JP2023528067A - ガス混合物を送達するためのプラント及び方法 - Google Patents

ガス混合物を送達するためのプラント及び方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2023528067A
JP2023528067A JP2022574653A JP2022574653A JP2023528067A JP 2023528067 A JP2023528067 A JP 2023528067A JP 2022574653 A JP2022574653 A JP 2022574653A JP 2022574653 A JP2022574653 A JP 2022574653A JP 2023528067 A JP2023528067 A JP 2023528067A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flow
gas
flow rate
setpoint
consumption
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2022574653A
Other languages
English (en)
Inventor
トドロヴァ、ヴァニナ
ダルフィ、エルヴェ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Air Liquide Electronics Systems SA
Original Assignee
Air Liquide Electronics Systems SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Air Liquide Electronics Systems SA filed Critical Air Liquide Electronics Systems SA
Publication of JP2023528067A publication Critical patent/JP2023528067A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D11/00Control of flow ratio
    • G05D11/02Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material
    • G05D11/13Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/20Measuring; Control or regulation
    • B01F35/22Control or regulation
    • B01F35/2201Control or regulation characterised by the type of control technique used
    • B01F35/2202Controlling the mixing process by feed-back, i.e. a measured parameter of the mixture is measured, compared with the set-value and the feed values are corrected
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/10Mixing gases with gases
    • B01F23/19Mixing systems, i.e. flow charts or diagrams; Arrangements, e.g. comprising controlling means
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/40Static mixers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/20Measuring; Control or regulation
    • B01F35/21Measuring
    • B01F35/211Measuring of the operational parameters
    • B01F35/2111Flow rate
    • B01F35/21112Volumetric flow rate
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/20Measuring; Control or regulation
    • B01F35/21Measuring
    • B01F35/211Measuring of the operational parameters
    • B01F35/2113Pressure
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/20Measuring; Control or regulation
    • B01F35/22Control or regulation
