JP2024015760A - フラックス、ソルダペースト、及び、接合構造体の製造方法 - Google Patents
フラックス、ソルダペースト、及び、接合構造体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2024015760A JP2024015760A JP2022118050A JP2022118050A JP2024015760A JP 2024015760 A JP2024015760 A JP 2024015760A JP 2022118050 A JP2022118050 A JP 2022118050A JP 2022118050 A JP2022118050 A JP 2022118050A JP 2024015760 A JP2024015760 A JP 2024015760A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flux
- mass
- solder paste
- solid
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000004907 flux Effects 0.000 title claims abstract description 124
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 77
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 17
- -1 aliphatic ester Chemical class 0.000 claims abstract description 42
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 31
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 27
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 20
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 16
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims abstract description 11
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 claims description 31
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 claims description 31
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 claims description 31
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 16
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 13
- HPEUJPJOZXNMSJ-UHFFFAOYSA-N Methyl stearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC HPEUJPJOZXNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- NOPFSRXAKWQILS-UHFFFAOYSA-N docosan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCO NOPFSRXAKWQILS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- MVLVMROFTAUDAG-UHFFFAOYSA-N ethyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC MVLVMROFTAUDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- BXWNKGSJHAJOGX-UHFFFAOYSA-N hexadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCO BXWNKGSJHAJOGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- BTFJIXJJCSYFAL-UHFFFAOYSA-N icosan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCO BTFJIXJJCSYFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N octadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCO GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- HLZKNKRTKFSKGZ-UHFFFAOYSA-N tetradecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCO HLZKNKRTKFSKGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- QMMJWQMCMRUYTG-UHFFFAOYSA-N 1,2,4,5-tetrachloro-3-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=C(Cl)C(Cl)=CC(Cl)=C1Cl QMMJWQMCMRUYTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229960000541 cetyl alcohol Drugs 0.000 claims description 6
- 229960000735 docosanol Drugs 0.000 claims description 6
- CAMHHLOGFDZBBG-UHFFFAOYSA-N epoxidized methyl oleate Natural products CCCCCCCCC1OC1CCCCCCCC(=O)OC CAMHHLOGFDZBBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- MTJGVAJYTOXFJH-UHFFFAOYSA-N 3-aminonaphthalene-1,5-disulfonic acid Chemical compound C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C2=CC(N)=CC(S(O)(=O)=O)=C21 MTJGVAJYTOXFJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 24
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 17
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 12
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 7
- ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-butanetriol Chemical compound OCCC(O)CO ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 5
- WNWHHMBRJJOGFJ-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecan-1-ol Chemical compound CC(C)CCCCCCCCCCCCCCCO WNWHHMBRJJOGFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- 229940031723 1,2-octanediol Drugs 0.000 description 3
- JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 2,2,4-trimethylpentane-1,3-diol Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)CO JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OJRJDENLRJHEJO-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylpentane-1,5-diol Chemical compound CCC(CO)CC(CC)CO OJRJDENLRJHEJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWNMRZQYWRLGMM-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylhexane-2,5-diol Chemical compound CC(C)(O)CCC(C)(C)O ZWNMRZQYWRLGMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DSKYSDCYIODJPC-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCCCC(CC)(CO)CO DSKYSDCYIODJPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane-1,5-diol Chemical compound OCCC(C)CCO SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N Docosanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 3
