JP7391767B2 - On-press development type lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate, and lithographic printing method - Google Patents

On-press development type lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate, and lithographic printing method Download PDF

Info

Publication number
JP7391767B2
JP7391767B2 JP2020095079A JP2020095079A JP7391767B2 JP 7391767 B2 JP7391767 B2 JP 7391767B2 JP 2020095079 A JP2020095079 A JP 2020095079A JP 2020095079 A JP2020095079 A JP 2020095079A JP 7391767 B2 JP7391767 B2 JP 7391767B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
lithographic printing
printing plate
compound
plate precursor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020095079A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2021189320A (en
Inventor
啓介 野越
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2020095079A priority Critical patent/JP7391767B2/en
Publication of JP2021189320A publication Critical patent/JP2021189320A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7391767B2 publication Critical patent/JP7391767B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Methods (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

本開示は、機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、並びに、平版印刷方法に関する。 The present disclosure relates to an on-press development type lithographic printing plate precursor, a method for producing a lithographic printing plate, and a lithographic printing method.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルムなどの原画を通した露光を行った後、画像記録層の画像部となる部分を残存させ、それ以外の不要な画像記録層をアルカリ性現像液又は有機溶剤によって溶解除去し、親水性の支持体表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
In general, a lithographic printing plate consists of a lipophilic image area that receives ink during the printing process and a hydrophilic non-image area that receives dampening water. Lithographic printing takes advantage of the property that water and oil-based ink repel each other, and uses the lipophilic image area of the lithographic printing plate as the ink receiving area, and the hydrophilic non-image area as the dampening water receiving area (non-ink receiving area). This is a method of creating differences in ink adhesion on the surface of a lithographic printing plate, applying ink only to the image area, and then printing by transferring the ink to a printing medium such as paper.
In order to produce this lithographic printing plate, a lithographic printing plate precursor (PS plate) in which an oleophilic photosensitive resin layer (image recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. Normally, after exposing a lithographic printing plate precursor to light through an original image such as a lithographic film, the portion of the image-recording layer that will become the image portion remains, and the rest of the unnecessary image-recording layer is removed using an alkaline developer or organic A lithographic printing plate is obtained by making a plate by a method of dissolving and removing it with a solvent and exposing the surface of the hydrophilic support to form a non-image area.

また、地球環境への関心の高まりから、現像処理などの湿式処理に伴う廃液に関する環境課題がクローズアップされている。
上記の環境課題に対して、現像あるいは製版の簡易化、無処理化が指向されている。簡易な作製方法の一つとしては、「機上現像」と呼ばれる方法が行われている。すなわち、平版印刷版原版を露光後、従来の現像は行わず、そのまま印刷機に装着して、画像記録層の不要部分の除去を通常の印刷工程の初期段階で行う方法である。
本開示において、このような機上現像に用いることができる平版印刷版原版を、「機上現像型平版印刷版原版」という。
In addition, due to growing interest in the global environment, environmental issues related to waste liquids associated with wet processing such as developing processing are being focused on.
In response to the above environmental issues, efforts are being made to simplify development or plate making and eliminate processing. One of the simple manufacturing methods is a method called "on-press development." That is, after exposing the lithographic printing plate precursor, conventional development is not performed, but the plate is mounted on a printing machine as it is, and unnecessary portions of the image recording layer are removed at the initial stage of the normal printing process.
In the present disclosure, a lithographic printing plate precursor that can be used for such on-press development is referred to as an "on-press development type lithographic printing plate precursor."

従来の平版印刷版原版としては、例えば、特許文献1には、光重合性層上に、熱及び/又は赤外線照射により開裂する官能基を有する赤外線吸収性化合物を含む最上層を有する平版印刷版原版が記載されている。
また、特許文献2には、画像記録層上に、赤外線の照射により変色する最上層を有する平版印刷版原版が記載されております。
特許文献3には、ポリビニルアセタールバインダーを含む光重合性層を有する平版印刷版原版が記載されております。
特許文献4には、赤外線吸収剤、及び、熱可塑性ポリマー粒子を含むネガ型画像記録層を有する平版印刷版原版が記載されております。
As a conventional lithographic printing plate precursor, for example, Patent Document 1 discloses a lithographic printing plate having an uppermost layer containing an infrared absorbing compound having a functional group that is cleavable by heat and/or infrared irradiation on a photopolymerizable layer. The original version is listed.
Further, Patent Document 2 describes a lithographic printing plate precursor having an uppermost layer that changes color upon irradiation with infrared rays on an image recording layer.
Patent Document 3 describes a lithographic printing plate precursor having a photopolymerizable layer containing a polyvinyl acetal binder.
Patent Document 4 describes a lithographic printing plate precursor having a negative image recording layer containing an infrared absorber and thermoplastic polymer particles.

国際公開第2019/219560号International Publication No. 2019/219560 米国特許第8240943号明細書US Patent No. 8240943 特開2013-174779号公報Japanese Patent Application Publication No. 2013-174779 特表2018-508385号公報Special table 2018-508385 publication

本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、経時での機上現像性の低下を抑止しうる機上現像型平版印刷版原版を提供することである。
本開示の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記機上現像型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法、又は平版印刷方法を提供することである。
A problem to be solved by an embodiment of the present disclosure is to provide an on-press development type lithographic printing plate precursor that can suppress deterioration of on-press developability over time.
A problem to be solved by other embodiments of the present disclosure is to provide a method for producing a lithographic printing plate or a lithographic printing method using the above-mentioned on-press development type lithographic printing plate precursor.

上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
<1> 支持体上に画像記録層と最外層とをこの順に有し、
上記画像記録層が、ガラス転移温度が70℃以上である高分子量体を含み、
上記最外層が、変色性化合物を含む
機上現像型平版印刷版原版。
<2> 上記画像記録層が分子量5,000以下の重合性化合物を更に含み、
上記高分子量体の溶解度パラメータと上記重合性化合物の溶解度パラメータとの差が0.8MPa1/2以上である<1>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<3> 上記重合性化合物の溶解度パラメータが20.0MPa1/2以下である<2>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<4> 上記重合性化合物が2官能以上の重合性化合物である<1>~<3>いずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<5> 上記画像記録層中の、上記高分子量体の質量をP、上記重合性化合物の質量をMとしたとき、6.0≧P/M≧0.5の関係を満たす<1>~<4>いずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<6> 上記高分子量体がポリビニルアセタールである<1>~<5>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<7> 上記ポリビニルアセタール中の水酸基を有する構成単位が、ポリビニルアセタールの全構成単位に対して20mol%以上である<6>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<8> 上記ポリビニルアセタールがエチレン性不飽和基を有する<6>又は<7>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<9> 上記ポリビニルアセタールがエチレン性不飽和基を有する構成単位を含む<8>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<10> 上記ポリビニルアセタールにおけるアセタール環にエチレン性不飽和基が導入された化合物を含む<6>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
Means for solving the above problems include the following aspects.
<1> Having an image recording layer and an outermost layer on a support in this order,
The image recording layer contains a polymer having a glass transition temperature of 70° C. or higher,
The on-press development type lithographic printing plate precursor, wherein the outermost layer contains a color-changing compound.
<2> The image recording layer further contains a polymerizable compound having a molecular weight of 5,000 or less,
The on-press development type lithographic printing plate precursor according to <1>, wherein the difference between the solubility parameter of the polymer and the solubility parameter of the polymerizable compound is 0.8 MPa 1/2 or more.
<3> The on-press development type lithographic printing plate precursor according to <2>, wherein the polymerizable compound has a solubility parameter of 20.0 MPa 1/2 or less.
<4> The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <3>, wherein the polymerizable compound is a bifunctional or more functional polymerizable compound.
<5> Where the mass of the polymer in the image recording layer is P and the mass of the polymerizable compound is M, <1> to satisfy the relationship 6.0≧P/M≧0.5. <4> The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of the above.
<6> The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <5>, wherein the polymer is polyvinyl acetal.
<7> The on-press development type lithographic printing plate precursor according to <6>, wherein the hydroxyl group-containing structural unit in the polyvinyl acetal is 20 mol% or more based on the total structural units of the polyvinyl acetal.
<8> The on-press development type lithographic printing plate precursor according to <6> or <7>, wherein the polyvinyl acetal has an ethylenically unsaturated group.
<9> The on-press development type lithographic printing plate precursor according to <8>, wherein the polyvinyl acetal contains a structural unit having an ethylenically unsaturated group.
<10> The on-press development type lithographic printing plate precursor according to <6>, which contains a compound in which an ethylenically unsaturated group is introduced into the acetal ring of the polyvinyl acetal.

<11> 上記最外層が疎水性ポリマーを更に含む<1>~<10>のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<12> 上記疎水性ポリマーの上記最外層表面における占有面積率が30面積%以上である<11>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<13> 上記疎水性ポリマーが粒子である<11>又は<12>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<14> エネルギー密度110mJ/cmにて波長830nmの赤外線による露光を行った場合の、上記露光前後の明度変化ΔLが2.0以上である<1>~<13>のいずれか1つ記載の機上現像型平版印刷版原版。
<11> The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <10>, wherein the outermost layer further contains a hydrophobic polymer.
<12> The on-press development type lithographic printing plate precursor according to <11>, wherein the area ratio occupied by the hydrophobic polymer on the surface of the outermost layer is 30 area % or more.
<13> The on-press development type lithographic printing plate precursor according to <11> or <12>, wherein the hydrophobic polymer is a particle.
<14> Any one of <1> to <13>, wherein the lightness change ΔL before and after the exposure is 2.0 or more when exposed to infrared rays with a wavelength of 830 nm at an energy density of 110 mJ/cm 2 On-press development type lithographic printing plate precursor.

<15> 上記変色性化合物が赤外線露光に起因して発色する化合物を含む<1>~<14>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<16> 上記変色性化合物が赤外線露光に起因して分解する分解性化合物を含む<1>~<15>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<17> 上記変色性化合物がシアニン色素である<11>~<16>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<18> 上記変色性化合物が下記式1-1で表される化合物である<1>~<17>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<15> The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <14>, wherein the color-changing compound contains a compound that develops color due to infrared exposure.
<16> The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <15>, wherein the color-changing compound contains a decomposable compound that decomposes due to infrared exposure.
<17> The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of <11> to <16>, wherein the color-changing compound is a cyanine dye.
<18> The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <17>, wherein the color-changing compound is a compound represented by the following formula 1-1.

式1-1中、Rは下記式2~式4のいずれかで表される基を表し、R11~R18はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、-R、-OR、-SR、又は-NRを表し、R~Rは、それぞれ独立に、炭化水素基を表し、A、A及び複数のR11~R18が連結して単環又は多環を形成してもよく、A及びAはそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は、窒素原子を表し、n11及びn12はそれぞれ独立に、0~5の整数を表し、但し、n11及びn12の合計は2以上であり、n13及びn14はそれぞれ独立に、0又は1を表し、Lは酸素原子、硫黄原子、又は、-NR10-を表し、R10は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表す。 In formula 1-1, R 1 represents a group represented by any of the following formulas 2 to 4, and R 11 to R 18 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, -R a , -OR b , -SR c or -NR d R e , R a to R e each independently represent a hydrocarbon group, and A 1 , A 2 and a plurality of R 11 to R 18 are linked to form a monocyclic or A polycyclic ring may be formed, A 1 and A 2 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom, n 11 and n 12 each independently represent an integer from 0 to 5, However, the sum of n 11 and n 12 is 2 or more, n 13 and n 14 each independently represent 0 or 1, L represents an oxygen atom, a sulfur atom, or -NR 10 -, and R 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and Za represents a counter ion that neutralizes the charge.

式2~式4中、R20、R30、R41及びR42はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Zbは電荷を中和する対イオンを表し、波線は、上記式1-1中のLで表される基との結合部位を表す。 In formulas 2 to 4, R 20 , R 30 , R 41 and R 42 each independently represent an alkyl group or an aryl group, Zb represents a counter ion that neutralizes the charge, and the wavy line represents the above formula 1- represents the bonding site with the group represented by L in 1.

<19> 上記変色性化合物が、下記式1-2で表される化合物である<18>に記載の機上現像型平版印刷版原版。 <19> The on-press development type lithographic printing plate precursor according to <18>, wherein the color-changing compound is a compound represented by the following formula 1-2.

式1-2中、Rは上記式2~式4のいずれかで表される基を表し、R19~R22はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、-R、-OR、-CN、-SR、又は、-NRを表し、R23及びR24はそれぞれ独立に、水素原子、又は、-Rを表し、R~Rはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、R19とR20、R21とR22、又は、R23とR24は、連結して単環又は多環を形成してもよく、Lは、酸素原子、硫黄原子、又は、-NR10-を表し、R10は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Rd1~Rd4、W及びWは、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表す。 In formula 1-2, R 1 represents a group represented by any of the above formulas 2 to 4, and R 19 to R 22 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, -R a , -OR b , -CN, -SR c or -NR d R e , R 23 and R 24 each independently represent a hydrogen atom or -R a , and R a to R e each independently represent a hydrocarbon R 19 and R 20 , R 21 and R 22 , or R 23 and R 24 may be connected to form a monocyclic or polycyclic ring, and L is an oxygen atom, a sulfur atom, or , -NR 10 -, R 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and R d1 to R d4 , W 1 and W 2 each independently may have a substituent. It represents an alkyl group, and Za represents a counter ion that neutralizes charge.

<20> 上記変色性化合物が下記式1-3~式1-7のいずれかで表される化合物である<18>又は<19>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。 <20> The on-press development type lithographic printing plate according to any one of <18> or <19>, wherein the color-changing compound is a compound represented by any of the following formulas 1-3 to 1-7. Original version.

式1-3~式1-7中、Rは上記式2~式4のいずれかで表される基を表し、R19~R22はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、-R、-OR、-CN、-SR、又は、-NRを表し、R25及びR26はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は-Rを表し、R~Rはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、R19とR20、R21とR22、又は、R25とR26は、連結して単環又は多環を形成してもよく、Lは、酸素原子、硫黄原子、又は、-NR10-を表し、R10は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Rd1~Rd4、W及びWはそれぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表す。 In formulas 1-3 to 1-7, R 1 represents a group represented by any of the above formulas 2 to 4, and R 19 to R 22 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, -R a , -OR b , -CN, -SR c , or -NR d R e , R 25 and R 26 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or -R a , and R a to R e each independently represents a hydrocarbon group, R 19 and R 20 , R 21 and R 22 , or R 25 and R 26 may be connected to form a monocyclic or polycyclic ring, and L is represents an oxygen atom, a sulfur atom, or -NR 10 -, R 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and R d1 to R d4 , W 1 and W 2 each independently represent a substituent. represents an alkyl group which may have , and Za represents a counter ion that neutralizes charge.

<21> 上記式1-2~式1-7におけるW及びWは、それぞれ独立に、置換基を有するアルキル基であり、かつ、上記置換基として、-(OCHCH)-、スルホ基、スルホ基の塩、カルボキシ基、又はカルボキシ基の塩を少なくとも有する基である<19>又は<20>に記載の機上現像型平版印刷版原版。 <21> W 1 and W 2 in the above formulas 1-2 to 1-7 are each independently an alkyl group having a substituent, and the above substituent is -(OCH 2 CH 2 )-, The on-press development type lithographic printing plate precursor according to <19> or <20>, which is a group having at least a sulfo group, a salt of a sulfo group, a carboxy group, or a salt of a carboxy group.

<22> 上記画像記録層が更に重合開始剤を含み、
上記重合開始剤が電子供与型重合開始剤及び電子受容型重合開始剤を含む<1>~<21>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<23> 上記重合開始剤が上記電子供与型重合開始剤と上記電子受容型重合開始剤とが対塩を形成してなる化合物を含む<22>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<22> The image recording layer further contains a polymerization initiator,
The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <21>, wherein the polymerization initiator contains an electron-donating polymerization initiator and an electron-accepting polymerization initiator.
<23> The on-press development type lithographic printing plate precursor according to <22>, wherein the polymerization initiator contains a compound formed by the electron-donating polymerization initiator and the electron-accepting polymerization initiator forming a pair salt.

<24> 上記電子受容型重合開始剤が下記式(II)で表される化合物を含む<22>に記載の機上現像型平版印刷版原版。 <24> The on-press development type lithographic printing plate precursor according to <22>, wherein the electron-accepting polymerization initiator contains a compound represented by the following formula (II).

式(II)中、Xはハロゲン原子を表し、Rはアリール基を表す。 In formula (II), X represents a halogen atom, and R 3 represents an aryl group.

<25> 上記画像記録層が赤外線吸収剤を含み、
上記赤外線吸収剤のHOMO-上記電子供与型重合開始剤のHOMOの値が、0.70eV以下である<22>~<24>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<26> 上記画像記録層が赤外線吸収剤を含み
上記電子受容型重合開始剤のLUMO-上記赤外線吸収剤のLUMOの値が、0.70eV以下である<22>~<25>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<25> The image recording layer contains an infrared absorber,
The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of <22> to <24>, wherein the infrared absorber has a HOMO value of 0.70 eV or less.
<26> Any one of <22> to <25>, wherein the image recording layer contains an infrared absorber, and the LUMO of the electron-accepting polymerization initiator - the LUMO of the infrared absorber is 0.70 eV or less The on-press development type lithographic printing plate precursor described in .

<27> 上記支持体が、アルミニウム板と、上記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、
上記陽極酸化皮膜が、上記アルミニウム板よりも上記画像記録層側に位置し、
上記陽極酸化皮膜が、上記画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、
上記マイクロポアの上記陽極酸化皮膜表面における平均径が、10nmを超え100nm以下である、<1>~<26>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<28> 上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ10nm~1,000nmの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ20nm~2,000nmの位置までのびる小径孔部とから構成され、
上記大径孔部の上記陽極酸化皮膜表面における平均径が、15nm~100nmであり、
上記小径孔部の上記連通位置における平均径が、13nm以下である、<27>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<27> The support has an aluminum plate and an aluminum anodic oxide film disposed on the aluminum plate,
The anodic oxide film is located closer to the image recording layer than the aluminum plate,
The anodic oxide film has micropores extending in the depth direction from the surface on the image recording layer side,
The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <26>, wherein the average diameter of the micropores on the surface of the anodic oxide film is more than 10 nm and less than 100 nm.
<28> The micropores communicate with the large diameter hole extending from the surface of the anodic oxide film to a depth of 10 nm to 1,000 nm and the bottom of the large diameter hole, and the micropore communicates with the bottom of the large diameter hole from the communicating position to a depth of 20 nm to 2. ,000nm,
The average diameter of the large diameter pores on the surface of the anodic oxide film is 15 nm to 100 nm,
The on-press development type lithographic printing plate precursor according to <27>, wherein the average diameter of the small diameter holes at the communicating positions is 13 nm or less.

<29> <1>~<28>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
印刷機上で印刷インキ及び湿し水からなる群より選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む
平版印刷版の作製方法。
<30> <1>~<28>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
印刷機上で印刷インキ及び湿し水からなる群より選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、
得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む、
平版印刷方法。
<29> Imagewise exposing the on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <28>;
A method for producing a lithographic printing plate, comprising the step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water on a printing press to remove an image recording layer in a non-image area.
<30> Imagewise exposing the on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <28>;
a step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water on the printing press to remove the image recording layer in the non-image area to produce a lithographic printing plate;
a step of printing with the obtained lithographic printing plate;
Lithographic printing method.

本開示の一実施形態によれば、経時での機上現像性の低下を抑止しうる機上現像型平版印刷版原版を提供することができる。
また、本開示の他の実施形態によれば、上記機上現像型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法、又は平版印刷方法を提供することができる。
According to an embodiment of the present disclosure, it is possible to provide an on-press development type lithographic printing plate precursor that can suppress deterioration of on-press developability over time.
Further, according to another embodiment of the present disclosure, it is possible to provide a method for producing a lithographic printing plate or a lithographic printing method using the above-described on-press development type lithographic printing plate precursor.

支持体の一実施形態の模式的断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of one embodiment of a support. 支持体の別の一実施形態の模式的断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of another embodiment of the support. 陽極酸化皮膜を有する支持体の製造方法における陽極酸化処理に用いられる陽極酸化処理装置の概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram of an anodizing apparatus used for anodizing in a method for manufacturing a support having an anodized film.

以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本開示において、数値範囲を示す「~」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
また、本開示における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
本開示において、「(メタ)アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を包含する概念として用いられる語である。
また、本開示中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。
また、本開示において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
更に、本開示において、2以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、特に断りのない限り、TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(いずれも東ソー(株)製の商品名)のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)分析装置により、溶剤THF(テトラヒドロフラン)、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
本開示において、「平版印刷版原版」の用語は、平版印刷版原版だけでなく、捨て版原版を包含する。また、「平版印刷版」の用語は、平版印刷版原版を、必要により、露光、現像などの操作を経て作製された平版印刷版だけでなく、捨て版を包含する。捨て版原版の場合には、必ずしも、露光、現像の操作は必要ない。なお、捨て版とは、例えばカラーの新聞印刷において一部の紙面を単色又は2色で印刷を行う場合に、使用しない版胴に取り付けるための平版印刷版原版である。
本開示において、「耐刷性に優れる」とは、平版印刷版の印刷可能な枚数が多いことをいい、印刷の際のインクとしてUVインキを用いた場合の耐刷性を、以下、「UV耐刷性」ともいう。
Below, the content of the present disclosure will be explained in detail. Although the description of the constituent elements described below may be made based on typical embodiments of the present disclosure, the present disclosure is not limited to such embodiments.
In the present disclosure, "~" indicating a numerical range is used to include the numerical values written before and after it as a lower limit value and an upper limit value.
In the numerical ranges described step by step in this disclosure, the upper limit or lower limit described in one numerical range may be replaced with the upper limit or lower limit of another numerical range described step by step. . Furthermore, in the numerical ranges described in this disclosure, the upper limit or lower limit of the numerical range may be replaced with the values shown in the Examples.
Furthermore, in the description of groups (atomic groups) in the present disclosure, descriptions that do not indicate substituted or unsubstituted include those having no substituent as well as those having a substituent. For example, the term "alkyl group" includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
In the present disclosure, "(meth)acrylic" is a term used as a concept that includes both acrylic and methacrylic, and "(meth)acryloyl" is a term used as a concept that includes both acryloyl and methacryloyl. be.
In addition, the term "process" in this disclosure is used not only to refer to an independent process, but also to include it in this term if the intended purpose of the process is achieved, even if the process cannot be clearly distinguished from other processes. It will be done.
Furthermore, in the present disclosure, "mass %" and "weight %" have the same meaning, and "mass parts" and "weight parts" have the same meaning.
Furthermore, in the present disclosure, a combination of two or more preferred embodiments is a more preferred embodiment.
In addition, unless otherwise specified, the weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) in this disclosure are determined using columns of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, and TSKgel G2000HxL (all product names manufactured by Tosoh Corporation). The molecular weight was detected using a gel permeation chromatography (GPC) analyzer using a solvent THF (tetrahydrofuran) and a differential refractometer, and was calculated using polystyrene as a standard substance.
In the present disclosure, the term "lithographic printing plate precursor" includes not only a lithographic printing plate precursor but also a disposable plate precursor. Further, the term "lithographic printing plate" includes not only a lithographic printing plate prepared by subjecting a lithographic printing plate precursor to operations such as exposure and development, if necessary, but also disposable plates. In the case of a disposable original plate, exposure and development operations are not necessarily required. Note that the disposable plate is a lithographic printing plate precursor that is attached to a plate cylinder that is not used when, for example, a part of the page is printed in one color or two colors in color newspaper printing.
In this disclosure, "excellent printing durability" refers to the ability to print a large number of planographic printing plates, and the printing durability when UV ink is used as the ink during printing is hereinafter referred to as "UV Also called "printing durability."

≪機上現像型平版印刷版原版≫
本開示に係る機上現像型平版印刷版原版(以下、単に「平版印刷版原版」ともいう)は、支持体上に画像記録層と最外層とをこの順に有し、上記画像記録層が、ガラス転移温度が70℃以上である高分子量体(以下、特定高分子量体ともいう)を含み、上記最外層が、変色性化合物を含む。
また、本開示に係る平版印刷版原版は、ネガ型平版印刷版原版であることが好ましい。
≪On-press development type lithographic printing plate original plate≫
The on-press development type lithographic printing plate precursor (hereinafter also simply referred to as "lithographic printing plate precursor") according to the present disclosure has an image recording layer and an outermost layer on a support in this order, and the image recording layer comprises: It contains a polymer having a glass transition temperature of 70° C. or higher (hereinafter also referred to as a specific polymer), and the outermost layer contains a color-changing compound.
Further, the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is preferably a negative lithographic printing plate precursor.

特許文献1~4に記載のような機上現像型平版印刷版原版においては、経時による機上現像性の低下がみられることがある。特に、この経時による機上現像性の低下は、その理由は定かではないが、変色性化合物を含む最外層を有する平版印刷版原版において生じやすい。
機上現像型平版印刷版原版の画像記録層には、バインダーポリマーのような高分子量体と低分子重合性化合物とが含まれることが多い。両者は、画像記録層中にて高分子量体による海部に低分子重合性化合物の凝集体が分散するように相分離して存在している。海部を構成する高分子量体の一部は、経時の際の加わった熱にて融着してしまうことがある。そして、画像記録層中にて高分子量体の一部が融着することで、機上現像の際に付与された示し水が画像記録層中に浸透しにくくなり、機上現像性を低下させていると考えられる。
In on-press development type lithographic printing plate precursors such as those described in Patent Documents 1 to 4, a decrease in on-press developability may be observed over time. In particular, this decrease in on-press developability over time is likely to occur in lithographic printing plate precursors having an outermost layer containing a color-changing compound, although the reason is not clear.
The image recording layer of an on-press development type lithographic printing plate precursor often contains a high molecular weight material such as a binder polymer and a low molecular weight polymerizable compound. Both exist in a phase-separated manner such that aggregates of low-molecular-weight polymerizable compounds are dispersed in a sea area of high-molecular weight substances in the image-recording layer. A part of the high molecular weight material that makes up the sea part may be fused due to the heat applied over time. As a part of the polymer is fused in the image-recording layer, it becomes difficult for the marking water applied during on-press development to penetrate into the image-recording layer, reducing on-press developability. It is thought that

本開示に係る平版印刷版原版では、画像記録層にガラス転移温度が70℃以上の高分子量体を含む。
このようなガラス転移温度の高い高分子量体を用いることで、高分子量体の融着自体が起きにくくなることから、経時による機上現像性の低下が抑制されるものと推測される。
In the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure, the image recording layer contains a polymer having a glass transition temperature of 70° C. or higher.
By using such a high molecular weight material having a high glass transition temperature, fusion itself of the high molecular weight material becomes difficult to occur, and therefore, it is presumed that deterioration of on-press developability over time is suppressed.

〔好ましい態様〕
以下、本開示における好ましい態様を説明する。
本開示において、画像記録層は、経時による機上現像性の低下を抑制する観点から、分子量5,000以下の重合性化合物(以降、特定重合性化合物ともいう)を更に含み、特定高分子量体の溶解度パラメータ(SP値ともいう)と重合性化合物の溶解度パラメータ(SP値)との差が0.8MPa1/2以上であることが好ましく、1.0MPa1/2以上であることがより好ましく、1.2MPa1/2以上であることが更に好ましい。
上記差の上限としては、例えば、13.0MPa1/2が挙げられる。
[Preferred embodiment]
Preferred embodiments of the present disclosure will be described below.
In the present disclosure, the image recording layer further contains a polymerizable compound having a molecular weight of 5,000 or less (hereinafter also referred to as a specific polymerizable compound) from the viewpoint of suppressing the deterioration of on-press developability over time, and contains a specific polymerizable compound. The difference between the solubility parameter (also referred to as SP value) and the solubility parameter (SP value) of the polymerizable compound is preferably 0.8 MPa 1/2 or more, more preferably 1.0 MPa 1/2 or more. , 1.2 MPa 1/2 or more is more preferable.
The upper limit of the above difference is, for example, 13.0 MPa 1/2 .

上記のように、特定高分子量体と特定重合性化合物とのSP値の差があると、画像記録層中にて特定高分子量体の一部が融着したとしても、特定高分子量体による海部に低分子重合性化合物の凝集体が分散するように相分離状態が続く。そのため、機上現像の際に付与された示し水の画像記録層中への浸透がしやすくなり、経時による機上現像性の低下を更に抑制できるものと推測される。 As mentioned above, if there is a difference in SP value between the specific polymer and the specific polymerizable compound, even if some of the specific polymer is fused in the image recording layer, the sea area due to the specific polymer is A state of phase separation continues in which aggregates of low-molecular polymerizable compounds are dispersed. Therefore, it is presumed that the marking water applied during on-press development can more easily permeate into the image recording layer, thereby further suppressing the deterioration of on-press developability over time.

ここで、本開示における「溶解度パラメータ(単位:(MPa)1/2)」は、ハンセン(Hansen)溶解度パラメータを用いるものとする。
ハンセン(Hansen)溶解度パラメータは、ヒルデブランド(Hildebrand)によって導入された溶解度パラメータを、分散項δd、極性項δp、水素結合項δhの3成分に分割し、3次元空間に表したものであるが、本開示においては溶解度パラメータ(以降、SP値ともいう)をδ(単位:(MPa)1/2)で表し、下記式を用いて算出される値を用いる。
δ(MPa)1/2=(δd+δp+δh1/2
なお、この分散項δd、極性項δp、及び、水素結合項δhは、ハンセンやその研究後継者らにより多く求められており、Polymer Handbook (fourth edition)、VII-698~711に詳しく掲載されている。また、ハンセン(Hansen)の溶解度パラメータのSP値の詳細については、Charles M.Hansen著の文献「Hansen Solubility Parameters;A Users Handbook(CRC Press,2007)」に記載されている。
本開示において、化合物の部分構造におけるハンセン溶解度パラメータは、コンピュータソフトウェア「Hansen Solubility Parameters in Practice(HSPiP ver.4.1.07)」を用いることにより、その化学構造から推算した値を用いることもできる。
また、本開示においては、化合物が付加重合型樹脂、重縮合型樹脂等の重合体である場合は、モノマー単位ごとのSP値をモル分率で掛け合わせた総量で示し、化合物がモノマー単位を有しない低分子化合物である場合は、化合物全体のSP値とする。
なお、本開示において、高分子量体のSP値は、樹脂の分子構造からPolymer Handbook (fourth edition)に記載のHoy法により計算してもよい。
Here, the “solubility parameter (unit: (MPa) 1/2 )” in the present disclosure uses the Hansen solubility parameter.
The Hansen solubility parameter is a solubility parameter introduced by Hildebrand divided into three components: a dispersion term δd, a polarity term δp, and a hydrogen bond term δh, and is expressed in a three-dimensional space. In the present disclosure, the solubility parameter (hereinafter also referred to as SP value) is expressed as δ (unit: (MPa) 1/2 ), and a value calculated using the following formula is used.
δ (MPa) 1/2 = (δd 2 + δp 2 + δh 2 ) 1/2
The dispersion term δd, polarity term δp, and hydrogen bond term δh have been sought by Hansen and his successors, and are detailed in Polymer Handbook (fourth edition), VII-698 to 711. There is. Further, details of the SP value of Hansen's solubility parameter are described in the document "Hansen Solubility Parameters; A Users Handbook (CRC Press, 2007)" written by Charles M. Hansen.
In the present disclosure, for the Hansen solubility parameter in a partial structure of a compound, a value estimated from the chemical structure can also be used by using the computer software "Hansen Solubility Parameters in Practice (HSPiP ver. 4.1.07)".
In addition, in this disclosure, if the compound is a polymer such as an addition polymerization type resin or a polycondensation type resin, the SP value for each monomer unit is expressed as the total amount multiplied by the mole fraction, and the compound is a polymer such as an addition polymerization resin or a polycondensation resin. In the case of a low-molecular compound that does not have this, the SP value of the entire compound is taken as the SP value.
In the present disclosure, the SP value of the polymer may be calculated from the molecular structure of the resin by the Hoy method described in the Polymer Handbook (fourth edition).

上記特定重合性化合物の溶解度パラメータ(SP値)としては、22.0MPa1/2以下であることが好ましく、20.0MPa1/2以下であることがより好ましく、19.5MPa1/2以下であることが更に好ましい。
特定重合性化合物のSP値の下限としては、例えば、10.0MPa1/2が挙げられる。
The solubility parameter (SP value) of the specific polymerizable compound is preferably 22.0 MPa 1/2 or less, more preferably 20.0 MPa 1/2 or less, and 19.5 MPa 1/2 or less. It is even more preferable that there be.
The lower limit of the SP value of the specific polymerizable compound is, for example, 10.0 MPa 1/2 .

また、特定重合性化合物は2官能以上の重合性化合物であることが好ましい。
特定重合性化合物としては、2官能の重合性化合物であってもよいし、特定重合性化合物は7官能以上の重合性化合物(より好ましくは10官能以上の重合性化合物)であってもよい。
Moreover, it is preferable that the specific polymerizable compound is a bifunctional or more functional polymerizable compound.
The specific polymerizable compound may be a bifunctional polymerizable compound, or the specific polymerizable compound may be a heptafunctional or higher functional polymerizable compound (more preferably a 10 functional or higher functional polymerizable compound).

上記特定高分子量体の溶解度パラメータ(SP値)としては、17.5MPa1/2~20.0MPa1/2であることが好ましく、18.0MPa1/2~19.5MPa1/2であることがより好ましい。 The solubility parameter (SP value) of the specific polymer is preferably 17.5 MPa 1/2 to 20.0 MPa 1/2 , and preferably 18.0 MPa 1/2 to 19.5 MPa 1/2 . is more preferable.

経時におる機上現像性の低下を抑制する観点から、画像記録層中の、上記特定高分子量体の質量をP、上記特定重合性化合物の質量をMとしたとき、6.0≧P/M≧0.5の関係を満たすことが好ましく、5.0≧P/M≧0.6の関係を満たすことがより好ましく、3.0≧P/M≧0.7の関係を満たすことが更に好ましい。 From the viewpoint of suppressing the deterioration of on-press developability over time, when the mass of the specific polymer in the image recording layer is P and the mass of the specific polymerizable compound is M, 6.0≧P/ It is preferable to satisfy the relationship M≧0.5, more preferably to satisfy the relationship 5.0≧P/M≧0.6, and preferably satisfy the relationship 3.0≧P/M≧0.7. More preferred.

次に、本開示に係る平版印刷版原版における各構成要件の詳細について説明する。 Next, details of each component of the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure will be described.

<画像記録層>
本開示に係る平版印刷版原版は、支持体上に画像記録層を有する。
本開示における画像記録層は、ガラス転移温度が70℃以上である高分子量体(以降、特定高分子量体ともいう)を含む。
本開示における画像記録層は、特定高分子量体及び特定重合性化合物の他、例えば、重合開始剤、赤外線吸収剤、その他の成分を含むことが好ましい。
本開示における画像記録層は、ネガ型画像記録層であることが好ましく、水溶性又は水分散性のネガ型画像記録層であることがより好ましい。
本開示における画像記録層は、機上現像性の観点から、画像記録層の未露光部が湿し水及び印刷インキの少なくともいずれかにより除去可能であることが好ましい。
<Image recording layer>
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure has an image recording layer on a support.
The image recording layer in the present disclosure includes a polymer having a glass transition temperature of 70° C. or higher (hereinafter also referred to as a specific polymer).
The image recording layer in the present disclosure preferably contains, in addition to the specific polymer and the specific polymerizable compound, for example, a polymerization initiator, an infrared absorber, and other components.
The image recording layer in the present disclosure is preferably a negative image recording layer, more preferably a water-soluble or water-dispersible negative image recording layer.
In the image recording layer of the present disclosure, from the viewpoint of on-press developability, it is preferable that unexposed areas of the image recording layer are removable with at least one of dampening water and printing ink.

以下、画像記録層に含まれる各成分の詳細について説明する。 The details of each component contained in the image recording layer will be explained below.

〔特定高分子量体〕
特定高分子量体としては、ガラス転移温度が70℃以上であれば特に制限はないが、画像記録層中にて粒状形状を有しない高分子量体であることが好ましい。
本開示において「高分子量体」とは、重量平均分子量が5,000超えの化合物であることを意味する。
[Specific polymer]
The specific polymer is not particularly limited as long as it has a glass transition temperature of 70° C. or higher, but it is preferably a polymer that does not have a granular shape in the image recording layer.
In the present disclosure, "high molecular weight material" means a compound having a weight average molecular weight of more than 5,000.

本開示において、樹脂のガラス転移温度(Tgともいう)は、示差走査熱量測定(DSC)を用いて測定することができる。
具体的な測定方法は、JIS K 7121(1987年)又はJIS K 6240(2011年)に記載の方法に順じて行なう。本明細書におけるガラス転移温度は、補外ガラス転移開始温度(以下、Tigと称することがある)を用いている。
ガラス転移温度の測定方法をより具体的に説明する。
ガラス転移温度を求める場合、予想される樹脂のTgより約50℃低い温度にて装置が安定するまで保持した後、加熱速度:20℃/分で、ガラス転移が終了した温度よりも約30℃高い温度まで加熱し,示差熱分析(DTA)曲線又はDSC曲線を作成する。
補外ガラス転移開始温度(Tig)、すなわち、本明細書におけるガラス転移温度Tgは、DTA曲線又はDSC曲線における低温側のベースラインを高温側に延長した直線と、ガラス転移の階段状変化部分の曲線の勾配が最大になる点で引いた接線との交点の温度として求める。
In this disclosure, the glass transition temperature (also referred to as Tg) of a resin can be measured using differential scanning calorimetry (DSC).
A specific measuring method is performed according to the method described in JIS K 7121 (1987) or JIS K 6240 (2011). As the glass transition temperature in this specification, extrapolated glass transition initiation temperature (hereinafter sometimes referred to as Tig) is used.
The method for measuring the glass transition temperature will be explained in more detail.
When determining the glass transition temperature, hold the device at a temperature approximately 50°C lower than the expected Tg of the resin until it stabilizes, then heat at a heating rate of 20°C/min to approximately 30°C below the temperature at which the glass transition has completed. Heat to high temperature and generate differential thermal analysis (DTA) or DSC curves.
The extrapolated glass transition onset temperature (Tig), that is, the glass transition temperature Tg in this specification, is the line between the straight line extending the baseline on the low temperature side to the high temperature side in the DTA curve or DSC curve, and the step-like change part of the glass transition. It is determined as the temperature at the intersection with the tangent line drawn at the point where the slope of the curve is maximum.

特定高分子量体のガラス転移温度としては、経時による機上現像性の低下をより抑制する観点から、75℃以上が好ましく、80℃以上がより好ましく、85℃以上が更に好ましく、90℃以上が特に好ましい。
また、特定高分子量体のガラス転移温度の上限としては、画像記録層への水の浸み込みやすさの観点から、200℃が挙げられ、120℃以下が好ましい。
The glass transition temperature of the specific polymer is preferably 75°C or higher, more preferably 80°C or higher, even more preferably 85°C or higher, and even more preferably 90°C or higher, from the viewpoint of further suppressing the deterioration of on-press developability over time. Particularly preferred.
Further, the upper limit of the glass transition temperature of the specific polymer is 200° C., preferably 120° C. or less, from the viewpoint of ease of water penetration into the image recording layer.

