＭｇＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ａｌ２Ｏ３及びＣａＦ２などのうちの少なくとも１種又は複数種の混合物を含んでもよいが、これらに限定されない。
さらに、上記第１散乱粒子１４の屈折率は、上記有機封止層１３２の屈折率より大きい。光線は、上記有機封止層１３２と第１散乱粒子１４との界面で、主に屈折する。光線が有機封止層１３２から第１散乱粒子１４に入る場合、第１散乱粒子１４の屈折率が有機封止層１３２の屈折率より大きいため、光線の入射角が屈折角より大きく、発光素子層１２から放出された光線を中間に収束させることにより、表示パネルの正方向の光取り出し効率を向上させ、表示パネルの視野角を改善することができる。
本願の実施例において、上記有機封止層１３２の屈折率は、１．４５以上１．５５以下であり、上記第１散乱粒子１４の屈折率は、１．８以上２以下である。具体的には、上記有機封止層１３２の屈折率は、１．４５、１．５又は１．５５などであってもよく、上記第１散乱粒子１４の屈折率は、１．８、１．９又は２．０などであってもよい。
なお、上記封止層１３の構造は、上述した、第１無機封止層１３１、有機封止層１３２及び第２無機封止層１３３で形成された三層封止構造に限定されず、複数層の無機封止層及び複数層の有機封止層が交互に重畳して形成されてもよく、第１散乱粒子１４は、複数層の有機封止層のうちの少なくとも１層の有機封止層に均一に分布することができる。
上記表示パネルは、遮断膜１５をさらに含み、上記遮断膜１５は、上記封止層１３の上記発光素子層１２から離れた一側に設けられ、上記封止層１３を被覆する。遮断膜１５は、さらに発光素子層１２及びアレイ層１１に対して封止効果を果たし、水蒸気及び酸素ガスが発光素子層１２及びアレイ層１１内に侵入することを回避することができる。
さらに、上記遮断膜１５は、屈折率が異なる少なくとも２層の反射防止層１５０を含み、少なくとも２層の上記反射防止層１５０の屈折率の差を利用して、上記遮断膜１５の光透過率を向上させることにより、表示パネルの光取り出し効率を向上させることができる。
図１に示すように、上記反射防止層１５０は、第１反射防止層１５１及び第２反射防止層１５２を含み、上記第１反射防止層１５１は、上記封止層１３の上記発光素子層１２から離れた一側に設けられる。上記第２反射防止層１５２は、上記第１反射防止層１５１の上記封止層１３から離れた一側に設けられ、上記第１反射防止層１５１の屈折率は、上記第２反射防止層１５２の屈折率より大きい。
本願の実施例において、上記第１反射防止層１５１の屈折率は、１．８以上であるべきであり、具体的には、１．８、１．９又は２．０などであってもよい。上記第２反射防止層１５２の屈折率は、１．３以上１．６以下であるべきであり、具体的には、１．３、１．４、１．５又は１．６などであってもよい。
上記第１反射防止層１５１は、透明有機材料又は透明無機材料で製造されてもよく、透明有機材料は、有機シロキサンを含んでもよく、透明無機材料は、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２又はＺｎＯのうちのいずれか１種又は複数種の混合物を含んでもよい。
上記第２反射防止層１５２は、透明有機材料又は無機材料で製造されてもよく、透明有機材料は、エポキシ樹脂又はポリアクリル酸樹脂のうちの少なくとも１種を含んでもよいが、これらに限定されず、透明無機材料は、ＳｉＯｘを含んでもよい。
本願の実施例において、上記遮断膜１５は、遮断層１５３をさらに含み、上記遮断層１５３は、上記第１反射防止層１５１と上記第２反射防止層１５２との間に設けられ、かつ原子層堆積又はスパッタリングの方法で上記第１反射防止層１５１に形成されてもよい。
さらに、上記遮断層１５３の屈折率は、上記第１反射防止層１５１の屈折率より小さく、かつ上記第２反射防止層１５２の屈折率より大きい。
本願の実施例において、上記遮断層１５３は、水分バリア性が高い膜層であり、上記遮断層１５３の屈折率は、１．６以上１．７以下であるべきである。上記遮断層１５３の屈折率は、具体的には１．６、１．６５又は１．７などであってもよい。