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RFMMMVDNIPUKGG-YFKPBYRVSA-N N-acetyl-L-glutamic acid Chemical compound CC(=O)N[C@H](C(O)=O)CCC(O)=O RFMMMVDNIPUKGG-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCO FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N dodecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(N)=O ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZITKDVFRMRXIJQ-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,2-diol Chemical compound CCCCCCCCCCC(O)CO ZITKDVFRMRXIJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UAUDZVJPLUQNMU-KTKRTIGZSA-N erucamide Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCCCCC(N)=O UAUDZVJPLUQNMU-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 3
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 3
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 3
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- HSEMFIZWXHQJAE-UHFFFAOYSA-N hexadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O HSEMFIZWXHQJAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N octadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AEIJTFQOBWATKX-UHFFFAOYSA-N octane-1,2-diol Chemical compound CCCCCCC(O)CO AEIJTFQOBWATKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N octane-1,8-diol Chemical compound OCCCCCCCCO OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FATBGEAMYMYZAF-KTKRTIGZSA-N oleamide Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(N)=O FATBGEAMYMYZAF-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ALSTYHKOOCGGFT-KTKRTIGZSA-N (9Z)-octadecen-1-ol Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCO ALSTYHKOOCGGFT-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 2
- ZWVMLYRJXORSEP-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-Hexanetriol Chemical compound OCCCCC(O)CO ZWVMLYRJXORSEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OWRCNXZUPFZXOS-UHFFFAOYSA-N 1,3-diphenylguanidine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=N)NC1=CC=CC=C1 OWRCNXZUPFZXOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940043375 1,5-pentanediol Drugs 0.000 description 2
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXUAQHNMJWJLTG-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(C)CC(O)=O WXUAQHNMJWJLTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEACJMVNYZDSKR-UHFFFAOYSA-N 2-octyldodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCC(CO)CCCCCCCC LEACJMVNYZDSKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XPFCZYUVICHKDS-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutane-1,3-diol Chemical compound CC(C)(O)CCO XPFCZYUVICHKDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 4-oxopentanoic acid Chemical compound CC(=O)CCC(O)=O JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FLIACVVOZYBSBS-UHFFFAOYSA-N Methyl palmitate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC FLIACVVOZYBSBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VKDFZMMOLPIWQQ-VIFPVBQESA-N N-acetyl-L-alpha-phenylglycine Chemical compound CC(=O)N[C@H](C(O)=O)C1=CC=CC=C1 VKDFZMMOLPIWQQ-VIFPVBQESA-N 0.000 description 2
- WXNXCEHXYPACJF-ZETCQYMHSA-N N-acetyl-L-leucine Chemical compound CC(C)C[C@@H](C(O)=O)NC(C)=O WXNXCEHXYPACJF-ZETCQYMHSA-N 0.000 description 2
- CBQJSKKFNMDLON-JTQLQIEISA-N N-acetyl-L-phenylalanine Chemical compound CC(=O)N[C@H](C(O)=O)CC1=CC=CC=C1 CBQJSKKFNMDLON-JTQLQIEISA-N 0.000 description 2
- OKJIRPAQVSHGFK-UHFFFAOYSA-N N-acetylglycine Chemical compound CC(=O)NCC(O)=O OKJIRPAQVSHGFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940024606 amino acid Drugs 0.000 description 2
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N decanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XIRNKXNNONJFQO-UHFFFAOYSA-N ethyl hexadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC XIRNKXNNONJFQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- KEMQGTRYUADPNZ-UHFFFAOYSA-N heptadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O KEMQGTRYUADPNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N heptanoic acid Chemical compound CCCCCCC(O)=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SFFVATKALSIZGN-UHFFFAOYSA-N hexadecan-7-ol Chemical compound CCCCCCCCCC(O)CCCCCC SFFVATKALSIZGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OHMBHFSEKCCCBW-UHFFFAOYSA-N hexane-2,5-diol Chemical compound CC(O)CCC(C)O OHMBHFSEKCCCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VKOBVWXKNCXXDE-UHFFFAOYSA-N icosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O VKOBVWXKNCXXDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- QSQLTHHMFHEFIY-UHFFFAOYSA-N methyl behenate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC QSQLTHHMFHEFIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940055577 oleyl alcohol Drugs 0.000 description 2
