JP2024024590A - 光硬化性組成物 - Google Patents

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Abstract

【解決手段】光硬化性組成物は、重合性材料と光開始剤とを含み、前記重合性材料は、前記重合性材料の総重量に基づき75wt％以上の量の少なくとも１つの多官能性アクリレートモノマーと、前記重合性材料の総重量に基づき５wt％以上の量の少なくとも１つの単官能性モノマーとを含みうる。前記少なくとも１つの単官能性モノマーは、0.5以上のリングパラメータを有し、硬化後の前記光硬化性組成物の総炭素含有量は、69％以上でありうる。【効果】前記光硬化性組成物は、硬化後の熱収縮率が低く、エッチング耐性が高く、IAPまたはNIL処理に適している。【選択図】なし

Description

本発明は、光硬化性組成物に関し、特に、熱収縮率が低く、エッチング耐性が高い光硬化層を形成するためのインクジェット適応平坦化用の光硬化性組成物に関する。
インクジェット適応平坦化(Inkjet Adaptive Planarization: IAP)は、基板の表面上に光硬化性組成物の液滴を噴射し、平坦なスーパーストレートを添加された液体と直接接触させて平坦な液体層を形成することによって、基板、例えば電気回路を含むウエハ、の表面を平坦化するプロセスである。平坦な液体層は、典型的にはUV光曝露下で固化され、スーパーストレートの除去後、平坦なポリマー表面が得られ、これは、後続の処理工程、例えば、ベーク、エッチング、および／またはさらなる堆積工程、にかけることができる。
高いエッチング耐性、高い熱安定性、および後続の処理中の低い収縮を有する平面光硬化層をもたらす、改善されたIAP材料が必要とされている。
一実施形態において、光硬化性組成物は、重合性材料と光開始剤とを含み、前記重合性材料は、前記重合性材料の総重量に基づき75wt％以上の量の少なくとも１つの多官能性アクリレートモノマーと、前記重合性材料の総重量に基づき５wt％以上の量の少なくとも１つの単官能性モノマーとを含み、前記少なくとも１つの単官能性モノマーは、0.5以上のリングパラメータを有し、硬化後の前記光硬化性組成物の総炭素含有量は、69％以上でありうる。
光硬化性組成物の一態様において、前記多官能性アクリレートモノマーの量は、前記重合性材料の総重量に基づき85wt％以上でありうる。
別の態様において、前記光硬化性組成物の前記重合性材料の量は、前記光硬化性組成物の総重量に基づき90wt％以上でありうる。
さらなる態様において、前記光硬化性組成物から形成される光硬化層は、250℃でベーク処理された後の熱収縮率が5.0％以下であり、前記ベーク処理は、N2環境下で250℃のステンレスプレート上で前記光硬化層を２分間ベークすることを含みうる。
一態様において、前記光硬化性組成物の23℃における粘度は、25mPa・s以下でありうる。特定の態様では、前記光硬化性組成物の粘度は、23℃で15mPa・s以下でありうる。
一実施形態において、前記多官能性アクリレートモノマーは、二官能性アクリレートモノマーでありうる。特定の態様では、前記二官能性アクリレートモノマーは、m-キシリレンジアクリレート(MXDA)、ビスフェノールAジメタクリレート(BPADMA)、又はこれらの組み合わせを含みうる。
別の実施形態において、前記単官能性モノマーの量は、前記重合性材料の総重量に基づき５wt％以上15wt％以下でありうる。
一態様において、前記重合性材料の前記単官能性モノマーは、芳香環構造を有するアクリレートモノマーを含みうる。
特定の態様において、前記単官能性モノマーは、2プロペン酸、3,3-ジフェニルプロピルエステル(DPHPA)、m-フェノキシベンジルアクリレート(POBA)、(2-ベンジルフェニル)2-メチルプロプ-2-エノエート(2-BzPA)、ジシクロペンテニルアクリレート(DCPA)、1-ナフチルアクリレート(1-NA)、またはそれらの任意の組み合わせを含みうる。