特定高分子量体としては、平版印刷版原版の画像記録層に用いられる公知のバインダーポリマー(例えば、(メタ)アクリル樹脂、ポリビニルアセタール、ポリウレタン等)を好適に使用することができる。
中でも、経時による機上現像性の低下をより抑制する観点から、ポリビニルアセタールが好ましい。
As the specific polymer, known binder polymers (for example, (meth)acrylic resin, polyvinyl acetal, polyurethane, etc.) used in the image recording layer of a lithographic printing plate precursor can be suitably used.
Among these, polyvinyl acetal is preferred from the viewpoint of further suppressing deterioration of on-press developability over time.

ポリビニルアセタールは、ポリビニルアルコールのヒドロキシ基をアルデヒドにてアセタール化させて得られた樹脂である。
特に、ポリビニルアルコールのヒドロキシ基を、ブチルアルデヒドでアセタール化(即ち、ブチラール化)したポリビニルブチラールが好ましい。
ポリビニルアセタールは、ポリビニルアルコールのヒドロキシ基をアルデヒドにてアセタール化することで、下記(a)で表される構成単位を含む。
Polyvinyl acetal is a resin obtained by acetalizing the hydroxyl group of polyvinyl alcohol with aldehyde.
Particularly preferred is polyvinyl butyral in which the hydroxyl group of polyvinyl alcohol is acetalized (ie, butyralized) with butyraldehyde.
Polyvinyl acetal is obtained by acetalizing the hydroxyl group of polyvinyl alcohol with aldehyde and contains the structural unit represented by (a) below.

ここで、Rとしては、アセタール化に用いられたアルデヒドの残基を表す。
Rとしては、水素原子、アルキル基等の他、後述するエチレン性不飽和基が挙げられる。
Here, R represents the residue of the aldehyde used for acetalization.
Examples of R include a hydrogen atom, an alkyl group, and the ethylenically unsaturated group described below.

上記(a)で表される構成単位の含有量(アセタール化度ともいう)としては、ポリビニルアセタールの全構成単位に対して、50mol%~90mol%が好ましく、55mol%~85mol%がより好ましく、55mol%~80mol%が更に好ましい。 The content of the structural unit represented by (a) above (also referred to as the degree of acetalization) is preferably 50 mol% to 90 mol%, more preferably 55 mol% to 85 mol%, based on the total structural units of polyvinyl acetal. More preferably 55 mol% to 80 mol%.

ポリビニルアセタールは、耐刷性向上の観点から、エチレン性不飽和基を有することが好ましい。
ここで、ポリビニルアセタールが有するエチレン性不飽和基としては特に制限はなく、反応性、機上現像性、及び耐刷性の観点から、ビニルフェニル基(スチリル基)、ビニルエステル基、ビニルエーテル基、アリル基、(メタ)アクリロキシ基、及び(メタ)アクリルアミド基からなる群より選ばれた少なくとも1種の基であることがより好ましく、ビニル基、アリル基、(メタ)アクリロキシ基等が好ましい。
It is preferable that the polyvinyl acetal has an ethylenically unsaturated group from the viewpoint of improving printing durability.
Here, the ethylenically unsaturated group that polyvinyl acetal has is not particularly limited, and from the viewpoint of reactivity, on-press developability, and printing durability, vinyl phenyl group (styryl group), vinyl ester group, vinyl ether group, More preferably, it is at least one group selected from the group consisting of allyl group, (meth)acryloxy group, and (meth)acrylamide group, and vinyl group, allyl group, (meth)acryloxy group, etc. are preferable.

ポリビニルアセタールが、耐刷性向上の観点から、エチレン性不飽和基を有する構成単位を含むことが好ましい。
エチレン性不飽和基を有する構成単位としては、上述のアセタール環を有する構成単位であってもよいし、アセタール環を有する構成単位以外の構成単位であってもよい。
中でも、露光時の架橋密度増加の観点から、ポリビニルアセタールは、アセタール環にエチレン性不飽和基が導入された化合物であることが好ましい。即ち、上述の(a)で表される構成単位において、Rにエチレン性不飽和基を有することが好ましい。
From the viewpoint of improving printing durability, it is preferable that the polyvinyl acetal contains a structural unit having an ethylenically unsaturated group.
The structural unit having an ethylenically unsaturated group may be the above-mentioned structural unit having an acetal ring, or may be a structural unit other than the structural unit having an acetal ring.
Among these, from the viewpoint of increasing crosslinking density during exposure, polyvinyl acetal is preferably a compound in which an ethylenically unsaturated group is introduced into the acetal ring. That is, in the structural unit represented by (a) above, it is preferable that R has an ethylenically unsaturated group.

エチレン性不飽和基を有する構成単位が、アセタール環を有する構成単位以外の構成単位である場合、例えば、アクリレート基を有する構成単位、具体的には、下記(d)で表される構成単位であってもよい。 When the structural unit having an ethylenically unsaturated group is a structural unit other than the structural unit having an acetal ring, for example, a structural unit having an acrylate group, specifically, a structural unit represented by (d) below. There may be.

エチレン性不飽和基を有する構成単位がアセタール環を有する構成単位以外の構成単位である場合、この構成単位の含有量(アクリレート基量ともいう)としては、ポリビニルアセタールの全構成単位に対して、1mol%~15mol%が好ましく、1mol%~10mol%がより好ましい。 When the structural unit having an ethylenically unsaturated group is a structural unit other than the structural unit having an acetal ring, the content of this structural unit (also referred to as acrylate group amount) is based on all the structural units of the polyvinyl acetal. It is preferably 1 mol% to 15 mol%, more preferably 1 mol% to 10 mol%.

ポリビニルアセタールとしては、更に、機上現像性等の観点から、水酸基を有する構成単位を含むことが好ましい。つまり、上記ポリビニルアセタールは、ビニルアルコールに由来する構成単位を含むことが好ましい。
水酸基を有する構成単位としては、下記(b)で表される構成単位が挙げられる。
It is preferable that the polyvinyl acetal further contains a structural unit having a hydroxyl group from the viewpoint of on-press developability. That is, the polyvinyl acetal preferably contains a structural unit derived from vinyl alcohol.
Examples of the structural unit having a hydroxyl group include the structural unit represented by (b) below.

上記(b)で表される構成単位の含有量(水酸基量ともいう)としては、機上現像性の観点から、ポリビニルアセタールの全構成単位に対して、5mol%~50mol%が好ましく、10mol%~40mol%がより好ましく、20mol%~40mol%が更に好ましい。 From the viewpoint of on-press developability, the content of the structural unit represented by (b) above (also referred to as the amount of hydroxyl groups) is preferably 5 mol% to 50 mol%, and 10 mol% based on all the structural units of the polyvinyl acetal. -40 mol% is more preferable, and 20 mol% - 40 mol% is even more preferable.

上記ポリビニルアセタールとしては、更に、その他の構成単位を含んでいてもよい。
その他の構成単位としては、例えば、アセチル基を有する構成単位、具体的には、以下(c)で表される構成単位が挙げられる。
The polyvinyl acetal may further contain other structural units.
Other structural units include, for example, a structural unit having an acetyl group, specifically, a structural unit represented by (c) below.

上記(c)で表される構成単位の含有量(アセチル基量ともいう)としては、ポリビニルアセタールの全構成単位に対して、0.5mol%~10mol%が好ましく、0.5mol%~8mol%がより好ましく、1mol%~3mol%が更に好ましい。 The content of the structural unit represented by (c) above (also referred to as acetyl group amount) is preferably 0.5 mol% to 10 mol%, and 0.5 mol% to 8 mol%, based on the total structural units of the polyvinyl acetal. is more preferable, and even more preferably 1 mol% to 3 mol%.

ここで、上記アセタール化度、アクリレート基量、水酸基量、及びアセチル基量、は、以下のようにして求めることができる。
即ち、H NMR測定によって、アセタールのメチル又はメチレン部位、アクリレート基のメチル部位、水酸基及びアセチル基のメチル部位のプロトンピーク面積比からmol含有率を算出する。
Here, the degree of acetalization, the amount of acrylate groups, the amount of hydroxyl groups, and the amount of acetyl groups can be determined as follows.
That is, by 1 H NMR measurement, the mol content is calculated from the proton peak area ratio of the methyl or methylene moiety of the acetal, the methyl moiety of the acrylate group, and the methyl moiety of the hydroxyl group and the acetyl group.

上記ポリビニルアセタールの重量平均分子量としては、18,000~150,000が好ましい。 The weight average molecular weight of the polyvinyl acetal is preferably 18,000 to 150,000.

上記ポリビニルアセタールのSP値は、上述と同様に、17.5MPa1/2~20.0MPa1/2であることが好ましく、18.0MPa1/2~19.5MPa1/2であることがより好ましい。 As mentioned above, the SP value of the polyvinyl acetal is preferably 17.5 MPa 1/2 to 20.0 MPa 1/2 , more preferably 18.0 MPa 1/2 to 19.5 MPa 1/2 . preferable.

上記ポリビニルアセタールの具体例[P-1~P-3]を以下に挙げるが、本開示に用いられるポリビニルアセタールはこれらに限定されるものではない。
下記構造中、「l」は50mol%~90mol%であり、「m」は0.5mol%~10質量%であり、「n」は5mol%~50mol%であり、「o」は1mol%~15mol%である。
Specific examples [P-1 to P-3] of the above polyvinyl acetal are listed below, but the polyvinyl acetal used in the present disclosure is not limited to these.
In the structure below, "l" is 50 mol% to 90 mol%, "m" is 0.5 mol% to 10% by mass, "n" is 5 mol% to 50 mol%, and "o" is 1 mol% to It is 15 mol%.

上記ポリビニルアセタールとしては、市販品を用いることができる。
ポリビニルアセタールの市販品としては、積水化学工業(株)のエスレックシリーズ(具体的には、エスレックBX-L,BX-1,BX-5,BL-7Z,BM-1,BM-5,BH-6,BH-3等が挙げられる。
As the polyvinyl acetal, commercially available products can be used.
Commercial products of polyvinyl acetal include the S-LEC series (specifically, S-LEC BX-L, BX-1, BX-5, BL-7Z, BM-1, BM-5, BH) manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. -6, BH-3, etc.

特定高分子量体は、1種単独で用いてもよく、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。 The specific polymer may be used alone or in combination of two or more.

特定高分子量体は、画像記録層中に任意な量で含有させることができるが、特定高分子量体の含有量は、画像記録層の全質量に対して、1質量%~80質量%であることが好ましく、1質量%~70質量%であることがより好ましく、3質量%~70質量%であることが特に好ましい。 The specific polymer can be contained in any amount in the image recording layer, but the content of the specific polymer is 1% by mass to 80% by mass based on the total mass of the image recording layer. The content is preferably 1% by mass to 70% by mass, more preferably 3% by mass to 70% by mass.

〔特定重合性化合物〕
本開示における画像記録層は、既述のように、特定重合性化合物を含むことが好ましい。
特定重合性化合物は、分子量が5,000以下であれば特に制限なく用いることができる。
[Specific polymerizable compound]
The image recording layer in the present disclosure preferably contains a specific polymerizable compound, as described above.
The specific polymerizable compound can be used without particular limitation as long as it has a molecular weight of 5,000 or less.

特定重合性化合物が有する重合性基としては、ラジカル重合性基であってもカチオン重合性基であってもよいが、ラジカル重合性基であることが好ましい。
ラジカル重合性基としては、(メタ)アクリロイル基、アリル基、ビニルフェニル基、ビニル基等が挙げられ、反応性の観点から(メタ)アクリロイル基が好ましい。
The polymerizable group contained in the specific polymerizable compound may be a radically polymerizable group or a cationically polymerizable group, but is preferably a radically polymerizable group.
Examples of the radically polymerizable group include a (meth)acryloyl group, an allyl group, a vinyl phenyl group, a vinyl group, and the like, and a (meth)acryloyl group is preferred from the viewpoint of reactivity.

特定重合性化合物としては、2官能以上の重合性化合物が好ましく、2官能の重合性化合物が好ましく、一方で、7官能以上の重合性化合物も好ましい。 As the specific polymerizable compound, a difunctional or higher functional polymerizable compound is preferred, a difunctional polymerizable compound is preferred, and a heptafunctional or higher functional polymerizable compound is also preferred.

特定重合性化合物が2官能の重合性化合物である場合、その分子量(分子量分布を有する場合には、重量平均分子量)としては、50~1,000であることが好ましく、200~900であることがより好ましく、300~600であることが更に好ましい。 When the specific polymerizable compound is a bifunctional polymerizable compound, its molecular weight (weight average molecular weight if it has a molecular weight distribution) is preferably 50 to 1,000, and preferably 200 to 900. is more preferable, and even more preferably 300 to 600.

特定重合性化合物が7官能以上の重合性化合物である場合、その分子量(分子量分布を有する場合には、重量平均分子量)としては、1,000を超えることが好ましく、1,000を超え5,000以下であることがより好ましい。 When the specific polymerizable compound is a heptafunctional or higher functional polymerizable compound, its molecular weight (weight average molecular weight if it has a molecular weight distribution) preferably exceeds 1,000, and exceeds 1,000. 000 or less is more preferable.

特定重合性化合物の具体例を以下に挙げるが、本開示にて用いられる特定重合性化合物はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of specific polymerizable compounds are listed below, but the specific polymerizable compounds used in the present disclosure are not limited to these.

以下、画像記録層に用いられる重合性化合物について説明するが、この中で、分子量が5,000以下であれば、特定重合性化合物として用いることができる。 The polymerizable compounds used in the image recording layer will be described below, and among them, those having a molecular weight of 5,000 or less can be used as specific polymerizable compounds.

[重合性化合物]
本開示において、重合性化合物とは、重合性基を有する化合物をいう。
重合性基としては、特に限定されず公知の重合性基であればよいが、エチレン性不飽和基であることが好ましい。また、重合性基としては、ラジカル重合性基であってもカチオン重合性基であってもよいが、ラジカル重合性基であることが好ましい。
ラジカル重合性基としては、(メタ)アクリロイル基、アリル基、ビニルフェニル基、ビニル基等が挙げられ、反応性の観点から(メタ)アクリロイル基が好ましい。
重合性化合物の分子量(分子量分布を有する場合には、重量平均分子量)は、50以上10,000以下であることが好ましい。特定重合性化合物の場合、その分子量(分子量分布を有する場合には、重量平均分子量)は、100以上4,000以下が好ましい。
[Polymerizable compound]
In the present disclosure, a polymerizable compound refers to a compound having a polymerizable group.
The polymerizable group is not particularly limited and may be any known polymerizable group, but is preferably an ethylenically unsaturated group. Further, the polymerizable group may be a radically polymerizable group or a cationically polymerizable group, but a radically polymerizable group is preferable.
Examples of the radically polymerizable group include a (meth)acryloyl group, an allyl group, a vinyl phenyl group, a vinyl group, and the like, and a (meth)acryloyl group is preferred from the viewpoint of reactivity.
The molecular weight (weight average molecular weight when having a molecular weight distribution) of the polymerizable compound is preferably 50 or more and 10,000 or less. In the case of the specific polymerizable compound, its molecular weight (or weight average molecular weight if it has a molecular weight distribution) is preferably 100 or more and 4,000 or less.

本開示に用いられる重合性化合物は、例えば、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有する付加重合性化合物(エチレン性不飽和化合物)であることが好ましい。
エチレン性不飽和化合物としては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個有する化合物であることが好ましく、末端エチレン性不飽和結合を2個以上有する化合物であることがより好ましい。重合性化合物は、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体若しくはオリゴマー、又は、それらの混合物などの化学的形態をもつ。
中でも、上記重合性化合物としては、UV耐刷性の観点から、3官能以上の重合性化合物を含むことが好ましく、7官能以上の重合性化合物を含むことがより好ましく、10官能以上の重合性化合物を含むことが更に好ましい。また、上記重合性化合物は、得られる平版印刷版におけるUV耐刷性の観点から、3官能以上(好ましくは7官能以上、より好ましくは10官能以上)のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、3官能以上(好ましくは7官能以上、より好ましくは10官能以上)の(メタ)アクリレート化合物を含むことが更に好ましい。
The polymerizable compound used in the present disclosure may be, for example, a radically polymerizable compound or a cationically polymerizable compound, but may be an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated bond (ethylenic unsaturated compounds).
The ethylenically unsaturated compound is preferably a compound having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, and more preferably a compound having two or more terminal ethylenically unsaturated bonds. The polymerizable compound has a chemical form such as a monomer, a prepolymer, ie, a dimer, trimer or oligomer, or a mixture thereof.
Among these, from the viewpoint of UV printing durability, the polymerizable compound preferably includes a trifunctional or higher functional polymerizable compound, more preferably a heptafunctional or higher functional polymerizable compound, and a 10 functional or higher functional polymerizable compound. It is even more preferable to include a compound. Further, from the viewpoint of UV printing durability of the resulting lithographic printing plate, the polymerizable compound preferably contains an ethylenically unsaturated compound having three or more functionalities (preferably seven functionalities or more, more preferably ten functional or more). It is more preferable to include a (meth)acrylate compound having 3 or more functionalities (preferably 7 or more functionalities, more preferably 10 or more functionalities).

[オリゴマー]
画像記録層に含まれる重合性化合物としては、オリゴマーである重合性化合物(以下、単に「オリゴマー」ともいう。)を含有することが好ましい。
本開示においてオリゴマーとは、分子量(分子量分布を有する場合には、重量平均分子量)が600以上10,000以下であり、かつ、重合性基を少なくとも1つ含む重合性化合物を表す。
耐薬品性、UV耐刷性に優れる観点から、オリゴマーの分子量としては、1,000以上5,000以下であることが好ましい。
[Oligomer]
The image recording layer preferably contains a polymerizable compound that is an oligomer (hereinafter also simply referred to as "oligomer").
In the present disclosure, an oligomer refers to a polymerizable compound having a molecular weight (weight average molecular weight when having a molecular weight distribution) of 600 to 10,000 and containing at least one polymerizable group.
From the viewpoint of excellent chemical resistance and UV printing durability, the molecular weight of the oligomer is preferably 1,000 or more and 5,000 or less.

また、UV耐刷性を向上させる観点から、1分子のオリゴマーにおける重合性基数は、2以上であることが好ましく、3以上であることがより好ましく、6以上であることが更に好ましく、10以上であることが特に好ましい。
また、オリゴマーにおける重合性基の上限値は、特に制限はないが、重合性基の数は20以下であることが好ましい。
Further, from the viewpoint of improving UV printing durability, the number of polymerizable groups in one molecule of the oligomer is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, still more preferably 6 or more, and 10 or more. It is particularly preferable that
The upper limit of the number of polymerizable groups in the oligomer is not particularly limited, but the number of polymerizable groups is preferably 20 or less.

UV耐刷性、及び、機上現像性の観点から、オリゴマーとしては、重合性基の数が7以上であり、かつ、分子量が1,000以上10,000以下であることが好ましく、重合性基の数が7以上20以下であり、かつ、分子量が1,000以上5,000以下であることがより好ましい。
なお、重合性化合物としてオリゴマーを含む場合、オリゴマーを製造する過程で生じる可能性のある、ポリマー成分も含まれていてもよい。
From the viewpoint of UV printing durability and on-press developability, the oligomer preferably has 7 or more polymerizable groups and a molecular weight of 1,000 or more and 10,000 or less; It is more preferable that the number of groups is 7 or more and 20 or less, and the molecular weight is 1,000 or more and 5,000 or less.
In addition, when an oligomer is included as a polymerizable compound, a polymer component that may be generated during the process of manufacturing the oligomer may also be included.

UV耐刷性、及び、機上現像性の観点から、オリゴマーは、ウレタン結合を有する化合物、エステル結合を有する化合物、及びエポキシ残基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種を有することが好ましく、ウレタン結合を有する化合物を有することが好ましい。
本開示においてエポキシ残基とは、エポキシ基により形成される構造を指し、例えば酸基(カルボン酸基等)とエポキシ基との反応により得られる構造と同様の構造を意味する。
From the viewpoint of UV printing durability and on-press developability, the oligomer preferably has at least one type selected from the group consisting of a compound having a urethane bond, a compound having an ester bond, and a compound having an epoxy residue. It is preferable to have a compound having a urethane bond.
In the present disclosure, an epoxy residue refers to a structure formed by an epoxy group, and means a structure similar to a structure obtained by, for example, a reaction between an acid group (such as a carboxylic acid group) and an epoxy group.

(ウレタン結合を有する化合物)
オリゴマーの例であるウレタン結合を有する化合物としては、例えば、下記式(Ac-1)又は式(Ac-2)で表される基を少なくとも有する化合物であることが好ましく、下記式(Ac-1)で表される基を少なくとも有する化合物であることがより好ましい。
(Compound with urethane bond)
The compound having a urethane bond, which is an example of an oligomer, is preferably a compound having at least a group represented by the following formula (Ac-1) or the formula (Ac-2). ) is more preferable.

式(Ac-1)及び式(Ac-2)中、L~Lは、それぞれ独立に、炭素数2~20の二価の炭化水素基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
~Lとしては、それぞれ独立に、炭素数2~20のアルキレン基であることが好ましく、炭素数2~10のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数4~8のアルキレン基であることが更に好ましい。また、上記アルキレン基は、分岐又は環構造を有していてもよいが、直鎖アルキレン基であることが好ましい。
In formula (Ac-1) and formula (Ac-2), L 1 to L 4 each independently represent a divalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms, and the wavy line portion represents a bond with another structure. Represents a position.
L 1 to L 4 are each independently preferably an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and an alkylene group having 4 to 8 carbon atoms. It is even more preferable that there be. Moreover, although the said alkylene group may have a branched or ring structure, it is preferable that it is a linear alkylene group.

式(Ac-1)又は式(Ac-2)における波線部は、それぞれ独立に、下記式(Ae-1)又は式(Ae-2)で表される基における波線部と直接結合することが好ましい。 The wavy line part in formula (Ac-1) or formula (Ac-2) can be independently bonded directly to the wavy line part in the group represented by the following formula (Ae-1) or formula (Ae-2). preferable.

式(Ae-1)及び式(Ae-2)中、Rは、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表し、波線部分は式(Ac-1)及び式(Ac-2)における波線部との結合位置を表す。 In formula (Ae-1) and formula (Ae-2), R each independently represents an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group, and the wavy line portion is the wavy line in formula (Ac-1) and formula (Ac-2). represents the bonding position with the part.

また、ウレタン結合を有する化合物として、ポリイソシアネート化合物と、ポリオール化合物と、の反応により得られるポリウレタンに、高分子反応により重合性基を導入した化合物を用いてもよい。
例えば、酸基を有するポリオール化合物と、ポリイソシアネート化合物を反応させて得られたポリウレタンオリゴマーに、エポキシ基及び重合性基を有する化合物を反応させることにより、ウレタン結合を有する化合物を得てもよい。
Further, as the compound having a urethane bond, a compound obtained by introducing a polymerizable group into a polyurethane obtained by a reaction between a polyisocyanate compound and a polyol compound through a polymer reaction may be used.
For example, a compound having a urethane bond may be obtained by reacting a polyurethane oligomer obtained by reacting a polyol compound having an acid group with a polyisocyanate compound with a compound having an epoxy group and a polymerizable group.

(エステル結合を有する化合物)
オリゴマーの例であるエステル結合を有する化合物における重合性基の数は、3以上であることが好ましく、6以上であることが更に好ましい。
(Compound with ester bond)
The number of polymerizable groups in a compound having an ester bond, which is an example of an oligomer, is preferably 3 or more, more preferably 6 or more.

(エポキシ残基を有する化合物)
オリゴマーの例であるエポキシ残基を有する化合物としては、化合物内にヒドロキシ基を含む化合物が好ましい。
また、エポキシ残基を有する化合物における重合性基の数は、2~6であることが好ましく、2~3であることがより好ましい。
上記エポキシ残基を有する化合物としては、例えば、エポキシ基を有する化合物にアクリル酸を反応することにより得ることができる。
(Compound with epoxy residue)
The compound having an epoxy residue, which is an example of an oligomer, is preferably a compound containing a hydroxy group within the compound.
Further, the number of polymerizable groups in the compound having an epoxy residue is preferably 2 to 6, more preferably 2 to 3.
The above-mentioned compound having an epoxy residue can be obtained, for example, by reacting a compound having an epoxy group with acrylic acid.

オリゴマーの具体例として市販品を以下に示すが、本開示において用いられるオリゴマーはこれに限定されるものではない。
オリゴマーの市販品としては、UA-510H、UA-306H、UA-306I、UA-306T(いずれも共栄社化学(株))、UV-1700B、UV-6300B、UV7620EA(いずれも日本合成化学工業(株))、U-15HA(新中村化学工業(株))、EBECRYL450、EBECRYL657、EBECRYL885、EBECRYL800、EBECRYL3416、EBECRYL860(いずれもダイセルオルネクス(株))等が挙げられる。
Commercially available products are shown below as specific examples of oligomers, but the oligomers used in the present disclosure are not limited thereto.
Commercially available oligomers include UA-510H, UA-306H, UA-306I, UA-306T (all manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), UV-1700B, UV-6300B, and UV7620EA (all manufactured by Nippon Gosei Kagaku Kogyo Co., Ltd.). )), U-15HA (Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), EBECRYL450, EBECRYL657, EBECRYL885, EBECRYL800, EBECRYL3416, EBECRYL860 (all manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd.).

オリゴマーの含有量は、耐薬品性、UV耐刷性、及び機上現像カスの抑制性を向上させる観点から、画像記録層における重合性化合物の全質量に対し、30質量%~100質量%であることが好ましく、50質量%~100質量%であることがより好ましく、80質量%~100質量%であることが更に好ましい。 The content of the oligomer is 30% by mass to 100% by mass based on the total mass of the polymerizable compound in the image recording layer, from the viewpoint of improving chemical resistance, UV printing durability, and suppression of on-press development residue. It is preferably from 50% by mass to 100% by mass, even more preferably from 80% by mass to 100% by mass.

[低分子重合性化合物]
重合性化合物は、上記オリゴマー以外の重合性化合物を更に含んでいてもよい。
オリゴマー以外の重合性化合物としては、耐薬品性の観点から、低分子重合性化合物であることが好ましい。低分子重合性化合物としては、単量体、2量体、3量体又は、それらの混合物などの化学的形態であってもよい。
また、低分子重合性化合物としては、耐薬品性の観点から、エチレン性不飽和基を3つ以上有する重合性化合物、及びイソシアヌル環構造を有する重合性化合物からなる群より選ばれる少なくとも一方の重合性化合物であることが好ましい。
[Low molecular polymerizable compound]
The polymerizable compound may further contain a polymerizable compound other than the above oligomer.
The polymerizable compound other than the oligomer is preferably a low-molecular polymerizable compound from the viewpoint of chemical resistance. The low-molecular polymerizable compound may be in a chemical form such as a monomer, dimer, trimer, or a mixture thereof.
In addition, from the viewpoint of chemical resistance, the low-molecular polymerizable compound includes at least one polymerizable compound selected from the group consisting of a polymerizable compound having three or more ethylenically unsaturated groups, and a polymerizable compound having an isocyanuric ring structure. It is preferable that the compound is a compound with a chemical nature.

本開示において低分子重合性化合物とは、分子量(分子量分布を有する場合には、重量平均分子量)50以上600未満の重合性化合物を表す。
低分子重合性化合物の分子量としては、耐薬品性、UV耐刷性及び機上現像カスの抑制性に優れる観点から、100以上600未満であることが好ましく、300以上600未満であることがより好ましく、400以上600未満であることが更に好ましい。
In the present disclosure, a low-molecular polymerizable compound refers to a polymerizable compound having a molecular weight (weight average molecular weight if it has a molecular weight distribution) of 50 or more and less than 600.
The molecular weight of the low-molecular polymerizable compound is preferably 100 or more and less than 600, more preferably 300 or more and less than 600, from the viewpoint of excellent chemical resistance, UV printing durability, and on-press development scum suppression. It is preferably 400 or more and less than 600.

重合性化合物が、オリゴマー以外の重合性化合物として低分子重合性化合物を含む場合(2種以上の低分子重合性化合物を含む場合はその合計量)、耐薬品性、UV耐刷性及び機上現像カスの抑制性の観点から、上記オリゴマーと低分子重合性化合物との比(オリゴマー/低分子重合性化合物)は、質量基準で、10/1~1/10であることが好ましく、10/1~3/7であることがより好ましく、10/1~7/3であることが更に好ましい。 If the polymerizable compound contains a low-molecular polymerizable compound as a polymerizable compound other than oligomers (if it contains two or more types of low-molecular polymerizable compounds, the total amount), chemical resistance, UV printing durability, and on-press From the viewpoint of suppressing development residue, the ratio of the oligomer to the low-molecular polymerizable compound (oligomer/low-molecular polymerizable compound) is preferably from 10/1 to 1/10, and is preferably 10/1 to 1/10 on a mass basis. The ratio is more preferably 1 to 3/7, and even more preferably 10/1 to 7/3.

低分子重合性化合物の具体例としては、国際公開第2019/013268号の段落0082~0086に記載の化合物が挙げられる。 Specific examples of low-molecular polymerizable compounds include compounds described in paragraphs 0082 to 0086 of International Publication No. 2019/013268.

重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、任意に設定できる。
中でも、画像記録層は、UV耐刷性の観点から、2種以上の重合性化合物を含むことが好ましい。
重合性化合物の含有量(重合性化合物を2種以上含む場合は、重合性化合物の総含有量)は、画像記録層の全質量に対して、5質量%~75質量%であることが好ましく、10質量%~70質量%であることがより好ましく、15質量%~60質量%であることが更に好ましい。
The structure of the polymerizable compound, whether it is used alone or in combination, the amount of addition, and other usage details can be set arbitrarily.
Among these, the image recording layer preferably contains two or more kinds of polymerizable compounds from the viewpoint of UV printing durability.
The content of the polymerizable compound (if two or more types of polymerizable compounds are included, the total content of the polymerizable compounds) is preferably 5% by mass to 75% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. , more preferably 10% by mass to 70% by mass, and even more preferably 15% by mass to 60% by mass.

特定重合性化合物(即ち、分子量5,000以下の重合性化合物)は、1種単独で用いてもよく、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。 The specific polymerizable compound (that is, a polymerizable compound having a molecular weight of 5,000 or less) may be used alone or in combination of two or more.

特定重合性化合物の含有量は、既述の通り、6.0≧P/M≧0.5(より好ましくは、5.0≧P/M≧0.6、更に好ましくは、3.0≧P/M≧0.7)を満たす範囲にて、画像記録層中に添加されればよい。
特定重合性化合物の含有量は、経時による機上現像性の低下を抑制する観点から、画像記録層の全質量に対して、10質量%~70質量%が好ましく、20質量%~65質量%がより好ましく、25質量%~60質量%が更に好ましい。
As mentioned above, the content of the specific polymerizable compound is 6.0≧P/M≧0.5 (more preferably 5.0≧P/M≧0.6, still more preferably 3.0≧ P/M≧0.7) may be added to the image recording layer.
The content of the specific polymerizable compound is preferably 10% by mass to 70% by mass, and 20% by mass to 65% by mass, based on the total mass of the image recording layer, from the viewpoint of suppressing deterioration of on-press developability over time. is more preferred, and even more preferably 25% by mass to 60% by mass.

〔重合開始剤〕
本開示における画像記録層は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては、電子受容型重合開始剤を含むことが好ましく、電子受容型重合開
始剤及び電子供与型重合開始剤を含むことがより好ましい。
[Polymerization initiator]
The image recording layer in the present disclosure preferably contains a polymerization initiator.
The polymerization initiator preferably includes an electron-accepting polymerization initiator, and more preferably an electron-accepting polymerization initiator and an electron-donating polymerization initiator.

[電子受容型重合開始剤]
画像記録層は、重合開始剤として、電子受容型重合開始剤を含むことが好ましい。
電子受容型重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起した際に、分子間電子移動で一電子を受容することにより、ラジカル等の重合開始種を発生する化合物である。
電子受容型重合開始剤は、光、熱あるいはその両方のエネルギーによりラジカル、カチオン等の重合開始種を発生する化合物であって、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを適宜選択して用いることができる。 電子受容型重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましく、オニウム塩化合物がより好ましい。
また、電子受容型重合開始剤としては、赤外線感光性重合開始剤であることが好ましい。
[Electron-accepting polymerization initiator]
The image recording layer preferably contains an electron-accepting polymerization initiator as a polymerization initiator.
An electron-accepting polymerization initiator is a compound that generates polymerization initiation species such as radicals by accepting one electron through intermolecular electron transfer when electrons of an infrared absorber are excited by infrared exposure.
Electron-accepting polymerization initiators are compounds that generate polymerization initiating species such as radicals and cations using energy from light, heat, or both, and include known thermal polymerization initiators, compounds having bonds with low bond dissociation energy, A photopolymerization initiator and the like can be appropriately selected and used. As the electron-accepting polymerization initiator, a radical polymerization initiator is preferable, and an onium salt compound is more preferable.
Further, as the electron-accepting polymerization initiator, an infrared-sensitive polymerization initiator is preferable.

上記電子受容型重合開始剤の中でも好ましいものとして、硬化性の観点から、オキシムエステル化合物、及びオニウム塩化合物が挙げられる。中でも、耐刷性の観点から、ヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物、又はアジニウム塩化合物が好ましく、ヨードニウム塩化合物、又はスルホニウム塩化合物がより好ましく、ヨードニウム塩化合物が特に好ましい。
これら化合物の具体例を以下に示すが、本開示はこれに限定されるものではない。
Among the above electron-accepting polymerization initiators, preferred are oxime ester compounds and onium salt compounds from the viewpoint of curability. Among these, from the viewpoint of printing durability, iodonium salt compounds, sulfonium salt compounds, or azinium salt compounds are preferred, iodonium salt compounds or sulfonium salt compounds are more preferred, and iodonium salt compounds are particularly preferred.
Specific examples of these compounds are shown below, but the present disclosure is not limited thereto.

ヨードニウム塩化合物の例としては、ジアリールヨードニウム塩化合物が好ましく、特に電子供与性基、例えば、アルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩化合物がより好ましく、また、非対称のジフェニルヨードニウム塩化合物が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-メトキシフェニル-4-(2-メチルプロピル)フェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-(2-メチルプロピル)フェニル-p-トリルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-ヘキシルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-ヘキシルオキシフェニル-2,4-ジエトキシフェニルヨードニウム=テトラフルオロボラート、4-オクチルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=1-ペルフルオロブタンスルホナート、4-オクチルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、ビス(4-t-ブチルフェニル)ヨードニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。 As an example of the iodonium salt compound, a diaryliodonium salt compound is preferable, a diphenyliodonium salt compound substituted with an electron-donating group, such as an alkyl group or an alkoxyl group is particularly preferable, and an asymmetric diphenyliodonium salt compound is preferable. . Specific examples include diphenyliodonium hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyl-4-(2-methylpropyl)phenyliodonium hexafluorophosphate, 4-(2-methylpropyl)phenyl-p-tolyliodonium hexafluorophosphate. Fluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium hexafluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4-diethoxyphenyliodonium tetrafluoroborate, 4-octyloxy Phenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = 1-perfluorobutanesulfonate, 4-octyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, bis(4-t-butylphenyl ) Iodonium hexafluorophosphate.

また、ヨードニウム塩化合物及びスルホニウム塩化合物の対アニオンの例としては、スルホネートアニオン、カルボキシレートアニオン、テトラフルオロボレートアニオン、ヘキサフルオロホスフェートアニオン、p-トルエンスルホネートアニオン、トシレートアニオン、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが挙げられる。
中でも、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが好ましく、スルホンイミドアニオンがより好ましい。
スルホンアミドアニオンとしては、アリールスルホンアミドアニオンが好ましい。
また、スルホンイミドアニオンとしては、ビスアリールスルホンイミドアニオンが好ましい。
スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンの具体例としては、例えば、国際公開第2019/013268号の段落0034に記載された化合物が挙げられる。
Examples of counter anions of iodonium salt compounds and sulfonium salt compounds include sulfonate anions, carboxylate anions, tetrafluoroborate anions, hexafluorophosphate anions, p-toluenesulfonate anions, tosylate anions, sulfonamide anions, and sulfonimides. Examples include anions.
Among these, sulfonamide anion or sulfonimide anion is preferred, and sulfonimide anion is more preferred.
As the sulfonamide anion, an arylsulfonamide anion is preferred.
Moreover, as the sulfonimide anion, a bisarylsulfonimide anion is preferable.
Specific examples of the sulfonamide anion or the sulfonimide anion include the compounds described in paragraph 0034 of International Publication No. 2019/013268.

また、上記電子受容型重合開始剤は、現像性、及び、得られる平版印刷版におけるUV耐刷性の観点から、下記式(II)及び式(III)のいずれかで表される化合物が好ましく、特に式(II)で表される化合物が好ましい。 Further, from the viewpoint of developability and UV printing durability of the resulting lithographic printing plate, the electron-accepting polymerization initiator is preferably a compound represented by either the following formula (II) or formula (III). In particular, compounds represented by formula (II) are preferred.

式(II)及び(III)中、Xはハロゲン原子を表し、R、R及びRはそれぞれ独立に、炭素原子数1~20までの1価の炭化水素基を表す。
式(II)中、Xはハロゲン原子を表し、Rはアリール基を表すことが好ましい。
In formulas (II) and (III), X represents a halogen atom, and R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
In formula (II), it is preferable that X represents a halogen atom and R 3 represents an aryl group.

式(II)及び(III)におけるXとしては、具体的には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。これらのうち、塩素原子又は臭素原子は、感度に優れるため好ましく、臭素原子が特に好ましい。
また、式(II)及び(III)において、R、R及びRは、それぞれ独立に、アリール基であることが好ましく、中でも、感度と保存安定性とのバランスに優れる観点から、アミド基で置換されているアリール基が好ましい。
Specific examples of X in formulas (II) and (III) include fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, and iodine atom. Among these, a chlorine atom or a bromine atom is preferable because of its excellent sensitivity, and a bromine atom is particularly preferable.
Further, in formulas (II) and (III), R 3 , R 4 and R 5 are each independently preferably an aryl group, and among them, from the viewpoint of an excellent balance between sensitivity and storage stability, amide Aryl groups substituted with groups are preferred.

上記電子受容型重合開始剤の中でも、式(IV)で表される化合物が特に好ましい。 Among the above electron-accepting polymerization initiators, the compound represented by formula (IV) is particularly preferred.

式(IV)において、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数1~20までの1価の炭化水素基を表す。p及びqは、それぞれ独立に、1から5までの整数を表す。ただし、p+q=2~6である。 In formula (IV), R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. p and q each independently represent an integer from 1 to 5. However, p+q=2 to 6.