    • B01F35/221Control or regulation of operational parameters, e.g. level of material in the mixer, temperature or pressure
    • B01F35/2211Amount of delivered fluid during a period
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B11/00Automatic controllers
    • G05B11/01Automatic controllers electric
    • G05B11/36Automatic controllers electric with provision for obtaining particular characteristics, e.g. proportional, integral, differential
    • G05B11/42Automatic controllers electric with provision for obtaining particular characteristics, e.g. proportional, integral, differential for obtaining a characteristic which is both proportional and time-dependent, e.g. P. I., P. I. D.
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D11/00Control of flow ratio
    • G05D11/02Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material
    • G05D11/13Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means
    • G05D11/131Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means by measuring the values related to the quantity of the individual components
    • G05D11/132Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means by measuring the values related to the quantity of the individual components by controlling the flow of the individual components
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D11/00Control of flow ratio
    • G05D11/02Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material
    • G05D11/13Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means
    • G05D11/135Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means by sensing at least one property of the mixture
    • G05D11/138Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means by sensing at least one property of the mixture by sensing the concentration of the mixture, e.g. measuring pH value
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D7/00Control of flow
    • G05D7/06Control of flow characterised by the use of electric means
    • G05D7/0617Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
    • G05D7/0623Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the set value given to the control element

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Accessories For Mixers (AREA)
  • Measuring Volume Flow (AREA)
  • Flow Control (AREA)
  • Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)

Abstract

