JP2024062746A - Lithographic printing plate precursor, method for preparing a lithographic printing plate, and lithographic printing method - Google Patents

Lithographic printing plate precursor, method for preparing a lithographic printing plate, and lithographic printing method Download PDF

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Abstract

【課題】結晶析出の抑制性に優れる平版印刷版原版の提供、並びに、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法の提供。【解決手段】支持体、及び、支持体上に画像記録層を有し、上記画像記録層が、非オニウム系重合開始剤、ボレート化合物、赤外線吸収剤、及び、ShapeIndexが上記赤外線吸収剤のカチオン部の2倍以下であるカチオンからなるオニウム塩である化合物Aを含む平版印刷版原版。【選択図】なし[Problem] To provide a lithographic printing plate precursor excellent in suppressing crystal precipitation, and to provide a method for producing a lithographic printing plate using the lithographic printing plate precursor, and a lithographic printing method. [Solution] A lithographic printing plate precursor having a support and an image recording layer on the support, the image recording layer containing a non-onium polymerization initiator, a borate compound, an infrared absorber, and compound A which is an onium salt consisting of a cation whose ShapeIndex is two times or less than the cation portion of the infrared absorber. [Selected Figure] None

Description

本開示は、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法に関する。 This disclosure relates to a lithographic printing plate precursor, a method for producing a lithographic printing plate, and a lithographic printing method.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルムなどの原画を通した露光を行った後、画像記録層の画像部となる部分を残存させ、それ以外の不要な画像記録層をアルカリ性現像液又は有機溶剤によって溶解除去し、親水性の支持体表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
Generally, a lithographic printing plate is composed of an oleophilic image area that accepts ink during the printing process and a hydrophilic non-image area that accepts dampening water. Lithographic printing utilizes the mutual repulsion properties of water and oil-based ink, making the oleophilic image area of the lithographic printing plate the ink-receptive area and the hydrophilic non-image area the dampening water-receptive area (ink non-receptive area) to create a difference in ink adhesion on the surface of the lithographic printing plate, and after ink is applied only to the image area, the ink is transferred to a printing material such as paper to print.
In order to prepare such a lithographic printing plate, a lithographic printing plate precursor (PS plate) having an oleophilic photosensitive resin layer (image recording layer) provided on a hydrophilic support has been widely used. Usually, the lithographic printing plate precursor is exposed through an original such as a lithographic film, and then the image area of the image recording layer is left, and the other unnecessary image recording layer is dissolved and removed with an alkaline developer or an organic solvent, and the hydrophilic support surface is exposed to form a non-image area, thereby obtaining a lithographic printing plate.

また、地球環境への関心の高まりから、現像処理などの湿式処理に伴う廃液に関する環境課題がクローズアップされている。
上記の環境課題に対して、現像あるいは製版の簡易化、無処理化が指向されている。簡易な作製方法の一つとしては、「機上現像」と呼ばれる方法が行われている。すなわち、平版印刷版原版を露光後、従来の現像は行わず、そのまま印刷機に装着して、画像記録層の不要部分の除去を通常の印刷工程の初期段階で行う方法である。
本開示において、このような機上現像に用いることができる平版印刷版原版を、「機上現像型平版印刷版原版」という。
Furthermore, due to growing concern about the global environment, environmental issues related to waste liquids accompanying wet processing such as development processing have come into focus.
In response to the above environmental issues, efforts are being made to simplify development or plate making, or to eliminate any processing. One of the simple manufacturing methods is a method called "on-press development." In other words, after exposing a lithographic printing plate precursor to light, it is mounted on a printing press as is, without undergoing conventional development, and unnecessary parts of the image recording layer are removed at an early stage of the normal printing process.
In the present disclosure, a lithographic printing plate precursor that can be used for such on-press development is referred to as an "on-press development type lithographic printing plate precursor."

従来の平版印刷版原版としては、例えば、特許文献1に記載されたものが挙げられる。
特許文献1には、支持体と、重合性化合物、特定構造を有する第1の赤外線吸収剤、及び光重合開始剤を含む光重合性層と、熱及び/又は赤外線放射への曝露により、より強い電子供与体である基に変化する熱分解性基を含み、熱及び/又は赤外線放射への曝露により印刷画像を形成することができる第2の赤外線吸収剤を含む保護層と、を有する平版印刷版原版が記載されている。
An example of a conventional lithographic printing plate precursor is described in Japanese Patent Laid-Open No. 2003-233996.
Patent Document 1 describes a lithographic printing plate precursor having a support, a photopolymerizable layer containing a polymerizable compound, a first infrared absorber having a specific structure, and a photopolymerization initiator, and a protective layer containing a second infrared absorber that contains a thermally decomposable group that is changed into a group that is a stronger electron donor upon exposure to heat and/or infrared radiation and that can form a printed image upon exposure to heat and/or infrared radiation.

国際公開第2021/259637号International Publication No. 2021/259637

本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、結晶析出の抑制性に優れる平版印刷版原版を提供することである。
本開示の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法、又は、平版印刷方法を提供することである。
An object of one embodiment of the present disclosure is to provide a lithographic printing plate precursor that is excellent in inhibiting crystal precipitation.
Another problem to be solved by another embodiment of the present disclosure is to provide a method for producing a lithographic printing plate using the above-mentioned lithographic printing plate precursor, or a lithographic printing method.

上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
<1> 支持体、及び、支持体上に画像記録層を有し、
上記画像記録層が、非オニウム系重合開始剤、ボレート化合物、赤外線吸収剤、及び、ShapeIndexが上記赤外線吸収剤のカチオン部の2倍以下であるカチオンを有するオニウム塩である化合物Aを含む
平版印刷版原版。
<2> 上記化合物Aにおける上記カチオンが、下記式(A)で表されるカチオンである<1>に記載の平版印刷版原版。
Means for solving the above problems include the following aspects.
<1> A support and an image recording layer on the support,
The lithographic printing plate precursor, wherein the image recording layer comprises a non-onium polymerization initiator, a borate compound, an infrared absorber, and compound A which is an onium salt having a cation whose ShapeIndex is two or less times that of the cation moiety of the infrared absorber.
<2> The lithographic printing plate precursor according to <1>, wherein the cation in the compound A is a cation represented by the following formula (A):

式(A)中、ZはP又はNを表し、RA1~RA4はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。 In formula (A), Z represents P or N, and R A1 to R A4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.

<3> 上記化合物Aにおける上記カチオンが、下記式(2)で表されるカチオンである<1>に記載の平版印刷版原版。 <3> The lithographic printing plate precursor according to <1>, wherein the cation in compound A is a cation represented by the following formula (2):

式(2)中、R21はそれぞれ独立に、アルキル基を表し、R22は水素原子又はアルキル基を表す。 In formula (2), R 21 each independently represents an alkyl group, and R 22 represents a hydrogen atom or an alkyl group.

<4> 上記化合物Aにおける上記カチオンが、下記式(1)で表されるカチオンである<1>に記載の平版印刷版原版。 <4> The lithographic printing plate precursor according to <1>, wherein the cation in compound A is a cation represented by the following formula (1):

式(1)中、ZはP又はNを表し、Rはアルキル基を表し、Arはそれぞれ独立に、アリール基を表す。 In formula (1), Z represents P or N, R represents an alkyl group, and each Ar independently represents an aryl group.

<5> 上記化合物Aにおける上記カチオンが、重合性基を有する<1>~<4>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版。 <5> The lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <4>, wherein the cation in the compound A has a polymerizable group.

<6> 上記化合物Aにおける上記カチオンのclogPが、0以上10以下である<1>~<4>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版。 <6> The lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <4>, wherein the clogP of the cation in compound A is 0 or more and 10 or less.

<7> 上記化合物Aにおけるアニオンが、有機酸の共役塩基である<1>~<4>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版。
<8> 上記化合物Aにおけるアニオンが、RSO 、RSO 、RPO 、RPO 2-、RCO 、R、R、(RSO、及び、Rよりなる群から選ばれた少なくとも1種のアニオンである<1>~<4>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版。
なお、R~Rはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
<9> 上記化合物Aにおける上記カチオンのモル含有量が、上記ボレート化合物におけるアニオンのモル含有量の0.2倍~4倍である<1>~<4>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版。
<7> The lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <4>, wherein the anion in the compound A is a conjugate base of an organic acid.
<8> The lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <4>, wherein the anion in Compound A is at least one anion selected from the group consisting of R 1 SO 3 - , R 1 SO 2 - , R 1 R 2 PO 2 - , R 1 PO 3 2 - , R 1 CO 2 - , R 1 O - , R 1 S - , (R 1 SO 2 ) 2 N - , and R 1 R 2 R 3 R 4 B - .
Each of R 1 to R 4 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group.
<9> The lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <4>, wherein the molar content of the cation in the compound A is 0.2 to 4 times the molar content of the anion in the borate compound.

<10> 上記非オニウム重合開始剤が、下記式(II)で表される化合物を含む<1>~<4>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版。 <10> The lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <4>, wherein the non-onium polymerization initiator contains a compound represented by the following formula (II):

式(II)中、Xはそれぞれ独立に、ハロゲン原子を表し、Rはアリール基を表す。 In formula (II), each X independently represents a halogen atom, and R3 represents an aryl group.

<11> 上記画像記録層上に、保護層を有する<1>~<4>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版。
<12> 上記保護層が、熱及び/又は赤外線放射への曝露により、より強い電子供与体である基に変化する熱分解性基を含み、熱及び/又は赤外線放射への曝露により印刷画像を形成することができる第2の赤外線吸収剤を含む<11>に記載の平版印刷版原版。
<11> The lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <4>, further comprising a protective layer on the image recording layer.
<12> The lithographic printing plate precursor according to <11>, wherein the protective layer contains a second infrared absorber that contains a thermally decomposable group that is converted into a group that is a stronger electron donor upon exposure to heat and/or infrared radiation and is capable of forming a printed image upon exposure to heat and/or infrared radiation.

<13> 上記第2の赤外線吸収剤が、式(VI)で表される化合物である<12>に記載の平版印刷版原版。 <13> The lithographic printing plate precursor according to <12>, wherein the second infrared absorber is a compound represented by formula (VI).

式(VI)中、Ar及びArはそれぞれ独立に、任意に置換された芳香族炭化水素基又は任意に置換されたベンゼン環を有する芳香族炭化水素基を表し、W及びWはそれぞれ独立に、硫黄原子、酸素原子、NRを表し、Rは任意に置換されたアルキル基、NH、又は-CM1011基を表し、M10及びM11はそれぞれ独立に、任意に置換された脂肪族炭化水素基又は任意に置換されたアリール基若しくはヘテロアリール基を表し、M及びMはそれぞれ独立に、水素原子、任意に置換された脂肪族炭化水素基、又は、M及びMが一緒になって任意に置換された環状構造を形成するのに必要な原子群を表し、M及びMはそれぞれ独立に、任意に置換された脂肪族炭化水素基を表し、M~Mはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は任意に置換された脂肪族炭化水素基を表し、Mは、赤外線又は熱への曝露によって誘発される化学反応によって、上記Mよりも強い電子供与体である基に変換され、上記変換によって式(VI)で表される化合物の積分光吸収が波長350nmから700nmの間で増加する基であり、電気的に中性な化合物を得るために、任意に1つ又は複数の対イオンを有する。 In formula (VI), Ar 1 and Ar 2 each independently represent an optionally substituted aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group having an optionally substituted benzene ring; W 1 and W 2 each independently represent a sulfur atom, an oxygen atom, or NR * ; R * represents an optionally substituted alkyl group, NH, or a -CM 10 M 11 group; M 10 and M 11 each independently represent an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, or an optionally substituted aryl group or heteroaryl group; M 1 and M 2 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, or a group of atoms necessary for M 1 and M 2 to form together an optionally substituted cyclic structure; M 3 and M 4 each independently represent an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group; M 5 to M 8 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group; M 9 is a group that is converted by a chemical reaction induced by exposure to infrared light or heat into a group that is a stronger electron donor than M9 , and that increases the integrated optical absorbance of the compound of formula (VI) between 350 nm and 700 nm, and optionally has one or more counter ions to obtain an electrically neutral compound.

<14> <1>~<4>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む
平版印刷版の作製方法。
<14> A step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <4>;
and removing the image recording layer in the non-image area by supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water on the printing press.

<15> <1>~<4>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、
得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む
平版印刷方法。
<15> A step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <4>;
a step of removing the image recording layer in the non-image area by supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water on a printing press to prepare a lithographic printing plate;
and printing with the obtained lithographic printing plate.

本開示の一実施形態によれば、結晶析出の抑制性に優れる平版印刷版原版を提供することができる。
本開示の他の実施形態によれば、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法、又は、平版印刷方法を提供することができる。
According to one embodiment of the present disclosure, a lithographic printing plate precursor having excellent suppression of crystal precipitation can be provided.
According to another embodiment of the present disclosure, it is possible to provide a method for producing a lithographic printing plate using the above-mentioned lithographic printing plate precursor, or a lithographic printing method.

陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。1 is a graph showing an example of an alternating current waveform used in electrochemical graining treatment in a method for producing an aluminum support having an anodized film. 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。FIG. 2 is a side view showing an example of a radial cell in an electrochemical graining treatment using an alternating current in a method for producing an aluminum support having an anodized film. 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における機械的粗面化処理に用いられるブラシグレイニングの工程の概念を示す側面図である。FIG. 2 is a side view showing the concept of a brush graining step used in a mechanical roughening treatment in a method for producing an aluminum support having an anodized film. 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における陽極酸化処理に用いられる陽極酸化処理装置の概略図である。FIG. 1 is a schematic diagram of an anodizing treatment apparatus used in an anodizing treatment in a method for producing an aluminum support having an anodized coating.

以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、数値範囲を示す「~」とはその前後に記載される数値を下限
値及び上限値として含む意味で使用される。
また、本明細書における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
本明細書において、「(メタ)アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を包含する概念として用いられる語である。
また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。
また、本開示において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
特に断りのない限り、各物性値の測定は、25℃において行うものとする。
特に限定しない限りにおいて、本開示において組成物中の各成分、又は、ポリマー中の各構成単位は、1種単独で含まれていてもよいし、2種以上を併用してもよいものとする。
更に、本開示において組成物中の各成分、又は、ポリマー中の各構成単位の量は、組成物中に各成分、又は、ポリマー中の各構成単位に該当する物質又は構成単位が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する該当する複数の物質、又は、ポリマー中に存在する該当する複数の各構成単位の合計量を意味する。
更に、本開示において、2以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、特に断りのない限り、TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(何れも東ソー(株)製の商品名)のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)分析装置により、溶媒THF(テトラヒドロフラン)、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
本開示において、「平版印刷版原版」の用語は、平版印刷版原版だけでなく、捨て版原版を包含する。また、「平版印刷版」の用語は、平版印刷版原版を、必要により、露光、現像などの操作を経て作製された平版印刷版だけでなく、捨て版を包含する。捨て版原版の場合には、必ずしも、露光、現像の操作は必要ない。なお、捨て版とは、例えばカラーの新聞印刷において一部の紙面を単色又は2色で印刷を行う場合に、使用しない版胴に取り付けるための平版印刷版原版である。
本開示において、「耐刷性に優れる」とは、平版印刷版の印刷可能な枚数が多いことをいう。
以下、本開示を詳細に説明する。
The contents of the present disclosure will be described in detail below. The following description of the components may be based on a representative embodiment of the present disclosure, but the present disclosure is not limited to such an embodiment.
In this specification, the use of "to" indicating a range of values means that the values before and after it are included as the lower limit and upper limit.
In addition, in the description of groups (atomic groups) in this specification, descriptions that do not indicate whether they are substituted or unsubstituted include those that have no substituents as well as those that have a substituent. For example, an "alkyl group" includes not only an alkyl group that has no substituents (unsubstituted alkyl groups) but also an alkyl group that has a substituent (substituted alkyl groups).
In this specification, "(meth)acrylic" is a term used as a concept including both acrylic and methacrylic, and "(meth)acryloyl" is a term used as a concept including both acryloyl and methacryloyl.
In addition, the term "process" in this specification includes not only an independent process but also a process that cannot be clearly distinguished from other processes, as long as the intended purpose of the process is achieved.
In the present disclosure, "mass %" and "weight %" are synonymous, and "parts by mass" and "parts by weight" are synonymous.
Unless otherwise specified, the measurements of each physical property are carried out at 25°C.
Unless otherwise specified, each component in a composition or each structural unit in a polymer in the present disclosure may be contained alone or in combination of two or more types.
Furthermore, in the present disclosure, the amount of each component in a composition or each structural unit in a polymer means, when a plurality of substances or structural units corresponding to each component or each structural unit in a polymer are present in the composition, the total amount of the corresponding plurality of substances present in the composition or the corresponding plurality of structural units present in the polymer, unless otherwise specified.
Furthermore, in the present disclosure, combinations of two or more preferred aspects are more preferred aspects.
In addition, unless otherwise specified, the weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) in the present disclosure are molecular weights detected by a gel permeation chromatography (GPC) analyzer using columns of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, or TSKgel G2000HxL (all product names manufactured by Tosoh Corporation) in a differential refractometer using THF (tetrahydrofuran) as a solvent, and converted using polystyrene as a standard substance.
In the present disclosure, the term "lithographic printing plate precursor" includes not only lithographic printing plate precursors but also throwaway plate precursors. Furthermore, the term "lithographic printing plate" includes not only lithographic printing plates prepared by subjecting a lithographic printing plate precursor to operations such as exposure and development as necessary, but also throwaway plates. In the case of a throwaway plate precursor, the operations of exposure and development are not necessarily required. Note that a throwaway plate is a lithographic printing plate precursor that is attached to an unused plate cylinder when, for example, a portion of the page is printed in one color or two colors in color newspaper printing.
In the present disclosure, "excellent printing durability" refers to a large number of printable sheets of a lithographic printing plate.
The present disclosure will be described in detail below.

(平版印刷版原版)
本開示に係る平版印刷版原版は、支持体、及び、支持体上に画像記録層を有し、上記画像記録層が、非オニウム系重合開始剤、ボレート化合物、赤外線吸収剤、及び、ShapeIndexが上記赤外線吸収剤のカチオン部の2倍以下であるカチオンからなるオニウム塩である化合物Aを含む。
また、本開示に係る平版印刷版原版は、機上現像型平版印刷版原版として好適に用いられる。
(Lithographic printing plate precursor)
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure has a support and an image recording layer on the support, and the image recording layer contains a non-onium polymerization initiator, a borate compound, an infrared absorber, and compound A which is an onium salt consisting of a cation having a ShapeIndex that is no more than twice that of the cation moiety of the infrared absorber.
Furthermore, the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is suitably used as an on-press development type lithographic printing plate precursor.

本発明者らが検討を行ったところ、画像形成層にボレート化合物と赤外線吸収剤とが含まれている平版印刷版原版では、ボレート化合物及び赤外線吸収剤とから生じる結晶の析出が見られる場合があることを見出した。
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層が、非オニウム系重合開始剤、ボレート化合物、赤外線吸収剤、及び、ShapeIndexが赤外線吸収剤のカチオン部の2倍以下であるカチオンからなるオニウム塩である化合物Aを含む。化合物Aは、画像形成層にて併用されるボレート化合物と赤外線吸収剤との相互作用を弱めることができ、その結果、ボレート化合物と赤外線吸収剤とから生じる結晶析出を抑制することができるものと推測される。よって、本開示に係る平版印刷版原版は、結晶析出の抑制性に優れる。
As a result of investigations, the present inventors have found that in a lithographic printing plate precursor in which an image-forming layer contains a borate compound and an infrared absorber, precipitation of crystals resulting from the borate compound and the infrared absorber may be observed.
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure has an image recording layer that contains a non-onium polymerization initiator, a borate compound, an infrared absorber, and compound A, which is an onium salt consisting of a cation whose Shape Index is two times or less than that of the cation portion of the infrared absorber. It is presumed that compound A can weaken the interaction between the borate compound and the infrared absorber used in combination in the image forming layer, and as a result, can suppress crystal precipitation caused by the borate compound and the infrared absorber. Therefore, the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure has excellent suppression of crystal precipitation.

以下、本開示に係る平版印刷版原版における各構成要件の詳細について説明する。 The details of each component of the lithographic printing plate precursor according to this disclosure are described below.

<画像記録層>
画像記録層は、非オニウム系重合開始剤、ボレート化合物、赤外線吸収剤、及び、ShapeIndexが上記赤外線吸収剤のカチオン部の2倍以下であるカチオンからなるオニウム塩である化合物Aを含む。
また、画像記録層は、ネガ型画像記録層であることが好ましく、水溶性又は水分散性のネガ型画像記録層であることがより好ましい。
本開示に係る平版印刷版原版は、機上現像性の観点から、画像記録層の未露光部が湿し水及び印刷インキの少なくともいずれかにより除去可能であることが好ましい。
<Image Recording Layer>
The image recording layer contains a non-onium polymerization initiator, a borate compound, an infrared absorbing agent, and compound A which is an onium salt having a cation whose Shape Index is two or less times that of the cation portion of the infrared absorbing agent.
The image recording layer is preferably a negative type image recording layer, and more preferably a water-soluble or water-dispersible negative type image recording layer.
In the planographic printing plate precursor according to the present disclosure, from the viewpoint of on-press developability, the unexposed areas of the image recording layer are preferably removable with at least one of fountain solution and printing ink.

以下、画像記録層に含まれる各成分の詳細について説明する。 The components contained in the image recording layer are described in detail below.

〔化合物A〕
画像記録層は、化合物Aを含む。化合物Aは、ShapeIndexが赤外線吸収剤のカチオン部の2倍以下であるカチオンからなるオニウム塩である。
本開示においては、赤外線吸収剤は、カチオンとアニオンとの塩であっても、ベタイン構造を有する化合物であってもよく、その両方を含め「カチオン部」という。
また、化合物Aは、ShapeIndexが赤外線吸収剤のカチオン部の2倍以下であるオニウムカチオンとアニオンとからなるオニウム塩である。つまり、本開示における赤外線吸収剤と化合物Aとは、赤外線吸収剤のカチオン部のShapeIndexを「S」とし、化合物AのカチオンのShapeIndexを「S」としたとき、その比(S/S)が2未満となる関係を満たす。
[Compound A]
The image recording layer contains compound A. Compound A is an onium salt made of a cation having a ShapeIndex of not more than twice that of the cation portion of the infrared absorbing agent.
In the present disclosure, the infrared absorbing agent may be a salt of a cation and an anion, or a compound having a betaine structure, and both are referred to as the "cation moiety."
In addition, compound A is an onium salt consisting of an onium cation and an anion, the Shape Index of which is two times or less than that of the cation part of the infrared absorber. In other words, the infrared absorber and compound A in the present disclosure satisfy a relationship in which, when the Shape Index of the cation part of the infrared absorber is "S I " and the Shape Index of the cation of compound A is "S A ", the ratio (S A /S I ) is less than 2.

更に、化合物Aは、重合開始能を有しない化合物であることが好ましい。
本開示におけるShapeIndexとは、分子形状係数(Molecular Shape Index)であり、下記方法により算出するものとする。
ShapeIndexは、DataWarrior(openmolecules.orgより提供されるオープンソースプログラム)のバージョン5.5.0を用いて算出する。
具体的には、分子中の水素原子以外の原子からなる二次元の分子グラフ構造について、最長のトポロジカル距離を持つ2つの原子を定める。
なお、上記2つの原子間を最短で結ぶ鎖の長さは,他のいずれの原子ペア間のそれよりも長くなる。
上記2つの原子間を最短で結ぶ鎖に含まれる原子の数を、分子に含まれる全原子の数で割った値をShapeIndexとする。
したがって、完全に直鎖状の化合物であれば、ShapeIndexは1.0であり、分子中の環や分岐が増加するとともに値は減少する。
Furthermore, compound A is preferably a compound that does not have polymerization initiation ability.
The Shape Index in this disclosure is a molecular shape index, and is calculated by the following method.
The ShapeIndex is calculated using DataWarrior, an open source program provided by openmolecules.org, version 5.5.0.
Specifically, for a two-dimensional molecular graph structure consisting of atoms other than hydrogen atoms in a molecule, two atoms having the longest topological distance are determined.
The length of the shortest chain connecting these two atoms is longer than any other pair of atoms.
The ShapeIndex is calculated by dividing the number of atoms in the shortest chain connecting the two atoms by the total number of atoms in the molecule.
Therefore, for a completely linear compound, the ShapeIndex is 1.0, and the value decreases as the number of rings or branches in the molecule increases.

比(S/S)の値は、2.0未満であればよいが、1.8以下であることが好ましく、耐刷性の観点から、1.5以下であることがより好ましく、1.0以下であることがさらに好ましい。 The value of the ratio (S A /S I ) may be less than 2.0, but is preferably 1.8 or less, and from the viewpoint of printing durability, is more preferably 1.5 or less, and further preferably 1.0 or less.

化合物AのカチオンのShapeIndexは、例えば、0.90以下が挙げられ、結晶析出の抑制の観点から、0.75未満であることが好ましく、0.70以下であることがより好ましく、0.60以下であることがさらに好ましく、赤外線吸収剤のカチオン部のShapeIndex以下であることが特に好ましい。
化合物AのカチオンのShapeIndexの下限は、例えば、0.20以上が挙げられ、ボレート化合物のShapeIndexと近い観点から、0.3以上であることが好ましい。
つまり、化合物AのカチオンのShapeIndexは、上記比(S/S)の値を満たす観点、ボレート化合物のShapeIndexと近い観点から、0.20~0.90が好ましく、0.20~0.70がより好ましく、0.30~0.70がさらに好ましい。
The Shape Index of the cation of compound A is, for example, 0.90 or less. From the viewpoint of suppressing crystal precipitation, the Shape Index is preferably less than 0.75, more preferably 0.70 or less, even more preferably 0.60 or less, and particularly preferably equal to or less than the Shape Index of the cation moiety of the infrared absorber.
The lower limit of the Shape Index of the cation of compound A is, for example, 0.20 or more, and from the viewpoint of being close to the Shape Index of the borate compound, it is preferably 0.3 or more.
That is, from the viewpoint of satisfying the above ratio (S A /S I ) value and being close to the Shape Index of the borate compound, the Shape Index of the cation of compound A is preferably 0.20 to 0.90, more preferably 0.20 to 0.70, and even more preferably 0.30 to 0.70.

化合物AにおけるカチオンのclogPは、耐刷性及び機上現像性の観点から、-10以上20以下であることが好ましく、-5以上15以下であることがより好ましく、0以上10以下であることが更に好ましく、2以上8以下であることが特に好ましい。 From the viewpoint of printing durability and on-press developability, the clogP of the cation in compound A is preferably from -10 to 20, more preferably from -5 to 15, even more preferably from 0 to 10, and particularly preferably from 2 to 8.

本開示におけるclogPは、下記方法により算出するものとする。
DataWarrior(openmolecules.orgより提供されるオープンソースプログラム)のバージョン5.5.0を用いて、n-オクタノールと水とのlog(Coctanol/Cwater)の間の分配係数の対数の計算値であるclogPを算出する。
In the present disclosure, clogP is calculated by the following method.
DataWarrior (an open source program provided by openmolecules.org) version 5.5.0 is used to calculate clogP, the calculated logarithm of the partition coefficient between n-octanol and water, log(Coctanol/Cwater).

化合物Aとしては、ShapeIndexが赤外線吸収剤のカチオン部の2倍以下であるカチオンからなるオニウム塩であれば、特に制限はないが、結晶析出の抑制性の観点から、アンモニウム塩化合物、ホスホニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物、又は、スルホキソニウム塩化合物であることが好ましく、アンモニウム塩化合物、ホスホニウム塩化合物、又は、スルホニウム塩化合物であることがより好ましく、アンモニウム塩化合物、又は、ホスホニウム塩化合物であることが更に好ましく、ホスホニウム塩化合物であることが特に好ましい。
ホスホニウム塩化合物としては、結晶析出の抑制性の観点から、第四級ホスホニウム塩化合物であることが好ましく、モノアルキルトリアリールホスホニウム塩化合物であることがより好ましい。
アンモニウム塩化合物としては、結晶析出の抑制性の観点から、第四級アンモニウム塩化合物であることが好ましく、モノアルキルトリアリールアンモニウム塩化合物であることがより好ましい。
スルホニウム塩化合物としては、結晶析出の抑制性の観点から、第三級スルホニウム塩化合物であることが好ましく、モノアルキルジアリールスルホニウム塩化合物であることがより好ましい。
スルホキソニウム塩化合物としては、結晶析出の抑制性の観点から、トリアルキルスルホキソニウム塩化合物であることが好ましい。
また、化合物Aのカチオンの中心元素と、赤外線吸収剤のカチオン部の中心元素とは、異なる元素であることが好ましい。
The compound A is not particularly limited as long as it is an onium salt consisting of a cation whose ShapeIndex is twice or less than that of the cation portion of the infrared absorber. From the viewpoint of inhibiting crystal precipitation, however, it is preferably an ammonium salt compound, a phosphonium salt compound, a sulfonium salt compound, or a sulfoxonium salt compound, more preferably an ammonium salt compound, a phosphonium salt compound, or a sulfonium salt compound, further preferably an ammonium salt compound or a phosphonium salt compound, and particularly preferably a phosphonium salt compound.
From the viewpoint of inhibiting crystal precipitation, the phosphonium salt compound is preferably a quaternary phosphonium salt compound, and more preferably a monoalkyltriarylphosphonium salt compound.
From the viewpoint of suppressing crystal precipitation, the ammonium salt compound is preferably a quaternary ammonium salt compound, and more preferably a monoalkyltriarylammonium salt compound.
From the viewpoint of suppressing crystal precipitation, the sulfonium salt compound is preferably a tertiary sulfonium salt compound, and more preferably a monoalkyldiarylsulfonium salt compound.
From the viewpoint of suppressing crystal precipitation, the sulfoxonium salt compound is preferably a trialkylsulfoxonium salt compound.
In addition, the central element of the cation of compound A and the central element of the cation moiety of the infrared absorber are preferably different elements.

化合物Aが有するアニオンとしては、一価のアニオンであっても、二価以上の多価アニオンであってもよいが、結晶析出の抑制性の観点から、一価のアニオンであることが好ましい。
化合物Aが有するアニオンとしては、特に制限はないが、結晶析出の抑制性の観点から、ハロゲン化物イオン、テトラフルオロボレートアニオン、ヘキサフルオロフォスフェートアニオン、ベンゼンスルホネートアニオン、1-ナフタレンスルホネートアニオン、2-ナフタレンスルホネートアニオン、ベンゾエートアニオン、フェニルホスフェートアニオン、フェノールアニオン、チオフェノールアニオン、テトラフェニルボレートアニオン及びトシレートアニオンよりなる群から選ばれた少なくとも1種のアニオンであることが好ましく、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、テトラフルオロボレートアニオン及びトシレートアニオンよりなる群から選ばれた少なくとも1種のアニオンであることがより好ましく、臭化物イオン又はテトラフルオロボレートイオンであることが更に好ましく、臭化物イオンであることが特に好ましい。
また、化合物Aが有するアニオンとしては、結晶析出の抑制性、及び、経時での化合物安定性の観点からは、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、テトラフルオロボレートアニオン、ベンゼンスルホネートアニオン、1-ナフタレンスルホネートアニオン、2-ナフタレンスルホネートアニオン、ベンゾエートアニオン、フェニルホスフェートアニオン及びトシレートアニオンよりなる群から選ばれた少なくとも1種のアニオンであることが好ましく、ベンゼンスルホネートアニオン、1-ナフタレンスルホネートアニオン、2-ナフタレンスルホネートアニオン及びトシレートアニオンよりなる群から選ばれた少なくとも1種のアニオンであることがより好ましく、1-ナフタレンスルホネートアニオン及びトシレートアニオンよりなる群から選ばれた少なくとも1種のアニオンであることが特に好ましい。
The anion contained in compound A may be a monovalent anion or a divalent or higher polyvalent anion, but is preferably a monovalent anion from the viewpoint of suppressing crystal precipitation.
The anion contained in compound A is not particularly limited, but from the viewpoint of suppressing crystal precipitation, it is preferably at least one anion selected from the group consisting of a halide ion, a tetrafluoroborate anion, a hexafluorophosphate anion, a benzenesulfonate anion, a 1-naphthalenesulfonate anion, a 2-naphthalenesulfonate anion, a benzoate anion, a phenylphosphate anion, a phenol anion, a thiophenol anion, a tetraphenylborate anion, and a tosylate anion, more preferably at least one anion selected from the group consisting of a bromide ion, an iodide ion, a tetrafluoroborate anion, and a tosylate anion, further preferably a bromide ion or a tetrafluoroborate ion, and particularly preferably a bromide ion.
From the viewpoints of suppressing crystal precipitation and compound stability over time, the anion contained in compound A is preferably at least one anion selected from the group consisting of bromide ion, iodide ion, tetrafluoroborate anion, benzenesulfonate anion, 1-naphthalenesulfonate anion, 2-naphthalenesulfonate anion, benzoate anion, phenylphosphate anion, and tosylate anion, more preferably at least one anion selected from the group consisting of benzenesulfonate anion, 1-naphthalenesulfonate anion, 2-naphthalenesulfonate anion, and tosylate anion, and particularly preferably at least one anion selected from the group consisting of 1-naphthalenesulfonate anion and tosylate anion.

また、化合物Aが有するアニオンとしては、結晶析出の抑制性、及び、経時での化合物安定性の観点から、有機酸の共役塩基であることが好ましく、有機カルボン酸又は有機スルホン酸の共役塩基であることがより好ましく、有機スルホン酸の共役塩基であることが更に好ましく、芳香族スルホン酸の共役塩基であることが特に好ましい。
更に、化合物Aが有するアニオンとしては、結晶析出の抑制性、及び、経時での化合物安定性の観点から、RSO 、RSO 、RPO 、RPO 2-、RCO 、R、R、(RSO、及び、Rよりなる群から選ばれた少なくとも1種のアニオンであることが好ましく、RSO 、RSO 、RPO 、RPO 2-、及び、RCO よりなる群から選ばれた少なくとも1種のアニオンであることがより好ましく、RSO であることが特に好ましい。
なお、R~Rはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
In addition, the anion contained in compound A is preferably a conjugate base of an organic acid, more preferably a conjugate base of an organic carboxylic acid or an organic sulfonic acid, further preferably a conjugate base of an organic sulfonic acid, and particularly preferably a conjugate base of an aromatic sulfonic acid, from the viewpoints of suppressing crystal precipitation and compound stability over time.
Furthermore, from the viewpoint of suppressing crystal precipitation and compound stability over time, the anion contained in compound A is preferably at least one anion selected from the group consisting of R 1 SO 3 - , R 1 SO 2 - , R 1 R 2 PO 2 - , R 1 PO 3 2- , R 1 CO 2 - , R 1 O - , R 1 S - , (R 1 SO 2 ) 2 N - , and R 1 R 2 R 3 R 4 B -, more preferably at least one anion selected from the group consisting of R 1 SO 3 - , R 1 SO 2 - , R 1 R 2 PO 2 - , R 1 PO 3 2- , and R 1 CO 2 -, and particularly preferably R 1 SO 3 - .
Each of R 1 to R 4 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group.

また、化合物Aが有するアニオンとしては、結晶析出の抑制性の観点から、共役酸のpKaが4以下であるアニオンが好ましく、共役酸のpKaが0以下であるアニオンがより好ましい。 In addition, from the viewpoint of suppressing crystal precipitation, the anion possessed by compound A is preferably an anion whose conjugate acid has a pKa of 4 or less, and more preferably an anion whose conjugate acid has a pKa of 0 or less.

上記化合物Aにおけるカチオンは、結晶析出の抑制性の観点から、下記式(A)で表されるカチオンであることが好ましい。 From the viewpoint of suppressing crystal precipitation, the cation in the above compound A is preferably a cation represented by the following formula (A):

式(A)中、ZはP又はNを表し、RA1~RA4はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。 In formula (A), Z represents P or N, and R A1 to R A4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.

式(A)におけるZは、結晶析出の抑制性の観点から、Pであることが好ましい。
式(A)のRA1~RA4におけるアルキル基は、結晶析出の抑制性の観点から、炭素数1~16のアルキル基であることが好ましく、炭素数1~12のアルキル基であることがより好ましく、炭素数1~8のアルキル基であることが特に好ましい。また、上記アルキル基は、直鎖アルキル基であっても、分岐アルキル基であっても、環構造を有するアルキル基であってもよい。
また、上記アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ビニルエーテル基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ビニルオキシカルボニル基、(メタ)アクリロキシ基、(メタ)アクリルアミド基等が挙げられる。また、上記置換基は、更に上記置換基により置換されていてもよい。
式(A)のRA1~RA4におけるアリール基はそれぞれ独立に、結晶析出の抑制性の観点から、フェニル基又は2,4,6-トリメチルフェニル基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。
また、上記アリール基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ビニルオキシカルボニル基、(メタ)アクリロキシ基、(メタ)アクリルアミド基等が挙げられる。また、上記置換基は、更に上記置換基により置換されていてもよい。
In the formula (A), Z is preferably P from the viewpoint of suppressing crystal precipitation.
From the viewpoint of suppressing crystal precipitation, the alkyl group in R A1 to R A4 in formula (A) is preferably an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and particularly preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. In addition, the alkyl group may be a linear alkyl group, a branched alkyl group, or an alkyl group having a ring structure.
The alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, an aryl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a vinyl ether group, an acyl group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a vinyloxycarbonyl group, a (meth)acryloxy group, and a (meth)acrylamide group. The substituent may be further substituted with the above-mentioned substituent.
From the viewpoint of suppressing crystal precipitation, the aryl groups in R A1 to R A4 in formula (A) are each preferably a phenyl group or a 2,4,6-trimethylphenyl group, and more preferably a phenyl group.
The aryl group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyl group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a vinyloxycarbonyl group, a (meth)acryloxy group, and a (meth)acrylamide group. The substituent may be further substituted with the above-mentioned substituent.

また、化合物Aにおけるカチオンは、結晶析出の抑制性の観点から、下記式(1)で表されるカチオンであることがより好ましい。 In addition, from the viewpoint of suppressing crystal precipitation, it is more preferable that the cation in compound A is a cation represented by the following formula (1).

式(1)中、ZはP又はNを表し、Rはアルキル基を表し、Arはそれぞれ独立に、アリール基を表す。 In formula (1), Z represents P or N, R represents an alkyl group, and each Ar independently represents an aryl group.

式(1)におけるZは、結晶析出の抑制性の観点から、Pであることが好ましい。
式(1)におけるRは、結晶析出の抑制性の観点から、炭素数1~16のアルキル基であることが好ましく、炭素数1~12のアルキル基であることがより好ましく、炭素数1~8のアルキル基であることが特に好ましい。また、上記アルキル基は、直鎖アルキル基であっても、分岐アルキル基であっても、環構造を有するアルキル基であってもよい。
また、上記アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ビニルエーテル基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ビニルオキシカルボニル基、(メタ)アクリロキシ基、(メタ)アクリルアミド基等が挙げられる。また、上記置換基は、更に上記置換基により置換されていてもよい。
式(1)におけるArはそれぞれ独立に、結晶析出の抑制性の観点から、フェニル基又は2,4,6-トリメチルフェニル基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。
また、上記アリール基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基等が挙げられる。
In the formula (1), Z is preferably P from the viewpoint of suppressing crystal precipitation.
From the viewpoint of suppressing crystal precipitation, R in formula (1) is preferably an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and particularly preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. In addition, the alkyl group may be a linear alkyl group, a branched alkyl group, or an alkyl group having a ring structure.
The alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, an aryl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a vinyl ether group, an acyl group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a vinyloxycarbonyl group, a (meth)acryloxy group, and a (meth)acrylamide group. The substituent may be further substituted with the above-mentioned substituent.
In the formula (1), each Ar is preferably a phenyl group or a 2,4,6-trimethylphenyl group, and more preferably a phenyl group, from the viewpoint of suppressing crystal precipitation.
The aryl group may have a substituent, such as a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyl group, or an acyloxy group.

更に、上記化合物Aにおける上記カチオンは、結晶析出の抑制性、及び、塗布溶剤への溶解性の観点から、下記式(2)で表されるカチオンであることがより好ましい。 Furthermore, from the viewpoints of suppressing crystal precipitation and solubility in a coating solvent, it is more preferable that the cation in the compound A is a cation represented by the following formula (2).

式(2)中、R21はそれぞれ独立に、アルキル基を表し、R22は水素原子又はアルキル基を表す。 In formula (2), R 21 each independently represents an alkyl group, and R 22 represents a hydrogen atom or an alkyl group.

式(2)におけるR21は、結晶析出の抑制性、及び、塗布溶剤への溶解性の観点から、炭素数1~16のアルキル基であることが好ましく、炭素数3~12の分岐アルキル基であることがより好ましく、炭素数3~8の分岐アルキル基であることが更に好ましく、t-ブチル基であることが特に好ましい。
また、式(2)における3つのR21は、結晶析出の抑制性、及び、塗布溶剤への溶解性の観点から、同じ基であることが好ましい。
式(2)におけるR22は、結晶析出の抑制性、及び、塗布溶剤への溶解性の観点から、水素原子、又は、炭素数1~16のアルキル基であることが好ましく、水素原子、又は、炭素数1~8のアルキル基であることがより好ましく、水素原子、メチル基、又は、エチル基であることが更に好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
また、上記R21及びR22におけるアルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ビニルエーテル基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ビニルオキシカルボニル基、(メタ)アクリロキシ基、(メタ)アクリルアミド基等が挙げられる。また、上記置換基は、更に上記置換基により置換されていてもよい。
In the formula (2), from the viewpoints of suppressing crystal precipitation and solubility in a coating solvent, R 21 is preferably an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, more preferably a branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, even more preferably a branched alkyl group having 3 to 8 carbon atoms, and particularly preferably a t-butyl group.
In addition, the three R 21 in formula (2) are preferably the same group from the viewpoints of suppressing crystal precipitation and solubility in a coating solvent.
In the formula (2), from the viewpoint of suppressing crystal precipitation and solubility in a coating solvent, R 22 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, still more preferably a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, and particularly preferably a hydrogen atom.
The alkyl groups in R21 and R22 may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, an aryl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a vinyl ether group, an acyl group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a vinyloxycarbonyl group, a (meth)acryloxy group, and a (meth)acrylamide group. The substituent may be further substituted with the above-mentioned substituent.

