JP2024033561A - フィルム、成型物、加飾パネル、電子デバイス、フィルムの製造方法及び成型物の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】立体成型性、及び得られる成型物の熱耐久性に優れるフィルム等の提供。【解決手段】１つの重合性基を有する光異性化光学活性化合物と、１つ又は２つの重合性基を有するコレステリック液晶化合物を含む液晶組成物の硬化物である、コレステリック液晶層を備え、上記コレステリック液晶層が、上記光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有する、フィルム、成型物、加飾パネル、電子デバイス、フィルムの製造方法及び成型物の製造方法。【選択図】なし

Description

本開示は、フィルム、成型物、加飾パネル、電子デバイス、フィルムの製造方法及び成型物の製造方法に関する。

液晶化合物は、分子配列に応じて種々の液晶相を形成する。液晶相は、通常、液晶化合物の配向によって形成される。

液晶相の一種として知られているコレステリック相は、光の選択反射性といった特有の性質を有する。コレステリック相の性質は、液晶化合物によって形成されるらせん構造に由来する。コレステリック相を形成する液晶化合物は、例えば、種々の物品の装飾に使用されている。
特許文献１には、基材、中間層及びコレステリック樹脂層を備える加飾用材料が開示されている。特許文献２には、基材上にコレステリック液晶化合物及び光異性化化合物を含む液晶層を形成する工程と、上記液晶層を光異性化する工程と、上記液晶層を硬化する工程とをこの順で含む成型用加飾フィルムの製造方法が開示されている。

国際公開第２０１７／０１８４６８号公報 国際公開第２０２０／１２２２４５号公報

加飾フィルムを用いる装飾方法の多くは、加飾フィルムの立体成型を伴う。例えば、加飾フィルムは、装飾の対象物と同時に成型されることがある。そのため、立体成型性時における加飾フィルムの破断を抑制するため、加飾フィルムには、優れた立体成型性が求められる。

また、加飾用フィルム及び成型物は、高温環境下で運搬、保管又は使用されることがある。液晶化合物を含む加飾用フィルムが高温にさらされると、液晶相の色味が変化し、その特性が維持されない可能性がある。このため、液晶化合物を含む加飾用フィルムには優れた熱耐久性を有していることが求められている。

本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、立体成型性、及び得られる成型物の熱耐久性に優れるフィルム及びフィルムの製造方法を提供することである。
本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、上記フィルムを成型してなる成型物、成型物の製造方法、並びに成型物を含む加飾パネル及び電子デバイスを提供することである。

上記課題は、以下の手段により解決される。
＜１＞ １つの重合性基を有する光異性化光学活性化合物と、１つ又は２つの重合性基を有するコレステリック液晶化合物を含む液晶組成物の硬化物である、コレステリック液晶層を備え、
上記コレステリック液晶層が、上記光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有する、フィルム。
＜２＞ 上記コレステリック液晶層の破断伸度の値が、１００％以上である、上記＜１＞に記載のフィルム。
＜３＞ 上記コレステリック液晶層の架橋密度が、０．０１０ｍｏｌ／Ｌ～０．０４０ｍｏｌ／Ｌである、上記＜１＞又は＜２＞に記載のフィルム。
＜４＞ 上記コレステリック液晶層において、上記コレステリック液晶層の単位体積あたりの１０，０００以下の分子量を有する化合物の含有量が、５０．０ｍｇ／ｃｍ^３未満である、上記＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載のフィルム。
＜５＞ 上記コレステリック液晶層に隣接する接着剤含有層を更に備え、且つ上記接着剤含有層の破断伸度の値が、上記コレステリック液晶層の破断伸度の値以上である、上記＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載のフィルム。
＜６＞ 上記光異性化光学活性化合物が、下記式（Ｃ）で表される化合物である、上記＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載のフィルム。
式（Ｃ） Ｒ^１－Ｌ－Ｒ^２
式（Ｃ）中、
Ｒ^１は、シンナモイル部位、カルコン部位、アゾベンゼン部位、及び、スチルベン部位からなる群から選択される少なくとも１つの部位と重合性基とを有する基を表し、
Ｒ^２は、シンナモイル部位、カルコン部位、アゾベンゼン部位、及び、スチルベン部位からなる群から選択される少なくとも１つの部位を有する基を表し、
Ｌは、式（Ｄ）で表される構造から２個の水素原子を除いた形成される２価の連結基、式（Ｅ）で表される２価の連結基、又は、式（Ｆ）で表される２価の連結基を表す。

式（Ｅ）及び式（Ｆ）中、
＊は、Ｒ^１及びＲ^２の結合位置を表す。
＜７＞ 上記光異性化光学活性化合物が、下記式（Ｃ１）～式（Ｃ３）で表される化合物のうち少なくとも１つである、上記＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載のフィルム。

＜８＞ 加飾フィルムである、上記＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載のフィルム。
＜９＞ 上記＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載のフィルムを成型してなる、成型物。
＜１０＞ 上記＜９＞に記載の成型物を含む、加飾パネル。
＜１１＞ 上記＜９＞に記載の成型物を含む、電子デバイス。
＜１２＞ １つの重合性基を有する光異性化光学活性化合物と、１つ又は２つの重合性基を有するコレステリック液晶化合物を含む液晶組成物を準備する準備工程と、
基材上に、上記液晶組成物を塗布する塗布工程と、
上記塗布工程後、上記液晶組成物に対して異性化処理を施し、上記光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を形成する異性化工程と、
上記異性化工程後、上記液晶組成物に対して硬化処理を施し、コレステリック液晶層を形成し、フィルムを得る硬化工程と、
を含む、フィルムの製造方法。
＜１３＞ 上記硬化工程後、上記フィルムの少なくとも一部を３０％以上延伸する延伸工程を更に含む、上記＜１２＞に記載のフィルムの製造方法。
＜１４＞ 上記コレステリック液晶層の上記基材とは反対側の表面に、接着剤含有層を形成する接着剤含有層形成工程を更に含む、上記＜１２＞又は＜１３＞に記載のフィルムの製造方法。
＜１５＞ 製造されるフィルムが加飾フィルムである、上記＜１２＞～＜１４＞のいずれか１つに記載のフィルムの製造方法。
＜１６＞ １つの重合性基を有する光異性化光学活性化合物と、１つ又は２つの重合性基を有するコレステリック液晶化合物を含む液晶組成物を準備する準備工程と、
基材上に、上記液晶組成物を塗布する塗布工程と、
上記塗布工程後、上記液晶組成物に対して異性化処理を施し、上記光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を形成する異性化工程と、
上記異性化工程後、上記液晶組成物に対して硬化処理を施し、コレステリック液晶層を形成し、フィルムを得る硬化工程と、
上記フィルムの少なくとも一部を３０％以上延伸させる成型工程を含む、成型物の製造方法。

本開示の一実施形態によれば、立体成型性、及び得られる成型物の熱耐久性に優れるフィルム及びフィルムの製造方法を提供することできる。
本開示の一実施形態によれば、上記フィルムを成型してなる成型物、成型物の製造方法、並びに成型物を含む加飾パネル及び電子デバイスを提供することできる。

図１は、実施例において使用したパターニングマスクの正面図である。 図２（Ａ）及び図２（Ｂ）は、実施例の意匠性評価における成型（延伸）方法を説明するための概略断面図である。

以下、本発明の一例である実施形態について説明する。これらの説明及び実施例は、実施形態を例示するものであり、発明の範囲を制限するものではない。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。本開示において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。
組成物中の各成分の量について言及する場合、組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合には、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計量を意味する。
本開示において「層」との語には、当該層が存在する領域を観察したときに、当該領域の全体に形成されている場合に加え、当該領域の一部にのみ形成されている場合も含まれる。
本開示において、「工程」という語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
本開示において、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートを表し、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルを表し、（メタ）アクリロキシはアクリロキシ及びメタクリロキシを表す。
本開示において、厚さは、連続式触針式膜厚計により測定される５か所の厚さの算術平均値により求められる。
本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本開示において実施形態を図面を参照して説明する場合、当該実施形態の構成は図面に示された構成に限定されない。また、各図における部材の大きさは概念的なものであり、部材間の大きさの相対的な関係はこれに限定されない。

[フィルム]
本開示のフィルムは、１つの重合性基を有する光異性化光学活性化合物と、１つ又は２つの重合性基を有するコレステリック液晶化合物を含む液晶組成物の硬化物である、コレステリック液晶層を備え、
上記コレステリック液晶層が、上記光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有する。

本開示のフィルムは、立体成型性、及び得られる成型物の熱耐久性に優れる。
上記効果が奏される理由は以下のように推定される。
本開示のフィルムが備えるコレステリック液晶層は、１つの重合性基を有する光異性化光学活性化合物と、１つ又は２つの重合性基を有するコレステリック液晶化合物を含む液晶組成物の硬化物である。液晶組成物に含まれる光異性化光学活性化合物が、重合性基を１つ有することにより、コレステリック液晶化合物の重合鎖中に組み込まれ、高温環境下での静置時において、経時的にコレステリック液晶化合物が系外へ流出してしまうことが抑制される。これにより、フィルムの熱耐久性が向上すると推定される。
また、液晶組成物に含まれる光異性化光学活性化合物が、重合性基を１つ有することにより、重合物の架橋密度が過度に高くなることを抑制することができる。これにより、フィルムの立体成型性が向上する推定される。

ところで、従来、加飾フィルムの成型において、加飾フィルムに対して延伸が施されることがある。延伸された領域のコレステリック液晶層における反射光の極大波長は短波長側へ変化することとなるため、延伸領域と、非延伸領域とで色味に差が生じてしまい、成型物の意匠性が低下するおそれがあった。
ここで、本開示のフィルムが備えるコレステリック液晶層は、上記光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有する。そして、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が高い領域は、光異性化割合が低い領域に比べて、反射光の極大波長が長波長側に存在する。
そのため、光異性化割合が高い領域と光異性化割合が低い領域とを有するコレステリック層を備えるフィルムの延伸において、延伸条件を調整することにより（光異性化割合が高い領域に対しては延伸処理を施し、且つ、光異性化割合が低い領域に対しては延伸処理を施さない等）、光異性化割合が高い領域の反射光の極大波長と、光異性化割合が低い領域の反射光の極大波長とが同程度に調整することが可能となる。
これにより、延伸領域と非延伸領域との色味の差を低減することができ、意匠性が向上すると推定される。

本開示のフィルムは、延伸処理が施されたものであってもよい。延伸処理は一軸延伸であっても、二軸延伸であってもよい。なお、延伸処理は、フィルムの成型処理には含まれない。

（コレステリック液晶層）
本開示において、「コレステリック液晶層」とは、コレステリック液晶に特有な分子の配向状態を有する層である。以下、「コレステリック液晶に特有な分子の配向状態」を「コレステリック配向状態」又は単に「配向状態」という場合がある。配向状態は、右円偏光を反射する配向状態、左円偏光を反射する配向状態又はこれらの両方を含んでいてもよい。配向状態は、コレステリック液晶化合物を重合又は架橋させる方法によって固定することができる。コレステリック液晶層は、コレステリック液晶化合物をコレステリック配向状態で固定した液晶層であってもよい。

コレステリック液晶層は、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有する。なお、上記複数の領域は、コレステリック液晶層の面内に存在することが好ましい。
光異性化光学活性化合物の異性化は、コレステリック液晶化合物の配向性に影響を及ぼす。光異性化光学活性化合物の光異性化割合に応じて、例えば、らせん構造の誘起力が変化する。例えば、形成されるらせん構造のらせんピッチが変化すると、コレステリック液晶層における反射光の極大波長が変化する。
本開示において、「光異性化割合」とは、光異性化可能な化合物の総分子数に対する、光異性化した化合物の分子数の割合を意味する。

コレステリック液晶層が、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有するか否かはコレステリック液晶層を備えるフィルムに色味の異なる複数の領域を含むか否かで確認することができる。ここで色味の異なる複数の領域とは可視域の光を反射する有色の領域だけではなく、赤外光や紫外光を反射する無色の領域も含む。
コレステリック液晶層が、目視により確認できない場合、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有するか否かは以下の方法によっても確認される。
コレステリック液晶層を備えるフィルムの複数の領域において、マルチチャンネル分光器（ＰＭＡ－１２、浜松ホトニクス株式会社）を用いて、３８０ｎｍ～１５００ｎｍの波長域の反射スペクトルを測定する。
極大波長が最も小さくなる領域における極大波長λ１と極大波長が最も大きくなる領域における極大波長λ２との差が１０ｎｍ以上である場合、コレステリック液晶層は、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有するとみなす。なお、λ１とλ２との差は、絶対値（すなわち、｜λ１－λ２｜）によって表される。

コレステリック液晶層は、光異性化割合が０％である領域と、光異性化割合が１００％である領域とを有していてもよい。
コレステリック液晶層は、光異性化割合が１０％である領域と、光異性化割合が８０％である領域とを有していてもよい。
コレステリック液晶層は、光異性化割合が０％から１００％へ段階的に変化する領域を有していてもよい。
コレステリック液晶層は、光異性化割合が０％である領域と、光異性化割合が５０％から１００％へ段階的に変化する領域とを形成してもよい。
特に、成型時における本開示のフィルムの延伸率が高い部分ほど、光異性化割合が大きいことが好ましい。
本開示において、光異性化割合は、反射スペクトルの極大波長から求める。具体的には以下の通りである。
液晶組成物に対して異性化処理を施すことなく、硬化させることにより形成したコレステリック液晶層の光異性化割合を０％とする。
異性化処理における露光量を徐々に増加させ、コレステリック液晶層を形成し、その反射スペクトルの極大波長を測定し、極大波長が不変となったコレステリック液晶層の光異性化割合を１００％とする。
光異性化割合が０％であるコレステリック液晶層の反射スペクトルの極大波長をλ０、光異性化割合が１００％であるコレステリック液晶層の反射スペクトルの極大波長をλ１００とし、その絶対値（すなわち、｜λ１００－λ０｜）を算出する。
反射スペクトルの極大波長がλＸであるコレステリック液晶層の領域の光異性化割合は、光異性化割合が０％であるコレステリック液晶層の反射スペクトルの極大波長λ０と、コレステリック液晶層の領域の極大波長λＸとの絶対値（｜λ０－λＸ｜）を算出し、下記式に代入することにより求める。
（式）｜λ０－λＸ｜／｜λ１００－λ０｜×１００（％）

立体成型性の観点から、コレステリック液晶層の破断伸度の値は、１００％以上であることが好ましく、１０５％以上であることがより好ましく、１１０％以上であることが更に好ましく、１３０％以上であることが特に好ましく、１４０％以上であることが最も好ましい。
コレステリック配向状態の発現性等の観点から、コレステリック液晶層の破断伸度の値は、４００％以下であることが好ましく、３００％以下であることがより好ましく、２５０％以下であることが更に好ましい。

本開示において、破断伸度は、以下の方法によって測定される。コレステリック液晶層を備えるフィルムを１ｃｍ×５ｃｍの寸法にカットし、試料とする。
フィルムがコレステリック液晶層以外の層を備える場合、可能な限りにおいてフィルムからコレステリック液晶層以外の層を除去する。
試料の上端１ｃｍ及び下端１ｃｍをそれぞれ治具でつかみ、熱テンシロン（株式会社エー・アンド・デイ製ＲＴＦ－１３１０及び恒温試験装置ＴＫＣ）を用いて、１５０℃の雰囲気中で３００ｍｍ／秒の速度で引張試験を行う。
試料中のコレステリック液晶層の状態の観察及び以下の式に基づいて、コレステリック液晶層の破断伸度を算出する。以下の式における「破断時の標点間距離」とは、試料中のコレステリック液晶層が破断した時の標点間距離を意味する。
式：破断伸度（％）＝｛（破断時の標点間距離－試験前の標点間距離）／（試験前の標点間距離）｝×１００

コレステリック液晶層の破断伸度の調整方法は、制限されない。コレステリック液晶層の破断伸度は、例えば、コレステリック液晶層の原材料及び製造条件によって調整することができる。例えば、コレステリック液晶層の製造過程で形成される高分子同士の架橋点の数が少ないと、コレステリック液晶層の破断伸度が大きくなりやすい。例えば、架橋点の数は、コレステリック液晶層の原材料として使用される化合物に含まれる重合性基の数及び反応条件によって調整される。コレステリック液晶層の原材料及び製造条件を決定するための具体的な指針としては、例えば、後述の架橋密度が挙げられる。

立体成型性の観点から、コレステリック液晶層の架橋密度は、０．０１０ｍｏｌ／Ｌ～０．０６０ｍｏｌ／Ｌであることが好ましく、０．０１０ｍｏｌ／Ｌ～０．０５０ｍｏｌ／Ｌであることがより好ましく、０．０１０ｍｏｌ／Ｌ～０．０４０ｍｏｌ／Ｌであることが更に好ましく、０．０２０ｍｏｌ／Ｌ～０．０４０ｍｏｌ／Ｌであることが特に好ましい。

コレステリック液晶層の架橋密度は、以下の方法によって測定される。架橋密度の測定では、日本分光株式会社製ＦＴ／ＩＲ－４０００及びこれに準ずる測定装置が使用される。
（１）Ｃ＝Ｃ二重結合（すなわち、エチレン性不飽和結合）の反応消費率を下記の計算式を用いて算出する。
式：反応消費率＝｛（硬化前のＣ＝Ｃ二重結合由来のピーク強度）－（硬化後のＣ＝Ｃ二重結合由来のピーク強度）｝／（硬化前のＣ＝Ｃ二重結合由来のピーク強度）
（２）処方添加量からコレステリック液晶層における「２つ以上の重合性基を有する化合物のＣ＝Ｃ二重結合当量（ｍｏｌ/Ｌ）／全ての化合物の合計Ｃ＝Ｃ二重結合当量（ｍｏｌ/Ｌ）」を算出する。
（３）上記（２）で得られた値に上記（１）で得られた値を乗じることによって得られた値を架橋密度として採用する。