光硬化性組成物の一実施形態において、前記重合性材料は、前記多官能性アクリレートモノマーと、前記単官能性モノマーとから本質的になりうる。
一態様において、前記多官能性アクリレートモノマーは、前記重合性材料の総重量に基づき85wt％以上の量の二官能性アクリレートモノマーであり、前記単官能性モノマーは、前記重合性材料の総重量に基づき５wt％以上の量の単官能性アクリレートモノマーでありうる。
別の実施形態において、積層体は、基板と光硬化層とを含み、前記光硬化層が、上述の光硬化性組成物で形成されうる。
積層体の一態様において、前記光硬化層は、250℃でベーク処理された後の熱収縮率が5.0％以下であり、前記ベーク処理は、N2環境下で250℃のステンレスプレート上で前記光硬化層を２分間ベークすることを含みうる。
一実施形態において、基板の上に光硬化層を形成する方法は、前記基板の上に光硬化性組成物の層を塗布する工程であって、前記光硬化性組成物は、重合性材料と少なくとも１つの光開始剤とを含み、前記重合性材料は、前記重合性材料の総重量に基づき75wt％以上の量の少なくとも１つの多官能性アクリレートモノマーと、前記重合性材料の総重量に基づき５wt％以上の量の少なくとも１つの単官能性モノマーとを含み、前記単官能性モノマーは、0.5以上のリングパラメータを有する、工程と、前記光硬化性組成物をテンプレートまたはスーパーストレートと接触させる工程と、前記光硬化性組成物に光を照射して光硬化層を形成する工程と、前記光硬化層から前記テンプレートまたは前記スーパーストレートを除去する工程とを有し、前記光硬化層の総炭素含有量は、69％以上でありうる。
本発明の一態様において、前記光硬化層は、250℃でベーク処理された後の熱収縮率が5.0％以下であり、前記ベーク処理は、N2環境下で250℃のステンレスプレート上で前記光硬化層を２分間ベークすることを含みうる。
本発明の別の態様において、前記光硬化性組成物の粘度は、25mPa・s以下でありうる。
前記方法のある態様において、前記光硬化性組成物の前記重合性材料は、前記多官能性アクリレートモノマーと、前記単官能性モノマーとから本質的になりうる。
別の実施形態において、物品製造方法は、基板の上に光硬化性組成物の層を塗布する工程であって、前記光硬化性組成物は、重合性材料と、少なくとも１つの光開始剤とを含み、前記重合性材料は、前記重合性材料の総重量に基づき75wt％以上の量の少なくとも１つの多官能性アクリレートモノマーと、前記重合性材料の総重量に基づき５wt％以上の量の少なくとも１つの単官能性モノマーとを含み、前記単官能性モノマーは、0.5以上のリングパラメータを有する、工程と、前記光硬化性組成物をテンプレートまたはスーパーストレートと接触させる工程と、前記光硬化性組成物に光を照射して光硬化層を形成する工程と、前記光硬化層から前記テンプレートまたは前記スーパーストレートを除去する工程と、前記基板の上にパターンを形成する工程と、前記形成する工程において前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、前記処理する工程において処理された前記基板から物品を製造する工程と、を含み、前記光硬化層の総炭素含有量は、69％以上でありうる。
以下の説明は、本明細書に開示される教示を理解するのを助けるために提供されるものであり、教示の特定の実装および実施形態に焦点を当てる。この焦点は、教示を説明するのを助けるために提供されるものであり、教示の範囲または適用性に対する限定として解釈されるべきではない。
別途定義されないかぎり、本明細書に用いられるすべての技術的および科学的用語は、本発明が属する技術分野の技術者により一般に理解されるものと同じ意味をもつ。材料、方法、および実施例は、例示にすぎず、限定することを意図するものではない。本明細書に記載されていない範囲で、特定の材料および処理行為に関する多くの詳細は、従来のものであり、インプリントおよびリソグラフィ技術の教科書および他のソースに見出すことができる。