上記化合物Aにおける上記カチオンが、結晶析出の抑制性、硬化性、及び、塗布溶剤への溶解性の観点から、重合性基を有することが好ましい。
重合性基としては、エチレン性不飽和基であることが好ましく、(メタ)アクリロキシ基、(メタ)アクリルアミド基、アリル基、スチリル基、ビニルエーテル基、ビニルエステル基等が好ましく挙げられる。
中でも、結晶析出の抑制性、硬化性、及び、塗布溶剤への溶解性の観点から、(メタ)アクリロキシ基及び(メタ)アクリルアミド基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基であることが好ましく、(メタ)アクリロキシ基であることがより好ましい。
また、重合性基を有する上記カチオンとしては、リン原子又は窒素原子に水素原子が直接結合した化合物に、後述する重合性化合物(好ましくは(メタ)アクリル化合物、より好ましくは、(メタ)アクリレート化合物)がマイケル型の付加反応をしてなるカチオンが好ましく挙げられる。
更に、上記重合性化合物は、多官能(メタ)アクリル化合物であることが好ましく、多官能(メタ)アクリレート化合物であることがより好ましい。
The cation in the compound A preferably has a polymerizable group from the viewpoints of suppressing crystal precipitation, curability, and solubility in a coating solvent.
The polymerizable group is preferably an ethylenically unsaturated group, and preferred examples thereof include a (meth)acryloxy group, a (meth)acrylamide group, an allyl group, a styryl group, a vinyl ether group, and a vinyl ester group.
Among these, from the viewpoints of suppression of crystal precipitation, curability, and solubility in a coating solvent, it is preferable that the group be at least one type of group selected from the group consisting of a (meth)acryloxy group and a (meth)acrylamide group, and it is more preferable that the group be a (meth)acryloxy group.
In addition, preferred examples of the cation having a polymerizable group include cations obtained by subjecting a compound in which a hydrogen atom is directly bonded to a phosphorus atom or a nitrogen atom to a Michael-type addition reaction with a polymerizable compound (preferably a (meth)acrylic compound, more preferably a (meth)acrylate compound) described below.
Furthermore, the polymerizable compound is preferably a polyfunctional (meth)acrylic compound, and more preferably a polyfunctional (meth)acrylate compound.

化合物Aを形成するカチオンとして、具体的には、以下のカチオンが好適に挙げられるが、これらに限定されないことは言うまでもない。
また、化合物Aの具体例としては、下記D1~D24及びD29~D31のいずれか1つと、ハロゲン化物イオン、テトラフルオロボレートアニオン、ヘキサフルオロフォスフェートアニオン、ベンゼンスルホネートアニオン、1-ナフタレンスルホネートアニオン、2-ナフタレンスルホネートアニオン、ベンゾエートアニオン、フェニルホスフェートアニオン、フェノールアニオン、チオフェノールアニオン、テトラフェニルボレートアニオン及びトシレートアニオンよりなる群から選ばれた1種のアニオンとのオニウム塩が好適に挙げられる。
Specific examples of the cation that forms compound A include, but are not limited to, the following cations:
In addition, specific examples of compound A preferably include onium salts of any one of the following D1 to D24 and D29 to D31 and one anion selected from the group consisting of a halide ion, a tetrafluoroborate anion, a hexafluorophosphate anion, a benzenesulfonate anion, a 1-naphthalenesulfonate anion, a 2-naphthalenesulfonate anion, a benzoate anion, a phenylphosphate anion, a phenol anion, a thiophenol anion, a tetraphenylborate anion, and a tosylate anion.

化合物Aは、1種のみを添加しても、2種以上を併用してもよい。
化合物Aの含有量は、結晶析出の抑制性の観点から、画像記録層の全質量に対し、0.01質量%~30質量%が好ましく、0.05質量%~25質量%がより好ましく、0.1質量%~20質量%が更に好ましい。
また、画像記録層の単位面積あたりの化合物Aの含有量は、結晶析出の抑制性の観点から、0.001g/m~3g/mが好ましく、0.005g/m~1g/mがより好ましく、0.01g/m~0.1g/mが更に好ましく、0.01g/m~0.05g/mが特に好ましい。
The compound A may be added alone or in combination of two or more kinds.
From the viewpoint of suppressing crystal precipitation, the content of compound A is preferably 0.01% by mass to 30% by mass, more preferably 0.05% by mass to 25% by mass, and even more preferably 0.1% by mass to 20% by mass, based on the total mass of the image recording layer.
From the viewpoint of suppressing crystal precipitation, the content of compound A per unit area of the image recording layer is preferably 0.001 g/m 2 to 3 g/m 2 , more preferably 0.005 g/m 2 to 1 g/m 2 , even more preferably 0.01 g/m 2 to 0.1 g/m 2 , and particularly preferably 0.01 g/m 2 to 0.05 g/m 2 .

画像記録層では、化合物Aにおけるカチオンのモル含有量は、結晶析出の抑制性及び耐刷性の観点から、ボレート化合物におけるアニオンのモル含有量の0.1倍~5倍であることが好ましく、ボレート化合物におけるアニオンのモル含有量の0.2倍~4倍であることがより好ましく、ボレート化合物におけるアニオンのモル含有量の0.5倍~3倍であることが特に好ましい。 In the image recording layer, from the viewpoints of suppressing crystal precipitation and printing durability, the molar content of the cation in compound A is preferably 0.1 to 5 times the molar content of the anion in the borate compound, more preferably 0.2 to 4 times the molar content of the anion in the borate compound, and particularly preferably 0.5 to 3 times the molar content of the anion in the borate compound.

〔非オニウム系重合開始剤〕
画像記録層は、非オニウム系重合開始剤を含む。
非オニウム系重合開始剤は、オニウム系重合開始剤以外の重合開始剤を意味する。具体的には、非オニウム系重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起した際に、分子間電子移動で一電子を受容することにより、ラジカル等の重合開始種を発生する、オニウム塩化合物以外の化合物をいう。
[Non-onium-based polymerization initiator]
The image-recording layer contains a non-onium polymerization initiator.
The non-onium polymerization initiator means a polymerization initiator other than an onium polymerization initiator. Specifically, the non-onium polymerization initiator means a compound other than an onium salt compound that generates a polymerization initiation species such as a radical by accepting one electron through intermolecular electron transfer when an electron of an infrared absorber is excited by exposure to infrared light.

非オニウム系重合開始剤としては、平版印刷版原版の画像記録層に用いられる公知の非オニウム系重合開始剤を好適に使用することができる。
非オニウム系重合開始剤としては、感度、耐刷性、機上現像性、及び、着肉性の観点から、電子供与型重合開始剤を含むことが好ましい。
As the non-onium polymerization initiator, known non-onium polymerization initiators used in the image recording layer of a lithographic printing plate precursor can be suitably used.
The non-onium polymerization initiator preferably contains an electron-donating polymerization initiator from the viewpoints of sensitivity, printing durability, on-press developability, and ink receptivity.

非オニウム系重合開始剤としては、現像性、及び耐刷性の観点から、電子供与型重合開始剤として、下記式(II)で表される化合物を含むことが好ましい。 From the viewpoints of developability and printing durability, it is preferable that the non-onium polymerization initiator contains a compound represented by the following formula (II) as an electron donating polymerization initiator.

式(II)中、Xはそれぞれ独立に、ハロゲン原子を表し、Rはアリール基を表す。 In formula (II), each X independently represents a halogen atom, and R3 represents an aryl group.

式(II)におけるXとしては、具体的には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。これらのうち、Xとしては、塩素原子又は臭素原子は、感度に優れるため好ましく、臭素原子が特に好ましい。
また、式(II)において、Rとしては、具体的には、フェニル基、ナフチル基が挙げられる。Rで表されるアリール基の置換基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミド基、アミノ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基等が挙げられる。中でも、置換基としてはヒドロキシ基が好ましい。Rとしては、ヒドロキシ基で置換されたフェニル基が好ましい。
Specific examples of X in formula (II) include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Among these, a chlorine atom or a bromine atom is preferred as X because of its excellent sensitivity, and a bromine atom is particularly preferred.
In formula (II), specific examples of R3 include a phenyl group and a naphthyl group. Substituents of the aryl group represented by R3 include a halogen atom, a hydroxy group, an amide group, an amino group, a cyano group, an alkyl group, and an alkoxy group. Among these, a hydroxy group is preferred as the substituent. A phenyl group substituted with a hydroxy group is preferred as R3 .

上記式(II)で表される電子受容型重合開始剤の具体例としては、国際公開第2020/262692号に記載のものを好適に用いることができる。 Specific examples of the electron-accepting polymerization initiator represented by the above formula (II) include those described in WO 2020/262692.

非オニウム系重合開始剤としての電子受容型重合開始剤の最低空軌道(LUMO)は、感度の向上の観点から、-3.00eV以下であることが好ましく、-3.02eV以下であることがより好ましい。
また、下限としては、-3.80eV以上であることが好ましく、-3.60eV以上であることがより好ましい。
The lowest unoccupied molecular orbital (LUMO) of the electron-accepting polymerization initiator as the non-onium polymerization initiator is preferably −3.00 eV or less, and more preferably −3.02 eV or less, from the viewpoint of improving sensitivity.
The lower limit is preferably −3.80 eV or more, and more preferably −3.60 eV or more.

本開示において、最高被占軌道(HOMO)及び最低空軌道(LUMO)のMO(分子軌道)エネルギー計算は、以下の方法により行う。
まず、計算対象となる化合物における遊離の対イオンは計算対象から除外する。例えば、カチオン性の赤外線吸収剤では対アニオンを、アニオン性のボレート化合物では対カチオンをそれぞれ計算対象から除外する。ここでいう遊離とは、対象とする化合物とその対イオンが共有結合で連結されていないことを意味する。
量子化学計算ソフトウェアGaussian16を用い、構造最適化はDFT(B3LYP/6-31G(d))で行う。
MOエネルギー計算は、上記構造最適化で得た最適構造で量子化学計算ソフトウェアGaussian16を用い、DFT(B3LYP/6-31+G(d,p)/PCM(solvent=methanol))で行う。なお、ヨウ素を含有する化合物は、DFT(B3LYP/DGDZVP/PCM(solvent=methanol))条件にて計算する。
ここでいう最適構造とは、DFT計算で得られる全エネルギーが最も安定な構造を意味する。必要に応じて構造最適化を繰り返すことで、最安定構造を見出す。
上記MOエネルギー計算で得られたMOエネルギーEbare(単位:hartree)を以下の公式により、本開示においてHOMO及びLUMOの値として用いるEscaled(単位:eV)へ変換する。
〔HOMOの算出式〕 Escaled=0.823168×27.2114×Ebare-1.07634
〔LUMOの算出式〕 Escaled=0.820139×27.2114×Ebare-1.086039
なお、27.2114は単にhartreeをeVに変換するための係数であり、HOMOを算出する際に用いる0.823168と-1.07634、及び、LUMOを算出する際に用いる0.820139と-1.086039とは調節係数であり、計算対象となる化合物のHOMOとLUMOの計算が実測の値に合うように定める。
In the present disclosure, the MO (molecular orbital) energy calculations of the highest occupied molecular orbital (HOMO) and the lowest unoccupied molecular orbital (LUMO) are performed by the following method.
First, free counter ions in the target compound are excluded from the calculation. For example, counter anions are excluded from the calculation in the case of cationic infrared absorbers, and counter cations are excluded from the calculation in the case of anionic borate compounds. "Free" here means that the target compound and its counter ion are not linked by a covalent bond.
The quantum chemical calculation software Gaussian 16 is used, and structural optimization is performed by DFT (B3LYP/6-31G(d)).
The MO energy calculation is performed using the quantum chemistry calculation software Gaussian 16 with the optimal structure obtained by the above structure optimization, and DFT (B3LYP/6-31+G(d,p)/PCM (solvent=methanol)). Note that, for compounds containing iodine, calculations are performed under DFT (B3LYP/DGDZVP/PCM (solvent=methanol)) conditions.
The term "optimal structure" used here means the structure with the most stable total energy obtained by DFT calculation. The most stable structure can be found by repeating structural optimization as necessary.
The MO energy Ebare (unit: heartree) obtained in the above MO energy calculation is converted to Escaled (unit: eV) used as the HOMO and LUMO values in this disclosure by the following formula.
[HOMO calculation formula] Escaled = 0.823168 x 27.2114 x Ebare - 1.07634
[LUMO calculation formula] Escaled = 0.820139 x 27.2114 x Ebare - 1.086039
Note that 27.2114 is simply a coefficient for converting Hartree to eV, and 0.823168 and −1.07634 used in calculating the HOMO, and 0.820139 and −1.086039 used in calculating the LUMO are adjustment coefficients determined so that the calculated HOMO and LUMO of the compound to be calculated match the actually measured values.

非オニウム系重合開始剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
非オニウム系重合開始剤の含有量は、画像記録層の全質量に対して、0.1質量%~50質量%であることが好ましく、0.5質量%~30質量%であることがより好ましく、0.8質量%~20質量%であることが特に好ましい。
The non-onium polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more kinds.
The content of the non-onium polymerization initiator is preferably from 0.1% by mass to 50% by mass, more preferably from 0.5% by mass to 30% by mass, and particularly preferably from 0.8% by mass to 20% by mass, based on the total mass of the image recording layer.

〔ボレート化合物〕
画像記録層は、ボレート化合物を含む。
ボレート化合物としては、テトラアリールボレート化合物又はモノアルキルトリアリールボレート化合物が好ましく、化合物の安定性の観点から、テトラアリールボレート化合物がより好ましく、テトラフェニルボレート化合物が特に好ましい。
ボレート化合物が有する対カチオンとしては、特に制限はないが、アルカリ金属イオン、又は、テトラアルキルアンモニウムイオンであることが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又は、テトラブチルアンモニウムイオンであることがより好ましい。
また、ボレート化合物が有する対カチオンが、赤外線吸収剤のカチオン部であってもよい。
[Borate Compounds]
The image recording layer contains a borate compound.
As the borate compound, a tetraarylborate compound or a monoalkyltriarylborate compound is preferable, and from the viewpoint of the stability of the compound, a tetraarylborate compound is more preferable, and a tetraphenylborate compound is particularly preferable.
The counter cation of the borate compound is not particularly limited, but is preferably an alkali metal ion or a tetraalkylammonium ion, and more preferably a sodium ion, a potassium ion, or a tetrabutylammonium ion.
The counter cation of the borate compound may be the cation moiety of the infrared absorbing agent.

ボレート化合物として具体的には、ナトリウムテトラフェニルボレートが好ましく挙げられる。 A specific example of a preferred borate compound is sodium tetraphenylborate.

また、ボレート化合物の最高被占軌道(HOMO)は、耐薬品性及び耐刷性の観点から、-6.00eV以上であることが好ましく、-5.95eV以上であることがより好ましく、-5.93eV以上であることが更に好ましく、-5.90eVより大きいことが特に好ましい。
また、上限としては、-5.00eV以下であることが好ましく、-5.40eV以下であることがより好ましい。
From the viewpoints of chemical resistance and printing durability, the highest occupied molecular orbital (HOMO) of the borate compound is preferably −6.00 eV or more, more preferably −5.95 eV or more, even more preferably −5.93 eV or more, and particularly preferably greater than −5.90 eV.
The upper limit is preferably −5.00 eV or less, and more preferably −5.40 eV or less.

ボレート化合物の好ましい具体例としては、国際公開第2020/262692号に記載の電子供与型重合開始剤が好適に挙げられる。 Specific examples of preferred borate compounds include the electron-donating polymerization initiators described in WO 2020/262692.

また、画像記録層は、赤外線吸収剤のHOMO-ボレート化合物のHOMOの値が、0.70eV以下であることがより好ましい。 Moreover, it is more preferable that the HOMO value of the HOMO-borate compound of the infrared absorbing agent in the image recording layer is 0.70 eV or less.

ボレート化合物は、1種のみを添加しても、2種以上を併用してもよい。
ボレート化合物の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.01質量%~30質量%が好ましく、0.05質量%~25質量%がより好ましく、0.1質量%~20質量%が更に好ましい。
The borate compounds may be added either alone or in combination of two or more.
The content of the borate compound is preferably from 0.01 to 30% by mass, more preferably from 0.05 to 25% by mass, and even more preferably from 0.1 to 20% by mass, based on the total mass of the image recording layer.

〔赤外線吸収剤〕
画像記録層は、赤外線吸収剤を含む。
赤外線吸収剤としては、分子内にカチオン部を有する赤外線吸収剤であれば、特に制限はなく、例えば、顔料及び染料が挙げられる。
[Infrared absorbing agent]
The image recording layer contains an infrared absorbing agent.
The infrared absorbing agent is not particularly limited as long as it has a cationic moiety in the molecule, and examples thereof include pigments and dyes.

赤外線吸収剤のカチオン部のShapeIndexは、例えば、0.2~0.8が好ましく、0.3~0.6がより好ましい。 The ShapeIndex of the cationic portion of the infrared absorber is, for example, preferably 0.2 to 0.8, and more preferably 0.3 to 0.6.

赤外線吸収剤として用いられる染料としては、市販の染料及び例えば、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものうち分子内にカチオン部を有するものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。 Dyes that can be used as infrared absorbents include commercially available dyes and known dyes that have a cationic moiety in the molecule, such as those described in literature such as "Dye Handbook" (edited by the Society of Organic Synthesis Chemistry, published in 1970). Specific examples include azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complex dyes.

赤外線吸収剤のうち、特に好ましいものとしては、分子内にカチオン部とアニオン部とを有するシアニン色素が特に好ましい。 Among infrared absorbing agents, cyanine dyes that have a cationic portion and an anionic portion in the molecule are particularly preferred.

シアニン色素の具体例としては、特開2001-133969号公報の段落0017~0019に記載の化合物、特開2002-023360号公報の段落0016~0021、特開2002-040638号公報の段落0012~0037に記載の化合物、好ましくは特開2002-278057号公報の段落0034~0041、特開2008-195018号公報の段落0080~0086に記載の化合物、特に好ましくは特開2007-90850号公報の段落0035~0043に記載の化合物、特開2012-206495号公報の段落0105~0113に記載の化合物が挙げられる。
また、特開平5-5005号公報の段落0008~0009、特開2001-222101号公報の段落0022~0025に記載の化合物も好ましく使用することができる。
顔料としては、特開2008-195018号公報の段落0072~0076に記載の化合物が好ましい。
Specific examples of the cyanine dye include the compounds described in paragraphs 0017 to 0019 of JP-A-2001-133969, paragraphs 0016 to 0021 of JP-A-2002-023360, and paragraphs 0012 to 0037 of JP-A-2002-040638, preferably the compounds described in paragraphs 0034 to 0041 of JP-A-2002-278057 and paragraphs 0080 to 0086 of JP-A-2008-195018, particularly preferably the compounds described in paragraphs 0035 to 0043 of JP-A-2007-90850, and the compounds described in paragraphs 0105 to 0113 of JP-A-2012-206495.
In addition, the compounds described in paragraphs 0008 to 0009 of JP-A No. 5-5005 and paragraphs 0022 to 0025 of JP-A No. 2001-222101 can also be preferably used.
As the pigment, the compounds described in paragraphs 0072 to 0076 of JP-A-2008-195018 are preferred.

また、赤外線吸収剤は、分子内にカチオン部を有していれば、例えば、赤外線露光により分解する赤外線吸収剤(分解型赤外線吸収剤)を用いることもできる。
赤外線吸収剤として、分解型赤外線吸収剤を用いることにより、上記赤外線吸収剤又はその分解物が重合を促進し、また、赤外線吸収剤の分解物と重合性化合物とが相互作用することにより、耐刷性に優れると推定している。
分解型赤外線吸収剤は、赤外線露光により、赤外線を吸収し、分解して、発色する機能を有する赤外線吸収剤であることが好ましい。
以降、分解型赤外線吸収剤が、赤外線露光により、赤外線を吸収し、分解して形成される発色した化合物を、「分解型赤外線吸収剤の発色体」ともいう。
また、分解型赤外線吸収剤は、赤外線露光により、赤外線を吸収し、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有することが好ましい。
分解型赤外線吸収剤は、赤外線波長域(波長750nm~1mm)の少なくとも1部の光を吸収し、分解するものであればよいが、750nm~1,400nmの波長域に極大吸収波長を有する赤外線吸収剤であることが好ましく、760nm~900nmの波長域に極大吸収波長を有する赤外線吸収剤であることがより好ましい。
より具体的には、分解型赤外線吸収剤は、赤外線露光に起因して分解し、500nm~600nmの波長域に極大吸収波長を有する化合物を生成する化合物であることが好ましい。
In addition, as long as the infrared absorbing agent has a cationic portion in the molecule, for example, an infrared absorbing agent that decomposes upon exposure to infrared rays (decomposable infrared absorbing agent) can also be used.
It is presumed that by using a decomposable infrared absorber as the infrared absorber, the infrared absorber or its decomposition products promote polymerization, and further, the decomposition products of the infrared absorber interact with the polymerizable compound, resulting in excellent printing durability.
The decomposable infrared absorbent is preferably an infrared absorbent that has the function of absorbing infrared rays, decomposing, and developing color when exposed to infrared rays.
Hereinafter, the colored compound formed by the decomposable infrared absorber absorbing infrared light and decomposing when exposed to infrared light is also referred to as a "colored body of the decomposable infrared absorber."
The decomposable infrared absorbent preferably has a function of absorbing infrared rays upon exposure to infrared rays and converting the absorbed infrared rays into heat.
The decomposable infrared absorbent may be one that absorbs and decomposes at least a part of light in the infrared wavelength region (wavelength 750 nm to 1 mm), but is preferably an infrared absorbent having a maximum absorption wavelength in the wavelength region of 750 nm to 1,400 nm, and more preferably an infrared absorbent having a maximum absorption wavelength in the wavelength region of 760 nm to 900 nm.
More specifically, the decomposable infrared absorbent is preferably a compound that decomposes upon exposure to infrared light to produce a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 500 nm to 600 nm.

分解型赤外線吸収剤は、赤外線露光に起因する熱、電子移動又はその両方により分解する赤外線吸収剤であることが好ましく、赤外線露光に起因する電子移動により分解する赤外線吸収剤であることがより好ましい。ここで、「電子移動により分解する」とは、赤外線露光によって分解型赤外線吸収剤のHOMO(最高被占軌道)からLUMO(最低空軌道)に励起した電子が、分子内の電子受容基(LUMOと電位が近い基)に分子内電子移動し、それに伴って分解が生じることを意味する。 The decomposable infrared absorber is preferably an infrared absorber that decomposes due to heat, electron transfer, or both caused by infrared exposure, and more preferably an infrared absorber that decomposes due to electron transfer caused by infrared exposure. Here, "decomposes due to electron transfer" means that electrons excited from the HOMO (highest occupied molecular orbital) of the decomposable infrared absorber to the LUMO (lowest unoccupied molecular orbital) by infrared exposure transfer intramolecularly to an electron accepting group (a group with a potential close to that of the LUMO) within the molecule, resulting in decomposition.

また、赤外線吸収剤、及び、赤外線露光により分解する赤外線吸収剤としては、国際公開第2020/262692号に記載のものを好適に用いることができる。
更に、赤外線露光により分解する赤外線吸収剤としては、特表2008-544322号公報、又は、国際公開第2016/027886号に記載のものを好適に用いることができる。
また、分解型赤外線吸収剤であるシアニン色素としては、国際公開第2019/219560号に記載の赤外線吸収性化合物を好適に用いることができる。
In addition, as the infrared absorbent and the infrared absorbent that decomposes upon exposure to infrared light, those described in WO 2020/262692 can be suitably used.
Furthermore, as the infrared absorbent that decomposes upon exposure to infrared rays, those described in JP-A-2008-544322 or WO 2016/027886 can be suitably used.
In addition, as the cyanine dye which is a decomposable infrared absorber, the infrared absorbing compounds described in WO 2019/219560 can be suitably used.

また、本開示に用いられる赤外線吸収剤の最高被占軌道(HOMO)の値は、耐刷性、及び、網点再現性の観点から、-5.00eV以下であることが好ましく、-5.30eV以下であることがより好ましい。
また、下限としては、耐刷性、及び、網点再現性の観点から、-5.90eV以上であることが好ましく、-5.75eV以上であることがより好ましく、-5.60eV以上であることが更に好ましい。
Moreover, the highest occupied molecular orbital (HOMO) value of the infrared absorber used in the present disclosure is preferably −5.00 eV or less, and more preferably −5.30 eV or less, from the viewpoints of printing durability and halftone dot reproducibility.
From the viewpoints of printing durability and dot reproducibility, the lower limit is preferably −5.90 eV or more, more preferably −5.75 eV or more, and even more preferably −5.60 eV or more.

赤外線吸収剤は、1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、赤外線吸収剤として顔料と染料とを併用してもよい。
画像記録層中の赤外線吸収剤の総含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.1質量%~10.0質量%が好ましく、0.5質量%~5.0質量%がより好ましい。
The infrared absorbing agent may be used alone or in combination of two or more kinds. Also, a pigment and a dye may be used in combination as the infrared absorbing agent.
The total content of the infrared absorbing agent in the image recording layer is preferably from 0.1% by mass to 10.0% by mass, and more preferably from 0.5% by mass to 5.0% by mass, based on the total mass of the image recording layer.

本開示における好ましい態様の一つは、赤外線吸収剤(好ましくはシアニン色素)と、ボレート化合物と、が塩を形成している化合物を含む態様である。赤外線吸収剤とボレート化合物とが塩を形成している化合物として具体的には、例えば、赤外線吸収剤(好ましくはシアニン色素)のカチオン部と、ボレートアニオン(例えば、テトラフェニルボレートアニオン)との塩が挙げられる。
赤外線吸収剤のカチオン部とボレートアニオンとを含む化合物を用いる場合(つまり、上記塩を形成している化合物を用いる場合)、画像記録層は赤外線吸収剤及びボレート化合物の両方を含むものとする。
また、赤外線吸収剤とボレート化合物とが塩を形成している化合物は、他の赤外線吸収剤と併用してもよいし、他のボレート化合物と併用してもよい。
A preferred embodiment of the present disclosure includes a compound in which an infrared absorbing agent (preferably a cyanine dye) and a borate compound form a salt. Specific examples of the compound in which an infrared absorbing agent and a borate compound form a salt include salts of a cation portion of an infrared absorbing agent (preferably a cyanine dye) and a borate anion (e.g., a tetraphenylborate anion).
When a compound containing a cationic portion of an infrared absorbing agent and a borate anion is used (that is, when a compound forming the above-mentioned salt is used), the image recording layer contains both the infrared absorbing agent and the borate compound.
Furthermore, the compound in which an infrared absorbing agent and a borate compound form a salt may be used in combination with another infrared absorbing agent or another borate compound.

〔赤外線吸収剤と、ボレート化合物と、非オニウム系重合開始剤と、の関係〕
本開示における画像記録層は、ボレート化合物のHOMOが-6.0eV以上であり、かつ、非オニウム系重合開始剤のLUMOが-3.0eV以下であることが好ましい。
ボレート化合物のHOMO、及び、非オニウム系重合開始剤のLUMOのより好ましい態様は、それぞれ上述の通りである。
本開示における画像記録層において、ボレート化合物と、赤外線吸収剤と、非オニウム系重合開始剤とは、エネルギーの受け渡しを行っていると推測される。
そのため、ボレート化合物のHOMOが-6.0eV以上であり、かつ、非オニウム系重合開始剤のLUMOが-3.0eV以下であれば、ラジカルの発生効率が向上するため、耐薬品性及び耐刷性により優れやすいと考えられる。
[Relationship between infrared absorber, borate compound, and non-onium polymerization initiator]
In the image recording layer of the present disclosure, it is preferable that the HOMO of the borate compound is −6.0 eV or more, and the LUMO of the non-onium polymerization initiator is −3.0 eV or less.
More preferred embodiments of the HOMO of the borate compound and the LUMO of the non-onium polymerization initiator are as described above.
In the image recording layer of the present disclosure, it is presumed that energy is transferred between the borate compound, the infrared absorbing agent, and the non-onium polymerization initiator.
Therefore, if the HOMO of the borate compound is −6.0 eV or more and the LUMO of the non-onium polymerization initiator is −3.0 eV or less, it is considered that the efficiency of radical generation is improved, and therefore the chemical resistance and printing durability are more likely to be excellent.

耐刷性及び耐薬品性の観点から、赤外線吸収剤のHOMO-ボレート化合物のHOMOの値は、1.0eV以下であることが好ましく、0.70eV以下であることがより好ましく、0.60eV以下であることが特に好ましい。また、同様の観点から、赤外線吸収剤のHOMO-ボレート化合物のHOMOの値は、-0.200eV以上であることが好ましく、-0.100eV以上であることがより好ましい。なお、マイナスの値は、ボレート化合物のHOMOが、赤外線吸収剤のHOMOよりも高くなることを意味する。
また、耐刷性及び耐薬品性の観点から、非オニウム系重合開始剤のLUMO-赤外線吸収剤のLUMOの値は、1.00eV以下であることが好ましく、0.700eV以下であることがより好ましい。また、同様の観点から、非オニウム系重合開始剤のLUMO-赤外線吸収剤のLUMOの値は、-0.200eV以上であることが好ましく、-0.100eV以上であることがより好ましい。
また、同様の観点から、非オニウム系重合開始剤のLUMO-赤外線吸収剤のLUMOの値は、1.00eV~-0.200eVであることが好ましく、0.700eV~-0.100eVであることがより好ましい。なお、マイナスの値は、赤外線吸収剤のLUMOが、非オニウム系重合開始剤のLUMOよりも高くなることを意味する。
From the viewpoints of printing durability and chemical resistance, the HOMO value of the infrared absorber-borate compound is preferably 1.0 eV or less, more preferably 0.70 eV or less, and particularly preferably 0.60 eV or less. From the same viewpoint, the HOMO value of the infrared absorber-borate compound is preferably -0.200 eV or more, more preferably -0.100 eV or more. A negative value means that the HOMO of the borate compound is higher than the HOMO of the infrared absorber.
From the viewpoints of printing durability and chemical resistance, the LUMO value of the LUMO-infrared absorber of the non-onium polymerization initiator is preferably 1.00 eV or less, and more preferably 0.700 eV or less. From the same viewpoint, the LUMO value of the LUMO-infrared absorber of the non-onium polymerization initiator is preferably -0.200 eV or more, and more preferably -0.100 eV or more.
From the same viewpoint, the value of LUMO of the non-onium polymerization initiator minus LUMO of the infrared absorber is preferably 1.00 eV to -0.200 eV, and more preferably 0.700 eV to -0.100 eV. Note that a negative value means that the LUMO of the infrared absorber is higher than the LUMO of the non-onium polymerization initiator.

〔酸発色剤〕
画像記録層は、視認性の観点から、酸発色剤を含んでいてもよい。
本開示で用いられる「酸発色剤」とは、電子受容性化合物(例えば酸等のプロトン)を受容した状態で加熱することにより、発色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味する。酸発色剤としては、特に、ラクトン、ラクタム、サルトン、スピロピラン、エステル、アミド等の部分骨格を有し、電子受容性化合物と接触した時に、速やかにこれらの部分骨格が開環若しくは開裂する無色の化合物が好ましい。
[Acid color former]
From the viewpoint of visibility, the image recording layer may contain an acid color former.
The term "acid color former" used in the present disclosure means a compound that has the property of developing color and changing the color of the image recording layer when heated in a state in which it accepts an electron-accepting compound (e.g., a proton of an acid, etc.). As the acid color former, in particular, a colorless compound having a partial skeleton such as lactone, lactam, sultone, spiropyran, ester, amide, etc., which quickly opens or cleaves the partial skeleton when it comes into contact with an electron-accepting compound is preferred.

酸発色剤の分子中に存在する全ての水素原子の水素引き抜きエンタルピーは、UV耐刷性の観点から、-6.5kcal/mol以上であることが好ましく、-4.0kcal/mol以上であることがより好ましく、-2.0kcal/mol以上であることが更に好ましく、-2.0kcal/mol~50kcal/molであることが特に好ましい。
水素引き抜きエンタルピーが大きい値であるほど、ラジカル等の重合開始種による上記酸発色剤からの水素原子の引き抜きが抑制され、重合反応が長く生じるため、硬化性に優れ、耐刷性、特にUV耐刷性により優れる。
From the viewpoint of UV printing durability, the hydrogen abstraction enthalpy of all hydrogen atoms present in the molecule of the acid color former is preferably −6.5 kcal/mol or more, more preferably −4.0 kcal/mol or more, even more preferably −2.0 kcal/mol or more, and particularly preferably −2.0 kcal/mol to 50 kcal/mol.
The larger the hydrogen abstraction enthalpy, the more the abstraction of hydrogen atoms from the acid color former by polymerization initiating species such as radicals is suppressed, and the longer the polymerization reaction takes place, resulting in excellent curability and printing durability, particularly UV printing durability.

本開示における酸発色剤の分子中に存在する全ての水素原子の水素引き抜きエンタルピーは、以下の方法により算出するものとする。
計算プログラムはGaussian16を用い、計算レベルは密度汎関数法(B3LYP/6-31+G**)、溶媒効果はSCRF法(溶媒:Methanol)として、水素引き抜きによる成長ラジカルとの反応について、反応物と生成物のエンタルピーを各々計算し、両者の差をとることにより、反応エンタルピー計算を実施する。
The hydrogen abstraction enthalpy of all hydrogen atoms present in the molecule of the acid color former in the present disclosure is calculated by the following method.
The calculation program used is Gaussian 16, the calculation level is density functional theory (B3LYP/6-31+G**), and the solvent effect is the SCRF method (solvent: methanol). The enthalpy of the reactant and the product are calculated for the reaction with the growing radical by hydrogen abstraction, and the reaction enthalpy is calculated by taking the difference between the two.

より具体的には、以下のように実施する。下記化学反応式中、成長ラジカル、LeucoDye-H、水素付加された成長ラジカル、LeucoDye-radical各々について、Gaussian用プリポストソフトウェアGaussView6を用いてモデリングする。計算条件の指定は、#p opt b3lyp/6-31+g(d,p) scrf=(solvent=methanolとし、ラジカルの場合は電荷0多重度2、ラジカル以外の場合は電荷0多重度1と設定する。#pの指定は詳細ログ出力の指定であり、省略してもよい。
計算を実行して最適化された構造のエネルギー(単位:hartree)から、反応物の生成エンタルピー(成長ラジカルとLeucoDye-Hのエネルギーの和)、及び生成物の生成エンタルピー(水素付加された成長ラジカルとLeucoDye-radicalのエネルギーの和)を求め、生成物の生成エンタルピーから反応物の生成エンタルピーを差し引いた値を水素引抜きエンタルピーとする。単位は、1hartree=627.51kcal/molとして換算する。
More specifically, the method is carried out as follows. In the following chemical reaction formula, the growing radical, LeucoDye-H, the hydrogenated growing radical, and LeucoDye-radical are each modeled using GaussView6, a pre-post software for Gaussian. The calculation conditions are specified as follows: #p opt b3lyp/6-31+g(d,p) scrf=(solvent=methanol, and the charge is set to 0 and multiplicity to 2 for radicals and 0 and multiplicity to 1 for non-radicals. The #p specification is for detailed log output and may be omitted.
The formation enthalpy of the reactant (the sum of the energies of the growing radical and LeucoDye-H) and the formation enthalpy of the product (the sum of the energies of the hydrogen-added growing radical and LeucoDye-radical) are calculated from the energy (unit: heartree) of the optimized structure by performing calculations, and the value obtained by subtracting the formation enthalpy of the reactant from the formation enthalpy of the product is regarded as the hydrogen abstraction enthalpy. The unit is converted as 1 heartree = 627.51 kcal/mol.

例えば、以下の化合物の各水素原子における水素引き抜きエンタルピーは、以下の通りである。 For example, the hydrogen abstraction enthalpy for each hydrogen atom in the following compound is:

酸発色剤は、UV耐刷性の観点から、窒素原子に水素原子が直接結合した構造を有
しないことが好ましい。
窒素原子に水素原子が直接結合した構造(N-H構造)は、ラジカル等による水素引き抜き反応が生じやすい構造であり、この構造を有しない化合物であると、酸発色剤からの水素原子の引き抜きが抑制され、重合反応が長く生じるため、硬化性に優れ、耐刷性、特にUV耐刷性により優れる。
From the viewpoint of UV printing durability, it is preferable that the acid color former does not have a structure in which a hydrogen atom is directly bonded to a nitrogen atom.
A structure in which a hydrogen atom is directly bonded to a nitrogen atom (N-H structure) is a structure in which a hydrogen abstraction reaction by a radical or the like is likely to occur. A compound that does not have this structure suppresses the abstraction of a hydrogen atom from the acid color former and causes a polymerization reaction to occur for a long time, resulting in excellent curability and excellent printing durability, particularly excellent UV printing durability.

中でも、本開示に用いられる酸発色剤は、発色性の観点から、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、スピロラクトン化合物、及び、スピロラクタム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物であることが好ましい。
酸発色剤の発色後の色相(すなわち、酸発色剤から生成した発色体の色相)としては、可視性の観点から、緑、青又は黒であることが好ましい。
Among these, from the viewpoint of color development, the acid color former used in the present disclosure is preferably at least one compound selected from the group consisting of spiropyran compounds, spirooxazine compounds, spirolactone compounds, and spirolactam compounds.
The hue of the color developed by the acid color former (i.e., the hue of the color formed from the acid color former) is preferably green, blue, or black from the viewpoint of visibility.

また、酸発色剤は、発色性、及び、視認性の観点から、ロイコ色素を含むことが好ましく、ロイコ色素であることがより好ましい。
ロイコ色素としては、ロイコ構造を有する色素であれば、特に制限はないが、スピロ構造を有することが好ましく、スピロラクトン環構造を有することがより好ましい。
また、ロイコ色素としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素であることが好ましい。
更に、フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、下記式(Le-1)~式(Le-3)のいずれかで表される化合物であることが好ましく、下記式(Le-2)で表される化合物であることがより好ましい。
Moreover, from the viewpoints of color development and visibility, the acid color former preferably contains a leuco dye, and more preferably is a leuco dye.
The leuco dye is not particularly limited as long as it has a leuco structure, but it preferably has a spiro structure, and more preferably has a spirolactone ring structure.
In addition, the leuco dye is preferably a leuco dye having a phthalide structure or a fluoran structure from the viewpoints of color development and visibility of exposed areas.
Furthermore, from the viewpoints of color development and visibility of exposed areas, the leuco dye having a phthalide structure or a fluoran structure is preferably a compound represented by any one of the following formulas (Le-1) to (Le-3), and more preferably a compound represented by the following formula (Le-2).

式(Le-1)~式(Le-3)中、ERGはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、X~Xはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、X~X10はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Raは、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Rb~Rbはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。 In formulae (Le-1) to (Le-3), ERG each independently represents an electron donating group, X 1 to X 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a dialkylanilino group, X 5 to X 10 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group, Y 1 and Y 2 each independently represent C or N, and when Y 1 is N, X 1 is not present, and when Y 2 is N, X 4 is not present, Ra 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group, and Rb 1 to Rb 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group.

式(Le-1)~式(Le-3)のERGにおける電子供与性基としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、又は、アルキル基であることが好ましく、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテ
ロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、アルコキシ基、又は、アリーロキシ基であることがより好ましく、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基又はモノアリールモノヘテロアリールアミノ基であることが更に好ましく、モノアルキルモノアリールアミノ基であることが特に好ましい。
また、上記ERGにおける電子供与性基としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、少なくとも1つのオルト位に置換基を有するアリール基又は少なくとも1つのオルト位に置換基を有するヘテロアリール基を有する二置換アミノ基であることが好ましく、少なくとも1つのオルト位に置換基を有し、かつパラ位に電子供与性基を有するフェニル基を有する二置換アミノ基であることがより好ましく、少なくとも1つのオルト位に置換基を有し、かつパラ位に電子供与性基を有するフェニル基とアリール基又はヘテロアリール基とを有するアミノ基であることが更に好ましく、少なくとも1つのオルト位に置換基を有し、かつパラ位に電子供与性基を有するフェニル基と電子供与性基を有するアリール基又は電子供与性基を有するヘテロアリール基とを有するアミノ基であることが特に好ましい。
なお、本開示において、フェニル基以外のアリール基又はヘテロアリール基におけるオルト位は、アリール基又はヘテロアリール基の他の構造との結合位置を1位とした場合の上記1位の隣の結合位置(例えば、2位等)を言うものとする。
更に、上記アリール基又はヘテロアリール基が有する電子供与性基としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、又は、アルキル基であることが好ましく、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、又は、アルキル基であることがより好ましく、アルコキシ基であることが特に好ましい。
From the viewpoints of color development and visibility of exposed areas, the electron-donating group in ERG of formulae (Le-1) to (Le-3) is preferably an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heteroarylamino group, a dialkylamino group, a monoalkylmonoarylamino group, a monoalkylmonoheteroarylamino group, a diarylamino group, a diheteroarylamino group, a monoarylmonoheteroarylamino group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group, or an alkyl group, more preferably an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heteroarylamino group, a dialkylamino group, a monoalkylmonoarylamino group, a monoalkylmonoheteroarylamino group, a diarylamino group, a diheteroarylamino group, a monoarylmonoheteroarylamino group, an alkoxy group, or an aryloxy group, still more preferably a monoalkylmonoarylamino group, a diarylamino group, a diheteroarylamino group, or a monoarylmonoheteroarylamino group, and particularly preferably a monoalkylmonoarylamino group.
In addition, from the viewpoints of color development and visibility of exposed areas, the electron-donating group in the above ERG is preferably a di-substituted amino group having an aryl group having a substituent at at least one ortho position or a heteroaryl group having a substituent at at least one ortho position, more preferably a di-substituted amino group having a phenyl group having a substituent at at least one ortho position and an electron-donating group at the para position, still more preferably an amino group having a phenyl group having a substituent at at least one ortho position and an electron-donating group at the para position, and an aryl group or a heteroaryl group, and particularly preferably an amino group having a phenyl group having a substituent at at least one ortho position and an electron-donating group at the para position, and an aryl group having an electron-donating group or a heteroaryl group having an electron-donating group.
In the present disclosure, the ortho position in an aryl group or heteroaryl group other than a phenyl group refers to the bonding position adjacent to the bonding position 1 (e.g., the 2nd position, etc.) when the bonding position of the aryl group or heteroaryl group to another structure is defined as the 1st position.
[0046] Furthermore, from the viewpoints of color development and visibility of exposed areas, the electron-donating group contained in the aryl group or heteroaryl group is preferably an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heteroarylamino group, a dialkylamino group, a monoalkylmonoarylamino group, a monoalkylmonoheteroarylamino group, a diarylamino group, a diheteroarylamino group, a monoarylmonoheteroarylamino group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group, or an alkyl group, more preferably an alkoxy group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group, or an alkyl group, and particularly preferably an alkoxy group.