熱耐久性の観点から、コレステリック液晶層において、コレステリック液晶層の単位体積あたりの１０，０００以下の分子量を有する化合物の含有量は、５０．０ｍｇ／ｃｍ^３未満であることが好ましく、４０．０ｍｇ／ｃｍ^３以下であることがより好ましく、３０．０ｍｇ／ｃｍ^３以下であることが更に好ましく、２０．０ｍｇ／ｃｍ^３以下であることが特に好ましく、１０．０ｍｇ／ｃｍ^３以下であることが最も好ましい。熱耐久性の観点において、低分子化合物の含有量の下限は制限されない。低分子化合物の含有量は、０ｍｇ／ｃｍ^３であってもよい。
以下、「１０，０００以下の分子量を有する化合物」を「低分子化合物」という場合がある。コレステリック液晶層における低分子化合物の含有量が５０ｍｇ／ｃｍ^３未満であると、熱環境下で液晶の反射色味が変化しにくい。

上記低分子化合物の種類は、制限されない。低分子化合物としては、コレステリック液晶化合物、光異性化光学活性化合物、重合開始剤、単官能重合性化合物、多官能重合性化合物、架橋剤、溶剤、他の添加剤等が挙げられる。各成分の態様は、後述の組成物の成分の説明に記載されている。

コレステリック液晶層における低分子化合物の含有量を低減する方法は、制限されない。コレステリック液晶層における低分子化合物の含有量は、例えば、コレステリック液晶層の原材料及び製造条件によって調整される。コレステリック液晶層における低分子化合物の含有量を低減する方法としては、例えば、コレステリック液晶層の原材料として重合性又は架橋性を有する化合物を用いる方法が挙げられる。例えば、コレステリック液晶層の原材料に低分子化合物が多く含まれていたとしても、コレステリック液晶層の製造過程において重合性又は架橋性を有する化合物が高分子を形成することで、コレステリック液晶層における低分子化合物の含有量が減少する。例えば、コレステリック液晶層の原材料として使用される化合物に含まれる重合性基の数は、液晶層の破断伸度だけでなく、コレステリック液晶層における低分子化合物の含有量にも影響を与えることができる。

低分子化合物（すなわち、１０，０００以下の分子量を有する化合物）は、公知の分析方法（例えば、核磁気共鳴及び質量分析）によって同定される。低分子化合物の定量分析は、液体クロマトグラフィーによって、標品と比較して実施される。液体クロマトグラフィーの具体的な条件を以下に示す。測定試料は、１ｃｍ^２のコレステリック液晶層をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ、１ｍＬ）に浸漬させて１晩静置した後、ＴＨＦを回収することによって準備される。低分子化合物の含有量は、定量分析の結果及び採取されるコレステリック液晶層の厚さを考慮して決定される。
・装置：Ａｇｉｌｅｎｔ社製ＨＰ１２６０
・カラム：Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ社製Ｋｉｎｅｔｅｘ ＥＶＯ Ｃ１８、１００Å、２．６μｍ、２．１ｍｍ×１００ｍｍ
・移動相Ａ：１０ｍｍｏｌ／Ｌ酢酸アンモニウム水溶液
・移動相Ｂ：アセトニトリル
・流速：０．３ｍＬ／分
・カラム温度：４０℃
・注入量：２μＬ
・検出：フォトダイオードアレイ（ＰＤＡ）
・検出チャンネル：２６５ｎｍ、２８０ｎｍ及び３１５ｎｍ

コレステリック液晶層は、選択反射性を有することが好ましい。「選択反射性」とは、特定の波長域に選択反射波長が存在することを意味する。「選択反射波長」とは、対象物における透過率の極小値をＴｍｉｎ（％）とした場合、下記式で表される半値透過率（Ｔ１／２、単位：％）を示す２つの波長の平均値を意味する。コレステリック液晶層の選択反射波長は、例えば、可視光（３８０ｎｍ～７８０ｎｍ）及び近赤外光（７８０ｎｍを超え２，０００ｎｍ以下）の範囲で設定されてもよい。コレステリック液晶層は、３８０ｎｍ～１，２００ｎｍの少なくとも一部の波長域に選択反射性を有することが好ましい。
式：半値透過率Ｔ１／２＝１００－（１００－Ｔｍｉｎ）÷２

本開示のフィルムは、コレステリック液晶層を２つ以上備えるものであってもよい。
本開示のフィルムが２つ以上のコレステリック液晶層を備える場合、あるコレステリック液晶層は、他のコレステリック液晶層に直接接触していてもよい。
本開示のフィルムが２つ以上のコレステリック液晶層を備える場合、あるコレステリック液晶層の色味は、他のコレステリック液晶層の色味と同じであっても異なっていてもよい。
本開示のフィルムが２つ以上のコレステリック液晶層を備える場合、各コレステリック液晶層の組成は、同じであっても、互いに異なっていてもよい。
本開示のフィルムが２つ以上のコレステリック液晶層を備える場合、少なくとも１つのコレステリック液晶層が光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有していればよく、他のコレステリック液晶層は複数の領域を有していなくてもよい。

コレステリック液晶層は、１つの重合性基を有する光異性化光学活性化合物と、１つ又は２つの重合性基を有するコレステリック液晶化合物とを含む液晶組成物の硬化物である。液晶組成物は、光又は熱によって硬化することができる。
すなわち、硬化物は、１つの重合性基を有する光異性化光学活性化合物由来の構成単位と１つ又は２つの重合性基を有するコレステリック液晶化合物由来の構成単位を有する化合物である。

－光異性化光学活性化合物－
光異性化光学活性化合物は、コレステリック液晶のらせん構造を誘起できる。例えば、光学活性化合物は、らせんピッチ及びらせんの向きを調整できる。

光異性化光学活性化合物は、光異性化部位を有する。
光異性化部位は光異性化可能な二重結合を有することがより好ましい。上記光異性化可能な二重結合を有する光異性化部位としては、光異性化が起こりやすく、且つ、光照射前後の螺旋誘起力差が大きいという点で、シンナモイル部位、カルコン部位、アゾベンゼン部位又はスチルベン部位が好ましく、更に可視光の吸収が小さいという点で、シンナモイル部位、カルコン部位又はスチルベン部位がより好ましい。

光異性化光学活性化合物は、１つの重合性基を有する。重合性基としては、例えば、ラジカル重合性基及びカチオン重合性基が挙げられる。重合性基は、エチレン性不飽和基、エポキシ基又はアジリジニル基であることが好ましく、エチレン性不飽和基であることがより好ましい。

重合性基の具体例を以下に示す。ただし、重合性基は以下の具体例に制限されない。以下の具体例において、Ｅｔはエチル基を表し、ｎ－Ｐｒはｎ－プロピル基を表す。

光異性化光学活性化合物は、不斉炭素原子を含む化合物であることが好ましいが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物又は面性不斉化合物であってもよい。軸性不斉化合物又は面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン及びこれらの誘導体が含まれる。

光異性化光学活性化合物は、ビナフチル部分構造、イソソルビド部分構造（イソソルビドに由来する部分構造）、及び、イソマンニド部分構造（イソマンニドに由来する部分構造）よりなる群から選ばれるいずれかの部分構造を有していることが好ましい。なお、ビナフチル部分構造、イソソルビド部分構造、及び、イソマンニド部分構造とは、各々以下の構造を意図する。
ビナフチル部分構造中の実線と破線が平行している部分は、一重結合又は二重結合を表す。なお、以下に示す構造において、＊は、結合位置を表す。

光異性化光学活性化合物としては、式（Ｃ）で表される化合物が好ましい。
式（Ｃ） Ｒ^１－Ｌ－Ｒ^２
Ｒ^１は、シンナモイル部位、カルコン部位、アゾベンゼン部位、及び、スチルベン部位からなる群から選択される少なくとも１つの部位と重合性基とを有する基を表し、
Ｒ^２は、シンナモイル部位、カルコン部位、アゾベンゼン部位、及び、スチルベン部位からなる群から選択される少なくとも１つの部位を有する基を表し、
本開示において、「重合性基」には、シンナモイル部位、カルコン部位、及び、スチルベン部位は含まれない。
Ｌは、式（Ｄ）で表される構造から２個の水素原子を除いた形成される２価の連結基（上記ビナフチル部分構造から２個の水素原子を除いて形成される２価の連結基）、式（Ｅ）で表される２価の連結基（上記イソソルビド部分構造からなる２価の連結基）、又は、式（Ｆ）で表される２価の連結基（上記イソマンニド部分構造からなる２価の連結基）を表す。
式（Ｅ）及び式（Ｆ）中、＊は、Ｒ^１及びＲ^２の結合位置を表す。

好ましい光異性化光学活性化合物の具体例を以下に示す。以下の式（Ｃ１）～式（Ｃ３）で表される化合物において各エチレン性不飽和結合の立体配置は、Ｅ体（ｔｒａｎｓ体）であり、露光によりＺ体（ｃｉｓ体）に変化する。

光異性化光学活性化合物の波長３６５ｎｍにおけるモル吸光係数は１００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）～１００，０００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）が好ましく、５００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）～５０，０００Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）がより好ましい。

光異性化光学活性化合物は、液晶化合物であってもよい。

液晶組成物は、１種又は２種以上の光異性化光学活性化合物を含んでいてもよい。

熱耐久性の観点から、液晶組成物の固形分の全質量に対する光異性化光学活性化合物の含有率は、０．３質量％～２０質量％であることが好ましく、０．３質量％～１０質量％であることがより好ましく、０．３質量％～９質量％であることが更に好ましく、０．３質量％～８質量％であることが特に好ましい。

液晶組成物は、重合性基が０、及び重合性基が２つ以上の光異性化光学活性化合物を含んでいてもよいが、液晶組成物に含まれる光異性化光学活性化合物の総質量に対する、重合性基を１つ有する光異性化光学活性化合物の含有率は、９０質量％以上であることが好ましく、９５質量％以上であることがより好ましく、９８質量％以上であることが更に好ましく、１００質量％であることが特に好ましい。

コレステリック液晶層における螺旋ピッチ及び反射層の選択反射波長は、液晶化合物の種類だけでなく、光異性化光学活性化合物の含有率によっても容易に調整される。例えば、液晶組成物における光異性化光学活性化合物の含有率が２倍になると、螺旋ピッチは１／２となり、選択反射波長の中心値も１／２となる場合がある。

－コレステリック液晶化合物－
コレステリック液晶化合物は、重合性基が１つ又は２つである限りにおいて制限されない。重合性基については上記したため、ここでは記載を省略する。
熱耐久性の観点から、コレステリック液晶化合物が有する重合性基は、光異性化光学活性化合物が有する重合性基と同一であることが好ましい。
コレステリック液晶化合物が重合性基を２つ有する場合、重合性基は同一であっても、異なっていてもよい。
例えば、コレステリック液晶化合物は、架橋機構の異なる２種類以上の重合性基を有するコレステリック液晶化合物であってもよい。架橋機構としては、縮合反応、水素結合、重合等が挙げられる。
架橋機構の異なる２種類以上の重合性基を有するコレステリック液晶化合物は、段階的に架橋可能な化合物であってもよい。各段階では、各段階の架橋機構に応じた重合性基が反応する。
２種類以上の重合性基を段階的に架橋させるための方法としては、例えば、各段階における反応条件を変更する方法が挙げられる。反応条件の変更点としては、例えば、温度、光（照射線）の波長及び重合機構が挙げられる。反応を分離しやすい点から重合機構の違いの利用が好ましい。重合機構は、例えば、重合開始剤の種類によって制御される。
重合性基の組み合わせとしては、ラジカル重合性基とカチオン重合性基との組み合わせが好ましい。反応性が制御しやすいという観点から、重合性基の組み合わせとしては、ラジカル重合性基がビニル基又は（メタ）アクリル基であり、且つ、カチオン重合性基がエポキシ基、オキセタニル基又はビニルエーテル基であることが好ましい。

熱耐久性及び立体成型性の観点から、液晶組成物に含まれるコレステリック液晶化合物の総質量に対する１つの重合性基を有するコレステリック液晶化合物の含有率は、９０質量％以上であることが好ましく、９５質量％以上であることがより好ましく、９８質量％以上であることが更に好ましく、１００質量％であることが特に好ましい。

コレステリック液晶化合物としては、例えば、棒状コレステリック液晶化合物及び円盤状コレステリック液晶化合物が挙げられる。棒状コレステリック液晶化合物は、低分子型又は高分子型の化合物であってもよい。円盤状コレステリック液晶化合物は、低分子型又は高分子型の化合物であってもよい。本開示において、コレステリック液晶化合物に関して使用される用語「高分子」とは、重合度が１００以上である化合物を意味する（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。２種類以上の棒状コレステリック液晶化合物、２種類以上の円盤状液晶性化合物又は棒状コレステリック液晶化合物と円盤状コレステリック液晶化合物との混合物が使用されてもよい。２種類以上のコレステリック液晶化合物において、少なくとも１種類のコレステリック液晶化合物は反応性基を有することが好ましい。

コレステリック液晶化合物は、棒状コレステリック液晶化合物であることが好ましい。棒状コレステリック液晶化合物としては、例えば、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が挙げられる。棒状コレステリック液晶化合物としては、例えば、反応性基を有する棒状コレステリック液晶化合物の重合体も挙げられる。棒状コレステリック液晶化合物としては、例えば、特開２００８－２８１９８９号公報、特表平１１－５１３０１９号公報又は特表２００６－５２６１６５号公報に記載された化合物も挙げられる。

棒状コレステリック液晶化合物の具体例を以下に示す。ただし、棒状コレステリック液晶化合物は以下の具体例に制限されない。下記に示される化合物は、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報に記載された方法によって合成される。なお、Ｍｅはメチル基を表す。

１つの重合性基を有する棒状コレステリック液晶化合物としては、例えば、次のような化合物が挙げられる。以下の化学式に示される「Ｍｅ」は、メチル基を意味する。

円盤状コレステリック液晶化合物としては、例えば、次のような化合物が挙げられる。
（１）Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、例えば、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されたベンゼン誘導体。
（２）Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、例えば、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）及びＰｈｙｓｉｃｓｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されたトルキセン誘導体。
（３）Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、例えば、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体。
（４）Ｊ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）及びＪ．Ｚｈａｎｇらの研究報告（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年））に記載されたアザクラウン系又はフェニルアセチレン系マクロサイクル。

円盤状コレステリック液晶化合物には、上記の各種構造を分子中心の円盤状の母核とし、直鎖のアルキル基、アルコキシ基及び置換ベンゾイルオキシ基といった基が放射線状に配置された構造を有し、液晶性を示し、一般的に円盤状液晶とよばれる液晶化合物が含まれる。このような化合物の集合体が一様に配向すると負の一軸性が現れる。

円盤状コレステリック液晶化合物としては、例えば、特開２００８－２８１９８９号公報の段落００６１～段落００７５に記載された化合物も挙げられる。

コレステリック液晶層において、重合性基を有する円盤状コレステリック液晶化合物は、水平配向、垂直配向、傾斜配向及びねじれ配向といった配向状態で固定されていてもよい。

液晶組成物は、１種又は２種以上のコレステリック液晶化合物を含んでいてもよい。

熱耐久性の観点から、液晶組成物の固形分の全質量に対するコレステリック液晶化合物の含有率は、３０質量％～９９質量％であることが好ましく、４０質量％～９９質量％であることがより好ましく、６０質量％～９９質量％であることが更に好ましく、７０質量％～９８質量％であることが特に好ましい。

－重合開始剤－
液晶組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤の種類は、制限されない。重合開始剤は、公知の重合開始剤であってもよい。重合開始剤は、光重合開始剤であることが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、α－カルボニル化合物（例えば、米国特許第２３６７６６１号明細書及び米国特許第２３６７６７０号明細書参照）、アシロインエーテル化合物（例えば、米国特許第２４４８８２８号明細書参照）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（例えば、米国特許第２７２２５１２号明細書参照）、多核キノン化合物（例えば、米国特許第３０４６１２７号明細書及び米国特許第２９５１７５８号明細書参照）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（例えば、米国特許第３５４９３６７号明細書参照）、アクリジン化合物及びフェナジン化合物（例えば、特開昭６０－１０５６６７号公報及び米国特許第４２３９８５０号明細書参照）、オキサジアゾール化合物（例えば、米国特許第４２１２９７０号明細書参照）が挙げられる。

光重合開始剤としては、例えば、光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤が挙げられる。好ましい光ラジカル重合開始剤としては、例えば、α－ヒドロキシアルキルフェノン化合物、α－アミノアルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、チオキサントン化合物及びオキシムエステル化合物が挙げられる。好ましい光カチオン重合開始剤としては、ヨードニウム塩化合物及びスルホニウム塩化合物が挙げられる。

液晶組成物は、１種又は２種以上の重合開始剤を含んでいてもよい。

らせんピッチの調整容易性、重合速度及びコレステリック液晶層の強度の観点から、液晶組成物の固形分の全質量に対する重合開始剤の含有率は、０．０５質量％～１０質量％であることが好ましく、０．０５質量％～５質量％であることがより好ましく、０．１質量％～４質量％であることが更に好ましく、０．２質量％～３質量％であることが特に好ましい。

－重合性モノマー－
液晶組成物は、重合性モノマーを含んでいてもよい。重合性モノマーは、コレステリック液晶化合物の架橋を促進できる。

重合性モノマーとしては、例えば、２つ以上のエチレン性不飽和結合を有し、光の照射によって付加重合するモノマー又はオリゴマーが挙げられる。

重合性モノマーとしては、例えば、付加重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物が挙げられる。エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリル基、（メタ）アクリロキシ基等が挙げられる。

重合性モノマーは、単官能重合性モノマーであってもよく、多官能重合性モノマーであってもよい。
重合性モノマーとしては、単官能アクリレート、単官能メタクリレート、多官能アクリレート及び多官能メタクリレートが挙げられる。

重合性モノマーとしては、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びフェノキシエチル（メタ）アクリレートが挙げられる。

重合性モノマーとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート及びグリセリントリ（メタ）アクリレートが挙げられる。

重合性モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパン、グリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加した後に（メタ）アクリレート化して形成される化合物が挙げられる。

重合性モノマーとしては、例えば、特公昭４８－４１７０８号公報、特公昭５０－６０３４号公報及び特開昭５１－３７１９３号公報に記載されたウレタンアクリレート類が挙げられる。