実際の応用において、上記遮断膜１５の構造は、上記実施例における、下から上へ順に積層して設けられた第１反射防止層１５１、遮断層１５３及び第２反射防止層１５２の積層構造に限定されず、屈折率が異なる３層又は３層以上の反射防止層が交互に設けられた積層構造であってもよく、屈折率が異なる当該３層又は３層以上の反射防止層が交互に設けられた構造により、表示パネルの光取り出し効率を調整することもできる。
さらに、上記遮断膜１５は、保護層１５４をさらに含み、上記保護層１５４は、上記第２反射防止層１５２の上記遮断層１５３から離れた一側の表面に設けられ、上記保護層１５４の材料は、ＰＥＴ、ＣＯＰ、ＰＭＭＡを含んでもよいが、これらに限定されない。
本願の実施例において、上記表示パネルは、接着層１６をさらに含み、上記接着層１６は、上記封止層１３と上記遮断膜１５との間に設けられ、上記遮断膜１５は、上記接着層１６により上記封止層１３に貼り付けられる。
さらに、上記接着層１６に第２散乱粒子１７が分布する。上記第２散乱粒子１７は、ナノ粒子であり、かつ屈折率が上記接着層１６の屈折率より大きいため、接着層１６との界面に照射された光線に対して屈折作用を有し、接着層１６に第２散乱粒子１７を添加することにより、接着層１６の屈折率を増加させることができる。発光素子層１２から放出された角度が大きい光線をさらに中間に収束させることにより、表示パネルの正方向の光取り出し効率を向上させ、表示パネルの視野角を改善することができる。
さらに、上記接着層１６の屈折率は、上記第１反射防止層１５１の屈折率より小さい。
本願の実施例において、上記接着層１６は、感圧接着剤（ｐｒｅｓｓｕｒｅ ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ ａｄｈｅｓｉｖｅ、ＰＳＡ）又は光学接着剤であってもよく、上記接着層１６の屈折率は、１．４５以上１．５以下であるべきであり、具体的には１．４５、１．４７、１．４９又は１．５などであってもよい。
図２、図３ａ～図３ｃに示すように、図２は、本願の実施例に係る表示パネルの製造方法のフローチャートであり、図３ａ～図３ｃは、本願の実施例に係る表示パネルの製造方法のフローを説明する概略図である。上記表示パネルの製造方法は、上記実施例に記載の表示パネルを製造するために用いられ、上記表示パネルの製造方法は、以下のステップＳ１０～Ｓ３０を含む。
ステップＳ１０では、発光素子層１２を形成する。
図３ａに示すように、上記ステップＳ１０では、発光素子層１２は、ベース基板１０の一側に形成される。上記発光素子層１２には、有機発光ダイオードを含む複数の発光ユニットが設けられる。上記発光素子層１２を製造する場合、まず発光素子層１２の画素定義層にエッチングして複数の画素開口を形成し、上記画素開口内に蒸着又はインクジェットプリンタの方法で発光層を形成する。そして、発光層に物理気相堆積又はスパッタリングの方法で対応する電極を堆積形成する。上記電極の材料はＡｌ又はＡｇを含んでもよいが、これらに限定されない。
上記ベース基板１０に上記発光素子層１２を形成する前に、さらに上記ベース基板１０にアレイ層１１を形成すべきである。上記アレイ層１１には、上記発光ユニットが発光するように制御し駆動する複数の画素駆動回路が設けられ、上記画素駆動回路は、複数の薄膜トランジスタ、コンデンサ、信号線及び走査線などで構成される。
ステップＳ２０では、上記発光素子層１２の光出射側に上記発光素子層１２を被覆する封止層１３を形成する。
図３ｂに示すように、上記封止層１３に第１散乱粒子１４が分布し、第１散乱粒子１４は光線に対して散乱作用を有する。光線は、封止層１３から第１散乱粒子１４を通る場合に屈折し、より大きい角度で光線を第１散乱粒子１４から出射させて、光線の出射角度を増加させることにより、表示パネルの視野角を改善することができる。
さらに、図３ｂに示すように、上記ステップＳ２０では、上記発光素子層１２の光出射側に上記発光素子層１２を被覆する封止層１３を形成する上記ステップは、
