JP2024035325A - 金属表面処理剤、並びに皮膜を有する金属材料およびその製造方法 - Google Patents
金属表面処理剤、並びに皮膜を有する金属材料およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2024035325A JP2024035325A JP2022139716A JP2022139716A JP2024035325A JP 2024035325 A JP2024035325 A JP 2024035325A JP 2022139716 A JP2022139716 A JP 2022139716A JP 2022139716 A JP2022139716 A JP 2022139716A JP 2024035325 A JP2024035325 A JP 2024035325A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- surface treatment
- treatment agent
- metal surface
- acids
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 title claims abstract description 61
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 60
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 60
- 239000007769 metal material Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 72
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 51
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 26
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 26
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 25
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 22
- 150000003658 tungsten compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 20
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 claims abstract description 14
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims abstract description 10
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 16
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 16
- 238000005336 cracking Methods 0.000 abstract description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 28
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 24
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 23
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 21
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N phosphonic acid group Chemical group P(O)(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- -1 alkali metal salts Chemical class 0.000 description 14
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 12
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 10
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 9
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 7
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 5
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 4
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 4
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 4
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid group Chemical group C(CC(O)(C(=O)O)CC(=O)O)(=O)O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 4
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001228 polyisocyanate Chemical class 0.000 description 4
- 239000005056 polyisocyanate Chemical class 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 3
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N oxalic acid group Chemical group C(C(=O)O)(=O)O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DCXYFEDJOCDNAF-UHFFFAOYSA-N Asparagine Natural products OC(=O)C(N)CC(N)=O DCXYFEDJOCDNAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- 229910001335 Galvanized steel Inorganic materials 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DCXYFEDJOCDNAF-REOHCLBHSA-N L-asparagine Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC(N)=O DCXYFEDJOCDNAF-REOHCLBHSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 235000009582 asparagine Nutrition 0.000 description 2
- 229960001230 asparagine Drugs 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N diphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(O)=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M ethanesulfonate Chemical compound CCS([O-])(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 239000008397 galvanized steel Substances 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SUMDYPCJJOFFON-UHFFFAOYSA-N isethionic acid Chemical compound OCCS(O)(=O)=O SUMDYPCJJOFFON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004715 keto acids Chemical class 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 238000007591 painting process Methods 0.000 description 2
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-N triphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(=O)OP(O)(O)=O UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940048102 triphosphoric acid Drugs 0.000 description 2
- CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L tungstic acid Chemical compound O[W](O)(=O)=O CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000001124 (E)-prop-1-ene-1,2,3-tricarboxylic acid Substances 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- ISQSUCKLLKRTBZ-UHFFFAOYSA-N (phosphonomethylamino)methylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CNCP(O)(O)=O ISQSUCKLLKRTBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 1-Ethyl-2-pyrrolidinone Chemical compound CCN1CCCC1=O ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOZRBIJGLJJPRF-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutanenitrile Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C#N BOZRBIJGLJJPRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(2-hydroxyethyl)amino]acetic acid Chemical group OCCN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRSQDGQUERPXQS-UHFFFAOYSA-N 2-[bis(2-phosphonoethyl)amino]ethylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCN(CCP(O)(O)=O)CCP(O)(O)=O SRSQDGQUERPXQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLBSQHGCGGFVJW-UHFFFAOYSA-N 2-carboxyethylphosphonic acid Chemical compound OC(=O)CCP(O)(O)=O NLBSQHGCGGFVJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPGSWASWQBLSKZ-UHFFFAOYSA-N 2-hexoxyethanol Chemical compound CCCCCCOCCO UPGSWASWQBLSKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQTFHSAAODFMHB-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCOC(=O)C=C GQTFHSAAODFMHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEQICHVXWFGDAN-UHFFFAOYSA-N 4-phosphonobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(P(O)(O)=O)C=C1 IEQICHVXWFGDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDYVUKGVKRZQNM-UHFFFAOYSA-N 6-phosphonohexylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCCCCCP(O)(O)=O WDYVUKGVKRZQNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLJOSEUOQHDGTQ-UHFFFAOYSA-N 8-hydroxyquinoline-2-sulfonic acid Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)N=C2C(O)=CC=CC2=C1 QLJOSEUOQHDGTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018134 Al-Mg Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018467 Al—Mg Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001342 Bakelite® Polymers 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001018 Cast iron Inorganic materials 0.000 description 1
- XXAXVMUWHZHZMJ-UHFFFAOYSA-N Chymopapain Chemical group OC1=CC(S(O)(=O)=O)=CC(S(O)(=O)=O)=C1O XXAXVMUWHZHZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical group OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical group OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 241000588724 Escherichia coli Species 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N Etidronic acid Chemical compound OP(=O)(O)C(O)(C)P(O)(O)=O DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N Glutamic acid Chemical group OC(=O)C(N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- 229910001060 Gray iron Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- IMQLKJBTEOYOSI-GPIVLXJGSA-N Inositol-hexakisphosphate Chemical compound OP(O)(=O)O[C@H]1[C@H](OP(O)(O)=O)[C@@H](OP(O)(O)=O)[C@H](OP(O)(O)=O)[C@H](OP(O)(O)=O)[C@@H]1OP(O)(O)=O IMQLKJBTEOYOSI-GPIVLXJGSA-N 0.000 description 1
- XUJNEKJLAYXESH-REOHCLBHSA-N L-Cysteine Chemical compound SC[C@H](N)C(O)=O XUJNEKJLAYXESH-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- QNAYBMKLOCPYGJ-REOHCLBHSA-N L-alanine Chemical compound C[C@H](N)C(O)=O QNAYBMKLOCPYGJ-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N L-glutamic acid Chemical group OC(=O)[C@@H](N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- ZDXPYRJPNDTMRX-VKHMYHEASA-N L-glutamine Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CCC(N)=O ZDXPYRJPNDTMRX-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- KDXKERNSBIXSRK-YFKPBYRVSA-N L-lysine Chemical compound NCCCC[C@H](N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N Lysine Natural products NCCCCC(N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004472 Lysine Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMQLKJBTEOYOSI-UHFFFAOYSA-N Phytic acid Natural products OP(O)(=O)OC1C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C1OP(O)(O)=O IMQLKJBTEOYOSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 241000191967 Staphylococcus aureus Species 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007570 Zn-Al Inorganic materials 0.000 description 1
- ZURHBENZJDSCRG-UHFFFAOYSA-N [4-(phosphonomethyl)phenyl]methylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CC1=CC=C(CP(O)(O)=O)C=C1 ZURHBENZJDSCRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSSJULAPNNGXFW-UHFFFAOYSA-N [Co].[Zn] Chemical compound [Co].[Zn] HSSJULAPNNGXFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N [Nitrilotris(methylene)]trisphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940091181 aconitic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000004279 alanine Nutrition 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJMNNXLGOUYVHO-UHFFFAOYSA-N aluminum zinc Chemical compound [Al].[Zn] FJMNNXLGOUYVHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004202 aminomethyl group Chemical group [H]N([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000003704 aspartic acid Nutrition 0.000 description 1
- CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N aspartic acid group Chemical group N[C@@H](CC(=O)O)C(=O)O CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- 229910000963 austenitic stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001580 bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L barium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ba+2] RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001863 barium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N beta-carboxyaspartic acid Natural products OC(=O)C(N)C(C(O)=O)C(O)=O OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000788 chromium alloy Substances 0.000 description 1
- GTZCVFVGUGFEME-IWQZZHSRSA-N cis-aconitic acid Chemical group OC(=O)C\C(C(O)=O)=C\C(O)=O GTZCVFVGUGFEME-IWQZZHSRSA-N 0.000 description 1
- 239000010960 cold rolled steel Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 235000018417 cysteine Nutrition 0.000 description 1
- XUJNEKJLAYXESH-UHFFFAOYSA-N cysteine Natural products SCC(N)C(O)=O XUJNEKJLAYXESH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013527 degreasing agent Substances 0.000 description 1
- 238000005237 degreasing agent Methods 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- SVMUEEINWGBIPD-UHFFFAOYSA-N dodecylphosphonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCP(O)(O)=O SVMUEEINWGBIPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFDRPXJGHKJRLJ-UHFFFAOYSA-N edtmp Chemical group OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CCN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O NFDRPXJGHKJRLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005674 electromagnetic induction Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 239000000417 fungicide Substances 0.000 description 1
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000013922 glutamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004220 glutamic acid Chemical group 0.000 description 1
- ZDXPYRJPNDTMRX-UHFFFAOYSA-N glutamine Natural products OC(=O)C(N)CCC(N)=O ZDXPYRJPNDTMRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000004554 glutamine Nutrition 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- JDPSFRXPDJVJMV-UHFFFAOYSA-N hexadecylphosphonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCP(O)(O)=O JDPSFRXPDJVJMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJWAEWLHSDGBGG-UHFFFAOYSA-N hexylphosphonic acid Chemical compound CCCCCCP(O)(O)=O GJWAEWLHSDGBGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YACKEPLHDIMKIO-UHFFFAOYSA-N methylphosphonic acid Chemical compound CP(O)(O)=O YACKEPLHDIMKIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N nickel zinc Chemical compound [Ni].[Zn] QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical group OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical compound O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- IYDGMDWEHDFVQI-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;trioxotungsten Chemical compound O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.OP(O)(O)=O IYDGMDWEHDFVQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000002949 phytic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000467 phytic acid Substances 0.000 description 1
- 229940068041 phytic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSETWVJZUWGCKE-UHFFFAOYSA-N propylphosphonic acid Chemical compound CCCP(O)(O)=O NSETWVJZUWGCKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- CGFYHILWFSGVJS-UHFFFAOYSA-N silicic acid;trioxotungsten Chemical compound O[Si](O)(O)O.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 CGFYHILWFSGVJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N sodium tungstate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][W]([O-])(=O)=O XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTZCVFVGUGFEME-UHFFFAOYSA-N trans-aconitic acid Natural products OC(=O)CC(C(O)=O)=CC(O)=O GTZCVFVGUGFEME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/05—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
- C23C22/06—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6
- C23C22/40—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 containing molybdates, tungstates or vanadates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/05—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
- C23C22/06—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6
- C23C22/40—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 containing molybdates, tungstates or vanadates
- C23C22/42—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 containing molybdates, tungstates or vanadates containing also phosphates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/05—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
- C23C22/68—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous solutions with pH between 6 and 8
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
Abstract
【課題】金属材料の表面または表面上に、ひび割れを抑制し、良好な耐食性を有する皮膜を形成し得る、金属表面処理剤を提供する。【解決手段】リン酸類、ホスホン酸類、有機スルホン酸、ポリカルボン酸、ヒドロキシ基を有するモノカルボン酸およびアミノ基を有するモノカルボン酸からなる群より選ばれる少なくとも1種の酸成分(A)と、タングステン化合物(B)と、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂およびアクリル樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂化合物(C)と、を配合した金属表面処理剤であって、前記タングステン化合物(B)のW換算固形分質量が前記金属表面処理剤の全固形分質量に対して13.5%以上である金属表面処理剤。【選択図】なし