- XMLQWXUVTXCDDL-UHFFFAOYSA-N oleyl alcohol Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCCCCO XMLQWXUVTXCDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N picolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=N1 SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TYWMIZZBOVGFOV-UHFFFAOYSA-N tetracosan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCO TYWMIZZBOVGFOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BEOUGZFCUMNGOU-UHFFFAOYSA-N tuberculostearic acid Chemical compound CCCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O BEOUGZFCUMNGOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- MELXIJRBKWTTJH-ONEGZZNKSA-N (e)-2,3-dibromobut-2-ene-1,4-diol Chemical compound OC\C(Br)=C(/Br)CO MELXIJRBKWTTJH-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- YUAPUIKGYCAHGM-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromo-3-(2,3-dibromopropoxy)propane Chemical compound BrCC(Br)COCC(Br)CBr YUAPUIKGYCAHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VASMRQAVWVVDPA-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triphenyl-1,3,5-triazinane Chemical compound C1N(C=2C=CC=CC=2)CN(C=2C=CC=CC=2)CN1C1=CC=CC=C1 VASMRQAVWVVDPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZUPFZNVGSWLQC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2,3-dibromopropyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound BrCC(Br)CN1C(=O)N(CC(Br)CBr)C(=O)N(CC(Br)CBr)C1=O NZUPFZNVGSWLQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJLUATLTXUNBOT-UHFFFAOYSA-N 1-Hexadecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCN FJLUATLTXUNBOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCMFEZDRQOJKMN-UHFFFAOYSA-N 1-butylimidazole Chemical compound CCCCN1C=CN=C1 MCMFEZDRQOJKMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPYDMVZCPRONLW-UHFFFAOYSA-N 1-iodo-4-(4-iodophenyl)benzene Chemical group C1=CC(I)=CC=C1C1=CC=C(I)C=C1 GPYDMVZCPRONLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXQHRUJXQJEGER-UHFFFAOYSA-N 1-methylbenzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N(C)N=NC2=C1 HXQHRUJXQJEGER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940094997 1-tetracosanol Drugs 0.000 description 1
- RDYWHMBYTHVOKZ-UHFFFAOYSA-N 18-hydroxyoctadecanamide Chemical compound NC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCCO RDYWHMBYTHVOKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHXTZVXDUILKNY-UHFFFAOYSA-N 2-(n-acetylanilino)acetic acid Chemical compound OC(=O)CN(C(=O)C)C1=CC=CC=C1 SHXTZVXDUILKNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKDFZMMOLPIWQQ-UHFFFAOYSA-N 2-acetamido-2-phenylacetic acid Chemical compound CC(=O)NC(C(O)=O)C1=CC=CC=C1 VKDFZMMOLPIWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSCUJFSYFICJNC-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-3-iodobut-2-ene-1,4-diol Chemical compound BrC(CO)=C(CO)I NSCUJFSYFICJNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1h-imidazole Chemical compound CCC1=NC=CN1 PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 2-heptadecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 2-undecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDXAWLJRERMRKF-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethyl-1h-pyrazole Chemical compound CC=1C=C(C)NN=1 SDXAWLJRERMRKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCMHUGYTOGXZIW-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethylamino)propane-1,2-diol Chemical compound CN(C)CC(O)CO QCMHUGYTOGXZIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHLAPJMCARJFOG-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-1,4-dihydropyrazol-5-one Chemical compound CC1=NNC(=O)C1 NHLAPJMCARJFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound N1C(C)=CN=C1C1=CC=CC=C1 TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUXJCJHMGXQKSX-UHFFFAOYSA-N 6-[1-(2-undecyl-1h-imidazol-5-yl)ethyl]-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound N1C(CCCCCCCCCCC)=NC=C1C(C)C1=NC(N)=NC(N)=N1 NUXJCJHMGXQKSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005632 Capric acid (CAS 334-48-5) Substances 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- QEVGZEDELICMKH-UHFFFAOYSA-N Diglycolic acid Chemical compound OC(=O)COCC(O)=O QEVGZEDELICMKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- 235000021353 Lignoceric acid Nutrition 0.000 description 1
- CQXMAMUUWHYSIY-UHFFFAOYSA-N Lignoceric acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCC1=CC=C(O)C=C1 CQXMAMUUWHYSIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGJKQDOBUOMPEZ-UHFFFAOYSA-N N,N'-dimethylurea Chemical compound CNC(=O)NC MGJKQDOBUOMPEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BACYUWVYYTXETD-UHFFFAOYSA-N N-Lauroylsarcosine Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)N(C)CC(O)=O BACYUWVYYTXETD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXNXCEHXYPACJF-SSDOTTSWSA-N N-acetyl-D-leucine Chemical compound CC(C)C[C@H](C(O)=O)NC(C)=O WXNXCEHXYPACJF-SSDOTTSWSA-N 0.000 description 1
- CBQJSKKFNMDLON-SNVBAGLBSA-N N-acetyl-D-phenylalanine Chemical compound CC(=O)N[C@@H](C(O)=O)CC1=CC=CC=C1 CBQJSKKFNMDLON-SNVBAGLBSA-N 0.000 description 1
- WXNXCEHXYPACJF-UHFFFAOYSA-N N-acetyl-leucine Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC(C)=O WXNXCEHXYPACJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBQJSKKFNMDLON-UHFFFAOYSA-N N-acetylphenylalanine Chemical compound CC(=O)NC(C(O)=O)CC1=CC=CC=C1 CBQJSKKFNMDLON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N N-phenylglycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=CC=C1 NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960000669 acetylleucine Drugs 0.000 description 1