重合性モノマーとしては、例えば、特開昭４８－６４１８３号公報、特公昭４９－４３１９１号公報及び特公昭５２－３０４９０号公報に記載されたポリエステルアクリレート類が挙げられる。

重合性モノマーとしては、例えば、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類が挙げられる。

好ましい重合性モノマーとしては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジぺンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート及びジぺンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが挙げられる。

好ましい重合性モノマーとしては、例えば、特開平１１－１３３６００号公報に記載の「重合性化合物Ｂ」が挙げられる。

重合性モノマーは、カチオン重合性モノマーであってもよい。カチオン重合性モノマーとしては、例えば、特開平６－９７１４号公報、特開２００１－３１８９２号公報、特開２００１－４００６８号公報、特開２００１－５５５０７号公報、特開２００１－３１０９３８号公報、特開２００１－３１０９３７号公報及び特開２００１－２２０５２６号公報に記載されたエポキシ化合物、ビニルエーテル化合物及びオキセタン化合物が挙げられる。

エポキシ化合物としては、例えば、芳香族エポキシド、脂環式エポキシド及び脂肪族エポキシドが挙げられる。

芳香族エポキシドとしては、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル又はポリグリシジルエーテル、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加物のジグリシジルエーテル又はポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル又はポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加物のジグリシジルエーテル又はポリグリシジルエーテル及びノボラック型エポキシ樹脂が挙げられる。アルキレンオキサイドとしては、例えば、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイドが挙げられる。

脂環式エポキシドとしては、例えば、シクロアルカン環（例えば、シクロへキセン及びシクロペンテン環）を有する化合物を酸化剤（例えば、過酸化水素及び過酸）でエポキシ化することによって得られるシクロヘキセンオキサイド含有化合物又はシクロペンテンオキサイド含有化合物が挙げられる。

脂肪族エポキシドとしては、例えば、脂肪族多価アルコールのジグリシジルエーテル又はポリグリシジルエーテル及び脂肪族多価アルコールのアルキレンオキサイド付加物のジグリシジルエーテル又はポリグリシジルエーテルが挙げられる。脂肪族エポキシドとしては、例えば、アルキレングリコールのジグリシジルエーテル（例えば、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテル及び１，６－ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル）が挙げられる。脂肪族エポキシドとしては、例えば、多価アルコールのポリグリシジルエーテル（例えば、グリセリンのジグリシジルエーテル又はポリグリシジルエーテル及びグリセリンのアルキレンオキサイド付加物のジグリシジルエーテル又はポリグリシジルエーテル）が挙げられる。脂肪族エポキシドとしては、例えば、ポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル（例えば、ポリエチレングリコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のジグリシジルエーテル及びポリプロピレングリコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のジグリシジルエーテル）が挙げられる。アルキレンオキサイドとしては、例えば、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイドが挙げられる。

カチオン重合性モノマーとして、例えば、単官能又は２官能のオキセタンモノマーが挙げられる。例えば、３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン（例えば、東亞合成株式会社製ＯＸＴ１０１）、１，４－ビス［（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシメチル］ベンゼン（例えば、東亞合成株式会社製ＯＸＴ１２１）、３－エチル－３－（フェノキシメチル）オキセタン（例えば、東亞合成株式会社製ＯＸＴ２１１）、ジ（１－エチル－３－オキセタニル）メチルエーテル（例えば、東亞合成株式会社製ＯＸＴ２２１）、３－エチル－３－（２－エチルヘキシロキシメチル）オキセタン（例えば、東亞合成株式会社製ＯＸＴ２１２）が好ましく使用される。特に、３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン、３－エチル－３－（フェノキシメチル）オキセタン及びジ（１－エチル－３－オキセタニル）メチルエーテルが好ましい。特開２００１－２２０５２６号公報及び特開２００１－３１０９３７号公報に記載された単官能又は多官能オキセタン化合物が使用されてもよい。

液晶組成物は、１種又は２種以上の重合性モノマーを含んでいてもよい。

熱耐久性の観点から、液晶組成物の固形分の全質量に対する重合性モノマーの含有率は、０質量％～１５質量％であることが好ましく、０質量％～１０質量％であることがより好ましく、０質量％～８質量％であることが更に好ましく、０質量％～５質量％であることが特に好ましい。

－架橋剤－
液晶組成物は、架橋剤を含んでいてもよい。架橋剤は、コレステリック液晶層の強度及び熱耐久性を向上できる。

架橋剤の種類は、制限されない。架橋剤は、公知の架橋剤であってもよい。架橋剤は、紫外線、熱又は湿気で硬化する化合物が好ましい。

架橋剤としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の多官能アクリレート化合物；グリシジル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテル、３’，４’－エポキシシクロヘキシルメチル ３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等のエポキシ化合物；２－エチルヘキシルオキセタン、キシリレンビスオキセタン等のオキセタン化合物；２，２－ビスヒドロキシメチルブタノール－トリス［３－（１－アジリジニル）プロピオネート］、４，４－ビス（エチレンイミノカルボニルアミノ）ジフェニルメタン等のアジリジン化合物；ヘキサメチレンジイソシアネート、ビウレット型イソシアネート等のイソシアネート化合物；オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物；ビニルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）３－アミノプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物が挙げられる。また、架橋剤の反応性に応じて公知の触媒が使用されてもよい。触媒の使用は、コレステリック液晶層の強度及び熱耐久性向上に加えて生産性を向上できる。

液晶組成物は、１種又は２種以上の架橋剤を含んでいてもよい。

コレステリック液晶層の強度及び熱耐久性の観点から、液晶組成物の固形分の全質量に対する架橋剤の含有率は、１質量％～２０質量％であることが好ましく、３質量％～１５質量％であることがより好ましい。

－溶剤－
液晶組成物は、溶剤を含んでいてもよい。
溶剤としては、例えば、有機溶剤が挙げられる。有機溶剤としては、例えば、ケトン化合物（例えば、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン）、アルキルハライド化合物、アミド化合物、スルホキシド化合物、ヘテロ環化合物、炭化水素化合物、エステル化合物、エーテル化合物及びアルコール化合物が挙げられる。環境への負荷を考慮した場合にはケトン化合物が好ましい。

溶剤としては、例えば、高沸点溶剤が挙げられる。組成物が高沸点溶剤を含むと、乾燥中の液晶の粘度が低下し、液晶の配向性が向上する。高沸点溶剤の沸点は、１５０℃以上であることが好ましく、１６０℃以上であることがより好ましい。高沸点溶剤としては、例えば、フルフリルアルコール、２－チオフェンメタノール、ベンジルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、γ－ブチロラクトン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、アセト酢酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル及びｏ－トルイル酸メチルが挙げられる。

液晶組成物は、１種又は２種以上の溶剤を含んでいてもよい。

液晶組成物の全質量に対する溶剤の含有率は、５０質量％～８５質量％であることが好ましく、６０質量％～８０質量％であることがより好ましく、６５質量％～７５質量％であることが更に好ましい。コレステリック液晶化合物の配向性の観点から、溶剤の含有量に対する高沸点溶剤の含有量の割合は、２質量％～３０質量％であることが好ましく、４質量％～２５質量％であることがより好ましく、６質量％～２０質量％であることが更に好ましい。

－他の添加剤－
液晶組成物は、他の添加剤を含んでいてもよい。他の添加剤としては、例えば、界面活性剤、重合禁止剤、酸化防止剤、水平配向剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、着色剤及び金属酸化物粒子が挙げられる。

液晶組成物の製造方法は、制限されない。液晶組成物は、例えば、コレステリック液晶化合物と、液晶化合物以外の成分との混合によって製造される。混合方法は、公知の混合方法から選択されてもよい。

熱耐久性の観点から、コレステリック液晶層の厚さは、２０μｍ未満であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、０．０５μｍ～５μｍであることが更に好ましく、０．１μｍ～４μｍであることが特に好ましい。本開示のフィルムが２つ以上のコレステリック液晶層を含む場合、各コレステリック液晶層は、それぞれ独立に、上記の範囲に調整されることが好ましい。

（接着剤含有層）
本開示のフィルムは、接着剤含有層を備えることができる。本開示のフィルムが最表面に接着剤含有層を備えることにより、対象物への貼り付けを容易にできる。本開示のフィルムが層間に接着剤含有層を備えることにより、層間の密着性を向上することができる。接着剤含有層は、接着剤以外の成分を更に含んでいてもよい。
本開示のフィルムは、接着剤含有層を２つ以上備えていてもよい。

立体成型性の観点から、接着剤含有層は、コレステリック液晶層に隣接することが好ましい。立体成型性の観点から、接着剤含有層の破断伸度の値は、コレステリック液晶層の破断伸度の値以上であることが好ましい。コレステリック液晶層の破断伸度の値に対する接着剤含有層の破断伸度の値の比は、１．０～２．０であることが好ましく、１．５～２．０であることがより好ましく、１．７５～２．０であることが更に好ましい。

接着剤の種類は、制限されない、接着剤は、永久的な接着に用いられる公知の接着剤であってもよい。接着剤は、一時的な接着に用いられる公知の接着剤であってもよい。接着剤は、成型において液晶層に追随して延伸する成分であることが好ましい。

接着剤としては、例えば、ウレタン樹脂接着剤、ポリエステル接着剤、アクリル樹脂接着剤、エチレン酢酸ビニル樹脂接着剤、ポリビニルアルコール接着剤、ポリアミド接着剤及びシリコーン接着剤が挙げられる。接着強度の観点から、ウレタン樹脂接着剤又はシリコーン接着剤が好ましい。接着剤は、熱硬化性の接着剤であってもよい。接着剤は、紫外線硬化性の接着剤であってもよい。

接着剤としては、例えば、粘着剤が挙げられる。つまり、接着剤含有層は、接着剤として粘着剤を含んでいてもよい。粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤及びシリコーン系粘着剤が挙げられる。粘着剤としては、例えば、「剥離紙・剥離フィルム及び粘着テープの特性評価とその制御技術、情報機構、２００４年、第２章」に記載されたアクリル系粘着剤、紫外線（ＵＶ）硬化型粘着剤及びシリコーン粘着剤が挙げられる。アクリル系粘着剤とは、（メタ）アクリルモノマーの重合体を含む粘着剤をいう。接着剤含有層は、粘着剤に加えて粘着付与剤を含んでいてもよい。

粘着力及びハンドリング性の両立の点で、接着剤含有層の厚さは、４μｍ～１００μｍであることが好ましい。

（基材）
本開示のフィルムは、基材を備えていてもよい。コレステリック液晶層は、基材の表面に設けることができる。また、基材は、コレステリック液晶層からの剥離が可能な剥離性基材であってもよい。本開示のフィルムは剥離性基材をコレステリック液晶層から剥離して用いてもよい。また、基材は、後述する配向層としての機能を有するものであってもよい。

基材としては、例えば、立体成型性及びインサート成型といった成型に用いられる基材が挙げられる。立体成型性及びチッピング耐性の観点から、基材は、樹脂基材であることが好ましく、樹脂フィルムであることが好ましい。

樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ウレタン－アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、アクリル－ポリカーボネート、ポリオレフィン、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン共重合（ＡＢＳ樹脂）などが挙げられる。

立体成型性及び強度の観点から、基材は、ポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ウレタン－アクリル樹脂、ポリカーボネート及びアクリル－ポリカーボネート及びポリプロピレンからなる群より選択される少なくとも１種の樹脂を含む樹脂フィルムであることが好ましく、アクリル樹脂、ポリカーボネート及びアクリル－ポリカーボネート樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂を含む樹脂フィルムであることがより好ましい。

基材は、単層構造又は複層構造を有していてもよい。

基材は、必要に応じ、添加物を含んでいてもよい。添加物としては、鉱油、炭化水素、脂肪酸、アルコール、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、金属石けん、天然ワックス、シリコーンなどの潤滑剤、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム等の無機難燃剤、ハロゲン系、リン系等の有機難燃剤、金属粉、タルク、炭酸カルシウム、チタン酸カリウム、ガラス繊維、カーボン繊維、木粉等の有機又は無機の充填剤、酸化防止剤、紫外線防止剤、滑剤、分散剤、カップリング剤、発泡剤、着色剤等の添加剤、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアセタール、ポリアミド、ポリフェニレンエーテル樹脂等であって、上述した樹脂以外のエンジニアリングプラスチック等が挙げられる。

基材自体へのラビング処理が可能であるという観点から、基材は、ポリエステル基材であることが好ましい。
本開示において、ポリエステル基材は、主たる樹脂成分としてポリエステル樹脂を含むフィルム状の物体である。「主たる樹脂成分」とは、ポリエステル基材に含まれる全ての樹脂のうち最も含有率（質量基準）が多い樹脂を意味する。
ポリエステル樹脂は、主鎖にエステル結合を有する樹脂であり、ジカルボン酸化合物とジオール化合物との重縮合体であることが好ましい。
ポリエステル樹脂としては、例えば、公知のポリエステル樹脂が挙げられ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン－２，６－ナフタレート（ＰＥＮ）及びそれらの共重合体が挙げられ、ＰＥＴが好ましい。

ポリエステル基材は、２軸配向ポリエステル基材であることが好ましい。
ポリエステル基材は、ポリエステル樹脂以外の成分（例えば、触媒、未反応の原料成分、粒子及び水等）を含んでいてもよい。
ポリエステル基材は、コレステリック液晶層の平滑性の観点から、粒子を実質的に含有しないことが好ましい。

搬送性が良好になる点で、ポリエステル基材の少なくとも一方の面は、粒子含有層を有することが好ましい。コレステリック液晶層の観点から、粒子含有層はポリエステル基材のコレステリック液晶層を形成しない側の表面に有することが好ましい。
粒子含有層は単層であってもよく、多層であってもよい。
粒子含有層の厚みは、１０～５００ｎｍが好ましい。

基材は、従来公知の方法により作製したものであってもよく、市販品であってもよい。
一実施形態において、ポリエステル基材は、特に制限されないが、押出成形によってポリエステル基材（未配向のポリエステル基材）を形成する押出成形工程を含む製造方法により製造することができる。
１軸配向又は２軸配向のポリエステル基材の製造方法である場合、ポリエステル基材の製造方法は、更に、未配向のポリエステル基材を搬送方向及び幅方向のいずれか一方に延伸して１軸配向のポリエステル基材を形成する第１配向工程、及び／又は、１軸配向のポリエステル基材を搬送方向及び幅方向の他方に延伸して２軸配向のポリエステル基材を形成する第２配向工程を段階的又は同時に実施する配向工程、を含む製造方法が挙げられる。
粒子含有層を有する場合には、延伸前又は延伸後のポリエステル基材に粒子を含む粒子含有層形成用組成物を塗布することにより形成できる。また、粒子含有層は、ポリエステル樹脂と、粒子を含む樹脂組成物とを共押出成形することによっても形成できる。
ポリエステル基材の製造方法は、更に、熱固定工程、熱緩和工程及び冷却工程を含んでいてもよい。
ポリエステル基材としては、例えば、国際公開第２０２１／２６１４１２号の段落００１４～００７１に記載の態様が挙げられ、それらの内容は本明細書に組み込まれる。
ポリエステル基材の製造方法としては、例えば、国際公開第２０２１／２６１４１２号の段落００８４～０１４８に記載の各工程が挙げられ、それらの内容は本明細書に組み込まれる。

基材の厚さは、１μｍ～５００μｍであることが好ましく、１０μｍ～４５０μｍであることがより好ましく、２０μｍ～２００μｍであることが更に好ましく、５０μｍ～１５０μｍであることが特に好ましい。

（配向層）
本開示のフィルムは、コレステリック液晶層に隣接する配向層を含んでいてもよい。例えば、本開示のフィルムは、基材、配向層及びコレステリック液晶層をこの順に備えていてもよい。
本開示のフィルムが配向層を備えることにより、配向層の表面に形成したコレステリック液晶層に含まれるコレステリック液晶化合物を配向することができる。

配向層は、例えば、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、ＳｉＯなどの無機化合物の斜方蒸着又はマイクログルーブを有する層の形成といった方法により設けられる。配向層としては、電場の付与、磁場の付与又は光照射により配向機能が生じる配向層も知られている。

配向層としては、例えば、ラビング処理配向層及び光配向層が挙げられる。ラビング処理配向層は、例えば、ラビング処理によって形成される。光配向層は、例えば、光照射により形成される。

ラビング処理配向層に用いられるポリマーとしては、例えば、特開平８－３３８９１３号公報の段落００２２に記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ－メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース及びポリカーボネートが挙げられる。ラビング処理配向層に用いられるポリマーとしては、例えば、シランカップリング剤が挙げられる。ラビング処理配向層に用いられるポリマーとしては、例えば、水溶性ポリマー（例えば、ポリ（Ｎ－メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。

ラビング処理は、例えば、ポリマーを主成分とする膜の表面を紙又は布で一定方向に擦ることにより実施される。ラビング処理の一般的な方法は、例えば、「液晶便覧」（丸善社発行、平成１２年１０月３０日）に記載されている。

ラビング密度を変える方法としては、例えば、「液晶便覧」（丸善社発行）に記載されている方法が挙げられる。ラビング密度（Ｌ）は、下記式（Ａ）で定量化される。
式（Ａ）：Ｌ＝Ｎｌ（１＋２πｒｎ／６０ｖ）
式（Ａ）中、Ｎはラビング回数を表し、ｌはラビングローラーの接触長を表し、ｒはローラーの半径を表し、ｎはローラーの回転数（ｒｐｍ：ｒｅｖｏｌｕｔｉｏｎｓ ｐｅｒ ｍｉｎｕｔｅ）を表し、ｖはステージ移動速度（秒速）を表す。

ラビング密度を高くする方法としては、例えば、ラビング回数を増やす方法、ラビングローラーの接触長を長くする方法、ローラーの半径を大きくする方法、ローラーの回転数を大きくする方法及びステージ移動速度を遅くする方法が挙げられる。上記の方法の反対の条件は、ラビング密度を低くできる。