第1のガスの源(1)と、第2のガスの源(2)と、第1のガスの源(1)及び第2のガスの源(2)に流体的に接続された混合装置(3)であって、第1のガス及び第2のガスを含むガス混合物を1つの出口(33)で生産するように構成された混合装置(3)と、混合装置(3)の出口(33)におけるガス混合物の生産流量(DP)を動作中に定める第1の流量設定値(D1)及び第2の流量設定値(D2)で混合装置(3)に向かって流れる第1のガスの流量及び第2のガスの流量をそれぞれ調節するように構成された第1の流れ調節部材(41)及び第2の流れ調節部材(42)と、生産流量(DP)に対してそれぞれの割合に従って第1の流量設定値(D1)及び第2の流量設定値(D2)を調整するように第1及び第2の流れ調節部材(41、42)を制御するように構成された制御ユニット(5)であって、それぞれの割合は、第1のガス及び/又は第2のガスのガス混合物中の少なくとも1つの目標含有量(C1、C2)に従って決定される、制御ユニット(5)と、一方では混合装置(3)の出口(33)に、他方では送達ライン(6)に流体接続されたバッファタンク(7)であって、送達ライン(6)は、ガス混合物の可変消費を表す消費流量(DC)で消費ユニット(10)にガス混合物を送達するように構成されている、バッファタンク(7)と、その変動が送達ライン(6)によって送達される消費流量(DC)の変動を表す物理量を測定し、物理量の第1の測定信号を提供するように構成された少なくとも1つの測定センサ(8)とを備え、制御ユニット(5)は、測定センサ(8)に接続され、第1の測定信号を用いて第1の制御信号を生成するように構成され、流れ調節部材(41、42)は、第1の制御信号に応答して第1の流量設定値(D1)及び第2の流量設定値(D2)を調整するように構成されている、ガス混合物を送達するためのプラントが開示される。【選択図】図1

Description

本発明は、ガス消費ユニットによって使用されることを意図したガス混合物を送達するためのプラントに関する。このプラントは、混合物を使用場所に直接送達することを可能にし、また、消費ユニットによって消費される流れに応じてプラントによって生成される混合物の流量を調整することを可能にする。本発明はまた、そのようなプラントを使用して混合物を送達するための方法に関する。
特に、本発明によるプラント及び方法は、純粋なガスの混合物又はガスプレミックスを送達することを意図し、特に、窒素、アルゴン、酸素、ヘリウム、水素、プロパンなどの炭化水素など、空気から抽出されるガスの混合物を送達することを意図している。
「ガス消費ユニット」という表現は、単一の消費ユニットと、ガス混合物によって並列に供給される複数の実体、特に分岐箱の下流に配置された複数の実体との両方に及ぶ可能性があることに留意されたい。
通常、ガス混合物は、圧縮又は液化された形態でガスシリンダに包装される。ガスシリンダの充填は、順次モードで行われ、混合物の成分は、シリンダ内に次々と導入される。成分ごとに、成分の導入中及び導入後のシリンダ内の圧力を監視するか、又は成分の導入中のシリンダ重量を測定することで、シリンダ内に導入されたガス量のチェックが行われる。ガス混合物を包装するためのこのようなプラントは、特に、国際公開第2010/031940 A1号パンフレットに記載されている。
ガス消費ユニットによって提供される性能及び/又は結果の信頼性及び再現性をユーザに保証するために、各成分の濃度に関して高い精度を提供するガス混合物を製造することが必要である。用途にもよるが、目標値に対する実際の濃度値の変動の最大許容範囲は、10%(相対%)、又は5%、或いはそれ未満であり得る。成分の数が多いほど、及び/又はその含有量が少ないほど、そのような許容範囲を満たすことはより困難である。
要求される精度によっては、現行の包装方法では不十分であることが判明する場合がある。特に、圧力の制御による圧力計式の包装は、圧力センサの精度と、ガス量の計算に影響を与える温度の変動によって本質的に制限される精度を提供する。生成されるガス混合物の濃度値に関する不確実性に加えて、異なるシリンダに包装された混合物間の濃度差もある。このような差は、消費ユニットによって生成される結果を、シリンダ交換ごとに大きく変化させる原因となり得る。
成分の計量による重量計式の包装は、混合物の組成に関してより高い精度を提供するが、依然としてシリンダの充填に関して段階的な方法を必要とする。
しかしながら、シリンダの使用は、ガス混合物の消費量が変化したときに予測することが困難な送達の停止を伴う、ユーザに対する限定された自律性をもたらす。ガス混合物のリードタイムが比較的長い場合があるので、ユーザは、生産の継続性を確保するために、シリンダの在庫を管理しなければならない。
さらに、ガス混合物のシリンダへの充填は、この種の操作のために特別に装備された包装センターで行われる。その後、シリンダは使用場所まで輸送されなければならないが、これには専用のロジスティクスが必要である。また、危険物の輸送に関連する制約が、可燃性、自然発火性、毒性及び/又は無酸素性の成分を含むガス混合物を輸送するという問題の場合に存在し得る。
さらに、シリンダの接続/取り外しの操作は、ユーザにとって面倒であり、ガス混合物が周囲の空気で汚染される危険性を増大させる。また、シリンダは、洗浄、不動態化等のステップを含む充填前の特定の準備を必要とする。
本発明の目的は、上述の欠点の全て又は一部を克服することであり、特に、特にガス混合物の消費地点における要求に応じて、送達の連続性及び柔軟性を提供しながら、ガス混合物の組成を正確に制御することを可能にするガス混合物を送達するためのプラントを提案することにより克服することである。
