JP2024003999A - Substrate inspection device and substrate inspection method - Google Patents

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Yu Kubota
林太郎 村山
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable an insulation state between a plurality of conductor patterns to be inspected in a short time.
SOLUTION: When inspecting a substrate X that is an object to be inspected, in which a plurality of conductor patterns that should be insulated from each other is formed, the present invention executes a process to move eight probes 2 independently of each other bringing each probe 2 into contact with eight conductor patterns, respectively, and measure a measurement amount between M conductor patterns, except one conductor pattern out of the eight conductor patterns and a conductor pattern that satisfies a predefined exclusion condition for excluding an insulation state to the one conductor pattern from the inspection object, as well as inspect the insulation state between the one conductor pattern and the M conductor patterns on the basis of the measured measurement amount, with said process executed multiple times after changing a combination of the one conductor pattern and the M conductor patterns in accordance with a predefined change procedure, whereby the mutual insulation state between the eight conductor patterns is inspected.
SELECTED DRAWING: Figure 1
COPYRIGHT: (C)2024,JPO&INPIT

Description

本発明は、検査対象基板に形成された各導体パターンに接触させたプローブを介して各導体パターン間の絶縁状態を検査する基板検査装置および基板検査方法に関するものである。 The present invention relates to a board testing device and a board testing method that test the insulation state between conductive patterns through a probe that is brought into contact with each conductive pattern formed on a board to be tested.

この種の基板検査装置および基板検査方法として、出願人は、一対の検査用プローブを介して検査対象の回路基板(以下、「検査対象基板」ともいう)における2個の導体パターン間の抵抗値を測定し、測定した抵抗値に基づいて両導体パターン間の絶縁状態を検査可能な回路基板検査装置、およびその回路基板検査方法(以下、単に「基板検査装置」および「基板検査方法」ともいう)を下記の特許文献に開示している。 As this type of board testing device and board testing method, the applicant has developed a system that detects the resistance value between two conductor patterns on a circuit board to be tested (hereinafter also referred to as "board to be tested") via a pair of testing probes. A circuit board inspection device capable of measuring the resistance value and inspecting the insulation state between both conductor patterns based on the measured resistance value, and a circuit board inspection method thereof (hereinafter also simply referred to as "board inspection device" and "board inspection method") ) is disclosed in the following patent documents.

この基板検査装置による検査対象基板の検査に際しては、最初に、電極部の上に載置した検査対象基板において絶縁状態を検査すべき2個の導体パターン(検査位置)に対して2本の検査用プローブをそれぞれ接触させる。次いで、一方の検査用プローブを接触させた導体パターンと電極との間の静電容量、および他方の検査用プローブを接触させた導体パターンと電極との間の静電容量を測定し、測定した静電容量と接触状態判別用データとを比較することによって検査用プローブと導体パターンとの接触状態をそれぞれ判別する。 When inspecting a board to be inspected using this board inspection device, first, two inspection lines are applied to two conductor patterns (inspection positions) whose insulation state is to be inspected on the board to be inspected placed on the electrode section. contact each probe. Next, the capacitance between the conductor pattern and the electrode that was in contact with one test probe, and the capacitance between the conductor pattern and the electrode that was in contact with the other test probe were measured. The contact state between the test probe and the conductor pattern is determined by comparing the capacitance with the contact state determination data.

この際に、接触状態が良好であると判別したときには、両検査用プローブを介して両導体パターン間の抵抗値を測定し、測定した抵抗値と検査用基準データの値とを比較することによって両導体パターン間の絶縁状態を検査する。このような検査処理を、両検査用プローブを接触させる導体パターンの組合せを変更して順次実行することにより、検査対象基板に形成されている各導体パターンの相互間の絶縁状態が検査される。 At this time, if it is determined that the contact condition is good, the resistance value between both conductor patterns is measured via both test probes, and the measured resistance value is compared with the value of the test reference data. Inspect the insulation condition between both conductor patterns. By sequentially performing such an inspection process by changing the combination of conductor patterns that bring both inspection probes into contact, the mutual insulation state of the conductor patterns formed on the substrate to be inspected is inspected.

特開2001-242211号公報(第3-5頁、第1,2図)Japanese Patent Application Publication No. 2001-242211 (pages 3-5, figures 1 and 2)

ところが、出願人が開示している基板検査装置、およびその基板検査方法には、以下のような改善すべき課題が存在する。具体的には、出願人が開示している基板検査装置および基板検査方法では、別個独立して移動可能に配設された一対の検査用プローブを使用し、両検査用プローブを接触させる導体パターン(検査位置)の組合せを変更して抵抗値を順次測定して検査用基準データの値と比較することで各導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する構成・方法が採用されている。 However, the board inspection apparatus and the board inspection method disclosed by the applicant have the following problems to be improved. Specifically, the board inspection device and board inspection method disclosed by the applicant use a pair of inspection probes that are movably arranged separately, and a conductor pattern that brings the two inspection probes into contact with each other. A configuration and method is adopted in which the mutual insulation state of each conductor pattern is tested by changing the combination of (inspection positions) and sequentially measuring the resistance value and comparing it with the value of the test reference data.

このため、この基板検査装置および基板検査方法では、絶縁状態を検査すべき2個の導体パターンの組合せの数だけ、検査用プローブの移動および抵抗値の測定を実行する必要がある。一例として、検査対象基板における8個の導体パターンを対象として相互間の絶縁状態を検査するには、検査用プローブの移動および抵抗値の測定を28回実行する必要がある。したがって、出願人が開示している基板検査装置および基板検査方法では、検査対象基板に形成されている導体パターンの数が多数のときに、1枚の検査対象基板の良否を検査するのに要する時間が長時間となっている現状があり、この点を改善するのが好ましい。 Therefore, in this board testing apparatus and board testing method, it is necessary to move the testing probe and measure the resistance value as many times as there are combinations of two conductor patterns whose insulation state is to be tested. As an example, in order to inspect the mutual insulation state of eight conductor patterns on a board to be inspected, it is necessary to move the inspection probe and measure the resistance value 28 times. Therefore, in the board inspection device and the board inspection method disclosed by the applicant, when the number of conductor patterns formed on the board to be tested is large, it is necessary to inspect the quality of one board to be tested. The current situation is that it takes a long time, and it is desirable to improve this point.

本発明は、かかる改善すべき問題に鑑みてなされたものであり、複数の導体パターン間の絶縁状態を短時間で検査し得る基板検査装置および基板検査方法を提供することを主目的とする。 The present invention has been made in view of the problem that should be improved, and a main object of the present invention is to provide a board inspection device and a board inspection method that can inspect the insulation state between a plurality of conductor patterns in a short time.

本発明に係る基板検査装置は、相互に絶縁されているべき複数の導体パターンが形成された検査対象基板における当該各導体パターンに接触させたプローブを介して当該各導体パターン間についての予め規定された被測定量を測定すると共に、測定した当該被測定量に基づいて当該各導体パターン間の絶縁状態を検査可能に構成された基板検査装置であって、Na本(Naは、3以上の予め規定された自然数)の前記プローブと、前記Na本のプローブを別個独立して移動可能に構成されたNa個のプローブ移動機構と、前記被測定量を測定する測定部と、前記プローブ移動機構による前記プローブの移動および前記測定部による前記被測定量の測定を制御すると共に、測定された前記被測定量に基づいて前記各導体パターン間の絶縁状態を検査する処理部を備え、前記処理部は、前記各プローブ移動機構を制御して前記Na本のプローブをNa個の前記導体パターンにそれぞれ接触させ、かつ当該Na個の導体パターンのうちの1個の当該導体パターンと、当該1個の導体パターンに対する絶縁状態の検査対象から除外する予め規定された除外条件を満たす当該導体パターンを除くM個の当該導体パターンとの間の前記被測定量を前記測定部に測定させると共に、測定された当該被測定量に基づいて当該1個の導体パターンと当該M個の導体パターンとの間の絶縁状態を検査する検査処理を当該1個の導体パターンおよび当該M個の導体パターンの組合せを予め規定された変更手順に従って変更して複数回実行することで前記Na個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する。 The board inspection apparatus according to the present invention is capable of determining the distance between each conductor pattern in advance through a probe brought into contact with each conductor pattern on a board to be inspected on which a plurality of conductor patterns which should be mutually insulated are formed. This is a board inspection device configured to be able to measure a measured quantity and inspect the insulation state between each conductor pattern based on the measured quantity, a defined natural number), Na probe moving mechanisms configured to be able to move the Na probes separately and independently, a measuring unit that measures the measured quantity, and the probe moving mechanism. a processing section that controls movement of the probe and measurement of the quantity to be measured by the measurement section, and inspects an insulation state between the conductor patterns based on the measured quantity; , controlling each of the probe moving mechanisms to bring the Na probes into contact with each of the Na conductor patterns, and contacting one of the Na conductor patterns with one of the conductor patterns; The measurement unit measures the measured quantity between M conductor patterns excluding the conductor pattern that satisfies predefined exclusion conditions to exclude the insulation state of the pattern from being inspected, and An inspection process for inspecting the insulation state between the one conductor pattern and the M conductor patterns based on the quantity to be measured is performed based on a predefined combination of the one conductor pattern and the M conductor patterns. The insulation state between the Na conductor patterns is inspected by changing the change procedure and executing the change a plurality of times.

また、本発明に係る基板検査方法は、相互に絶縁されているべき複数の導体パターンが形成された検査対象基板における当該各導体パターンに接触させたプローブを介して当該各導体パターン間についての予め規定された被測定量を測定すると共に、測定した当該被測定量に基づいて当該各導体パターン間の絶縁状態を検査する基板検査方法であって、Na本(Naは、3以上の予め規定された自然数)の前記プローブを別個独立して移動させて当該Na本のプローブをNa個の前記導体パターンにそれぞれ接触させ、かつ当該Na個の導体パターンのうちの1個の当該導体パターンと、当該1個の導体パターンに対する絶縁状態の検査対象から除外する予め規定された除外条件を満たす当該導体パターンを除くM個の当該導体パターンとの間の前記被測定量を測定すると共に、測定した当該被測定量に基づいて当該1個の導体パターンと当該M個の導体パターンとの間の絶縁状態を検査する検査処理を当該1個の導体パターンおよび当該M個の導体パターンの組合せを予め規定された変更手順に従って変更して複数回実行することで前記Na個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する。 Further, the board inspection method according to the present invention includes a test target board on which a plurality of conductor patterns which should be mutually insulated are formed, and a probe is brought into contact with each of the conductor patterns to conduct a test in advance between the conductor patterns. A board inspection method that measures a specified quantity to be measured and also inspects the insulation state between each conductor pattern based on the measured quantity, wherein (a natural number) of the probes are moved separately and independently to bring the Na probes into contact with the Na conductor patterns, respectively, and contact one of the Na conductor patterns with the conductor pattern. The measured quantity is measured between the M conductor patterns excluding the conductor pattern that satisfies predefined exclusion conditions for excluding one conductor pattern from being inspected for the insulation state, and the measured quantity is measured. An inspection process for inspecting the insulation state between the one conductor pattern and the M conductor patterns based on the measured quantity is performed using a predefined combination of the one conductor pattern and the M conductor patterns. The mutual insulation state of the Na conductor patterns is inspected by changing the changing procedure and executing it multiple times.

したがって、本発明に係る基板検査装置および基板検査方法によれば、複数の導体パターンが形成されている検査対象基板の検査に際して、2個の導体パターン間の絶縁状態を個別に検査する構成・方法と比較して、1つの導体パターンと、M個の導体パターンとの間の絶縁状態を一括して検査することで、1枚の検査対象基板の検査に要する検査処理の回数を充分に少数化することができる。これにより、この基板検査装置および基板検査方法によれば、複数の導体パターン間の絶縁状態を短時間で検査することができる。 Therefore, according to the board inspection apparatus and the board inspection method according to the present invention, when inspecting a board to be inspected on which a plurality of conductor patterns are formed, the structure and method are for individually inspecting the insulation state between two conductor patterns. By inspecting the insulation condition between one conductor pattern and M conductor patterns all at once, the number of inspection processes required to inspect one board to be inspected can be sufficiently reduced. can do. Thus, according to this board inspection apparatus and board inspection method, the insulation state between a plurality of conductor patterns can be inspected in a short time.