- 229940114077 acrylic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFIDNKMQBYGNIW-UHFFFAOYSA-N arachidonic acid methyl ester Natural products CCCCCC=CCC=CCC=CCC=CCCCC(=O)OC OFIDNKMQBYGNIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960004365 benzoic acid Drugs 0.000 description 1
- MXJIHEXYGRXHGP-UHFFFAOYSA-N benzotriazol-1-ylmethanol Chemical compound C1=CC=C2N(CO)N=NC2=C1 MXJIHEXYGRXHGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 1
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- FARYTWBWLZAXNK-WAYWQWQTSA-N ethyl (z)-3-(methylamino)but-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)\C=C(\C)NC FARYTWBWLZAXNK-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- YBKSMWBLSBAFBQ-UHFFFAOYSA-N ethyl arachidate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC YBKSMWBLSBAFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940067592 ethyl palmitate Drugs 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- GFMIDCCZJUXASS-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1,6-triol Chemical compound OCCCCCC(O)O GFMIDCCZJUXASS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVIYEYCFMVPYST-UHFFFAOYSA-N hexane-1,3-diol Chemical compound CCCC(O)CCO AVIYEYCFMVPYST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960000448 lactic acid Drugs 0.000 description 1
- 229940040102 levulinic acid Drugs 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- QGBRLVONZXHAKJ-UHFFFAOYSA-N methyl arachidate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC QGBRLVONZXHAKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- QEALYLRSRQDCRA-UHFFFAOYSA-N myristamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC(N)=O QEALYLRSRQDCRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTQWRYSLUYAIRQ-UHFFFAOYSA-N n-[(octadecanoylamino)methyl]octadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)NCNC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC FTQWRYSLUYAIRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940081066 picolinic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960005206 pyrazinamide Drugs 0.000 description 1
- IPEHBUMCGVEMRF-UHFFFAOYSA-N pyrazinecarboxamide Chemical compound NC(=O)C1=CN=CC=N1 IPEHBUMCGVEMRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 108700004121 sarkosyl Proteins 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 238000010023 transfer printing Methods 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940005605 valeric acid Drugs 0.000 description 1
Landscapes
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
【課題】低残渣を実現するためのリフロープロセス時間を短縮することができるフラックス、ソルダペースト、及び、接合構造体の製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】本発明に係るフラックスは、はんだ付けに用いられるフラックスであって、ヒドロキシ基を1つ有すると共に20℃で固体の脂肪族アルコール、及び、20℃で固体の脂肪酸エステルから選択される少なくとも1種と、ヒドロキシ基を1つ以上3つ以下有すると共に、20℃で液体の液体溶剤と、ヒドロキシ基を2つ以上4つ以下有すると共に、20℃で固体の固体溶剤と、を含有し、チキソ剤を含まないか、又は、フラックス全体に対して20.0質量%以下のチキソ剤を含む。【選択図】なし
Description
本発明は、フラックス、ソルダペースト、及び、接合構造体の製造方法に関する。
プリント配線板等の電子回路基板と接合部品との接合には、はんだ合金粉末とフラックスとを混合したソルダペーストが用いられる。ソルダペーストは、基板表面の電極部に塗布されると共に、該電極部に接合部品の電極部を接触させた状態で加熱(リフロー)される。これにより、はんだ合金粉末が溶融してはんだ接合部が形成され、該はんだ接合部を介して基板と接合部品とが接合された接合構造体を得ることができる。
斯かるソルダペーストに含まれるフラックスとしては、ロジン等の樹脂、溶剤、チキソ剤、及び、活性剤等から構成されるフラックスが一般的に用いられている。しかし、このようなフラックスを含むソルダペーストを用いてはんだ付けをすると、フラックス残渣がはんだ付け部周囲に残ることがある。そのため、例えば、フラックスの構成成分を揮発性の高い材料から選択する方法、減圧リフロー、又は、減圧還元リフローを採用して、リフロープロセスでフラックスを十分に揮発させる方法等によりフラックス残渣の低減を図っている。
例えば、特許文献1には、揮発しにくいロジン等の樹脂を含まないフラックスが開示されている。斯かるフラックスは、ロジン等の樹脂の代わりに、液体溶剤と固体溶剤とを併用することにより、フラックス残渣の低減を図っている。
従来、パワーデバイス製造のはんだ付けにおいては、はんだ箔が広く用いられている。ところが、近年では、該はんだ箔の代替材料として、パワーデバイス製造の分野においてもソルダペーストが注目されている。ソルダペーストは、印刷により基板に対してはんだを一括供給することが可能である。さらに、ソルダペーストを用いたはんだ付けにおいては、基板搬送時における部品のズレ及び落下を防ぐための部品固定用治具が不要になる。これにより、接合構造体の製造工程をオートメーション化することが容易になるため、ソルダペーストをパワーデバイス製造のはんだ付けに適用する試みが積極的になされている。
はんだ付けリフロープロセスは、リフロー後のフラックス残渣を低減させるため、リフロープロセス時間が長いことが問題となっている。特に、パワーデバイスのはんだ付けにおいては、フラックス残渣が後工程で不良の原因となることから、より一層、フラックス残渣の低減が求められる。そのため、パワーデバイスのはんだ付けにおいては、リフロープロセス時間がより長くなる傾向にある。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、低残渣を実現するためのリフロープロセス時間を短縮することができるフラックス、ソルダペースト、及び、接合構造体の製造方法を提供することを課題とする。
本発明に係るフラックスは、はんだ付けに用いられるフラックスであって、ヒドロキシ基を1つ有すると共に20℃で固体の脂肪族アルコール、及び、20℃で固体の脂肪酸エステルから選択される少なくとも1種と、ヒドロキシ基を1つ以上3つ以下有すると共に、20℃で液体の液体溶剤と、ヒドロキシ基を2つ以上4つ以下有すると共に、20℃で固体の固体溶剤と、を含有し、チキソ剤を含まないか、又は、フラックス全体に対して20.0質量%以下のチキソ剤を含む。
本発明に係るソルダペーストは、前記フラックスと、はんだ合金粉末とを含む。
本発明に係る接合構造体の製造方法は、ソルダペーストを用いて、基板と接合部品とを接合する。
本発明によれば、低残渣を実現するためのリフロープロセス時間を短縮することができるフラックス、ソルダペースト、及び、接合構造体の製造方法を提供することができる。
以下、本発明の実施形態に係るフラックス、ソルダペースト、及び、接合構造体の製造方法について説明する。
<フラックス>
本実施形態に係るフラックスは、脂肪族アルコール、及び、脂肪酸エステルから選択される少なくとも1種と、液体溶剤と、固体溶剤と、を含有する。
本実施形態に係るフラックスは、脂肪族アルコール、及び、脂肪酸エステルから選択される少なくとも1種と、液体溶剤と、固体溶剤と、を含有する。
(脂肪族アルコール)
