JP2021189319A - On-machine development type planographic printing original plate, manufacturing method of planographic printing plate, as well as, planographic printing method - Google Patents

On-machine development type planographic printing original plate, manufacturing method of planographic printing plate, as well as, planographic printing method Download PDF

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Abstract

To provide an on-machine development type planographic printing plate original plate that suppresses degradation of on-machine developability with time, and, can obtain a planographic printing plate excellent in printing resistance, a manufacturing method of a planographic printing plate using the planographic printing plate original plate, or a planographic printing method.SOLUTION: An on-machine development type planographic printing plate original plate comprises a support and an image recording layer formed on the support, and the image recording layer comprises a polymerizable compound A having an ethylenically unsaturated bond value of 5.0 mmol/g or larger, and a polymerizable compound B having two functions or lower and a molecular weight of 1,000 or smaller, a manufacturing method of a planographic printing plate using the planographic printing plate original plate, or a planographic printing method.SELECTED DRAWING: None

Description

本開示は、機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、並びに、平版印刷方法に関する。 The present disclosure relates to an on-machine development type lithographic printing plate original plate, a method for producing a lithographic printing plate, and a lithographic printing method.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルムなどの原画を通した露光を行った後、画像記録層の画像部となる部分を残存させ、それ以外の不要な画像記録層をアルカリ性現像液又は有機溶剤によって溶解除去し、親水性の支持体表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
Generally, a lithographic printing plate comprises a lipophilic image portion that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image portion that receives dampening water. In flat plate printing, the property that water and oil-based ink repel each other is used to make the oil-based image part of the flat plate printing plate an ink receiving part and the hydrophilic non-image part a dampening water receiving part (ink non-receptive part). This is a method in which a difference in the adhesiveness of ink is generated on the surface of a flat plate printing plate, the ink is inlaid only on the image portion, and then the ink is transferred to an object to be printed such as paper for printing.
In order to produce this lithographic printing plate, a lithographic printing plate original plate (PS plate) in which a lipophilic photosensitive resin layer (image recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. Normally, after the lithographic printing plate original plate is exposed through an original image such as a squirrel film, the portion that becomes the image portion of the image recording layer remains, and the other unnecessary image recording layer is an alkaline developer or organic. A lithographic printing plate is obtained by performing plate making by a method of dissolving and removing with a solvent to expose the surface of a hydrophilic support to form a non-image portion.

また、地球環境への関心の高まりから、現像処理などの湿式処理に伴う廃液に関する環境課題がクローズアップされている。
上記の環境課題に対して、現像あるいは製版の簡易化、無処理化が指向されている。簡易な作製方法の一つとしては、「機上現像」と呼ばれる方法が行われている。すなわち、平版印刷版原版を露光後、従来の現像は行わず、そのまま印刷機に装着して、画像記録層の不要部分の除去を通常の印刷工程の初期段階で行う方法である。
本開示において、このような機上現像に用いることができる平版印刷版原版を、「機上現像型平版印刷版原版」という。
In addition, due to growing interest in the global environment, environmental issues related to waste liquids associated with wet treatments such as development treatments have been highlighted.
In response to the above environmental issues, simplification and non-processing of development or plate making are aimed at. As one of the simple manufacturing methods, a method called "on-machine development" is performed. That is, after the lithographic printing plate original plate is exposed, the conventional development is not performed, but the printing machine is mounted as it is, and the unnecessary portion of the image recording layer is removed at the initial stage of the normal printing process.
In the present disclosure, a lithographic printing plate original plate that can be used for such on-machine development is referred to as a "machine-developing lithographic printing plate original plate".

従来の平版印刷版原版としては、例えば、特許文献1〜4に記載されたものが挙げられる。
特許文献1〜4には、重合性基を有するオリゴマー及び3官能以上のアクリレート化合物を含む画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版が記載されている。
Examples of the conventional planographic printing plate original plate include those described in Patent Documents 1 to 4.
Patent Documents 1 to 4 describe an on-machine development type lithographic printing plate original plate having an image recording layer containing an oligomer having a polymerizable group and a trifunctional or higher functional acrylate compound.

特開2016−155271号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-155271 特開2015−202586号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-202586 特開2011−051350号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-051350 特表2018−508385号公報Special Table 2018-508385 Gazette

本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、経時での機上現像性の低下を抑止し、且つ、耐刷性に優れる平版印刷版が得られる機上現像型平版印刷版原版を提供することである。
本開示の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記機上現像型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法、又は平版印刷方法を提供することである。
The problem to be solved by one embodiment of the present disclosure is to provide an on-board development type lithographic printing plate original plate that suppresses deterioration of on-machine developability over time and can obtain a lithographic printing plate having excellent printing durability. It is to be.
An object to be solved by another embodiment of the present disclosure is to provide a method for producing a lithographic printing plate using the above-mentioned machine-developing lithographic printing plate original plate, or a method for lithographic printing.

上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
<1> 支持体と上記支持体上に形成された画像記録層とを有し、
上記画像記録層が、エチレン性不飽和結合価が5.0mmol/g以上の重合性化合物A、及び、2官能以下で且つ分子量が1,000以下の重合性化合物Bを含む
機上現像型平版印刷版原版。
<2> 上記画像記録層において、上記重合性化合物Aと上記重合性化合物Bとの総量に対する上記重合性化合物Bの含有量の比率が80質量%以下である<1>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<3> 上記重合性化合物Bがメタクリレート化合物である<1>又は<2>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<4> 上記重合性化合物Aが下記式(I)で表される化合物である<1>〜<3>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
式(I) : X−(Y)
式(I)中、Xは水素結合性基を有するn価の有機基を表し、Yは2以上のエチレン性不飽和基を有する1価の基を表し、nは2以上の整数を表し、Xの分子量/(Yの分子量×n)が1以下である。
<5> 上記重合性化合物Aにおける水素結合性基が、ウレタン基、ウレア基、イミド基、アミド基、及びスルホンアミド基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基を含む、<4>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<6> 上記重合性化合物Aが、アダクト構造、ビウレット構造、及びイソシアヌレート構造からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を有する<1>〜<5>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
The means for solving the above problems include the following aspects.
<1> It has a support and an image recording layer formed on the support.
The image recording layer contains a polymerizable compound A having an ethylenically unsaturated bond value of 5.0 mmol / g or more and a polymerizable compound B having a bifunctionality or less and a molecular weight of 1,000 or less. Print plate original plate.
<2> The on-machine development according to <1>, wherein the ratio of the content of the polymerizable compound B to the total amount of the polymerizable compound A and the polymerizable compound B in the image recording layer is 80% by mass or less. Type lithographic printing plate original plate.
<3> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <1> or <2>, wherein the polymerizable compound B is a methacrylate compound.
<4> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <3>, wherein the polymerizable compound A is a compound represented by the following formula (I).
Equation (I): X- (Y) n
In formula (I), X represents an n-valent organic group having a hydrogen-bonding group, Y represents a monovalent group having two or more ethylenically unsaturated groups, and n represents an integer of two or more. The molecular weight of X / (molecular weight of Y × n) is 1 or less.
<5> The group according to <4>, wherein the hydrogen-binding group in the polymerizable compound A contains at least one group selected from the group consisting of a urethane group, a urea group, an imide group, an amide group, and a sulfonamide group. On-board development type flat plate printing plate original plate.
<6> The machine according to any one of <1> to <5>, wherein the polymerizable compound A has at least one structure selected from the group consisting of an adduct structure, a biuret structure, and an isocyanurate structure. Top-developed lithographic printing plate original plate.

<7> 上記重合性化合物Aが、下記式(A−1)〜式(A−3)のいずれかで表される構造を有する<1>〜<6>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。 <7> The machine according to any one of <1> to <6>, wherein the polymerizable compound A has a structure represented by any of the following formulas (A-1) to (A-3). Top-developed lithographic printing plate original plate.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式(A−1)中、RA1は、水素原子、又は、炭素数1〜8のアルキル基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。 In the formula (A-1), RA1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and the wavy line portion represents a bond position with another structure.

<8> 上記画像記録層が更にポリビニルアセタールを含む<1>〜<7>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<9> 上記ポリビニルアセタールは、水酸基を有する構成単位の含有量が、ポリビニルアセタール中の全構成単位に対して15mol%以上である<8>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<10> 上記画像記録層上に最外層を有する<1>〜<9>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<11> 上記最外層が疎水性ポリマーを含む<10>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<12> 上記最外層が変色性化合物を含む<10>又は<11>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<13> エネルギー密度110mJ/cmにて波長830nmの赤外線による露光を行った場合の、上記露光前後の明度変化ΔLが2.0以上である<12>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<14> 上記変色性化合物が赤外線露光に起因して発色する化合物を含む<12>又は<13>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<15> 上記変色性化合物が赤外線露光に起因して分解する分解性化合物を含む<12>〜<14>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<16> 上記変色性化合物がシアニン色素である<12>〜<15>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<8> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <7>, wherein the image recording layer further contains polyvinyl acetal.
<9> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <8>, wherein the polyvinyl acetal has a content of a structural unit having a hydroxyl group of 15 mol% or more with respect to all the structural units in the polyvinyl acetal.
<10> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <9>, which has an outermost layer on the image recording layer.
<11> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <10>, wherein the outermost layer contains a hydrophobic polymer.
<12> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <10> or <11>, wherein the outermost layer contains a color-changing compound.
<13> The on-machine development type lithographic printing plate according to <12>, wherein the brightness change ΔL before and after the exposure is 2.0 or more when exposure is performed with infrared rays having a wavelength of 830 nm at an energy density of 110 mJ / cm 2. Original version.
<14> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <12> or <13>, wherein the discolorable compound contains a compound that develops color due to infrared exposure.
<15> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <12> to <14>, which contains a degradable compound in which the discolorable compound decomposes due to infrared exposure.
<16> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <12> to <15>, wherein the discoloring compound is a cyanine dye.

<17> 上記変色性化合物が下記式1−1で表される化合物である<12>〜<16>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。 <17> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <12> to <16>, wherein the discolorable compound is a compound represented by the following formula 1-1.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式1−1中、Rは下記式2〜式4のいずれかで表される基を表し、R11〜R18はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、−R、−OR、−SR、又は−NRを表し、R〜Rは、それぞれ独立に、炭化水素基を表し、A、A及び複数のR11〜R18が連結して単環又は多環を形成してもよく、A及びAはそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は、窒素原子を表し、n11及びn12はそれぞれ独立に、0〜5の整数を表し、但し、n11及びn12の合計は2以上であり、n13及びn14はそれぞれ独立に、0又は1を表し、Lは酸素原子、硫黄原子、又は、−NR10−を表し、R10は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表す。 In formula 1-1, R 1 represents a group represented by any of the following formulas 2 to 4, and R 11 to R 18 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, -R a , -OR b , and so on. Represents -SR c or -NR d R e , R a to R e each independently represent a hydrocarbon group, and A 1 , A 2 and a plurality of R 11 to R 18 are linked to form a single ring or Polycycles may be formed, where A 1 and A 2 independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom, and n 11 and n 12 each independently represent an integer of 0 to 5. However, the total of n 11 and n 12 is 2 or more, n 13 and n 14 independently represent 0 or 1, L represents an oxygen atom, a sulfur atom, or −NR 10 −, and R 10 Represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and Za represents a counterion that neutralizes the charge.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式2〜式4中、R20、R30、R41及びR42はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Zbは電荷を中和する対イオンを表し、波線は、上記式1−1中のLで表される基との結合部位を表す。 In Formulas 2 to 4, R 20 , R 30 , R 41 and R 42 independently represent an alkyl group or an aryl group, Zb represents a counterion that neutralizes the charge, and the wavy line represents the above formula 1-. Represents a binding site with a group represented by L in 1.

<18> 上記変色性化合物が、下記式1−2で表される化合物である<17>に記載の機上現像型平版印刷版原版。 <18> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <17>, wherein the discolorable compound is a compound represented by the following formula 1-2.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式1−2中、Rは上記式2〜式4のいずれかで表される基を表し、R19〜R22はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、−R、−OR、−CN、−SR、又は、−NRを表し、R23及びR24はそれぞれ独立に、水素原子、又は、−Rを表し、R〜Rはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、R19とR20、R21とR22、又は、R23とR24は、連結して単環又は多環を形成してもよく、Lは、酸素原子、硫黄原子、又は、−NR10−を表し、R10は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Rd1〜Rd4、W及びWは、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表す。 In formula 1-2, R 1 represents a group represented by any of the above formulas 2 to 4, and R 19 to R 22 are independently hydrogen atom, halogen atom, -R a , -OR b , respectively. -CN, -SR c, or represents -NR d R e, R 23 and R 24 each independently represent a hydrogen atom, or represents a -R a, R a ~R e are each independently a hydrocarbon Representing a group, R 19 and R 20 , R 21 and R 22 , or R 23 and R 24 may be linked to form a monocyclic or polycyclic, where L is an oxygen atom, a sulfur atom, or a hydrogen atom. , -NR 10- , where R 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and R d1 to R d4 , W 1 and W 2 may each independently have a substituent. Represents an alkyl group and Za represents a counterion that neutralizes the charge.

<19> 上記変色性化合物が下記式1−3〜式1−7のいずれかで表される化合物である<17>又は<18>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。 <19> The machine-developed lithographic printing plate according to any one of <17> or <18>, wherein the discolorable compound is a compound represented by any of the following formulas 1-3 to 1-7. Original version.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式1−3〜式1−7中、Rは上記式2〜式4のいずれかで表される基を表し、R19〜R22はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、−R、−OR、−CN、−SR、又は、−NRを表し、R25及びR26はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は−Rを表し、R〜Rはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、R19とR20、R21とR22、又は、R25とR26は、連結して単環又は多環を形成してもよく、Lは、酸素原子、硫黄原子、又は、−NR10−を表し、R10は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Rd1〜Rd4、W及びWはそれぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表す。 In formulas 1-3 to 1-7, R 1 represents a group represented by any of the above formulas 2 to 4, and R 19 to R 22 are independently hydrogen atom, halogen atom, and −R a. , -OR b , -CN, -SR c , or -NR d R e , and R 25 and R 26 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or -R a, and R a to R e. Represent each independently as a hydrocarbon group, and R 19 and R 20 , R 21 and R 22 , or R 25 and R 26 may be linked to form a monocyclic or polycyclic, where L is. Represents an oxygen atom, a sulfur atom, or -NR 10- , R 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and R d1 to R d4 , W 1 and W 2 are independent substituents. Represents an alkyl group which may have, and Za represents a counterion that neutralizes the charge.

<20> 上記式1−2〜式1−7におけるW及びWは、それぞれ独立に、置換基を有するアルキル基であり、かつ、上記置換基として、−(OCHCH)−、スルホ基、スルホ基の塩、カルボキシ基、又はカルボキシ基の塩を少なくとも有する基である<18>又は<19>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<21> 上記画像記録層が更に重合開始剤を含み、
上記重合開始剤が電子供与型重合開始剤及び電子受容型重合開始剤を含む<1>〜<20>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<22> 上記重合開始剤が上記電子供与型重合開始剤と上記電子受容型重合開始剤とが対塩を形成してなる化合物を含む<21>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<20> W 1 and W 2 in the above formulas 1-2 to 1-7 are alkyl groups each independently having a substituent, and as the above-mentioned substituents,-(OCH 2 CH 2 )-, The machine-developed flat plate printing plate original plate according to <18> or <19>, which is a sulfo group, a salt of a sulfo group, a carboxy group, or a group having at least a salt of a carboxy group.
<21> The image recording layer further contains a polymerization initiator and contains
The on-machine development type lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <20>, wherein the polymerization initiator contains an electron donating type polymerization initiator and an electron accepting type polymerization initiator.
<22> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <21>, wherein the polymerization initiator contains a compound in which the electron donating type polymerization initiator and the electron accepting type polymerization initiator form an anti-salt.

<23> 上記電子受容型重合開始剤が下記式(II)で表される化合物を含む<21>に記載の機上現像型平版印刷版原版。 <23> The machine-developed lithographic printing plate original plate according to <21>, wherein the electron-accepting polymerization initiator contains a compound represented by the following formula (II).

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式(II)中、Xはハロゲン原子を表し、Rはアリール基を表す。 In formula (II), X represents a halogen atom and R 3 represents an aryl group.

<24> 上記画像記録層が赤外線吸収剤を含み、
上記赤外線吸収剤のHOMO−上記電子供与型重合開始剤のHOMOの値が、0.70eV以下である<21>〜<23>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<25> 上記画像記録層が赤外線吸収剤を含み
上記電子受容型重合開始剤のLUMO−上記赤外線吸収剤のLUMOの値が、0.70eV以下である<21>〜<24>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<24> The image recording layer contains an infrared absorber and contains an infrared absorber.
HOMO of the infrared absorber-The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <21> to <23>, wherein the HOMO value of the electron donating type polymerization initiator is 0.70 eV or less.
<25> Any one of <21> to <24> in which the image recording layer contains an infrared absorber and the LUMO value of the electron-accepting polymerization initiator-LUMO of the infrared absorber is 0.70 eV or less. On-board development type lithographic printing plate original plate described in 1.

<26> 上記支持体が、アルミニウム板と、上記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、
上記陽極酸化皮膜が、上記アルミニウム板よりも上記画像記録層側に位置し、
上記陽極酸化皮膜が、上記画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、
上記マイクロポアの上記陽極酸化皮膜表面における平均径が、10nmを超え100nm以下である、<1>〜<25>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<27> 上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ10nm〜1,000nmの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ20nm〜2,000nmの位置までのびる小径孔部とから構成され、
上記大径孔部の上記陽極酸化皮膜表面における平均径が、15nm〜100nmであり、
上記小径孔部の上記連通位置における平均径が、13nm以下である、<26>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<26> The support has an aluminum plate and an aluminum anodized film arranged on the aluminum plate.
The anodic oxide film is located closer to the image recording layer than the aluminum plate.
The anodic oxide film has micropores extending in the depth direction from the surface on the image recording layer side.
The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <25>, wherein the average diameter of the micropores on the surface of the anodic oxide film is more than 10 nm and 100 nm or less.
<27> The micropore communicates with the large-diameter hole extending from the surface of the anodic oxide film to a depth of 10 nm to 1,000 nm and the bottom of the large-diameter hole, and has a depth of 20 nm to 2 from the communication position. It consists of a small-diameter hole that extends to a position of 000 nm.
The average diameter of the large-diameter hole portion on the surface of the anodic oxide film is 15 nm to 100 nm.
The on-machine development type lithographic printing plate original plate according to <26>, wherein the average diameter of the small diameter hole portion at the communication position is 13 nm or less.

<28> <1>〜<27>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
印刷機上で印刷インキ及び湿し水からなる群より選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む
平版印刷版の作製方法。
<29> <1>〜<27>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
印刷機上で印刷インキ及び湿し水からなる群より選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、
得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む、
平版印刷方法。
<28> A step of exposing the machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <27> to an image.
A method for producing a lithographic printing plate, comprising a step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water on a printing machine to remove an image recording layer in a non-image area.
<29> A step of exposing the machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of <1> to <27> to an image.
A process of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water on a printing machine to remove the image recording layer in the non-image area to produce a lithographic printing plate.
Including the process of printing with the obtained lithographic printing plate,
Planographic printing method.

本開示の一実施形態によれば、経時での機上現像性の低下を抑止し、且つ、耐刷性に優れる平版印刷版が得られる機上現像型平版印刷版原版を提供することができる。
また、本開示の他の実施形態によれば、上記機上現像型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法、又は平版印刷方法を提供することができる。
According to one embodiment of the present disclosure, it is possible to provide an on-board development type lithographic printing plate original plate capable of suppressing a decrease in on-machine developability over time and obtaining a lithographic printing plate having excellent printing resistance. ..
Further, according to another embodiment of the present disclosure, it is possible to provide a method for producing a lithographic printing plate using the above-mentioned machine-developing lithographic printing plate original plate, or a lithographic printing method.

支持体の一実施形態の模式的断面図である。It is a schematic sectional view of one Embodiment of a support. 支持体の別の一実施形態の模式的断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of another embodiment of the support. 陽極酸化皮膜を有する支持体の製造方法における陽極酸化処理に用いられる陽極酸化処理装置の概略図である。It is a schematic diagram of the anodizing treatment apparatus used for the anodizing treatment in the manufacturing method of the support which has an anodic oxide film.

以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本開示において、数値範囲を示す「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
また、本開示における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
本開示において、「(メタ)アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を包含する概念として用いられる語である。
また、本開示中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。
また、本開示において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
更に、本開示において、2以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、特に断りのない限り、TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(いずれも東ソー(株)製の商品名)のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)分析装置により、溶剤THF(テトラヒドロフラン)、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
本開示において、「平版印刷版原版」の用語は、平版印刷版原版だけでなく、捨て版原版を包含する。また、「平版印刷版」の用語は、平版印刷版原版を、必要により、露光、現像などの操作を経て作製された平版印刷版だけでなく、捨て版を包含する。捨て版原版の場合には、必ずしも、露光、現像の操作は必要ない。なお、捨て版とは、例えばカラーの新聞印刷において一部の紙面を単色又は2色で印刷を行う場合に、使用しない版胴に取り付けるための平版印刷版原版である。
本開示において、「耐刷性に優れる」とは、平版印刷版の印刷可能な枚数が多いことをいい、印刷の際のインクとしてUVインキを用いた場合の耐刷性を、以下、「UV耐刷性」ともいう。
The contents of the present disclosure will be described in detail below. The description of the constituents described below may be based on the representative embodiments of the present disclosure, but the present disclosure is not limited to such embodiments.
In the present disclosure, "~" indicating a numerical range is used to mean that the numerical values described before and after the numerical range are included as the lower limit value and the upper limit value.
In the numerical range described stepwise in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper limit value or the lower limit value of the numerical range described in another stepwise description. .. Further, in the numerical range described in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value of the numerical range may be replaced with the value shown in the examples.
Further, in the notation of a group (atomic group) in the present disclosure, the notation that does not describe substitution or non-substitution includes those having no substituent as well as those having a substituent. For example, the "alkyl group" includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
In the present disclosure, "(meth) acrylic" is a term used in a concept that includes both acrylic and methacrylic, and "(meth) acryloyl" is a term that is used as a concept that includes both acryloyl and methacrylic. be.
In addition, the term "process" in the present disclosure is included in this term as long as the intended purpose of the process is achieved, not only in an independent process but also in the case where it cannot be clearly distinguished from other processes. Is done.
Further, in the present disclosure, "% by mass" and "% by weight" are synonymous, and "parts by mass" and "parts by weight" are synonymous.
Further, in the present disclosure, a combination of two or more preferred embodiments is a more preferred embodiment.
Further, for the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) in the present disclosure, unless otherwise specified, columns of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, and TSKgel G2000HxL (all trade names manufactured by Toso Co., Ltd.) are used. The molecular weight is detected by the solvent THF (tetrahydrofuran) and the differential refractometer by the gel permeation chromatography (GPC) analyzer and converted using polystyrene as the standard substance.
In the present disclosure, the term "lithographic printing plate original plate" includes not only a lithographic printing plate original plate but also a discarded plate original plate. Further, the term "lithographic printing plate" includes not only a lithographic printing plate produced by subjecting a lithographic printing plate original plate through operations such as exposure and development, but also a discarded plate, if necessary. In the case of a discarded original plate, exposure and development operations are not always necessary. The discarded plate is a lithographic printing plate original plate for attaching to an unused plate cylinder, for example, when printing a part of the paper surface in a single color or two colors in color newspaper printing.
In the present disclosure, "excellent in printing resistance" means that the number of printable sheets of a lithographic printing plate is large, and the printing resistance when UV ink is used as the ink for printing is hereinafter referred to as "UV". Also called "print resistance".

≪機上現像型平版印刷版原版≫
本開示に係る機上現像型平版印刷版原版(以下、単に「平版印刷版原版」ともいう)は、支持体と上記支持体上に形成された画像記録層とを有し、上記画像記録層が、エチレン性不飽和結合価が5.0mmol/g以上の重合性化合物A、及び、2官能以下で且つ分子量が1,000以下の重合性化合物Bを含む。
また、本開示に係る平版印刷版原版は、ネガ型平版印刷版原版であることが好ましい。
≪In-machine development type lithographic printing plate original plate≫
The on-machine development type lithographic printing plate original plate (hereinafter, also simply referred to as “lithographic printing plate original plate”) according to the present disclosure has a support and an image recording layer formed on the support, and the image recording layer. However, it contains a polymerizable compound A having an ethylenically unsaturated bond value of 5.0 mmol / g or more, and a polymerizable compound B having a bifunctionality or less and a molecular weight of 1,000 or less.
Further, the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure is preferably a negative type lithographic printing plate original plate.

特許文献1〜4に記載のような機上現像型平版印刷版原版においては、画像記録層中の重合性化合物による重合性基の官能基密度が高いことから、耐刷性に優れる平版印刷版が得られるものと考えられる。一方で、このような機上現像型平版印刷版原版は、製造後に保存された後に使用する場合、製造直後と比較して機上現像性が低下してしまうことがある。これは、保存時の画像記録層中での暗重合によるものと考えられる。
本開示に係る平版印刷版原版によれば、経時での機上現像性の低下を抑止しつつ、耐刷性に優れる平版印刷版が得られる。
上記効果が得られる詳細なメカニズムは不明であるが、以下のように推測される。
本開示に係る平版印刷版原版において、画像記録層には、例えば、官能基数が10程度の多官能オリゴマーのような重合性化合物Aと共に、単官能又は2官能であって低分子量の重合性化合物Bを用いる。重合性化合物Bを用いることで、画像記録層中の重合性基の官能基密度が低下し、官能基密度が高いことで生じる暗重合が抑制されることで、機上現像性の経時による低下が生じにくくなるものと考えられる。更に、官能基数の多い重合性化合物Aを用いており、且つ、重合性化合物Bも画像記録層中の重合反応には寄与することから、優れた耐刷性は維持することができるものと考えられる。
In the machine-developed lithographic printing plate original plate as described in Patent Documents 1 to 4, since the functional group density of the polymerizable group due to the polymerizable compound in the image recording layer is high, the lithographic printing plate has excellent printing resistance. Is considered to be obtained. On the other hand, when such an on-machine development type lithographic printing plate original plate is used after being stored after production, the on-machine developability may be lower than that immediately after production. This is considered to be due to dark polymerization in the image recording layer during storage.
According to the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure, a lithographic printing plate having excellent printing durability can be obtained while suppressing deterioration of on-machine developability over time.
The detailed mechanism by which the above effect is obtained is unknown, but it is presumed as follows.
In the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure, in the image recording layer, for example, a polymerizable compound A such as a polyfunctional oligomer having about 10 functional groups, and a monofunctional or bifunctional, low molecular weight polymerizable compound are used. B is used. By using the polymerizable compound B, the functional group density of the polymerizable group in the image recording layer is lowered, and the dark polymerization caused by the high functional group density is suppressed, so that the on-machine developability is lowered with time. Is considered to be less likely to occur. Further, since the polymerizable compound A having a large number of functional groups is used and the polymerizable compound B also contributes to the polymerization reaction in the image recording layer, it is considered that excellent printing resistance can be maintained. Be done.

本開示における画像記録層においては、重合性化合物Aと重合性化合物Bとの総量に対する重合性化合物Bの含有量の比率(以降、比率〔B/(A+B)〕ともいう)が80質量%以下であることが好ましい。
上記比率〔B/(A+B)〕は、70質量%以下としてもよく、60質量%以下が好ましく、55質量%以下がより好ましく、50質量%以下が更に好ましく、45質量%以下が特に好ましい。
上記比率〔B/(A+B)〕の下限は、0質量%超が挙げられ、1質量%以上が好ましく、5質量%以上がより好ましく、10質量%以上が更に好ましく、15質量%以上が特に好ましい。
また、上記比率〔B/(A+B)〕は、5質量%〜70質量%が好ましく、10質量%〜60質量%がより好ましく、15質量%〜45質量が更に好ましい。
In the image recording layer in the present disclosure, the ratio of the content of the polymerizable compound B to the total amount of the polymerizable compound A and the polymerizable compound B (hereinafter, also referred to as the ratio [B / (A + B)]) is 80% by mass or less. Is preferable.
The ratio [B / (A + B)] may be 70% by mass or less, preferably 60% by mass or less, more preferably 55% by mass or less, further preferably 50% by mass or less, and particularly preferably 45% by mass or less.
The lower limit of the above ratio [B / (A + B)] is more than 0% by mass, preferably 1% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, further preferably 10% by mass or more, and particularly preferably 15% by mass or more. preferable.
The ratio [B / (A + B)] is preferably 5% by mass to 70% by mass, more preferably 10% by mass to 60% by mass, and even more preferably 15% by mass to 45% by mass.

次に、本開示に係る平版印刷版原版における各構成要件の詳細について説明する。 Next, the details of each constituent requirement in the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure will be described.

<画像記録層>
本開示に係る平版印刷版原版は、支持体上に画像記録層を有する。
本開示における画像記録層は、重合性化合物Aと重合性化合物Bとを有する。
本開示における画像記録層は、重合性化合物A及び重合性化合物Bの他、例えば、重合開始剤、赤外線吸収剤、その他の成分を含むことが好ましい。
本開示における画像記録層は、ネガ型画像記録層であることが好ましく、水溶性又は水分散性のネガ型画像記録層であることがより好ましい。
本開示における画像記録層は、機上現像性の観点から、画像記録層の未露光部が湿し水及び印刷インキの少なくともいずれかにより除去可能であることが好ましい。
<Image recording layer>
The lithographic printing plate original plate according to the present disclosure has an image recording layer on a support.
The image recording layer in the present disclosure has a polymerizable compound A and a polymerizable compound B.
The image recording layer in the present disclosure preferably contains, for example, a polymerization initiator, an infrared absorber, and other components in addition to the polymerizable compound A and the polymerizable compound B.
The image recording layer in the present disclosure is preferably a negative image recording layer, and more preferably a water-soluble or water-dispersible negative image recording layer.
From the viewpoint of on-machine developability, the unexposed portion of the image recording layer in the present disclosure is preferably removable with at least one of dampening water and printing ink.

以下、画像記録層に含まれる各成分の詳細について説明する。 Hereinafter, the details of each component contained in the image recording layer will be described.

〔重合性化合物A〕
重合性化合物Aは、エチレン性不飽和結合価(「C=C価」ともいう)が5.0mmol/g以上の化合物である。
重合性化合物AのC=C価が5.0mmol/g以上を有することで、露光による画像記録層の硬化反応が促進し、優れた耐刷性を有する平版印刷版が形成される。
重合性化合物AのC=C価は、5.5mmol/g以上であることが好ましく、6.0mmol/g以上であることがより好ましい。
重合性化合物AのC=C価の上限は、例えば、10.0mmol/g以下が挙げられ、8.5mmol/g以下であることがより好ましい。
[Polymerizable compound A]
The polymerizable compound A is a compound having an ethylenically unsaturated bond value (also referred to as “C = C value”) of 5.0 mmol / g or more.
When the C = C value of the polymerizable compound A is 5.0 mmol / g or more, the curing reaction of the image recording layer by exposure is promoted, and a lithographic printing plate having excellent printing resistance is formed.
The C = C value of the polymerizable compound A is preferably 5.5 mmol / g or more, and more preferably 6.0 mmol / g or more.
The upper limit of the C = C value of the polymerizable compound A is, for example, 10.0 mmol / g or less, and more preferably 8.5 mmol / g or less.

ここで、重合性化合物A、後述する重合性化合物B等、エチレン性不飽和結合を有する化合物におけるエチレン性不飽和結合価は、以下の方法にて求める。
まず、所定のサンプル量(例えば、0.2g)の化合物について、例えば、熱分解GC/MS、FT−IR、NMR、TOF−SIMS等を用いて、化合物の構造を特定し、エチレン性不飽和基の総量(mmol)を求める。求められたエチレン性不飽和基の総量(mmol)を、化合物のサンプル量(g)にて除することで、化合物におけるエチレン性不飽和結合価が算出される。
Here, the ethylenically unsaturated bond value of a compound having an ethylenically unsaturated bond, such as the polymerizable compound A and the polymerizable compound B described later, is determined by the following method.
First, for a compound having a predetermined sample amount (for example, 0.2 g), the structure of the compound is specified by using, for example, pyrolysis GC / MS, FT-IR, NMR, TOF-SIMS, etc., and ethylenically unsaturated. Determine the total amount (mmol) of the group. The ethylenically unsaturated bond value of a compound is calculated by dividing the total amount (mmol) of the determined ethylenically unsaturated groups by the sample amount (g) of the compound.

重合性化合物Aは、上記C=C価を満たす観点から、下記式(I)で表される化合物であることが好ましい。
式(I) : X−(Y)
式(I)中、Xは水素結合性基を有するn価の有機基を表し、Yは2以上のエチレン性不飽和基を有する1価の基を表し、nは2以上の整数を表し、Xの分子量/(Yの分子量×n)が1以下である。
The polymerizable compound A is preferably a compound represented by the following formula (I) from the viewpoint of satisfying the above C = C value.
Equation (I): X- (Y) n
In formula (I), X represents an n-valent organic group having a hydrogen-bonding group, Y represents a monovalent group having two or more ethylenically unsaturated groups, and n represents an integer of two or more. The molecular weight of X / (molecular weight of Y × n) is 1 or less.

式(I)のXにおける水素結合性基としては特に制限はなく、水素結合可能な基であればよく、水素結合供与性基であっても、水素結合受容型基であっても、その両方であってもよい。
上記水素結合性基としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、カルボニル基、スルホニル基、ウレタン基、ウレア基、イミド基、アミド基、スルホンアミド基等が挙げられる。
中でも、上記水素結合性基としては、機上現像性及び耐刷性の観点から、ウレタン基、ウレア基、イミド基、アミド基、及びスルホンアミド基からなる群より選ばれた少なくとも1種の基を含むことが好ましく、ウレタン基、ウレア基、イミド基、及びアミド基からなる群より選ばれた少なくとも1種の基を含むことがより好ましく、ウレタン基、ウレア基、及びイミド基からなる群より選ばれた少なくとも1種の基であることが更に好ましく、ウレタン基及びウレア基からなる群より選ばれた少なくとも1種の基を含むことが特に好ましい。
The hydrogen-bonding group in X of the formula (I) is not particularly limited as long as it is a hydrogen-bondable group, and whether it is a hydrogen-bond-donating group or a hydrogen-bond-accepting group, both of them. May be.
Examples of the hydrogen-binding group include a hydroxy group, a carboxy group, an amino group, a carbonyl group, a sulfonyl group, a urethane group, a urea group, an imide group, an amide group, a sulfonamide group and the like.
Among them, the hydrogen-binding group is at least one group selected from the group consisting of a urethane group, a urea group, an imide group, an amide group, and a sulfonamide group from the viewpoint of on-machine developability and print resistance. Is more preferable, and it is more preferable to contain at least one group selected from the group consisting of a urethane group, a urea group, an imide group, and an amide group, and more preferably than a group consisting of a urethane group, a urea group, and an imide group. It is more preferable that it is at least one selected group, and it is particularly preferable that it contains at least one group selected from the group consisting of a urethane group and a urea group.

式(I)におけるXは、エチレン性不飽和結合を有しない有機基であることが好ましい。
また、式(I)におけるXは、機上現像性及び耐刷性の観点から、1価〜n価の脂肪族炭化水素基、1価〜n価の芳香族炭化水素基、ウレタン結合、ウレア結合、ビウレット結合、及びアロファネート結合からなる群より選ばれた2種以上の構造を組み合わせた基であることが好ましく、1価〜n価の脂肪族炭化水素基、1価〜n価の芳香族炭化水素基、ウレタン結合、ウレア結合、及びビウレット結合からなる群より選ばれた2種以上の構造を組み合わせた基であることがより好ましい。
It is preferable that X in the formula (I) is an organic group having no ethylenically unsaturated bond.
Further, X in the formula (I) is a monovalent to n-valent aliphatic hydrocarbon group, a monovalent to n-valent aromatic hydrocarbon group, a urethane bond, or a urea from the viewpoint of on-machine developability and print resistance. It is preferably a group combining two or more structures selected from the group consisting of a bond, a biuret bond, and an allophanate bond, a monovalent to n-valent aliphatic hydrocarbon group, and a monovalent to n-valent aromatic group. It is more preferable that the group is a combination of two or more structures selected from the group consisting of a hydrocarbon group, a urethane bond, a urea bond, and a biuret bond.

式(I)におけるXは、機上現像性及び耐刷性の観点から、多官能イソシアネート化合物が多量化した多量化体(トリメチロールプロパンアダクト体等の多官能アルコール化合物のアダクト体を含む。)から末端のイソシアネート基を除いた基であることが好ましく、二官能イソシアネート化合物が多量化した多量化体(多官能アルコール化合物のアダクト体を含む。)から末端のイソシアネート基を除いた基であることがより好ましく、ヘキサメチレンジイソシアネートが多量化した多量化体(多官能アルコール化合物のアダクト体を含む。)から末端のイソシアネート基を除いた基であることが特に好ましい。 X in the formula (I) is a multifunctional compound in which a polyfunctional isocyanate compound is abundant (including an adduct of a polyfunctional alcohol compound such as a trimethylolpropane adduct) from the viewpoint of on-machine developability and print resistance. It is preferable that the group is a group obtained by removing the terminal isocyanate group from the group, and is a group obtained by removing the terminal isocyanate group from a multifunctional body (including an adduct body of a polyfunctional alcohol compound) in which the amount of the bifunctional isocyanate compound is increased. Is more preferable, and it is particularly preferable that the group is obtained by removing the terminal isocyanate group from the mulched product (including the adduct body of the polyfunctional alcohol compound) in which the amount of hexamethylene diisocyanate is increased.

式(I)におけるXの分子量は、機上現像性及び耐刷性の観点から、100〜1,000が好ましく、150〜800であることがより好ましく、150〜500であることが特に好ましい。 The molecular weight of X in the formula (I) is preferably 100 to 1,000, more preferably 150 to 800, and particularly preferably 150 to 500, from the viewpoint of on-machine developability and print resistance.

式(I)のYにおけるエチレン性不飽和基としては特に制限はなく、反応性、機上現像性、及び耐刷性の観点から、ビニルフェニル基(スチリル基)、ビニルエステル基、ビニルエーテル基、アリル基、(メタ)アクリロキシ基、及び(メタ)アクリルアミド基からなる群より選ばれた少なくとも1種の基であることがより好ましく、ビニルフェニル基(スチリル基)、(メタ)アクリロキシ基、及び(メタ)アクリルアミド基からなる群より選ばれた少なくとも1種の基であることが更に好ましく、(メタ)アクリロキシ基であることが特に好ましい。
即ち、式(I)のYにおけるエチレン性不飽和基は、機上現像性及び耐刷性の観点から、(メタ)アクリロキシ基を含むことが好ましい。
The ethylenically unsaturated group in Y of the formula (I) is not particularly limited, and from the viewpoint of reactivity, on-machine developability, and print resistance, a vinylphenyl group (styryl group), a vinyl ester group, a vinyl ether group, More preferably, it is at least one group selected from the group consisting of an allyl group, a (meth) acryloxy group, and a (meth) acrylamide group, a vinylphenyl group (styryl group), a (meth) acryloxy group, and ( It is more preferably at least one group selected from the group consisting of a (meth) acrylamide group, and particularly preferably a (meth) acryloxy group.
That is, the ethylenically unsaturated group in Y of the formula (I) preferably contains a (meth) acryloxy group from the viewpoint of on-machine developability and print resistance.