また、本発明に係る基板検査装置は、Nb本(Nbは、4以上の自然数)の前記プローブおよびNb個の前記プローブ移動機構を備え、前記処理部は、前記変更手順として、前記1個の導体パターンおよび前記M個の導体パターンの組合せが複数存在するときに当該M個の導体パターンの数が最も少数となる組合せを除く組合せを優先して前記検査処理を実行するとの手順に従ってNb個の前記導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する。 Further, the substrate inspection apparatus according to the present invention includes Nb probes (Nb is a natural number of 4 or more) and Nb probe moving mechanisms, and the processing section performs the change procedure by detecting the one probe. Nb conductor patterns according to a procedure that when a plurality of combinations of conductor patterns and the M conductor patterns exist, the inspection process is performed with priority given to combinations excluding the combination in which the number of the M conductor patterns is the smallest. An insulation state between the conductor patterns is inspected.

また、本発明に係る基板検査方法は、Nb本(Nbは、4以上の自然数)の前記プローブをNb個の前記導体パターンにそれぞれ接触させると共に、前記変更手順として、前記1個の導体パターンおよび前記M個の導体パターンの組合せが複数存在するときに当該M個の導体パターンの数が最も少数となる組合せを除く組合せを優先して前記検査処理を実行するとの手順に従ってNb個の前記導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する。 Further, in the board inspection method according to the present invention, Nb (Nb is a natural number of 4 or more) of the probes are brought into contact with each of the Nb conductor patterns, and as the changing step, the one conductor pattern and Nb conductor patterns according to a procedure for performing the inspection process with priority given to combinations excluding the combination in which the number of M conductor patterns is the smallest when a plurality of combinations of the M conductor patterns exist; Inspect the insulation condition between the two.

したがって、本発明に係る基板検査装置および基板検査方法によれば、M個の導体パターンの数が多数の組合せを優先することで、複数回の検査処理の早い段階において多数の導体パターン間の絶縁状態を確定することができるため、1枚の検査対象基板の検査に要する検査処理の回数を一層少数化することができる。これにより、この基板検査装置および基板検査方法によれば、複数の導体パターン間の絶縁状態を一層短時間で検査することができる。 Therefore, according to the board inspection apparatus and the board inspection method according to the present invention, by giving priority to combinations with a large number of M conductor patterns, insulation between a large number of conductor patterns can be achieved at an early stage of multiple inspection processes. Since the state can be determined, the number of inspection processes required to inspect one substrate to be inspected can be further reduced. Thereby, according to this board inspection apparatus and board inspection method, the insulation state between a plurality of conductor patterns can be inspected in a shorter time.

また、本発明に係る基板検査装置は、前記処理部は、前記変更手順として、前記1個の導体パターンおよび前記M個の導体パターンの組合せが複数存在するときに当該M個の導体パターンの数が最も多数となる組合せを優先して前記検査処理を実行するとの手順に従って前記Nb個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する。 Further, in the board inspection apparatus according to the present invention, the processing unit, as the changing procedure, performs the change in the number of the M conductor patterns when a plurality of combinations of the one conductor pattern and the M conductor patterns exist. The mutual insulation state of the Nb conductor patterns is tested according to the procedure of executing the test process with priority given to the combination with the largest number of Nb conductor patterns.

また、本発明に係る基板検査方法は、前記変更手順として、前記1個の導体パターンおよび前記M個の導体パターンの組合せが複数存在するときに当該M個の導体パターンの数が最も多数となる組合せを優先して前記検査処理を実行するとの手順に従って前記Nb個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する。 Further, in the board inspection method according to the present invention, as the changing step, when a plurality of combinations of the one conductor pattern and the M conductor patterns exist, the number of the M conductor patterns is the largest. The mutual insulation state of the Nb conductive patterns is tested according to the procedure of performing the testing process with priority given to the combination.

したがって、本発明に係る基板検査装置および基板検査方法によれば、M個の導体パターンの数が最も多数の組合せを優先することで、複数回の検査処理の早い段階において多数の導体パターン間の絶縁状態を好適に確定することができるため、1枚の検査対象基板の検査に要する検査処理の回数を一層少数化することができる。これにより、この基板検査装置および基板検査方法によれば、複数の導体パターン間の絶縁状態を一層短時間で検査することができる。 Therefore, according to the board inspection apparatus and the board inspection method according to the present invention, by giving priority to the combination with the largest number of M conductor patterns, it is possible to Since the insulation state can be suitably determined, the number of inspection processes required to inspect one substrate to be inspected can be further reduced. Thereby, according to this board inspection apparatus and board inspection method, the insulation state between a plurality of conductor patterns can be inspected in a shorter time.

また、本発明に係る基板検査装置は、前記処理部は、前記1個の導体パターンに対する最短離間部位の離間距離が予め規定された距離を超える前記導体パターンを前記除外条件を満たす導体パターンとする。 Further, in the board inspection apparatus according to the present invention, the processing unit determines that the conductor pattern whose distance between the shortest separated parts with respect to the one conductor pattern exceeds a predefined distance is a conductor pattern that satisfies the exclusion condition. .

また、本発明に係る基板検査方法は、前記1個の導体パターンに対する最短離間部位の離間距離が予め規定された距離を超える前記導体パターンを前記除外条件を満たす導体パターンとする。 Further, in the board inspection method according to the present invention, the conductor pattern whose distance between the shortest separated portions with respect to the one conductor pattern exceeds a predetermined distance is a conductor pattern that satisfies the exclusion condition.

したがって、本発明に係る基板検査装置および基板検査方法によれば、短絡が生じる可能性が充分に低い組合せについての検査処理を行わない分だけ、1枚の検査対象基板の検査に要する検査処理の回数を一層少数化することができる。これにより、この基板検査装置および基板検査方法によれば、複数の導体パターン間の絶縁状態を一層短時間で検査することができる。 Therefore, according to the board inspection apparatus and the board inspection method according to the present invention, the inspection process required to inspect one board to be inspected is reduced by the amount of inspection process required for the inspection of one board to be inspected. The number of times can be further reduced. Thereby, according to this board inspection apparatus and board inspection method, the insulation state between a plurality of conductor patterns can be inspected in a shorter time.

本発明に係る基板検査装置および基板検査方法によれば、検査対象基板に形成されている複数の導体パターンに関し、1つの導体パターンと、M個の導体パターンとの間の絶縁状態を一括して検査することで、1枚の検査対象基板の検査に要する検査処理の回数を充分に少数化することができる。これにより、複数の導体パターン間の絶縁状態を短時間で検査することができる。 According to the board inspection device and the board inspection method according to the present invention, regarding the plurality of conductor patterns formed on the board to be inspected, the insulation state between one conductor pattern and M conductor patterns can be checked at once. By performing the inspection, the number of inspection processes required to inspect one substrate to be inspected can be sufficiently reduced. Thereby, the insulation state between the plurality of conductor patterns can be inspected in a short time.

基板検査装置1の構成を示す構成図である。1 is a configuration diagram showing the configuration of a board inspection apparatus 1. FIG. 導体パターンX1~X8の相互間の絶縁状態を検査する検査手順について説明するための説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining an inspection procedure for inspecting the mutual insulation state of conductor patterns X1 to X8. 導体パターンX1~X8の相互間の絶縁状態を検査する検査手順について説明するための他の説明図である。FIG. 7 is another explanatory diagram for explaining an inspection procedure for inspecting the mutual insulation state of conductor patterns X1 to X8. 導体パターンX1~X8の相互間の絶縁状態を検査する検査手順について説明するためのさらに他の説明図である。FIG. 7 is yet another explanatory diagram for explaining an inspection procedure for inspecting the mutual insulation state of conductor patterns X1 to X8. 導体パターンX1~X8の相互間の絶縁状態を検査する検査手順について説明するためのさらに他の説明図である。FIG. 7 is yet another explanatory diagram for explaining an inspection procedure for inspecting the mutual insulation state of conductor patterns X1 to X8. 導体パターンX1~X8の相互間の絶縁状態を検査する検査手順について説明するためのさらに他の説明図である。FIG. 7 is yet another explanatory diagram for explaining an inspection procedure for inspecting the mutual insulation state of conductor patterns X1 to X8. 導体パターンX1~X8の相互間の絶縁状態を検査する検査手順について説明するためのさらに他の説明図である。FIG. 7 is yet another explanatory diagram for explaining an inspection procedure for inspecting the mutual insulation state of conductor patterns X1 to X8. 導体パターンX1~X8の相互間の絶縁状態を検査する検査手順について説明するためのさらに他の説明図である。FIG. 7 is yet another explanatory diagram for explaining an inspection procedure for inspecting the mutual insulation state of conductor patterns X1 to X8. 導体パターンX1~X8の相互間の絶縁状態を検査する検査手順について説明するためのさらに他の説明図である。FIG. 7 is yet another explanatory diagram for explaining an inspection procedure for inspecting the mutual insulation state of conductor patterns X1 to X8. 導体パターンX1~X8の相互間の絶縁状態を検査する検査手順について説明するためのさらに他の説明図である。FIG. 7 is yet another explanatory diagram for explaining an inspection procedure for inspecting the mutual insulation state of conductor patterns X1 to X8. 導体パターンX1~X8の相互間の絶縁状態を検査する検査手順について説明するためのさらに他の説明図である。FIG. 7 is yet another explanatory diagram for explaining an inspection procedure for inspecting the mutual insulation state of conductor patterns X1 to X8. 導体パターンX1~X8の相互間の絶縁状態を検査する検査手順について説明するためのさらに他の説明図である。FIG. 7 is yet another explanatory diagram for explaining an inspection procedure for inspecting the mutual insulation state of conductor patterns X1 to X8. 導体パターンX1~X8の相互間の絶縁状態を検査する検査手順について説明するためのさらに他の説明図である。FIG. 7 is yet another explanatory diagram for explaining an inspection procedure for inspecting the mutual insulation state of conductor patterns X1 to X8. 導体パターンX1~X8の相互間の絶縁状態を検査する検査手順について説明するためのさらに他の説明図である。FIG. 7 is yet another explanatory diagram for explaining an inspection procedure for inspecting the mutual insulation state of conductor patterns X1 to X8. 導体パターンX1~X8の相互間の絶縁状態を検査する検査手順について説明するためのさらに他の説明図である。FIG. 7 is yet another explanatory diagram for explaining an inspection procedure for inspecting the mutual insulation state of conductor patterns X1 to X8.

以下、基板検査装置および基板検査方法の一例について、添付図面を参照して説明する。 An example of a board inspection apparatus and a board inspection method will be described below with reference to the accompanying drawings.

図1に示す基板検査装置1は、「基板検査装置」の一例であって、後述の「基板検査方法」に従って検査対象基板Xに形成されている導体パターンの絶縁状態などを検査可能に構成されている。この場合、検査対象基板Xは、「検査対象基板」の一例であって、相互に絶縁されているべき複数の導体パターン(図示せず)が形成されている。この基板検査装置1は、プローブ2,2・・、移動機構3,3・・、測定部4、処理部5および記憶部6を備えている。 A board inspection apparatus 1 shown in FIG. 1 is an example of a "board inspection apparatus" and is configured to be able to inspect the insulation state of a conductor pattern formed on a board X to be inspected according to a "board inspection method" described later. ing. In this case, the substrate to be inspected X is an example of a "substrate to be inspected," and is formed with a plurality of conductor patterns (not shown) that should be mutually insulated. The substrate inspection apparatus 1 includes probes 2, 2, . . . , moving mechanisms 3, 3, .