上記式(II)~式(IV)のいずれかで表される電子受容型重合開始剤の具体例としては、下記式に示す化合物などが挙げられるが、本開示はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of the electron-accepting polymerization initiator represented by any of the above formulas (II) to (IV) include compounds shown in the following formulas, but the present disclosure is not limited thereto. do not have.

電子受容型重合開始剤の最低空軌道(LUMO)は、感度の向上及び版飛びを発生しにくくする観点から、-3.00eV以下であることが好ましく、-3.02eV以下であることがより好ましい。
また、下限としては、-3.80eV以上であることが好ましく、-3.50eV以上であることがより好ましい。
本開示において、最低空軌道(LUMO)及び後述の最高被占軌道(HOMO)の計算は、以下の方法により行う。
まず、計算対象となる化合物において、主構造でない対イオンを有する場合、上記対イオンは無視してもよい。
量子化学計算ソフトウェアGaussian09を用い、構造最適化はDFT(B3L
YP/6-31G(d))で行う。
MO(分子軌道)エネルギー計算は、上記構造最適化で得た構造でDFT(B3LYP/6-31+G(d,p)/CPCM(solvent=methanol))で行う。
上記MOエネルギー計算で得られたMOエネルギーEbare(単位:hartree)を以下の公式により、本開示においてHOMO及びLUMOの値として用いるEscaled(単位:eV)へ変換する。
Escaled=0.823168×27.2114×Ebare-1.07634
なお、27.2114は単にhartreeをeVに変換するための係数であり、0.823168と-1.07634とは調節係数であり、計算対象となる化合物のHOMOとLUMOとを計算が実測の値に合うように定める。
The lowest unoccupied molecular orbital (LUMO) of the electron-accepting polymerization initiator is preferably -3.00 eV or less, more preferably -3.02 eV or less, from the viewpoint of improving sensitivity and preventing plate skipping. preferable.
Further, the lower limit is preferably -3.80 eV or more, more preferably -3.50 eV or more.
In the present disclosure, calculation of the lowest unoccupied orbital (LUMO) and the later-described highest occupied orbital (HOMO) is performed by the following method.
First, if the compound to be calculated has a counter ion that is not the main structure, the counter ion may be ignored.
Structure optimization was performed using DFT (B3L) using quantum chemical calculation software Gaussian09.
YP/6-31G(d)).
MO (molecular orbital) energy calculation is performed using DFT (B3LYP/6-31+G(d,p)/CPCM (solvent=methanol)) using the structure obtained by the above structure optimization.
The MO energy Ebare (unit: hartree) obtained in the above MO energy calculation is converted into Escaled (unit: eV) used as the HOMO and LUMO values in this disclosure using the following formula.
Escaled=0.823168×27.2114×Ebare-1.07634
Note that 27.2114 is simply a coefficient for converting hartree into eV, and 0.823168 and -1.07634 are adjustment coefficients, and the HOMO and LUMO of the compound to be calculated are calculated based on the actual measured values. determined to suit.

電子受容型重合開始剤は、1種単独で用いてもよく、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。 The electron-accepting polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

電子受容型重合開始剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.1質量%~50質量%であることが好ましく、0.5質量%~30質量%であることがより好ましく、0.8質量%~20質量%であることが特に好ましい。 The content of the electron-accepting polymerization initiator is preferably 0.1% by mass to 50% by mass, more preferably 0.5% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the image recording layer. , 0.8% by mass to 20% by mass is particularly preferred.

[電子供与型重合開始剤(重合助剤)]
本開示における画像記録層は、重合開始剤として、電子供与型重合開始剤(重合助剤ともいう)を含むことが好ましい。
電子供与型重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起又は分子内移動した際に、赤外線吸収剤の一電子抜けた軌道に分子間電子移動で一電子を供与することにより、ラジカル等の重合開始種を発生する化合物である。
電子供与型重合開始剤としては、電子供与型ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
[Electron-donating polymerization initiator (polymerization aid)]
The image recording layer in the present disclosure preferably contains an electron-donating polymerization initiator (also referred to as a polymerization aid) as a polymerization initiator.
Electron-donating polymerization initiators generate radicals by donating one electron to the orbit of the infrared absorber from which one electron has been removed by intermolecular electron transfer when the electrons of the infrared absorber are excited or intramolecularly transferred by infrared exposure. It is a compound that generates polymerization initiating species such as
The electron donating type polymerization initiator is preferably an electron donating type radical polymerization initiator.

画像記録層は、耐刷性の観点から、電子供与型重合開始剤としてボレート化合物を含有することが好ましい。
ボレート化合物としては、耐刷性の観点から、テトラアリールボレート化合物、又は、モノアルキルトリアリールボレート化合物であることが好ましく、テトラアリールボレート化合物であることがより好ましい。
ボレート化合物が有する対カチオンとしては、特に制限はないが、アルカリ金属イオン、又は、テトラアルキルアンモニウムイオンであることが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又は、テトラブチルアンモニウムイオンであることがより好ましい。
また、ボレート化合物が有する対カチオンとしては、本開示に赤外線吸収剤として記載されているカチオン性のポリメチン色素であってもよい。例えば、シアニン色素の対カチオンとして上記ボレート化合物を用いてもよい。
The image recording layer preferably contains a borate compound as an electron-donating polymerization initiator from the viewpoint of printing durability.
From the viewpoint of printing durability, the borate compound is preferably a tetraarylborate compound or a monoalkyltriarylborate compound, and more preferably a tetraarylborate compound.
The counter cation possessed by the borate compound is not particularly limited, but is preferably an alkali metal ion or a tetraalkylammonium ion, more preferably a sodium ion, a potassium ion, or a tetrabutylammonium ion.
Further, the counter cation of the borate compound may be a cationic polymethine dye described as an infrared absorber in the present disclosure. For example, the above borate compound may be used as a counter cation of a cyanine dye.

ボレート化合物として具体的には、ナトリウムテトラフェニルボレートが好ましく挙げられる。 Preferred examples of the borate compound include sodium tetraphenylborate.

以下に電子供与型重合開始剤の好ましい具体例として、B-1~B-9を示すが、これらに限定されないことは、言うまでもない。また、下記化学式において、Phはフェニル基を表し、Buはn-ブチル基を表す。 Preferred specific examples of the electron-donating polymerization initiator are B-1 to B-9 below, but it goes without saying that the invention is not limited to these. Furthermore, in the chemical formula below, Ph represents a phenyl group, and Bu represents an n-butyl group.

また、電子供与型重合開始剤の最高被占軌道(HOMO)は、感度の向上及び版飛びを発生しにくくする観点から、-6.00eV以上であることが好ましく、-5.95eV以上であることがより好ましく、-5.93eV以上であることが更に好ましい。
また、上限としては、-5.00eV以下であることが好ましく、-5.40eV以下であることがより好ましい。
Further, the highest occupied molecular orbital (HOMO) of the electron-donating polymerization initiator is preferably -6.00 eV or more, and -5.95 eV or more, from the viewpoint of improving sensitivity and preventing plate skipping. More preferably, it is −5.93 eV or more.
Further, the upper limit is preferably −5.00 eV or less, more preferably −5.40 eV or less.

電子供与型重合開始剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 The electron-donating polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.

電子供与型重合開始剤の含有量としては、感度及び耐刷性の観点から、画像記録層の全質量に対し、0.01質量%~30質量%であることが好ましく、0.05質量%~25質量%であることがより好ましく、0.1質量%~20質量%であることが更に好ましい。 From the viewpoint of sensitivity and printing durability, the content of the electron-donating polymerization initiator is preferably 0.01% by mass to 30% by mass, and 0.05% by mass based on the total mass of the image recording layer. It is more preferably 25% by mass, and even more preferably 0.1% by mass to 20% by mass.

重合開始剤は、電子供与型重合開始剤と電子受容型重合開始剤とが対塩を形成している化合物であってもよい。
例えば、電子供与型重合開始剤におけるアニオンと電子受容型重合開始剤におけるカチオンとが対塩を形成してなる化合物であることが好ましく、オニウムカチオンとボレートアニオンとが対塩を形成してなる化合物であることがより好ましく、ヨードニウムカチオン又はスルホニウムカチオンとボレートアニオンとが対塩を形成してなる化合物であることが更に好ましく、ジアリールヨードニウムカチオン又はトリアリールスルホニウムカチオンとテトラアリールボレートアニオンとが対塩を形成してなる化合物であることが特に好ましい。
電子供与型重合開始剤におけるアニオン、及び、電子受容型重合開始剤におけるカチオンの好ましい態様としては、既述の電子供与型重合開始剤におけるアニオン及び既述の電子受容型重合開始剤におけるカチオンの好ましい態様と同様である。
画像記録層が、電子供与型重合開始剤であるアニオンと、電子受容型重合開始剤であるカチオンと、を含む場合(つまり、上記対塩を形成している化合物を含む場合)、画像記録層は電子受容型重合開始剤及び上記電子供与型重合開始剤を含むものとする。
また、電子供与型重合開始剤と電子受容型重合開始剤とが対塩を形成している化合物は、電子供与型重合開始剤として用いてもよいし、電子受容型重合開始剤として用いてもよい。
また、電子供与型重合開始剤と電子受容型重合開始剤とが対塩を形成してなる化合物は、既述の電子供与型重合開始剤と併用してもよいし、既述の電子受容型重合開始剤と併用してもよい。
The polymerization initiator may be a compound in which an electron-donating polymerization initiator and an electron-accepting polymerization initiator form a pair salt.
For example, a compound in which an anion in an electron-donating polymerization initiator and a cation in an electron-accepting polymerization initiator form a pair salt is preferable, and a compound in which an onium cation and a borate anion form a pair salt is preferable. More preferably, the compound is a compound formed by an iodonium cation or a sulfonium cation and a borate anion forming a pair salt, and a compound in which a diaryliodonium cation or a triarylsulfonium cation and a tetraarylborate anion form a pair salt is more preferable. Particularly preferred is a compound formed by forming
Preferred embodiments of the anion in the electron-donating polymerization initiator and the cation in the electron-accepting polymerization initiator are as follows: This is the same as the aspect.
When the image-recording layer contains an anion that is an electron-donating polymerization initiator and a cation that is an electron-accepting polymerization initiator (that is, when it contains a compound forming the above-mentioned counter salt), the image-recording layer shall include an electron-accepting polymerization initiator and the above-mentioned electron-donating polymerization initiator.
Furthermore, a compound in which an electron-donating polymerization initiator and an electron-accepting polymerization initiator form a pair salt may be used as an electron-donating polymerization initiator or as an electron-accepting polymerization initiator. good.
Further, a compound formed by forming a pair salt of an electron-donating polymerization initiator and an electron-accepting polymerization initiator may be used in combination with the electron-donating polymerization initiator described above, or may be used in combination with the electron-donating polymerization initiator described above. It may be used in combination with a polymerization initiator.

[赤外線吸収剤と電子供与型重合開始剤との好ましい態様]
本開示における画像記録層は、感度の向上及び耐刷性の観点から、赤外線吸収剤のHOMO-電子供与型重合開始剤のHOMOの値が、0.70eV以下であることが好ましく、0.70eV~-0.10eVであることがより好ましい。
なお、マイナスの値は、上記電子供与型重合開始剤のHOMOが、上記赤外線吸収剤のHOMOよりも高くなることを意味する。
[Preferred embodiment of infrared absorber and electron-donating polymerization initiator]
In the image recording layer according to the present disclosure, from the viewpoint of improving sensitivity and printing durability, the value of HOMO of the infrared absorber-HOMO of the electron-donating polymerization initiator is preferably 0.70 eV or less, and 0.70 eV More preferably, it is between -0.10 eV and -0.10 eV.
Note that a negative value means that the HOMO of the electron-donating polymerization initiator is higher than the HOMO of the infrared absorber.

[電子受容型重合開始剤及び赤外線吸収剤の好ましい態様]
本開示における画像記録層は、感度の向上及び耐刷性の観点から、電子受容型重合開始剤のLUMO-赤外線吸収剤のLUMOの値が、1.00eV以下であることが好ましく、0.80eV以下であることがより好ましく、0.70eV以下であることが更に好ましく、0.70eV~-0.10eV以下であることが特に好ましく、0.70eV~0.30eVであることが最も好ましい。
なお、マイナスの値は、上記赤外線吸収剤のLUMOが、上記電子受容型重合開始剤の
LUMOよりも高くなることを意味する。
[Preferred embodiments of electron-accepting polymerization initiator and infrared absorber]
In the image recording layer according to the present disclosure, from the viewpoint of improving sensitivity and printing durability, the value of LUMO of the electron-accepting polymerization initiator-LUMO of the infrared absorber is preferably 1.00 eV or less, and 0.80 eV. It is more preferably at most 0.70 eV, even more preferably at most 0.70 eV, particularly preferably from 0.70 eV to -0.10 eV, and most preferably from 0.70 eV to 0.30 eV.
Note that a negative value means that the LUMO of the infrared absorber is higher than the LUMO of the electron-accepting polymerization initiator.

〔赤外線吸収剤〕
本開示における画像記録層は赤外線吸収剤を含む。
赤外線吸収剤としては、特に制限はなく、例えば、顔料及び染料が挙げられる。
赤外線吸収剤として用いられる染料としては、市販の染料及び例えば、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
[Infrared absorber]
The image recording layer in the present disclosure includes an infrared absorber.
The infrared absorber is not particularly limited, and examples thereof include pigments and dyes.
As the dye used as the infrared absorber, commercially available dyes and known dyes described in literature such as "Dye Handbook" (edited by the Organic Synthetic Chemistry Association, published in 1972) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complexes. can be mentioned.

これらの染料のうち好ましいものとしては、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。より好ましくは、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が挙げられる。中でも、シアニン色素が特に好ましい。 Preferred among these dyes include cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. More preferred are cyanine dyes and indolenine cyanine dyes. Among these, cyanine dyes are particularly preferred.

上記赤外線吸収剤としては、メソ位に酸素原子、窒素原子、又はハロゲン原子を有するカチオン性のポリメチン色素であることが好ましい。カチオン性のポリメチン色素としては、シアニン色素、ピリリウム色素、チオピリリウム色素、アズレニウム色素等が好ましく挙げられ、入手の容易性、導入反応時の溶剤溶解性等の観点から、シアニン色素であることが好ましい。 The infrared absorber is preferably a cationic polymethine dye having an oxygen atom, nitrogen atom, or halogen atom at the meso position. Preferred examples of the cationic polymethine dye include cyanine dyes, pyrylium dyes, thiopyrylium dyes, azulenium dyes, etc., and cyanine dyes are preferred from the viewpoints of ease of availability, solvent solubility during introduction reaction, and the like.

シアニン色素の具体例としては、特開2001-133969号公報の段落0017~0019に記載の化合物、特開2002-023360号公報の段落0016~0021、特開2002-040638号公報の段落0012~0037に記載の化合物、好ましくは特開2002-278057号公報の段落0034~0041、特開2008-195018号公報の段落0080~0086に記載の化合物、特に好ましくは特開2007-90850号公報の段落0035~0043に記載の化合物、特開2012-206495号公報の段落0105~0113に記載の化合物が挙げられる。
また、特開平5-5005号公報の段落0008~0009、特開2001-222101号公報の段落0022~0025に記載の化合物も好ましく使用することができる。 顔料としては、特開2008-195018号公報の段落0072~0076に記載の化合物が好ましい。
Specific examples of cyanine dyes include compounds described in paragraphs 0017 to 0019 of JP 2001-133969, paragraphs 0016 to 0021 of JP 2002-023360, and paragraphs 0012 to 0037 of JP 2002-040638. Compounds described in JP-A-2002-278057, preferably paragraphs 0034-0041, JP-A-2008-195018, paragraphs 0080-0086, particularly preferably paragraph 0035 of JP-A-2007-90850 -0043, and compounds described in paragraphs 0105 to 0113 of JP-A No. 2012-206495.
Further, compounds described in paragraphs 0008 to 0009 of JP-A-5-5005 and paragraphs 0022-0025 of JP-A-2001-222101 can also be preferably used. As the pigment, compounds described in paragraphs 0072 to 0076 of JP-A-2008-195018 are preferred.

また、上記赤外線吸収剤としては、赤外線露光により分解する赤外線吸収剤も好適に用いることができる。
赤外線露光により分解する赤外線吸収剤としては、特表2008-544322号公報、国際公開第2016/027886号、国際公開第2017/141882号、又は国際公開第2018/043259号に記載のものを好適に用いることができる。
また、赤外線露光により分解する赤外線吸収剤としては、後述の、最外層に用いられる分解性化合物を用いてもよい。
Moreover, as the above-mentioned infrared absorber, an infrared absorber that decomposes upon exposure to infrared light can also be suitably used.
As infrared absorbers that decompose by infrared exposure, those described in Japanese Patent Publication No. 2008-544322, International Publication No. 2016/027886, International Publication No. 2017/141882, or International Publication No. 2018/043259 are preferably used. Can be used.
Furthermore, as the infrared absorber that decomposes upon exposure to infrared rays, a decomposable compound used in the outermost layer, which will be described later, may be used.

赤外線吸収剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
また、赤外線吸収剤として顔料と染料とを併用してもよい。
Only one type of infrared absorber may be used, or two or more types may be used in combination.
Further, a pigment and a dye may be used together as an infrared absorber.

赤外線吸収剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.1質量%~10.0質量%
が好ましく、0.5質量%~5.0質量%がより好ましい。
The content of the infrared absorber is 0.1% by mass to 10.0% by mass based on the total mass of the image recording layer.
is preferred, and 0.5% by mass to 5.0% by mass is more preferred.

〔粒子〕
本開示における画像記録層は、現像性、及び、UV耐刷性の観点から、粒子を含むことが好ましい。粒子としては、無機粒子であってもよいし、有機粒子であってもよい。
中でも、粒子として、有機粒子を含むことが好ましく、ポリマー粒子を含むことがより好ましい。
即ち、本開示における画像記録層は、ポリマー粒子を含むことが好ましい。
無機粒子としては、公知の無機粒子を用いることができ、シリカ粒子、チタニア粒子等
の金属酸化物粒子を好適に用いることができる。
〔particle〕
The image recording layer in the present disclosure preferably contains particles from the viewpoint of developability and UV printing durability. The particles may be inorganic particles or organic particles.
Among these, the particles preferably include organic particles, and more preferably include polymer particles.
That is, the image recording layer in the present disclosure preferably contains polymer particles.
As the inorganic particles, known inorganic particles can be used, and metal oxide particles such as silica particles and titania particles can be suitably used.

[ポリマー粒子]
ポリマー粒子としては、例えば、付加重合型樹脂を含む粒子(即ち、付加重合型ポリマー粒子)、重付加型樹脂を含む粒子(即ち、重付加型ポリマー粒子)、重縮合型樹脂を含む粒子(即ち、重縮合型ポリマー粒子)等が挙げられるが、中でも、付加重合型ポリマー粒子、又は重付加型ポリマー粒子が好ましい。
また、ポリマー粒子としては、熱融着が可能となる観点から、熱可塑性樹脂を含む粒子(即ち、熱可塑性ポリマー粒子)であってもよい。
[Polymer particles]
Examples of the polymer particles include particles containing an addition polymerization type resin (i.e., addition polymer particles), particles containing a polyaddition type resin (i.e., polyaddition type polymer particles), and particles containing a polycondensation type resin (i.e., particles containing a polycondensation type resin). , polycondensation type polymer particles), among others, addition polymerization type polymer particles or polyaddition type polymer particles are preferable.
Further, the polymer particles may be particles containing a thermoplastic resin (ie, thermoplastic polymer particles) from the viewpoint of thermal fusion.

また、ポリマー粒子は、マイクロカプセル、ミクロゲル(即ち、架橋ポリマー粒子)等の形態であってもよい。 Further, the polymer particles may be in the form of microcapsules, microgels (ie, crosslinked polymer particles), or the like.

ポリマー粒子としては、熱可塑性ポリマー粒子、熱反応性ポリマー粒子、重合性基を有するポリマー粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及び、ミクロゲル(架橋ポリマー粒子)からなる群より選ばれることが好ましい。中でも、重合性基を有するポリマー粒子が好ましい。
特に好ましい実施形態では、ポリマー粒子は少なくとも1つのエチレン性不飽和基を含む。このようなポリマー粒子の存在により、露光部の耐刷性及び未露光部の機上現像性を高める効果が得られる。
The polymer particles are selected from the group consisting of thermoplastic polymer particles, heat-reactive polymer particles, polymer particles having a polymerizable group, microcapsules encapsulating a hydrophobic compound, and microgels (crosslinked polymer particles). is preferred. Among these, polymer particles having a polymerizable group are preferred.
In particularly preferred embodiments, the polymer particles contain at least one ethylenically unsaturated group. The presence of such polymer particles has the effect of increasing the printing durability of exposed areas and the on-press developability of unexposed areas.

熱可塑性ポリマー粒子としては、1992年1月のResearch Disclosure No.33303、特開平9-123387号公報、同9-131850号公報、同9-171249号公報、同9-171250号公報及び欧州特許第931647号明細書などに記載の熱可塑性ポリマー粒子が好ましい。 As thermoplastic polymer particles, Research Disclosure No. 1, January 1992 is used. Thermoplastic polymer particles described in JP-A-9-123387, JP-A-9-123387, JP-A-9-131850, JP-A-9-171249, JP-A-9-171250, and European Patent No. 931,647 are preferred.

熱可塑性ポリマー粒子を構成する樹脂の具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。 Specific examples of resins constituting thermoplastic polymer particles include ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, vinylcarbazole, and those having a polyalkylene structure. Mention may be made of homopolymers or copolymers of monomers such as acrylates or methacrylates or mixtures thereof.

熱可塑性ポリマー粒子としては、インキ着肉性及びUV耐刷性の観点から、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位、及び、ニトリル基を有する構成単位を有する樹脂を含むことが好ましい。 From the viewpoint of ink receptivity and UV printing durability, the thermoplastic polymer particles preferably contain a resin having a constitutional unit formed from an aromatic vinyl compound and a constitutional unit having a nitrile group.

上記芳香族ビニル化合物としては、芳香環にビニル基が結合した構造を有する化合物であればよいが、スチレン化合物、ビニルナフタレン化合物等が挙げられ、スチレン化合物が好ましく、スチレンがより好ましい。
スチレン化合物としては、スチレン、p-メチルスチレン、p-メトキシスチレン、β-メチルスチレン、p-メチル-β-メチルスチレン、α-メチルスチレン、及びp-メトキシ-β-メチルスチレン等が挙げられる。
The aromatic vinyl compound may be any compound having a structure in which a vinyl group is bonded to an aromatic ring, and examples thereof include styrene compounds, vinylnaphthalene compounds, etc., with styrene compounds being preferred and styrene being more preferred.
Examples of the styrene compound include styrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, β-methylstyrene, p-methyl-β-methylstyrene, α-methylstyrene, and p-methoxy-β-methylstyrene.

芳香族ビニル化合物により形成される構成単位の含有量は、インキ着肉性の観点から、後述するニトリル基を有する構成単位の含有量よりも多いことが好ましく、熱可塑性樹脂の全質量に対し、15質量%~85質量%であることがより好ましく、30質量%~70質量%であることが更に好ましい。 From the viewpoint of ink receptivity, the content of the structural unit formed by the aromatic vinyl compound is preferably higher than the content of the structural unit having a nitrile group, which will be described later, based on the total mass of the thermoplastic resin. It is more preferably 15% by mass to 85% by mass, and even more preferably 30% by mass to 70% by mass.

ニトリル基を有する構成単位は、ニトリル基を有するモノマーを用いて導入されることが好ましい。
ニトリル基を有するモノマーとしては、アクリロニトリル化合物が挙げられ、(メタ)アクリロニトリルが好適に挙げられる。
ニトリル基を有する構成単位としては、(メタ)アクリロニトリルにより形成される構成単位が好ましい。
The structural unit having a nitrile group is preferably introduced using a monomer having a nitrile group.
Examples of the monomer having a nitrile group include acrylonitrile compounds, and (meth)acrylonitrile is preferably mentioned.
As the structural unit having a nitrile group, a structural unit formed from (meth)acrylonitrile is preferable.

ニトリル基を有する構成単位の含有量は、インキ着肉性の観点から、上記芳香族ビニル化合物により形成されるよりも少ないことが好ましく、樹脂の全質量に対し、55質量%~90質量%であることがより好ましく、60質量%~85質量%であることがより好ましい。 From the viewpoint of ink receptivity, the content of the structural unit having a nitrile group is preferably lower than that formed by the aromatic vinyl compound, and is 55% to 90% by mass based on the total mass of the resin. It is more preferable that the amount is 60% by mass to 85% by mass.

また、熱可塑性ポリマー粒子に含まれる樹脂が芳香族ビニル化合物により形成される構成単位及びニトリル基を有する構成単位を含む場合、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位及びニトリル基を有する構成単位の含有量比(芳香族ビニル化合物により形成される構成単位:ニトリル基を有する構成単位)としては、質量基準で5:5~9:1であることが好ましく、より好ましくは、6:4~8:2である。 In addition, when the resin contained in the thermoplastic polymer particles contains a structural unit formed by an aromatic vinyl compound and a structural unit having a nitrile group, the structural unit formed by an aromatic vinyl compound and a structural unit having a nitrile group are The content ratio (constituent units formed by an aromatic vinyl compound: constituent units having a nitrile group) is preferably 5:5 to 9:1, more preferably 6:4 to 8 on a mass basis. :2.

熱可塑性ポリマー粒子に含まれる樹脂は、UV耐刷性及び耐薬品性の観点から、N-ビニル複素環化合物により形成される構成単位を更に有することが好ましい。
N-ビニル複素環化合物としては、例えば、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカルバゾール、N-ビニルピロール、N-ビニルフェノチアジン、N-ビニルコハク酸イミド、N-ビニルフタルイミド、N-ビニルカプロラクタム、及びN-ビニルイミダゾールが挙げられ、N-ビニルピロリドンが好ましい。
The resin contained in the thermoplastic polymer particles preferably further includes a structural unit formed from an N-vinyl heterocyclic compound from the viewpoint of UV printing durability and chemical resistance.
Examples of N-vinyl heterocyclic compounds include N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, N-vinylpyrrole, N-vinylphenothiazine, N-vinylsuccinimide, N-vinylphthalimide, N-vinylcaprolactam, and N- Vinylimidazole is mentioned, and N-vinylpyrrolidone is preferred.

N-ビニル複素環化合物により形成される構成単位の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対し、5質量%~50質量%であることが好ましく、10質量%~40質量%であることがより好ましい。 The content of the structural unit formed by the N-vinyl heterocyclic compound is preferably 5% by mass to 50% by mass, and preferably 10% by mass to 40% by mass, based on the total mass of the thermoplastic resin. More preferred.

熱可塑性ポリマー粒子に含まれる樹脂は、酸性基を有する構成単位を含有してもよいが、機上現像性及びインキ着肉性の観点からは、酸性基を有する構成単位を含有しないことが好ましい。
具体的には、熱可塑性樹脂における酸性基を有する構成単位の含有量は、20質量%以下であることが好ましく、10質量%以下であることがより好ましく、5質量%以下であることが更に好ましい。上記含有量の下限は特に限定されず、0質量%であってもよい。 また、熱可塑性樹脂の酸価は、160mgKOH/g以下であることが好ましく、80mgKOH/g以下であることがより好ましく、40mgKOH/g以下であることが更に好ましい。上記酸価の下限は特に限定されず、0mgKOH/gであってもよい。
本開示において、酸価はJIS K0070:1992に準拠した測定法により求められる。
The resin contained in the thermoplastic polymer particles may contain a structural unit having an acidic group, but from the viewpoint of on-press developability and ink receptivity, it is preferable not to contain a structural unit having an acidic group. .
Specifically, the content of the structural unit having an acidic group in the thermoplastic resin is preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and even more preferably 5% by mass or less. preferable. The lower limit of the content is not particularly limited, and may be 0% by mass. Further, the acid value of the thermoplastic resin is preferably 160 mgKOH/g or less, more preferably 80 mgKOH/g or less, and even more preferably 40 mgKOH/g or less. The lower limit of the acid value is not particularly limited, and may be 0 mgKOH/g.
In the present disclosure, the acid value is determined by a measurement method based on JIS K0070:1992.

熱可塑性ポリマー粒子に含まれる樹脂は、インキ着肉性の観点から、疎水性基を含む構成単位を含有してもよい。
上記疎水性基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。
疎水性基を含む構成単位としては、アルキル(メタ)アクリレート化合物、アリール(メタ)アクリレート化合物、又は、アラルキル(メタ)アクリレート化合物により形成される構成単位が好ましく、アルキル(メタ)アクリレート化合物により形成される構成単位がより好ましい。
The resin contained in the thermoplastic polymer particles may contain a structural unit containing a hydrophobic group from the viewpoint of ink receptivity.
Examples of the hydrophobic group include an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, and the like.
The structural unit containing a hydrophobic group is preferably a structural unit formed from an alkyl (meth)acrylate compound, an aryl (meth)acrylate compound, or an aralkyl (meth)acrylate compound; More preferred are structural units.

熱可塑性ポリマー粒子に含まれる樹脂における、疎水性基を有する構成単位の含有量は、樹脂の全質量に対し、5質量%~50質量%であることが好ましく、10質量%~30質量%であることがより好ましい。 The content of the structural unit having a hydrophobic group in the resin contained in the thermoplastic polymer particles is preferably 5% to 50% by mass, and preferably 10% to 30% by mass, based on the total mass of the resin. It is more preferable that there be.

熱可塑性ポリマー粒子に含まれる熱可塑性樹脂は、UV耐刷性及び機上現像性の観点から、親水性基を有することが好ましい。
親水性基としては、親水性を有する構造であれば、特に制限はないが、カルボキシ基等の酸基、ヒドロキシ基、アミノ基、ニトリル基、ポリアルキレンオキシド構造等が挙げられる。
上記親水性基としては、UV耐刷性及び機上現像性の観点から、ポリアルキレンオキシド構造を有する基、ポリエステル構造を有する基、又は、スルホン酸基であることが好ましく、ポリアルキレンオキシド構造を有する基、又は、スルホン酸基であることがより好ましく、ポリアルキレンオキシド構造を有する基であることが更に好ましい。
The thermoplastic resin contained in the thermoplastic polymer particles preferably has a hydrophilic group from the viewpoint of UV printing durability and on-press developability.
The hydrophilic group is not particularly limited as long as it has a hydrophilic structure, but examples thereof include acid groups such as carboxy groups, hydroxy groups, amino groups, nitrile groups, polyalkylene oxide structures, and the like.
The above-mentioned hydrophilic group is preferably a group having a polyalkylene oxide structure, a group having a polyester structure, or a sulfonic acid group from the viewpoint of UV printing durability and on-press developability. or a sulfonic acid group, and even more preferably a group having a polyalkylene oxide structure.

上記ポリアルキレンオキシド構造としては、機上現像性の観点から、ポリエチレンオキシド構造、ポリプロピレンオキシド構造、又は、ポリ(エチレンオキシド/プロピレンオキシド)構造であることが好ましい。
また、機上現像性の観点からは、上記親水性基の中でもポリアルキレンオキシド構造として、ポリプロピレンオキシド構造を有することが好ましく、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有することがより好ましい。
上記ポリアルキレンオキシド構造におけるアルキレンオキシド構造の数は、機上現像性の観点から、2以上であることが好ましく、5以上であることがより好ましく、5~200であることが更に好ましく、8~150であることが特に好ましい。
The polyalkylene oxide structure is preferably a polyethylene oxide structure, a polypropylene oxide structure, or a poly(ethylene oxide/propylene oxide) structure from the viewpoint of on-press developability.
Furthermore, from the viewpoint of on-press developability, among the above-mentioned hydrophilic groups, it is preferable to have a polypropylene oxide structure as the polyalkylene oxide structure, and it is more preferable to have a polyethylene oxide structure and a polypropylene oxide structure.
From the viewpoint of on-press developability, the number of alkylene oxide structures in the polyalkylene oxide structure is preferably 2 or more, more preferably 5 or more, even more preferably 5 to 200, and 8 to 150 is particularly preferred.

また、機上現像性の観点からは、上記親水性基として、後述する式Zで表される基が好ましい。 Further, from the viewpoint of on-press developability, the hydrophilic group is preferably a group represented by the formula Z described below.

更に、熱可塑性樹脂が有する親水性基の中でも、下記式POにより表される基が好ましい。 Furthermore, among the hydrophilic groups possessed by the thermoplastic resin, a group represented by the following formula PO is preferable.

式PO中、Lはそれぞれ独立に、アルキレン基を表し、Rは水素原子又はアルキル基を表し、nは1~100の整数を表す。
式PO中、Lはそれぞれ独立に、エチレン基、1-メチルエチレン基、又は2-メチルエチレン基であることが好ましく、エチレン基であることがより好ましい。
式PO中、Rは水素原子又は炭素数1~18のアルキル基であることが好ましく、水素原子又は炭素数1~10のアルキル基であることがより好ましく、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基であることが更に好ましく、水素原子又はメチル基であることが特に好ましい。
式PO中、nは1~10の整数が好ましく、1~4の整数がより好ましい。
In the formula PO, L P each independently represents an alkylene group, R P represents a hydrogen atom or an alkyl group, and n represents an integer from 1 to 100.
In the formula PO, L P is each independently preferably an ethylene group, a 1-methylethylene group, or a 2-methylethylene group, and more preferably an ethylene group.
In the formula PO, R P is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R P is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. It is more preferably an alkyl group, and particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.
In the formula PO, n is preferably an integer of 1 to 10, more preferably an integer of 1 to 4.

親水性基を有する構成単位の含有量は、樹脂の全質量に対し、5質量%~60質量%であることが好ましく、10質量%~30質量%であることがより好ましい。 The content of the structural unit having a hydrophilic group is preferably 5% by mass to 60% by mass, more preferably 10% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the resin.

熱可塑性ポリマー粒子に含まれる樹脂は、その他の構成単位を更に含有してもよい。
その他の構成単位としては、上述の各構成単位以外の構成単位を特に限定なく含有することができ、例えば、アクリルアミド化合物、ビニルエーテル化合物等により形成される構成単位が挙げられる。
The resin contained in the thermoplastic polymer particles may further contain other structural units.
Other structural units may contain structural units other than the above-mentioned structural units without particular limitation, and include, for example, structural units formed from acrylamide compounds, vinyl ether compounds, and the like.

熱可塑性樹脂における、その他の構成単位の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対し、5質量%~50質量%であることが好ましく、10質量%~30質量%であることがより好ましい。 The content of other structural units in the thermoplastic resin is preferably 5% by mass to 50% by mass, more preferably 10% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the thermoplastic resin.

熱反応性ポリマー粒子としては、熱反応性基を有するポリマー粒子が挙げられる。
熱反応性樹脂粒子は熱反応による架橋及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。
Examples of the heat-reactive polymer particles include polymer particles having a heat-reactive group.
The heat-reactive resin particles form hydrophobized regions by crosslinking due to thermal reaction and functional group change at that time.

熱反応性基を有するポリマー粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、重合性基であることが好ましく、その例として、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など)、カチオン重合性基(例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など)、付加反応を行うイソシアナト基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など)、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などが好ましく挙げられる。
上記熱反応性基を有する樹脂としては、付加重合型樹脂、重付加型樹脂、又は重縮合型樹脂であってもよいし、熱可塑性樹脂であってもよい。
The thermally reactive group in the polymer particle having a thermally reactive group may be any functional group that performs any reaction as long as a chemical bond is formed, but it is preferably a polymerizable group, and examples thereof include: Ethylenically unsaturated groups that undergo radical polymerization reactions (e.g., acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group, etc.), cationically polymerizable groups (e.g., vinyl group, vinyloxy group, epoxy group, oxetanyl group, etc.), addition reaction isocyanato groups or blocks thereof, epoxy groups, vinyloxy groups, functional groups having active hydrogen atoms that are reaction partners of these groups (e.g., amino groups, hydroxy groups, carboxy groups, etc.), carboxy groups that perform condensation reactions, and reaction Preferred examples include a hydroxy group or amino group as a partner, an acid anhydride that performs a ring-opening addition reaction, and an amino group or hydroxy group as a reaction partner.
The resin having a heat-reactive group may be an addition polymerization type resin, a polyaddition type resin, a polycondensation type resin, or a thermoplastic resin.

マイクロカプセルとしては、例えば、特開2001-277740号公報、特開2001-277742号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の少なくとも一部(好ましくは疎水性化合物)を内包したものが好ましい。ポリマー粒子としてマイクロカプセルを含有する画像記録層は、画像記録層の構成成分のうち疎水性成分(即ち、疎水性化合物)をマイクロカプセルに内包し、親水性成分(即ち、親水性化合物)をマイクロカプセル外に含有する構成が好ましい態様である。
画像記録層の構成成分を含むマイクロカプセルを得るためには、公知の合成法が適用できる。
Preferably, the microcapsules are those that encapsulate at least a portion of the constituent components of the image recording layer (preferably a hydrophobic compound), as described in, for example, JP-A No. 2001-277740 and JP-A No. 2001-277742. . In an image recording layer containing microcapsules as polymer particles, hydrophobic components (i.e., hydrophobic compounds) among the constituent components of the image recording layer are encapsulated in microcapsules, and hydrophilic components (i.e., hydrophilic compounds) are encapsulated in microcapsules. A configuration in which it is contained outside the capsule is a preferred embodiment.
In order to obtain microcapsules containing the constituent components of the image recording layer, known synthesis methods can be applied.

ミクロゲル(架橋ポリマー粒子)は、その表面又は内部の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、重合性基をその表面に有する反応性ミクロゲルは、平版印刷版原版の感度、及び、得られる平版印刷版の耐刷性の観点から好ましい。
画像記録層の構成成分を含むミクロゲルを得るためには、公知の合成法が適用できる。
The microgel (crosslinked polymer particles) can contain a part of the constituent components of the image recording layer on at least one of its surface or inside. In particular, a reactive microgel having a polymerizable group on its surface is preferable from the viewpoint of the sensitivity of the lithographic printing plate precursor and the printing durability of the resulting lithographic printing plate.
In order to obtain a microgel containing the constituent components of the image recording layer, known synthesis methods can be applied.