式(Le-1)~式(Le-3)におけるX~Xはそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、又は、塩素原子であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
式(Le-2)又は式(Le-3)におけるX~X10はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、ヘテロアリーロキシカルボニル基又はシアノ基であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、又は、アリーロキシ基であることがより好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又は、アリール基であることが更に好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
式(Le-1)~式(Le-3)におけるY及びYは、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、少なくとも1方がCであることが好ましく、Y及びYの両方がCであることがより好ましい。
式(Le-1)~式(Le-3)におけるRaは、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
式(Le-1)~式(Le-3)におけるRb~Rbはそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
In formulae (Le-1) to (Le-3), X 1 to X 4 each independently represent, from the viewpoints of color development and visibility of exposed areas, preferably a hydrogen atom or a chlorine atom, and more preferably a hydrogen atom.
In formula (Le-2) or formula (Le-3), X 5 to X 10 are each independently, from the viewpoint of color development and visibility of the exposed area, preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heteroarylamino group, a dialkylamino group, a monoalkylmonoarylamino group, a monoalkylmonoheteroarylamino group, a diarylamino group, a diheteroarylamino group, a monoarylmonoheteroarylamino group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a heteroaryloxycarbonyl group or a cyano group, more preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group or an aryloxy group, further preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or an aryl group, and particularly preferably a hydrogen atom.
In terms of color development and visibility of the exposed area, it is preferable that at least one of Y1 and Y2 in formulae (Le-1) to (Le-3) is C, and it is more preferable that both of Y1 and Y2 are C.
In terms of color development and visibility of the exposed area, Ra 1 in formulae (Le-1) to (Le-3) is preferably an alkyl group or an alkoxy group, more preferably an alkoxy group, and particularly preferably a methoxy group.
In formulae (Le-1) to (Le-3), Rb 1 to Rb 4 each independently represent, from the viewpoints of color development and visibility of the exposed area, preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably an alkyl group, and particularly preferably a methyl group.

また、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、下記式(Le-4)~式(Le-6)のいずれかで表される化合物であることがより好ましく、下記式(Le-5)で表される化合物であることが更に好ましい。 In addition, from the viewpoints of color development and visibility of exposed areas, the leuco dye having the above-mentioned phthalide structure or fluoran structure is more preferably a compound represented by any one of the following formulas (Le-4) to (Le-6), and even more preferably a compound represented by the following formula (Le-5).

式(Le-4)~式(Le-6)中、ERGはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、X~Xはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Raは、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Rb~Rbはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。 In formulae (Le-4) to (Le-6), ERG each independently represents an electron donating group, X 1 to X 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a dialkylanilino group, Y 1 and Y 2 each independently represent C or N, and when Y 1 is N, X 1 is not present, and when Y 2 is N, X 4 is not present, Ra 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group, and Rb 1 to Rb 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group.

式(Le-4)~式(Le-6)におけるERG、X~X、Y、Y、Ra、及び、Rb~Rbはそれぞれ、式(Le-1)~式(Le-3)におけるERG、X~X、Y、Y、Ra、及び、Rb~Rbと同義であり、好ましい態様も同様である。 ERG, X 1 to X 4 , Y 1 , Y 2 , Ra 1 , and Rb 1 to Rb 4 in formulas (Le-4) to (Le-6) have the same meanings as ERG, X 1 to X 4 , Y 1 , Y 2 , Ra 1 , and Rb 1 to Rb 4 in formulas (Le-1) to (Le-3), respectively, and preferred embodiments are also the same.

更に、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、下記式(Le-7)~式(Le-9)のいずれかで表される化合物であることが更に好ましく、下記式(Le-8)で表される化合物であることが特に好ましい。 Furthermore, from the viewpoints of color development and visibility of exposed areas, the leuco dye having the above-mentioned phthalide structure or fluoran structure is more preferably a compound represented by any one of the following formulas (Le-7) to (Le-9), and particularly preferably a compound represented by the following formula (Le-8).

式(Le-7)~式(Le-9)中、X~Xはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Ra~Raはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Rb
~Rbはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Rc及びRcはそれぞれ独立に、アリール基又はヘテロアリール基を表す。
In formulae (Le-7) to (Le-9), X 1 to X 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a dialkylanilino group; Y 1 and Y 2 each independently represent C or N; when Y 1 is N, X 1 does not exist; when Y 2 is N, X 4 does not exist; Ra 1 to Ra 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group; Rb
Rb1 to Rb4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group, and Rc1 and Rc2 each independently represent an aryl group or a heteroaryl group.

式(Le-7)~式(Le-9)におけるX~X、Y及びYは、式(Le-1)~式(Le-3)におけるX~X、Y及びYと同義であり、好ましい態様も同様である。
式(Le-7)又は式(Le-9)におけるRa~Raはそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
式(Le-7)~式(Le-9)におけるRb~Rbはそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
式(Le-8)におけるRc及びRcはそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、フェニル基、又は、アルキルフェニル基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。
また、式(Le-8)におけるRc及びRcはそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、少なくとも1つのオルト位に置換基を有するアリール基、又は、少なくとも1つのオルト位に置換基を有するヘテロアリール基であることが好ましく、少なくとも1つのオルト位に置換基を有するアリール基であることがより好ましく、少なくとも1つのオルト位に置換基を有するフェニル基であることが更に好ましく、少なくとも1つのオルト位に置換基を有し、かつパラ位に電子供与性基を有するフェニル基であることが特に好ましい。Rc及びRcにおける上記置換基としては、後述する置換基が挙げられる。
また、式(Le-8)において、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、X~Xが水素原子であり、Y及びYがCであることが好ましい。
更に、式(Le-8)において、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、Rb及びRbがそれぞれ独立に、アルキル基又はアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましい。
更にまた、式(Le-8)において、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、Rb及びRbがそれぞれ独立に、アリール基又はヘテロアリール基であることが好ましく、アリール基であることがより好ましく、電子供与性基を有するアリール基であることが更に好ましく、パラ位に電子供与性基を有するフェニル基であることが特に好ましい。
また、Rb、Rb、Rc及びRcにおける上記電子供与性基としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、又は、アルキル基であることが好ましく、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、又は、アルキル基であることがより好ましく、アルコキシ基であることが特に好ましい。
X 1 to X 4 , Y 1 and Y 2 in formulae (Le-7) to (Le-9) have the same meanings as X 1 to X 4 , Y 1 and Y 2 in formulae (Le-1) to (Le-3), and preferred embodiments are also the same.
In formula (Le-7) or formula (Le-9), Ra 1 to Ra 4 are each independently preferably an alkyl group or an alkoxy group, more preferably an alkoxy group, and particularly preferably a methoxy group, from the viewpoints of color development and visibility of the exposed area.
In formulae (Le-7) to (Le-9), Rb 1 to Rb 4 are each independently, from the viewpoints of color development and visibility of the exposed area, preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group substituted with an alkoxy group, more preferably an alkyl group, and particularly preferably a methyl group.
In formula (Le-8), Rc 1 and Rc 2 each independently represent, from the viewpoints of color development and visibility of exposed areas, preferably a phenyl group or an alkylphenyl group, and more preferably a phenyl group.
In addition, in terms of color development and visibility of exposed areas, Rc 1 and Rc 2 in formula (Le-8) are each independently preferably an aryl group having a substituent at at least one ortho position, or a heteroaryl group having a substituent at at least one ortho position, more preferably an aryl group having a substituent at at least one ortho position, even more preferably a phenyl group having a substituent at at least one ortho position, and particularly preferably a phenyl group having a substituent at at least one ortho position and an electron-donating group at the para position. Examples of the substituents in Rc 1 and Rc 2 include the substituents described below.
In formula (Le-8), from the viewpoints of color development and visibility of exposed areas, it is preferable that X 1 to X 4 are hydrogen atoms, and Y 1 and Y 2 are C.
Furthermore, in formula (Le-8), from the viewpoints of color development and visibility of exposed areas, it is preferred that Rb1 and Rb2 each independently represent an aryl group substituted with an alkyl group or an alkoxy group.
Furthermore, in formula (Le-8), from the viewpoints of color development and visibility of the exposed area, Rb1 and Rb2 are each preferably independently an aryl group or a heteroaryl group, more preferably an aryl group, still more preferably an aryl group having an electron-donating group, and particularly preferably a phenyl group having an electron-donating group at the para position.
From the viewpoints of color development and visibility of the exposed area, the electron-donating group in Rb1 , Rb2 , Rc1 , and Rc2 is preferably an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heteroarylamino group, a dialkylamino group, a monoalkylmonoarylamino group, a monoalkylmonoheteroarylamino group, a diarylamino group, a diheteroarylamino group, a monoarylmonoheteroarylamino group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group, or an alkyl group, more preferably an alkoxy group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group, or an alkyl group, and particularly preferably an alkoxy group.

また、酸発色剤としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、上記酸発色剤が、下記式(3a)又は式(3b)で表される化合物を含むことが好ましく、下記式(3a)で表される化合物を含むことがより好ましい。 In addition, from the viewpoints of color development and visibility of exposed areas, the acid color former preferably contains a compound represented by the following formula (3a) or formula (3b), and more preferably contains a compound represented by the following formula (3a).

式(3a)中、Ar及びArはそれぞれ独立に、アリール基又はヘテロアリール基を表し、R10及びR11はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。
式(3b)中、ERGはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、nは1~5の整数を表し、X~Xはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、R12及びR13はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。
In formula (3a), Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aryl group or a heteroaryl group, and R 10 and R 11 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group.
In formula (3b), ERG each independently represents an electron-donating group, n represents an integer of 1 to 5, X 1 to X 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group, Y 1 and Y 2 each independently represent C or N, and when Y 1 is N, X 1 is not present, and when Y 2 is N, X 4 is not present, and R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group.

式(3a)におけるR10及びR11はそれぞれ、式(Le-7)~式(Le-9)におけるRb及びRbと同義であり、好ましい態様も同様である。
式(3a)におけるAr及びArはそれぞれ、式(Le-7)~式(Le-9)におけるRc及びRcと同義であり、好ましい態様も同様である。
R 10 and R 11 in formula (3a) have the same meanings as Rb 1 and Rb 2 in formulas (Le-7) to (Le-9), respectively, and preferred embodiments are also the same.
Ar 1 and Ar 2 in formula (3a) have the same meanings as Rc 1 and Rc 2 in formulas (Le-7) to (Le-9), respectively, and preferred embodiments are also the same.

式(3b)におけるERG、X~X、Y、及び、Yはそれぞれ、式(Le-1)~式(Le-3)におけるERG、X~X、Y、及び、Yと同義であり、好ましい態様も同様である。
式(3b)におけるR12、及び、R13はそれぞれ、式(Le-1)におけるRb、及び、Rbと同義であり、好ましい態様も同様である。
式(3b)におけるnは、1~3の整数であることが好ましく、1又は2であることがより好ましい。
ERG, X 1 to X 4 , Y 1 and Y 2 in formula (3b) have the same meanings as ERG, X 1 to X 4 , Y 1 and Y 2 in formulas (Le-1) to (Le-3), respectively, and preferred embodiments are also the same.
R 12 and R 13 in formula (3b) have the same meanings as Rb 2 and Rb 4 in formula (Le-1), respectively, and the preferred embodiments are also the same.
In formula (3b), n is preferably an integer of 1 to 3, and more preferably 1 or 2.

式(Le-1)~式(Le-9)、式(3a)又は式(3b)におけるアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
また、式(Le-1)~式(Le-9)、式(3a)又は式(3b)におけるアルキル基の炭素数は、1~20であることが好ましく、1~8であることがより好ましく、1~4であることが更に好ましく、1又は2であることが特に好ましい。
式(Le-1)~式(Le-9)、式(3a)又は式(3b)におけるアリール基の炭素数は、6~20であることが好ましく、6~10であることがより好ましく、6~8であることが特に好ましい。
式(Le-1)~式(Le-9)、式(3a)又は式(3b)におけるアリール基として具体的には、置換基を有していてもよい、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基等が挙げられる。
式(Le-1)~式(Le-9)、式(3a)又は式(3b)におけるヘテロアリール基として具体的には、置換基を有していてもよい、フリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラゾイル基、チオフェニル基等が挙げられる。
The alkyl group in formula (Le-1) to formula (Le-9), formula (3a) or formula (3b) may be linear, branched or have a ring structure.
The number of carbon atoms in the alkyl group in formula (Le-1) to formula (Le-9), formula (3a) or formula (3b) is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 8, even more preferably 1 to 4, and particularly preferably 1 or 2.
The number of carbon atoms in the aryl group in formula (Le-1) to formula (Le-9), formula (3a) or formula (3b) is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 10, and particularly preferably 6 to 8.
Specific examples of the aryl group in the formula (Le-1) to formula (Le-9), formula (3a) or formula (3b) include a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group, a phenanthrenyl group, and the like, which may have a substituent.
Specific examples of the heteroaryl group in formula (Le-1) to formula (Le-9), formula (3a) or formula (3b) include a furyl group, a pyridyl group, a pyrimidyl group, a pyrazoyl group, a thiophenyl group, and the like, each of which may have a substituent.

また、式(Le-1)~式(Le-9)、式(3a)又は式(3b)における一価の有
機基、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ジアルキルアニリノ基、アルキルアミノ基、アルコキシ基等の各基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、ヘテロアリーロキシカルボニル基、シアノ基等が挙げられる。また、これら置換基は、更にこれら置換基により置換されていてもよい。
In addition, each group such as a monovalent organic group, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a dialkylanilino group, an alkylamino group, and an alkoxy group in formula (Le-1) to formula (Le-9), formula (3a) or formula (3b) may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a halogen atom, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heteroarylamino group, a dialkylamino group, a monoalkylmonoarylamino group, a monoalkylmonoheteroarylamino group, a diarylamino group, a diheteroarylamino group, a monoarylmonoheteroarylamino group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a heteroaryloxycarbonyl group, and a cyano group. In addition, these substituents may be further substituted with these substituents.

好適に用いられる上記酸発色剤としては、以下の化合物が挙げられる。なお、Meはメチル基を表し、Etはエチル基を表し、Octはオクチル基を表し、Phはフェニル基を表す。 The following compounds are suitable examples of the acid color former. Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, Oct represents an octyl group, and Ph represents a phenyl group.

発色剤としては上市されている製品を使用することも可能であり、ETAC、RED500、RED520、CVL、S-205、BLACK305、BLACK400、BLACK100、BLACK500、H-7001、GREEN300、NIRBLACK78、BLUE220、H-3035、BLUE203、ATP、H-1046、H-2114(以上、福井山田化学工業(株)製)、ORANGE-DCF、Vermilion-DCF、PINK-DCF、RED-DCF、BLMB、CVL、GREEN-DCF、TH-107(以上、保土ヶ谷化学(株)製)、ODB、ODB-2、ODB-4、ODB-250、ODB-BlackXV、Blue-63、Blue-502、GN-169、GN-2、Green-118、Red-40、Red-8(以上、山本化成(株)製)、クリスタルバイオレットラクトン(東京化成工業(株)製)等が挙げられる。これらの市販品の中でも、ETAC、S-205、BLACK305、BLACK400、BLACK100、BLACK500、H-7001、GREEN300、NIRBLACK78、H-3035、ATP、H-1046、H-2114、GREEN-DCF、Blue-63、GN-169、クリスタルバイオレットラクトンが、形成される膜の可視光吸収率が良好のため好ましい。 It is also possible to use commercially available products as colorants, such as ETAC, RED500, RED520, CVL, S-205, BLACK305, BLACK400, BLACK100, BLACK500, H-7001, GREEN300, NIRBLACK78, BLUE220, H-3035, BLUE203, ATP, H-1046, H-2114 (all manufactured by Fukui Yamada Chemical Co., Ltd.), ORANGE-DCF, Vermilion Examples of the dye include n-DCF, PINK-DCF, RED-DCF, BLMB, CVL, GREEN-DCF, and TH-107 (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), ODB, ODB-2, ODB-4, ODB-250, ODB-BlackXV, Blue-63, Blue-502, GN-169, GN-2, Green-118, Red-40, and Red-8 (manufactured by Yamamoto Chemical Industry Co., Ltd.), and crystal violet lactone (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.). Among these commercially available products, ETAC, S-205, BLACK305, BLACK400, BLACK100, BLACK500, H-7001, GREEN300, NIRBLACK78, H-3035, ATP, H-1046, H-2114, GREEN-DCF, Blue-63, GN-169, and crystal violet lactone are preferred because the films they form have good visible light absorptance.

酸発色剤から生じる発色体のモル吸光係数εは、視認性の観点から、35,000
以上であることが好ましく、35,000以上200,000以下であることがより好ましく、50,000以上150,000以下であることが特に好ましい。
The molar absorption coefficient ε of the color-developing substance produced from the acid color-developing agent is set to 35,000 from the viewpoint of visibility.
It is preferable that the molecular weight is 35,000 or more and 200,000 or less, more preferable that the molecular weight is 50,000 or more and 150,000 or less.

本開示における酸発色剤から生じる発色体のモル吸光係数εは、以下の方法により測定するものとする。
測定する酸発色剤0.04mmolを100mLメスフラスコに精秤する。
酢酸を90mL程度添加し、測定サンプルが完溶していることを目視で確認した後、酢酸で100mLにメスアップし、色素溶液Aを作製する。
別の100mLメスフラスコに酢酸を80mL程度添加した後、イオン交換水5mL、上記色素溶液A 5mLを、それぞれ5mLホールピペットを用いて添加し、軽く振り混ぜる。
酸発色剤の析出がないことを目視で確認した後、酢酸で100mLにメスアップし、色素溶液Bを作製する。色素溶液Bは、酸発色剤の濃度が0.02mmol/Lである。
色素溶液Bを測定セル(石英ガラス、光路幅10mm)に充填し、紫外可視分光光度計((株)島津製作所製、UV-1800)を用いて測定を実施する。
ブランクは水:酢酸=5:95液とする。
得られたスペクトルから可視光領域(380nm~750nm)における吸収極大波長を読み取り、その波長における吸光度からモル吸光係数εを算出する。
The molar absorption coefficient ε of the color former generated from the acid color former in the present disclosure is measured by the following method.
0.04 mmol of the acid color developer to be measured is precisely weighed into a 100 mL measuring flask.
About 90 mL of acetic acid is added, and after visually confirming that the measurement sample has been completely dissolved, the solution is diluted with acetic acid to 100 mL to prepare dye solution A.
About 80 mL of acetic acid is added to another 100 mL measuring flask, and then 5 mL of ion-exchanged water and 5 mL of the above dye solution A are added using 5 mL volumetric pipettes, and the mixture is gently shaken to mix.
After visually confirming that there is no precipitation of the acid color former, the solution is diluted to 100 mL with acetic acid to prepare dye solution B. Dye solution B has an acid color former concentration of 0.02 mmol/L.
The dye solution B is filled into a measurement cell (quartz glass, light path width 10 mm), and measurement is carried out using an ultraviolet-visible spectrophotometer (Shimadzu Corporation, UV-1800).
The blank was a solution of water:acetic acid = 5:95.
The maximum absorption wavelength in the visible light region (380 nm to 750 nm) is read from the obtained spectrum, and the molar absorption coefficient ε is calculated from the absorbance at that wavelength.

酸発色剤は、下記式で求められる開環率が、視認性の観点から、15%以上100%以下であることが好ましく、40%以上99%以下であることがより好ましく、60%以上99%以下であることが更に好ましく、75%以上99%以下であることが特に好ましく、85%以上99%以下であることが最も好ましい。
・開環率=酸発色剤に酸を1モル当量添加した際のモル吸光係数/酸発色剤から生じる発色体のモル吸光係数ε×100
From the viewpoint of visibility, the ring-opening rate of the acid color former calculated by the following formula is preferably 15% or more and 100% or less, more preferably 40% or more and 99% or less, even more preferably 60% or more and 99% or less, particularly preferably 75% or more and 99% or less, and most preferably 85% or more and 99% or less.
Ring opening rate = molar absorption coefficient when 1 molar equivalent of acid is added to acid color former / molar absorption coefficient ε of color former generated from acid color former × 100

酸発色剤から生じる発色体の可視光領域(380nm~750nm)における最大吸光波長λmaxが、視認性の観点から、500nm~650nmであることが好ましく、520nm~600nmであることがより好ましく、530nm~580nmであることが更に好ましく、540nm~570nmであることが特に好ましい。 From the viewpoint of visibility, the maximum absorption wavelength λmax in the visible light region (380 nm to 750 nm) of the color-developing material produced from the acid color-developing agent is preferably 500 nm to 650 nm, more preferably 520 nm to 600 nm, even more preferably 530 nm to 580 nm, and particularly preferably 540 nm to 570 nm.

本開示における開環率及びλmaxは、以下の方法により測定するものとする。
-色素溶液Cの調製-
酸発色剤0.1mmolを50mLメスフラスコに精秤する。
アセトニトリルを40mL程度添加し、測定サンプルが完溶していることを目視で確認した後、アセトニトリルで50mLにメスアップし、色素溶液Cを作製する。
-酸溶液Dの調製-
100mLのメスフラスコにCSA(10-camphorsulfonic acid)0.2mmol添加し、アセトニトリル80mL程度添加し、CSAが完溶したことを確認した後に、アセトニトリルで100mLにメスアップし、酸溶液Dを作製する。
-測定液Eの調製-
100mLのメスフラスコに5mLのイオン交換水をホールピペットで添加し、アセトニトリル80mLを添加する。色素溶液Cを1mL、酸溶液Dを1mL添加し、100mLにメスアップし、測定液Eを調製する。
測定Eにおける生じた発色体を含む酸発色剤の濃度は0.02mmol/Lである。
色素溶液Eを測定セル(石英ガラス、光路幅10mm)に充填し、紫外可視分光光度計((株)島津製作所製、UV-1800)を用いて測定を実施する。
ブランクは水:アセトニトリル=5:95液とする。
得られたスペクトルから可視光領域(380nm~750nm)における吸収極大波長λmaxを読み取り、その波長における吸光度からモル吸光係数εを算出する。
既述の計算式に従って、開環率を算出する。
The ring opening rate and λmax in the present disclosure are measured by the following methods.
--Preparation of dye solution C--
0.1 mmol of acid color developer is accurately weighed into a 50 mL measuring flask.
About 40 mL of acetonitrile is added, and after visually confirming that the measurement sample has been completely dissolved, the solution is diluted with acetonitrile to 50 mL to prepare dye solution C.
- Preparation of acid solution D -
To a 100 mL measuring flask, 0.2 mmol of CSA (10-camphorsulfonic acid) is added, and about 80 mL of acetonitrile is added. After confirming that the CSA has completely dissolved, the mixture is made up to 100 mL with acetonitrile to prepare acid solution D.
--Preparation of measurement solution E--
Add 5 mL of ion-exchanged water to a 100 mL measuring flask using a volumetric pipette, then add 80 mL of acetonitrile. Add 1 mL of dye solution C and 1 mL of acid solution D, and make up to 100 mL to prepare measurement solution E.
The concentration of the acid color former containing the resulting color former in measurement E was 0.02 mmol/L.
The dye solution E is filled into a measurement cell (quartz glass, light path width 10 mm), and measurement is carried out using an ultraviolet-visible spectrophotometer (Shimadzu Corporation, UV-1800).
The blank was prepared using a solution of water:acetonitrile=5:95.
From the obtained spectrum, the maximum absorption wavelength λmax in the visible light region (380 nm to 750 nm) is read, and the molar absorption coefficient ε is calculated from the absorbance at that wavelength.
The ring opening rate is calculated according to the above-mentioned formula.

また、酸発色剤は、視認性の観点から、酸発色剤から生成した発色体のモル吸光係数εが、35,000以上であり、酸発色剤の開環率が、40モル%~99モル%であり、酸発色剤から生成した発色体の波長380nm~750nmの範囲における最大吸収波長λmaxが、500nm~650nmであることが好ましい。 From the viewpoint of visibility, it is preferable that the molar absorption coefficient ε of the color-formed material produced from the acid color-former is 35,000 or more, the ring-opening rate of the acid color-former is 40 mol% to 99 mol%, and the maximum absorption wavelength λmax of the color-formed material produced from the acid color-former in the wavelength range of 380 nm to 750 nm is 500 nm to 650 nm.

これらの酸発色剤は、1種単独で用いてもよいし、2種類以上の成分を組み合わせて使用することもできる。
酸発色剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.5質量%~10質量%であることが好ましく、1質量%~5質量%であることがより好ましい。
These acid color formers may be used alone or in combination of two or more kinds.
The content of the acid color former is preferably from 0.5% by mass to 10% by mass, and more preferably from 1% by mass to 5% by mass, based on the total mass of the image recording layer.

〔重合性化合物〕
画像記録層は、重合性化合物を含むことが好ましい。
本開示において、重合性化合物とは、重合性基を有する化合物をいう。
重合性基としては、特に限定されず公知の重合性基であればよいが、エチレン性不飽和基であることが好ましい。また、重合性基としては、ラジカル重合性基であってもカチオン重合性基であってもよいが、ラジカル重合性基であることが好ましい。
ラジカル重合性基としては、(メタ)アクリロイル基、アリル基、ビニルフェニル基、ビニル基等が挙げられ、反応性の観点から(メタ)アクリロイル基が好ましい。
重合性化合物の分子量(分子量分布を有する場合には、重量平均分子量)は、50以上2,500未満であることが好ましい。
[Polymerizable Compound]
The image recording layer preferably contains a polymerizable compound.
In the present disclosure, a polymerizable compound refers to a compound having a polymerizable group.
The polymerizable group is not particularly limited and may be any known polymerizable group, but is preferably an ethylenically unsaturated group. The polymerizable group may be either a radically polymerizable group or a cationic polymerizable group, but is preferably a radically polymerizable group.
Examples of the radically polymerizable group include a (meth)acryloyl group, an allyl group, a vinylphenyl group, and a vinyl group, and from the viewpoint of reactivity, a (meth)acryloyl group is preferred.
The molecular weight of the polymerizable compound (when the polymerizable compound has a molecular weight distribution, the weight average molecular weight) is preferably 50 or more and less than 2,500.

本開示に用いられる重合性化合物は、例えば、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有する付加重合性化合物(エチレン性不飽和化合物)であることが好ましい。
エチレン性不飽和化合物としては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個有する化合物であることが好ましく、末端エチレン性不飽和結合を2個以上有する化合物であることがより好ましい。重合性化合物は、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体若しくはオリゴマー、又は、それらの混合物などの化学的形態をもつ。
中でも、上記重合性化合物としては、耐刷性の観点から、3官能以上の重合性化合物を含むことが好ましく、7官能以上の重合性化合物を含むことがより好ましく、10官能以上の重合性化合物を含むことが更に好ましい。また、上記重合性化合物は、得られる平版印刷版における耐刷性の観点から、3官能以上(好ましくは7官能以上、より好ましくは10官能以上)のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、3官能以上(好ましくは7官能以上、より好ましくは10官能以上)の(メタ)アクリレート化合物を含むことが更に好ましい。
The polymerizable compound used in the present disclosure may be, for example, a radically polymerizable compound or a cationic polymerizable compound, but is preferably an addition-polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated bond (ethylenically unsaturated compound).
The ethylenically unsaturated compound is preferably a compound having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, more preferably a compound having two or more terminal ethylenically unsaturated bonds. The polymerizable compound has a chemical form such as a monomer, a prepolymer, i.e., a dimer, a trimer or an oligomer, or a mixture thereof.
Among them, from the viewpoint of printing durability, the polymerizable compound preferably contains a trifunctional or more polymerizable compound, more preferably contains a heptafunctional or more polymerizable compound, and even more preferably contains a ten-functional or more polymerizable compound. Also, from the viewpoint of printing durability of the resulting lithographic printing plate, the polymerizable compound preferably contains a trifunctional or more (preferably heptafunctional or more, more preferably ten-functional or more) ethylenically unsaturated compound, and even more preferably contains a trifunctional or more (preferably heptafunctional or more, more preferably ten-functional or more) (meth)acrylate compound.

また、上記重合性化合物としては、機上現像性、及び、汚れ抑制性の観点から、2官能以下の重合性化合物を含むことが好ましく、2官能重合性化合物を含むことがより好ましく、2官能(メタ)アクリレート化合物を含むことが特に好ましい。
2官能以下の重合性化合物(好ましくは2官能重合性化合物)の含有量は、耐刷性、機上現像性、及び、汚れ抑制性の観点から、上記画像記録層における重合性化合物の全質量に対し、5質量%~100質量%であることが好ましく、10質量%~100質量%であることがより好ましく、15質量%~100質量%であることが特に好ましい。
Moreover, from the viewpoints of on-machine developability and stain suppression, the polymerizable compound preferably contains a polymerizable compound having two or fewer functionalities, more preferably contains a bifunctional polymerizable compound, and particularly preferably contains a bifunctional (meth)acrylate compound.
From the viewpoints of printing durability, on-press developability, and stain suppression, the content of the difunctional or lower polymerizable compound (preferably a difunctional polymerizable compound) is preferably 5% by mass to 100% by mass, more preferably 10% by mass to 100% by mass, and particularly preferably 15% by mass to 100% by mass, relative to the total mass of the polymerizable compounds in the image recording layer.

-オリゴマー-
画像記録層に含まれる重合性化合物としては、オリゴマーである重合性化合物(以下、単に「オリゴマー」ともいう。)を含有することが好ましい。
本開示においてオリゴマーとは、分子量(分子量分布を有する場合には、重量平均分子量)が600以上40,000以下であり、かつ、重合性基を少なくとも1つ含む重合性化合物を表す。
耐薬品性、耐刷性に優れる観点から、オリゴマーの分子量としては、1,000以上25,000以下であることが好ましい。
-Oligomer-
The polymerizable compound contained in the image recording layer preferably contains a polymerizable compound which is an oligomer (hereinafter, also simply referred to as "oligomer").
In the present disclosure, an oligomer refers to a polymerizable compound having a molecular weight (weight average molecular weight when the molecular weight has a molecular weight distribution) of 600 or more and 40,000 or less and containing at least one polymerizable group.
From the viewpoint of excellent chemical resistance and printing durability, the molecular weight of the oligomer is preferably 1,000 or more and 25,000 or less.

また、耐刷性を向上させる観点から、1分子のオリゴマーにおける重合性基数は、2以上であることが好ましく、3以上であることがより好ましく、6以上であることが更に好ましく、10以上であることが特に好ましい。
また、オリゴマーにおける重合性基の上限値は、特に制限はないが、重合性基の数は20以下であることが好ましい。
From the viewpoint of improving printing durability, the number of polymerizable groups in one oligomer molecule is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, even more preferably 6 or more, and particularly preferably 10 or more.
The upper limit of the number of polymerizable groups in the oligomer is not particularly limited, but the number of polymerizable groups is preferably 20 or less.

耐刷性、及び、機上現像性の観点から、オリゴマーとしては、重合性基の数が7以上であり、かつ、分子量が1,000以上40,000以下であることが好ましく、重合性基の数が7以上20以下であり、かつ、分子量が1,000以上25,000以下であることがより好ましい。
なお、画像記録層は、オリゴマーを製造する過程で生じる可能性のある、ポリマー成分を含有していてもよい。
From the viewpoints of printing durability and on-press developability, the oligomer preferably has 7 or more polymerizable groups and a molecular weight of 1,000 or more and 40,000 or less, and more preferably has 7 or more polymerizable groups and a molecular weight of 1,000 or more and 25,000 or less.
The image recording layer may contain a polymer component that may be generated during the process of producing the oligomer.

耐刷性、視認性、及び、機上現像性の観点から、オリゴマーは、ウレタン結合を有する化合物、エステル結合を有する化合物及びエポキシ残基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種を有することが好ましく、ウレタン結合を有する化合物を有することが好ましい。
本開示においてエポキシ残基とは、エポキシ基により形成される構造を指し、例えば酸基(カルボン酸基等)とエポキシ基との反応により得られる構造と同様の構造を意味する。
From the viewpoints of printing durability, visibility, and on-press developability, the oligomer preferably contains at least one selected from the group consisting of a compound having a urethane bond, a compound having an ester bond, and a compound having an epoxy residue, and more preferably contains a compound having a urethane bond.
In the present disclosure, the epoxy residue refers to a structure formed by an epoxy group, and means, for example, a structure similar to the structure obtained by the reaction of an acid group (such as a carboxylic acid group) with an epoxy group.

ウレタン結合を有する化合物としては、国際公開第2020/262692号に記載のものを好適に用いることができる。 As a compound having a urethane bond, those described in WO 2020/262692 can be preferably used.

また、ウレタン結合を有する化合物として、ポリイソシアネート化合物と、ポリオール化合物と、の反応により得られるポリウレタンに、高分子反応により重合性基を導入した化合物を用いてもよい。
例えば、酸基を有するポリオール化合物と、ポリイソシアネート化合物を反応させて得られたポリウレタンオリゴマーに、エポキシ基及び重合性基を有する化合物を反応させることにより、ウレタン結合を有する化合物を得てもよい。
Furthermore, as the compound having a urethane bond, a compound in which a polymerizable group is introduced by a polymer reaction into a polyurethane obtained by reacting a polyisocyanate compound with a polyol compound may be used.
For example, a compound having a urethane bond may be obtained by reacting a polyurethane oligomer obtained by reacting a polyol compound having an acid group with a polyisocyanate compound, with a compound having an epoxy group and a polymerizable group.

オリゴマーの例であるエステル結合を有する化合物における重合性基の数は、3以上であることが好ましく、6以上であることが更に好ましい。 The number of polymerizable groups in a compound having an ester bond, which is an example of an oligomer, is preferably 3 or more, and more preferably 6 or more.

オリゴマーの例であるエポキシ残基を有する化合物としては、化合物内にヒドロキシ基を含む化合物が好ましい。
また、エポキシ残基を有する化合物における重合性基の数は、2~6であることが好ましく、2~3であることがより好ましい。
上記エポキシ残基を有する化合物としては、例えば、エポキシ基を有する化合物にアクリル酸を反応することにより得ることができる。
As a compound having an epoxy residue, which is an example of an oligomer, a compound containing a hydroxy group within the compound is preferred.
The compound having an epoxy residue preferably has 2 to 6 polymerizable groups, and more preferably has 2 to 3 polymerizable groups.
The compound having an epoxy residue can be obtained, for example, by reacting a compound having an epoxy group with acrylic acid.

オリゴマーとしては、市販品を用いてもよく、UA510H、UA-306H、UA-
306I、UA-306T(いずれも共栄社化学(株)製)、UV-1700B、UV-6300B、UV7620EA(いずれも日本合成化学工業(株)製)、U-15HA(新中村化学工業(株)製)、EBECRYL450、EBECRYL657、EBECRYL885、EBECRYL800、EBECRYL3416、EBECRYL860(いずれもダイセルオルネクス(株)製)等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
As the oligomer, commercially available products may be used, such as UA510H, UA-306H, UA-
Examples of the polymerizable monomer include, but are not limited to, EBECRYL 306I, UA-306T (all manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), UV-1700B, UV-6300B, UV7620EA (all manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), U-15HA (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), EBECRYL450, EBECRYL657, EBECRYL885, EBECRYL800, EBECRYL3416, EBECRYL860 (all manufactured by Daicel Allnex Corporation).

オリゴマーの含有量は、耐薬品性、耐刷性、及び機上現像カスの抑制性を向上させる観点から、画像記録層における重合性化合物の全質量に対し、30質量%~100質量%であることが好ましく、50質量%~100質量%であることがより好ましく、80質量%~100質量%であることが更に好ましい。 From the viewpoint of improving chemical resistance, printing durability, and suppression of on-press development residue, the content of the oligomer is preferably 30% by mass to 100% by mass, more preferably 50% by mass to 100% by mass, and even more preferably 80% by mass to 100% by mass, based on the total mass of the polymerizable compounds in the image recording layer.

-低分子重合性化合物-
重合性化合物は、上記オリゴマー以外の重合性化合物を更に含んでいてもよい。
オリゴマー以外の重合性化合物としては、耐薬品性の観点から、低分子重合性化合物であることが好ましい。低分子重合性化合物としては、単量体、2量体、3量体又は、それらの混合物などの化学的形態であってもよい。
また、低分子重合性化合物としては、耐薬品性の観点から、エチレン性不飽和基を3つ以上有する重合性化合物、及びイソシアヌル環構造を有する重合性化合物からなる群より選ばれる少なくとも一方の重合性化合物であることが好ましい。
-Low molecular weight polymerizable compound-
The polymerizable compound may further contain a polymerizable compound other than the above-mentioned oligomer.
From the viewpoint of chemical resistance, the polymerizable compound other than the oligomer is preferably a low molecular weight polymerizable compound. The low molecular weight polymerizable compound may be in a chemical form such as a monomer, a dimer, a trimer, or a mixture thereof.
From the viewpoint of chemical resistance, the low molecular weight polymerizable compound is preferably at least one polymerizable compound selected from the group consisting of polymerizable compounds having three or more ethylenically unsaturated groups and polymerizable compounds having an isocyanuric ring structure.

本開示において低分子重合性化合物とは、分子量(分子量分布を有する場合には、重量平均分子量)50以上800未満の重合性化合物を表す。
低分子重合性化合物の分子量としては、耐薬品性、耐刷性及び機上現像カスの抑制性に優れる観点から、100以上800未満であることが好ましく、300以上800未満であることがより好ましく、400以上800未満であることが更に好ましい。
In the present disclosure, the low molecular weight polymerizable compound refers to a polymerizable compound having a molecular weight of 50 or more and less than 800 (weight average molecular weight when the compound has a molecular weight distribution).
From the viewpoint of excellent chemical resistance, printing durability, and on-press development residue suppression, the molecular weight of the low molecular weight polymerizable compound is preferably 100 or more and less than 800, more preferably 300 or more and less than 800, and even more preferably 400 or more and less than 800.

重合性化合物が、オリゴマー以外の重合性化合物として低分子重合性化合物を含む場合(2種以上の低分子重合性化合物を含む場合はその合計量)、耐薬品性、耐刷性及び機上現像カスの抑制性の観点から、上記オリゴマーと低分子重合性化合物との比(オリゴマー/低分子重合性化合物)は、質量基準で、10/1~1/10であることが好ましく、10/1~3/7であることがより好ましく、10/1~7/3であることが更に好ましい。 When the polymerizable compound contains a low molecular weight polymerizable compound as a polymerizable compound other than the oligomer (when two or more types of low molecular weight polymerizable compounds are contained, the total amount of the low molecular weight polymerizable compounds), from the viewpoints of chemical resistance, printing durability, and suppression of on-press development residue, the ratio of the oligomer to the low molecular weight polymerizable compound (oligomer/low molecular weight polymerizable compound) is preferably 10/1 to 1/10 by mass, more preferably 10/1 to 3/7, and even more preferably 10/1 to 7/3.

また、低分子重合性化合物としては、国際公開第2019/013268号の段落0082~0086に記載の重合性化合物も好適に用いることができる。 In addition, the polymerizable compounds described in paragraphs 0082 to 0086 of WO 2019/013268 can also be suitably used as low molecular weight polymerizable compounds.

重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、任意に設定できる。
中でも、画像記録層は、耐刷性の観点から、2種以上の重合性化合物を含むことが好ましい。
重合性化合物の含有量(重合性化合物を2種以上含む場合は、重合性化合物の総含有量)は、画像記録層の全質量に対して、5質量%~75質量%であることが好ましく、10質量%~70質量%であることがより好ましく、15質量%~60質量%であることが更に好ましい。
Details of the method of use, such as the structure of the polymerizable compound, whether it is used alone or in combination, and the amount added, can be set arbitrarily.
In particular, from the viewpoint of printing durability, it is preferable that the image recording layer contains two or more kinds of polymerizable compounds.
The content of the polymerizable compounds (when two or more types of polymerizable compounds are contained, the total content of the polymerizable compounds) is preferably 5% by mass to 75% by mass, more preferably 10% by mass to 70% by mass, and even more preferably 15% by mass to 60% by mass, based on the total mass of the image recording layer.

〔粒子〕
上記画像記録層は、耐刷性の観点から、粒子を含むことが好ましい。
粒子としては、有機粒子であっても、無機粒子であってもよいが、耐刷性の観点から、有機粒子を含むことが好ましく、ポリマー粒子を含むことがより好ましい。
無機粒子としては、公知の無機粒子を用いることができ、シリカ粒子、チタニア粒子等の金属酸化物粒子を好適に用いることができる。
〔particle〕
From the viewpoint of printing durability, the image recording layer preferably contains particles.
The particles may be organic particles or inorganic particles, but from the viewpoint of printing durability, it is preferable that the particles contain organic particles, and it is more preferable that the particles contain polymer particles.
As the inorganic particles, known inorganic particles can be used, and metal oxide particles such as silica particles and titania particles can be suitably used.