式(I)におけるYは、3つ以上の(メタ)アクリロキシ基を有する基であることが好ましく、5つ以上の(メタ)アクリロキシ基を有する基であることがより好ましく、5つ以上12つ以下の(メタ)アクリロキシ基を有する基であることが更に好ましい。 Y in the formula (I) is preferably a group having three or more (meth) acryloxy groups, more preferably a group having five or more (meth) acryloxy groups, and five or more twelve. It is more preferable that the group has the following (meth) acryloxy groups.

式(I)におけるYは、機上現像性及び耐刷性の観点から、下記式(Y−1)又は式(Y−2)で表される構造を有していてもよい。 Y in the formula (I) may have a structure represented by the following formula (Y-1) or the formula (Y-2) from the viewpoint of on-machine developability and print resistance.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式(Y−1)及び式(Y−2)中、Rは、それぞれ独立に、アクリル基又はメタクリル基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。 In the formula (Y-1) and the formula (Y-2), R independently represents an acrylic group or a methacrylic group, and the wavy line portion represents a bonding position with another structure.

式(Y−1)又は式(Y−2)においては、Rは全て同じ基であることが好ましい。
また、式(Y−1)又は式(Y−2)においては、Rは、アクリル基であることが好ましい。
In the formula (Y-1) or the formula (Y-2), it is preferable that R is all the same group.
Further, in the formula (Y-1) or the formula (Y-2), R is preferably an acrylic group.

更に、式(I)におけるn個のYは、全て同じ基であることが好ましい。 Further, it is preferable that the n Ys in the formula (I) are all the same group.

式(I)におけるYの分子量は、機上現像性及び耐刷性の観点から、200以上1,000以下であることが好ましく、250以上800以下であることがより好ましい。 The molecular weight of Y in the formula (I) is preferably 200 or more and 1,000 or less, and more preferably 250 or more and 800 or less, from the viewpoint of on-machine developability and print resistance.

式(I)におけるnは2以上の整数であり、機上現像性及び耐刷性の観点から、2〜3であることがより好ましい。 N in the formula (I) is an integer of 2 or more, and is more preferably 2 to 3 from the viewpoint of on-machine developability and print resistance.

Xの分子量/(Yの分子量×n)は1以下であり、機上現像性及び耐刷性の観点から、0.01〜0.8であることが好ましく、0.1〜0.5であることがより好ましい。 The molecular weight of X / (molecular weight of Y × n) is 1 or less, preferably 0.01 to 0.8 from the viewpoint of on-machine developability and printing resistance, and 0.1 to 0.5. It is more preferable to have.

重合性化合物Aの構造は、上述のように、多官能イソシアネート化合物の多量化体(アダクト体を含む。)の末端イソシアネート基を、エチレン性不飽和基を有する化合物により封止した構造が好ましく挙げられる。中でも、多官能イソシアネート化合物の多量化体としては、2官能イソシアネート化合物の多量化体が好ましい。 As described above, the structure of the polymerizable compound A is preferably a structure in which the terminal isocyanate group of the multifunctionalized isocyanate compound (including the adduct) is sealed with a compound having an ethylenically unsaturated group. Be done. Among them, as the multi-functional isocyanate compound multiplier, a bifunctional isocyanate compound multiplier is preferable.

また、重合性化合物Aは、機上現像性及び耐刷性の観点から、多官能イソシアネート化合物が多量化した多量化体の末端イソシアネート基に、ヒドロキシ基(水酸基ともいう)を末端に有する多官能エチレン性不飽和化合物を反応させてなる化合物であることが好ましく、2官能イソシアネート化合物が多量化した多量化体(多官能アルコール化合物のアダクト体を含む)の末端イソシアネート基に、ヒドロキシ基を有する多官能エチレン性不飽和化合物を反応させてなる化合物であることがより好ましく、ヘキサメチレンジイソシアネートが多量化した多量化体(多官能アルコール化合物のアダクト体を含む)の末端イソシアネート基に、ヒドロキシ基を有する多官能エチレン性不飽和化合物を反応させてなる化合物であることが特に好ましい。 Further, from the viewpoint of on-machine developability and print resistance, the polymerizable compound A is a polyfunctional compound having a hydroxy group (also referred to as a hydroxyl group) at the end of the terminal isocyanate group of the multi-layered product in which the polyfunctional isocyanate compound is increased in quantity. It is preferably a compound obtained by reacting an ethylenically unsaturated compound, and a polypoly having a hydroxy group at the terminal isocyanate group of a multi-layer (including an adduct of a polyfunctional alcohol compound) in which a large amount of a bifunctional isocyanate compound is added. It is more preferable that the compound is formed by reacting a functional ethylenically unsaturated compound, and has a hydroxy group at the terminal isocyanate group of a multimer (including an adduct of a polyfunctional alcohol compound) in which hexamethylene diisocyanate is abundant. It is particularly preferable that the compound is obtained by reacting a polyfunctional ethylenically unsaturated compound.

上記多官能イソシアネート化合物としては、特に制限はなく、公知のものを用いることができ、脂肪族多官能イソシアネート化合物であってもよいし、芳香族多官能イソシアネート化合物であってもよい。
上記多官能イソシアネート化合物としては、具体的には、例えば、1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、イソホロンジイソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、1,3−シクロペンタンジイソシアネート、9H−フルオレン−2,7−ジイソシアネート、9H−フルオレン−9−オン−2,7−ジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアナート、1,3−フェニレンジイソシアナート、トリレン−2,4−ジイソシアナート、トリレン−2,6−ジイソシアナート、1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、2,2−ビス(4−イソシアナトフェニル)ヘキサフルオロプロパン、1,5−ジイソシアナトナフタレン、これらのポリイソシアネートのダイマー、トリマー(イソシアヌレート結合)等が好ましく挙げられる。また、上記のポリイソシアネート化合物と公知のアミン化合物とを反応させたビウレット体を用いてもよい。
また、上記ヒドロキシ基を有する多官能エチレン性不飽和化合物は、ヒドロキシ基を有する3官能以上のエチレン性不飽和化合物であることが好ましく、ヒドロキシ基を有する5官能以上のエチレン性不飽和化合物であることがより好ましい。上記ヒドロキシ基を有する多官能エチレン性不飽和化合物は、ヒドロキシ基を有する多官能(メタ)アクリレート化合物であることが好ましい。
The polyfunctional isocyanate compound is not particularly limited, and known compounds can be used, and may be an aliphatic polyfunctional isocyanate compound or an aromatic polyfunctional isocyanate compound.
Specific examples of the polyfunctional isocyanate compound include 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, isophorone diisocyanate, trimethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, and 1,3-. Cyclopentane diisocyanate, 9H-fluorene-2,7-diisocyanate, 9H-fluoren-9-on-2,7-diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 1,3-phenylenediisocyanate, tolylen-2 , 4-Diisocyanate, Trilen-2,6-Diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, 2,2-bis (4-isocyanatophenyl) hexafluoropropane, 1,5-di Isocyanatonaphthalene, dimers of these polyisocyanates, trimmers (isocyanurate bonds) and the like are preferably mentioned. Further, a biuret compound obtained by reacting the above polyisocyanate compound with a known amine compound may be used.
The polyfunctional ethylenically unsaturated compound having a hydroxy group is preferably a trifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound having a hydroxy group, and is a pentafunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound having a hydroxy group. Is more preferable. The polyfunctional ethylenically unsaturated compound having a hydroxy group is preferably a polyfunctional (meth) acrylate compound having a hydroxy group.

重合性化合物Aは、機上現像性及び耐刷性の観点から、アダクト構造、ビウレット構造、及びイソシアヌレート構造よりなる群から選ばれた少なくとも1種の構造を有することが好ましく、トリメチロールプロパンアダクト構造、ビウレット構造、及びイソシアヌレート構造よりなる群から選ばれた少なくとも1種の構造を有することがより好ましく、トリメチロールプロパンアダクト構造を有することが特に好ましい。 From the viewpoint of on-machine developability and print resistance, the polymerizable compound A preferably has at least one structure selected from the group consisting of an adduct structure, a biuret structure, and an isocyanurate structure, and is preferably trimethylpropan adduct. It is more preferable to have at least one structure selected from the group consisting of a structure, a biuret structure, and an isocyanurate structure, and it is particularly preferable to have a trimethylolpropane adduct structure.

重合性化合物Aは、機上現像性及び耐刷性の観点から、下記式(A−1)〜式(A−3)のいずれかで表される構造を有することが好ましく、下記式(A−1)で表される構造を有することがより好ましい。 From the viewpoint of on-machine developability and print resistance, the polymerizable compound A preferably has a structure represented by any of the following formulas (A-1) to (A-3), and preferably has the following formula (A). It is more preferable to have the structure represented by -1).

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式(A−1)中、RA1は、水素原子、又は、炭素数1〜8のアルキル基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。 In the formula (A-1), RA1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and the wavy line portion represents a bond position with another structure.

式(A−1)におけるRA1は、機上現像性及び耐刷性の観点から、水素原子、又は炭素数1〜4のアルキル基であることが好ましく、炭素数1〜3のアルキル基であることがより好ましく、メチル基又はエチル基であることが更に好ましく、エチル基であることが特に好ましい。 R A1 in the formula (A1), from the viewpoint of on-press development property and printing durability, a hydrogen atom, or preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms It is more preferably present, more preferably a methyl group or an ethyl group, and particularly preferably an ethyl group.

重合性化合物Aは、機上現像性及び耐刷性の観点から、ウレタン基を有する(メタ)アクリレート化合物、即ち、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーであることが好ましい。 The polymerizable compound A is preferably a (meth) acrylate compound having a urethane group, that is, a urethane (meth) acrylate oligomer from the viewpoint of on-machine developability and print resistance.

重合性化合物Aは、C=C価が5.0mmol/g以上であれば、ポリエステル結合を有するオリゴマー(以降、ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマーともいう)であってもよいし、エポキシ残基を有するオリゴマー(以降、エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーともいう)であってもよい。
ここで、本開示におけるエポキシ残基とは、エポキシ基により形成される構造を指し、例えば、酸基(カルボン酸基等)とエポキシ基との反応により得られる構造と同様の構造を意味する。
The polymerizable compound A may be an oligomer having a polyester bond (hereinafter, also referred to as a polyester (meth) acrylate oligomer) as long as the C = C value is 5.0 mmol / g or more, or has an epoxy residue. It may be an oligomer (hereinafter, also referred to as an epoxy (meth) acrylate oligomer).
Here, the epoxy residue in the present disclosure refers to a structure formed by an epoxy group, and means, for example, a structure similar to a structure obtained by a reaction between an acid group (carboxylic acid group or the like) and an epoxy group.

重合性化合物Aであるポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマーにおけるエチレン性不飽和基の数は、3以上であることが好ましく、6以上であることが更に好ましい。
ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマーにおけるエチレン性不飽和基の数の上限は、例えば、15が挙げられる。
The number of ethylenically unsaturated groups in the polyester (meth) acrylate oligomer which is the polymerizable compound A is preferably 3 or more, and more preferably 6 or more.
The upper limit of the number of ethylenically unsaturated groups in the polyester (meth) acrylate oligomer is, for example, 15.

重合性化合物Aであるエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、化合物内にヒドロキシ基を含む化合物が好ましい。
また、エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーにおけるエチレン性不飽和基の数は、2〜6であることが好ましく、2〜3であることがより好ましい。
上記エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、例えば、エポキシ基を有する化合物にアクリル酸を反応することにより得ることができる。
As the epoxy (meth) acrylate oligomer which is the polymerizable compound A, a compound containing a hydroxy group in the compound is preferable.
The number of ethylenically unsaturated groups in the epoxy (meth) acrylate oligomer is preferably 2 to 6, and more preferably 2 to 3.
The epoxy (meth) acrylate oligomer can be obtained, for example, by reacting a compound having an epoxy group with acrylic acid.

重合性化合物Aの分子量(分子量分布を有する場合には、重量平均分子量)としては、1,000超であればよく、1,100〜10,000が好ましく、1,100〜5,000がより好ましい。 The molecular weight of the polymerizable compound A (in the case of having a molecular weight distribution, the weight average molecular weight) may be more than 1,000, preferably 1,100 to 10,000, and more preferably 1,100 to 5,000. preferable.

重合性化合物Aは、合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。
重合性化合物Aの具体例としては、例えば、以下に挙げる市販品が挙げられるが、本開示にて用いられる重合性化合物Aはこれらに限定されるものではない。なお、カッコ内には、エチレン性不飽和基の官能基数(又は平均官能基数)及びC=C価を示した。
即ち、重合性化合物Aの具体例としては、新中村化学工業(株)のU−10HA(官能基数:10、C=C価:8mmol/g)、U−15HA(官能基数:15、C=C価:6mmol/g)、共栄社化学(株)のUA−510H(官能基数:10、C=C価:8mmol/g)、ダイセル・オルネクス(株)のKRM8452(官能基数:10、C=C価:7mmol/g)、サートマー社のCN8885NS(官能基数:9、C=C価:6mmol/g)、CN9013NS(官能基数:9、C=C価:6mmol/g)等のウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーが挙げられる。
また、重合性化合物Aの具体例としては、新中村化学工業(株)NKオリゴ EA−7420/PGMAc(官能基数:10〜15、C=C価:5mmol/g)、サートマー社のCN153(C=C価:5mmol/g)等のエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーが挙げられる。
更に、重合性化合物Aの具体例としては、サートマー社のCN2267(C=C価:5mmol/g)等のポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマーが挙げられる。
As the polymerizable compound A, a synthetic product or a commercially available product may be used.
Specific examples of the polymerizable compound A include, for example, the following commercially available products, but the polymerizable compound A used in the present disclosure is not limited thereto. In addition, the number of functional groups (or the average number of functional groups) of the ethylenically unsaturated group and the C = C value are shown in parentheses.
That is, as specific examples of the polymerizable compound A, U-10HA (number of functional groups: 10, C = C value: 8 mmol / g) and U-15HA (number of functional groups: 15, C =) of Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd. C value: 6 mmol / g), UA-510H of Kyoeisha Chemical Co., Ltd. (number of functional groups: 10, C = C value: 8 mmol / g), KRM8452 of Dycel Ornex Co., Ltd. (number of functional groups: 10, C = C) Urethane (meth) acrylates such as CN8885NS (number of functional groups: 9, C = C value: 6 mmol / g), CN9013NS (number of functional groups: 9, C = C value: 6 mmol / g), Sartmer Co., Ltd. Examples include oligomers.
Specific examples of the polymerizable compound A include NK Oligo EA-7420 / PGMAc (number of functional groups: 10 to 15, C = C value: 5 mmol / g) of Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., and CN153 (C) of Sartmer Co., Ltd. = C value: 5 mmol / g) or the like, and examples thereof include epoxy (meth) acrylate oligomers.
Further, specific examples of the polymerizable compound A include polyester (meth) acrylate oligomers such as CN2267 (C = C value: 5 mmol / g) manufactured by Sartmer.

重合性化合物Aの含有量は、機上現像性及び耐刷性の観点から、画像記録層の全質量に対して、10質量%〜90質量%であることが好ましく、15質量%〜85質量%であることがより好ましく、15質量%〜60質量%であることが更に好ましい。 The content of the polymerizable compound A is preferably 10% by mass to 90% by mass, and 15% by mass to 85% by mass, based on the total mass of the image recording layer, from the viewpoint of on-machine developability and print resistance. %, More preferably 15% by mass to 60% by mass.

〔重合性化合物B〕
重合性化合物Bは、2官能以下で且つ分子量が1,000以下の化合物である。
重合性化合物Bが有する重合性基としては、エチレン性不飽和基であることが好ましく、エチレン性不飽和基の好ましい態様は、重合性化合物Aにおけるエチレン性不飽和基と同様である。
また、重合性化合物Bは、2官能以下、即ち、単官能又は2官能の重合性化合物であればよいが、機上現像性の低下を抑制する観点から、2官能の重合性化合物であることが好ましい。
[Polymerizable compound B]
The polymerizable compound B is a compound having a bifunctionality or less and a molecular weight of 1,000 or less.
The polymerizable group of the polymerizable compound B is preferably an ethylenically unsaturated group, and the preferred embodiment of the ethylenically unsaturated group is the same as that of the ethylenically unsaturated group in the polymerizable compound A.
Further, the polymerizable compound B may be a bifunctional or less, that is, a monofunctional or bifunctional polymerizable compound, but is a bifunctional polymerizable compound from the viewpoint of suppressing a decrease in on-machine developability. Is preferable.

重合性化合物Bとしては、機上現像性及び耐刷性の観点から、メタクリレート化合物、即ち、メタクリロキシ基を有する化合物であることが好ましい。 The polymerizable compound B is preferably a methacrylate compound, that is, a compound having a methacrylate group, from the viewpoint of on-machine developability and printing resistance.

重合性化合物Bとしては、機上現像性の観点から、アルキレンオキシ構造又はウレタン結合を含むことが好ましい。 The polymerizable compound B preferably contains an alkyleneoxy structure or a urethane bond from the viewpoint of on-machine developability.

重合性化合物Bの分子量(分子量分布を有する場合には、重量平均分子量)としては、50〜1,000であることが好ましく、200〜900であることがより好ましく、250〜800であることが更に好ましい。 The molecular weight (weight average molecular weight in the case of having a molecular weight distribution) of the polymerizable compound B is preferably 50 to 1,000, more preferably 200 to 900, and more preferably 250 to 800. More preferred.

重合性化合物Bの具体例を以下に挙げるが、本開示にて用いられる重合性化合物Bはこれらに限定されるものではない。なお、下記(2)の化合物中、例えば、n+m=10である Specific examples of the polymerizable compound B are given below, but the polymerizable compound B used in the present disclosure is not limited thereto. In the compound of the following (2), for example, n + m = 10.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

重合性化合物Bとしては、以下に示す市販品を用いてもよいが、本開示にて用いられる重合性化合物Bはこれらに限定されるものではない。
即ち、重合性化合物Bの具体例としては、新中村化学工業(株)のBPE−80N(上記(1)の化合物)、BPE−100、BPE−200、BPE−500、サートマー社のCN104(上記(1)の化合物)等のエトキシ化ビスフェノールAジメタクリレートが挙げられる。
また、重合性化合物Bの具体例としては、新中村化学工業(株)のA−BPE−10(上記(2)の化合物)、A−BPE−4等のエトキシ化ビスフェノールAジアクリレートが挙げられる。
更に、重合性化合物Bの具体例としては、AZ Electronics社のFST 510等の2官能メタクリレートが挙げられる。
As the polymerizable compound B, commercially available products shown below may be used, but the polymerizable compound B used in the present disclosure is not limited thereto.
That is, specific examples of the polymerizable compound B include BPE-80N (compound of (1) above), BPE-100, BPE-200, BPE-500 of Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., and CN104 of Sartmer (above). Examples thereof include ethoxylated bisphenol A dimethacrylate (compound of (1)) and the like.
Specific examples of the polymerizable compound B include A-BPE-10 (compound of (2) above) manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., and ethoxylated bisphenol A diacrylates such as A-BPE-4. ..
Further, specific examples of the polymerizable compound B include bifunctional methacrylates such as FST 510 manufactured by AZ Electronics.

ここで、上記「FST 510」は、1モルの2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートと2モルのヒドロキシエチルメタクリレートの反応生成物あって、上記(3)の化合物のメチルエチルケトン82質量%溶液である。 Here, the above-mentioned "FST 510" is a reaction product of 1 mol of 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate and 2 mol of hydroxyethyl methacrylate, and is a solution of the above compound (3) in an 82% by mass of methyl ethyl ketone. be.

重合性化合物Bの含有量は、機上現像性及び耐刷性の観点から、画像記録層の全質量に対して、1質量%〜60質量%であることが好ましく、5質量%〜55質量%であることがより好ましく、5質量%〜50質量%であることが更に好ましい。 The content of the polymerizable compound B is preferably 1% by mass to 60% by mass and 5% by mass to 55% by mass with respect to the total mass of the image recording layer from the viewpoint of on-machine developability and print resistance. %, More preferably 5% by mass to 50% by mass.

〔重合開始剤〕
本開示における画像記録層は、重合開始剤を含む。
重合開始剤としては、電子受容型重合開始剤を含むことが好ましく、電子受容型重合開始剤及び電子供与型重合開始剤を含むことがより好ましい。
[Polymerization initiator]
The image recording layer in the present disclosure contains a polymerization initiator.
The polymerization initiator preferably contains an electron-accepting polymerization initiator, and more preferably contains an electron-accepting polymerization initiator and an electron-donating polymerization initiator.

[電子受容型重合開始剤]
画像記録層は、重合開始剤として、電子受容型重合開始剤を含むことが好ましい。
電子受容型重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起した際に、分子間電子移動で一電子を受容することにより、ラジカル等の重合開始種を発生する化合物である。
電子受容型重合開始剤は、光、熱あるいはその両方のエネルギーによりラジカル、カチオン等の重合開始種を発生する化合物であって、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを適宜選択して用いることができる。 電子受容型重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましく、オニウム塩化合物がより好ましい。
また、電子受容型重合開始剤としては、赤外線感光性重合開始剤であることが好ましい。
[Electron-accepting polymerization initiator]
The image recording layer preferably contains an electron-accepting polymerization initiator as the polymerization initiator.
The electron-accepting polymerization initiator is a compound that generates a polymerization initiator such as a radical by accepting one electron by electron transfer between molecules when the electron of the infrared absorber is excited by infrared exposure.
The electron-accepting polymerization initiator is a compound that generates a polymerization initiator such as a radical or a cation by energy of light, heat, or both, and is a known thermal polymerization initiator, a compound having a small bond of bond dissociation energy, and the like. A photopolymerization initiator or the like can be appropriately selected and used. As the electron-accepting polymerization initiator, a radical polymerization initiator is preferable, and an onium salt compound is more preferable.
The electron-accepting polymerization initiator is preferably an infrared photosensitive polymerization initiator.

上記電子受容型重合開始剤の中でも好ましいものとして、硬化性の観点から、オキシムエステル化合物、及びオニウム塩化合物が挙げられる。中でも、耐刷性の観点から、ヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物、又はアジニウム塩化合物が好ましく、ヨードニウム塩化合物、又はスルホニウム塩化合物がより好ましく、ヨードニウム塩化合物が特に好ましい。
これら化合物の具体例を以下に示すが、本開示はこれに限定されるものではない。
Among the electron-accepting polymerization initiators, oxime ester compounds and onium salt compounds are preferable from the viewpoint of curability. Among them, from the viewpoint of printing resistance, an iodonium salt compound, a sulfonium salt compound, or an azinium salt compound is preferable, an iodonium salt compound or a sulfonium salt compound is more preferable, and an iodonium salt compound is particularly preferable.
Specific examples of these compounds are shown below, but the present disclosure is not limited thereto.

ヨードニウム塩化合物の例としては、ジアリールヨードニウム塩化合物が好ましく、特に電子供与性基、例えば、アルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩化合物がより好ましく、また、非対称のジフェニルヨードニウム塩化合物が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−メトキシフェニル−4−(2−メチルプロピル)フェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−(2−メチルプロピル)フェニル−p−トリルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−ヘキシルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−ヘキシルオキシフェニル−2,4−ジエトキシフェニルヨードニウム=テトラフルオロボラート、4−オクチルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=1−ペルフルオロブタンスルホナート、4−オクチルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。 As an example of the iodonium salt compound, a diaryliodonium salt compound is preferable, a diphenyliodonium salt compound substituted with an electron donating group, for example, an alkyl group or an alkoxyl group is more preferable, and an asymmetric diphenyliodonium salt compound is preferable. .. Specific examples include diphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyl-4- (2-methylpropyl) phenyliodonium = hexafluorophosphate, 4- (2-methylpropyl) phenyl-p-tolyliodonium = hexa. Fluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4-diethoxyphenyliodonium = tetrafluoroborate, 4-octyloxy Phenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = 1-perfluorobutanesulfonate, 4-octyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphart, bis (4-t-butylphenyl) ) Iodonium = hexafluorophosphart can be mentioned.

また、ヨードニウム塩化合物及びスルホニウム塩化合物の対アニオンの例としては、スルホネートアニオン、カルボキシレートアニオン、テトラフルオロボレートアニオン、ヘキサフルオロホスフェートアニオン、p−トルエンスルホネートアニオン、トシレートアニオン、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが挙げられる。
中でも、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが好ましく、スルホンイミドアニオンがより好ましい。
スルホンアミドアニオンとしては、アリールスルホンアミドアニオンが好ましい。
また、スルホンイミドアニオンとしては、ビスアリールスルホンイミドアニオンが好ましい。
スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンの具体例としては、例えば、国際公開第2019/013268号の段落0034に記載された化合物が挙げられる。
Examples of the counter anion of the iodonium salt compound and the sulfonium salt compound include sulfonate anion, carboxylate anion, tetrafluoroborate anion, hexafluorophosphate anion, p-toluene sulfonate anion, tosylate anion, sulfonamide anion or sulfonimide. Anions are mentioned.
Of these, sulfonamide anions or sulfonimide anions are preferable, and sulfonamide anions are more preferable.
As the sulfonamide anion, an aryl sulfonamide anion is preferable.
Further, as the sulfoneimide anion, a bisaryl sulfoneimide anion is preferable.
Specific examples of the sulfonamide anion or the sulfonamide anion include the compounds described in paragraph 0034 of WO 2019/013268.

また、上記電子受容型重合開始剤は、現像性、及び、得られる平版印刷版におけるUV耐刷性の観点から、下記式(II)及び式(III)のいずれかで表される化合物が好ましく、特に式(II)で表される化合物が好ましい。 Further, the electron-accepting polymerization initiator is preferably a compound represented by any of the following formulas (II) and (III) from the viewpoint of developability and UV printing resistance in the obtained lithographic printing plate. , Particularly the compound represented by the formula (II) is preferable.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式(II)及び(III)中、Xはハロゲン原子を表し、R、R及びRはそれぞれ独立に、炭素原子数1〜20までの1価の炭化水素基を表す。
式(II)中、Xはハロゲン原子を表し、Rはアリール基を表すことが好ましい。
In formulas (II) and (III), X represents a halogen atom, and R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
In formula (II), it is preferable that X represents a halogen atom and R 3 represents an aryl group.

式(II)及び(III)におけるXとしては、具体的には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。これらのうち、塩素原子又は臭素原子は、感度に優れるため好ましく、臭素原子が特に好ましい。
また、式(II)及び(III)において、R、R及びRは、それぞれ独立に、アリール基であることが好ましく、中でも、感度と保存安定性とのバランスに優れる観点から、アミド基で置換されているアリール基が好ましい。
Specific examples of the X in the formulas (II) and (III) include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. Of these, a chlorine atom or a bromine atom is preferable because it has excellent sensitivity, and a bromine atom is particularly preferable.
Further, in the formulas (II) and (III), R 3 , R 4 and R 5 are preferably aryl groups independently of each other, and above all, from the viewpoint of excellent balance between sensitivity and storage stability, amides are used. Aryl groups substituted with groups are preferred.

上記電子受容型重合開始剤の中でも、式(IV)で表される化合物が特に好ましい。 Among the electron-accepting polymerization initiators, the compound represented by the formula (IV) is particularly preferable.

Figure 2021189319
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式(IV)において、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数1〜20までの1価の炭化水素基を表す。p及びqは、それぞれ独立に、1から5までの整数を表す。ただし、p+q=2〜6である。 In formula (IV), R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. p and q each independently represent an integer from 1 to 5. However, p + q = 2 to 6.

上記式(II)〜式(IV)のいずれかで表される電子受容型重合開始剤の具体例としては、下記式に示す化合物などが挙げられるが、本開示はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of the electron-accepting polymerization initiator represented by any of the above formulas (II) to (IV) include compounds represented by the following formulas, but the present disclosure is not limited thereto. No.

Figure 2021189319
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電子受容型重合開始剤の最低空軌道(LUMO)は、感度の向上及び版飛びを発生しにくくする観点から、−3.00eV以下であることが好ましく、−3.02eV以下であることがより好ましい。
また、下限としては、−3.80eV以上であることが好ましく、−3.50eV以上であることがより好ましい。
本開示において、最低空軌道(LUMO)及び後述の最高被占軌道(HOMO)の計算は、以下の方法により行う。
まず、計算対象となる化合物において、HOMO又はLUMOを形成する主構造ではない対イオンを有する場合、上記対イオンは無視してもよい。
量子化学計算ソフトウェアGaussian09を用い、構造最適化はDFT(B3L
YP/6−31G(d))で行う。
MO(分子軌道)エネルギー計算は、上記構造最適化で得た構造でDFT(B3LYP/6−31+G(d,p)/CPCM(solvent=methanol))で行う。
上記MOエネルギー計算で得られたMOエネルギーEbare(単位:hartree)を以下の公式により、本開示においてHOMO及びLUMOの値として用いるEscaled(単位:eV)へ変換する。
Escaled=0.823168×27.2114×Ebare−1.07634
なお、27.2114は単にhartreeをeVに変換するための係数であり、0.823168と−1.07634とは調節係数であり、計算対象となる化合物のHOMOとLUMOとを計算が実測の値に合うように定める。
The minimum unoccupied molecular orbital (LUMO) of the electron-accepting polymerization initiator is preferably −3.00 eV or less, and more preferably −3.02 eV or less, from the viewpoint of improving sensitivity and making plate skipping less likely to occur. preferable.
The lower limit is preferably -3.80 eV or more, and more preferably -3.50 eV or more.
In the present disclosure, the lowest unoccupied molecular orbital (LUMO) and the highest occupied molecular orbital (HOMO) described later are calculated by the following method.
First, when the compound to be calculated has a counterion that is not the main structure forming HOMO or LUMO, the counterion may be ignored.
Using the quantum chemistry calculation software Gaussian09, the structure optimization is DFT (B3L).
YP / 6-31G (d)).
The MO (molecular orbital) energy calculation is performed by DFT (B3LYP / 6-31 + G (d, p) / CPCM (solvent = methanol)) with the structure obtained by the above structural optimization.
The MO energy Ebare (unit: hartree) obtained by the above MO energy calculation is converted into Escaled (unit: eV) used as the values of HOMO and LUMO in the present disclosure by the following formula.
Escaled = 0.823168 x 27.2114 x Ebare-1.07634
Note that 27.2114 is simply a coefficient for converting hartree to eV, 0.823168 and −1.07634 are adjustment coefficients, and the calculated values of HOMO and LUMO of the compound to be calculated are actually measured. Determine to suit.

電子受容型重合開始剤は、1種単独で用いてもよく、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。 The electron-accepting polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.

電子受容型重合開始剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.1質量%〜50質量%であることが好ましく、0.5質量%〜30質量%であることがより好ましく、0.8質量%〜20質量%であることが特に好ましい。 The content of the electron-accepting polymerization initiator is preferably 0.1% by mass to 50% by mass, more preferably 0.5% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the image recording layer. , 0.8% by mass to 20% by mass is particularly preferable.

[電子供与型重合開始剤(重合助剤)]
本開示における画像記録層は、重合開始剤として、電子供与型重合開始剤(重合助剤ともいう)を含むことが好ましい。
電子供与型重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起又は分子内移動した際に、赤外線吸収剤の一電子抜けた軌道に分子間電子移動で一電子を供与することにより、ラジカル等の重合開始種を発生する化合物である。
電子供与型重合開始剤としては、電子供与型ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
[Electron-donated polymerization initiator (polymerization aid)]
The image recording layer in the present disclosure preferably contains an electron donating type polymerization initiator (also referred to as a polymerization aid) as a polymerization initiator.
The electron donating type polymerization initiator is a radical by donating one electron by intermolecular electron transfer to the orbital where one electron is missing from the infrared absorber when the electron of the infrared absorber is excited or moved intramolecularly by infrared exposure. It is a compound that generates a polymerization initiator such as.
The electron donating type polymerization initiator is preferably an electron donating type radical polymerization initiator.

画像記録層は、耐刷性の観点から、電子供与型重合開始剤としてボレート化合物を含有することが好ましい。
ボレート化合物としては、耐刷性の観点から、テトラアリールボレート化合物、又は、モノアルキルトリアリールボレート化合物であることが好ましく、テトラアリールボレート化合物であることがより好ましい。
ボレート化合物が有する対カチオンとしては、特に制限はないが、アルカリ金属イオン、又は、テトラアルキルアンモニウムイオンであることが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又は、テトラブチルアンモニウムイオンであることがより好ましい。
また、ボレート化合物が有する対カチオンとしては、本開示に赤外線吸収剤として記載されているカチオン性のポリメチン色素であってもよい。例えば、シアニン色素の対カチオンとして上記ボレート化合物を用いてもよい。
From the viewpoint of printing resistance, the image recording layer preferably contains a borate compound as an electron donating type polymerization initiator.
The borate compound is preferably a tetraarylborate compound or a monoalkyltriarylborate compound, and more preferably a tetraarylborate compound, from the viewpoint of print resistance.
The counter cation contained in the borate compound is not particularly limited, but is preferably an alkali metal ion or a tetraalkylammonium ion, and more preferably a sodium ion, a potassium ion, or a tetrabutylammonium ion.
Further, the counter cation of the borate compound may be a cationic polymethine dye described as an infrared absorber in the present disclosure. For example, the above borate compound may be used as a counter cation of a cyanine pigment.

ボレート化合物として具体的には、ナトリウムテトラフェニルボレートが好ましく挙げられる。 Specific examples of the borate compound include sodium tetraphenylborate.

以下に電子供与型重合開始剤の好ましい具体例として、B−1〜B−9を示すが、これらに限定されないことは、言うまでもない。また、下記化学式において、Phはフェニル基を表し、Buはn−ブチル基を表す。 B-1 to B-9 are shown below as preferred specific examples of the electron donating type polymerization initiator, but it goes without saying that the present invention is not limited to these. Further, in the following chemical formula, Ph represents a phenyl group and Bu represents an n-butyl group.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

また、電子供与型重合開始剤の最高被占軌道(HOMO)は、感度の向上及び版飛びを発生しにくくする観点から、−6.00eV以上であることが好ましく、−5.95eV以上であることがより好ましく、−5.93eV以上であることが更に好ましい。
また、上限としては、−5.00eV以下であることが好ましく、−5.40eV以下であることがより好ましい。
Further, the maximum occupied molecular orbital (HOMO) of the electron donating type polymerization initiator is preferably −6.00 eV or more, and preferably −5.95 eV or more, from the viewpoint of improving sensitivity and making it difficult for plate skipping to occur. More preferably, it is more preferably −5.93 eV or more.
The upper limit is preferably −5.00 eV or less, and more preferably −5.40 eV or less.

電子供与型重合開始剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 As the electron donating type polymerization initiator, only one kind may be used, or two or more kinds may be used in combination.

電子供与型重合開始剤の含有量としては、感度及び耐刷性の観点から、画像記録層の全質量に対し、0.01質量%〜30質量%であることが好ましく、0.05質量%〜25質量%であることがより好ましく、0.1質量%〜20質量%であることが更に好ましい。 The content of the electron donating type polymerization initiator is preferably 0.01% by mass to 30% by mass, preferably 0.05% by mass, based on the total mass of the image recording layer from the viewpoint of sensitivity and printing resistance. It is more preferably ~ 25% by mass, and even more preferably 0.1% by mass to 20% by mass.

重合開始剤は、電子供与型重合開始剤と電子受容型重合開始剤とが対塩を形成している化合物であってもよい。
例えば、電子供与型重合開始剤におけるアニオンと電子受容型重合開始剤におけるカチオンとが対塩を形成してなる化合物であることが好ましく、上記電子受容型重合開始剤及び上記電子供与型重合開始剤として、電子受容型重合開始剤構造を有するカチオンと電子供与型重合開始剤構造を有するアニオンとが塩を形成してなる化合物であることがより好ましい。具体的には、オニウムカチオンとボレートアニオンとが対塩を形成してなる化合物であることが好ましく、ヨードニウムカチオン又はスルホニウムカチオンとボレートアニオンとが対塩を形成してなる化合物であることがより好ましく、ジアリールヨードニウムカチオン又はトリアリールスルホニウムカチオンとテトラアリールボレートアニオンとが対塩を形成してなる化合物であることが特に好ましい。
電子供与型重合開始剤におけるアニオン、及び、電子受容型重合開始剤におけるカチオンの好ましい態様としては、既述の電子供与型重合開始剤におけるアニオン及び既述の電子受容型重合開始剤におけるカチオンの好ましい態様と同様である。
画像記録層が、電子供与型重合開始剤であるアニオンと、電子受容型重合開始剤であるカチオンと、を含む場合(つまり、上記対塩を形成している化合物を含む場合)、画像記録層は電子受容型重合開始剤及び上記電子供与型重合開始剤を含むものとする。
また、電子供与型重合開始剤と電子受容型重合開始剤とが対塩を形成している化合物は、電子供与型重合開始剤として用いてもよいし、電子受容型重合開始剤として用いてもよい。
また、電子供与型重合開始剤と電子受容型重合開始剤とが対塩を形成してなる化合物は、既述の電子供与型重合開始剤と併用してもよいし、既述の電子受容型重合開始剤と併用してもよい。
The polymerization initiator may be a compound in which the electron donating type polymerization initiator and the electron accepting type polymerization initiator form an anti-salt.
For example, it is preferable that the anion in the electron-donating polymerization initiator and the cation in the electron-accepting polymerization initiator form a counter-salt, and the electron-accepting polymerization initiator and the electron-donating polymerization initiator are preferable. More preferably, it is a compound in which a cation having an electron-accepting polymerization initiator structure and an anion having an electron-donating polymerization initiator structure form a salt. Specifically, it is preferably a compound in which an onium cation and a borate anion form an anti-salt, and more preferably a compound in which an iodonium cation or a sulfonium cation and a borate anion form an anti-salt. , A compound formed by forming a salt with a diaryliodonium cation or a triarylsulfonium cation and a tetraarylborate anion is particularly preferable.
Preferred embodiments of the anion in the electron-donating polymerization initiator and the cation in the electron-accepting polymerization initiator include the anion in the electron-donating polymerization initiator described above and the cation in the electron-accepting polymerization initiator described above. It is the same as the embodiment.
When the image recording layer contains an anion which is an electron donating type polymerization initiator and a cation which is an electron accepting type polymerization initiator (that is, when it contains the compound forming the above salt), the image recording layer. Shall include an electron-accepting polymerization initiator and the electron-donating polymerization initiator.
Further, the compound in which the electron donating type polymerization initiator and the electron accepting type polymerization initiator form an anti-salt may be used as an electron donating type polymerization initiator or as an electron accepting type polymerization initiator. good.
Further, the compound in which the electron donating type polymerization initiator and the electron accepting type polymerization initiator form a salt with respect to each other may be used in combination with the above-mentioned electron donating type polymerization initiator or the above-mentioned electron accepting type polymerization initiator. It may be used in combination with a polymerization initiator.

[赤外線吸収剤と電子供与型重合開始剤との好ましい態様]
本開示における画像記録層は、感度の向上及び耐刷性の観点から、赤外線吸収剤のHOMO−電子供与型重合開始剤のHOMOの値が、0.70eV以下であることが好ましく、0.70eV〜−0.10eVであることがより好ましい。
なお、マイナスの値は、上記電子供与型重合開始剤のHOMOが、上記赤外線吸収剤のHOMOよりも高くなることを意味する。
[Preferable Embodiment of Infrared Absorbent and Electron Donating Polymerization Initiator]
In the image recording layer in the present disclosure, the HOMO value of the infrared absorber HOMO-electron donating polymerization initiator is preferably 0.70 eV or less, preferably 0.70 eV, from the viewpoint of improving sensitivity and printing resistance. It is more preferably ~ -0.10 eV.
A negative value means that the HOMO of the electron donating polymerization initiator is higher than that of the infrared absorber.