上記発光素子層１２の光出射側に第１無機封止層１３１を形成するステップＳ２０１と、
上記第１無機封止層１３１の上記発光素子層１２から離れた一側に有機封止層１３２を形成するステップＳ２０２と、
上記第１無機封止層１３１の上記発光素子層１２から離れた一側に、上記有機封止層１３２を被覆する第２無機封止層１３３を形成するステップＳ２０３と、を含み、
上記ステップＳ２０１では、無機透明材料を用いて、プラズマ励起化学気相堆積又は原子層堆積などの方法で上記第１無機封止層を製造してもよく、上記無機透明材料は、ＳｉＯ、ＳｉＮ又はＳｉＯＮのうちの少なくとも１種を含んでもよいが、これらに限定されない。
上記発光素子層１２の光出射側に第１無機封止層１３１を形成するステップＳ２０１と、
上記第１無機封止層１３１の上記発光素子層１２から離れた一側に有機封止層１３２を形成するステップＳ２０２と、
上記第１無機封止層１３１の上記発光素子層１２から離れた一側に、上記有機封止層１３２を被覆する第２無機封止層１３３を形成するステップＳ２０３と、を含み、
上記ステップＳ２０１では、無機透明材料を用いて、プラズマ励起化学気相堆積又は原子層堆積などの方法で上記第１無機封止層を製造してもよく、上記無機透明材料は、ＳｉＯ、ＳｉＮ又はＳｉＯＮのうちの少なくとも１種を含んでもよいが、これらに限定されない。
本願の実施例において、上記第１無機封止層１３１の厚さは１μｍである。実際の応用において、上記第１無機封止層１３１の厚さは、上記実施例における１μｍに限定されず、０．８μｍ、０．６μｍ、１．２μｍ又は１．４μｍなどであってもよい。
上記ステップＳ２０２では、有機透明材料を用いて、インクジェットプリンタ、スクリーン印刷、電子スプレー塗布などの方法で上記有機封止層１３２を製造してもよく、上記有機透明材料は、エポキシ樹脂又はアクリル系材料を含んでもよいが、これらに限定されない。
本願の実施例において、上記有機封止層１３２の厚さは１０μｍである。実際の応用において、上記有機封止層１３２の厚さは、上記実施例における１０μｍに限定されず、８μｍ、６μｍ、１２μｍ又は１４μｍなどであってもよい。
本願の実施例において、上記第１散乱粒子１４は、上記有機封止層１３２に分布し、上記第１散乱粒子１４の屈折率は、上記有機封止層１３２の屈折率より大きい。
上記第１散乱粒子１４は、ナノスケールの有機シリコン材料で製造される。実際の応用において、上記第１散乱粒子１４は、材料が上記実施例におけるナノスケールの有機シリコン材料に限定されず、無機材料で製造されてもよく、無機材料は、ＳｉＮｘ、Ｓｉ３Ｎ４、ＴｉＯ２、ＭｇＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ａｌ２Ｏ３及びＣａＦ２などのうちの少なくとも１種又は複数種の混合物を含んでもよいが、これらに限定されない。
上記第２無機封止層１３３は、無機透明材料で製造され、上記無機透明材料は、ＳｉＯ、ＳｉＮ又はＳｉＯＮのうちの少なくとも１種を含んでもよいが、これらに限定されない。実際の製造過程において、第１無機封止層１３１と同じ材料及び同じ製造プロセスを用いて上記第２無機封止層１３３を製造してもよい。
さらに、上記第１散乱粒子１４の屈折率は、上記有機封止層１３２の屈折率より大きい。光線は、上記有機封止層１３２と第１散乱粒子１４との界面で、主に屈折する。光線が有機封止層１３２から第１散乱粒子１４に入る場合、第１散乱粒子１４の屈折率が有機封止層１３２の屈折率より大きいため、光線の入射角が屈折角より大きく、発光素子層１２から放出された光線を中間に収束させることにより、表示パネルの正方向の光取り出し効率を向上させ、表示パネルの視野角を改善することができる。
本願の実施例において、上記有機封止層１３２の屈折率は、１．４５以上１．５５以下であり、上記第１散乱粒子１４の屈折率は、１．８以上２以下である。具体的には、上記有機封止層１３２の屈折率は、１．４５、１．５又は１．５５などであってもよく、上記第１散乱粒子１４の屈折率は、１．８、１．９又は２．０などであってもよい。