ラビング処理の条件としては、特許第４０５２５５８号公報の記載が参照されてもよい。

光配向層に用いられる光配向材料としては、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号公報及び特許第４１５１７４６号公報に記載のアゾ化合物、特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２－２６５５４１号公報及び特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミド及び／又はアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号及び特許第４２０５１９８号公報に記載の光架橋性シラン誘導体並びに特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報及び特許第４１６２８５０号公報に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド又はエステルが挙げられる。アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド又はエステルが好ましい。

光配向層は、例えば、上記のような材料から形成された層に直線偏光照射又は非偏光照射を施すことによって形成される。「直線偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。

光照射に用いられる光は、好ましくは、ピーク波長が２００ｎｍ～７００ｎｍの光であり、より好ましくは、ピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光である。

光照射に用いられる光源としては、例えば、ランプ（例えば、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ及びカーボンアークランプ）、レーザー（例えば、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー及びＹＡＧレーザー）、発光ダイオード及び陰極線管が挙げられる。

直線偏光を得る方法としては、例えば、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、二色色素偏光板及びワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）又はブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法及び偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が挙げられる。また、フィルター又は波長変換素子を用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。

直線偏光照射では、配向層の上面又は下面に対して、垂直又は斜めに光が照射されてもよい。配向層に対する光の入射角度は、好ましくは０°～９０°であり、より好ましくは４０°～９０°である。

非偏光照射では、配向層の上面又は下面に対して斜めに非偏光を照射する。入射角度は、好ましくは１０°～８０°であり、より好ましくは２０°～６０°であり、特に好ましくは３０°～５０°である。

照射時間は、好ましくは１分～６０分であり、より好ましくは１分～１０分である。

配向層の厚さは、０．０１μｍ～１０μｍであることが好ましい。

コレステリック液晶層の下層の材料によっては、配向層が設けられなくても、下層に直接配向処理（例えば、ラビング処理）を行うことで、下層を配向層として機能させることもできる。上記のような下層としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が挙げられる。

２つ以上のコレステリック液晶層が積層される場合、下層のコレステリック液晶層が配向層として振る舞い、下層のコレステリック液晶層に接する上層のコレステリック液晶層の製造過程でコレステリック液晶化合物が配向されることがある。上記のような態様では、配向層が設けられなくても、又は配向処理（例えば、ラビング処理）が実施されなくても、上層のコレステリック液晶層の製造過程でコレステリック液晶化合物が配向される。

（着色層）
本開示のフィルムは、着色層を備えていてもよい。
本開示のフィルムにおける着色層の位置は、制限されない。意匠性の観点から、本開示のフィルムは、基材、着色層及び液晶層をこの順に備えることが好ましい。
本開示のフィルムは、着色層を２つ以上備えていてもよい。

本開示のフィルムは、コレステリック液晶層を介して視認される着色層を備えることが好ましい。着色層がコレステリック液晶層を介して視認される層であると、コレステリック液晶層に入射する光の角度に応じた異方性に基づき、着色層の視認角度に応じて色の変化が生じ、特殊な意匠性が発現すると考えられる。
本開示のフィルムが２つ以上の着色層を備える場合、少なくとも１つの着色層がコレステリック液晶層を介して視認される層であり、他の着色層のうち少なくとも１つがコレステリック液晶層よりも観察者に近い層（「カラーフィルター層」ともいう。）であることが好ましい。
カラーフィルター層は、特定の波長の光に対して高い透過性を有する層であってもよい。カラーフィルター層は、単色のカラーフィルター層であってもよい。カラーフィルター層は、２色以上のカラーフィルター構造及び必要に応じブラックマトリックス等を有するカラーフィルター層であってもよい。カラーフィルター層によれば、例えば、優れた意匠性を有し、特定の波長範囲で視認可能なフィルムが得られる。

視認性の観点から、少なくとも１つの着色層（好ましくはコレステリック液晶層を介して視認される着色層）の全光透過率は、１０％以下であることが好ましい。

着色層の色としては、例えば、黒、灰、白、赤、橙、黄、緑、青及び紫が挙げられる。着色層の色は、金属調の色であってもよい。

着色層の成分としては、例えば、着色剤、樹脂（例えば、バインダー樹脂）、分散剤及び他の添加剤が挙げられる。着色層は、重合性化合物及び重合開始剤を含んでいてもよい。

着色層は、着色剤を含むことが好ましい。着色剤としては、例えば、顔料及び染料が挙げられる。熱耐久性の観点から、顔料が好ましい。金属調の着色層は、金属粒子及びパール顔料といった成分を含んでいてもよい。金属調の着色層の形成において、蒸着及びメッキといった方法が適用されてもよい。

顔料としては、例えば、無機顔料及び有機顔料が挙げられる。

無機顔料としては、例えば、白色顔料（例えば、二酸化チタン、酸化亜鉛、リトポン、軽質炭酸カルシウム、ホワイトカーボン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム及び硫酸バリウム）、黒色顔料（例えば、カーボンブラック、チタンブラック、チタンカーボン、酸化鉄及び黒鉛）、酸化鉄、バリウムイエロー、カドミウムレッド及びクロムイエローが挙げられる。無機顔料として、例えば、特開２００５－７７６５号公報の段落００１５及び段落０１１４に記載の無機顔料が適用されてもよい。

有機顔料としては、例えば、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン等のフタロシアニン系顔料、アゾレッド、アゾイエロー、アゾオレンジ等のアゾ系顔料、キナクリドンレッド、シンカシャレッド、シンカシャマゼンタ等のキナクリドン系顔料、ペリレンレッド、ペリレンマルーン等のペリレン系顔料、カルバゾールバイオレット、アントラピリジン、フラバンスロンイエロー、イソインドリンイエロー、インダスロンブルー、ジブロムアンザスロンレッド、アントラキノンレッド及びジケトピロロピロールが挙げられる。有機顔料の具体例としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １７７、１７９、２２４、２４２、２５４、２５５、２６４等の赤色顔料、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３８、１３９、１５０、１８０、１８５等の黄色顔料、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ ３６、３８、７１等の橙色顔料、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ７、３６、５８等の緑色顔料、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６等の青色顔料及びＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３等の紫色顔料が挙げられる。有機顔料として、特開２００９－２５６５７２号公報の段落００９３に記載の有機顔料が適用されてもよい。

顔料は、光透過性及び光反射性を有する顔料（いわゆる、光輝性顔料）であってもよい。光輝性顔料としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、鉄、ニッケル、スズ、酸化アルミニウム及びこれらの合金等の金属製光輝性顔料、干渉マイカ顔料、ホワイトマイカ顔料、グラファイト顔料及びガラスフレーク顔料が挙げられる。光輝性顔料は、無着色の光輝性顔料であってもよい。光輝性顔料は、着色された光輝性顔料であってもよい。本開示のフィルムの成型において露光が行われる場合、光輝性顔料は、露光による硬化を妨げない範囲において用いられることが好ましい。

着色層は、１種又は２種以上の着色剤を含んでいてもよい。無機顔料と有機顔料との組み合わせが適用されてもよい。

目的とする色の発現及び立体成型性の観点から、着色層の全質量に対する着色剤の含有量の割合は、１質量％～５０質量％であることが好ましく、５質量％～５０質量％であることがより好ましく、１０質量％～４０質量％であることが特に好ましい。

立体成型性、強度及び耐傷性の観点から、着色層は、バインダー樹脂を更に含むことが好ましい。バインダー樹脂は、透明な樹脂であることが好ましい。全光透過率が８０％以上の樹脂であることが好ましい。全光透過率は、分光光度計（例えば、株式会社島津製作所製、分光光度計ＵＶ－２１００）により測定される。

バインダー樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル、ポリウレタン及びポリオレフィンが挙げられる。バインダー樹脂は、単独重合体又は共重合体であってもよい。

着色層は、１種又は２種以上のバインダー樹脂を含んでいてもよい。

立体成型性の観点から、着色層の全質量に対するバインダー樹脂の含有量の割合は、５質量％～７０質量％であることが好ましく、１０質量％～６０質量％であることがより好ましく、２０質量％～６０質量％であることが特に好ましい。

着色層は、分散剤を更に含んでいてもよい。分散剤は、着色層における着色剤（特に顔料）の分散性を向上させ、色の均一性を向上できる。

分散剤は、高分子分散剤であることが好ましい。高分子分散剤としては、例えば、シリコーンポリマー、アクリルポリマー及びポリエステルポリマーが挙げられる。熱耐久性の観点から、分散剤は、グラフト型シリコーンポリマー等のシリコーンポリマーであることが好ましい。

分散剤の重量平均分子量は、１，０００～５，０００，０００であることが好ましく、２，０００～３，０００，０００であることがより好ましく、２，５００～３，０００，０００であることが特に好ましい。重量平均分子量が１，０００以上であると、着色剤の分散性がより向上する。

分散剤は、市販品であってもよい。市販品としては、ＢＡＳＦジャパン株式会社から入手可能なＥＦＫＡ ４３００（アクリル系高分子分散剤）、花王株式会社から入手可能なホモゲノールＬ－１８、ホモゲノールＬ－９５及びホモゲノールＬ－１００、日本ルーブリゾール株式会社から入手可能なソルスパース２００００及びソルスパース２４０００、ビックケミー・ジャパン株式会社から入手可能なＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１１０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１６４、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１８０及びＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１８２が挙げられる。「ホモゲノール」、「ソルスパース」及び「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ」はいずれも登録商標である。

着色層は、１種又は２種以上の分散剤を含んでいてもよい。

１００質量部の着色剤に対する分散剤の含有量は、１質量部～３０質量部であることが好ましい。

着色層は、他の添加剤を更に含んでいてもよい。添加剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、特開２００９－２３７３６２号公報の段落００６０～００７１に記載の界面活性剤、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載の熱重合防止剤（重合禁止剤ともいう。好ましくはフェノチアジンが挙げられる。）及び特開２０００－３１０７０６号公報の段落００５８～００７１に記載の添加剤が挙げられる。

視認性及び立体成型性の観点から、着色層の厚さは、０．５μｍ以上であることが好ましく、３μｍ以上であることがより好ましく、３μｍ～５０μｍであることが更に好ましく、３μｍ～２０μｍであることが特に好ましい。本開示のフィルムが２つ以上の着色層を含む場合、２つ以上の着色層は、それぞれ独立に、上記の範囲に調整されることが好ましい。

着色層の形成方法としては、例えば、着色層形成用組成物を用いる方法及び着色されたフィルムを貼り合せる方法が挙げられる。着色層の形成方法としては、着色層形成用組成物を用いる方法が好ましい。ｎａｘレアルシリーズ、ｎａｘアドミラシリーズ、ｎａｘマルチシリーズ（日本ペイント株式会社）、レタンＰＧシリーズ（関西ペイント株式会社）等の市販の塗料を用いて着色層が形成されてもよい。

着色層形成用組成物を用いる方法としては、例えば、着色層形成用組成物を塗布して着色層を形成する方法及び着色層形成用組成物を印刷して着色層を形成する方法が挙げられる。印刷方法としては、例えば、スクリーン印刷、インクジェット印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷及びオフセット印刷が挙げられる。

着色層形成用組成物の成分としては、例えば、既述の着色層の成分が挙げられる。着色層形成用組成物の各成分の含有量は、例えば、既述の着色層の各成分の含有量に関する説明に記載された「着色層の全質量」を「着色層形成用組成物の固形分の全質量」に読み替えた範囲で調整される。

着色層形成用組成物は、有機溶剤を更に含むことが好ましい。有機溶剤としては、例えば、アルコール化合物、エステル化合物、エーテル化合物、ケトン化合物及び芳香族炭化水素化合物が挙げられる。

着色層形成用組成物は、１種又は２種以上の有機溶剤を含んでいてもよい。

着色層形成用組成物の全質量に対する有機溶剤の含有量の割合は、５質量％～９０質量％であることが好ましく、３０質量％～７０質量％であることがより好ましい。

着色層形成用組成物の調製方法としては、例えば、有機溶剤と、着色剤等の着色層に導入される成分とを混合する方法が挙げられる。着色層形成用組成物が着色剤として顔料を含む場合、顔料の均一分散性及び分散安定性をより高める観点から、顔料と分散剤とを含む顔料分散液を用いて、着色層形成用組成物を調製する方法が好ましい。

（紫外線吸収層）
本開示のフィルムは、紫外線吸収層を含んでいてもよい。紫外線吸収層は、耐光性を向上できる。

本開示のフィルムにおける紫外線吸収層の位置は、制限されない。紫外線吸収層は、コレステリック液晶層よりも観察者に近い位置にあることが好ましい。つまり、紫外線吸収層を介してコレステリック液晶層が視認されるように紫外線吸収層が配置されることが好ましい。

紫外線吸収層は、紫外線吸収剤を含む層であることが好ましく、紫外線吸収剤及びバインダーポリマーを含む層であることがより好ましい。

紫外線吸収剤は、有機化合物又は無機化合物であってもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、トリアジン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、サリチル酸化合物及び金属酸化物粒子が挙げられる。紫外線吸収剤は、紫外線吸収構造を含むポリマーであってもよい。紫外線吸収構造を含むポリマーとしては、例えば、トリアジン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物及びサリチル酸化合物といった化合物の少なくとも一部を含むアクリル酸エステル化合物に由来する単量体単位を含むアクリル樹脂が挙げられる。金属酸化物粒子としては、例えば、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子及び酸化セリウム粒子が挙げられる。

バインダーポリマーとしては、例えば、ポリオレフィン、アクリル樹脂、ポリエステル、フッ素樹脂、シロキサン樹脂及びポリウレタンが挙げられる。

紫外線吸収層は、例えば、紫外線吸収層形成用組成物を用いて形成される。紫外線吸収層は、紫外線吸収層形成用組成物の塗布及び必要に応じて乾燥を経て形成されてもよい。紫外線吸収層形成用組成物は、既述の紫外線吸収層の成分と、必要に応じて溶剤と、を含む。

耐光性及び立体成型性の観点から、紫外線吸収層の厚さは、０．０１μｍ～１００μｍであることが好ましく、０．１μｍ～５０μｍであることがより好ましく、０．５μｍ～２０μｍであることが特に好ましい。

（保護層）
本開示のフィルムは、保護層を備えていてもよい。

保護層は、コレステリック液晶層といった層を保護する十分な強度を有し、優れた耐候性を有することが好ましい。耐候性としては、例えば、紫外線及び湿熱といった環境要因に対する熱耐久性が挙げられる。視認性及び光の映り込み（例えば、蛍光灯の映り込み）の抑制の観点から、保護層は、反射防止能を有していてもよい。

強度及び耐候性の観点から、保護層は、樹脂を含むことが好ましく、シロキサン樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリカーボネート及びウレタン樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂を含むことがより好ましく、空隙を有するシロキサン樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂及びウレタン樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂を含むことが更に好ましい。保護層がシロキサン樹脂又はフッ素樹脂を含むと、保護層の屈折率が１．５以下（好ましくは１．４以下）になりやすく、優れた反射防止能を有する保護層が容易に得られる。保護層が低屈折率粒子を含むと、保護層の屈折率を１．５以下に下げても同様の反射防止効果が得られる。

シロキサン樹脂は、例えば、シロキサン化合物の加水分解縮合によって得られる。シロキサン化合物は、下記式１で表されるシロキサン化合物及び下記式１で表されるシロキサン化合物の加水分解縮合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物（以下、特定シロキサン化合物ともいう。）であることが好ましい。

式１中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ独立に、炭素数１～６のアルキル基、又は、アルケニル基を表し、Ｒ^４は複数の場合はそれぞれ独立に、アルキル基、ビニル基、又は、ビニル基、エポキシ基、ビニルフェニル基、（メタ）アクリロキシ基、（メタ）アクリルアミド基、アミノ基、イソシアヌレート基、ウレイド基、メルカプト基、スルフィド基、ポリオキシアルキル基、カルボキシ基及び第四級アンモニウム基よりなる群から選ばれる基を有するアルキル基を表し、ｍは、０～２の整数を表し、ｎは１～２０の整数を表す。

式１で表されるシロキサン化合物の加水分解縮合物とは、式１で表されるシロキサン化合物と、式１で表されるシロキサン化合物におけるケイ素原子上の置換基の少なくとも一部が加水分解して、シラノール基となっている化合物とが縮合した化合物をいう。

式１におけるＲ^１、Ｒ^２及びＲ^３における炭素数１～６のアルキル基、又は、アルケニル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。炭素数１～６のアルキル基、又は、アルケニル基としては、保護層の強度、光透過性及びヘーズの観点から、アルキル基であることが好ましい。炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、メチル基又はエチル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。

式１におけるＲ^４が複数である場合、保護層の強度、光透過性及びヘーズの観点から、複数のＲ^４はそれぞれ独立に、アルキル基であることが好ましく、炭素数１～８のアルキル基であることがより好ましい。

式１におけるＲ^４の炭素数は、１～４０であることが好ましく、１～２０であることがより好ましく、１～８であることが特に好ましい。

式１におけるｍは、保護層の強度、光透過性及びヘーズの観点から、１又は２であることが好ましく、２であることがより好ましい。

式１におけるｎは、保護層の強度、光透過性及びヘーズの観点から、２～２０の整数であることが好ましい。

特定シロキサン化合物としては、例えば、信越化学工業株式会社製のＫＢＥ－０４、ＫＢＥ－１３、ＫＢＥ－２２、ＫＢＥ－１００３、ＫＢＭ－３０３、ＫＢＥ－４０３、ＫＢＭ－１４０３、ＫＢＥ－５０３、ＫＢＭ－５１０３、ＫＢＥ－９０３、ＫＢＥ－９１０３Ｐ、ＫＢＥ－５８５、ＫＢＥ－８０３、ＫＢＥ－８４６、ＫＲ－５００、ＫＲ－５１５、ＫＲ－５１６、ＫＲ－５１７、ＫＲ－５１８、Ｘ－１２－１１３５、Ｘ－１２－１１２６、Ｘ－１２－１１３１；エボニックジャパン株式会社製のＤｙｎａｓｙｌａｎ４１５０；三菱ケミカル株式会社製のＭＫＣシリケートＭＳ５１、ＭＳ５６、ＭＳ５７、ＭＳ５６Ｓ；コルコート株式会社製のエチルシリケート２８、Ｎ－プロピルシリケート、Ｎ－ブチルシリケート、ＳＳ－１０１が挙げられる。