[電子受容型重合開始剤及び赤外線吸収剤の好ましい態様]
本開示における画像記録層は、感度の向上及び耐刷性の観点から、電子受容型重合開始
剤のLUMO−赤外線吸収剤のLUMOの値が、0.70eV以下であることが好ましく、1.00eV〜−0.10eVであることが好ましく、0.80eV〜0.30eVであることがより好ましい。
なお、マイナスの値は、上記赤外線吸収剤のLUMOが、上記電子受容型重合開始剤のLUMOよりも高くなることを意味する。
[Preferable aspects of electron-accepting polymerization initiator and infrared absorber]
In the image recording layer in the present disclosure, the value of LUMO of the electron-accepting polymerization initiator LUMO-infrared absorber is preferably 0.70 eV or less, preferably 1.00 eV, from the viewpoint of improving sensitivity and printing resistance. It is preferably ~ -0.10 eV, and more preferably 0.80 eV to 0.30 eV.
A negative value means that the LUMO of the infrared absorber is higher than that of the electron-accepting polymerization initiator.

〔赤外線吸収剤〕
本開示における画像記録層は赤外線吸収剤を含む。
赤外線吸収剤としては、特に制限はなく、例えば、顔料及び染料が挙げられる。
赤外線吸収剤として用いられる染料としては、市販の染料及び例えば、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
[Infrared absorber]
The image recording layer in the present disclosure contains an infrared absorber.
The infrared absorber is not particularly limited, and examples thereof include pigments and dyes.
As the dye used as the infrared absorber, a commercially available dye and, for example, a known dye described in a document such as "Dye Handbook" (edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complexes. Can be mentioned.

これらの染料のうち好ましいものとしては、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。より好ましくは、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が挙げられる。中でも、シアニン色素が特に好ましい。 Preferred of these dyes include cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indorenin cyanine dyes. More preferably, cyanine pigments and indorenin cyanine pigments are mentioned. Of these, the cyanine pigment is particularly preferable.

上記赤外線吸収剤としては、メソ位に酸素原子、窒素原子、又はハロゲン原子を有するカチオン性のポリメチン色素であることが好ましい。カチオン性のポリメチン色素としては、シアニン色素、ピリリウム色素、チオピリリウム色素、アズレニウム色素等が好ましく挙げられ、入手の容易性、導入反応時の溶剤溶解性等の観点から、シアニン色素であることが好ましい。 The infrared absorber is preferably a cationic polymethine dye having an oxygen atom, a nitrogen atom, or a halogen atom at the meso position. Preferred examples of the cationic polymethine dye include cyanine dye, pyrylium dye, thiopyrylium dye, and azulenium dye, and cyanine dye is preferable from the viewpoint of easy availability and solvent solubility during the introduction reaction.

シアニン色素の具体例としては、特開2001−133969号公報の段落0017〜0019に記載の化合物、特開2002−023360号公報の段落0016〜0021、特開2002−040638号公報の段落0012〜0037に記載の化合物、好ましくは特開2002−278057号公報の段落0034〜0041、特開2008−195018号公報の段落0080〜0086に記載の化合物、特に好ましくは特開2007−90850号公報の段落0035〜0043に記載の化合物、特開2012−206495号公報の段落0105〜0113に記載の化合物が挙げられる。
また、特開平5−5005号公報の段落0008〜0009、特開2001−222101号公報の段落0022〜0025に記載の化合物も好ましく使用することができる。 顔料としては、特開2008−195018号公報の段落0072〜0076に記載の化合物が好ましい。
Specific examples of the cyanine dye include the compounds described in paragraphs 0017 to 0019 of JP-A-2001-133769, paragraphs 0016 to 0021 of JP-A-2002-0233360, and paragraphs 0012 to 0037 of JP-A-2002-040638. , Preferably the compounds described in paragraphs 0034 to 0041 of JP-A-2002-278057, paragraphs 0080-0086 of JP-A-2008-195018, and particularly preferably paragraphs 0035 of JP-A-2007-90850. Examples thereof include the compounds described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-206495 and the compounds described in paragraphs 0105 to 0113 of JP2012-206495A.
Further, the compounds described in paragraphs 0008 to 0009 of JP-A-5-5005 and paragraphs 0022 to 0025 of JP-A-2001-222101 can also be preferably used. As the pigment, the compounds described in paragraphs 0072 to 0076 of JP-A-2008-195018 are preferable.

また、上記赤外線吸収剤としては、赤外線露光により分解する赤外線吸収剤も好適に用いることができる。
赤外線露光により分解する赤外線吸収剤としては、特表2008−544322号公報、国際公開第2016/027886号、国際公開第2017/141882号、又は国際公開第2018/043259号に記載のものを好適に用いることができる。
また、赤外線露光により分解する赤外線吸収剤としては、後述の、最外層に用いられる分解性化合物を用いてもよい。
Further, as the infrared absorber, an infrared absorber that decomposes by infrared exposure can also be preferably used.
As the infrared absorber that decomposes by infrared exposure, those described in JP-A-2008-544322, International Publication No. 2016/027886, International Publication No. 2017/141882, or International Publication No. 2018/0432559 are preferably used. Can be used.
Further, as the infrared absorber that decomposes by infrared exposure, a decomposable compound used for the outermost layer, which will be described later, may be used.

赤外線吸収剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
また、赤外線吸収剤として顔料と染料とを併用してもよい。
Only one kind of infrared absorber may be used, or two or more kinds may be used in combination.
Further, a pigment and a dye may be used in combination as an infrared absorber.

赤外線吸収剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.1質量%〜10.0質量%
が好ましく、0.5質量%〜5.0質量%がより好ましい。
The content of the infrared absorber is 0.1% by mass to 10.0% by mass with respect to the total mass of the image recording layer.
Is preferable, and 0.5% by mass to 5.0% by mass is more preferable.

〔粒子〕
本開示における画像記録層は、現像性、及び、UV耐刷性の観点から、粒子を含むことが好ましい。粒子としては、無機粒子であってもよいし、有機粒子であってもよい。
中でも、粒子として、有機粒子を含むことが好ましく、ポリマー粒子を含むことがより好ましい。
即ち、本開示における画像記録層は、ポリマー粒子を含むことが好ましい。
無機粒子としては、公知の無機粒子を用いることができ、シリカ粒子、チタニア粒子等
の金属酸化物粒子を好適に用いることができる。
〔particle〕
The image recording layer in the present disclosure preferably contains particles from the viewpoint of developability and UV printing resistance. The particles may be inorganic particles or organic particles.
Among them, the particles preferably contain organic particles, and more preferably polymer particles.
That is, the image recording layer in the present disclosure preferably contains polymer particles.
As the inorganic particles, known inorganic particles can be used, and metal oxide particles such as silica particles and titania particles can be preferably used.

[ポリマー粒子]
ポリマー粒子としては、例えば、付加重合型樹脂を含む粒子(即ち、付加重合型ポリマー粒子)、重付加型樹脂を含む粒子(即ち、重付加型ポリマー粒子)、重縮合型樹脂を含む粒子(即ち、重縮合型ポリマー粒子)等が挙げられるが、中でも、付加重合型ポリマー粒子、又は重付加型ポリマー粒子が好ましい。
また、ポリマー粒子としては、熱融着が可能となる観点から、熱可塑性樹脂を含む粒子(即ち、熱可塑性ポリマー粒子)であってもよい。
[Polymer particles]
Examples of the polymer particles include particles containing an addition polymerization type resin (that is, addition polymerization type polymer particles), particles containing a polyaddition type resin (that is, polyaddition type polymer particles), and particles containing a polycondensation type resin (that is, that is). , Polycondensation type polymer particles), etc., among which addition polymerization type polymer particles or polyaddition type polymer particles are preferable.
Further, the polymer particles may be particles containing a thermoplastic resin (that is, thermoplastic polymer particles) from the viewpoint of enabling heat fusion.

また、ポリマー粒子は、マイクロカプセル、ミクロゲル(即ち、架橋ポリマー粒子)等の形態であってもよい。 Further, the polymer particles may be in the form of microcapsules, microgels (that is, crosslinked polymer particles) and the like.

ポリマー粒子としては、熱可塑性ポリマー粒子、熱反応性ポリマー粒子、重合性基を有するポリマー粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及び、ミクロゲル(架橋ポリマー粒子)からなる群より選ばれることが好ましい。中でも、重合性基を有するポリマー粒子が好ましい。
特に好ましい実施形態では、ポリマー粒子は少なくとも1つのエチレン性不飽和基を含む。このようなポリマー粒子の存在により、露光部の耐刷性及び未露光部の機上現像性を高める効果が得られる。
The polymer particles are selected from the group consisting of thermoplastic polymer particles, heat-reactive polymer particles, polymer particles having a polymerizable group, microcapsules containing a hydrophobic compound, and microgels (crosslinked polymer particles). Is preferable. Of these, polymer particles having a polymerizable group are preferable.
In a particularly preferred embodiment, the polymer particles contain at least one ethylenically unsaturated group. The presence of such polymer particles has the effect of enhancing the printing durability of the exposed portion and the on-machine developability of the unexposed portion.

熱可塑性ポリマー粒子としては、1992年1月のResearch Disclosure No.33303、特開平9−123387号公報、同9−131850号公報、同9−171249号公報、同9−171250号公報及び欧州特許第931647号明細書などに記載の熱可塑性ポリマー粒子が好ましい。 As the thermoplastic polymer particles, Research Disclosure No. 1 of January 1992. The thermoplastic polymer particles described in 33303, JP-A-9-123387, JP-A-9-131850, JP-A-9-171249, JP-A-9-171250, European Patent No. 913647, and the like are preferable.

熱可塑性ポリマー粒子を構成する熱可塑性樹脂の具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。 Specific examples of the thermoplastic resin constituting the thermoplastic polymer particles include ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, vinylcarbazole, and a polyalkylene structure. Examples thereof include homopolymers or copolymers of monomers such as acrylates or methacrylates having the above, or mixtures thereof.

熱可塑性ポリマー粒子としては、インキ着肉性及びUV耐刷性の観点から、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位、及び、ニトリル基を有する構成単位を有する熱可塑性樹脂を含むことが好ましい。 The thermoplastic polymer particles preferably contain a structural unit formed of an aromatic vinyl compound and a thermoplastic resin having a structural unit having a nitrile group, from the viewpoint of ink fillability and UV printing resistance.

上記芳香族ビニル化合物としては、芳香環にビニル基が結合した構造を有する化合物であればよいが、スチレン化合物、ビニルナフタレン化合物等が挙げられ、スチレン化合物が好ましく、スチレンがより好ましい。
スチレン化合物としては、スチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、β−メチルスチレン、p−メチル−β−メチルスチレン、α−メチルスチレン、及びp−メトキシ−β−メチルスチレン等が挙げられる。
The aromatic vinyl compound may be any compound having a structure in which a vinyl group is bonded to an aromatic ring, and examples thereof include styrene compounds and vinylnaphthalene compounds, with styrene compounds being preferred, and styrene being more preferred.
Examples of the styrene compound include styrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, β-methylstyrene, p-methyl-β-methylstyrene, α-methylstyrene, p-methoxy-β-methylstyrene and the like.

芳香族ビニル化合物により形成される構成単位の含有量は、インキ着肉性の観点から、後述するニトリル基を有する構成単位の含有量よりも多いことが好ましく、熱可塑性樹脂の全質量に対し、15質量%〜85質量%であることがより好ましく、30質量%〜70質量%であることが更に好ましい。 The content of the structural unit formed by the aromatic vinyl compound is preferably higher than the content of the structural unit having a nitrile group, which will be described later, from the viewpoint of ink inking property, with respect to the total mass of the thermoplastic resin. It is more preferably 15% by mass to 85% by mass, and even more preferably 30% by mass to 70% by mass.

ニトリル基を有する構成単位は、ニトリル基を有するモノマーを用いて導入されることが好ましい。
ニトリル基を有するモノマーとしては、アクリロニトリル化合物が挙げられ、(メタ)アクリロニトリルが好適に挙げられる。
ニトリル基を有する構成単位としては、(メタ)アクリロニトリルにより形成される構成単位が好ましい。
The structural unit having a nitrile group is preferably introduced using a monomer having a nitrile group.
Examples of the monomer having a nitrile group include acrylonitrile compounds, and (meth) acrylonitrile is preferable.
As the structural unit having a nitrile group, a structural unit formed of (meth) acrylonitrile is preferable.

ニトリル基を有する構成単位の含有量は、インキ着肉性の観点から、上記芳香族ビニル化合物により形成される構成単位の含有量よりも少ないことが好ましく、樹脂の全質量に対し、55質量%〜90質量%であることがより好ましく、60質量%〜85質量%であることがより好ましい。 The content of the structural unit having a nitrile group is preferably smaller than the content of the structural unit formed by the aromatic vinyl compound from the viewpoint of ink inking property, and is 55% by mass with respect to the total mass of the resin. It is more preferably ~ 90% by mass, and more preferably 60% by mass to 85% by mass.

また、熱可塑性ポリマー粒子に含まれる樹脂が芳香族ビニル化合物により形成される構成単位及びニトリル基を有する構成単位を含む場合、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位及びニトリル基を有する構成単位の含有量比(芳香族ビニル化合物により形成される構成単位:ニトリル基を有する構成単位)としては、質量基準で5:5〜9:1であることが好ましく、より好ましくは、6:4〜8:2である。 When the resin contained in the thermoplastic polymer particles contains a structural unit formed of an aromatic vinyl compound and a structural unit having a nitrile group, the structural unit formed of the aromatic vinyl compound and the structural unit having a nitrile group. The content ratio (constituent unit formed of the aromatic vinyl compound: structural unit having a nitrile group) is preferably 5: 5 to 9: 1 on a mass basis, and more preferably 6: 4 to 8. : 2.

熱可塑性ポリマー粒子に含まれる樹脂は、UV耐刷性及び耐薬品性の観点から、N−ビニル複素環化合物により形成される構成単位を更に有することが好ましい。
N−ビニル複素環化合物としては、例えば、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロール、N−ビニルフェノチアジン、N−ビニルコハク酸イミド、N−ビニルフタルイミド、N−ビニルカプロラクタム、及びN−ビニルイミダゾールが挙げられ、N−ビニルピロリドンが好ましい。
The resin contained in the thermoplastic polymer particles preferably further has a structural unit formed of the N-vinyl heterocyclic compound from the viewpoint of UV printing resistance and chemical resistance.
Examples of the N-vinyl heterocyclic compound include N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, N-vinylpyrrole, N-vinylphenothiazine, N-vinylsuccinic acidimide, N-vinylphthalimide, N-vinylcaprolactam, and N-vinylcaprolactum. Vinyl imidazole is mentioned, and N-vinylpyrrolidone is preferable.

N−ビニル複素環化合物により形成される構成単位の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対し、5質量%〜50質量%であることが好ましく、10質量%〜40質量%であることがより好ましい。 The content of the structural unit formed by the N-vinyl heterocyclic compound is preferably 5% by mass to 50% by mass, and preferably 10% by mass to 40% by mass, based on the total mass of the thermoplastic resin. More preferred.

熱可塑性ポリマー粒子に含まれる樹脂は、酸性基を有する構成単位を含有してもよいが、機上現像性及びインキ着肉性の観点からは、酸性基を有する構成単位を含有しないことが好ましい。
具体的には、熱可塑性樹脂における酸性基を有する構成単位の含有量は、20質量%以下であることが好ましく、10質量%以下であることがより好ましく、5質量%以下であることが更に好ましい。上記含有量の下限は特に限定されず、0質量%であってもよい。 また、熱可塑性樹脂の酸価は、160mgKOH/g以下であることが好ましく、80mgKOH/g以下であることがより好ましく、40mgKOH/g以下であることが更に好ましい。上記酸価の下限は特に限定されず、0mgKOH/gであってもよい。
本開示において、酸価はJIS K0070:1992に準拠した測定法により求められる。
The resin contained in the thermoplastic polymer particles may contain a structural unit having an acidic group, but it is preferable not to contain a structural unit having an acidic group from the viewpoint of on-machine developability and ink inking property. ..
Specifically, the content of the structural unit having an acidic group in the thermoplastic resin is preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and further preferably 5% by mass or less. preferable. The lower limit of the content is not particularly limited and may be 0% by mass. The acid value of the thermoplastic resin is preferably 160 mgKOH / g or less, more preferably 80 mgKOH / g or less, and even more preferably 40 mgKOH / g or less. The lower limit of the acid value is not particularly limited and may be 0 mgKOH / g.
In the present disclosure, the acid value is determined by a measuring method based on JIS K0070: 1992.

熱可塑性ポリマー粒子に含まれる樹脂は、インキ着肉性の観点から、疎水性基を含む構成単位を含有してもよい。
上記疎水性基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。
疎水性基を含む構成単位としては、アルキル(メタ)アクリレート化合物、アリール(メタ)アクリレート化合物、又は、アラルキル(メタ)アクリレート化合物により形成される構成単位が好ましく、アルキル(メタ)アクリレート化合物により形成される構成単位がより好ましい。
The resin contained in the thermoplastic polymer particles may contain a structural unit containing a hydrophobic group from the viewpoint of ink inking property.
Examples of the hydrophobic group include an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group and the like.
As the structural unit containing the hydrophobic group, a structural unit formed of an alkyl (meth) acrylate compound, an aryl (meth) acrylate compound, or an aralkyl (meth) acrylate compound is preferable, and the structural unit is formed of an alkyl (meth) acrylate compound. The structural unit is more preferable.

熱可塑性ポリマー粒子に含まれる樹脂における、疎水性基を有する構成単位の含有量は、樹脂の全質量に対し、5質量%〜50質量%であることが好ましく、10質量%〜30質量%であることがより好ましい。 The content of the structural unit having a hydrophobic group in the resin contained in the thermoplastic polymer particles is preferably 5% by mass to 50% by mass, preferably 10% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the resin. It is more preferable to have.

熱可塑性ポリマー粒子に含まれる熱可塑性樹脂は、UV耐刷性及び機上現像性の観点から、親水性基を有することが好ましい。
親水性基としては、親水性を有する構造であれば、特に制限はないが、カルボキシ基等の酸基、ヒドロキシ基、アミノ基、ニトリル基、ポリアルキレンオキシド構造等が挙げられる。
上記親水性基としては、UV耐刷性及び機上現像性の観点から、ポリアルキレンオキシド構造を有する基、ポリエステル構造を有する基、又は、スルホン酸基であることが好ましく、ポリアルキレンオキシド構造を有する基、又は、スルホン酸基であることがより好ましく、ポリアルキレンオキシド構造を有する基であることが更に好ましい。
The thermoplastic resin contained in the thermoplastic polymer particles preferably has a hydrophilic group from the viewpoint of UV printing resistance and on-machine developability.
The hydrophilic group is not particularly limited as long as it has a hydrophilic structure, and examples thereof include an acid group such as a carboxy group, a hydroxy group, an amino group, a nitrile group, and a polyalkylene oxide structure.
The hydrophilic group is preferably a group having a polyalkylene oxide structure, a group having a polyester structure, or a sulfonic acid group from the viewpoint of UV printing resistance and on-machine developability, and the polyalkylene oxide structure is preferably used. It is more preferably a group having or a sulfonic acid group, and further preferably a group having a polyalkylene oxide structure.

上記ポリアルキレンオキシド構造としては、機上現像性の観点から、ポリエチレンオキシド構造、ポリプロピレンオキシド構造、又は、ポリ(エチレンオキシド/プロピレンオキシド)構造であることが好ましい。
また、機上現像性の観点からは、上記親水性基の中でもポリアルキレンオキシド構造として、ポリプロピレンオキシド構造を有することが好ましく、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有することがより好ましい。
上記ポリアルキレンオキシド構造におけるアルキレンオキシド構造の数は、機上現像性の観点から、2以上であることが好ましく、5以上であることがより好ましく、5〜200であることが更に好ましく、8〜150であることが特に好ましい。
The polyalkylene oxide structure is preferably a polyethylene oxide structure, a polypropylene oxide structure, or a poly (ethylene oxide / propylene oxide) structure from the viewpoint of on-machine developability.
Further, from the viewpoint of on-machine developability, it is preferable to have a polypropylene oxide structure as the polyalkylene oxide structure among the above hydrophilic groups, and it is more preferable to have a polyethylene oxide structure and a polypropylene oxide structure.
From the viewpoint of on-machine developability, the number of alkylene oxide structures in the polyalkylene oxide structure is preferably 2 or more, more preferably 5 or more, further preferably 5 to 200, and 8 to 200. It is particularly preferably 150.

また、機上現像性の観点からは、上記親水性基として、後述する式Zで表される基が好ましい。 Further, from the viewpoint of on-machine developability, the group represented by the formula Z described later is preferable as the hydrophilic group.

更に、熱可塑性樹脂が有する親水性基の中でも、下記式POにより表される基が好ましい。 Further, among the hydrophilic groups of the thermoplastic resin, the group represented by the following formula PO is preferable.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式PO中、Lはそれぞれ独立に、アルキレン基を表し、Rは水素原子又はアルキル基を表し、nは1〜100の整数を表す。
式PO中、Lはそれぞれ独立に、エチレン基、1−メチルエチレン基、又は2−メチルエチレン基であることが好ましく、エチレン基であることがより好ましい。
式PO中、Rは水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基であることが好ましく、水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基であることがより好ましく、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基であることが更に好ましく、水素原子又はメチル基であることが特に好ましい。
式PO中、nは1〜10の整数が好ましく、1〜4の整数がより好ましい。
Wherein PO, L P each independently represent an alkylene group, R P represents a hydrogen atom or an alkyl group, n represents an integer of 1 to 100.
Wherein PO, L P are each independently an ethylene group, preferably a 1-methylethylene group, or a 2-methylethylene group, more preferably an ethylene group.
Wherein PO, it preferably R P is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a hydrogen atom or 1 to 4 carbon atoms It is more preferably an alkyl group, and particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.
In the formula PO, n is preferably an integer of 1 to 10, and more preferably an integer of 1 to 4.

親水性基を有する構成単位の含有量は、樹脂の全質量に対し、5質量%〜60質量%であることが好ましく、10質量%〜30質量%であることがより好ましい。 The content of the structural unit having a hydrophilic group is preferably 5% by mass to 60% by mass, more preferably 10% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the resin.

熱可塑性ポリマー粒子に含まれる樹脂は、その他の構成単位を更に含有してもよい。
その他の構成単位としては、上述の各構成単位以外の構成単位を特に限定なく含有することができ、例えば、アクリルアミド化合物、ビニルエーテル化合物等により形成される構成単位が挙げられる。
The resin contained in the thermoplastic polymer particles may further contain other structural units.
The other structural units may contain a structural unit other than the above-mentioned structural units without particular limitation, and examples thereof include structural units formed of an acrylamide compound, a vinyl ether compound, or the like.

熱可塑性ポリマー粒子に含まれる樹脂における、その他の構成単位の含有量は、樹脂の全質量に対し、5質量%〜50質量%であることが好ましく、10質量%〜30質量%であることがより好ましい。 The content of other structural units in the resin contained in the thermoplastic polymer particles is preferably 5% by mass to 50% by mass, and preferably 10% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the resin. More preferred.

熱反応性ポリマー粒子としては、熱反応性基を有するポリマー粒子が挙げられる。
熱反応性樹脂粒子は熱反応による架橋及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。
Examples of the heat-reactive polymer particles include polymer particles having a heat-reactive group.
The heat-reactive resin particles form a hydrophobic region by cross-linking due to a heat reaction and the change of functional groups at that time.

熱反応性基を有するポリマー粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、重合性基であることが好ましく、その例として、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など)、カチオン重合性基(例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など)、付加反応を行うイソシアナト基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など)、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などが好ましく挙げられる。
上記熱反応性基を有する樹脂としては、付加重合型樹脂、重付加型樹脂、又は重縮合型樹脂であってもよいし、熱可塑性樹脂であってもよい。
The heat-reactive group in the polymer particles having a heat-reactive group may be a functional group that undergoes any reaction as long as a chemical bond is formed, but a polymerizable group is preferable, and as an example, it is preferable. Eethylene unsaturated groups (eg, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group, etc.), cationically polymerizable groups (eg, vinyl group, vinyloxy group, epoxy group, oxetanyl group, etc.), addition reaction Isocyanato group or a block thereof, an epoxy group, a vinyloxy group and a functional group having an active hydrogen atom which is a reaction partner thereof (for example, an amino group, a hydroxy group, a carboxy group, etc.), a carboxy group for performing a condensation reaction and a reaction. Preferred examples thereof include a hydroxy group or an amino group as a partner, an acid anhydride for carrying out a ring-opening addition reaction, and an amino group or a hydroxy group as a reaction partner.
The resin having the heat-reactive group may be an addition polymerization type resin, a polyaddition type resin, a polycondensation type resin, or a thermoplastic resin.

マイクロカプセルとしては、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の少なくとも一部(好ましくは疎水性化合物)を内包したものが好ましい。ポリマー粒子としてマイクロカプセルを含有する画像記録層は、画像記録層の構成成分のうち疎水性成分(即ち、疎水性化合物)をマイクロカプセルに内包し、親水性成分(即ち、親水性化合物)をマイクロカプセル外に含有する構成が好ましい態様である。
画像記録層の構成成分を含むマイクロカプセルを得るためには、公知の合成法が適用できる。
As the microcapsules, for example, as described in JP-A-2001-277740 and JP-A-2001-277742, those containing at least a part (preferably a hydrophobic compound) of the constituents of the image recording layer are preferable. .. In the image recording layer containing microcapsules as polymer particles, a hydrophobic component (that is, a hydrophobic compound) among the constituent components of the image recording layer is encapsulated in the microcapsules, and the hydrophilic component (that is, a hydrophilic compound) is microscopically contained. A configuration contained outside the capsule is a preferred embodiment.
Known synthetic methods can be applied to obtain microcapsules containing the components of the image recording layer.

ミクロゲル(架橋ポリマー粒子)は、その表面又は内部の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、重合性基をその表面に有する反応性ミクロゲルは、平版印刷版原版の感度、及び、得られる平版印刷版の耐刷性の観点から好ましい。
画像記録層の構成成分を含むミクロゲルを得るためには、公知の合成法が適用できる。
The microgel (crosslinked polymer particles) can contain a part of the constituents of the image recording layer on at least one of the surface or the inside thereof. In particular, a reactive microgel having a polymerizable group on its surface is preferable from the viewpoint of the sensitivity of the lithographic printing plate original plate and the printing durability of the obtained lithographic printing plate.
A known synthetic method can be applied to obtain a microgel containing the constituents of the image recording layer.

ポリマー粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性、耐汚れ性及び保存安定性の観点から、分子中に2個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られる重付加型ポリマー粒子が好ましい。
上記多価フェノール化合物としては、フェノール性ヒドロキシ基を有するベンゼン環を複数有している化合物が好ましい。
上記活性水素を有する化合物としては、ポリオール化合物、又は、ポリアミン化合物が好ましく、ポリオール化合物がより好ましく、プロピレングリコール、グリセリン及びトリメチロールプロパンからなる群より選ばれた少なくとも1種の化合物が更に好ましい。
また、上記活性水素を有する化合物としては、水を用いてもよい。水を用いた場合、上記多価イソシアネート化合物のイソシアネート基と水との反応によって生じたアミンがウレア結合を形成し、粒子を形成することができる。
分子中に2個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られる樹脂の粒子としては、国際公開第2018/043259号の段落0230〜0234に記載の調製法にて得られたミクロゲルが好ましく挙げられる。
The polymer particles are an adduct of a polyhydric phenol compound having two or more hydroxy groups in the molecule and isophorone diisocyanate from the viewpoint of printing resistance, stain resistance and storage stability of the obtained flat plate printing plate. The polyadductate polymer particles obtained by the reaction of the polyhydric isocyanate compound and the compound having active hydrogen are preferable.
As the polyvalent phenol compound, a compound having a plurality of benzene rings having a phenolic hydroxy group is preferable.
As the compound having active hydrogen, a polyol compound or a polyamine compound is preferable, a polyol compound is more preferable, and at least one compound selected from the group consisting of propylene glycol, glycerin and trimethylolpropane is further preferable.
Further, water may be used as the compound having active hydrogen. When water is used, the amine generated by the reaction between the isocyanate group of the polyhydric isocyanate compound and water forms a urea bond, and particles can be formed.
As the particles of the resin obtained by the reaction of the polyvalent isocyanate compound which is an adduct of the polyhydric phenol compound having two or more hydroxy groups in the molecule and the isophorone diisocyanate, and the compound having active hydrogen, the first international release. Preferred are microgels obtained by the preparation method according to paragraphs 0230 to 0234 of No. 2018/043259.

更に、ポリマー粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性及び耐溶剤性の観点から、疎水性主鎖を有し、i)上記疎水性主鎖に直接的に結合されたニトリル基を有する構成ユニット、及び、ii)親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含む付加重合型ポリマー粒子が好ましい。
このような付加重合型ポリマー粒子として具体的には、特開2019−64269号公報の段落0156に記載の粒子が好ましい。
Further, the polymer particles have a hydrophobic main chain from the viewpoint of printing resistance and solvent resistance of the obtained flat plate printing plate, and i) have a nitrile group directly bonded to the hydrophobic main chain. Additionally polymerized polymer particles containing both a constituent unit and ii) a constituent unit having a pendant group containing a hydrophilic polyalkylene oxide segment are preferred.
Specifically, the particles described in paragraph 0156 of JP-A-2019-64269 are preferable as such addition polymerization type polymer particles.

(式Zで表される基)
本開示におけるポリマー粒子は、親水性基として、下記式Zで表される基を有することが好ましい。
特に、本開示におけるポリマー粒子は、下記式Zで表される基を含む親水性基を有する付加重合型ポリマー粒子であることが好ましい。
式Z : *−Q−W−Y
式Z中、Qは二価の連結基を表し、Wは親水性構造を有する二価の基又は疎水性構造を有する二価の基を表し、Yは親水性構造を有する一価の基又は疎水性構造を有する一価の基を表し、W及びYのいずれかは親水性構造を有し、*は他の構造との結合部位を表す。
また、式Z中に含まれる親水性構造のいずれかが、ポリアルキレンオキシド構造を含むことが好ましい。
(Group represented by formula Z)
The polymer particles in the present disclosure preferably have a group represented by the following formula Z as a hydrophilic group.
In particular, the polymer particles in the present disclosure are preferably addition polymerization type polymer particles having a hydrophilic group including a group represented by the following formula Z.
Formula Z: * -Q-W-Y
In formula Z, Q represents a divalent linking group, W represents a divalent group having a hydrophilic structure or a divalent group having a hydrophobic structure, and Y represents a monovalent group having a hydrophilic structure or a monovalent group having a hydrophilic structure. A monovalent group having a hydrophobic structure is represented, either W or Y has a hydrophilic structure, and * represents a binding site with another structure.
Further, it is preferable that any of the hydrophilic structures contained in the formula Z contains a polyalkylene oxide structure.

上記式ZにおけるQは、炭素数1〜20の二価の連結基であることが好ましく、炭素数1〜10の二価の連結基であることがより好ましい。
また、上記式ZにおけるQは、アルキレン基、アリーレン基、エステル結合、アミド結合、又はこれらを2以上組み合わせた基であることが好ましく、フェニレン基、エステル結合、又はアミド結合であることがより好ましい。
Q in the above formula Z is preferably a divalent linking group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably a divalent linking group having 1 to 10 carbon atoms.
Further, Q in the above formula Z is preferably an alkylene group, an arylene group, an ester bond, an amide bond, or a group in which two or more of these are combined, and more preferably a phenylene group, an ester bond, or an amide bond. ..

上記式ZのWにおける親水性構造を有する二価の基は、ポリアルキレンオキシド構造を含む基であることが好ましく、ポリアルキレンオキシ基、又は、ポリアルキレンオキシ基の一方の末端に−CHCHNR−が結合した基であることが好ましい。なお、Rは、水素原子又はアルキル基を表し、以降のRも同様である。
上記式ZのWにおける疎水性構造を有する二価の基は、−RWA−、−O−RWA−O−、−RN−RWA−NR−、−OC(=O)−RWA−O−、又は、−OC(=O)−RWA−O−であることが好ましい。なお、RWAは、それぞれ独立に、炭素数6〜120の直鎖、分岐若しくは環状アルキレン基、炭素数6〜120のハロアルキレン基、炭素数6〜120のアリーレン基、炭素数7〜120のアルカーリレン基(アルキルアリール基から水素原子を1つ除いた二価の基)、又は、炭素数7〜120のアラルキレン基を表す。
The divalent group having a hydrophilic structure in W of the above formula Z is preferably a group containing a polyalkylene oxide structure, and is a polyalkylene oxy group or -CH 2 CH at one end of the polyalkylene oxy group. It is preferably a group to which 2 NR W − is bound. Incidentally, R W represents a hydrogen atom or an alkyl group, the same applies to the subsequent R W.
The divalent group having a hydrophobic structure in the W of formula Z, -R WA -, - O -R WA -O -, - R W N-R WA -NR W -, - OC (= O) - R WA -O-, or, -OC (= O) is preferably -R WA -O-. Incidentally, R WA is independently a linear of 6 to 120 carbon atoms, branched or cyclic alkylene group, haloalkylene group of 6 to 120 carbon atoms, an arylene group having 6 to 120 carbon atoms, of 7 to 120 carbon atoms It represents an alkanerylene group (a divalent group obtained by removing one hydrogen atom from an alkylaryl group) or an aralkylene group having 7 to 120 carbon atoms.

上記式ZのYにおける親水性構造を有する一価の基は、−OH、−C(=O)OH、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基、又は、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基の他方の末端に−CHCHN(R)−が結合した基であることが好ましい。中でも、親水性構造を有する一価の基としては、ポリアルキレンオキシド構造を含む基であることが好ましく、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基、又は、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基の他方の末端に−CHCHN(R)−が結合した基が好ましい。
上記式ZのYにおける疎水性構造を有する一価の基は、炭素数6〜120の直鎖、分岐若しくは環状アルキル基、炭素数6〜120のハロアルキル基、炭素数6〜120のアリール基、炭素数7〜120のアルカーリル基(アルキルアリール基)、炭素数7〜120のアラルキル基、−ORWB、−C(=O)ORWB、又は、−OC(=O)RWBであることが好ましい。RWBは、炭素数6〜20を有するアルキル基を表す。
The monovalent group having a hydrophilic structure in Y of the above formula Z is -OH, -C (= O) OH, a polyalkyleneoxy group having a hydrogen atom or an alkyl group at the end, or a hydrogen atom or an alkyl at the end. it is preferably bound group - at the other end of the polyalkyleneoxy group is a group -CH 2 CH 2 N (R W ). Among them, the monovalent group having a hydrophilic structure is preferably a group containing a polyalkylene oxide structure, a polyalkyleneoxy group having a hydrogen atom or an alkyl group at the end, or a hydrogen atom or an alkyl group at the end. in polyalkyleneoxy groups other end to the -CH 2 CH 2 N (R W ) is - is bonded group.
The monovalent group having a hydrophobic structure in Y of the above formula Z is a linear, branched or cyclic alkyl group having 6 to 120 carbon atoms, a haloalkyl group having 6 to 120 carbon atoms, an aryl group having 6 to 120 carbon atoms, and the like. It may be an alcoholyl group (alkylaryl group) having 7 to 120 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 120 carbon atoms, -OR WB , -C (= O) OR WB , or -OC (= O) R WB. preferable. R WB represents an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms.

上記式Zで表される基を有するポリマー粒子は、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、Wが親水性構造を有する二価の基であることがより好ましく、Qがフェニレン基、エステル結合、又はアミド結合であり、Wは、ポリアルキレンオキシ基であり、Yが、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基であることがより好ましい。
なお、式Zで表される基は、ポリマー粒子の分散性を高める分散性基として機能してもよい。
The polymer particles having a group represented by the above formula Z are more preferably divalent groups in which W has a hydrophilic structure from the viewpoints of print resistance, fillability and on-machine developability. It is more preferable that Q is a phenylene group, an ester bond or an amide bond, W is a polyalkyleneoxy group, and Y is a polyalkyleneoxy group having a hydrogen atom or an alkyl group at the end.
The group represented by the formula Z may function as a dispersible group that enhances the dispersibility of the polymer particles.

本開示におけるポリマー粒子は、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、重合性基(好ましくはエチレン性不飽和基)を有することが好ましく、特に、表面に重合性基を有することがより好ましい。重合性基を有するポリマー粒子を用いることで、版飛び(好ましくはUV版飛び)を抑制しやすくなり、耐刷性(好ましくはUV耐刷性)も高められる。 The polymer particles in the present disclosure preferably have a polymerizable group (preferably an ethylenically unsaturated group) from the viewpoint of print resistance and on-machine developability, and in particular, may have a polymerizable group on the surface. More preferred. By using the polymer particles having a polymerizable group, it becomes easy to suppress plate skipping (preferably UV plate skipping), and printing resistance (preferably UV printing resistance) is also enhanced.

本開示におけるポリマー粒子は、耐刷性の観点から、親水性基及び重合性基を有する樹脂粒子であることが好ましい。
上記重合性基は、カチオン重合性基であっても、ラジカル重合性基であってもよいが、反応性の観点からは、ラジカル重合性基であることが好ましい。
上記重合性基としては、重合可能な基であれば特に制限はないが、反応性の観点から、エチレン性不飽和基が好ましく、ビニルフェニル基(スチリル基)、(メタ)アクリロキシ基、又は、(メタ)アクリルアミド基がより好ましく、(メタ)アクリロキシ基が特に好ましい。
また、重合性基を有するポリマー粒子を構成する樹脂は、重合性基を有する構成単位を有することが好ましい。
なお、高分子反応によりポリマー粒子の表面に重合性基を導入してもよい。
From the viewpoint of printing resistance, the polymer particles in the present disclosure are preferably resin particles having a hydrophilic group and a polymerizable group.
The polymerizable group may be a cationically polymerizable group or a radically polymerizable group, but from the viewpoint of reactivity, it is preferably a radically polymerizable group.
The polymerizable group is not particularly limited as long as it is a polymerizable group, but from the viewpoint of reactivity, an ethylenically unsaturated group is preferable, and a vinylphenyl group (styryl group), a (meth) acryloxy group, or a (meth) acryloxy group is preferable. A (meth) acrylamide group is more preferred, and a (meth) acryloxy group is particularly preferred.
Further, the resin constituting the polymer particles having a polymerizable group preferably has a structural unit having a polymerizable group.
In addition, a polymerizable group may be introduced on the surface of the polymer particles by a polymer reaction.

また、ポリマー粒子は、耐刷性、着肉性、機上現像性、及び、機上現像時の現像カス抑制性の観点から、ウレア結合を有する重付加型樹脂を含むことが好ましく、下記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有する重付加型樹脂を含むことがより好ましく、下記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有し、かつ、ポリオキシアルキレン構造として、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有する重付加型樹脂を含むことが特に好ましい。また、上記ウレア結合を有する重付加型樹脂を含む粒子は、ミクロゲルであることが好ましい。 Further, the polymer particles preferably contain a heavy addition type resin having a urea bond from the viewpoints of printing resistance, inking property, on-machine developability, and ability to suppress development residue during on-machine development, and the following formula is preferable. It is more preferable to contain a heavy addition type resin having a structure obtained by at least reacting the isocyanate compound represented by (Iso) with water, and at least reacting the isocyanate compound represented by the following formula (Iso) with water. It is particularly preferable that the polyoxyalkylene structure contains a polyadditive resin having a polyethylene oxide structure and a polypropylene oxide structure. Further, the particles containing the heavy addition type resin having a urea bond are preferably microgels.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式(Iso)中、nは0〜10の整数を表す。 In the formula (Iso), n represents an integer of 0 to 10.