ポリマー粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性、耐汚れ性及び保存安定性の観点から、分子中に2個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られる重付加型ポリマー粒子が好ましい。
上記多価フェノール化合物としては、フェノール性ヒドロキシ基を有するベンゼン環を複数有している化合物が好ましい。
上記活性水素を有する化合物としては、ポリオール化合物、又は、ポリアミン化合物が好ましく、ポリオール化合物がより好ましく、プロピレングリコール、グリセリン及びトリメチロールプロパンからなる群より選ばれた少なくとも1種の化合物が更に好ましい。
また、上記活性水素を有する化合物としては、水を用いてもよい。水を用いた場合、上記多価イソシアネート化合物のイソシアネート基と水との反応によって生じたアミンがウレア結合を形成し、粒子を形成することができる。
分子中に2個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られる樹脂の粒子としては、国際公開第2018/043259号の段落0230~0234に記載の調製法にて得られたミクロゲルが好ましく挙げられる。
The polymer particles are adducts of isophorone diisocyanate and polyhydric phenol compounds having two or more hydroxyl groups in the molecule, from the viewpoint of printing durability, stain resistance, and storage stability of the resulting lithographic printing plate. Polyaddition type polymer particles obtained by the reaction of a polyvalent isocyanate compound and a compound having active hydrogen are preferred.
As the polyhydric phenol compound, a compound having a plurality of benzene rings having a phenolic hydroxy group is preferable.
The compound having active hydrogen is preferably a polyol compound or a polyamine compound, more preferably a polyol compound, and still more preferably at least one compound selected from the group consisting of propylene glycol, glycerin, and trimethylolpropane.
Furthermore, water may be used as the compound having active hydrogen. When water is used, the amine produced by the reaction between the isocyanate group of the polyvalent isocyanate compound and water forms a urea bond, and particles can be formed.
As for resin particles obtained by the reaction of a polyhydric isocyanate compound which is an adduct of a polyhydric phenol compound having two or more hydroxyl groups in the molecule and isophorone diisocyanate, and a compound having active hydrogen, International Publication No. Preferred examples include microgels obtained by the preparation method described in paragraphs 0230 to 0234 of No. 2018/043259.

更に、ポリマー粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性及び耐溶剤性の観点から、疎水性主鎖を有し、i)上記疎水性主鎖に直接的に結合されたニトリル基を有する構成ユニット、及び、ii)親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含む付加重合型ポリマー粒子が好ましい。
このような付加重合型ポリマー粒子として具体的には、特開2019-64269号公報の段落0156に記載の粒子が好ましい。
Furthermore, from the viewpoint of printing durability and solvent resistance of the resulting lithographic printing plate, the polymer particles have a hydrophobic main chain, and i) have a nitrile group directly bonded to the hydrophobic main chain. Addition polymer particles containing both a structural unit and ii) a structural unit having a pendant group containing a hydrophilic polyalkylene oxide segment are preferred.
Specifically, as such addition polymer particles, particles described in paragraph 0156 of JP-A No. 2019-64269 are preferable.

(式Zで表される基)
本開示におけるポリマー粒子は、親水性基として、下記式Zで表される基を有することが好ましい。
特に、本開示におけるポリマー粒子は、下記式Zで表される基を含む親水性基を有する付加重合型ポリマー粒子であることが好ましい。
式Z : *-Q-W-Y
式Z中、Qは二価の連結基を表し、Wは親水性構造を有する二価の基又は疎水性構造を有する二価の基を表し、Yは親水性構造を有する一価の基又は疎水性構造を有する一価の基を表し、W及びYのいずれかは親水性構造を有し、*は他の構造との結合部位を表す。
また、式Z中に含まれる親水性構造のいずれかが、ポリアルキレンオキシド構造を含むことが好ましい。
(Group represented by formula Z)
The polymer particles in the present disclosure preferably have a group represented by the following formula Z as a hydrophilic group.
In particular, the polymer particles in the present disclosure are preferably addition polymer particles having a hydrophilic group containing a group represented by the following formula Z.
Formula Z: *-Q-W-Y
In formula Z, Q represents a divalent linking group, W represents a divalent group having a hydrophilic structure or a divalent group having a hydrophobic structure, and Y represents a monovalent group having a hydrophilic structure or It represents a monovalent group having a hydrophobic structure, either W or Y has a hydrophilic structure, and * represents a bonding site with another structure.
Moreover, it is preferable that any of the hydrophilic structures included in formula Z include a polyalkylene oxide structure.

上記式ZにおけるQは、炭素数1~20の二価の連結基であることが好ましく、炭素数1~10の二価の連結基であることがより好ましい。
また、上記式ZにおけるQは、アルキレン基、アリーレン基、エステル結合、アミド結合、又はこれらを2以上組み合わせた基であることが好ましく、フェニレン基、エステル結合、又はアミド結合であることがより好ましい。
Q in the above formula Z is preferably a divalent linking group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably a divalent linking group having 1 to 10 carbon atoms.
Further, Q in the above formula Z is preferably an alkylene group, an arylene group, an ester bond, an amide bond, or a group combining two or more of these, and more preferably a phenylene group, an ester bond, or an amide bond. .

上記式ZのWにおける親水性構造を有する二価の基は、ポリアルキレンオキシド構造を含む基であることが好ましく、ポリアルキレンオキシ基、又は、ポリアルキレンオキシ基の一方の末端に-CHCHNR-が結合した基であることが好ましい。なお、Rは、水素原子又はアルキル基を表し、以降のRも同様である。
上記式ZのWにおける疎水性構造を有する二価の基は、-RWA-、-O-RWA-O-、-RN-RWA-NR-、-OC(=O)-RWA-O-、又は、-OC(=O)-RWA-O-であることが好ましい。なお、RWAは、それぞれ独立に、炭素数6~120の直鎖、分岐若しくは環状アルキレン基、炭素数6~120のハロアルキレン基、炭素数6~120のアリーレン基、炭素数6~120のアルカーリレン基(アルキルアリール基から水素原子を1つ除いた二価の基)、又は、炭素数6~120のアラルキレン基を表す。
The divalent group having a hydrophilic structure in W in the above formula Z is preferably a group containing a polyalkylene oxide structure, and -CH 2 CH A group to which 2 NR W - is bonded is preferable. Note that R W represents a hydrogen atom or an alkyl group, and the same applies to R W below.
The divalent group having a hydrophobic structure in W in the above formula Z is -R WA -, -OR WA -O-, -R W NR WA -NR W -, -OC(=O)- R WA -O- or -OC(=O)-R WA -O- is preferable. Note that R WA each independently represents a straight chain, branched or cyclic alkylene group having 6 to 120 carbon atoms, a haloalkylene group having 6 to 120 carbon atoms, an arylene group having 6 to 120 carbon atoms, and a C 6 to 120 arylene group. Represents an alkarylene group (a divalent group obtained by removing one hydrogen atom from an alkylaryl group) or an aralkylene group having 6 to 120 carbon atoms.

上記式ZのYにおける親水性構造を有する一価の基は、-OH、-C(=O)OH、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基、又は、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基の他方の末端に-CHCHN(R)-が結合した基であることが好ましい。中でも、親水性構造を有する一価の基としては、ポリアルキレンオキシド構造を含む基であることが好ましく、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基、又は、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基の他方の末端に-CHCHN(R)-が結合した基が好ましい。
上記式ZのYにおける疎水性構造を有する一価の基は、炭素数6~120の直鎖、分岐若しくは環状アルキル基、炭素数6~120のハロアルキル基、炭素数6~120のアリール基、炭素数6~120のアルカーリル基(アルキルアリール基)、炭素数6~120のアラルキル基、-ORWB、-C(=O)ORWB、又は、-OC(=O)RWBであることが好ましい。RWBは、炭素数6~20を有するアルキル基を表す。
The monovalent group having a hydrophilic structure in Y of the above formula Z is -OH, -C(=O)OH, a polyalkyleneoxy group whose terminal is a hydrogen atom or an alkyl group, or a polyalkyleneoxy group whose terminal is a hydrogen atom or an alkyl group. It is preferably a group in which -CH 2 CH 2 N(R W )- is bonded to the other end of the polyalkyleneoxy group. Among these, the monovalent group having a hydrophilic structure is preferably a group containing a polyalkylene oxide structure, such as a polyalkyleneoxy group whose terminal is a hydrogen atom or an alkyl group, or a polyalkyleneoxy group whose terminal is a hydrogen atom or an alkyl group. A group in which -CH 2 CH 2 N(R W )- is bonded to the other end of a polyalkyleneoxy group is preferred.
The monovalent group having a hydrophobic structure in Y of the above formula Z is a straight chain, branched or cyclic alkyl group having 6 to 120 carbon atoms, a haloalkyl group having 6 to 120 carbon atoms, an aryl group having 6 to 120 carbon atoms, It can be an alkaryl group (alkylaryl group) having 6 to 120 carbon atoms, an aralkyl group having 6 to 120 carbon atoms, -OR WB , -C(=O)OR WB , or -OC(=O)R WB preferable. R WB represents an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms.

上記式Zで表される基を有するポリマー粒子は、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、Wが親水性構造を有する二価の基であることがより好ましく、Qがフェニレン基、エステル結合、又はアミド結合であり、Wは、ポリアルキレンオキシ基であり、Yが、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基であることがより好ましい。
なお、式Zで表される基は、ポリマー粒子の分散性を高める分散性基として機能してもよい。
In the polymer particles having a group represented by the above formula Z, from the viewpoint of printing durability, ink receptivity, and on-press developability, it is more preferable that W is a divalent group having a hydrophilic structure, It is more preferable that Q is a phenylene group, ester bond, or amide bond, W is a polyalkyleneoxy group, and Y is a polyalkyleneoxy group whose terminal is a hydrogen atom or an alkyl group.
Note that the group represented by formula Z may function as a dispersing group that improves the dispersibility of the polymer particles.

本開示におけるポリマー粒子は、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、重合性基(好ましくはエチレン性不飽和基)を有することが好ましく、特に、表面に重合性基を有することがより好ましい。重合性基を有するポリマー粒子を用いることで、版飛び(好ましくはUV版飛び)を抑制しやすくなり、耐刷性(好ましくはUV耐刷性)も高められる。 The polymer particles in the present disclosure preferably have a polymerizable group (preferably an ethylenically unsaturated group) from the viewpoint of printing durability and on-press developability, and in particular, it is preferable that the polymer particles have a polymerizable group on the surface. More preferred. By using polymer particles having a polymerizable group, plate skipping (preferably UV plate skipping) can be easily suppressed, and printing durability (preferably UV printing durability) can also be improved.

本開示におけるポリマー粒子は、耐刷性の観点から、親水性基及び重合性基を有する樹脂粒子であることが好ましい。
上記重合性基は、カチオン重合性基であっても、ラジカル重合性基であってもよいが、反応性の観点からは、ラジカル重合性基であることが好ましい。
上記重合性基としては、重合可能な基であれば特に制限はないが、反応性の観点から、エチレン性不飽和基が好ましく、ビニルフェニル基(スチリル基)、(メタ)アクリロキシ基、又は、(メタ)アクリルアミド基がより好ましく、(メタ)アクリロキシ基が特に好ましい。
また、重合性基を有するポリマー粒子を構成する樹脂は、重合性基を有する構成単位を有することが好ましい。
なお、高分子反応によりポリマー粒子の表面に重合性基を導入してもよい。
The polymer particles in the present disclosure are preferably resin particles having a hydrophilic group and a polymerizable group from the viewpoint of printing durability.
The polymerizable group may be a cationically polymerizable group or a radically polymerizable group, but from the viewpoint of reactivity, it is preferably a radically polymerizable group.
The above-mentioned polymerizable group is not particularly limited as long as it is a polymerizable group, but from the viewpoint of reactivity, an ethylenically unsaturated group is preferable, such as a vinylphenyl group (styryl group), a (meth)acryloxy group, or A (meth)acrylamide group is more preferred, and a (meth)acryloxy group is particularly preferred.
Moreover, it is preferable that the resin constituting the polymer particles having a polymerizable group has a structural unit having a polymerizable group.
Note that a polymerizable group may be introduced onto the surface of the polymer particle by a polymer reaction.

また、ポリマー粒子は、耐刷性、着肉性、機上現像性、及び、機上現像時の現像カス抑制性の観点から、ウレア結合を有する重付加型樹脂を含むことが好ましく、下記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有する重付加型樹脂を含むことがより好ましく、下記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有し、かつ、ポリオキシアルキレン構造として、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有する重付加型樹脂を含むことが特に好ましい。また、上記ウレア結合を有する重付加型樹脂を含む粒子は、ミクロゲルであることが好ましい。 In addition, the polymer particles preferably contain a polyaddition resin having a urea bond from the viewpoints of printing durability, ink receptivity, on-press developability, and development scum suppression during on-press development, and the following formula: It is more preferable to include a polyaddition resin having a structure obtained by reacting at least an isocyanate compound represented by (Iso) with water, and a polyaddition resin having a structure obtained by at least reacting an isocyanate compound represented by the following formula (Iso) with water. It is particularly preferable to include a polyaddition type resin having a structure obtained by making the polyethylene oxide structure and a polypropylene oxide structure as the polyoxyalkylene structure. Further, the particles containing the polyaddition resin having a urea bond are preferably microgels.

式(Iso)中、nは0~10の整数を表す。 In the formula (Iso), n represents an integer of 0 to 10.

上記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水との反応の一例としては、下記に示す反応が挙げられる。なお、下記の例は、n=0、4,4-異性体を使用した例である。
下記に示すように、上記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水とを反応させると、水によりイソシアネート基の一部が加水分解し、アミノ基が生じ、生じたアミノ基とイソシアネート基とが反応し、ウレア結合が生成し、二量体が形成される。また、下記反応が繰り返され、ウレア結合を有する重付加型樹脂が形成される。
An example of the reaction between the isocyanate compound represented by the above formula (Iso) and water includes the reaction shown below. In addition, the following example is an example using n=0, 4,4-isomer.
As shown below, when the isocyanate compound represented by the above formula (Iso) is reacted with water, a part of the isocyanate group is hydrolyzed by the water, an amino group is generated, and the resulting amino group and the isocyanate group are react, a urea bond is generated, and a dimer is formed. Further, the following reaction is repeated to form a polyaddition resin having a urea bond.

また、下記反応において、アルコール化合物、アミン化合物等のイソシアネート基と反応性を有する化合物(活性水素を有する化合物)を添加することにより、アルコール化合物、アミン化合物等の構造を、ウレア結合を有する重付加型樹脂に導入することもできる。
上記活性水素を有する化合物としては、既述の活性水素を有する化合物が好ましく挙げられる。
In addition, in the following reaction, by adding a compound (compound having active hydrogen) that is reactive with an isocyanate group such as an alcohol compound or an amine compound, the structure of the alcohol compound or amine compound can be modified by polyaddition having a urea bond. It can also be introduced into the mold resin.
Preferred examples of the above-mentioned compound having active hydrogen include the compounds having active hydrogen described above.

また、上記ウレア結合を有する重付加型樹脂は、エチレン性不飽和基を有することが好ましく、下記式(PETA)で表される基を有することがより好ましい。 Further, the polyaddition resin having a urea bond preferably has an ethylenically unsaturated group, and more preferably has a group represented by the following formula (PETA).

式(PETA)中、波線部分は、他の構造との結合位置を表す。 In the formula (PETA), the wavy line portion represents the bonding position with another structure.

(ポリマー粒子の合成)
ポリマー粒子の合成法としては、特に制限はなく、既述した各種の樹脂にて粒子を合成しうる方法であればよい。ポリマー粒子の合成法としては、例えば、乳化重合法、懸濁重合法、分散重合法、ソープフリー重合法、マイクロエマルション重合法等の、公知のポリマー粒子の合成法が挙げられる。
その他、ポリマー粒子の合成には、公知のマイクロカプセルの合成法、ミクロゲル(架橋樹脂粒子)の合成法等を用いてもよい。
(Synthesis of polymer particles)
The method for synthesizing the polymer particles is not particularly limited, and any method that can synthesize particles using the various resins described above may be used. Examples of methods for synthesizing polymer particles include known polymer particle synthesis methods such as emulsion polymerization, suspension polymerization, dispersion polymerization, soap-free polymerization, and microemulsion polymerization.
In addition, known microcapsule synthesis methods, microgel (crosslinked resin particles) synthesis methods, etc. may be used to synthesize the polymer particles.

(粒子の平均粒径)
粒子の平均粒径は、0.01μm~3.0μmが好ましく、0.03μm~2.0μmがより好ましく、0.10μm~1.0μmが更に好ましい。この範囲で良好な解像度と経時安定性が得られる。
粒子の平均粒径は、光散乱法により測定するか、又は、粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で粒子の粒径を総計で5,000個測定し、平均値を算出するものとする。なお、非球形粒子については写真上の粒子の円相当径とする。
なお、本開示における粒子の平均粒径は、特に断りのない限り、体積平均粒径であるものとする。
(Average particle size of particles)
The average particle diameter of the particles is preferably 0.01 μm to 3.0 μm, more preferably 0.03 μm to 2.0 μm, and even more preferably 0.10 μm to 1.0 μm. Good resolution and stability over time can be obtained within this range.
The average particle size of the particles shall be measured by a light scattering method, or by taking an electron micrograph of the particles, measuring the particle size of a total of 5,000 particles on the photograph, and calculating the average value. do. For non-spherical particles, the equivalent circle diameter of the particle in the photograph is used.
Note that the average particle size of particles in the present disclosure is a volume average particle size unless otherwise specified.

粒子(好ましくはポリマー粒子)は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Only one type of particles (preferably polymer particles) may be used, or two or more types may be used in combination.

粒子(好ましくはポリマー粒子)の含有量は、現像性、及び、耐刷性の観点から、画像記録層の全質量に対し、5質量%~90質量%が好ましく、10質量%~90質量%であることがより好ましく、20質量%~90質量%であることが更に好ましく、50質量%~90質量%であることが特に好ましい。 The content of particles (preferably polymer particles) is preferably 5% to 90% by mass, and 10% to 90% by mass, based on the total mass of the image recording layer, from the viewpoint of developability and printing durability. The content is more preferably 20% by mass to 90% by mass, and particularly preferably 50% by mass to 90% by mass.

〔その他の成分〕
本開示における画像記録層は、既述の成分以外のその他の成分を含んでいてもよい。
その他の成分としては、特定高分子量体以外の公知のバインダーポリマー、発色剤、連鎖移動剤、低分子親水性化合物、感脂化剤、その他の添加剤等が挙げられる。
[Other ingredients]
The image recording layer in the present disclosure may contain components other than those described above.
Other components include known binder polymers other than the specific polymer, coloring agents, chain transfer agents, low-molecular hydrophilic compounds, fat-sensitizing agents, and other additives.

[発色剤]
画像記録層は、発色剤を含んでいてもよい。
発色剤としては、酸発色剤であることが好ましい。また、発色剤としては、ロイコ化合物を含むことが好ましい。
本開示で用いられる「発色剤」とは、光や酸等の刺激により発色又は消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味し、また、「酸発色剤」とは、電子受容型化合物(例えば酸等のプロトン)を受容した状態で加熱することにより、発色又は消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味する。
酸発色剤としては、特に、ラクトン、ラクタム、サルトン、スピロピラン、エステル、アミド等の部分骨格を有し、電子受容型化合物と接触した時に、速やかにこれらの部分骨格が開環若しくは開裂する無色の化合物が好ましい。
[Coloring agent]
The image recording layer may contain a color former.
The color former is preferably an acid color former. Moreover, it is preferable that a leuco compound is included as a coloring agent.
The "color former" used in the present disclosure means a compound that has the property of changing the color of the image recording layer by developing or decoloring when stimulated by light or acid, and the "acid color former" It refers to a compound that has the property of changing the color of an image recording layer by developing or decoloring it when heated while accepting an electron-accepting compound (for example, protons such as an acid).
Acid color formers are particularly suitable for colorless color formers that have partial skeletons such as lactones, lactams, sultones, spiropyrans, esters, and amides, and whose partial skeletons quickly ring-open or cleave when they come into contact with electron-accepting compounds. Compounds are preferred.

酸発色剤の例としては、特開2019-18412号公報の段落0184~0191に記載された化合物が挙げられる。 Examples of acid color formers include compounds described in paragraphs 0184 to 0191 of JP-A No. 2019-18412.

中でも、発色剤としては、発色性の観点から、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、スピロラクトン化合物、及びスピロラクタム化合物からなる群より選ばれた少なくとも1種の化合物であることが好ましい。
発色後の発色剤の色相としては、可視性の観点から、450nm~650nmの範囲に極大吸収を有することが好ましい。発色後の発色剤の色味としては、赤、紫、青、又は黒緑であることが好ましい。
Among these, the coloring agent is preferably at least one compound selected from the group consisting of spiropyran compounds, spirooxazine compounds, spirolactone compounds, and spirolactam compounds from the viewpoint of coloring properties.
The hue of the color former after color development preferably has maximum absorption in the range of 450 nm to 650 nm from the viewpoint of visibility. The color of the coloring agent after coloring is preferably red, purple, blue, or black-green.

また、発色剤(好ましくは酸発色剤)は、露光部の視認性を高める観点から、ロイコ色素を用いることが好ましい。
ここで、ロイコ色素としては、ロイコ構造を有する色素であれば、特に制限はないが、スピロ構造を有することが好ましく、スピロラクトン環構造を有することがより好ましい。
また、ロイコ色素としては、露光部の視認性を高める観点から、フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素であることが好ましい。
Further, as the coloring agent (preferably acid coloring agent), it is preferable to use a leuco dye from the viewpoint of improving the visibility of the exposed area.
Here, the leuco dye is not particularly limited as long as it has a leuco structure, but preferably has a spiro structure, and more preferably has a spirolactone ring structure.
Further, the leuco dye is preferably a leuco dye having a phthalide structure or a fluoran structure from the viewpoint of improving the visibility of the exposed area.

更に、発色剤(好ましくは酸発色剤)としては、露光部の視認性を高める観点から、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素である、下記式(Le-1)~式(Le-3)のいずれかで表される化合物であることが好ましく、下記式(Le-2)で表される化合物であることがより好ましい。 Further, as a coloring agent (preferably an acid coloring agent), from the viewpoint of improving the visibility of the exposed area, the following formulas (Le-1) to (Le-3), which are leuco dyes having the above-mentioned phthalide structure or fluoran structure, are used. ), and more preferably a compound represented by the following formula (Le-2).

式(Le-1)~式(Le-3)中、ERGは、それぞれ独立に、電子供与性基を表し、X~Xは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はジアルキルアニリノ基を表し、X~X10は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は一価の有機基を表し、Y及びYは、それぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Raは、水素原子、アルキル基、又はアルコキシ基を表し、Rb~Rbは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。 In formulas (Le-1) to (Le-3), ERG each independently represents an electron donating group, and X 1 to X 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a dialkylanilino group. group, X 5 to X 10 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group, Y 1 and Y 2 each independently represent C or N, and Y 1 is When Y 2 is N, X 1 is absent; when Y 2 is N, X 4 is absent; Ra 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group; Rb 1 to Rb 4 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group.

式(Le-1)~式(Le-3)のERGにおける電子供与性基としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、又はアルキル基であることが好ましく、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルコキシ基、又はアリーロキシ基であることがより好ましく、アリールアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、又はジアリールアミノ基であることが更に好ましく、アリールアミノ基、又はモノアルキルモノアリールアミノ基であることが特に好ましい。
式(Le-1)~式(Le-3)におけるX~Xは、それぞれ独立に、露光部の視認性を高める観点から、水素原子、又は、塩素原子であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
式(Le-2)又は式(Le-3)におけるX~X10は、それぞれ独立に、露光部の視認性を高める観点から、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、又はシアノ基であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、又はアリーロキシ基であることがより好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はアリール基であることが更に好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
式(Le-1)~式(Le-3)におけるY及びYは、露光部の視認性を高める観点から、少なくとも1方がCであることが好ましく、Y及びYの両方がCであることがより好ましい。
式(Le-3)におけるRaは、露光部の視認性を高める観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
式(Le-1)におけるRb~Rbは、それぞれ独立に、露光部の視認性を高める観点から、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
From the viewpoint of color development and visibility of exposed areas, the electron-donating groups in ERG of formulas (Le-1) to (Le-3) include amino groups, alkylamino groups, arylamino groups, and dialkylamino groups. group, monoalkylmonoarylamino group, diarylamino group, alkoxy group, aryloxy group, or alkyl group, preferably amino group, alkylamino group, arylamino group, dialkylamino group, monoalkylmonoarylamino group, It is more preferably a diarylamino group, an alkoxy group, or an aryloxy group, and even more preferably an arylamino group, a monoalkylmonoarylamino group, or a diarylamino group. It is particularly preferable that
In formulas (Le-1) to (Le-3), X 1 to X 4 are each independently preferably a hydrogen atom or a chlorine atom, from the viewpoint of improving the visibility of the exposed area; It is more preferable that
In formula (Le-2) or formula (Le-3), X 5 to X 10 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an amino group, Be an alkylamino group, arylamino group, dialkylamino group, monoalkylmonoarylamino group, diarylamino group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, or cyano group is preferable, a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an aryloxy group is more preferable, a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, or an aryl group is even more preferable; It is particularly preferable that there be.
It is preferable that at least one of Y 1 and Y 2 in formulas (Le-1) to (Le-3) is C, and both Y 1 and Y 2 are C, from the viewpoint of improving the visibility of the exposed area. C is more preferable.
Ra 1 in formula (Le-3) is preferably an alkyl group or an alkoxy group, more preferably an alkoxy group, and particularly preferably a methoxy group from the viewpoint of improving the visibility of the exposed area.
Rb 1 to Rb 4 in formula (Le-1) are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably an alkyl group, and a methyl group. It is particularly preferable that

また、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、露光部の視認性を高める観点から、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、下記式(Le-4)~式(Le-6)のいずれかで表される化合物であることがより好ましく、下記式(Le-5)で表される化合物であることが更に好ましい。 In addition, from the viewpoint of improving the visibility of the exposed area, the leuco dyes having a phthalide structure or fluoran structure have the following formulas (Le-4) to (Le-6). It is more preferable to be a compound represented by any of the following, and even more preferable to be a compound represented by the following formula (Le-5).

式(Le-4)~式(Le-6)中、ERGは、それぞれ独立に、電子供与性基を表し、X~Xは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はジアルキルアニリノ基を表し、Y及びYは、それぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Raは、水素原子、アルキル基、又はアルコキシ基を表し、Rb~Rbは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。 In formulas (Le-4) to (Le-6), ERG each independently represents an electron-donating group, and X 1 to X 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a dialkylanilino group. represents a group, Y 1 and Y 2 each independently represent C or N, when Y 1 is N, X 1 is absent, and when Y 2 is N, X 4 is present Ra 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group, and Rb 1 to Rb 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group.

式(Le-4)~式(Le-6)におけるERG、X~X、Y、Y、Ra、及び、Rb~Rbはそれぞれ、式(Le-1)~式(Le-3)におけるERG、X~X、Y、Y、Ra、及び、Rb~Rbと同義であり、好ましい態様も同様である。 ERG, X 1 to X 4 , Y 1 , Y 2 , Ra 1 , and Rb 1 to Rb 4 in formulas (Le-4) to (Le-6) are respectively represented by formulas (Le-1) to ( It has the same meaning as ERG, X 1 to X 4 , Y 1 , Y 2 , Ra 1 and Rb 1 to Rb 4 in Le-3), and its preferred embodiments are also the same.

更に、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、露光部の視認性を高める観点から、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、下記式(Le-7)~式(Le-9)のいずれかで表される化合物であることが更に好ましく、下記式(Le-8)で表される化合物であることが特に好ましい。 Further, the leuco dye having a phthalide structure or fluoran structure has the following formulas (Le-7) to (Le-9) from the viewpoint of improving the visibility of the exposed area. A compound represented by any of the following is more preferable, and a compound represented by the following formula (Le-8) is particularly preferable.

式(Le-7)~式(Le-9)中、X~Xは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Y及びYは、それぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Ra~Raは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアルコキシ基を表し、Rb~Rbは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Rc及びRcは、それぞれ独立に、アリール基を表す。 In formulas (Le-7) to (Le-9), X 1 to X 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a dialkylanilino group, and Y 1 and Y 2 each independently, represents C or N, when Y 1 is N, X 1 does not exist, when Y 2 is N, X 4 does not exist, and Ra 1 to Ra 4 each independently represent hydrogen. represents an atom, an alkyl group, or an alkoxy group, Rb 1 to Rb 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and Rc 1 and Rc 2 each independently represent an aryl group.

式(Le-7)~式(Le-9)におけるX~X、Y及びYは、式(Le-1)~式(Le-3)におけるX~X、Y及びYと同義であり、好ましい態様も同様である。
式(Le-7)又は式(Le-9)におけるRa~Raは、それぞれ独立に、露光部の視認性を高める観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
式(Le-7)~式(Le-9)におけるRb~Rbは、それぞれ独立に、露光部の視認性を高める観点から、水素原子、アルキル基、又は、アルキル基若しくはアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましく、水素原子又はアルキル基であることがより好ましく、水素原子又はメチル基であることが特に好ましい。
式(Le-8)におけるRc及びRcは、それぞれ独立に、露光部の視認性を高める観点から、フェニル基、又は、アルキルフェニル基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。
また、式(Le-8)において、露光部の視認性を高める観点から、X~Xが水素原子であり、Y及びYがCであることが好ましい。
更に、式(Le-8)において、露光部の視認性を高める観点から、Rb及びRbが、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又は、アルキル基若しくはアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましく、水素原子又はアルキル基であることがより好ましい。
X 1 to X 4 , Y 1 and Y 2 in formulas (Le-7) to (Le-9) are X 1 to X 4 , Y 1 and Y 2 in formulas (Le-1) to (Le- 3 ) It has the same meaning as Y 2 and the preferred embodiments are also the same.
Ra 1 to Ra 4 in formula (Le-7) or formula (Le-9) are each independently preferably an alkyl group or an alkoxy group from the viewpoint of improving the visibility of the exposed area, and are an alkoxy group. is more preferable, and a methoxy group is particularly preferable.
Rb 1 to Rb 4 in formulas (Le-7) to (Le-9) are each independently substituted with a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkyl group or an alkoxy group from the viewpoint of improving the visibility of the exposed area. It is preferably an aryl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.
Rc 1 and Rc 2 in formula (Le-8) are each independently preferably a phenyl group or an alkylphenyl group, more preferably a phenyl group, from the viewpoint of improving the visibility of the exposed area. .
Further, in formula (Le-8), from the viewpoint of improving the visibility of the exposed area, it is preferable that X 1 to X 4 are hydrogen atoms, and Y 1 and Y 2 are C.
Furthermore, in formula (Le-8), from the viewpoint of improving the visibility of the exposed area, Rb 1 and Rb 2 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group substituted with an alkyl group or an alkoxy group. It is preferably a hydrogen atom or an alkyl group.

式(Le-1)~式(Le-9)におけるアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
また、式(Le-1)~式(Le-9)におけるアルキル基の炭素数は、1~20であることが好ましく、1~8であることがより好ましく、1~4であることが更に好ましく、1又は2であることが特に好ましい。
式(Le-1)~式(Le-9)におけるアリール基の炭素数は、6~20であることが好ましく、6~10であることがより好ましく、6~8であることが特に好ましい。
The alkyl groups in formulas (Le-1) to (Le-9) may be linear, branched, or have a ring structure.
Further, the number of carbon atoms in the alkyl group in formulas (Le-1) to (Le-9) is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 8, and even more preferably 1 to 4. Preferably, 1 or 2 is particularly preferable.
The number of carbon atoms in the aryl group in formulas (Le-1) to (Le-9) is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 10, particularly preferably 6 to 8.

また、式(Le-1)~式(Le-9)における一価の有機基、アルキル基、アリール基、ジアルキルアニリノ基、アルキルアミノ基、アルコキシ基等の各基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、シアノ基等が挙げられる。また、これら置換基は、更にこれら置換基により置換されていてもよい。 In addition, each group such as a monovalent organic group, an alkyl group, an aryl group, a dialkylanilino group, an alkylamino group, and an alkoxy group in formulas (Le-1) to (Le-9) has a substituent. You can leave it there. Examples of substituents include alkyl groups, aryl groups, halogen atoms, amino groups, alkylamino groups, arylamino groups, dialkylamino groups, monoalkylmonoarylamino groups, diarylamino groups, hydroxy groups, alkoxy groups, aryloxy groups, and acyl groups. group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a cyano group, and the like. Moreover, these substituents may be further substituted with these substituents.

好適に用いられる上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素の具体例としては、以下の化合物(S-1~S-15)が挙げられる。 Specific examples of the leuco dye having a phthalide structure or fluoran structure that are preferably used include the following compounds (S-1 to S-15).

酸発色剤としては上市されている製品を使用することも可能であり、ETAC、RED500、RED520、CVL、S-205、BLACK305、BLACK400、BLACK100、BLACK500、H-7001、GREEN300、NIRBLACK78、BLUE220、H-3035、BLUE203、ATP、H-1046、H-2114(以上、福井山田化学工業(株)製)、ORANGE-DCF、Vermilion-DCF、PINK-DCF、RED-DCF、BLMB、CVL、GREEN-DCF、TH-107(以上、保土ヶ谷化学(株)製)、ODB、ODB-2、ODB-4、ODB-250、ODB-BlackXV、Blue-63、Blue-502、GN-169、GN-2、Green-118、Red-40、Red-8(以上、山本化成(株)製)、クリスタルバイオレットラクトン(東京化成工業(株)製)等が挙げられる。
これらの市販品の中でも、ETAC、S-205、BLACK305、BLACK400、BLACK100、BLACK500、H-7001、GREEN300、NIRBLACK78、H-3035、ATP、H-1046、H-2114、GREEN-DCF、Blue-63、GN-169、クリスタルバイオレットラクトンが、形成される膜の可視光吸収率が良好のため好ましい。
It is also possible to use the product that is used as an acidic colorant, ETAC, RED500, RED520, CVL, S -205, BLACK305, BLACK100, BLACK100, BLACK500, H -7001, GREEN300, NIRBL ACK78, BLUE220, H -3035, BLUE203, ATP, H-1046, H-2114 (manufactured by Fukui Yamada Chemical Co., Ltd.), ORANGE-DCF, Vermilion-DCF, PINK-DCF, RED-DCF, BLMB, CVL, GREEN-DCF , TH-107 (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), ODB, ODB-2, ODB-4, ODB-250, ODB-BlackXV, Blue-63, Blue-502, GN-169, GN-2, Green -118, Red-40, Red-8 (manufactured by Yamamoto Kasei Co., Ltd.), Crystal Violet Lactone (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.), and the like.
Among these commercial products, ETAC, S-205, BLACK305, BLACK400, BLACK100, BLACK500, H-7001, GREEN300, NIRBLACK78, H-3035, ATP, H-1046, H-2114, GREEN-DCF, Blue-6 3 , GN-169, and crystal violet lactone are preferable because the visible light absorption rate of the formed film is good.

ロイコ色素としては、露光部の視認性を高める観点から、以下の化合物も好適に用いられるものとして挙げられる。 As the leuco dye, the following compounds are also preferably used from the viewpoint of improving the visibility of the exposed area.

発色剤は、1種単独で用いてもよく、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。 The color formers may be used alone or in combination of two or more.

発色剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.5質量%~10質量%であることが好ましく、1質量%~5質量%であることがより好ましい。 The content of the color former is preferably 0.5% to 10% by weight, more preferably 1% to 5% by weight, based on the total weight of the image recording layer.

画像記録層は、上述した以外の成分を含んでいてもよい。
上述した以外の成分としては、特開2009-255434号公報の段落0181~0190に記載の、着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、及び低分子親水性化合物等が挙げられる。
また、上述した以外の成分としては、特開2012-187907号公報の段落0191~0217に記載の、疎水化前駆体(熱が加えられたときに画像記録層を疎水性に変換できる微粒子)、低分子親水性化合物、感脂化剤(例えば、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマー)、及び連鎖移動剤等も挙げられる。
The image recording layer may contain components other than those mentioned above.
Components other than those mentioned above include colorants, print-out agents, polymerization inhibitors, higher fatty acid derivatives, plasticizers, inorganic fine particles, and low-molecular hydrophilic substances described in paragraphs 0181 to 0190 of JP-A No. 2009-255434. Examples include compounds.
Further, as components other than those mentioned above, hydrophobization precursors (fine particles that can convert the image recording layer into hydrophobicity when heat is applied) described in paragraphs 0191 to 0217 of JP-A-2012-187907, Also included are low-molecular hydrophilic compounds, fat-sensitizing agents (for example, phosphonium compounds, nitrogen-containing low-molecular compounds, ammonium group-containing polymers), and chain transfer agents.

〔画像記録層の形成〕
本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、例えば、特開2008-195018号公報の段落0142~段落0143に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布液を支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することにより形成することができる。
[Formation of image recording layer]
The image recording layer in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure can be prepared by dispersing or dissolving the above-mentioned necessary components in a known solvent, for example, as described in paragraphs 0142 to 0143 of JP-A No. 2008-195018. It can be formed by preparing a coating liquid, applying the coating liquid onto a support by a known method such as bar coater coating, and drying.

塗布液に用いる溶剤としては、公知の溶剤を用いることができる。具体的には、例えば、水、アセトン、メチルエチルケトン(2-ブタノン)、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメーチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、1-メトキシ-2-プロパノール、3-メトキシ-1-プロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピルアセテート、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。
溶剤は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
塗布液中の固形分濃度は1質量%~50質量%であることが好ましい。
As the solvent used in the coating liquid, known solvents can be used. Specifically, for example, water, acetone, methyl ethyl ketone (2-butanone), cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, Propylene glycol monoethyl ether, acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 1-methoxy-2-propanol, 3- Methoxy-1-propanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N,N-dimethyl Examples include formamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, and ethyl lactate.
The solvents may be used alone or in combination of two or more.
The solid content concentration in the coating liquid is preferably 1% by mass to 50% by mass.

塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性を得る観点から、0.3g/m~3.0g/mが好ましい。
また、本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層の膜厚は、0.1μm~3.0μmであることが好ましく、0.3μm~2.0μmであることがより好ましい。
The coating amount (solid content) of the image recording layer after coating and drying varies depending on the application, but from the viewpoint of obtaining good sensitivity and good film properties of the image recording layer, it is 0.3 g/m 2 to 3.0 g/m 2 to 3.0 g/m 2 . m2 is preferred.
Further, the thickness of the image recording layer in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is preferably 0.1 μm to 3.0 μm, more preferably 0.3 μm to 2.0 μm.

<最外層>
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層上に、変色性化合物を含む最外層(保護層、オーバーコート層とも呼ばれることもある)を有する。
<Outermost layer>
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure has an outermost layer (also referred to as a protective layer or an overcoat layer) containing a color-changing compound on the image recording layer.

〔変色性化合物〕
最外層は、露光部の視認性を高める観点から、変色性化合物を含む。
[Color-changing compound]
The outermost layer contains a color-changing compound from the viewpoint of increasing the visibility of the exposed area.