脂肪族アルコールは、ヒドロキシ基を1つ有すると共に、20℃で固体である。このような脂肪族アルコールとしては、例えば、1-テトラデカノール、1-ヘキサデカノール、1-オクタデカノール、1-エイコサノール、1-ドコサノール、1-ドデカノール、1-テトラコサノール等が挙げられる。これらの中でも、前記脂肪族アルコールは、1-テトラデカノール、1-ヘキサデカノール、1-オクタデカノール、1-エイコサノール、及び、1-ドコサノールから選択される少なくとも1種であることが好ましい。
脂肪族アルコールは、ヒドロキシ基を1つ有すると共に、20℃で固体である。このような脂肪族アルコールとしては、例えば、1-テトラデカノール、1-ヘキサデカノール、1-オクタデカノール、1-エイコサノール、1-ドコサノール、1-ドデカノール、1-テトラコサノール等が挙げられる。これらの中でも、前記脂肪族アルコールは、1-テトラデカノール、1-ヘキサデカノール、1-オクタデカノール、1-エイコサノール、及び、1-ドコサノールから選択される少なくとも1種であることが好ましい。
前記脂肪族アルコールの含有量は、前記フラックス全体に対して、0.5質量%以上であることが好ましく、1.0質量%以上であることがより好ましく、5.0質量%以上であることが特に好ましい。また、前記脂肪族アルコールの含有量は、前記フラックス全体に対して、45.0質量%以下であることが好ましく、30.0質量%以下であることがより好ましく、20.0質量%以下であることが特に好ましい。なお、前記脂肪族アルコールが2種以上含まれる場合、前記含有量は合計含有量である。
(脂肪酸エステル)
脂肪酸エステルは、20℃で固体である。このような脂肪酸エステルとしては、ステアリン酸メチル、ステアリン酸エチル、ステアリン酸ブチル、パルミチン酸メチル、パルミチン酸エチル、アラキジン酸メチル、アラキジン酸エチル、ベヘン酸メチル等が挙げられる。これらの中でも、前記脂肪酸エステルは、ステアリン酸メチル、ステアリン酸エチル、及び、ステアリン酸ブチルから選択される少なくとも1種であることが好ましい。
脂肪酸エステルは、20℃で固体である。このような脂肪酸エステルとしては、ステアリン酸メチル、ステアリン酸エチル、ステアリン酸ブチル、パルミチン酸メチル、パルミチン酸エチル、アラキジン酸メチル、アラキジン酸エチル、ベヘン酸メチル等が挙げられる。これらの中でも、前記脂肪酸エステルは、ステアリン酸メチル、ステアリン酸エチル、及び、ステアリン酸ブチルから選択される少なくとも1種であることが好ましい。
前記脂肪酸エステルの含有量は、前記フラックス全体に対して、0.5質量%以上であることが好ましく、1.0質量%以上であることがより好ましく、3.0質量%以上であることが特に好ましい。また、前記脂肪酸エステルの含有量は、前記フラックス全体に対して、45.0質量%以下であることが好ましく、20.0質量%以下であることがより好ましく、10.0質量%以下であることが特に好ましい。なお、前記脂肪酸エステルが2種以上含まれる場合、前記含有量は合計含有量である。
本実施形態に係るフラックスは、フラックス分離を抑制する観点から、前記脂肪族アルコール、及び、前記脂肪酸エステルの両方を含むことが好ましい。前記脂肪族アルコール、及び、前記脂肪酸エステルの合計含有量は、前記フラックス全体に対して、1.0質量%以上であることが好ましく、5.0質量%以上であることがより好ましく、10.0質量%以上であることが特に好ましい。また、前記脂肪族アルコール、及び、前記脂肪酸エステルの合計含有量は、前記フラックス全体に対して、45.0質量%以下であることが好ましく、40.0質量%以下であることがより好ましく、30.0質量%以下であることが特に好ましい。
(液体溶剤)
本実施形態に係るフラックスは、ヒドロキシ基を1つ以上3つ以下有すると共に、20℃で液体の液体溶剤を含有する。このような液体溶剤としては、例えば、3-メチル1,5-ペンタンジオール、1,4-ブタンジオール、2,5-ヘキサンジオール、1,5-ペンタンジオール、2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール、1,2,6-ヘキサントリオール、1,2,4-ブタントリオール、ヘキシルデカノール、イソステアリルアルコール、2-オクチルドデカノール、2-デシルテトラドデカノール、オレイルアルコール、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール、3-メチル-1,3-ブタンジオール、グリセリン等が挙げられる。
本実施形態に係るフラックスは、ヒドロキシ基を1つ以上3つ以下有すると共に、20℃で液体の液体溶剤を含有する。このような液体溶剤としては、例えば、3-メチル1,5-ペンタンジオール、1,4-ブタンジオール、2,5-ヘキサンジオール、1,5-ペンタンジオール、2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール、1,2,6-ヘキサントリオール、1,2,4-ブタントリオール、ヘキシルデカノール、イソステアリルアルコール、2-オクチルドデカノール、2-デシルテトラドデカノール、オレイルアルコール、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール、3-メチル-1,3-ブタンジオール、グリセリン等が挙げられる。
前記液体溶剤は、フラックスの揮発性を高める観点から、少なくとも1種用いることが好ましく、ソルダペーストの粘度安定性を高める観点から、2種以上を用いることがより好ましい。前記液体溶剤を少なくとも1種用いる場合には、3-メチル1,5-ペンタンジオール、2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール、3-メチル-1,3-ブタンジオール、1,2,6-ヘキサントリオール、及び、1,2,4-ブタントリオールから選択される少なくとも1種であることが好ましい。
前記液体溶剤の含有量は、前記フラックス全体に対して、5.0質量%以上であることが好ましく、20.0質量%以上であることがより好ましい。また、液体溶剤の含有量は、前記フラックス全体に対して、80.0質量%以下であることが好ましく、60.0質量%以下であることがより好ましい。なお、液体溶剤が2種以上含まれる場合、前記含有量は合計含有量である。
(固体溶剤)
本実施形態に係るフラックスは、ヒドロキシ基を2つ以上4つ以下有すると共に、20℃で固体の固体溶剤を含有する。このような固体溶剤としては、例えば、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオール、2,5-ジメチル-2,5-ヘキサンジオール、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオール、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール、1,2-オクタンジオール、1,8-オクタンジオール、1,10-デカンジオール、1,2-ドデカンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,9-ノナンジオール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、エリスリトール等が挙げられる。これらの中でも、前記固体溶剤は、ソルダペーストの印刷性を向上させる観点から、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオール、2,5-ジメチル-2,5-ヘキサンジオール、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオール、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール、1,2-オクタンジオール、1,8-オクタンジオール、1,10-デカンジオール、1,2-ドデカンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,9-ノナンジオール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、及び、エリスリトールから選択される少なくとも3種であることが好ましい。
本実施形態に係るフラックスは、ヒドロキシ基を2つ以上4つ以下有すると共に、20℃で固体の固体溶剤を含有する。このような固体溶剤としては、例えば、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオール、2,5-ジメチル-2,5-ヘキサンジオール、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオール、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール、1,2-オクタンジオール、1,8-オクタンジオール、1,10-デカンジオール、1,2-ドデカンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,9-ノナンジオール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、エリスリトール等が挙げられる。これらの中でも、前記固体溶剤は、ソルダペーストの印刷性を向上させる観点から、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオール、2,5-ジメチル-2,5-ヘキサンジオール、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオール、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール、1,2-オクタンジオール、1,8-オクタンジオール、1,10-デカンジオール、1,2-ドデカンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,9-ノナンジオール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、及び、エリスリトールから選択される少なくとも3種であることが好ましい。
前記固体溶剤の含有量は、前記フラックス全体に対して、5.0質量%以上であることが好ましく、25.0質量%以上であることがより好ましい。また、固体溶剤の含有量は、前記フラックス全体に対して、92.0質量%以下であることが好ましく、65.0質量%以下であることがより好ましい。なお、固体溶剤が2種以上含まれる場合、前記含有量は合計含有量である。
(チキソ剤)
本実施形態に係るフラックスは、チキソ剤を含まないか、又は、フラックス全体に対して20.0質量%以下のチキソ剤を含む。チキソ剤としては、例えば、ヒマシ硬化油、脂肪酸アミド、脂肪酸ビスアマイド、ポリアミド化合物、カオリン、コロイダルシリカ、有機ベントナイト、ガラスフリット等が挙げられる。これらの中でも、チキソ剤は、フラックス残渣を低減する観点から、脂肪酸アミドを含むことが好ましく、脂肪酸アミドからなることがより好ましい。脂肪酸アミドとしては、例えば、ステアリン酸アミド、ラウリン酸アミド、パルミチン酸アミド、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、ベヘン酸アミド、ヒドロキシステアリン酸アミド、ミリスチン酸アミド等が挙げられる。これらの中でも、脂肪酸アミドは、ステアリン酸アミド、ラウリン酸アミド、パルミチン酸アミド、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、ベヘン酸アミドであることが好ましい。なお、チキソ剤は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