上記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水との反応の一例としては、下記に示す反応が挙げられる。なお、下記の例は、n=0、4,4−異性体を使用した例である。
下記に示すように、上記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水とを反応させると、水によりイソシアネート基の一部が加水分解し、アミノ基が生じ、生じたアミノ基とイソシアネート基とが反応し、ウレア結合が生成し、二量体が形成される。また、下記反応が繰り返され、ウレア結合を有する重付加型樹脂が形成される。
As an example of the reaction between the isocyanate compound represented by the above formula (Iso) and water, the reaction shown below can be mentioned. The following example is an example using n = 0, 4,4-isomer.
As shown below, when the isocyanate compound represented by the above formula (Iso) is reacted with water, a part of the isocyanate group is hydrolyzed by water to generate an amino group, and the generated amino group and isocyanate group are used. React to form a urea bond and form a dimer. Further, the following reaction is repeated to form a heavy addition type resin having a urea bond.

また、下記反応において、アルコール化合物、アミン化合物等のイソシアネート基と反応性を有する化合物(活性水素を有する化合物)を添加することにより、アルコール化合物、アミン化合物等の構造を、ウレア結合を有する重付加型樹脂に導入することもできる。
上記活性水素を有する化合物としては、既述の活性水素を有する化合物が好ましく挙げられる。
Further, in the following reaction, by adding a compound having reactivity with an isocyanate group such as an alcohol compound or an amine compound (a compound having active hydrogen), the structure of the alcohol compound, the amine compound or the like is added with a urea bond. It can also be introduced into the mold resin.
As the compound having active hydrogen, the above-mentioned compound having active hydrogen is preferably mentioned.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

また、上記ウレア結合を有する重付加型樹脂は、エチレン性不飽和基を有することが好ましく、下記式(PETA)で表される基を有することがより好ましい。 Further, the heavy addition type resin having a urea bond preferably has an ethylenically unsaturated group, and more preferably has a group represented by the following formula (PETA).

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式(PETA)中、波線部分は、他の構造との結合位置を表す。 In the formula (PETA), the wavy line portion represents the position of connection with other structures.

(ポリマー粒子の合成)
ポリマー粒子の合成法としては、特に制限はなく、既述した各種の樹脂にて粒子を合成しうる方法であればよい。ポリマー粒子の合成法としては、例えば、乳化重合法、懸濁重合法、分散重合法、ソープフリー重合法、マイクロエマルション重合法等の、公知のポリマー粒子の合成法が挙げられる。
その他、ポリマー粒子の合成には、公知のマイクロカプセルの合成法、ミクロゲル(架橋樹脂粒子)の合成法等を用いてもよい。
(Synthesis of polymer particles)
The method for synthesizing the polymer particles is not particularly limited, and any method may be used as long as the particles can be synthesized with the various resins described above. Examples of the method for synthesizing polymer particles include known methods for synthesizing polymer particles, such as an emulsion polymerization method, a suspension polymerization method, a dispersion polymerization method, a soap-free polymerization method, and a microemulsion polymerization method.
In addition, a known method for synthesizing microcapsules, a method for synthesizing microgels (crosslinked resin particles), or the like may be used for synthesizing polymer particles.

(粒子の平均粒径)
粒子の平均粒径は、0.01μm〜3.0μmが好ましく、0.03μm〜2.0μmがより好ましく、0.10μm〜1.0μmが更に好ましい。この範囲で良好な解像度と経時安定性が得られる。
粒子の平均粒径は、光散乱法により測定するか、又は、粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で粒子の粒径を総計で5,000個測定し、平均値を算出するものとする。なお、非球形粒子については写真上の粒子の円相当径とする。
なお、本開示における粒子の平均粒径は、特に断りのない限り、体積平均粒径であるものとする。
(Average particle size of particles)
The average particle size of the particles is preferably 0.01 μm to 3.0 μm, more preferably 0.03 μm to 2.0 μm, and even more preferably 0.10 μm to 1.0 μm. Good resolution and stability over time can be obtained in this range.
The average particle size of the particles is measured by the light scattering method, or an electron micrograph of the particles is taken, and a total of 5,000 particle sizes are measured on the photograph to calculate the average value. do. For non-spherical particles, the diameter is equivalent to the circle of the particles on the photograph.
Unless otherwise specified, the average particle size of the particles in the present disclosure shall be the volume average particle size.

粒子(好ましくはポリマー粒子)は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 As the particles (preferably polymer particles), only one kind may be used, or two or more kinds may be used in combination.

粒子(好ましくはポリマー粒子)の含有量は、現像性、及び、耐刷性の観点から、画像記録層の全質量に対し、5質量%〜90質量%が好ましく、10質量%〜90質量%であることがより好ましく、20質量%〜90質量%であることが更に好ましく、50質量%〜90質量%であることが特に好ましい。 The content of the particles (preferably polymer particles) is preferably 5% by mass to 90% by mass, preferably 10% by mass to 90% by mass, based on the total mass of the image recording layer from the viewpoint of developability and print resistance. It is more preferably 20% by mass to 90% by mass, and particularly preferably 50% by mass to 90% by mass.

〔その他の成分〕
本開示における画像記録層は、既述の成分以外のその他の成分を含んでいてもよい。
その他の成分としては、バインダーポリマー、発色剤、連鎖移動剤、低分子親水性化合物、感脂化剤、その他の添加剤等が挙げられる。
[Other ingredients]
The image recording layer in the present disclosure may contain other components other than the above-mentioned components.
Examples of other components include binder polymers, color formers, chain transfer agents, low molecular weight hydrophilic compounds, fat sensitizers, and other additives.

[バインダーポリマー]
画像記録層は、バインダーポリマーを含んでいてもよい。
画像記録層は、必要に応じて、バインダーポリマーを含んでいてもよい、
ここで、バインダーポリマーは、ポリマー粒子以外のポリマー、すなわち、粒子形状でないポリマーを指す。
また、バインダーポリマーは、感脂化剤におけるアンモニウム塩含有ポリマー、及び界面活性剤として用いるポリマーを除く。
[Binder polymer]
The image recording layer may contain a binder polymer.
The image recording layer may contain a binder polymer, if desired.
Here, the binder polymer refers to a polymer other than polymer particles, that is, a polymer that is not in the form of particles.
Further, the binder polymer excludes the ammonium salt-containing polymer in the oil-sensitive agent and the polymer used as a surfactant.

バインダーポリマーは平版印刷版原版の画像記録層に用いられる公知のバインダーポリマー(例えば、(メタ)アクリル樹脂、ポリビニルアセタール、ポリウレタン樹脂等)を好適に使用することができる。
一例として、機上現像型平版印刷版原版に用いられるバインダーポリマー(以下、機上現像用バインダーポリマーともいう)について、詳細に記載する。
機上現像用バインダーポリマーとしては、アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーが好ましい。アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーは、ポリ(アルキレンオキシド)部位を主鎖に有していても側鎖に有していてもよい。また、ポリ(アルキレンオキシド)を側鎖に有するグラフトポリマーでも、ポリ(アルキレンオキシド)含有繰返し単位で構成されるブロックと(アルキレンオキシド)非含有繰返し単位で構成されるブロックとのブロックコポリマーでもよい。
ポリ(アルキレンオキシド)部位を主鎖に有する場合は、ポリウレタン樹脂が好ましい。
ポリ(アルキレンオキシド)部位を側鎖に有する場合の主鎖のポリマーとしては、(メタ)アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられ、特に(メタ)アクリル樹脂が好ましい。
As the binder polymer, a known binder polymer (for example, (meth) acrylic resin, polyvinyl acetal, polyurethane resin, etc.) used for the image recording layer of the lithographic printing plate original plate can be preferably used.
As an example, a binder polymer (hereinafter, also referred to as a binder polymer for on-machine development) used in the machine-developed lithographic printing plate original plate will be described in detail.
As the binder polymer for on-machine development, a binder polymer having an alkylene oxide chain is preferable. The binder polymer having an alkylene oxide chain may have a poly (alkylene oxide) moiety in the main chain or the side chain. Further, it may be a graft polymer having poly (alkylene oxide) in the side chain, or a block copolymer of a block composed of poly (alkylene oxide) -containing repeating units and a block composed of (alkylene oxide) -free repeating units.
When the main chain has a poly (alkylene oxide) moiety, a polyurethane resin is preferable.
When the polymer of the main chain has a poly (alkylene oxide) moiety in the side chain, the polymer of the main chain is (meth) acrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, polyurea resin, polyimide resin, polyamide resin, epoxy resin, polystyrene resin, novolak type. Examples thereof include phenol resin, polyester resin, synthetic rubber and natural rubber, and (meth) acrylic resin is particularly preferable.

本開示における画像記録層は、ポリビニルアセタールを含むことが好ましい。
ポリビニルアセタールは、ポリビニルアルコールをアルデヒドでアセタール化した化合物である。
ポリビニルアセタールとしては、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール等が挙げられる。
例えば、ポリビニルブチラールは、以下の構成単位を含む。
The image recording layer in the present disclosure preferably contains polyvinyl acetal.
Polyvinyl acetal is a compound obtained by acetalizing polyvinyl alcohol with an aldehyde.
Examples of the polyvinyl acetal include polyvinyl butyral and polyvinyl formal.
For example, polyvinyl butyral contains the following building blocks:

Figure 2021189319
Figure 2021189319

上記ポリビニルアセタールとしては、更に、機上現像性等の観点から、水酸基を有する構成単位を含むことが好ましい。
水酸基を有する構成単位としては、以下に示す構成単位が挙げられる。つまり、上記ポリビニルアセタールは、ビニルアルコールに由来する構成単位を含むことが好ましい。

Figure 2021189319
The polyvinyl acetal preferably further contains a structural unit having a hydroxyl group from the viewpoint of on-machine developability and the like.
Examples of the structural unit having a hydroxyl group include the structural units shown below. That is, the polyvinyl acetal preferably contains a structural unit derived from vinyl alcohol.
Figure 2021189319

上記ポリビニルアセタールとしては、更に、その他の構成単位を含んでいてもよい。
その他の構成単位としては、例えば、以下に示す構成単位が挙げられる。
The polyvinyl acetal may further contain other structural units.
Examples of other structural units include the following structural units.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

上記ポリビニルアセタールは、機上現像性の観点から、水酸基を有する構成単位(好ましくは、上記ビニルアルコールに由来する構成単位)の含有量が、ポリビニルアセタール中の全構成単位に対して、15mol%以上であることが好ましく、20mol%以上であることがより好ましく、25mol%以上であることが更に好ましい。
ポリビニルアセタール中の全構成単位に対する水酸基を有する構成単位の含有量の上限としては、例えば、50mol%が挙げられる。
From the viewpoint of on-machine developability, the polyvinyl acetal has a content of a structural unit having a hydroxyl group (preferably a structural unit derived from the vinyl alcohol) of 15 mol% or more with respect to all the structural units in the polyvinyl acetal. It is preferably 20 mol% or more, more preferably 25 mol% or more, and further preferably 25 mol% or more.
The upper limit of the content of the structural unit having a hydroxyl group with respect to all the structural units in the polyvinyl acetal is, for example, 50 mol%.

上記ポリビニルアセタールの重量平均分子量としては、10,000〜150,000が好ましい。 The weight average molecular weight of the polyvinyl acetal is preferably 10,000 to 150,000.

上記ポリビニルアセタールとしては、合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。
ポリビニルアセタールの市販品としては、積水化学工業(株)のエスレックシリーズ(具体的には、BL−1、BL−10、BX−5(Z)等が挙げられる。
As the polyvinyl acetal, a synthetic product or a commercially available product may be used.
Examples of commercially available polyvinyl acetal products include Sekisui Chemical Co., Ltd.'s Eslek series (specifically, BL-1, BL-10, BX-5 (Z), and the like.

また、バインダーポリマーの他の好ましい例として、6官能以上10官能以下の多官能チオールを核として、この核に対しスルフィド結合により結合したポリマー鎖を有し、上記ポリマー鎖が重合性基を有する高分子化合物(以下、星型高分子化合物ともいう。)が挙げられる。
星型高分子化合物としては、例えば、特開2012−148555号公報に記載の化合物を好ましく用いることができる。
Further, as another preferable example of the binder polymer, a high molecular weight polymer chain having a polyfunctional thiol having 6 or more functionalities or 10 functionalities as a nucleus and being bonded to the nucleus by a sulfide bond, and the polymer chain having a polymerizable group. Examples thereof include molecular compounds (hereinafter, also referred to as star-shaped polymer compounds).
As the star-shaped polymer compound, for example, the compound described in JP-A-2012-148555 can be preferably used.

星型高分子化合物は、特開2008−195018号公報に記載のような画像部の皮膜強度を向上するためのエチレン性不飽和結合等の重合性基を、主鎖又は側鎖、好ましくは側鎖に有しているものが挙げられる。星型高分子化合物が有する重合性基によって星型高分子化合物の分子間に架橋が形成され、硬化が促進する。
重合性基としては、(メタ)アクリル基、ビニル基、アリル基、ビニルフェニル基(スチリル基)などのエチレン性不飽和基、エポキシ基等が好ましく、(メタ)アクリル基、ビニル基、ビニルフェニル基(スチリル基)が重合反応性の観点でより好ましく、(メタ)アクリル基が特に好ましい。これらの基は、高分子反応、又は、共重合によってポリマーに導入することができる。具体的には、例えば、カルボキシ基を側鎖に有するポリマーとグリシジルメタクリレートとの反応、あるいはエポキシ基を有するポリマーとメタクリル酸などのエチレン性不飽和基含有カルボン酸との反応を利用できる。
The star-shaped polymer compound contains a polymerizable group such as an ethylenically unsaturated bond for improving the film strength of the image portion as described in JP-A-2008-195018, with a main chain or a side chain, preferably a side chain. Examples include those held in the chain. The polymerizable group of the star-shaped polymer compound forms crosslinks between the molecules of the star-shaped polymer compound, and curing is promoted.
As the polymerizable group, an ethylenically unsaturated group such as a (meth) acrylic group, a vinyl group, an allyl group, a vinylphenyl group (styryl group), an epoxy group and the like are preferable, and a (meth) acrylic group, a vinyl group and a vinylphenyl are preferable. A group (styryl group) is more preferable from the viewpoint of polymerization reactivity, and a (meth) acrylic group is particularly preferable. These groups can be introduced into the polymer by polymer reaction or copolymerization. Specifically, for example, a reaction between a polymer having a carboxy group in the side chain and glycidyl methacrylate, or a reaction between a polymer having an epoxy group and an ethylenically unsaturated group-containing carboxylic acid such as methacrylic acid can be used.

バインダーポリマーの分子量は、GPC法によるポリスチレン換算値として重量平均分子量(Mw)が、2,000以上であることが好ましく、5,000以上であることがより好ましく、10,000〜300,000であることが更に好ましい。 The molecular weight of the binder polymer is preferably 2,000 or more, more preferably 5,000 or more, and 10,000 to 300,000 in terms of polystyrene conversion value by the GPC method. It is more preferable to have.

バインダーポリマーとしては、必要に応じて、特開2008−195018号公報に記載のポリアクリル酸、ポリビニルアルコールなどの親水性ポリマーを併用することができる。また、親油的なポリマーと親水的なポリマーとを併用することもできる。 As the binder polymer, a hydrophilic polymer such as polyacrylic acid or polyvinyl alcohol described in JP-A-2008-195018 can be used in combination, if necessary. Further, a lipophilic polymer and a hydrophilic polymer can be used in combination.

バインダーポリマーは、1種単独で用いてもよく、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。 The binder polymer may be used alone or in combination of two or more.

バインダーポリマーは、画像記録層中に任意な量で含有させることができるが、バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、1質量%〜90質量%であることが好ましく、5質量%〜80質量%であることがより好ましい。 The binder polymer can be contained in the image recording layer in an arbitrary amount, but the content of the binder polymer is preferably 1% by mass to 90% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. It is more preferably 5% by mass to 80% by mass.

[発色剤]
画像記録層は、発色剤を含んでいてもよい。
発色剤としては、酸発色剤であることが好ましい。また、発色剤としては、ロイコ化合物(ロイコ染料ともいう)を含むことが好ましい。
本開示で用いられる「発色剤」とは、光や酸等の刺激により発色又は消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味し、また、「酸発色剤」とは、電子受容型化合物(例えば酸等のプロトン)を受容した状態で加熱することにより、発色又は消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味する。
酸発色剤としては、特に、ラクトン、ラクタム、サルトン、スピロピラン、エステル、アミド等の部分骨格を有し、電子受容型化合物と接触した時に、速やかにこれらの部分骨格が開環若しくは開裂する無色の化合物が好ましい。
[Color former]
The image recording layer may contain a color former.
The color-developing agent is preferably an acid color-developing agent. Further, the color former preferably contains a leuco compound (also referred to as a leuco dye).
The "color former" used in the present disclosure means a compound having a property of developing or decoloring a color or decoloring by a stimulus such as light or acid and changing the color of the image recording layer, and the "acid color former" is used. It means a compound having a property of developing or decoloring and changing the color of an image recording layer by heating in a state of receiving an electron-accepting compound (for example, a proton such as an acid).
The acid color former has a partial skeleton such as lactone, lactam, salton, spiropyrane, ester, and amide, and is colorless and the partial skeleton is rapidly ring-opened or cleaved when it comes into contact with an electron-accepting compound. Compounds are preferred.

酸発色剤の例としては、特開2019−18412号公報の段落0184〜0191に記載された化合物が挙げられる。 Examples of the acid color former include the compounds described in paragraphs 0184 to 0191 of JP-A-2019-18412.

中でも、発色剤としては、発色性の観点から、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、スピロラクトン化合物、及びスピロラクタム化合物からなる群より選ばれた少なくとも1種の化合物であることが好ましい。
発色後の発色剤の色相としては、可視性の観点から、450nm〜650nmの範囲に極大吸収を有することが好ましい。発色後の発色剤の色味としては、赤、紫、青、又は黒緑であることが好ましい。
Among them, the color former is preferably at least one compound selected from the group consisting of a spiropyran compound, a spiroxazine compound, a spirolactone compound, and a spirolactam compound from the viewpoint of color development.
As the hue of the color former after color development, it is preferable to have maximum absorption in the range of 450 nm to 650 nm from the viewpoint of visibility. The color of the color-developing agent after color development is preferably red, purple, blue, or black-green.

また、発色剤(好ましくは酸発色剤)は、露光部の視認性を高める観点から、ロイコ色素を用いることが好ましい。
ここで、ロイコ色素としては、ロイコ構造を有する色素であれば、特に制限はないが、スピロ構造を有することが好ましく、スピロラクトン環構造を有することがより好ましい。
また、ロイコ色素としては、露光部の視認性を高める観点から、フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素であることが好ましい。
Further, as the coloring agent (preferably an acid coloring agent), it is preferable to use a leuco dye from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed portion.
Here, the leuco dye is not particularly limited as long as it is a dye having a leuco structure, but it is preferably having a spiro structure, and more preferably a spirolactone ring structure.
Further, the leuco dye is preferably a leuco dye having a phthalide structure or a fluorane structure from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed portion.

更に、発色剤(好ましくは酸発色剤)としては、露光部の視認性を高める観点から、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素である、下記式(Le−1)〜式(Le−3)のいずれかで表される化合物であることが好ましく、下記式(Le−2)で表される化合物であることがより好ましい。 Further, the color-developing agent (preferably an acid color-developing agent) is a leuco dye having the above-mentioned phthalide structure or fluorane structure from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed portion, and is the following formulas (Le-1) to (Le-3). ) Is preferable, and a compound represented by the following formula (Le-2) is more preferable.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式(Le−1)〜式(Le−3)中、ERGは、それぞれ独立に、電子供与性基を表し、X〜Xは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はジアルキルアニリノ基を表し、X〜X10は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は一価の有機基を表し、Y及びYは、それぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Raは、水素原子、アルキル基、又はアルコキシ基を表し、Rb〜Rbは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。 Wherein (Le-1) ~ formula (Le-3), ERG each independently represents an electron donating group, X 1 to X 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a dialkyl anilino X 5 to X 10 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group, Y 1 and Y 2 each independently represent C or N, and Y 1 represents a group. When N, X 1 does not exist, when Y 2 is N, X 4 does not exist, Ra 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group, and Rb 1 to Rb 4 Independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group.

式(Le−1)〜式(Le−3)のERGにおける電子供与性基としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、又はアルキル基であることが好ましく、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルコキシ基、又はアリーロキシ基であることがより好ましく、アリールアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、又はジアリールアミノ基であることが更に好ましく、アリールアミノ基、又はモノアルキルモノアリールアミノ基であることが特に好ましい。
式(Le−1)〜式(Le−3)におけるX〜Xは、それぞれ独立に、露光部の視認性を高める観点から、水素原子、又は、塩素原子であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
式(Le−2)又は式(Le−3)におけるX〜X10は、それぞれ独立に、露光部の視認性を高める観点から、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、又はシアノ基であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、又はアリーロキシ基であることがより好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はアリール基であることが更に好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
式(Le−1)〜式(Le−3)におけるY及びYは、露光部の視認性を高める観点から、少なくとも1方がCであることが好ましく、Y及びYの両方がCであることがより好ましい。
式(Le−3)におけるRaは、露光部の視認性を高める観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
式(Le−1)におけるRb〜Rbは、それぞれ独立に、露光部の視認性を高める観点から、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
The electron donating groups in the ERGs of the formulas (Le-1) to (Le-3) include amino groups, alkylamino groups, arylamino groups, and dialkylaminos from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. A group, a monoalkyl monoarylamino group, a diarylamino group, an alkoxy group, an aryloxy group, or an alkyl group is preferable, and an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a dialkylamino group, a monoalkyl monoarylamino group, It is more preferably a diarylamino group, an alkoxy group, or an aryloxy group, further preferably an arylamino group, a monoalkyl monoarylamino group, or a diarylamino group, and an arylamino group or a monoalkyl monoarylamino group. Is particularly preferable.
X 1 to X 4 in the formula (Le-1) ~ formula (Le-3) are each independently, from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposure unit, a hydrogen atom, or, preferably a chlorine atom, a hydrogen atom Is more preferable.
X 5 to X 10 in the formula (Le-2) or the formula (Le-3) are independently hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, aryl group, amino group, from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed part. Being an alkylamino group, an arylamino group, a dialkylamino group, a monoalkyl monoarylamino group, a diarylamino group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, or a cyano group. Is preferable, a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an aryloxy group is more preferable, and a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, or an aryl group is more preferable, and a hydrogen atom is used. It is particularly preferable to have.
It is preferable that at least one of Y 1 and Y 2 in the formulas (Le-1) to (Le-3) is C from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed portion, and both Y 1 and Y 2 are used. It is more preferably C.
Ra 1 in the formula (Le-3) is preferably an alkyl group or an alkoxy group, more preferably an alkoxy group, and particularly preferably a methoxy group, from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed portion.
Each of Rb 1 to Rb 4 in the formula (Le-1) is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably an alkyl group, and a methyl group, independently from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed portion. Is particularly preferable.

また、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、露光部の視認性を高める観点から、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、下記式(Le−4)〜式(Le−6)のいずれかで表される化合物であることがより好ましく、下記式(Le−5)で表される化合物であることが更に好ましい。 Further, from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed portion, the leuco dye having the phthalide structure or the fluorane structure is described in the following formulas (Le-4) to (Le-6). The compound represented by any of the above is more preferable, and the compound represented by the following formula (Le-5) is further preferable.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式(Le−4)〜式(Le−6)中、ERGは、それぞれ独立に、電子供与性基を表し、X〜Xは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はジアルキルアニリノ基を表し、Y及びYは、それぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Raは、水素原子、アルキル基、又はアルコキシ基を表し、Rb〜Rbは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。 In formulas (Le-4) to (Le-6), ERG independently represent an electron donating group, and X 1 to X 4 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a dialkylanilino. Represents a group, Y 1 and Y 2 independently represent C or N, where X 1 does not exist when Y 1 is N and X 4 exists when Y 2 is N. Instead, Ra 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group, and Rb 1 to Rb 4 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, respectively.

式(Le−4)〜式(Le−6)におけるERG、X〜X、Y、Y、Ra、及び、Rb〜Rbはそれぞれ、式(Le−1)〜式(Le−3)におけるERG、X〜X、Y、Y、Ra、及び、Rb〜Rbと同義であり、好ましい態様も同様である。 ERG, X 1 to X 4 , Y 1 , Y 2 , Ra 1 and Rb 1 to Rb 4 in the formulas (Le-4) to (Le-6) are the formulas (Le-1) to the formulas (Le-1) to Rb 4, respectively. le-3) ERG in, X 1 ~X 4, Y 1 , Y 2, Ra 1 and have the same meanings as Rb 1 ~Rb 4, preferable embodiments thereof are also the same.

更に、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、露光部の視認性を高める観点から、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、下記式(Le−7)〜式(Le−9)のいずれかで表される化合物であることが更に好ましく、下記式(Le−8)で表される化合物であることが特に好ましい。 Further, from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed portion, the leuco dye having the phthalide structure or the fluorane structure is described in the following formulas (Le-7) to (Le-9). The compound represented by any of the above is more preferable, and the compound represented by the following formula (Le-8) is particularly preferable.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式(Le−7)〜式(Le−9)中、X〜Xは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Y及びYは、それぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Ra〜Raは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアルコキシ基を表し、Rb〜Rbは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Rc及びRcは、それぞれ独立に、アリール基を表す。 Wherein (Le-7) ~ formula (Le-9), X 1 ~X 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a dialkyl anilino group, Y 1 and Y 2 are each independently Representing C or N, if Y 1 is N, then X 1 does not exist, if Y 2 is N, then X 4 does not exist, and Ra 1 to Ra 4 are independent of hydrogen. Representing an atom, an alkyl group, or an alkoxy group, Rb 1 to Rb 4 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and Rc 1 and Rc 2 each independently represent an aryl group.

式(Le−7)〜式(Le−9)におけるX〜X、Y及びYは、式(Le−1)〜式(Le−3)におけるX〜X、Y及びYと同義であり、好ましい態様も同様である。
式(Le−7)又は式(Le−9)におけるRa〜Raは、それぞれ独立に、露光部の視認性を高める観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
式(Le−7)〜式(Le−9)におけるRb〜Rbは、それぞれ独立に、露光部の視認性を高める観点から、水素原子、アルキル基、又は、アルキル基若しくはアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましく、水素原子又はアルキル基であることがより好ましく、水素原子又はメチル基であることが特に好ましい。
式(Le−8)におけるRc及びRcは、それぞれ独立に、露光部の視認性を高める観点から、フェニル基、又は、アルキルフェニル基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。
また、式(Le−8)において、露光部の視認性を高める観点から、X〜Xが水素原子であり、Y及びYがCであることが好ましい。
更に、式(Le−8)において、露光部の視認性を高める観点から、Rb及びRbが、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又は、アルキル基若しくはアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましく、水素原子又はアルキル基であることがより好ましい。
X 1 ~X 4, Y 1 and Y 2 in Formula (Le-7) to Formula (Le-9) has the formula (Le-1) X 1 ~X 4 in ~ formula (Le-3), Y 1 and It has the same meaning as Y 2 , and the preferred embodiment is also the same.
Ra 1 to Ra 4 in the formula (Le-7) or the formula (Le-9) are each independently preferably an alkyl group or an alkoxy group from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed portion, and are alkoxy groups. It is more preferable, and it is particularly preferable that it is a methoxy group.
Rb 1 to Rb 4 in the formulas (Le-7) to (Le-9) are independently substituted with a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkyl group or an alkoxy group from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed portion. It is preferably an aryl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.
Rc 1 and Rc 2 in the formula (Le-8) are preferably phenyl groups or alkylphenyl groups, and more preferably phenyl groups, independently from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed portion. ..
Further, in the formula (Le-8), from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed portion, it is preferable that X 1 to X 4 are hydrogen atoms and Y 1 and Y 2 are C.
Further, in the formula (Le-8), from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed portion, Rb 1 and Rb 2 are independently substituted with a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkyl group or an alkoxy group. It is preferably present, and more preferably a hydrogen atom or an alkyl group.

式(Le−1)〜式(Le−9)におけるアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
また、式(Le−1)〜式(Le−9)におけるアルキル基の炭素数は、1〜20であることが好ましく、1〜8であることがより好ましく、1〜4であることが更に好ましく、1又は2であることが特に好ましい。
式(Le−1)〜式(Le−9)におけるアリール基の炭素数は、6〜20であることが好ましく、6〜10であることがより好ましく、6〜8であることが特に好ましい。
The alkyl group in the formulas (Le-1) to (Le-9) may be linear, may have a branch, or may have a ring structure.
Further, the number of carbon atoms of the alkyl group in the formulas (Le-1) to (Le-9) is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 8, and further preferably 1 to 4. It is preferably 1 or 2, and particularly preferably 1.
The number of carbon atoms of the aryl group in the formulas (Le-1) to (Le-9) is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 10, and particularly preferably 6 to 8.

また、式(Le−1)〜式(Le−9)における一価の有機基、アルキル基、アリール基、ジアルキルアニリノ基、アルキルアミノ基、アルコキシ基等の各基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、シアノ基等が挙げられる。また、これら置換基は、更にこれら置換基により置換されていてもよい。 Further, each group such as a monovalent organic group, an alkyl group, an aryl group, a dialkylanilino group, an alkylamino group and an alkoxy group in the formulas (Le-1) to (Le-9) has a substituent. May be. The substituents include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a dialkylamino group, a monoalkyl monoarylamino group, a diallylamino group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group and an acyl group. Examples thereof include a group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a cyano group and the like. Further, these substituents may be further substituted with these substituents.

好適に用いられる上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素の具体例としては、以下の化合物(S−1〜S−15)が挙げられる。 Specific examples of the leuco dye having a phthalide structure or a fluorine structure that are preferably used include the following compounds (S-1 to S-15).

Figure 2021189319
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Figure 2021189319
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Figure 2021189319
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Figure 2021189319
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酸発色剤としては上市されている製品を使用することも可能であり、ETAC、RED500、RED520、CVL、S−205、BLACK305、BLACK400、BLACK100、BLACK500、H−7001、GREEN300、NIRBLACK78、BLUE220、H−3035、BLUE203、ATP、H−1046、H−2114(以上、福井山田化学工業(株)製)、ORANGE−DCF、Vermilion−DCF、PINK−DCF、RED−DCF、BLMB、CVL、GREEN−DCF、TH−107(以上、保土ヶ谷化学(株)製)、ODB、ODB−2、ODB−4、ODB−250、ODB−BlackXV、Blue−63、Blue−502、GN−169、GN−2、Green−118、Red−40、Red−8(以上、山本化成(株)製)、クリスタルバイオレットラクトン(東京化成工業(株)製)等が挙げられる。
これらの市販品の中でも、ETAC、S−205、BLACK305、BLACK400、BLACK100、BLACK500、H−7001、GREEN300、NIRBLACK78、H−3035、ATP、H−1046、H−2114、GREEN−DCF、Blue−63、GN−169、クリスタルバイオレットラクトンが、形成される膜の可視光吸収率が良好のため好ましい。
As the acid color former, it is also possible to use products on the market, such as ETAC, RED500, RED520, CVL, S-205, BLACK305, BLACK400, BLACK100, BLACK500, H-7001, GREEN300, NIRBLACK78, BLUE220, H. -3035, BLUE203, ATP, H-1046, H-2114 (all manufactured by Fukui Yamada Chemical Industry Co., Ltd.), ORANGE-DCF, Vermilion-DCF, PINK-DCF, RED-DCF, BLMB, CVL, GREEN-DCF , TH-107 (all manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), ODB, ODB-2, ODB-4, ODB-250, ODB-BlackXV, Blue-63, Blue-502, GN-169, GN-2, Green -118, Red-40, Red-8 (all manufactured by Yamamoto Kasei Co., Ltd.), crystal violet lactone (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and the like can be mentioned.
Among these commercially available products, ETAC, S-205, BLACK305, BLACK400, BLACK100, BLACK500, H-7001, GREEN300, NIRBLACK78, H-3035, ATP, H-1046, H-2114, GREEN-DCF, Blue-63. , GN-169, and crystal violet lactone are preferable because the film to be formed has a good visible light absorption rate.

ロイコ色素としては、露光部の視認性を高める観点から、以下の化合物も好適に用いられるものとして挙げられる。 As the leuco dye, the following compounds are also preferably used from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed portion.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

発色剤は、1種単独で用いてもよく、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。 The color former may be used alone or in combination of two or more.

発色剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.5質量%〜10質量%であることが好ましく、1質量%〜5質量%であることがより好ましい。 The content of the color former is preferably 0.5% by mass to 10% by mass, more preferably 1% by mass to 5% by mass, based on the total mass of the image recording layer.

画像記録層は、上述した以外の成分を含んでいてもよい。
上述した以外の成分としては、特開2009−255434号公報の段落0181〜0190に記載の、着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、及び低分子親水性化合物等が挙げられる。
また、上述した以外の成分としては、特開2012−187907号公報の段落0191〜0217に記載の、疎水化前駆体(熱が加えられたときに画像記録層を疎水性に変換できる微粒子)、低分子親水性化合物、感脂化剤(例えば、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマー)、及び連鎖移動剤等も挙げられる。
The image recording layer may contain components other than those described above.
Ingredients other than those described above include colorants, baking agents, polymerization inhibitors, higher fatty acid derivatives, plasticizers, inorganic fine particles, and low molecular weight hydrophilicity described in paragraphs 0181 to 0190 of JP2009-255434A. Examples include compounds.
In addition, as components other than those described above, the hydrophobizing precursor (fine particles capable of converting the image recording layer into hydrophobicity when heat is applied) described in paragraphs 0191 to 0217 of JP2012-187907A. Examples thereof include low molecular weight hydrophilic compounds, fat sensitizers (for example, phosphonium compounds, nitrogen-containing low molecular weight compounds, ammonium group-containing polymers), chain transfer agents and the like.

〔画像記録層の形成〕
本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、例えば、特開2008−195018号公報の段落0142〜段落0143に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布液を支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することにより形成することができる。
[Formation of image recording layer]
In the image recording layer in the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure, for example, as described in paragraphs 0142 to 0143 of JP-A-2008-195018, the necessary components are dispersed or dissolved in a known solvent. It can be formed by preparing a coating liquid, applying the coating liquid on a support by a known method such as bar coater coating, and drying the coating liquid.

塗布液に用いる溶剤としては、公知の溶剤を用いることができる。具体的には、例えば、水、アセトン、メチルエチルケトン(2−ブタノン)、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメーチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、1−メトキシ−2−プロパノール、3−メトキシ−1−プロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。
溶剤は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
塗布液中の固形分濃度は1質量%〜50質量%であることが好ましい。
As the solvent used for the coating liquid, a known solvent can be used. Specifically, for example, water, acetone, methyl ethyl ketone (2-butanone), cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, Propropylene glycol monoethyl ether, acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 1-methoxy-2-propanol, 3- Methoxy-1-propanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethyl Examples thereof include formamide, dimethylsulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, ethyl lactate and the like.
The solvent may be used alone or in combination of two or more.
The solid content concentration in the coating liquid is preferably 1% by mass to 50% by mass.

塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性を得る観点から、0.3g/m〜3.0g/mが好ましい。
また、本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層の膜厚は、0.1μm〜3.0μmであることが好ましく、0.3μm〜2.0μmであることがより好ましい。
The coating amount (solid content) of the image recording layer after coating and drying varies depending on the application, but from the viewpoint of obtaining good sensitivity and good film characteristics of the image recording layer, 0.3 g / m 2 to 3.0 g /. m 2 is preferable.
Further, the film thickness of the image recording layer in the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure is preferably 0.1 μm to 3.0 μm, and more preferably 0.3 μm to 2.0 μm.

<最外層>
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層上に最外層(保護層、オーバーコート層とも呼ばれることもある)を有していてもよい。
また、最外層は、酸素遮断により画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層表面の傷の発生防止、高照度レーザー露光時のアブレーション防止等の機能を有していてもよい。
<Outermost layer>
The lithographic printing plate original plate according to the present disclosure may have an outermost layer (also referred to as a protective layer or an overcoat layer) on the image recording layer.
Further, the outermost layer may have a function of suppressing an image formation inhibition reaction by blocking oxygen, a function of preventing scratches on the surface of the image recording layer, a function of preventing ablation during high-illuminance laser exposure, and the like.

このような特性の最外層については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書及び特公昭55−49729号公報に記載されている。最外層に用いられる酸素低透過性のポリマーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて2種類以上を混合して使用することもできる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。
変性ポリビニルアルコールとしてはカルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005−250216号公報及び特開2006−259137号公報に記載の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
The outermost layer of such characteristics is described, for example, in US Pat. Nos. 3,458,311 and JP-A-55-49729. As the oxygen low-permeability polymer used for the outermost layer, either a water-soluble polymer or a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used, and if necessary, two or more kinds may be mixed and used. can. Specific examples thereof include polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, water-soluble cellulose derivatives, poly (meth) acrylonitrile, and the like.
As the modified polyvinyl alcohol, an acid-modified polyvinyl alcohol having a carboxy group or a sulfo group is preferably used. Specific examples thereof include the modified polyvinyl alcohols described in JP-A-2005-250216 and JP-A-2006-259137.

〔無機層状化合物〕
最外層は、酸素遮断性を高めるために無機層状化合物を含有することが好ましい。無機層状化合物は、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、天然雲母、合成雲母等の雲母群、式:3MgO・4SiO・HOで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウム等が挙げられる。
好ましく用いられる無機層状化合物は雲母化合物である。雲母化合物としては、例えば、式:A(B,C)2−510(OH,F,O)〔ただし、Aは、K、Na、Caのいずれか、B及びCは、Fe(II)、Fe(III)、Mn、Al、Mg、Vのいずれかであり、Dは、Si又はAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群が挙げられる。
[Inorganic layered compound]
The outermost layer preferably contains an inorganic layered compound in order to enhance oxygen blocking property. Inorganic laminar compound is a particle having a thin tabular shape, for example, natural mica, micas such as synthetic mica, wherein: talc represented by 3MgO · 4SiO · H 2 O, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite Examples include light, zirconium phosphate and the like.
The inorganic layered compound preferably used is a mica compound. Examples of the mica compound include the formula: A (B, C) 2-5 D 4 O 10 (OH, F, O) 2 [However, A is any of K, Na and Ca, and B and C are It is any of Fe (II), Fe (III), Mn, Al, Mg, and V, and D is Si or Al. ], Mica groups such as natural mica and synthetic mica can be mentioned.

雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げられる。合成雲母としてはフッ素金雲母KMg(AlSi10)F、カリ四ケイ素雲母KMg2.5Si10)F等の非膨潤性雲母、及び、NaテトラシリリックマイカNaMg2.5(Si10)F、Na又はLiテニオライト(Na,Li)MgLi(Si10)F、モンモリロナイト系のNa又はLiヘクトライト(Na,Li)1/8Mg2/5Li1/8(Si10)F等の膨潤性雲母等が挙げられる。更に合成スメクタイトも有用である。 In the mica group, natural mica includes muscovite, paragonite, phlogopite, biotite and lepidolite. As synthetic mica, non-swelling mica such as fluorine gold mica KMg 3 (AlSi 3 O 10 ) F 2 , potash tetrasilicon mica KM g 2.5 Si 4 O 10 ) F 2 , and Na tetrasilic mica NaMg 2. 5 (Si 4 O 10 ) F 2 , Na or Li teniolite (Na, Li) Mg 2 Li (Si 4 O 10 ) F 2 , montmorillonite-based Na or Li hectrite (Na, Li) 1/8 Mg 2 / Examples thereof include swelling mica such as 5 Li 1/8 (Si 4 O 10 ) F 2. In addition, synthetic smectites are also useful.