Description
本発明は、金属材料の表面または表面上に皮膜を形成する金属表面処理剤、該金属表面処理剤を用いた皮膜を有する金属材料の製造方法、および該皮膜を有する金属材料に関する。
亜鉛めっき鋼板、鋼板等の金属材料には、耐食性を付与するために、その表面に表面処理皮膜を形成させる。近年、環境面や安全面への配慮から、クロム含有の表面処理剤から他の金属含有表面処理剤へとシフトしている。例えば特許文献1には、ジルコニウム化合物を含む金属表面処理剤が開示されており、ジルコニウム化合物に加えて、更にLi、Mg、Al、Ca、Mn、Co、Ni、Zn、Sr、W、Ce及びMoから選ばれる少なくとも1種の金属を含有する化合物を配合することが開示されている。
また、特許文献2には、クロム含有の表面処理剤の代替として、エポキシ基またはアミノ基を有する少なくとも1種のシランカップリング剤と二つの加水分解基を有する少なくとも1種のチタンカップリング剤とを縮合してなる縮合体化合物と、Mg、Al、Ti、V、Mn、Zn、Zr、Mo、W、La、Ce、NbおよびNdからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属化合物を含有する金属表面処理剤が開示されている。
特許文献1及び2などのように、表面処理皮膜に更なる性能を付与するために、金属化合物を含有させることが行われている。本発明者は、これらの金属化合物のうちタングステンに着目して研究を進めたところ、タングステンを一定量以上含有する金属表面処理剤から形成される表面処理皮膜は、良好な耐食性に加えて、親水性と耐アルカリ性とを両立できる皮膜となり得ることを見出した。一方で、タングステンを一定量以上含有する金属表面処理剤により形成された表面処理皮膜は、皮膜の焼付け工程や、皮膜を有する金属を加工する工程で、皮膜にひび割れが生じやすく、耐食性が悪化する場合があるという新たな課題に想到した。
本発明は、ひび割れを抑制し、良好な耐食性を有する皮膜を形成し得る、タングステンを一定量以上含有する金属表面処理剤を提供することを課題とする。
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、リン酸類、ホスホン酸類、有機スルホン酸、ポリカルボン酸、ヒドロキシ基を有するモノカルボン酸およびアミノ基を有するモノカルボン酸からなる群より選ばれる少なくとも1種の酸成分(A)と、所定量のタングステン化合物(B)と、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂およびアクリル樹脂から選ばれる少なくとも1種の樹脂化合物(C)と、を配合した金属表面処理剤を用いることにより、金属材料の表面または表面上に、ひび割れを抑制し、良好な耐食性を有する皮膜を形成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
(1)リン酸類、ホスホン酸類、有機スルホン酸、ポリカルボン酸、ヒドロキシ基を有するモノカルボン酸およびアミノ基を有するモノカルボン酸からなる群より選ばれる少なくとも1種の酸成分(A)と、タングステン化合物(B)と、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂およびアクリル樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂化合物(C)と、を配合した金属表面処理剤であって、前記タングステン化合物(B)のW換算固形分質量が前記金属表面処理剤の全固形分質量に対して13.5%以上である金属表面処理剤;
(2)上記(1)に記載の金属表面処理剤を金属材料の表面または表面上に接触させる工程と、前記金属材料の表面または表面上に接触させた前記金属表面処理剤を乾燥させる工程と、を含む皮膜を有する金属材料の製造方法;
(3)上記(2)に記載の製造方法により得られる、皮膜を有する金属材料;
等である。
(1)リン酸類、ホスホン酸類、有機スルホン酸、ポリカルボン酸、ヒドロキシ基を有するモノカルボン酸およびアミノ基を有するモノカルボン酸からなる群より選ばれる少なくとも1種の酸成分(A)と、タングステン化合物(B)と、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂およびアクリル樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂化合物(C)と、を配合した金属表面処理剤であって、前記タングステン化合物(B)のW換算固形分質量が前記金属表面処理剤の全固形分質量に対して13.5%以上である金属表面処理剤;
(2)上記(1)に記載の金属表面処理剤を金属材料の表面または表面上に接触させる工程と、前記金属材料の表面または表面上に接触させた前記金属表面処理剤を乾燥させる工程と、を含む皮膜を有する金属材料の製造方法;
(3)上記(2)に記載の製造方法により得られる、皮膜を有する金属材料;
等である。
本発明によれば、金属材料の表面または表面上に、ひび割れを抑制し、良好な耐食性を有する皮膜を形成可能な金属表面処理剤を提供することができる。
本実施形態に係る金属表面処理剤は、リン酸類、ホスホン酸類、有機スルホン酸、ポリカルボン酸、ヒドロキシ基を有するモノカルボン酸およびアミノ基を有するモノカルボン酸からなる群より選ばれる少なくとも1種の酸成分(A)と、タングステン化合物(B)と、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂およびアクリル樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂化合物(C)と、を所定量配合した、金属表面処理剤である。このような金属表面処理剤を用いることにより、金属材料の表面または表面上に、ひび割れを抑制し、良好な耐食性を有する皮膜を形成することができる。なお、本実施形態に係る金属表面処理剤は、水性媒体に、酸成分(A)、タングステン化合物(B)、樹脂化合物(C)のみが配合されたものであってもよいし、その他の成分がさらに配合されたものであってもよいが、耐食性の観点からアルカリ金属は含まないほうが好ましい。また、酸成分(A)とタングステン化合物(B)は同一の化合物であってもよく、異なる化合物であってもよい。
<酸成分(A)>
金属表面処理剤は、酸成分(A)を配合する。酸成分(A)としては、リン酸類、ホスホン酸類、有機スルホン酸、ポリカルボン酸、ヒドロキシ基を有するモノカルボン酸およびアミノ基を有するモノカルボン酸からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であれば特に制限されるものではなく、これらのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、遷移金属塩、アンモニウム塩等を用いてもよい。なお、これらは1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。1種のみを用いる場合はリン酸類又はホスホン酸類を用いることが好ましい。2種以上を併用する場合は、リン酸類及びホスホン酸類、リン酸類及びポリカルボン酸、又はホスホン酸類及びポリカルボン酸の組み合わせが好ましい。
金属表面処理剤は、酸成分(A)を配合する。酸成分(A)としては、リン酸類、ホスホン酸類、有機スルホン酸、ポリカルボン酸、ヒドロキシ基を有するモノカルボン酸およびアミノ基を有するモノカルボン酸からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であれば特に制限されるものではなく、これらのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、遷移金属塩、アンモニウム塩等を用いてもよい。なお、これらは1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。1種のみを用いる場合はリン酸類又はホスホン酸類を用いることが好ましい。2種以上を併用する場合は、リン酸類及びホスホン酸類、リン酸類及びポリカルボン酸、又はホスホン酸類及びポリカルボン酸の組み合わせが好ましい。
酸成分(A)の分子量は特に制限されるものではないが、1,000以下が好ましく、700以下がより好ましく、400以下が特に好ましい。
リン酸類としては、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸等のモノリン酸;二リン酸、三リン酸等のポリリン酸;フィチン酸等のリン酸エステル等が挙げられる。これらのうち、リン酸、二リン酸または三リン酸を用いることが好ましく、リン酸を用いることがより好ましい。なお、これらは1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
ホスホン酸類とは、ホスホン酸または少なくとも1つのホスホン酸基{-P(=O)(OH)2}を有する有機ホスホン酸を意味する。有機ホスホン酸は、カルボキシ基、ヒドロキシ基またはアミノ基を有していてもよい。有機ホスホン酸としては、例えば、メチルホスホン酸、プロピルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、ヘキサデシルホスホン酸、フェニルホスホン酸、4-ヒドロキシフェニルホスホン酸、4-カルボキシフェニルホスホン酸、(アミノメチル)ホスホン酸、3-ホスホノプロピオン酸、2-ホスホノブタン-1,2,4-トリカルボン酸等の1つのホスホン酸基を有する化合物;1,2-エチレンジホスホン酸、1,6-ヘキサンジホスホン酸、1-ヒドロキシエチリデン-1,1-ジホスホン酸、p-キシリレンジホスホン酸、イミノジ(メチルホスホン酸)等の2つのホスホン酸基を有する化合物;ニトリロトリス(メチレンホスホン酸)、ニトリロトリス(エチレンホスホン酸)等の3つのホスホン酸基を有する化合物;N,N,N’,N’-エチレンジアミンテトラキス(メチレンホスホン酸)、ジエチレントリアミンペンタキス(メチレンホスホン酸)等の4つ以上のホスホン酸基を有する化合物等が挙げられる。これらのうち、1つのホスホン酸基と1つ以上のカルボキシ基とを有する化合物または2つ以上のホスホン酸基を有する化合物を用いることが好ましく、1つのホスホン酸基と3つ以上のカルボキシ基とを有する化合物または2つ以上のホスホン酸基を有する化合物を用いることがより好ましい。なお、これらは1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
有機スルホン酸とは、少なくとも1つのスルホン酸基{-S(=O)2(OH)}を有する化合物を意味する。有機スルホン酸は、カルボキシ基、ヒドロキシ基またはアミノ基を有していてもよい。ただし、ホスホン酸基を有する化合物は除く。例えば、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、2-ヒドロキシエタンスルホン酸等の1つのスルホン酸基を有する化合物;4,5-ジヒドロキシ-1,3-ベンゼンジスルホン酸等の2つのスルホン酸基を有する化合物等が挙げられる。これらのうち、メタンスルホン酸またはエタンスルホン酸を用いることが好ましい。なお、これらは1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