本開示に係る平版印刷版原版は、露光部の視認性を高める観点から、エネルギー密度110mJ/cmにて波長830nmの赤外線による露光を行った場合の、露光前後の明度変化ΔLが、2.0以上であることが好ましい。
上記明度変化ΔLは、3.0以上であることがより好ましく、5.0以上であることが更に好ましく、8.0以上であることが特に好ましく、10.0以上であることが最も好ましい。
明度変化ΔLの上限としては、例えば、20.0が挙げられる。
また、特に、変色性化合物を含む最外層を有する場合、上記明度変化ΔLの上記好ましい数値範囲を満たすことが好ましい。
In order to improve the visibility of exposed areas, the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure has a brightness change ΔL before and after exposure of 2.2. It is preferable that it is 0 or more.
The lightness change ΔL is more preferably 3.0 or more, even more preferably 5.0 or more, particularly preferably 8.0 or more, and most preferably 10.0 or more.
The upper limit of the brightness change ΔL is, for example, 20.0.
In addition, particularly when the outermost layer includes a color-changing compound, it is preferable that the lightness change ΔL satisfies the above-mentioned preferable numerical range.

明度変化ΔLの測定は、以下の方法により行う。
平版印刷版原版を、波長830nmの赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム グラフィックシステムズ(株)製Luxel PLATESETTER T-9800により、出力99.5%、外面ドラム回転数220rpm、解像度2,400dpi(dots per inch、1inch=25.4mm)の条件(エネルギー密度110mJ/cm)で露光する。露光は25℃、50%RHの環境下で行う。
露光前後の平版印刷版原版の明度変化を測定する。
測定には、X-Rite社製分光測色計eXactを用いる。L表色系のL値(明度)を用い、露光後の画像記録層のL値と露光前の画像記録層のL値との差の絶対値を明度変化ΔLとする。
The lightness change ΔL is measured by the following method.
The lithographic printing plate precursor was processed using a Luxel PLATESETTER T-9800 manufactured by Fujifilm Graphic Systems Co., Ltd. equipped with an infrared semiconductor laser with a wavelength of 830 nm at an output of 99.5%, an outer drum rotation speed of 220 rpm, and a resolution of 2,400 dpi (dots per inch). 1 inch = 25.4 mm) (energy density: 110 mJ/cm 2 ). Exposure is performed in an environment of 25° C. and 50% RH.
The change in brightness of the lithographic printing plate precursor before and after exposure is measured.
For the measurement, a spectrophotometer eXact manufactured by X-Rite is used. Using the L * value (lightness) of the L * a * b * color system, the absolute value of the difference between the L * value of the image recording layer after exposure and the L * value of the image recording layer before exposure is calculated as the lightness change ΔL. shall be.

本開示において「変色性化合物」とは、赤外線露光に起因して、可視光領域(波長:400nm以上750nm未満)の吸収が変化する化合物をいう。つまり、本開示において「変色」とは、赤外線露光に起因して、可視光領域(波長:400nm以上750nm未満)の吸収が変化することをいう。
具体的には、本開示における変色性化合物は、(1)赤外線露光に起因して赤外線露光前より可視光領域の吸収が増加する化合物、(2)赤外線露光に起因して可視光領域の吸収を有するようになる化合物、(3)赤外線露光に起因して可視光領域に吸収を有しないようになる化合物が挙げられる。
なお、本開示における赤外線は、750nm~1mmの波長の光線であり、750nm~1,400nmの波長の光線であることが好ましい。
In the present disclosure, a "color-changing compound" refers to a compound whose absorption in the visible light region (wavelength: 400 nm or more and less than 750 nm) changes due to infrared exposure. That is, in the present disclosure, "discoloration" refers to a change in absorption in the visible light region (wavelength: 400 nm or more and less than 750 nm) due to infrared exposure.
Specifically, the color-changing compound in the present disclosure includes (1) a compound whose absorption in the visible light region increases due to infrared exposure compared to before the infrared exposure, and (2) a compound whose absorption in the visible light region increases due to infrared exposure. and (3) a compound that ceases to have absorption in the visible light region due to infrared exposure.
Note that infrared rays in the present disclosure are light rays with a wavelength of 750 nm to 1 mm, preferably light rays with a wavelength of 750 nm to 1,400 nm.

変色性化合物としては、赤外線露光に起因して発色する化合物を含むことが好ましい。
また、変色性化合物としては、赤外線露光に起因して分解する分解性化合物を含むことが好ましく、中でも、赤外線露光に起因する、熱、電子移動、又はその両方により分解する分解性化合物を含むことが好ましい。
より具体的に言えば、本開示における変色性化合物は、赤外線露光に起因して分解し(より好ましくは、赤外線露光に起因する、熱、電子移動、又はその両方により分解し)、赤外線露光前に比べて、可視光領域における吸収が増加するか、又は、吸収が短波長化し可視光領域に吸収を有するようになる化合物であることが好ましい。
ここで、「電子移動により分解する」とは、赤外線露光によって変色性化合物のHOMO(最高被占軌道)からLUMO(最低空軌道)に励起した電子が、分子内の電子受容基(LUMOと電位が近い基)に分子内電子移動し、それに伴って分解が生じることを意味する。
The color-changing compound preferably includes a compound that develops color due to infrared exposure.
Further, the color-changing compound preferably includes a decomposable compound that decomposes due to infrared exposure, and in particular, a decomposable compound that decomposes due to heat, electron transfer, or both due to infrared exposure. is preferred.
More specifically, the color-changing compound in the present disclosure decomposes upon infrared exposure (more preferably decomposes due to heat, electron transfer, or both upon infrared exposure), and prior to infrared exposure It is preferable that the compound exhibits increased absorption in the visible light region, or has absorption at a shorter wavelength, so that it has absorption in the visible light region.
Here, "decomposes by electron transfer" means that the electrons excited from the HOMO (highest occupied orbital) of the color-changing compound to the LUMO (lowest unoccupied orbital) by infrared exposure are This means that there is an intramolecular electron transfer to a nearby group), and decomposition occurs accordingly.

以下、変色性化合物の一例である分解性化合物について説明する。
分解性化合物は、赤外線波長域(750nm~1mmの波長域、好ましくは750nm~1,400nmの波長域)の少なくとも1部の光を吸収し、分解するものであればよいが、750nm~1,400nmの波長域に極大吸収を有する化合物であることが好ましい。
より具体的には、分解性化合物は、赤外線露光に起因して分解し、500nm~600nmの波長域に極大吸収波長を有する化合物を生成する化合物であることが好ましい。
Hereinafter, a decomposable compound, which is an example of a color-changing compound, will be explained.
The decomposable compound may be one that absorbs and decomposes at least a portion of light in the infrared wavelength range (750 nm to 1 mm wavelength range, preferably 750 nm to 1,400 nm wavelength range); A compound having maximum absorption in a wavelength range of 400 nm is preferable.
More specifically, the decomposable compound is preferably a compound that decomposes due to infrared exposure and produces a compound having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 500 nm to 600 nm.

分解性化合物は、露光部の視認性を高める観点から、赤外線露光により分解する基(具体的には、下記式1-1~式1-7におけるR)を有する、シアニン色素であることが好ましい。
分解性化合物としては、露光部の視認性を高める観点から、下記式1-1で表される化合物であることがより好ましい。
The decomposable compound is preferably a cyanine dye having a group that decomposes upon exposure to infrared rays (specifically, R 1 in the following formulas 1-1 to 1-7), from the viewpoint of increasing the visibility of the exposed area. preferable.
As the decomposable compound, a compound represented by the following formula 1-1 is more preferable from the viewpoint of improving the visibility of the exposed area.

式1-1中、Rは下記式2~式4のいずれかで表される基を表し、R11~R18はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、-R、-OR、-SR、又は、-NRを表し、R~Rはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、A、A及び複数のR11~R18が連結して単環又は多環を形成してもよく、A及びAはそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は、窒素原子を表し、n11及びn12はそれぞれ独立に、0~5の整数を表し、但し、n11及びn12の合計は2以上であり、n13及びn14はそれぞれ独立に、0又は1を表し、Lは、酸素原子、硫黄原子、又は、-NR10-を表し、R10は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表す。 In formula 1-1, R 1 represents a group represented by any of the following formulas 2 to 4, and R 11 to R 18 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, -R a , -OR b , -SR c or -NR d R e is represented, R a to R e each independently represents a hydrocarbon group, and A 1 , A 2 and a plurality of R 11 to R 18 are connected to form a monocyclic or A polycyclic ring may be formed, A 1 and A 2 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom, n 11 and n 12 each independently represent an integer from 0 to 5, However, the sum of n 11 and n 12 is 2 or more, n 13 and n 14 each independently represent 0 or 1, L represents an oxygen atom, a sulfur atom, or -NR 10 -, and R 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and Za represents a counter ion that neutralizes the charge.

式2~式4中、R20、R30、R41及びR42はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Zbは電荷を中和する対イオンを表し、波線は、上記式1-1中のLで表される基との結合部位を表す。 In formulas 2 to 4, R 20 , R 30 , R 41 and R 42 each independently represent an alkyl group or an aryl group, Zb represents a counter ion that neutralizes the charge, and the wavy line represents the above formula 1- represents the bonding site with the group represented by L in 1.

式1-1で表される化合物は、赤外線で露光されると、R-L結合が開裂し、Lは、=O、=S、又は=NR10となって、変色する。 When the compound represented by formula 1-1 is exposed to infrared rays, the R 1 -L bond is cleaved, L becomes =O, =S, or =NR 10 , and the compound changes color.

式1-1において、Rは上記式2~式4のいずれかで表される基を表す。
以下、式2で表される基、式3で表される基、及び式4で表される基についてそれぞれ説明する。
In formula 1-1, R 1 represents a group represented by any one of formulas 2 to 4 above.
The group represented by Formula 2, the group represented by Formula 3, and the group represented by Formula 4 will be explained below.

式2中、R20は、アルキル基又はアリール基を表し、波線部分は、式1-1中のLで表される基との結合部位を表す。
20で表されるアルキル基としては、炭素数1~30のアルキル基が好ましく、炭素数1~15のアルキル基がより好ましく、炭素数1~10のアルキル基が更に好ましい。
上記アルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
20で表されるアリール基としては、炭素数6~30のアリール基が好ましく、炭素数6~20のアリール基がより好ましく、炭素数6~12のアリール基が更に好ましい。
20としては、発色性の観点から、アルキル基であることが好ましい。
In formula 2, R 20 represents an alkyl group or an aryl group, and the wavy line portion represents a bonding site with the group represented by L in formula 1-1.
The alkyl group represented by R 20 is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, and still more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
The alkyl group may be linear, branched, or have a ring structure.
The aryl group represented by R 20 is preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably 6 to 12 carbon atoms.
From the viewpoint of color development, R 20 is preferably an alkyl group.

また、分解性、及び、発色性の観点から、R20で表されるアルキル基としては、第二級アルキル基又は第三級アルキル基であることが好ましく、第三級アルキル基であることが好ましい。
更に、分解性、及び、発色性の観点から、R20で表されるアルキル基としては、炭素数1~8のアルキル基であることが好ましく、炭素数3~10の分岐状のアルキル基であることがより好ましく、炭素数3~6の分岐状のアルキル基であることが更に好ましく、イソプロピル基、又はtert-ブチル基が特に好ましく、tert-ブチル基が最も好ましい。
ここで、R20で表されるアルキル基は、ハロゲン原子(例えば、クロロ基)等にて置換された置換アルキル基であってもよい。
In addition, from the viewpoint of decomposability and color development, the alkyl group represented by R 20 is preferably a secondary alkyl group or a tertiary alkyl group, and a tertiary alkyl group is preferable. preferable.
Furthermore, from the viewpoint of decomposability and color development, the alkyl group represented by R 20 is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and preferably a branched alkyl group having 3 to 10 carbon atoms. More preferably, it is a branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, particularly preferably an isopropyl group or a tert-butyl group, and most preferably a tert-butyl group.
Here, the alkyl group represented by R 20 may be a substituted alkyl group substituted with a halogen atom (eg, chloro group) or the like.

以下に、上記式2で表される基の具体例を挙げるが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、●は式1-1中のLで表される基との結合部位を表す。 Specific examples of the group represented by the above formula 2 are listed below, but the present disclosure is not limited thereto. In the following structural formula, ● represents a bonding site with the group represented by L in Formula 1-1.

式3中、R30は、アルキル基又はアリール基を表し、波線部分は、式1-1中のLで表される基との結合部位を表す。
30で表されるアルキル基及びアリール基としては、式2中のR20で表されるアルキル基及びアリール基と同様であり、好ましい態様も同様である。
In formula 3, R 30 represents an alkyl group or an aryl group, and the wavy line portion represents a bonding site with the group represented by L in formula 1-1.
The alkyl group and aryl group represented by R 30 are the same as the alkyl group and aryl group represented by R 20 in Formula 2, and preferred embodiments are also the same.

分解性、及び、発色性の観点から、R30で表されるアルキル基としては、第二級アルキル基又は第三級アルキル基であることが好ましく、第三級アルキル基であることが好ましい。
また、分解性、及び、発色性の観点から、R30で表されるアルキル基としては、炭素数1~8のアルキル基であることが好ましく、炭素数3~10の分岐状のアルキル基であることがより好ましく、炭素数3~6の分岐状のアルキル基であることが更に好ましく、イソプロピル基、又はtert-ブチル基が特に好ましく、tert-ブチル基が最も好ましい。
更に、分解性、及び、発色性の観点から、R30で表されるアルキル基は、置換アルキル基であることが好ましく、フルオロ置換アルキル基であることがより好ましく、パーフルオロアルキル基であることが更に好ましく、トリフルオロメチル基であることが特に好ましい。
From the viewpoint of decomposability and color development, the alkyl group represented by R 30 is preferably a secondary alkyl group or a tertiary alkyl group, and more preferably a tertiary alkyl group.
In addition, from the viewpoint of decomposability and color development, the alkyl group represented by R 30 is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and a branched alkyl group having 3 to 10 carbon atoms. More preferably, it is a branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, particularly preferably an isopropyl group or a tert-butyl group, and most preferably a tert-butyl group.
Furthermore, from the viewpoint of decomposability and color development, the alkyl group represented by R 30 is preferably a substituted alkyl group, more preferably a fluoro-substituted alkyl group, and more preferably a perfluoroalkyl group. is more preferred, and trifluoromethyl group is particularly preferred.

分解性、及び、発色性の観点から、R30で表されるアリール基は置換アリール基であることが好ましく、置換基としては、アルキル基(好ましくは炭素数1~4のアルキル基)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1~4のアルコキシ基)等が挙げられる。 From the viewpoint of decomposability and color development, the aryl group represented by R 30 is preferably a substituted aryl group, and examples of the substituent include an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), an alkoxy groups (preferably alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms), and the like.

以下に、上記式3で表される基の具体例を挙げるが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、●は式1-1中のLで表される基との結合部位を表す。 Specific examples of the group represented by the above formula 3 are listed below, but the present disclosure is not limited thereto. In the following structural formula, ● represents a bonding site with the group represented by L in Formula 1-1.

式4中、R41及びR42はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Zbは電荷を中和する対イオンを表し、波線部分は、式1-1中のLで表される基との結合部位を表す。
41又はR42で表されるアルキル基及びアリール基としては、式2中のR20で表されるアルキル基及びアリール基と同様であり、好ましい態様も同様である。
41としては、分解性、及び、発色性の観点から、アルキル基であることが好ましい。
42としては、分解性、及び、発色性の観点から、アルキル基であることが好ましい。
In formula 4, R 41 and R 42 each independently represent an alkyl group or an aryl group, Zb represents a counter ion that neutralizes the charge, and the wavy line portion represents the group represented by L in formula 1-1. represents the binding site with.
The alkyl group and aryl group represented by R 41 or R 42 are the same as the alkyl group and aryl group represented by R 20 in Formula 2, and preferred embodiments are also the same.
R 41 is preferably an alkyl group from the viewpoints of decomposability and color development.
R 42 is preferably an alkyl group from the viewpoints of decomposability and color development.

分解性、及び、発色性の観点から、R41で表されるアルキル基としては、炭素数1~8のアルキル基であることが好ましく、炭素数1~4のアルキル基であることがより好ましく、メチル基が特に好ましい。
分解性、及び、発色性の観点から、R42で表されるアルキル基としては、第二級アルキル基又は第三級アルキル基であることが好ましく、第三級アルキル基であることが好ましい。
また、分解性、及び、発色性の観点から、R42で表されるアルキル基としては、炭素数1~8のアルキル基であることが好ましく、炭素数3~10の分岐状のアルキル基であることがより好ましく、炭素数3~6の分岐状のアルキル基であることが更に好ましく、イソプロピル基、又は、tert-ブチル基が特に好ましく、tert-ブチル基が最も好ましい。
From the viewpoint of decomposability and color development, the alkyl group represented by R 41 is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. , methyl group is particularly preferred.
From the viewpoints of decomposability and color development, the alkyl group represented by R 42 is preferably a secondary alkyl group or a tertiary alkyl group, and more preferably a tertiary alkyl group.
In addition, from the viewpoint of decomposability and color development, the alkyl group represented by R 42 is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and a branched alkyl group having 3 to 10 carbon atoms. More preferably, it is a branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, particularly preferably an isopropyl group or a tert-butyl group, and most preferably a tert-butyl group.

式4におけるZbは、電荷を中和するための対イオンであればよく、化合物全体として、式1-1におけるZaに含まれてもよい。
Zbは、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、p-トルエンスルホネートイオン、又は過塩素酸塩イオンが好ましく、テトラフルオロボレートイオンがより好ましい。
Zb in Formula 4 may be a counter ion for neutralizing charges, and the compound as a whole may be included in Za in Formula 1-1.
Zb is preferably a sulfonate ion, a carboxylate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, a p-toluenesulfonate ion, or a perchlorate ion, and more preferably a tetrafluoroborate ion.

以下に、上記式4で表される基の具体例を挙げるが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、●は式1-1中のLで表される基との結合部位を表す。 Specific examples of the group represented by the above formula 4 are listed below, but the present disclosure is not limited thereto. In the following structural formula, ● represents a bonding site with the group represented by L in Formula 1-1.

式1-1において、Lは、酸素原子、又は-NR10-が好ましく、酸素原子が特に好ましい。
また、-NR10-におけるR10は、アルキル基が好ましい。R10で表されるアルキル基としては、炭素数1~10のアルキル基が好ましい。また、R10で表されるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
アルキル基の中では、メチル基又はシクロヘキシル基が好ましい。
-NR10-におけるR10がアリール基の場合、炭素数6~30のアリール基が好ましく、炭素数6~20のアリール基がより好ましく、炭素数6~12のアリール基が更に好ましい。また、これらアリール基は、置換基を有していてもよい。
In formula 1-1, L is preferably an oxygen atom or -NR 10 -, and particularly preferably an oxygen atom.
Further, R 10 in -NR 10 - is preferably an alkyl group. The alkyl group represented by R 10 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Further, the alkyl group represented by R 10 may be linear, branched, or have a ring structure.
Among the alkyl groups, a methyl group or a cyclohexyl group is preferred.
When R 10 in -NR 10 - is an aryl group, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms is preferred, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms is more preferred, and an aryl group having 6 to 12 carbon atoms is even more preferred. Moreover, these aryl groups may have a substituent.

式1-1において、R11~R18は、それぞれ独立に、水素原子、-R、-OR、-SR、又は-NRであることが好ましい。
~Rで表される炭化水素基は、炭素数1~30の炭化水素基が好ましく、炭素数1~15の炭化水素基がより好ましく、炭素数1~10の炭化水素基が更に好ましい。
上記炭化水素基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
上記炭化水素基としては、アルキル基が特に好ましい。
In formula 1-1, R 11 to R 18 are preferably each independently a hydrogen atom, -R a , -OR b , -SR c , or -NR d R e .
The hydrocarbon group represented by R a to R e is preferably a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, and even more preferably a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. preferable.
The hydrocarbon group may be linear, branched, or have a ring structure.
As the hydrocarbon group, an alkyl group is particularly preferable.

上記アルキル基としては、炭素数1~30のアルキル基が好ましく、炭素数1~15のアルキル基がより好ましく、炭素数1~10のアルキル基が更に好ましい。
上記アルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s-ブチル基、tert-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1-メチルブチル基、イソヘキシル基、2-エチルヘキシル基、2-メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、及び、2-ノルボルニル基が挙げられる。
アルキル基の中で、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。
The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, and even more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
The alkyl group may be linear, branched, or have a ring structure.
Specifically, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group. group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, tert-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group and 2-norbornyl group.
Among the alkyl groups, methyl, ethyl, propyl or butyl groups are preferred.

上記アルキル基は、置換基を有していてもよい。
置換基の例としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、カルボキシレート基、スルホ基、スルホネート基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、及びこれらを組み合わせた基等が挙げられる。
The above alkyl group may have a substituent.
Examples of substituents include alkoxy groups, aryloxy groups, amino groups, alkylthio groups, arylthio groups, halogen atoms, carboxy groups, carboxylate groups, sulfo groups, sulfonate groups, alkyloxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, and Examples include groups that combine these.

式1-1におけるR11~R14はそれぞれ独立に、水素原子、又は、-R(即ち炭化水素基)であることが好ましく、水素原子、又は、アルキル基であることがより好ましく、以下の場合を除き、水素原子であることが更に好ましい。
中でも、Lが結合する炭素原子と結合する炭素原子に結合するR11及びR13は、アルキル基が好ましく、両者が連結して環を形成することがより好ましい。上記形成される環としては、単環であってもよく、多環であってもよい。形成される環として、具体的には、シクロペンテン環、シクロペンタジエン環、シクロヘキセン環、シクロヘキサジエン環等の単環、及び、インデン環、インドール環等の多環が挙げられる。
また、A が結合する炭素原子に結合するR12はR15又はR16(好ましくはR16)と連結して環を形成することが好ましく、Aが結合する炭素原子に結合するR14はR17又はR18(好ましくはR18)と連結して環を形成することが好ましい。
R 11 to R 14 in formula 1-1 are each independently preferably a hydrogen atom or -R a (i.e., a hydrocarbon group), more preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and the following A hydrogen atom is more preferable, except in the following cases.
Among these, R 11 and R 13 bonded to the carbon atom bonded to the carbon atom to which L is bonded are preferably an alkyl group, and it is more preferable that the two are linked to form a ring. The ring formed above may be a monocyclic ring or a polycyclic ring. Specific examples of the ring formed include monocycles such as a cyclopentene ring, cyclopentadiene ring, cyclohexene ring, and cyclohexadiene ring, and polycycles such as an indene ring and an indole ring.
Further, R 12 bonded to the carbon atom to which A 1 + is bonded is preferably bonded to R 15 or R 16 (preferably R 16 ) to form a ring, and R 12 bonded to the carbon atom to which A 2 is bonded. 14 is preferably linked to R 17 or R 18 (preferably R 18 ) to form a ring.

式1-1において、n13は1であり、R16は、-R(即ち炭化水素基)であることが好ましい。
また、R16は、A が結合する炭素原子に結合するR12と連結して環を形成することが好ましい。形成される環としては、インドリウム環、ピリリウム環、チオピリリウム環、ベンゾオキサゾリン環、又はベンゾイミダゾリン環が好ましく、露光部の視認性を高める観点から、インドリウム環がより好ましい。これらの環は更に置換基を有していてもよい。
式1-1において、n14は1であり、R18は、-R(即ち炭化水素基)であることが好ましい。
また、R18は、Aが結合する炭素原子に結合するR14と連結して環を形成することが好ましい。形成される環としては、インドール環、ピラン環、チオピラン環、ベンゾオキサゾール環、又はベンゾイミダゾール環が好ましく、露光部の視認性を高める観点から、インドール環がより好ましい。これらの環は更に置換基を有していてもよい。
式1-1におけるR16及びR18は同一の基であることが好ましく、それぞれが環を形成する場合、A 及びAを除き、同一の構造の環を形成することが好ましい。
In formula 1-1, n 13 is preferably 1, and R 16 is preferably -R a (ie, a hydrocarbon group).
Furthermore, R 16 is preferably linked to R 12 bonded to the carbon atom to which A 1 + is bonded to form a ring. The ring formed is preferably an indolium ring, pyrylium ring, thiopyrylium ring, benzoxazoline ring, or benzimidazoline ring, and from the viewpoint of improving the visibility of the exposed area, an indolium ring is more preferable. These rings may further have a substituent.
In formula 1-1, n 14 is preferably 1, and R 18 is preferably -R a (ie, a hydrocarbon group).
Furthermore, R 18 is preferably linked to R 14 bonded to the carbon atom to which A 2 is bonded to form a ring. The ring formed is preferably an indole ring, pyran ring, thiopyran ring, benzoxazole ring, or benzimidazole ring, and from the viewpoint of improving the visibility of the exposed area, an indole ring is more preferable. These rings may further have a substituent.
R 16 and R 18 in Formula 1-1 are preferably the same group, and when each forms a ring, it is preferable that they form a ring with the same structure except for A 1 + and A 2 .

式1-1におけるR15及びR17は同一の基であることが好ましい。また、R15及びR17は、-R(即ち炭化水素基)であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、置換アルキル基であることが更に好ましい。 R 15 and R 17 in formula 1-1 are preferably the same group. Furthermore, R 15 and R 17 are preferably -R a (ie, a hydrocarbon group), more preferably an alkyl group, and even more preferably a substituted alkyl group.

式1-1により表される化合物において、水溶性を向上させる観点からは、R15及びR17は置換基アルキル基であることが好ましい。
15又はR17で表される置換アルキル基としては、下記式(a1)~式(a4)のいずれかで表される基が挙げられる。
In the compound represented by Formula 1-1, from the viewpoint of improving water solubility, R 15 and R 17 are preferably substituent alkyl groups.
Examples of the substituted alkyl group represented by R 15 or R 17 include groups represented by any of the following formulas (a1) to (a4).

式(a1)~式(a4)中、RW0は炭素数2~6のアルキレン基を表し、Wは単結合又は酸素原子を表し、nW1は1~45の整数を表し、RW1は炭素数1~12のアルキル基又は-C(=O)-RW5を表し、RW5は炭素数1~12のアルキル基を表し、RW2~RW4はそれぞれ独立に、単結合又は炭素数1~12のアルキレン基を表し、Mは水素原子、ナトリウム原子、カリウム原子、又は、オニウム基を表す。 In formulas (a1) to (a4), R W0 represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, W represents a single bond or an oxygen atom, n W1 represents an integer from 1 to 45, and R W1 represents a carbon Represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or -C(=O)-R W5 , R W5 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and R W2 to R W4 each independently represent a single bond or a carbon number 1 ~12 alkylene groups, and M represents a hydrogen atom, a sodium atom, a potassium atom, or an onium group.

式(a1)において、RW0で表されるアルキレン基の具体例としては、エチレン基、n-プロピレン基、イソプロピレン基、n-ブチレン基、イソブチレン基、n-ペンチレン基、イソペンチレン基、n-ヘキシル基、イソヘキシル基等が挙げられ、エチレン基、n-プロピレン基、イソプロピレン基、又はn-ブチレン基が好ましく、n-プロピレン基が特に好ましい。
W1は1~10が好ましく、1~5がより好ましく、1~3が特に好ましい。
W1で表されるアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、n-ドデシル基等が挙げられ、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、又はn-ブチル基、tert-ブチル基が好ましく、メチル基、又はエチル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。
W5で表されるアルキル基は、RW1で表されるアルキル基と同様であり、好ましい態様もRW1で表されるアルキル基の好ましい態様と同様である。
In formula (a1), specific examples of the alkylene group represented by R W0 include ethylene group, n-propylene group, isopropylene group, n-butylene group, isobutylene group, n-pentylene group, isopentylene group, n- Examples include hexyl group, isohexyl group, etc., with ethylene group, n-propylene group, isopropylene group, or n-butylene group being preferred, and n-propylene group being particularly preferred.
n W1 is preferably from 1 to 10, more preferably from 1 to 5, particularly preferably from 1 to 3.
Specific examples of the alkyl group represented by R W1 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group. group, n-hexyl group, n-octyl group, n-dodecyl group, etc., methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, or n-butyl group, tert-butyl group are preferable, and methyl group , or ethyl group is more preferable, and methyl group is particularly preferable.
The alkyl group represented by R W5 is the same as the alkyl group represented by R W1 , and its preferred embodiments are also the same as the preferred embodiments of the alkyl group represented by R W1 .

式(a1)で表される基の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、Meはメチル基、Etはエチル基を表し、*は結合部位を表す。 Specific examples of the group represented by formula (a1) are shown below, but the present disclosure is not limited thereto. In the following structural formula, Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, and * represents a bonding site.

式(a2)~式(a4)において、RW2~RW4で表されるアルキレン基の具体例としては、メチレン基、エチレン基、n-プロピレン基、イソプロピレン基、n-ブチレン基、イソブチレン基、n-ペンチレン基、イソペンチレン基、n-ヘキシル基、イソヘキシル基、n-オクチレン基、n-ドデシレン基等が挙げられ、エチレン基、n-プロピレン基、イソプロピレン基、又は、n-ブチレン基が好ましく、エチレン基、又は、n-プロピレン基が特に好ましい。
式(a3)において、2つ存在するMは同じでも異なってもよい。
In formulas (a2) to (a4), specific examples of the alkylene groups represented by R W2 to R W4 include methylene group, ethylene group, n-propylene group, isopropylene group, n-butylene group, and isobutylene group. , n-pentylene group, isopentylene group, n-hexyl group, isohexyl group, n-octylene group, n-dodecylene group, etc., and ethylene group, n-propylene group, isopropylene group, or n-butylene group Preferably, ethylene group or n-propylene group is particularly preferable.
In formula (a3), two M's may be the same or different.

式(a2)~式(a4)において、Mで表されるオニウム基としては、アンモニウム基、ヨードニウム基、ホスホニウム基、スルホニウム基等が挙げられる。
式(a2)におけるCOM、式(a2)におけるPO、及び式(a4)におけるSOMは、いずれもMが解離したアニオン構造を有していてもよい。アニオン構造の対カチオンは、A であってもよいし、式1-1中のR-Lに含まれうるカチオンであってもよい。
In formulas (a2) to (a4), the onium group represented by M includes an ammonium group, an iodonium group, a phosphonium group, a sulfonium group, and the like.
CO 2 M in formula (a2), PO 3 M 2 in formula (a2), and SO 3 M in formula (a4) may all have an anion structure in which M is dissociated. The counter cation of the anionic structure may be A 1 + or a cation that can be included in R 1 -L in Formula 1-1.

式(a1)~式(a4)で表される基の中で、式(a1)、式(a2)、又は式(a4)で表される基が好ましい。 Among the groups represented by formulas (a1) to (a4), groups represented by formula (a1), formula (a2), or formula (a4) are preferred.

式1-1におけるn11及びn12は同一であることが好ましく、いずれも、1~5の整数が好ましく、1~3の整数がより好ましく、1又は2が更に好ましく、2が特に好ましい。 In formula 1-1, n 11 and n 12 are preferably the same, each is preferably an integer of 1 to 5, more preferably 1 to 3, even more preferably 1 or 2, and particularly preferably 2.

式1-1におけるA及びAは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は窒素原子を表し、窒素原子が好ましい。
式1-1におけるA及びAは同一の原子であることが好ましい。
A 1 and A 2 in Formula 1-1 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom, preferably a nitrogen atom.
It is preferable that A 1 and A 2 in Formula 1-1 are the same atom.

式1-1におけるZaは、電荷を中和する対イオンを表す。
11~R18及びR-Lの全てが電荷的に中性の基であれば、Zaは一価の対アニオンとなる。但し、R11~R18及びR-Lは、アニオン構造又はカチオン構造を有していてもよく、例えば、R11~R18及びR-Lに2以上のアニオン構造を有する場合、Zaは対カチオンにもなり得る。
なお、式1-1で表されるシアニン色素が、Zaを除き、化合物の全体において電荷的に中性な構造であれば、Zaは必要ない。
Zaが対アニオンである場合、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、p-トルエンスルホネートイオン、過塩素酸塩イオン等が挙げられ、テトラフルオロボレートイオンが好ましい。
Zaが対カチオンである場合、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、スルホニウムイオン等が挙げられ、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、又はスルホニウムイオンが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又はアンモニウムイオンがより好ましい。
Za in Formula 1-1 represents a counter ion that neutralizes charge.
If R 11 to R 18 and R 1 -L are all charge-neutral groups, Za becomes a monovalent counter anion. However, R 11 to R 18 and R 1 -L may have an anion structure or a cation structure. For example, when R 11 to R 18 and R 1 -L have two or more anion structures, Za can also be a countercation.
Note that if the cyanine dye represented by formula 1-1 has a structure that is charge-neutral throughout the compound except for Za, Za is not necessary.
When Za is a counter anion, examples thereof include sulfonate ion, carboxylate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, p-toluenesulfonate ion, perchlorate ion, etc., and tetrafluoroborate ion is preferable.
When Za is a counter cation, examples thereof include alkali metal ions, alkaline earth metal ions, ammonium ions, pyridinium ions, sulfonium ions, etc., and sodium ions, potassium ions, ammonium ions, pyridinium ions, or sulfonium ions are preferable, and sodium ions ion, potassium ion, or ammonium ion.

分解性化合物としては、露光部の視認性を高める観点から、下記式1-2で表される化合物(即ち、シアニン色素)であることがより好ましい。 The decomposable compound is more preferably a compound represented by the following formula 1-2 (ie, cyanine dye) from the viewpoint of improving the visibility of the exposed area.

式1-2中、Rは上記式2~式4のいずれかで表される基を表し、R19~R22はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、-R、-OR、-CN、-SR、又は-NRを表し、R23及びR24はそれぞれ独立に、水素原子、又は、-Rを表し、R~Rはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、R19とR20、R21とR22、又は、R23とR24は、連結して単環又は多環を形成してもよく、Lは、酸素原子、硫黄原子、又は、-NR10-を表し、R10は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Rd1~Rd4、W及びWはそれぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表す。 In formula 1-2, R 1 represents a group represented by any of the above formulas 2 to 4, and R 19 to R 22 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, -R a , -OR b , -CN, -SR c , or -NR d R e , R 23 and R 24 each independently represent a hydrogen atom or -R a , and R a to R e each independently represent a hydrocarbon group. R 19 and R 20 , R 21 and R 22 , or R 23 and R 24 may be connected to form a monocyclic or polycyclic ring, and L is an oxygen atom, a sulfur atom, or -NR 10 -, R 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and R d1 to R d4 , W 1 and W 2 each independently represent an alkyl group which may have a substituent. , and Za represents a counter ion that neutralizes the charge.

式1-2におけるRは、式1-1におけるRと同義であり、好ましい態様も同様である。 R 1 in Formula 1-2 has the same meaning as R 1 in Formula 1-1, and preferred embodiments are also the same.

式1-2において、R19~R22は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、-R、-OR、又は-CNであることが好ましい。
より具体的には、R19及びR21は、水素原子、又は-Rであることが好ましい。
また、R20及びR22は、水素原子、-R、-OR、又は-CNであることが好ましい。
19~R22で表される-Rとしては、アルキル基、又はアルケニル基が好ましい。
19~R22のすべてが-Rである場合、R19とR20及びR21とR22が連結して単環又は多環を形成することが好ましい。
19とR20又はR21とR22が連結して形成される環としては、ベンゼン環、ナフタレン環等が挙げられる。
In formula 1-2, R 19 to R 22 are preferably each independently a hydrogen atom, a halogen atom, -R a , -OR b , or -CN.
More specifically, R 19 and R 21 are preferably hydrogen atoms or -R a .
Further, R 20 and R 22 are preferably a hydrogen atom, -R a , -OR b , or -CN.
-R a represented by R 19 to R 22 is preferably an alkyl group or an alkenyl group.
When all of R 19 to R 22 are -R a , it is preferable that R 19 and R 20 and R 21 and R 22 are linked to form a monocyclic ring or a polycyclic ring.
Examples of the ring formed by connecting R 19 and R 20 or R 21 and R 22 include a benzene ring and a naphthalene ring.

式1-2において、R23とR24は、連結して単環又は多環を形成していることが好ましい。
23とR24が連結して形成される環としては、単環であってもよく、多環であってもよい。形成される環として、具体的には、シクロペンテン環、シクロペンタジエン環、シクロヘキセン環、シクロヘキサジエン環等の単環、及び、インデン環等の多環が挙げられる。
In formula 1-2, R 23 and R 24 are preferably connected to form a monocyclic or polycyclic ring.
The ring formed by connecting R 23 and R 24 may be monocyclic or polycyclic. Specific examples of the ring formed include monocycles such as a cyclopentene ring, cyclopentadiene ring, cyclohexene ring, and cyclohexadiene ring, and polycycles such as an indene ring.

式1-2において、Rd1~Rd4は、無置換アルキル基であることが好ましい。また、Rd1~Rd4は、いずれも同一の基であることが好ましい。
無置換アルキル基としては、炭素数1~4の無置換アルキル基が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。
In formula 1-2, R d1 to R d4 are preferably unsubstituted alkyl groups. Further, it is preferable that R d1 to R d4 are all the same group.
Examples of the unsubstituted alkyl group include unsubstituted alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, and among them, a methyl group is preferred.

式1-2において、W及びWはそれぞれ独立に、式1-2で表される化合物に水溶性を高める観点から、置換アルキル基であることが好ましい。
及びWで表される置換アルキル基としては、式1-1における式(a1)~式(a4)のいずれかで表される基が挙げられ、好ましい態様も同様である。
また、W及びWはそれぞれ独立に、機上現像性の観点から、置換基を有するアルキル基であり、かつ、上記置換基として、-(OCHCH)-、スルホ基、スルホ基の塩、カルボキシ基、又は、カルボキシ基の塩を少なくとも有する基であることが好ましい。
In formula 1-2, W 1 and W 2 are each independently preferably substituted alkyl groups from the viewpoint of increasing the water solubility of the compound represented by formula 1-2.
Examples of the substituted alkyl group represented by W 1 and W 2 include groups represented by any of formulas (a1) to (a4) in formula 1-1, and preferred embodiments are also the same.
Further, W 1 and W 2 are each independently an alkyl group having a substituent from the viewpoint of on-press developability, and the above-mentioned substituent is -(OCH 2 CH 2 )-, a sulfo group, a sulfo group. A group having at least a salt of a carboxy group, a carboxy group, or a salt of a carboxy group is preferable.

Zaは、分子内の電荷を中和する対イオンを表す。
19~R22、R23~R24、Rd1~Rd4、W、W、及び、R-Lの全てが電荷的に中性の基であれば、Zaは一価の対アニオンとなる。但し、R19~R22、R23~R24、Rd1~Rd4、W、W、及び、R-Lは、アニオン構造又はカチオン構造を有していてもよく、例えば、R19~R22、R23~R24、Rd1~Rd4、W、W、及び、R-Lに2以上のアニオン構造を有する場合、Zaは対カチオンにもなり得る。
なお、式1-2で表される化合物が、Zaを除き、化合物の全体において電荷的に中性な構造であれば、Zaは必要ない。
Zaが対アニオンである場合の例は、式1-1におけるZaと同様であり、好ましい態様も同様である。また、Zaが対カチオンである場合の例も、式1-1におけるZaと同様であり、好ましい態様も同様である。
Za represents a counter ion that neutralizes the charge within the molecule.
If R 19 to R 22 , R 23 to R 24 , R d1 to R d4 , W 1 , W 2 , and R 1 -L are all charge-neutral groups, then Za is a monovalent pair. Becomes an anion. However, R 19 to R 22 , R 23 to R 24 , R d1 to R d4 , W 1 , W 2 , and R 1 -L may have an anion structure or a cation structure, for example, R When 19 to R 22 , R 23 to R 24 , R d1 to R d4 , W 1 , W 2 , and R 1 -L have two or more anion structures, Za can also serve as a counter cation.
Note that if the compound represented by Formula 1-2 has a charge-neutral structure as a whole except for Za, Za is not necessary.
Examples where Za is a counter anion are the same as Za in Formula 1-1, and preferred embodiments are also the same. Furthermore, examples where Za is a counter cation are the same as Za in Formula 1-1, and preferred embodiments are also the same.