本明細書で使用される用語「備える」、「含む」、「有する」等は、オープンランゲージ、即ち、定義された要素以外の要素を構成要素として含むことを排除しない用語として定義される。例えば、特徴のリストを含むプロセス、方法、物品、または装置は、必ずしもそれらの特徴のみに限定されず、明示的に列挙されていないか、またはそのようなプロセス、方法、物品、または装置に固有の他の特徴を含み得る。
本明細書で使用される場合、およびそわないことが明確に記載されていない限り、「または」は包括的な－またはを指し、排他的な－またはを指すものではない。たとえば、条件ＡまたはＢが満たされるのは：Ａが真であり（または存在する）Ｂが偽である（または存在しない）、Ａが偽であり（または存在しない）Ｂが真である（または存在する）、ならびにＡおよびＢの両方が真である（または存在する）のいずれか１つによってである。
また、「a」または「an」の使用は、本明細書に記載の要素および構成要素を記載するために用いられる。これは、単に便宜上、本発明の範囲の一般的な意味を示すために用いられる。本明細書は１つまたは少なくとも１つを含めるように読まれるべきであり、複数でないことを意図することが明白でない限り、単数形は複数形も含める。
本開示は、重合性材料と光開始剤とを含む光硬化性組成物であって、重合性材料は、重合性材料の総重量に基づき75wt％以上の量の少なくとも１つの多官能性アクリレートモノマーと、重合性材料の総重量に基づき5wt％以上の量の少なくとも１つの単官能性モノマーとを含みうる、光硬化性組成物を対象とする。少なくとも１つの単官能性モノマーは、0.5以上のリングパラメータを有し、硬化後の光硬化性組成物の総炭素含有量は、69％以上でありうる。
驚くべきことに、少なくとも１つの多官能性アクリレートモノマーと、0.5以上のリングパラメータを有する少なくとも１つの単官能性モノマーとの特定の組み合わせを含む光硬化性組成物は、高い熱安定性および高いエッチング耐性を有する光硬化層の形成を可能にしうることが観察された。理論に束縛されるものではないが、多官能性アクリレートモノマーの種類および量、ならびに単官能性モノマーの種類および量の適切なバランスにより、低粘度、高炭素含有量、高熱安定性、および高エッチング耐性を有する、NILまたはIAP処理のための非常に適切なレジスト材料の形成が容易になると想定される。
本明細書で使用する場合、用語「リングパラメータ」は、単官能性モノマーの芳香環に含まれる炭素原子の質量(dividend)を、単官能性モノマーの炭素原子の総質量(divisor)で割った計算商を表す。
特定の態様において、リングパラメータは、0.51以上、または0.52以上、または0.53以上、または0.54以上、または0.55以上、または0.56以上、または0.57以上、または0.58以上、または0.59以上、または0.60以上でありうる。
一実施形態において、単官能性モノマーは、芳香環構造を有するアクリレートモノマーを含みうる。
特定の態様において、単官能性モノマーは、2プロペン酸、3,3-ジフェニルプロピルエステル(DPHPA)、m-フェノキシベンジルアクリレート(POBA)、(2-ベンジルフェニル)2-メチルプロプ-2-エノエート(2-BzPA)、ジシクロペンテニルアクリレート(DCPA)、1-ナフチルアクリレート(1-NA)、またはそれらの任意の組み合わせでありうる。
さらなる態様において、単官能性モノマーの量は、重合性材料の総重量に基づき５wt％以上、例えば、７wt％以上、または10wt％以上、または12wt％以上でありうる。別の態様において、単官能性モノマーの量は、重合性材料の総重量に基づき15wt％以下、または12wt％以下、または10wt％以下でありうる。