なお、上記封止層１３の構造は、上述した、第１無機封止層１３１、有機封止層１３２及び第２無機封止層１３３で形成された三層封止構造に限定されず、複数層の無機封止層及び複数層の有機封止層が交互に重畳して形成されてもよく、第１散乱粒子１４は、複数層の有機封止層のうちの少なくとも１層の有機封止層に均一に分布することができる。
ステップＳ３０では、上記封止層１３の上記発光素子層１２から離れた一側に遮断膜１５を形成する。
本願の実施例において、上記遮断膜１５は、屈折率が異なる少なくとも２層の反射防止層を含み、少なくとも２層の上記反射防止層の屈折率の差を利用して、上記遮断膜１５の光透過率を向上させることにより、表示パネルの表示効果を高めることができる。
図３ｃに示すように、上記ステップ３０では、上記封止層１３の上記発光素子層１２から離れた一側に遮断膜１５を形成する上記ステップは、上記封止層１３の上記発光素子層１２から離れた一側に第１反射防止層１５１を形成するステップと、上記第１反射防止層１５１の上記封止層１３から離れた一側に第２反射防止層１５２を形成するステップと、を含む。
上記第１反射防止層１５１は、透明有機材料又は透明無機材料で製造されてもよく、透明有機材料は、有機シロキサンを含んでもよく、透明無機材料は、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２又はＺｎＯのうちのいずれか１種又は複数種の混合物を含んでもよい。
上記第２反射防止層１５２は、透明有機材料又は無機材料で製造されてもよく、透明有機材料は、エポキシ樹脂又はポリアクリル酸樹脂のうちの少なくとも１種を含んでもよいが、これらに限定されず、透明無機材料は、ＳｉＯｘを含んでもよい。
本願の実施例において、上記第１反射防止層１５１の屈折率は、１．８以上であるべきであり、具体的には、１．８、１．９又は２．０などであってもよい。上記第２反射防止層１５２の屈折率は、１．３以上１．６以下であるべきであり、具体的には、１．３、１．４、１．５又は１．６などであってもよい。
上記ステップＳ３０では、上記封止層１３の上記発光素子層１２から離れた一側に遮断膜１５を形成する上記ステップは、
上記第２反射防止層１５２を形成する前に、上記第１反射防止層１５１の上記封止層１３から離れた一側に遮断層１５３を形成するステップと、
上記遮断層１５３の上記第１反射防止層１５１から離れた一側に上記第２反射防止層１５２を形成するステップと、をさらに含む。
上記第２反射防止層１５２を形成する前に、上記第１反射防止層１５１の上記封止層１３から離れた一側に遮断層１５３を形成するステップと、
上記遮断層１５３の上記第１反射防止層１５１から離れた一側に上記第２反射防止層１５２を形成するステップと、をさらに含む。
上記ステップＳ３０では、原子層堆積又はスパッタリングの方法で上記第１反射防止層１５１に上記遮断層１５３を形成してもよい。
さらに、上記遮断層１５３の屈折率は、上記第１反射防止層１５１の屈折率より小さく、かつ上記第２反射防止層１５２の屈折率より大きい。
本願の実施例において、上記遮断層１５３は、水分バリア性が高い膜層であり、上記遮断層１５３の屈折率は、１．６以上１．７以下であるべきである。上記遮断層１５３の屈折率は、具体的には１．６、１．６５又は１．７などであってもよい。
実際の応用において、上記遮断膜１５の構造は、上記実施例における、下から上へ順に積層して設けられた第１反射防止層１５１、遮断層１５３及び第２反射防止層１５２の積層構造に限定されず、屈折率が異なる３層又は３層以上の反射防止層が交互に設けられた積層構造であってもよく、屈折率が異なる当該３層又は３層以上の反射防止層が交互に設けられた構造により、表示パネルの光取り出し効率を調整することもできる。
さらに、上記封止層１３の上記発光素子層１２から離れた一側に遮断膜１５を形成する上記ステップは、