分解性化合物としてのシアニン色素は、分解性、及び、発色性の観点から、下記式1-3~式1-7のいずれかで表される化合物であることが更に好ましい。
特に、分解性、及び、発色性の観点から、式1-3、式1-5、及び式1-6のいずれかで表される化合物であることが好ましい。
The cyanine dye as the degradable compound is more preferably a compound represented by any one of the following formulas 1-3 to 1-7 from the viewpoint of degradability and color development.
In particular, from the viewpoint of decomposability and color development, compounds represented by any one of formulas 1-3, 1-5, and 1-6 are preferred.

式1-3~式1-7中、Rは上記式2~式4のいずれかで表される基を表し、R19~R22はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、-R、-OR、-CN、-SR、又は、-NRを表し、R25及びR26はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は、-Rを表し、R~Rはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、R19とR20、R21とR22、又は、R25とR26は、連結して単環又は多環を形成してもよく、Lは、酸素原子、硫黄原子、又は、-NR10-を表し、R10は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Rd1~Rd4、W及びWは、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表す。 In formulas 1-3 to 1-7, R 1 represents a group represented by any of the above formulas 2 to 4, and R 19 to R 22 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, -R a , -OR b , -CN, -SR c , or -NR d Re ; R 25 and R 26 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or -R a ; R a to R e each independently represents a hydrocarbon group, R 19 and R 20 , R 21 and R 22 , or R 25 and R 26 may be connected to form a monocyclic or polycyclic ring, and L is , represents an oxygen atom, a sulfur atom, or -NR 10 -, R 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and R d1 to R d4 , W 1 and W 2 are each independently, It represents an alkyl group that may have a substituent, and Za represents a counter ion that neutralizes the charge.

式1-3~式1-7におけるR、R19~R22、Rd1~Rd4、W、W、及びLは、式1-2におけるR、R19~R22、Rd1~Rd4、W、W、及びLと同義であり、好ましい態様も同様である。
式1-7におけるR25及びR26はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
R 1 , R 19 to R 22 , R d1 to R d4 , W 1 , W 2 , and L in Formulas 1-3 to 1-7 are R 1 , R 19 to R 22 , and R in Formula 1-2. It has the same meaning as d1 to R d4 , W 1 , W 2 , and L, and its preferred embodiments are also the same.
R 25 and R 26 in Formula 1-7 are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably an alkyl group, and particularly preferably a methyl group.

以下に、分解性化合物のシアニン色素の具体例を挙げるが、本開示はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of cyanine dyes as decomposable compounds are listed below, but the present disclosure is not limited thereto.

また、分解性化合物であるシアニン色素は、国際公開第2019/219560号に記載の赤外線吸収性化合物を好適に用いることができる。 Further, as the cyanine dye which is a decomposable compound, an infrared absorbing compound described in International Publication No. 2019/219560 can be suitably used.

また、変色性化合物としては、酸発色剤を用いてもよい。
酸発色剤としては、画像記録層において酸発色剤として記載したものを用いることができ、好ましい態様も同様である。
Further, as the color-changing compound, an acid color former may be used.
As the acid color former, those described as acid color formers in the image recording layer can be used, and preferred embodiments are also the same.

変色性化合物は、1種単独で用いてもよいし、2種類以上の成分を組み合わせて使用してもよい。
変色性化合物としては、既述の酸発色剤と後述の酸発生剤とを組み合わせて使用してもよい。
The color-changing compound may be used alone or in combination of two or more components.
As the color-changing compound, the acid color forming agent described above and the acid generator described below may be used in combination.

最外層中の変色性化合物の含有量は、発色性の観点から、最外層の全質量に対し、0.10質量%~50質量%が好ましく、0.50質量%~30質量%がより好ましく、1.0質量%~20質量%が更に好ましい。 The content of the color-changing compound in the outermost layer is preferably 0.10% by mass to 50% by mass, more preferably 0.50% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the outermost layer, from the viewpoint of color development. , more preferably 1.0% by mass to 20% by mass.

上記最外層の上記変色性化合物の含有量Mと上記画像記録層の上記赤外線吸収剤の含有量Mとの比M/Mが、発色性の観点から、0.1以上であることが好ましく、0.2以上がより好ましく、0.3以上3.0以下が特に好ましい。 From the viewpoint of color development, the ratio M X / M Y of the content M It is preferably 0.2 or more, more preferably 0.3 or more and 3.0 or less.

〔その他の成分〕
最外層は、変色性化合物以外に、水溶性ポリマー、疎水性ポリマー、感脂化剤、酸発生剤、赤外線吸収剤、無機層状化合物等の、その他の成分を含んでいてもよい。
以下、その他の成分について説明する。
[Other ingredients]
In addition to the color-changing compound, the outermost layer may contain other components such as a water-soluble polymer, a hydrophobic polymer, a fat-sensitizing agent, an acid generator, an infrared absorber, and an inorganic layered compound.
The other components will be explained below.

[水溶性ポリマー]
上記最外層は、機上現像性の観点から、水溶性ポリマーを含むことが好ましい。
本開示において、水溶性ポリマーとは、125℃、100gの純水に対して5g以上で溶解し、かつ、125℃、100gの純水に対して5gのポリマーが溶解した溶液を25℃に冷却しても析出しないポリマーをいう。
最外層に用いられる水溶性ポリマーとしては、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリエチレングリコール、ポリ(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。
変性ポリビニルアルコールとしてはカルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005-250216号公報及び特開2006-259137号公報に記載の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
[Water-soluble polymer]
The outermost layer preferably contains a water-soluble polymer from the viewpoint of on-press developability.
In the present disclosure, a water-soluble polymer refers to a solution in which 5 g or more of the polymer is dissolved in 100 g of pure water at 125°C, and a solution in which 5 g of the polymer is dissolved in 100 g of pure water at 125°C is cooled to 25°C. refers to polymers that do not precipitate even when
Examples of the water-soluble polymer used in the outermost layer include polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, water-soluble cellulose derivatives, polyethylene glycol, and poly(meth)acrylonitrile.
As the modified polyvinyl alcohol, acid-modified polyvinyl alcohol having a carboxy group or a sulfo group is preferably used. Specifically, modified polyvinyl alcohols described in JP-A-2005-250216 and JP-A-2006-259137 can be mentioned.

上記水溶性ポリマーとしては、ポリビニルアルコールが好ましいものとして挙げられる。中でも、水溶性ポリマーとしては、けん化度が50%以上であるポリビニルアルコールを用いることが更に好ましい。
上記けん化度は、60%以上が好ましく、70%以上がより好ましく、85%以上が更に好ましい。けん化度の上限は特に限定されず、100%以下であればよい。
上記けん化度は、JIS K 6726:1994に記載の方法に従い測定される。
Preferred examples of the water-soluble polymer include polyvinyl alcohol. Among these, it is more preferable to use polyvinyl alcohol having a saponification degree of 50% or more as the water-soluble polymer.
The saponification degree is preferably 60% or more, more preferably 70% or more, and even more preferably 85% or more. The upper limit of the degree of saponification is not particularly limited, and may be 100% or less.
The saponification degree is measured according to the method described in JIS K 6726:1994.

上記水溶性ポリマーとしては、ポリビニルピロリドンも好ましいものとして挙げられる。
親水性ポリマーとしては、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとを組み合わせて使用することも好ましい。
Polyvinylpyrrolidone is also preferred as the water-soluble polymer.
As the hydrophilic polymer, it is also preferable to use polyvinyl alcohol and polyvinylpyrrolidone in combination.

水溶性ポリマーは、1種単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。 One type of water-soluble polymer may be used alone, or two or more types may be used in combination.

最外層が水溶性ポリマーを含む場合、水溶性ポリマーの含有量は、最外層の全質量に対して、1質量%~99質量%であることが好ましく、3質量%~97質量%であることがより好ましく、5質量%~95質量%であることが更に好ましい。 When the outermost layer contains a water-soluble polymer, the content of the water-soluble polymer is preferably 1% by mass to 99% by mass, and 3% by mass to 97% by mass, based on the total mass of the outermost layer. is more preferable, and even more preferably 5% by mass to 95% by mass.

[疎水性ポリマー]
最外層は、疎水性ポリマーを含んでいてもよい。
疎水性ポリマーとは、125℃、100gの純水に対し5g未満で溶解するか、又は、溶解しないポリマーをいう。
疎水性ポリマーとしては、例えば、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ(メタ)アクリル酸アルキルエステル(例えば、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸エチル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル等)、これらのポリマーの原料モノマーを組み合わせた共重合体等が挙げられる。
また、疎水性ポリマーとしては、ポリビニリデンクロライド樹脂を含むことが好ましい。
更に、疎水性ポリマーとしては、スチレン-アクリル共重合体を含むことが好ましい。

更にまた、疎水性ポリマーは、機上現像性の観点から、疎水性ポリマー粒子であることが好ましい。
[Hydrophobic polymer]
The outermost layer may include a hydrophobic polymer.
A hydrophobic polymer refers to a polymer that dissolves in less than 5 g in 100 g of pure water at 125° C. or does not dissolve in it.
Examples of hydrophobic polymers include polyethylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, poly(meth)acrylic acid alkyl esters (e.g., poly(meth)methyl acrylate, poly(meth)ethyl acrylate, poly(meth)ethyl acrylate, ) butyl acrylate, etc.), and copolymers made by combining raw material monomers of these polymers.
Moreover, it is preferable that the hydrophobic polymer includes polyvinylidene chloride resin.
Furthermore, the hydrophobic polymer preferably includes a styrene-acrylic copolymer.

Furthermore, the hydrophobic polymer is preferably hydrophobic polymer particles from the viewpoint of on-press developability.

疎水性ポリマーは、1種単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。 One type of hydrophobic polymer may be used alone, or two or more types may be used in combination.

最外層が疎水性ポリマーを含む場合、疎水性ポリマーの含有量は、最外層の全質量に対して、1質量%~80質量%であることが好ましく、5質量%~50質量%であることがより好ましい。 When the outermost layer contains a hydrophobic polymer, the content of the hydrophobic polymer is preferably 1% by mass to 80% by mass, and 5% by mass to 50% by mass, based on the total mass of the outermost layer. is more preferable.

本開示において、疎水性ポリマーの最外層表面における占有面積率が30面積%以上であることが好ましく、40面積%以上であることがより好ましく、50面積%以上であることが更に好ましい。
疎水性ポリマーの最外層表面における占有面積率の上限としては、例えば、90面積%が挙げられる。
疎水性ポリマーの最外層表面における占有面積率は、以下のようにして測定することができる。
アルバック・ファイ社製PHI nano TOFII型飛行時間型二次イオン質量分析装置(TOF-SIMS)を用い、最外層表面に加速電圧30kVでBiイオンビーム(一次イオン)を照射し、表面から放出される疎水部(即ち、疎水性ポリマーによる領域)に相当するイオン(二次イオン)のピークを測定することで、疎水部のマッピングを行い、1μmあたりに占める疎水部の面積を測定し、疎水部の占有面積率を求め、これを「疎水性ポリマーの最外層表面における占有面積率」とする。
例えば、疎水性ポリマーがアクリル樹脂である場合は、C13のピークにより測定を行う。また、疎水性ポリマーがポリ塩化ビニリデンである場合は、CClのピークにより測定を行う。
上記占有面積率は、疎水性ポリマーの添加量等によって、調整しうる。
In the present disclosure, the occupied area ratio of the hydrophobic polymer on the surface of the outermost layer is preferably 30 area % or more, more preferably 40 area % or more, and even more preferably 50 area % or more.
The upper limit of the occupied area ratio of the hydrophobic polymer on the surface of the outermost layer is, for example, 90 area %.
The area ratio occupied by the hydrophobic polymer on the surface of the outermost layer can be measured as follows.
Using a PHI nano TOFII time-of-flight secondary ion mass spectrometer (TOF-SIMS) manufactured by ULVAC-PHI, the surface of the outermost layer is irradiated with a Bi ion beam (primary ions) at an acceleration voltage of 30 kV, and the Bi ion beam (primary ions) is emitted from the surface. The hydrophobic region is mapped by measuring the peak of ions (secondary ions) corresponding to the hydrophobic region (that is, the area formed by the hydrophobic polymer), and the area of the hydrophobic region occupied per 1 μm 2 is measured. The occupied area ratio of the hydrophobic polymer is determined, and this is defined as the "occupied area ratio on the surface of the outermost layer of the hydrophobic polymer."
For example, when the hydrophobic polymer is an acrylic resin, measurement is performed using the C 6 H 13 O - peak. Furthermore, when the hydrophobic polymer is polyvinylidene chloride, measurement is performed using the C 2 H 2 Cl + peak.
The occupied area ratio can be adjusted by adjusting the amount of hydrophobic polymer added.

[感脂化剤]
最外層は、インキ着肉性の観点から、感脂化剤を含んでいてもよい。
最外層に用いられる感脂化剤としては、上記画像記録層において記載した感脂化剤を用いることができ、好ましい態様も同様である。
[Sensitizing agent]
The outermost layer may contain a fat-sensitizing agent from the viewpoint of ink receptivity.
As the oil sensitizing agent used in the outermost layer, the oil sensitizing agents described in the above image recording layer can be used, and the preferred embodiments are also the same.

感脂化剤は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
最外層が感脂化剤を含む場合、感脂化剤の含有量は、最外層の全質量に対して、0.5 質量%~30質量%であることが好ましく、1質量%~20質量%であることがより好ましい。
The oil sensitizers may be used alone or in combination of two or more.
When the outermost layer contains an oil-sensitizing agent, the content of the oil-sensitizing agent is preferably 0.5% by mass to 30% by mass, and 1% by mass to 20% by mass, based on the total mass of the outermost layer. % is more preferable.

[酸発生剤]
最外層は、変色性化合物として、酸発生剤を含むことが好ましい。
本開示における「酸発生剤」とは、光又は熱により酸を発生する化合物であり、具体的には、赤外線露光によって分解し酸を発生する化合物をいう。
発生する酸としては、スルホン酸、塩酸等のpKaが2以下の強酸であることが好ましい。酸発生剤から発生した酸によって、既述の酸発色剤が変色することができる。
[Acid generator]
The outermost layer preferably contains an acid generator as a color-changing compound.
The term "acid generator" in the present disclosure refers to a compound that generates an acid when exposed to light or heat, and specifically refers to a compound that decomposes and generates an acid when exposed to infrared light.
The generated acid is preferably a strong acid having a pKa of 2 or less, such as sulfonic acid or hydrochloric acid. The acid color former described above can change color due to the acid generated from the acid generator.

酸発生剤として具体的には、感度と安定性の観点から、オニウム塩化合物が好ましい。
酸発生剤として好適なオニウム塩の具体例は、国際公開第2016/047392号の段落0121~段落0124に記載された化合物が挙げられる。
中でも、トリアリールスルホニウム、又は、ジアリールヨードニウムの、スルホン酸塩、カルボン酸塩、BPh 、BF 、PF 、ClO などが好ましい。ここで、Phはフェニル基を表す。
Specifically, from the viewpoint of sensitivity and stability, onium salt compounds are preferable as the acid generator.
Specific examples of onium salts suitable as acid generators include compounds described in paragraphs 0121 to 0124 of International Publication No. 2016/047392.
Among these, sulfonates, carboxylates, BPh 4 , BF 4 , PF 6 , ClO 4 and the like of triarylsulfonium or diaryliodonium are preferable. Here, Ph represents a phenyl group.

酸発生剤は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
最外層が酸発生剤を含む場合、酸発生剤の含有量は、最外層の全質量に対して、0.5質量%~30質量%であることが好ましく、1質量%~20質量%であることがより好ましい。
The acid generators may be used alone or in combination of two or more.
When the outermost layer contains an acid generator, the content of the acid generator is preferably 0.5% to 30% by mass, and 1% to 20% by mass, based on the total mass of the outermost layer. It is more preferable that there be.

本開示において、最外層は酸素遮断により画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層表面の傷の発生防止、及び高照度レーザー露光時のアブレーション防止の機能を有していてもよい。 In the present disclosure, the outermost layer may have the function of suppressing image formation inhibiting reactions by blocking oxygen, as well as the function of preventing scratches on the surface of the image recording layer and preventing ablation during high-intensity laser exposure.

このような特性の最外層については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書及び特公昭55-49729号公報に記載されている。最外層に用いられる酸素低透過性のポリマーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて2種類以上を混合して使用することもできる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。
変性ポリビニルアルコールとしてはカルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005-250216号公報及び特開2006-259137号公報に記載の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
The outermost layer having such characteristics is described, for example, in US Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729. As the low oxygen permeability polymer used in the outermost layer, either a water-soluble polymer or a water-insoluble polymer can be selected and used as appropriate, and two or more types can be mixed and used as necessary. can. Specific examples include polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, water-soluble cellulose derivatives, poly(meth)acrylonitrile, and the like.
As the modified polyvinyl alcohol, acid-modified polyvinyl alcohol having a carboxy group or a sulfo group is preferably used. Specifically, modified polyvinyl alcohols described in JP-A-2005-250216 and JP-A-2006-259137 can be mentioned.

[無機層状化合物]
最外層は、酸素遮断性を高めるために無機層状化合物を含有することが好ましい。無機層状化合物は、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、天然雲母、合成雲母等の雲母群、式:3MgO・4SiO・HOで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウム等が挙げられる。
好ましく用いられる無機層状化合物は雲母化合物である。雲母化合物としては、例えば、式:A(B,C)2-510(OH,F,O)〔ただし、Aは、K、Na、Caのいずれか、B及びCは、Fe(II)、Fe(III)、Mn、Al、Mg、Vのいずれかであり、Dは、Si又はAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群が挙げられる。
[Inorganic layered compound]
The outermost layer preferably contains an inorganic layered compound to enhance oxygen barrier properties. Inorganic layered compounds are particles having a thin tabular shape, and include, for example, mica groups such as natural mica and synthetic mica, talc represented by the formula: 3MgO・4SiO・H 2 O, taeniolite, montmorillonite, saponite, and hectite. Examples include light, zirconium phosphate, and the like.
The preferably used inorganic layered compound is a mica compound. As a mica compound, for example, the formula: A(B,C) 2-5 D 4 O 10 (OH, F, O) 2 [wherein A is K, Na, or Ca, and B and C are It is any one of Fe(II), Fe(III), Mn, Al, Mg, and V, and D is Si or Al. Examples include mica groups such as natural mica and synthetic mica represented by ].

雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げられる。合成雲母としてはフッ素金雲母KMg(AlSi10)F、カリ四ケイ素雲母KMg2.5Si10)F等の非膨潤性雲母、及び、NaテトラシリリックマイカNaMg2.5(Si10)F、Na又はLiテニオライト(Na,Li)MgLi(Si10)F、モンモリロナイト系のNa又はLiヘクトライト(Na,Li)1/8Mg2/5Li1/8(Si10)F等の膨潤性雲母等が挙げられる。更に合成スメクタイトも有用である。 In the mica group, natural micas include muscovite, soda mica, phlogopite, biotite, and lepidolite. Examples of synthetic micas include non-swellable micas such as fluorophlogopite KMg 3 (AlSi 3 O 10 )F 2 , potassium tetrasilicon mica KMg 2.5 Si 4 O 10 )F 2 , and Na tetrasilylic mica NaMg 2. 5 (Si 4 O 10 ) F 2 , Na or Li taeniolite (Na, Li) Mg 2 Li (Si 4 O 10 ) F 2 , montmorillonite-based Na or Li hectorite (Na, Li) 1/8 Mg 2/ Examples include swellable mica such as 5 Li 1/8 (Si 4 O 10 ) F 2 . Also useful are synthetic smectites.

上記の雲母化合物の中でも、フッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、膨潤性合成雲母は、10Å~15Å(1Å=0.1nm)程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘土鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にLi、Na、Ca2+、Mg2+等の陽イオンを吸着している。これらの層間に介在している陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換し得る。特に、層間の陽イオンがLi、Naの場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、特に好ましく用いられる。 Among the above mica compounds, fluorine-based swellable mica is particularly useful. That is, swellable synthetic mica has a layered structure consisting of unit crystal lattice layers with a thickness of about 10 Å to 15 Å (1 Å = 0.1 nm), and the substitution of metal atoms in the lattice is significantly larger than that of other clay minerals. As a result, the lattice layer lacks positive charge, and to compensate for this, cations such as Li + , Na + , Ca 2+ , Mg 2+ are adsorbed between the layers. The cations interposed between these layers are called exchangeable cations and can be exchanged with various cations. In particular, when the cation between the layers is Li + or Na + , the ionic radius is small, so the bond between the layered crystal lattices is weak, and the layer swells greatly with water. When shear is applied in this state, it cleaves easily and forms a stable sol in water. Swellable synthetic mica has this tendency and is particularly preferably used.

雲母化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きい程よい。従って、アスペクト比は、好ましくは20以上であり、より好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。アスペクト比は粒子の厚さに対する長径の比であり、例えば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。 Regarding the shape of the mica compound, from the viewpoint of diffusion control, the thinner the thickness, the better, and the larger the plane size, as long as it does not impede the smoothness of the coated surface or the transmittance of actinic rays. Therefore, the aspect ratio is preferably 20 or more, more preferably 100 or more, particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the major axis to the thickness of a particle, and can be measured, for example, from a projection of a microscopic photograph of the particle. The larger the aspect ratio, the greater the effect obtained.

雲母化合物の粒子径は、その平均長径が、好ましくは0.3μm~20μm、より好ましくは0.5μm~10μm、特に好ましくは1μm~5μmである。粒子の平均の厚さは、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.05μm以下、特に好ましくは0.01μm以下である。具体的には、例えば、代表的化合物である膨潤性合成雲母の場合、好ましい態様としては、厚さが1nm~50nm程度、面サイズ(長径)が1μm~20μm程度である。 The particle diameter of the mica compound is preferably 0.3 μm to 20 μm, more preferably 0.5 μm to 10 μm, particularly preferably 1 μm to 5 μm. The average thickness of the particles is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.05 μm or less, particularly preferably 0.01 μm or less. Specifically, for example, in the case of swellable synthetic mica, which is a typical compound, preferred embodiments include a thickness of about 1 nm to 50 nm and a surface size (longer axis) of about 1 μm to 20 μm.

無機層状化合物の含有量は、最外層の全固形分に対して、1質量%~60質量%が好ましく、3質量%~50質量%がより好ましい。複数種の無機層状化合物を併用する場合でも、無機層状化合物の合計量が上記の含有量であることが好ましい。上記範囲で酸素遮断性が向上し、良好な感度が得られる。また、着肉性の低下を防止できる。 The content of the inorganic layered compound is preferably 1% by mass to 60% by mass, more preferably 3% by mass to 50% by mass, based on the total solid content of the outermost layer. Even when multiple types of inorganic layered compounds are used together, it is preferable that the total amount of the inorganic layered compounds is the above content. Within the above range, oxygen barrier properties are improved and good sensitivity can be obtained. Further, it is possible to prevent deterioration in ink receptivity.

最外層は、既述の成分以外にも、可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御するための無機粒子等の公知の添加物を含んでいてもよい。 In addition to the above-mentioned components, the outermost layer contains known additives such as a plasticizer to impart flexibility, a surfactant to improve coating properties, and inorganic particles to control surface slipperiness. May contain.

最外層は、公知の方法で塗布され、乾燥することで形成される。
最外層の塗布量(固形分)は、0.01g/m~10g/mが好ましく、0.02g/m~3g/mがより好ましく、0.1g/m~2.0g/mが特に好ましい。
最外層の膜厚は、0.1μm~5.0μmであることが好ましく、0.3μm~4.0μmであることがより好ましい。
The outermost layer is formed by applying and drying by a known method.
The coating amount (solid content) of the outermost layer is preferably 0.01 g/m 2 to 10 g/m 2 , more preferably 0.02 g/m 2 to 3 g/m 2 , and 0.1 g/m 2 to 2.0 g /m 2 is particularly preferred.
The thickness of the outermost layer is preferably 0.1 μm to 5.0 μm, more preferably 0.3 μm to 4.0 μm.

最外層の膜厚は、後述する画像記録層の膜厚に対し、0.1倍~5.0倍であることが好ましく、0.2倍~3.0倍であることがより好ましい。 The thickness of the outermost layer is preferably 0.1 to 5.0 times, more preferably 0.2 to 3.0 times, the thickness of the image recording layer described below.

<支持体>
本開示に係る平版印刷版原版は、支持体を有する。
支持体としては、公知の平版印刷版原版用支持体から適宜選択して用いることができる。
支持体としては、親水性表面を有する支持体(以下、「親水性支持体」ともいう)が好ましい。
<Support>
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure has a support.
The support can be appropriately selected from known supports for lithographic printing plate precursors.
As the support, a support having a hydrophilic surface (hereinafter also referred to as "hydrophilic support") is preferable.

本開示における支持体としては、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。即ち、本開示における支持体は、アルミニウム板とアルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有することが好ましい。 The support in the present disclosure is preferably an aluminum plate that has been roughened and anodized by a known method. That is, the support in the present disclosure preferably includes an aluminum plate and an aluminum anodic oxide film disposed on the aluminum plate.

[支持体の好ましい態様]
本開示において用いられる支持体の好ましい態様の一例(本一例に係るアルミニウム支持体を、「支持体(1)」ともいう。)を以下に示す。
即ち、支持体(1)は、アルミニウム板と、上記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、上記陽極酸化皮膜が、上記アルミニウム板よりも上記画像記録層側に位置し、上記陽極酸化皮膜が、上記画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、上記マイクロポアの上記陽極酸化皮膜表面における平均径が10nmを超え100nm以下である。
なお、上記陽極酸化皮膜の上記画像記録層側の表面のL表色系における明度Lの値が、70~100であることが好ましい。
[Preferred embodiment of support]
An example of a preferred embodiment of the support used in the present disclosure (the aluminum support according to this example is also referred to as "support (1)") is shown below.
That is, the support (1) has an aluminum plate and an aluminum anodic oxide film disposed on the aluminum plate, and the anodic oxide film is located closer to the image recording layer than the aluminum plate. , the anodic oxide film has micropores extending in the depth direction from the surface on the image recording layer side, and the average diameter of the micropores on the surface of the anodic oxide film is more than 10 nm and less than 100 nm.
Note that the value of lightness L * in the L * a * b * color system of the surface of the anodic oxide film on the image recording layer side is preferably 70 to 100.

図1は、アルミニウム支持体12aの一実施形態の模式的断面図である。
アルミニウム支持体12aは、アルミニウム板18とアルミニウムの陽極酸化皮膜20a(以後、単に「陽極酸化皮膜20a」とも称する)とをこの順で積層した積層構造を有する。なお、アルミニウム支持体12a中の陽極酸化皮膜20aが、アルミニウム板18よりも画像記録層側に位置する。つまり、本開示に係る平版印刷版原版は、アルミニウム板上に、陽極酸化皮膜、画像記録層、及び水溶性樹脂層をこの順で少なくとも有することが好ましい。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of one embodiment of an aluminum support 12a.
The aluminum support 12a has a laminated structure in which an aluminum plate 18 and an aluminum anodic oxide film 20a (hereinafter also simply referred to as "anodized film 20a") are laminated in this order. Note that the anodic oxide film 20a in the aluminum support 12a is located closer to the image recording layer than the aluminum plate 18 is. That is, the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably has at least an anodized film, an image recording layer, and a water-soluble resin layer in this order on an aluminum plate.

-陽極酸化皮膜-
以下、陽極酸化皮膜20aの好ましい態様について説明する。
陽極酸化皮膜20aは、陽極酸化処理によってアルミニウム板18の表面に作製される皮膜であって、この皮膜は、皮膜表面に略垂直であり、かつ、個々が均一に分布した極微細なマイクロポア22aを有する。マイクロポア22aは、画像記録層側の陽極酸化皮膜20a表面(アルミニウム板18側とは反対側の陽極酸化皮膜20a表面)から厚み方向(アルミニウム板18側)に沿ってのびる。
-Anodized film-
Hereinafter, preferred embodiments of the anodic oxide film 20a will be described.
The anodic oxide film 20a is a film produced on the surface of the aluminum plate 18 by anodizing treatment, and this film is substantially perpendicular to the film surface and is made up of extremely fine micropores 22a, each of which is uniformly distributed. has. The micropores 22a extend along the thickness direction (aluminum plate 18 side) from the surface of the anodic oxide film 20a on the image recording layer side (the surface of the anodic oxide film 20a on the side opposite to the aluminum plate 18 side).

陽極酸化皮膜20a中のマイクロポア22aの陽極酸化皮膜表面における平均径(平均開口径)は、10nm超え100nm以下であることが好ましい。中でも、耐刷性、耐汚れ性、及び画像視認性のバランスの点から、15nm~60nmがより好ましく、20nm~50nmが更に好ましく、25~40nmが特に好ましい。ポア内部の径は、表層よりも広がっても狭まってもよい。
平均径が10nmを超えれば、耐刷性及び画像視認性が更に優れる。また、平均径が100nm以下であれば場合、耐刷性が更に優れる。
マイクロポア22aの平均径は、陽極酸化皮膜20a表面を倍率15万倍の電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM)でN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400nm×600nmの範囲に存在するマイクロポアの径(直径)を50箇所測定し、算術平均値として算出される。
なお、マイクロポア22aの形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
The average diameter (average opening diameter) of the micropores 22a in the anodic oxide film 20a on the surface of the anodic oxide film is preferably greater than 10 nm and less than or equal to 100 nm. Among these, from the viewpoint of the balance between printing durability, stain resistance, and image visibility, 15 nm to 60 nm is more preferable, even more preferably 20 nm to 50 nm, and particularly preferably 25 to 40 nm. The diameter inside the pore may be wider or narrower than the surface layer.
If the average diameter exceeds 10 nm, printing durability and image visibility will be even better. Moreover, if the average diameter is 100 nm or less, printing durability is even better.
The average diameter of the micropores 22a is 400 nm x 600 nm in the four images obtained by observing the surface of the anodic oxide film 20a with a field emission scanning electron microscope (FE-SEM) at a magnification of 150,000 times. The diameters of micropores existing in the range of 50 are measured and calculated as the arithmetic mean value.
Note that when the shape of the micropore 22a is not circular, the equivalent circular diameter is used. "Equivalent circle diameter" is the diameter of a circle when the shape of the opening is assumed to be a circle having the same projected area as the projected area of the opening.

マイクロポア22aの深さは特に制限されないが、10nm~3,000nmが好ましく、50nm~2,000nmがより好ましく、300nm~1,600nmが更に好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜20aの断面の写真(15万倍)をとり、25個以上のマイクロポア22aの深さを測定し、平均した値である。
The depth of the micropores 22a is not particularly limited, but is preferably 10 nm to 3,000 nm, more preferably 50 nm to 2,000 nm, and even more preferably 300 nm to 1,600 nm.
Note that the above-mentioned depth is a value obtained by taking a photograph (150,000 times) of the cross section of the anodic oxide film 20a, measuring the depths of 25 or more micropores 22a, and averaging the results.

マイクロポア22aの形状は特に制限されず、図2では、略直管状(略円柱状)であるが、深さ方向(厚み方向)に向かって径が小さくなる円錐状であってもよい。また、マイクロポア22aの底部の形状は特に制限されず、曲面状(凸状)であっても、平面状であってもよい。 The shape of the micropore 22a is not particularly limited, and in FIG. 2, it has a substantially straight tube shape (substantially cylindrical shape), but it may also have a conical shape whose diameter decreases toward the depth direction (thickness direction). Further, the shape of the bottom of the micropore 22a is not particularly limited, and may be curved (convex) or planar.

アルミニウム支持体12aの画像記録層側の表面(陽極酸化皮膜20aの画像記録層側の表面)のL表色系における明度Lの値は、70~100であることが好ましい。中でも、耐刷性及び画像視認性のバランスがより優れる点で、75~100が好ましく、75~90がより好ましい。
上記明度Lの測定は、エックスライト(株)製、色彩色差計Spectro Eyeを用いて測定する。
The value of lightness L * in the L * a * b * color system of the surface of the aluminum support 12a on the image recording layer side (the surface of the anodic oxide film 20a on the image recording layer side) is preferably 70 to 100. . Among these, 75 to 100 is preferable, and 75 to 90 is more preferable, since the balance between printing durability and image visibility is more excellent.
The above-mentioned lightness L * is measured using a color difference meter Spectro Eye manufactured by X-Rite Co., Ltd.

支持体(1)において、上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ10nm~1,000nmの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ20nm~2,000nmの位置までのびる小径孔部とから構成され、上記大径孔部の上記陽極酸化皮膜表面における平均径が15nm~100nmであり、上記小径孔部の上記連通位置における平均径が13nm以下である態様(以下、この態様に係る支持体を、「支持体(2)」ともいう。)も好ましく挙げられる。
図2は、アルミニウム支持体12aの、図1に示したものとは別の一実施形態の模式的断面図である。
図2において、アルミニウム支持体12bは、アルミニウム板18と、大径孔部24と小径孔部26とから構成されるマイクロポア22bを有する陽極酸化皮膜20bとを含む。
陽極酸化皮膜20b中のマイクロポア22bは、陽極酸化皮膜表面から深さ10nm~1,000nm(深さD:図2参照)の位置までのびる大径孔部24と、大径孔部24の底部と連通し、連通位置から更に深さ20nm~2,000nmの位置までのびる小径孔部26とから構成される。
なお、大径孔部24及び小径孔部26の詳細に関しては、例えば、特開2019-162855号公報の段落0107~0114に記載の通りであり、この態様が本開示においても適用される。
In the support (1), the micropores communicate with a large-diameter hole extending from the surface of the anodic oxide film to a depth of 10 nm to 1,000 nm and the bottom of the large-diameter hole, and extend from the communication position to a depth of 10 nm to 1,000 nm. and a small diameter hole extending from 20 nm to 2,000 nm in diameter, the average diameter of the large diameter hole on the surface of the anodic oxide film is 15 nm to 100 nm, and the average diameter of the small diameter hole at the communicating position. is 13 nm or less (hereinafter, the support according to this embodiment is also referred to as "support (2)") is also preferably mentioned.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an embodiment of the aluminum support 12a different from that shown in FIG.
In FIG. 2, the aluminum support 12b includes an aluminum plate 18 and an anodized film 20b having micropores 22b composed of large-diameter holes 24 and small-diameter holes 26.
The micropores 22b in the anodic oxide film 20b have a large diameter hole 24 extending from the surface of the anodic oxide film to a depth of 10 nm to 1,000 nm (depth D: see FIG. 2), and a bottom of the large diameter hole 24. The small diameter hole portion 26 communicates with the hole portion 26 and extends further from the communication position to a depth of 20 nm to 2,000 nm.
Note that the details of the large-diameter hole portion 24 and the small-diameter hole portion 26 are as described in paragraphs 0107 to 0114 of JP-A-2019-162855, for example, and this aspect is also applied to the present disclosure.

[アルミニウム支持体の製造方法]
本開示におけるアルミニウム支持体の製造方法としては、例えば、以下の工程を順番に実施する製造方法が好ましい。
・粗面化処理工程:アルミニウム板に粗面化処理を施す工程
・陽極酸化処理工程:粗面化処理されたアルミニウム板を陽極酸化する工程
・ポアワイド処理工程:陽極酸化処理工程で得られた陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させ、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる工程
以下、各工程の手順について詳述する。
[Method for manufacturing aluminum support]
As the method for manufacturing the aluminum support according to the present disclosure, for example, a manufacturing method in which the following steps are performed in order is preferable.
・Surface roughening process: Process of roughening the aluminum plate ・Anodizing process: Anodizing the roughened aluminum plate ・Pore widening process: Anode obtained in the anodizing process Step of bringing an aluminum plate having an oxide film into contact with an acid aqueous solution or an alkaline aqueous solution to enlarge the diameter of micropores in the anodic oxide film. The procedure of each step will be explained in detail below.

(粗面化処理工程)
粗面化処理工程は、アルミニウム板の表面に、電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理
を施す工程である。本工程は、後述する陽極酸化処理工程の前に実施されることが好まし
いが、アルミニウム板の表面がすでに好ましい表面形状を有していれば、特に実施しなく
てもよい。
アルミニウム板に対する粗面化処理は、特開2019-162855号公報の段落0086~0101に記載された方法で行うことができる。
(Surface roughening treatment process)
The surface roughening treatment step is a step of performing a surface roughening treatment including electrochemical roughening treatment on the surface of the aluminum plate. Although this step is preferably carried out before the anodizing step described below, it may not be carried out if the surface of the aluminum plate already has a preferable surface shape.
The surface roughening treatment for the aluminum plate can be performed by the method described in paragraphs 0086 to 0101 of JP 2019-162855A.

(陽極酸化処理工程)
陽極酸化処理工程の手順は、上述したマイクロポアが得られれば特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
陽極酸化処理工程においては、硫酸、リン酸、及び、シュウ酸等の水溶液を電解浴として用いることができる。例えば、硫酸の濃度は、100g/L~300g/Lが挙げられる。
陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって適宜設定されるが、例えば、液温5℃~70℃(好ましくは10℃~60℃)、電流密度0.5A/dm~60A/dm(好ましくは5A/dm~60A/dm)、電圧1V~100V(好ましくは5V~50V)、電解時間1秒~100秒(好ましくは5秒~60秒)、及び、皮膜量0.1g/m~5g/m(好ましくは0.2g/m~3g/m)が挙げられる。
(Anodizing process)
The procedure of the anodizing process is not particularly limited as long as the above-mentioned micropores are obtained, and known methods may be used.
In the anodizing process, an aqueous solution of sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, or the like can be used as an electrolytic bath. For example, the concentration of sulfuric acid may be 100 g/L to 300 g/L.
The conditions for the anodizing treatment are appropriately set depending on the electrolytic solution used, but for example, the solution temperature is 5°C to 70°C (preferably 10°C to 60°C), and the current density is 0.5 A/dm 2 to 60 A/dm 2 . (preferably 5 A/dm 2 - 60 A/dm 2 ), voltage 1 V - 100 V (preferably 5 V - 50 V), electrolysis time 1 second - 100 seconds (preferably 5 seconds - 60 seconds), and film amount 0.1 g. /m 2 to 5g/m 2 (preferably 0.2g/m 2 to 3g/m 2 ).