この目的のために、本発明の解決策は、
- 第1のガスの源と、
- 第2のガスの源と、
- 第1のガスの源及び第2のガスの源に流体的に接続された混合装置であって、第1のガス及び第2のガスを含むガス混合物を出口で生産するように構成された混合装置と、
- 混合装置の出口におけるガス混合物の生産流量を動作時に定める第1の流量設定値及び第2の流量設定値に従って混合装置に向かって流れる第1のガスの流れ及び第2のガスの流れをそれぞれ調節するように構成された第1の流れ調節部材及び第2の流れ調節部材と、
- 生産流量に対してそれぞれの割合で第1の流量設定値及び第2の流量設定値を調整するように第1及び第2の流れ調節部材を制御するように構成された制御ユニットであって、前記それぞれの割合は、ガス混合物中の第1のガス及び/又は第2のガスの少なくとも1つの目標含有量の関数として決定される、制御ユニットと、
- 一方では混合装置の出口に、他方では送達ラインに流体接続されたバッファタンクであって、送達ラインは、ガス混合物の可変消費を表す消費流量で消費ユニットにガス混合物を送達するように構成されている、バッファタンクと、
- その変動が送達ラインによって送達される消費流量の変動を表す物理量を測定し、前記物理量の第1の測定信号を提供するように構成された少なくとも1つの測定センサであって、制御ユニットは、測定センサに接続され、第1の測定信号から第1の制御信号を生成するように構成され、流れ調節部材は、前記第1の制御信号に応答して第1の流量設定値及び第2の流量設定値を調整するように構成されている測定センサと
を備えるガス混合物を送達するためのプラントである。
適宜、本発明は、以下に記載する特徴のうちの1つ又は複数を備え得る。
プラントは、第1及び第2の流量設定値から測定センサによって提供される第1の測定信号への第1のフィードバックループを備え、前記第1のループは、
- 制御ユニット(5)内に配置され、第1の測定信号から少なくとも第1のエラー信号を生成するように構成された第1の比較器と、
- 制御ユニット内に配置された、特に比例、積分及び微分タイプの第1の補正器であって、第1のエラー信号から第1の制御信号を生成するように構成された第1の補正器と、
- 第1の補正器に接続され、第1の制御信号を受信し、第1及び第2の流れ調節部材を、第1の流量設定値及び第2の流量設定値が第1の制御信号に適合するそれぞれの位置に移動するように構成された、第1及び第2の流れ調節部材のアクチュエータと
を備える。
測定センサが、消費流量を測定するように構成された流れセンサ又は流量計を備える。
第1の比較器が、消費流量の変動を表す少なくとも第1のエラー信号を生成するように構成され、第1の補正器が、第1及び第2の流量設定値が流量の変動の方向と同じ方向に変化するように、第1及び第2の流れ調節部材の移動を制御する第1の制御信号を生成するように構成される。
測定センサが、バッファタンク内の圧力を測定するように構成された圧力センサを備える。
第1の比較器が、バッファタンク内の圧力の変動を表す第1のエラー信号を生成するように構成され、第1の補正器が、第1及び第2の流量設定値が圧力の変動の方向と反対の方向に変化するように、第1及び第2の流れ調節部材の移動を制御する少なくとも第1の制御信号を生成するように構成される。
第1の比較器が、第1の測定信号と、低圧閾値、高圧閾値から選択される少なくとも1つのパラメータとの比較から、少なくとも第1のエラー信号を生成するように構成される。
第1及び第2の流れ調節部材のそれぞれが、第1の流量設定値又は第2の流量設定値がゼロである閉位置と、第1の流量設定値又は第2の流量設定値がそれぞれ第1の最大流量値又は第2の最大流量値を有する全開位置との間で移動可能であり、第1及び第2の流れ調節部材は、閉位置と開位置との間の少なくとも1つの中間位置を占めることができ、前記中間位置は、好ましくは、そのそれぞれの第1又は第2の最大値の少なくとも25%、より好ましくは少なくとも35%に等しい第1の流量設定値又は第2の流量設定値に対応する。
バッファタンクが、プラントの最大生産流量の少なくとも半分に等しい内部容積を有する。
プラントが、バッファタンクの下流に配置され、送達ラインによって送達される混合物の第1のガス及び/又は第2のガスの少なくとも1つの含有量を分析するように構成された第1の分析ユニットを備える。
プラントが、混合装置の第1の出口で生産されたガス混合物の第1のガス及び/又は第2のガスの少なくとも1つの含有量を測定し、結果として少なくとも第2の測定信号を提供するように構成された第2の分析ユニットを備え、制御ユニットは、第2の分析ユニットに接続され、第2の測定信号から第2の制御信号を生成し、前記第2の制御信号に応答して生産流量に対する第1の流量設定値の割合及び/又は第2の流量設定値の割合を修正するように構成される。
プラントが、生産流量に対する第1の流量設定値及び/又は第2の流量設定値のそれぞれの割合から第2の分析ユニットによって提供される第2の測定信号への第2のフィードバックループを備え、第2のループは、
- 制御ユニット内に配置され、第2の測定信号と、第1のガスの目標含有量、第2のガスの目標含有量から選択された少なくとも1つのパラメータとの比較から、少なくとも第2のエラー信号を生成するように構成された第2の比較器と、