上記第１反射防止層１５１の上記遮断層１５３から離れた一側と上記封止層１３の上記発光素子層１２から離れた一側とを接着層１６により貼り合わせるステップをさらに含む。
上記第１反射防止層１５１の上記遮断層１５３から離れた一側と上記封止層１３の上記発光素子層１２から離れた一側とを接着層１６により貼り合わせるステップをさらに含む。
本願の実施例において、上記接着層１６に第２散乱粒子１７が分布する。
上記第２散乱粒子１７の屈折率は、上記接着層１６の屈折率より大きく、光線は、接着層１６から第２散乱粒子１７を通る場合に屈折し、より大きい角度で光線を第２散乱粒子１７から出射させて、光線の出射角度を増加させることにより、表示パネルの視野角を改善することができる。
さらに、上記接着層１６の屈折率は、上記第１反射防止層１５１の屈折率より小さい。
本願の実施例において、上記接着層１６の屈折率は１．５である。実際の応用において、上記接着層１６の屈折率は、上記実施例における１．５に限定されず、１．４５、１．４７又は１．４９などであってもよく、１．４５以上１．５以下であればよい。
本願の実施例は表示パネル及び表示パネルの製造方法、電子機器を提供し、上記表示パネルは、発光素子層と、上記発光素子層の光出射側に設けられ、上記発光素子層を被覆する封止層と、上記封止層の上記発光素子層から離れた一側に設けられた遮断膜とを含み、上記封止層に第１散乱粒子が分布する。第１散乱粒子による発光素子層における光線の散乱作用を利用して、表示パネルの視野角を改善することができる。上記遮断膜は、遮断膜の透過率を向上させるために、屈折率が異なる少なくとも２層の反射防止層を含むため、表示パネルの光取り出し効率を向上させる。
上述したように、好ましい実施例により本願を前述のとおり開示したが、上記好ましい実施例は、本願を限定するためのものではなく、当業者であれば、本願の精神及び範囲から逸脱せずに様々な変形や修飾を行うことができる。従って、本願の保護範囲は、特許請求の範囲で限定された内容を基準とする。
Claims (20)
- 発光素子層と、
前記発光素子層の光出射側に設けられ、前記発光素子層を被覆する封止層と、
前記封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられた遮断膜と、を含み、
前記封止層に第１散乱粒子が分布し、前記遮断膜は、屈折率が異なる少なくとも２層の反射防止層を含む、
表示パネル。 - 前記封止層は、
前記発光素子層の光出射側に設けられた第１無機封止層と、
前記第１無機封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられた有機封止層と、
前記第１無機封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられ、前記有機封止層を被覆する第２無機封止層と、を含み、
前記第１散乱粒子は、前記有機封止層に分布する、
請求項１に記載の表示パネル。 - 前記第１散乱粒子の屈折率は、前記有機封止層の屈折率より大きい、
請求項２に記載の表示パネル。 - 前記反射防止層は、
前記封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられた第１反射防止層と、
前記第１反射防止層の前記封止層から離れた一側に設けられた第２反射防止層と、を含み、
前記第１反射防止層の屈折率は、前記第２反射防止層の屈折率より大きい、
請求項１に記載の表示パネル。 - 前記第１反射防止層の屈折率は、１．８以上であり、前記第２反射防止層の屈折率は、１．３以上１．６以下である、
請求項４に記載の表示パネル。 - 前記遮断膜は、前記第１反射防止層と前記第２反射防止層との間に設けられた遮断層をさらに含み、
前記遮断層の屈折率は、前記第１反射防止層の屈折率より小さく、かつ前記第２反射防止層の屈折率より大きい、
請求項４に記載の表示パネル。 - 前記表示パネルは、前記封止層と前記遮断膜との間に設けられた接着層をさらに含み、
前記接着層に第２散乱粒子が分布する、
請求項４に記載の表示パネル。 - 前記接着層の屈折率は、前記第１反射防止層の屈折率より小さい、