プローブ2は、「プローブ」の一例であって、移動機構3に取り付けられた状態で測定部4に接続されている。この場合、本例の基板検査装置1では、一例として、8本のプローブ2を備えて構成されている(「Na」および「Nb」が「8」である構成の例)。移動機構3は、「プローブ移動機構」の一例であって、処理部5の制御に従い、各プローブ2を別個独立して移動させて検査対象基板Xにおける導体パターンにプローブ2を接触させる。この場合、Na=Nb=8本のプローブ2を備えた本例の基板検査装置1では、各プローブ2を別個独立して移動可能に8個の移動機構3を備えて構成されている。 The probe 2 is an example of a "probe" and is connected to the measurement unit 4 while being attached to the moving mechanism 3. In this case, the substrate inspection apparatus 1 of this example is configured to include eight probes 2, as an example (an example of a configuration in which "Na" and "Nb" are "8"). The moving mechanism 3 is an example of a "probe moving mechanism" and moves each probe 2 separately and independently under the control of the processing section 5 to bring the probes 2 into contact with the conductor pattern on the substrate X to be inspected. In this case, the substrate inspection apparatus 1 of this example, which includes Na=Nb=8 probes 2, is configured to include eight moving mechanisms 3 so that each probe 2 can be moved separately and independently.

測定部4は、「測定部」の一例であって、後述するように、処理部5の制御に従い、検査対象基板Xの導体パターンに接触させられているプローブ2,2・・間の抵抗値を「被測定量」として測定する。この場合、本例の基板検査装置1では、測定部4が処理部5の制御下で自身に対する各プローブ2の接続態様を変更可能な接続切替え部(図示せず)を備えて構成されている。 The measuring unit 4 is an example of a "measuring unit", and as described later, under the control of the processing unit 5, the resistance value between the probes 2, 2, etc. that are in contact with the conductive pattern of the board to be inspected X is measured. is measured as the “quantity to be measured”. In this case, in the board inspection apparatus 1 of this example, the measuring section 4 is configured to include a connection switching section (not shown) that can change the connection mode of each probe 2 to itself under the control of the processing section 5. .

処理部5は、「処理部」の一例であって、基板検査装置1を総括的に制御する。具体的には、処理部5は、検査対象基板データD0に基づいて検査手順データD1を生成する処理、検査対象基板データD0や検査手順データD1に従って移動機構3によるプローブ2の移動や測定部4による抵抗値の測定を制御する処理、および測定された抵抗値と検査対象基板データD0に基づいて特定した比較値との比較によって導体パターン間の絶縁状態を検査して検査結果データD2を生成する処理などを実行可能に構成されている。 The processing section 5 is an example of a "processing section" and controls the substrate inspection apparatus 1 in general. Specifically, the processing unit 5 performs processing to generate inspection procedure data D1 based on the inspection target board data D0, movement of the probe 2 by the moving mechanism 3, and measurement unit 4 according to the inspection target board data D0 and the inspection procedure data D1. Inspect the insulation state between the conductor patterns by comparing the measured resistance value with a comparison value specified based on the inspection target board data D0, and generate inspection result data D2. It is configured to be able to execute processing, etc.

この場合、本例の基板検査装置1では、後述するようにして、処理部5が、各移動機構3を制御してNa=Nb=8本のプローブ2をNa=Nb=8個の導体パターンにそれぞれ接触させ、かつ8個の導体パターンのうちの1個の導体パターンと、その1個の導体パターンに対する絶縁状態の検査対象から除外する予め規定された「除外条件」を満たす導体パターンを除くM個の導体パターンとの間の抵抗値を測定部4に測定させると共に、測定された抵抗値に基づき、上記の1個の導体パターンとM個の導体パターンとの間の絶縁状態を検査する検査処理を、1個の導体パターンおよびM個の導体パターンの組合せを予め規定された変更手順に従って変更して複数回実行することで8個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する構成が採用されている。 In this case, in the board inspection apparatus 1 of this example, the processing unit 5 controls each moving mechanism 3 to move the Na=Nb=8 probes 2 into the Na=Nb=8 conductor patterns as described later. Excludes one conductor pattern among the eight conductor patterns and conductor patterns that satisfy predefined "exclusion conditions" that exclude the conductor pattern from being inspected for the insulation condition of that one conductor pattern. The measuring unit 4 measures the resistance values between the M conductor patterns, and inspects the insulation state between the one conductor pattern and the M conductor patterns based on the measured resistance values. The configuration is such that the insulation state between eight conductor patterns is inspected by performing the inspection process multiple times by changing one conductor pattern and the combination of M conductor patterns according to a predefined change procedure. It has been adopted.

記憶部6は、処理部5の動作プログラムや、検査対象基板Xにおける要検査箇所、および測定されるべき抵抗値などを特定可能な検査対象基板データD0、検査対象基板Xについての検査手順を特定可能な検査手順データD1、並びに処理部5による検査結果を特定可能な上記の検査結果データD2などを記憶する。この場合、検査対象基板データD0は、一例として、検査対象基板Xの製造者(設計者)によって外部処理装置において生成されるデータであって、各導体パターン間の絶縁状態の検査に際してプローブ2を接触させるべき座標、隣接する導体パターン間の最短離間距離(最短離間部位の離間距離)が予め規定された距離を下回る導体パターンを特定可能な情報(近接パターン情報)、および各導体パターン間について測定されるべき抵抗などを特定可能なデータで構成されている。 The storage unit 6 specifies the operation program of the processing unit 5, the inspection target board data D0 that can specify inspection points on the inspection target board X, resistance values to be measured, etc., and the inspection procedure for the inspection target board X. Possible inspection procedure data D1 and the above-mentioned inspection result data D2 that can specify the inspection results by the processing unit 5 are stored. In this case, the test target board data D0 is, for example, data generated in an external processing device by the manufacturer (designer) of the test target board Coordinates to be brought into contact, information that allows identification of conductor patterns whose minimum distance between adjacent conductor patterns (the distance between the shortest distances) is less than a predefined distance (proximity pattern information), and measurements between each conductor pattern. It consists of data that can specify the resistance that should be applied.

この基板検査装置1による検査対象基板Xの検査に際しては、最初に、検査手順データD1を記憶部6に記憶させる。この検査手順データD1については、外部装置において生成して基板検査装置1に入力して記憶部6に記憶させることもできるが、本例では、検査対象基板データD0に基づいて処理部5が生成する例について説明する。なお、検査対象基板データD0については、予め記憶部6に記憶されているものとする。 When inspecting the substrate X to be inspected by the substrate inspection apparatus 1, first, the inspection procedure data D1 is stored in the storage section 6. The inspection procedure data D1 can be generated in an external device, inputted into the board inspection apparatus 1, and stored in the storage unit 6, but in this example, it is generated by the processing unit 5 based on the inspection target board data D0. An example will be explained below. It is assumed that the inspection target board data D0 is stored in the storage unit 6 in advance.

前述のように、別個独立して移動可能に配設された8本のプローブ2を備えている本例の基板検査装置1では、各移動機構3による8本のプローブ2の1回の移動によって検査対象基板Xに形成されている各導体パターンのうちの8個の導体パターン(以下、この8個の導体パターンについて「導体パターンX1~X8」ともいう)にプローブ2をそれぞれ接触させて各導体パターンX1~X8の相互間の絶縁状態を検査することができる。この導体パターンX1~X8間の絶縁状態を検査するための検査手順データD1を生成する際に、処理部5は、最初に、予め規定された「除外条件」を満たすパターンの組合せを検査対象から除外する。 As mentioned above, in the substrate inspection apparatus 1 of this example, which is equipped with eight probes 2 that are arranged to be movable separately and independently, one movement of the eight probes 2 by each moving mechanism 3 The probes 2 are brought into contact with eight conductor patterns (hereinafter, these eight conductor patterns are also referred to as "conductor patterns X1 to X8") among the conductor patterns formed on the board X to be inspected, and each conductor is The insulation state between the patterns X1 to X8 can be inspected. When generating the inspection procedure data D1 for inspecting the insulation state between the conductor patterns X1 to X8, the processing unit 5 first selects a combination of patterns satisfying predefined "exclusion conditions" from the inspection target. exclude.

具体的には、処理部5は、検査対象基板データD0における前述の近接パターン情報に基づき、導体パターンX1~X8のうちの最低離間距離が予め規定された距離を超えるパターンを「除外条件」を満たすパターンの組合せとして特定する。なお、上記の「予め規定された距離」は、検査対象基板Xの板面方向および厚み方向において隣接する導体パターン間に短絡が生じるおそれのない距離として基板検査装置1の使用者(検査を実施する者)や検査対象基板Xの製造者などによって規定される。 Specifically, the processing unit 5 sets "exclusion conditions" for patterns whose minimum separation distance exceeds a predetermined distance among the conductor patterns X1 to X8, based on the above-mentioned proximity pattern information in the inspection target board data D0. Specify as a combination of patterns that satisfy. Note that the above-mentioned "predefined distance" is defined as a distance that does not pose a risk of short circuits between adjacent conductor patterns in the board surface direction and thickness direction of the board X to be inspected. It is defined by the manufacturer of the board X to be inspected, etc.

この場合、本例では、一例として、導体パターンX1-X2、導体パターンX1-X3、導体パターンX1-X4、導体パターンX1-X7、導体パターンX1-X8、導体パターンX2-X3、導体パターンX2-X5、導体パターンX2-X6、導体パターンX3-X5、導体パターンX3-X6、導体パターンX3-X7、導体パターンX4-X5、導体パターンX5-X6および導体パターンX6-X8において最短離間距離が予め規定された距離以下となっており、そのような近接パターン情報が検査対象基板データD0に基づいて特定されるものとする。 In this case, in this example, conductor patterns X1-X2, conductor patterns X1-X3, conductor patterns X1-X4, conductor patterns X1-X7, conductor patterns X1-X8, conductor patterns X2-X3, conductor patterns X2- The shortest separation distance is predefined for X5, conductor patterns X2-X6, conductor patterns X3-X5, conductor patterns X3-X6, conductor patterns X3-X7, conductor patterns X4-X5, conductor patterns X5-X6, and conductor patterns X6-X8. It is assumed that such proximity pattern information is specified based on the inspection target board data D0.

したがって、図2に示すように、処理部5は、検査対象基板データD0に基づき、導体パターンX1~X8のうちの導体パターンX1-X5、導体パターンX1-X6、導体パターンX2-X4、導体パターンX2-X7、導体パターンX2-X8、導体パターンX3-X4、導体パターンX3-X8、導体パターンX4-X6、導体パターンX4-X7、導体パターンX4-X8、導体パターンX5-X7、導体パターンX5-X8、導体パターンX6-X7および導体パターンX7-X8を「除外条件」を満たすパターン(相互間の絶縁状態の検査が不要なパターン)として特定する。なお、図2、および後に参照する図3~15では、「除外条件」を満たす導体パターンの組合せを「0」で表し、検査対象とすべき導体パターンの組合せを「1」で表している。 Therefore, as shown in FIG. 2, the processing unit 5 selects conductor patterns X1-X5, conductor patterns X1-X6, conductor patterns X2-X4, conductor patterns X2-X7, conductor pattern X2-X8, conductor pattern X3-X4, conductor pattern X3-X8, conductor pattern X4-X6, conductor pattern X4-X7, conductor pattern X4-X8, conductor pattern X5-X7, conductor pattern X5- X8, conductor patterns X6-X7, and conductor patterns X7-X8 are identified as patterns that satisfy the "exclusion condition" (patterns that do not require inspection of the mutual insulation state). Note that in FIG. 2 and FIGS. 3 to 15 to be referred to later, combinations of conductor patterns that satisfy the "exclusion condition" are represented by "0", and combinations of conductor patterns to be inspected are represented by "1".