シロキサン化合物を含む保護層形成用組成物が保護層の原材料として使用される場合、保護層形成用組成物は、シロキサン化合物の縮合を促進する縮合触媒を含んでいてもよい。保護層形成用組成物が縮合触媒を含むと、より熱耐久性に優れた保護層が形成される。縮合触媒は、公知の縮合触媒であってもよい。

フッ素樹脂としては、例えば、特開２００９－２１７２５８号公報の段落００７６～段落０１０６及び特開２００７－２２９９９９号公報の段落００８３～段落０１２７に記載された樹脂が挙げられる。

フッ素樹脂としては、例えば、フッ化アルキル樹脂が挙げられる。

フッ素樹脂としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、パーフルオロアルコキシアルカン、パーフルオロエチレンプロペン及びエチレンテトラフルオロエチレンが挙げられる。

フッ素樹脂の供給源としては、例えば、乳化剤又は水との親和性を高める成分と共重合体化して水分散化したフッ素樹脂ディスパージョンが挙げられる。

フッ素樹脂の原材料としては、例えば、重合性官能基及び架橋性官能基のうちの少なくとも１つの基を有し、かつ、フッ素原子を含む化合物が挙げられる。フッ素樹脂の原材料としては、例えば、パーフルオロアルキル（メタ）アクリレート、フッ化ビニルモノマー及びフッ化ビニリデンモノマーといったラジカル重合性モノマーが挙げられる。フッ素樹脂の原材料としては、例えば、パーフルオロオキセタンといったカチオン重合性モノマーが挙げられる。

フッ素樹脂又はフッ素樹脂の原材料の市販品としては、例えば、ＡＧＣ株式会社製ルミフロン及びオブリガート、ダイキン工業株式会社製ゼッフル及びネオフロン、デュポン社製テフロン（登録商標）、アルケマ社製カイナー、共栄社化学株式会社製ＬＩＮＣ３Ａ、ダイキン工業株式会社製オプツール、荒川化学工業株式会社製オプスター及びダイキン工業株式会社製テトラフルオロオキセタンが挙げられる。

低屈折率粒子（好ましくは１．４５以下の屈折率を有する粒子）としては、例えば、特開２００９－２１７２５８号公報の段落００７５～段落０１０３に記載された粒子が挙げられる。

低屈折率粒子としては、シリカといった無機酸化物粒子を用いた中空粒子、アクリル樹脂粒子といった樹脂粒子を用いた中空粒子、粒子表面に多孔質構造を有する多孔質粒子及び素材自体の屈折率が低いフッ化物粒子が挙げられる。中空粒子の市販品としては、例えば、日揮触媒化成株式会社製スルーリア、日鉄鉱業株式会社製シリナックス並びに積水化成品工業株式会社製テクポリマーＭＢＸ、ＳＢＸ及びＮＨが挙げられる。多孔質粒子の市販品としては、例えば、日産化学工業株式会社製ライトスターが挙げられる。フッ化物粒子の市販品としては、例えば、株式会社希少金属材料研究所製フッ化マグネシウムナノ粒子が挙げられる。コアシェル粒子を用いて、樹脂を含むマトリックス中に閉鎖空隙が形成されてもよい。中空粒子を含む組成物を塗布して保護層を形成する方法としては、例えば、特開２００９－１０３８０８号公報の段落００２８～段落００２９に記載の方法、特開２００８－２６２１８７号公報の段落００３０～段落００３１又は特開２０１７－５００３８４号公報の段落００１８に記載の方法が適用されてもよい。

ウレタン樹脂は、例えば、ジイソシアネート化合物とポリオールとの反応又はウレタン（メタ）アクリレート化合物の重合反応によって得られる。

ジイソシアネート化合物としては、例えば、芳香族ジイソシアネート（例えば、４，４’－ジフェニルメタンジイソシアネート、２，４－トリレンジイソシアネート、２，６－トリレンジイソシアネート、１，５－ナフタレンジイソシアネート、ｐ－又はｍ－フェニレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート及びｍ－テトラメチルキシリレンジイソシアネートが挙げられる。ジイソシアネート化合物としては、例えば、脂環式ジ－イソシアネート（例えば、イソホロンジイソシアネート、４，４’－ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、１，４－シクロヘキシレンジイソシアネート及び水素化トリレンジイソシアネート）が挙げられる。ジイソシアネート化合物としては、例えば、脂肪族ジイソシアネート（例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート）が挙げられる。褪色への抵抗性の観点から、脂環式ジイソシアネートが好ましい。１種又は２種以上のジイソシアネート化合物が使用されてもよい。

ポリオールとしては、例えば、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオール及びポリアクリルポリオールが挙げられる。耐衝撃性の観点から、ポリエステルポリオール又はポリアクリルポリオールが好ましい。

ポリエステルポリオールは、例えば、多塩基酸及び多価アルコールを使用するエステル化反応を用いた公知の方法によって得られる。

多塩基酸としては、例えば、ポリカルボン酸が挙げられる。必要に応じて、一塩基脂肪酸も併用されてもよい。ポリカルボン酸としては、例えば、芳香族ポリカルボン酸（例えば、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、テトラヒドロイソフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、トリメリット酸及びピロメリット酸）が挙げられる。ポリカルボン酸としては、例えば、脂肪族ポリカルボン酸（例えば、アジピン酸、セバシン酸、コハク酸、アゼライン酸、フマル酸、マレイン酸及びイタコン酸）が挙げられる。ポリカルボン酸は、既述の化合物の無水物であってもよい。１種又は２種以上の多塩基酸が使用されてもよい。

多価アルコールとしては、例えば、グリコール及び三価以上の多価アルコールが挙げられる。グリコールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキシレングリコール、１，３－ブタンジオール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、２－ブチル－２－エチル－１，３－プロパンジオール、メチルプロパンジオール、シクロヘキサンジメタノール及び３，３－ジエチル－１，５－ペンタンジオールが挙げられる。三価以上の多価アルコールとしては、例えば、グリセロール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリトリトール及びジペンタエリトリトールが挙げられる。１種又は２種以上の多価アルコールが使用されてもよい。

ポリアクリルポリオールとしては、例えば、イソシアネート基と反応可能なヒドロキシ基を有する公知のポリアクリルポリオールが挙げられる。ポリアクリルポリオールのモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、ヒドロキシ基が付加された（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリルアミド及びその誘導体、ビニルアルコールのカルボン酸エステル、不飽和カルボン酸及び鎖状不飽和アルキル部分を有する炭化水素が挙げられる。

ウレタン（メタ）アクリレート化合物は、例えば、ヒドロキシ基及び（メタ）アクリロイル基を有する化合物とポリイソシアネート化合物とをウレタン化反応させることによって得られる。

ヒドロキシ基及び（メタ）アクリロイル基を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシ基を有する単官能（メタ）アクリレート及びヒドロキシ基を有する多官能（メタ）アクリレートが挙げられる。ヒドロキシ基を有する単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシ－ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシ－ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、１，４－シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイルオキシエチル－２－ヒドロキシエチルフタレート及び末端にヒドロキシ基を有するラクトン変性（メタ）アクリレートが挙げられる。ヒドロキシ基を有する多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド（ＥＯ）変性ジアクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及びジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが挙げられる。保護層の耐擦傷性の観点から、ペンタエリスリトールトリアクリレート又はジペンタエリスリトールペンタアクリレートが好ましい。１種又は２種以上の、ヒドロキシ基及び（メタ）アクリロイル基を有する化合物が使用されてもよい。

ポリイソシアネート化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ｍ－キシリレンジイソシアネート、ｍ－フェニレンビス（ジメチルメチレン）ジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート化合物が挙げられる。ポリイソシアネート化合物としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、１，３－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、２－メチル－１，３－ジイソシアナトシクロヘキサン、２－メチル－１，５－ジイソシアナトシクロヘキサン、４，４’－ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂肪族又は脂環式ジイソシアネート化合物が挙げられる。

ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、活性光線の照射によって硬化される。活性光線とは、紫外線、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線をいう。成型後に、紫外線の照射によって保護層が硬化される場合、硬化性の観点から、保護層は光重合開始剤を含むことが好ましい。硬化性の観点から、保護層は、必要に応じて光増感剤を更に含んでいてもよい。

視認性及び反射防止性の観点から、保護層の屈折率は、１．０５～１．６であることが好ましく、１．２～１．５であることがより好ましく、１．２～１．４であることが更に好ましい。屈折率は、２５℃における５５０ｎｍの波長の光に対する屈折率である。本開示のフィルムが自動車の外装に利用される場合、ワックス及びガソリンによる汚れが目立つことを防止するため、ワックス及びガソリンの屈折率に近い範囲（例えば、１．４～１．５）で保護層の屈折率が設定されることが好ましい。

耐傷性及び立体成型性の観点から、保護層の厚さは２μｍ以上であることが好ましく、４μｍ以上であることがより好ましく、４μｍ～５０μｍであることが更に好ましく、４μｍ～２０μｍであることが特に好ましい。

保護層は、例えば、保護層形成用組成物の塗布及び必要に応じて乾燥を経て形成される。保護層は、例えば、フィルム化された保護層の貼り合わせによって形成される。

塗布方法としては、スプレー塗布、刷毛塗布、ローラー塗布、バー塗布及びディップ塗布が挙げられる。

保護層形成用組成物の塗布前に、保護層形成用組成物が塗布される対象物に対して表面処理が施されてもよい。表面処理としては、例えば、コロナ放電処理、グロー処理、大気圧プラズマ処理、火炎処理及び紫外線照射処理が挙げられる。

保護層形成用組成物の乾燥は、室温（２５℃）で行われてもよい。保護層形成用組成物の乾燥は、加熱によって行われてもよい。保護層形成用組成物に含まれる溶剤の揮発性、保護層の光透過性、保護層の着色抑制及び樹脂基材の分解抑制の観点から、保護層形成用組成物の乾燥は、４０℃～２００℃の加熱によって行われることが好ましい。樹脂基材の熱変形を抑制する観点から、保護層形成用組成物の乾燥は、４０℃～１２０℃の加熱によって行われることが好ましい。加熱時間は、１分～３０分であることが好ましい。

保護層形成用組成物の製造方法は、制限されない。保護層形成用組成物は、例えば、有機溶剤、界面活性剤及び水を混合して有機溶剤を水中に分散させ、次に、分散液に特定シロキサン化合物を添加して分散した有機溶剤の表面にシェル層を形成してコアシェル粒子を形成することによって製造される。保護層形成用組成物は、例えば、有機溶剤、界面活性剤、樹脂及びモノマーを混合することによって製造される。

保護層形成用組成物は、界面活性剤を含むことが好ましい。界面活性剤としては、例えば、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤及び両性界面活性剤が挙げられる。

保護層形成用組成物は、既述の成分に加え、目的に応じて他の成分を含んでいてもよい。他の成分としては、例えば、帯電防止剤及び防腐剤が挙げられる。

保護層形成用組成物は、帯電防止剤を含んでいてもよい。帯電防止剤は、保護層に帯電防止性を付与し、汚染物質の付着を抑制できる。

帯電防止剤は、金属酸化物粒子、金属ナノ粒子、導電性高分子及びイオン液体からなる群より選択される少なくとも１種の帯電防止剤が好ましい。

帯電防止性の付与のために、比較的多量の金属酸化物粒子が使用されることがある。もっとも、保護層が金属酸化物粒子を含むと、保護層の防汚性が向上できる。

金属酸化物粒子としては、例えば、酸化スズ粒子、アンチモンドープ酸化スズ粒子、スズドープ酸化インジウム粒子、酸化亜鉛粒子及びシリカ粒子が挙げられる。

光透過性の観点から、金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、３０ｎｍ以下であることが特に好ましい。金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、２ｎｍ以上であることが好ましい。

金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、透過型電子顕微鏡を用いて観察される３００個以上の粒子の画像から算出される。画像から粒子の投影面積を求め、投影面積に基づいて円相当径を求めることで、平均粒子径（平均一次粒子径）が算出される。なお、金属酸化物粒子の形状が球状ではない場合、平均一次粒子径は、他の方法（例えば、動的光散乱法）によって算出されてもよい。

金属酸化物粒子の形状は、球状、板状又は針状であってもよい。

保護層形成用組成物は、１種又は２種以上の帯電防止剤を含んでいてもよい。互いに異なる組成を有する２種以上の帯電防止剤が使用されてもよい。互いに異なる平均一次粒子径を有する２種以上の帯電防止剤が使用されてもよい。互いに異なる形状を有する２種以上の帯電防止剤が使用されてもよい。

製膜性を低下させることなく保護層に効果的に帯電防止性を付与する観点から、保護層形成用組成物の固形分の全質量に対する帯電防止剤の含有量の割合は、４０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましく、２０質量％以下であることが特に好ましい。帯電防止剤として金属酸化物粒子が使用される場合、保護層形成用組成物の固形分の全質量に対する金属酸化物粒子の含有量の割合は、３０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以下であることが特に好ましい。

（樹脂層）
コレステリック液晶層の平面性を確保するために、本開示のフィルムは、コレステリック液晶層と着色層との間に、樹脂層を備えていてもよい。

視認性の観点から、樹脂層は、透明樹脂層であることが好ましく、透明フィルムからなる層であることがより好ましい。透明フィルムに関して使用される用語「透明」とは、全光透過率が８５％以上であることを意味する。透明フィルムの全光透過率は、既述の方法によって測定される。

樹脂層は、保護層に含まれる樹脂とは異なる種類の樹脂を含むことが好ましい。
樹脂層は、透明な樹脂を製膜して得られたフィルム（以下、透明フィルムともいう。）であることが好ましい。透明フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）及びシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂を含む樹脂フィルムが挙げられる。

金型に対する形状追随性の点から、透明フィルムに含まれる樹脂の全質量に対して６０質量％以上（より好ましくは８０質量％以上、更に好ましくは１００質量％）のアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂又はポリエチレンテレフタレート樹脂を含む樹脂フィルムが好ましい。透明フィルムに含まれる樹脂の全質量に対して６０質量％以上（より好ましくは８０質量％以上、更に好ましくは１００質量％）のアクリル樹脂を含む樹脂フィルムがより好ましい。

透明フィルムの市販品としては、例えば、アクリプレン(登録商標）ＨＢＳ０１０（アクリル樹脂フィルム、三菱ケミカル株式会社製）、テクノロイ（登録商標）Ｓ００１Ｇ（アクリル樹脂フィルム、住友化学株式会社製）、Ｃ０００（ポリカーボネート樹脂フィルム、住友化学株式会社製）及びＣ００１（アクリル樹脂／ポリカーボネート樹脂積層フィルム、住友化学株式会社製）が挙げられる。

樹脂層の厚さは、５０μｍ～１５０μｍであることが好ましい。

樹脂層の形成方法としては、例えば、透明フィルムとコレステリック液晶層又は着色層とを貼り合わせる方法が挙げられる。貼り合わせ工程に装置としては、例えば、ラミネーター、真空ラミネーター及びオートカットラミネーターが挙げられる。ラミネーターは、ゴムローラーといった加熱可能なローラーを備え、加圧及び加熱可能な機能を有することが好ましい。ラミネーターを用いる加熱は、透明フィルム及びコレステリック液晶層の少なくとも一方を一部溶融し、コレステリック液晶層と透明フィルムとの間の密着性を高めることができる。加熱温度は、例えば、透明フィルムの材質及びコレステリック液晶層の溶融温度に応じて決定される。透明フィルムの温度を６０℃～１５０℃にする加熱温度が好ましい。透明フィルムの温度を６５℃～１３０℃にする加熱温度がより好ましい。透明フィルムの温度を７０℃～１００℃にする加熱温度が更に好ましい。貼り合わせ工程における線圧は、６０Ｎ／ｃｍ～２００Ｎ／ｃｍであることが好ましく、７０Ｎ／ｃｍ～１６０Ｎ／ｃｍであることがより好ましく、８０Ｎ／ｃｍ～１２０Ｎ／ｃｍであることが更に好ましい。

（カバーフィルム）
汚れ防止の観点から、本開示のフィルムは、最外層としてカバーフィルムを含んでいてもよい。カバーフィルムとしては、例えば、可撓性を有し、剥離性を有するフィルムが挙げられる。カバーフィルムとしては、例えば、ポリエチレンフィルムといった樹脂フィルムが挙げられる。カバーフィルムは、例えば、カバーフィルムと保護層との貼り合わせによって本開示のフィルムに導入される。

（他の層）
本開示のフィルムは、他の層を含んでいてもよい。他の層としては、例えば、反射層、自己修復層、帯電防止層、防汚層、防電磁波層及び導電性層が挙げられる。他の層は、例えば、他の層の成分を含む組成物の塗布及び必要に応じて乾燥を経て形成される。

（層構成の具体例）
本開示のフィルムの層構成の具体例を以下に示す。ただし、本開示のフィルムの層構成は、以下の具体例に制限されない。
（１）コレステリック液晶層／基材
（２）コレステリック液晶層／接着剤含有層／基材

（用途）
本開示のフィルムは、例えば、種々の物品に装飾を加えるために使用される加飾フィルムであることが好ましい。
本開示のフィルムの用途としては、例えば、自動車の内外装、電気製品の内外装及び包装容器が挙げられる。電気製品の外装としては、例えば、電子デバイスの筐体パネルが挙げられる。電子デバイスとしては、例えば、スマートフォン、携帯電話及びタブレットが挙げられる。本開示のフィルムの好ましい用途としては、例えば、自動車の内外装及び電子デバイスの筐体パネルが挙げられる。本開示のフィルムは、成型物として使用されてもよい。

[成型物]
本開示の成型物は、本開示のフィルムを成型してなる。
成型物の形状は特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜変更することが好ましい。
本開示の成型物を構成するフィルムは、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有する。成型物が曲面を有する場合、成型物の曲面は、非曲面よりも、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が高い領域に相当することが好ましい。これにより、曲面と非曲面との色味の差を低減することができ、意匠性を向上することができる。