本実施形態に係るフラックスは、チキソ剤を含まないか、又は、フラックス全体に対して20.0質量%以下のチキソ剤を含む。チキソ剤としては、例えば、ヒマシ硬化油、脂肪酸アミド、脂肪酸ビスアマイド、ポリアミド化合物、カオリン、コロイダルシリカ、有機ベントナイト、ガラスフリット等が挙げられる。これらの中でも、チキソ剤は、フラックス残渣を低減する観点から、脂肪酸アミドを含むことが好ましく、脂肪酸アミドからなることがより好ましい。脂肪酸アミドとしては、例えば、ステアリン酸アミド、ラウリン酸アミド、パルミチン酸アミド、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、ベヘン酸アミド、ヒドロキシステアリン酸アミド、ミリスチン酸アミド等が挙げられる。これらの中でも、脂肪酸アミドは、ステアリン酸アミド、ラウリン酸アミド、パルミチン酸アミド、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、ベヘン酸アミドであることが好ましい。なお、チキソ剤は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
前記チキソ剤の含有量は、フラックスの揮発性を高める観点から、前記フラックス全体に対して、20.0質量%以下であり、15.0質量%以下であることが好ましく、10.0質量%以下であることがより好ましい。また、本実施形態に係るフラックスは、フラックスの揮発性を高める観点から、チキソ剤を含まないことが好ましい。なお、チキソ剤が2種以上含まれる場合、前記含有量は合計含有量である。
(活性剤)
本実施形態に係るフラックスは、活性剤を含んでいてもよい。活性剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、有機酸系活性剤、アミン系化合物、アミノ酸、アミンハロゲン塩やハロゲン化合物等のハロゲン系活性剤等が挙げられる。なお、活性剤は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
本実施形態に係るフラックスは、活性剤を含んでいてもよい。活性剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、有機酸系活性剤、アミン系化合物、アミノ酸、アミンハロゲン塩やハロゲン化合物等のハロゲン系活性剤等が挙げられる。なお、活性剤は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
有機酸系活性剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、ツベルクロステアリン酸、アラキジン酸、ベヘニン酸、リグノセリン酸、グリコール酸等のモノカルボン酸;シュウ酸、マロン酸、コハク酸、メチルコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、ジグリコール酸等のジカルボン酸;ダイマー酸、レブリン酸、乳酸、アクリル酸、安息香酸、サリチル酸、アニス酸、クエン酸、ピコリン酸等のその他の有機酸が挙げられる。
アミン系化合物としては、特に限定されるものではなく、イミダゾール系化合物、トリアゾール系化合物等が挙げられる。前記イミダゾール系化合物としては、例えば、ベンゾイミダゾール、2-メチルイミダゾール、2-エチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール(2E4MZ)、2-ヘプタデシルイミダゾール、2-ウンデシルイミダゾール、1-(4,6-ジアミノ-s-トリアジン-2-イル)エチル-2-ウンデシルイミダゾール、1-ブチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、4-メチル-2-フェニルイミダゾール等が挙げられる。前記トリアゾール系化合物としては、例えば、ベンゾトリアゾール、1H-ベンゾトリアゾール-1-メタノール、1-メチル-1H-ベンゾトリアゾール等が挙げられる。その他のアミン系化合物としては、例えば、セチルアミン、3-(ジメチルアミノ)-1,2-プロパンジオール、3,5-ジメチルピラゾール、ジメチルウレア、ヘキサヒドロ-1,3,5-トリフェニル-1,3,5-トリアジン、ピラジンアミド、N-フェニルグリシン、3-メチル-5-ピラゾロン、N-ラウロイルサルコシン、1,3-ジフェニルグアニジン等が挙げられる。
アミノ酸としては、特に限定されるものではなく、例えば、N-アセチルフェニルアラニン(N-アセチル-L-フェニルアラニン、N-アセチル-DL-フェニルアラニン、N-アセチル-D-フェニルアラニン)、N-アセチルグルタミン酸(N-アセチル-L-グルタミン酸)、N-アセチルグリシン、N-アセチルロイシン(N-アセチル-L-ロイシン、N-アセチル-DL-ロイシン、N-アセチル-D-ロイシン)、又は、N-アセチルフェニルグリシン(N-アセチル-N-フェニルグリシン、N-アセチル-L-フェニルグリシン、N-アセチル-DL-フェニルグリシン)等が挙げられる。
ハロゲン系活性剤としては、特に限定されるものではなく、アミンハロゲン塩、ハロゲン化合物等が挙げられる。アミンハロゲン塩のアミンとしては、例えば、ジエチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、ジフェニルグアニジン、シクロヘキシルアミン等が挙げられる。アミンハロゲン塩のハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。ハロゲン化合物としては、イソシアヌル酸トリス(2,3-ジブロモプロピル)、2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、2-ブロモ-3-ヨード-2-ブテン-1,4-ジオール、TBA-ビス(2,3-ジブロモプロピルエーテル)、4,4’-ジヨードビフェニル等が挙げられる
前記活性剤の含有量は、フラックス全体に対して、0.5質量%以上であることが好ましく、1.0質量%以上であることがより好ましい。また、活性剤の含有量は、フラックス全体に対して、5.0質量%以下であることが好ましく、3.0質量%以下であることがより好ましい。なお、活性剤が2種以上含まれる場合、前記含有量は合計含有量である。
本実施形態に係るフラックスは、その他の添加剤として、例えば、安定剤、界面活性剤、消泡剤、及び、腐食防止剤から選択される少なくとも一種を含んでいてもよい。その他の添加剤の合計含有量は、特に限定されるものではなく、例えば、フラックス全体に対して、5.0質量%以下とすることができる。
本実施形態に係るフラックスは、ヒドロキシ基を1つ有すると共に20℃で固体の脂肪族アルコール、及び、20℃で固体の脂肪酸エステルから選択される少なくとも1種を含み、チキソ剤を含まないか、又は、フラックス全体に対して20.0質量%以下のチキソ剤を含むことにより、低残渣を実現するためのリフロープロセス時間を短縮することができる。
本実施形態に係るフラックスは、前記フラックスが、前記脂肪族アルコールを含み、前記脂肪族アルコールの含有量が、フラックス全体に対して、0.5質量%以上45.0質量%以下であることにより、低残渣を実現するためのリフロープロセス時間をより短縮することができる。また、フラックスの粘性が上昇し、ソルダペーストの粘性を確保することができる。
本実施形態に係るフラックスは、前記フラックスが、前記脂肪酸エステルを含み、前記脂肪酸エステルの含有量が、フラックス全体に対して、0.5質量%以上45.0質量%以下であることにより、低残渣を実現するためのリフロープロセス時間をより短縮することができる。また、フラックスの粘性が上昇し、ソルダペーストの粘性を確保することができる。
本実施形態に係るフラックスは、前記脂肪族アルコールが、1-ドデカノール、1-テトラデカノール、1-ヘキサデカノール、1-オクタデカノール、1-エイコサノール、及び、1-ドコサノールから選択される少なくとも1種であることにより、低残渣を実現するためのリフロープロセス時間をより短縮することができる。
本実施形態に係るフラックスは、前記脂肪酸エステルが、ステアリン酸メチル、ステアリン酸エチル、及び、ステアリン酸ブチルから選択される少なくとも1種であることにより、低残渣を実現するためのリフロープロセス時間をより短縮することができる。
<ソルダペースト>
本実施形態に係るソルダペーストは、上述のフラックスと、はんだ合金粉末と、を含有する。前記はんだ合金粉末におけるはんだ合金としては、鉛フリーはんだ合金、鉛を含む共晶はんだ合金が挙げられるが、環境負荷低減の観点から、鉛フリーはんだ合金であることが好ましい。鉛フリーはんだ合金としては、例えば、スズ、銀、銅、インジウム、亜鉛、ビスマス、アンチモン等を含む合金が挙げられる。より具体的には、Sn/Ag、Sn/Ag/Cu、Sn/Cu、Sn/Ag/Bi、Sn/Bi、Sn/Ag/Cu/Bi、Sn/Sb、Sn/Zn/Bi、Sn/Zn、Sn/Zn/Al、Sn/Ag/Bi/In、Sn/Ag/Cu/Sb、Sn/Ag/Sb、Sn/Ag/Cu/Bi、Sn/Ag/Cu/Bi/In/Sb、In/Ag、Sn/In等の合金が挙げられる。また、前記合金には、不可避的不純物が含まれる。不可避的不純物とは、製造過程において不可避的に混入する成分であって、本発明の効果に影響を与えない範囲で許容されるものを意味する。
本実施形態に係るソルダペーストは、上述のフラックスと、はんだ合金粉末と、を含有する。前記はんだ合金粉末におけるはんだ合金としては、鉛フリーはんだ合金、鉛を含む共晶はんだ合金が挙げられるが、環境負荷低減の観点から、鉛フリーはんだ合金であることが好ましい。鉛フリーはんだ合金としては、例えば、スズ、銀、銅、インジウム、亜鉛、ビスマス、アンチモン等を含む合金が挙げられる。より具体的には、Sn/Ag、Sn/Ag/Cu、Sn/Cu、Sn/Ag/Bi、Sn/Bi、Sn/Ag/Cu/Bi、Sn/Sb、Sn/Zn/Bi、Sn/Zn、Sn/Zn/Al、Sn/Ag/Bi/In、Sn/Ag/Cu/Sb、Sn/Ag/Sb、Sn/Ag/Cu/Bi、Sn/Ag/Cu/Bi/In/Sb、In/Ag、Sn/In等の合金が挙げられる。また、前記合金には、不可避的不純物が含まれる。不可避的不純物とは、製造過程において不可避的に混入する成分であって、本発明の効果に影響を与えない範囲で許容されるものを意味する。
前記フラックスの含有量は、前記ソルダペースト全体に対して、5質量%以上20質量%以下であることが好ましい。また、前記はんだ合金粉末の含有量は、前記ソルダペースト全体に対して、80質量%以上95質量%以下であることが好ましい。