ポリカルボン酸とは、2つ以上のカルボキシ基を有する化合物を意味する。ポリカルボン酸は、ヒドロキシ基またはアミノ基を有していてもよい。ただし、ホスホン酸基を有する化合物およびスルホン酸基を有する化合物は除く。例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、アゼライン酸、ベンゼン-1,2-ジカルボン酸等の2つのカルボキシ基を有する化合物;酒石酸、リンゴ酸等のヒドロキシ基と2つのカルボキシ基とを有する化合物;アスパラギン酸、グルタミン酸等のアミノ基と2つのカルボキシ基とを有する化合物;アコニット酸等の3つのカルボキシ基を有する化合物;クエン酸等のヒドロキシ基と3つのカルボキシ基とを有する化合物;エチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸、N-(2-ヒドロキシエチル)エチレンジアミン-N,N’,N’-三酢酸等の2つ以上のカルボキシ基を有するアミン化合物等が挙げられる。これらのうち、2つのカルボキシ基を有する化合物、ヒドロキシ基と2つのカルボキシ基とを有する化合物、ヒドロキシ基と3つのカルボキシ基とを有する化合物または2つ以上のカルボキシ基を有するアミン化合物を用いることが好ましく、ヒドロキシ基と2つのカルボキシ基とを有する化合物またはヒドロキシ基と3つのカルボキシ基とを有する化合物を用いることがより好ましく、ヒドロキシ基と3つのカルボキシ基とを有する化合物を用いることが特に好ましい。なお、これらは1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
ヒドロキシ基を有するモノカルボン酸とは、1つ以上のヒドロキシ基と1つのカルボキシ基とを有する化合物を意味する。ヒドロキシ基を有するモノカルボン酸は、アミノ基を有していてもよい。ただし、ホスホン酸基を有する化合物およびスルホン酸基を有する化合物は除く。例えば、グリコール酸、乳酸等の1つのヒドロキシ基と1つのカルボキシ基とを有する化合物;グルコン酸等の2つ以上のヒドロキシ基と1つのカルボキシ基とを有
する化合物等が挙げられる。これらのうち、2つ以上のヒドロキシ基と1つのカルボキシ基とを有する化合物を用いることが好ましい。なお、これらは1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
する化合物等が挙げられる。これらのうち、2つ以上のヒドロキシ基と1つのカルボキシ基とを有する化合物を用いることが好ましい。なお、これらは1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
アミノ基を有するモノカルボン酸とは、1つ以上のアミノ基と1つのカルボキシ基とを有する化合物を意味する。ただし、ホスホン酸基を有する化合物、スルホン酸基を有する化合物およびヒドロキシ基を有する化合物は除く。例えば、アラニン、アスパラギン、グルタミン、システイン、グリシン、リシン等が挙げられる。なお、これらは1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
金属表面処理剤中の酸成分(A)の濃度は特に制限されるものではないが、酸成分(A)の固形分質量が表面処理剤の全固形分質量に対して通常1.0%以上であり、5.0%~75.0%の範囲内であることが好ましく、30.0%~65.0%の範囲内であることがより好ましい。なお、金属表面処理剤中において酸成分(A)は、それぞれの酸の形態で存在する場合、イオン化していない形態で存在する場合、一部又は全部の官能基がイオン化した形態で存在する場合、アルカリ金属塩やアンモニウム塩などの塩の形態で存在する場合、金属錯体の形態で存在する場合、これらの形態が交じり合った状態で存在する場合、などがある。酸成分(A)が存在することで、皮膜に生じるひび割れを抑制することができ、タングステンを皮膜中に留めて良好な耐食性を有する皮膜を形成することができる。
<タングステン化合物(B)>
金属表面処理剤は、タングステン化合物(B)を配合する。タングステン化合物(B)としては、1分子中に1つ以上のタングステン元素を含む化合物であれば特に制限されるものではなく、またタングステン元素を含む化合物は、無水物であってもよく、水和物であってもよい。例えば、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム等のタングステンを含有するオキソ酸の無水物及び水和物;メタタングステン酸ナトリウム、メタタングステン酸アンモニウム、タングステン酸アンモニウム等のタングステンを含有するイソポリ酸の無水物及び水和物;ケイタングステン酸、リンタングステン酸、リンタングストモリブデン酸等のタングステンを含有するヘテロポリ酸の無水物及び水和物等が挙げられる。これらのうち、タングステンを含有するオキソ酸またはタングステンを含有するイソポリ酸を用いることが好ましく、タングステン酸、メタタングステン酸アンモニウム、タングステン酸アンモニウムまたはこれらの水和物を用いることがより好ましく、メタタングステン酸アンモニウム、タングステン酸アンモニウムまたはこれらの水和物を用いることが特に好ましい。なお、これらは1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
金属表面処理剤は、タングステン化合物(B)を配合する。タングステン化合物(B)としては、1分子中に1つ以上のタングステン元素を含む化合物であれば特に制限されるものではなく、またタングステン元素を含む化合物は、無水物であってもよく、水和物であってもよい。例えば、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム等のタングステンを含有するオキソ酸の無水物及び水和物;メタタングステン酸ナトリウム、メタタングステン酸アンモニウム、タングステン酸アンモニウム等のタングステンを含有するイソポリ酸の無水物及び水和物;ケイタングステン酸、リンタングステン酸、リンタングストモリブデン酸等のタングステンを含有するヘテロポリ酸の無水物及び水和物等が挙げられる。これらのうち、タングステンを含有するオキソ酸またはタングステンを含有するイソポリ酸を用いることが好ましく、タングステン酸、メタタングステン酸アンモニウム、タングステン酸アンモニウムまたはこれらの水和物を用いることがより好ましく、メタタングステン酸アンモニウム、タングステン酸アンモニウムまたはこれらの水和物を用いることが特に好ましい。なお、これらは1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
金属表面処理剤中のタングステン化合物(B)の濃度は、W(タングステン)換算固形分質量が表面処理剤の全固形分質量に対して13.5%以上であればよい。W換算固形分質量が表面処理剤の全固形分質量に対して13.5%以上であることにより、酸成分(A)および樹脂化合物(C)との架橋反応性が高くなり、耐酸性等が向上する。16.0%~55.0%の範囲内であることが好ましく、20.0%~45.0%の範囲内であることがより好ましく、22.0%~40.0%の範囲内であることが特に好ましい。なお、金属表面処理剤中においてタングステン化合物(B)は、タングステンを含有する酸の形態で存在する場合、イオン化していない形態で存在する場合、一部又は全部の官能基がイオン化した形態で存在する場合、アルカリ金属塩やアンモニウム塩などの塩の形態で存在する場合、金属錯体の形態で存在する場合、これらの形態が交じり合った状態で存在する場合、などがある。タングステンが存在することで、良好な耐食性を有する皮膜を形成することができる。また、皮膜中にタングステンが多く存在することで、抗菌性能が向上するとともに、耐酸性及び耐アルカリ性が向上する。
金属表面処理剤中に配合する、タングステン化合物(B)のW換算固形分質量(BM)に対する酸成分(A)の固形分質量(AM)の割合[AM/BM]は、皮膜のひび割れを抑制する観点から、0.8~5.9の範囲内であることが好ましく、3.0~5.5の範囲内であることがより好ましい。
<樹脂化合物(C)>
金属表面処理剤は、樹脂化合物(C)を配合する。樹脂化合物(C)としては、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂およびアクリル樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であれば特に制限されるものではない。なお、これらは1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。これらのうち、ウレタン樹脂、フェノール樹脂またはアクリル樹脂を用いることが好ましく、ウレタン樹脂またはアクリル樹脂を用いることがより好ましい。
金属表面処理剤は、樹脂化合物(C)を配合する。樹脂化合物(C)としては、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂およびアクリル樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であれば特に制限されるものではない。なお、これらは1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。これらのうち、ウレタン樹脂、フェノール樹脂またはアクリル樹脂を用いることが好ましく、ウレタン樹脂またはアクリル樹脂を用いることがより好ましい。
樹脂化合物(C)は水溶性であってもよいし、水分散性であってもよい。また、水性媒体中における樹脂化合物(C)は、カチオン性、アニオン性またはノニオン性であってもよい。
樹脂化合物(C)としては、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基等のアニオン性基を有するものを用いてもよいし、アミノ基等のカチオン性基を有するものを用いてもよいし、水酸基、ポリオキシエチレン鎖、アミド基等のノニオン性基を有するものを用いてもよい。アニオン性基を有する樹脂化合物(C)はアルカリで中和されていてもよく、カチオン性基を有する樹脂化合物(C)は酸で中和されていてもよい。
樹脂化合物(C)の重量平均分子量は、1,000以上である。1,500~1,000,000であることが好ましく、2,000~500,000であることがより好ましい。本明細書における樹脂化合物(C)の重量平均分子量は、GPC(ゲル透過クロマトグラフィー)を用いて測定され、スチレン換算分子量として得られる値を意味する。
ウレタン樹脂としては、例えば、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオール等のポリオール化合物と、脂肪族ポリイソシアネート、脂環族ポリイソシアネート、芳香族ポリイソシアネート等のポリイソシアネート化合物との縮重合物等が挙げられる。
フェノール樹脂としては、例えば、ノボラックフェノール樹脂、ポリビニルフェノール、ポリビスフェノールA等のフェノール構造を有する重合物等が挙げられる。
エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA等のビスフェノール類とエピクロルヒドリンとを反応させて得られるビスフェノール型エポキシ樹脂;フェノールノボラック樹脂のフェノール性水酸基をグリシジルエーテル化したノボラック型エポキシ樹脂;芳香族カルボン酸のグリシジルエステル;エチレン性不飽和化合物の二重結合を過酸でエポキシ化した過酸エポキシ型エポキシ樹脂等が挙げられる。
アクリル樹脂としては、例えば、アクリルモノマーの単独重合物または共重合物、もしくはアクリルモノマーと共重合し得る付加重合性モノマーとの共重合物等を挙げることができる。なお、本明細書における「アクリル」とは、「メタクリル」も含む。
前記アクリルモノマーとしては特に制限されないが、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、n-ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、n-ヘキシルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、アクリル酸、2-ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、グリシジルアクリレート、スルホエチルアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート等を挙
げることができる。アクリルモノマーと共重合し得る付加重合性モノマーとしては、マレイン酸、イタコン酸、アクリルアミド、N-メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、スチレン、アクリロニトリル、ビニルスルホン酸等を挙げることができる。
前記アクリルモノマーとしては特に制限されないが、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、n-ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、n-ヘキシルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、アクリル酸、2-ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、グリシジルアクリレート、スルホエチルアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート等を挙
げることができる。アクリルモノマーと共重合し得る付加重合性モノマーとしては、マレイン酸、イタコン酸、アクリルアミド、N-メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、スチレン、アクリロニトリル、ビニルスルホン酸等を挙げることができる。
金属表面処理剤中の樹脂化合物(C)の濃度は特に制限されるものではないが、樹脂化合物(C)の固形分質量が表面処理剤の全固形分質量に対して通常1.0%~80.0%の範囲内であり、5.0%~70.0%の範囲内であることが好ましく、10.0%~50.0%の範囲内であることがより好ましく、10.0%~30.0%の範囲内であることが特に好ましい。
<水性媒体>
金属表面処理剤は、水性媒体に上記酸成分(A)、タングステン化合物(B)及び樹脂化合物(C)を配合してなる。水性媒体としては、水または水と水混和性有機溶媒との混合物(水性媒体の体積を基準として50体積%以上の水を含有するもの)であれば特に制限されるものではない。水混和性有機溶媒としては、水と混和するものであれば特に制限されるものではなく、例えば、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;N,N’-ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒;メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒;エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノへキシルエーテル等のエーテル系溶媒;1-メチル-2-ピロリドン、1-エチル-2-ピロリドン等のピロリドン系溶媒等が挙げられる。これらの水混和性有機溶媒は1種を水と混合させてもよいし、2種以上を水と混合させてもよい。
金属表面処理剤は、水性媒体に上記酸成分(A)、タングステン化合物(B)及び樹脂化合物(C)を配合してなる。水性媒体としては、水または水と水混和性有機溶媒との混合物(水性媒体の体積を基準として50体積%以上の水を含有するもの)であれば特に制限されるものではない。水混和性有機溶媒としては、水と混和するものであれば特に制限されるものではなく、例えば、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;N,N’-ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒;メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒;エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノへキシルエーテル等のエーテル系溶媒;1-メチル-2-ピロリドン、1-エチル-2-ピロリドン等のピロリドン系溶媒等が挙げられる。これらの水混和性有機溶媒は1種を水と混合させてもよいし、2種以上を水と混合させてもよい。
<その他の成分>
その他の成分としては特に制限されるものではないが、例えば、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、架橋剤、可塑剤、防菌防黴剤、着色剤等が挙げられる。
その他の成分としては特に制限されるものではないが、例えば、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、架橋剤、可塑剤、防菌防黴剤、着色剤等が挙げられる。
<金属表面処理剤のpH>
金属表面処理剤のpHは特に制限されないが、1~10の範囲内であることが好ましく、2~9の範囲内であることがより好ましく、3~8の範囲内であることが特に好ましい。ここで、本明細書における金属表面処理剤のpH値は、pHメーターを用いて25℃で測定した値を意味する。
金属表面処理剤のpHは、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、フッ化水素酸、ホウ酸、有機酸等の酸成分;水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化バリウム、アルカリ金属塩、アンモニア水、アンモニウム塩、アミン類等のアルカリ成分;等のpH調整剤を用いて調整することができるが、これらの成分に制限されるものではない。なお、pH調整剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。
金属表面処理剤のpHは特に制限されないが、1~10の範囲内であることが好ましく、2~9の範囲内であることがより好ましく、3~8の範囲内であることが特に好ましい。ここで、本明細書における金属表面処理剤のpH値は、pHメーターを用いて25℃で測定した値を意味する。
金属表面処理剤のpHは、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、フッ化水素酸、ホウ酸、有機酸等の酸成分;水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化バリウム、アルカリ金属塩、アンモニア水、アンモニウム塩、アミン類等のアルカリ成分;等のpH調整剤を用いて調整することができるが、これらの成分に制限されるものではない。なお、pH調整剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を用いてもよい。
<金属表面処理剤の製造方法>
本実施形態に係る金属表面処理剤の製造方法は特に制限されないが、例えば、酸成分(A)、タングステン化合物(B)および樹脂化合物(C)をこの順序で水性媒体に所定量配合することにより製造可能である。pH調整剤を配合する場合は、酸成分(A)、タングステン化合物(B)、pH調整剤および樹脂化合物(C)をこの順序で水性媒体に所定量配合して製造することが好ましい。なお、その他の成分を配合する場合には、例えば、上記の各原料を水性媒体に配合した後、その他の成分を配合することにより製造できる。
本実施形態に係る金属表面処理剤の製造方法は特に制限されないが、例えば、酸成分(A)、タングステン化合物(B)および樹脂化合物(C)をこの順序で水性媒体に所定量配合することにより製造可能である。pH調整剤を配合する場合は、酸成分(A)、タングステン化合物(B)、pH調整剤および樹脂化合物(C)をこの順序で水性媒体に所定量配合して製造することが好ましい。なお、その他の成分を配合する場合には、例えば、上記の各原料を水性媒体に配合した後、その他の成分を配合することにより製造できる。
<皮膜を有する金属材料の製造方法>
本実施形態に係る皮膜を有する金属材料の製造方法は、金属材料の表面または表面上に本実施形態に係る金属表面処理剤を接触させる接触工程と、金属材料の表面または表面上に接触させた金属表面処理剤を乾燥させる乾燥工程と、を含む。これにより、金属材料の
表面または表面上に皮膜が形成される。なお、接触工程の前に脱脂工程等を行ってもよい。
本実施形態に係る皮膜を有する金属材料の製造方法は、金属材料の表面または表面上に本実施形態に係る金属表面処理剤を接触させる接触工程と、金属材料の表面または表面上に接触させた金属表面処理剤を乾燥させる乾燥工程と、を含む。これにより、金属材料の
表面または表面上に皮膜が形成される。なお、接触工程の前に脱脂工程等を行ってもよい。
<接触工程>
接触方法としては、例えば、スプレー法、浸漬法、ロールコート法、バーコート法、カーテンコート法、スピンコート法、またはこれらの組み合わせ等の方法が挙げられるが、これらに制限されるものではない。接触温度や接触時間は、金属表面処理剤の組成や濃度によって適宜設定される。通常、接触温度は10℃~90℃以下の範囲内であり、接触時間は5秒~600秒の範囲内であるが、これらに制限されるものではない。
接触方法としては、例えば、スプレー法、浸漬法、ロールコート法、バーコート法、カーテンコート法、スピンコート法、またはこれらの組み合わせ等の方法が挙げられるが、これらに制限されるものではない。接触温度や接触時間は、金属表面処理剤の組成や濃度によって適宜設定される。通常、接触温度は10℃~90℃以下の範囲内であり、接触時間は5秒~600秒の範囲内であるが、これらに制限されるものではない。
<乾燥工程>