（用途）
本開示のフィルムの成型物は、例えば、種々の物品に装飾を加えるために使用される。成型物の用途としては、例えば、自動車の内外装、電気製品の内外装及び包装容器が挙げられる。電気製品の外装としては、例えば、電子デバイスの筐体パネルが挙げられる。電子デバイスとしては、例えば、スマートフォン、携帯電話及びタブレットが挙げられる。成型物の好ましい用途としては、例えば、自動車の外装及び電子デバイスの筐体パネルが挙げられる。

＜加飾パネル＞
以下、本開示に係る加飾パネルについて説明する。一実施形態において、加飾パネルは、本開示の成型物を備える。成型物の具体的な態様は、既述のとおりである。加飾パネルは、成型物以外の構成要素を更に含んでいてもよい。

加飾パネルは、例えば、種々の物品に装飾を加えるために使用される。加飾パネルの用途としては、例えば、自動車の内外装、電気製品の内外装及び包装容器が挙げられる。電気製品の外装としては、例えば、電子デバイスの筐体パネルが挙げられる。電子デバイスとしては、例えば、スマートフォン、携帯電話及びタブレットが挙げられる。加飾パネルの好ましい用途としては、例えば、自動車の内外装及び電子デバイスの筐体パネルが挙げられる。

＜電子デバイス＞
以下、本開示の電子デバイスについて説明する。一実施形態において、電子デバイスは、本開示の成型物を備える。成型物の具体的な態様は、既述のとおりである。電子デバイスにおいて、成型物は、電子デバイスの筐体として利用されることが好ましい。電子デバイスの種類は、制限されない。電子デバイスとしては、例えば、スマートフォン、携帯電話及びタブレットが挙げられる。

[フィルムの製造方法]
本開示のフィルムの製造方法は、
１つの重合性基を有する光異性化光学活性化合物と、１つ又は２つの重合性基を有するコレステリック液晶化合物を含む液晶組成物を準備する準備工程と、
基材上に、上記液晶組成物を塗布する塗布工程と、
上記塗布工程後、上記液晶組成物に対して異性化処理を施し、上記光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を形成する異性化工程と、
上記異性化工程後、上記液晶組成物に対して硬化処理を施し、コレステリック液晶層を形成し、フィルムを得る硬化工程と、
を含む。

本開示のフィルムの製造方法は、硬化工程後、フィルムの少なくとも一部を３０％以上延伸する延伸工程を更に含むことができる。

本開示のフィルムの製造方法は、上記コレステリック液晶層の上記基材とは反対側の表面に、接着剤含有層を形成する接着剤含有層形成工程を更に含むことができる。

本開示のフィルムの製造方法により製造されるフィルムの好ましい態様は、上記した本開示のフィルムと同様である。
本開示のフィルムの製造方法により製造されるフィルムが備えるコレステリック液晶層、基材及び接着剤含有層については、上記したためここでは記載を省略する。

（準備工程）
本開示のフィルムの製造方法は、１つの重合性基を有する光異性化光学活性化合物と、１つ又は２つの重合性基を有するコレステリック液晶化合物を含む液晶組成物を準備する準備工程を含む。
液晶組成物は、市販されるものを使用してもよく、各材料を混合して調製してもよい。
液晶組成物については、上記したためここでは記載を省略する。

（塗布工程）
塗布工程では、基材上に液晶組成物を塗布する。
塗布工程は、基材と接するように、液晶組成物を塗布してもよく、基材上の配向層等に液晶組成物を塗布してもよい。

液晶組成物の塗布は、ロールコーティング方式、グラビア印刷方式又はスピンコート方式によって行われてもよい。液晶組成物の塗布は、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法又はダイコーティング法によって行われてもよい。液晶組成物の塗布は、インクジェット装置を用いて行われてもよい。インクジェット装置を用いる塗布方法において、液晶組成物はノズルから吐出されてもよい。

基材上に塗布された液晶組成物は、公知の方法によって乾燥されてもよい。液晶組成物は、放置によって乾燥されてもよい。液晶組成物は、風乾によって乾燥されてもよい。液晶組成物は、加熱によって乾燥されてもよい。塗布及び乾燥を経た液晶組成物では、コレステリック液晶化合物が配向していることが好ましい。

（異性化工程）
本開示のフィルムの製造方法は、塗布工程後、液晶組成物に対して異性化処理を施し、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を形成する異性化工程を含む。

異性化工程は、光の透過率の異なる複数の領域を面内に有するパターニングマスク越しに、光を液晶組成物に照射することにより行うことができる。
照射される光の波長は、光異性化光学活性化合物の吸収波長に応じて適宜変更することが好ましい。
パターニングマスクは、例えば、国際公開第２０２０／１２２２４５号の段落００１５～段落００１６、段落０２４０及び段落０２４２に記載されている。上記文献の内容は、参照により本明細書に取り込まれる。なお、異性化工程において、２つ以上のパターニングマスクを使用してもよい。

光異性化工程においては、光重合開始剤から重合開始種が発生しない波長域の光が液晶組成物に照射されることが好ましい。例えば、光異性化光学活性化合物の光異性化が生じる波長域の光を透過し、光重合開始剤から重合開始種が発生する波長域の光を遮光するパターニングマスクが好ましく使用される。

液晶組成物に照射される光は、４００ｎｍ以下の波長を含む光であることが好ましく、３８０ｎｍ以下の波長を含む光であることがより好ましく、３１０ｎｍ～３６０ｎｍの波長を含む光であることが特に好ましい。

光の波長の調整は、公知の手段及び公知の方法によって行われてもよい。光の波長を調整する方法としては、例えば、光学フィルターを用いる方法、２種以上の光学フィルターを用いる方法及び特定波長の光源を用いる方法が挙げられる。

液晶組成物の露光量は、特に限定されるものではなく、０．１ｍＪ／ｃｍ^２～２０００ｍＪ／ｃｍ^２とすることができる。

照射される光は、特に限定されるものではないが、紫外線が好ましい。
光源としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯及びメタルハライドランプが挙げられる。また、光源としては、例えば、波長域の狭い光を照射可能な発光ダイオードも挙げられる。

光異性化は、例えば、国際公開第２０２０／１２２２４５号の段落００１４～段落００１６に記載されている。上記文献の内容は、参照により本明細書に取り込まれる。

（硬化工程）
本開示のフィルムの製造方法は、異性化工程後、液晶組成物に対して硬化処理を施し、コレステリック液晶層を形成する硬化工程を含む。

硬化工程は、異性化工程後の液晶組成物に対して光を照射することにより行うことができる。

照射される光の波長は、液晶組成物に含まれる光重合開始剤等の吸収波長に応じて適宜変更することが好ましい。

液晶組成物に照射される光は、２００ｎｍ～５００ｎｍの波長を含む光であることが好ましく、２５０ｎｍ～４５０ｎｍの波長を含む光であることがより好ましく、２５０ｎｍ～４００ｎｍの波長を含む光であることが特に好ましい。

光の波長の調整は、公知の手段及び公知の方法によって行われてもよい。光の波長を調整する方法としては、例えば、光学フィルターを用いる方法、２種以上の光学フィルターを用いる方法及び特定波長の光源を用いる方法が挙げられる。

液晶組成物の露光量は、特に限定されるものではなく、５ｍＪ／ｃｍ^２～２，０００ｍＪ／ｃｍ^２であることが好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ^２～１，０００ｍＪ／ｃｍ^２であることがより好ましい。

照射される光は、特に限定されるものではないが、紫外線が好ましい。
光源としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯及びメタルハライドランプが挙げられる。また、光源としては、例えば、波長域の狭い光を照射可能な発光ダイオードも挙げられる。

硬化工程は、加熱条件下で液晶組成物を光により硬化させることを含んでいてもよい。硬化工程における加熱は、コレステリック液晶化合物の配列を容易にできる。加熱温度は、液晶組成物の組成に応じて決定されてもよい。加熱温度は、３０℃～１２０℃であってもよい。

硬化工程における酸素濃度は、制限されない。硬化工程は、酸素雰囲気下で行われてもよい。硬化工程は、大気下で行われてもよい。硬化工程は、低酸素雰囲気下（好ましくは、１，０００ｐｐｍ以下の酸素濃度）で行われてもよい。酸素濃度は、０ｐｐｍであってもよい。酸素濃度は、０ｐｐｍ超１，０００ｐｐｍ以下であってもよい。硬化の促進の観点から、硬化工程は、低酸素雰囲気下で行われることが好ましく、加熱下且つ低酸素雰囲気下で行われることがより好ましい。

（延伸工程）
延伸工程では、硬化工程により得られたフィルムを延伸する。延伸方法は、特に限定されるものではなく、一軸延伸であっても、二軸延伸であってもよい。
延伸工程においては、フィルムの少なくとも一部が３０％以上延伸されていればよく、延伸倍率は、８０％以上であってもよく、１００％以上であってもよい。フィルムの強度の観点から、延伸倍率は２５０％以下であることが好ましい。

以下、フィルムにおいて３０％以上延伸させた領域を「延伸領域」ともいい、延伸されていない、又は３０％未満延伸させた領域を「非延伸領域」という。

延伸領域は、非延伸領域よりも、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が高いことが好ましい。
これにより、延伸領域と非延伸領域との色味の差を低減することができ、成型物の意匠性を向上することができる。

（接着剤含有層形成工程）
接着剤含有層形成工程では、コレステリック液晶層の上に接着剤含有層を形成する。接着剤含有層の形成工程は、コレステリック液晶層に隣接する接着剤含有層を形成してもよい。接着剤含有層の形成工程は、コレステリック液晶層の上に他の層を介して接着剤含有層を形成してもよい。接着剤含有層の形成工程は、コレステリック液晶層に隣接する接着剤含有層を形成することが好ましい。接着剤含有層の形成方法は、既述のとおりである。

接着剤含有層の形成方法は、制限されない。接着剤含有層の形成方法としては、例えば、接着剤含有層を有するフィルムと液晶層とを貼り合わせる方法、単独の接着剤含有層と液晶層とを貼り合わせる方法及び接着剤を含む組成物を液晶層の上に塗布する方法が挙げられる。

[成型物の製造方法]
本開示の成型物の製造方法は、
１つの重合性基を有する光異性化光学活性化合物と、１つ又は２つの重合性基を有するコレステリック液晶化合物を含む液晶組成物を準備する準備工程と、
基材上に、上記液晶組成物を塗布する塗布工程と、
上記塗布工程後、上記液晶組成物に対して異性化処理を施し、上記光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を形成する異性化工程と、
上記異性化工程後、上記液晶組成物に対して硬化処理を施し、コレステリック液晶層を形成し、フィルムを得る硬化工程と、
上記フィルムの少なくとも一部を３０％以上延伸させる成型工程を含む。

本開示の成型物の製造方法は、上記コレステリック液晶層の上記基材とは反対側の表面に、接着剤含有層を形成する接着剤含有層形成工程を更に含むことができる。

本開示の成型物の製造方法により製造されるフィルムが備えるコレステリック液晶層、基材及び接着剤含有層については、上記したためここでは記載を省略する。
また、準備工程、塗布工程、異性化工程、硬化工程、成型工程及び接着剤含有層形成工程については、フィルムの製造方法において記載したため、ここでは記載を省略する。

（成形工程）
本開示の成型物の製造方法は、フィルムの少なくとも一部を３０％以上延伸させる成型工程を含む。
以下、フィルムにおいて３０％以上延伸させた領域を「延伸領域」ともいい、延伸されていない、又は３０％未満延伸させた領域を「非延伸領域」という。
成型工程は、金型を使用して行ってもよく、使用せずに行ってもよい。
成型方法としては、例えば、インサート成型及び立体成型が挙げられる。

延伸領域は、非延伸領域よりも、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が高いことが好ましい。
これにより、延伸領域と非延伸領域との色味の差を低減することができ、成型物の意匠性を向上することができる。

例えば、インサート成型において、成型物は、金型内に本開示のフィルムを配置し、金型内に樹脂を射出成型することにより得られる。インサート成型により、樹脂成型物の表面に本開示のフィルムが一体化された成型物が得られる。

インサート成型による成型物の製造方法は、射出成型用の金型内に本開示のフィルムを配置して型閉めを行う工程と、溶融樹脂を金型内に射出する工程と、本開示のフィルムと樹脂との成型物を取り出す工程と、を含んでいてもよい。

射出成型用の金型（すなわち、成型金型）は、凸形状を有する金型（すなわち、雄型）及び凸形状に対応する凹形状を有する金型（すなわち、雌型）を備えている。雌型の内周面となる成型面に本開示のフィルムが配置された後に型閉めが行われる。

成型金型内に本開示のフィルムを配置する前に、成型金型を用いて本開示のフィルムを成型（プレフォーム）することにより、本開示のフィルムに予め三次元形状を付与してもよい。そして、三次元形状が付与された本開示のフィルムを成型金型に供給してもよい。

成型金型内に本開示のフィルムを配置する際には、成型金型へ本開示のフィルムを挿入した状態で、本開示のフィルムと成型金型との位置合わせが必要になる。本開示のフィルムと成型金型との位置合わせを行う方法としては、例えば、雌型が有する位置合わせ穴へ、雄型が有する固定ピンを挿入して保持する方法が挙げられる。位置合わせ穴は、雌型において、本開示のフィルムの端部（成型後に三次元形状が付与されない位置）が予め形成されている。固定ピンは、雄型において、位置合わせ穴と嵌合する位置に、予め形成されている。

本開示のフィルムと成型金型との位置合わせを行う方法は、位置合わせ穴へ固定ピンを挿入する方法以外の方法であってもよい。例えば、本開示のフィルムのうち成型後に三次元形状が付与されない位置に予め付した位置合わせマークに目標として、本開示のフィルムの搬送装置側の駆動により微調整して合わせ込む方法が挙げられる。射出成型品の製品部分から見て、対角２点以上で位置合わせマークを認識することが好ましい。

本開示のフィルムと成型金型との位置合わせを行い、成型金型を型閉じした後に、本開示のフィルムを挿入した成型金型内に溶融樹脂を射出する。成型金型内に射出される溶融樹脂の温度は、使用する樹脂の物性等に応じて設定される。例えば、樹脂がアクリル樹脂であれば、溶融樹脂の温度は、２４０℃以上２６０℃以下の範囲内であることが好ましい。

溶融樹脂を成型金型内へ射出する際に発生する熱及びガスにより、本開示のフィルムが異常に変形することを抑制する目的で、雄型が有する注入口（射出口）の位置を、成型金型の形状又は溶融樹脂の種類に合わせて設定してもよい。

本開示のフィルムを挿入した成型金型内に射出した溶融樹脂が固化した後、成型金型を型開きして、成型金型から、固化した溶融樹脂である成型基材に本開示のフィルムが固定化された中間成型物を取り出す。中間成型物は、最終的に製品（成型物）となる加飾部の周囲に、バリと、成型物のダミー部分が一体化している。ダミー部分には、上述した位置合わせにおいて、固定ピンが挿通されて形成された挿通孔が存在している。仕上げ加工前の中間成型物から、バリとダミー部分とを取り除く仕上げ加工を施すことにより、成型物を得ることができる。

立体成型としては、例えば、熱成型、真空成型、圧空成型及び真空圧空成型が挙げられる。以下、立体成型の一種である真空成型について説明する。

真空成型の方法は、制限されない。真空成型では、真空下の加熱条件で立体成型を行う方法が好ましい。真空とは、室内を真空引きし、１００Ｐａ以下の真空度とした状態を指す。

立体成型における温度は、６０℃以上であることが好ましく、８０℃以上であることがより好ましく、１００℃以上であることが更に好ましい。立体成型における温度の上限は、２００℃であることが好ましい。立体成型における温度とは、立体成型に供される物品の温度を指し、立体成型に供される物品の表面に熱電対を付すことで測定される。

真空成型は、成型分野で広く知られている真空成型技術を利用して行われてもよい。例えば、日本製図器工業株式会社製のＦｏｒｍｅｃｈ５０８ＦＳを用いて真空成型が行われてもよい。

以下、実施例に基づいて本開示を詳細に説明する。ただし、本開示は以下の実施例に制限されず、以下の実施例に記載された内容（例えば、原材料、条件及び方法）は本開示の目的の範囲内において適宜変更されてもよい。以下の説明において特に断りのない限り、「％」は「質量％」を意味する。

＜剥離性基材＞
剥離性基材として、片面に易接着層を有するポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（コスモシャインＡ４１６０、東洋紡株式会社、膜厚：１００μｍ）を準備した。剥離性基材の両面のうち易接着層が形成されていない面に、ラビング処理（レーヨン布、圧力：０．１ｋｇｆ、回転数：１０００ｒｐｍ（ｒｅｖｏｌｕｔｉｏｎｓ ｐｅｒ ｍｉｎｕｔｅ）、搬送速度：１０ｍ／分、回数：１回）を実施した。

＜原材料の略称＞
後述のコレステリック液晶層形成用塗布液の原材料に使用される次の略称は、それぞれ、以下の意味を有する。

（液晶化合物１）
液晶化合物１は、以下の化学式により表される。

（液晶化合物２）
液晶化合物２は、以下の化学式により表される。

（液晶化合物３）
液晶化合物３は、以下の化学式により表される。なお、記載される数字は、含有率（質量％）を意味する。

（液晶化合物４）
液晶化合物４は、以下の化学式により表される。なお、Ｍｅはメチル基を表す。

（液晶化合物５）
液晶化合物５は、以下の化学式により表される。なお、Ｍｅはメチル基を表す。

（液晶化合物６）
液晶化合物６は、ＢＡＳＦ社製のＬＣ２４２である。なお、液晶化合物６の重合性基数は２である。

（液晶化合物７）
液晶化合物７は、以下の化学式により表される。

（液晶化合物８）
液晶化合物８は、以下の化学式により表される。

（液晶化合物９）
液晶化合物９は、以下の化学式により表される。

（光異性化光学活性化合物１）
光異性化光学活性化合物１は、以下の化学式により表される。

（光異性化光学活性化合物２）
光異性化光学活性化合物２は、以下の化学式により表される。

（光異性化性光学活性化合３）
光異性化光学活性化合物３は、以下の化学式により表される。

（光異性化光学活性化合物４）
光異性化光学活性化合物４は、ＢＡＳＦ社製のＬＣ７５６である。なお、光異性化光学活性化合物４の重合性基数は２である。

（光異性化光学活性化合物５）
光異性化光学活性化合物５は、以下の化学式により表される。

（光異性化光学活性化合物６）
光異性化光学活性化合物６は、以下の化学式により表される。

（光重合開始剤１）
光重合開始剤１は、以下の化学式により表される。

（光重合開始剤２）
光重合開始剤２は、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａｄ ３７９ＥＧである。