- 制御ユニット内に配置された、特に比例、積分、及び微分タイプの第2の補正器であって、第2のエラー信号から第2の制御信号を生成するように構成された第2の補正器と、
- 第2の補正器に接続され、第1及び/又は第2の流れ調節部材を、生産流量に対する第1の流量設定値及び/又は第2の流量設定値の割合が第2の制御信号に従うそれぞれの位置に移動するように構成された、第1及び/又は第2の流れ調節部材のアクチュエータと
を備えるプラント。
制御ユニットが、
- ガス混合物中の第1のガス及び/又は第2のガスの少なくとも1つの目標含有量をユーザが入力するように構成された入力インターフェース、特にタッチスクリーンと、
- 前記目標含有量から、生産流量に対する第1の流量設定値及び/又は第2の流量設定値の所定の割合を計算するための少なくとも1つの計算ルールと
を備えるマン-マシンインターフェースを備える。
プラントが、消費ユニットによってガス混合物が使用される現場に位置する。
さらに、本発明は、ガス混合物を送達するための方法であって、
a.第1のガスを第1の流量設定値で混合装置に送達するように、第1の流れ調節部材に第1のガスを通過させるステップと、
b.第2のガスを第2の流量設定値で混合装置に送達するように、第2の流れ調節部材に第2のガスを通過させるステップと、
c.混合装置の出口を介して、第1のガスと第2のガスを含むガス混合物を生産流量で生産するステップと、
d.第1及び/又は第2の流れ調節部材の制御を介して、第1の流量設定値及び第2の流量設定値を生産流量に対するそれぞれの割合において調整するステップであって、前記それぞれの割合は、ガス混合物中の第1のガス及び/又は第2のガスの少なくとも1つの目標含有量の関数として決定される、調整するステップと、
e.バッファタンクを介して、ステップd)で生産された混合物を送達ラインに導入し、ガス混合物の可変消費を表す消費流量で消費ユニットにガス混合物を送達するステップと、
f.その変動が送達ラインによって送達される消費流量の変動を表す物理量を測定するステップと、
g.ステップf)で行われた測定から、少なくとも第1の測定信号を生成し、第1及び第2の流れ調節部材の制御によって、前記第1の測定信号の関数として第1の流量設定値及び第2の流量設定値を調整するステップと
を含む方法。
次に本発明は、以下に記載する添付図を参照する、非限定的な説明の例として提供される以下の詳細な記載からより深く理解されるであろう。
本発明の一実施形態によるプラントの動作を概略的に示す。 本発明の一実施形態による第1のフィードバックループを概略的に示す。 バッファタンク内の圧力とプラントの生産流量の経時変化の例を表す。 本発明の一実施形態によるプラントによって送達されるガス混合物の流量の経時変化の例を、この経時変化の間に測定されたガス混合物の成分の含有量とともに表す。 図4からの測定された含有量に関連する曲線の拡大図を表す。
図1は、第1のガス1の源と第2のガス2の源とを備える本発明によるプラントを表す。第1のガス1と第2のガス2は、異なる性質である。それらは、単一又は混合された純物質、或いはいくつかの純物質のプレミックス、特に1つの純物質を別の物質で希釈したものであり得る。ガス源のそれぞれは、ガスシリンダ、典型的には50Lまでの水容積を有し得るシリンダ、互いに接続されてシリンダの束を形成するシリンダのセット、又はより大きな容量、特に1000Lまでの容量のタンク、例えば低温貯蔵タンク又は貨物自動車トレーラに配置されたタンクであり得る。好ましくは、源は気体状態で流体を送達する。送達前に、流体は、気体状態、液体状態、すなわち液化ガス、又は液体/気体の二相状態で貯蔵され得る。
図1は、プラントが、2つのガス源から2成分ガス混合物、すなわち2つの成分を含むガス混合物を製造するように構成されている場合を示している。もちろん、本発明によるプラントは、2つを超えるガス源を備え、2つを超える成分を含む混合物、特に3成分又は4成分のガス混合物を製造し得る。
第1のガスの源及び第2のガスの源のそれぞれは、第1のライン21及び第2のライン22によって、それぞれの第1及び第2流れ調節部材41、42に接続されている。これらは、ガス混合装置3に向かって流れる第1のガスの流れ及び第2のガスの流れを調節するために設けられている。好ましくは、ライン21、22は、混合装置の入口32に接続される共有ライン部分を形成するために、混合装置3の上流に位置する接続点31で合流する。このようにして、第1及び第2のガスの混合物は、そこでさらに混合及び均質化されるために、装置3内に入る。ライン21、22がそれぞれ混合装置3の2つの別々の入口32a、32bに開口することも想定できることに留意されたい。
好ましくは、ライン21、22のそれぞれは、これらのラインにおいて優勢な圧力を測定し制御するために、減圧弁及び圧力センサを備える。第1及び第2のガスの圧力はそれぞれ一定に保たれてもよく、典型的には1~10barの間の値である。
各流れ調節部材41、42は、流体の流量を所望の値に最も近い流量値にするために設定、調節、調整するように構成された任意の手段であってよい。