重合性材料の多官能性アクリレートモノマーは、非限定的な実施形態において、二官能性、三官能性、または四官能性でありうる。特定の態様において、多官能性アクリレートモノマーは、芳香環構造を有しうる。特定の側面において、多官能性アクリレートモノマーは、芳香環構造を有する二官能性アクリレートモノマーでありうる。
多官能性アクリレートモノマーの非限定的な例は、m-キシリレンジアクリレート(MXDA)、ビスフェノールAジメタクリレート(BPADMA)、またはそれらの組み合わせでありうる。
光硬化性組成物は、硬化前に低粘度を有するように設計されうる。一実施形態において、光硬化性組成物の粘度は、30mPa・s以下、または25mPa・s以下、または20mPa・s以下、または15mPa・s以下、または10mPa・s以下でありうる。他の特定の実施形態では、粘度は、5mPa・s以上、例えば、8mPa・s以上、または10mPa・s以上でありうる。特に好ましい態様では、光硬化性組成物の粘度は、7mPa・s～15mPa・s以下でありうる。本明細書で使用する場合、全ての粘度値は、ブルックフィールド粘度計を使用するブルックフィールド法を用いて23℃の温度で測定された粘度に関する。
本明細書で使用される場合、アクリレートモノマーという用語は、非置換アクリレートおよびアルキル置換アクリレート、例えば、メタクリレートの両方に関する。
別の態様において、多官能性アクリレートモノマーの量は、重合性材料の総重量に基づき75wt％以上、または80wt％以上、または85wt％以上、または90wt％以上でありうる。別の態様では、多官能性モノマーの量は、重合性材料の総重量に基づき95wt％以下、または92wt％以下、または90wt％以下、または85wt％以下でありうる。
光硬化性組成物中の重合性材料の量は、50wt％以上、または60wt％以上、または70wt％以上、または80wt％以上、または85wt％以上、または90wt％、または95wt％以上でありうる。別の態様では、重合性材料の量は、98wt％以下、例えば、95wt％以下、または90wt％以下、または80wt％以下、または70wt％以下でありうる。重合性材料の量は、上記の最小値と最大値のいずれかの間の値でありうる。特定の態様では、重合性材料の量は、70wt％以上98wt％以下でありうる。
本開示の光硬化性組成物は、光硬化性組成物から形成される光硬化層が高い熱安定性を有するように適合されうる。一態様において、前記光硬化性組成物から形成される光硬化層は、250℃でベーク処理された後の熱収縮率が5.0％以下であり、前記ベーク処理は、N2環境下で250℃のステンレスプレート上で前記光硬化層を２分間ベークすることを含む。さらなる態様において、350℃でベーク処理された後の熱収縮は、4.5％以下、4.0％以下、3.5％以下、3.0％以下、または2.5％以下、または2.0％以下でありうる。ここで、熱収縮率(St)は、ベーク処理後の光硬化膜の線収縮率であり、ベーク前の光硬化膜の厚さをTuとし、ベーク後の光硬化膜の厚さをTbとして、St=(Tu-Tb)／Tuの式で算出される。
一実施形態において、本開示の光硬化性組成物は、溶媒を本質的に含まなくてもよい。本明細書で使用される場合、他に示されない限り、溶媒という用語は、重合性モノマーを溶解または分散させることができるが、光硬化性組成物の光硬化中にそれ自体は重合しない化合物に関する。「本質的に溶媒を含まない」という語は、本明細書では、溶媒の量が光硬化性組成物の総重量に基づき５wt％以下であることを意味する。ある特定の態様では、溶媒の量は、全重量または光硬化性組成物に基づき３wt％以下、２wt％以下、１wt％以下であり、あるいは、光硬化性組成物は、不可避的不純物を除いて、溶媒を含まないものでありうる。