（光重合開始剤３）
光重合開始剤３は、富士フイルム和光純薬株式会社製のジエチルチオキサントンである。

（界面活性剤１）
界面活性剤１は、以下の化学式により表される。

（界面活性剤２）
界面活性剤２は、以下の化学式により表される。

（界面活性剤３）
界面活性剤３は、ＡＧＣセイミケミカル株式会社製のＫＨ４０である。

＜コレステリック液晶層形成用塗布液１Ａ＞
下記組成を有するコレステリック液晶層形成用塗布液１Ａを調製した。
・液晶化合物１：１５．４７質量部
・液晶化合物２：１５．４７質量部
・液晶化合物３：０．６３質量部
・光異性化光学活性化合物１：１．５８質量部
・光重合開始剤１：０．３２質量部
・界面活性剤１：０．０１６質量部
・界面活性剤２：０．０１７質量部
・メチルエチルケトン（溶剤）：５５．８６質量部
・フルフリルアルコール（溶剤）：１０．６４質量部

＜コレステリック液晶層形成用塗布液２Ａ＞
下記組成を有するコレステリック液晶層形成用塗布液２Ａを調製した。
・液晶化合物１：１５．３１質量部
・液晶化合物２：１５．３１質量部
・液晶化合物３：０．９５質量部
・光異性化光学活性化合物１：１．５８質量部
・光重合開始剤１：０．３２質量部
・界面活性剤１：０．０１６質量部
・界面活性剤２：０．０１７質量部
・メチルエチルケトン（溶剤）：５５．８６質量部
・フルフリルアルコール（溶剤）：１０．６４質量部

＜コレステリック液晶層形成用塗布液３Ａ＞
下記組成を有するコレステリック液晶層形成用塗布液３Ａを調製した。
・液晶化合物１：１５．６３質量部
・液晶化合物２：１５．６３質量部
・液晶化合物３：０．３２質量部
・光異性化光学活性化合物１：１．５８質量部
・光重合開始剤１：０．３２質量部
・界面活性剤１：０．０１６質量部
・界面活性剤２：０．０１７質量部
・メチルエチルケトン（溶剤）：５５．８６質量部
・フルフリルアルコール（溶剤）：１０．６４質量部

＜コレステリック液晶層形成用塗布液４Ａ＞
下記組成を有するコレステリック液晶層形成用塗布液４Ａを調製した。
・液晶化合物１：１５．３３質量部
・液晶化合物２：１５．３３質量部
・液晶化合物３：０．６３質量部
・光異性化光学活性化合物２：１．８８質量部
・光重合開始剤１：０．３１質量部
・界面活性剤１：０．０１６質量部
・界面活性剤２：０．０１７質量部
・メチルエチルケトン（溶剤）：５５．８６質量部
・フルフリルアルコール（溶剤）：１０．６４質量部

＜コレステリック液晶層形成用塗布液５Ａ＞
下記組成を有するコレステリック液晶層形成用塗布液５Ａを調製した。
・液晶化合物１：１５．１７質量部
・液晶化合物２：１５．１７質量部
・液晶化合物３：０．９４質量部
・光異性化光学活性化合物２：１．８８質量部
・光重合開始剤１：０．３１質量部
・界面活性剤１：０．０１６質量部
・界面活性剤２：０．０１７質量部
・メチルエチルケトン（溶剤）：５５．８６質量部
・フルフリルアルコール（溶剤）：１０．６４質量部

＜コレステリック液晶層形成用塗布液６Ａ＞
下記組成を有するコレステリック液晶層形成用塗布液６Ａを調製した。
・液晶化合物１：１５．４８質量部
・液晶化合物２：１５．４８質量部
・液晶化合物３：０．３１質量部
・光異性化光学活性化合物２：１．８８質量部
・光重合開始剤１：０．３１質量部
・界面活性剤１：０．０１６質量部
・界面活性剤２：０．０１７質量部
・メチルエチルケトン（溶剤）：５５．８６質量部
・フルフリルアルコール（溶剤）：１０．６４質量部

＜コレステリック液晶層形成用塗布液７Ａ＞
下記組成を有するコレステリック液晶層形成用塗布液６Ａを調製した。
・液晶化合物１：１４．９１質量部
・液晶化合物２：１４．９１質量部
・液晶化合物３：０．６１質量部
・光異性化光学活性化合物３：２．７４質量部
・光重合開始剤１：０．３０質量部
・界面活性剤１：０．０１５質量部
・界面活性剤２：０．０１７質量部
・メチルエチルケトン（溶剤）：５５．８６質量部
・フルフリルアルコール（溶剤）：１０．６４質量部

＜コレステリック液晶層形成用塗布液８Ａ＞
下記組成を有するコレステリック液晶層形成用塗布液８Ａを調製した。
・液晶化合物１：１４．７６質量部
・液晶化合物２：１４．７６質量部
・液晶化合物３：０．９１質量部
・光異性化光学活性化合物３：２．７４質量部
・光重合開始剤１：０．３０質量部
・界面活性剤１：０．０１５質量部
・界面活性剤２：０．０１７質量部
・メチルエチルケトン（溶剤）：５５．８６質量部
・フルフリルアルコール（溶剤）：１０．６４質量部

＜コレステリック液晶層形成用塗布液９Ａ＞
下記組成を有するコレステリック液晶層形成用塗布液９Ａを調製した。
・液晶化合物１：１５．０６質量部
・液晶化合物２：１５．０６質量部
・液晶化合物３：０．３０質量部
・光異性化光学活性化合物３：２．７４質量部
・光重合開始剤１：０．３０質量部
・界面活性剤１：０．０１５質量部
・界面活性剤２：０．０１７質量部
・メチルエチルケトン（溶剤）：５５．８６質量部
・フルフリルアルコール（溶剤）：１０．６４質量部

＜コレステリック液晶層形成用塗布液１０Ａ＞
下記組成を有するコレステリック液晶層形成用塗布液１０Ａを調製した。
・液晶化合物３：０．６３質量部
・液晶化合物４：１５．４７質量部
・液晶化合物５：１５．４７質量部
・光異性化光学活性化合物１：１．５８質量部
・光重合開始剤１：０．３２質量部
・界面活性剤１：０．０１６質量部
・界面活性剤２：０．０１７質量部
・メチルエチルケトン（溶剤）：５５．８６質量部
・フルフリルアルコール（溶剤）：１０．６４質量部

＜コレステリック液晶層形成用塗布液１１Ａ＞
下記組成を有するコレステリック液晶層形成用塗布液１１Ａを調製した。
・液晶化合物１：１５．１５質量部
・液晶化合物２：１５．１５質量部
・液晶化合物３：１．２６質量部
・光異性化光学活性化合物１：１．５８質量部
・光重合開始剤１：０．３２質量部
・界面活性剤１：０．０１６質量部
・界面活性剤２：０．０１７質量部
・メチルエチルケトン（溶剤）：５５．８６質量部
・フルフリルアルコール（溶剤）：１０．６４質量部

＜コレステリック液晶層形成用塗布液１２Ａ＞
下記組成を有するコレステリック液晶層形成用塗布液１２Ａを調製した。
・液晶化合物１：１５．６８質量部
・液晶化合物２：１５．６８質量部
・液晶化合物３：０．２２質量部
・光異性化光学活性化合物１：１．５８質量部
・光重合開始剤１：０．３２質量部
・界面活性剤１：０．０１６質量部
・界面活性剤２：０．０１７質量部
・メチルエチルケトン（溶剤）：５５．８６質量部
・フルフリルアルコール（溶剤）：１０．６４質量部

＜コレステリック液晶層形成用塗布液１Ｂ＞
下記組成を有するコレステリック液晶層形成用塗布液１Ｂを調製した。
・液晶化合物６：１３．７０質量部
・光異性化光学活性化合物４：０．４８質量部
・光重合開始剤２：０．４０質量部
・界面活性剤３：０．０３量部
・シクロペンタノン（溶剤）：８５．５質量部

＜コレステリック液晶層形成用塗布液２Ｂ＞
下記組成を有するコレステリック液晶層形成用塗布液２Ｂを調製した。
・液晶化合物７：２１．２５質量部
・液晶化合物８：５．３１質量部
・液晶化合物９：５．３１質量部
・光異性化光学活性化合物４：０．６６質量部
・光異性化光学活性化合物５：０．６６質量部
・光重合開始剤３：０．２７質量部
・界面活性剤１：０．０１３量部
・界面活性剤２：０．０１５量部
・メチルエチルケトン（溶剤）：５５．８６質量部
・フルフリルアルコール（溶剤）：１０．６４質量部

＜コレステリック液晶層形成用塗布液３Ｂ＞
下記組成を有するコレステリック液晶層形成用塗布液３Ｂを調製した。
・液晶化合物３：３１．３３質量部
・光異性化光学活性化合物６：０．９７質量部
・光重合開始剤３：０．３１質量部
・界面活性剤１：０．０１６量部
・界面活性剤２：０．０１７量部
・メチルエチルケトン（溶剤）：５５．８６質量部
・フルフリルアルコール（溶剤）：１０．６４質量部

＜パターニングマスク＞
下記の通りしてパターニングマスクを作製した。
ＰＥＴ基材の表面に黒インクにより複数のドットを形成することにより、図１に示すパターンを有するパターニングマスクを作製した。
パターニングマスクは、中央（図１における点線）を境界として、Ａ側における３６５ｎｍの光の透過率が０％であり、Ｂ側における３６５ｎｍの光の透過率が１００％である。

＜実施例１＞
（フィルム１Ａ）
剥離性基材のラビング処理された表面に、ワイヤーバー＃７を用いてコレステリック液晶層形成用塗布液１Ａを塗布した。コレステリック液晶層形成用塗布液１Ａを８０℃で３分間乾燥させ、厚さ３μｍのコレステリック液晶層を形成した。
上記コレステリック液晶層に対して、パターニングマスク越しに、波長３６５ｎｍの光を照射し、コレステリック液晶層に含まれる光異性化光学活性化合物の異性化処理を行った。
光の照射はアイグラフィックス（株）社製のＣＭＬ－１００ＵＶ３６５を使用し、露光量は７ｍＪ／ｃｍ^２とした。また、光の照射は、２５℃、大気圧下において行った。

異性化後、コレステリック液晶層に対して硬化処理を行い、コレステリック液晶層を硬化させた。具体的に、低酸素雰囲気下（酸素濃度：１，０００ｐｐｍ以下）、８５℃のホットプレートの上で、メタルハライドランプ（ＭＡＬ６２５ＮＡＬ、株式会社ＧＳユアサ）の光をコレステリック液晶層に照射することで、コレステリック液晶層を硬化させた。光の照射量は、１，０００ｍＪ／ｃｍ^２とした。
目視により観察される硬化コレステリック液晶層は、面内方向の中央付近を境に、緑の反射波長色味から無色透明（反射波長が赤外域）に急峻に変化するものであった。
より具体的には、パターニングマスクのＡ側越しに光が照射された領域は緑の反射波長色味を示し、Ｂ側越しに光が照射された領域は無色透明を示し、コレステリック液晶層は光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有していることがわかる。

次に、硬化コレステリック液晶層の上に、本開示における接着剤の一種である粘着剤（Ｇ２５、日榮新化株式会社）を用いて接着剤含有層を形成すると共に、接着剤含有層を介してセパレータを積層した。
以上の手順によって得られるフィルム１Ａは、接着剤含有層と、硬化コレステリック液晶層（コレステリック液晶層）と、剥離性基材と、をこの順に備える。

（熱耐久性評価用フィルム１Ｂ）
フィルム１Ａの接着剤含有層の上に、ＰＥＴ基材（ポリエチレンテレフタレートフィルム、東洋紡株式会社製、コスモシャインＡ４３６０）を設けた。次に、フィルムＡ１の剥離性基材の上に、本開示における接着剤の一種である粘着剤（Ｇ２５、日榮新化株式会社）を用いて形成された接着剤含有層を介してガラス（ＯＡ－１０Ｇ、日本電気硝子株式会社）を設けた。
以上の手順によって得られる熱耐久性評価用フィルム１Ｂは、ＰＥＴ基材と、接着剤含有層と、硬化コレステリック液晶層（コレステリック液晶層）と、支持体と、接着剤含有層と、ガラスと、をこの順に備える。

（立体成型性評価用フィルム１Ｃ）
フィルム１Ａにドライアイスを密着させた後、接着剤含有層から、セパレータを剥離した。
以上の手順によって得られる立体成型性評価用フィルム１Ｃは、接着剤含有層と、硬化コレステリック液晶層（コレステリック液晶層）と、剥離性基材とをこの順に備える。

＜実施例２＞
コレステリック液晶層形成用塗布液１Ａをコレステリック液晶層形成用塗布液２Ａに変更したこと以外は、実施例１と同じ手順によって各フィルムを得た。
目視により観察される硬化コレステリック液晶層は、実施例１と同様、面内方向の中央付近を境に、緑の反射波長色味から無色透明（反射波長が赤外域）に急峻に変化するものであり、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有していることがわかる。

＜実施例３＞
コレステリック液晶層形成用塗布液１Ａをコレステリック液晶層形成用塗布液３Ａに変更したこと以外は、実施例１と同じ手順によって各フィルムを得た。
目視により観察される硬化コレステリック液晶層は、実施例１と同様、面内方向の中央付近を境に、緑の反射波長色味から無色透明（反射波長が赤外域）に急峻に変化するものであり、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有していることがわかる。

＜実施例４＞
コレステリック液晶層形成用塗布液１Ａをコレステリック液晶層形成用塗布液４Ａに変更し、且つ異性化処理における露光量を１０ｍＪ／ｃｍ^２に変更したこと以外は、実施例１と同じ手順によって各フィルムを得た。
目視により観察される硬化コレステリック液晶層は、実施例１と同様、面内方向の中央付近を境に、緑の反射波長色味から無色透明（反射波長が赤外域）に急峻に変化するものであり、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有していることがわかる。

＜実施例５＞
コレステリック液晶層形成用塗布液４Ａをコレステリック液晶層形成用塗布液５Ａに変更したこと以外は、実施例４と同じ手順によって各フィルムを得た。
目視により観察される硬化コレステリック液晶層は、実施例１と同様、面内方向の中央付近を境に、緑の反射波長色味から無色透明（反射波長が赤外域）に急峻に変化するものであり、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有していることがわかる。

＜実施例６＞
コレステリック液晶層形成用塗布液４Ａをコレステリック液晶層形成用塗布液６Ａに変更したこと以外は、実施例４と同じ手順によって各フィルムを得た。
目視により観察される硬化コレステリック液晶層は、実施例１と同様、面内方向の中央付近を境に、緑の反射波長色味から無色透明（反射波長が赤外域）に急峻に変化するものであり、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有していることがわかる。

＜実施例７＞
コレステリック液晶層形成用塗布液１Ａをコレステリック液晶層形成用塗布液７Ａに変更し、且つ異性化処理における露光量を３０ｍＪ／ｃｍ^２に変更したこと以外は、実施例１と同じ手順によって各フィルムを得た。
目視により観察される硬化コレステリック液晶層は、実施例１と同様、面内方向の中央付近を境に、緑の反射波長色味から無色透明（反射波長が赤外域）に急峻に変化するものであり、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有していることがわかる。

＜実施例８＞
コレステリック液晶層形成用塗布液７Ａをコレステリック液晶層形成用塗布液８Ａに変更したこと以外は、実施例７と同じ手順によって各フィルムを得た。
目視により観察される硬化コレステリック液晶層は、実施例１と同様、面内方向の中央付近を境に、緑の反射波長色味から無色透明（反射波長が赤外域）に急峻に変化するものであり、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有していることがわかる。

＜実施例９＞
コレステリック液晶層形成用塗布液７Ａをコレステリック液晶層形成用塗布液９Ａに変更したこと以外は、実施例７と同じ手順によって各フィルムを得た。
目視により観察される硬化コレステリック液晶層は、実施例１と同様、面内方向の中央付近を境に、緑の反射波長色味から無色透明（反射波長が赤外域）に急峻に変化するものであり、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有していることがわかる。

＜実施例１０＞
コレステリック液晶層形成用塗布液１Ａをコレステリック液晶層形成用塗布液１０Ａに変更したこと以外は、実施例１と同じ手順によって各フィルムを得た。
目視により観察される硬化コレステリック液晶層は、実施例１と同様、面内方向の中央付近を境に、緑の反射波長色味から無色透明（反射波長が赤外域）に急峻に変化するものであり、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有していることがわかる。

＜実施例１１＞
硬化コレステリック液晶層上への接着剤含有層の形成を、接着剤（東亞合成株式会社製、ＵＶＸ－６２８２）を硬化コレステリック液晶層上へ塗布し、８５℃のホットプレートの上で、メタルハライドランプ（ＭＡＬ６２５ＮＡＬ、株式会社ＧＳユアサ）の光を接着剤含有層に照射することで、接着剤含有層を硬化させることにより行った以外は、実施例１と同じ手順によって各フィルムを得た。
目視により観察される硬化コレステリック液晶層は、実施例１と同様、面内方向の中央付近を境に、緑の反射波長色味から無色透明（反射波長が赤外域）に急峻に変化するものであり、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有していることがわかる。
なお、光の照射量は、１，０００ｍＪ／ｃｍ^２とした。