上記の雲母化合物の中でも、フッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、膨潤性合成雲母は、10Å〜15Å(1Å=0.1nm)程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘土鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にLi、Na、Ca2+、Mg2+等の陽イオンを吸着している。これらの層間に介在している陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換し得る。特に、層間の陽イオンがLi、Naの場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、特に好ましく用いられる。 Among the above mica compounds, fluorine-based swelling mica is particularly useful. That is, the swellable synthetic mica has a laminated structure composed of a unit crystal lattice layer having a thickness of about 10 Å to 15 Å (1 Å = 0.1 nm), and the metal atom substitution in the lattice is significantly larger than that of other clay minerals. As a result, the lattice layer causes a positive charge shortage, and in order to compensate for it, cations such as Li + , Na + , Ca 2+ , and Mg 2+ are adsorbed between the layers. The cations intervening between these layers are called commutative cations and can be exchanged with various cations. In particular, when the cations between layers are Li + and Na + , the bond between the layered crystal lattices is weak because the ionic radius is small, and the cations are greatly swollen by water. When share is applied in that state, it easily cleaves and forms a stable sol in water. Swellable synthetic mica has a strong tendency to this and is particularly preferably used.

雲母化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きい程よい。従って、アスペクト比は、好ましくは20以上であり、より好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。アスペクト比は粒子の厚さに対する長径の比であり、例えば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。 As for the shape of the mica compound, from the viewpoint of diffusion control, the thinner the thickness, the better, and the plane size is better as long as it does not impair the smoothness of the coated surface and the permeability of the active light beam. Therefore, the aspect ratio is preferably 20 or more, more preferably 100 or more, and particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the major axis to the thickness of the particle, which can be measured, for example, from a micrograph projection of the particle. The larger the aspect ratio, the greater the effect obtained.

雲母化合物の粒子径は、その平均長径が、好ましくは0.3μm〜20μm、より好ましくは0.5μm〜10μm、特に好ましくは1μm〜5μmである。粒子の平均の厚さは、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.05μm以下、特に好ましくは0.01μm以下である。具体的には、例えば、代表的化合物である膨潤性合成雲母の場合、好ましい態様としては、厚さが1nm〜50nm程度、面サイズ(長径)が1μm〜20μm程度である。 The average major axis of the mica compound is preferably 0.3 μm to 20 μm, more preferably 0.5 μm to 10 μm, and particularly preferably 1 μm to 5 μm. The average thickness of the particles is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.05 μm or less, and particularly preferably 0.01 μm or less. Specifically, for example, in the case of a swellable synthetic mica which is a typical compound, the preferred embodiment is such that the thickness is about 1 nm to 50 nm and the surface size (major axis) is about 1 μm to 20 μm.

無機層状化合物の含有量は、最外層の全固形分に対して、1質量%〜60質量%が好ましく、3質量%〜50質量%がより好ましい。複数種の無機層状化合物を併用する場合でも、無機層状化合物の合計量が上記の含有量であることが好ましい。上記範囲で酸素遮断性が向上し、良好な感度が得られる。また、着肉性の低下を防止できる。 The content of the inorganic layered compound is preferably 1% by mass to 60% by mass, more preferably 3% by mass to 50% by mass, based on the total solid content of the outermost layer. Even when a plurality of types of inorganic layered compounds are used in combination, it is preferable that the total amount of the inorganic layered compounds is the above-mentioned content. Oxygen blocking property is improved in the above range, and good sensitivity can be obtained. In addition, it is possible to prevent a decrease in meat-forming property.

〔変色性化合物〕
最外層は、露光部の視認性を高める観点から、変色性化合物を含んでいてもよい。
[Discoloring compound]
The outermost layer may contain a discolorating compound from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed portion.

本開示に係る平版印刷版原版は、露光部の視認性を高める観点から、エネルギー密度110mJ/cmにて波長830nmの赤外線による露光を行った場合の、露光前後の明度変化ΔLが、2.0以上であることが好ましい。
上記明度変化ΔLは、3.0以上であることがより好ましく、5.0以上であることが更に好ましく、8.0以上であることが特に好ましく、10.0以上であることが最も好ましい。
明度変化ΔLの上限としては、例えば、20.0が挙げられる。
また、特に、変色性化合物を含む最外層を有する場合、上記明度変化ΔLの上記好ましい数値範囲を満たすことが好ましい。
From the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed portion, the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure has a brightness change ΔL before and after exposure when exposed to infrared rays having an energy density of 110 mJ / cm 2 and a wavelength of 830 nm. It is preferably 0 or more.
The brightness change ΔL is more preferably 3.0 or more, further preferably 5.0 or more, particularly preferably 8.0 or more, and most preferably 10.0 or more.
As the upper limit of the brightness change ΔL, for example, 20.0 can be mentioned.
Further, in particular, when the outermost layer containing the discolorating compound is provided, it is preferable to satisfy the above-mentioned preferable numerical range of the above-mentioned brightness change ΔL.

明度変化ΔLの測定は、以下の方法により行う。
平版印刷版原版を、波長830nmの赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム グラフィックシステムズ(株)製Luxel PLATESETTER T−9800により、出力99.5%、外面ドラム回転数220rpm、解像度2,400dpi(dots per inch、1inch=25.4mm)の条件(エネルギー密度110mJ/cm)で露光する。露光は25℃、50%RHの環境下で行う。
露光前後の平版印刷版原版の明度変化を測定する。
測定には、X−Rite社製分光測色計eXactを用いる。L表色系のL値(明度)を用い、露光後の画像記録層のL値と露光前の画像記録層のL値との差の絶対値を明度変化ΔLとする。
The brightness change ΔL is measured by the following method.
The original plate for lithographic printing is printed by FUJIFILM Graphic Systems Co., Ltd.'s Luxel PLATESETTER T-9800 equipped with an infrared semiconductor laser with a wavelength of 830 nm. Output 99.5%, outer drum rotation speed 220 rpm, resolution 2,400 dpi (dots per inch, Exposure is performed under the condition of 1 inch = 25.4 mm) (energy density 110 mJ / cm 2 ). The exposure is performed in an environment of 25 ° C. and 50% RH.
Measure the change in brightness of the lithographic printing plate original before and after exposure.
A spectrophotometer eXact manufactured by X-Rite is used for the measurement. Using the L * a * b * color system L * value (brightness), the absolute value of the difference between the L * value of the image recording layer after exposure and the L * value of the image recording layer before exposure is changed by the brightness change ΔL. And.

本開示において「変色性化合物」とは、赤外線露光に起因して、可視光領域(波長:400nm以上750nm未満)の吸収が変化する化合物をいう。つまり、本開示において「変色」とは、赤外線露光に起因して、可視光領域(波長:400nm以上750nm未満)の吸収が変化することをいう。
具体的には、本開示における変色性化合物は、(1)赤外線露光に起因して赤外線露光前より可視光領域の吸収が増加する化合物、(2)赤外線露光に起因して可視光領域の吸収を有するようになる化合物、(3)赤外線露光に起因して可視光領域に吸収を有しないようになる化合物が挙げられる。
なお、本開示における赤外線は、750nm〜1mmの波長の光線であり、750nm〜1,400nmの波長の光線であることが好ましい。
In the present disclosure, the "discolorable compound" refers to a compound whose absorption in the visible light region (wavelength: 400 nm or more and less than 750 nm) changes due to infrared exposure. That is, in the present disclosure, "discoloration" means that the absorption in the visible light region (wavelength: 400 nm or more and less than 750 nm) changes due to infrared exposure.
Specifically, the discolorable compounds in the present disclosure are (1) a compound in which absorption in the visible light region is increased due to infrared exposure compared to before infrared exposure, and (2) absorption in the visible light region due to infrared exposure. (3) Compounds that do not have absorption in the visible light region due to infrared exposure can be mentioned.
The infrared rays in the present disclosure are light rays having a wavelength of 750 nm to 1 mm, and preferably light rays having a wavelength of 750 nm to 1,400 nm.

変色性化合物としては、赤外線露光に起因して発色する化合物を含むことが好ましい。
また、変色性化合物としては、赤外線露光に起因して分解する分解性化合物を含むことが好ましく、中でも、赤外線露光に起因する、熱、電子移動、又はその両方により分解する分解性化合物を含むことが好ましい。
より具体的に言えば、本開示における変色性化合物は、赤外線露光に起因して分解し(より好ましくは、赤外線露光に起因する、熱、電子移動、又はその両方により分解し)、赤外線露光前に比べて、可視光領域における吸収が増加するか、又は、吸収が短波長化し可視光領域に吸収を有するようになる化合物であることが好ましい。
ここで、「電子移動により分解する」とは、赤外線露光によって変色性化合物のHOMO(最高被占軌道)からLUMO(最低空軌道)に励起した電子が、分子内の電子受容基(LUMOと電位が近い基)に分子内電子移動し、それに伴って分解が生じることを意味する。
The discolorating compound preferably contains a compound that develops color due to infrared exposure.
Further, the discolorating compound preferably contains a decomposable compound that decomposes due to infrared exposure, and particularly includes a decomposable compound that decomposes due to heat, electron transfer, or both due to infrared exposure. Is preferable.
More specifically, the discolorable compounds in the present disclosure are degraded by infrared exposure (more preferably by heat, electron transfer, or both due to infrared exposure) and before infrared exposure. It is preferable that the compound has an increase in absorption in the visible light region, or the absorption has a shorter wavelength and has absorption in the visible light region.
Here, "decomposition by electron transfer" means that an electron excited from HOMO (highest occupied orbital) to LUMO (lowest empty orbital) of a discolorable compound by infrared exposure is an electron accepting group (LUMO and potential) in the molecule. It means that the electron transfers in the molecule to a group close to), and the decomposition occurs accordingly.

以下、変色性化合物の一例である分解性化合物について説明する。
分解性化合物は、赤外線波長域(750nm〜1mmの波長域、好ましくは750nm〜1,400nmの波長域)の少なくとも1部の光を吸収し、分解するものであればよいが、750nm〜1,400nmの波長域に極大吸収を有する化合物であることが好ましい。
より具体的には、分解性化合物は、赤外線露光に起因して分解し、500nm〜600nmの波長域に極大吸収波長を有する化合物を生成する化合物であることが好ましい。
Hereinafter, the degradable compound, which is an example of the discolorable compound, will be described.
The degradable compound may be a compound that absorbs and decomposes at least one part of light in the infrared wavelength range (wavelength range of 750 nm to 1 mm, preferably wavelength range of 750 nm to 1,400 nm), and may be 750 nm to 1, It is preferably a compound having maximum absorption in the wavelength range of 400 nm.
More specifically, the degradable compound is preferably a compound that decomposes due to infrared exposure to produce a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 500 nm to 600 nm.

分解性化合物は、露光部の視認性を高める観点から、赤外線露光により分解する基(具体的には、下記式1−1〜1−7におけるR)を有する、シアニン色素であることが好ましい。
分解性化合物としては、露光部の視認性を高める観点から、下記式1−1で表される化合物であることがより好ましい。
The degradable compound is preferably a cyanine dye having a group (specifically, R 1 in the following formulas 1-1 to 1-7) that decomposes by infrared exposure from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed portion. ..
The degradable compound is more preferably a compound represented by the following formula 1-1 from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed portion.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式1−1中、Rは下記式2〜式4のいずれかで表される基を表し、R11〜R18はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、−R、−OR、−SR、又は、−NRを表し、R〜Rは、それぞれ独立に、炭化水素基を表し、A、A及び複数のR11〜R18が連結して単環又は多環を形成してもよく、A及びAは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は、窒素原子を表し、n11及びn12は、それぞれ独立に、0〜5の整数を表し、但し、n11及びn12の合計は2以上であり、n13及びn14はそれぞれ独立に、0又は1を表し、Lは、酸素原子、硫黄原子、又は、−NR10−を表し、R10は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表す。 In formula 1-1, R 1 represents a group represented by any of the following formulas 2 to 4, and R 11 to R 18 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, -R a , -OR b , and so on. -SR c, or represents -NR d R e, R a ~R e each independently represent a hydrocarbon group, a 1, a 2 and a plurality of R 11 to R 18 are linked to monocyclic Alternatively, a polycycle may be formed, where A 1 and A 2 independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom, and n 11 and n 12 are independently integers of 0 to 5, respectively. However, the sum of n 11 and n 12 is 2 or more, n 13 and n 14 independently represent 0 or 1, and L represents an oxygen atom, a sulfur atom, or −NR 10 −. Representing R 10 , represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and Za represents a counterion that neutralizes the charge.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式2〜式4中、R20、R30、R41及びR42はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Zbは電荷を中和する対イオンを表し、波線は、上記式1−1中のLで表される基との結合部位を表す。 In Formulas 2 to 4, R 20 , R 30 , R 41 and R 42 independently represent an alkyl group or an aryl group, Zb represents a counterion that neutralizes the charge, and the wavy line represents the above formula 1-. Represents a binding site with a group represented by L in 1.

式1−1で表される化合物は、赤外線で露光されると、R−L結合が開裂し、Lは、=O、=S、又は=NR10となって、変色する。 Compounds of the formula 1-1, when exposed with infrared, R 1 -L bond is cleaved, L is, = O, = S, or = become NR 10, changes color.

式1−1において、Rは上記式2〜式4のいずれかで表される基を表す。
以下、式2で表される基、式3で表される基、及び式4で表される基についてそれぞれ説明する。
In formula 1-1, R 1 represents a group represented by any of the above formulas 2 to 4.
Hereinafter, the group represented by the formula 2, the group represented by the formula 3, and the group represented by the formula 4 will be described.

式2中、R20は、アルキル基又はアリール基を表し、波線部分は、式1−1中のLで表される基との結合部位を表す。
20で表されるアルキル基としては、炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、炭素数1〜15のアルキル基がより好ましく、炭素数1〜10のアルキル基が更に好ましい。
上記アルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
20で表されるアリール基としては、炭素数6〜30のアリール基が好ましく、炭素数6〜20のアリール基がより好ましく、炭素数6〜12のアリール基が更に好ましい。
20としては、発色性の観点から、アルキル基であることが好ましい。
In formula 2, R 20 represents an alkyl group or an aryl group, and the wavy line portion represents a binding site with a group represented by L in formula 1-1.
As the alkyl group represented by R 20 , an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms is more preferable, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is further preferable.
The alkyl group may be linear, have a branch, or have a ring structure.
As the aryl group represented by R 20 , an aryl group having 6 to 30 carbon atoms is preferable, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms is more preferable, and an aryl group having 6 to 12 carbon atoms is further preferable.
The R 20 is preferably an alkyl group from the viewpoint of color development.

また、分解性、及び、発色性の観点から、R20で表されるアルキル基としては、第二級アルキル基又は第三級アルキル基であることが好ましく、第三級アルキル基であることが好ましい。
更に、分解性、及び、発色性の観点から、R20で表されるアルキル基としては、炭素数1〜8のアルキル基であることが好ましく、炭素数3〜10の分岐状のアルキル基であることがより好ましく、炭素数3〜6の分岐状のアルキル基であることが更に好ましく、イソプロピル基、又はtert−ブチル基が特に好ましく、tert−ブチル基が最も好ましい。
ここで、R20で表されるアルキル基は、ハロゲン原子(例えば、クロロ基)等にて置換された置換アルキル基であってもよい。
Moreover, degradable, and, from the viewpoint of coloring properties, be the alkyl group represented by R 20, is preferably a secondary alkyl group or a tertiary alkyl group, tertiary alkyl group preferable.
Moreover, the degradability, and, from the viewpoint of coloring properties, the alkyl group represented by R 20, preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, branched alkyl group having 3 to 10 carbon atoms It is more preferable to have a branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, an isopropyl group or a tert-butyl group is particularly preferable, and a tert-butyl group is most preferable.
Here, the alkyl group represented by R 20 may be a substituted alkyl group substituted with a halogen atom (for example, a chloro group) or the like.

以下に、上記式2で表される基の具体例を挙げるが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、●は式1−1中のLで表される基との結合部位を表す。 Specific examples of the group represented by the above formula 2 will be given below, but the present disclosure is not limited thereto. In the following structural formula, ● represents the binding site with the group represented by L in the formula 1-1.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式3中、R30は、アルキル基又はアリール基を表し、波線部分は、式1−1中のLで表される基との結合部位を表す。
30で表されるアルキル基及びアリール基としては、式2中のR20で表されるアルキル基及びアリール基と同様であり、好ましい態様も同様である。
In formula 3, R 30 represents an alkyl group or an aryl group, and the wavy line portion represents a binding site with a group represented by L in formula 1-1.
The alkyl group and aryl group represented by R 30 are the same as those of the alkyl group and aryl group represented by R 20 in Formula 2, and the preferred embodiments are also the same.

分解性、及び、発色性の観点から、R30で表されるアルキル基としては、第二級アルキル基又は第三級アルキル基であることが好ましく、第三級アルキル基であることが好ましい。
また、分解性、及び、発色性の観点から、R30で表されるアルキル基としては、炭素数1〜8のアルキル基であることが好ましく、炭素数3〜10の分岐状のアルキル基であることがより好ましく、炭素数3〜6の分岐状のアルキル基であることが更に好ましく、イソプロピル基、又はtert−ブチル基が特に好ましく、tert−ブチル基が最も好ましい。
更に、分解性、及び、発色性の観点から、R30で表されるアルキル基は、置換アルキル基であることが好ましく、フルオロ置換アルキル基であることがより好ましく、パーフルオロアルキル基であることが更に好ましく、トリフルオロメチル基であることが特に好ましい。
Degradable, and, from the viewpoint of coloring properties, the alkyl group represented by R 30, preferably a is secondary alkyl group or a tertiary alkyl group is preferably a tertiary alkyl group.
Moreover, degradable, and, from the viewpoint of coloring properties, the alkyl group represented by R 30, preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, branched alkyl group having 3 to 10 carbon atoms It is more preferable to have a branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, an isopropyl group or a tert-butyl group is particularly preferable, and a tert-butyl group is most preferable.
Furthermore, biodegradable, and, from the viewpoint of chromogenic, alkyl groups represented by R 30 is preferably a substituted alkyl group, more preferably a fluoro-substituted alkyl group, a perfluoroalkyl group Is more preferable, and a trifluoromethyl group is particularly preferable.

分解性、及び、発色性の観点から、R30で表されるアリール基は置換アリール基であることが好ましく、置換基としては、アルキル基(好ましくは炭素数1〜4のアルキル基)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜4のアルコキシ基)等が挙げられる。 From the viewpoint of degradability and color development, the aryl group represented by R 30 is preferably a substituted aryl group, and the substituent is an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) or an alkoxy. Examples thereof include a group (preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms).

以下に、上記式3で表される基の具体例を挙げるが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、●は式1−1中のLで表される基との結合部位を表す。 Specific examples of the group represented by the above formula 3 are given below, but the present disclosure is not limited thereto. In the following structural formula, ● represents the binding site with the group represented by L in the formula 1-1.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式4中、R41及びR42はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Zbは電荷を中和する対イオンを表し、波線部分は、式1−1中のLで表される基との結合部位を表す。
41又はR42で表されるアルキル基及びアリール基としては、式2中のR20で表されるアルキル基及びアリール基と同様であり、好ましい態様も同様である。
41としては、分解性、及び、発色性の観点から、アルキル基であることが好ましい。
42としては、分解性、及び、発色性の観点から、アルキル基であることが好ましい。
In Formula 4, R 41 and R 42 independently represent an alkyl or aryl group, Zb represents a charge-neutralizing counterion, and the wavy line portion is a group represented by L in Formula 1-1. Represents the binding site with.
The alkyl group and aryl group represented by R 41 or R 42 are the same as those of the alkyl group and aryl group represented by R 20 in the formula 2, and the preferred embodiments are also the same.
The R 41 is preferably an alkyl group from the viewpoint of degradability and color development.
The R 42 is preferably an alkyl group from the viewpoint of degradability and color development.

分解性、及び、発色性の観点から、R41で表されるアルキル基としては、炭素数1〜8のアルキル基であることが好ましく、炭素数1〜4のアルキル基であることがより好ましく、メチル基が特に好ましい。
分解性、及び、発色性の観点から、R42で表されるアルキル基としては、第二級アルキル基又は第三級アルキル基であることが好ましく、第三級アルキル基であることが好ましい。
また、分解性、及び、発色性の観点から、R42で表されるアルキル基としては、炭素数1〜8のアルキル基であることが好ましく、炭素数3〜10の分岐状のアルキル基であることがより好ましく、炭素数3〜6の分岐状のアルキル基であることが更に好ましく、イソプロピル基、又は、tert−ブチル基が特に好ましく、tert−ブチル基が最も好ましい。
From the viewpoint of decomposability and color development, the alkyl group represented by R 41 is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. , Methyl group is particularly preferred.
From the viewpoint of decomposability and color development, the alkyl group represented by R 42 is preferably a secondary alkyl group or a tertiary alkyl group, and preferably a tertiary alkyl group.
Further, from the viewpoint of degradability and color development, the alkyl group represented by R 42 is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and is a branched alkyl group having 3 to 10 carbon atoms. It is more preferable to have a branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, an isopropyl group or a tert-butyl group is particularly preferable, and a tert-butyl group is most preferable.

式4におけるZbは、電荷を中和するための対イオンであればよく、化合物全体として、式1−1におけるZaに含まれてもよい。
Zbは、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、p−トルエンスルホネートイオン、又は過塩素酸塩イオンが好ましく、テトラフルオロボレートイオンがより好ましい。
Zb in the formula 4 may be a counterion for neutralizing the charge, and the compound as a whole may be contained in Za in the formula 1-1.
Zb is preferably a sulfonate ion, a carboxylate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, a p-toluenesulfonate ion, or a perchlorate ion, and more preferably a tetrafluoroborate ion.

以下に、上記式4で表される基の具体例を挙げるが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、●は式1−1中のLで表される基との結合部位を表す。 Specific examples of the group represented by the above formula 4 are given below, but the present disclosure is not limited thereto. In the following structural formula, ● represents the binding site with the group represented by L in the formula 1-1.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式1−1において、Lは、酸素原子、又は−NR10−が好ましく、酸素原子が特に好ましい。
また、−NR10−におけるR10は、アルキル基が好ましい。R10で表されるアルキル基としては、炭素数1〜10のアルキル基が好ましい。また、R10で表されるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
アルキル基の中では、メチル基又はシクロヘキシル基が好ましい。
−NR10−におけるR10がアリール基の場合、炭素数6〜30のアリール基が好ましく、炭素数6〜20のアリール基がより好ましく、炭素数6〜12のアリール基が更に好ましい。また、これらアリール基は、置換基を有していてもよい。
In the formula 1-1, L is preferably an oxygen atom or −NR 10 −, and an oxygen atom is particularly preferable.
Further, R 10 in −NR 10 − is preferably an alkyl group. As the alkyl group represented by R 10 , an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferable. Further, the alkyl group represented by R 10 may be linear, may have a branch, or may have a ring structure.
Among the alkyl groups, a methyl group or a cyclohexyl group is preferable.
When R 10 in −NR 10 − is an aryl group, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms is preferable, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms is more preferable, and an aryl group having 6 to 12 carbon atoms is further preferable. Moreover, these aryl groups may have a substituent.

式1−1において、R11〜R18は、それぞれ独立に、水素原子、−R、−OR、−SR、又は−NRであることが好ましい。
〜Rで表される炭化水素基は、炭素数1〜30の炭化水素基が好ましく、炭素数1〜15の炭化水素基がより好ましく、炭素数1〜10の炭化水素基が更に好ましい。
上記炭化水素基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
上記炭化水素基としては、アルキル基が特に好ましい。
In Formula 1-1, R 11 to R 18 each independently represents a hydrogen atom, -R a, is preferably -OR b, -SR c, or -NR d R e.
Hydrocarbon groups represented by R a to R e is preferably a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, further a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms preferable.
The hydrocarbon group may be linear, may have a branch, or may have a ring structure.
As the hydrocarbon group, an alkyl group is particularly preferable.

上記アルキル基としては、炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、炭素数1〜15のアルキル基がより好ましく、炭素数1〜10のアルキル基が更に好ましい。
上記アルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、tert−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、及び、2−ノルボルニル基が挙げられる。
アルキル基の中で、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。
As the alkyl group, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms is more preferable, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is further preferable.
The alkyl group may be linear, have a branch, or have a ring structure.
Specifically, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group, a dodecyl group, a tridecyl group, a hexadecyl group and an octadecyl group. Group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, tert-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl Examples include a group and a 2-norbornyl group.
Among the alkyl groups, a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group is preferable.

上記アルキル基は、置換基を有していてもよい。
置換基の例としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、カルボキシレート基、スルホ基、スルホネート基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、及びこれらを組み合わせた基等が挙げられる。
The alkyl group may have a substituent.
Examples of substituents include an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, an alkylthio group, an arylthio group, a halogen atom, a carboxy group, a carboxylate group, a sulfo group, a sulfonate group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, and these. Examples include a group that combines the above.

式1−1におけるR11〜R14はそれぞれ独立に、水素原子、又は、−R(即ち炭化水素基)であることが好ましく、水素原子、又は、アルキル基であることがより好ましく、以下の場合を除き、水素原子であることが更に好ましい。
中でも、Lが結合する炭素原子と結合する炭素原子に結合するR11及びR13は、アルキル基が好ましく、両者が連結して環を形成することがより好ましい。上記形成される環としては、単環であってもよく、多環であってもよい。形成される環として、具体的には、シクロペンテン環、シクロペンタジエン環、シクロヘキセン環、シクロヘキサジエン環等の単環、及び、インデン環、インドール環等の多環が挙げられる。
また、A が結合する炭素原子に結合するR12はR15又はR16(好ましくはR16)と連結して環を形成することが好ましく、Aが結合する炭素原子に結合するR14はR17又はR18(好ましくはR18)と連結して環を形成することが好ましい。
R 11 to R 14 in the formula 1-1 are each independently preferably a hydrogen atom or −R a (that is, a hydrocarbon group), more preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and the following. Except for the case of, it is more preferably a hydrogen atom.
Among them, R 11 and R 13 bonded to the carbon atom to which L is bonded are preferably an alkyl group, and it is more preferable that both are linked to form a ring. The ring formed may be a monocyclic ring or a polycyclic ring. Specific examples of the ring formed include a monocycle such as a cyclopentene ring, a cyclopentadiene ring, a cyclohexene ring and a cyclohexadiene ring, and a polycycle such as an indene ring and an indole ring.
Further, it is preferable that R 12 bonded to the carbon atom to which A 1 + is bonded is linked to R 15 or R 16 (preferably R 16 ) to form a ring, and R to be bonded to the carbon atom to which A 2 is bonded. 14 is preferably linked to R 17 or R 18 (preferably R 18 ) to form a ring.

式1−1において、n13は1であり、R16は、−R(即ち炭化水素基)であることが好ましい。
また、R16は、A が結合する炭素原子に結合するR12と連結して環を形成することが好ましい。形成される環としては、インドリウム環、ピリリウム環、チオピリリウム環、ベンゾオキサゾリン環、又はベンゾイミダゾリン環が好ましく、露光部の視認性を高める観点から、インドリウム環がより好ましい。これらの環は更に置換基を有していてもよい。
式1−1において、n14は1であり、R18は、−R(即ち炭化水素基)であることが好ましい。
また、R18は、Aが結合する炭素原子に結合するR14と連結して環を形成することが好ましい。形成される環としては、インドール環、ピラン環、チオピラン環、ベンゾオキサゾール環、又はベンゾイミダゾール環が好ましく、露光部の視認性を高める観点から、インドール環がより好ましい。これらの環は更に置換基を有していてもよい。
式1−1におけるR16及びR18は同一の基であることが好ましく、それぞれが環を形成する場合、A 及びAを除き、同一の構造の環を形成することが好ましい。
In the formula 1-1, n 13 is preferably 1 and R 16 is preferably −R a (that is, a hydrocarbon group).
Further, it is preferable that R 16 is linked to R 12 bonded to the carbon atom to which A 1 + is bonded to form a ring. As the ring to be formed, an indolium ring, a pyrylium ring, a thiopyrylium ring, a benzoxazoline ring, or a benzoimidazoline ring is preferable, and an indolium ring is more preferable from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed portion. These rings may further have a substituent.
In formula 1-1, n 14 is preferably 1 and R 18 is preferably −R a (ie, a hydrocarbon group).
Further, it is preferable that R 18 is linked to R 14 bonded to the carbon atom to which A 2 is bonded to form a ring. As the ring to be formed, an indole ring, a pyran ring, a thiopyran ring, a benzoxazole ring, or a benzimidazole ring is preferable, and an indole ring is more preferable from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed portion. These rings may further have a substituent.
It is preferable that R 16 and R 18 in the formula 1-1 have the same group, and when each forms a ring, it is preferable to form a ring having the same structure except for A 1 + and A 2.

式1−1におけるR15及びR17は同一の基であることが好ましい。また、R15及びR17は、−R(即ち炭化水素基)であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、置換アルキル基であることが更に好ましい。 It is preferable that R 15 and R 17 in the formula 1-1 are the same group. Further, R 15 and R 17 are preferably —R a (that is, a hydrocarbon group), more preferably an alkyl group, and even more preferably a substituted alkyl group.

式1−1により表される化合物において、水溶性を向上させる観点からは、R15及びR17は置換基アルキル基であることが好ましい。
15又はR17で表される置換アルキル基としては、下記式(a1)〜式(a4)のいずれかで表される基が挙げられる。
In the compound represented by the formula 1-1, R 15 and R 17 are preferably substituent alkyl groups from the viewpoint of improving water solubility.
Examples of the substituted alkyl group represented by R 15 or R 17 include a group represented by any of the following formulas (a1) to (a4).

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式(a1)〜式(a4)中、RW0は炭素数2〜6のアルキレン基を表し、Wは単結合又は酸素原子を表し、nW1は1〜45の整数を表し、RW1は炭素数1〜12のアルキル基又は−C(=O)−RW5を表し、RW5は炭素数1〜12のアルキル基を表し、RW2〜RW4はそれぞれ独立に、単結合又は炭素数1〜12のアルキレン基を表し、Mは水素原子、ナトリウム原子、カリウム原子、又は、オニウム基を表す。 Wherein (a1) ~ formula (a4), R W0 represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, W is a single bond or an oxygen atom, n W1 represents an integer of 1 to 45, R W1 carbon It represents the number 1 to 12 alkyl or -C (= O) -R W5, R W5 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, R W2 to R W4 are each independently a single bond or 1 carbon atoms Represents an alkylene group of ~ 12, and M represents a hydrogen atom, a sodium atom, a potassium atom, or an onium group.

式(a1)において、RW0で表されるアルキレン基の具体例としては、エチレン基、n−プロピレン基、イソプロピレン基、n−ブチレン基、イソブチレン基、n−ペンチレン基、イソペンチレン基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基等が挙げられ、エチレン基、n−プロピレン基、イソプロピレン基、又はn−ブチレン基が好ましく、n−プロピレン基が特に好ましい。
W1は1〜10が好ましく、1〜5がより好ましく、1〜3が特に好ましい。
W1で表されるアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−ドデシル基等が挙げられ、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、又はn−ブチル基、tert−ブチル基が好ましく、メチル基、又はエチル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。
W5で表されるアルキル基は、RW1で表されるアルキル基と同様であり、好ましい態様もRW1で表されるアルキル基の好ましい態様と同様である。
Specific examples of the alkylene group represented by RW0 in the formula (a1) include an ethylene group, an n-propylene group, an isopropylene group, an n-butylene group, an isobutylene group, an n-pentylene group, an isopentylene group and n-. Examples thereof include a hexyl group and an isohexyl group, and an ethylene group, an n-propylene group, an isopropylene group, or an n-butylene group is preferable, and an n-propylene group is particularly preferable.
n W1 is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, and particularly preferably 1 to 3.
Specific examples of the alkyl group represented by RW1 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group and neopentyl. Examples thereof include a group, an n-hexyl group, an n-octyl group, an n-dodecyl group, and a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, or an n-butyl group and a tert-butyl group are preferable. , Or an ethyl group is more preferable, and a methyl group is particularly preferable.
Alkyl group represented by R W5 is the same as defined for the alkyl group represented by R W1, preferred embodiments are also the same as the preferred embodiment of the alkyl group represented by R W1.

式(a1)で表される基の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、Meはメチル基、Etはエチル基を表し、*は結合部位を表す。 Specific examples of the group represented by the formula (a1) are shown below, but the present disclosure is not limited thereto. In the following structural formula, Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, and * represents a binding site.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式(a2)〜式(a4)において、RW2〜RW4で表されるアルキレン基の具体例としては、メチレン基、エチレン基、n−プロピレン基、イソプロピレン基、n−ブチレン基、イソブチレン基、n−ペンチレン基、イソペンチレン基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、n−オクチレン基、n−ドデシレン基等が挙げられ、エチレン基、n−プロピレン基、イソプロピレン基、又は、n−ブチレン基が好ましく、エチレン基、又は、n−プロピレン基が特に好ましい。
式(a3)において、2つ存在するMは同じでも異なってもよい。
In formula (a2) ~ formula (a4), Specific examples of the alkylene group represented by R W2 to R W4, methylene group, ethylene group, n- propylene, isopropylene, n- butylene group, isobutylene group , N-pentylene group, isopentylene group, n-hexyl group, isohexyl group, n-octylene group, n-dodecylene group and the like, and ethylene group, n-propylene group, isopropylene group or n-butylene group An ethylene group or an n-propylene group is particularly preferable.
In the formula (a3), the two existing Ms may be the same or different.

式(a2)〜式(a4)において、Mで表されるオニウム基としては、アンモニウム基、ヨードニウム基、ホスホニウム基、スルホニウム基等が挙げられる。
式(a2)におけるCOM、式(a2)におけるPO、及び式(a4)におけるSOMは、いずれもMが解離したアニオン構造を有していてもよい。アニオン構造の対カチオンは、A であってもよいし、式1−1中のR−Lに含まれうるカチオンであってもよい。
In the formulas (a2) to (a4), examples of the onium group represented by M include an ammonium group, an iodonium group, a phosphonium group, a sulfonium group, and the like.
The CO 2 M in the formula (a 2), the PO 3 M 2 in the formula (a 2), and the SO 3 M in the formula (a 4) may all have an anion structure in which M is dissociated. Counter cation of the anion structure may be a A 1 +, may be a cation may be included in R 1 -L in Formula 1-1.

式(a1)〜式(a4)で表される基の中で、式(a1)、式(a2)、又は式(a4)で表される基が好ましい。 Among the groups represented by the formulas (a1) to (a4), the group represented by the formula (a1), the formula (a2), or the formula (a4) is preferable.

式1−1におけるn11及びn12は同一であることが好ましく、いずれも、1〜5の整数が好ましく、1〜3の整数がより好ましく、1又は2が更に好ましく、2が特に好ましい。 It is preferable that n 11 and n 12 in the formula 1-1 are the same, and an integer of 1 to 5 is preferable, an integer of 1 to 3 is more preferable, 1 or 2 is more preferable, and 2 is particularly preferable.

式1−1におけるA及びAは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は窒素原子を表し、窒素原子が好ましい。
式1−1におけるA及びAは同一の原子であることが好ましい。
A 1 and A 2 in the formula 1-1 independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom, and a nitrogen atom is preferable.
It is preferable that A 1 and A 2 in the formula 1-1 are the same atom.

式1−1におけるZaは、電荷を中和する対イオンを表す。
11〜R18及びR−Lの全てが電荷的に中性の基であれば、Zaは一価の対アニオンとなる。但し、R11〜R18及びR−Lは、アニオン構造又はカチオン構造を有していてもよく、例えば、R11〜R18及びR−Lに2以上のアニオン構造を有する場合、Zaは対カチオンにもなり得る。
なお、式1−1で表されるシアニン色素が、Zaを除き、化合物の全体において電荷的に中性な構造であれば、Zaは必要ない。
Zaが対アニオンである場合、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、p−トルエンスルホネートイオン、過塩素酸塩イオン等が挙げられ、テトラフルオロボレートイオンが好ましい。
Zaが対カチオンである場合、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、スルホニウムイオン等が挙げられ、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、又はスルホニウムイオンが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又はアンモニウムイオンがより好ましい。
Za in Equation 1-1 represents a counterion that neutralizes the charge.
If all of R 11 to R 18 and R 1- L are charge-neutral groups, Za is a monovalent counter anion. However, R 11 to R 18 and R 1 to L may have an anionic structure or a cationic structure. For example, when R 11 to R 18 and R 1 to L have two or more anionic structures, Za Can also be a counter cation.
If the cyanine dye represented by the formula 1-1 has a charge-neutral structure in the whole compound except Za, Za is not necessary.
When Za is a counter anion, sulfonate ion, carboxylate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, p-toluenesulfonate ion, perchlorate ion and the like can be mentioned, and tetrafluoroborate ion is preferable.
When Za is a counter cation, alkali metal ion, alkaline earth metal ion, ammonium ion, pyridinium ion, sulfonium ion and the like can be mentioned, and sodium ion, potassium ion, ammonium ion, pyridinium ion or sulfonium ion is preferable. Ions, potassium ions, or ammonium ions are more preferred.

分解性化合物としては、露光部の視認性を高める観点から、下記式1−2で表される化合物(即ち、シアニン色素)であることがより好ましい。 The degradable compound is more preferably a compound represented by the following formula 1-2 (that is, a cyanine dye) from the viewpoint of enhancing the visibility of the exposed portion.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式1−2中、Rは上記式2〜式4のいずれかで表される基を表し、R19〜R22はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、−R、−OR、−CN、−SR、又は−NRを表し、R23及びR24はそれぞれ独立に、水素原子、又は、−Rを表し、R〜Rはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、R19とR20、R21とR22、又は、R23とR24は、連結して単環又は多環を形成してもよく、Lは、酸素原子、硫黄原子、又は、−NR10−を表し、R10は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Rd1〜Rd4、W及びWはそれぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表す。 In formula 1-2, R 1 represents a group represented by any of the above formulas 2 to 4, and R 19 to R 22 are independently hydrogen atom, halogen atom, -R a , -OR b , respectively. -CN, -SR c , or -NR d R e , R 23 and R 24 independently represent a hydrogen atom or -R a, and R a to R e independently represent a hydrocarbon group. , R 19 and R 20 , R 21 and R 22 , or R 23 and R 24 may be linked to form a monocyclic or polycyclic, where L is an oxygen atom, a sulfur atom, or. -NR 10- represents, R 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and R d1 to R d4 , W 1 and W 2 each independently may have a substituent. Represents, and Za represents a counter ion that neutralizes the charge.

式1−2におけるRは、式1−1におけるRと同義であり、好ましい態様も同様である。 R 1 in Formula 1-2 is synonymous with R 1 in the formula 1-1, preferable embodiments thereof are also the same.

式1−2において、R19〜R22は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、−R、−OR、又は−CNであることが好ましい。
より具体的には、R19及びR21は、水素原子、又は−Rであることが好ましい。
また、R20及びR22は、水素原子、−R、−OR、又は−CNであることが好ましい。
19〜R22で表される−Rとしては、アルキル基、又はアルケニル基が好ましい。
19〜R22のすべてが−Rである場合、R19とR20及びR21とR22が連結して単環又は多環を形成することが好ましい。
19とR20又はR21とR22が連結して形成される環としては、ベンゼン環、ナフタレン環等が挙げられる。
In formula 1-2, R 19 to R 22 are preferably hydrogen atoms, halogen atoms, -R a , -OR b , or -CN, respectively.
More specifically, R 19 and R 21 are preferably hydrogen atom, or a -R a.
Further, R 20 and R 22 are preferably hydrogen atoms, -R a , -OR b , or -CN.
As —R a represented by R 19 to R 22 , an alkyl group or an alkenyl group is preferable.
When all of R 19 to R 22 are −R a, it is preferable that R 19 and R 20 and R 21 and R 22 are connected to form a monocyclic or polycyclic ring.
Examples of the ring formed by connecting R 19 and R 20 or R 21 and R 22 include a benzene ring and a naphthalene ring.