別の特定の態様において、光硬化性組成物は、光硬化性組成物の総重量に基づき、６wt％以上、または８wt％以上、10wt％以上、15wt％以上、または20wt％以上、または30wt％以上の量の溶媒を含みうる。別の態様では、溶媒の量は、光硬化性組成物の総重量に基づき、40wt％以下、または30wt％以下、または20wt％以下、または15wt％以下、または10wt％以下でありうる。
光に曝露された場合に組成物の光硬化を開始させるために、１つ以上の光開始剤を光硬化性組成物に含めることができる。ある態様では、硬化が光および熱硬化の組み合わせによっても行うことができる。
光硬化性組成物は、１つ以上の任意の添加剤をさらに含有しうる。任意の添加剤の非限定的な例は、安定剤、分散剤、溶媒、界面活性剤、阻害剤、またはそれらの任意の組み合わせでありうる。
本開示の光硬化性組成物は、インクジェット適応平坦化(IAP)またはナノインプリントリソグラフィ(NIL)における使用に適合されうる。
一実施形態では、光硬化性組成物を基板の上に塗布して、光硬化層を形成することができる。本明細書で使用するとき、基板と、基板の上に重なる光硬化層との組み合わせは、積層体と呼ばれる。
重合性材料の少なくとも１つの反応性ポリマーを含むことは、光硬化性組成物の高い炭素含有量および形成された光硬化層に寄与しうる。一実施形態において、光硬化性組成物は、硬化後の炭素含有量が69％以上であり得るように適合されうる。
本開示はさらに、光硬化層を形成する方法に関する。本方法は、基板の上に上述の光硬化性組成物の層を塗布する工程と、光硬化性組成物をテンプレートまたはスーパーストレートと接触させる工程と、光硬化性組成物に光を照射して光硬化層を形成する工程と、光硬化層からテンプレートまたはスーパーストレートを除去する工程とを含みうる。
基板および固化層は、固化層および／または固化層の下にあるパターン化層の一方または両方のパターンに対応する像を基板に転写するために、追加の処理、例えばエッチングプロセスに供されうる。基板は、例えば、硬化、酸化、層形成、堆積、ドーピング、平坦化、エッチング、成形可能材料除去、ダイシング、ボンディング、およびパッケージングなどを含む、デバイス(物品)製造のための既知の工程およびプロセスにさらに供されうる。
また、光硬化層は、LSI、システムLSI、DRAM、SDRAM、RDRAM、D-RDRAM等の半導体デバイスの層間絶縁膜として用いられてもよいし、半導体製造工程で用いられるレジスト膜として用いられてもよい。
例
以下の非限定的な実施例によって、本明細書に記載の概念を例示する。
実施例１
光硬化性組成物
様々な濃度の二官能性アクリレートモノマーm-キシリレンジアクリレート(MXDA)を含む光硬化性組成物を、様々な濃度の以下の単官能性モノマーの１つと共に調製した:2プロペン酸、3,3ジフェニルプロピルエステル(DPHPA)、m-フェノキシベンジルアクリレート(POBA)、(2-ベンジルフェニル)2-メチルプロプ-2-エノエート(2-BzPA)、ジシクロペンテニルアクリレート(DCPA)、および1-ナフチルアクリレート(1-NA)。さらに、二官能性アクリレートモノマーMXDAおよび単官能性モノマーn-ヘキシルアクリレート(nHA)を含有する比較光硬化性組成物を調製した。全ての光硬化性組成物は、２wt％の光開始剤Irgacure 907、および１wt％の界面活性剤FS2000M1をさらに含有した。
使用された単官能性モノマーおよびその計算されたリングパラメータの要約を表１に示す。
Figure 2024024590000001
試験した光硬化性組成物の概要を表２に示す。
Figure 2024024590000002
光硬化層の作製と熱収縮の測定
３～５ミクロンの範囲の厚さを有するハンドインプリント装置を形成することによって、表2にまとめた光硬化性組成物から光硬化層を調製した。ハンドインプリント層を作製するために、光硬化性組成物の数滴をシリコンウエハ上に配置し、石英テンプレートによって閉じ込められた空間内でウエハ表面にわたって広げることを可能にした。テンプレートは、平面層が得られるような特定の表面特徴を有さない。硬化は、20mW／cm2の光強度で365nmの紫外線を120秒間（2.4J／cm2の光エネルギーに相当）照射して行った。