乾燥方法は特に制限されず、公知の乾燥機器、例えば、バッチ式の乾燥炉、連続式の熱風循環式乾燥炉、コンベアー式の熱風乾燥炉、電磁誘導加熱炉等を用いた乾燥方法等を挙げることができる。乾燥温度や乾燥時間は、金属材料の種類や接触させた金属表面処理剤の組成または量によって適宜設定される。乾燥温度は、特に制限されるものではないが、金属材料の最高到達温度(PMT)が50℃~200℃の範囲内であることが好ましく、80℃~170℃の範囲内であることがより好ましく、100℃~130℃の範囲内であることが特に好ましい。乾燥時間も特に制限されるものではないが、通常2秒~1800秒の範囲内である。
乾燥方法は特に制限されず、公知の乾燥機器、例えば、バッチ式の乾燥炉、連続式の熱風循環式乾燥炉、コンベアー式の熱風乾燥炉、電磁誘導加熱炉等を用いた乾燥方法等を挙げることができる。乾燥温度や乾燥時間は、金属材料の種類や接触させた金属表面処理剤の組成または量によって適宜設定される。乾燥温度は、特に制限されるものではないが、金属材料の最高到達温度(PMT)が50℃~200℃の範囲内であることが好ましく、80℃~170℃の範囲内であることがより好ましく、100℃~130℃の範囲内であることが特に好ましい。乾燥時間も特に制限されるものではないが、通常2秒~1800秒の範囲内である。
<脱脂工程>
脱脂方法としては、金属材料の表面に付着している油脂類や汚れを除去することができればいかなる方法であってもよく、例えば、溶剤脱脂、アルカリ系または酸系の脱脂剤等を用いた公知の方法を挙げることができる。なお、脱脂工程を行った後に接触工程を行う場合には、脱脂工程後であって、接触工程の前に金属材料の表面または表面上を水洗する工程を行ってもよいし、行わなくてもよい。水洗を行った場合には、続いて金属材料の表面または表面上を乾燥してもよいし、乾燥しなくてもよい。
脱脂方法としては、金属材料の表面に付着している油脂類や汚れを除去することができればいかなる方法であってもよく、例えば、溶剤脱脂、アルカリ系または酸系の脱脂剤等を用いた公知の方法を挙げることができる。なお、脱脂工程を行った後に接触工程を行う場合には、脱脂工程後であって、接触工程の前に金属材料の表面または表面上を水洗する工程を行ってもよいし、行わなくてもよい。水洗を行った場合には、続いて金属材料の表面または表面上を乾燥してもよいし、乾燥しなくてもよい。
<金属材料>
皮膜を形成させる金属材料の形状や構造等は特に限定されず、例えば、板状、箔状等を挙げることができる。金属材料の種類についても特に限定されず、例えば、鉄鋼材料(例えば、冷間圧延鋼板、熱間圧延鋼板、黒皮材、酸洗鋼板、高張力鋼板、工具鋼、合金工具鋼、球状化黒鉛鋳鉄、ねずみ鋳鉄等);めっき材料、例えば、亜鉛めっき材(例えば、電気亜鉛めっき、溶融亜鉛めっき、アルミニウム含有亜鉛めっき、電気亜鉛めっき、亜鉛ニッケルめっき、亜鉛コバルトめっき、蒸着亜鉛めっき等)、亜鉛合金めっき材(例えば、合金化溶融亜鉛めっき、Zn-Al合金めっき、Zn-Al-Mg合金めっき、電気亜鉛合金めっき等)、アルミめっき材、ニッケルめっき材、スズめっき材、クロムめっき材、クロム合金めっき材(例えば、Cr-Ni合金めっき等)等;アルミニウム材またはアルミニウム合金材(例えば、1000系、2000系、3000系、4000系、5000系、6000系、アルミニウム鋳物、アルミニウム合金鋳物、ダイキャスト材等);銅材または銅合金材;チタン材またはチタン合金材;マグネシウム材またはマグネシウム合金材等が挙げられる。
皮膜を形成させる金属材料の形状や構造等は特に限定されず、例えば、板状、箔状等を挙げることができる。金属材料の種類についても特に限定されず、例えば、鉄鋼材料(例えば、冷間圧延鋼板、熱間圧延鋼板、黒皮材、酸洗鋼板、高張力鋼板、工具鋼、合金工具鋼、球状化黒鉛鋳鉄、ねずみ鋳鉄等);めっき材料、例えば、亜鉛めっき材(例えば、電気亜鉛めっき、溶融亜鉛めっき、アルミニウム含有亜鉛めっき、電気亜鉛めっき、亜鉛ニッケルめっき、亜鉛コバルトめっき、蒸着亜鉛めっき等)、亜鉛合金めっき材(例えば、合金化溶融亜鉛めっき、Zn-Al合金めっき、Zn-Al-Mg合金めっき、電気亜鉛合金めっき等)、アルミめっき材、ニッケルめっき材、スズめっき材、クロムめっき材、クロム合金めっき材(例えば、Cr-Ni合金めっき等)等;アルミニウム材またはアルミニウム合金材(例えば、1000系、2000系、3000系、4000系、5000系、6000系、アルミニウム鋳物、アルミニウム合金鋳物、ダイキャスト材等);銅材または銅合金材;チタン材またはチタン合金材;マグネシウム材またはマグネシウム合金材等が挙げられる。
<皮膜>
金属表面処理剤によって金属材料の表面または表面上に形成される皮膜の付着量は、本発明の性能が発揮できれば特に制限されるものではないが、例えば、0.05g/m2~3.0g/m2の範囲内であることが好ましく、0.1g/m2~1.0g/m2の範囲内であることがより好ましい。前記皮膜が形成された金属材料は、耐食性が向上することで長寿命化が可能となり、もって資源の有効活用を図ることができる。
金属表面処理剤によって金属材料の表面または表面上に形成される皮膜の付着量は、本発明の性能が発揮できれば特に制限されるものではないが、例えば、0.05g/m2~3.0g/m2の範囲内であることが好ましく、0.1g/m2~1.0g/m2の範囲内であることがより好ましい。前記皮膜が形成された金属材料は、耐食性が向上することで長寿命化が可能となり、もって資源の有効活用を図ることができる。
<塗装工程>
皮膜を有する金属材料は、塗装工程により塗装されてもよい。塗装方法としては特に制限されないが、例えば、電着塗装(例えば、カチオン電着塗装)、バーコート塗装、スプレー塗装、粉体塗装、ラミネート圧着等の方法を挙げることができる。
皮膜を有する金属材料は、塗装工程により塗装されてもよい。塗装方法としては特に制限されないが、例えば、電着塗装(例えば、カチオン電着塗装)、バーコート塗装、スプレー塗装、粉体塗装、ラミネート圧着等の方法を挙げることができる。
以下、実施例により本発明の効果を詳細に説明するが、本発明は以下の実施例によって制限されるものではない。
<金属表面処理剤の製造>
下記に示す酸成分(A)、タングステン化合物(B)、pH調整剤(アンモニア水)および樹脂化合物(C)をこの順序で脱イオン水に配合し、表1に示す金属表面処理剤を調製した。
下記に示す酸成分(A)、タングステン化合物(B)、pH調整剤(アンモニア水)および樹脂化合物(C)をこの順序で脱イオン水に配合し、表1に示す金属表面処理剤を調製した。
<酸成分(A)>
A1:リン酸
A2:2-ホスホノブタン-1,2,4-トリカルボン酸
A3:メタンスルホン酸
A4:クエン酸(無水物)
A5:グリコール酸
A6:アスパラギン
A1:リン酸
A2:2-ホスホノブタン-1,2,4-トリカルボン酸
A3:メタンスルホン酸
A4:クエン酸(無水物)
A5:グリコール酸
A6:アスパラギン
<タングステン化合物(B)>
B1:タングステン酸アンモニウムパラ五水和物
B2:メタタングステン酸アンモニウム
B1:タングステン酸アンモニウムパラ五水和物
B2:メタタングステン酸アンモニウム
<樹脂化合物(C)>
C1:ウレタン樹脂(DIC株式会社製、ハイドランCOR-70)
C2:フェノール樹脂(住友ベークライト株式会社製、PR-50273)
C3:エポキシ樹脂(DIC株式会社製、ウォーターゾールEFD-556)
C4:アクリル樹脂(DIC株式会社製、ウォーターゾールS-701)
C1:ウレタン樹脂(DIC株式会社製、ハイドランCOR-70)
C2:フェノール樹脂(住友ベークライト株式会社製、PR-50273)
C3:エポキシ樹脂(DIC株式会社製、ウォーターゾールEFD-556)
C4:アクリル樹脂(DIC株式会社製、ウォーターゾールS-701)
*1は、金属表面処理剤の全固形分質量に対する酸成分(A)の固形分質量をパーセント表記した濃度である。
*2は、金属表面処理剤の全固形分質量に対するタングステン化合物(B)のW換算固形分質量をパーセント表記した濃度である。
*3は、金属表面処理剤の全固形分質量に対する樹脂化合物(C)の固形分質量をパーセント表記した濃度である。
<金属材料>
下記に示す金属材料を使用した。
GI:溶融亜鉛めっき鋼板
GL:溶融55%アルミニウム-亜鉛合金めっき鋼板
SUS:オーステナイト系ステンレス鋼板(SUS304)
Cu:無酸素銅板(C1020P)
下記に示す金属材料を使用した。
GI:溶融亜鉛めっき鋼板
GL:溶融55%アルミニウム-亜鉛合金めっき鋼板
SUS:オーステナイト系ステンレス鋼板(SUS304)
Cu:無酸素銅板(C1020P)
<皮膜を有する金属材料の製造方法>
前記金属材料を60℃のアルカリ脱脂剤[ファインクリーナーE6406(日本パーカライジング株式会社製)を20g/Lとなるように水に混合した溶液]に10秒間浸漬し、純水で水洗した後乾燥した。その後、表1に示した金属表面処理剤を乾燥後の皮膜質量が0.5g/m2となるように塗布し、100℃(金属材料の最高到達板温度)で乾燥して皮膜を有する金属材料(試験板)を作製した。
前記金属材料を60℃のアルカリ脱脂剤[ファインクリーナーE6406(日本パーカライジング株式会社製)を20g/Lとなるように水に混合した溶液]に10秒間浸漬し、純水で水洗した後乾燥した。その後、表1に示した金属表面処理剤を乾燥後の皮膜質量が0.5g/m2となるように塗布し、100℃(金属材料の最高到達板温度)で乾燥して皮膜を有する金属材料(試験板)を作製した。
<評価>
試験板を用いて、下記の評価を行った。表2に評価結果を示す。
試験板を用いて、下記の評価を行った。表2に評価結果を示す。
<平面部耐食性>
JIS Z 2371:2015に基づき中性塩水噴霧試験を24時間行った後、錆発生面積率を目視で確認し4段階で評価した。
4:5%未満
3:5%以上、10%未満
2:10%以上、20%未満
1:20%以上
JIS Z 2371:2015に基づき中性塩水噴霧試験を24時間行った後、錆発生面積率を目視で確認し4段階で評価した。
4:5%未満
3:5%以上、10%未満
2:10%以上、20%未満
1:20%以上
<耐加工性>
試験板をエリクセン試験機で5mm押し出し加工した。この試験板の加工部を走査電子顕微鏡[JSM-IT100(日本電子株式会社製);倍率200倍]で観察し、3段階で評価した。
3:クラックおよび金属素地の露出なし
2:クラックあり
1:金属素地の露出あり
試験板をエリクセン試験機で5mm押し出し加工した。この試験板の加工部を走査電子顕微鏡[JSM-IT100(日本電子株式会社製);倍率200倍]で観察し、3段階で評価した。
3:クラックおよび金属素地の露出なし
2:クラックあり
1:金属素地の露出あり
<加工部耐食性>
前記押し出し加工した試験板に対して、JIS Z 2371:2015に基づき中性塩水噴霧試験を24時間行った後、押し出し加工部の錆発生面積率を目視で確認し4段階で評価した。
4:10%未満
3:10%以上、20%未満
2:20%以上、30%未満
1:30%以上
前記押し出し加工した試験板に対して、JIS Z 2371:2015に基づき中性塩水噴霧試験を24時間行った後、押し出し加工部の錆発生面積率を目視で確認し4段階で評価した。
4:10%未満
3:10%以上、20%未満
2:20%以上、30%未満
1:30%以上
<親水性>