式1−2において、R23とR24は、連結して単環又は多環を形成していることが好ましい。
23とR24が連結して形成される環としては、単環であってもよく、多環であってもよい。形成される環として、具体的には、シクロペンテン環、シクロペンタジエン環、シクロヘキセン環、シクロヘキサジエン環等の単環、及び、インデン環等の多環が挙げられる。
In formula 1-2, it is preferable that R 23 and R 24 are connected to form a monocyclic or polycyclic ring.
The ring formed by connecting R 23 and R 24 may be a monocyclic ring or a polycyclic ring. Specific examples of the ring formed include a monocycle such as a cyclopentene ring, a cyclopentadiene ring, a cyclohexene ring and a cyclohexadiene ring, and a polycycle such as an inden ring.

式1−2において、Rd1〜Rd4は、無置換アルキル基であることが好ましい。また、Rd1〜Rd4は、いずれも同一の基であることが好ましい。
無置換アルキル基としては、炭素数1〜4の無置換アルキル基が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。
In formula 1-2, R d1 to R d4 are preferably unsubstituted alkyl groups. Further, it is preferable that R d1 to R d4 are all the same group.
Examples of the unsubstituted alkyl group include an unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a methyl group is preferable.

式1−2において、W及びWはそれぞれ独立に、式1−2で表される化合物に水溶性を高める観点から、置換アルキル基であることが好ましい。
及びWで表される置換アルキル基としては、式1−1における式(a1)〜式(a4)のいずれかで表される基が挙げられ、好ましい態様も同様である。
また、W及びWはそれぞれ独立に、機上現像性の観点から、置換基を有するアルキル基であり、かつ、上記置換基として、−(OCHCH)−、スルホ基、スルホ基の塩、カルボキシ基、又は、カルボキシ基の塩を少なくとも有する基であることが好ましい。
In formula 1-2, W 1 and W 2 are preferably substituted alkyl groups independently from the viewpoint of increasing water solubility in the compound represented by formula 1-2.
Examples of the substituted alkyl group represented by W 1 and W 2 include a group represented by any of the formulas (a1) to (a4) in the formula 1-1, and the preferred embodiment is also the same.
Further, W 1 and W 2 are independently alkyl groups having a substituent from the viewpoint of on-machine developability, and the above-mentioned substituents are-(OCH 2 CH 2 )-, a sulfo group, and a sulfo group. , A carboxy group, or a group having at least a salt of a carboxy group is preferable.

Zaは、分子内の電荷を中和する対イオンを表す。
19〜R22、R23〜R24、Rd1〜Rd4、W、W、及び、R−Lの全てが電荷的に中性の基であれば、Zaは一価の対アニオンとなる。但し、R19〜R22、R23〜R24、Rd1〜Rd4、W、W、及び、R−Lは、アニオン構造又はカチオン構造を有していてもよく、例えば、R19〜R22、R23〜R24、Rd1〜Rd4、W、W、及び、R−Lに2以上のアニオン構造を有する場合、Zaは対カチオンにもなり得る。
なお、式1−2で表される化合物が、Zaを除き、化合物の全体において電荷的に中性な構造であれば、Zaは必要ない。
Zaが対アニオンである場合の例は、式1−1におけるZaと同様であり、好ましい態様も同様である。また、Zaが対カチオンである場合の例も、式1−1におけるZaと同様であり、好ましい態様も同様である。
Za represents a counterion that neutralizes the charge in the molecule.
If all of R 19 to R 22 , R 23 to R 24 , R d1 to R d4 , W 1 , W 2 , and R 1 to L are charge-neutral groups, then Za is a monovalent pair. It becomes an anion. However, R 19 to R 22 , R 23 to R 24 , R d1 to R d4 , W 1 , W 2 , and R 1 to L may have an anionic structure or a cationic structure, for example, R. If 19 to R 22 , R 23 to R 24 , R d1 to R d4 , W 1 , W 2 , and R 1 to L have two or more anionic structures, Za can also be a counter cation.
If the compound represented by the formula 1-2 has a charge-neutral structure as a whole except for Za, Za is not necessary.
The example when Za is a counter anion is the same as Za in the formula 1-1, and the preferred embodiment is also the same. Further, the example in which Za is a counter cation is the same as Za in Formula 1-1, and the preferred embodiment is also the same.

分解性化合物としてのシアニン色素は、分解性、及び、発色性の観点から、下記式1−3〜式1−7のいずれかで表される化合物であることが更に好ましい。
特に、分解性、及び、発色性の観点から、式1−3、式1−5、及び式1−6のいずれかで表される化合物であることが好ましい。
The cyanine dye as a degradable compound is more preferably a compound represented by any of the following formulas 1-3 to 1-7 from the viewpoint of decomposability and color development.
In particular, from the viewpoint of degradability and color development, the compound represented by any of the formulas 1-3, 1-5, and 1-6 is preferable.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

式1−3〜式1−7中、Rは上記式2〜式4のいずれかで表される基を表し、R19〜R22はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、−R、−OR、−CN、−SR、又は、−NRを表し、R25及びR26はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は、−Rを表し、R〜Rはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、R19とR20、R21とR22、又は、R25とR26は、連結して単環又は多環を形成してもよく、Lは、酸素原子、硫黄原子、又は、−NR10−を表し、R10は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Rd1〜Rd4、W及びWは、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表す。 In formulas 1-3 to 1-7, R 1 represents a group represented by any of the above formulas 2 to 4, and R 19 to R 22 are independently hydrogen atom, halogen atom, and −R a. , -OR b, -CN, -SR c, or represents -NR d R e, each R 25 and R 26 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or represents a -R a, R a to R e independently represent a hydrocarbon group, and R 19 and R 20 , R 21 and R 22 , or R 25 and R 26 may be linked to form a monocyclic or polycyclic, where L is. , Oxygen atom, sulfur atom, or −NR 10− , R 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and R d1 to R d4 , W 1 and W 2 are independent of each other. Represents an alkyl group that may have a substituent, and Za represents a counterion that neutralizes the charge.

式1−3〜式1−7におけるR、R19〜R22、Rd1〜Rd4、W、W、及びLは、式1−2におけるR、R19〜R22、Rd1〜Rd4、W、W、及びLと同義であり、好ましい態様も同様である。
式1−7におけるR25及びR26はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
R 1, R 19 ~R 22 in Formula 1-3 to Formula 1-7, R d1 ~R d4, W 1, W 2, and L is, R 1 in Formula 1-2, R 19 ~R 22, R d1 ~R d4, W 1, W 2, and has the same meaning as L, and also the same preferred embodiment.
R 25 and R 26 in Formula 1-7 are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably an alkyl group, and particularly preferably a methyl group.

以下に、分解性化合物のシアニン色素の具体例を挙げるが、本開示はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of cyanine pigments of degradable compounds are given below, but the present disclosure is not limited thereto.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

また、分解性化合物であるシアニン色素は、国際公開第2019/219560号に記載の赤外線吸収性化合物を好適に用いることができる。 Further, as the cyanine dye which is a degradable compound, the infrared absorbent compound described in International Publication No. 2019/219560 can be preferably used.

また、変色性化合物としては、酸発色剤を用いてもよい。
酸発色剤としては、画像記録層において酸発色剤として記載したものを用いることができ、好ましい態様も同様である。
Moreover, you may use an acid color former as a discolorant compound.
As the acid color-developing agent, those described as the acid color-developing agent in the image recording layer can be used, and the preferred embodiment is also the same.

変色性化合物は、1種単独で用いてもよいし、2種類以上の成分を組み合わせて使用してもよい。
変色性化合物としては、既述の酸発色剤と後述の酸発生剤とを組み合わせて使用してもよい。
The discolorating compound may be used alone or in combination of two or more kinds of components.
As the discolorating compound, the acid color-developing agent described above and the acid generator described later may be used in combination.

最外層中の変色性化合物の含有量は、発色性の観点から、最外層の全質量に対し、0.10質量%〜50質量%が好ましく、0.50質量%〜30質量%がより好ましく、1.0質量%〜20質量%が更に好ましい。 The content of the discolorating compound in the outermost layer is preferably 0.10% by mass to 50% by mass, more preferably 0.50% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the outermost layer from the viewpoint of color development. , 1.0% by mass to 20% by mass is more preferable.

上記最外層の上記変色性化合物の含有量Mと上記画像記録層の上記赤外線吸収剤の含有量Mとの比M/Mが、発色性の観点から、0.1以上であることが好ましく、0.2以上がより好ましく、0.3以上3.0以下が特に好ましい。 The ratio M X / M Y between the content M Y of the infrared absorber content M X and the image recording layer of the discoloring compounds of the outermost layer, from the viewpoints of coloring property, is 0.1 or more It is preferable, 0.2 or more is more preferable, and 0.3 or more and 3.0 or less is particularly preferable.

〔その他の成分〕
最外層は、無機層状化合物及び変色性化合物以外に、水溶性ポリマー、疎水性ポリマー、感脂化剤、酸発生剤、変色性化合物以外の赤外線吸収剤等の、その他の成分を含んでいてもよい。
以下、その他の成分について説明する。
[Other ingredients]
In addition to the inorganic layered compound and the discoloring compound, the outermost layer may contain other components such as a water-soluble polymer, a hydrophobic polymer, a fat-sensing agent, an acid generator, and an infrared absorber other than the discoloring compound. good.
Hereinafter, other components will be described.

[水溶性ポリマー]
最外層は、機上現像性の観点から、水溶性ポリマーを含むことが好ましい。
本開示において、水溶性ポリマーとは、125℃、100gの純水に対して5g以上溶解し、かつ、125℃、100gの純水に対して5gのポリマーが溶解した溶液を25℃に冷却しても析出しないポリマーをいう。
最外層に用いられる水溶性ポリマーとしては、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリエチレングリコール、ポリ(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。
変性ポリビニルアルコールとしてはカルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005−250216号公報及び特開2006−259137号公報に記載の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
[Water-soluble polymer]
The outermost layer preferably contains a water-soluble polymer from the viewpoint of on-machine developability.
In the present disclosure, the water-soluble polymer is a solution in which 5 g or more is dissolved in 100 g of pure water at 125 ° C. and 5 g of the polymer is dissolved in 125 ° C. and 100 g of pure water, and the solution is cooled to 25 ° C. A polymer that does not precipitate even if it does.
Examples of the water-soluble polymer used for the outermost layer include polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, water-soluble cellulose derivative, polyethylene glycol, poly (meth) acrylonitrile and the like.
As the modified polyvinyl alcohol, an acid-modified polyvinyl alcohol having a carboxy group or a sulfo group is preferably used. Specific examples thereof include the modified polyvinyl alcohols described in JP-A-2005-250216 and JP-A-2006-259137.

上記水溶性ポリマーとしては、ポリビニルアルコールが好ましいものとして挙げられる。中でも、水溶性ポリマーとしては、けん化度が50%以上であるポリビニルアルコールを用いることが更に好ましい。
上記けん化度は、60%以上が好ましく、70%以上がより好ましく、85%以上が更に好ましい。けん化度の上限は特に限定されず、100%以下であればよい。
上記けん化度は、JIS K 6726:1994に記載の方法に従い測定される。
As the water-soluble polymer, polyvinyl alcohol is preferable. Above all, as the water-soluble polymer, it is more preferable to use polyvinyl alcohol having a saponification degree of 50% or more.
The saponification degree is preferably 60% or more, more preferably 70% or more, still more preferably 85% or more. The upper limit of the saponification degree is not particularly limited and may be 100% or less.
The saponification degree is measured according to the method described in JIS K 6726: 1994.

上記水溶性ポリマーとしては、ポリビニルピロリドンも好ましいものとして挙げられる。
親水性ポリマーとしては、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとを組み合わせて使用することも好ましい。
As the water-soluble polymer, polyvinylpyrrolidone is also preferable.
As the hydrophilic polymer, it is also preferable to use polyvinyl alcohol and polyvinylpyrrolidone in combination.

水溶性ポリマーは、1種単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。 The water-soluble polymer may be used alone or in combination of two or more.

最外層が水溶性ポリマーを含む場合、水溶性ポリマーの含有量は、最外層の全質量に対して、1質量%〜99質量%であることが好ましく、3質量%〜97質量%であることがより好ましく、5質量%〜95質量%であることが更に好ましい。 When the outermost layer contains a water-soluble polymer, the content of the water-soluble polymer is preferably 1% by mass to 99% by mass, preferably 3% by mass to 97% by mass, based on the total mass of the outermost layer. Is more preferable, and 5% by mass to 95% by mass is further preferable.

[疎水性ポリマー]
最外層は、疎水性ポリマーを含んでいてもよい。
疎水性ポリマーとは、125℃、100gの純水に対し5g未満で溶解するか、又は、溶解しないポリマーをいう。
疎水性ポリマーとしては、例えば、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ(メタ)アクリル酸アルキルエステル(例えば、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸エチル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル等)、これらのポリマーの原料モノマーを組み合わせた共重合体等が挙げられる。
また、疎水性ポリマーとしては、ポリビニリデンクロライド樹脂を含むことが好ましい。
更に、疎水性ポリマーとしては、スチレン−アクリル共重合体を含むことが好ましい。

更にまた、疎水性ポリマーは、機上現像性の観点から、疎水性ポリマー粒子であることが好ましい。
[Hydrophobic polymer]
The outermost layer may contain a hydrophobic polymer.
The hydrophobic polymer means a polymer that dissolves or does not dissolve in less than 5 g in 100 g of pure water at 125 ° C.
Examples of the hydrophobic polymer include polyethylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, and poly (meth) acrylate alkyl esters (for example, poly (meth) acrylate methyl, poly (meth) acrylate ethyl, and poly (meth). ) Butyl acrylate, etc.), copolymers in which raw material monomers of these polymers are combined, and the like.
Further, the hydrophobic polymer preferably contains polyvinylidene chloride resin.
Further, the hydrophobic polymer preferably contains a styrene-acrylic copolymer.

Furthermore, the hydrophobic polymer is preferably hydrophobic polymer particles from the viewpoint of on-machine developability.

疎水性ポリマーは、1種単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。 The hydrophobic polymer may be used alone or in combination of two or more.

最外層が疎水性ポリマーを含む場合、疎水性ポリマーの含有量は、最外層の全質量に対して、1質量%〜80質量%であることが好ましく、5質量%〜50質量%であることがより好ましい。 When the outermost layer contains a hydrophobic polymer, the content of the hydrophobic polymer is preferably 1% by mass to 80% by mass and 5% by mass to 50% by mass with respect to the total mass of the outermost layer. Is more preferable.

[感脂化剤]
最外層は、インキ着肉性の観点から、感脂化剤を含んでいてもよい。
最外層に用いられる感脂化剤としては、上記画像記録層において記載した感脂化剤を用いることができ、好ましい態様も同様である。
[Fat sensitive agent]
The outermost layer may contain a greasing agent from the viewpoint of ink inking property.
As the oil-sensitive agent used for the outermost layer, the oil-sensitive agent described in the above-mentioned image recording layer can be used, and the preferred embodiment is also the same.

感脂化剤は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
最外層が感脂化剤を含む場合、感脂化剤の含有量は、最外層の全質量に対して、0.5 質量%〜30質量%であることが好ましく、1質量%〜20質量%であることがより好ましい。
The oil sensitizer may be used alone or in combination of two or more.
When the outermost layer contains a fat-sensing agent, the content of the fat-sensing agent is preferably 0.5% by mass to 30% by mass, and 1% by mass to 20% by mass, based on the total mass of the outermost layer. % Is more preferable.

[酸発生剤]
最外層は、変色性化合物として酸発色剤を用いる場合に、酸発生剤を含むことが好ましい。
本開示における「酸発生剤」とは、光又は熱により酸を発生する化合物であり、具体的には、赤外線露光によって分解し酸を発生する化合物をいう。
発生する酸としては、スルホン酸、塩酸等のpKaが2以下の強酸であることが好ましい。酸発生剤から発生した酸によって、既述の酸発色剤が変色することができる。
[Acid generator]
When an acid color-developing agent is used as the discolorating compound, the outermost layer preferably contains an acid generator.
The "acid generator" in the present disclosure is a compound that generates an acid by light or heat, and specifically, a compound that is decomposed by infrared exposure to generate an acid.
The acid to be generated is preferably a strong acid having a pKa of 2 or less, such as sulfonic acid and hydrochloric acid. The acid generated from the acid generator can discolor the above-mentioned acid color former.

酸発生剤として具体的には、感度と安定性の観点から、オニウム塩化合物が好ましい。
酸発生剤として好適なオニウム塩の具体例は、国際公開第2016/047392号の段落0121〜段落0124に記載された化合物が挙げられる。
中でも、トリアリールスルホニウム、又は、ジアリールヨードニウムの、スルホン酸塩、カルボン酸塩、BPh 、BF 、PF 、ClO などが好ましい。ここで、Phはフェニル基を表す。
Specifically, the onium salt compound is preferable as the acid generator from the viewpoint of sensitivity and stability.
Specific examples of the onium salt suitable as the acid generator include the compounds described in paragraphs 0121 to 0124 of International Publication No. 2016/047392.
Among them, triarylsulfonium, or diaryliodonium, sulfonates, carboxylates, BPh 4 -, BF 4 - , PF 6 -, ClO 4 - and the like are preferable. Here, Ph represents a phenyl group.

酸発生剤は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
最外層が酸発生剤を含む場合、酸発生剤の含有量は、最外層の全質量に対して、0.5質量%〜30質量%であることが好ましく、1質量%〜20質量%であることがより好ましい。
The acid generator may be used alone or in combination of two or more.
When the outermost layer contains an acid generator, the content of the acid generator is preferably 0.5% by mass to 30% by mass, preferably 1% by mass to 20% by mass, based on the total mass of the outermost layer. It is more preferable to have.

最外層は、既述の成分以外にも、可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御するための無機粒子等の公知の添加物を含んでいてもよい。 In addition to the above-mentioned components, the outermost layer is a known additive such as a plasticizer for imparting flexibility, a surfactant for improving coatability, and inorganic particles for controlling the slipperiness of the surface. May include.

最外層は、公知の方法で塗布され、乾燥することで形成される。
最外層の塗布量(固形分)は、0.01g/m〜10g/mが好ましく、0.02g/m〜3g/mがより好ましく、0.1g/m〜2.0g/mが特に好ましい。
最外層の膜厚は、0.1μm〜5.0μmであることが好ましく、0.3μm〜4.0μmであることがより好ましい。
The outermost layer is formed by being applied by a known method and dried.
Outermost coating amount (solid content) is preferably from 0.01g / m 2 ~10g / m 2 , more preferably 0.02g / m 2 ~3g / m 2 , 0.1g / m 2 ~2.0g / M 2 is particularly preferred.
The film thickness of the outermost layer is preferably 0.1 μm to 5.0 μm, and more preferably 0.3 μm to 4.0 μm.

最外層の膜厚は、後述する画像記録層の膜厚に対し、0.1倍〜5.0倍であることが好ましく、0.2倍〜3.0倍であることがより好ましい。 The film thickness of the outermost layer is preferably 0.1 to 5.0 times, more preferably 0.2 to 3.0 times, the film thickness of the image recording layer described later.

<支持体>
本開示に係る平版印刷版原版は、支持体を有する。
支持体としては、公知の平版印刷版原版用支持体から適宜選択して用いることができる。
支持体としては、親水性表面を有する支持体(以下、「親水性支持体」ともいう)が好ましい。
<Support>
The lithographic printing plate original plate according to the present disclosure has a support.
As the support, a known lithographic printing plate precursor support can be appropriately selected and used.
As the support, a support having a hydrophilic surface (hereinafter, also referred to as “hydrophilic support”) is preferable.

本開示における支持体としては、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。即ち、本開示における支持体は、アルミニウム板とアルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有することが好ましい。 As the support in the present disclosure, an aluminum plate that has been roughened and anodized by a known method is preferable. That is, the support in the present disclosure preferably has an aluminum plate and an aluminum anodized film arranged on the aluminum plate.

[支持体の好ましい態様]
本開示において用いられる支持体の好ましい態様の一例(本一例に係るアルミニウム支持体を、「支持体(1)」ともいう。)を以下に示す。
即ち、支持体(1)は、アルミニウム板と、上記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、上記陽極酸化皮膜が、上記アルミニウム板よりも上記画像記録層側に位置し、上記陽極酸化皮膜が、上記画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、上記マイクロポアの上記陽極酸化皮膜表面における平均径が10nmを超え100nm以下である。
なお、上記陽極酸化皮膜の上記画像記録層側の表面のL表色系における明度Lの値が、70〜100であることが好ましい。
[Preferable embodiment of support]
An example of a preferred embodiment of the support used in the present disclosure (the aluminum support according to this example is also referred to as “support (1)”) is shown below.
That is, the support (1) has an aluminum plate and an anodic oxide film of aluminum arranged on the aluminum plate, and the anodic oxide film is located closer to the image recording layer than the aluminum plate. The anodic oxide film has micropores extending in the depth direction from the surface on the image recording layer side, and the average diameter of the micropores on the surface of the anodic oxide film is more than 10 nm and 100 nm or less.
The value of the brightness L * in the L * a * b * color system of the surface of the anodic oxide film on the image recording layer side is preferably 70 to 100.

図1は、アルミニウム支持体12aの一実施形態の模式的断面図である。
アルミニウム支持体12aは、アルミニウム板18とアルミニウムの陽極酸化皮膜20a(以後、単に「陽極酸化皮膜20a」とも称する)とをこの順で積層した積層構造を有する。なお、アルミニウム支持体12a中の陽極酸化皮膜20aが、アルミニウム板18よりも画像記録層側に位置する。つまり、本開示に係る平版印刷版原版は、アルミニウム板上に、陽極酸化皮膜、画像記録層、及び水溶性樹脂層をこの順で少なくとも有することが好ましい。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an embodiment of the aluminum support 12a.
The aluminum support 12a has a laminated structure in which an aluminum plate 18 and an aluminum anodic oxide film 20a (hereinafter, also simply referred to as “anodized film 20a”) are laminated in this order. The anodic oxide film 20a in the aluminum support 12a is located closer to the image recording layer than the aluminum plate 18. That is, it is preferable that the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure has at least an anodic oxide film, an image recording layer, and a water-soluble resin layer on an aluminum plate in this order.

−陽極酸化皮膜−
以下、陽極酸化皮膜20aの好ましい態様について説明する。
陽極酸化皮膜20aは、陽極酸化処理によってアルミニウム板18の表面に作製される皮膜であって、この皮膜は、皮膜表面に略垂直であり、かつ、個々が均一に分布した極微細なマイクロポア22aを有する。マイクロポア22aは、画像記録層側の陽極酸化皮膜20a表面(アルミニウム板18側とは反対側の陽極酸化皮膜20a表面)から厚み方向(アルミニウム板18側)に沿ってのびる。
-Anodic oxide film-
Hereinafter, preferred embodiments of the anodic oxide film 20a will be described.
The anodic oxide film 20a is a film formed on the surface of the aluminum plate 18 by anodization treatment, and this film is substantially perpendicular to the surface of the film and has ultrafine micropores 22a in which each is uniformly distributed. Has. The micropore 22a extends from the surface of the anodic oxide film 20a on the image recording layer side (the surface of the anodic oxide film 20a on the side opposite to the aluminum plate 18 side) along the thickness direction (aluminum plate 18 side).

陽極酸化皮膜20a中のマイクロポア22aの陽極酸化皮膜表面における平均径(平均開口径)は、10nm超え100nm以下であることが好ましい。中でも、耐刷性、耐汚れ性、及び画像視認性のバランスの点から、15nm〜60nmがより好ましく、20nm〜50nmが更に好ましく、25〜40nmが特に好ましい。ポア内部の径は、表層よりも広がっても狭まってもよい。
平均径が10nmを超えれば、耐刷性及び画像視認性が更に優れる。また、平均径が100nm以下であれば場合、耐刷性が更に優れる。
マイクロポア22aの平均径は、陽極酸化皮膜20a表面を倍率15万倍の電界放出型走査電子顕微鏡(FE−SEM)でN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400nm×600nmの範囲に存在するマイクロポアの径(直径)を50箇所測定し、算術平均値として算出される。
なお、マイクロポア22aの形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
The average diameter (average opening diameter) of the micropores 22a in the anodic oxide film 20a on the surface of the anodic oxide film is preferably more than 10 nm and 100 nm or less. Among them, from the viewpoint of the balance between printing resistance, stain resistance, and image visibility, 15 nm to 60 nm is more preferable, 20 nm to 50 nm is further preferable, and 25 to 40 nm is particularly preferable. The diameter inside the pores may be wider or narrower than the surface layer.
When the average diameter exceeds 10 nm, the printing durability and the image visibility are further excellent. Further, when the average diameter is 100 nm or less, the printing durability is further excellent.
The average diameter of the micropores 22a is 400 nm × 600 nm in the obtained 4 images obtained by observing the surface of the anodized film 20a with a field emission scanning electron microscope (FE-SEM) at a magnification of 150,000 times. The diameter (diameter) of the micropores existing in the range of is measured at 50 points and calculated as an arithmetic average value.
If the shape of the micropore 22a is not circular, the diameter equivalent to the circle is used. The "circle equivalent diameter" is the diameter of a circle when the shape of the opening is assumed to be a circle having the same projected area as the projected area of the opening.

マイクロポア22aの深さは特に制限されないが、10nm〜3,000nmが好ましく、50nm〜2,000nmがより好ましく、300nm〜1,600nmが更に好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜20aの断面の写真(15万倍)をとり、25個以上のマイクロポア22aの深さを測定し、平均した値である。
The depth of the micropore 22a is not particularly limited, but is preferably 10 nm to 3,000 nm, more preferably 50 nm to 2,000 nm, and even more preferably 300 nm to 1,600 nm.
The depth is an average value obtained by taking a photograph (150,000 times) of a cross section of the anodic oxide film 20a and measuring the depths of 25 or more micropores 22a.

マイクロポア22aの形状は特に制限されず、図2では、略直管状(略円柱状)であるが、深さ方向(厚み方向)に向かって径が小さくなる円錐状であってもよい。また、マイクロポア22aの底部の形状は特に制限されず、曲面状(凸状)であっても、平面状であってもよい。 The shape of the micropore 22a is not particularly limited, and in FIG. 2, it is a substantially straight tubular (substantially cylindrical) shape, but may be a conical shape whose diameter decreases in the depth direction (thickness direction). Further, the shape of the bottom portion of the micropore 22a is not particularly limited, and may be curved (convex) or planar.

アルミニウム支持体12aの画像記録層側の表面(陽極酸化皮膜20aの画像記録層側の表面)のL表色系における明度Lの値は、70〜100であることが好ましい。中でも、耐刷性及び画像視認性のバランスがより優れる点で、75〜100が好ましく、75〜90がより好ましい。
上記明度Lの測定は、エックスライト(株)製、色彩色差計Spectro Eyeを用いて測定する。
The value of L * a * b * lightness L * in the color system of the surface of the aluminum support 12a on the image recording layer side (the surface of the anodic oxide film 20a on the image recording layer side) is preferably 70 to 100. .. Among them, 75 to 100 is preferable, and 75 to 90 is more preferable, in that the balance between printing durability and image visibility is more excellent.
The brightness L * is measured using a color difference meter SpecroEye manufactured by X-Rite Co., Ltd.

支持体(1)において、上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ10nm〜1,000nmの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ20nm〜2,000nmの位置までのびる小径孔部とから構成され、上記大径孔部の上記陽極酸化皮膜表面における平均径が15nm〜100nmであり、上記小径孔部の上記連通位置における平均径が13nm以下である態様(以下、この態様に係る支持体を、「支持体(2)」ともいう。)も好ましく挙げられる。
図2は、アルミニウム支持体12aの、図1に示したものとは別の一実施形態の模式的断面図である。
図2において、アルミニウム支持体12bは、アルミニウム板18と、大径孔部24と小径孔部26とから構成されるマイクロポア22bを有する陽極酸化皮膜20bとを含む。
陽極酸化皮膜20b中のマイクロポア22bは、陽極酸化皮膜表面から深さ10nm〜1,000nm(深さD:図2参照)の位置までのびる大径孔部24と、大径孔部24の底部と連通し、連通位置から更に深さ20nm〜2,000nmの位置までのびる小径孔部26とから構成される。
なお、大径孔部24及び小径孔部26の詳細に関しては、例えば、特開2019−162855号公報の段落0107〜0114に記載の通りであり、この態様が本開示においても適用される。
In the support (1), the micropore communicates with the large-diameter hole extending from the surface of the anodic oxide film to a depth of 10 nm to 1,000 nm and the bottom of the large-diameter hole, and is deep from the communication position. It is composed of a small-diameter hole extending from 20 nm to 2,000 nm, and the average diameter of the large-diameter hole on the surface of the anodic oxide film is 15 nm to 100 nm, and the average diameter of the small-diameter hole at the communication position. A mode in which the diameter is 13 nm or less (hereinafter, the support according to this mode is also referred to as “support (2)”) is also preferably mentioned.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the aluminum support 12a according to an embodiment different from that shown in FIG.
In FIG. 2, the aluminum support 12b includes an aluminum plate 18 and an anodic oxide film 20b having a micropore 22b composed of a large-diameter hole portion 24 and a small-diameter hole portion 26.
The micropores 22b in the anodic oxide film 20b have a large-diameter hole portion 24 extending from the surface of the anodic oxide film to a depth of 10 nm to 1,000 nm (depth D: see FIG. 2) and a bottom portion of the large-diameter hole portion 24. It is composed of a small-diameter hole portion 26 extending from the communication position to a depth of 20 nm to 2,000 nm.
The details of the large-diameter hole portion 24 and the small-diameter hole portion 26 are as described in paragraphs 0107 to 0114 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2019-162855, and this aspect is also applied in the present disclosure.

[アルミニウム支持体の製造方法]
本開示におけるアルミニウム支持体の製造方法としては、例えば、以下の工程を順番に実施する製造方法が好ましい。
・粗面化処理工程:アルミニウム板に粗面化処理を施す工程
・陽極酸化処理工程:粗面化処理されたアルミニウム板を陽極酸化する工程
・ポアワイド処理工程:陽極酸化処理工程で得られた陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させ、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる工程
以下、各工程の手順について詳述する。
[Manufacturing method of aluminum support]
As the method for manufacturing the aluminum support in the present disclosure, for example, a manufacturing method in which the following steps are sequentially performed is preferable.
・ Roughening treatment step: Roughening treatment of aluminum plate ・ Anodizing treatment step: Anodizing the roughened aluminum plate ・ Pore wide treatment step: Anodizing obtained in the anodic oxidation treatment step Step of bringing an aluminum plate having an oxide film into contact with an acid aqueous solution or an alkaline aqueous solution to increase the diameter of micropores in the anodized film The procedure of each step will be described in detail below.

(粗面化処理工程)
粗面化処理工程は、アルミニウム板の表面に、電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理
を施す工程である。本工程は、後述する陽極酸化処理工程の前に実施されることが好まし
いが、アルミニウム板の表面がすでに好ましい表面形状を有していれば、特に実施しなく
てもよい。
アルミニウム板に対する粗面化処理は、特開2019−162855号公報の段落0086〜0101に記載された方法で行うことができる。
(Roughening process)
The roughening treatment step is a step of applying a roughening treatment including an electrochemical roughening treatment to the surface of the aluminum plate. This step is preferably carried out before the anodizing treatment step described later, but it may not be carried out in particular as long as the surface of the aluminum plate already has a preferable surface shape.
The roughening treatment for the aluminum plate can be performed by the method described in paragraphs 0086 to 0101 of JP-A-2019-162855.

(陽極酸化処理工程)
陽極酸化処理工程の手順は、上述したマイクロポアが得られれば特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
陽極酸化処理工程においては、硫酸、リン酸、及び、シュウ酸等の水溶液を電解浴として用いることができる。例えば、硫酸の濃度は、100g/L〜300g/Lが挙げられる。
陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって適宜設定されるが、例えば、液温5℃〜70℃(好ましくは10℃〜60℃)、電流密度0.5A/dm〜60A/dm(好ましくは5A/dm〜60A/dm)、電圧1V〜100V(好ましくは5V〜50V)、電解時間1秒〜100秒(好ましくは5秒〜60秒)、及び、皮膜量0.1g/m〜5g/m(好ましくは0.2g/m〜3g/m)が挙げられる。
(Anodizing process)
The procedure of the anodic oxidation treatment step is not particularly limited as long as the above-mentioned micropores can be obtained, and a known method can be mentioned.
In the anodizing treatment step, an aqueous solution of sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid or the like can be used as the electrolytic bath. For example, the concentration of sulfuric acid may be 100 g / L to 300 g / L.
The conditions for the anodizing treatment are appropriately set depending on the electrolytic solution used, and for example, the liquid temperature is 5 ° C to 70 ° C (preferably 10 ° C to 60 ° C), and the current density is 0.5 A / dm 2 to 60 A / dm 2. (Preferably 5A / dm 2 to 60A / dm 2 ), voltage 1V to 100V (preferably 5V to 50V), electrolysis time 1 to 100 seconds (preferably 5 to 60 seconds), and film amount 0.1 g. / M 2 to 5 g / m 2 (preferably 0.2 g / m 2 to 3 g / m 2 ).

(ポアワイド処理)
ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により形成された陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの径(ポア径)を拡大させる処理(孔径拡大処理)である。
ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により得られたアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させることにより行うことができる。接触させる方法は特に制限されず、例えば、浸せき法及びスプレー法が挙げられる。
(Pore wide processing)
The pore wide treatment is a treatment (pore diameter expansion treatment) for enlarging the diameter (pore diameter) of the micropores existing in the anodic oxide film formed by the above-mentioned anodizing treatment step.
The pore-wide treatment can be performed by contacting the aluminum plate obtained by the above-mentioned anodizing treatment step with an acid aqueous solution or an alkaline aqueous solution. The contact method is not particularly limited, and examples thereof include a dipping method and a spraying method.

<下塗り層>
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層(中間層と呼ばれることもある。)を有することが好ましい。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性の低下を抑制しながら現像性を向上させることに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合に、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ効果も有する
<Undercoat layer>
The lithographic printing plate original plate according to the present disclosure preferably has an undercoat layer (sometimes referred to as an intermediate layer) between the image recording layer and the support. The undercoat layer strengthens the adhesion between the support and the image recording layer in the exposed portion, and facilitates peeling of the image recording layer from the support in the unexposed portion, so that the deterioration of printing durability is suppressed. Contributes to improving developability. Further, in the case of infrared laser exposure, the undercoat layer functions as a heat insulating layer, which also has an effect of preventing the heat generated by the exposure from diffusing to the support and reducing the sensitivity.

〔ポリマー〕
下塗り層に用いられる化合物としては、支持体表面に吸着可能な吸着性基及び親水性基を有するポリマーが挙げられる。画像記録層との密着性を向上させるために吸着性基及び親水性基を有し、更に架橋性基を有するポリマーが好ましい。下塗り層に用いられる化合物は、低分子化合物でもポリマーであってもよい。下塗り層に用いられる化合物は、必要に応じて、2種以上を混合して使用してもよい。
〔polymer〕
Examples of the compound used for the undercoat layer include polymers having an adsorptive group and a hydrophilic group that can be adsorbed on the surface of the support. In order to improve the adhesion to the image recording layer, a polymer having an adsorptive group and a hydrophilic group and further having a crosslinkable group is preferable. The compound used for the undercoat layer may be a low molecular weight compound or a polymer. As the compound used for the undercoat layer, two or more kinds may be mixed and used as needed.

下塗り層に用いられる化合物がポリマーである場合、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。
支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、−PO、−OPO、−CONHSO−、−SONHSO−、−COCHCOCHが好ましい。親水性基としては、スルホ基又はその塩、カルボキシ基の塩が好ましい。架橋性基としては、アクリル基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリル基などが好ましい。
ポリマーは、ポリマーの極性置換基と、上記極性置換基と対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。
When the compound used for the undercoat layer is a polymer, a copolymer of a monomer having an adsorptive group, a monomer having a hydrophilic group and a monomer having a crosslinkable group is preferable.
Adsorbable groups that can be adsorbed on the surface of the support include phenolic hydroxy groups, carboxy groups, -PO 3 H 2 , -OPO 3 H 2 , -CONHSO 2- , -SO 2 NHSO 2- , -COCH 2 COCH 3 Is preferable. As the hydrophilic group, a sulfo group or a salt thereof, or a salt of a carboxy group is preferable. As the crosslinkable group, an acrylic group, a methacryl group, an acrylamide group, a methacrylamide group, an allyl group and the like are preferable.
The polymer may have a polar substituent of the polymer and a crosslinkable group introduced by salt formation with a substituent having a countercharge with the polar substituent and a compound having an ethylenically unsaturated bond. A monomer other than the above, preferably a hydrophilic monomer may be further copolymerized.

具体的には、特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が好適に挙げられる。特開2005−238816号、特開2005−125749号、特開2006−239867号、特開2006−215263号の各公報に記載の架橋性基(好ましくは、エチレン性不飽和結合基)、支持体表面と相互作用する官能基及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物も好ましく用いられる。
より好ましいものとして、特開2005−125749号及び特開2006−188038号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。
Specifically, a silane coupling agent having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A No. 10-282679, and an ethylenic substance described in JP-A-2-304441. A phosphorus compound having a double bond reactive group is preferably mentioned. Crosslinkable groups (preferably ethylenically unsaturated bonding groups) and supports described in JP-A-2005-238816, JP-A-2005-125479, JP-A-2006-239867, and JP-A-2006-215263. Low molecular weight or high molecular weight compounds having functional and hydrophilic groups that interact with the surface are also preferably used.
More preferable examples thereof include polymer polymers having an adsorptive group, a hydrophilic group and a crosslinkable group that can be adsorbed on the surface of the support described in JP-A-2005-125479 and JP-A-2006-188038.

下塗り層に用いられるポリマー中のエチレン性不飽和結合基の含有量は、ポリマー1g当たり、好ましくは0.1mmol〜10.0mmol、より好ましくは0.2mmol〜5.5mmolである。
下塗り層に用いられるポリマーの重量平均分子量(Mw)は、5,000以上が好ましく、1万〜30万がより好ましい。
The content of the ethylenically unsaturated bond group in the polymer used for the undercoat layer is preferably 0.1 mmol to 10.0 mmol, more preferably 0.2 mmol to 5.5 mmol per 1 g of the polymer.
The weight average molecular weight (Mw) of the polymer used for the undercoat layer is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000.

〔親水性化合物〕
下塗り層は、現像性の観点から、親水性化合物を含むことが好ましい。
親水性化合物としては、特に制限はなく、下塗り層に用いられる公知の親水性化合物を用いることができる。
親水性化合物としては、カルボキシメチルセルロース、デキストリン等のアミノ基を有するホスホン酸類、有機ホスホン酸、有機リン酸、有機ホスフィン酸、アミノ酸類、並びに、ヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等が好ましく挙げられる。
また、親水性化合物としては、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基と支持体表面と相互作用する基とを有する化合物(例えば、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、2,3,5,6−テトラヒドロキシ−p−キノン、クロラニル、スルホフタル酸、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)又はその塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸又はその塩、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸又はその塩、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸又はその塩など)が好ましく挙げられる。
[Hydrophilic compound]
The undercoat layer preferably contains a hydrophilic compound from the viewpoint of developability.
The hydrophilic compound is not particularly limited, and a known hydrophilic compound used for the undercoat layer can be used.
Preferred examples of the hydrophilic compound include phosphonic acids having an amino group such as carboxymethyl cellulose and dextrin, organic phosphonic acids, organic phosphoric acids, organic phosphinic acids, amino acids, and hydrochlorides of amines having a hydroxy group.
Further, as the hydrophilic compound, a compound having an amino group or a functional group having a polymerization prohibition ability and a group interacting with the surface of the support (for example, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO)). , 2,3,5,6-tetrahydroxy-p-quinone, chloranyl, sulfophthalic acid, ethylenediaminediacetic acid (EDTA) or a salt thereof, hydroxyethylethylenediaminediacetic acid or a salt thereof, dihydroxyethylethylenediaminediacetic acid or a salt thereof, hydroxy Ethylenediaminediacetic acid or a salt thereof, etc.) are preferably mentioned.