典型的には、流れ調節部材41、42はそれぞれ、弁、例えば比例制御弁など、膨張部材と組み合わせた流れセンサ、すなわち流量計を備える。弁は、空気圧式又は圧電式、アナログ式又はデジタル式であってもよい。弁は、可動部、典型的には少なくとも1つの閉鎖部材を備え、この閉鎖部材は流体の流れの中に置かれ、その変位により、流れ面積を変化させることができ、したがって、設定値に近づけるために流れを変化させることができる。特に、流れ調節部材41、42は、マスフローセンサと比例制御弁とを備えるマスフロー調節器であってもよい。なお、調節が流体の質量の測定に基づくものであっても、設定値や測定された流れ値は、必ずしも質量で表されるとは限らないことに留意されたい。したがって、体積流れの設定値は、比例制御弁の開度のパーセントで表すことができ、これには、被調節部材の制御弁に印加すべき電圧値が対応する。パーセント開度から質量又は体積流れ値への変換は、100%開度に対する調節された流れの公称値を知ることによって達成される。
有利な一実施形態によれば、弁は圧電式である。このタイプの弁は、高い精度、弁に印加される電圧の監視を可能にする良好な再現性を提供する。このような弁はまた、磁場及び無線周波数ノイズに対して比較的鈍感である。また、エネルギー消費が少なく、最小限の発熱で済む。制御面が金属の積層でできているため、ガスとの反応が少ない、或いは全くない。最後に、特に電磁弁と比較して比較的小さな流れ制御キャビティ容積のおかげで、ガスの迅速な交換と優れた動的応答が可能である。
実際には、第1及び第2の流れ調節部材41、42により、第1の流量設定値D1及び第2の流量設定値D2に従って、混合器3に入る第1のガスの流れ及び第2のガスの流れをそれぞれ調節することが可能である。混合装置3の出口33で、ガス混合物は、2つのガス源を有するプラントの場合、第1及び第2のガスの2つの流量D1及びD2の合計に対応する生産流量DPで出て行く。プラントが例えば第3のガスの源を備える場合、流量DPは、混合装置3の方向に、対応する流れ調節部材41、42、43によって調節された流量D1、D2、D3の合計となる。
本発明によるプラントは、その動作を制御するように、特に、設定値D1、D2を、プラントの運転条件の関数として決定され且つ適した値にするために調整するように、第1及び第2の流れ調節部材41、42に接続された制御ユニット5をさらに備える。
これを行うために、流れ調節部材41、42はそれぞれ、有利には、制御ユニット5によって流れ設定値を与えられる閉ループシステムを備える。これらの設定値は、次に、閉ループシステムによって、流れ調節部材41、42によって測定された値と比較され、その結果、その位置は、D1、D2にできるだけ近い流れを混合装置3へ送るために、前記システムによって調整される。
有利には、制御ユニット5は、PLC(Programmable Logic Controller)システムとも呼ばれるプログラマブルコントローラ、すなわち、監督用のマン-マシンインターフェースとデジタル通信ネットワークとを備える産業プロセス用の制御システムを備える。PLCシステムは、プラントの制御サブシステム又は機器を制御するいくつかのモジュラーコントローラを備え得る。これらの機器はそれぞれ、少なくとも1つの測定センサからのデータの取得、少なくとも1つの流れ制御部材に接続された少なくとも1つのアクチュエータの制御、パラメータの調節及びフィードバック、システムの様々な機器間のデータの伝送の中から少なくとも1つの動作を保証するように構成される。
したがって、制御ユニット5は、マイクロコントローラ、マイクロプロセッサ、コンピュータのうちの少なくとも1つを備え得る。制御ユニット5は、プラントの制御機器の様々な部分、特に流れ調節部材41、42、センサ8に接続され、電気的、イーサネット、Modbus等の接続によって前記機器の部分と通信し得る。プラントの機器の全て又は一部に対して、例えば無線周波、WIFI、Bluetooth等の接続による、接続及び/又は情報の送信の他のモードが想定され得る。
まず、電子ロジック5は、ガス混合物中の第1のガスの目標含有量C1及び/又はガス混合物中の第2のガスの目標含有量C2の関数として、生産流量DPに対する流量D1の所定の割合及び/又はDPに対する流量D2の所定の割合、すなわち所定のD1/DP及び/又はD2/DP比率を計算する。
好ましくは、電子ロジック5は、第2のガスの目標含有量C2から第2のガスの流量D2を算出せず、D1からの演繹によってD2を設定する。D2は、DPからD1を差し引いた値に対応する。好ましくは、電子ロジック5は、混合物中のマイナーなガスのものである目標含有量C1から、DPに対する流量D1の所定の割合を計算する。
注意すべきは、例えば三元混合物の場合、D1とD2は、それぞれの目標含有量C1、C2から設定することができ、第3のガスの第3の流量設定値D3は、D1とD2の値から推論されることである。
一実施可能性によれば、制御ユニット5は、入力インターフェース、例えばタッチスクリーンを備えるマン-マシンインターフェース300を備え、ガス混合物中の第1のガス及び/又は第2のガスの前記少なくとも1つの目標含有量のユーザによる入力を可能にする。例えば、含有量は、ガス混合物中に存在する第1のガス又は第2のガスの体積パーセントとして表現されてもよい。より一般的には、マン-マシンインターフェース300は、ユーザが制御ユニット5に指示を与えることを可能にし得る。
流れ調整器部材41、42は、第1及び第2のガスの流れを、ガス混合物に対する目標組成から決定されたそれぞれの設定値D1、D2に調節するように制御ユニット5から命令を受け取る。これらの流量で、第1のガス及び第2のガスは混合装置3に入る。