本実施形態に係るソルダペーストは、前記フラックスと、はんだ合金粉末とを含むことにより、低残渣を実現するためのリフロープロセス時間を短縮することができる。
<接合構造体の製造方法>
本実施形態に係る接合構造体の製造方法では、前記ソルダペーストを用いて、基板と接合部品とを接合する。具体的には、リフロー炉内で、前記ソルダペーストを介して基板と接合部品とを接触させた状態で加熱し、前記ソルダペーストを構成するはんだ合金を溶融させる。その後、冷却することにより、基板と接合部品とを接合する。
本実施形態に係る接合構造体の製造方法では、前記ソルダペーストを用いて、基板と接合部品とを接合する。具体的には、リフロー炉内で、前記ソルダペーストを介して基板と接合部品とを接触させた状態で加熱し、前記ソルダペーストを構成するはんだ合金を溶融させる。その後、冷却することにより、基板と接合部品とを接合する。
まず、前記基板の表面に前記ソルダペーストを配置する。前記ソルダペーストは、はんだ印刷装置による印刷、転写印刷、ディスペンサーによる塗布、マウンターによる搭載等の公知の方法を用いて配置することができる。はんだ印刷装置を用いて前記ソルダペーストを印刷する場合には、塗布するソルダペーストの厚みを30μm以上600μm以下とすることができる。また、前記基板としては、特に限定されず、例えば、プリント基板、DBC基板、ベースプレート板、リードフレーム、シリコンウエハ等の公知の基板を用いることができる。
次に、前記ソルダペーストを介して前記基板と接触するように、前記接合部品を配置する。前記接合部品としては、特に限定されず、例えば、チップ部品(ICチップ等)、抵抗器、ダイオード、コンデンサ、トランジスタ、半導体チップ(Siチップ等)、ヒートシンク等の公知の接合部品を用いることができる。
続いて、前記ソルダペーストを介して基板と接合部品とを接触させた状態で加熱する。加熱温度は特に限定されず、ソルダペーストに応じて適宜選択することができ、ソルダペーストの融点以上を範囲とする。加熱する工程は、金属の酸化を抑制する目的で、窒素ガス等を用いて不活性ガス雰囲気下で行ってもよい。また、ガスの放出を促進させる目的で、真空ポンプを用いて雰囲気を減圧若しくは真空にして行ってもよい。また、加熱する工程の前に、予熱する工程を行ってもよい。予熱温度は特に限定されず、ソルダペーストに応じて適宜選択することができ、ソルダペーストの融点未満を範囲とする。予熱する工程は、不活性ガス雰囲気下で減圧若しくは真空にして行ってもよく、また、水素ガス若しくはギ酸ガスを用いて還元雰囲気下で行ってもよい。
最後に、前記ソルダペーストを介して接触した基板と接合部品とを冷却する。冷却する工程では、例えば、降温速度120℃/分以上5℃/分以下で、20℃以上200℃以下まで冷却する。
本実施形態に係る接合構造体の製造方法は、前記ソルダペーストを用いて、基板と接合部品を接合することにより、低残渣を実現するためのリフロープロセス時間を短縮することができる。
本発明は、以下の態様を含む。
[1]はんだ付けに用いられるフラックスであって、
ヒドロキシ基を1つ有すると共に20℃で固体の脂肪族アルコール、及び、20℃で固体の脂肪酸エステルから選択される少なくとも1種と、
ヒドロキシ基を1つ以上3つ以下有すると共に、20℃で液体の液体溶剤と、
ヒドロキシ基を2つ以上4つ以下有すると共に、20℃で固体の固体溶剤と、を含有し、
チキソ剤を含まないか、又は、フラックス全体に対して20.0質量%以下のチキソ剤を含む、フラックス。
[2]前記フラックスが、前記脂肪族アルコールを含み、
前記脂肪族アルコールの含有量が、フラックス全体に対して、0.5質量%以上45.0質量%以下である、[1]に記載のフラックス。
[3]前記フラックスが、前記脂肪酸エステルを含み、
前記脂肪酸エステルの含有量が、フラックス全体に対して、0.5質量%以上45.0質量%以下である、[1]又は[2]に記載のフラックス。
[4]前記脂肪族アルコールが、1-ドデカノール、1-テトラデカノール、1-ヘキサデカノール、1-オクタデカノール、1-エイコサノール、及び、1-ドコサノールから選択される少なくとも1種である、[1]~[3]のいずれか一つに記載のフラックス。
[5]前記脂肪酸エステルが、ステアリン酸メチル、ステアリン酸エチル、及び、ステアリン酸ブチルから選択される少なくとも1種である、[1]~[4]のいずれか一つに記載のフラックス。
[6][1]~[5]のいずれか一つに記載のフラックスと、はんだ合金粉末と、を含む、ソルダペースト。
[7][1]~[6]のいずれか一つに記載のソルダペーストを用いて、基板と接合部品とを接合する、接合構造体の製造方法。
[1]はんだ付けに用いられるフラックスであって、
ヒドロキシ基を1つ有すると共に20℃で固体の脂肪族アルコール、及び、20℃で固体の脂肪酸エステルから選択される少なくとも1種と、
ヒドロキシ基を1つ以上3つ以下有すると共に、20℃で液体の液体溶剤と、
ヒドロキシ基を2つ以上4つ以下有すると共に、20℃で固体の固体溶剤と、を含有し、
チキソ剤を含まないか、又は、フラックス全体に対して20.0質量%以下のチキソ剤を含む、フラックス。
[2]前記フラックスが、前記脂肪族アルコールを含み、
前記脂肪族アルコールの含有量が、フラックス全体に対して、0.5質量%以上45.0質量%以下である、[1]に記載のフラックス。
[3]前記フラックスが、前記脂肪酸エステルを含み、
前記脂肪酸エステルの含有量が、フラックス全体に対して、0.5質量%以上45.0質量%以下である、[1]又は[2]に記載のフラックス。
[4]前記脂肪族アルコールが、1-ドデカノール、1-テトラデカノール、1-ヘキサデカノール、1-オクタデカノール、1-エイコサノール、及び、1-ドコサノールから選択される少なくとも1種である、[1]~[3]のいずれか一つに記載のフラックス。
[5]前記脂肪酸エステルが、ステアリン酸メチル、ステアリン酸エチル、及び、ステアリン酸ブチルから選択される少なくとも1種である、[1]~[4]のいずれか一つに記載のフラックス。
[6][1]~[5]のいずれか一つに記載のフラックスと、はんだ合金粉末と、を含む、ソルダペースト。
[7][1]~[6]のいずれか一つに記載のソルダペーストを用いて、基板と接合部品とを接合する、接合構造体の製造方法。
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
<フラックスの材料>
(脂肪族アルコール)
1-テトラデカノール:東京化成工業株式会社製
1-ヘキサデカノール:東京化成工業株式会社製
1-オクタデカノール:東京化成工業株式会社製
1-エイコサノール:東京化成工業株式会社製
1-ドコサノール:東京化成工業株式会社製
(脂肪酸エステル)
ステアリン酸メチル:東京化成工業株式会社製
ステアリン酸エチル:東京化成工業株式会社製
ステアリン酸ブチル:東京化成工業株式会社製
(液体溶剤)
3-メチル1,5-ペンタンジオール:株式会社クラレ製
1,4-ブタンジオール:東京化成工業株式会社製
2,5-ヘキサンジオール:東京化成工業株式会社製
1,5-ペンタンジオール:東京化成工業株式会社製
2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール:東京化成工業株式会社製
1,2,6-ヘキサントリオール:東京化成工業株式会社製
1,2,4-ブタントリオール:東京化成工業株式会社製
ヘキシルデカノール:高級アルコール工業株式会社製
イソステアリルアルコール:高級アルコール工業株式会社製
2-オクチルドデカノール:高級アルコール工業株式会社製
2-デシルテトラドデカノール:高級アルコール工業株式会社製
オレイルアルコール:高級アルコール工業株式会社製
(固体溶剤)
2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオール:三菱ガス化学株式会社製
2,5-ジメチル-2,5-ヘキサンジオール:東京化成工業株式会社製
2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオール:東京化成工業株式会社製
2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール:東京化成工業株式会社製
1,2-オクタンジオール:東京化成工業株式会社製
1,8-オクタンジオール:東京化成工業株式会社製
1,10-デカンジオール:東京化成工業株式会社製
1,2-ドデカンジオール:東京化成工業株式会社製
1,6-ヘキサンジオール:東京化成工業株式会社製
1,9-ノナンジオール:東京化成工業株式会社製
トリメチロールエタン:三菱ガス化学株式会社製
トリメチロールプロパン:三菱ガス化学株式会社製
エリスリトール:東京化成工業株式会社製
(チキソ剤)
ステアリン酸アミド:花王株式会社製
ラウリン酸アミド:三菱ケミカル株式会社製
パルミチン酸アミド:三菱ケミカル株式会社製
オレイン酸アミド:花王株式会社製
エルカ酸アミド:日本精化株式会社製
ベヘン酸アミド:日本精化株式会社製
(脂肪族アルコール)
1-テトラデカノール:東京化成工業株式会社製
1-ヘキサデカノール:東京化成工業株式会社製
1-オクタデカノール:東京化成工業株式会社製
1-エイコサノール:東京化成工業株式会社製
1-ドコサノール:東京化成工業株式会社製
(脂肪酸エステル)
ステアリン酸メチル:東京化成工業株式会社製
ステアリン酸エチル:東京化成工業株式会社製
ステアリン酸ブチル:東京化成工業株式会社製
(液体溶剤)
3-メチル1,5-ペンタンジオール:株式会社クラレ製
1,4-ブタンジオール:東京化成工業株式会社製
2,5-ヘキサンジオール:東京化成工業株式会社製
1,5-ペンタンジオール:東京化成工業株式会社製
2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール:東京化成工業株式会社製
1,2,6-ヘキサントリオール:東京化成工業株式会社製
1,2,4-ブタントリオール:東京化成工業株式会社製
ヘキシルデカノール:高級アルコール工業株式会社製
イソステアリルアルコール:高級アルコール工業株式会社製
2-オクチルドデカノール:高級アルコール工業株式会社製
2-デシルテトラドデカノール:高級アルコール工業株式会社製
オレイルアルコール:高級アルコール工業株式会社製
(固体溶剤)
2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオール:三菱ガス化学株式会社製
2,5-ジメチル-2,5-ヘキサンジオール:東京化成工業株式会社製
2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオール:東京化成工業株式会社製
2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール:東京化成工業株式会社製
1,2-オクタンジオール:東京化成工業株式会社製
1,8-オクタンジオール:東京化成工業株式会社製
1,10-デカンジオール:東京化成工業株式会社製
1,2-ドデカンジオール:東京化成工業株式会社製
1,6-ヘキサンジオール:東京化成工業株式会社製
1,9-ノナンジオール:東京化成工業株式会社製