つまり、図2に示す例は、導体パターンX1について導体パターンX2,X3,X4,X7,X8の5個を絶縁状態の検査対象として検査する必要があり、導体パターンX2について導体パターンX1,X3,X5,X6の4個を絶縁状態の検査対象として検査する必要があり、導体パターンX3について導体パターンX1,X2,X5,X6,X7の5個を絶縁状態の検査対象として検査する必要があり、導体パターンX4について導体パターンX1,X5の2個を絶縁状態の検査対象として検査する必要があり、導体パターンX5について導体パターンX2,X3,X4,X6の4個を絶縁状態の検査対象として検査する必要があり、導体パターンX6について導体パターンX2,X3,X5,X8の4個を絶縁状態の検査対象として検査する必要があり、導体パターンX7について導体パターンX1,X3の2個を絶縁状態の検査対象として検査する必要があり、導体パターンX8について導体パターンX1,X6の2個を絶縁状態の検査対象として検査する必要があると処理部5が特定したことを示している。 In other words, in the example shown in FIG. 2, it is necessary to inspect five conductor patterns X2, X3, X4, It is necessary to inspect the four conductor patterns X5 and X6 as the objects for inspection of the insulation state, and it is necessary to inspect the five conductor patterns X1, X2, X5, X6, and X7 for the conductor pattern X3 as the objects for inspection for the insulation state. Regarding conductor pattern X4, it is necessary to inspect two conductor patterns X1 and X5 as objects to be inspected for insulation state, and for conductor pattern X5, four conductor patterns X2, X3, X4, and X6 need to be inspected as objects for inspection for insulation state. For conductor pattern X6, it is necessary to inspect four conductor patterns X2, X3, X5, and X8 for insulation condition, and for conductor pattern X7, two conductor patterns X1 and X3 must be tested for insulation condition. This indicates that the processing unit 5 has specified that the two conductor patterns X1 and X6 of the conductor pattern X8 need to be inspected as the targets for insulation state inspection.

次いで、処理部5は、導体パターンX1~X8の8個を対象とする検査において、8個の導体パターンのうちの1個の導体パターンと他のM個の導体パターンとの間の絶縁状態を検査する検査処理を、1個の導体パターンとM個の導体パターンとの組合せを変更して複数回実行する際に、いずれの組合せを優先して検査処理を実行するかを特定する。 Next, in the inspection of the eight conductor patterns X1 to X8, the processing unit 5 checks the insulation state between one conductor pattern among the eight conductor patterns and the other M conductor patterns. When performing an inspection process a plurality of times by changing the combination of one conductor pattern and M conductor patterns, it is specified which combination should be given priority to execute the inspection process.

この場合、本例の基板検査装置1、およびその基板検査方法では、8個の導体パターンのうちの1個の導体パターンおよびM個の導体パターンの組合せが複数存在するときに、M個の導体パターンの数が最も少数となる組合せを除く組合せを優先して検査処理を実行するとの手順(予め規定された「変更手順」の一例)に従って8個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する構成・方法が採用されている。具体的には、本例の基板検査装置1、およびその基板検査方法では、1個の導体パターンおよびM個の導体パターンの組合せが複数存在するときに、M個の導体パターンの数が最も多数となる組合せを優先して検査処理を実行するとの手順(予め規定された「変更手順」の具体的な一例)に従って8個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する構成・方法が採用されている。 In this case, in the board inspection apparatus 1 of this example and its board inspection method, when there are multiple combinations of one conductor pattern among the eight conductor patterns and M conductor patterns, Inspect the mutual insulation state of the eight conductor patterns according to the procedure (an example of a predefined "change procedure") of performing the inspection process with priority given to combinations excluding the combination with the smallest number of patterns. The structure/method has been adopted. Specifically, in the board inspection apparatus 1 of this example and its board inspection method, when there are multiple combinations of one conductor pattern and M conductor patterns, the number of M conductor patterns is the largest. A configuration/method is adopted in which the mutual insulation state of the eight conductor patterns is inspected according to a procedure (a specific example of a predefined "change procedure") that prioritizes the combinations in which the inspection process is executed. ing.

したがって、図2に示す例において、処理部5は、M個の導体パターンの数が最も多数の5個となる導体パターンX1と導体パターンX2,X3,X4,X7,X8との組合せについての検査処理、および導体パターンX3と導体パターンX1,X2,X5,X6,X7との組合せについての検査処理を優先して実行すると特定する。この際には、一例として、導体パターンX1と導体パターンX2,X3,X4,X7,X8との組合せについての検査処理を最初に実行すると特定する。 Therefore, in the example shown in FIG. 2, the processing unit 5 inspects the combination of the conductor pattern X1 and the conductor patterns X2, X3, X4, X7, and It is specified that processing and inspection processing for the combination of conductor pattern X3 and conductor patterns X1, X2, X5, X6, and X7 are to be performed with priority. In this case, as an example, it is specified that the inspection process for the combination of the conductor pattern X1 and the conductor patterns X2, X3, X4, X7, and X8 is to be executed first.

一方、上記の最初の検査処理を完了したときには、導体パターンX1-X2、導体パターンX1-X3、導体パターンX1-X4、導体パターンX1-X7および導体パターンX1-X8についての絶縁状態が確定し、これらの組合せについての絶縁状態についての検査が不要となる。したがって、図3に示すように、処理部5は、2番目に実行する検査処理の特定に際して、最初の検査処理の完了によって検査が不要となる上記の導体パターンの組合せを「除外条件」と満たすパターンとして新たに特定する。 On the other hand, when the above first inspection process is completed, the insulation states of conductor patterns X1-X2, conductor patterns X1-X3, conductor patterns X1-X4, conductor patterns X1-X7, and conductor patterns X1-X8 are determined, Inspection of the insulation state of these combinations becomes unnecessary. Therefore, as shown in FIG. 3, when specifying the second inspection process to be executed, the processing unit 5 satisfies the above-mentioned combination of conductor patterns, which makes inspection unnecessary upon completion of the first inspection process, as an "exclusion condition". Newly identified as a pattern.

次いで、処理部5は、M個の導体パターンの数が最も多数の4個となる導体パターンX3と導体パターンX2,X5,X6,X7との組合せについての検査処理、導体パターンX5と導体パターンX1,X3,X5,X8との組合せについての検査処理、および導体パターンX6と導体パターンX1,X2,X5,X8との組合せについての検査処理を優先して実行すると特定する。この際には、一例として、導体パターンX3と導体パターンX2,X5,X6,X7との組合せについての検査処理を2番目に実行すると特定する。 Next, the processing unit 5 performs an inspection process on the combination of the conductor pattern X3 and the conductor patterns X2, X5, X6, and X7 in which the number of M conductor patterns is the largest number, 4, and the conductor pattern X5 and the conductor pattern X1. , X3, X5, and X8, and testing processing for the combination of conductor pattern X6 and conductor patterns X1, X2, X5, and X8 are specified to be executed with priority. At this time, as an example, it is specified that the inspection process for the combination of conductor pattern X3 and conductor patterns X2, X5, X6, and X7 is to be executed second.

また、上記の2番目の検査処理を完了したときには、導体パターンX3-X2、導体パターンX3-X5、導体パターンX3-X6および導体パターンX3-X7についての絶縁状態が確定し、これらの組合せについての絶縁状態についての検査が不要となる。したがって、図4に示すように、処理部5は、3番目に実行する検査処理の特定に際して、2番目の検査処理の完了によって検査が不要となる上記の導体パターンの組合せを「除外条件」と満たすパターンとして新たに特定する。 Furthermore, when the above-mentioned second inspection process is completed, the insulation states of conductor patterns X3-X2, conductor patterns X3-X5, conductor patterns X3-X6, and conductor patterns X3-X7 are determined, and the There is no need to inspect the insulation state. Therefore, as shown in FIG. 4, when specifying the third inspection process to be executed, the processing unit 5 sets the above-mentioned combination of conductor patterns for which inspection is unnecessary upon completion of the second inspection process as an "exclusion condition". Newly identified as a pattern that satisfies.

次いで、処理部5は、M個の導体パターンの数が最も多数の3個となる導体パターンX5と導体パターンX2,X4,X6との組合せについての検査処理、および導体パターンX6と導体パターンX2,X5,X8との組合せについての検査処理を優先して実行すると特定する。この際には、一例として、導体パターンX5と導体パターンX2,X4,X6との組合せについての検査処理を3番目に実行すると特定する。 Next, the processing unit 5 performs an inspection process on the combination of the conductor pattern X5 and the conductor patterns X2, X4, and It is specified that the inspection process for the combination of X5 and X8 is to be executed with priority. In this case, as an example, it is specified that the inspection process for the combination of conductor pattern X5 and conductor patterns X2, X4, and X6 is to be executed thirdly.

また、上記の3番目の検査処理を完了したときには、導体パターンX5-X2、導体パターンX5-X4および導体パターンX5-X6についての絶縁状態が確定し、これらの組合せについての絶縁状態についての検査が不要となる。したがって、図5に示すように、処理部5は、4番目に実行する検査処理の特定に際して、3番目の検査処理の完了によって検査が不要となる上記の導体パターンの組合せを「除外条件」と満たすパターンとして新たに特定する。次いで、処理部5は、M個の導体パターンの数が最も多数の2個となる導体パターンX6と導体パターンX2,X8との組合せについての検査処理を4番目に実行すると特定する。 Furthermore, when the third inspection process described above is completed, the insulation conditions of conductor patterns X5-X2, conductor patterns X5-X4, and conductor patterns X5-X6 are determined, and the insulation conditions of these combinations can be inspected. No longer needed. Therefore, as shown in FIG. 5, when specifying the fourth inspection process to be executed, the processing unit 5 sets the above-mentioned combination of conductor patterns for which inspection is unnecessary upon completion of the third inspection process as an "exclusion condition". Newly identified as a pattern that satisfies. Next, the processing unit 5 specifies that the inspection process for the combination of the conductor pattern X6 and the conductor patterns X2 and X8, which has the largest number of M conductor patterns (two), is to be performed fourth.

これにより、図6に示すように、上記の4番目の検査を完了させることで、導体パターンX1~X8の8個の導体パターンに関し、短絡が生じる可能性がある近距離に形成された各パターンの相互間の絶縁状態を確定させることが可能となる。したがって、処理部5は、上記の検査処理の実行順序を特定可能に検査手順データD1を生成し、生成した検査手順データD1を記憶部6に記憶させる。このように、8個の導体パターンについての相互間の絶縁状態を検査するための検査手順データD1を生成する処理を、検査対象基板Xに形成されている導体パターンのうちの絶縁状態を検査すべきすべての導体パターンを対象として繰り返し行うことにより、検査対象基板Xについての検査を開示する準備が整う。 As a result, as shown in FIG. 6, by completing the above-mentioned fourth inspection, each pattern formed at a close distance where a short circuit may occur regarding the eight conductor patterns X1 to X8 is removed. It becomes possible to determine the mutual insulation state between the two. Therefore, the processing unit 5 generates inspection procedure data D1 such that the execution order of the above-mentioned inspection processes can be specified, and stores the generated inspection procedure data D1 in the storage unit 6. In this way, the process of generating the inspection procedure data D1 for inspecting the mutual insulation status of eight conductor patterns can be performed by inspecting the insulation status of the conductor patterns formed on the substrate X to be inspected. By repeating the test on all the conductor patterns to be inspected, preparations are made for the inspection of the substrate X to be inspected.