典型的には、混合装置3は、入口及び出口33が開いている共通の混合器容積を備え、その中で混合物が均質化される。例えば、スタティックミキサータイプの混合器3を使用することができ、これは混合器に入る流体の連続的な混合を可能にする。このタイプの混合器は、一般に、流体の流れを乱すことができる板、管の一部、挿入物などの少なくとも1つの乱し要素を備え、圧力降下及び/又は乱流を発生させて流体の混合及びその均質化を促進する。
したがって、第1及び第2のガスの混合物は、混合装置3の出口33において、生産流量DPで生産される。流量D1、D2は、流量DPと、第1及び第2のガスの所望の含有量C1、C2とによって左右される。
生じる問題の1つは、ガス混合物の需要が変動する消費ユニット10へのガス混合物の送達に関係する。その結果、地点10へガス混合物を運ぶための流量は変動する。
混合装置の出口で生成されるガス混合物の流量を消費されるガスの流量に適合させるために、本発明は、混合装置3の出口33を、ライン23を介してバッファタンク7の入口に接続することを提案する。送達ライン6は、バッファタンク7の出口に流体的に接続され、動作時に、消費ユニット10にガス混合物を送達することを可能にする。
このプラントはバッファタンク7に流体接続されたベントライン25を備え得、そのベント15は過圧の場合に有用なリリーフ弁に連結され、且つガス再処理ユニットへの混合物の通過を制御する弁に連結されていることに留意されたい。この弁により、消費ユニットへの送達の始動段階の間、プラントのラインとバッファタンク7をパージすることが可能になる。
したがって、消費ユニット10へのガス混合物の送達は、消費ユニット10の混合物の消費量に対応する消費流量DCでバッファタンク7から行われる。送達プラントの動作中に流量DCが変化すると、バッファタンク7の上流の生産流量DPは、もはや混合物の需要に対応しなくなる可能性がある。バッファタンク7は、流体回路に提供する補充容積のおかげで、流量DPに対応しない場合でも流量DCでの送達を保証することを可能にする。特に、DPがDCより高い場合、タンク7はガス混合物が送達ラインに強制されるのを防ぎ、過剰生産を吸収する。DPがDCより低い場合、バッファタンク7は、例えば、高い消費率で消費が急速に開始されたときに、ユーザが引き出せる混合物の予備を形成し、生産不足の状況でも流量DCでの送達を保証することを可能にする。
さらにプラントは、物理量(その変動が送達ライン6を流れる消費流量DCの変動を表す)を測定し、対応する第1の測定信号を制御ユニット5に提供する測定センサ8を備える。特に、第1の測定信号は、センサ8によって取得される複数の連続した測定値を備え得る。ユニット5はそれを受信し、第1の制御信号を生成し、それは、第1の制御信号に従って第1の流量設定値D1及び第2の流量設定値D2を調整するように、流れ調節部材41、42に送信される。
したがって、本発明は、消費流量DCの変動、ひいてはユーザの要求に適合させるために、最初に設定された流量設定値D1、D2を再計算することを可能にする。混合装置3は、その制御が消費流量に関連付けられる混合物流量を生成する。
同時に、制御ユニット5は、比率D1/DP及びD2/DPを、それらがガス混合物に所望される第1のガス及び第2のガスの含有量に従うように監視し続けることに留意されたい。
本発明による方法は、以前は消費が検出されなかった消費ユニットによる混合物の消費が始まる間に始動段階を有利に実施する。この始動段階において、ゼロ生産流量DPから、所定の生産流量DPによる第1及び第2のガスの混合物の生産に切り換えられる。
実際には、始動段階において、ユーザは、生成可能な最大生成流量の所定の割合に対応する最小「始動」値に設定可能な所定の流量DPで、ガス混合物の生成を始動することができる。この最大生産流量は、第1及び第2の調節器部材41、42が送達するように設計されている第1の最大流量値及び第2の最大流量値の和に対応する。有利には、所定の割合は、最大生産流量の少なくとも25%、好ましくは少なくとも35%、より好ましくは少なくとも50%である。これにより、D1、D2流れ調節器を測定するセンサを、その最適且つ最も正確な動作範囲で使用することが可能になる。
混合物を消費ユニット10に送達する前に、特に混合物の組成が目標組成に適合しない場合に、生成されたガス混合物をベント15に送達できることに留意されたい。
ユーザは、任意選択的に、バッファタンク7を満たし、そこに混合物の予備を蓄積するために、予想される消費流量DCよりも高い生産流量を最初に設定してもよい。
消費の始動段階の後、生産調節段階が続き、その間生産流量DPは消費流量DCの関数として調整される。調節段階の間、制御ユニット5は、測定センサ8から受信した測定値を介して消費流量DCを監視する。消費流量DCの変化が検出された場合、制御ユニット5は、流量DPを修正された流量DCに一致させるために、混合器の上流に送達された流量D1、D2を適合させる第1の制御信号を発生させる。
好ましくは、測定センサ8は、連続的又は準連続的に測定値を取得する。好ましくは、制御ユニット5は、第1の制御信号の生成及び/又は流れ調節部材への第1の制御信号の送信が、所定の時間間隔、特に1~60秒のオーダーの範囲内の間隔でのみ行われるように構成される。言い換えれば、流量設定値は、設定値の調整が制御ユニット5によって命令されることなく、この時間間隔の間、維持される。これにより、流量DCの不注意による変動に従うプラントの反応を防止すること、又は、動作エラーにつながる可能性のある流量DPの急激すぎる変動の発生を回避することが可能になる。