紫外線硬化膜を、温度250℃のホットプレート上に窒素下で２分間置くことにより、光硬化膜を高温ベーク処理した。ベーク前後の膜厚は、JA Woollam Spectroscopic Ellipsometer M-2000 X-210で測定した。熱収縮(St)は式:St=(Tu-Tb)／Tuに従って計算された。ただし、Tuはベーク前の光硬化膜の厚さ、Tbはベーク後の光硬化膜の厚さである。
表２から、５％以下の低い熱収縮が、0.5を超えるリングパラメータを有する10wt％の単官能性モノマーを含有する光硬化性組成物から作製された光硬化層で得られたことが分かる。POBAを単官能性モノマーとして使用する場合、20wt％および30wt％のPOBAを用いても、５％未満の熱収縮が得られた。
粘度
粘度は、Brookfield Viscometer LVDV-II + Proを用いて、200rpmで、スピンドルサイズ#18により、23℃で測定した。粘度試験のために、約６～７mLのサンプル液体を、スピンドルヘッドを覆うのに十分な量で、サンプルチャンバーに添加した。全ての粘度試験について、少なくとも３回の測定を行い、平均値を計算した。
実施例２
エッチング耐性の調査
光硬化性組成物S1(90wt％ MXDA／10wt％ DPHPA)およびS7(90wt％ MXDAおよび10wt％ DCPA)から作製された光硬化層のエッチング耐性を、実施例１に記載されているように、以下の比較光硬化層のエッチング耐性と比較した。
ａ）100wt％ MXDAを含有する重合性材料(サンプルC1)から作製された光硬化性組成物。
ｂ）90wt％ MXDAおよび10wt％ nHAを含有する重合性材料(サンプルC2)。
ｃ）80wt％ MXDAおよび20wt％ nHAを含有する重合性材料(サンプルC3)。
比較光硬化性組成物の全ての他の成分(光開始剤および界面活性剤)は、サンプルS1およびS7と同じであった。
試験のために、0.5μlの光硬化性試験組成物をシリコンウエハ上に滴下し、硬質ブランク溶融シリカモールドを液滴の上に置いた。この液体を、モールドと基板との間に約５分間広げて、完全に充填された液体薄層を得た。17mW／cm2強度を有する紫外線ランプを用いて、モールドを通して液層を硬化させた。硬化後、モールドを硬化膜から分離した。硬化膜の厚さは約700nm～1.2μmであった。
エッチング耐性を測定するために、エッチングツールとしてTrion Oracle 3-Chamber Cluster Systemを用いて、酸素／アルゴン雰囲気下でドライエッチングを行った。以下のエッチング条件を適用した。O2:２sccm、アルゴン:10sccm、高周波電力:45ワット、圧力:10mTorr、エッチング時間:60秒、チャック温度:7℃、ヘリウム背面圧:5Torr。
表３は、試験した光硬化性組成物および測定したエッチング速度をまとめたものである。
Figure 2024024590000003
サンプルS1およびS7は、比較サンプルC1、C2、およびC3よりも著しく遅くエッチングされたことが分かる。結果は、多官能性アクリレートモノマーと、サンプルS1およびS7において使用されるような、0.5以上のリングパラメータを有する単官能性モノマーとの組み合わせが、重合性材料が100wt％の二官能性アクリレートモノマー(サンプルC1)を含有するサンプル、または0.5以上のリングパラメータを有しない重合性モノマー(サンプルC2およびC3)との二官能性アクリレートモノマーの組み合わせであるサンプルと比較して、硬化後のエッチング耐性において優れていた(より低いエッチング速度をもたらす)ことを示している。
炭素含有量