一方、検査対象基板Xの検査に際しては、処理部5が、上記の検査手順データD1に基づき、各プローブ2を接触させるべき8つの導体パターン(図2~6の例における導体パターンX1~X8など)を特定すると共に、検査対象基板データD0に基づき、8つの導体パターンに対してプローブ2を接触させるべき位置(検査対象基板XにおけるX-Y-Z座標)を特定し、各移動機構3を制御して、特定した位置(導体パターン)に各プローブ2を接触させる。また、処理部5は、測定部4を制御して、プローブ2を接触させている各導体パターン間の抵抗値を測定させる。 On the other hand, when inspecting the substrate X to be inspected, the processing unit 5 selects eight conductor patterns (such as conductor patterns X1 to ), and also specify the positions (X-Y-Z coordinates on the test target board X) where the probe 2 should contact the eight conductor patterns based on the test target board data D0, and Each probe 2 is brought into contact with the specified position (conductor pattern) under control. Furthermore, the processing section 5 controls the measuring section 4 to measure the resistance value between each conductive pattern with which the probe 2 is in contact.

具体的には、図2~6を参照しつつ説明をした前述の導体パターンX1~X8について、処理部5は、検査手順データD1に従い、導体パターンX1と導体パターンX2,X3,X4,X7,X8との間の抵抗値(導体パターンX1-X2間の抵抗値、導体パターンX1-X3間の抵抗値、導体パターンX1X4間の抵抗値、導体パターンX1X7間の抵抗値、および導体パターンX1-X8間の抵抗値の合成抵抗値)を測定部4に測定させる。 Specifically, regarding the conductor patterns X1 to X8 described above with reference to FIGS. 2 to 6, the processing unit 5 processes the conductor patterns X1, X2, X3, X4, X7, X8 (resistance value between conductor patterns X1-X2, resistance value between conductor patterns X1-X3, resistance value between conductor patterns X1X4, resistance value between conductor patterns X1X7, and conductor patterns X1-X8) The measurement unit 4 measures the composite resistance value of the resistance values between the two.

また、処理部5は、検査対象基板データD0に基づき、導体パターンX1-X2間の抵抗値、導体パターンX1-X3間の抵抗値、導体パターンX1X4間の抵抗値、導体パターンX1-X7間の抵抗値、および導体パターンX1-X8間の抵抗値の合成抵抗値をそれぞれ特定して導体パターンX1と導体パターンX2,X3,X4,X7,X8との間の抵抗値(合成抵抗値)として測定されるべき値を演算する。さらに、処理部5は、演算した抵抗値と、測定部4によって測定された抵抗値とに基づき、導体パターンX1と導体パターンX2,X3,X4,X7,X8との間の絶縁状態が良好であるか否かを判別する。 The processing unit 5 also determines the resistance value between the conductor patterns X1 and X2, the resistance value between the conductor patterns X1 and X3, the resistance value between the conductor patterns X1 and X4, and the resistance value between the conductor patterns X1 and X7 based on the inspection target board data D0. Specify the resistance value and the composite resistance value of the resistance value between conductor patterns X1-X8, respectively, and measure it as the resistance value (composite resistance value) between conductor pattern X1 and conductor patterns X2, X3, X4, X7, and X8. Calculate the value to be used. Furthermore, the processing unit 5 determines whether the insulation state between the conductor pattern X1 and the conductor patterns X2, X3, X4, X7, and X8 is good based on the calculated resistance value and the resistance value measured by the measurement unit 4. Determine whether it exists or not.

具体的には、測定された抵抗値が、検査対象基板データD0に基づいて演算した抵抗値に対する予め規定された許容範囲内を外れて小さな値であったときに、処理部5は、導体パターンX1-X2間、導体パターンX1-X3間、導体パターンX1X4間、導体パターンX1-X7間および導体パターンX1-X8間のいずれかの絶縁状態が不良であると判別する。この際に、処理部5は、一例として、測定部4を制御して導体パターンX1-X2間、導体パターンX1-X3間、導体パターンX1X4間、導体パターンX1-X7間および導体パターンX1-X8間の抵抗値をそれぞれ測定させ、測定された抵抗値と、検査対象基板データD0に基づいて特定される対応するパターン間の抵抗値とを比較することで、いずれのパターン間の絶縁状態が不良であるかを特定する。これにより、導体パターンX1~X8を対象とする最初の「検査処理」が完了する。 Specifically, when the measured resistance value is a small value outside the predefined tolerance range for the resistance value calculated based on the inspection target board data D0, the processing unit 5 It is determined that the insulation state is poor between X1 and X2, between conductor patterns X1 and X3, between conductor patterns X1X4, between conductor patterns X1 and X7, and between conductor patterns X1 and X8. At this time, the processing unit 5 controls the measurement unit 4 to measure the distance between the conductor patterns X1 and X2, between the conductor patterns X1 and X3, between the conductor patterns X1 and X4, between the conductor patterns X1 and X7, and between the conductor patterns X1 and X8, for example. By measuring the resistance value between each pattern and comparing the measured resistance value with the resistance value between corresponding patterns specified based on the inspection target board data D0, it is possible to determine whether the insulation state between any of the patterns is poor. Determine whether This completes the first "inspection process" targeting the conductor patterns X1 to X8.

一方、測定部4測定された抵抗値(合成抵抗値)が、検査対象基板データD0に基づいて演算した抵抗値(合成抵抗値)に対する予め規定された許容範囲内の値であったときに、処理部5は、導体パターンX1-X2間、導体パターンX1-X3間、導体パターンX1X4間、導体パターンX1-X7間および導体パターンX1-X8間の絶縁状態が良好であると判別する。これにより、導体パターンX1~X8を対象とする最初の「検査処理」が完了する。 On the other hand, when the resistance value (combined resistance value) measured by the measurement unit 4 is within a predefined tolerance range with respect to the resistance value (combined resistance value) calculated based on the test target board data D0, The processing unit 5 determines that the insulation state between the conductor patterns X1 and X2, between the conductor patterns X1 and X3, between the conductor patterns X1X4, between the conductor patterns X1 and X7, and between the conductor patterns X1 and X8 is good. This completes the first "inspection process" targeting the conductor patterns X1 to X8.

次いで、処理部5は、上記の導体パターンX1と導体パターンX2,X3,X4,X7,X8との間の抵抗値(合成抵抗値)に基づく「検査処理」と同様にして、導体パターンX3と導体パターンX2,X5,X6,X7との間の抵抗値に基づく2番目の「検査処理」、導体パターンX5と導体パターンX2,X4,X6との間の抵抗値に基づく3番目の「検査処理」、および導体パターンX6と導体パターンX2,X8との間の抵抗値に基づく4番目の「検査処理」を順次実行する。これにより、導体パターンX1~X8の8個の導体パターンの相互間の絶縁状態がそれぞれ検査される。 Next, the processing unit 5 performs the inspection process on the conductor pattern X3 and the conductor pattern The second "inspection process" is based on the resistance value between the conductor patterns X2, X5, X6, and X7, and the third "inspection process" is based on the resistance value between the conductor pattern X5 and the conductor patterns X2, X4, and X6. ", and a fourth "inspection process" based on the resistance values between the conductor pattern X6 and the conductor patterns X2 and X8. As a result, the mutual insulation state of the eight conductor patterns X1 to X8 is tested.

この場合、例えば、別個独立して移動可能に配設された8本のプローブ2を備えた本例の基板検査装置1であっても、8個の導体パターンを対象として、従来の検査方法と同様に2個の導体パターン間の抵抗値をそれぞれ測定して各導体パターン間の絶縁状態を検査したときには、8個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査するために28回の検査処理を行う必要がある。このため、プローブを2本だけ備えた基板検査装置による検査と比較して、8本のプローブ2を同時に移動させることでプローブ2の移動に要する時間を2/8に短縮することができるものの、「被測定量(本例では、抵抗値)」の測定に要する時間(28回の測定の合計時間)については従来の構成・方法と同様であるため、1枚の検査対象基板Xの検査に要する時間を充分に短縮するのが困難となる。 In this case, for example, even if the board inspection apparatus 1 of this embodiment is equipped with eight probes 2 that are movably arranged separately, the conventional inspection method and the Similarly, when the resistance value between two conductor patterns was measured and the insulation condition between each conductor pattern was inspected, 28 inspection processes were performed to inspect the insulation condition between the 8 conductor patterns. There is a need to do. Therefore, compared to inspection using a board inspection device equipped with only two probes, by moving eight probes 2 at the same time, the time required to move the probes 2 can be reduced to 2/8. The time required to measure the "quantity to be measured (in this example, resistance value)" (total time of 28 measurements) is the same as the conventional configuration and method, so it is possible to It becomes difficult to sufficiently shorten the required time.

これに対して、上記の検査方法のように最低離間距離が予め規定された距離を超えるパターンを「除外条件」を満たすパターンとして検査対象から除外しない構成・方法であっても、1個の導体パターンと他の7個の導体パターンとの間の抵抗値を測定して1個の導体パターンと7個の導体パターンとの間の絶縁状態を一括して検査する方法を採用したときには、7回の抵抗値の測定を行うだけで、8個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査することができる。したがって、別個独立して移動可能に配設された8本のプローブ2を備えたことでプローブ2の移動に要する時間を短縮することができることに加え、「被測定量(本例では、抵抗値)」の測定に要する時間(7回の測定の合計時間)についても十分に短縮することができるため、1枚の検査対象基板Xの検査に要する時間が充分に短縮される。 On the other hand, even if the above inspection method does not exclude patterns whose minimum separation distance exceeds a predetermined distance from the inspection target as patterns that meet the "exclusion conditions," one conductor When a method is adopted in which the insulation condition between one conductor pattern and seven conductor patterns is tested all at once by measuring the resistance value between the pattern and seven other conductor patterns, the test is performed seven times. The insulation state between the eight conductor patterns can be inspected by simply measuring the resistance values of the eight conductor patterns. Therefore, by providing eight probes 2 that are movable separately and independently, it is possible to shorten the time required to move the probes 2, and also to )'' (the total time of seven measurements) can also be sufficiently shortened, and therefore the time required to inspect one substrate X to be inspected can be sufficiently shortened.

また、上記の検査方法のように最低離間距離が予め規定された距離を超えるパターンや、完了した検査処理によって絶縁状態が確定するパターンを「除外条件」を満たすパターンとして検査対象から除外すると共に、1個の導体パターンおよびM個の導体パターンの組合せが複数存在するときに、M個の導体パターンの数が最も少数となる組合せを除く組合せ(一例として、M個の導体パターンの数が最も多数となる組合せ)を優先して検査処理を実行するとの「変更手順」に従って8個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する本例の基板検査装置1およびその基板検査方法では、図2~6に示す例において、4回の抵抗値の測定を行うだけで、8個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査することができる。したがって、1枚の検査対象基板Xの検査に要する時間が一層短縮される。 In addition, as in the above inspection method, patterns whose minimum separation distance exceeds a predetermined distance or patterns whose insulation state is determined by the completed inspection process are excluded from the inspection target as patterns that satisfy the "exclusion condition". When there are multiple combinations of one conductor pattern and M conductor patterns, the combination excluding the combination with the smallest number of M conductor patterns (for example, the combination with the largest number of M conductor patterns) In the board inspection apparatus 1 and its board inspection method of this example, which inspect the mutual insulation state of eight conductor patterns according to the "change procedure" in which the inspection process is performed with priority given to combinations such as In the example shown in FIG. 6, the insulation state between eight conductor patterns can be inspected by simply measuring the resistance value four times. Therefore, the time required to inspect one substrate X to be inspected is further reduced.

この後、処理部5は、検査対象基板Xに形成されている他の導体パターンについても上記の導体パターンX1~X8の8個の導体パターンの相互間の絶縁状態の検査時と同様にして順次「検査処理」を実行する。また、処理部5は、確定した絶縁状態を検査結果として検査結果データD2を生成して記憶部6に記憶させる。これにより、検査対象基板Xに形成されている導体パターンのうちの絶縁状態を検査すべき導体パターンについての検査が完了する。 Thereafter, the processing unit 5 sequentially inspects the other conductor patterns formed on the substrate X to be inspected in the same manner as when inspecting the mutual insulation state of the eight conductor patterns X1 to X8. Execute "inspection processing". Further, the processing unit 5 generates test result data D2 using the determined insulation state as a test result, and stores the data in the storage unit 6. This completes the inspection of the conductor pattern whose insulation state is to be inspected among the conductor patterns formed on the substrate X to be inspected.