(ポアワイド処理)
ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により形成された陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの径(ポア径)を拡大させる処理(孔径拡大処理)である。
ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により得られたアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させることにより行うことができる。接触させる方法は特に制限されず、例えば、浸せき法及びスプレー法が挙げられる。
(pore wide processing)
The pore widening process is a process (pore size enlarging process) for enlarging the diameters of micropores (pore diameters) present in the anodic oxide film formed by the above-mentioned anodizing process.
The pore widening treatment can be performed by bringing the aluminum plate obtained by the above-described anodizing treatment step into contact with an acid aqueous solution or an alkaline aqueous solution. The contacting method is not particularly limited, and examples include a dipping method and a spraying method.

<下塗り層>
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層(中間層と呼ばれることもある。)を有することが好ましい。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性の低下を抑制しながら現像性を向上させることに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合に、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ効果も有する
<Undercoat layer>
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably has an undercoat layer (sometimes referred to as an intermediate layer) between the image recording layer and the support. The undercoat layer strengthens the adhesion between the support and the image-recording layer in the exposed areas, and makes it easier for the image-recording layer to peel off from the support in the unexposed areas. Contributes to improving developability. In addition, in the case of infrared laser exposure, the undercoat layer functions as a heat insulating layer, which prevents the heat generated by exposure from diffusing into the support and reducing sensitivity.

〔ポリマー〕
下塗り層に用いられる化合物としては、支持体表面に吸着可能な吸着性基及び親水性基を有するポリマーが挙げられる。画像記録層との密着性を向上させるために吸着性基及び親水性基を有し、更に架橋性基を有するポリマーが好ましい。下塗り層に用いられる化合物は、低分子化合物でもポリマーであってもよい。下塗り層に用いられる化合物は、必要に応じて、2種以上を混合して使用してもよい。
〔polymer〕
Examples of the compound used in the undercoat layer include polymers having adsorbent groups and hydrophilic groups that can be adsorbed onto the surface of the support. In order to improve the adhesion with the image recording layer, a polymer having an adsorbent group and a hydrophilic group, and further having a crosslinkable group is preferable. The compound used in the undercoat layer may be a low molecular weight compound or a polymer. The compounds used in the undercoat layer may be used in combination of two or more, if necessary.

下塗り層に用いられる化合物がポリマーである場合、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。
支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、-PO、-OPO、-CONHSO-、-SONHSO-、-COCHCOCHが好ましい。親水性基としては、スルホ基又はその塩、カルボキシ基の塩が好ましい。架橋性基としては、アクリル基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリル基などが好ましい。
ポリマーは、ポリマーの極性置換基と、上記極性置換基と対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。
When the compound used in the undercoat layer is a polymer, a copolymer of a monomer having an adsorbent group, a monomer having a hydrophilic group, and a monomer having a crosslinkable group is preferable.
Adsorptive groups that can be adsorbed onto the support surface include phenolic hydroxy group, carboxy group, -PO 3 H 2 , -OPO 3 H 2 , -CONHSO 2 -, -SO 2 NHSO 2 -, -COCH 2 COCH 3 is preferred. As the hydrophilic group, a sulfo group or a salt thereof, or a salt of a carboxy group is preferable. As the crosslinkable group, an acrylic group, a methacryl group, an acrylamide group, a methacrylamide group, an allyl group, etc. are preferable.
The polymer may have a crosslinkable group introduced by salt formation between a polar substituent of the polymer and a substituent having a counter charge to the polar substituent and a compound having an ethylenically unsaturated bond, or the above-mentioned Other monomers, preferably hydrophilic monomers, may be further copolymerized.

具体的には、特開平10-282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2-304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が好適に挙げられる。特開2005-238816号、特開2005-125749号、特開2006-239867号、特開2006-215263号の各公報に記載の架橋性基(好ましくは、エチレン性不飽和結合基)、支持体表面と相互作用する官能基及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物も好ましく用いられる。
より好ましいものとして、特開2005-125749号及び特開2006-188038号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。
Specifically, the silane coupling agent having an ethylenic double bond reactive group capable of addition polymerization described in JP-A No. 10-282679, the ethylenic double bond described in JP-A No. 2-304441, Preferred examples include phosphorus compounds having a heavy bond reactive group. A crosslinkable group (preferably an ethylenically unsaturated bond group) and a support as described in JP-A Nos. 2005-238816, 2005-125749, 2006-239867, and 2006-215263. Low-molecular or high-molecular compounds having functional groups and hydrophilic groups that interact with the surface are also preferably used.
More preferred examples include polymers having an adsorbent group, a hydrophilic group, and a crosslinkable group that can be adsorbed onto the surface of a support described in JP-A-2005-125749 and JP-A-2006-188038.

下塗り層に用いられるポリマー中のエチレン性不飽和結合基の含有量は、ポリマー1g当たり、好ましくは0.1mmol~10.0mmol、より好ましくは0.2mmol~5.5mmolである。
下塗り層に用いられるポリマーの重量平均分子量(Mw)は、5,000以上が好ましく、1万~30万がより好ましい。
The content of ethylenically unsaturated bond groups in the polymer used for the undercoat layer is preferably 0.1 mmol to 10.0 mmol, more preferably 0.2 mmol to 5.5 mmol per 1 g of polymer.
The weight average molecular weight (Mw) of the polymer used in the undercoat layer is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000.

〔親水性化合物〕
下塗り層は、現像性の観点から、親水性化合物を含むことが好ましい。
親水性化合物としては、特に制限はなく、下塗り層に用いられる公知の親水性化合物を用いることができる。
親水性化合物としては、カルボキシメチルセルロース、デキストリン等のアミノ基を有するホスホン酸類、有機ホスホン酸、有機リン酸、有機ホスフィン酸、アミノ酸類、並びに、ヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等が好ましく挙げられる。
また、親水性化合物としては、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基と支持体表面と相互作用する基とを有する化合物(例えば、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、2,3,5,6-テトラヒドロキシ-p-キノン、クロラニル、スルホフタル酸、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)又はその塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸又はその塩、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸又はその塩、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸又はその塩など)が好ましく挙げられる。
[Hydrophilic compound]
The undercoat layer preferably contains a hydrophilic compound from the viewpoint of developability.
The hydrophilic compound is not particularly limited, and known hydrophilic compounds used for undercoat layers can be used.
Preferred examples of the hydrophilic compound include phosphonic acids having an amino group such as carboxymethyl cellulose and dextrin, organic phosphonic acids, organic phosphoric acids, organic phosphinic acids, amino acids, and hydrochlorides of amines having a hydroxy group.
In addition, as a hydrophilic compound, a compound having an amino group or a functional group having the ability to inhibit polymerization and a group that interacts with the support surface (for example, 1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane (DABCO) , 2,3,5,6-tetrahydroxy-p-quinone, chloranil, sulfophthalic acid, ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA) or its salt, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid or its salt, dihydroxyethylethylenediaminediacetic acid or its salt, hydroxy (ethyliminodiacetic acid or a salt thereof, etc.) are preferred.

親水性化合物としては、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことが好ましい。
また、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩は、傷汚れ抑制性の観点から、上記アルミニウム支持体上の層に含まれることが好ましい。また、上記アルミニウム支持体上の層は、画像記録層が形成されている側の層であることが好ましく、また、上記アルミニウム支持体と接する層であることが好ましい。
上記アルミニウム支持体上の層としては、上記アルミニウム支持体と接する層として、下塗り層又は画像記録層が好ましく挙げられる。また、上記アルミニウム支持体と接する層以外の層、例えば、最外層又は画像記録層に、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩が含まれていてもよい。
本開示に係る平版印刷版原版において、画像記録層が、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことが好ましい。
また、本開示に係る平版印刷版原版において、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面が、少なくともヒドロキシカルボン酸又はその塩を含む組成物(例えば、水溶液等)により表面処理される態様も好ましく挙げられる。上記態様である場合、処理されたヒドロキシカルボン酸又はその塩は、アルミニウム支持体と接する画像記録層側の層(例えば、画像記録層又は下塗り層)に含まれた状態で少なくとも一部を検出することができる。
下塗り層等のアルミニウム支持体と接する画像記録層側の層にヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことにより、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面を親水化することができ、また、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角を110°以下と容易にすることができ、傷汚れ抑制性に優れる。
The hydrophilic compound preferably contains a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof from the viewpoint of inhibiting scratches and stains.
Further, a hydrophilic compound, preferably a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof, is preferably included in the layer on the aluminum support from the viewpoint of preventing scratches and stains. Further, the layer on the aluminum support is preferably a layer on the side where the image recording layer is formed, and is also preferably a layer in contact with the aluminum support.
As a layer on the aluminum support, an undercoat layer or an image recording layer is preferably mentioned as a layer in contact with the aluminum support. Further, a layer other than the layer in contact with the aluminum support, for example, the outermost layer or the image recording layer, may contain a hydrophilic compound, preferably a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof.
In the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure, the image recording layer preferably contains a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof from the viewpoint of inhibiting scratches and stains.
In addition, in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure, an embodiment in which the surface of the aluminum support on the image recording layer side is surface-treated with a composition (for example, an aqueous solution, etc.) containing at least a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof is also preferably mentioned. It will be done. In the above embodiment, at least a portion of the treated hydroxycarboxylic acid or its salt is detected while being contained in a layer on the image recording layer side (for example, an image recording layer or an undercoat layer) in contact with the aluminum support. be able to.
By containing a hydroxycarboxylic acid or its salt in a layer on the image recording layer side that is in contact with the aluminum support, such as an undercoat layer, the surface of the aluminum support on the image recording layer side can be made hydrophilic. The contact angle with water on the surface of the image recording layer side measured by the air droplet method can be easily set to 110° or less, and it has excellent scratch and stain inhibiting properties.

ヒドロキシカルボン酸とは、1分子中に1個以上のカルボキシ基と1個以上のヒドロキシ基とを有する有機化合物の総称のことであり、ヒドロキシ酸、オキシ酸、オキシカルボン酸、アルコール酸とも呼ばれる(岩波理化学辞典第5版、(株)岩波書店発行(1998)参照)。
上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩は、下記式(HC)で表されるものが好ましい。
式(HC) : RHC(OH)mhc(COOMHCnhc
式(HC)中、RHCはmhc+nhc価の有機基を表し、MHCは、それぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属、又はオニウムを表し、mhc及びnhcは、それぞれ独立に、1以上の整数を表し、nが2以上の場合、Mは同じでも異なってもよい。
Hydroxycarboxylic acid is a general term for organic compounds that have one or more carboxy groups and one or more hydroxy groups in one molecule, and is also called hydroxy acid, oxy acid, oxycarboxylic acid, or alcoholic acid ( (See Iwanami Science Dictionary, 5th edition, published by Iwanami Shoten Co., Ltd. (1998)).
The hydroxycarboxylic acid or its salt is preferably represented by the following formula (HC).
Formula (HC): R HC (OH) mhc (COOM HC ) nhc
In formula (HC), RHC represents an organic group having a valence of mhc+nhc, MHC each independently represents a hydrogen atom, an alkali metal, or onium, and mhc and nhc each independently represent an integer of 1 or more. and when n is 2 or more, M may be the same or different.

式(HC)において、RHCで表されるmhc+nhc価の有機基としては、mhc+nhc価の炭化水素基等が挙げられる。炭化水素基は置換基及び/又は連結基を有してもよい。
炭化水素基としては、脂肪族炭化水素から誘導されるmhc+nhc価の基、例えば、アルキレン基、アルカントリイル基、アルカンテトライル基、アルカンペンタイル基、アルケニレン基、アルケントリイル基、アルケンテトライル基、アルケンペンタイル基、アルキニレン基、アルキントリイル基、アルキンテトライル基、アルキンペンタイル基等、芳香族炭化水素から誘導されるmhc+nhc価の基、例えば、アリーレン基、アレーントリイル基、アレーンテトライル基、アレーンペンタイル基等が挙げられる。置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基等が挙げられる。置換基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1-メチルブチル基、イソヘキシル基、2-エチルヘキシル基、2-メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2-ノルボルニル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、ベンジル基、フェネチル基、α-メチルベンジル基、1-メチル-1-フェニルエチル基、p-メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1-プロペニルメチル基、2-ブテニル基、2-メチルアリル基、2-メチルプロペニルメチル基、2-プロピニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル基等が挙げられる。また、連結基は、水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子により構成されるもので、その原子数は好ましくは1~50である。具体的には、アルキレン基、置換アルキレン基、アリーレン基、置換アリーレン基などが挙げられ、これらの2価の基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合及びエステル結合のいずれかで複数連結された構造を有していてもよい。
In formula (HC), the mhc+nhc valence organic group represented by R HC includes a mhc+nhc valence hydrocarbon group. The hydrocarbon group may have a substituent and/or a linking group.
Examples of the hydrocarbon group include mhc+nhc value groups derived from aliphatic hydrocarbons, such as alkylene groups, alkanetriyl groups, alkanetetrayl groups, alkanpentyl groups, alkenylene groups, alkenetriyl groups, and alkenetetrayl groups. groups, alkenpentyl groups, alkynylene groups, alkynetriyl groups, alkynetetrayl groups, alkynepentyl groups, mhc+nhc valence groups derived from aromatic hydrocarbons, such as arylene groups, arenetriyl groups, arenes Examples include a tetrayl group and an arenepentyl group. Examples of the substituent include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group, an aryl group, and the like. Specific examples of substituents include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, Octadecyl group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, Cyclopentyl group, 2-norbornyl group, methoxymethyl group, methoxyethoxyethyl group, allyloxymethyl group, phenoxymethyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1- Methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2- Butynyl group, 3-butynyl group, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzyloxyphenyl group , methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, phenoxycarbonylphenyl group, and the like. Further, the linking group is composed of at least one atom selected from the group consisting of hydrogen atom, carbon atom, oxygen atom, nitrogen atom, sulfur atom, and halogen atom, and the number of atoms is preferably 1 to 50. It is. Specifically, examples include alkylene groups, substituted alkylene groups, arylene groups, substituted arylene groups, etc., and these divalent groups are linked together by any of amide bonds, ether bonds, urethane bonds, urea bonds, and ester bonds. It may have a similar structure.

HCで表されるアルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。オニウムとしてはアンモニウム、ホスホニウム、スルホニウム等が挙げられ、アンモニウムが特に好ましい。
また、MHCは、傷汚れ抑制性の観点から、アルカリ金属又はオニウムであることが好ましく、アルカリ金属であることがより好ましい。
mhcとnhcとの総数は、3以上が好ましく、3~8がより好ましく、4~6が更に好ましい。
Examples of the alkali metal represented by MHC include lithium, sodium, potassium, etc., with sodium being particularly preferred. Examples of onium include ammonium, phosphonium, and sulfonium, with ammonium being particularly preferred.
Furthermore, from the viewpoint of scratch and stain inhibiting properties, MHC is preferably an alkali metal or onium, and more preferably an alkali metal.
The total number of mhc and nhc is preferably 3 or more, more preferably 3 to 8, and even more preferably 4 to 6.

上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩は、分子量が600以下であることが好ましく、500以下であることがより好ましく、300以下であることが特に好ましい。また、上記分子量は、76以上であることが好ましい。
上記ヒドロキシカルボン酸、又は、上記ヒドロキシカルボン酸の塩を構成するヒドロキシカルボン酸は、具体的には、グルコン酸、グリコール酸、乳酸、タルトロン酸、ヒドロキシ酪酸(2-ヒドロキシ酪酸、3-ヒドロキシ酪酸、γ-ヒドロキシ酪酸等)、リンゴ酸、酒石酸、シトラマル酸、クエン酸、イソクエン酸、ロイシン酸、メバロン酸、パントイン酸、リシノール酸、リシネライジン酸、セレブロン酸、キナ酸、シキミ酸、モノヒドロキシ安息香酸誘導体(サリチル酸、クレオソート酸(ホモサリチル酸、ヒドロキシ(メチル)安息香酸)、バニリン酸、シリング酸等)、ジヒドロキシ安息香酸誘導体(ピロカテク酸、レソルシル酸、プロトカテク酸、ゲンチジン酸、オルセリン酸等)、トリヒドロキシ安息香酸誘導体(没食子酸等)、フェニル酢酸誘導体(マンデル酸、ベンジル酸、アトロラクチン酸等)、ヒドロケイヒ酸誘導体(メリロト酸、フロレト酸、クマル酸、ウンベル酸、コーヒー酸、フェルラ酸、シナピン酸、セレブロン酸、カルミン酸等)等が挙げられる。
The molecular weight of the hydroxycarboxylic acid or its salt is preferably 600 or less, more preferably 500 or less, particularly preferably 300 or less. Moreover, it is preferable that the said molecular weight is 76 or more.
Specifically, the hydroxycarboxylic acids constituting the hydroxycarboxylic acids or the salts of the hydroxycarboxylic acids include gluconic acid, glycolic acid, lactic acid, tartronic acid, hydroxybutyric acid (2-hydroxybutyric acid, 3-hydroxybutyric acid, γ-hydroxybutyric acid, etc.), malic acid, tartaric acid, citramalic acid, citric acid, isocitric acid, leucinic acid, mevalonic acid, pantoic acid, ricinoleic acid, ricinelaidic acid, cerebronic acid, quinic acid, shikimic acid, monohydroxybenzoic acid derivatives (salicylic acid, creosotic acid (homosalicylic acid, hydroxy(methyl)benzoic acid), vanillic acid, syringic acid, etc.), dihydroxybenzoic acid derivatives (pyrocatechuic acid, resorcylic acid, protocatechuic acid, gentisic acid, orceric acid, etc.), trihydroxy Benzoic acid derivatives (gallic acid, etc.), phenylacetic acid derivatives (mandelic acid, benzylic acid, atrolactic acid, etc.), hydrocinnamic acid derivatives (melilotic acid, fluoretic acid, coumaric acid, umbelic acid, caffeic acid, ferulic acid, sinapic acid, cerebronic acid, carminic acid, etc.).

これらの中でも、上記ヒドロキシカルボン酸、又は、上記ヒドロキシカルボン酸の塩を構成するヒドロキシカルボン酸としては、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシ基を2個以上有している化合物が好ましく、ヒドロキシ基を3個以上有している化合物がより好ましく、ヒドロキシ基を5個以上有している化合物が更に好ましく、ヒドロキシ基を5個~8個有している化合物が特に好ましい。
また、カルボキシ基を1個、ヒドロキシ基を2個以上有しているものとしては、グルコン酸、又は、シキミ酸が好ましい。
カルボキシ基を2個以上、ヒドロキシ基を1個有しているものとしては、クエン酸、又は、リンゴ酸が好ましい。
カルボキシ基及びヒドロキシ基をそれぞれ2個以上有しているものとしては、酒石酸が好ましい。
中でも、上記ヒドロキシカルボン酸としては、グルコン酸が特に好ましい。
Among these, as the hydroxycarboxylic acid or the hydroxycarboxylic acid constituting the salt of the hydroxycarboxylic acid, a compound having two or more hydroxy groups is preferable from the viewpoint of inhibiting scratches and stains. Compounds having three or more hydroxy groups are more preferred, compounds having five or more hydroxy groups are even more preferred, and compounds having 5 to 8 hydroxy groups are particularly preferred.
In addition, as those having one carboxy group and two or more hydroxy groups, gluconic acid or shikimic acid is preferable.
Citric acid or malic acid is preferred as having two or more carboxy groups and one hydroxy group.
Tartaric acid is preferred as having two or more carboxy groups and two or more hydroxy groups.
Among these, gluconic acid is particularly preferred as the hydroxycarboxylic acid.

親水性化合物は、1種単独で用いてもよく、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。 The hydrophilic compounds may be used alone or in combination of two or more.

下塗り層が親水性化合物(好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩)を含む場合、親水性化合物(好ましくはヒドロキシカルボン酸及びその塩)の含有量は、下塗り層の全質量に対し、0.01質量%~50質量%であることが好ましく、0.1質量%~40質量%であることがより好ましく、1.0質量%~30質量%であることが特に好ましい。 When the undercoat layer contains a hydrophilic compound (preferably a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof), the content of the hydrophilic compound (preferably a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof) is 0.01 mass based on the total mass of the undercoat layer. % to 50% by weight, more preferably 0.1% to 40% by weight, particularly preferably 1.0% to 30% by weight.

下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時による汚れ防止のため、キレート剤、
第二級又は第三級アミン、重合禁止剤等を含有してもよい。
In addition to the above-mentioned undercoat layer compounds, the undercoat layer contains a chelating agent,
It may also contain secondary or tertiary amines, polymerization inhibitors, and the like.

下塗り層は、必要な上記各成分を公知の溶剤に溶解して塗布液を調製し、塗布液を支持体上に公知の方法で塗布し、乾燥することにより形成することができる。
下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1mg/m~300mg/mが好ましく、5mg/m~200mg/mがより好ましい。
The undercoat layer can be formed by dissolving each of the above-mentioned necessary components in a known solvent to prepare a coating solution, applying the coating solution onto a support by a known method, and drying.
The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably 0.1 mg/m 2 to 300 mg/m 2 , more preferably 5 mg/m 2 to 200 mg/m 2 .

本開示に係る平版印刷版原版は、上述した以外のその他の層を有していてもよい。
その他の層としては、特に制限はなく、公知の層を有することができる。例えば、支持体の画像記録層側とは反対側には、必要に応じてバックコート層が設けられていてもよい。
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure may have layers other than those described above.
There are no particular restrictions on the other layers, and known layers may be used. For example, a back coat layer may be provided on the opposite side of the support from the image recording layer side, if necessary.

≪平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法≫
本開示に係る平版印刷版原版を画像露光して現像処理を行うことで平版印刷版を作製することができる。
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を、画像様に露光する工程(以下、「露光工程」ともいう。)と、印刷機上で印刷インキ及び湿し水からなる群より選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程(以下、「機上現像工程」ともいう。)と、を含むことが好ましい。
本開示に係る平版印刷方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程(露光工程)と、印刷インキ及び湿し水からなる群より選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程(機上現像工程)と、得られた平版印刷版により印刷する工程(以下、「印刷工程」ともいう)と、を含むことが好ましい。
≪Method for preparing lithographic printing plate and lithographic printing method≫
A lithographic printing plate can be produced by imagewise exposing and developing a lithographic printing plate precursor according to the present disclosure.
A method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure includes a step of imagewise exposing a lithographic printing plate precursor according to the present disclosure (hereinafter also referred to as an "exposure step"), and a step of applying printing ink and dampening on a printing machine. It is preferable to include a step of supplying at least one selected from the group consisting of water to remove the image recording layer in the non-image area (hereinafter also referred to as "on-press development step").
The lithographic printing method according to the present disclosure includes a step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure (exposure step), and printing by supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water. A process of removing the image recording layer in the non-image area on the press to produce a lithographic printing plate (on-press development process), a process of printing with the obtained lithographic printing plate (hereinafter also referred to as "printing process"), It is preferable to include.

以下、本開示に係る平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法について、各工程の好ましい態様を順に説明する。なお、本開示に係る平版印刷版原版は、現像液によっても現像可能である。
以下、平版印刷版の作製方法における露光工程及び機上現像工程について説明するが、本開示に係る平版印刷版の作製方法における露光工程と、本開示に係る平版印刷方法における露光工程とは同様の工程であり、本開示に係る平版印刷版の作製方法における機上現像工程と、本開示に係る平版印刷方法における機上現像工程とは同様の工程である。
Hereinafter, preferred embodiments of each step of the method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure and the lithographic printing method according to the present disclosure will be described in order. Note that the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure can also be developed with a developer.
The exposure step and on-press development step in the method for producing a lithographic printing plate will be described below, but the exposure step in the method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure and the exposure step in the lithographic printing method according to the present disclosure are similar. The on-press development step in the lithographic printing plate production method according to the present disclosure and the on-press development step in the lithographic printing method according to the present disclosure are the same steps.

<露光工程>
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程を含むことが好ましい。本開示に係る平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光されることが好ましい。
光源の波長は750nm~1,400nmが好ましく用いられる。波長750nm~1,400nmの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10mJ/cm~300mJ/cmであるのが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、及びフラットベッド方式等のいずれでもよい。
画像露光は、プレートセッターなどを用いて常法により行うことができる。機上現像の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光を行ってもよい。
<Exposure process>
The method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure preferably includes an exposure step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure to form exposed areas and unexposed areas. The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is preferably imagewise exposed by laser exposure through a transparent original having a line image, halftone image, etc., or by laser light scanning using digital data.
The wavelength of the light source is preferably 750 nm to 1,400 nm. As the light source with a wavelength of 750 nm to 1,400 nm, solid lasers and semiconductor lasers that emit infrared rays are suitable. Regarding the infrared laser, the output is preferably 100 mW or more, the exposure time per pixel is preferably 20 microseconds or less, and the amount of irradiation energy is preferably 10 mJ/cm 2 to 300 mJ/cm 2 . preferable. Furthermore, it is preferable to use a multi-beam laser device in order to shorten the exposure time. The exposure mechanism may be an inner drum type, an outer drum type, a flatbed type, or the like.
Image exposure can be performed by a conventional method using a platesetter or the like. In the case of on-press development, the lithographic printing plate precursor may be mounted on the printing press, and then image exposure may be performed on the printing press.

<機上現像工程>
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、印刷機上で印刷インキ及び湿し水からなる群より選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する機上現像工程を含むことが好ましい。
以下に、機上現像方式について説明する。
<On-press development process>
A method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure includes an on-press development step in which an image recording layer in a non-image area is removed by supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and fountain solution on a printing press. It is preferable to include.
The on-press development method will be explained below.

〔機上現像方式〕
機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で油性インキと水性成分とを供給し、非画像部の画像記録層が除去されて平版印刷版が作製されることが好ましい。
すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、何らの現像処理を施すことなくそのまま印刷機に装着するか、あるいは、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、油性インキと水性成分とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された油性インキ及び水性成分のいずれか又は両方によって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、油性インキでもよく、水性成分でもよいが、水性成分が除去された画像記録層の成分によって汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給することが好ましい。このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキ及び湿し水が好適に用いられる。
[On-press development method]
In the on-press development method, an image-exposed lithographic printing plate precursor is supplied with oil-based ink and an aqueous component on a printing press, and the image recording layer in the non-image area is removed to produce a lithographic printing plate. is preferred.
In other words, after the lithographic printing plate precursor is imagewise exposed, it is loaded into the printing machine as is without any development processing, or alternatively, after the lithographic printing plate precursor is loaded into the printing press, it is imaged and exposed on the printing press, and then When printing is performed by supplying an oil-based ink and a water-based component, in the early stage of printing, the uncured image recording layer is damaged by either or both of the supplied oil-based ink and water-based component in the non-image area. It is removed by dissolving or dispersing, and the hydrophilic surface is exposed in that area. On the other hand, in the exposed area, the image recording layer hardened by exposure forms an oil-based ink receiving area having a lipophilic surface. The ink that is first supplied to the printing plate may be an oil-based ink or a water-based component, but in order to prevent the aqueous component from being contaminated by the components of the image recording layer from which it has been removed, the oil-based ink is supplied first. It is preferable. In this way, the lithographic printing plate precursor is developed on-press on the printing press and used as it is for printing a large number of sheets. As the oil-based ink and the aqueous component, ordinary printing ink and dampening water for lithographic printing are suitably used.

上記本開示に係る平版印刷版原版を画像露光するレーザーとしては、光源の波長は300nm~450nm又は750nm~1,400nmが好ましく用いられる。300nm~450nmの光源の場合は、この波長領域に吸収極大を有する増感色素を画像記録層に含有する平版印刷版原版が好ましく用いられ、750nm~1,400nmの光源は上述したものが好ましく用いられる。300nm~450nmの光源としては、半導体レーザーが好適である。 As a laser for imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure, a light source having a wavelength of 300 nm to 450 nm or 750 nm to 1,400 nm is preferably used. In the case of a light source of 300 nm to 450 nm, a lithographic printing plate precursor containing a sensitizing dye having an absorption maximum in this wavelength region in the image recording layer is preferably used, and for the light source of 750 nm to 1,400 nm, the above-mentioned ones are preferably used. It will be done. A semiconductor laser is suitable as a light source of 300 nm to 450 nm.

<印刷工程>
本開示に係る平版印刷方法は、平版印刷版に印刷インキを供給して記録媒体を印刷する印刷工程を含む。
印刷インキとしては、特に制限はなく、所望に応じ、種々の公知のインキを用いることができる。また、印刷インキとしては、油性インキ又は紫外線硬化型インキ(UVインキ)が好ましく挙げられる。
また、上記印刷工程においては、必要に応じ、湿し水を供給してもよい。
また、上記印刷工程は、印刷機を停止することなく、上記機上現像工程に連続して行われてもよい。
記録媒体としては、特に制限はなく、所望に応じ、公知の記録媒体を用いることができる。
<Printing process>
The planographic printing method according to the present disclosure includes a printing step of supplying printing ink to a planographic printing plate to print a recording medium.
The printing ink is not particularly limited, and various known inks can be used as desired. Moreover, as the printing ink, oil-based ink or ultraviolet curable ink (UV ink) is preferably mentioned.
Further, in the printing process, dampening water may be supplied as necessary.
Moreover, the printing process may be performed continuously with the on-press development process without stopping the printing press.
There are no particular limitations on the recording medium, and any known recording medium can be used as desired.

本開示に係る平版印刷版原版からの平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法においては、必要に応じて、露光前、露光中、露光から現像までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。このような加熱により、画像記録層中の画像形成反応が促進され、感度及び耐刷性の向上や感度の安定化等の利点が生じ得る。現像前の加熱は150℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。上記態様であると、非画像部が硬化してしまう等の問題を防ぐことができる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用することが好ましく、100℃~500℃の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、十分な画像強化作用が得られまた、支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を抑制することができる。 In the method for producing a lithographic printing plate from a lithographic printing plate precursor according to the present disclosure and the lithographic printing method according to the present disclosure, the lithographic printing may be carried out as necessary before exposure, during exposure, or between exposure and development. The entire surface of the original plate may be heated. Such heating accelerates the image-forming reaction in the image recording layer, and can bring about advantages such as improved sensitivity and printing durability, and stabilization of sensitivity. It is preferable that heating before development is performed under mild conditions of 150° C. or less. With the above aspect, problems such as hardening of non-image areas can be prevented. It is preferable to use very strong conditions for heating after development, preferably in the range of 100°C to 500°C. Within the above range, a sufficient image strengthening effect can be obtained, and problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area can be suppressed.

以下、実施例により本開示を詳細に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。なお、本実施例において、「%」、「部」とは、特に断りのない限り、それぞれ「質量%」、「質量部」を意味する。なお、高分子化合物において、特別に規定したもの以外は、分子量は重量平均分子量(Mw)であり、構成繰り返し単位の比率はモル百分率である。また、重量平均分子量(Mw)は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法によるポリスチレン換算値として測定した値である。 EXAMPLES Hereinafter, the present disclosure will be described in detail with reference to Examples, but the present disclosure is not limited thereto. In this example, "%" and "parts" mean "% by mass" and "parts by mass", respectively, unless otherwise specified. In addition, in a polymer compound, unless otherwise specified, the molecular weight is a weight average molecular weight (Mw), and the ratio of constituent repeating units is a mole percentage. Moreover, the weight average molecular weight (Mw) is a value measured as a polystyrene equivalent value by gel permeation chromatography (GPC) method.

〔実施例1~10及び比較例1〕
<支持体の準備>
(a)アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%及びアルミニウムイオン濃度6.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度70℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、5g/mであった。
[Examples 1 to 10 and Comparative Example 1]
<Preparation of support>
(a) Alkaline etching treatment An etching treatment was performed by spraying an aqueous solution of caustic soda having a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass onto an aluminum plate at a temperature of 70°C. After that, it was washed with water using a spray. The amount of aluminum dissolved on the surface to be electrochemically roughened later was 5 g/m 2 .

(b)酸性水溶液を用いたデスマット処理(第1デスマット処理)
次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸150g/Lの水溶液を用いた。その液温は30℃であった。酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて吹き付けて、3秒間デスマット処理を行った。その後、水洗処理を行った。
(b) Desmutting treatment using an acidic aqueous solution (first desmutting treatment)
Next, a desmut treatment was performed using an acidic aqueous solution. The acidic aqueous solution used for the desmut treatment was an aqueous solution containing 150 g/L of sulfuric acid. The liquid temperature was 30°C. The acidic aqueous solution was sprayed onto the aluminum plate to perform a desmut treatment for 3 seconds. After that, a water washing treatment was performed.

(c)電気化学的粗面化処理
次に、塩酸濃度14g/L、アルミニウムイオン濃度13g/L、及び、硫酸濃度3g/Lの電解液を用い、交流電流を用いて電気化学的粗面化処理を行った。電解液の液温は30℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。
交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は50Hz、交流電流1周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は1:1、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で75A/dmであった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で450C/dmであり、電解処理は112.5C/dmずつ4秒間の通電間隔を開けて4回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。
(c) Electrochemical surface roughening treatment Next, electrochemical roughening was performed using an alternating current using an electrolytic solution with a hydrochloric acid concentration of 14 g/L, an aluminum ion concentration of 13 g/L, and a sulfuric acid concentration of 3 g/L. processed. The temperature of the electrolyte was 30°C. The aluminum ion concentration was adjusted by adding aluminum chloride.
The waveform of the alternating current is a sine wave with symmetrical positive and negative waveforms, the frequency is 50 Hz, the anode reaction time and cathode reaction time in one cycle of alternating current are 1:1, and the current density is the peak current value of the alternating current waveform. It was 75A/ dm2 . Further, the total amount of electricity received by the aluminum plate in the anode reaction was 450 C/dm 2 , and the electrolytic treatment was carried out in 4 times at 112.5 C/dm 2 with energization intervals of 4 seconds. A carbon electrode was used as the counter electrode to the aluminum plate. After that, a water washing treatment was performed.

(d)アルカリエッチング処理
電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%及びアルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度45℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量は0.2g/mであった。その後、水洗処理を行った。
(d) Alkaline etching treatment Etching treatment is performed by spraying an aqueous caustic soda solution with a caustic soda concentration of 5% by mass and an aluminum ion concentration of 0.5% by mass onto the aluminum plate after electrochemical surface roughening treatment at a temperature of 45°C. Ta. The amount of aluminum dissolved on the surface subjected to electrochemical roughening treatment was 0.2 g/m 2 . After that, a water washing treatment was performed.

(e)酸性水溶液を用いたデスマット処理
次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。具体的には、酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて吹き付けて、3秒間デスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸濃度170g/L及びアルミニウムイオン濃度5g/Lの水溶液を用いた。その液温は30℃であった。
(e) Desmutting treatment using an acidic aqueous solution Next, a desmutting treatment was performed using an acidic aqueous solution. Specifically, an acidic aqueous solution was sprayed onto an aluminum plate to perform a desmut treatment for 3 seconds. The acidic aqueous solution used in the desmutting treatment had a sulfuric acid concentration of 170 g/L and an aluminum ion concentration of 5 g/L. The liquid temperature was 30°C.

(f)第1段階の陽極酸化処理
図3に示す構造の直流電解による陽極酸化処理装置610を用いて、第1段階の陽極酸化処理(第1陽極酸化処理ともいう)を行った。具体的には、下記表1に示す「第1陽極酸化処理」欄の条件にて第1陽極酸化処理を行い、所定の皮膜量の陽極酸化皮膜を形成した。
以下、図3に示す陽極酸化処理装置610について説明する。
図3に示す陽極酸化処理装置610において、アルミニウム板616は、図3中矢印で示すように搬送される。電解液618が貯溜された給電槽612にてアルミニウム板616は給電電極620によって(+)に荷電される。そして、アルミニウム板616は、給電槽612においてローラ622によって上方に搬送され、ニップローラ624によって下方に方向変換された後、電解液626が貯溜された電解処理槽614に向けて搬送され、ローラ628によって水平方向に方向転換される。次いで、アルミニウム板616は、電解電極630によって(-)に荷電されることにより、その表面に陽極酸化皮膜が形成され、電解処理槽614を出たアルミニウム板616は後工程に搬送される。陽極酸化装置610において、ローラ622、ニップローラ624、及びローラ628によって方向転換手段が構成され、アルミニウム板616は、給電槽612と電解処理槽614との槽間部において、上記ローラ622、624及び628により、山型及び逆U字型に搬送される。給電電極620と電解電極630とは、直流電源634に接続されている。
(f) First-stage anodizing treatment First-stage anodizing treatment (also referred to as first anodic oxidation treatment) was performed using an anodizing treatment apparatus 610 using direct current electrolysis having the structure shown in FIG. Specifically, a first anodic oxidation treatment was performed under the conditions listed in the "First anodization treatment" column shown in Table 1 below to form an anodic oxide film of a predetermined amount.
The anodizing treatment apparatus 610 shown in FIG. 3 will be described below.
In the anodizing treatment apparatus 610 shown in FIG. 3, the aluminum plate 616 is transported as indicated by the arrow in FIG. An aluminum plate 616 is charged to (+) by a power supply electrode 620 in a power supply tank 612 in which an electrolytic solution 618 is stored. Then, the aluminum plate 616 is conveyed upward by rollers 622 in the power feeding tank 612, turned downward by nip rollers 624, and then conveyed toward the electrolytic treatment tank 614 in which electrolyte solution 626 is stored, and is conveyed by rollers 628. It is turned horizontally. Next, the aluminum plate 616 is charged (-) by the electrolytic electrode 630 to form an anodic oxide film on its surface, and the aluminum plate 616 that has left the electrolytic treatment tank 614 is transported to a subsequent process. In the anodizing device 610, the roller 622, the nip roller 624, and the roller 628 constitute a direction changing means, and the aluminum plate 616 is connected to the rollers 622, 624, and 628 in the area between the power supply tank 612 and the electrolytic treatment tank 614. It is conveyed in a mountain shape and an inverted U shape. The power supply electrode 620 and the electrolytic electrode 630 are connected to a DC power source 634.

(g)ポアワイド処理
上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度40℃、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液に下記表1に示す条件で浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
(g) Pore widening treatment The above anodized aluminum plate was immersed in a caustic soda aqueous solution having a temperature of 40°C, a caustic soda concentration of 5% by mass, and an aluminum ion concentration of 0.5% by mass under the conditions shown in Table 1 below to perform pore widening treatment. Ta. After that, it was washed with water using a spray.

(h)第2陽極酸化処理
図3に示す構造の直流電解による陽極酸化処理装置610を用いて、第2段階の陽極酸化処理(第2陽極酸化処理ともいう)を行った。具体的には、下記表1に示す「第2陽極酸化処理」欄の条件にて第2陽極酸化処理を行い、所定の皮膜量の陽極酸化皮膜を形成した。
(h) Second anodizing treatment A second-stage anodizing treatment (also referred to as second anodizing treatment) was performed using an anodizing treatment apparatus 610 using direct current electrolysis having the structure shown in FIG. Specifically, a second anodic oxidation treatment was performed under the conditions listed in the "Second Anodization Treatment" column shown in Table 1 below to form an anodic oxide film of a predetermined amount.