親水性化合物としては、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことが好ましい。
また、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩は、傷汚れ抑制性の観点から、上記アルミニウム支持体上の層に含まれることが好ましい。また、上記アルミニウム支持体上の層は、画像記録層が形成されている側の層であることが好ましく、また、上記アルミニウム支持体と接する層であることが好ましい。
上記アルミニウム支持体上の層としては、上記アルミニウム支持体と接する層として、下塗り層又は画像記録層が好ましく挙げられる。また、上記アルミニウム支持体と接する層以外の層、例えば、最外層又は画像記録層に、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩が含まれていてもよい。
本開示に係る平版印刷版原版において、画像記録層が、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことが好ましい。
また、本開示に係る平版印刷版原版において、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面が、少なくともヒドロキシカルボン酸又はその塩を含む組成物(例えば、水溶液等)により表面処理される態様も好ましく挙げられる。上記態様である場合、処理されたヒドロキシカルボン酸又はその塩は、アルミニウム支持体と接する画像記録層側の層(例えば、画像記録層又は下塗り層)に含まれた状態で少なくとも一部を検出することができる。
下塗り層等のアルミニウム支持体と接する画像記録層側の層にヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことにより、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面を親水化することができ、また、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角を110°以下と容易にすることができ、傷汚れ抑制性に優れる。
The hydrophilic compound preferably contains a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof from the viewpoint of suppressing scratches and stains.
Further, the hydrophilic compound, preferably a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof, is preferably contained in the layer on the aluminum support from the viewpoint of suppressing scratches and stains. Further, the layer on the aluminum support is preferably a layer on the side where the image recording layer is formed, and is preferably a layer in contact with the aluminum support.
As the layer on the aluminum support, an undercoat layer or an image recording layer is preferably mentioned as a layer in contact with the aluminum support. Further, a layer other than the layer in contact with the aluminum support, for example, the outermost layer or the image recording layer may contain a hydrophilic compound, preferably a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof.
In the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure, it is preferable that the image recording layer contains a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof from the viewpoint of suppressing scratches and stains.
Further, in the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure, an embodiment in which the surface of the aluminum support on the image recording layer side is surface-treated with a composition containing at least hydroxycarboxylic acid or a salt thereof (for example, an aqueous solution) is also preferably mentioned. Be done. In the above embodiment, the treated hydroxycarboxylic acid or a salt thereof is detected at least in a state of being contained in a layer on the image recording layer side (for example, an image recording layer or an undercoat layer) in contact with an aluminum support. be able to.
By containing hydroxycarboxylic acid or a salt thereof in the layer on the image recording layer side in contact with the aluminum support such as the undercoat layer, the surface of the aluminum support on the image recording layer side can be made hydrophilic, and the aluminum support can also be made hydrophilic. The contact angle with water on the surface of the image recording layer side by the aerial water droplet method can be easily set to 110 ° or less, and the scratch and stain suppression property is excellent.

ヒドロキシカルボン酸とは、1分子中に1個以上のカルボキシ基と1個以上のヒドロキシ基とを有する有機化合物の総称のことであり、ヒドロキシ酸、オキシ酸、オキシカルボン酸、アルコール酸とも呼ばれる(岩波理化学辞典第5版、(株)岩波書店発行(1998)参照)。
上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩は、下記式(HC)で表されるものが好ましい。
式(HC) : RHC(OH)mhc(COOMHCnhc
式(HC)中、RHCはmhc+nhc価の有機基を表し、MHCは、それぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属、又はオニウムを表し、mhc及びnhcは、それぞれ独立に、1以上の整数を表し、nが2以上の場合、Mは同じでも異なってもよい。
Hydroxycarboxylic acid is a general term for organic compounds having one or more carboxy groups and one or more hydroxy groups in one molecule, and is also called hydroxy acid, oxy acid, oxycarboxylic acid, or alcoholic acid (). Iwanami Physics and Chemistry Dictionary 5th Edition, published by Iwanami Shoten Co., Ltd. (1998)).
The hydroxycarboxylic acid or a salt thereof is preferably represented by the following formula (HC).
Formula (HC): R HC (OH) mhc ( COM HC ) nhc
In formula (HC), R HC represents a mhc + nhc valent organic group, M HC independently represents a hydrogen atom, an alkali metal, or onium, and mhc and nhc each independently represent an integer of 1 or more. Represented, when n is 2 or more, M may be the same or different.

式(HC)において、RHCで表されるmhc+nhc価の有機基としては、mhc+nhc価の炭化水素基等が挙げられる。炭化水素基は置換基及び/又は連結基を有してもよい。
炭化水素基としては、脂肪族炭化水素から誘導されるmhc+nhc価の基、例えば、アルキレン基、アルカントリイル基、アルカンテトライル基、アルカンペンタイル基、アルケニレン基、アルケントリイル基、アルケンテトライル基、アルケンペンタイル基、アルキニレン基、アルキントリイル基、アルキンテトライル基、アルキンペンタイル基等、芳香族炭化水素から誘導されるmhc+nhc価の基、例えば、アリーレン基、アレーントリイル基、アレーンテトライル基、アレーンペンタイル基等が挙げられる。置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基等が挙げられる。置換基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル基等が挙げられる。また、連結基は、水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子により構成されるもので、その原子数は好ましくは1〜50である。具体的には、アルキレン基、置換アルキレン基、アリーレン基、置換アリーレン基などが挙げられ、これらの2価の基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合及びエステル結合のいずれかで複数連結された構造を有していてもよい。
In the formula (HC), as the organic group for mhc + NHC value represented by R HC, it includes mhc + NHC valent hydrocarbon group. The hydrocarbon group may have a substituent and / or a linking group.
Examples of the hydrocarbon group include a group having a mhc + nhc valence derived from an aliphatic hydrocarbon, for example, an alkylene group, an alkanthryl group, an alkanetetrayl group, an alcantyl group, an alkenylene group, an alkanthryl group and an alkentetrayl group. Groups of mhc + nhc valence derived from aromatic hydrocarbons such as groups, alkenylpentyl groups, alkynylene groups, alkyntriyl groups, alkynetetrayl groups, alkynpentyl groups, etc., such as allylene groups, allenetriyl groups, allenes. Examples thereof include a tetrayl group and an arenepentile group. Examples of the substituent include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group, an aryl group and the like. Specific examples of the substituent include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group, a dodecyl group, a tridecyl group and a hexadecyl group. Octadecyl group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, Cyclopentyl group, 2-norbornyl group, methoxymethyl group, methoxyethoxyethyl group, allyloxymethyl group, phenoxymethyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1- Methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2- Butynyl group, 3-butynyl group, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, trill group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group , Methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, phenoxycarbonylphenyl group and the like. The linking group is composed of at least one atom selected from the group consisting of a hydrogen atom, a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom and a halogen atom, and the number of atoms thereof is preferably 1 to 50. Is. Specific examples thereof include an alkylene group, a substituted alkylene group, an arylene group, a substituted arylene group and the like, and a plurality of these divalent groups are linked by any of an amide bond, an ether bond, a urethane bond, a urea bond and an ester bond. It may have a structure that has been modified.

HCで表されるアルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。オニウムとしてはアンモニウム、ホスホニウム、スルホニウム等が挙げられ、アンモニウムが特に好ましい。
また、MHCは、傷汚れ抑制性の観点から、アルカリ金属又はオニウムであることが好ましく、アルカリ金属であることがより好ましい。
mhcとnhcとの総数は、3以上が好ましく、3〜8がより好ましく、4〜6が更に好ましい。
Examples of the alkali metal represented by MHC include lithium, sodium, potassium and the like, and sodium is particularly preferable. Examples of onium include ammonium, phosphonium, sulfonium and the like, and ammonium is particularly preferable.
Further, M HC, from the viewpoint of scratch stain inhibitory, preferably an alkali metal or an onium, and more preferably an alkali metal.
The total number of mhc and nhc is preferably 3 or more, more preferably 3 to 8, and even more preferably 4 to 6.

上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩は、分子量が600以下であることが好ましく、500以下であることがより好ましく、300以下であることが特に好ましい。また、上記分子量は、76以上であることが好ましい。
上記ヒドロキシカルボン酸、又は、上記ヒドロキシカルボン酸の塩を構成するヒドロキシカルボン酸は、具体的には、グルコン酸、グリコール酸、乳酸、タルトロン酸、ヒドロキシ酪酸(2−ヒドロキシ酪酸、3−ヒドロキシ酪酸、γ−ヒドロキシ酪酸等)、リンゴ酸、酒石酸、シトラマル酸、クエン酸、イソクエン酸、ロイシン酸、メバロン酸、パントイン酸、リシノール酸、リシネライジン酸、セレブロン酸、キナ酸、シキミ酸、モノヒドロキシ安息香酸誘導体(サリチル酸、クレオソート酸(ホモサリチル酸、ヒドロキシ(メチル)安息香酸)、バニリン酸、シリング酸等)、ジヒドロキシ安息香酸誘導体(ピロカテク酸、レソルシル酸、プロトカテク酸、ゲンチジン酸、オルセリン酸等)、トリヒドロキシ安息香酸誘導体(没食子酸等)、フェニル酢酸誘導体(マンデル酸、ベンジル酸、アトロラクチン酸等)、ヒドロケイヒ酸誘導体(メリロト酸、フロレト酸、クマル酸、ウンベル酸、コーヒー酸、フェルラ酸、シナピン酸、セレブロン酸、カルミン酸等)等が挙げられる。
The hydroxycarboxylic acid or a salt thereof preferably has a molecular weight of 600 or less, more preferably 500 or less, and particularly preferably 300 or less. Moreover, the molecular weight is preferably 76 or more.
Specifically, the hydroxycarboxylic acid constituting the hydroxycarboxylic acid or the salt of the hydroxycarboxylic acid is gluconic acid, glycolic acid, lactic acid, tartron acid, hydroxybutyric acid (2-hydroxybutyric acid, 3-hydroxybutyric acid, γ-Hydroxybutyric acid, etc.), malic acid, tartaric acid, citramalic acid, citric acid, isocitrate, leucic acid, mevalonic acid, pantoic acid, lysynolic acid, lysine lysic acid, cerebronic acid, quinic acid, shikimic acid, monohydroxybenzoic acid derivative (Salicylic acid, cleosortic acid (homosalicylic acid, hydroxy (methyl) benzoic acid), vanillic acid, syring acid, etc.), dihydroxybenzoic acid derivatives (pyrocatechuic acid, resorcylic acid, protocatechuic acid, gentidic acid, orceric acid, etc.), trihydroxy Benzoic acid derivatives (such as galvanic acid), phenylacetic acid derivatives (mandelic acid, benzylic acid, atrolactinic acid, etc.), hydrosilicic acid derivatives (merilotoic acid, floret acid, bear acid, umbel acid, coffee acid, ferulic acid, cinnapic acid, etc.) Celebronic acid, carmic acid, etc.) and the like.

これらの中でも、上記ヒドロキシカルボン酸、又は、上記ヒドロキシカルボン酸の塩を構成するヒドロキシカルボン酸としては、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシ基を2個以上有している化合物が好ましく、ヒドロキシ基を3個以上有している化合物がより好ましく、ヒドロキシ基を5個以上有している化合物が更に好ましく、ヒドロキシ基を5個〜8個有している化合物が特に好ましい。
また、カルボキシ基を1個、ヒドロキシ基を2個以上有しているものとしては、グルコン酸、又は、シキミ酸が好ましい。
カルボキシ基を2個以上、ヒドロキシ基を1個有しているものとしては、クエン酸、又は、リンゴ酸が好ましい。
カルボキシ基及びヒドロキシ基をそれぞれ2個以上有しているものとしては、酒石酸が好ましい。
中でも、上記ヒドロキシカルボン酸としては、グルコン酸が特に好ましい。
Among these, as the hydroxycarboxylic acid or the hydroxycarboxylic acid constituting the salt of the hydroxycarboxylic acid, a compound having two or more hydroxy groups is preferable from the viewpoint of suppressing scratches and stains, and the hydroxy group is preferable. A compound having 3 or more hydroxy groups is more preferable, a compound having 5 or more hydroxy groups is further preferable, and a compound having 5 to 8 hydroxy groups is particularly preferable.
Further, as a substance having one carboxy group and two or more hydroxy groups, gluconic acid or shikimic acid is preferable.
Citric acid or malic acid is preferable as having two or more carboxy groups and one hydroxy group.
Tartaric acid is preferable as having two or more carboxy groups and hydroxy groups, respectively.
Among them, gluconic acid is particularly preferable as the hydroxycarboxylic acid.

親水性化合物は、1種単独で用いてもよく、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。 The hydrophilic compound may be used alone or in combination of two or more.

下塗り層が親水性化合物(好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩)を含む場合、親水性化合物(好ましくはヒドロキシカルボン酸及びその塩)の含有量は、下塗り層の全質量に対し、0.01質量%〜50質量%であることが好ましく、0.1質量%〜40質量%であることがより好ましく、1.0質量%〜30質量%であることが特に好ましい。 When the undercoat layer contains a hydrophilic compound (preferably hydroxycarboxylic acid or a salt thereof), the content of the hydrophilic compound (preferably hydroxycarboxylic acid and a salt thereof) is 0.01 mass by mass with respect to the total mass of the undercoat layer. It is preferably% to 50% by mass, more preferably 0.1% by mass to 40% by mass, and particularly preferably 1.0% by mass to 30% by mass.

下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時による汚れ防止のため、キレート剤、
第二級又は第三級アミン、重合禁止剤等を含有してもよい。
In addition to the above-mentioned compound for the undercoat layer, the undercoat layer is a chelating agent to prevent stains over time.
It may contain a secondary or tertiary amine, a polymerization inhibitor and the like.

下塗り層は、必要な上記各成分を公知の溶剤に溶解して塗布液を調製し、塗布液を支持体上に公知の方法で塗布し、乾燥することにより形成することができる。
下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1mg/m〜300mg/mが好ましく、5mg/m〜200mg/mがより好ましい。
The undercoat layer can be formed by dissolving each of the above-mentioned necessary components in a known solvent to prepare a coating liquid, applying the coating liquid on the support by a known method, and drying.
The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1mg / m 2 ~300mg / m 2 , 5mg / m 2 ~200mg / m 2 is more preferable.

本開示に係る平版印刷版原版は、上述した以外のその他の層を有していてもよい。
その他の層としては、特に制限はなく、公知の層を有することができる。例えば、支持体の画像記録層側とは反対側には、必要に応じてバックコート層が設けられていてもよい。
The lithographic printing plate original plate according to the present disclosure may have other layers other than those described above.
The other layer is not particularly limited and may have a known layer. For example, a back coat layer may be provided on the side of the support opposite to the image recording layer side, if necessary.

≪平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法≫
本開示に係る平版印刷版原版を画像露光して現像処理を行うことで平版印刷版を作製することができる。
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を、画像様に露光する工程(以下、「露光工程」ともいう。)と、印刷機上で印刷インキ及び湿し水からなる群より選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程(以下、「機上現像工程」ともいう。)と、を含むことが好ましい。
本開示に係る平版印刷方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程(露光工程)と、印刷インキ及び湿し水からなる群より選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程(機上現像工程)と、得られた平版印刷版により印刷する工程(以下、「印刷工程」ともいう)と、を含むことが好ましい。
≪Manufacturing method of lithographic printing plate and lithographic printing method≫
A lithographic printing plate can be produced by exposing the original plate of the lithographic printing plate according to the present disclosure to an image and performing a developing process.
The method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure includes a step of exposing the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure to an image (hereinafter, also referred to as an “exposure step”), and printing ink and wetting on a printing machine. It is preferable to include a step of supplying at least one selected from the group consisting of water to remove the image recording layer of the non-image portion (hereinafter, also referred to as “on-machine development step”).
In the flat plate printing method according to the present disclosure, printing is performed by supplying at least one selected from the group consisting of a step of exposing the flat plate printing plate original plate according to the present disclosure to an image (exposure step) and a group consisting of printing ink and dampening water. A step of producing a flat plate printing plate by removing the image recording layer of the non-image portion on the machine (machine development step), and a step of printing with the obtained flat plate printing plate (hereinafter, also referred to as "printing process"). It is preferable to include.

以下、本開示に係る平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法について、各工程の好ましい態様を順に説明する。なお、本開示に係る平版印刷版原版は、現像液によっても現像可能である。
以下、平版印刷版の作製方法における露光工程及び機上現像工程について説明するが、本開示に係る平版印刷版の作製方法における露光工程と、本開示に係る平版印刷方法における露光工程とは同様の工程であり、本開示に係る平版印刷版の作製方法における機上現像工程と、本開示に係る平版印刷方法における機上現像工程とは同様の工程である。
Hereinafter, preferred embodiments of each step will be sequentially described with respect to the method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure and the lithographic printing method according to the present disclosure. The lithographic printing plate original plate according to the present disclosure can also be developed with a developing solution.
Hereinafter, the exposure step and the on-machine development step in the lithographic printing plate manufacturing method will be described, but the exposure step in the lithographic printing plate manufacturing method according to the present disclosure and the exposure step in the lithographic printing method according to the present disclosure are the same. It is a step, and the on-machine development step in the method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure and the on-machine development step in the lithographic printing method according to the present disclosure are the same steps.

<露光工程>
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程を含むことが好ましい。本開示に係る平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光されることが好ましい。
光源の波長は750nm〜1,400nmが好ましく用いられる。波長750nm〜1,400nmの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10mJ/cm〜300mJ/cmであるのが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、及びフラットベッド方式等のいずれでもよい。
画像露光は、プレートセッターなどを用いて常法により行うことができる。機上現像の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光を行ってもよい。
<Exposure process>
The method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure preferably includes an exposure step of exposing the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure to an image to form an exposed portion and an unexposed portion. It is preferable that the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure is exposed to an image by laser exposure through a transparent original image having a line image, a halftone dot image, or the like, or by laser light scanning with digital data.
The wavelength of the light source is preferably 750 nm to 1,400 nm. As a light source having a wavelength of 750 nm to 1,400 nm, a solid-state laser or a semiconductor laser that emits infrared rays is suitable. For the infrared laser, the output is preferably more than 100 mW, preferably, the exposure time per pixel is preferably within 20 microseconds, also that the amount of irradiation energy is 10mJ / cm 2 ~300mJ / cm 2 preferable. Further, it is preferable to use a multi-beam laser device in order to shorten the exposure time. The exposure mechanism may be any of an inner drum method, an outer drum method, a flatbed method and the like.
Image exposure can be performed by a conventional method using a platesetter or the like. In the case of on-machine development, the lithographic printing plate original plate may be mounted on the printing machine and then the image may be exposed on the printing machine.

<機上現像工程>
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、印刷機上で印刷インキ及び湿し水からなる群より選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する機上現像工程を含むことが好ましい。
以下に、機上現像方式について説明する。
<In-machine development process>
The method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure is an on-machine development step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water on a printing machine to remove an image recording layer in a non-image area. It is preferable to include it.
The on-machine development method will be described below.

〔機上現像方式〕
機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で油性インキと水性成分とを供給し、非画像部の画像記録層が除去されて平版印刷版が作製されることが好ましい。
すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、何らの現像処理を施すことなくそのまま印刷機に装着するか、あるいは、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、油性インキと水性成分とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された油性インキ及び水性成分のいずれか又は両方によって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、油性インキでもよく、水性成分でもよいが、水性成分が除去された画像記録層の成分によって汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給することが好ましい。このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキ及び湿し水が好適に用いられる。
[In-machine development method]
In the on-machine development method, the image-exposed lithographic printing plate original plate supplies oil-based ink and water-based components on the printing machine, and the image recording layer in the non-image area is removed to produce a lithographic printing plate. Is preferable.
That is, either the flat plate printing plate original plate is mounted on the printing machine as it is without any development processing after the image exposure, or the flat plate printing plate original plate is mounted on the printing machine and then the image is exposed on the printing machine, and then When printing is performed by supplying an oil-based ink and a water-based component, in the non-image area, an uncured image recording layer is formed by one or both of the supplied oil-based ink and the water-based component in the initial stage of printing. It dissolves or disperses and is removed, exposing a hydrophilic surface to that portion. On the other hand, in the exposed portion, the image recording layer cured by exposure forms an oil-based ink receiving portion having a lipophilic surface. The first supply to the plate surface may be an oil-based ink or a water-based component, but the oil-based ink is first supplied in terms of preventing contamination by the components of the image recording layer from which the water-based components have been removed. Is preferable. In this way, the lithographic printing plate original plate is developed on the printing machine and used as it is for printing a large number of sheets. As the oil-based ink and the water-based component, ordinary printing ink for lithographic printing and dampening water are preferably used.

上記本開示に係る平版印刷版原版を画像露光するレーザーとしては、光源の波長は300nm〜450nm又は750nm〜1,400nmが好ましく用いられる。300nm〜450nmの光源の場合は、この波長領域に吸収極大を有する増感色素を画像記録層に含有する平版印刷版原版が好ましく用いられ、750nm〜1,400nmの光源は上述したものが好ましく用いられる。300nm〜450nmの光源としては、半導体レーザーが好適である。 As the laser for image-exposing the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure, the wavelength of the light source is preferably 300 nm to 450 nm or 750 nm to 1,400 nm. In the case of a light source of 300 nm to 450 nm, a lithographic printing plate original plate containing a sensitizing dye having an absorption maximum in this wavelength region in the image recording layer is preferably used, and a light source of 750 nm to 1,400 nm is preferably used as described above. Be done. As a light source of 300 nm to 450 nm, a semiconductor laser is suitable.

<印刷工程>
本開示に係る平版印刷方法は、平版印刷版に印刷インキを供給して記録媒体を印刷する印刷工程を含む。
印刷インキとしては、特に制限はなく、所望に応じ、種々の公知のインキを用いることができる。また、印刷インキとしては、油性インキ又は紫外線硬化型インキ(UVインキ)が好ましく挙げられる。
また、上記印刷工程においては、必要に応じ、湿し水を供給してもよい。
また、上記印刷工程は、印刷機を停止することなく、上記機上現像工程に連続して行われてもよい。
記録媒体としては、特に制限はなく、所望に応じ、公知の記録媒体を用いることができる。
<Printing process>
The lithographic printing method according to the present disclosure includes a printing step of supplying printing ink to a lithographic printing plate to print a recording medium.
The printing ink is not particularly limited, and various known inks can be used as desired. Moreover, as a printing ink, an oil-based ink or an ultraviolet curable ink (UV ink) is preferably mentioned.
Further, in the printing process, dampening water may be supplied as needed.
Further, the printing process may be continuously performed in the on-machine development process without stopping the printing machine.
The recording medium is not particularly limited, and a known recording medium can be used if desired.

本開示に係る平版印刷版原版からの平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法においては、必要に応じて、露光前、露光中、露光から現像までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。このような加熱により、画像記録層中の画像形成反応が促進され、感度及び耐刷性の向上や感度の安定化等の利点が生じ得る。現像前の加熱は150℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。上記態様であると、非画像部が硬化してしまう等の問題を防ぐことができる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用することが好ましく、100℃〜500℃の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、十分な画像強化作用が得られまた、支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を抑制することができる。 In the method for producing a lithographic printing plate from the lithographic printing plate original plate according to the present disclosure and the lithographic printing method according to the present disclosure, lithographic printing is performed before, during, and between exposure and development as necessary. The entire surface of the plate may be heated. By such heating, the image formation reaction in the image recording layer is promoted, and advantages such as improvement of sensitivity and printing durability and stabilization of sensitivity may occur. The heating before development is preferably performed under mild conditions of 150 ° C. or lower. With the above aspect, it is possible to prevent problems such as hardening of the non-image portion. It is preferable to use very strong conditions for heating after development, preferably in the range of 100 ° C to 500 ° C. Within the above range, a sufficient image enhancement effect can be obtained, and problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image portion can be suppressed.

以下、実施例により本開示を詳細に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。なお、本実施例において、「%」、「部」とは、特に断りのない限り、それぞれ「質量%」、「質量部」を意味する。なお、高分子化合物において、特別に規定したもの以外は、分子量は重量平均分子量(Mw)であり、構成繰り返し単位の比率はモル百分率である。また、重量平均分子量(Mw)は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法によるポリスチレン換算値として測定した値である。 Hereinafter, the present disclosure will be described in detail by way of examples, but the present disclosure is not limited thereto. In this embodiment, "%" and "part" mean "% by mass" and "part by mass", respectively, unless otherwise specified. In the polymer compound, the molecular weight is the weight average molecular weight (Mw), and the ratio of the constituent repeating units is the molar percentage, except for those specified specifically. The weight average molecular weight (Mw) is a value measured as a polystyrene-equivalent value by a gel permeation chromatography (GPC) method.

〔実施例1〜22及び比較例1〜3〕
<支持体の準備>
(a)アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%及びアルミニウムイオン濃度6.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度70℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、5g/mであった。
[Examples 1 to 22 and Comparative Examples 1 to 3]
<Preparation of support>
(A) Alkaline etching treatment An aqueous caustic soda solution having a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass was sprayed onto an aluminum plate at a temperature of 70 ° C. to perform an etching treatment. Then, it was washed with water by spraying. The amount of aluminum dissolved on the surface to be subjected to the electrochemical roughening treatment later was 5 g / m 2 .

(b)酸性水溶液を用いたデスマット処理(第1デスマット処理)
次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸150g/Lの水溶液を用いた。その液温は30℃であった。酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて吹き付けて、3秒間デスマット処理を行った。その後、水洗処理を行った。
(B) Desmat treatment using an acidic aqueous solution (first desmat treatment)
Next, a desmat treatment was performed using an acidic aqueous solution. As the acidic aqueous solution used for the desmat treatment, an aqueous solution of sulfuric acid 150 g / L was used. The liquid temperature was 30 ° C. An acidic aqueous solution was sprayed onto an aluminum plate to perform desmat treatment for 3 seconds. Then, it was washed with water.

(c)電気化学的粗面化処理
次に、塩酸濃度14g/L、アルミニウムイオン濃度13g/L、及び、硫酸濃度3g/Lの電解液を用い、交流電流を用いて電気化学的粗面化処理を行った。電解液の液温は30℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。
交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は50Hz、交流電流1周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は1:1、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で75A/dmであった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で450C/dmであり、電解処理は112.5C/dmずつ4秒間の通電間隔を開けて4回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。
(C) Electrochemical roughening treatment Next, an electrolytic solution having a hydrochloric acid concentration of 14 g / L, an aluminum ion concentration of 13 g / L, and a sulfuric acid concentration of 3 g / L is used, and electrochemical roughening is performed using an AC current. Processing was performed. The liquid temperature of the electrolytic solution was 30 ° C. The aluminum ion concentration was adjusted by adding aluminum chloride.
The AC current waveform is a sinusoidal wave with symmetrical positive and negative waveforms, the frequency is 50 Hz, the anode reaction time and cathode reaction time in one AC current cycle are 1: 1, and the current density is the peak current value of the AC current waveform. It was 75 A / dm 2. The electric amount was 450C / dm 2 in terms of the total electric quantity aluminum plate participating in the anode reaction, electrolytic treatment was carried out four times to open the energization interval 112.5C / dm 2 by 4 seconds. A carbon electrode was used as the counter electrode of the aluminum plate. Then, it was washed with water.

(d)アルカリエッチング処理
電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%及びアルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度45℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量は0.2g/mであった。その後、水洗処理を行った。
(D) Alkaline etching treatment An etching treatment is performed by spraying an aqueous solution of Kasei soda having a Kasei soda concentration of 5% by mass and an aluminum ion concentration of 0.5% by mass on an electrochemically roughened aluminum plate at a temperature of 45 ° C. rice field. The dissolved amount of aluminum on the surface subjected to the electrochemical roughening treatment was 0.2 g / m 2 . Then, it was washed with water.

(e)酸性水溶液を用いたデスマット処理
次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。具体的には、酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて吹き付けて、3秒間デスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸濃度170g/L及びアルミニウムイオン濃度5g/Lの水溶液を用いた。その液温は30℃であった。
(E) Desmat treatment using an acidic aqueous solution Next, a desmat treatment was performed using an acidic aqueous solution. Specifically, an acidic aqueous solution was sprayed onto an aluminum plate to perform a desmat treatment for 3 seconds. As the acidic aqueous solution used for the desmat treatment, an aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 170 g / L and an aluminum ion concentration of 5 g / L was used. The liquid temperature was 30 ° C.

(f)第1段階の陽極酸化処理
図3に示す構造の直流電解による陽極酸化処理装置610を用いて、第1段階の陽極酸化処理(第1陽極酸化処理ともいう)を行った。具体的には、下記表1に示す「第1陽極酸化処理」欄の条件にて第1陽極酸化処理を行い、所定の皮膜量の陽極酸化皮膜を形成した。
以下、図3に示す陽極酸化処理装置610について説明する。
図3に示す陽極酸化処理装置610において、アルミニウム板616は、図3中矢印で示すように搬送される。電解液618が貯溜された給電槽612にてアルミニウム板616は給電電極620によって(+)に荷電される。そして、アルミニウム板616は、給電槽612においてローラ622によって上方に搬送され、ニップローラ624によって下方に方向変換された後、電解液626が貯溜された電解処理槽614に向けて搬送され、ローラ628によって水平方向に方向転換される。次いで、アルミニウム板616は、電解電極630によって(−)に荷電されることにより、その表面に陽極酸化皮膜が形成され、電解処理槽614を出たアルミニウム板616は後工程に搬送される。陽極酸化装置610において、ローラ622、ニップローラ624、及びローラ628によって方向転換手段が構成され、アルミニウム板616は、給電槽612と電解処理槽614との槽間部において、上記ローラ622、624及び628により、山型及び逆U字型に搬送される。給電電極620と電解電極630とは、直流電源634に接続されている。
(F) First-stage anodizing treatment The first-stage anodizing treatment (also referred to as first anodic oxidation treatment) was performed using the anodic oxidation treatment apparatus 610 by direct current electrolysis having the structure shown in FIG. Specifically, the first anodizing treatment was performed under the conditions of the "first anodizing treatment" column shown in Table 1 below to form an anodized film having a predetermined film amount.
Hereinafter, the anodizing treatment apparatus 610 shown in FIG. 3 will be described.
In the anodizing apparatus 610 shown in FIG. 3, the aluminum plate 616 is conveyed as shown by an arrow in FIG. The aluminum plate 616 is charged to (+) by the feeding electrode 620 in the feeding tank 612 in which the electrolytic solution 618 is stored. Then, the aluminum plate 616 is conveyed upward by the roller 622 in the power supply tank 612, turned downward by the nip roller 624, and then conveyed toward the electrolytic treatment tank 614 in which the electrolytic solution 626 is stored, and is conveyed by the roller 628. Turns horizontally. Next, the aluminum plate 616 is charged to (−) by the electrolytic electrode 630 to form an anodic oxide film on the surface thereof, and the aluminum plate 616 leaving the electrolytic treatment tank 614 is conveyed to a subsequent step. In the anodizing apparatus 610, the roller 622, the nip roller 624, and the roller 628 constitute a turning means, and the aluminum plate 616 is formed in the inter-tank portion between the feeding tank 612 and the electrolytic treatment tank 614, and the rollers 622, 624, and 628 are described. Is transported in a chevron shape and an inverted U shape. The feeding electrode 620 and the electrolytic electrode 630 are connected to a DC power supply 634.

(g)ポアワイド処理
上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度40℃、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液に下記表1に示す条件で浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
(G) Pore-wide treatment The aluminum plate that has been anodized is immersed in a Kasei-soda aqueous solution having a temperature of 40 ° C., a Kasei-soda concentration of 5% by mass, and an aluminum ion concentration of 0.5% by mass under the conditions shown in Table 1 below to perform a pore-wide treatment. rice field. Then, it was washed with water by spraying.

(h)第2陽極酸化処理
図3に示す構造の直流電解による陽極酸化処理装置610を用いて、第2段階の陽極酸化処理(第2陽極酸化処理ともいう)を行った。具体的には、下記表1に示す「第2陽極酸化処理」欄の条件にて第2陽極酸化処理を行い、所定の皮膜量の陽極酸化皮膜を形成した。
(H) Second Anodizing Treatment A second-stage anodizing treatment (also referred to as a second anodizing treatment) was performed using an anodizing treatment apparatus 610 by direct current electrolysis having the structure shown in FIG. Specifically, the second anodizing treatment was performed under the conditions of the "second anodizing treatment" column shown in Table 1 below to form an anodized film having a predetermined film amount.

以上のようにして、支持体を作製した。
得られた支持体の、マイクロポアの陽極酸化皮膜表面のL表色系における明度L、マイクロポアにおける大径孔部の酸化皮膜表面における平均径及び深さ、マイクロポアにおける小径孔部の連通位置における平均径(nm)及び深さ、大径孔部及び小径孔部の深さ(nm)、マイクロポア密度、並びに、小径孔部の底部からアルミニウム板表面までの陽極酸化皮膜の厚み(皮膜厚ともいう)を、表2にまとめて示す。
なお、表1中、第1陽極酸化処理欄の皮膜量(AD)量と第2陽極酸化処理欄の皮膜量(AD)とは、各処理で得られた皮膜量を表す。なお、使用される電解液は、表1中の成分を含む水溶液である。
The support was manufactured as described above.
The L * a * b * lightness L * of the surface of the anodic oxide film of the micropores of the obtained support, the average diameter and depth of the large-diameter pores in the micropores on the surface of the oxide film, and the micropores. Average diameter (nm) and depth at the communication position of the small diameter hole, depth (nm) of the large diameter hole and the small diameter hole, micropore density, and anodic oxidation from the bottom of the small diameter hole to the surface of the aluminum plate. The thickness of the film (also referred to as the film thickness) is summarized in Table 2.
In Table 1, the film amount (AD) in the first anodizing treatment column and the film amount (AD) in the second anodizing treatment column represent the film amount obtained by each treatment. The electrolytic solution used is an aqueous solution containing the components in Table 1.

Figure 2021189319
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Figure 2021189319
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<下塗り層の形成>
得られた支持体上に、下記組成の下塗り層塗布液を乾燥塗布量が0.1g/mになるよう塗布して、下塗り層を形成した。
<Formation of undercoat layer>
An undercoat layer coating solution having the following composition was applied onto the obtained support so that the dry coating amount was 0.1 g / m 2 to form an undercoat layer.

〔下塗り層用塗布液〕
・下塗り層用化合物(下記U−1、11%水溶液):0.10502部
・グルコン酸ナトリウム:0.0700部
・界面活性剤(エマレックス(登録商標) 710、日本エマルジョン(株)):0.00159部
・防腐剤(バイオホープL、ケイ・アイ化成(株)):0.00149部
・水:3.29000部
[Coating liquid for undercoat layer]
-Compound for undercoat layer (U-1, 11% aqueous solution below): 0.10502 parts-Sodium gluconate: 0.0700 parts-Surfactant (Emarex (registered trademark) 710, Nippon Emulsion Co., Ltd.): 0 .00159 parts ・ Preservative (Biohope L, KAI Kasei Co., Ltd.): 0.00149 parts ・ Water: 3.29000 parts

Figure 2021189319
Figure 2021189319

<画像記録層の形成>
下塗り層上に、下記表3に記載の各成分を含む画像記録層塗布液(ただし、画像記録層塗布液は、表3に記載の各成分を含み、且つ、1−メトキシ−2−プロパノール(MFG):メチルエチルケトン(MEK):メタノール=4:4:1(質量比)の混合溶媒で固形分が6質量%になるように調製したもの)をバー塗布し、120℃で40秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量1.0g/mの画像記録層を形成した。
なお、ポリマー粒子(ミクロゲル)を含む画像記録層塗布液の調製は、下記ミクロゲル液以外の成分を混合した感光液と、下記ミクロゲル液とを塗布直前に混合し撹拌することにより調製した。
<Formation of image recording layer>
An image recording layer coating liquid containing each component shown in Table 3 below on the undercoat layer (however, the image recording layer coating liquid contains each component shown in Table 3 and contains 1-methoxy-2-propanol (1-methoxy-2-propanol). MFG): Methyl ethyl ketone (MEK): Methanol = 4: 4: 1 (mass ratio) prepared to have a solid content of 6% by mass) was coated in a bar and dried in an oven at 120 ° C. for 40 seconds. An image recording layer having a dry coating amount of 1.0 g / m 2 was formed.
The image recording layer coating liquid containing the polymer particles (microgels) was prepared by mixing and stirring a photosensitive liquid containing components other than the following microgel liquid and the following microgel liquid immediately before coating.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

表3で用いた各成分の詳細は、以下の通りである。 The details of each component used in Table 3 are as follows.

[赤外線吸収剤]
IR−1:分解型の赤外線吸収剤、下記構造の化合物、HOMO=−5.43eV、LUMO=−3.95eV。
IR−2:非分解型の赤外線吸収剤、下記構造の化合物、HOMO=−5.35eV、LUMO=−3.73eV。
[Infrared absorber]
IR-1: Degradable infrared absorber, compound having the following structure, HOMO = -5.43eV, LUMO = -3.95eV.
IR-2: Non-decomposable infrared absorber, compound having the following structure, HOMO = -5.35eV, LUMO = -3.73eV.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

[電子受容型重合開始剤]
IA−1:下記構造の化合物、LUMO=−3.21eV
IA−2:オニウム化合物、下記構造の化合物、LUMO=−3.02eV
[Electron-accepting polymerization initiator]
IA-1: Compound with the following structure, LUMO = -3.21eV
IA-2: Onium compound, compound having the following structure, LUMO = -3.02eV

Figure 2021189319
Figure 2021189319

[電子供与型重合開始剤]
TPB:ボレート化合物、テトラフェニルホウ酸ナトリウム、HOMO=−5.90eV)
[Electron-donated polymerization initiator]
TPB: Borate compound, sodium tetraphenylborate, HOMO = -5.90eV)

[重合性化合物A]
・A−1:ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、U−10HA(官能基数:10)、新中村化学工業(株)
・A−2:ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、UA−510H(官能基数:10)、共栄社化学(株)
・A−3:ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、KRM8452(官能基数:10)、ダイセル・オルネクス(株)
・A−4:ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、U−15HA(官能基数:15)、新中村化学工業(株)
・A−5:ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、CN8885NS(官能基数:9)、サートマー社
・A−6:ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、CN9013NS(官能基数:9)、サートマー社
・A−7:エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマー、NKオリゴ EA−7420/PGMAc(官能基数:10〜15)、新中村化学工業(株)
・A−8:エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマー、CN153、サートマー社
・A−9:ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマー、CN2267、サートマー社
[Polymerizable compound A]
-A-1: Urethane (meth) acrylate oligomer, U-10HA (number of functional groups: 10), Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
A-2: Urethane (meth) acrylate oligomer, UA-510H (number of functional groups: 10), Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
A-3: Urethane (meth) acrylate oligomer, KRM8452 (number of functional groups: 10), Daicel Ornex Co., Ltd.
A-4: Urethane (meth) acrylate oligomer, U-15HA (number of functional groups: 15), Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
A-5: Urethane (meth) acrylate oligomer, CN8885NS (number of functional groups: 9), Sartmer A-6: Urethane (meth) acrylate oligomer, CN9013NS (number of functional groups: 9), Sartmer A-7: Epoxy (Meta) acrylate oligomer, NK oligo EA-7420 / PGMAc (number of functional groups: 10 to 15), Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
-A-8: Epoxy (meth) acrylate oligomer, CN153, Sartmer Co., Ltd.-A-9: Polyester (meth) acrylate oligomer, CN2267, Sartmer Co., Ltd.