ポリマー粒子は、熱可塑性樹脂粒子、熱反応性樹脂粒子、重合性基を有するポリマー粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及び、ミクロゲル(架橋ポリマー粒子)よりなる群から選ばれることが好ましい。中でも、重合性基を有するポリマー粒子又はミクロゲルが好ましい。特に好ましい実施形態では、ポリマー粒子は少なくとも1つのエチレン性不飽和基を含む。このようなポリマー粒子の存在により、露光部の耐刷性及び未露光部の機上現像性を高める効果が得られる。
また、ポリマー粒子は、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、熱可塑性樹脂粒子であることが好ましい。
The polymer particles are preferably selected from the group consisting of thermoplastic resin particles, thermoreactive resin particles, polymer particles having a polymerizable group, microcapsules containing a hydrophobic compound, and microgels (crosslinked polymer particles). Among them, polymer particles or microgels having a polymerizable group are preferred. In a particularly preferred embodiment, the polymer particles contain at least one ethylenically unsaturated group. The presence of such polymer particles provides the effect of increasing the printing durability of the exposed area and the on-press developability of the unexposed area.
From the viewpoints of printing durability and on-press developability, the polymer particles are preferably thermoplastic resin particles.

熱可塑性樹脂粒子としては、1992年1月のResearch Disclosure No.33303、特開平9-123387号公報、同9-131850号公報、同9-171249号公報、同9-171250号公報及び欧州特許第931647号明細書などに記載の熱可塑性ポリマー粒子が好ましい。
熱可塑性樹脂粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。好ましくは、ポリスチレン、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体、又は、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。熱可塑性樹脂粒子の平均粒径は0.01μm~3.0μmが好ましい。
As the thermoplastic resin particles, preferred are thermoplastic polymer particles described in Research Disclosure No. 33303 of January 1992, JP-A Nos. 9-123387, 9-131850, 9-171249, and 9-171250, and European Patent No. 931647, etc.
Specific examples of the polymer constituting the thermoplastic resin particles include homopolymers or copolymers of monomers such as ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, vinylcarbazole, acrylates or methacrylates having a polyalkylene structure, or mixtures thereof. Preferred examples include copolymers containing polystyrene, styrene and acrylonitrile, or polymethyl methacrylate. The average particle size of the thermoplastic resin particles is preferably 0.01 μm to 3.0 μm.

熱反応性樹脂粒子としては、熱反応性基を有するポリマー粒子が挙げられる。熱反応性ポリマー粒子は熱反応による架橋及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。 Thermo-reactive resin particles include polymer particles having a thermo-reactive group. Thermo-reactive polymer particles form hydrophobic regions due to crosslinking caused by the thermal reaction and the resulting changes in functional groups.

熱反応性基を有するポリマー粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、重合性基であることが好ましく、その例として、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など)、カチオン重合性基(例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など)、付加反応を行うイソシアナト基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など)、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などが好ましく挙げられる。 The heat-reactive group in the polymer particle having a heat-reactive group may be any functional group that undergoes any reaction as long as a chemical bond is formed, but is preferably a polymerizable group, and examples of such groups include ethylenically unsaturated groups that undergo radical polymerization reactions (e.g., acryloyl groups, methacryloyl groups, vinyl groups, allyl groups, etc.), cationic polymerizable groups (e.g., vinyl groups, vinyloxy groups, epoxy groups, oxetanyl groups, etc.), isocyanato groups or their blocks that undergo addition reactions, epoxy groups, vinyloxy groups, and functional groups having active hydrogen atoms that are their reaction partners (e.g., amino groups, hydroxy groups, carboxy groups, etc.), carboxy groups and their reaction partners, hydroxy groups or amino groups that undergo condensation reactions, and acid anhydrides and their reaction partners, amino groups or hydroxy groups, that undergo ring-opening addition reactions.

マイクロカプセルとしては、例えば、特開2001-277740号公報、特開2001-277742号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の少なくとも一部をマイクロカプセルに内包させたものである。画像記録層の構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。マイクロカプセルを含有する画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性の構成成分をマイクロカプセル外に含有する構成が好ましい態様である。 As for the microcapsules, as described in, for example, JP-A Nos. 2001-277740 and 2001-277742, at least some of the components of the image recording layer are encapsulated in the microcapsules. The components of the image recording layer can also be contained outside the microcapsules. A preferred embodiment of the image recording layer containing microcapsules is one in which hydrophobic components are encapsulated in the microcapsules and hydrophilic components are contained outside the microcapsules.

ミクロゲル(架橋ポリマー粒子)は、その表面又は内部の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、ラジカル重合性基をその表面に有する反応性ミクロゲルは、得られる平版印刷版原版の感度、及び、得られる平版印刷版の耐刷性の観点から好ましい。 The microgel (crosslinked polymer particle) can contain some of the components of the image recording layer on at least one of its surface or interior. In particular, reactive microgels having radically polymerizable groups on their surface are preferred from the viewpoints of the sensitivity of the resulting lithographic printing plate precursor and the printing durability of the resulting lithographic printing plate.

画像記録層の構成成分をマイクロカプセル化又はミクロゲル化するには、公知の方法が
適用できる。
A known method can be used to microencapsulate or microgel the components of the image recording layer.

また、ポリマー粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性、耐汚れ性及び保存安定性の観点から、分子中に2個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られるものが好ましい。
上記多価フェノール化合物としては、フェノール性ヒドロキシ基を有するベンゼン環を複数有している化合物が好ましい。
上記活性水素を有する化合物としては、ポリオール化合物、又は、ポリアミン化合物が好ましく、ポリオール化合物がより好ましく、プロピレングリコール、グリセリン及びトリメチロールプロパンよりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物が更に好ましい。
分子中に2個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られる樹脂の粒子としては、特開2012-206495号公報の段落0032~0095に記載のポリマー粒子が好ましく挙げられる。
From the viewpoint of the printing durability, stain resistance and storage stability of the resulting lithographic printing plate, the polymer particles are preferably those obtained by reacting a polyisocyanate compound, which is an adduct of a polyhydric phenol compound having two or more hydroxy groups in the molecule with isophorone diisocyanate, with a compound having active hydrogen.
The polyhydric phenol compound is preferably a compound having a plurality of benzene rings each having a phenolic hydroxy group.
The compound having active hydrogen is preferably a polyol compound or a polyamine compound, more preferably a polyol compound, and even more preferably at least one compound selected from the group consisting of propylene glycol, glycerin, and trimethylolpropane.
Preferred examples of resin particles obtained by reacting a polyisocyanate compound, which is an adduct of a polyhydric phenol compound having two or more hydroxy groups in the molecule and isophorone diisocyanate, with a compound having active hydrogen include the polymer particles described in paragraphs 0032 to 0095 of JP2012-206495A.

更に、ポリマー粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性及び耐溶剤性の観点から、i:疎水性主鎖に直接的に結合されたペンダントシアノ基を有する構成ユニット、及び、ii:親水性ポリ(アルキレンオキシド)セグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を有するポリマーを含むポリマー粒子を含むことが好ましい。
上記疎水性主鎖としては、アクリル樹脂鎖が好ましく挙げられる。
上記ペンダントシアノ基の例としては、-[CHCH(C≡N)]-又は-[CHC(CH)(C≡N)]-が好ましく挙げられる。
また、上記ペンダントシアノ基を有する構成ユニットは、エチレン系不飽和型モノマー、例えば、アクリロニトリル又はメタクリロニトリルから、又は、これらの組み合わせから容易に誘導することができる。
また、上記親水性ポリアルキレンオキシドセグメントにおけるアルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド又はプロピレンオキシドが好ましく、エチレンオキシドがより好ましい。
上記親水性ポリアルキレンオキシドセグメントにおけるアルキレンオキシド構造の繰り返し数は、10~100であることが好ましく、25~75であることがより好ましく、40~50であることが更に好ましい。
i:上記疎水性主鎖に直接的に結合されたペンダントシアノ基を有する構成ユニット、及び、ii:親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含む樹脂の粒子としては、特表2008-503365号公報の段落0039~0068に記載のものが好ましく挙げられる。
Furthermore, from the viewpoint of the printing durability and solvent resistance of the resulting lithographic printing plate, it is preferable that the polymer particles include polymer particles containing a polymer having both i: a constituent unit having a pendant cyano group directly bonded to a hydrophobic main chain, and ii: a constituent unit having a pendant group that includes a hydrophilic poly(alkylene oxide) segment.
A preferred example of the hydrophobic main chain is an acrylic resin chain.
Preferred examples of the pendant cyano group include -[CH 2 CH(C≡N)]- or -[CH 2 C(CH 3 )(C≡N)]-.
Furthermore, the structural unit having a pendant cyano group can be easily derived from an ethylenically unsaturated monomer, such as acrylonitrile or methacrylonitrile, or a combination thereof.
The alkylene oxide in the hydrophilic polyalkylene oxide segment is preferably ethylene oxide or propylene oxide, and more preferably ethylene oxide.
The number of repeating alkylene oxide structures in the hydrophilic polyalkylene oxide segment is preferably 10-100, more preferably 25-75, and even more preferably 40-50.
Preferred examples of resin particles containing both i: a constituent unit having a pendant cyano group directly bonded to the hydrophobic main chain, and ii: a constituent unit having a pendant group containing a hydrophilic polyalkylene oxide segment include those described in paragraphs 0039 to 0068 of JP2008-503365A.

また、上記ポリマー粒子は、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、親水性基を有することが好ましい。
上記親水性基としては、親水性を有する構造であれば、特に制限はないが、カルボキシ基等の酸基、ヒドロキシ基、アミノ基、シアノ基、ポリアルキレンオキシド構造等が挙げられる。
中でも、機上現像性、及び、耐刷性の観点から、ポリアルキレンオキシド構造が好ましく、ポリエチレンオキシド構造、ポリプロピレンオキシド構造、又は、ポリエチレン/プロピレンオキシド構造がより好ましい。
また、機上現像性、及び、機上現像時の現像カス抑制性の観点からは、上記ポリアルキレンオキシド構造として、ポリプロピレンオキシド構造を有することが好ましく、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有することがより好ましい。
また、上記親水性基としては、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、シアノ基を有する構成単位、又は、下記式Zで表される基を含むことが好ましく、下記式(AN
)で表される構成単位、又は、下記式Zで表される基を含むことがより好ましく、下記式Zで表される基を含むことが特に好ましい。
*-Q-W-Y 式Z
式Z中、Qは二価の連結基を表し、Wは親水性構造を有する二価の基又は疎水性構造を有する二価の基を表し、Yは親水性構造を有する一価の基又は疎水性構造を有する一価の基を表し、W及びYのいずれかは親水性構造を有し、*は他の構造との結合部位を表す。
In addition, from the viewpoints of printing durability and on-press developability, the polymer particles preferably have a hydrophilic group.
The hydrophilic group is not particularly limited as long as it has a structure having hydrophilicity, and examples of the hydrophilic group include acid groups such as a carboxy group, a hydroxy group, an amino group, a cyano group, and a polyalkylene oxide structure.
Among these, from the viewpoints of on-press developability and printing durability, a polyalkylene oxide structure is preferred, and a polyethylene oxide structure, a polypropylene oxide structure, or a polyethylene/propylene oxide structure is more preferred.
From the viewpoint of on-press developability and suppression of development residue during on-press development, the polyalkylene oxide structure preferably has a polypropylene oxide structure, and more preferably has a polyethylene oxide structure or a polypropylene oxide structure.
From the viewpoints of printing durability, ink receptivity, and on-press developability, the hydrophilic group preferably contains a structural unit having a cyano group or a group represented by the following formula Z, and
) or a group represented by the following formula Z, and particularly preferably a group represented by the following formula Z:
*-Q-W-Y Formula Z
In formula Z, Q represents a divalent linking group, W represents a divalent group having a hydrophilic structure or a divalent group having a hydrophobic structure, Y represents a monovalent group having a hydrophilic structure or a monovalent group having a hydrophobic structure, either W or Y has a hydrophilic structure, and * represents a bonding site with another structure.

式(AN)中、RANは、水素原子又はメチル基を表す。 In formula (AN), R AN represents a hydrogen atom or a methyl group.

上記ポリマー粒子に含まれるポリマーは、耐刷性の観点から、シアノ基を有する化合物により形成される構成単位を含むことが好ましい。
シアノ基は、通常、シアノ基を有する化合物(モノマー)を用いて、シアノ基を含む構成単位として樹脂に導入されることが好ましい。シアノ基を有する化合物としては、アクリロニトリル化合物が挙げられ、(メタ)アクリロニトリルが好適に挙げられる。
シアノ基を有する構成単位としては、アクリロニトリル化合物により形成される構成単位であることが好ましく、(メタ)アクリロニトリルにより形成される構成単位、すなわち、上記式(AN)で表される構成単位がより好ましい。
上記ポリマーが、シアノ基を有する構成単位を有するポリマーを含む場合、シアノ基を有する構成単位を有するポリマーにおけるシアノ基を有する構成単位、好ましくは上記式(AN)で表される構成単位の含有量は、耐刷性の観点から、シアノ基を有する構成単位を有するポリマーの全質量に対し、5質量%~90質量%であることが好ましく、20質量%~80質量%であることがより好ましく、30質量%~60質量%であることが特に好ましい。
From the viewpoint of printing durability, the polymer contained in the polymer particles preferably contains a structural unit formed from a compound having a cyano group.
The cyano group is preferably introduced into the resin as a structural unit containing a cyano group by using a compound (monomer) having a cyano group. Examples of the compound having a cyano group include acrylonitrile compounds, and (meth)acrylonitrile is preferred.
The structural unit having a cyano group is preferably a structural unit formed from an acrylonitrile compound, and more preferably a structural unit formed from (meth)acrylonitrile, that is, a structural unit represented by the above formula (AN).
When the above polymer contains a polymer having a structural unit having a cyano group, the content of the structural unit having a cyano group, preferably the structural unit represented by the above formula (AN), in the polymer having a structural unit having a cyano group is, from the viewpoint of printing durability, preferably 5% by mass to 90% by mass, more preferably 20% by mass to 80% by mass, and particularly preferably 30% by mass to 60% by mass, relative to the total mass of the polymer having a structural unit having a cyano group.

また、上記ポリマー粒子は、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、上記式Zで表される基を有するポリマー粒子を含むことが好ましい。 In addition, from the viewpoints of printing durability, ink receptivity, and on-press developability, it is preferable that the polymer particles contain polymer particles having a group represented by the above formula Z.

上記式ZにおけるQは、炭素数1~20の二価の連結基であることが好ましく、炭素数1~10の二価の連結基であることがより好ましい。
また、上記式ZにおけるQは、アルキレン基、アリーレン基、エステル結合、アミド結合、又は、これらを2以上組み合わせた基であることが好ましく、フェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であることがより好ましい。
Q in the above formula Z is preferably a divalent linking group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably a divalent linking group having 1 to 10 carbon atoms.
Furthermore, Q in the above formula Z is preferably an alkylene group, an arylene group, an ester bond, an amide bond, or a group consisting of a combination of two or more of these, and more preferably a phenylene group, an ester bond, or an amide bond.

上記式ZのWにおける親水性構造を有する二価の基は、ポリアルキレンオキシ基、又は、ポリアルキレンオキシ基の一方の末端に-CHCHNR-が結合した基であることが好ましい。なお、Rは、水素原子又はアルキル基を表す。
上記式ZのWにおける疎水性構造を有する二価の基は、-RWA-、-O-RWA-O-、-RN-RWA-NR-、-OC(=O)-RWA-O-、又は、-OC(=O)-RWA-O-であることが好ましい。なお、RWAはそれぞれ独立に、炭素数6~120の直鎖、分岐若しくは環状アルキレン基、炭素数6~120のハロアルキレン基、炭
素数6~120のアリーレン基、炭素数7~120のアルカーリレン基(アルキルアリール基から水素原子を1つ除いた二価の基)、又は、炭素数7~120のアラルキレン基を表す。
The divalent group having a hydrophilic structure for W in the above formula Z is preferably a polyalkyleneoxy group or a group in which --CH 2 CH 2 NR W -- is bonded to one end of a polyalkyleneoxy group, where R W represents a hydrogen atom or an alkyl group.
The divalent group having a hydrophobic structure in W of the above formula Z is preferably -R WA -, -O-R WA -O-, -R W N-R WA -NR W -, -OC(═O)-R WA -O-, or -OC(═O)-R WA -O-. Each R WA independently represents a linear, branched or cyclic alkylene group having 6 to 120 carbon atoms, a haloalkylene group having 6 to 120 carbon atoms, an arylene group having 6 to 120 carbon atoms, an alkylylene group having 7 to 120 carbon atoms (a divalent group obtained by removing one hydrogen atom from an alkylaryl group), or an aralkylene group having 7 to 120 carbon atoms.

上記式ZのYにおける親水性構造を有する一価の基は、-OH、-C(=O)OH、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基、又は、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基の他方の末端に-CHCHNR-が結合した基であることが好ましい。
上記式ZのYにおける疎水性構造を有する一価の基は、炭素数6~120の直鎖、分岐若しくは環状アルキル基、炭素数6~120のハロアルキル基、炭素数6~120のアリール基、炭素数7~120のアルカーリル基(アルキルアリール基)、炭素数7~120のアラルキル基、-ORWB、-C(=O)ORWB、又は、-OC(=O)RWBであることが好ましい。RWBは、炭素数6~20を有するアルキル基を表す。
The monovalent group having a hydrophilic structure for Y in the above formula Z is preferably -OH, -C(=O)OH, a polyalkyleneoxy group whose terminal is a hydrogen atom or an alkyl group, or a group in which -CH 2 CH 2 NR W - is bonded to the other terminal of a polyalkyleneoxy group whose terminal is a hydrogen atom or an alkyl group.
The monovalent group having a hydrophobic structure for Y in the above formula Z is preferably a linear, branched or cyclic alkyl group having 6 to 120 carbon atoms, a haloalkyl group having 6 to 120 carbon atoms, an aryl group having 6 to 120 carbon atoms, an alkaryl group (alkylaryl group) having 7 to 120 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 120 carbon atoms, -OR WB , -C(=O)OR WB , or -OC(=O)R WB , where R WB represents an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms.

上記式Zで表される基を有するポリマー粒子は、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、Wが親水性構造を有する二価の基であることがより好ましく、Qがフェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であり、Wは、ポリアルキレンオキシ基であり、Yが、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基であることがより好ましい。 From the viewpoints of printing durability, ink receptivity, and on-press developability, it is more preferable that the polymer particles having a group represented by the above formula Z have W as a divalent group having a hydrophilic structure, Q as a phenylene group, an ester bond, or an amide bond, W as a polyalkyleneoxy group, and Y as a polyalkyleneoxy group whose terminal is a hydrogen atom or an alkyl group.

また、上記ポリマー粒子は、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、重合性基を有するポリマー粒子を含むことが好ましく、粒子表面に重合性基を有するポリマー粒子を含むことがより好ましい。
更に、上記ポリマー粒子は、耐刷性の観点から、親水性基及び重合性基を有するポリマー粒子を含むことが好まし
上記重合性基は、カチオン重合性基であっても、ラジカル重合性基であってもよいが、反応性の観点からは、ラジカル重合性基であることが好ましい。
上記重合性基としては、重合可能な基であれば特に制限はないが、反応性の観点から、エチレン性不飽和基が好ましく、ビニルフェニル基(スチリル基)、(メタ)アクリロキシ基、又は、(メタ)アクリルアミド基がより好ましく、(メタ)アクリロキシ基が特に好ましい。
また、重合性基を有するポリマー粒子におけるポリマーは、重合性基を有する構成単位を有することが好ましい。
更に、高分子反応によりポリマー粒子表面に重合性基を導入してもよい。
From the viewpoints of printing durability and on-press developability, the polymer particles preferably contain polymer particles having a polymerizable group, and more preferably contain polymer particles having a polymerizable group on the particle surface.
Furthermore, from the viewpoint of printing durability, the polymer particles preferably contain polymer particles having a hydrophilic group and a polymerizable group. The polymerizable group may be a cationic polymerizable group or a radically polymerizable group, but from the viewpoint of reactivity, it is preferable that the polymerizable group is a radically polymerizable group.
The polymerizable group is not particularly limited as long as it is a polymerizable group, but from the viewpoint of reactivity, an ethylenically unsaturated group is preferred, a vinylphenyl group (styryl group), a (meth)acryloxy group, or a (meth)acrylamide group is more preferred, and a (meth)acryloxy group is particularly preferred.
Furthermore, the polymer in the polymer particles having a polymerizable group preferably has a structural unit having a polymerizable group.
Furthermore, polymerizable groups may be introduced onto the surfaces of the polymer particles by a polymer reaction.

また、上記画像記録層は、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、上記ポリマー粒子として、分散性基を有する付加重合型樹脂粒子を含むことが好ましく、上記分散性基が、上記式Zで表される基を含むことがより好ましい。 In addition, from the viewpoints of printing durability and on-press developability, the image recording layer preferably contains, as the polymer particles, addition polymerization type resin particles having a dispersible group, and it is more preferable that the dispersible group contains a group represented by the formula Z.

また、上記ポリマー粒子は、耐刷性、着肉性、機上現像性、及び、機上現像時の現像カス抑制性の観点から、ウレア結合を有する樹脂を含むことが好ましい。
上記ウレア結合を有する樹脂としては、国際公開第2020/262692号に記載のものが好適に挙げられる。
In addition, from the viewpoints of printing durability, ink receptivity, on-press developability, and suppression of development residue during on-press development, the polymer particles preferably contain a resin having a urea bond.
Suitable examples of the resin having a urea bond include those described in WO 2020/262692.

また、上記画像記録層は、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、熱可塑性樹脂粒子を含むことが好ましい。
熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂は、特に制限はなく、例えば、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸エチル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル、ポリアクリロニトリル、ポリ酢酸ビニル、それらの共重合体等が挙げられる。熱可塑性樹脂はラテックス状態
であってもよい。
本開示に係る熱可塑性樹脂は、後述する露光工程において生成された熱により、熱可塑性樹脂が溶融又は軟化することで、画像記録層を形成する疎水性の膜の一部又は全部を形成する樹脂であることが好ましい。
From the viewpoints of printing durability and on-press developability, the image recording layer preferably contains thermoplastic resin particles.
The thermoplastic resin contained in the thermoplastic resin particles is not particularly limited, and examples thereof include polyethylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polymethyl (meth)acrylate, polyethyl (meth)acrylate, polybutyl (meth)acrylate, polyacrylonitrile, polyvinyl acetate, copolymers thereof, etc. The thermoplastic resin may be in a latex state.
The thermoplastic resin according to the present disclosure is preferably a resin that forms all or part of a hydrophobic film that forms an image recording layer by melting or softening the thermoplastic resin due to heat generated in the exposure step described below.

上記熱可塑性樹脂としては、インキ着肉性及び耐刷性の観点から、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位、及び、シアノ基を有する構成単位を有する樹脂を含むことが好ましい。
芳香族ビニル化合物により形成される構成単位、及び、シアノ基を有する構成単位を有する樹脂としては、国際公開第2020/262692号に記載のものが好適に挙げられる。
From the viewpoints of ink receptivity and printing durability, the thermoplastic resin preferably contains a resin having a structural unit formed from an aromatic vinyl compound and a structural unit having a cyano group.
Suitable examples of resins having a structural unit formed by an aromatic vinyl compound and a structural unit having a cyano group include those described in WO 2020/262692.

上記熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂は、耐刷性及び機上現像性の観点から、親水性基を有することが好ましい。
親水性基としては、親水性を有する構造であれば、特に制限はないが、カルボキシ基等の酸基、ヒドロキシ基、アミノ基、シアノ基、ポリアルキレンオキシド構造等が挙げられる。
上記親水性基としては、耐刷性及び機上現像性の観点から、ポリアルキレンオキシド構造を有する基、ポリエステル構造を有する基、又は、スルホン酸基であることが好ましく、ポリアルキレンオキシド構造を有する基、又は、スルホン酸基であることがより好ましく、ポリアルキレンオキシド構造を有する基であることが更に好ましい。
The thermoplastic resin contained in the thermoplastic resin particles preferably has a hydrophilic group from the viewpoints of printing durability and on-press developability.
The hydrophilic group is not particularly limited as long as it has a structure having hydrophilicity, and examples thereof include acid groups such as a carboxy group, a hydroxy group, an amino group, a cyano group, and a polyalkylene oxide structure.
From the viewpoints of printing durability and on-press developability, the hydrophilic group is preferably a group having a polyalkylene oxide structure, a group having a polyester structure, or a sulfonic acid group, more preferably a group having a polyalkylene oxide structure or a sulfonic acid group, and even more preferably a group having a polyalkylene oxide structure.

上記ポリアルキレンオキシド構造としては、機上現像性の観点から、ポリエチレンオキシド構造、ポリプロピレンオキシド構造、又は、ポリ(エチレンオキシド/プロピレンオキシド)構造であることが好ましい。
また、機上現像性の観点からは、上記親水性基の中でもポリアルキレンオキシド構造として、ポリプロピレンオキシド構造を有することが好ましく、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有することがより好ましい。
上記ポリアルキレンオキシド構造におけるアルキレンオキシド構造の数は、機上現像性の観点から、2以上であることが好ましく、5以上であることがより好ましく、5~200であることが更に好ましく、8~150であることが特に好ましい。
From the viewpoint of on-press developability, the polyalkylene oxide structure is preferably a polyethylene oxide structure, a polypropylene oxide structure, or a poly(ethylene oxide/propylene oxide) structure.
From the viewpoint of on-press developability, the hydrophilic group preferably has a polypropylene oxide structure as the polyalkylene oxide structure, and more preferably has a polyethylene oxide structure or a polypropylene oxide structure.
The number of alkylene oxide structures in the polyalkylene oxide structure is preferably 2 or more, more preferably 5 or more, further preferably 5 to 200, and particularly preferably 8 to 150, from the viewpoint of on-press developability.

また、機上現像性の観点から、上記親水性基として、上記式Zで表される基が好ましい。 From the viewpoint of on-machine developability, the hydrophilic group is preferably a group represented by the above formula Z.

熱可塑性樹脂のガラス転移温度(Tg)は、耐刷性及びインキ着肉性の観点から、60℃~150℃であることが好ましく、80℃~140℃であることがより好ましく、90℃~130℃であることが更に好ましい。
熱可塑性樹脂粒子が2種以上の熱可塑性樹脂を含む場合には、後述するFOX式により求められた値を、熱可塑性樹脂のガラス転移温度という。
From the viewpoints of printing durability and ink receptivity, the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin is preferably from 60° C. to 150° C., more preferably from 80° C. to 140° C., and even more preferably from 90° C. to 130° C.
When the thermoplastic resin particles contain two or more types of thermoplastic resins, the value obtained by the FOX equation described below is referred to as the glass transition temperature of the thermoplastic resin.

本開示において、樹脂のガラス転移温度は、示差走査熱量測定(DSC)を用いて測定することができる。
具体的な測定方法は、JIS K 7121(1987年)又はJIS K 6240(2011年)に記載の方法に順じて行う。本明細書におけるガラス転移温度は、補外ガラス転移開始温度(以下、Tigと称することがある)を用いている。
ガラス転移温度の測定方法をより具体的に説明する。
ガラス転移温度を求める場合、予想される樹脂のTgより約50℃低い温度にて装置が安定するまで保持した後、加熱速度:20℃/分で、ガラス転移が終了した温度よりも約30℃高い温度まで加熱し,示差熱分析(DTA)曲線又はDSC曲線を作成する。
補外ガラス転移開始温度(Tig)、すなわち、本明細書におけるガラス転移温度Tgは、DTA曲線又はDSC曲線における低温側のベースラインを高温側に延長した直線と、ガラス転移の階段状変化部分の曲線の勾配が最大になる点で引いた接線との交点の温度として求める。
In this disclosure, the glass transition temperature of a resin can be measured using differential scanning calorimetry (DSC).
A specific measurement method is performed in accordance with the method described in JIS K 7121 (1987) or JIS K 6240 (2011). In this specification, the glass transition temperature is the extrapolated glass transition onset temperature (hereinafter, sometimes referred to as Tig).
The method for measuring the glass transition temperature will now be described more specifically.
When determining the glass transition temperature, the temperature is maintained at about 50° C. lower than the expected Tg of the resin until the apparatus stabilizes, and then the temperature is heated at a heating rate of 20° C./min to a temperature about 30° C. higher than the temperature at which the glass transition ends, and a differential thermal analysis (DTA) curve or a DSC curve is prepared.
The extrapolated glass transition onset temperature (Tig), i.e., the glass transition temperature Tg in this specification, is determined as the temperature at the intersection of a straight line extending from the low-temperature side baseline of a DTA curve or DSC curve to the high-temperature side and a tangent drawn at the point where the gradient of the curve of the stepwise change in the glass transition is maximum.

熱可塑性樹脂粒子が2種以上の熱可塑性樹脂を含む場合、熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂のTgは下記のように求められる。
1つ目の熱可塑性樹脂のTgをTg1(K)、熱可塑性樹脂粒子における熱可塑性樹脂成分の合計質量に対する1つ目の熱可塑性樹脂の質量分率をW1とし、2つ目のTgをTg2(K)とし、熱可塑性樹脂粒子における熱可塑性樹脂成分の合計質量に対する2つ目の樹脂の質量分率をW2としたときに、熱可塑性樹脂粒子のTg0(K)は、以下のFOX式にしたがって推定することが可能である。
FOX式:1/Tg0=(W1/Tg1)+(W2/Tg2)
また、熱可塑性樹脂粒子が3種の樹脂を含むか、含まれる熱可塑性樹脂種の異なる3種の熱可塑性樹脂粒子が前処理液に含有される場合、熱可塑性樹脂粒子のTgは、n個目の樹脂のTgをTgn(K)、熱可塑性樹脂粒子における樹脂成分の合計質量に対するn個目の樹脂の質量分率をWnとしたときに、上記と同様、以下の式にしたがって推定することが可能である。
FOX式:1/Tg0=(W1/Tg1)+(W2/Tg2)+(W3/Tg3)・・・+(Wn/Tgn)
When the thermoplastic resin particles contain two or more types of thermoplastic resins, the Tg of the thermoplastic resin contained in the thermoplastic resin particles is determined as follows.
When the Tg of the first thermoplastic resin is Tg1(K), the mass fraction of the first thermoplastic resin relative to the total mass of the thermoplastic resin components in the thermoplastic resin particles is W1, the second Tg is Tg2(K), and the mass fraction of the second resin relative to the total mass of the thermoplastic resin components in the thermoplastic resin particles is W2, the Tg0(K) of the thermoplastic resin particles can be estimated according to the following FOX formula.
FOX formula: 1/Tg0=(W1/Tg1)+(W2/Tg2)
Furthermore, when the thermoplastic resin particles contain three types of resins or when three types of thermoplastic resin particles containing different types of thermoplastic resins are contained in the pretreatment liquid, the Tg of the thermoplastic resin particles can be estimated according to the following formula, as described above, where Tgn(K) is the Tg of the nth resin and Wn is the mass fraction of the nth resin relative to the total mass of the resin components in the thermoplastic resin particles.
FOX formula: 1/Tg0=(W1/Tg1)+(W2/Tg2)+(W3/Tg3)...+(Wn/Tgn)

示差走査熱量計(DSC)としては、例えば、エスアイアイ・ナノテクノロジー社のEXSTAR6220を用いることができる。 As a differential scanning calorimeter (DSC), for example, an EXSTAR6220 from SII NanoTechnology can be used.

熱可塑性樹脂粒子の算術平均粒子径は、耐刷性の観点から、1nm以上200nm以下であることが好ましく、3nm以上80nm未満であることがより好ましく、10nm以上49nm以下であることが更に好ましい。 From the viewpoint of printing durability, the arithmetic mean particle diameter of the thermoplastic resin particles is preferably 1 nm or more and 200 nm or less, more preferably 3 nm or more and less than 80 nm, and even more preferably 10 nm or more and 49 nm or less.

本開示における熱可塑性樹脂粒子における算術平均粒子径は、特に断りのない限り、動的光散乱法(DLS)によって測定された値を指す。DLSによる熱可塑性樹脂粒子の算術平均粒子径の測定は、Brookhaven BI-90(Brookhaven Instrument Company製)を用い、上記機器のマニュアルに沿って行われる。 Unless otherwise specified, the arithmetic mean particle size of thermoplastic resin particles in this disclosure refers to a value measured by dynamic light scattering (DLS). The arithmetic mean particle size of thermoplastic resin particles by DLS is measured using a Brookhaven BI-90 (manufactured by Brookhaven Instrument Company) according to the manual for the above instrument.

熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂の重量平均分子量は、3,000~300,000であることが好ましく、5,000~100,000であることがより好ましい。 The weight average molecular weight of the thermoplastic resin contained in the thermoplastic resin particles is preferably 3,000 to 300,000, and more preferably 5,000 to 100,000.

熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂の製造方法は、特に限定されず、公知の方法により製造することができる。
例えば、スチレン化合物と、アクリロニトリル化合物と、必要に応じてN-ビニル複素環化合物、エチレン性不飽和基を有する構成単位の形成に用いられる化合物、酸性基を有する構成単位の形成に用いられる化合物、疎水性基を有する構成単位の形成に用いられる化合物、及び、その他の構成単位の形成に用いられる化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物、とを、公知の方法により重合することにより得られる。
The method for producing the thermoplastic resin contained in the thermoplastic resin particles is not particularly limited, and the thermoplastic resin can be produced by a known method.
For example, it can be obtained by polymerizing, by a known method, a styrene compound, an acrylonitrile compound, and, as necessary, at least one compound selected from the group consisting of an N-vinyl heterocyclic compound, a compound used to form a structural unit having an ethylenically unsaturated group, a compound used to form a structural unit having an acidic group, a compound used to form a structural unit having a hydrophobic group, and a compound used to form other structural units.

熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂の具体例としては、国際公開第2020/262692号に記載のものが好適に挙げられる。 Specific examples of the thermoplastic resin contained in the thermoplastic resin particles include those described in WO 2020/262692.

上記粒子の平均粒径は、0.01μm~3.0μmが好ましく、0.03μm~2.0μmがより好ましく、0.10μm~1.0μmが更に好ましい。この範囲で良好な解像
度と経時安定性が得られる。
本開示における上記粒子の平均一次粒径は、光散乱法により測定するか、又は、粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で粒子の粒径を総計で5,000個測定し、平均値を算出するものとする。なお、非球形粒子については写真上の粒子面積と同一の粒子面積を有する球形粒子の粒径値を粒径とする。
また、本開示における平均粒径は、特に断りのない限り、体積平均粒径であるものとする。
The average particle size of the above particles is preferably 0.01 μm to 3.0 μm, more preferably 0.03 μm to 2.0 μm, and even more preferably 0.10 μm to 1.0 μm, in which case good resolution and stability over time can be obtained.
The average primary particle size of the particles in the present disclosure is measured by a light scattering method, or by taking an electron micrograph of the particles, measuring the particle sizes of 5,000 particles in total on the photograph, and calculating the average value. Note that for non-spherical particles, the particle size is the particle size value of a spherical particle having the same particle area as the particle area on the photograph.
In addition, the average particle size in this disclosure is taken to be the volume average particle size unless otherwise specified.

上記画像記録層は、粒子、特にポリマー粒子を1種単独で含有していても、2種以上を含有していてもよい。
また、上記画像記録層における粒子、特にポリマー粒子の含有量は、機上現像性、及び、耐刷性の観点から、上記画像記録層の全質量に対し、5質量%~90質量%が好ましく、10質量%~90質量%であることがより好ましく、20質量%~90質量%であることが更に好ましく、50質量%~90質量%であることが特に好ましい。
また、上記画像記録層におけるポリマー粒子の含有量は、機上現像性、及び、耐刷性の観点から、上記画像記録層の分子量3,000以上の成分の全質量に対し、20質量%~100質量%が好ましく、35質量%~100質量%であることがより好ましく、50質量%~100質量%であることが更に好ましく、80質量%~100質量%であることが特に好ましい。
The image recording layer may contain one type of particles, particularly polymer particles, or may contain two or more types.
Furthermore, from the viewpoints of on-press developability and printing durability, the content of particles, particularly polymer particles, in the image recording layer is preferably 5% by mass to 90% by mass, more preferably 10% by mass to 90% by mass, even more preferably 20% by mass to 90% by mass, and particularly preferably 50% by mass to 90% by mass, relative to the total mass of the image recording layer.
From the viewpoints of on-press developability and printing durability, the content of the polymer particles in the image recording layer is preferably 20% by mass to 100% by mass, more preferably 35% by mass to 100% by mass, even more preferably 50% by mass to 100% by mass, and particularly preferably 80% by mass to 100% by mass, relative to the total mass of the components having a molecular weight of 3,000 or more in the image recording layer.

〔バインダーポリマー〕
画像記録層は、バインダーポリマーを含んでいてもよい。
上記ポリマー粒子は、上記バインダーポリマーに該当しない。すなわち、バインダーポリマーは、粒子形状ではない重合体である。
バインダーポリマーとしては、(メタ)アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、又は、ポリウレタン樹脂が好ましい。
[Binder Polymer]
The image recording layer may contain a binder polymer.
The polymer particles do not fall under the category of the binder polymer, that is, the binder polymer is a polymer that is not in a particulate form.
The binder polymer is preferably a (meth)acrylic resin, a polyvinyl acetal resin, or a polyurethane resin.

中でも、バインダーポリマーは平版印刷版原版の画像記録層に用いられる公知のバインダーポリマーを好適に使用することができる。一例として、機上現像型の平版印刷版原版に用いられるバインダーポリマー(以下、機上現像用バインダーポリマーともいう。)について、詳細に記載する。
機上現像用バインダーポリマーとしては、アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーが好ましい。アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーは、ポリ(アルキレンオキシド)部位を主鎖に有していても側鎖に有していてもよい。また、ポリ(アルキレンオキシド)を側鎖に有するグラフトポリマーでも、ポリ(アルキレンオキシド)含有繰返し単位で構成されるブロックと(アルキレンオキシド)非含有繰返し単位で構成されるブロックとのブロックコポリマーでもよい。
ポリ(アルキレンオキシド)部位を主鎖に有する場合は、ポリウレタン樹脂が好ましい。ポリ(アルキレンオキシド)部位を側鎖に有する場合の主鎖のポリマーとしては、(メタ)アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられ、特に(メタ)アクリル樹脂が好ましい。
Among them, the binder polymer may suitably be a known binder polymer used in the image recording layer of a lithographic printing plate precursor. As an example, a binder polymer used in an on-press development type lithographic printing plate precursor (hereinafter also referred to as an on-press development binder polymer) will be described in detail.
The binder polymer for on-press development is preferably a binder polymer having an alkylene oxide chain. The binder polymer having an alkylene oxide chain may have a poly(alkylene oxide) moiety in the main chain or in the side chain. It may also be a graft polymer having a poly(alkylene oxide) in the side chain, or a block copolymer of a block composed of a poly(alkylene oxide)-containing repeating unit and a block composed of a non-(alkylene oxide)-containing repeating unit.
When the main chain has a poly(alkylene oxide) moiety, polyurethane resin is preferred. When the main chain has a poly(alkylene oxide) moiety in a side chain, examples of the polymer of the main chain include (meth)acrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, polyurea resin, polyimide resin, polyamide resin, epoxy resin, polystyrene resin, novolac type phenolic resin, polyester resin, synthetic rubber, and natural rubber, and (meth)acrylic resin is particularly preferred.

また、バインダーポリマーの他の好ましい例として、6官能以上10官能以下の多官能チオールを核として、この核に対しスルフィド結合により結合したポリマー鎖を有し、上記ポリマー鎖が重合性基を有する高分子化合物(以下、星型高分子化合物ともいう。)が挙げられる。
星型高分子化合物は、硬化性の観点から、エチレン性不飽和基等の重合性基を、主鎖又は側鎖、より好ましくは側鎖に有しているものが好ましく挙げられる。
星型高分子化合物としては、例えば、特開2012-148555号公報、又は、国際公開第2020/262692号に記載のものが挙げられる。
Another preferred example of the binder polymer is a polymer compound (hereinafter also referred to as a star-shaped polymer compound) having a 6- to 10-functional polyfunctional thiol core, a polymer chain bonded to the core via a sulfide bond, and the polymer chain having a polymerizable group.
From the viewpoint of curability, the star-shaped polymer compound preferably has a polymerizable group such as an ethylenically unsaturated group in the main chain or side chain, more preferably in the side chain.
Examples of star-shaped polymer compounds include those described in JP-A-2012-148555 or WO 2020/262692.

バインダーポリマーの分子量は、GPC法によるポリスチレン換算値として重量平均分子量(Mw)が、2,000以上であることが好ましく、5,000以上であることがより好ましく、10,000~300,000であることが更に好ましい。 The molecular weight of the binder polymer is preferably a weight average molecular weight (Mw) of 2,000 or more, more preferably 5,000 or more, and even more preferably 10,000 to 300,000, as calculated using polystyrene standards by the GPC method.

必要に応じて、特開2008-195018号公報に記載のポリアクリル酸、ポリビニルアルコールなどの親水性ポリマーを併用することができる。また、親油的なポリマーと親水的なポリマーとを併用することもできる。 If necessary, hydrophilic polymers such as polyacrylic acid and polyvinyl alcohol described in JP 2008-195018 A can be used in combination. Also, a lipophilic polymer and a hydrophilic polymer can be used in combination.

また、上記画像記録層は、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位を有するポリマーを含むことが好ましく、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位を有するポリマーを含み、かつ赤外線露光により分解する赤外線吸収剤を含むことがより好ましい。 From the viewpoints of printing durability and on-press developability, the image recording layer preferably contains a polymer having structural units formed from an aromatic vinyl compound, and more preferably contains a polymer having structural units formed from an aromatic vinyl compound and an infrared absorbing agent that decomposes upon exposure to infrared light.