＜実施例１２＞
剥離性基材をマイクロフィルムネガティブＳｕｐｅｒ ＨＲのポリエステルクリアベースＰＥＴ－１００（厚み１００μｍ）に変更した以外は、実施例１と同じ手順によって各フィルムを得た。
目視により観察される硬化コレステリック液晶層は、実施例１と同様、面内方向の中央付近を境に、緑の反射波長色味から無色透明（反射波長が赤外域）に急峻に変化するものであり、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有していることがわかる。

＜実施例１３＞
剥離性基材を、下記方法により作製したポリエステルフィルムＡに変更した以外は、実施例１と同じ手順によって各フィルムを得た。なお、コレステリック液晶層は、ポリエステルフィルムＡの粒子含有層の非形成面に形成した。
目視により観察される硬化コレステリック液晶層は、実施例１と同様、面内方向の中央付近を境に、緑の反射波長色味から無色透明（反射波長が赤外域）に急峻に変化するものであり、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有していることがわかる。

（ポリエステルＡの作製）
ポリエステルフィルムＡは、以下の方法で基材として用いるポリエステル基材の片面に、粒子含有層形成用の塗布液を塗布することによって得た。

（押出成形）
特許第５５７５６７１号公報に記載のアンチモン化合物を重合触媒としたポリエチレンテレフタレートのペレットを、含水率５０ｐｐｍ以下に乾燥させた後、直径３０ｍｍの１軸混練押出し機のホッパーに投入し、２８０℃で溶融して押出した。
この溶融体（メルト）を、濾過器（孔径５μｍ）を通した後、ダイから２５℃の冷却ロールに押出し、未延伸フィルムを得た。なお、押出されたメルトは、静電印加法を用い冷却ロールに密着させた。

（延伸）
上記方法で冷却ロール上に押出し、固化した未延伸フィルムに対し、以下の方法で逐次２軸延伸を施し、厚み１００μｍのポリエステル基材を得た。

－縦延伸－
未延伸フィルムを周速の異なる２対のニップロールの間に通し、縦方向（搬送方向）に延伸した。なお、予熱温度を７７℃、延伸温度を８６℃、延伸倍率を３．３倍、延伸速度を１３００％／秒として実施した。

－横延伸－
縦延伸を行ったポリエステル基材に対し、テンターを用いて下記条件にて横延伸した。
＜条件＞
予熱温度：１５５℃
延伸温度：１６５℃
延伸倍率：４．２倍
延伸速度：５０％／秒

（熱固定・熱緩和）
続いて、縦延伸及び横延伸を終えた後のポリエステル基材を下記条件で熱固定した。更に、熱固定した後、テンター幅を縮め下記条件で熱緩和した。
＜熱固定条件＞
熱固定温度：２４０℃
熱固定時間：６秒

＜熱緩和条件＞
熱緩和温度：１９０℃
熱緩和率：４％

（塗布）
熱固定・熱緩和を行ったポリエステル基材の表面に、下記条件でコロナ処理を行い、粒子含有層形成用の塗布液をバーコーターで塗布後乾燥させて、ポリエステル基材側から厚み１００ｎｍ（１層目）と７０ｎｍ（２層目）の粒子含有層を２層有するポリエステルフィルムＡを得た。塗布、乾燥は逐次で行った。なお、粒子含有層形成用塗布液の組成、粒子含有層形成用塗布液の塗布量及び乾燥条件は下記の通りとした。
＜コロナ処理条件＞
処理量：２６０Ｊ／ｍ^２

（覆層層形成用の塗布液（１層目）の調製）
下記に示す配合で、各成分を混合し、粒子含有層形成用の塗布液を得た。その塗布液を調整後塗布までに１７μｍフィルター（ＦＣ、日本フィルトレーショングループ（株）製）及び３μｍフィルター（ＰＵＹ１Ａ０３０Ｊ、日本ポール（株）製）を用いて、ろ過した。
＜１層目の粒子含有層形成用塗布液の組成＞
・アクリルポリマー（ジュリマーＥＴ－４１０、東亞合成（株）製、固形分３０質量％）：１９．１質量部
・アニオン系界面活性剤（サンデットＢＬ、三洋化成工業（株）製、固形分３質量％水希釈）：２０．７質量部
・帯電防止剤（ＴＤＬ－１、三菱マテリアル（株）製、固形分１７質量％）：１８１．４質量部
・ノニオン系界面活性剤（ナロアクティーＣＬ－９５、三洋化成工業（株）製、固形分５質量％水希釈）：１２．４質量部
・メラミン化合物（ベッカミンＭ－３、ＤＩＣ北日本ポリマ（株）製、固形分８質量％水希釈）：２２．３質量部
・水：７４４．１質量部

（粒子含有層形成用の塗布液（２層目）の調製）
下記に示す配合で、各成分を混合し、粒子含有層形成用の塗布液を得た。その塗布液を調整後塗布までに１７μｍフィルター（ＦＣ、日本フィルトレーショングループ（株）製）及び６μｍフィルター（ＰＵＹ１ＵＹ０６０Ｊ、日本ポール（株）製）を用いて、ろ過した。
＜２層目の粒子含有層形成用塗布液の組成＞
・エチレン・メタクリル酸共重合物（ケミパールＳ１２０、三井化学（株）製、固形分２７質量％）：２３．３質量部
・ノニオン系界面活性剤（ナロアクティーＣＬ－９５、三洋化成工業（株）製、固形分５質量％水希釈）：２４．１質量部
・ポリビニルベンゼンスルホン酸ナトリウム（Ｂ－１１９Ｎ、富士フイルムファインケミカルズ（株）製、固形分３質量％水希釈）：１０．５質量部
・アモルファスシリカ（スノーテックスＣ、日産化学工業（株）製、固形分２０質量％）：１５．４質量部
・アニオン系界面活性剤（サンデットＢＬ、三洋化成工業（株）製、固形分３質量％水希釈）：２５．７質量部
・ソルビトールポリグリシジルエーテル（デナコールＥＸ－６１４Ｂ、ナガセケムテックス（株）製、固形分１質量％水希釈）：２２１．８質量部
・水：６７９．２質量部

＜粒子含有層形成用塗布液の塗布量＞
１層目：７．１ｇ／ｍ^２
２層目：５．７ｇ／ｍ^２

＜乾燥条件＞
１層目：乾燥温度１３５℃、乾燥時間１７秒
２層目：乾燥温度１３６℃、乾燥時間１５秒

（巻き取り）
ポリエステルＡの両端部に幅１０ｍｍで押出し加工（ナーリング）を行なった後、張力４７ｋｇ／ｍで巻き取った。なお、幅は２．４ｍ、巻長は４２００ｍであった。
得られたポリエステルフィルムＡは、ヘーズ：１．１、１５０℃３０分加熱による熱収縮率は、ＭＤ：０．６％、ＴＤ:－０．２％であった。

＜実施例１４＞
コレステリック液晶層形成用塗布液１Ａをコレステリック液晶層形成用塗布液１１Ａに変更した以外は、実施例１と同じ手順によって各フィルムを得た。
目視により観察される硬化コレステリック液晶層は、実施例１と同様、面内方向の中央付近を境に、緑の反射波長色味から無色透明（反射波長が赤外域）に急峻に変化するものであり、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有していることがわかる。

＜実施例１５＞
コレステリック液晶層形成用塗布液１Ａをコレステリック液晶層形成用塗布液１２Ａに変更した以外は、実施例１と同じ手順によって各フィルムを得た。
目視により観察される硬化コレステリック液晶層は、実施例１と同様、面内方向の中央付近を境に、緑の反射波長色味から無色透明（反射波長が赤外域）に急峻に変化するものであり、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有していることがわかる。

＜実施例１６＞
コレステリック液晶層を硬化させる際の照射量を５００ｍＪ／ｃｍ^２とした以外は、実施例１と同じ手順によって各フィルムを得た。
目視により観察される硬化コレステリック液晶層は、実施例１と同様、面内方向の中央付近を境に、緑の反射波長色味から無色透明（反射波長が赤外域）に急峻に変化するものであり、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有していることがわかる。

＜比較例１＞
コレステリック液晶層形成用塗布液１Ａをコレステリック液晶層形成用塗布液１Ｂに変更したこと以外は、実施例１と同じ手順によって各フィルムを得た。目視により観察される硬化コレステリック液晶層の反射波長色味は、赤であり、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有していないことがわかる。

＜比較例２＞
コレステリック液晶層形成用塗布液１Ａをコレステリック液晶層形成用塗布液２Ｂに変更したこと以外は、実施例１と同じ手順によって各フィルムを得た。
目視により観察される硬化コレステリック液晶層は、実施例１と同様、面内方向の中央付近を境に、緑の反射波長色味から無色透明（反射波長が赤外域）に急峻に変化するものであり、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有していることがわかる。

＜比較例３＞
コレステリック液晶層形成用塗布液１Ａをコレステリック液晶層形成用塗布液２Ｂに変更し、異性化処理を行わなかったこと以外は、実施例１と同じ手順によって各フィルムを得た。目視により観察される硬化コレステリック液晶層の反射波長色味は、緑であり、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有していないことがわかる。

＜比較例４＞
コレステリック液晶層形成用塗布液１Ａをコレステリック液晶層形成用塗布液３Ｂに変更したこと以外は、実施例１と同じ手順によって各フィルムを得た。
目視により観察される硬化コレステリック液晶層は、実施例１と同様、面内方向の中央付近を境に、緑の反射波長色味から無色透明（反射波長が赤外域）に急峻に変化するものであり、光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有していることがわかる。

＜評価＞
実施例及び比較例で得られた各フィルムを用いて、次の評価を行った。立体成型性及び意匠性では、立体成型性評価用フィルムを使用し、熱耐久性では、熱耐久性評価用フィルムを使用した。

（熱耐久性）
熱耐久性の評価では、分光光度計としてＶ６７０（日本分光株式会社製）を用いた。まず、対象のフィルムの透過率を測定した。
次に、フィルムを８０℃のオーブン中で２４０時間静置し、分光光度計を用いて、２４０時間経過後のフィルムの透過率を測定した。
加熱前に測定された透過率に基づいて算出された可視光の反射帯域中心波長と、加熱後に測定された透過率に基づいて算出された可視光の反射帯域中心波長との差Δλｓを求めた。
反射帯域中心波長は、分光光度計を用いて得られた透過率グラフを反転させ、反射率Ｒの３０％の反射率を示す２つの波長のうちの短波長側の波長λ１及び長波長側の波長λ２に基づいて、λｓ＝（λ１＋λ２）／２で表される式により求めた。
以下の評価基準に従って、熱耐久性を評価した。Δλｓが小さいほど、熱環境下での色味の変化が小さい。評価結果は、Ａ及びＢが合格レベルである。Δλｓと共に評価結果を表１に示す。
－評価基準－
Ａ：Δλｓ≦１０ｎｍ
Ｂ：１０ｎｍ＜Δλｓ＜２０ｎｍ
Ｃ：２０ｎｍ≦Δλｓ

（立体成型性）
対象の立体成型性評価用フィルムを１ｃｍ×５ｃｍのサイズにカットし、試料を準備した。
試料の上端１ｃｍ及び下端１ｃｍをそれぞれ治具でつかみ、熱テンシロン（株式会社エー・アンド・デイ製ＲＴＦ－１３１０及び恒温試験装置ＴＫＣ）を用いて、１５０℃の雰囲気中で３００ｍｍ／秒の速度で引張試験を行い、試料中のコレステリック液晶層の状態の観察及び以下の式に基づいてコレステリック液晶層の破断伸度を測定した。
以下の式における「破断時の標点間距離」とは、試料中のコレステリック液晶層が破断した時の標点間距離を意味する。測定結果を表１に示す。コレステリック液晶層の破断伸度が大きくなるにつれて、コレステリック液晶層の立体成型性は高くなる。
なお、立体成型性の評価において使用する立体成型性評価用フィルムが備える接着剤含有層は、優れた立体成型性を有しており、立体成型性の評価により得られる破断伸度は、硬化コレステリック液晶層（コレステリック液晶層）の破断伸度とみなすことができる。
式：破断伸度（％）＝｛（破断時の標点間距離－試験前の標点間距離）／（試験前の標点間距離）｝×１００

（意匠性）
図２（Ａ）に示すＬ字形状の金型１０を用意した。図２に示す角度θは、１１０°であった。
図２（Ａ）に示すように、接着剤含有層２２が金型１０へ接するように、金型１０の表面に、実施例１で作製した立体成型性評価用フィルム２０を配置した。なお、図２（Ａ）及び図２（Ｂ）において、剥離性基材は符号２３で示す。
次いで、図２（Ｂ）に示すように、緑の反射波長色味が観察されるコレステリック液晶層２１の領域２１Ａを金型１０上に配置した状態で、無色透明の反射波長色味が観察されるコレステリック液晶層２１の領域２１Ｂを矢印の方向へ延伸し（延伸倍率３０％）、成型物を得た。
成型物を目視により観察したところ、無色透明の反射波長色味が観察されるコレステリック液晶層の領域２１Ｂは、延伸により、反射光の極大波長が短波化され、緑の反射波長色味が観察され、成型物全体として色味の違いが見られず、高い意匠性が確認された。
実施例２～実施例１６で作製した立体成型性評価用フィルムについても同様にして意匠性の評価を行い、色味の違いが見られなかった場合をＡ、色味の違いが見られた場合をＢとして、表１にまとめた。
比較例１及び比較例３で作製した立体成型性評価用フィルムは、面内方向の中央付近を境として、一方を金型上に配置した状態で、他方を上記同様延伸した。
なお、比較例１及び比較例４で作製した立体成型性評価用フィルムは、延伸倍率を３０％とした場合には、割れが生じたため、評価用の成型物は延伸倍率を１０％にして作製した。

１０：金型、２０：立体成型性評価用フィルム、２１：コレステリック液晶層、２１Ａ：緑の反射波長色味が観察されるコレステリック液晶層の領域、２１Ｂ：無色透明の反射波長色味が観察されるコレステリック液晶層の領域、２２：接着剤含有層、２３：剥離性基材

Claims (16)

1. １つの重合性基を有する光異性化光学活性化合物と、１つ又は２つの重合性基を有するコレステリック液晶化合物を含む液晶組成物の硬化物である、コレステリック液晶層を備え、
   前記コレステリック液晶層が、前記光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を有する、フィルム。
2. 前記コレステリック液晶層の破断伸度の値が、１００％以上である、請求項１に記載のフィルム。
3. 前記コレステリック液晶層の架橋密度が、０．０１０ｍｏｌ／Ｌ～０．０４０ｍｏｌ／Ｌである、請求項１又は請求項２に記載のフィルム。
4. 前記コレステリック液晶層において、前記コレステリック液晶層の単位体積あたりの１０，０００以下の分子量を有する化合物の含有量が、５０．０ｍｇ／ｃｍ^３未満である、請求項１又は請求項２に記載のフィルム。
5. 前記コレステリック液晶層に隣接する接着剤含有層を更に備え、且つ前記接着剤含有層の破断伸度の値が、前記コレステリック液晶層の破断伸度の値以上である、請求項１又は請求項２に記載のフィルム。
6. 前記光異性化光学活性化合物が、下記式（Ｃ）で表される化合物である、請求項１又は請求項２に記載のフィルム。
   式（Ｃ） Ｒ^１－Ｌ－Ｒ^２
   式（Ｃ）中、
   Ｒ^１は、シンナモイル部位、カルコン部位、アゾベンゼン部位、及び、スチルベン部位からなる群から選択される少なくとも１つの部位と重合性基とを有する基を表し、
   Ｒ^２は、シンナモイル部位、カルコン部位、アゾベンゼン部位、及び、スチルベン部位からなる群から選択される少なくとも１つの部位を有する基を表し、
   Ｌは、式（Ｄ）で表される構造から２個の水素原子を除いた形成される２価の連結基、式（Ｅ）で表される２価の連結基、又は、式（Ｆ）で表される２価の連結基を表す。
   
   式（Ｅ）及び式（Ｆ）中、
   ＊は、Ｒ^１及びＲ^２の結合位置を表す。
7. 前記光異性化光学活性化合物が、下記式（Ｃ１）～式（Ｃ３）で表される化合物のうち少なくとも１つである、請求項１又は請求項２に記載のフィルム。
   
8. 加飾フィルムである、請求項１又は請求項２に記載のフィルム。
9. 請求項１又は請求項２に記載のフィルムを成型してなる、成型物。
10. 請求項９に記載の成型物を含む、加飾パネル。
11. 請求項９に記載の成型物を含む、電子デバイス。
12. １つの重合性基を有する光異性化光学活性化合物と、１つ又は２つの重合性基を有するコレステリック液晶化合物を含む液晶組成物を準備する準備工程と、
    基材上に、前記液晶組成物を塗布する塗布工程と、
    前記塗布工程後、前記液晶組成物に対して異性化処理を施し、前記光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を形成する異性化工程と、
    前記異性化工程後、前記液晶組成物に対して硬化処理を施し、コレステリック液晶層を形成し、フィルムを得る硬化工程と、
    を含む、フィルムの製造方法。
13. 前記硬化工程後、前記フィルムの少なくとも一部を３０％以上延伸する延伸工程を更に含む、請求項１２に記載のフィルムの製造方法。
14. 前記コレステリック液晶層の前記基材とは反対側の表面に、接着剤含有層を形成する接着剤含有層形成工程を更に含む、請求項１２又は請求項１３に記載のフィルムの製造方法。
15. 製造されるフィルムが加飾フィルムである、請求項１２又は請求項１３に記載のフィルムの製造方法。
16. １つの重合性基を有する光異性化光学活性化合物と、１つ又は２つの重合性基を有するコレステリック液晶化合物を含む液晶組成物を準備する準備工程と、
    基材上に、前記液晶組成物を塗布する塗布工程と、
    前記塗布工程後、前記液晶組成物に対して異性化処理を施し、前記光異性化光学活性化合物の光異性化割合が互いに異なる複数の領域を形成する異性化工程と、
    前記異性化工程後、前記液晶組成物に対して硬化処理を施し、コレステリック液晶層を形成し、フィルムを得る硬化工程と、
    前記フィルムの少なくとも一部を３０％以上延伸させる成型工程を含む、成型物の製造方法。