[重合性化合物B]
・B−1:2官能メタクリレート、AZ Electronics社のFST 510(1モルの2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートと2モルのヒドロキシエチルメタクリレートの反応生成物あって、下記構造の化合物のメチルエチルケトン82質量%溶液)
・B−2:エトキシ化ビスフェノールAジメタクリレート、下記構造の化合物、新中村化学工業(株)のBPE−80N
・B−3:エトキシ化ビスフェノールAジアクリレート、下記構造の化合物(m+n=10)、新中村化学工業(株)のA−BPE−10
[Polymerizable compound B]
B-1: Bifunctional Methacrylate, AZ Electronics FST 510 (a reaction product of 1 mol of 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate and 2 mol of hydroxyethyl methacrylate, which is a compound having the following structure, methyl ethyl ketone 82. Mass% solution)
B-2: Ethoxylated bisphenol A dimethacrylate, compound having the following structure, BPE-80N from Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
B-3: Ethoxylated bisphenol A diacrylate, compound having the following structure (m + n = 10), A-BPE-10 of Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

[バインダーポリマー]
・BP−1:下記構造のポリビニルブチラール、積水化学工業(株)のエスレックBX−5(Z)、lは72mol%、mは1mol%、nは27mol%であり、重量平均分子量は13万である
[Binder polymer]
BP-1: Polyvinyl butyral having the following structure, Sekisui Chemical Co., Ltd. Eslek BX-5 (Z), l is 72 mol%, m is 1 mol%, n is 27 mol%, and the weight average molecular weight is 130,000. be

Figure 2021189319
Figure 2021189319

[界面活性剤]
アニオン界面活性剤:下記構造の化合物
[Surfactant]
Anionic surfactant: A compound having the following structure

Figure 2021189319
Figure 2021189319

フッ素系界面活性剤:下記構造の化合物(重量平均分子量:13,000) Fluorosurfactant: A compound having the following structure (weight average molecular weight: 13,000)

Figure 2021189319
Figure 2021189319

[ミクロゲル液]
・ミクロゲル(ポリマー粒子):2.640部
・蒸留水:2.425部
上記ミクロゲル液に用いたミクロゲルの調製法を以下に示す。
[Microgel liquid]
-Microgel (polymer particles): 2.640 parts-Distilled water: 2.425 parts The method for preparing the microgel used in the above microgel solution is shown below.

−多価イソシアネート化合物の調製−
イソホロンジイソシアネート17.78部(80モル当量)と下記多価フェノール化合物(1)7.35部(20モル当量)との酢酸エチル(25.31部)懸濁溶液に、ビスマストリス(2−エチルヘキサノエート)(ネオスタン U−600、日東化成(株)製)0.043部を加えて撹拌した。発熱が収まった時点で反応温度を50℃に設定し、3時間撹拌して多価イソシアネート化合物(1)の酢酸エチル溶液(50質量%)を得た。
-Preparation of multivalent isocyanate compound-
Bismastris (2-ethyl) in a suspension solution of ethyl acetate (25.31 parts) containing 17.78 parts (80 mol equivalents) of isophorone diisocyanate and 7.35 parts (20 mol equivalents) of the following polyvalent phenol compound (1). Hexanoate) (Neostan U-600, manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd.) 0.043 part was added and stirred. When the exotherm subsided, the reaction temperature was set to 50 ° C. and the mixture was stirred for 3 hours to obtain an ethyl acetate solution (50% by mass) of the polyhydric isocyanate compound (1).

Figure 2021189319
Figure 2021189319

−ミクロゲルの調製−
下記油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を45℃で4時間撹拌後、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン−オクチル酸塩(U−CAT SA102、サンアプロ(株)製)の10質量%水溶液5.20gを加え、室温で30分撹拌し、45℃で24時間静置した。蒸留水で、固形分濃度を20質量%になるように調整し、ミクロゲル(1)の水分散液が得られた。光散乱法により平均粒径を測定したところ、0.28μmであった。
-Preparation of microgel-
The following oil phase components and aqueous phase components were mixed and emulsified at 12,000 rpm for 10 minutes using a homogenizer. After stirring the obtained emulsion at 45 ° C. for 4 hours, 10 mass of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-en-octylate (U-CAT SA102, manufactured by San-Apro Co., Ltd.) 5.20 g of a% aqueous solution was added, the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and allowed to stand at 45 ° C. for 24 hours. The solid content concentration was adjusted to 20% by mass with distilled water to obtain an aqueous dispersion of microgel (1). When the average particle size was measured by the light scattering method, it was 0.28 μm.

〜油相成分〜
(成分1)酢酸エチル:12.0部
(成分2)トリメチロールプロパン(6モル当量)とキシレンジイソシアネート(18モル当量)を付加させ、これに片末端メチル化ポリオキシエチレン(1モル当量、オキシエチレン単位の繰返し数:90)を付加させた付加体(50質量%酢酸エチル溶液、三井化学(株)製):3.76部
(成分3)多価イソシアネート化合物(1)(50質量%酢酸エチル溶液として):15.0部
(成分4)ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(SR−399、サートマー社製)の65質量%酢酸エチル溶液:11.54部
(成分5)スルホン酸塩型界面活性剤(パイオニンA−41−C、竹本油脂(株)製)の10%酢酸エチル溶液:4.42部
~ Oil phase component ~
(Component 1) Ethyl acetate: 12.0 parts (Component 2) Trimethylolpropane (6 eq) and xylene diisocyanate (18 eq) are added, to which one-terminal methylated polyoxyethylene (1 eq, oxy) is added. Additive (50 mass% ethyl acetate solution, manufactured by Mitsui Kagaku Co., Ltd.) to which an ethylene unit repetition number: 90) was added: 3.76 parts (component 3) polyhydric isocyanate compound (1) (50 mass% acetate) As an ethyl solution): 15.0 parts (component 4) 65% by mass ethyl acetate solution of dipentaerythritol pentaacrylate (SR-399, manufactured by Sartmer) 11.54 parts (component 5) sulfonate type surfactant (Pionin A-41-C, manufactured by Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.) 10% ethyl acetate solution: 4.42 parts

〜水相成分〜
蒸留水:46.87部
~ Aqueous phase component ~
Distilled water: 46.87 parts

<最外層の形成>
実施例2〜21及び比較例1〜3では、画像記録層上に、下記表4に記載の最外層塗布液(ただし、最外層塗布液は、表4に記載の各成分を含み、イオン交換水で固形分が20質量%になるように調製したもの)をバー塗布し、120℃で60秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量が0.41g/mの最外層を形成した。
以上の工程を経て、平版印刷版原版を得た。
<Formation of outermost layer>
In Examples 2 to 21 and Comparative Examples 1 to 3, the outermost layer coating liquid shown in Table 4 below (however, the outermost layer coating liquid contains each component shown in Table 4 and ion exchanges) on the image recording layer. (Prepared to have a solid content of 20% by mass with water) was bar-coated and dried in an oven at 120 ° C. for 60 seconds to form an outermost layer having a dry coating amount of 0.41 g / m 2.
Through the above steps, a lithographic printing plate original plate was obtained.

Figure 2021189319
Figure 2021189319

表4で用いた各成分の詳細は、以下の通りである。 The details of each component used in Table 4 are as follows.

[赤外線吸収剤]
・IR−3:下記構造の化合物、分解型化合物(変色性化合物)
・IR−4:下記構造の化合物
[Infrared absorber]
-IR-3: Compounds with the following structure, decomposition compounds (discolorable compounds)
-IR-4: A compound having the following structure

Figure 2021189319
Figure 2021189319

[水溶性ポリマー]
・水溶性ポリマー:ポリビニルアルコール、シグマアルドリッチ社製Mowiol 4−88
[Water-soluble polymer]
-Water-soluble polymer: Polyvinyl alcohol, Sigma-Aldrich's Mowiol 4-88

[疎水性ポリマー]
・疎水性ポリマー:ポリ塩化ビニリデン水性ディスパージョン、Solvin社製Diofan(登録商標) A50
[Hydrophobic polymer]
Hydrophobic polymer: polyvinylidene chloride aqueous dispersion, Biofan® A50 manufactured by Solvin

・界面活性剤:ノニオン界面活性剤、BASF社製Lutensol(登録商標) A8 -Surfactant: Nonionic surfactant, BASF Lutensol (registered trademark) A8

<平版印刷版原版の評価>
(1)機上現像性の経時による変化
上記のようにして作製した平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載のKodak社製Magnus800 Quantumにて、出力27W、外面ドラム回転数450rpm、解像度2,400dpiの条件で露光(照射エネルギー110mJ/cm相当)した。露光画像にはベタ画像、及び、AMスクリーン(Amplitude Modulation Screen)50%網点のチャートを含むようにした。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、菊判サイズのハイデルベルグ社製印刷機SX−74のシリンダーに取り付けた。本印刷機には、不織布フィルターと温度制御装置を内蔵する容量100Lの湿し水循環タンクを接続した。湿し水S−Z1(富士フイルム(株)製)2.0%の湿し水80Lを循環装置内に仕込み、印刷インキとしてT&K UV OFS K−HS墨GE−M((株)T&K TOKA製)を用い、標準の自動印刷スタート方法で湿し水とインキを供給した後、毎時10,000枚の印刷速度で特菱アート紙(連量:76.5kg、三菱製紙(株)製)に200枚印刷を行った。
上記機上現像において、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数(以降、機上現像枚数ともいう)を求めた。機上現像枚数が少ないほど、機上現像性が良好であるといえる。
その結果、実施例及び比較例の平版印刷版原版では、いずれも、機上現像枚数が100枚以下であった。
<Evaluation of lithographic printing plate original plate>
(1) Changes in on-machine developability over time The lithographic printing plate original plate produced as described above was subjected to a Magnus800 Quantum manufactured by Kodak equipped with an infrared semiconductor laser, with an output of 27 W, an outer drum rotation speed of 450 rpm, and a resolution of 2,400 dpi. Exposure (corresponding to irradiation energy of 110 mJ / cm 2) under the conditions of. The exposed image includes a solid image and a chart of 50% halftone dots on the AM screen (Amplitude Modulation Screen).
The obtained exposed original plate was attached to the cylinder of a chrysanthemum-sized Heidelberg printing machine SX-74 without developing. A non-woven fabric filter and a dampening water circulation tank having a capacity of 100 L having a built-in temperature control device were connected to the printing machine. Damping water S-Z1 (manufactured by Fujifilm Co., Ltd.) 2.0% dampening water 80L is charged in the circulation device, and T & K UV OFS K-HS ink GE-M (manufactured by T & K TOKA Co., Ltd.) is used as printing ink. ) Is used to supply dampening water and ink using the standard automatic printing start method, and then printed on Tokishi Art Paper (ream amount: 76.5 kg, manufactured by Mitsubishi Paper Mills Limited) at a printing speed of 10,000 sheets per hour. 200 sheets were printed.
In the above-mentioned on-machine development, the number of printing papers required until the ink was not transferred to the non-image portion (hereinafter, also referred to as the number of on-machine developments) was determined. It can be said that the smaller the number of sheets developed on the machine, the better the developability on the machine.
As a result, in both the planographic printing plate original plate of the example and the comparative example, the number of sheets developed on the machine was 100 or less.

上記の機上現像枚数の測定を、調液及び塗布を2日間で実施し、版が出来てから室温で3日以内の平版印刷版原版(以降、初期の平版印刷版原版ともいう)と、初期の平版印刷版原版を、50℃、70%RHの条件で3日間保管した後の平版印刷版原版(経時後の平版印刷版原版ともいう)と、に対して行った。
初期の平版印刷版原版における機上現像枚数をD(Fr)とし、経時後の平版印刷版原版における機上現像枚数D(Th)としたとき、機上現像性の経時による変化ΔDは下記式で求められる。
ΔD=D(Th)/D(Fr)
ΔDの値が1に近いほど、経時での機上現像性に優れる版であるといえる。評価結果は表5に記載した。
−評価基準−
5:1.00≦ΔD≦1.25
4:1.25<ΔD≦1.50
3:1.50<ΔD≦1.75
2:1.75<ΔD≦2.00
1:2.00<ΔD
The above-mentioned measurement of the number of on-machine developments was carried out in 2 days, and the lithographic printing plate original plate (hereinafter, also referred to as the initial lithographic printing plate original plate) within 3 days at room temperature after the plate was formed. The initial lithographic printing plate original plate was stored at 50 ° C. and 70% RH for 3 days, and then the lithographic printing plate original plate (also referred to as the lithographic printing plate original plate after aging) was used.
When the number of on-machine developed sheets in the initial lithographic printing plate original plate is D (Fr) and the number of on-machine developed sheets in the lithographic printing plate original plate after aging is D (Th), the change ΔD with time of the on-machine developability is as follows. Is sought after.
ΔD = D (Th) / D (Fr)
It can be said that the closer the value of ΔD is to 1, the better the on-machine developability over time. The evaluation results are shown in Table 5.
-Evaluation criteria-
5: 1.00 ≤ ΔD ≤ 1.25
4: 1.25 <ΔD ≦ 1.50
3: 1.50 <ΔD ≦ 1.75
2: 1.75 <ΔD ≦ 2.00
1: 2.00 <ΔD

(2)耐刷性(UV耐刷性)の評価
上記のようにして作製した平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載のKodak社製Magnus800 Quantumにて、出力27W、外面ドラム回転数450rpm、解像度2,400dpiの条件で露光(照射エネルギー110mJ/cm相当)した。露光画像にはベタ画像、及び、AMスクリーン10%網点のチャートを含むようにした。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、菊判サイズのハイデルベルグ社製印刷機SX−74のシリンダーに取り付けた。本印刷機には、不織布フィルターと温度制御装置を内蔵する容量100Lの湿し水循環タンクを接続した。湿し水S−Z1(富士フイルム(株)製)2.0%の湿し水80Lを循環装置内に仕込み、印刷インキとしてT&K UV OFS K−HS墨GE−M((株)T&K TOKA製)を用い、標準の自動印刷スタート方法で湿し水とインキを供給した後、毎時10,000枚の印刷速度で特菱アート(連量:76.5kg、三菱製紙(株)製)紙に500枚印刷を行った。
続けて、更に印刷を行った。印刷枚数を増やしていくと徐々に画像部が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるAMスクリーン10%網点の網点面積率をグレタグ濃度計(GretagMacbeth社製)で計測した値が、印刷500枚目の計測値よりも3%低下したときの印刷部数を刷了枚数として耐刷性を評価した。
印刷枚数が5万枚の場合を100とする相対耐刷性により以下の基準で評価した。数値が大きいほど、耐刷性が良好である。評価結果は表5に記載した。
相対耐刷性=(対象平版印刷版原版の印刷枚数)/50,000×100
−評価基準−
4:相対耐刷性の値が90を超える
3:相対耐刷性の値が80を超え90以下である
2:相対耐刷性の値が60を超え80以下である
1:相対耐刷性の値が60以下である
(2) Evaluation of printing resistance (UV printing resistance) The lithographic printing plate original plate produced as described above was subjected to a Magnus 800 Quantum manufactured by Kodak equipped with an infrared semiconductor laser, and had an output of 27 W, an outer drum rotation speed of 450 rpm, and a resolution. Exposure was performed under the condition of 2,400 dpi (corresponding to irradiation energy of 110 mJ / cm 2). The exposed image includes a solid image and a chart of 10% halftone dots on the AM screen.
The obtained exposed original plate was attached to the cylinder of a chrysanthemum-sized Heidelberg printing machine SX-74 without developing. A non-woven fabric filter and a dampening water circulation tank having a capacity of 100 L having a built-in temperature control device were connected to the printing machine. Damping water S-Z1 (manufactured by Fujifilm Co., Ltd.) 2.0% dampening water 80L is charged in the circulation device, and T & K UV OFS K-HS ink GE-M (manufactured by T & K TOKA Co., Ltd.) is used as printing ink. ) Is used to supply dampening water and ink using the standard automatic printing start method, and then printed on Tokubishi Art (ream amount: 76.5 kg, manufactured by Mitsubishi Paper Mills Limited) at a printing speed of 10,000 sheets per hour. 500 sheets were printed.
Then, further printing was performed. As the number of printed sheets was increased, the image portion was gradually worn, and the ink density on the printed matter decreased. The number of printed copies is taken as the number of printed copies when the value measured by the Gretag densitometer (manufactured by Gretag Macbeth) for the halftone dot area ratio of the AM screen 10% halftone dot in the printed matter is 3% lower than the measured value of the 500th printed matter. The printing durability was evaluated.
The evaluation was made according to the following criteria based on the relative printing durability of 100 when the number of printed sheets was 50,000. The larger the value, the better the printing durability. The evaluation results are shown in Table 5.
Relative printing resistance = (number of prints of target lithographic printing plate original plate) / 50,000 x 100
-Evaluation criteria-
4: Relative print resistance value exceeds 90 3: Relative print resistance value is more than 80 and 90 or less 2: Relative print resistance value is more than 60 and 80 or less 1: Relative print resistance The value of is 60 or less

(3)UV版飛び抑制性の評価
上記のようにして作製した平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載のKodak社製Magnus800 Quantumにて、出力27W、外面ドラム回転数450rpm、解像度2,400dpiの条件で露光(照射エネルギー110mJ/cm相当)した。露光画像にはベタ画像、及び、AMスクリーン3%網点のチャートを含むようにした。
得られた露光済み原版の網点部に、直径0.4mmのピアノ線((株)エスコ)を版胴の回転方向に対して垂直方向に貼り付け、現像処理することなく、菊判サイズのハイデルベルグ社製印刷機SX−74のシリンダーに取り付けた。本印刷機には、不織布フィルターと温度制御装置を内蔵する容量100Lの湿し水循環タンクを接続した。湿し水S−Z1(富士フイルム(株)製)2.0%の湿し水80Lを循環装置内に仕込み、印刷インクとしてT&K UV OFS K−HS墨GE−M((株)T&K TOKA製)を用い、標準の自動印刷スタート方法で湿し水とインクを供給した後、毎時10,000枚の印刷速度で特菱アート(三菱製紙(株)製、連量:76.5kg)紙に印刷を行った。
印刷枚数が2,000枚に達したところで、版からピアノ線を取り外し、再度印刷機にセットし、印刷を開始した。再開後100枚目の印刷物を確認し、ピアノ線の位置に対応する画像部を確認し、着肉不良が生じているか50倍拡大鏡を用いて目視で確認した。同様に2,000枚ごとに確認を行い、着肉不良が生じた段階で評価を終了した。
なお、着肉不良が生じるまでの印刷枚数が多いほど、「UV版飛び抑制性」に優れるといえる。結果を表5に記載した。
−評価基準−
4:着肉不良が生じるまでの印刷枚数が20,000枚以上である。
3:着肉不良が生じるまでの印刷枚数が10,000枚以上20,000枚未満である。
2:着肉不良が生じるまでの印刷枚数が5,000枚以上10,000枚未満である。
1:着肉不良が生じるまでの印刷枚数が5,000枚未満である。
(3) Evaluation of UV plate jump suppression property The lithographic printing plate original plate produced as described above was subjected to a Magnus 800 Quantum manufactured by Kodak equipped with an infrared semiconductor laser, and had an output of 27 W, an outer surface drum rotation speed of 450 rpm, and a resolution of 2,400 dpi. Exposure was performed under the conditions (equivalent to irradiation energy of 110 mJ / cm 2). The exposed image includes a solid image and a chart of 3% halftone dots on the AM screen.
A piano wire with a diameter of 0.4 mm (ESCO Co., Ltd.) is attached to the halftone dots of the obtained exposed original plate in the direction perpendicular to the rotation direction of the plate cylinder, and is a chrysanthemum-sized Heidelberg without development processing. It was attached to the cylinder of the printing machine SX-74 manufactured by the company. A non-woven fabric filter and a dampening water circulation tank having a capacity of 100 L having a built-in temperature control device were connected to the printing machine. Damping water S-Z1 (manufactured by Fujifilm Co., Ltd.) 2.0% dampening water 80L is charged in the circulation device, and T & K UV OFS K-HS ink GE-M (manufactured by T & K TOKA Co., Ltd.) is used as printing ink. ) Is used to supply dampening water and ink using the standard automatic printing start method, and then printed on Tokubishi Art (Mitsubishi Paper Mills Limited, ream weight: 76.5 kg) at a printing speed of 10,000 sheets per hour. I printed it.
When the number of printed sheets reached 2,000, the piano wire was removed from the plate, set in the printing machine again, and printing was started. After resuming, the 100th printed matter was confirmed, the image part corresponding to the position of the piano wire was confirmed, and whether or not the inking defect occurred was visually confirmed using a 50x magnifying glass. Similarly, confirmation was performed every 2,000 sheets, and the evaluation was completed when poor inking occurred.
It can be said that the larger the number of printed sheets until poor inking occurs, the better the "UV plate skipping inhibitory property". The results are shown in Table 5.
-Evaluation criteria-
4: The number of printed sheets until poor inking occurs is 20,000 or more.
3: The number of printed sheets until poor inking occurs is 10,000 or more and less than 20,000.
2: The number of printed sheets until poor inking occurs is 5,000 or more and less than 10,000.
1: The number of printed sheets until poor inking occurs is less than 5,000.

(4)視認性の評価
得られた平版印刷版原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載のCreo社製Trendsetter3244VXにより、出力11.5W、外面ドラム回転数220rpm、解像度2,400dpiの条件で露光した。露光は25℃、50%RHの環境下で行った。
露光直後の平版印刷版原版(初期の平版印刷版原版ともいう)と、露光後の平版印刷版原版を25℃、70%RHの条件で3日間保管した後の平版印刷版原版(経時後の平版印刷版原版ともいう)と、のそれぞれについて発色を測定した。測定は、コニカミノルタ(株)製分光測色計CM2600dとオペレーションソフトCM−S100Wとを用い、SCE(正反射光除去)方式で行った。視認性(視認性)は、L表色系のL値(明度)を用い、露光部のL値と未露光部のL値との差ΔLにより評価した。ΔLの値が大きい程、視認性が優れるといえる。結果を表5に記載した。
−評価基準−
3:ΔLが4以上である
2:ΔLが2以上4未満である
1:ΔLが2未満である
(4) Evaluation of Visibility The obtained lithographic printing plate original plate was exposed by Creo's Trendsetter 3244VX equipped with a water-cooled 40W infrared semiconductor laser under the conditions of output 11.5W, outer surface drum rotation speed 220rpm, and resolution 2,400dpi. .. The exposure was performed in an environment of 25 ° C. and 50% RH.
The lithographic printing plate original plate immediately after exposure (also called the initial lithographic printing plate original plate) and the lithographic printing plate original plate after exposure are stored at 25 ° C. and 70% RH for 3 days, and then the lithographic printing plate original plate (after aging). The color development was measured for each of the lithographic printing plate and the original plate). The measurement was performed by the SCE (specular reflection light removal) method using a spectrophotometer CM2600d manufactured by Konica Minolta Co., Ltd. and an operation software CM-S100W. Visibility (visibility) uses the L * a * b * color system of L * value (lightness) was evaluated by the difference ΔL between the L * values of the L * value and the unexposed portions of the exposed portion. It can be said that the larger the value of ΔL, the better the visibility. The results are shown in Table 5.
-Evaluation criteria-
3: ΔL is 4 or more 2: ΔL is 2 or more and less than 4 1: ΔL is less than 2

Figure 2021189319
Figure 2021189319

表5から明らかなように、実施例に係る平版印刷版原版は、比較例に係る平版印刷版原版と比べて、経時による機上現像性の低下が抑制され、耐刷性にも優れる平版印刷版が得られることが分かる。
また、実施例に係る平版印刷版原版は、版飛び抑制性にも優れた平版印刷版が得られ、更に、露光部の視認性にも優れることが分かる。
As is clear from Table 5, the lithographic printing plate original plate according to the examples is less likely to deteriorate in on-machine developability over time than the lithographic printing plate original plate according to the comparative example, and the lithographic printing plate printing is also excellent in printing durability. You can see that the edition is available.
Further, it can be seen that, as the lithographic printing plate original plate according to the embodiment, a lithographic printing plate having excellent plate skipping suppression property can be obtained, and further, the visibility of the exposed portion is also excellent.

18:アルミニウム板、12a,12b:アルミニウム支持体、20a,20b:陽極酸化皮膜、22a,22b:マイクロポア、24:大径孔部、26:小径孔部、610:陽極酸化処理装置、616:アルミニウム板、618:電解液、612:給電槽、614:電解処理槽、616:アルミニウム板、620:給電電極、622:ローラ、624:ニップローラ、626:電解液、628:ローラ、630:電解電極、634:直流電源 18: Aluminum plate, 12a, 12b: Aluminum support, 20a, 20b: Anodized film, 22a, 22b: Micropore, 24: Large diameter hole, 26: Small diameter hole, 610: Anodizing device, 616: Aluminum plate, 618: electrolytic solution, 612: feeding tank, 614: electrolytic treatment tank, 616: aluminum plate, 620: feeding electrode, 622: roller, 624: nip roller, 626: electrolytic solution, 628: roller, 630: electrolytic electrode , 634: DC power supply

Claims (29)

支持体と前記支持体上に形成された画像記録層とを有し、
前記画像記録層が、エチレン性不飽和結合価が5.0mmol/g以上の重合性化合物A、及び、2官能以下で且つ分子量が1,000以下の重合性化合物Bを含む
機上現像型平版印刷版原版。
It has a support and an image recording layer formed on the support.
The image recording layer contains a polymerizable compound A having an ethylenically unsaturated bond value of 5.0 mmol / g or more and a polymerizable compound B having a bifunctionality or less and a molecular weight of 1,000 or less. Print plate original plate.
前記画像記録層において、前記重合性化合物Aと前記重合性化合物Bとの総量に対する前記重合性化合物Bの含有量の比率が80質量%以下である請求項1に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing according to claim 1, wherein in the image recording layer, the ratio of the content of the polymerizable compound B to the total amount of the polymerizable compound A and the polymerizable compound B is 80% by mass or less. Original version. 前記重合性化合物Bがメタクリレート化合物である請求項1又は請求項2に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 1 or 2, wherein the polymerizable compound B is a methacrylate compound. 前記重合性化合物Aが下記式(I)で表される化合物である請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
式(I) : X−(Y)
式(I)中、Xは水素結合性基を有するn価の有機基を表し、Yは2以上のエチレン性不飽和基を有する1価の基を表し、nは2以上の整数を表し、Xの分子量/(Yの分子量×n)が1以下である。
The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 3, wherein the polymerizable compound A is a compound represented by the following formula (I).
Equation (I): X- (Y) n
In formula (I), X represents an n-valent organic group having a hydrogen-bonding group, Y represents a monovalent group having two or more ethylenically unsaturated groups, and n represents an integer of two or more. The molecular weight of X / (molecular weight of Y × n) is 1 or less.
前記重合性化合物Aにおける水素結合性基が、ウレタン基、ウレア基、イミド基、アミド基、及びスルホンアミド基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基を含む、請求項4に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine according to claim 4, wherein the hydrogen-binding group in the polymerizable compound A contains at least one group selected from the group consisting of a urethane group, a urea group, an imide group, an amide group, and a sulfonamide group. Development type flat plate printing plate original plate. 前記重合性化合物Aが、アダクト構造、ビウレット構造、及びイソシアヌレート構造からなる群より選ばれた少なくとも1種の構造を有する請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-board development type according to any one of claims 1 to 5, wherein the polymerizable compound A has at least one structure selected from the group consisting of an adduct structure, a biuret structure, and an isocyanate structure. Flat plate printing plate original plate. 前記重合性化合物Aが、下記式(A−1)〜式(A−3)のいずれかで表される構造を有する請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
Figure 2021189319

式(A−1)中、RA1は、水素原子、又は、炭素数1〜8のアルキル基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
The on-machine development type according to any one of claims 1 to 6, wherein the polymerizable compound A has a structure represented by any of the following formulas (A-1) to (A-3). Planographic printing plate original plate.
Figure 2021189319

In the formula (A-1), RA1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and the wavy line portion represents a bond position with another structure.
前記画像記録層が更にポリビニルアセタールを含む請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 7, wherein the image recording layer further contains polyvinyl acetal. 前記ポリビニルアセタールは、水酸基を有する構成単位の含有量が、ポリビニルアセタール中の全構成単位に対して15mol%以上である請求項8に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 8, wherein the polyvinyl acetal has a content of a structural unit having a hydroxyl group of 15 mol% or more with respect to all the structural units in the polyvinyl acetal. 前記画像記録層上に最外層を有する請求項1〜請求項9のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 9, which has an outermost layer on the image recording layer. 前記最外層が疎水性ポリマーを含む請求項10に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 10, wherein the outermost layer contains a hydrophobic polymer. 前記最外層が変色性化合物を含む請求項10又は請求項11に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 10 or 11, wherein the outermost layer contains a discolorable compound. エネルギー密度110mJ/cmにて波長830nmの赤外線による露光を行った場合の、前記露光前後の明度変化ΔLが2.0以上である請求項12に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 12, wherein the brightness change ΔL before and after the exposure is 2.0 or more when exposure is performed by infrared rays having an energy density of 110 mJ / cm 2 and a wavelength of 830 nm. 前記変色性化合物が赤外線露光に起因して発色する化合物を含む請求項12又は請求項13に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 12 or 13, wherein the discoloring compound contains a compound that develops color due to infrared exposure. 前記変色性化合物が赤外線露光に起因して分解する分解性化合物を含む請求項12〜請求項14のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 12 to 14, which contains a degradable compound in which the discolorable compound decomposes due to infrared exposure. 前記変色性化合物がシアニン色素である請求項12〜請求項15のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 12 to 15, wherein the discoloring compound is a cyanine dye. 前記変色性化合物が下記式1−1で表される化合物である請求項12〜請求項16のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
Figure 2021189319

式1−1中、Rは下記式2〜式4のいずれかで表される基を表し、R11〜R18はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、−R、−OR、−SR、又は−NRを表し、R〜Rは、それぞれ独立に、炭化水素基を表し、A、A及び複数のR11〜R18が連結して単環又は多環を形成してもよく、A及びAはそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は、窒素原子を表し、n11及びn12はそれぞれ独立に、0〜5の整数を表し、但し、n11及びn12の合計は2以上であり、n13及びn14はそれぞれ独立に、0又は1を表し、Lは酸素原子、硫黄原子、又は、−NR10−を表し、R10は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表す。
Figure 2021189319

式2〜式4中、R20、R30、R41及びR42はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Zbは電荷を中和する対イオンを表し、波線は、前記式1−1中のLで表される基との結合部位を表す。
The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 12 to 16, wherein the discolorable compound is a compound represented by the following formula 1-1.
Figure 2021189319

In formula 1-1, R 1 represents a group represented by any of the following formulas 2 to 4, and R 11 to R 18 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, -R a , -OR b , and so on. Represents -SR c or -NR d R e , R a to R e each independently represent a hydrocarbon group, and A 1 , A 2 and a plurality of R 11 to R 18 are linked to form a single ring or Polycycles may be formed, where A 1 and A 2 independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom, and n 11 and n 12 each independently represent an integer of 0 to 5. However, the total of n 11 and n 12 is 2 or more, n 13 and n 14 independently represent 0 or 1, L represents an oxygen atom, a sulfur atom, or −NR 10 −, and R 10 Represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and Za represents a counterion that neutralizes the charge.
Figure 2021189319

In Formulas 2 to 4, R 20 , R 30 , R 41 and R 42 independently represent an alkyl group or an aryl group, Zb represents a counterion that neutralizes the charge, and the wavy line represents the above formula 1-. Represents a binding site with a group represented by L in 1.
前記変色性化合物が、下記式1−2で表される化合物である請求項17に記載の機上現像型平版印刷版原版。
Figure 2021189319

式1−2中、Rは上記式2〜式4のいずれかで表される基を表し、R19〜R22はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、−R、−OR、−CN、−SR、又は、−NRを表し、R23及びR24はそれぞれ独立に、水素原子、又は、−Rを表し、R〜Rはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、R19とR20、R21とR22、又は、R23とR24は、連結して単環又は多環を形成してもよく、Lは、酸素原子、硫黄原子、又は、−NR10−を表し、R10は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Rd1〜Rd4、W及びWは、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表す。
The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 17, wherein the discolorable compound is a compound represented by the following formula 1-2.
Figure 2021189319

In formula 1-2, R 1 represents a group represented by any of the above formulas 2 to 4, and R 19 to R 22 are independently hydrogen atom, halogen atom, -R a , -OR b , respectively. -CN, -SR c, or represents -NR d R e, R 23 and R 24 each independently represent a hydrogen atom, or represents a -R a, R a ~R e are each independently a hydrocarbon Representing a group, R 19 and R 20 , R 21 and R 22 , or R 23 and R 24 may be linked to form a monocyclic or polycyclic, where L is an oxygen atom, a sulfur atom, or a hydrogen atom. , -NR 10- , where R 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and R d1 to R d4 , W 1 and W 2 may each independently have a substituent. Represents an alkyl group and Za represents a counterion that neutralizes the charge.
前記変色性化合物が下記式1−3〜式1−7のいずれかで表される化合物である請求項17又は請求項18のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
Figure 2021189319

式1−3〜式1−7中、Rは上記式2〜式4のいずれかで表される基を表し、R19〜R22はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、−R、−OR、−CN、−SR、又は、−NRを表し、R25及びR26はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は−Rを表し、R〜Rはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、R19とR20、R21とR22、又は、R25とR26は、連結して単環又は多環を形成してもよく、Lは、酸素原子、硫黄原子、又は、−NR10−を表し、R10は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Rd1〜Rd4、W及びWはそれぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表す。
The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 17 or 18, wherein the discolorable compound is a compound represented by any of the following formulas 1-3 to 1-7.
Figure 2021189319

In formulas 1-3 to 1-7, R 1 represents a group represented by any of the above formulas 2 to 4, and R 19 to R 22 are independently hydrogen atom, halogen atom, and −R a. , -OR b , -CN, -SR c , or -NR d R e , and R 25 and R 26 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or -R a, and R a to R e. Represent each independently as a hydrocarbon group, and R 19 and R 20 , R 21 and R 22 , or R 25 and R 26 may be linked to form a monocyclic or polycyclic, where L is. Represents an oxygen atom, a sulfur atom, or -NR 10- , R 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and R d1 to R d4 , W 1 and W 2 are independent substituents. Represents an alkyl group which may have, and Za represents a counterion that neutralizes the charge.
前記式1−2〜式1−7におけるW及びWは、それぞれ独立に、置換基を有するアルキル基であり、かつ、前記置換基として、−(OCHCH)−、スルホ基、スルホ基の塩、カルボキシ基、又はカルボキシ基の塩を少なくとも有する基である請求項18又は請求項19に記載の機上現像型平版印刷版原版。 W 1 and W 2 in the formulas 1-2 to 1-7 are each independently an alkyl group having a substituent, and the substituents are-(OCH 2 CH 2 )-, a sulfo group, and the like. The machine-developed flat plate printing plate original plate according to claim 18 or 19, which is a group having at least a sulfo group salt, a carboxy group, or a carboxy group salt. 前記画像記録層が更に重合開始剤を含み、
前記重合開始剤が電子供与型重合開始剤及び電子受容型重合開始剤を含む請求項1〜請求項20のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
The image recording layer further contains a polymerization initiator and contains
The on-machine development type lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 20, wherein the polymerization initiator includes an electron donating type polymerization initiator and an electron accepting type polymerization initiator.
前記重合開始剤が前記電子供与型重合開始剤と前記電子受容型重合開始剤とが対塩を形成してなる化合物を含む請求項21に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 21, wherein the polymerization initiator comprises a compound in which the electron-donating type polymerization initiator and the electron-accepting type polymerization initiator form an anti-salt. 前記電子受容型重合開始剤が下記式(II)で表される化合物を含む請求項21に記載の機上現像型平版印刷版原版。
Figure 2021189319

式(II)中、Xはハロゲン原子を表し、Rはアリール基を表す。
The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 21, wherein the electron-accepting polymerization initiator contains a compound represented by the following formula (II).
Figure 2021189319

In formula (II), X represents a halogen atom and R 3 represents an aryl group.
前記画像記録層が赤外線吸収剤を含み、
前記赤外線吸収剤のHOMO−前記電子供与型重合開始剤のHOMOの値が、0.70eV以下である請求項21〜請求項23のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
The image recording layer contains an infrared absorber and contains
HOMO of the infrared absorber-The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 21 to 23, wherein the value of HOMO of the electron donating type polymerization initiator is 0.70 eV or less.
前記画像記録層が赤外線吸収剤を含み
前記電子受容型重合開始剤のLUMO−前記赤外線吸収剤のLUMOの値が、0.70eV以下である請求項21〜請求項24のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
The invention according to any one of claims 21 to 24, wherein the image recording layer contains an infrared absorber and the LUMO value of the electron-accepting polymerization initiator-LUMO of the infrared absorber is 0.70 eV or less. On-board development type lithographic printing plate original plate.
前記支持体が、アルミニウム板と、前記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、
前記陽極酸化皮膜が、前記アルミニウム板よりも前記画像記録層側に位置し、
前記陽極酸化皮膜が、前記画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、
前記マイクロポアの前記陽極酸化皮膜表面における平均径が、10nmを超え100nm以下である、請求項1〜請求項25のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
The support has an aluminum plate and an aluminum anodic oxide film arranged on the aluminum plate.
The anodic oxide film is located closer to the image recording layer than the aluminum plate.
The anodic oxide film has micropores extending in the depth direction from the surface on the image recording layer side.
The machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 25, wherein the average diameter of the micropores on the surface of the anodic oxide film is more than 10 nm and 100 nm or less.
前記マイクロポアが、前記陽極酸化皮膜表面から深さ10nm〜1,000nmの位置までのびる大径孔部と、前記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ20nm〜2,000nmの位置までのびる小径孔部とから構成され、
前記大径孔部の前記陽極酸化皮膜表面における平均径が、15nm〜100nmであり、
前記小径孔部の前記連通位置における平均径が、13nm以下である、請求項26に記載の機上現像型平版印刷版原版。
The micropore communicates with the large-diameter hole extending from the surface of the anodic oxide film to a depth of 10 nm to 1,000 nm and the bottom of the large-diameter hole, and has a depth of 20 nm to 2,000 nm from the communication position. It consists of a small-diameter hole that extends to the position.
The average diameter of the large-diameter hole portion on the surface of the anodic oxide film is 15 nm to 100 nm.
The machine-developed lithographic printing plate original plate according to claim 26, wherein the small diameter hole portion has an average diameter of 13 nm or less at the communication position.
請求項1〜請求項27のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
印刷機上で印刷インキ及び湿し水からなる群より選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む
平版印刷版の作製方法。
A step of exposing the machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 27 to an image.
A method for producing a lithographic printing plate, comprising a step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water on a printing machine to remove an image recording layer in a non-image area.
請求項1〜請求項27のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
印刷機上で印刷インキ及び湿し水からなる群より選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、
得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む、
平版印刷方法。
A step of exposing the machine-developed lithographic printing plate original plate according to any one of claims 1 to 27 to an image.
A process of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water on a printing machine to remove the image recording layer in the non-image area to produce a lithographic printing plate.
Including the process of printing with the obtained lithographic printing plate,
Planographic printing method.
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