また、本開示に用いられるバインダーポリマーは、例えば、経時による機上現像性の低下を抑制する観点から、ガラス転移温度(Tg)が50℃以上であることが好ましく、70℃以上であることがより好ましく、80℃以上であることが更に好ましく、90℃以上であることが特に好ましい。
また、バインダーポリマーのガラス転移温度の上限としては、画像記録層への水の浸み込みやすさの観点から、200℃が好ましく、120℃以下がより好ましい。
Moreover, the binder polymer used in the present disclosure preferably has a glass transition temperature (Tg) of 50° C. or higher, more preferably 70° C. or higher, even more preferably 80° C. or higher, and particularly preferably 90° C. or higher, from the viewpoint of suppressing deterioration of on-press developability over time.
The upper limit of the glass transition temperature of the binder polymer is preferably 200° C., more preferably 120° C. or lower, from the viewpoint of ease of penetration of water into the image recording layer.

上記のガラス転移温度を有するバインダーポリマーとしては、経時による機上現像性の低下をより抑制する観点から、ポリビニルアセタールが好ましい。
ポリビニルアセタールは、ポリビニルアルコールのヒドロキシ基をアルデヒドにてアセタール化させて得られた樹脂である。
特に、ポリビニルアルコールのヒドロキシ基を、ブチルアルデヒドでアセタール化(即ち、ブチラール化)したポリビニルブチラールが好ましい。
また、ポリビニルアセタールは、耐刷性向上の観点から、エチレン性不飽和基を有することが好ましい。
ポリビニルアセタールとしては、国際公開第2020/262692号に記載のものが好適に挙げられる。
As the binder polymer having the above glass transition temperature, polyvinyl acetal is preferred from the viewpoint of further suppressing the deterioration of on-press developability over time.
Polyvinyl acetal is a resin obtained by acetalizing the hydroxyl groups of polyvinyl alcohol with an aldehyde.
In particular, polyvinyl butyral obtained by acetalizing (that is, butyralizing) the hydroxyl groups of polyvinyl alcohol with butylaldehyde is preferred.
From the viewpoint of improving printing durability, the polyvinyl acetal preferably has an ethylenically unsaturated group.
Suitable examples of polyvinyl acetal include those described in WO 2020/262692.

本開示における画像記録層には、フッ素原子を有する樹脂を含有することが好ましく、フルオロ脂肪族基含有共重合体を含有することがより好ましい。
フッ素原子を有する樹脂、特にフルオロ脂肪族基含有共重合体を用いることで、画像記録層の形成時の発泡による面質異常を抑制し、塗布面状を高めることができ、更に、形成された画像記録層のインキの着肉性を高められる。
また、フルオロ脂肪族基含有共重合体を含む画像記録層は、階調が高くなり、例えば、レーザー光に対して高感度となり、散乱光、反射光等によるかぶり性が良好で耐刷性に優れる平版印刷版が得られる。
The image recording layer in the present disclosure preferably contains a resin having a fluorine atom, and more preferably contains a fluoroaliphatic group-containing copolymer.
By using a resin having a fluorine atom, in particular a fluoroaliphatic group-containing copolymer, it is possible to suppress surface quality abnormalities due to foaming during the formation of the image recording layer, improve the coating surface condition, and further improve the ink receptivity of the formed image recording layer.
Furthermore, an image recording layer containing a fluoroaliphatic group-containing copolymer provides high gradation, for example, high sensitivity to laser light, and provides a lithographic printing plate with good fogging properties against scattered light, reflected light, etc., and excellent printing durability.

上記フルオロ脂肪族基含有共重合体としては、国際公開第2020/262692号に記載のものを好適に用いることができる。 As the fluoroaliphatic group-containing copolymer, those described in WO 2020/262692 can be preferably used.

本開示において用いられる画像記録層においては、バインダーポリマーを1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
バインダーポリマーは、画像記録層中に任意な量で含有させることができるが、バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、1質量%~90質量%であるこ
とが好ましく、5質量%~80質量%であることがより好ましい。
In the image recording layer used in the present disclosure, the binder polymer may be used alone or in combination of two or more kinds.
The binder polymer can be contained in any amount in the image recording layer, but the content of the binder polymer is preferably 1% by mass to 90% by mass, and more preferably 5% by mass to 80% by mass, based on the total mass of the image recording layer.

〔重合禁止剤〕
画像記録層は、経時安定性の観点から、重合禁止剤を含むことが好ましい。画像記録層が重合禁止剤を含むことにより、画像記録層の製造中又は保存中において重合性化合物、特にラジカル重合性化合物の不要な熱重合を防止することができる。
重合禁止剤としては、具体的には、例えば、ハイドロキノン、p-メトキシフェノール、ジ-t-ブチル-p-クレゾール、ピロガロール、t-ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’-チオビス(3-メチル-6-t-ブチルフェノール)、2,2’-メチレンビス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール)、N-ニトロソ-N-フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が好適に挙げられる。
[Polymerization inhibitor]
From the viewpoint of stability over time, the image recording layer preferably contains a polymerization inhibitor. By containing the polymerization inhibitor in the image recording layer, unnecessary thermal polymerization of a polymerizable compound, particularly a radically polymerizable compound, can be prevented during production or storage of the image recording layer.
Specific examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis(3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis(4-methyl-6-t-butylphenol), and N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt.

重合禁止剤としては、経時安定性の観点から、下記式(Ph)で表される化合物を含むことが好ましい。 From the viewpoint of stability over time, it is preferable that the polymerization inhibitor contains a compound represented by the following formula (Ph):

式(Ph)中、XはO、S又はNHを表し、YはN又はCHを表し、RP1は水素原子又はアルキル基を表し、RP2及びRP3はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキル基、アリール基、アシルチオ基又はアシル基を表し、mp及びnpはそれぞれ独立に、0~4の整数を表す。 In formula (Ph), X 1 P represents O, S, or NH, Y 1 P represents N or CH, R P1 represents a hydrogen atom or an alkyl group, R P2 and R P3 each independently represent a halogen atom, an alkylthio group, an arylthio group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkyl group, an aryl group, an acylthio group, or an acyl group, and mp and np each independently represent an integer of 0 to 4.

式(Ph)におけるXは、経時安定性の観点から、O又はSであることが好ましく、Sであることがより好ましい。
式(Ph)におけるYは、経時安定性の観点から、Nであることが好ましい。
式(Ph)におけるRP1は、経時安定性の観点から、水素原子、又は、メチル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
式(Ph)におけるRP2及びRP3はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキル基、又は、アリール基であることが好ましい。
式(Ph)におけるmp及びnpはそれぞれ独立に、経時安定性の観点から、0~2の整数であることが好ましく、0又は1であることがより好ましく、0であることが特に好ましい。
In formula (Ph), X 3 P is preferably O or S, and more preferably S, from the viewpoint of stability over time.
In the formula (Ph), Y 1 P is preferably N from the viewpoint of stability over time.
In view of stability over time, R P1 in formula (Ph) is preferably a hydrogen atom or a methyl group, and more preferably a hydrogen atom.
In formula (Ph), R P2 and R P3 are preferably each independently a halogen atom, an alkylthio group, an arylthio group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkyl group, or an aryl group.
In formula (Ph), mp and np each independently represent, from the viewpoint of stability over time, preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, and particularly preferably 0.

本開示において用いられる画像記録層においては、重合禁止剤を1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
重合禁止剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.001質量%~5質量%であることが好ましく、0.01質量%~1質量%であることがより好ましい。
In the image recording layer used in the present disclosure, the polymerization inhibitor may be used alone or in combination of two or more kinds.
The content of the polymerization inhibitor is preferably from 0.001% by mass to 5% by mass, and more preferably from 0.01% by mass to 1% by mass, based on the total mass of the image recording layer.

〔連鎖移動剤〕
本開示において用いられる画像記録層は、連鎖移動剤を含有してもよい。連鎖移動剤は、平版印刷版における耐刷性の向上に寄与する。
連鎖移動剤としては、チオール化合物が好ましく、沸点(揮発し難さ)の観点で炭素数7以上のチオール化合物がより好ましく、芳香環上にメルカプト基を有する化合物(芳香族チオール化合物)が更に好ましい。上記チオール化合物は単官能チオール化合物であることが好ましい。
連鎖移動剤の具体例としては、国際公開第2020/262692号に記載のものが好適に挙げられる。
[Chain transfer agent]
The image recording layer used in the present disclosure may contain a chain transfer agent. The chain transfer agent contributes to improving the printing durability of the lithographic printing plate.
The chain transfer agent is preferably a thiol compound, more preferably a thiol compound having 7 or more carbon atoms in terms of boiling point (difficulty of volatilization), and further preferably a compound having a mercapto group on an aromatic ring (aromatic thiol compound).The thiol compound is preferably a monofunctional thiol compound.
Specific examples of the chain transfer agent include those described in WO 2020/262692.

連鎖移動剤は、1種のみを添加しても、2種以上を併用してもよい。
連鎖移動剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.01質量%~50質量%が好ましく、0.05質量%~40質量%がより好ましく、0.1質量%~30質量%が更に好ましい。
The chain transfer agent may be added alone or in combination of two or more kinds.
The content of the chain transfer agent is preferably from 0.01% by mass to 50% by mass, more preferably from 0.05% by mass to 40% by mass, and even more preferably from 0.1% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the image recording layer.

〔感脂化剤〕
画像記録層は、インキ着肉性を向上させるために、感脂化剤を更に含有することが好ましい。
上記感脂化剤としては、例えば、オニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマー等のアンモニウム化合物などが挙げられる。
特に、保護層に無機層状化合物を含有させる場合、これら化合物は、無機層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機層状化合物による印刷途中の着肉性低下を抑制することができる。
[Oil Sensitizer]
The image recording layer preferably further contains an oil sensitizer in order to improve ink receptivity.
Examples of the oil sensitizer include onium compounds, nitrogen-containing low molecular weight compounds, and ammonium compounds such as ammonium group-containing polymers.
In particular, when the protective layer contains an inorganic layer compound, the compound functions as a surface coating agent for the inorganic layer compound, and can suppress a decrease in ink receptivity during printing caused by the inorganic layer compound.

また、感脂化剤は、着肉性の観点から、オニウム化合物であることが好ましい。
オニウム化合物としては、ホスホニウム化合物、アンモニウム化合物、スルホニウム化合物等が挙げられ、オニウム化合物としては、上記観点から、ホスホニウム化合物及びアンモニウム化合物からなる群より選択される少なくとも1つが好ましい。
アンモニウム化合物としては、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマー等を好ましく挙げることができる。
感脂化剤の具体例としては、国際公開第2020/262692号に記載のものが好適に挙げられる。
From the viewpoint of ink receptivity, the oil sensitizer is preferably an onium compound.
Examples of the onium compound include phosphonium compounds, ammonium compounds, and sulfonium compounds. From the above viewpoint, the onium compound is preferably at least one selected from the group consisting of phosphonium compounds and ammonium compounds.
Preferred examples of the ammonium compound include nitrogen-containing low molecular weight compounds and ammonium group-containing polymers.
Specific examples of the sensitizer include those described in WO 2020/262692.

感脂化剤の含有量は、画像記録層の全質量に対して、1質量%~40.0質量%が好ましく、2質量%~25.0質量%がより好ましく、3質量%~20.0質量%が更に好ましい。 The content of the oil sensitizer is preferably 1% by mass to 40.0% by mass, more preferably 2% by mass to 25.0% by mass, and even more preferably 3% by mass to 20.0% by mass, based on the total mass of the image recording layer.

画像記録層は、感脂化剤を1種単独で含有してもよいし、2種以上を併用してもよい。
本開示において用いられる画像記録層の好ましい態様の一つは、感脂化剤として、2種以上の化合物を含有する態様である。
具体的には、本開示において用いられる画像記録層は、機上現像性及び着肉性を両立させる観点から、感脂化剤としては、ホスホニウム化合物と、含窒素低分子化合物と、アンモニウム基含有ポリマーと、を併用することが好ましく、ホスホニウム化合物と、第四級アンモニウム塩類と、アンモニウム基含有ポリマーと、を併用することがより好ましい。
The image recording layer may contain one type of oil sensitizer alone or two or more types of oil sensitizers in combination.
One of the preferred embodiments of the image recording layer used in the present disclosure is an embodiment containing two or more compounds as oil sensitizers.
Specifically, from the viewpoint of achieving both on-press developability and ink receptivity, the image recording layer used in the present disclosure preferably uses, as the oil sensitizer, a phosphonium compound, a nitrogen-containing low molecular weight compound, and an ammonium group-containing polymer in combination, and more preferably uses a phosphonium compound, a quaternary ammonium salt, and an ammonium group-containing polymer in combination.

〔その他の成分〕
画像記録層には、その他の成分として、現像促進剤、界面活性剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機層状化合物等を含有することができる。具体的には、特開2008-284817号公報の段落0114~段落0159の記載を参照することができる。
また、上記現像促進剤としては、例えば、国際公開第2020/262692号に記載
のものを用いてもよい。
[Other ingredients]
The image recording layer may contain other components such as a development accelerator, a surfactant, a higher fatty acid derivative, a plasticizer, an inorganic layer compound, etc. For details, see paragraphs 0114 to 0159 of JP-A-2008-284817.
As the development accelerator, for example, those described in WO 2020/262692 may be used.

〔画像記録層の形成〕
本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、例えば、特開2008-195018号公報の段落0142~段落0143に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布液を支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することにより形成することができる。
溶剤としては、公知の溶剤を用いることができる。具体的には、例えば、水、アセトン、メチルエチルケトン(2-ブタノン)、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメーチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、1-メトキシ-2-プロパノール、3-メトキシ-1-プロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピルアセテート、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。溶剤は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。塗布液中の固形分濃度は1質量%~50質量%であることが好ましい。
塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性を得る観点から、0.3g/m~3.0g/mが好ましい。
また、上記画像記録層の層厚は、0.1μm~3.0μmであることが好ましく、0.3μm~2.0μmであることがより好ましい。
本開示において、平版印刷版原版における各層の層厚は、平版印刷版原版の表面に対して垂直な方向に切断した切片を作製し、上記切片の断面を走査型顕微鏡(SEM)により観察することにより確認される。
[Formation of Image Recording Layer]
The image recording layer in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure can be formed, for example, as described in paragraphs [0142] to [0143] of JP2008-195018A, by dispersing or dissolving the above-mentioned necessary components in a known solvent to prepare a coating liquid, applying the coating liquid onto a support by a known method such as bar coater coating, and drying.
As the solvent, a known solvent can be used. Specific examples of the solvent include water, acetone, methyl ethyl ketone (2-butanone), cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 1-methoxy-2-propanol, 3-methoxy-1-propanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N,N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, and ethyl lactate. The solvent may be used alone or in combination of two or more. The solid content in the coating solution is preferably 1% by mass to 50% by mass.
The coating amount (solid content) of the image recording layer after coating and drying varies depending on the application, but is preferably 0.3 g/m 2 to 3.0 g/m 2 from the viewpoint of obtaining good sensitivity and good film properties of the image recording layer.
The thickness of the image recording layer is preferably from 0.1 μm to 3.0 μm, and more preferably from 0.3 μm to 2.0 μm.
In the present disclosure, the layer thickness of each layer in the lithographic printing plate precursor is confirmed by preparing a slice by cutting the lithographic printing plate precursor in a direction perpendicular to its surface and observing the cross section of the slice with a scanning electron microscope (SEM).

<支持体>
本開示に係る平版印刷版原版は、支持体を有する。
支持体としては、公知の平版印刷版原版用支持体から適宜選択して用いることができる。
支持体としては、親水性表面を有する支持体(以下、「親水性支持体」ともいう。)が好ましい。
<Support>
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure has a support.
The support can be appropriately selected from known supports for lithographic printing plate precursors.
The support is preferably a support having a hydrophilic surface (hereinafter, also referred to as a "hydrophilic support").

本開示における支持体としては、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。即ち、本開示における支持体は、アルミニウム板とアルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化被膜とを有することが好ましい。 The support in the present disclosure is preferably an aluminum plate that has been roughened and anodized by a known method. That is, the support in the present disclosure preferably has an aluminum plate and an anodized aluminum coating disposed on the aluminum plate.

また、上記支持体は、アルミニウム板と、上記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、上記陽極酸化皮膜が、上記アルミニウム板よりも上記画像記録層側に位置し、上記陽極酸化皮膜が、上記画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、上記マイクロポアの上記陽極酸化皮膜表面における平均径が、10nmを超え100nm以下であることが好ましい。
更に、上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ10nm~1,000nmの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ20nm
~2,000nmの位置までのびる小径孔部とから構成され、上記大径孔部の上記陽極酸化皮膜表面における平均径が、15nm~100nmであり、上記小径孔部の上記連通位置における平均径が、13nm以下であることが好ましい。
It is also preferred that the support has an aluminum plate and an anodized aluminum film disposed on the aluminum plate, the anodized film being located closer to the image recording layer than the aluminum plate, the anodized film having micropores extending in the depth direction from the surface on the image recording layer side, and the average diameter of the micropores on the surface of the anodized film being greater than 10 nm and not greater than 100 nm.
Furthermore, the micropores communicate with the large diameter pores extending from the surface of the anodized film to a depth of 10 nm to 1,000 nm, and with the bottoms of the large diameter pores.
It is preferable that the large diameter pores have an average diameter of 15 nm to 100 nm on the surface of the anodized film, and the small diameter pores have an average diameter of 13 nm or less at the communicating positions.

また、上記支持体は、アルミニウム板と、上記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜と、を有し、上記陽極酸化皮膜が、上記アルミニウム板よりも上記画像記録層側に位置し、上記陽極酸化皮膜が、上記画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ10nm~1,000nmの位置までのびる小径孔部と、上記小径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ20nm~2,000nmの位置までのびる大径孔部とから構成され、上記小径孔部の上記陽極酸化皮膜表面における平均径が、35nm以下であり、上記大径孔部の平均最大径が、40nm~300nmであることが好ましい。
上記態様の支持体は、後述する処理において、第1段階の陽極酸化処理として、リン酸水溶液を使用し、第2段階の陽極酸化処理として、硫酸水溶液を使用することにより、容易に作製することができる。
It is also preferable that the support has an aluminum plate and an anodized aluminum film disposed on the aluminum plate, the anodized film being located closer to the image recording layer than the aluminum plate, the anodized film having micropores extending in the depth direction from the surface on the image recording layer side, the micropores being composed of small diameter pores extending from the surface of the anodized film to a depth of 10 nm to 1,000 nm, and large diameter pores that communicate with the bottoms of the small diameter pores and extend from the communicating position to a depth of 20 nm to 2,000 nm, the small diameter pores having an average diameter of 35 nm or less on the surface of the anodized film, and the large diameter pores having an average maximum diameter of 40 nm to 300 nm.
The support of the above embodiment can be easily prepared by using an aqueous phosphoric acid solution in the first anodizing step and an aqueous sulfuric acid solution in the second anodizing step in the process described below.

本支持体の引張強度は、160MPa以上であることが好ましい。
引張強度の測定は、引張強度測定機としてオートグラフAGC-H5KN(島津製作所製)を使用し、サンプル:JIS 金属材料引張試験片 5号型により、引張速度:2mm/分にて実施する。
The support preferably has a tensile strength of 160 MPa or more.
The tensile strength is measured using an Autograph AGC-H5KN (manufactured by Shimadzu Corporation) as a tensile strength measuring instrument, a sample: JIS Metallic Material Tensile Test Piece No. 5, and a tensile speed: 2 mm/min.

支持体の引張強度は、160Mpa以上であることが好ましく、170MPa以上であることがより好ましく、190MPa以上であることが特に好ましい。
また、支持体の引張強度の最大値は、特に限定されないが、好ましくは300MPa以下であり、より好ましくは250MPa以下であり、更に好ましくは220MPa以下である。
支持体の引張強度を160Mpa以上とするには、特に限定されないが、例えば、後述のように、支持体中に特定量のマグネシウムを含有させることや、支持体の圧延工程における圧下率を特定量以上とすることが挙げられる。
The tensile strength of the support is preferably 160 MPa or more, more preferably 170 MPa or more, and particularly preferably 190 MPa or more.
Further, the maximum value of the tensile strength of the support is not particularly limited, but is preferably 300 MPa or less, more preferably 250 MPa or less, and further preferably 220 MPa or less.
There are no particular limitations on how the tensile strength of the support can be made 160 MPa or more. For example, as described below, a specific amount of magnesium can be contained in the support, or the rolling reduction in the rolling process of the support can be set to a specific amount or more.

支持体としては、アルミニウム支持体が好ましい。このようなアルミニウム支持体に用いられるアルミニウム板は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属、即ちアルミニウム又はアルミニウム合金からなる。純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし微量の異元素を含む合金から選ばれることが好ましい。 The support is preferably an aluminum support. The aluminum plate used for such an aluminum support is made of a dimensionally stable metal containing aluminum as the main component, i.e., aluminum or an aluminum alloy. It is preferably selected from a pure aluminum plate and an alloy containing aluminum as the main component and trace amounts of other elements.

アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は10質量%以下である。純アルミニウム板が好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは製錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有する合金でもよい。アルミニウム支持体に用いられるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来から公知のアルミニウム板、例えばJIS A 1050、JIS A 1100、JIS A 3103、JIS A 3005などを上記の引張強度としたものを適宜利用することが出来る。 The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is 10 mass% or less. Pure aluminum plate is preferable, but since completely pure aluminum is difficult to produce due to smelting technology, an alloy containing a small amount of foreign elements is also acceptable. The composition of the aluminum plate used for the aluminum support is not specified, and conventionally known aluminum plates, such as JIS A 1050, JIS A 1100, JIS A 3103, and JIS A 3005, that have the above tensile strength can be appropriately used.

上記支持体がアルミニウム支持体であって、上記アルミニウム支持体がマグネシウムを0.020質量%以上含むことが好ましい。アルミニウム支持体におけるマグネシウム含有量(含有率)を0.020質量%以上とすることにより、引張強度が160Mpa以上の支持体を好適に得ることができる。
支持体におけるマグネシウム含有量は、0.020質量%以上であることが好ましく、0.040質量%以上がより好ましく、0.060質量%以上であることが更に好ましい

また、支持体におけるマグネシウム含有量は、特に限定されないが、通常、0.200質量%以下であり、0.150質量%以下であることが好ましく、0.100質量%以下であることがより好ましい。
The support is preferably an aluminum support containing 0.020% by mass or more of magnesium. By making the magnesium content (content) of the aluminum support 0.020% by mass or more, a support having a tensile strength of 160 MPa or more can be suitably obtained.
The magnesium content in the support is preferably 0.020% by mass or more, more preferably 0.040% by mass or more, and even more preferably 0.060% by mass or more.
Furthermore, the magnesium content in the support is not particularly limited, but is usually 0.200% by mass or less, preferably 0.150% by mass or less, and more preferably 0.100% by mass or less.

支持体における、マグネシウム含有率は、測定装置として発光分析装置(PDA-5500、(株)島津製作所製)を用い、測定した。 The magnesium content in the support was measured using a photoluminescence analyzer (PDA-5500, manufactured by Shimadzu Corporation).

また、上記支持体がアルミニウム支持体であって、上記アルミニウム支持体は、上記アルミニウム支持体を構成するアルミニウム板が圧延工程において、250℃以上で熱処理された後に冷間圧延の圧下率を80%以上としたものであることが好ましく、これにより、引張強度が160Mpa以上の支持体を好適に得ることができる。
熱処理後の冷間圧延工程での圧下率を制御することによって、支持体(好ましくはアルミニウム支持体)の引張強度を制御することができる。ここでの圧下率とは、圧延前後の材料の板厚をそれぞれh1,h2とするとき,(h1-h2)/h1で算出される量で,圧延の加工度を表しており、80%以上が好ましく、90%以上がより好ましく、95%以上が更に好ましい。
また、圧下率は、99%未満が好ましく、98%以下であることがより好ましい。
支持体(好ましくは、アルミニウム板)の厚さは、0.1mm~0.6mm程度が好ましい。
Furthermore, it is preferable that the support is an aluminum support, and that the aluminum support is obtained by subjecting an aluminum plate constituting the aluminum support to a heat treatment at 250° C. or higher in a rolling step and then subjecting the aluminum plate to cold rolling at a reduction ratio of 80% or higher, thereby making it possible to suitably obtain a support having a tensile strength of 160 MPa or higher.
The tensile strength of the support (preferably an aluminum support) can be controlled by controlling the reduction in the cold rolling step after the heat treatment. The reduction here is an amount calculated by (h1-h2)/h1, where h1 and h2 are the plate thicknesses of the material before and after rolling, respectively, and represents the degree of rolling, and is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and even more preferably 95% or more.
The rolling reduction is preferably less than 99%, and more preferably 98% or less.
The thickness of the support (preferably an aluminum plate) is preferably about 0.1 mm to 0.6 mm.

〔陽極酸化皮膜〕
上記支持体は、陽極酸化皮膜を有することが好ましい。
陽極酸化皮膜は、陽極酸化処理によって支持体(好ましくは、アルミニウム板)の表面に形成される、極微細孔(マイクロポアともいう。)を有する陽極酸化皮膜(好ましくは、陽極酸化アルミニウム皮膜)を意味する。マイクロポアは、支持体とは反対側の陽極酸化皮膜表面から厚み方向(支持体側、深さ方向)に沿ってのびている。
マイクロポアの陽極酸化皮膜表面における平均径(平均開口径)は、調子再現性、耐刷性及びブラン汚れ性の観点から、7nm~150nmが好ましく、10nm~100nmがより好ましく、10nm~60nmが更に好ましく、15nm~60nmが特に好ましく、18nm~40nmが最も好ましい。
マイクロポアの深さは、10nm~3,000nmが好ましく、10nm~2,000nmがより好ましく、10nm~1,000nmが更に好ましい。
[Anodized film]
The support preferably has an anodized coating.
The anodized film refers to an anodized film (preferably an anodized aluminum film) having extremely fine pores (also called micropores) formed on the surface of a support (preferably an aluminum plate) by anodizing treatment. The micropores extend from the surface of the anodized film opposite the support along the thickness direction (the support side, depth direction).
The average diameter (average opening diameter) of the micropores on the surface of the anodized film is preferably 7 nm to 150 nm, more preferably 10 nm to 100 nm, even more preferably 10 nm to 60 nm, particularly preferably 15 nm to 60 nm, and most preferably 18 nm to 40 nm, from the viewpoints of tone reproducibility, printing durability, and printing stain resistance.
The depth of the micropores is preferably from 10 nm to 3,000 nm, more preferably from 10 nm to 2,000 nm, and even more preferably from 10 nm to 1,000 nm.

マイクロポアの形状は、通常、マイクロポアの径が深さ方向(厚み方向)に向かってほぼ変わらない略直管状(略円柱状)であるが、深さ方向(厚み方向)に向かって径が連続的に小さくなる円錐状であってもよい。また、深さ方向(厚み方向)に向かって径が不連続で小さくなる形状であってもよい。
深さ方向(厚み方向)に向かって径が不連続で小さくなる形状のマイクロポアとしては、陽極酸化皮膜表面から深さ方向に延びる大径孔部と、大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ方向に延びる小径孔部とから構成されるマイクロポアが挙げられる。
The shape of the micropores is usually a substantially straight tube shape (substantially cylindrical shape) in which the diameter of the micropores remains almost constant in the depth direction (thickness direction), but they may also be a cone shape in which the diameter decreases continuously in the depth direction (thickness direction), or a shape in which the diameter decreases discontinuously in the depth direction (thickness direction).
Examples of micropores whose diameter discontinuously decreases in the depth direction (thickness direction) include micropores composed of a large diameter pore portion extending in the depth direction from the surface of the anodized coating film and a small diameter pore portion that communicates with the bottom of the large diameter pore portion and extends in the depth direction from the communicating position.

具体的には、陽極酸化皮膜表面から深さ方向に10nm~1,000nmのびる大径孔部と、大径孔部の底部と連通し、連通位置から更に深さ方向に20~2,000nmのびる小径孔部とから構成されるマイクロポアが好ましい。
以下に、大径孔部及びと小径孔部について詳述する。
Specifically, micropores each composed of a large diameter pore extending 10 nm to 1,000 nm in the depth direction from the surface of the anodized film, and a small diameter pore that communicates with the bottom of the large diameter pore and extends a further 20 to 2,000 nm in the depth direction from the communicating position are preferred.
The large diameter hole portion and the small diameter hole portion will be described in detail below.

-大径孔部-
大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径(平均開口径)は、調子再現性、耐刷性及びブラン汚れ性の観点から、7nm~150nmが好ましく、10nm~100nmがよ
り好ましく、15nm~100nmが更に好ましく、15nm~60nmが特に好ましく、18nm~40nmが最も好ましい。
大径孔部の平均径は、陽極酸化皮膜表面を倍率15万倍の電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM)でN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400nm×600nmの範囲に存在するマイクロポア(大径孔部)の径(直径)を測定し、径の算術平均値を求めることにより算出される。
なお、大径孔部の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
-Large diameter hole-
The average diameter (average opening diameter) of the large diameter pores on the surface of the anodized film is preferably 7 nm to 150 nm, more preferably 10 nm to 100 nm, even more preferably 15 nm to 100 nm, particularly preferably 15 nm to 60 nm, and most preferably 18 nm to 40 nm, from the viewpoints of tone reproducibility, printing durability, and printing stain resistance.
The average diameter of the large pores is calculated by observing N=4 images of the anodized film surface using a field emission scanning electron microscope (FE-SEM) at a magnification of 150,000 times, measuring the diameter of micropores (large pores) present in an area of 400 nm × 600 nm in the four obtained images, and determining the arithmetic mean value of the diameters.
If the shape of the large-diameter hole is not circular, the equivalent circle diameter is used. The "equivalent circle diameter" is the diameter of a circle when the shape of the opening is assumed to be a circle with the same projected area as the projected area of the opening.

大径孔部の底部は、陽極酸化皮膜表面から深さ70nm~1,000nm(以後、深さAともいう。)に位置することが好ましい。つまり、大径孔部は、陽極酸化皮膜表面から深さ方向(厚み方向)に70nm~1,000nmのびる孔部であることが好ましい。中でも、平版印刷版原版の製造方法の効果がより優れる点で、深さAは、90nm~850nmがより好ましく、90nm~800nmが更に好ましく、90nm~600nmが特に好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜の断面の写真(15万倍)をとり、25個以上の大径孔部の深さを測定し、算術平均値として算出される。
The bottoms of the large diameter holes are preferably located at a depth of 70 nm to 1,000 nm (hereinafter also referred to as depth A) from the surface of the anodized film. In other words, the large diameter holes are preferably holes extending 70 nm to 1,000 nm in the depth direction (thickness direction) from the surface of the anodized film. In particular, in terms of superior effects of the manufacturing method for a lithographic printing plate precursor, the depth A is more preferably 90 nm to 850 nm, even more preferably 90 nm to 800 nm, and particularly preferably 90 nm to 600 nm.
The depth is calculated as the arithmetic mean value by taking a photograph (150,000 times) of the cross section of the anodized film, measuring the depths of 25 or more large diameter holes, and then calculating the depths.

大径孔部の形状は特に限定されず、例えば、略直管状(略円柱状)、及び、深さ方向(厚み方向)に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。また、大径孔部の底部の形状は特に限定されず、曲面状(凸状)であっても、平面状であってもよい。
大径孔部の内径は特に制限されないが、開口部の径と同程度の大きさか、又は開口部の径よりも小さいことが好ましい。なお、大径孔部の内径は、開口部の径と1nm~10nm程度の差があってもよい。
The shape of the large diameter hole is not particularly limited, and may be, for example, a substantially straight tube shape (substantially cylindrical shape) or a cone shape whose diameter decreases in the depth direction (thickness direction), with a substantially straight tube shape being preferred. The shape of the bottom of the large diameter hole is not particularly limited, and may be a curved (convex) shape or a flat shape.
The inner diameter of the large diameter hole is not particularly limited, but is preferably about the same as or smaller than the diameter of the opening. The inner diameter of the large diameter hole may differ from the diameter of the opening by about 1 nm to 10 nm.

-小径孔部-
小径孔部は、大径孔部の底部と連通して、連通位置より更に深さ方向(厚み方向)に延びる孔部である。ひとつの小径孔は、通常ひとつの大径孔部と連通するが、2つ以上の小径孔部がひとつの大径孔部の底部と連通していてもよい。
小径孔部の連通位置における平均径は、15nmより小さいことが好ましく、13nm以下がより好ましく、11nm以下がより好ましく、10nm以下が特に好ましい。下限は特に制限されないが、5nmが好ましい。
- Small diameter hole -
The small diameter hole is a hole that communicates with the bottom of the large diameter hole and extends further in the depth direction (thickness direction) from the communicating position. One small diameter hole usually communicates with one large diameter hole, but two or more small diameter holes may communicate with the bottom of one large diameter hole.
The average diameter of the small diameter pores at the communicating positions is preferably smaller than 15 nm, more preferably 13 nm or less, still more preferably 11 nm or less, and particularly preferably 10 nm or less. There is no particular lower limit, but a value of 5 nm is preferable.

小径孔部の平均径は、陽極酸化皮膜表面を倍率15万倍のFE-SEMでN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400nm×600nmの範囲に存在するマイクロポア(小径孔部)の径(直径)を測定し、径の算術平均値を求めることにより算出される。なお、大径孔部の深さが深い場合は、必要に応じて、陽極酸化皮膜上部(大径孔部のある領域)を切削し(例えば、アルゴンガスによって切削)、その後陽極酸化皮膜表面を上記FE-SEMで観察して、小径孔部の平均径を求めてもよい。
なお、小径孔部の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
The average diameter of the small pores is calculated by observing the surface of the anodized film with an FE-SEM at a magnification of 150,000 times (N=4 images), measuring the diameter of the micropores (small pores) present in the range of 400 nm × 600 nm in the four images obtained, and determining the arithmetic mean value of the diameters. If the large pores are deep, the upper part of the anodized film (the area where the large pores are located) may be cut (e.g., cut with argon gas) as necessary, and then the surface of the anodized film may be observed with the FE-SEM to determine the average diameter of the small pores.
If the shape of the small hole is not circular, the equivalent circle diameter is used. The "equivalent circle diameter" is the diameter of a circle when the shape of the opening is assumed to be a circle with the same projected area as the projected area of the opening.

小径孔部の底部は、上記の大径孔部との連通位置(上述した深さAに該当)から更に深さ方向に20nm~2,000nmのびた場所に位置することが好ましい。言い換えると、小径孔部は、上記大径孔部との連通位置から更に深さ方向(厚み方向)にのびる孔部であり、小径孔部の深さは20nm~2,000nmが好ましく、100nm~1,500nmがより好ましく、200nm~1,000nmが特に好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜の断面の写真(15万倍)をとり、25個以上の小径孔部の深さを測定し、算術平均値として算出される。
The bottoms of the small diameter holes are preferably located at positions extending 20 nm to 2,000 nm in the depth direction from the positions where the small diameter holes communicate with the large diameter holes (corresponding to the above-mentioned depth A). In other words, the small diameter holes are holes extending in the depth direction (thickness direction) from the positions where the small diameter holes communicate with the large diameter holes, and the depth of the small diameter holes is preferably 20 nm to 2,000 nm, more preferably 100 nm to 1,500 nm, and particularly preferably 200 nm to 1,000 nm.
The depth is calculated as the arithmetic mean value by taking a photograph (150,000 times) of the cross section of the anodized film, measuring the depths of 25 or more small diameter holes, and then calculating the depth.

小径孔部の形状は特に限定されず、例えば、略直管状(略円柱状)、及び、深さ方向に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。また、小径孔部の底部の形状は特に限定されず、曲面状(凸状)であっても、平面状であってもよい。
小径孔部の内径は特に制限されないが、連通位置における径と同程度の大きさか、又は上記径よりも小さくても大きくてもよい。なお、小径孔部の内径は、通常、開口部の径と1nm~10nm程度の差があってもよい。
The shape of the small diameter hole is not particularly limited, and may be, for example, a substantially straight tube shape (substantially cylindrical shape) or a cone shape whose diameter decreases in the depth direction, with a substantially straight tube shape being preferred. The shape of the bottom of the small diameter hole is not particularly limited, and may be a curved (convex) shape or a flat shape.
The inner diameter of the small diameter hole is not particularly limited, but may be approximately the same as the diameter at the communicating position, or may be smaller or larger than the above diameter. Note that the inner diameter of the small diameter hole may usually differ from the diameter of the opening by about 1 nm to 10 nm.

大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径と小径孔部の連通位置における平均径の比、(大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径)/(小径孔部の連通位置における平均径)は、1.1~13が好ましく、2.5~6.5がより好ましい。
また、大径孔部の深さと小径孔部の深さの比、(大径孔部の深さ)/(小径孔部の深さ)は、0.005~50が好ましく、0.025~40がより好ましい。
The ratio of the average diameter of the large diameter pores on the surface of the anodized film to the average diameter of the small diameter pores at their communicating positions, i.e., (average diameter of the large diameter pores on the surface of the anodized film)/(average diameter of the small diameter pores at their communicating positions), is preferably 1.1 to 13, and more preferably 2.5 to 6.5.
The ratio of the depth of the large diameter hole portion to the depth of the small diameter hole portion, (depth of the large diameter hole portion)/(depth of the small diameter hole portion), is preferably 0.005-50, and more preferably 0.025-40.

また、マイクロポアの形状は、マイクロポアの径が深さ方向(厚み方向)に向かってほぼ変わらない略直管状(略円柱状)であるが、深さ方向(厚み方向)に向かって径が連続的に大きくなる円錐状であってもよい。また、深さ方向(厚み方向)に向かって径が不連続で大きくなる形状であってもよい。
深さ方向(厚み方向)に向かって径が不連続で大きくなる形状のマイクロポアとしては、陽極酸化皮膜表面から深さ方向に延びる小径孔部と、小径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ方向に延びる大径孔部とから構成されるマイクロポアが挙げられる。
The shape of the micropores is generally straight (cylindrical) in which the diameter of the micropores remains almost constant in the depth direction (thickness direction), but may also be conical in which the diameter increases continuously in the depth direction (thickness direction), or may be a shape in which the diameter increases discontinuously in the depth direction (thickness direction).
An example of a micropore whose diameter increases discontinuously in the depth direction (thickness direction) is a micropore composed of a small diameter pore portion extending in the depth direction from the surface of the anodized coating film and a large diameter pore portion that communicates with the bottom of the small diameter pore portion and extends in the depth direction from the communicating position.

具体的には、陽極酸化皮膜表面から深さ方向に10nm~1,000nmのびる小径孔部と、小径孔部の底部と連通し、連通位置から更に深さ方向に20nm~2,000nmのびる大径孔部とから構成されるマイクロポアが好ましい。 Specifically, micropores consisting of small diameter pores extending 10 nm to 1,000 nm in the depth direction from the surface of the anodized film, and large diameter pores that communicate with the bottom of the small diameter pores and extend a further 20 nm to 2,000 nm in the depth direction from the communicating position are preferred.

-小径孔部-
小径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径(平均開口径)は、特に限定されないが、35nm以下が好ましく、25nm以下がより好ましく、20nm以下が特に好ましい。下限は特に制限されないが、15nmが好ましい。
小径孔部の平均径は、陽極酸化皮膜表面を倍率15万倍の電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM)でN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400nm×600nmの範囲に存在するマイクロポア(大径孔部)の径(直径)を測定し、径の算術平均値を求めることにより算出される。
なお、小径孔部の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
- Small diameter hole -
The average diameter (average opening diameter) of the small holes on the surface of the anodized film is not particularly limited, but is preferably 35 nm or less, more preferably 25 nm or less, and particularly preferably 20 nm or less. There is no particular lower limit, but 15 nm is preferred.
The average diameter of the small pores is calculated by observing N=4 images of the anodized film surface using a field emission scanning electron microscope (FE-SEM) at a magnification of 150,000 times, measuring the diameter of micropores (large pores) present in an area of 400 nm × 600 nm in the four obtained images, and determining the arithmetic mean value of the diameters.
If the shape of the small diameter hole is not circular, the equivalent circle diameter is used. The "equivalent circle diameter" is the diameter of a circle when the shape of the opening is assumed to be a circle with the same projected area as the projected area of the opening.

小径孔部の底部は、陽極酸化皮膜表面から深さ70nm~1,000nm(以後、深さA’ともいう。)に位置することが好ましい。つまり、小径孔部は、陽極酸化皮膜表面から深さ方向(厚み方向)に70nm~1,000nmのびる孔部であることが好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜の断面の写真(15万倍)をとり、25個以上の大径孔部の深さを測定し、算術平均値として算出される。
The bottoms of the small diameter holes are preferably located at a depth of 70 nm to 1,000 nm (hereinafter also referred to as depth A') from the surface of the anodized film. In other words, the small diameter holes are preferably holes extending 70 nm to 1,000 nm in the depth direction (thickness direction) from the surface of the anodized film.
The depth is calculated as the arithmetic mean value by taking a photograph (150,000 times) of the cross section of the anodized film, measuring the depths of 25 or more large diameter holes, and then calculating the depths.

小径孔部の形状は特に限定されず、例えば、略直管状(略円柱状)、及び、深さ方向(厚み方向)に向かって径が大きくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。また、小径孔部の底部の形状は特に限定されず、曲面状(凸状)であっても、平面状であってもよい。
小径孔部の内径は特に制限されないが、開口部の径と同程度の大きさか、又は開口部の径よりも小さいことが好ましい。なお、小径孔部の内径は、開口部の径と1nm~10nm程度の差があってもよい。
The shape of the small diameter hole is not particularly limited, and may be, for example, a substantially straight tube shape (substantially cylindrical shape) or a cone shape whose diameter increases in the depth direction (thickness direction), with a substantially straight tube shape being preferred. The shape of the bottom of the small diameter hole is not particularly limited, and may be a curved (convex) shape or a flat shape.
The inner diameter of the small hole is not particularly limited, but is preferably about the same as or smaller than the diameter of the opening. The inner diameter of the small hole may differ from the diameter of the opening by about 1 nm to 10 nm.