表２および表３は、列挙された光硬化性組成物について、硬化後の光硬化層に含まれる計算された炭素含有量を示す。炭素含有量の計算では、重合性材料(反応性ポリマーおよび重合性モノマー)が層材料の100％に達し、炭素含有量はモル当たりのすべての成分の計算された重量に基づいて計算され、「％」は層材料の炭素の重量パーセントを表すと仮定された。計算された炭素含有量は、硬化中にガスまたは水を形成するなどの材料損失がないので、実際の炭素含有量に非常に近くなければならない。
本明細書に記載された実施形態の明細書および例示は、様々な実施形態の構造の一般的な理解を提供することが意図されている。本明細書および例示は、本明細書に記載の構造または方法を使用する装置およびシステムの要素および特徴のすべてを網羅的かつ包括的に説明するものではない。別個の実施形態はまた、単一の実施形態において組み合わせて提供されてもよく、逆に、簡潔にするために、単一の実施形態の文脈で説明される様々な特徴は別個に、または任意のサブコンビネーションで提供されてもよい。さらに、範囲で記載された値への言及は、その範囲内のそれぞれのおよびすべての値を含む。多くの他の実施形態は本明細書を読んだ後にのみ、当業者に明らかであり得る。本開示の範囲から逸脱することなく、構造的置換、論理的置換、または別の変更が行われ得るように、他の実施形態が使用され、本開示から導出され得る。したがって、本開示は、限定的ではなく例示的であるとみなされるべきである。

Claims (20)

  1. 重合性材料と光開始剤とを含む光硬化性組成物であって
    前記重合性材料は、前記重合性材料の総重量に基づき75wt％以上の量の少なくとも１つの多官能性アクリレートモノマーと、前記重合性材料の総重量に基づき５wt％以上の量の少なくとも１つの単官能性モノマーとを含み、前記少なくとも１つの単官能性モノマーは、0.5以上のリングパラメータを有し、硬化後の前記光硬化性組成物の総炭素含有量は、69％以上である、
    ことを特徴とする光硬化性組成物。
  2. 前記多官能性アクリレートモノマーの量は、前記重合性材料の総重量に基づき85wt％以上である、ことを特徴とする請求項１に記載の光硬化性組成物。
  3. 前記重合性材料の量は、前記光硬化性組成物の総重量に基づき90wt％以上である、ことを特徴とする請求項１に記載の光硬化性組成物。
  4. 前記光硬化性組成物から形成される光硬化層は、250℃でベーク処理された後の熱収縮率が5.0％以下であり、前記ベーク処理は、N2環境下で250℃のステンレスプレート上で前記光硬化層を２分間ベークすることを含む、ことを特徴とする請求項１に記載の光硬化性組成物。
  5. 前記光硬化性組成物の23℃における粘度は、25mPa・s以下である、ことを特徴とする請求項１に記載の光硬化性組成物。
  6. 前記光硬化性組成物の粘度は、15mPa・s以下である、ことを特徴とする請求項５に記載の光硬化性組成物。
  7. 前記多官能性アクリレートモノマーは、二官能性アクリレートモノマーである、ことを特徴とする請求項１に記載の光硬化性組成物。
  8. 前記二官能性アクリレートモノマーは、m-キシリレンジアクリレート(MXDA)、ビスフェノールAジメタクリレート(BPADMA)、又はこれらの組み合わせを含む、ことを特徴とする請求項７に記載の光硬化性組成物。
  9. 前記単官能性モノマーの量は、５wt％以上15wt％以下である、ことを特徴とする請求項１に記載の光硬化性組成物。
  10. 前記単官能性モノマーは、芳香環構造を有するアクリレートモノマーを含む、ことを特徴とする請求項１に記載の光硬化性組成物。
  11. 前記単官能性モノマーは、2プロペン酸、3,3-ジフェニルプロピルエステル(DPHPA)、m-フェノキシベンジルアクリレート(POBA)、(2-ベンジルフェニル)2-メチルプロプ-2-エノエート(2-BzPA)、ジシクロペンテニルアクリレート(DCPA)、1-ナフチルアクリレート(1-NA)、またはそれらの任意の組み合わせを含む、ことを特徴とする請求項１に記載の光硬化性組成物。