請求項７に記載の表示パネル。 - 前記第２散乱粒子の屈折率は、前記接着層の屈折率より大きい、
請求項８に記載の表示パネル。 - 表示パネルを含み、
前記表示パネルは、
発光素子層と、
前記発光素子層の光出射側に設けられ、前記発光素子層を被覆する封止層と、
前記封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられた遮断膜と、を含み、
前記封止層に第１散乱粒子が分布し、前記遮断膜は、屈折率が異なる少なくとも２層の反射防止層を含む、
電子機器。 - 前記封止層は、
前記発光素子層の光出射側に設けられた第１無機封止層と、
前記第１無機封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられた有機封止層と、
前記第１無機封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられ、前記有機封止層を被覆する第２無機封止層と、を含み、
前記第１散乱粒子は、前記有機封止層に分布する、
請求項１０に記載の電子機器。 - 前記第１散乱粒子の屈折率は、前記有機封止層の屈折率より大きい、
請求項１１に記載の電子機器。 - 前記反射防止層は、
前記封止層の前記発光素子層から離れた一側に設けられた第１反射防止層と、
前記第１反射防止層の前記封止層から離れた一側に設けられた第２反射防止層と、を含み、
前記第１反射防止層の屈折率は、前記第２反射防止層の屈折率より大きい、
請求項１０に記載の電子機器。 - 前記第１反射防止層の屈折率は、１．８以上であり、前記第２反射防止層の屈折率は、１．３以上１．６以下である、
請求項１３に記載の電子機器。 - 発光素子層を形成するステップと、
前記発光素子層の光出射側に前記発光素子層を被覆する封止層を形成するステップと、
前記封止層の前記発光素子層から離れた一側に遮断膜を形成するステップと、を含み、
前記封止層に第１散乱粒子が分布し、前記遮断膜は、屈折率が異なる少なくとも２層の反射防止層を含む、
表示パネルの製造方法。 - 前記発光素子層の光出射側に前記発光素子層を被覆する封止層を形成する前記ステップは、
前記発光素子層の光出射側に第１無機封止層を形成するステップと、
前記第１無機封止層の前記発光素子層から離れた一側に有機封止層を形成するステップと、
前記第１無機封止層の前記発光素子層から離れた一側に、前記有機封止層を被覆する第２無機封止層を形成するステップと、を含み、
前記第１散乱粒子は、前記有機封止層に分布する、
請求項１５に記載の表示パネルの製造方法。 - 前記第１散乱粒子の屈折率は、前記有機封止層の屈折率より大きい、
請求項１６に記載の表示パネルの製造方法。 - 前記封止層の前記発光素子層から離れた一側に遮断膜を形成する前記ステップは、
第１反射防止層を形成するステップと、
前記第１反射防止層の一側に第２反射防止層を形成するステップと、を含み、
前記第１反射防止層の屈折率は、前記第２反射防止層の屈折率より大きい、
請求項１５に記載の表示パネルの製造方法。 - 前記封止層の前記発光素子層から離れた一側に遮断膜を形成する前記ステップは、
前記第２反射防止層を形成する前に、前記第１反射防止層の一側に遮断層を形成するステップと、
前記遮断層の前記第１反射防止層から離れた一側に前記第２反射防止層を形成するステップと、をさらに含み、
前記遮断層の屈折率は、前記第１反射防止層の屈折率より小さく、かつ前記第２反射防止層の屈折率より大きい、
請求項１８に記載の表示パネルの製造方法。 - 前記封止層の前記発光素子層から離れた一側に遮断膜を形成する前記ステップは、
前記第１反射防止層の前記遮断層から離れた一側と前記封止層の前記発光素子層から離れた一側とを接着層により貼り合わせるステップをさらに含み、
前記接着層に第２散乱粒子が分布する、
請求項１９に記載の表示パネルの製造方法。
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