試験板の表面に1μLの水滴を滴下し、滴下直後の水滴と試験板との接触角を接触角測定装置で測定した。その後、水滴を布で拭き取って水滴痕を目視で確認した。水滴痕が認められた場合は1点とし、水滴痕が認められなかった場合は接触角に基づき2段階で評価した。
3:5°未満
2:5°以上20°未満
1:水滴拭き取り後、水滴痕が認められる
試験板の表面に1μLの水滴を滴下し、滴下直後の水滴と試験板との接触角を接触角測定装置で測定した。その後、水滴を布で拭き取って水滴痕を目視で確認した。水滴痕が認められた場合は1点とし、水滴痕が認められなかった場合は接触角に基づき2段階で評価した。
3:5°未満
2:5°以上20°未満
1:水滴拭き取り後、水滴痕が認められる
<耐アルカリ性>
試験板を25℃の5%水酸化ナトリウム水溶液に24時間浸漬した後、水洗し、乾燥することにより耐アルカリ性試験を行った。耐アルカリ性試験前後の試験板におけるタングステンの付着量を走査型蛍光X線分析装置[ZSX PrimusII(株式会社リガク製)]を用いて測定し、耐アルカリ性試験後の試験板におけるタングステンの残存率を4段階で評価した。
4:90%以上
3:90%未満70%以上
2:70%未満50%以上
1:50%未満
試験板を25℃の5%水酸化ナトリウム水溶液に24時間浸漬した後、水洗し、乾燥することにより耐アルカリ性試験を行った。耐アルカリ性試験前後の試験板におけるタングステンの付着量を走査型蛍光X線分析装置[ZSX PrimusII(株式会社リガク製)]を用いて測定し、耐アルカリ性試験後の試験板におけるタングステンの残存率を4段階で評価した。
4:90%以上
3:90%未満70%以上
2:70%未満50%以上
1:50%未満
<耐酸性>
試験板を25℃の1%硫酸水溶液に24時間浸漬した後、水洗し、乾燥することにより耐酸性試験を行った。耐酸性試験前後の試験板におけるタングステンの付着量を走査型蛍
光X線分析装置[ZSX PrimusII(株式会社リガク製)]を用いて測定し、耐酸性試験後の試験板におけるタングステンの残存率を4段階で評価した。
4:90%以上
3:90%未満70%以上
2:70%未満50%以上
1:50%未満
試験板を25℃の1%硫酸水溶液に24時間浸漬した後、水洗し、乾燥することにより耐酸性試験を行った。耐酸性試験前後の試験板におけるタングステンの付着量を走査型蛍
光X線分析装置[ZSX PrimusII(株式会社リガク製)]を用いて測定し、耐酸性試験後の試験板におけるタングステンの残存率を4段階で評価した。
4:90%以上
3:90%未満70%以上
2:70%未満50%以上
1:50%未満
<抗菌性>
JIS Z 2801:2010に基づき抗菌性試験を行い、細菌の減少率を2段階で評価した。評価部に腐食または変色が認められた場合は1点とした。細菌には黄色ぶどう球菌と大腸菌を用いた。試験板の評価部以外はマスキングして抗菌性試験への影響がでないようにした。無加工試験片および比較用の試験片には清浄なガラス板を用いた。細菌の減少率は式[対象菌の減少率(%)=100-Y/Z×100]で算出した。式中、Yは試験板を用いた際の生菌数を意味し、Zはガラス板を用いた際の生菌数を意味する。
3:99.0%以上
2:99.0%未満95.0%以上
1:評価部に腐食または変色が認められる
JIS Z 2801:2010に基づき抗菌性試験を行い、細菌の減少率を2段階で評価した。評価部に腐食または変色が認められた場合は1点とした。細菌には黄色ぶどう球菌と大腸菌を用いた。試験板の評価部以外はマスキングして抗菌性試験への影響がでないようにした。無加工試験片および比較用の試験片には清浄なガラス板を用いた。細菌の減少率は式[対象菌の減少率(%)=100-Y/Z×100]で算出した。式中、Yは試験板を用いた際の生菌数を意味し、Zはガラス板を用いた際の生菌数を意味する。
3:99.0%以上
2:99.0%未満95.0%以上
1:評価部に腐食または変色が認められる
Claims (3)
- リン酸類、ホスホン酸類、有機スルホン酸、ポリカルボン酸、ヒドロキシ基を有するモノカルボン酸およびアミノ基を有するモノカルボン酸からなる群より選ばれる少なくとも1種の酸成分(A)と、
タングステン化合物(B)と、
ウレタン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂およびアクリル樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂化合物(C)と、
を配合した金属表面処理剤であって、
前記タングステン化合物(B)のW換算固形分質量が前記金属表面処理剤の全固形分質量に対して13.5%以上である金属表面処理剤。 - 請求項1に記載の金属表面処理剤を金属材料の表面または表面上に接触させる工程と、前記金属材料の表面または表面上に接触させた前記金属表面処理剤を乾燥させる工程と、を含む皮膜を有する金属材料の製造方法。
- 請求項2に記載の製造方法により得られる、皮膜を有する金属材料。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022139716A JP2024035325A (ja) | 2022-09-02 | 2022-09-02 | 金属表面処理剤、並びに皮膜を有する金属材料およびその製造方法 |
PCT/JP2023/031268 WO2024048598A1 (ja) | 2022-09-02 | 2023-08-29 | 金属表面処理剤、並びに皮膜を有する金属材料およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022139716A JP2024035325A (ja) | 2022-09-02 | 2022-09-02 | 金属表面処理剤、並びに皮膜を有する金属材料およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2024035325A true JP2024035325A (ja) | 2024-03-14 |
Family
ID=90099573
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022139716A Pending JP2024035325A (ja) | 2022-09-02 | 2022-09-02 | 金属表面処理剤、並びに皮膜を有する金属材料およびその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2024035325A (ja) |
WO (1) | WO2024048598A1 (ja) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3851106B2 (ja) * | 2000-05-11 | 2006-11-29 | 日本パーカライジング株式会社 | 金属表面処理剤、金属表面処理方法及び表面処理金属材料 |
JP4167046B2 (ja) * | 2002-11-29 | 2008-10-15 | 日本パーカライジング株式会社 | 金属表面処理剤、金属表面処理方法及び表面処理金属材料 |
JP6694769B2 (ja) * | 2015-09-30 | 2020-05-20 | 株式会社神戸製鋼所 | 耐食性及び加工後の外観に優れた鋼線材 |
-
2022
- 2022-09-02 JP JP2022139716A patent/JP2024035325A/ja active Pending
-
2023
- 2023-08-29 WO PCT/JP2023/031268 patent/WO2024048598A1/ja unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2024048598A1 (ja) | 2024-03-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8980016B2 (en) | Chromium-free solution for treating metal surfaces | |
RU2417276C2 (ru) | Водный раствор для обработки стального листа с покрытием на основе олова, характеризующегося прекрасными стойкостью к коррозии и адгезией краски, и способ производства обработанного по поверхности стального листа | |
JP6118419B2 (ja) | 金属材料用表面処理剤、表面処理金属材料の製造方法 | |
CN1408031A (zh) | 金属表面的防腐蚀方法 | |
JP4276530B2 (ja) | 化成処理剤及び表面処理金属 | |
US9580812B2 (en) | Chemical conversion treatment agent for surface treatment of metal substrate, and surface treatment method of metal substrate using same | |
KR100921116B1 (ko) | 표면처리 금속재료 | |
KR20160138278A (ko) | 다층 기판 및 제조 방법 | |
CN115087761A (zh) | 用于金属预处理应用的铋组合物 | |
WO2024048598A1 (ja) | 金属表面処理剤、並びに皮膜を有する金属材料およびその製造方法 | |
JP2024035322A (ja) | 金属表面処理剤、並びに皮膜を有する金属材料およびその製造方法 | |
JP2024035324A (ja) | 金属表面処理剤、並びに皮膜を有する金属材料およびその製造方法 | |
JP5338195B2 (ja) | 表面処理亜鉛系めっき鋼板及びその製造方法 | |
WO2024048597A1 (ja) | 金属表面処理剤、並びに皮膜を有する金属材料およびその製造方法 | |
JP6622206B2 (ja) | 金属表面を被覆する方法、前記方法により被覆された基材およびその使用 | |
CN113646467A (zh) | 具有降低酸洗侵蚀的用于金属表面的无磷酸盐清洗剂 | |
JP3936657B2 (ja) | 非クロム型処理亜鉛系めっき鋼板の製造方法 | |
JP2002162186A (ja) | ノンクロメート反応型下地層を有する熱交換器用フィン材およびそれを備えた熱交換器 | |
CN115768923A (zh) | 无膦酸盐的水性酸浸组合物及其用途 | |
TW202331002A (zh) | 磷酸鋅化成處理用表面調整劑 | |
CN115698381A (zh) | 水性酸浸组合物及其用途 | |
CN116472362A (zh) | 有机树脂被覆用表面处理钢板及其制造方法和有机树脂被覆钢板及其制造方法 | |
CN115698382A (zh) | 水性酸浸组合物及其用途 | |
JPH0892758A (ja) | 亜鉛めっき鉄部品の耐食性改善処理方法 | |
JP2003147543A (ja) | 電磁鋼板用クロムフリー表面処理剤及び表面処理電磁鋼板 |