  12. 前記重合性材料は、前記多官能性アクリレートモノマーと、前記単官能性モノマーとから本質的になる、ことを特徴とする請求項９に記載の光硬化性組成物。
  13. 前記多官能性アクリレートモノマーは、前記重合性材料の総重量に基づき85wt％以上の量の二官能性アクリレートモノマーであり、前記単官能性モノマーは、前記重合性材料の総重量に基づき５wt％以上の量の単官能性アクリレートモノマーである、ことを特徴とする請求項１に記載の光硬化性組成物。
  14. 基板と光硬化層とを含む積層体であって、前記光硬化層が、請求項１に記載の光硬化性組成物で形成されている、ことを特徴とする積層体。
  15. 前記光硬化層は、250℃でベーク処理された後の熱収縮率が5.0％以下であり、前記ベーク処理は、N2環境下で250℃のステンレスプレート上で前記光硬化層を２分間ベークすることを含む、ことを特徴とする請求項１４に記載の積層体。
  16. 基板の上に光硬化層を形成する方法であって、
    前記基板の上に光硬化性組成物の層を塗布する工程と、ここで、前記光硬化性組成物は、重合性材料と少なくとも１つの光開始剤とを含み、前記重合性材料は、前記重合性材料の総重量に基づき75wt％以上の量の少なくとも１つの多官能性アクリレートモノマーと、前記重合性材料の総重量に基づき５wt％以上の量の少なくとも１つの単官能性モノマーとを含み、前記単官能性モノマーは、0.5以上のリングパラメータを有し、
    前記光硬化性組成物をテンプレートまたはスーパーストレートと接触させる工程と、
    前記光硬化性組成物に光を照射して光硬化層を形成する工程と、
    前記光硬化層から前記テンプレートまたは前記スーパーストレートを除去する工程と、
    を有し、前記光硬化層の総炭素含有量は、69％以上である、ことを特徴とする方法。
  17. 前記光硬化層は、250℃でベーク処理された後の熱収縮率が5.0％以下であり、前記ベーク処理は、N2環境下で250℃のステンレスプレート上で前記光硬化層を２分間ベークすることを含む、ことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
  18. 前記光硬化性組成物の粘度は、25mPa・s以下である、ことを特徴とする請求項１６に記載の方法。
  19. 前記光硬化性組成物の前記重合性材料は、前記多官能性アクリレートモノマーと、前記単官能性モノマーとから本質的になる、ことを特徴とする請求項１７に記載の方法。
  20. 基板の上に光硬化性組成物の層を塗布する工程と、ここで、前記光硬化性組成物は、重合性材料と、少なくとも１つの光開始剤とを含み、前記重合性材料は、前記重合性材料の総重量に基づき75wt％以上の量の少なくとも１つの多官能性アクリレートモノマーと、前記重合性材料の総重量に基づき５wt％以上の量の少なくとも１つの単官能性モノマーとを含み、前記単官能性モノマーは、0.5以上のリングパラメータを有し、
    前記光硬化性組成物をテンプレートまたはスーパーストレートと接触させる工程と、
    前記光硬化性組成物に光を照射して光硬化層を形成する工程と、
    前記光硬化層から前記テンプレートまたは前記スーパーストレートを除去する工程と、
    前記基板の上にパターンを形成する工程と、
    前記形成する工程において前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
    前記処理する工程において処理された前記基板から物品を製造する工程と、
    を含み、前記光硬化層の総炭素含有量は、69％以上である、ことを特徴とする物品製造方法。
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