-大径孔部-
大径孔部は、小径孔部の底部と連通して、連通位置より更に深さ方向(厚み方向)に延びる孔部である。ひとつの大径孔は、通常、2つ以上の小径孔部がひとつの大径孔部の底部と連通していてもよい。
大径孔部の連通位置における平均径は、20nm~400nmが好ましく、40nm~300nmがより好ましく、50nm~200nmが更に好ましく、50nm~100nmが特に好ましい。
-Large diameter hole-
The large diameter hole portion is a hole portion that communicates with the bottom of the small diameter hole portion and extends further in the depth direction (thickness direction) from the communicating position. Usually, two or more small diameter holes may communicate with the bottom of one large diameter hole portion.
The average diameter of the large diameter pores at the communicating positions is preferably from 20 nm to 400 nm, more preferably from 40 nm to 300 nm, further preferably from 50 nm to 200 nm, and particularly preferably from 50 nm to 100 nm.

大径孔部の平均径は、陽極酸化皮膜表面を倍率15万倍のFE-SEMでN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400nm×600nmの範囲に存在するマイクロポア(大径孔部)の径(直径)を測定し、径の算術平均値を求めることにより算出される。なお、小径孔部の深さが深い場合は、必要に応じて、陽極酸化皮膜上部(小径孔部のある領域)を切削し(例えば、アルゴンガスによって切削)、その後陽極酸化皮膜表面を上記FE-SEMで観察して、大径孔部の平均径を求めてもよい。
なお、大径孔部の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
The average diameter of the large pores is calculated by observing N=4 images of the anodized film surface with an FE-SEM at a magnification of 150,000 times, measuring the diameters of the micropores (large pores) present in the range of 400 nm × 600 nm in the four images obtained, and determining the arithmetic mean value of the diameters. If the small pores are deep, the upper part of the anodized film (the area where the small pores are located) may be cut (for example, cut with argon gas) as necessary, and then the surface of the anodized film may be observed with the FE-SEM to determine the average diameter of the large pores.
If the shape of the large-diameter hole is not circular, the equivalent circle diameter is used. The "equivalent circle diameter" is the diameter of a circle when the shape of the opening is assumed to be a circle with the same projected area as the projected area of the opening.

大径孔部の底部は、上記の小径孔部との連通位置(上述した深さA’に該当)から更に深さ方向に20nm~2,000nmのびた場所に位置することが好ましい。言い換えると、大径孔部は、上記小径孔部との連通位置から更に深さ方向(厚み方向)にのびる孔部であり、大径孔部の深さは20nm~2,000nmが好ましく、100nm~1,500nmがより好ましく、200nm~1,000nmが特に好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜の断面の写真(15万倍)をとり、25個以上の大径孔部の深さを測定し、算術平均値として算出される。
The bottoms of the large diameter holes are preferably located at positions extending 20 nm to 2,000 nm in the depth direction from the positions where the small diameter holes communicate with the large diameter holes (corresponding to the depth A' described above). In other words, the large diameter holes are holes extending in the depth direction (thickness direction) from the positions where the small diameter holes communicate with the large diameter holes, and the depth of the large diameter holes is preferably 20 nm to 2,000 nm, more preferably 100 nm to 1,500 nm, and particularly preferably 200 nm to 1,000 nm.
The depth is calculated as the arithmetic mean value by taking a photograph (150,000 times) of the cross section of the anodized film, measuring the depths of 25 or more large diameter holes, and then calculating the depths.

大径孔部の形状は特に限定されず、例えば、略直管状(略円柱状)、及び、深さ方向に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。また、大径孔部の底部の形状は特に限定されず、曲面状(凸状)であっても、平面状であってもよい。
大径孔部の内径は特に制限されないが、連通位置における径と同程度の大きさか、又は上記径よりも小さくても大きくてもよい。なお、大径孔部の内径は、通常、開口部の径と1nm~10nm程度の差があってもよい。
The shape of the large diameter hole is not particularly limited, and may be, for example, a substantially straight tube shape (substantially cylindrical shape) or a cone shape whose diameter decreases in the depth direction, with a substantially straight tube shape being preferred. The shape of the bottom of the large diameter hole is not particularly limited, and may be a curved (convex) shape or a flat shape.
The inner diameter of the large diameter hole is not particularly limited, but may be approximately the same as the diameter at the communicating position, or may be smaller or larger than the above diameter. Note that the inner diameter of the large diameter hole may usually differ from the diameter of the opening by about 1 nm to 10 nm.

上記支持体が陽極酸化皮膜を有し、
上記陽極酸化皮膜が、陽極酸化皮膜の表面から深さ方向に向かって順に、
平均径が20nm~100nmのマイクロポアを有する、厚さ30nm~500nmの上層、
平均径が上記マイクロポア上層におけるマイクロポアの平均径の1/2~5倍のマイクロポアを有する、厚さ100nm~300nmの中間層、及び
平均径が15nm以下のマイクロポアを有する、厚さ300nm~2,000nmの下層を有することが好ましい。
The support has an anodized coating,
The anodized film is formed by sequentially depositing the following layers from the surface of the anodized film in the depth direction:
an upper layer having a thickness of 30 nm to 500 nm and having micropores with an average diameter of 20 nm to 100 nm;
It is preferable that the micropores have a thickness of 100 nm to 300 nm and have micropores whose average diameter is 1/2 to 5 times the average diameter of the micropores in the upper micropore layer, and that the lower layer has a thickness of 300 nm to 2,000 nm and has micropores whose average diameter is 15 nm or less.

機上現像型平版印刷版原版においては、画像視認性向上の観点から、支持体の陽極酸化皮膜表面(画像記録層が形成される側の表面)における明度が高いことが有用である。
平版印刷版の印刷工程においては、通常、印刷版を印刷機に取り付ける前に目的通りの画像記録がなされているかを確認する目的で、検版作業が行われる。機上現像型平版印刷
版原版においては、画像露光された段階で画像を確認することが求められるため、画像露光部にいわゆる焼き出し画像を生じさせる手段が適用される。
画像露光された機上現像型平版印刷版原版の画像部の見易さ(画像視認性)を定量的に評価する方法として、画像露光部の明度と未露光部の明度を測定し、両者の差を求める方法が挙げられる。ここで、明度としては、CIEL表色系における明度Lの値を用いることができ、測定は、色彩色差計(SpectroEye、エックスライト(株)製)を用いて行うことができる。測定により得られた画像露光部の明度と未露光部の明度との差が大きい程、画像部が見易いこととなる。
画像露光部の明度と未露光部の明度との差を大きくするためには、陽極酸化皮膜表面のCIEL表色系における明度Lの値が大きいことが有効であることが判明した。即ち、明度Lの値は60~100であることが好ましい。
In an on-press development type lithographic printing plate precursor, from the viewpoint of improving image visibility, it is useful that the brightness of the anodized film surface of the support (the surface on which the image recording layer is formed) is high.
In the printing process of a lithographic printing plate, a plate inspection is usually performed to check whether the intended image has been recorded before the printing plate is mounted on a printing press. In the case of an on-press development type lithographic printing plate precursor, it is required to check the image at the stage where the image is exposed, so a means for generating a so-called print-out image in the image-exposed area is applied.
A method for quantitatively evaluating the visibility (image visibility) of the image part of an image-exposed on-press development type lithographic printing plate precursor can be to measure the lightness of the image-exposed part and the lightness of the unexposed part and obtain the difference between them. Here, the lightness can be the lightness L * value in the CIE L * a * b * color system, and the measurement can be performed using a color difference meter (SpectroEye, manufactured by X-Rite Corporation). The larger the difference between the lightness of the image-exposed part and the lightness of the unexposed part obtained by the measurement, the easier the image part is to be seen.
It has been found that in order to increase the difference in brightness between the image-exposed and unexposed areas, it is effective to increase the brightness L * value of the anodized film surface in the CIE L * a * b * color system.

陽極酸化皮膜を有する支持体は、必要に応じて、2つ以上の水酸基を有するヒドロキシ酸化合物を含有する構成層が形成される側とは反対側の面に、特開平5-45885号公報に記載の有機高分子化合物又は特開平6-35174号公報に記載のケイ素のアルコキシ化合物などを含むバックコート層を有していてもよい。 If necessary, the support having the anodized film may have a backcoat layer containing an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 or a silicon alkoxy compound described in JP-A-6-35174 on the side opposite to the side on which the constituent layer containing a hydroxy acid compound having two or more hydroxyl groups is formed.

〔陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造〕
支持体の例として、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法について記載する。
陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体は公知の方法を用いて製造することができる。陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法は、特に限定されるものではない。陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法の好ましい形態としては、アルミニウム板に粗面化処理を施す工程(粗面化処理工程)、粗面化処理されたアルミニウム板を陽極酸化する工程(陽極酸化処理工程)、陽極酸化処理工程で得られた陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させ、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる工程(ポアワイド処理工程)を含む方法が挙げられる。
[Production of Aluminum Support Having Anodized Film]
As an example of the support, a method for producing an aluminum support having an anodized film will be described.
The aluminum support having an anodized film can be manufactured by a known method. The manufacturing method of the aluminum support having an anodized film is not particularly limited. A preferred embodiment of the manufacturing method of the aluminum support having an anodized film includes a step of roughening an aluminum plate (roughening treatment step), a step of anodizing the roughened aluminum plate (anodizing treatment step), and a step of contacting the aluminum plate having an anodized film obtained in the anodizing treatment step with an acid aqueous solution or an alkali aqueous solution to expand the diameter of the micropores in the anodized film (pore widening treatment step).

以下に、各工程を詳細に説明する。 Each step is explained in detail below.

<<粗面化処理工程>>
粗面化処理工程は、アルミニウム板の表面に、電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理を施す工程である。粗面化処理工程は、後述する陽極酸化処理工程の前に実施されることが好ましいが、アルミニウム板の表面がすでに好ましい表面形状を有していれば、実施しなくてもよい。
<<Surface roughening treatment process>>
The surface roughening step is a step of performing a surface roughening treatment, including an electrochemical surface roughening treatment, on the surface of the aluminum plate. The surface roughening step is preferably performed before the anodizing step described below, but may not be performed if the surface of the aluminum plate already has a preferred surface shape.

粗面化処理は、電気化学的粗面化処理のみを施してもよいが、電気化学的粗面化処理と機械的粗面化処理及び化学的粗面化処理の少なくとも一つとを組み合わせて施してもよい。
機械的粗面化処理と電気化学的粗面化処理とを組み合わせる場合には、機械的粗面化処理の後に、電気化学的粗面化処理を施すことが好ましい。
The surface roughening treatment may be performed by electrochemical surface roughening alone, or may be performed by combining electrochemical surface roughening treatment with at least one of mechanical surface roughening treatment and chemical surface roughening treatment.
When mechanical graining and electrochemical graining are combined, it is preferable to carry out the electrochemical graining after the mechanical graining.

電気化学的粗面化処理は、硝酸や塩酸の水溶液中で施すことが好ましい。 The electrochemical roughening treatment is preferably carried out in an aqueous solution of nitric acid or hydrochloric acid.

機械的粗面化処理は、一般的には、アルミニウム板の表面を表面粗さRa:0.35μm~1.0μmとすることを目的として施される。
機械的粗面化処理の諸条件は特に限定されないが、例えば、特公昭50-40047号公報に記載されている方法に従って施すことができる。機械的粗面化処理は、パミストン懸濁液を使用したブラシグレイン処理により施したり、転写方式で施したりすることができる。
また、化学的粗面化処理も特に限定されず、公知の方法に従って施すことができる。
Mechanical graining is generally performed for the purpose of making the surface of an aluminum plate have a surface roughness Ra of 0.35 μm to 1.0 μm.
The conditions for the mechanical graining treatment are not particularly limited, but the treatment can be carried out, for example, according to the method described in JP-B-50-40047. The mechanical graining treatment can be carried out by a brush graining treatment using a pumice suspension or by a transfer method.
The chemical graining treatment is not particularly limited, and can be carried out according to a known method.

機械的粗面化処理の後には、以下の化学エッチング処理を施すことが好ましい。
機械的粗面化処理の後に施される化学エッチング処理は、アルミニウム板の表面の凹凸形状のエッジ部分をなだらかにし、印刷時のインキの引っかかりを防止し、平版印刷版の耐汚れ性を向上させるとともに、表面に残った研磨材粒子などの不要物を除去するために行われる。
化学エッチング処理としては、酸によるエッチングやアルカリによるエッチングが知られているが、エッチング効率の点で特に優れている方法として、アルカリ溶液を用いる化学エッチング処理(以下、「アルカリエッチング処理」ともいう。)が挙げられる。
After the mechanical roughening treatment, it is preferable to carry out the following chemical etching treatment.
The chemical etching treatment carried out after the mechanical graining treatment is carried out to smooth the uneven edges of the surface of the aluminum plate, prevent the ink from catching during printing, improve the stain resistance of the lithographic printing plate, and remove unwanted material such as abrasive particles remaining on the surface.
Known chemical etching processes include acid etching and alkali etching. A method that is particularly excellent in terms of etching efficiency is chemical etching using an alkaline solution (hereinafter, also referred to as "alkaline etching process").

アルカリ溶液に用いられるアルカリ剤は、特に限定されないが、例えば、カセイソーダ、カセイカリ、メタケイ酸ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、グルコン酸ソーダなどが好適に挙げられる。
アルカリ溶液は、アルミニウムイオンを含有してもよい。アルカリ溶液のアルカリ剤の濃度は、0.01質量%以上が好ましく、3質量%以上がより好ましく、また、30質量%以下が好ましく、25質量%以下がより好ましい。
更に、アルカリ溶液の温度は室温以上が好ましく、30℃以上がより好ましく、また、80℃以下が好ましく、75℃以下がより好ましい。
The alkaline agent used in the alkaline solution is not particularly limited, but suitable examples include caustic soda, caustic potash, sodium metasilicate, sodium carbonate, sodium aluminate, and sodium gluconate.
The alkaline solution may contain aluminum ions. The concentration of the alkaline agent in the alkaline solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and is preferably 30% by mass or less, more preferably 25% by mass or less.
Furthermore, the temperature of the alkaline solution is preferably at least room temperature, more preferably at least 30° C., and is preferably at most 80° C., more preferably at most 75° C.

エッチング量は、0.01g/m以上が好ましく、0.05g/m以上がより好ましく、また、30g/m以下が好ましく、20g/m以下がより好ましい。
処理時間は、エッチング量に対応して2秒~5分が好ましく、生産性向上の点から2秒~10秒がより好ましい。
The etching amount is preferably 0.01 g/ m2 or more, more preferably 0.05 g/ m2 or more, and is preferably 30 g/ m2 or less, more preferably 20 g/ m2 or less.
The treatment time is preferably 2 seconds to 5 minutes depending on the amount of etching, and more preferably 2 seconds to 10 seconds from the viewpoint of improving productivity.

機械的粗面化処理後にアルカリエッチング処理を施した場合、アルカリエッチング処理により生じる生成物を除去するために、低温の酸性溶液を用いて化学エッチング処理(以下、「デスマット処理」ともいう。)を施すことが好ましい。
酸性溶液に用いられる酸は、特に限定されないが、例えば、硫酸、硝酸、塩酸が挙げられる。酸性溶液の濃度は1~50質量%が好ましい。酸性溶液の温度は20℃~80℃が好ましい。酸性溶液の濃度及び温度がこの範囲であると、アルミニウム支持体を用いた平版印刷版における耐ポツ状汚れ性能がより向上する。
When alkaline etching treatment is performed after mechanical roughening treatment, it is preferable to perform a chemical etching treatment (hereinafter also referred to as a "desmutting treatment") using a low-temperature acidic solution in order to remove products produced by the alkaline etching treatment.
The acid used in the acidic solution is not particularly limited, but examples thereof include sulfuric acid, nitric acid, and hydrochloric acid. The concentration of the acidic solution is preferably 1 to 50% by mass. The temperature of the acidic solution is preferably 20° C. to 80° C. When the concentration and temperature of the acidic solution are within these ranges, the resistance to dot-like staining in a lithographic printing plate using an aluminum support is further improved.

粗面化処理工程の好ましい態様を以下に例示する。
-態様SA-
(1)から(8)に示す処理をこの順に実施する態様。
(1)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第1アルカリエッチング処理)
(2)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第1デスマット処理)
(3)硝酸を主体とする水溶液を用いた電気化学的粗面化処理(第1電気化学的粗面化処理)
(4)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第2アルカリエッチング処理)
(5)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第2デスマット処理)
(6)塩酸を主体とする水溶液を用いた電気化学的粗面化処理(第2電気化学的粗面化処理)
(7)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第3アルカリエッチング処理)
(8)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第3デスマット処理)
A preferred embodiment of the surface roughening treatment step will be exemplified below.
-Aspect SA-
The process shown in (1) to (8) is carried out in this order.
(1) Chemical Etching Treatment Using an Alkaline Aqueous Solution (First Alkaline Etching Treatment)
(2) Chemical Etching Treatment Using Acidic Aqueous Solution (First Desmutting Treatment)
(3) Electrochemical graining treatment using an aqueous solution mainly containing nitric acid (first electrochemical graining treatment)
(4) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (second alkaline etching treatment)
(5) Chemical Etching Treatment Using Acidic Aqueous Solution (Second Desmutting Treatment)
(6) Electrochemical graining treatment using an aqueous solution mainly containing hydrochloric acid (second electrochemical graining treatment)
(7) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (third alkaline etching treatment)
(8) Chemical Etching Treatment Using Acidic Aqueous Solution (Third Desmutting Treatment)

-態様SB-
(11)から(15)に示す処理をこの順に実施する態様。
(11)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第4アルカリエッチング処理)
(12)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第4デスマット処理)
(13)塩酸を主体とする水溶液を用いた電気化学的粗面化処理(第3電気化学的粗面化処理)
(14)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第5アルカリエッチング処理)
(15)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第5デスマット処理)
-Aspect SB-
The process shown in (11) to (15) is carried out in this order.
(11) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (fourth alkaline etching treatment)
(12) Chemical Etching Treatment Using Acidic Aqueous Solution (Fourth Desmutting Treatment)
(13) Electrochemical graining treatment using an aqueous solution mainly containing hydrochloric acid (third electrochemical graining treatment)
(14) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (fifth alkaline etching treatment)
(15) Chemical Etching Treatment Using Acidic Aqueous Solution (Fifth Desmutting Treatment)

上記態様SAの(1)の処理前、又は、態様SBの(11)の処理前に、必要に応じて、機械的粗面化処理を実施してもよい。 Before the treatment (1) of the above aspect SA or before the treatment (11) of the above aspect SB, a mechanical roughening treatment may be carried out as necessary.

第1アルカリエッチング処理及び第4アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、0.5g/m~30g/mが好ましく、1.0g/m~20g/mがより好ましい。 The amount of aluminum plate dissolved in the first alkaline etching treatment and the fourth alkaline etching treatment is preferably 0.5 g/m 2 to 30 g/m 2 , and more preferably 1.0 g/m 2 to 20 g/m 2 .

態様SAにおける第1電気化学的粗面化処理で用いる硝酸を主体とする水溶液としては、直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液が挙げられる。例えば、1g/L~100g/Lの硝酸水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、又は、硝酸アンモニウムなどを添加して得られる水溶液が挙げられる。
態様SAにおける第2電気化学的粗面化処理及び態様SBにおける第3電気化学的粗面化処理で用いる塩酸を主体とする水溶液としては、直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液が挙げられる。例えば、1g/L~100g/Lの塩酸水溶液に、硫酸を0g/L~30g/L添加して得られる水溶液が挙げられる。なお、この水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、又は硝酸アンモニウムなどの硝酸イオン;塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、又は塩化アンモニウムなどの塩化物イオンを更に添加してもよい。
The aqueous solution mainly containing nitric acid for use in the first electrochemical graining treatment in embodiment SA may be an aqueous solution for use in electrochemical graining treatment using direct or alternating current, for example, an aqueous solution obtained by adding aluminum nitrate, sodium nitrate, ammonium nitrate, or the like to an aqueous solution of nitric acid at 1 g/L to 100 g/L.
The aqueous solution mainly containing hydrochloric acid used in the second electrochemical graining treatment in embodiment SA and the third electrochemical graining treatment in embodiment SB includes an aqueous solution used in electrochemical graining treatment using direct or alternating current. For example, an aqueous solution obtained by adding 0 g/L to 30 g/L of sulfuric acid to an aqueous solution of 1 g/L to 100 g/L of hydrochloric acid may be included. Note that this aqueous solution may further include nitrate ions such as aluminum nitrate, sodium nitrate, or ammonium nitrate; or chloride ions such as aluminum chloride, sodium chloride, or ammonium chloride.

電気化学的粗面化処理の交流電源波形は、サイン波、矩形波、台形波、又は三角波などを用いることができる。周波数は0.1Hz~250Hzが好ましい。
図1は、電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。
図1において、taはアノード反応時間、tcはカソード反応時間、tpは電流が0からピークに達するまでの時間、Iaはアノードサイクル側のピーク時の電流、Icはカソードサイクル側のピーク時の電流である。台形波において、電流が0からピークに達するまでの時間tpは1msec~10msecが好ましい。電気化学的粗面化処理に用いる交流の1サイクルの条件は、アルミニウム板のアノード反応時間taとカソード反応時間tcの比tc/taが1~20、アルミニウム板がアノード時の電気量Qcとアノード時の電気量Qaの比Qc/Qaが0.3~20、アノード反応時間taが5msec~1,000msecの範囲にあることが好ましい。電流密度は台形波のピーク値で電流のアノードサイクル側Ia及びカソードサイクル側Icが共に10~200A/dmが好ましい。Ic/Iaは0.3~20が好ましい。電気化学的粗面化処理が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和は25C/dm~1,000C/dmが好ましい。
The AC power waveform for the electrochemical graining treatment may be a sine wave, a square wave, a trapezoidal wave, a triangular wave, etc. The frequency is preferably 0.1 Hz to 250 Hz.
FIG. 1 is a graph showing an example of an alternating current waveform used in electrochemical surface roughening treatment.
In FIG. 1, ta is the anode reaction time, tc is the cathode reaction time, tp is the time from 0 to the peak of the current, Ia is the current at the peak on the anode cycle side, and Ic is the current at the peak on the cathode cycle side. In the trapezoidal wave, the time tp from 0 to the peak of the current is preferably 1 msec to 10 msec. The conditions of one cycle of the AC used in the electrochemical graining treatment are preferably such that the ratio tc/ta of the anode reaction time ta of the aluminum plate to the cathode reaction time tc is 1 to 20, the ratio Qc/Qa of the quantity of electricity Qc when the aluminum plate is the anode to the quantity of electricity Qa when the aluminum plate is the anode is 0.3 to 20, and the anode reaction time ta is in the range of 5 msec to 1,000 msec. The current density is preferably 10 to 200 A/ dm2 for both the anode cycle side Ia and the cathode cycle side Ic of the current at the peak value of the trapezoidal wave. Ic/Ia is preferably 0.3 to 20. The total amount of electricity involved in the anodic reaction of the aluminum plate at the time when the electrochemical graining treatment is completed is preferably 25 C/dm 2 to 1,000 C/dm 2 .

交流を用いた電気化学的粗面化処理には図2に示した装置を用いることができる。
図2は、交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。
図2において、50は主電解槽、51は交流電源、52はラジアルドラムローラ、53a及び53bは主極、54は電解液供給口、55は電解液、56はスリット、57は電解液通路、58は補助陽極、60は補助陽極槽、Wはアルミニウム板である。電解槽を2つ以上用いるときには、電解条件は同じでもよいし、異なっていてもよい。
アルミニウム板Wは主電解槽50中に浸漬して配置されたラジアルドラムローラ52に
巻装され、搬送過程で交流電源51に接続する主極53a及び53bにより電解処理される。電解液55は、電解液供給口54からスリット56を通じてラジアルドラムローラ52と主極53a及び53bとの間の電解液通路57に供給される。主電解槽50で処理されたアルミニウム板Wは、次いで、補助陽極槽60で電解処理される。この補助陽極槽60には補助陽極58がアルミニウム板Wと対向配置されており、電解液55が補助陽極58とアルミニウム板Wとの間の空間を流れるように供給される。
For electrochemical surface roughening treatment using alternating current, an apparatus shown in FIG. 2 can be used.
FIG. 2 is a side view showing an example of a radial cell for electrochemical surface roughening treatment using an alternating current.
2, 50 denotes a main electrolytic cell, 51 denotes an AC power source, 52 denotes a radial drum roller, 53a and 53b denote main electrodes, 54 denotes an electrolyte supply port, 55 denotes an electrolyte, 56 denotes a slit, 57 denotes an electrolyte passage, 58 denotes an auxiliary anode, 60 denotes an auxiliary anode cell, and W denotes an aluminum plate. When two or more electrolytic cells are used, the electrolysis conditions may be the same or different.
The aluminum sheet W is wound around a radial drum roller 52 immersed in a main electrolytic cell 50, and is electrolyzed by main electrodes 53a and 53b connected to an AC power source 51 during the transport process. An electrolyte 55 is supplied from an electrolyte supply port 54 through a slit 56 to an electrolyte passage 57 between the radial drum roller 52 and the main electrodes 53a and 53b. The aluminum sheet W treated in the main electrolytic cell 50 is then electrolyzed in an auxiliary anode cell 60. In this auxiliary anode cell 60, an auxiliary anode 58 is disposed opposite the aluminum sheet W, and the electrolyte 55 is supplied so as to flow through the space between the auxiliary anode 58 and the aluminum sheet W.

第2アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、所定の平版印刷版原版が製造しやすい点で、1.0g/m~20g/mが好ましく、2.0g/m~10g/mがより好ましい。 The amount of the aluminum plate dissolved in the second alkaline etching treatment is preferably 1.0 g/m 2 to 20 g/m 2 , and more preferably 2.0 g/m 2 to 10 g/m 2 , in terms of ease of production of a predetermined lithographic printing plate precursor.

第3アルカリエッチング処理及び第5アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、所定の平版印刷版原版が製造しやすい点で、0.01g/m~0.8g/mが好ましく、0.05g/m~0.3g/mがより好ましい。 The amount of the aluminum plate dissolved in the third alkaline etching treatment and the fifth alkaline etching treatment is preferably 0.01 g/m 2 to 0.8 g/m 2 , and more preferably 0.05 g/m 2 to 0.3 g/m 2 , in terms of ease of production of a predetermined lithographic printing plate precursor.

酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第1~第5デスマット処理)では、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸、又は、これらの2以上の酸を含む混酸を含む酸性水溶液が好適に用いられる。
酸性水溶液における酸の濃度は0.5質量%~60質量%が好ましい。
In the chemical etching treatments using acidic aqueous solutions (first to fifth desmutting treatments), an acidic aqueous solution containing phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, hydrochloric acid, or a mixed acid containing two or more of these acids is suitably used.
The concentration of the acid in the acidic aqueous solution is preferably 0.5% by mass to 60% by mass.

<<陽極酸化処理工程>>
陽極酸化処理工程は、上記粗面化処理が施されたアルミニウム板に陽極酸化処理を施すことにより、アルミニウム板の表面にアルミニウムの酸化皮膜を形成する工程である。陽極酸化処理によりアルミニウム板の表面に、マイクロポアを有するアルミニウムの陽極酸化皮膜が形成される。
陽極酸化処理は、この分野で従来から知られている方法に従って、所望とするマイクロポアの形状などを考慮して、適宜製造条件を設定することにより行うことができる。
<<Anodizing process>>
The anodizing process is a process for forming an aluminum oxide film on the surface of the aluminum plate by anodizing the aluminum plate that has been subjected to the surface roughening process. The anodizing process forms an aluminum anodized film having micropores on the surface of the aluminum plate.
The anodizing treatment can be carried out according to a method conventionally known in this field by appropriately setting the production conditions taking into consideration the desired shape of the micropores, etc.

陽極酸化処理工程においては、硫酸、リン酸、シュウ酸などの水溶液を主に電解液として用いることができる。場合によっては、クロム酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸など又はこれらの二種以上を組み合わせた水溶液又は非水溶液を用いることもできる。電解液中でアルミニウム板に直流又は交流を流すと、アルミニウム板表面に陽極酸化皮膜を形成することができる。電解液にはアルミニウムイオンが含まれていてもよい。
アルミニウムイオンの含有量は特に限定されないが1g/L~10g/Lが好ましい。
In the anodizing process, an aqueous solution of sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, etc. can be mainly used as the electrolyte. In some cases, an aqueous or non-aqueous solution of chromic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, etc., or a combination of two or more of these, can also be used. When a direct or alternating current is passed through the aluminum plate in the electrolyte, an anodized film can be formed on the surface of the aluminum plate. The electrolyte may contain aluminum ions.
The content of aluminum ions is not particularly limited, but is preferably 1 g/L to 10 g/L.

陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって適宜設定されるが、一般的には、電解液の濃度が1質量%~80質量%(好ましくは5質量%~20質量%)、液温5℃~70℃(好ましくは10℃~60℃)、電流密度0.5A/dm~60A/dm(好ましくは5A/dm~50A/dm)、電圧1V~100V(好ましくは5V~50V)、電解時間1秒~100秒(好ましくは5秒~60秒)の範囲が適当である。 The conditions for the anodizing treatment are appropriately set depending on the electrolytic solution used, but generally, appropriate ranges are an electrolytic solution concentration of 1 mass % to 80 mass % (preferably 5 mass % to 20 mass %), a solution temperature of 5°C to 70°C (preferably 10°C to 60°C), a current density of 0.5 A/dm2 to 60 A/dm2 (preferably 5 A/ dm2 to 50 A/ dm2 ), a voltage of 1 V to 100 V (preferably 5 V to 50 V), and an electrolysis time of 1 second to 100 seconds (preferably 5 seconds to 60 seconds).

英国特許第1,412,768号明細書に記載されている、硫酸中にて高電流密度で陽極酸化する方法は陽極酸化処理の好ましい一例である。 The method of anodizing at high current density in sulfuric acid, described in British Patent Specification No. 1,412,768, is a preferred example of anodizing treatment.

陽極酸化処理は複数回行うこともできる。各陽極酸化処理において使用する電解液の種類、濃度、液温、電流密度、電圧、電解時間などの条件の1つ以上を変更することができる。陽極酸化処理の回数が2の場合、最初の陽極酸化処理を第1陽極酸化処理、2回目の陽極酸化処理を第2陽極酸化処理ということもある。第1陽極酸化処理と第2陽極酸化処理を行うことにより、異なる形状を有する陽極酸化皮膜を形成することができ、印刷性能に優れた平版印刷版原版を提供することが可能となる。
更に、陽極酸化処理に引き続いて下記のポアワイド処理を行い、その後再度陽極酸化処理を行うこともできる。この場合、第1陽極酸化処理、ポアワイド処理、第2陽極酸化処理を行うこととなる。
上記の第1陽極酸化処理、ポアワイド処理、第2陽極酸化処理を行う方法を利用することにより、前述の陽極酸化皮膜表面から深さ方向に延びる大径孔部と、大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ方向に延びる小径孔部とから構成されるマイクロポアを形成することができる。
The anodizing treatment can be performed multiple times. One or more of the conditions such as the type, concentration, temperature, current density, voltage, and electrolysis time of the electrolyte used in each anodizing treatment can be changed. When the number of anodizing treatments is two, the first anodizing treatment is sometimes called the first anodizing treatment, and the second anodizing treatment is sometimes called the second anodizing treatment. By performing the first anodizing treatment and the second anodizing treatment, anodized films having different shapes can be formed, making it possible to provide a lithographic printing plate precursor with excellent printing performance.
Furthermore, it is also possible to carry out the pore widening treatment described below following the anodizing treatment, and then carry out the anodizing treatment again. In this case, the first anodizing treatment, the pore widening treatment, and the second anodizing treatment are carried out.
By utilizing the above-mentioned first anodizing treatment, pore widening treatment, and second anodizing treatment, it is possible to form micropores each consisting of a large diameter pore portion extending in the depth direction from the surface of the anodized film and a small diameter pore portion that communicates with the bottom of the large diameter pore portion and extends in the depth direction from the communicating position.

<<ポアワイド処理工程>>
ポアワイド処理工程は、上記陽極酸化処理工程により形成された陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの径(ポア径)を拡大させる処理(孔径拡大処理)である。このポアワイド処理により、マイクロポアの径が拡大され、より大きな平均径を有するマイクロポアを有する陽極酸化皮膜が形成される。
<<Pore widening process>>
The pore widening treatment step is a treatment (pore diameter enlargement treatment) for enlarging the diameter of the micropores present in the anodized film formed by the anodized film treatment step described above. This pore widening treatment enlarges the diameter of the micropores, forming an anodized film having micropores with a larger average diameter.

ポアワイド処理は、上記陽極酸化処理工程により得られたアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させることにより行うことができる。接触させる方法は、特に限定されず、例えば、浸せき法、スプレー法が挙げられる。中でも、浸せき法が好ましい。 The pore widening treatment can be carried out by contacting the aluminum plate obtained by the above-mentioned anodizing treatment process with an acid aqueous solution or an alkaline aqueous solution. The contacting method is not particularly limited, and examples include the immersion method and the spray method. Among these, the immersion method is preferred.

ポアワイド処理工程においてアルカリ水溶液を使用する場合、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、及び水酸化リチウムからなる群から選ばれる少なくとも一つのアルカリ水溶液を用いることが好ましい。アルカリ水溶液の濃度は0.1質量%~5質量%が好ましい。アルカリ水溶液のpHを11~13に調整し、10℃~70℃(好ましくは20℃~50℃)の条件下で、アルミニウム板をアルカリ水溶液に1秒~300秒(好ましくは1℃~50秒)接触させることが適当である。この際、アルカリ処理液中に炭酸塩、硼酸塩、燐酸塩などの多価弱酸の金属塩を含んでもよい。 When an alkaline aqueous solution is used in the pore widening treatment step, it is preferable to use at least one alkaline aqueous solution selected from the group consisting of sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. The concentration of the alkaline aqueous solution is preferably 0.1% to 5% by mass. It is appropriate to adjust the pH of the alkaline aqueous solution to 11 to 13, and contact the aluminum sheet with the alkaline aqueous solution for 1 to 300 seconds (preferably 1°C to 50 seconds) under conditions of 10°C to 70°C (preferably 20°C to 50°C). In this case, the alkaline treatment liquid may contain metal salts of polyvalent weak acids such as carbonates, borates, and phosphates.

ポアワイド処理工程において酸水溶液を使用する場合、硫酸、リン酸、硝酸、塩酸などの無機酸又はこれらの混合物の水溶液を用いることが好ましい。酸水溶液の濃度は、1質量%~80質量%が好ましく、5質量%~50質量%がより好ましい。酸水溶液の液温5℃~70℃(好ましくは10℃~60℃)の条件下で、アルミニウム板を酸水溶液に1秒~300秒(好ましくは1行~150秒)接触させることが適当である。
アルカリ水溶液又は酸水溶液中にはアルミニウムイオンが含まれていてもよい。アルミニウムイオンの含有量は特に限定されないが、1g/L~10g/Lが好ましい。
When an aqueous acid solution is used in the pore widening treatment step, it is preferable to use an aqueous solution of an inorganic acid such as sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid, or hydrochloric acid, or a mixture thereof. The concentration of the aqueous acid solution is preferably 1% by mass to 80% by mass, more preferably 5% by mass to 50% by mass. It is appropriate to contact the aluminum sheet with the aqueous acid solution for 1 second to 300 seconds (preferably 1 line to 150 seconds) under conditions where the temperature of the aqueous acid solution is 5° C. to 70° C. (preferably 10° C. to 60° C.).
The alkaline or acidic aqueous solution may contain aluminum ions. The content of aluminum ions is not particularly limited, but is preferably 1 g/L to 10 g/L.

陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法は、上記ポアワイド処理工程の後に親水化処理を施す親水化処理工程を含んでいてもよい。親水化処理には、特開2005-254638号公報の段落0109~0114に記載される公知の方法を使用することができる。 The method for producing an aluminum support having an anodized film may include a hydrophilization treatment step in which a hydrophilization treatment is performed after the pore widening treatment step. For the hydrophilization treatment, a known method described in paragraphs 0109 to 0114 of JP-A-2005-254638 can be used.

親水化処理は、ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリなどのアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸漬する方法、親水性ビニルポリマー又は親水性化合物を塗布して親水性の下塗層を形成する方法などにより行うことが好ましい。 The hydrophilization treatment is preferably carried out by immersing the substrate in an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate or potassium silicate, or by applying a hydrophilic vinyl polymer or hydrophilic compound to form a hydrophilic undercoat layer.

ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリなどのアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液による親水化処理は、米国特許第2,714,066号明細書及び米国特許第3,181,461号明細書に記載されている方法及び手順に従って行うことができる。 Hydrophilization treatment using an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate or potassium silicate can be carried out according to the methods and procedures described in U.S. Pat. Nos. 2,714,066 and 3,181,461.

<下塗り層>
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層(中間層と呼ば
れることもある。)を有することが好ましい。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性の低下を抑制しながら現像性を向上させることに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合に、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ効果も有する。
<Undercoat layer>
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably has an undercoat layer (sometimes called an intermediate layer) between the image recording layer and the support. The undercoat layer strengthens the adhesion between the support and the image recording layer in the exposed area and facilitates peeling of the image recording layer from the support in the unexposed area, thereby contributing to improving developability while suppressing a decrease in printing durability. In addition, in the case of infrared laser exposure, the undercoat layer functions as a heat insulating layer, thereby preventing the heat generated by exposure from diffusing to the support and decreasing sensitivity.

下塗り層に用いられる化合物としては、支持体表面に吸着可能な吸着性基及び親水性基を有するポリマーが挙げられる。画像記録層との密着性を向上させるために吸着性基及び親水性基を有し、更に架橋性基を有するポリマーが好ましい。下塗り層に用いられる化合物は、低分子化合物でもポリマーであってもよい。下塗り層に用いられる化合物は、必要に応じて、2種以上を混合して使用してもよい。 Compounds used in the undercoat layer include polymers having adsorptive groups and hydrophilic groups that can be adsorbed to the support surface. In order to improve adhesion to the image recording layer, polymers having adsorptive groups and hydrophilic groups and further having crosslinkable groups are preferred. Compounds used in the undercoat layer may be low molecular weight compounds or polymers. Two or more compounds may be mixed together as necessary.

下塗り層に用いられる化合物がポリマーである場合、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。
支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、-PO、-OPO、-CONHSO-、-SONHSO-、-COCHCOCHが好ましい。親水性基としては、スルホ基又はその塩、カルボキシ基の塩が好ましい。架橋性基としては、アクリル基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリル基などが好ましい。
ポリマーは、ポリマーの極性置換基と、上記極性置換基と対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。
When the compound used in the undercoat layer is a polymer, it is preferably a copolymer of a monomer having an adsorptive group, a monomer having a hydrophilic group, and a monomer having a crosslinkable group.
As the adsorptive group capable of being adsorbed to the surface of the support, a phenolic hydroxy group , a carboxy group, -PO3H2 , -OPO3H2 , -CONHSO2- , -SO2NHSO2- , or -COCH2COCH3 is preferred. As the hydrophilic group, a sulfo group or a salt thereof, or a salt of a carboxy group is preferred. As the crosslinkable group, an acryl group, a methacryl group, an acrylamide group, a methacrylamide group, an allyl group, or the like is preferred.
The polymer may have a crosslinkable group introduced by salt formation between a polar substituent of the polymer and a compound having an ethylenically unsaturated bond and a substituent having an opposite charge to the polar substituent, or may further be copolymerized with a monomer other than the above-mentioned monomers, preferably a hydrophilic monomer.

具体的には、特開平10-282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2-304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が好適に挙げられる。特開2005-238816号、特開2005-125749号、特開2006-239867号、特開2006-215263号の各公報に記載の架橋性基(好ましくは、エチレン性不飽和基)、支持体表面と相互作用する官能基及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物も好ましく用いられる。
より好ましいものとして、特開2005-125749号及び特開2006-188038号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。
Specifically, preferred examples include a silane coupling agent having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679 and a phosphorus compound having an ethylenic double bond reactive group described in JP-A-2-304441. Also preferred are low-molecular or high-molecular compounds having a crosslinkable group (preferably an ethylenically unsaturated group), a functional group that interacts with the support surface, and a hydrophilic group described in JP-A-2005-238816, JP-A-2005-125749, JP-A-2006-239867, and JP-A-2006-215263.
More preferred examples include polymers having an adsorptive group, a hydrophilic group and a crosslinkable group capable of being adsorbed onto the surface of a support, as described in JP-A Nos. 2005-125749 and 2006-188038.

下塗り層に用いられるポリマー中のエチレン性不飽和基の含有量は、ポリマー1g当たり、好ましくは0.1mmol~10.0mmol、より好ましくは0.2mmol~5.5mmolである。
下塗り層に用いられるポリマーの重量平均分子量(Mw)は、5,000以上が好ましく、1万~30万がより好ましい。
The content of the ethylenically unsaturated group in the polymer used in the undercoat layer is preferably from 0.1 mmol to 10.0 mmol, more preferably from 0.2 mmol to 5.5 mmol, per gram of the polymer.
The weight average molecular weight (Mw) of the polymer used in the undercoat layer is preferably 5,000 or more, and more preferably from 10,000 to 300,000.

下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時による汚れ防止のため、キレート剤、第二級又は第三級アミン、重合禁止剤、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基と支持体表面と相互作用する基とを有する化合物(例えば、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、2,3,5,6-テトラヒドロキシ-p-キノン、クロラニル、スルホフタル酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸など)等を含有してもよい。 In addition to the above-mentioned compounds for the undercoat layer, the undercoat layer may contain a chelating agent, a secondary or tertiary amine, a polymerization inhibitor, a compound having an amino group or a functional group having polymerization inhibition ability and a group that interacts with the support surface (e.g., 1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane (DABCO), 2,3,5,6-tetrahydroxy-p-quinone, chloranil, sulfophthalic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, dihydroxyethylethylenediaminediacetic acid, hydroxyethyliminodiacetic acid, etc.) to prevent staining over time.

下塗り層は、公知の方法で塗布される。下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1mg/m~100mg/mが好ましく、1mg/m~30mg/mがより好ましい。 The undercoat layer is applied by a known method. The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably 0.1 mg/m 2 to 100 mg/m 2 , and more preferably 1 mg/m 2 to 30 mg/m 2 .