なお、1個の導体パターンおよびM個の導体パターンの組合せが複数存在するときに、M個の導体パターンの数が最も多数となる組合せを優先して「検査処理」を実行するとの手順に従ってNa=Nb=8個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する構成・方法を例に挙げて説明したが、1個の導体パターンおよびM個の導体パターンの組合せが複数存在するときに、M個の導体パターンの数が最も多数となる組合せを優先しなくても、M個の導体パターンの数が最も少数となる組合せを除く組合せを優先して「検査処理」を実行する構成・方法であれば、8個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査するのに要する「検査処理」の回数を少数回とすることができる。 Note that when there are multiple combinations of one conductor pattern and M conductor patterns, the Na =Nb=The configuration and method for inspecting the mutual insulation state of 8 conductor patterns has been explained as an example, but when there are multiple combinations of 1 conductor pattern and M conductor patterns, M This is a configuration/method that executes "inspection processing" by giving priority to combinations other than combinations where the number of M conductor patterns is the smallest, without prioritizing the combination where the number of M conductor patterns is the largest. If so, the number of "inspection processing" required to test the mutual insulation state of the eight conductor patterns can be reduced to a small number.

具体的には、検査手順データD1の生成に際して、1個の導体パターンおよびM個の導体パターンの組合せが複数存在するときに、M個の導体パターンの数が最も少数の組合せ、およびM個の導体パターンの数が最も多数の組合せを除く組合せを優先して「検査処理」を実行するとの手順に従ってNa=Nb=8個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する構成・方法を採用することができる。一例として、8個の導体パターンのうちの1個の導体パターンおよびM個の導体パターンの組合せが複数存在するときに、M個の導体パターンの数が2番目に多数となる組合せを優先して検査処理を実行するとの手順(予め規定された「変更手順」の他の一例)に従って8個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査することができる。 Specifically, when generating the inspection procedure data D1, when there are multiple combinations of one conductor pattern and M conductor patterns, the combination with the smallest number of M conductor patterns and the combination with the smallest number of M conductor patterns are selected. Adopt a configuration and method for inspecting the mutual insulation state of Na=Nb=8 conductor patterns according to the procedure of performing "inspection processing" giving priority to combinations excluding the combination with the largest number of conductor patterns. be able to. As an example, when there are multiple combinations of one conductor pattern out of eight conductor patterns and M conductor patterns, priority is given to the combination with the second largest number of M conductor patterns. The mutual insulation state of the eight conductor patterns can be inspected according to the procedure for executing the inspection process (another example of the predefined "change procedure").

このような「変更手順」に従って検査対象基板Xにおける前述の検査対象基板X1~X8の相互間の絶縁状態を検査するための検査手順データD1を生成する際に、処理部5は、図7に示す例において、M個の導体パターンの数が2番目に多数の4個となる導体パターンX2と導体パターンX1,X3,X5,X6との組合せについての検査処理、導体パターンX5と導体パターンX2,X3,X4,X6との組合せについての検査処理、および導体パターンX6と導体パターンX2,X3,X5,X8との組合せについての検査処理を優先して実行すると特定する。この際には、一例として、導体パターンX2と導体パターンX1,X3,X5,X6との組合せについての検査処理を最初に実行すると特定する。 When generating the inspection procedure data D1 for inspecting the mutual insulation state of the aforementioned boards to be inspected X1 to X8 in the board to be inspected X in accordance with such a "change procedure", the processing unit 5 performs the following steps as shown in FIG. In the example shown, the inspection process for the combination of conductor pattern X2 and conductor patterns X1, It is specified that inspection processing for the combination of X3, X4, and X6 and inspection processing for the combination of conductor pattern X6 and conductor patterns X2, X3, X5, and X8 are to be executed with priority. In this case, as an example, it is specified that the inspection process for the combination of the conductor pattern X2 and the conductor patterns X1, X3, X5, and X6 is to be executed first.

一方、上記の最初の検査処理を完了したときには、導体パターンX2-X1、導体パターンX2-X3、導体パターンX2-X5および導体パターンX2-X6についての絶縁状態が確定し、これらの組合せについての絶縁状態についての検査が不要となる。したがって、図8に示すように、処理部5は、2番目に実行する検査処理の特定に際して、最初の検査処理の完了によって検査が不要となる上記の導体パターンの組合せを「除外条件」と満たすパターンとして新たに特定する。 On the other hand, when the above-mentioned first inspection process is completed, the insulation states of conductor patterns X2-X1, conductor patterns X2-X3, conductor patterns X2-X5, and conductor patterns X2-X6 are determined, and the insulation conditions of these combinations are There is no need to inspect the condition. Therefore, as shown in FIG. 8, when specifying the second inspection process to be executed, the processing unit 5 satisfies the above-mentioned combination of conductor patterns, which makes the inspection unnecessary upon completion of the first inspection process, as an "exclusion condition". Newly identified as a pattern.

次いで、処理部5は、M個の導体パターンの数が2番目に多数の3個となる導体パターンX5と導体パターンX3,X4,X6との組合せについての検査処理、および導体パターンX6と導体パターンX3,X5,X8との組合せについての検査処理を優先して実行すると特定する。この際には、一例として、導体パターンX5と導体パターンX3,X4,X6との組合せについての検査処理を2番目に実行すると特定する。 Next, the processing unit 5 performs an inspection process on the combination of the conductor pattern X5 and the conductor patterns X3, X4, and It is specified that the inspection process for the combination of X3, X5, and X8 is to be executed with priority. At this time, as an example, it is specified that the inspection process for the combination of conductor pattern X5 and conductor patterns X3, X4, and X6 is to be executed second.

また、上記の2番目の検査処理を完了したときには、導体パターンX5-X3、導体パターンX5-X4および導体パターンX5-X6についての絶縁状態が確定し、これらの組合せについての絶縁状態についての検査が不要となる。したがって、図9に示すように、処理部5は、3番目に実行する検査処理の特定に際して、2番目の検査処理の完了によって検査が不要となる上記の導体パターンの組合せを「除外条件」と満たすパターンとして新たに特定する。 Furthermore, when the second inspection process described above is completed, the insulation states of conductor patterns X5-X3, conductor patterns X5-X4, and conductor patterns X5-X6 are determined, and the insulation state of these combinations can be inspected. No longer needed. Therefore, as shown in FIG. 9, when specifying the third inspection process to be executed, the processing unit 5 sets the above-mentioned combination of conductor patterns for which inspection is unnecessary upon completion of the second inspection process as an "exclusion condition". Newly identified as a pattern that satisfies.

次いで、処理部5は、M個の導体パターンの数が2番目に多数の3個となる導体パターンX3と導体パターンX1,X6,X7との組合せについての検査処理を優先し、この検査処理を3番目に実行すると特定する。また、3番目の検査処理を完了したときには、導体パターンX3-X1、導体パターンX3-X6および導体パターンX3-X7についての絶縁状態が確定し、これらの組合せについての絶縁状態についての検査が不要となる。したがって、図10に示すように、処理部5は、4番目に実行する検査処理の特定に際して、3番目の検査処理の完了によって検査が不要となる上記の導体パターンの組合せを「除外条件」と満たすパターンとして新たに特定する。 Next, the processing unit 5 prioritizes the inspection process for the combination of the conductor pattern X3 and the conductor patterns X1, X6, and Specify the third execution. Furthermore, when the third inspection process is completed, the insulation conditions of conductor patterns X3-X1, conductor patterns X3-X6, and conductor patterns X3-X7 are determined, and inspection of the insulation conditions of these combinations is unnecessary. Become. Therefore, as shown in FIG. 10, when specifying the fourth inspection process to be executed, the processing unit 5 sets the above-mentioned combination of conductor patterns for which inspection is unnecessary upon completion of the third inspection process as an "exclusion condition". Newly identified as a pattern that satisfies.

次いで、処理部5は、M個の導体パターンの数が2番目に多数の2個となる導体パターンX8と導体パターンX1,X6との組合せについての検査処理を優先し、この検査処理を4番目に実行すると特定する。また、4番目の検査処理を完了したときには、導体パターンX8-X1および導体パターンX8-X6についての絶縁状態が確定し、これらの組合せについての絶縁状態についての検査が不要となる。したがって、図11に示すように、処理部5は、5番目に実行する検査処理の特定に際して、4番目の検査処理の完了によって検査が不要となる上記の導体パターンの組合せを「除外条件」と満たすパターンとして新たに特定する。 Next, the processing unit 5 prioritizes the inspection process for the combination of the conductor pattern X8 and the conductor patterns X1 and Specify when it is executed. Further, when the fourth inspection process is completed, the insulation state of conductor patterns X8-X1 and conductor patterns X8-X6 is determined, and there is no need to test the insulation state of these combinations. Therefore, as shown in FIG. 11, when specifying the fifth inspection process to be executed, the processing unit 5 sets the above-mentioned combination of conductor patterns for which inspection is unnecessary upon completion of the fourth inspection process as an "exclusion condition". Newly identified as a pattern that satisfies.

次いで、処理部5は、M個の導体パターンの数が2番目に多数の1個となる導体パターンX4-X1についての検査処理、および導体パターンX7-X1についての検査処理を優先して実行すると特定する。この際には、一例として、導体パターンX4-X1についての検査処理を5番目に実行すると特定する。また、5番目の検査処理を完了したときには、導体パターンX4-X1についての絶縁状態が確定し、この導体パターンについての絶縁状態についての検査が不要となる。したがって、図12に示すように、処理部5は、6番目に実行する検査処理の特定に際して、5番目の検査処理の完了によって検査が不要となる上記の導体パターンを「除外条件」と満たすパターンとして新たに特定する。 Next, the processing unit 5 preferentially executes the inspection process for the conductor patterns X4-X1, which has the second largest number of M conductor patterns, and the inspection process for the conductor patterns X7-X1. Identify. At this time, as an example, it is specified that the inspection process for conductor patterns X4-X1 is to be executed fifth. Further, when the fifth inspection process is completed, the insulation state of the conductor patterns X4-X1 is determined, and there is no need to inspect the insulation state of this conductor pattern. Therefore, as shown in FIG. 12, when specifying the sixth inspection process to be executed, the processing unit 5 selects a pattern that satisfies the above-mentioned conductor pattern, which becomes unnecessary to inspect upon completion of the fifth inspection process, as an "exclusion condition". Newly identified as

この後、処理部5は、完了していない導体パターンX1-X7についての検査処理を6番目に実行すると特定する。これにより、図13に示すように、上記の6番目の検査を完了させることで、導体パターンX1~X8の8個の導体パターンの相互間の絶縁状態を確定させることが可能となる。 Thereafter, the processing unit 5 specifies that the inspection process for the uncompleted conductor patterns X1-X7 will be executed sixth. As a result, as shown in FIG. 13, by completing the sixth test described above, it becomes possible to determine the mutual insulation state of the eight conductor patterns X1 to X8.

したがって、処理部5は、上記の検査処理の実行順序を特定可能に検査手順データD1を生成し、生成した検査手順データD1を記憶部6に記憶させる。また、処理部5は、生成した検査手順データD1と記憶部6に記憶されている検査対象基板データD0とに基づき、導体パターンX1~X8を対象とする検査処理を順次実行する。これにより、図7~13に示す例においては、6回の抵抗値の測定を行うだけで、8個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査することができる。したがって、1枚の検査対象基板Xの検査に要する時間が充分に短縮される。 Therefore, the processing unit 5 generates inspection procedure data D1 such that the execution order of the above-mentioned inspection processes can be specified, and stores the generated inspection procedure data D1 in the storage unit 6. Further, the processing section 5 sequentially executes an inspection process targeting the conductor patterns X1 to X8 based on the generated inspection procedure data D1 and the inspection target board data D0 stored in the storage section 6. As a result, in the examples shown in FIGS. 7 to 13, the mutual insulation state of eight conductor patterns can be inspected by simply measuring the resistance value six times. Therefore, the time required to inspect one substrate X to be inspected is sufficiently shortened.