トリメチロールエタン:三菱ガス化学株式会社製
トリメチロールプロパン:三菱ガス化学株式会社製
エリスリトール:東京化成工業株式会社製
(チキソ剤)
ステアリン酸アミド:花王株式会社製
ラウリン酸アミド:三菱ケミカル株式会社製
パルミチン酸アミド:三菱ケミカル株式会社製
オレイン酸アミド:花王株式会社製
エルカ酸アミド:日本精化株式会社製
ベヘン酸アミド:日本精化株式会社製
<フラックスの作製>
上記フラックスの材料を表1~表10に示す配合で加熱容器に投入し、120℃まで加熱することにより、全材料を溶解させた。その後、室温まで冷却することにより、均一に分散された各実施例及び各比較例のフラックスを得た。なお、表1~表10に示す各配合量は、フラックスに含まれる各成分の含有量と等しい。
上記フラックスの材料を表1~表10に示す配合で加熱容器に投入し、120℃まで加熱することにより、全材料を溶解させた。その後、室温まで冷却することにより、均一に分散された各実施例及び各比較例のフラックスを得た。なお、表1~表10に示す各配合量は、フラックスに含まれる各成分の含有量と等しい。
<ソルダペーストの作製>
各実施例及び各比較例のフラックスを9質量%、はんだ合金粉末(96.5Sn/3Ag/0.5Cu、Type3、株式会社弘輝製)を91質量%となるように混合して、各実施例及び各比較例のソルダペーストを得た。
各実施例及び各比較例のフラックスを9質量%、はんだ合金粉末(96.5Sn/3Ag/0.5Cu、Type3、株式会社弘輝製)を91質量%となるように混合して、各実施例及び各比較例のソルダペーストを得た。
<フラックス揮発性の評価>
まず、蒸発皿の重量を測定しW1とした。次に、各実施例及び各比較例のフラックス0.3~0.303gを、上記蒸発皿に測りとり、測りとった値をW2とした。続いて、350℃に加熱したホットプレートにフラックスを測りとった蒸発皿を載せ、目視でフラックスがすべて揮発するまでの時間を計測した後、蒸発皿をホットプレートから取り出し、室温まで冷却した。加熱時間の最大は240秒とし、フラックスがすべて揮発していなくてもホットプレートから蒸発皿を取り出し、室温まで冷却した。室温まで冷却した蒸発皿の重量を測りとり、W3とした。下記式(1)から、各実施例及び各比較例のフラックス揮発量[%]を計算した。結果を表1~表10に示す。
まず、蒸発皿の重量を測定しW1とした。次に、各実施例及び各比較例のフラックス0.3~0.303gを、上記蒸発皿に測りとり、測りとった値をW2とした。続いて、350℃に加熱したホットプレートにフラックスを測りとった蒸発皿を載せ、目視でフラックスがすべて揮発するまでの時間を計測した後、蒸発皿をホットプレートから取り出し、室温まで冷却した。加熱時間の最大は240秒とし、フラックスがすべて揮発していなくてもホットプレートから蒸発皿を取り出し、室温まで冷却した。室温まで冷却した蒸発皿の重量を測りとり、W3とした。下記式(1)から、各実施例及び各比較例のフラックス揮発量[%]を計算した。結果を表1~表10に示す。
フラックス揮発量[%]=(W2-(W3-W1))/W2×100 (1)
式中、W1は蒸発皿の重量、W2はフラックスを測りとった蒸発皿の重量、W3はフラックスを測りとった蒸発皿を加熱後、室温まで冷却した時の蒸発皿の重量を意味する。
式中、W1は蒸発皿の重量、W2はフラックスを測りとった蒸発皿の重量、W3はフラックスを測りとった蒸発皿を加熱後、室温まで冷却した時の蒸発皿の重量を意味する。
フラックス揮発性の評価は、下記の基準に基づいて行った。結果を表1~表10に示す。
◎:フラックス揮発量[%]が97%以上、かつ、フラックスが揮発するまでの時間が180秒以内
〇:フラックス揮発量[%]が97%以上、かつ、フラックスが揮発するまでの時間が240秒以内
×:フラックス揮発量[%]が97%以下
◎:フラックス揮発量[%]が97%以上、かつ、フラックスが揮発するまでの時間が180秒以内
〇:フラックス揮発量[%]が97%以上、かつ、フラックスが揮発するまでの時間が240秒以内
×:フラックス揮発量[%]が97%以下
<ソルダペーストの評価>
各実施例及び各比較例のソルダペーストを、20~30℃の環境下で1時間放置した後、ソルダペーストの状態を確認した。ソルダペーストの評価は、下記の基準に基づいて行った。結果を表1~表10に示す。なお、フラックス分離とは、はんだ合金粉末とフラックスの比重差から、ソルダペースト中のはんだ合金粉末が沈降し、上部にフラックスがたまる状態を意味する。
A:変化なし(フラックスとはんだ合金粉末が分散している状態)
B:フラックス分離があり、ヘラで撹拌することでAの状態に戻る
C:ソルダペーストが固いが、ヘラで撹拌することでAの状態に戻る
各実施例及び各比較例のソルダペーストを、20~30℃の環境下で1時間放置した後、ソルダペーストの状態を確認した。ソルダペーストの評価は、下記の基準に基づいて行った。結果を表1~表10に示す。なお、フラックス分離とは、はんだ合金粉末とフラックスの比重差から、ソルダペースト中のはんだ合金粉末が沈降し、上部にフラックスがたまる状態を意味する。
A:変化なし(フラックスとはんだ合金粉末が分散している状態)
B:フラックス分離があり、ヘラで撹拌することでAの状態に戻る
C:ソルダペーストが固いが、ヘラで撹拌することでAの状態に戻る
表1~表10の結果から分かるように、本発明の要件をすべて満たす各実施例のフラックスは、フラックスの揮発量が97%以上、かつ、フラックスが揮発するまでの時間が240秒以内であることから、低残渣を実現するためのリフロープロセス時間を短縮することができる。
Claims (7)
- はんだ付けに用いられるフラックスであって、
ヒドロキシ基を1つ有すると共に20℃で固体の脂肪族アルコール、及び、20℃で固体の脂肪酸エステルから選択される少なくとも1種と、
ヒドロキシ基を1つ以上3つ以下有すると共に、20℃で液体の液体溶剤と、
ヒドロキシ基を2つ以上4つ以下有すると共に、20℃で固体の固体溶剤と、を含有し、
チキソ剤を含まないか、又は、フラックス全体に対して20.0質量%以下のチキソ剤を含む、フラックス。 - 前記フラックスが、前記脂肪族アルコールを含み、
前記脂肪族アルコールの含有量が、フラックス全体に対して、0.5質量%以上45.0質量%以下である、請求項1に記載のフラックス。 - 前記フラックスが、前記脂肪酸エステルを含み、
前記脂肪酸エステルの含有量が、フラックス全体に対して、0.5質量%以上45.0質量%以下である、請求項1に記載のフラックス。 - 前記脂肪族アルコールが、1-ドデカノール、1-テトラデカノール、1-ヘキサデカノール、1-オクタデカノール、1-エイコサノール、及び、1-ドコサノールから選択される少なくとも1種である、請求項1に記載のフラックス。
- 前記脂肪酸エステルが、ステアリン酸メチル、ステアリン酸エチル、及び、ステアリン酸ブチルから選択される少なくとも1種である、請求項1に記載のフラックス。
- 請求項1に記載のフラックスと、はんだ合金粉末と、を含む、ソルダペースト。
- 請求項6に記載のソルダペーストを用いて、基板と接合部品とを接合する、接合構造体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022118050A JP2024015760A (ja) | 2022-07-25 | 2022-07-25 | フラックス、ソルダペースト、及び、接合構造体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022118050A JP2024015760A (ja) | 2022-07-25 | 2022-07-25 | フラックス、ソルダペースト、及び、接合構造体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2024015760A true JP2024015760A (ja) | 2024-02-06 |
Family
ID=89772784
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022118050A Pending JP2024015760A (ja) | 2022-07-25 | 2022-07-25 | フラックス、ソルダペースト、及び、接合構造体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2024015760A (ja) |
-
2022
- 2022-07-25 JP JP2022118050A patent/JP2024015760A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5887331B2 (ja) | はんだ組成物 | |
JP5667101B2 (ja) | はんだ組成物およびその製造方法、並びにプリント配線基板 | |
JP5887330B2 (ja) | はんだ組成物およびそれを用いたプリント配線基板 | |
JP6528102B2 (ja) | フラックス及びはんだ材料 | |
JP6310893B2 (ja) | フラックス組成物、はんだ組成物、および電子基板の製造方法 | |
JP6027426B2 (ja) | ソルダペースト及びはんだ付け実装方法 | |
CN106001996B (zh) | 焊料组合物及使用了该焊料组合物的电子基板 | |
JP6824208B2 (ja) | フラックス及びソルダペースト | |
JP6540788B1 (ja) | フラックス及びソルダペースト | |
JP6293514B2 (ja) | はんだ組成物およびプリント配線基板の製造方法 | |
JP2015142936A (ja) | はんだ組成物およびそれを用いたプリント配線基板 | |
JP6684372B2 (ja) | ディスペンス塗布用はんだ組成物 | |
JP2018034190A (ja) | はんだ組成物および電子基板 | |
JP7312798B2 (ja) | はんだ組成物 | |
CN110621439B (zh) | 助焊剂、包芯软钎料和焊膏 | |
JP2024015760A (ja) | フラックス、ソルダペースト、及び、接合構造体の製造方法 | |
US10449638B2 (en) | Solder composition and electronic board | |
JP6917506B1 (ja) | フラックス、ソルダペースト、電子回路実装基板及び電子制御装置 | |
JP2021102231A (ja) | 無残渣フラックス組成物及びソルダペースト | |
JP2022129960A (ja) | フラックス、ソルダペースト、及び、接合構造体の製造方法 | |
JP7169390B2 (ja) | はんだ組成物および電子基板 | |
JP7181964B2 (ja) | はんだ含有導電性組成物および電子基板の製造方法 | |
WO2020262631A1 (ja) | フラックス及びソルダペースト | |
JP2024031830A (ja) | フラックス組成物、はんだ組成物、および電子基板 | |
WO2020066489A1 (ja) | はんだ組成物および電子基板 |