<保護層>
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層の、支持体側とは反対の側の面上に保護層(「オーバーコート層」と呼ばれることもある。)を有することが好ましい。
また、本開示に係る平版印刷版原版は、支持体と、画像記録層と、保護層とをこの順で有することが好ましい。
保護層は酸素遮断により画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止及び高照度レーザー露光時のアブレーション防止の機能を有していてもよい。
<Protective Layer>
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably has a protective layer (sometimes called an "overcoat layer") on the surface of the image recording layer opposite the support.
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably has a support, an image recording layer, and a protective layer in this order.
The protective layer may have a function of preventing the image-forming inhibiting reaction by blocking oxygen, as well as a function of preventing the occurrence of scratches in the image-recording layer and ablation during exposure to high-intensity laser light.

このような特性の保護層については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書及び特公昭55-49729号公報に記載されている。保護層に用いられる酸素低透過性のポリマーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて2種類以上を混合して使用することもできるが、機上現像性の観点から、水溶性ポリマーを含むことが好ましい。
本開示において、水溶性ポリマーとは、25℃の水に対する溶解度が5質量%を超えるポリマーを意味する。
保護層において用いられる水溶性ポリマーとしては、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、セルロース誘導体、ポリエチレングリコール、ポリ(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。
また、親水性ポリマーは、変性ポリビニルアルコール及びセルロース誘導体よりなる群から選択される少なくとも1種を含むことが好ましい。
変性ポリビニルアルコールとしては、カルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005-250216号公報、及び特開2006-259137号公報に記載の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
セルロース誘導体としては、例えば、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等が挙げられる。
Protective layers having such properties are described in, for example, U.S. Patent No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729. As the low oxygen permeable polymer used in the protective layer, either a water-soluble polymer or a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used, and two or more types can be mixed and used as necessary, but from the viewpoint of on-press developability, it is preferable that the protective layer contains a water-soluble polymer.
In the present disclosure, a water-soluble polymer means a polymer that has a solubility in water at 25° C. of more than 5% by mass.
Examples of the water-soluble polymer used in the protective layer include polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, cellulose derivatives, polyethylene glycol, and poly(meth)acrylonitrile.
The hydrophilic polymer preferably contains at least one selected from the group consisting of modified polyvinyl alcohol and cellulose derivatives.
The modified polyvinyl alcohol is preferably an acid-modified polyvinyl alcohol having a carboxy group or a sulfo group, specifically, the modified polyvinyl alcohols described in JP-A-2005-250216 and JP-A-2006-259137.
Examples of the cellulose derivatives include methyl cellulose, hydroxypropyl methyl cellulose, and carboxymethyl cellulose.

上記水溶性ポリマーの中でも、ポリビニルアルコールを含むことが好ましく、けん化度が50%以上であるポリビニルアルコールを含むことが更に好ましい。
上記けん化度は、60%以上が好ましく、70%以上がより好ましく、85%以上が更に好ましい。けん化度の上限は特に限定されず、100%以下であればよい。
上記けん化度は、JIS K 6726:1994に記載の方法に従い測定される。
また、保護層の一態様として、ポリビニルアルコールと、ポリエチレングリコールとを含む態様も好ましく挙げられる。
Among the above water-soluble polymers, it is preferable to contain polyvinyl alcohol, and it is more preferable to contain polyvinyl alcohol having a degree of saponification of 50% or more.
The degree of saponification is preferably 60% or more, more preferably 70% or more, and even more preferably 85% or more. There is no particular upper limit to the degree of saponification, so long as it is 100% or less.
The degree of saponification is measured according to the method described in JIS K 6726:1994.
In addition, one preferred embodiment of the protective layer includes a layer containing polyvinyl alcohol and polyethylene glycol.

本開示における保護層が水溶性ポリマーを含む場合、保護層の全質量に対する水溶性ポリマーの含有量は、1質量%~99質量%であることが好ましく、3質量%~97質量%であることがより好ましく、5質量%~95質量%であることが更に好ましい。 When the protective layer in the present disclosure contains a water-soluble polymer, the content of the water-soluble polymer relative to the total mass of the protective layer is preferably 1% by mass to 99% by mass, more preferably 3% by mass to 97% by mass, and even more preferably 5% by mass to 95% by mass.

保護層は、疎水性ポリマーを含むことが好ましい。
疎水性ポリマーとは、125℃、100gの純水に対し5g未満で溶解するか、又は、溶解しないポリマーをいう。
疎水性ポリマーとしては、例えば、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ(メタ)アクリル酸アルキルエステル(例えば、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸エチル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル等)、これらの樹脂の原料モノマーを組み合わせた共重合体等が挙げられる。
また、疎水性ポリマーとしては、ポリビニリデンクロライド樹脂を含むことが好ましい。
更に、疎水性ポリマーとしては、スチレン-アクリル共重合体(スチレンアクリル樹脂ともいう。)を含むことが好ましい。
更にまた、疎水性ポリマーは、機上現像性の観点から、疎水性ポリマー粒子であることが好ましい。
The protective layer preferably comprises a hydrophobic polymer.
The hydrophobic polymer refers to a polymer which dissolves in an amount of less than 5 g in 100 g of pure water at 125° C. or which does not dissolve at all.
Examples of hydrophobic polymers include polyethylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, poly(alkyl(meth)acrylate)s (e.g., polymethyl(meth)acrylate, polyethyl(meth)acrylate, polybutyl(meth)acrylate, etc.), and copolymers of combinations of raw material monomers for these resins.
The hydrophobic polymer preferably contains a polyvinylidene chloride resin.
Furthermore, the hydrophobic polymer preferably contains a styrene-acrylic copolymer (also called a styrene-acrylic resin).
Furthermore, from the viewpoint of on-press developability, the hydrophobic polymer is preferably in the form of hydrophobic polymer particles.

疎水性ポリマーは、1種単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。 The hydrophobic polymer may be used alone or in combination of two or more types.

保護層が疎水性ポリマーを含む場合、疎水性ポリマーの含有量は、保護層の全質量に対して、1質量%~70質量%であることが好ましく、5質量%~50質量%であることがより好ましく、10質量%~40質量%であることが更に好ましい。 When the protective layer contains a hydrophobic polymer, the content of the hydrophobic polymer is preferably 1% by mass to 70% by mass, more preferably 5% by mass to 50% by mass, and even more preferably 10% by mass to 40% by mass, based on the total mass of the protective layer.

本開示において、疎水性ポリマーの保護層表面における占有面積率が30面積%以上であることが好ましく、40面積%以上であることがより好ましく、50面積%以上であることが更に好ましい。
疎水性ポリマーの保護層表面における占有面積率の上限としては、例えば、90面積%が挙げられる。
疎水性ポリマーの保護層表面における占有面積率は、以下のようにして測定することができる。
アルバック・ファイ社製PHI nano TOFII型飛行時間型二次イオン質量分析装置(TOF-SIMS)を用い、保護層表面に加速電圧30kVでBiイオンビーム(一次イオン)を照射し、表面から放出される疎水部(即ち、疎水性ポリマーによる領域)に相当するイオン(二次イオン)のピークを測定することで、疎水部のマッピングを行い、100μmあたりに占める疎水部の面積を測定し、疎水部の占有面積率を求め、これを「疎水性ポリマーの保護層表面における占有面積率」とする。
例えば、疎水性ポリマーがアクリル樹脂である場合は、C13のピークにより測定を行う。また、疎水性ポリマーがポリ塩化ビニリデンである場合は、CClのピークにより測定を行う。
上記占有面積率は、疎水性ポリマーの添加量等によって、調整しうる。
In the present disclosure, the area ratio of the hydrophobic polymer on the surface of the protective layer is preferably 30 area % or more, more preferably 40 area % or more, and even more preferably 50 area % or more.
The upper limit of the area ratio of the hydrophobic polymer on the surface of the protective layer is, for example, 90 area %.
The area ratio of the hydrophobic polymer to the surface of the protective layer can be measured as follows.
Using a PHI nano TOFII time-of-flight secondary ion mass spectrometer (TOF-SIMS) manufactured by ULVAC-PHI, a Bi ion beam (primary ions) was irradiated onto the surface of the protective layer at an accelerating voltage of 30 kV, and the peaks of ions (secondary ions) corresponding to the hydrophobic portions (i.e., regions formed by the hydrophobic polymer) emitted from the surface were measured to map the hydrophobic portions, and the area of the hydrophobic portions per 100 μm2 was measured to determine the occupied area ratio of the hydrophobic portions, which was defined as the "occupied area ratio of the hydrophobic polymer on the protective layer surface."
For example, when the hydrophobic polymer is an acrylic resin, the measurement is performed based on the C 6 H 13 O - peak, and when the hydrophobic polymer is polyvinylidene chloride, the measurement is performed based on the C 2 H 2 Cl + peak.
The above occupied area ratio can be adjusted by the amount of hydrophobic polymer added, etc.

保護層は、熱及び/又は赤外線放射への曝露により、より強い電子供与体である基に変化する熱分解性基を含み、熱及び/又は赤外線放射への曝露により印刷画像を形成することができる第2の赤外線吸収剤(以下、画像記録層に含まれる赤外線吸収剤と区別し、特定赤外線吸収剤ともいう)を含むことが好ましい。 It is preferable that the protective layer contains a second infrared absorbing agent (hereinafter, also referred to as a specific infrared absorbing agent, to be distinguished from the infrared absorbing agent contained in the image recording layer) that contains a thermally decomposable group that changes to a group that is a stronger electron donor upon exposure to heat and/or infrared radiation and that can form a printed image upon exposure to heat and/or infrared radiation.

特定赤外線吸収剤は、下記式(VI)で表される化合物であることが好ましい。 The specific infrared absorbing agent is preferably a compound represented by the following formula (VI):

式(VI)中、Ar及びArはそれぞれ独立に、任意に置換された芳香族炭化水素基又は任意に置換されたベンゼン環を有する芳香族炭化水素基を表し、W及びWはそれぞれ独立に、硫黄原子、酸素原子、NRを表し、Rは任意に置換されたアルキル基、NH、又は-CM1011基を表し、M10及びM11はそれぞれ独立に、任意に置換された脂肪族炭化水素基又は任意に置換されたアリール基若しくはヘテロアリール基を表し、M及びMはそれぞれ独立に、水素原子、任意に置換された脂肪族炭化水素基、又は、M及びMが一緒になって任意に置換された環状構造を形成するのに必要な原子群を表し、M及びMはそれぞれ独立に、任意に置換された脂肪族炭化水素基を表し、M~Mはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は任意に置換された脂肪族炭化水素基を表し、Mは、赤外線又は熱への曝露によって誘発される化学反応によって、上記Mよりも強い電子供与体である基に変換され、この変換によって式(VI)で表される化合物の積分光吸収が波長350nmから700nmの間で増加する基であり、電気的に中性な化合物を得るために、任意に1つ又は複数の対イオンを有する。 In formula (VI), Ar 1 and Ar 2 each independently represent an optionally substituted aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group having an optionally substituted benzene ring; W 1 and W 2 each independently represent a sulfur atom, an oxygen atom, or NR * ; R * represents an optionally substituted alkyl group, NH, or a -CM 10 M 11 group; M 10 and M 11 each independently represent an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, or an optionally substituted aryl group or heteroaryl group; M 1 and M 2 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, or a group of atoms necessary for M 1 and M 2 to form together an optionally substituted cyclic structure; M 3 and M 4 each independently represent an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group; M 5 to M 8 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group; M 9 is a group that is converted by a chemical reaction induced by exposure to infrared light or heat into a group that is a stronger electron donor than M9 , and which increases the integrated optical absorbance of the compound of formula (VI) between 350 nm and 700 nm, optionally with one or more counter ions to obtain an electrically neutral compound.

式(VI)におけるMは、-(N=CR17)a-NR-CO-R、-(N=CR17)b-NR-SO-R、-(N=CR17)c-NR11-SO-R12、-S0-NR1516、及び、-S-CH-CR(H)i-d(R)d-NR-COOR18のいずれかから選択されることが好ましい。ここで、a、b、c、及びdは、それぞれ独立に、0又は1である。また、Mは、電気的に中性の化合物を得るために、1つ以上の対イオンを含んでいてもよい。 In formula (VI), M 9 is preferably selected from any one of -(N=CR 17 )a-NR 5 -CO-R 4 , -(N=CR 17 )b-NR 5 -SO 2 -R 6 , -(N=CR 17 )c-NR 11 -SO-R 12 , -SO 2 -NR 15 R 16 , and -S-CH 2 -CR 7 (H)i-d(R 8 )d-NR 9 -COOR 18 , where a, b, c, and d are each independently 0 or 1. Furthermore, M 9 may contain one or more counter ions in order to obtain an electrically neutral compound.

17としては、水素原子、任意に置換された脂肪族炭化水素基、任意に置換されたアリール基若しくはヘテロアリール基、又は、R又はR11と一緒になって環状構造を形成するのに必要な原子群を表す。
としては、-OR10、-NR1314、又は-CFを表す。ここで、R10は、任意に置換されたアリール基若しくはヘテロアリール基、又は、分岐していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。
13及びR14は、それぞれ独立に、水素原子、任意に置換された脂肪族炭化水素基、任意に置換されたアリール基若しくはヘテロアリール基、又は、R13及びR14が一緒になって環状構造を形成するのに必要な原子群を表す。
は、任意に置換された脂肪族炭化水素基、任意に置換されたアリール基若しくはヘテロアリール基、-OR10、-NR1314、又は-CFを表す。
は、水素原子、任意に置換された脂肪族炭化水素基、SO 基、-COOR18、任意に置換されたアリール基若しくはヘテロアリール基、又は、R10、R13、及びR14のうちの少なくとも1つと一緒になって環状構造を形成するのに必要な原子群を表す。
11は、水素原子、任意に置換された脂肪族炭化水素基、任意に置換されたアリール基若しくはヘテロアリール基を表す。
15及びR16は、それぞれ独立に、水素原子、任意に置換された脂肪族炭化水素基、任意に置換されたアリール基若しくはヘテロアリール基、又は、R15及びR16が一緒になって環状構造を形成するのに必要な原子群を表す。
12は、任意に置換された脂肪族炭化水素基、又は、任意に置換されたアリール基若しくはヘテロアリール基を表す。
及びRは、それぞれ独立に、水素原子、又は任意に置換された脂肪族炭化水素基を表す。
は、-COO-又は-COORを表す。ここで、Rは、水素原子、アルカリ金属カチオン、アンモニウムイオン、又は、モノ-、ジ-、トリ-若しくはテトラ-アルキルアンモニウムイオンを表す。
18は、任意に置換されたアリール基若しくはヘテロアリール基、又は、α分岐脂肪族炭化水素基を表す。
R 17 represents a hydrogen atom, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, an optionally substituted aryl group or heteroaryl group, or an atomic group necessary to form a cyclic structure together with R 5 or R 11 .
R4 represents -OR 10 , -NR 13 R 14 , or -CF 3 , where R 10 represents an optionally substituted aryl or heteroaryl group, or an optionally branched aliphatic hydrocarbon group.
R 13 and R 14 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, an optionally substituted aryl group or heteroaryl group, or a group of atoms necessary for R 13 and R 14 to combine together to form a cyclic structure.
R 6 represents an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, an optionally substituted aryl or heteroaryl group, -OR 10 , -NR 13 R 14 , or -CF 3 .
R 5 represents a hydrogen atom, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, an SO 3 - group, -COOR 18 , an optionally substituted aryl group or heteroaryl group, or a group of atoms necessary to form a cyclic structure together with at least one of R 10 , R 13 , and R 14 .
R 11 represents a hydrogen atom, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, or an optionally substituted aryl or heteroaryl group.
R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, an optionally substituted aryl group or heteroaryl group, or a group of atoms necessary for R 15 and R 16 to combine together to form a cyclic structure.
R 12 represents an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, or an optionally substituted aryl or heteroaryl group.
R7 and R9 each independently represent a hydrogen atom or an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group.
R 8 represents --COO-- or --COOR 8 , where R 8 represents a hydrogen atom, an alkali metal cation, an ammonium ion, or a mono-, di-, tri-, or tetra-alkylammonium ion.
R 18 represents an optionally substituted aryl or heteroaryl group, or an alpha-branched aliphatic hydrocarbon group.

式(VI)におけるAr及びArは、それぞれ独立に、任意に置換されたアリール基を表すことが好ましい。Ar及びArで表される環は、ベンゼン環又はナフタレン環が好ましい。
及びWは、それぞれ、-C(CHを表すことが好ましい。
及びMは、一緒になって任意に置換された5員環又はベンゼン環を形成するのに必要な原子群を表すことが好ましい。
及びMは、それぞれ独立に、任意に置換された脂肪族炭化水素基を表すことが好ましい。
、M、M、及びMは、それぞれ、水素原子を表すことが好ましい。
は、-NR-CO-R、-NR-SO-R、-NR11-SO-R12、又は、-SO-NR1516を表すことが好ましい。ここで、R、R、R、R11、R12、R15、及びR16は、上述したR、R、R、R11、R12、R15、及びR16と同義である。特に、Mは、-NR-CO-R、又は-NR-SO-Rを表すことがより好ましい。このとき、Rは、-OR10であることが好ましく、R10は分岐していてもよい脂肪族炭化水素基であることが好ましい。Rは、水素原子、任意に置換された脂肪族炭化水素基、又は、任意に置換されたアリール基若しくはヘテロアリール基であり、Rは、任意に置換された脂肪族炭化水素基、又は、任意に置換されたアリール基若しくはヘテロアリール基である。また、Mは、電気的に中性の化合物を得るために、任意に1つ又は複数の対イオンを含む。
In formula (VI), Ar 1 and Ar 2 each preferably independently represent an optionally substituted aryl group. The ring represented by Ar 1 and Ar 2 is preferably a benzene ring or a naphthalene ring.
Preferably, W 1 and W 2 each represent -C(CH 3 ) 2 .
Preferably, M1 and M2 together represent the atoms necessary to form an optionally substituted 5-membered ring or a benzene ring.
It is preferred that M3 and M4 each independently represent an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group.
It is preferable that M 5 , M 6 , M 7 and M 8 each represent a hydrogen atom.
M 9 preferably represents -NR 5 -CO-R 4 , -NR 5 -SO 2 -R 6 , -NR 11 -SO-R 12 , or -SO 2 -NR 15 R 16. Here, R 4 , R 5 , R 6 , R 11 , R 12 , R 15 , and R 16 are synonymous with the above-mentioned R 4 , R 5 , R 6 , R 11 , R 12 , R 15 , and R 16. In particular, M 9 more preferably represents -NR 5 -CO-R 4 or -NR 5 -SO 2 -R 6. In this case, R 4 is preferably -OR 10 , and R 10 is preferably an optionally branched aliphatic hydrocarbon group. R5 is a hydrogen atom, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, or an optionally substituted aryl or heteroaryl group, R6 is an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, or an optionally substituted aryl or heteroaryl group, and M9 optionally contains one or more counterions to obtain an electrically neutral compound.

なお、特定赤外線吸収剤、具体的には、式(VI)で表される化合物は、置換基の種類及び各置換基の数に応じて、中性色素、アニオン性色素、又はカチオン性色素であり得る。
式(VI)で表される化合物は、構造内に、-COH、-C0NHSO2R、-SONHCOR、-SONHSO、-PO、-OPO、-OSOH、-S-SOH、-S0H、これらの塩等のアニオン性基又は酸基を含むことが好ましい。ここで、R、R、及びRはそれぞれ独立に、アリール基又はアルキル基を表し、メチル基が好ましい。また、塩としては、アルカリ金属塩又はアンモニウム塩が挙げられ、モノ-、ジ-、トリ-、又はテトラ-アルキルアンモニウム塩が好ましい。
上記アニオン性基又は酸基は、Ar若しくはArのベンゼン環上、又は、M又はMの脂肪族炭化水素基上に存在することが好ましい。上記アニオン性基又は酸基が存在する、Ar若しくはArのベンゼン環、又は、M又はMの脂肪族炭化水素基は、他の置換基を有していてもよい。他の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、スルホン基、カルボニル基、又はカルボン酸エステル基から選択することができる。
特に、式(VI)で表される化合物は、M又はMの脂肪族炭化水素基上に、-COH、-CONHSOMe、-SONHCOMe、-SONHSO2、-PO2、-SO基、又はこれらの塩が存在することが好ましい。ここで、Meは、メチル基を表す。
The specific infrared absorbing agent, specifically, the compound represented by formula (VI), may be a neutral dye, an anionic dye, or a cationic dye depending on the type and number of the substituents.
The compound represented by formula (VI) preferably contains an anionic group or an acid group in the structure, such as -CO2H , -C0NHS02Rh , -SO2NHCORi , -SO2NHSO2Rj , -PO3H2 , -OPO3H2 , -OSO3H , -S- SO3H , -S03H , or a salt thereof. Here, Rh , Ri , and Rj each independently represent an aryl group or an alkyl group, and a methyl group is preferred. Examples of the salt include alkali metal salts or ammonium salts, and mono-, di-, tri-, or tetra-alkylammonium salts are preferred.
The anionic group or acid group is preferably present on the benzene ring of Ar 1 or Ar 2 , or on the aliphatic hydrocarbon group of M 3 or M 4. The benzene ring of Ar 1 or Ar 2 , or the aliphatic hydrocarbon group of M 3 or M 4 , on which the anionic group or acid group is present, may have another substituent. The other substituent may be selected from a halogen atom, a cyano group, a sulfone group, a carbonyl group, or a carboxylate group.
In particular, the compound represented by formula (VI) preferably has a -CO2H , -CONHSO2Me, -SO2NHCOMe , -SO2NHSO2 , -PO3H2 , -SO3 group, or a salt thereof, present on the aliphatic hydrocarbon group of M3 or M4 , where Me represents a methyl group.

式(VI)で表される化合物において、電気的に中性の化合物を得るための任意の対イオンは、例えば、ハロゲン、スルホネート、ペルフルオロスルホネート、トシレート、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、アリールボレート、アリールスルホネート等のアニオンが挙げられる。また、式(VI)で表される化合物が有する塩構造としては、アルカリ金属塩又はアンモニウム塩が挙げられる。 In the compound represented by formula (VI), the optional counter ion for obtaining an electrically neutral compound may be, for example, an anion such as a halogen, a sulfonate, a perfluorosulfonate, a tosylate, a tetrafluoroborate, a hexafluorophosphate, an aryl borate, or an aryl sulfonate. In addition, the salt structure of the compound represented by formula (VI) may be an alkali metal salt or an ammonium salt.

式(VI)で表される化合物の具体例を以下に示す。以下の具体例において、Mは、L、Na、K、NH 、RNHここで、Rは、それぞれ独立に、水素原子、任意に置換されたアルキル又は任意に置換されたアリール基を表す。 Specific examples of the compound represented by formula (VI) are shown below. In the following specific examples, M + is L + , Na + , K + , NH4 + , R3NH +, where each R independently represents a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, or an optionally substituted aryl group.

保護層が特定赤外線吸収剤を含む場合、特定赤外線吸収剤の含有量は、保護層の全質量に対して、1質量%~40質量%であることが好ましく、2質量%~20質量%であることがより好ましく、4質量%~10質量%であることが更に好ましい。 When the protective layer contains a specific infrared absorbing agent, the content of the specific infrared absorbing agent is preferably 1% by mass to 40% by mass, more preferably 2% by mass to 20% by mass, and even more preferably 4% by mass to 10% by mass, relative to the total mass of the protective layer.

保護層は、現像不良故障の抑制性の観点から、フィラーを含むことが好ましい。
フィラーとしては、無機粒子、有機樹脂粒子、無機層状化合物等が挙げられる。中でも、無機層状化合物が好ましい。無機層状化合物を用いることで、ロール表面からの再付着物が画像記録層表面に直接付着することを効果的に抑制することができる。
無機粒子としては、シリカ粒子等の金属酸化物粒子が挙げられる。
有機樹脂粒子としては、架橋樹脂粒子が挙げられる。
無機層状化合物は、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、天然雲母、合成雲母等の雲母群、式:3MgO・4SiO・HOで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウム等が挙げられる。
好ましく用いられる無機層状化合物は雲母化合物である。雲母化合物としては、例えば、式:A(B,C)2-510(OH,F,O)〔ただし、Aは、K、Na、Caのいずれか、B及びCは、Fe(II)、Fe(III)、Mn、Al、Mg、Vのいずれかであり、Dは、Si又はAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群が挙げられる。
From the viewpoint of suppressing development defects, the protective layer preferably contains a filler.
Examples of the filler include inorganic particles, organic resin particles, and inorganic layered compounds. Among them, inorganic layered compounds are preferred. By using an inorganic layered compound, it is possible to effectively prevent redeposited matter from the roll surface from directly adhering to the surface of the image recording layer.
The inorganic particles include metal oxide particles such as silica particles.
The organic resin particles include crosslinked resin particles.
The inorganic layered compound is a particle having a thin, tabular shape, and examples thereof include mica groups such as natural mica and synthetic mica, talc represented by the formula: 3MgO.4SiO.H 2 O, taeniolite, montmorillonite, saponite, hectorite, zirconium phosphate, and the like.
The inorganic layered compound preferably used is a mica compound, for example, a mica group such as natural mica or synthetic mica represented by the formula: A(B,C)2-5D4O10 ( OH ,F,O) 2 (wherein A is K, Na or Ca, B and C are Fe(II), Fe(III), Mn, Al, Mg or V, and D is Si or Al).

雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げられる。合成雲母としてはフッ素金雲母KMg(AlSi10)F、カリ四ケイ素雲母KMg2.5Si10)F等の非膨潤性雲母、及び、NaテトラシリリックマイカNaMg2.5(Si10)F、Na又はLiテニオライト(Na,Li)MgLi(Si10)F、モンモリロナイト系のNa又はLiヘクトライト(Na,Li)1/8Mg2/5Li1/8(Si10)F等の膨潤性雲母等が挙げられる。更に合成スメクタイトも有用である。 In the mica group, natural micas include muscovite, sodalite, phlogopite, biotite and lepidolite.Synthetic micas include non-swelling micas such as fluorphlogopite KMg3 ( AlSi3O10 ) F2 , potassium tetrasilicic mica KMg2.5Si4O10 ) F2 , and swelling micas such as Na tetrasilicic mica NaMg2.5 ( Si4O10 ) F2 , Na or Li taeniolite (Na, Li ) Mg2Li ( Si4O10 ) F2 , and montmorillonite-based Na or Li hectorite (Na,Li) 1 / 8Mg2 / 5Li1 / 8 ( Si4O10 ) F2.Synthetic smectite is also useful.

上記の雲母化合物の中でも、フッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、膨潤性合成雲母は、10Å~15Å(1Å=0.1nm)程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘土鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にLi、Na、Ca2+、Mg2+等の陽イオンを吸着している。これらの層間に介在している陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換し得る。特に、層間の陽イオンがLi、Naの場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、特に好ましく用いられる。 Among the above mica compounds, fluorine-based swellable mica is particularly useful. That is, swellable synthetic mica has a layered structure consisting of unit crystal lattice layers with a thickness of about 10 Å to 15 Å (1 Å = 0.1 nm), and the metal atom substitution in the lattice is significantly larger than other clay minerals. As a result, the lattice layers have a positive charge deficiency, and to compensate for this, cations such as Li + , Na + , Ca 2+ , and Mg 2+ are adsorbed between the layers. These cations interposed between the layers are called exchangeable cations and can be exchanged with various cations. In particular, when the cations between the layers are Li + and Na + , the ionic radius is small, so the bond between the layered crystal lattices is weak, and the mica swells greatly with water. When shear is applied in this state, it easily cleaves and forms a stable sol in water. Swellable synthetic mica has a strong tendency in this way, and is particularly preferably used.

雲母化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きい程よい。従って、アスペクト比は、好ましくは20以上であり、より好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。アスペクト比は粒子の厚さに対する長径の比であり、例えば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。 From the viewpoint of diffusion control, the shape of the mica compound is such that the thinner the thickness, the better, and the larger the planar size, the better, as long as it does not impede the smoothness of the coating surface or the transmittance of actinic rays. Therefore, the aspect ratio is preferably 20 or more, more preferably 100 or more, and particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the major axis to the thickness of the particle, and can be measured, for example, from a projection of the particle in a microscopic photograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.

雲母化合物の粒子径は、その平均長径が、好ましくは0.3μm~20μm、より好ましくは0.5μm~10μm、特に好ましくは1μm~5μmである。粒子の平均の厚さは、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.05μm以下、特に好ましくは0.01μm以下である。具体的には、例えば、代表的化合物である膨潤性合成雲母の場合、好ましい態様としては、厚さが1nm~50nm程度、面サイズ(長径)が1μm~20μm程度である。 The particle size of the mica compound is preferably 0.3 μm to 20 μm, more preferably 0.5 μm to 10 μm, and particularly preferably 1 μm to 5 μm in terms of average major axis. The average particle thickness is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.05 μm or less, and particularly preferably 0.01 μm or less. Specifically, for example, in the case of swellable synthetic mica, which is a representative compound, the preferred embodiment is a thickness of about 1 nm to 50 nm and a surface size (major axis) of about 1 μm to 20 μm.

無機層状化合物の含有量は、保護層の全質量に対して、1質量%~60質量%が好ましく、3質量%~50質量%がより好ましい。複数種の無機層状化合物を併用する場合でも、無機層状化合物の合計量が上記の含有量であることが好ましい。上記範囲で酸素遮断性が向上し、良好な感度が得られる。また、着肉性の低下を防止できる。 The content of the inorganic layered compound is preferably 1% by mass to 60% by mass, and more preferably 3% by mass to 50% by mass, based on the total mass of the protective layer. Even when multiple types of inorganic layered compounds are used in combination, it is preferable that the total amount of the inorganic layered compounds is within the above content. Within the above range, oxygen barrier properties are improved and good sensitivity is obtained. In addition, a decrease in ink adhesion can be prevented.

保護層は可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御するための無機粒子など公知の添加物を含有してもよい。また、画像記録層において記載した感脂化剤を保護層に含有させてもよい。 The protective layer may contain known additives such as a plasticizer to impart flexibility, a surfactant to improve coatability, and inorganic particles to control the surface slipperiness. The protective layer may also contain an oil sensitizer as described for the image recording layer.

保護層は公知の方法で塗布される。保護層の塗布量(固形分)は、0.01g/m~10g/mが好ましく、0.02g/m~3g/mがより好ましく、0.02g/m~1g/mが特に好ましい。
本開示に係る平版印刷版原版における保護層の膜厚は、0.1μm~5.0μmであることが好ましく、0.3μm~4.0μmであることがより好ましい。
The protective layer is applied by a known method. The coating amount (solid content) of the protective layer is preferably 0.01 g/m 2 to 10 g/m 2 , more preferably 0.02 g/m 2 to 3 g/m 2 , and particularly preferably 0.02 g/m 2 to 1 g/m 2 .
The thickness of the protective layer in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is preferably 0.1 μm to 5.0 μm, and more preferably 0.3 μm to 4.0 μm.

本開示に係る平版印刷版原版は、上述した以外のその他の層を有していてもよい。
その他の層としては、特に制限はなく、公知の層を有することができる。例えば、支持体の画像記録層側とは反対側には、必要に応じてバックコート層が設けられていてもよい。
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure may have layers other than those described above.
The other layers are not particularly limited, and any known layers may be used. For example, a backcoat layer may be provided on the side of the support opposite to the image recording layer, if necessary.

(平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法)
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、特に制限はないが、平版印刷版原版を画像様に露光する工程(露光工程)、及び、露光後の平版印刷版原版を印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程(機上現像工程)を含むことが好ましい。
本開示に係る平版印刷方法は、平版印刷版原版を画像様に露光する工程(露光工程)と、印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程(機上現像工程)と、得られた平版印刷版により印刷する工程(以下、「印刷工程」ともいう。)と、を含むことが好ましい。
(Method of preparing a lithographic printing plate and lithographic printing method)
[0033] The method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure is not particularly limited, but preferably includes a step of exposing a lithographic printing plate precursor to light in an imagewise manner (exposure step), and a step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and fountain solution to the exposed lithographic printing plate precursor on a printing press to remove the image recording layer in non-image areas (on-press development step).
The lithographic printing method according to the present disclosure preferably includes a step of exposing a lithographic printing plate precursor to light in an imagewise manner (exposure step), a step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and fountain solution on a printing press to remove the image recording layer in non-image areas to prepare a lithographic printing plate (on-press development step), and a step of printing with the obtained lithographic printing plate (hereinafter also referred to as a "printing step").

<露光工程>
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程を含むことが好ましい。本開示に係る平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光されることが好ましい。
光源の波長は750nm~1,400nmが好ましく用いられる。波長750nm~1,400nmの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であることが好ましく、また照射エネルギー量は10mJ/cm~300mJ/cmであることが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、及びフラットベッド方式等のいずれでもよい。
画像露光は、プレートセッターなどを用いて常法により行うことができる。機上現像の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光を行ってもよい。
<Exposure process>
The method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure preferably includes an exposure step of exposing a lithographic printing plate precursor imagewise to form an exposed area and an unexposed area. The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is preferably exposed imagewise by laser exposure through a transparent original having a line image, a halftone dot image, or the like, or by laser light scanning based on digital data.
The wavelength of the light source is preferably 750 nm to 1,400 nm. As a light source with a wavelength of 750 nm to 1,400 nm, a solid-state laser or semiconductor laser that emits infrared rays is suitable. With regard to the infrared laser, the output is preferably 100 mW or more, the exposure time per pixel is preferably 20 microseconds or less, and the amount of irradiation energy is preferably 10 mJ/cm 2 to 300 mJ/cm 2. In addition, it is preferable to use a multi-beam laser device in order to shorten the exposure time. The exposure mechanism may be any of an internal drum type, an external drum type, a flatbed type, and the like.
Image exposure can be carried out by a conventional method using a plate setter, etc. In the case of on-press development, the lithographic printing plate precursor may be mounted on a printing press and then image exposure may be carried out on the printing press.

<機上現像工程>
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する機上現像工程を含むことが好ましい。
以下に、機上現像方式について説明する。
<On-press development process>
The method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure preferably includes an on-press development step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and fountain solution on a printing press to remove the image recording layer in non-image areas.
The on-press development method will be described below.

〔機上現像方式〕
機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で油性インキと水性成分とを供給し、非画像部の画像記録層が除去されて平版印刷版が作製されることが好ましい。
すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、何らの現像処理を施すことなくそのまま印刷機に装着するか、あるいは、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、油性インキと水性成分とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された油性インキ及び水性成分のいずれか又は両方によって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、油性インキでもよく、水性成分でもよいが、水性成分が除去された画像記録層の成分によって汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給することが好ましい。このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキ及び湿し水が好適に用いられる。
[On-press development method]
In the on-press development method, it is preferable that an oil-based ink and an aqueous component are supplied to the image-exposed lithographic printing plate precursor on a printing press, and the image recording layer in the non-image areas is removed to prepare a lithographic printing plate.
That is, after image exposure, the lithographic printing plate precursor is mounted on a printing press as it is without any development treatment, or the lithographic printing plate precursor is mounted on a printing press and then image exposure is performed on the printing press, and then an oil-based ink and an aqueous component are supplied to print. In the early stage of printing, the uncured image recording layer is dissolved or dispersed by either or both of the supplied oil-based ink and aqueous component in the non-image area and removed, exposing a hydrophilic surface in that area. Meanwhile, in the exposed area, the image recording layer cured by exposure forms an oil-based ink receptive area having an oleophilic surface. The first thing supplied to the plate surface may be an oil-based ink or an aqueous component, but it is preferable to supply an oil-based ink first in order to prevent the aqueous component from being contaminated by the component of the image recording layer that has been removed. In this way, the lithographic printing plate precursor is developed on the press and used as it is for printing a large number of sheets. As the oil-based ink and aqueous component, printing ink and fountain solution for normal lithographic printing are preferably used.

<印刷工程>
本開示に係る平版印刷方法は、平版印刷版に印刷インキを供給して記録媒体を印刷する印刷工程を含む。
印刷インキとしては、特に制限はなく、所望に応じ、種々の公知のインキを用いることができる。また、印刷インキとしては、油性インキ又は紫外線硬化型インキ(UVインキ)が好ましく挙げられる。
また、上記印刷工程においては、必要に応じ、湿し水を供給してもよい。
また、上記印刷工程は、印刷機を停止することなく、上記機上現像工程又は上記現像液現像工程に連続して行われてもよい。
記録媒体としては、特に制限はなく、所望に応じ、公知の記録媒体を用いることができる。
<Printing process>
The lithographic printing method according to the present disclosure includes a printing step of supplying printing ink to a lithographic printing plate to print a recording medium.
The printing ink is not particularly limited, and various known inks can be used as desired. Preferred examples of the printing ink include oil-based inks and ultraviolet-curable inks (UV inks).
In the printing process, dampening water may be supplied as necessary.
The printing step may be carried out consecutively to the on-press development step or the developer development step without stopping the printing press.
The recording medium is not particularly limited, and any known recording medium can be used as desired.

本開示に係る平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法においては、必要に応じて、露光前、露光中、露光から現像までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。このような加熱により、画像記録層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や感度の安定化等の利点が生じ得る。現像前の加熱は150℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。上記態様であると、非画像部が硬化してしまう等の問題を防ぐことができる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用することが好ましく、100℃~500℃の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、十分な画像強化作用が得られまた、支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を抑制することができる。 In the method for producing a lithographic printing plate and the lithographic printing method according to the present disclosure, the entire surface of the lithographic printing plate precursor may be heated as necessary before exposure, during exposure, or between exposure and development. Such heating promotes the image formation reaction in the image recording layer, and can provide advantages such as improved sensitivity and printing durability and stabilized sensitivity. Heating before development is preferably performed under mild conditions of 150°C or less. This embodiment can prevent problems such as hardening of non-image areas. It is preferable to use very strong conditions for heating after development, preferably in the range of 100°C to 500°C. Within the above range, sufficient image strengthening effect can be obtained and problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area can be suppressed.

(積層体)
本開示に係る積層体は、本開示に係る平版印刷版原版を少なくとも積層してなる。
また、本開示に係る積層体は、本開示に係る平版印刷版原版を積層し、積層された上記機上現像型平版印刷版原版の少なくとも最上部に配置され上記機上現像型平版印刷版原版を保護する保護材を有し、上記保護材の含水率が、10%以下であることが好ましい。
(Laminate)
The laminate according to the present disclosure is formed by laminating at least the planographic printing plate precursor according to the present disclosure.
Furthermore, the laminate according to the present disclosure comprises a lithographic printing plate precursor according to the present disclosure laminated thereon, and a protective material that is placed at least on top of the laminated on-press development type lithographic printing plate precursor to protect the on-press development type lithographic printing plate precursor, and it is preferable that the moisture content of the protective material is 10% or less.

平版印刷版原版は、金属を支持体とした一枚の薄い板状であるため、角や辺、内部等に折れ、傷や変形があると、感光した際に像がぼけたり、印刷した際にインクが不均一になる等の問題が生じやすい。
そこで、平版印刷版原版を保護するために、複数枚の原版を積層した積層体を構成する場合には原版の所定の枚数ごとに保護材を配置して、原版を確実に保護できるようにすることが一般的である。
そして、保護材が配置された状態で、原版を包装材によって包装して包装体とし、荷扱い(運搬や保管等)を行うようにしている。保護材を配置することで、例えば荷扱い時の原版の変形(撓み等)が起き難くなるため、原版の損傷が防止される。また、外力が作用しても、その一部が保護材によって吸収されるため、原版の変形や傷が防止される。
Since a lithographic printing plate precursor is a thin plate with a metal support, if the plate is bent, scratched or deformed at the corners, sides or inside, problems such as blurred images when exposed to light or uneven ink distribution when printed can easily occur.
Therefore, in order to protect the lithographic printing plate precursor, when constructing a laminate in which multiple precursors are stacked, it is common to place a protective material for every predetermined number of precursors to ensure that the precursors are protected.
Then, with the protective material in place, the master is packaged in a packaging material to form a package, which is then handled (transported, stored, etc.). By disposing the protective material, for example, the master is less likely to deform (bend, etc.) during handling, thereby preventing damage to the master. Furthermore, even if an external force is applied, part of the force is absorbed by the protective material, preventing deformation or damage to the master.

本開示に係る積層体における平版印刷版原版の好ましい態様は、上述した本開示に係る平版印刷版原版の好ましい態様と同様である。 The preferred aspects of the lithographic printing plate precursor in the laminate according to the present disclosure are the same as the preferred aspects of the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure described above.

<保護材>
本開示に係る積層体は、積層された上記平版印刷版原版の少なくとも最上部に配置され上記平版印刷版原版を保護する保護材を有し、上記保護材の含水率が、10質量%以下であることが好ましい。
保護材の含水率としては、現像不良故障の抑制性の観点から、10質量%以下が好ましく、7質量%以下がより好ましく、3質量%以下であることが特に好ましい。また、含水率の下限値は、0質量%である。
本開示における保護材の含水率(平衡含水率)は、JIS P 8202(1998)による測定方法で測定する。
<Protective materials>
The laminate according to the present disclosure has a protective material that is disposed at least on the top of the laminated lithographic printing plate precursors and protects the lithographic printing plate precursors, and it is preferable that the moisture content of the protective material is 10% by mass or less.
From the viewpoint of suppressing development failure, the moisture content of the protective material is preferably 10% by mass or less, more preferably 7% by mass or less, and particularly preferably 3% by mass or less. The lower limit of the moisture content is 0% by mass.
The moisture content (equilibrium moisture content) of the protective material in this disclosure is measured by a measurement method according to JIS P 8202 (1998).