また、詳細な説明を省略するが、1個の導体パターンおよびM個の導体パターンの組合せが複数存在するときに、M個の導体パターンの数が最も少数となる組合せを除けば、M個の導体パターンの数が最も多数の組合せ、および2番目以降に多数の組合せのうちから任意に選択した組合せを優先して「検査処理」を実行することもできる。具体的には、一例として、最初の「検査処理」については、M個の導体パターンの数が最も多数となる組合せで実行し、2番目の「検査処理」については、M個の導体パターンの数が2番目に多数となる組合せで実行するなど、優先して実行する「検査処理」の選択基準(変更手順)を任意に変更することができる。このような構成・方法を採用した場合においても、導体パターンの相互間の絶縁状態を検査するのに要する「検査処理」の回数を少数回とすることができる。 Further, although a detailed explanation is omitted, when there are multiple combinations of one conductor pattern and M conductor patterns, except for the combination with the smallest number of M conductor patterns, It is also possible to perform the "inspection process" with priority given to the combination with the largest number of conductor patterns and the combination arbitrarily selected from among the second and subsequent largest number of combinations. Specifically, as an example, the first "inspection process" is performed with the combination that has the largest number of M conductor patterns, and the second "inspection process" is performed with the combination that has the largest number of M conductor patterns. It is possible to arbitrarily change the selection criteria (change procedure) for the "inspection process" to be executed with priority, such as executing the combination with the second largest number. Even when such a configuration and method are adopted, the number of "inspection processing" required to test the insulation state between the conductor patterns can be reduced to a small number.

この場合、図2~6を参照しつつ説明した例のように、1個の導体パターンおよびM個の導体パターンの組合せが複数存在するときに、M個の導体パターンの数が最も多数となる組合せを優先して「検査処理」を実行するとの手順に従ってNa=Nb=8個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する構成・方法では、「除外条件」を満たす導体パターンの組合せによっては、非常に少ない回数の「検査処理」の実行によって8個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査することができる。 In this case, as in the examples described with reference to FIGS. 2 to 6, when there are multiple combinations of one conductor pattern and M conductor patterns, the number of M conductor patterns is the largest. In the configuration and method of testing the mutual insulation state of Na = Nb = 8 conductor patterns according to the procedure of performing "inspection processing" giving priority to combinations, depending on the combination of conductor patterns that satisfy the "exclusion condition" , the mutual insulation state of the eight conductor patterns can be tested by performing the "inspection process" a very small number of times.

具体的には、一例として、導体パターンX1~X8のうちの導体パターンX1-X6、導体パターンX2-X6、導体パターンX3-X6、導体パターンX4-X6、導体パターンX5-X6、導体パターンX6-X7および導体パターンX6-X8において最短離間距離が予め規定された距離以下となっており(図2~13を参照しつつ説明をした例よりも、近接パターンの数が少ない検査対象基板Xの例)、そのような近接パターン情報が検査対象基板データD0に基づいて特定されるものとする。 Specifically, as an example, among the conductor patterns X1 to X8, conductor patterns X1-X6, conductor patterns X2-X6, conductor patterns X3-X6, conductor patterns X4-X6, conductor patterns X5-X6, and conductor patterns X6- The shortest separation distance between X7 and conductor patterns X6-X8 is less than or equal to a predetermined distance (an example of board X to be inspected with fewer adjacent patterns than the examples described with reference to FIGS. 2 to 13). ), such proximity pattern information is specified based on the inspection target board data D0.

このような例の検査対象基板Xに関し、図14に示すように、処理部5は、検査対象基板データD0に基づき、上記の近接パターンを除くパターンを「除外条件」を満たすパターン(相互間の絶縁状態の検査が不要なパターン)として特定する。また、処理部5は、導体パターンX1~X5,X7,X8については、導体パターンX6だけをそれぞれ絶縁状態の検査対象として検査する必要があり、導体パターンX6については、X1~X5,X7,X8の7個を絶縁状態の検査対象として検査する必要があると特定する。 Regarding the inspection target board X in such an example, as shown in FIG. (patterns that do not require inspection of insulation status). Furthermore, regarding the conductor patterns X1 to X5, X7, and It is specified that seven of these need to be inspected as insulation state inspection targets.

この際に、8個の導体パターンのうちの1個の導体パターンおよびM個の導体パターンの組合せが複数存在するときに、M個の導体パターンの数が最も多数の組合せを優先して検査処理を実行するとの手順に従って8個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する構成・方法では、M個の導体パターンの数が最も多数の7個となる導体パターンX6と導体パターンX1~X5,X7,X8との組合せについての検査処理を最初に実行すると特定することとなる。また、図15に示すように、この検査対象基板Xの例では、導体パターンX6と導体パターンX1~X5,X7,X8との組合せについての検査処理を行うことで、導体パターンX1~X8の8個の導体パターンに関し、短絡が生じる可能性がある近距離に形成された各パターンの相互間の絶縁状態を確定させることが可能となる。 At this time, when there are multiple combinations of one conductor pattern out of the eight conductor patterns and M conductor patterns, the combination with the largest number of M conductor patterns is prioritized for inspection processing. In the configuration and method of inspecting the mutual insulation state of eight conductor patterns according to the procedure of performing the following, the conductor pattern X6, which has the largest number of M conductor patterns, 7, and the conductor patterns X1 to X5, If the inspection process for the combination of X7 and X8 is executed first, it will be specified. Further, as shown in FIG. 15, in this example of the board X to be inspected, by performing the inspection process on the combination of the conductor pattern X6 and the conductor patterns X1 to X5, X7, and X8, eight of the conductor patterns With regard to the individual conductor patterns, it is possible to determine the insulation state between the patterns formed at close distances where a short circuit may occur.

このように、この基板検査装置1、およびその基板検査方法では、Na=8本のプローブ2を別個独立して移動させて8本のプローブ2をNa=8個の導体パターンにそれぞれ接触させ、かつ8個の導体パターンのうちの1個の導体パターンと、その1個の導体パターンに対する絶縁状態の検査対象から除外する予め規定された「除外条件」を満たす導体パターンを除くM個の導体パターンとの間の被測定量(抵抗値)を測定すると共に、測定した被測定量に基づいて1個の導体パターンとM個の導体パターンとの間の絶縁状態を検査する検査処理を1個の導体パターンおよびM個の導体パターンの組合せを予め規定された「変更手順」に従って変更して複数回実行することで8個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する。 In this way, in this board inspection apparatus 1 and its board inspection method, the Na=8 probes 2 are moved separately and independently to bring the eight probes 2 into contact with the Na=8 conductor patterns, respectively. And one conductor pattern among the eight conductor patterns, and M conductor patterns excluding the conductor pattern that satisfies the predefined "exclusion condition" to exclude from the insulation condition inspection target for that one conductor pattern. In addition to measuring the amount to be measured (resistance value) between the The conductor pattern and the combination of the M conductor patterns are changed according to a predefined "change procedure" and executed multiple times to test the mutual insulation state of the eight conductor patterns.

したがって、この基板検査装置1および基板検査方法によれば、複数の導体パターンが形成されている検査対象基板Xの検査に際して、2個の導体パターン間の絶縁状態を個別に検査する構成・方法と比較して、1つの導体パターンと、M個の導体パターンとの間の絶縁状態を一括して検査することで、1枚の検査対象基板Xの検査に要する「検査処理」の回数を充分に少数化することができる。これにより、この基板検査装置1および基板検査方法によれば、複数の導体パターン間の絶縁状態を短時間で検査することができる。 Therefore, according to this board inspection apparatus 1 and board inspection method, when inspecting a board to be inspected In comparison, by collectively inspecting the insulation state between one conductor pattern and M conductor patterns, the number of "inspection processes" required to inspect one board to be inspected can be sufficiently reduced. It is possible to reduce the number of people. Thereby, according to the board inspection apparatus 1 and the board inspection method, the insulation state between a plurality of conductor patterns can be inspected in a short time.

また、この基板検査装置1、およびその基板検査方法では、Na=Nb=8本のプローブ2をNa=Nb=8個の導体パターンにそれぞれ接触させると共に、「変更手順」として、1個の導体パターンおよびM個の導体パターンの組合せが複数存在するときにM個の導体パターンの数が最も少数となる組合せを除く組合せを優先して検査処理を実行するとの手順に従って8個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する。 In addition, in this board inspection apparatus 1 and its board inspection method, the Na=Nb=8 probes 2 are brought into contact with each of the Na=Nb=8 conductor patterns, and as a "change procedure", one conductor In accordance with the procedure that when there are multiple combinations of patterns and M conductor patterns, inspection processing is performed with priority given to combinations excluding the combination with the smallest number of M conductor patterns. Inspect the insulation condition between.

したがって、この基板検査装置1および基板検査方法によれば、M個の導体パターンの数が多数の組合せを優先することで、複数回の検査処理の早い段階において多数の導体パターン間の絶縁状態を確定することができるため、1枚の検査対象基板Xの検査に要する「検査処理」の回数を一層少数化することができる。これにより、この基板検査装置1および基板検査方法によれば、複数の導体パターン間の絶縁状態を一層短時間で検査することができる。 Therefore, according to this board inspection apparatus 1 and board inspection method, by giving priority to combinations with a large number of M conductor patterns, the insulation state between a large number of conductor patterns can be checked at an early stage of multiple inspection processes. Since it can be determined, the number of "inspection processes" required to inspect one substrate X to be inspected can be further reduced. Thereby, according to the board inspection apparatus 1 and the board inspection method, the insulation state between the plurality of conductor patterns can be inspected in a shorter time.

また、この基板検査装置1、およびその基板検査方法では、「変更手順」として、1個の導体パターンおよびM個の導体パターンの組合せが複数存在するときにM個の導体パターンの数が最も多数となる組合せを優先して検査処理を実行するとの手順に従って8個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する。 In addition, in this board inspection apparatus 1 and its board inspection method, when there are multiple combinations of one conductor pattern and M conductor patterns, as a "change procedure", the number of M conductor patterns is the largest number. The mutual insulation state of the eight conductor patterns is inspected according to the procedure of executing the inspection process with priority given to the combinations where .

したがって、この基板検査装置1および基板検査方法によれば、M個の導体パターンの数が最も多数の組合せを優先することで、複数回の検査処理の早い段階において多数の導体パターン間の絶縁状態を好適に確定することができるため、1枚の検査対象基板Xの検査に要する「検査処理」の回数を一層少数化することができる。これにより、この基板検査装置1および基板検査方法によれば、複数の導体パターン間の絶縁状態を一層短時間で検査することができる。 Therefore, according to this board inspection apparatus 1 and board inspection method, by giving priority to the combination with the largest number of M conductor patterns, the insulation state between a large number of conductor patterns can be checked at an early stage of multiple inspection processes. can be suitably determined, so the number of "inspection processes" required to inspect one substrate X to be inspected can be further reduced. Thereby, according to the board inspection apparatus 1 and the board inspection method, the insulation state between the plurality of conductor patterns can be inspected in a shorter time.