以上のようにして、支持体を作製した。
得られた支持体の、マイクロポアの陽極酸化皮膜表面のL表色系における明度L、マイクロポアにおける大径孔部の酸化皮膜表面における平均径及び深さ、マイクロポアにおける小径孔部の連通位置における平均径(nm)及び深さ、大径孔部及び小径孔部の深さ(nm)、マイクロポア密度、並びに、小径孔部の底部からアルミニウム板表面までの陽極酸化皮膜の厚み(皮膜厚ともいう)を、表2にまとめて示す。
なお、表1中、第1陽極酸化処理欄の皮膜量(AD)量と第2陽極酸化処理欄の皮膜量(AD)とは、各処理で得られた皮膜量を表す。なお、使用される電解液は、表1中の成分を含む水溶液である。
A support was produced as described above.
The brightness L * in the L * a * b * color system of the surface of the anodic oxide film in the micropores of the obtained support, the average diameter and depth on the oxide film surface of the large-diameter pores in the micropores, and the depth in the micropores. Average diameter (nm) and depth at the communication position of the small-diameter hole, depth (nm) of the large-diameter hole and small-diameter hole, micropore density, and anodization from the bottom of the small-diameter hole to the aluminum plate surface. The thickness of the film (also referred to as film thickness) is summarized in Table 2.
In Table 1, the amount of coating (AD) in the first anodization treatment column and the amount of coating (AD) in the second anodization treatment column represent the amount of coating obtained in each treatment. Note that the electrolytic solution used is an aqueous solution containing the components shown in Table 1.

<下塗り層の形成>
得られた支持体上に、下記組成の下塗り層塗布液を乾燥塗布量が100mg/mになるよう塗布して、下塗り層を形成した。
<Formation of undercoat layer>
An undercoat layer coating solution having the following composition was applied onto the obtained support so that the dry coating amount was 100 mg/m 2 to form an undercoat layer.

〔下塗り層用塗布液〕
・下塗り層用化合物(下記U-1):0.1370部
・グルコン酸ナトリウム:0.0700部
・界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)):0.00159部
・防腐剤(バイオホープL、ケイ・アイ化成(株)):0.00149部
・水:3.29000部
[Coating liquid for undercoat layer]
・Compound for undercoat layer (U-1 below): 0.1370 parts ・Sodium gluconate: 0.0700 parts ・Surfactant (Emarex 710, Nippon Emulsion Co., Ltd.): 0.00159 parts ・Preservative (Bio Hope L, K.I. Kasei Co., Ltd.): 0.00149 parts/Wed: 3.29000 parts

<画像記録層の形成>
下塗り層上に、表3に記載の各成分を含む画像記録層塗布液(ただし、画像記録層塗布液は、表3に記載の各成分を含み、且つ、1-メトキシ-2-プロパノール(MFG):メチルエチルケトン(MEK):メタノール=4:4:1(質量比)の混合溶媒で固形分が6質量%になるように調製したもの)をバー塗布し、120℃で40秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量1.3g/mの画像記録層を形成した。
<Formation of image recording layer>
An image recording layer coating solution containing each component listed in Table 3 is applied on the undercoat layer (however, the image recording layer coating solution contains each component listed in Table 3 and contains 1-methoxy-2-propanol (MFG). ): Methyl ethyl ketone (MEK): Methanol = 4:4:1 (mass ratio) prepared with a mixed solvent so that the solid content was 6% by mass) was coated with a bar and dried in an oven at 120 ° C. for 40 seconds. An image recording layer with a dry coating weight of 1.3 g/m 2 was formed.

表3で用いた各成分の詳細は、以下の通りである。 Details of each component used in Table 3 are as follows.

[電子受容型重合開始剤]
Int-1:下記構造の化合物、LUMO=-3.21eV
Int-2:オニウム化合物、下記構造の化合物、LUMO=-7.32eV
[Electron-accepting polymerization initiator]
Int-1: Compound with the following structure, LUMO=-3.21eV
Int-2: onium compound, compound with the following structure, LUMO = -7.32eV

[赤外線吸収剤]
IR-10:分解型の赤外線吸収剤、下記構造の化合物、HOMO=-5.43eV、LUMO=-3.95eV。
IR-2:分解型の赤外線吸収剤、下記構造の化合物、HOMO=-5.25eV、LUMO=-3.77eV。
[Infrared absorber]
IR-10: Decomposable infrared absorber, compound with the following structure, HOMO=-5.43eV, LUMO=-3.95eV.
IR-2: Decomposable infrared absorber, compound with the following structure, HOMO=-5.25eV, LUMO=-3.77eV.

[電子供与型重合開始剤]
TPB:ボレート化合物、テトラフェニルホウ酸ナトリウム、HOMO=-5.90eV)
[Electron-donating polymerization initiator]
TPB: borate compound, sodium tetraphenylborate, HOMO=-5.90eV)

[特定重合性化合物]
M-1:特定重合性化合物の具体例における上記M-1(分子量470.56)
M-2:特定重合性化合物の具体例における上記M-2(分子量452.55)
M-3:特定重合性化合物の具体例における上記M-3(分子量2078.15)
[Specific polymerizable compound]
M-1: The above M-1 (molecular weight 470.56) in the specific example of the specific polymerizable compound
M-2: The above M-2 (molecular weight 452.55) in the specific example of the specific polymerizable compound
M-3: The above M-3 in the specific example of the specific polymerizable compound (molecular weight 2078.15)

[特定高分子量体]
P-1:下記構造のポリビニルアセタール(l、m、及びnは表3に記載)
P-2:下記構造のポリビニルアセタール(l、m、n、及びoは表3に記載)
P-3:下記構造のポリビニルアセタール(l、m、及びnは表3に記載)
[Specific polymer]
P-1: Polyvinyl acetal with the following structure (l, m, and n are listed in Table 3)
P-2: Polyvinyl acetal with the following structure (l, m, n, and o are listed in Table 3)
P-3: Polyvinyl acetal with the following structure (l, m, and n are listed in Table 3)

[酸発色剤]
S-3:下記構造の化合物
[Acid color former]
S-3: Compound with the following structure

[界面活性剤]
W-1:下記構造の化合物(重量平均分子量:13,000)
[Surfactant]
W-1: Compound with the following structure (weight average molecular weight: 13,000)

<最外層の形成>
画像記録層上に、表4に記載の最外層塗布液(ただし、最外層塗布液は、表4に記載の各成分を含み、イオン交換水で固形分が20質量%になるように調製したもの)をバー塗布し、120℃で60秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量が0.7g/mの最外層を形成した。
以上の工程を経て、平版印刷版原版を得た。
<Formation of outermost layer>
On the image recording layer, apply the outermost layer coating solution listed in Table 4 (however, the outermost layer coating solution contained each component listed in Table 4 and was prepared with ion-exchanged water so that the solid content was 20% by mass). (1) was bar coated and oven dried at 120° C. for 60 seconds to form an outermost layer with a dry coating weight of 0.7 g/m 2 .
Through the above steps, a lithographic printing plate precursor was obtained.

〔疎水性ポリマーの最外層表面における占有面積率〕
得られた平版印刷版原版について、既述の方法で、疎水性ポリマーの最外層表面における占有面積率を測定した。結果を表4に示す。
[Occupied area ratio on the surface of the outermost layer of hydrophobic polymer]
Regarding the obtained lithographic printing plate precursor, the occupied area ratio of the hydrophobic polymer on the surface of the outermost layer was measured by the method described above. The results are shown in Table 4.

表4で用いた各成分の詳細は、以下の通りである。 Details of each component used in Table 4 are as follows.

[変色性化合物]
IR-1:下記構造の化合物
IR-2:上記構造の化合物
IR-3:下記構造の化合物
IR-4:下記構造の化合物
[Color-changing compound]
IR-1: Compound with the following structure IR-2: Compound with the above structure IR-3: Compound with the following structure IR-4: Compound with the following structure

[水溶性ポリマー]
Mowiol 8-88:ポリビニルアルコール、シグマアルドリッチ社製Mowiol 8-88
[Water-soluble polymer]
Mowiol 8-88: Polyvinyl alcohol, Mowiol 8-88 manufactured by Sigma-Aldrich

[疎水性ポリマー]
NP-1:ポリ塩化ビニリデン水性ディスパージョン、Solvin社製Diofan(登録商標) A50
[Hydrophobic polymer]
NP-1: Polyvinylidene chloride aqueous dispersion, Diofan (registered trademark) A50 manufactured by Solvin

<平版印刷版原版の評価>
(1)機上現像性の経時による変化
上記のようにして作製した平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載のKodak社製Magnus800 Quantumにて、出力27W、外面ドラム回転数450rpm、解像度2,400dpi(dot per inch、1inchは2.54cm)の条件で露光(照射エネルギー110mJ/cm相当)した。露光画像にはベタ画像、及び、AMスクリーン(Amplitude Modulation Screen)50%網点のチャートを含むようにした。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、菊判サイズのハイデルベルグ社製印刷機SX-74のシリンダーに取り付けた。本印刷機には、不織布フィルターと温度制御装置を内蔵する容量100Lの湿し水循環タンクを接続した。湿し水S-Z1(富士フイルム(株)製)2.0%の湿し水80Lを循環装置内に仕込み、印刷インキとしてT&K UV OFS K-HS墨GE-M((株)T&K TOKA製)を用い、標準の自動印刷スタート方法で湿し水とインキを供給した後、毎時10,000枚の印刷速度で特菱アート紙(連量:76.5kg、三菱製紙(株)製)に200枚印刷を行った。
上記機上現像において、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数(以降、機上現像枚数ともいう)を求めた。機上現像枚数が少ないほど、機上現像性が良好であるといえる。
<Evaluation of lithographic printing plate precursor>
(1) Changes in on-press developability over time The lithographic printing plate precursor prepared as described above was processed using a Kodak Magnus 800 Quantum equipped with an infrared semiconductor laser at an output of 27 W, an outer drum rotation speed of 450 rpm, and a resolution of 2,400 dpi. (dot per inch, 1 inch is 2.54 cm) (irradiation energy equivalent to 110 mJ/cm 2 ). The exposure image included a solid image and a 50% AM screen (Amplitude Modulation Screen) halftone chart.
The exposed original plate thus obtained was attached to the cylinder of a chrysanthemum size printing machine SX-74 manufactured by Heidelberg Co., Ltd. without being subjected to any development processing. This printing machine was connected to a dampening water circulation tank with a capacity of 100 L that contained a nonwoven fabric filter and a temperature control device. 80L of 2.0% dampening water S-Z1 (manufactured by FUJIFILM Co., Ltd.) was charged into the circulation device, and used as printing ink such as T&K UV OFS K-HS Sumi GE-M (manufactured by T&K TOKA Co., Ltd.). ) and supplied dampening water and ink using the standard automatic printing start method, and then printed on Tokubishi Art Paper (ream weight: 76.5 kg, manufactured by Mitsubishi Paper Mills Co., Ltd.) at a printing speed of 10,000 sheets per hour. 200 sheets were printed.
In the above-mentioned on-press development, the number of printing sheets required until the ink was not transferred to the non-image area (hereinafter also referred to as the number of on-press development sheets) was determined. It can be said that the smaller the number of sheets to be developed on press, the better the on-press developability.

上記の機上現像枚数の測定を以下の3種の平版印刷版原版について行った。結果を表5に示す。
1.製造直後の平版印刷版原版(表中では「直後」と表記)
2.製造直後の平版印刷版原版をクラフトペーパーで包装し、35℃の恒温槽に14日間保管した後の平版印刷版原版(表中では「35℃14d後」と表記)
3.製造直後の平版印刷版原版をクラフトペーパーで包装し、45℃の恒温槽に14日間保管した後の平版印刷版原版(表中では「45℃14d後」と表記)
The above-mentioned measurement of the number of sheets developed on press was carried out for the following three types of lithographic printing plate precursors. The results are shown in Table 5.
1. Lithographic printing plate precursor immediately after production (indicated as "immediately" in the table)
2. A lithographic printing plate precursor immediately after production, wrapped in craft paper and stored in a constant temperature bath at 35°C for 14 days (in the table, it is written as "after 14 days at 35°C")
3. A lithographic printing plate precursor immediately after production, wrapped in craft paper and stored in a constant temperature bath at 45°C for 14 days (in the table, it is written as "after 14 days at 45°C")

(2)耐刷性(UV耐刷性)の評価
上記のようにして作製した平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載のKodak社製Magnus800 Quantumにて、出力27W、外面ドラム回転数450rpm、解像度2,400dpiの条件で露光(照射エネルギー110mJ/cm相当)した。露光画像にはベタ画像、及び、AMスクリーン10%網点のチャートを含むようにした。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、菊判サイズのハイデルベルグ社製印刷機SX-74のシリンダーに取り付けた。本印刷機には、不織布フィルターと温度制御装置を内蔵する容量100Lの湿し水循環タンクを接続した。湿し水S-Z1(富士フイルム(株)製)2.0%の湿し水80Lを循環装置内に仕込み、印刷インキとしてT&K UV OFS K-HS墨GE-M((株)T&K TOKA製)を用い、標準の自動印刷スタート方法で湿し水とインキを供給した後、毎時10,000枚の印刷速度で特菱アート(連量:76.5kg、三菱製紙(株)製)紙に500枚印刷を行った。
続けて、更に印刷を行った。印刷枚数を増やしていくと徐々に画像部が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるAMスクリーン10%網点の網点面積率をグレタグ濃度計(GretagMacbeth社製)で計測した値が、印刷500枚目の計測値よりも3%低下したときの印刷部数を刷了枚数として耐刷性を評価した。
刷了枚数が多いほど、耐刷性に優れることとなる。
(2) Evaluation of printing durability (UV printing durability) The lithographic printing plate precursor prepared as described above was tested on a Kodak Magnus 800 Quantum equipped with an infrared semiconductor laser, output 27W, outer drum rotation speed 450rpm, resolution Exposure was carried out under conditions of 2,400 dpi (irradiation energy equivalent to 110 mJ/cm 2 ). The exposed images included a solid image and an AM screen 10% halftone chart.
The exposed original plate thus obtained was attached to the cylinder of a chrysanthemum size printing machine SX-74 manufactured by Heidelberg Co., Ltd. without being subjected to any development processing. This printing machine was connected to a dampening water circulation tank with a capacity of 100 L that contained a nonwoven fabric filter and a temperature control device. 80L of 2.0% dampening water S-Z1 (manufactured by FUJIFILM Co., Ltd.) was charged into the circulation device, and used as printing ink such as T&K UV OFS K-HS Sumi GE-M (manufactured by T&K TOKA Co., Ltd.). ), and after supplying dampening water and ink using the standard automatic printing start method, printing was performed on Tokubishi Art (ream weight: 76.5 kg, manufactured by Mitsubishi Paper Mills Co., Ltd.) paper at a printing speed of 10,000 sheets per hour. 500 sheets were printed.
Continued printing. As the number of prints was increased, the image area gradually wore out and the ink density on the prints decreased. The number of printed copies is the number of printed copies when the value of the halftone dot area ratio of the AM screen 10% halftone dots on printed matter measured with a Gretag densitometer (manufactured by Gretag Macbeth) is 3% lower than the measured value of the 500th printed page. The printing durability was evaluated.
The greater the number of printed sheets, the better the printing durability.

(3)視認性の評価
得られた平版印刷版原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載のCreo社製Trendsetter3244VXにより、出力11.5W、外面ドラム回転数220rpm、解像度2,400dpiの条件で露光した。露光は25℃、50%RHの環境下で行った。
露光直後の平版印刷版原版(表中では「直後」と表記)と、露光後の平版印刷版原版を25℃、50%RHの条件で1日間保管した後の平版印刷版原版(表中では「1d後」と表記)と、のそれぞれについて発色を測定した。測定は、コニカミノルタ(株)製分光測色計CM2600dとオペレーションソフトCM-S100Wとを用い、SCE(正反射光除去)方式で行った。視認性(視認性)は、L表色系のL値(明度)を用い、露光部のL値と未露光部のL値との差ΔLを求めた。ΔLの値が大きい程、視認性が優れるといえる。結果を表5に記載した。
(3) Evaluation of visibility The obtained lithographic printing plate precursor was exposed to light using a Creo Trendsetter 3244VX equipped with a water-cooled 40W infrared semiconductor laser under conditions of an output of 11.5W, an outer drum rotation speed of 220 rpm, and a resolution of 2,400 dpi. . Exposure was performed at 25° C. and 50% RH.
The lithographic printing plate precursor immediately after exposure (indicated as "immediately" in the table) and the lithographic printing plate precursor after the exposed lithographic printing plate precursor has been stored for one day at 25°C and 50% RH (in the table, the lithographic printing plate precursor is (denoted as "after 1 d"), and the color development was measured for each of the following. The measurement was performed using a spectrophotometer CM2600d manufactured by Konica Minolta, Inc. and operation software CM-S100W using the SCE (specular reflection elimination) method. For visibility (visibility), the difference ΔL between the L * value of the exposed area and the L * value of the unexposed area was determined using the L * value (lightness) of the L * a * b * color system. It can be said that the larger the value of ΔL, the better the visibility. The results are listed in Table 5.

表5から明らかなように、実施例に係る平版印刷版原版は、比較例に係る平版印刷版原版と比べて、経時による機上現像性の低下が抑制され、耐刷性にも優れることが分かる。
また、実施例に係る平版印刷版原版は、露光後の視認性にも優れることが分かる。
As is clear from Table 5, the lithographic printing plate precursors according to Examples have suppressed deterioration in on-press developability over time and have excellent printing durability compared to lithographic printing plate precursors according to Comparative Examples. I understand.
Furthermore, it can be seen that the lithographic printing plate precursors according to Examples also have excellent visibility after exposure.

18:アルミニウム板、12a,12b:アルミニウム支持体、20a,20b:陽極酸化皮膜、22a,22b:マイクロポア、24:大径孔部、26:小径孔部、610:陽極酸化処理装置、616:アルミニウム板、618:電解液、612:給電槽、614:電解処理槽、616:アルミニウム板、620:給電電極、622:ローラ、624:ニップローラ、626:電解液、628:ローラ、630:電解電極、634:直流電源 18: aluminum plate, 12a, 12b: aluminum support, 20a, 20b: anodized film, 22a, 22b: micropore, 24: large diameter hole, 26: small diameter hole, 610: anodizing treatment device, 616: Aluminum plate, 618: Electrolyte, 612: Power supply tank, 614: Electrolytic treatment tank, 616: Aluminum plate, 620: Power supply electrode, 622: Roller, 624: Nip roller, 626: Electrolyte, 628: Roller, 630: Electrolytic electrode , 634: DC power supply

Claims (29)

支持体上に画像記録層と最外層とをこの順に有し、
前記画像記録層が、ガラス転移温度が70℃以上であり、ポリビニルアセタールである高分子量体を含み、
前記最外層が、変色性化合物を含む
機上現像型平版印刷版原版。
having an image recording layer and an outermost layer on a support in this order,
The image recording layer has a glass transition temperature of 70° C. or higher and contains a polymer that is polyvinyl acetal ,
An on-press development type lithographic printing plate precursor, wherein the outermost layer contains a color-changing compound.
前記画像記録層が分子量5,000以下の重合性化合物を更に含み、
前記高分子量体の溶解度パラメータと前記重合性化合物の溶解度パラメータとの差が0.8MPa1/2以上である請求項1に記載の機上現像型平版印刷版原版。
The image recording layer further contains a polymerizable compound having a molecular weight of 5,000 or less,
The on-press development type lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the difference between the solubility parameter of the polymer and the solubility parameter of the polymerizable compound is 0.8 MPa 1/2 or more.
前記重合性化合物の溶解度パラメータが20.0MPa1/2以下である請求項2に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-press development type lithographic printing plate precursor according to claim 2, wherein the solubility parameter of the polymerizable compound is 20.0 MPa 1/2 or less. 前記重合性化合物が2官能以上の重合性化合物である請求項2又は請求項3に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-press development type lithographic printing plate precursor according to claim 2 or 3, wherein the polymerizable compound is a bifunctional or more functional polymerizable compound. 前記画像記録層中の、前記高分子量体の質量をP、前記重合性化合物の質量をMとしたとき、6.0≧P/M≧0.5の関係を満たす請求項~請求項4いずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 Claims 2 to 4 satisfy the relationship of 6.0≧P/M≧0.5, where P is the mass of the high molecular weight substance and M is the mass of the polymerizable compound in the image recording layer. The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of the above. 前記ポリビニルアセタール中の水酸基を有する構成単位が、ポリビニルアセタールの全構成単位に対して20mol%以上である請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 5 , wherein the structural unit having a hydroxyl group in the polyvinyl acetal is 20 mol% or more based on the total structural units of the polyvinyl acetal. 前記ポリビニルアセタールがエチレン性不飽和基を有する請求項1~請求項6のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 6, wherein the polyvinyl acetal has an ethylenically unsaturated group. 前記ポリビニルアセタールがエチレン性不飽和基を有する構成単位を含む請求項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-press development type lithographic printing plate precursor according to claim 7 , wherein the polyvinyl acetal contains a structural unit having an ethylenically unsaturated group. 前記ポリビニルアセタールが、アセタール環にエチレン性不飽和基が導入された化合物である請求項7に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-press development type lithographic printing plate precursor according to claim 7 , wherein the polyvinyl acetal is a compound having an ethylenically unsaturated group introduced into the acetal ring. 前記最外層が疎水性ポリマーを更に含む請求項1~請求項のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 9 , wherein the outermost layer further contains a hydrophobic polymer. 前記疎水性ポリマーの前記最外層表面における占有面積率が30面積%以上である請求項1に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-press development type lithographic printing plate precursor according to claim 10 , wherein the area ratio occupied by the hydrophobic polymer on the surface of the outermost layer is 30% by area or more. 前記疎水性ポリマーが粒子である請求項1又は請求項1に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-press development type lithographic printing plate precursor according to claim 10 or 11 , wherein the hydrophobic polymer is a particle. エネルギー密度110mJ/cmにて波長830nmの赤外線による露光を行った場合の、前記露光前後の明度変化ΔLが2.0以上である請求項1~請求項1のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 13. The lightness change ΔL before and after the exposure is 2.0 or more when exposed to infrared rays with a wavelength of 830 nm at an energy density of 110 mJ/cm 2 . On-press development type lithographic printing plate precursor. 前記変色性化合物が赤外線露光に起因して発色する化合物を含む請求項1~請求項1のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 13 , wherein the color-changing compound contains a compound that develops color upon exposure to infrared rays. 前記変色性化合物が赤外線露光に起因して分解する分解性化合物を含む請求項1~請求項1のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 14 , wherein the color-changing compound contains a decomposable compound that decomposes due to infrared exposure. 前記変色性化合物がシアニン色素である請求項11~請求項1のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of claims 11 to 15 , wherein the color-changing compound is a cyanine dye. 前記変色性化合物が下記式1-1で表される化合物である請求項1~請求項1のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。

式1-1中、Rは下記式2~式4のいずれかで表される基を表し、R11~R18はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、-R、-OR、-SR、又は-NRを表し、R~Rは、それぞれ独立に、炭化水素基を表し、A、A及び複数のR11~R18が連結して単環又は多環を形成してもよく、A及びAはそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は、窒素原子を表し、n11及びn12はそれぞれ独立に、0~5の整数を表し、但し、n11及びn12の合計は2以上であり、n13及びn14はそれぞれ独立に、0又は1を表し、Lは酸素原子、硫黄原子、又は、-NR10-を表し、R10は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表す。

式2~式4中、R20、R30、R41及びR42はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Zbは電荷を中和する対イオンを表し、波線は、前記式1-1中のLで表される基との結合部位を表す。
The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 16 , wherein the color-changing compound is a compound represented by the following formula 1-1.

In formula 1-1, R 1 represents a group represented by any of the following formulas 2 to 4, and R 11 to R 18 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, -R a , -OR b , -SR c or -NR d R e , R a to R e each independently represent a hydrocarbon group, and A 1 , A 2 and a plurality of R 11 to R 18 are linked to form a monocyclic or A polycyclic ring may be formed, A 1 and A 2 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom, n 11 and n 12 each independently represent an integer from 0 to 5, However, the sum of n 11 and n 12 is 2 or more, n 13 and n 14 each independently represent 0 or 1, L represents an oxygen atom, a sulfur atom, or -NR 10 -, and R 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and Za represents a counter ion that neutralizes the charge.

In formulas 2 to 4, R 20 , R 30 , R 41 and R 42 each independently represent an alkyl group or an aryl group, Zb represents a counter ion that neutralizes the charge, and the wavy line represents the formula 1- represents the bonding site with the group represented by L in 1.
前記変色性化合物が、下記式1-2で表される化合物である請求項1に記載の機上現像型平版印刷版原版。

式1-2中、Rは上記式2~式4のいずれかで表される基を表し、R19~R22はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、-R、-OR、-CN、-SR、又は、-NRを表し、R23及びR24はそれぞれ独立に、水素原子、又は、-Rを表し、R~Rはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、R19とR20、R21とR22、又は、R23とR24は、連結して単環又は多環を形成してもよく、Lは、酸素原子、硫黄原子、又は、-NR10-を表し、R10は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Rd1~Rd4、W及びWは、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表す。
The on-press development type lithographic printing plate precursor according to claim 17 , wherein the color-changing compound is a compound represented by the following formula 1-2.

In formula 1-2, R 1 represents a group represented by any of the above formulas 2 to 4, and R 19 to R 22 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, -R a , -OR b , -CN, -SR c or -NR d R e , R 23 and R 24 each independently represent a hydrogen atom or -R a , and R a to R e each independently represent a hydrocarbon R 19 and R 20 , R 21 and R 22 , or R 23 and R 24 may be connected to form a monocyclic or polycyclic ring, and L is an oxygen atom, a sulfur atom, or , -NR 10 -, R 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and R d1 to R d4 , W 1 and W 2 each independently may have a substituent. It represents an alkyl group, and Za represents a counter ion that neutralizes charge.
前記変色性化合物が下記式1-3~式1-7のいずれかで表される化合物である請求項1又は請求項18に記載の機上現像型平版印刷版原版。

式1-3~式1-7中、Rは上記式2~式4のいずれかで表される基を表し、R19~R22はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、-R、-OR、-CN、-SR、又は、-NRを表し、R25及びR26はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は-Rを表し、R~Rはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、R19とR20、R21とR22、又は、R25とR26は、連結して単環又は多環を形成してもよく、Lは、酸素原子、硫黄原子、又は、-NR10-を表し、R10は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Rd1~Rd4、W及びWはそれぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表す。
The on-press development type lithographic printing plate precursor according to claim 17 or 18, wherein the color-changing compound is a compound represented by any one of the following formulas 1-3 to 1-7.

In formulas 1-3 to 1-7, R 1 represents a group represented by any of the above formulas 2 to 4, and R 19 to R 22 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, -R a , -OR b , -CN, -SR c , or -NR d R e , R 25 and R 26 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or -R a , and R a to R e each independently represents a hydrocarbon group, R 19 and R 20 , R 21 and R 22 , or R 25 and R 26 may be connected to form a monocyclic or polycyclic ring, and L is represents an oxygen atom, a sulfur atom, or -NR 10 -, R 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and R d1 to R d4 , W 1 and W 2 each independently represent a substituent. represents an alkyl group which may have , and Za represents a counter ion that neutralizes charge.
前記式1-2~式1-7におけるW及びWは、それぞれ独立に、置換基を有するアルキル基であり、かつ、前記置換基として、-(OCHCH)-、スルホ基、スルホ基の塩、カルボキシ基、又はカルボキシ基の塩を少なくとも有する基である請求項1又は請求項19に記載の機上現像型平版印刷版原版。 W 1 and W 2 in the formulas 1-2 to 1-7 are each independently an alkyl group having a substituent, and the substituent is -(OCH 2 CH 2 )-, a sulfo group, The on-press development type lithographic printing plate precursor according to claim 18 or 19, which is a salt of a sulfo group, a carboxy group, or a group having at least a salt of a carboxy group. 前記画像記録層が更に重合開始剤を含み、
前記重合開始剤が電子供与型重合開始剤及び電子受容型重合開始剤を含む請求項1~請求項20のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
The image recording layer further contains a polymerization initiator,
The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 20 , wherein the polymerization initiator contains an electron-donating polymerization initiator and an electron-accepting polymerization initiator.
前記重合開始剤が前記電子供与型重合開始剤と前記電子受容型重合開始剤とが対塩を形成してなる化合物を含む請求項2に記載の機上現像型平版印刷版原版。 22. The on-press development type lithographic printing plate precursor according to claim 21 , wherein the polymerization initiator contains a compound formed by the electron-donating polymerization initiator and the electron-accepting polymerization initiator forming a pair salt. 前記電子受容型重合開始剤が下記式(II)で表される化合物を含む請求項2に記載の機上現像型平版印刷版原版。

式(II)中、Xはハロゲン原子を表し、Rはアリール基を表す。
The on-press development type lithographic printing plate precursor according to claim 21 , wherein the electron-accepting polymerization initiator contains a compound represented by the following formula (II).

In formula (II), X represents a halogen atom, and R 3 represents an aryl group.
前記画像記録層が赤外線吸収剤を含み、
前記赤外線吸収剤のHOMO-前記電子供与型重合開始剤のHOMOの値が、0.70eV以下である請求項2~請求項2のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
the image recording layer contains an infrared absorber,
The on-press development type lithographic printing plate according to any one of claims 21 to 23 , wherein the value of HOMO of the infrared absorber-HOMO of the electron-donating polymerization initiator is 0.70 eV or less. Original version.
前記画像記録層が赤外線吸収剤を含み
前記電子受容型重合開始剤のLUMO-前記赤外線吸収剤のLUMOの値が、0.70eV以下である請求項2~請求項2のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
The image recording layer contains an infrared absorber, and the value of LUMO of the electron-accepting polymerization initiator minus LUMO of the infrared absorber is 0.70 eV or less . The on-press development type lithographic printing plate precursor described in .
前記支持体が、アルミニウム板と、前記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、
前記陽極酸化皮膜が、前記アルミニウム板よりも前記画像記録層側に位置し、
前記陽極酸化皮膜が、前記画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、
前記マイクロポアの前記陽極酸化皮膜表面における平均径が、10nmを超え100nm以下である、請求項1~請求項2のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
The support has an aluminum plate and an aluminum anodic oxide film disposed on the aluminum plate,
The anodic oxide film is located closer to the image recording layer than the aluminum plate,
The anodic oxide film has micropores extending in the depth direction from the surface on the image recording layer side,
The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 25 , wherein the average diameter of the micropores on the surface of the anodic oxide film is more than 10 nm and less than 100 nm.
前記マイクロポアが、前記陽極酸化皮膜表面から深さ10nm~1,000nmの位置までのびる大径孔部と、前記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ20nm~2,000nmの位置までのびる小径孔部とから構成され、
前記大径孔部の前記陽極酸化皮膜表面における平均径が、15nm~100nmであり、
前記小径孔部の前記連通位置における平均径が、13nm以下である、請求項2に記載の機上現像型平版印刷版原版。
The micropores communicate with a large-diameter hole extending from the surface of the anodic oxide film to a depth of 10 nm to 1,000 nm and the bottom of the large-diameter hole, and extend from a communication position to a depth of 20 nm to 2,000 nm. It consists of a small diameter hole that extends to the
The average diameter of the large diameter pores on the surface of the anodic oxide film is 15 nm to 100 nm,
The on-press development type lithographic printing plate precursor according to claim 26 , wherein the average diameter of the small diameter hole portion at the communicating position is 13 nm or less.
請求項1~請求項2のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
印刷機上で印刷インキ及び湿し水からなる群より選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む
平版印刷版の作製方法。
Imagewise exposing the on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 27 ;
A method for producing a lithographic printing plate, comprising the step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water on a printing press to remove an image recording layer in a non-image area.
請求項1~請求項2のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
印刷機上で印刷インキ及び湿し水からなる群より選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、
得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む、
平版印刷方法。
Imagewise exposing the on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 27 ;
a step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water on the printing press to remove the image recording layer in the non-image area to produce a lithographic printing plate;
a step of printing with the obtained lithographic printing plate;
Lithographic printing method.
JP2020095079A 2020-05-29 2020-05-29 On-press development type lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate, and lithographic printing method Active JP7391767B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020095079A JP7391767B2 (en) 2020-05-29 2020-05-29 On-press development type lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate, and lithographic printing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020095079A JP7391767B2 (en) 2020-05-29 2020-05-29 On-press development type lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate, and lithographic printing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021189320A JP2021189320A (en) 2021-12-13
JP7391767B2 true JP7391767B2 (en) 2023-12-05

Family

ID=78849608

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020095079A Active JP7391767B2 (en) 2020-05-29 2020-05-29 On-press development type lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate, and lithographic printing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7391767B2 (en)

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003063165A (en) 2001-08-27 2003-03-05 Fuji Photo Film Co Ltd Original plate for lithographic printing plate
JP2005195964A (en) 2004-01-08 2005-07-21 Fuji Photo Film Co Ltd Water-dispersible photopolymerizable resin composition and dry film resist obtained by using the same
WO2006095535A1 (en) 2005-03-09 2006-09-14 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Photosensitive planographic printing plate material
WO2008081679A1 (en) 2006-12-28 2008-07-10 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Developer for photosensitive lithographic printing plate and process for producing lithographic printing plate with the use thereof
US20090269699A1 (en) 2008-04-29 2009-10-29 Munnelly Heidi M On-press developable elements and methods of use
JP2011213114A (en) 2010-03-19 2011-10-27 Fujifilm Corp Color developing photosensitive composition, lithographic printing original plate and method for producing the same
JP2014048556A (en) 2012-09-03 2014-03-17 Sumitomo Chemical Co Ltd Photosensitive resin composition
WO2016027886A1 (en) 2014-08-22 2016-02-25 富士フイルム株式会社 Color developing composition, lithographic printing original plate, method for making lithographic printing plate, and color developer
WO2016121667A1 (en) 2015-01-28 2016-08-04 富士フイルム株式会社 Coloring composition, lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate, and coloring agent
JP6461447B1 (en) 2017-09-29 2019-01-30 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor, lithographic printing plate preparation method and lithographic printing method
WO2019150788A1 (en) 2018-01-31 2019-08-08 富士フイルム株式会社 Lithographic plate original plate, and method for producing lithographic plate
JP2020069789A (en) 2018-10-31 2020-05-07 富士フイルム株式会社 Lithographic printing plate original plate, method for producing lithographic printing plate and lithographic printing method

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003063165A (en) 2001-08-27 2003-03-05 Fuji Photo Film Co Ltd Original plate for lithographic printing plate
JP2005195964A (en) 2004-01-08 2005-07-21 Fuji Photo Film Co Ltd Water-dispersible photopolymerizable resin composition and dry film resist obtained by using the same
WO2006095535A1 (en) 2005-03-09 2006-09-14 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Photosensitive planographic printing plate material
WO2008081679A1 (en) 2006-12-28 2008-07-10 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Developer for photosensitive lithographic printing plate and process for producing lithographic printing plate with the use thereof
US20090269699A1 (en) 2008-04-29 2009-10-29 Munnelly Heidi M On-press developable elements and methods of use
JP2011213114A (en) 2010-03-19 2011-10-27 Fujifilm Corp Color developing photosensitive composition, lithographic printing original plate and method for producing the same
JP2014048556A (en) 2012-09-03 2014-03-17 Sumitomo Chemical Co Ltd Photosensitive resin composition
WO2016027886A1 (en) 2014-08-22 2016-02-25 富士フイルム株式会社 Color developing composition, lithographic printing original plate, method for making lithographic printing plate, and color developer
WO2016121667A1 (en) 2015-01-28 2016-08-04 富士フイルム株式会社 Coloring composition, lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate, and coloring agent
JP6461447B1 (en) 2017-09-29 2019-01-30 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor, lithographic printing plate preparation method and lithographic printing method
WO2019150788A1 (en) 2018-01-31 2019-08-08 富士フイルム株式会社 Lithographic plate original plate, and method for producing lithographic plate
JP2020069789A (en) 2018-10-31 2020-05-07 富士フイルム株式会社 Lithographic printing plate original plate, method for producing lithographic printing plate and lithographic printing method

Also Published As

Publication number Publication date
JP2021189320A (en) 2021-12-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7430788B2 (en) On-press development type lithographic printing plate precursor, method for producing a lithographic printing plate, and lithographic printing method
JP7413526B2 (en) On-press development type lithographic printing plate precursor, method for producing a lithographic printing plate, and lithographic printing method
JP7372324B2 (en) On-press development type lithographic printing plate precursor, method for producing a lithographic printing plate, and lithographic printing method
JP7408675B2 (en) Planographic printing plate original plate, method for preparing a planographic printing plate, and planographic printing method
JP7293356B2 (en) On-machine development type lithographic printing plate precursor, method for preparing lithographic printing plate, and lithographic printing method
JP2024045243A (en) On-press development type lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate, and lithographic printing method
JP2023171431A (en) Planographic printing original plate, method for manufacturing planographic printing plate, and planographic printing method
WO2021241688A1 (en) Original plate for on-machine development type lithographic printing plate, lithographic printing plate manufacturing method, and lithographic printing method
JP7394874B2 (en) Lithographic printing method
US20230120465A1 (en) On-press development type lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate, and lithographic printing method
JP7378613B2 (en) On-press development type lithographic printing plate precursor, method for preparing a lithographic printing plate, and lithographic printing method
JP7451702B2 (en) laminate
JP7391767B2 (en) On-press development type lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate, and lithographic printing method
JP7293377B2 (en) Lithographic printing plate precursor, method for preparing lithographic printing plate, and method for lithographic printing
WO2023032681A1 (en) Multilayer body
JP2021189319A (en) On-machine development type planographic printing original plate, manufacturing method of planographic printing plate, as well as, planographic printing method
WO2021241638A1 (en) On-press-development-type lithographic printing plate precursor, lithographic printing plate production method, and lithographic printing method
WO2022025068A1 (en) On-press-development-type planographic printing original plate, method for producing planographic printing plate, and planographic printing method
WO2022163777A1 (en) On-press-development-type planographic printing original plate, method for producing planographic printing plate, and planographic printing method
WO2022181724A1 (en) On-press-development-type planographic printing plate precursor, method for fabricating planographic printing plate, planographic printing method, and coloring agent
WO2023145972A1 (en) On-press development type lithographic printing plate precursor, lithographic printing plate fabrication method, lithographic printing method, and laminate
WO2020262690A1 (en) On-press development type lithographic printing original plate, method for producing lithographic printing plate, and lithographic printing method
WO2022019217A1 (en) On-machine-developing-type planographic printing plate original plate, method for manufacturing planographic printing plate, and planographic printing method
JP2023138231A (en) Lithographic printing plate original plate, lithographic printing plate manufacturing method, and lithographic printing method
JP2023098447A (en) Lithographic print plate original plate and production method of print plate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220725

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230523

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230721

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20231031

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20231122

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7391767

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150