保護材の材質としては、厚紙、ボール紙、プラスチック等が挙げられ、中でも、現像不良故障の抑制性の観点から、ボール紙、又は、プラスチックが好ましく、プラスチックがより好ましい。
プラスチックとしては、公知のポリマーを用いることができるが、ポリエステル、ポリカードネート、ポリオレフィン等が挙げられ、ポリエステルが好ましく挙げられる。
保護材の大きさ(縦×横)は、特に制限はなく、使用する平版印刷版原版に応じて、適宜選択することができる。例えば、平版印刷版原版と同じ大きさ、又は、平版印刷版原版より少し大きい大きさ等が挙げられる。
また、保護材の厚さは、特に制限はないが、強度、透湿性、及び、現像不良故障の抑制性の観点から、10μm~10mmであることが好ましく、100μm~5mmであることがより好ましい。
Examples of the material for the protective material include thick paper, cardboard, plastic, etc., and among these, cardboard or plastic is preferred from the viewpoint of suppressing development defects, and plastic is more preferred.
As the plastic, known polymers can be used, such as polyester, polycarbonate, polyolefin, etc., with polyester being preferred.
The size (length x width) of the protective material is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the planographic printing plate precursor to be used. For example, the size may be the same as the planographic printing plate precursor or slightly larger than the planographic printing plate precursor.
The thickness of the protective material is not particularly limited, but from the viewpoints of strength, moisture permeability, and suppression of development defects, it is preferably from 10 μm to 10 mm, and more preferably from 100 μm to 5 mm.

また、保護材は、積層体の最上部だけでなく、最下部にも配置することが好ましい。 It is also preferable to place protective material not only at the top of the laminate but also at the bottom.

<合紙>
本開示に係る積層体は、積層された2つの平版印刷版原版の間に、合紙を有していてもよい。
また、平版印刷版原版と保護材との間に、合紙を有していてもよい。
更に、積層体の最下部に、合紙を有していてもよい。
<Interleave paper>
The laminate according to the present disclosure may have an interleaf paper between the two laminated lithographic printing plate precursors.
Furthermore, an interleaf paper may be provided between the lithographic printing plate precursor and the protective material.
Furthermore, an interleaf paper may be provided at the bottom of the laminate.

本開示に用いられる合紙の材質としては、材料コストを抑制するために、低コストの原料が選択されることが好ましく、例えば、木材パルプを100質量%使用した紙や、木材パルプとともに合成パルプを混合使用した紙、及び、これらの表面に低密度又は高密度ポリエチレン層を設けた紙等を使用することができる。
具体的には、漂白クラフトパルプを叩解し、4質量%の濃度に希釈した紙料にサイズ剤を原紙質量の0.1質量%、紙力剤を0.2質量%になるように加え、更に硫酸アルミニウムをpHが5.0になるまで加えた紙料を用いて抄造した酸性紙が挙げられるが、サイズ剤としてアルキルケテンダイマー(AKD)やアルケニル無水コハク酸(ASA)などの中性サイズ剤を使用し、硫酸アルミニウムの代わりに炭酸カルシウムを填料として用いpHが7~8の中性紙が好ましく用いられる。
中でも、合紙としては、紙であることが好ましく、硫酸アルミニウム又は炭酸カルシウムを含む紙であることがより好ましく、炭酸カルシウムを含む紙であることが特に好ましい。
また、合紙の材質としては、パルプを50質量%以上含む紙であることが好ましく、パルプを70質量%以上含む紙であることがより好ましく、パルプを80質量%以上含む紙であることが特に好ましい。
As the material for the interleaving paper used in the present disclosure, in order to suppress material costs, it is preferable to select a low-cost raw material. For example, paper using 100% by mass of wood pulp, paper using a mixture of wood pulp and synthetic pulp, and papers having a low-density or high-density polyethylene layer provided on the surface thereof can be used.
Specifically, an example of an acidic paper is made by beating bleached kraft pulp, diluting it to a concentration of 4% by mass, adding a sizing agent to the stock so that the sizing agent is 0.1% by mass of the base paper, a paper strength agent to 0.2% by mass, and further adding aluminum sulfate until the pH is 5.0. However, neutral paper using a neutral sizing agent such as alkyl ketene dimer (AKD) or alkenyl succinic anhydride (ASA) as the sizing agent, using calcium carbonate as a filler instead of aluminum sulfate, and having a pH of 7 to 8 is preferably used.
Among these, the interleaf paper is preferably paper, more preferably paper containing aluminum sulfate or calcium carbonate, and particularly preferably paper containing calcium carbonate.
The material of the interleaf paper is preferably paper containing 50% by mass or more of pulp, more preferably paper containing 70% by mass or more of pulp, and particularly preferably paper containing 80% by mass or more of pulp.

合紙としては、カルシウム含有量が合紙全体に対して、0.15質量%~0.5質量%であることが好ましく、0.2質量%~0.45質量%であることがより好ましく、0.25質量%~0.4質量%であることが特に好ましい。
合紙のカルシウム含有量は、合紙を蛍光X線測定することにより得られる。
紙に含まれるカルシウムは主として、中性紙の填料として広く用いられている炭酸カルシウムであり、紙の白色度を上げる作用がある。
The calcium content of the slip paper is preferably 0.15% by mass to 0.5% by mass, more preferably 0.2% by mass to 0.45% by mass, and particularly preferably 0.25% by mass to 0.4% by mass, based on the total amount of the slip paper.
The calcium content of the slip paper can be obtained by subjecting the slip paper to fluorescent X-ray measurement.
The calcium contained in paper is mainly calcium carbonate, which is widely used as a filler in neutral paper and has the effect of increasing the whiteness of the paper.

合紙の坪量(JIS P8124(2011)に規定された測定方法による)は、特に制限はないが、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、29g/m~80g/mであることが好ましく、35g/m~70g/mであることがより好ましく、51g/m~65g/mであることが特に好ましい。
また、上記合紙の坪量は、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、51g/m以上であることが好ましい。
合紙の厚み(JIS P8118(2014)に規定された測定方法による)は、特に制限はないが、20μm~100μmであることが好ましく、42μm~80μmであることがより好ましく、45μm~65μmであることが更に好ましく、45μm~55μmであることが特に好ましい。
The basis weight of the slip sheet (measured by the method specified in JIS P8124 (2011)) is not particularly limited, but from the viewpoints of printing durability and on-press developability, it is preferably 29 g/m 2 to 80 g/m 2 , more preferably 35 g/m 2 to 70 g/m 2 , and particularly preferably 51 g/m 2 to 65 g/m 2 .
From the viewpoints of printing durability and on-press developability, the basis weight of the slip sheet is preferably 51 g/m 2 or more.
The thickness of the slip sheet (measured by the measurement method specified in JIS P8118 (2014)) is not particularly limited, but is preferably 20 μm to 100 μm, more preferably 42 μm to 80 μm, even more preferably 45 μm to 65 μm, and particularly preferably 45 μm to 55 μm.

また、合紙の水分量(合紙を25℃/50%RHにおいて保管し合紙の水分量が安定した際の水分量)は、ポツ状色欠陥抑制性の観点から、合紙の全質量に対し、0質量%~20質量%であることが好ましく、0質量%~15質量%であることがより好ましく、0質量%~10質量%であることが特に好ましい。 In addition, from the viewpoint of suppressing color spots, the moisture content of the slip sheet (the moisture content of the slip sheet when it is stored at 25°C/50% RH and the moisture content of the slip sheet stabilizes) is preferably 0% to 20% by mass, more preferably 0% to 15% by mass, and particularly preferably 0% to 10% by mass, relative to the total mass of the slip sheet.

また、合紙としては、特開2010-76336号公報に記載されている合紙を好適に用いることができる。 As the interleaf paper, the interleaf paper described in JP 2010-76336 A can be suitably used.

合紙の形状は、特に制限はないが、平版印刷版原版の面方向の形状と同じ形状、又は、それより大きい形状が挙げられる。 There are no particular limitations on the shape of the slip sheet, but it may be the same shape as the surface direction shape of the lithographic printing plate precursor or a shape larger than that.

また、本開示に係る積層体は、公知の方法により、全体を包装されていてもよい。 The laminate according to the present disclosure may also be packaged in its entirety by known methods.

以下、実施例により本開示を詳細に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。なお、本実施例において、「%」、「部」とは、特に断りのない限り、それぞれ「質量%」、「質量部」を意味する。なお、高分子化合物において、特別に規定したもの以外は、分子量は重量平均分子量(Mw)であり、構成繰り返し単位の比率はモル百分率である。また、重量平均分子量(Mw)は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法によるポリスチレン換算値として測定した値である。 The present disclosure will be described in detail below with reference to examples, but the present disclosure is not limited thereto. In the examples, "%" and "parts" mean "mass %" and "mass parts", respectively, unless otherwise specified. In the polymer compounds, unless otherwise specified, the molecular weight is the weight average molecular weight (Mw), and the ratio of the repeating units is the molar percentage. The weight average molecular weight (Mw) is a value measured as a polystyrene equivalent value by gel permeation chromatography (GPC).

(実施例1~97、及び、比較例1~5)
<支持体の作製>
<<表面処理A>>
(A-a)機械的粗面化処理(ブラシグレイン法)
図3に示したような装置を使って、パミスの懸濁液(比重1.1g/cm)を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。図3において、1はアルミニウム板、2及び4はローラ状ブラシ(本実施例において、束植ブラシ)、3は研磨スラリー液、5、6、7及び8は支持ローラである。
機械的粗面化処理は、研磨材のメジアン径(μm)を30μm、ブラシ本数を4本、ブラシの回転数(rpm)を250rpmとした。束植ブラシの材質は6・10ナイロンで、ブラシ毛の直径0.3mm、毛長50mmであった。ブラシは、φ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して10kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。
(Examples 1 to 97 and Comparative Examples 1 to 5)
<Preparation of Support>
<<Surface Treatment A>>
(A-a) Mechanical Roughening Treatment (Brush Grain Method)
Using the apparatus shown in Fig. 3, a mechanical roughening treatment was performed by a rotating bundled brush while supplying a suspension of pumice (specific gravity 1.1 g/ cm3 ) as an abrasive slurry to the surface of an aluminum plate. In Fig. 3, 1 is an aluminum plate, 2 and 4 are roller-shaped brushes (bundled brushes in this example), 3 is an abrasive slurry, and 5, 6, 7 and 8 are supporting rollers.
The mechanical roughening treatment was carried out with a median diameter (μm) of the abrasive of 30 μm, four brushes, and a brush rotation speed (rpm) of 250 rpm. The material of the bundled brush was 6-10 nylon, with a brush bristles diameter of 0.3 mm and bristles length of 50 mm. The brush was densely planted in a stainless steel cylinder with a diameter of φ300 mm. The distance between the two support rollers (φ200 mm) at the bottom of the bundled brush was 300 mm. The bundled brush was pressed down until the load of the drive motor rotating the brush was 10 kW more than the load before pressing the bundled brush against the aluminum plate. The rotation direction of the brush was the same as the movement direction of the aluminum plate.

(A-b)アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度70℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、10g/mであった。
(A-b) Alkaline Etching Treatment An etching treatment was performed by spraying an aqueous solution of caustic soda having a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass onto the aluminum plate obtained above using a spray tube at a temperature of 70°C. Then, washing with water was performed using a spray. The amount of dissolved aluminum was 10 g/ m2 .

(A-c)酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は35℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
(A-c) Desmutting treatment in an acidic aqueous solution Next, desmutting treatment was performed in an aqueous nitric acid solution. The aqueous nitric acid solution used in the desmutting treatment was the waste nitric acid solution used in the next step of electrochemical surface roughening. The liquid temperature was 35°C. The desmutting solution was sprayed onto the sample for 3 seconds.

(A-d)電気化学的粗面化処理
硝酸電解60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度35℃、硝酸10.4g/Lの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した電解液を用いた。交流電源波形は図1に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間tpが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図2に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で30A/dm、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。電気量(C/dm)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で185C/dmであった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(A-d) Electrochemical roughening treatment Electrochemical roughening treatment was performed continuously using nitric acid electrolysis 60 Hz AC voltage. The electrolyte used was an electrolyte in which aluminum nitrate was added to an aqueous solution of nitric acid 10.4 g/L at a temperature of 35°C to adjust the aluminum ion concentration to 4.5 g/L. The AC power source waveform was the waveform shown in FIG. 1, and the time tp from zero to the peak current was 0.8 msec, the duty ratio was 1:1, and a trapezoidal rectangular wave AC was used to perform electrochemical roughening treatment with a carbon electrode as the counter electrode. Ferrite was used as the auxiliary anode. The electrolytic cell shown in FIG. 2 was used. The current density was 30 A/dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. The amount of electricity (C/dm 2 ) was 185 C/dm 2 , which was the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. Then, washing with water was performed by spraying.

(A-e)アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度50℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、0.5g/mであった。
(A-e) Alkaline Etching Treatment An etching treatment was performed by spraying an aqueous solution of caustic soda having a caustic soda concentration of 5 mass% and an aluminum ion concentration of 0.5 mass% onto the aluminum plate obtained above using a spray tube at a temperature of 50°C. Thereafter, washing with water was performed using a spray. The amount of dissolved aluminum was 0.5 g/ m2 .

(A-f)酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、硫酸濃度170g/L、アルミニウムイオン濃度5g/Lの液を用いた。その液温は、30℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
(A-f) Desmutting treatment in an acidic aqueous solution Next, a desmutting treatment was carried out in an aqueous sulfuric acid solution. The aqueous sulfuric acid solution used in the desmutting treatment had a sulfuric acid concentration of 170 g/L and an aluminum ion concentration of 5 g/L. The liquid temperature was 30°C. The desmutting solution was sprayed onto the sample for 3 seconds.

(A-g)電気化学的粗面化処理
塩酸電解60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。電解液は、液温35℃、塩酸6.2g/Lの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した電解液を用いた。交流電源波形は図1に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間tpが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図2に示すものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で25A/dmであり、塩酸電解における電気量(C/dm)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で63C/dmであった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(A-g) Electrochemical roughening treatment Electrochemical roughening treatment was performed continuously using an AC voltage of 60 Hz for hydrochloric acid electrolysis. The electrolyte used was an electrolyte in which aluminum chloride was added to an aqueous solution of 6.2 g/L hydrochloric acid at a liquid temperature of 35°C to adjust the aluminum ion concentration to 4.5 g/L. The AC power source waveform was the waveform shown in Figure 1, and the time tp from zero to the peak of the current was 0.8 msec, the duty ratio was 1:1, and a trapezoidal rectangular wave AC was used to perform electrochemical roughening treatment with a carbon electrode as the counter electrode. Ferrite was used as the auxiliary anode. The electrolytic cell used was that shown in Figure 2.
The current density was 25 A/dm 2 at the peak value of the current, and the total amount of electricity (C/dm 2 ) in hydrochloric acid electrolysis when the aluminum plate served as the anode was 63 C/dm 2. Thereafter, washing with water was carried out by spraying.

(A-h)アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度50℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、0.1g/mであった。
(Ah) Alkaline Etching Treatment An etching treatment was performed by spraying an aqueous solution of caustic soda having a caustic soda concentration of 5% by mass and an aluminum ion concentration of 0.5% by mass onto the aluminum plate obtained above using a spray tube at a temperature of 50°C. Thereafter, washing with water was performed using a spray. The amount of dissolved aluminum was 0.1 g/ m2 .

(A-i)酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。具体的には、陽極酸化処理工程で発生した廃液(硫酸170g/L水溶液中にアルミニウムイオン5g/Lを溶解)を用い、液温35℃で4秒間デスマット処理を行った。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
(A-i) Desmutting in an acidic aqueous solution Next, a desmutting treatment was carried out in an aqueous sulfuric acid solution. Specifically, using waste liquid generated in the anodizing treatment process (aluminum ions 5 g/L dissolved in an aqueous solution of sulfuric acid 170 g/L), desmutting was carried out for 4 seconds at a liquid temperature of 35° C. The desmutting liquid was sprayed onto the sample for 3 seconds.

(A-j)第1段階の陽極酸化処理
図4に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第1段階の陽極酸化処理を行った。表1に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。
なお、陽極酸化処理装置610において、アルミニウム板616は、図4中矢印で示すように搬送される。電解液618が貯溜された給電槽612にてアルミニウム板616は給電電極620によって(+)に荷電される。そして、アルミニウム板616は、給電槽612においてローラ622によって上方に搬送され、ニップローラ624によって下方に方向変換された後、電解液626が貯溜された電解処理槽614に向けて搬送され、ローラ628によって水平方向に方向転換される。ついで、アルミニウム板616は、電解電極630によって(-)に荷電されることにより、その表面に陽極酸化皮膜が形成され、電解処理槽614を出たアルミニウム板616は後工程に搬送される。陽極酸化処理装置610において、ローラ622、ニップローラ624及びローラ628によって方向転換手段が構成され、アルミニウム板616は、給電槽612と電解処理槽614との槽間部において、上記ローラ622、624及び628により、山型及び逆U字型に搬送される。給電電極620と電解電極630とは、直流電源634に接続されている。
(A-j) First-stage anodizing treatment The first-stage anodizing treatment was carried out using an anodizing apparatus using direct current electrolysis having the structure shown in Fig. 4. Anodizing treatment was carried out under the conditions shown in Table 1, and an anodized film having a predetermined film thickness was formed.
In the anodizing treatment device 610, the aluminum sheet 616 is transported as shown by the arrow in Fig. 4. In the power supply tank 612 in which an electrolytic solution 618 is stored, the aluminum sheet 616 is charged (+) by the power supply electrode 620. Then, in the power supply tank 612, the aluminum sheet 616 is transported upward by the roller 622, and its direction is changed downward by the nip roller 624, and then the aluminum sheet 616 is transported toward the electrolytic treatment tank 614 in which an electrolytic solution 626 is stored, and its direction is changed horizontally by the roller 628. Next, the aluminum sheet 616 is charged (-) by the electrolytic electrode 630, so that an anodized film is formed on the surface of the aluminum sheet 616, and the aluminum sheet 616 that leaves the electrolytic treatment tank 614 is transported to a subsequent process. In the anodizing treatment device 610, a roller 622, a nip roller 624, and a roller 628 constitute a direction changing means, and the aluminum sheet 616 is transported in a mountain shape and an inverted U shape by the rollers 622, 624, and 628 in the space between the power supply tank 612 and the electrolytic treatment tank 614. The power supply electrode 620 and the electrolytic electrode 630 are connected to a DC power source 634.

(A-k)ポアワイド処理
上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度35℃、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液に表1に示す条件にて浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
(A-k) Pore widening treatment The aluminum plate subjected to the above anodization treatment was subjected to a pore widening treatment by immersing it in an aqueous solution of caustic soda having a temperature of 35° C., a caustic soda concentration of 5 mass %, and an aluminum ion concentration of 0.5 mass % under the conditions shown in Table 1. Thereafter, the aluminum plate was washed with water by spraying.

(A-l)第2段階の陽極酸化処理
図4に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第2段階の陽極酸化処理を行った。表1に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。
(A-l) Second-stage anodizing treatment The second-stage anodizing treatment was carried out using an anodizing apparatus using direct current electrolysis having the structure shown in Fig. 4. Anodizing treatment was carried out under the conditions shown in Table 1, and an anodized film having a predetermined film thickness was formed.

(A-m)第3段階の陽極酸化処理
図4に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第3段階の陽極酸化処理を行った。表1に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。
(Am) Third-stage anodizing treatment The third-stage anodizing treatment was carried out using an anodizing apparatus using direct current electrolysis having the structure shown in Fig. 4. Anodizing treatment was carried out under the conditions shown in Table 1, and an anodized film having a predetermined film thickness was formed.

以上の表面処理Aから、表1及び表2に記載の支持体Aを得た。 From the above surface treatment A, the support A described in Tables 1 and 2 was obtained.

上記で得られた第2陽極酸化処理工程後のマイクロポアを有する陽極酸化皮膜中の大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径(nm)、小径孔部の連通位置における平均径(nm)、大径孔部及び小径孔部の深さ(nm)、ピット密度(マイクロポアの密度、単位;個/μm)、並びに、小径孔部の底部からアルミニウム板表面までの陽極酸化皮膜の厚み(nm)を、表2にまとめて示す。
なお、マイクロポアの平均径(大径孔部及び小径孔部の平均径)は、大径孔部表面及び小径孔部表面を倍率15万倍のFE-SEMでN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400nm×600nmの範囲に存在するマイクロポア(大径孔部及び小径孔部)の径を測定し、平均した値である。なお、大径孔部の深さが深く、小径孔部の径が測定しづらい場合、及び、小径孔部中の拡径孔部の測定を行う場合は、陽極酸化皮膜上部を切削し、その後各種径を求めた。
マイクロポアの深さ(大径孔部及び小径孔部の深さ)は、支持体(陽極酸化皮膜)の断面をFE-SEMで観察し(大径孔部深さ観察:15万倍、小径孔部深さ観察:5万倍)、得られた画像において、任意のマイクロポア25個の深さを測定し、平均した値である。
なお、表1中、第1陽極酸化処理欄の皮膜量(AD)量と第2陽極酸化処理欄の皮膜量(AD)とは、各処理で得られた皮膜量を表す。なお、使用される電解液は、表1中の成分を含む水溶液である。
Table 2 summarizes the average diameter (nm) of the large pores on the surface of the anodized film having micropores after the second anodizing treatment process obtained above, the average diameter (nm) at the connecting positions of the small pores, the depth (nm) of the large pores and the small pores, the pit density (density of micropores, unit: pits/ μm2 ), and the thickness (nm) of the anodized film from the bottom of the small pores to the surface of the aluminum plate.
The average diameter of the micropores (average diameter of the large diameter pores and the small diameter pores) was determined by observing the surfaces of the large diameter pores and the small diameter pores with an FE-SEM at a magnification of 150,000 times (N=4), measuring the diameters of the micropores (large diameter pores and small diameter pores) present in a range of 400 nm × 600 nm in the four images obtained, and averaging them. When the large diameter pores were deep and it was difficult to measure the diameter of the small diameter pores, or when measuring the enlarged diameter pores in the small diameter pores, the upper part of the anodized film was cut and then the various diameters were determined.
The micropore depth (depth of the large diameter pore portion and the small diameter pore portion) was determined by observing the cross section of the support (anodic oxide film) with an FE-SEM (observation of the depth of the large diameter pore portion: 150,000 times, observation of the depth of the small diameter pore portion: 50,000 times), measuring the depth of any 25 micropores in the obtained image, and averaging the measured values.
In Table 1, the amount of film (AD) in the first anodizing treatment column and the amount of film (AD) in the second anodizing treatment column represent the amount of film obtained by each treatment. The electrolyte used is an aqueous solution containing the components in Table 1.

支持体Aを用い、以下のようにして、下塗り層、画像記録層、及び、保護層を形成し、平版印刷版原版を得た。 Using support A, an undercoat layer, an image recording layer, and a protective layer were formed as follows to obtain a lithographic printing plate precursor.

<下塗り層の形成>
得られた支持体A上に、下記組成の下塗り層塗布液を乾燥塗布量が0.1g/mになるよう塗布して、下塗り層を形成した。
<Formation of Undercoat Layer>
An undercoat layer coating solution having the following composition was applied onto the obtained support A so that the dry coating amount was 0.1 g/m 2 to form an undercoat layer.

-下塗り層用塗布液-
・下塗り層用化合物(下記U-1、11%水溶液):0.10502部
・グルコン酸ナトリウム:0.0700部
・界面活性剤(エマレックス(登録商標) 710、日本エマルジョン(株)製):0.00159部
・防腐剤(バイオホープL、ケイ・アイ化成(株)):0.00149部
・水:2.8719部
-- Coating solution for undercoat layer --
Undercoat layer compound (U-1 below, 11% aqueous solution): 0.10502 parts Sodium gluconate: 0.0700 parts Surfactant (Emalex (registered trademark) 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.): 0.00159 parts Preservative (Biohope L, manufactured by K.I. Kasei Co., Ltd.): 0.00149 parts Water: 2.8719 parts

<画像記録層の形成>
下塗り層1上に、下記の画像記録層塗布液をバー塗布し、120℃で60秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量1.0g/mの画像記録層を形成した。
<Formation of Image Recording Layer>
The following image recording layer coating solution was applied onto the undercoat layer 1 with a bar and dried in an oven at 120° C. for 60 seconds to form an image recording layer with a dry coating amount of 1.0 g/m 2 .

-画像記録層塗布液-
下記成分を、35体積%のMEK(メチルエチルケトン)と、65体積%の1-メトキシ-2-プロパノールと、の混合液に固形分濃度7.0質量%で溶解し、画像記録層塗布液1を調製した。
・非オニウム系重合開始剤(4-ヒドロキシフェニル-トリブロモメチルスルホン) : 60部
・ボレート化合物(テトラフェニルホウ酸ナトリウム(TPB)) : 未添加又は20部
・赤外線吸収剤(下記表3~表6に記載の種類) : 20部
・化合物A(下記表3~表6に記載の種類) : 下記表3~表6に記載の量(部)
・酸発色剤(C-1、下記構造) : 未添加又は50部
・1モルの2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアナートと2モルのヒドロキシエチルメタクリレートとの反応生成物(MEK中の82質量%溶液、FST 510、AZエレクトロニクス社製) : 250部
・エポキシアクリレートオリゴマー(CN104、アルケマ社製) : 250部
・非イオン性脂肪族ポリエーテルポリウレタン(Ruco Coat EC4811、Rudolf GmbH社製) : 125部
・ポリビニルブチラール(ビニルブチラール-co-酢酸ビニル-co-ビニルアルコール、エスレック BL-10、積水化学工業(株)製) : 125部
・ポリエーテルシロキサンコポリマー(Tegoglide 410、Evonik ResourceEfficiencyGmbH社製) : 1.5部
・ポリエチレングリコールモノメタクリレート酸ホスフェート(JPA528、城北化学(株)製) : 130部
・ビニルホスホン酸とアクリル酸とのコポリマー(Albritect CP 30、Rhodia社製、20質量%水性分散液) : 120部
・リン酸 : 6.5部
・親水性ヒュームドシリカ(Aerosil、Evonik ResourceEfficiencyGmbH社製) : 85部
--Image recording layer coating liquid--
The following components were dissolved in a mixed liquid of 35 volume % MEK (methyl ethyl ketone) and 65 volume % 1-methoxy-2-propanol to a solid content concentration of 7.0 mass % to prepare image recording layer coating liquid 1.
Non-onium polymerization initiator (4-hydroxyphenyl-tribromomethylsulfone): 60 parts Borate compound (sodium tetraphenylborate (TPB)): not added or 20 parts Infrared absorbing agent (types listed in Tables 3 to 6 below): 20 parts Compound A (types listed in Tables 3 to 6 below): the amount (parts) listed in Tables 3 to 6 below
Acid color former (C-1, structure below): not added or 50 parts; Reaction product of 1 mole of 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate and 2 moles of hydroxyethyl methacrylate (82% by weight solution in MEK, FST 510, manufactured by AZ Electronics): 250 parts; Epoxy acrylate oligomer (CN104, manufactured by Arkema): 250 parts; Non-ionic aliphatic polyether polyurethane (Ruco Coat EC4811, manufactured by Rudolf GmbH): 125 parts; Polyvinyl butyral (vinyl butyral-co-vinyl acetate-co-vinyl alcohol, S-LEC BL-10, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.): 125 parts; Polyether siloxane copolymer (Tegoglide 410, manufactured by Evonik Polyethylene glycol monomethacrylate acid phosphate (JPA528, manufactured by Johoku Chemical Co., Ltd.): 130 parts Copolymer of vinylphosphonic acid and acrylic acid (Albritect CP 30, manufactured by Rhodia, 20% by weight aqueous dispersion): 120 parts Phosphoric acid: 6.5 parts Hydrophilic fumed silica (Aerosil, manufactured by Evonik ResourceEfficiency GmbH): 85 parts

上記画像記録層に含まれる赤外線吸収剤は、以下のとおりである。
なお、下記IR-4は、赤外線吸収剤のカチオン部と、ボレートアニオン(テトラフェニルボレートアニオン)との塩である。
The infrared absorbing agent contained in the image recording layer is as follows.
The following IR-4 is a salt of the cation portion of an infrared absorbing agent and a borate anion (tetraphenylborate anion).

また、上記画像記録層に含まれる化合物AにおけるD1~D31は、既述した化合物Aのカチオンの具体例におけるD1~D31とそれぞれ同じ化合物である。 In addition, D1 to D31 in compound A contained in the image recording layer are the same compounds as D1 to D31 in the specific examples of the cations of compound A described above.

更に、上記画像記録層に含まれる酸発生剤C-1は、下記構造の化合物である。 Furthermore, the acid generator C-1 contained in the image recording layer is a compound having the following structure:

<保護層の形成>
画像記録層上に、下記形成方法により保護層を形成した。
なお、実施例94~97では、保護層を形成しなかった。
<Formation of protective layer>
A protective layer was formed on the image recording layer by the following formation method.
In Examples 94 to 97, no protective layer was formed.

~保護層の形成~
画像記録層上に、下記保護層塗布液をバー塗布し、110℃で120秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量が0.3g/mの保護層を形成し、平版印刷版原版を作製した。
~ Formation of protective layer ~
The following protective layer coating solution was applied onto the image recording layer with a bar and dried in an oven at 110° C. for 120 seconds to form a protective layer with a dry coating amount of 0.3 g/m 2 to prepare a lithographic printing plate precursor.

-保護層塗布液-
下記成分を混合し、保護層塗布液を調製した。
水 : 2000部
ポリビニルアルコール(Mowiol 4-88TM、クラレ社製) : 160部
ポリ塩化ビニリデン(Diofan A050、ソルベイ社製) : 296部
Acticide LA1206TM(Thor社製) : 1部
界面活性剤(Lutensol A8TM、BASF社製) :10部
特定赤外線吸収剤(下記構造) : 28部
硝酸カリウム : 37部
--Protective layer coating solution--
The following components were mixed to prepare a protective layer coating solution.
Water: 2000 parts Polyvinyl alcohol (Mowiol 4-88TM, manufactured by Kuraray Co., Ltd.): 160 parts Polyvinylidene chloride (Diofan A050, manufactured by Solvay Co., Ltd.): 296 parts Acticide LA1206TM (manufactured by Thor Co., Ltd.): 1 part Surfactant (Lutensol A8TM, manufactured by BASF Co., Ltd.): 10 parts Specific infrared absorbing agent (structure shown below): 28 parts Potassium nitrate: 37 parts

<結晶析出の評価>
得られた平版印刷版原版について、保護層側からゴムローラ(直径2cm)を接触し、圧力をかけた。接触圧力を付与した後の平版印刷版原版を、ベイパーチャンバーを用いて、2-メトキシプロパノールの飽和雰囲気中で3日間保存した。3日間保存した後、平版印刷版原版の画像記録層を光学倍率8倍で観察し、層中の析出物について評価した。
-評価指標-
A:結晶析出は観察されない。
B:いくつかの結晶析出が見られた。
C:多くの結晶析出が見られた。
<Evaluation of Crystal Precipitation>
A rubber roller (diameter 2 cm) was brought into contact with the obtained lithographic printing plate precursor from the protective layer side to apply pressure. The lithographic printing plate precursor after the application of the contact pressure was stored for 3 days in a saturated atmosphere of 2-methoxypropanol using a vapor chamber. After storage for 3 days, the image recording layer of the lithographic printing plate precursor was observed at an optical magnification of 8 times, and the presence of precipitates in the layer was evaluated.
-Evaluation index-
A: No crystal precipitation was observed.
B: Some crystal precipitation was observed.
C: A large amount of crystal precipitation was observed.

<耐刷性の評価>
得られた平版印刷版原版を、830nmの赤外線レーザーを備えたAvalon N8-20プレートセッター(200Ipi Agfa Balanced Screening(ABS)、Agfa Graphics社製)を用いて、90mJ/cmのエネルギー密度で、2400dpiの条件で露光した。
得られた露光済み平版印刷版原版を現像処理することなく、Ryobi印刷機の版胴に取り付けた。圧縮可能なブランケットを使用し、ノンコートのオフセット紙(70g)に50,000枚の印刷を行った。印刷には、TOYO FD LED UV EU3シアンインクと、湿し水としての、3質量%のPrima AF S1(Agfa社製)水溶液と、用いた。
その後、初期の印刷物の網部濃度に対して、網部濃度の減量率が8%を超えた時点の印刷枚数を用い、耐刷性の評価とした。なお、網部濃度は、Gretag macbeth濃度計を使用して測定した。
<Evaluation of printing durability>
The obtained lithographic printing plate precursor was exposed at an energy density of 90 mJ/cm 2 and 2400 dpi using an Avalon N8-20 plate setter (200 Ipi Agfa Balanced Screening (ABS), manufactured by Agfa Graphics) equipped with an 830 nm infrared laser.
The resulting exposed lithographic printing plate precursor was mounted on the plate cylinder of a Ryobi printing press without development. 50,000 prints were made on uncoated offset paper (70 g) using a compressible blanket. For printing, TOYO FD LED UV EU3 cyan ink and a 3% by weight aqueous solution of Prima AF S1 (Agfa) were used as the dampening solution.
The number of prints at which the density of the dotted line exceeded 8% of the initial density of the print was used to evaluate the printing durability. The density of the dotted line was measured using a Gretag Macbeth densitometer.

評価結果をまとめて表3~表6に示す。 The evaluation results are summarized in Tables 3 to 6.

表3~表6から明らかなように、実施例に係る平版印刷版原版は、比較例に係る平版印刷版原版と比べて、結晶析出の抑制性に優れ、更に、耐刷性にも優れることが分かる。 As is clear from Tables 3 to 6, the lithographic printing plate precursors according to the Examples are superior in suppressing crystal precipitation and also have superior printing durability compared to the lithographic printing plate precursors according to the Comparative Examples.

1:アルミニウム板、2及び4:ローラ状ブラシ、3:研磨スラリー液、5、6、7及び8:支持ローラ、50:主電解槽、51:交流電源、52:ラジアルドラムローラ、53a,53b:主極、54:電解液供給口、55:電解液、56:補助陽極、57:電解液通路、58:補助陽極、60:補助陽極槽、610:陽極酸化処理装置、612:給電槽、614:電解処理槽、616:アルミニウム板、618,26:電解液、620:給電電極、622,628:ローラ、624:ニップローラ、630:電解電極,632:槽壁、634:直流電源、W:アルミニウム板、S:給液方向、Ex:電解液排出方向、ta:アノード反応時間、tc:カソード反応時間、tp:電流が0からピークに達するまでの時間、Ia:アノードサイクル側のピーク時の電流、Ic:カソードサイクル側のピーク時の電流、AA:アルミニウム板のアノード反応の電流、CA:アルミニウム板のカソード反応の電流 1: Aluminum plate, 2 and 4: Roller brush, 3: Polishing slurry liquid, 5, 6, 7 and 8: Support roller, 50: Main electrolytic cell, 51: AC power source, 52: Radial drum roller, 53a, 53b: Main electrode, 54: Electrolyte supply port, 55: Electrolyte, 56: Auxiliary anode, 57: Electrolyte passage, 58: Auxiliary anode, 60: Auxiliary anode cell, 610: Anodizing treatment device, 612: Power supply cell, 614: Electrolytic treatment cell, 616: Aluminum plate, 618, 26: Electrolyte, 620: Power supply electrode, 6 22, 628: roller, 624: nip roller, 630: electrolytic electrode, 632: tank wall, 634: DC power supply, W: aluminum plate, S: liquid supply direction, Ex: electrolyte discharge direction, ta: anode reaction time, tc: cathode reaction time, tp: time from 0 to peak current, Ia: peak current on the anode cycle side, Ic: peak current on the cathode cycle side, AA: current of the anode reaction of the aluminum plate, CA: current of the cathode reaction of the aluminum plate

Claims (15)

支持体、及び、支持体上に画像記録層を有し、
前記画像記録層が、非オニウム系重合開始剤、ボレート化合物、赤外線吸収剤、及び、ShapeIndexが前記赤外線吸収剤のカチオン部の2倍以下であるカチオンを有するオニウム塩である化合物Aを含む
平版印刷版原版。
A support and an image recording layer on the support,
The lithographic printing plate precursor, wherein the image recording layer comprises a non-onium polymerization initiator, a borate compound, an infrared absorber, and Compound A which is an onium salt having a cation whose ShapeIndex is two or less times that of the cation moiety of the infrared absorber.
前記化合物Aにおける前記カチオンが、下記式(A)で表されるカチオンである請求項1に記載の平版印刷版原版。

式(A)中、ZはP又はNを表し、RA1~RA4はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
The lithographic printing plate precursor according to claim 1 , wherein the cation in the compound A is a cation represented by the following formula (A):

In formula (A), Z represents P or N, and R A1 to R A4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
前記化合物Aにおける前記カチオンが、下記式(2)で表されるカチオンである請求項1に記載の平版印刷版原版。

式(2)中、R21はそれぞれ独立に、アルキル基を表し、R22は水素原子又はアルキル基を表す。
The lithographic printing plate precursor according to claim 1 , wherein the cation in the compound A is a cation represented by the following formula (2):

In formula (2), R 21 each independently represents an alkyl group, and R 22 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
前記化合物Aにおける前記カチオンが、下記式(1)で表されるカチオンである請求項1に記載の平版印刷版原版。

式(1)中、ZはP又はNを表し、Rはアルキル基を表し、Arはそれぞれ独立に、アリール基を表す。
The lithographic printing plate precursor according to claim 1 , wherein the cation in the compound A is a cation represented by the following formula (1):

In formula (1), Z represents P or N, R represents an alkyl group, and each Ar independently represents an aryl group.
前記化合物Aにおける前記カチオンが、重合性基を有する請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 4, wherein the cation in compound A has a polymerizable group. 前記化合物Aにおける前記カチオンのclogPが、0以上10以下である請求項1~
請求項4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
The compound A has a clogP of 0 or more and 10 or less.
The lithographic printing plate precursor according to claim 4 .
前記化合物Aにおけるアニオンが、有機酸の共役塩基である請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 4, wherein the anion in compound A is a conjugate base of an organic acid. 前記化合物Aにおけるアニオンが、RSO 、RSO 、RPO 、RPO 2-、RCO 、R、R、(RSO、及び、Rよりなる群から選ばれた少なくとも1種のアニオンである請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
なお、R~Rはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 4 , wherein the anion in compound A is at least one anion selected from the group consisting of R1SO3- , R1SO2- , R1R2PO2- , R1PO32- , R1CO2-, R1O- , R1S- , ( R1SO2 ) 2N- , and R1R2R3R4B- .
Each of R 1 to R 4 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group.
前記化合物Aにおける前記カチオンのモル含有量が、前記ボレート化合物におけるアニオンのモル含有量の0.2倍~4倍である請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 4, wherein the molar content of the cation in compound A is 0.2 to 4 times the molar content of the anion in the borate compound. 前記非オニウム重合開始剤が、下記式(II)で表される化合物を含む請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。

式(II)中、Xはそれぞれ独立に、ハロゲン原子を表し、Rはアリール基を表す。
The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 4, wherein the non-onium polymerization initiator comprises a compound represented by the following formula (II):

In formula (II), each X independently represents a halogen atom, and R3 represents an aryl group.
前記画像記録層上に、保護層を有する請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 4, which has a protective layer on the image recording layer. 前記保護層が、熱及び/又は赤外線放射への曝露により、より強い電子供与体である基に変化する熱分解性基を含み、熱及び/又は赤外線放射への曝露により印刷画像を形成することができる第2の赤外線吸収剤を含む請求項11に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor according to claim 11, wherein the protective layer contains a thermally decomposable group that is converted to a group that is a stronger electron donor upon exposure to heat and/or infrared radiation, and contains a second infrared absorber that is capable of forming a printing image upon exposure to heat and/or infrared radiation. 前記第2の赤外線吸収剤が、式(VI)で表される化合物である請求項12に記載の平版印刷版原版。

式(VI)中、Ar及びArはそれぞれ独立に、任意に置換された芳香族炭化水素基又は任意に置換されたベンゼン環を有する芳香族炭化水素基を表し、W及びWはそれぞれ独立に、硫黄原子、酸素原子、NRを表し、Rは任意に置換されたアルキル基、NH、又は-CM1011基を表し、M10及びM11はそれぞれ独立に、任意に置換された脂肪族炭化水素基又は任意に置換されたアリール基若しくはヘテロアリール基を表し、M及びMはそれぞれ独立に、水素原子、任意に置換された脂肪族炭化水素基、又は、M及びMが一緒になって任意に置換された環状構造を形成するのに必要な原子群を表し、M及びMはそれぞれ独立に、任意に置換された脂肪族炭化水素基を表し、M~Mはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は任意に置換された脂肪族炭化水素基を表し、Mは、赤外線又は熱への曝露によって誘発される化学反応によって、前記Mよりも強い電子供与体である基に変換され、前記変換によって式(VI)で表される化合物の積分光吸収が波長350nmから700nmの間で増加する基であり、電気的に中性な化合物を得るために、任意に1つ又は複数の対イオンを有する。
The lithographic printing plate precursor according to claim 12, wherein the second infrared absorber is a compound represented by formula (VI).

In formula (VI), Ar 1 and Ar 2 each independently represent an optionally substituted aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group having an optionally substituted benzene ring; W 1 and W 2 each independently represent a sulfur atom, an oxygen atom, or NR * ; R * represents an optionally substituted alkyl group, NH, or a -CM 10 M 11 group; M 10 and M 11 each independently represent an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, or an optionally substituted aryl group or heteroaryl group; M 1 and M 2 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, or a group of atoms necessary for M 1 and M 2 to form together an optionally substituted cyclic structure; M 3 and M 4 each independently represent an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group; M 5 to M 8 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group; M 9 is a group that is converted by a chemical reaction induced by exposure to infrared light or heat into a group that is a stronger electron donor than M9 , and that increases the integrated optical absorbance of the compound of formula (VI) between 350 nm and 700 nm, and optionally has one or more counter ions to obtain an electrically neutral compound.
請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む
平版印刷版の作製方法。
A step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 4;
and removing the image recording layer in the non-image area by supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water on the printing press.
請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、
得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む
平版印刷方法。
A step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 4;
a step of removing the image recording layer in the non-image area by supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water on a printing press to prepare a lithographic printing plate;
and printing with the obtained lithographic printing plate.
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