また、この基板検査装置1、およびその基板検査方法では、1個の導体パターンに対する最短離間部位の離間距離が予め規定された距離を超える導体パターンを「除外条件」を満たす導体パターンとする。したがって、この基板検査装置1および基板検査方法によれば、短絡が生じる可能性が充分に低い組合せについての「検査処理」を行わない分だけ、1枚の検査対象基板Xの検査に要する「検査処理」の回数を一層少数化することができる。これにより、この基板検査装置1および基板検査方法によれば、複数の導体パターン間の絶縁状態を一層短時間で検査することができる。 Further, in this board inspection apparatus 1 and its board inspection method, a conductor pattern whose distance between the shortest separated portions of one conductor pattern exceeds a predetermined distance is determined as a conductor pattern that satisfies the "exclusion condition". Therefore, according to this board inspection apparatus 1 and board inspection method, the "inspection processing" required to inspect one board to be inspected The number of times of "processing" can be further reduced. Thereby, according to the board inspection apparatus 1 and the board inspection method, the insulation state between the plurality of conductor patterns can be inspected in a shorter time.

なお、「基板検査装置」の構成、および「基板検査方法」の具体的な内容については、上記の基板検査装置1の構成、およびその基板検査方法の例に限定されない。例えば、導体パターンXについての検査を開始するのに先立って検査手順データD1を生成し、生成した検査手順データD1に従って検査処理を実行する構成・方法を例に挙げて説明したが、導体パターンXについての検査と検査手順データD1の生成(いずれの導体パターン間についての「絶縁検査」を優先して実行するかの決定)とを並行して実行することもできる。「被測定量」は、抵抗値に限定されず、電流値や電圧値などの任意の電気的パラメータを「被測定量」として測定する構成・方法を採用することができる。 Note that the configuration of the "board inspection apparatus" and the specific contents of the "board inspection method" are not limited to the above-described configuration of the board inspection apparatus 1 and the example of the board inspection method. For example, although the configuration and method for generating the inspection procedure data D1 before starting the inspection on the conductor pattern X and performing the inspection process according to the generated inspection procedure data D1 have been described as an example, It is also possible to perform the inspection and the generation of the inspection procedure data D1 (determining between which conductor patterns the "insulation inspection" should be performed with priority) in parallel. The "quantity to be measured" is not limited to the resistance value, and a configuration and method for measuring any electrical parameter such as a current value or a voltage value as the "quantity to be measured" can be adopted.

本発明によれば、3本以上のプローブを使用して、1つの導体パターンと他の複数個の導体パターンとの間の絶縁状態を一括して検査することで、1枚の検査対象基板の検査に要する検査処理の回数を充分に少数化することができる。これにより、複数の導体パターン間の絶縁状態を短時間で検査することができるため、相互に絶縁されているべき複数の導体パターンが形成された検査対象基板を検査する基板検査装置および基板検査方法に好適に利用することができる。 According to the present invention, three or more probes are used to collectively test the insulation state between one conductor pattern and a plurality of other conductor patterns, so that a single board to be inspected can be inspected. The number of inspection processes required for inspection can be sufficiently reduced. This makes it possible to test the insulation state between multiple conductor patterns in a short time, so a board inspection device and a board inspection method for inspecting a board to be inspected on which multiple conductor patterns that should be mutually insulated are formed. It can be suitably used for.

1 基板検査装置
2 プローブ
3 移動機構
4 測定部
5 処理部
6 記憶部
D0 検査対象基板データ
D1 検査手順データ
D2 検査結果データ
X 検査対象基板
X1,X2・・ 導体パターン
1 Board inspection device 2 Probe 3 Movement mechanism 4 Measuring unit 5 Processing unit 6 Storage unit D0 Inspection target board data D1 Inspection procedure data D2 Inspection result data X Inspection target board X1, X2... Conductor pattern

Claims (8)

相互に絶縁されているべき複数の導体パターンが形成された検査対象基板における当該各導体パターンに接触させたプローブを介して当該各導体パターン間についての予め規定された被測定量を測定すると共に、測定した当該被測定量に基づいて当該各導体パターン間の絶縁状態を検査可能に構成された基板検査装置であって、
Na本(Naは、3以上の予め規定された自然数)の前記プローブと、
前記Na本のプローブを別個独立して移動可能に構成されたNa個のプローブ移動機構と、
前記被測定量を測定する測定部と、
前記プローブ移動機構による前記プローブの移動および前記測定部による前記被測定量の測定を制御すると共に、測定された前記被測定量に基づいて前記各導体パターン間の絶縁状態を検査する処理部を備え、
前記処理部は、前記各プローブ移動機構を制御して前記Na本のプローブをNa個の前記導体パターンにそれぞれ接触させ、かつ当該Na個の導体パターンのうちの1個の当該導体パターンと、当該1個の導体パターンに対する絶縁状態の検査対象から除外する予め規定された除外条件を満たす当該導体パターンを除くM個の当該導体パターンとの間の前記被測定量を前記測定部に測定させると共に、測定された当該被測定量に基づいて当該1個の導体パターンと当該M個の導体パターンとの間の絶縁状態を検査する検査処理を当該1個の導体パターンおよび当該M個の導体パターンの組合せを予め規定された変更手順に従って変更して複数回実行することで前記Na個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する基板検査装置。
Measuring a predetermined quantity to be measured between each conductor pattern through a probe in contact with each conductor pattern on a board to be inspected on which a plurality of conductor patterns that should be mutually insulated are formed, A board inspection device configured to be able to inspect the insulation state between each conductor pattern based on the measured quantity,
Na probes (Na is a predefined natural number of 3 or more);
Na probe moving mechanisms configured to be able to move the Na probes separately and independently;
a measurement unit that measures the quantity to be measured;
A processing unit that controls the movement of the probe by the probe moving mechanism and the measurement of the measured quantity by the measuring unit, and inspects the insulation state between the conductor patterns based on the measured measured quantity. ,
The processing unit controls each of the probe moving mechanisms to bring the Na probes into contact with the Na conductor patterns, and to contact one of the Na conductor patterns with the Na conductor pattern. causing the measurement unit to measure the quantity to be measured between M conductor patterns excluding the conductor pattern that satisfies predefined exclusion conditions for excluding one conductor pattern from being inspected for the insulation state; An inspection process for inspecting the insulation state between the one conductor pattern and the M conductor patterns based on the measured quantity is performed on the combination of the one conductor pattern and the M conductor patterns. A board inspection device that inspects the mutual insulation state of the Na conductor patterns by changing the change according to a predefined change procedure and executing the change multiple times.
Nb本(Nbは、4以上の自然数)の前記プローブおよびNb個の前記プローブ移動機構を備え、
前記処理部は、前記変更手順として、前記1個の導体パターンおよび前記M個の導体パターンの組合せが複数存在するときに当該M個の導体パターンの数が最も少数となる組合せを除く組合せを優先して前記検査処理を実行するとの手順に従ってNb個の前記導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する請求項1記載の基板検査装置。
comprising Nb (Nb is a natural number of 4 or more) said probes and Nb said probe moving mechanisms;
As the change procedure, when there are multiple combinations of the one conductor pattern and the M conductor patterns, the processing unit prioritizes combinations excluding the combination in which the number of the M conductor patterns is the smallest. 2. The board inspection apparatus according to claim 1, wherein the insulation state between the Nb conductor patterns is inspected according to the procedure of executing the inspection process.
前記処理部は、前記変更手順として、前記1個の導体パターンおよび前記M個の導体パターンの組合せが複数存在するときに当該M個の導体パターンの数が最も多数となる組合せを優先して前記検査処理を実行するとの手順に従って前記Nb個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する請求項2記載の基板検査装置。 As the changing procedure, when a plurality of combinations of the one conductor pattern and the M conductor patterns exist, the processing unit gives priority to the combination in which the number of the M conductor patterns is the largest. 3. The board inspection apparatus according to claim 2, wherein the mutual insulation state of the Nb conductor patterns is inspected according to a procedure for executing an inspection process. 前記処理部は、前記1個の導体パターンに対する最短離間部位の離間距離が予め規定された距離を超える前記導体パターンを前記除外条件を満たす導体パターンとする請求項1から3のいずれかに記載の基板検査装置。 4. The processing unit determines, as a conductor pattern that satisfies the exclusion condition, a conductor pattern in which a distance between the shortest separated portions of the conductor pattern exceeds a predetermined distance. Board inspection equipment. 相互に絶縁されているべき複数の導体パターンが形成された検査対象基板における当該各導体パターンに接触させたプローブを介して当該各導体パターン間についての予め規定された被測定量を測定すると共に、測定した当該被測定量に基づいて当該各導体パターン間の絶縁状態を検査する基板検査方法であって、
Na本(Naは、3以上の予め規定された自然数)の前記プローブを別個独立して移動させて当該Na本のプローブをNa個の前記導体パターンにそれぞれ接触させ、かつ当該Na個の導体パターンのうちの1個の当該導体パターンと、当該1個の導体パターンに対する絶縁状態の検査対象から除外する予め規定された除外条件を満たす当該導体パターンを除くM個の当該導体パターンとの間の前記被測定量を測定すると共に、測定した当該被測定量に基づいて当該1個の導体パターンと当該M個の導体パターンとの間の絶縁状態を検査する検査処理を当該1個の導体パターンおよび当該M個の導体パターンの組合せを予め規定された変更手順に従って変更して複数回実行することで前記Na個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する基板検査方法。
Measuring a predetermined quantity to be measured between each conductor pattern through a probe in contact with each conductor pattern on a board to be inspected on which a plurality of conductor patterns that should be mutually insulated are formed, A board inspection method for inspecting the insulation state between each conductive pattern based on the measured quantity, the method comprising:
moving Na probes (Na is a predefined natural number of 3 or more) of the probes separately and independently to bring the Na probes into contact with the Na conductor patterns, and the Na conductor patterns; between one of the conductor patterns and M conductor patterns excluding the conductor pattern that satisfies predefined exclusion conditions for excluding the conductor pattern from being inspected for the insulation state of the one conductor pattern. In addition to measuring the measured quantity, an inspection process for inspecting the insulation state between the single conductive pattern and the M conductive patterns based on the measured quantity is performed on the single conductive pattern and the M conductive patterns. A board inspection method for inspecting the mutual insulation state of the Na conductor patterns by changing the combination of the M conductor patterns according to a predefined change procedure and performing the process multiple times.
Nb本(Nbは、4以上の自然数)の前記プローブをNb個の前記導体パターンにそれぞれ接触させると共に、前記変更手順として、前記1個の導体パターンおよび前記M個の導体パターンの組合せが複数存在するときに当該M個の導体パターンの数が最も少数となる組合せを除く組合せを優先して前記検査処理を実行するとの手順に従ってNb個の前記導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する請求項5記載の基板検査方法。 Nb (Nb is a natural number of 4 or more) of the probes are brought into contact with each of the Nb conductor patterns, and as the changing procedure, a plurality of combinations of the one conductor pattern and the M conductor patterns exist. The insulation state between the Nb conductor patterns is inspected according to a procedure in which the inspection process is performed with priority given to combinations excluding the combination in which the number of the M conductor patterns is the smallest when the number of the Nb conductor patterns is the smallest. 5. The board inspection method described in 5. 前記変更手順として、前記1個の導体パターンおよび前記M個の導体パターンの組合せが複数存在するときに当該M個の導体パターンの数が最も多数となる組合せを優先して前記検査処理を実行するとの手順に従って前記Nb個の導体パターンの相互間の絶縁状態を検査する請求項6記載の基板検査方法。 As the changing procedure, when there are a plurality of combinations of the one conductor pattern and the M conductor patterns, the inspection process is performed with priority given to the combination with the largest number of the M conductor patterns. 7. The board inspection method according to claim 6, wherein the mutual insulation state of the Nb conductor patterns is inspected according to the procedure described in the following. 前記1個の導体パターンに対する最短離間部位の離間距離が予め規定された距離を超える前記導体パターンを前記除外条件を満たす導体パターンとする請求項5から7のいずれかに記載の基板検査方法。 8. The board inspection method according to claim 5, wherein the conductor pattern whose distance between the shortest separated portions of the one conductor pattern exceeds a predetermined distance is a conductor pattern that satisfies the exclusion condition.
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