任意選択的に、流量DCの変動の振幅及び/又は速度に応じて、制御ユニット5は、少なくとも一時的に、生産流量DPを維持するように構成され得る。例えば、消費流量DCが増加した場合、消費ユニット10に接続された消費ユニットは、バッファタンク7を活用して、混合器3の生産不足を補償し得る。消費流量DCが減少する場合、バッファタンク7は、混合器3の過剰生産を吸収するために満たされ得る。
好ましくは、制御ユニット5は、センサ8によって測定された物理量がゼロDC消費流量を表す場合、ガス流を停止するように構成されている。したがって、需要がない場合、プラントは、ガス混合物を生成しない。制御ユニット5はまた、バッファタンク7内の過圧を回避するために、センサ8によって測定された物理量が低消費流量DCを代表している場合、すなわち所与の低流量閾値を下回っている場合に、ガス流を停止するように構成することができる。また、制御ユニット5は、センサ8によって測定された物理量が、所与の高流量閾値よりも高い消費流量DCを代表している場合に、アラーム信号を生成するように構成することができる。
有利には、本発明によるプラントは、第1及び第2の流量設定値D1、D2から第1の測定信号への第1のフィードバックループを使用する。「フィードバックループ」とは、一般に、調節量が、調節される量、すなわちフィードバックされるべき量に作用し、それにより、それをできるだけ早く設定値まで持って行き、そこに維持するようにする方法を監視するためのシステムを意味するように理解される。フィードバックの基本原理は、フィードバックされる量の実際の値と、達成が望まれる設定値との差を連続的に測定し、この差をできるだけ早く減らすために1つ又は複数のアクチュエータに適用される適切なコマンドを計算することである。これは、閉ループ制御システムとも呼ばれる。
第1のフィードバックループにおいて、調節量は、測定センサ8によって測定された物理的な量であり、調節される量は、第1及び第2のガスの流量D1及びD2の調整を介した、生産流量DPである。設定値は、混合物の消費状況に応じて可変である。
センサ8に加えて、第1のフィードバックループは、制御ユニット5内に配置され、第1の測定信号から少なくとも第1のエラー信号を生成するように構成された第1の比較器11Aを備える。第1のエラー信号は、測定された物理量の変動を表すものであり得る。有利には、それは、別の時間に行われた前記物理量の少なくとも1つの測定値と比較することによって得られる。
さらに、第1のフィードバックループは、制御ユニット5内に配置され、第1のエラー信号から第1の制御信号を生成するように構成された第1の補正器12Aを備える。
第1の補正器12Aは、第1の制御信号に応じて、第1の流量設定値D1及び第2流量設定値D2が調整されるそれぞれの位置への第1及び第2流れ調節部材41、42の移動を制御するアクチュエータに制御信号を送信する。典型的には、アクチュエータは、調節器部材内の可動部品の動きを制御し、混合装置3に送られる流量D1、D2を、流量DPとDCとの間の差を小さくする傾向のある方向に変化させる。
好ましくは、第1の補正器12Aは、比例・積分・微分(PID)型であり、比例動作、積分動作、微分動作の3つの複合動作のおかげで、フィードバックの性能を向上させることが可能である。
好ましくは、前述したように、第1のフィードバックループの修正動作は、エラーを生じさせる可能性のある生産速度の急激すぎる変動を防止するために、所定の時間間隔、好ましくは1~60秒の間隔、より好ましくは20秒のオーダーの間隔で設定値D1、D2に対してのみ適用される。この時間間隔は、第1の補正器12Aのパラメータであり得る。
第1の補正器12Aは、特に、第1のエラー信号を処理し、数値計算によってフィードバックループの比例項、積分項、及び微分項を生成するためのマイクロプロセッサ、メモリレジスタ、及びプログラミング命令を含み得る。計算及び/又は実験によって決定されてもよいこれらの項は、調節器部材41、42のための制御信号を提供するために組み合わされる。微分項は任意選択的にゼロであり得る。
図1は、消費ユニット10に送達される消費流量DCを直接測定するように送達ライン6上に配置された、流量計と呼ばれることもある流量センサ8によって測定信号が得られる実施形態を示している。受信され、プラントの様々な要素に送信される信号は、「A」で参照される破線で概略的に示されている。
典型的には、流量DCが増加する場合、制御信号は第1及び第2の流量設定値D1、D2の増加を命令し、流量DCが減少する場合、第1及び第2の流量設定値D1、D2の減少を命令する。
なお、本発明の文脈では、第1及び第2の流れ調節部材41、42のそれぞれは、第1の流量設定値D1又は第2の流量設定値D2がゼロである閉位置と、第1の流量設定値D1又は第2の流量設定値D2が第1の最大流量値又は第2の最大流量値をそれぞれ有する全開位置との間で移動できることに留意されたい。
第1及び第2の流れ調節部材41、42は、任意選択的に、閉位置と開位置との間の少なくとも1つの中間位置を占有してもよい。好ましくは、前記中間位置は、第1の最小流量値又は第2の最小流量値よりも大きいか又はそれに等しい第1の流量設定値D1又は第2の流量設定値D2に対応する。好ましくは、第1の最小流量値及び/又は第2の最小流量値は、それぞれの第1又は第2の最大値の少なくとも25%、より好ましくは少なくとも35%、又は少なくとも50%に等しい。これにより、調節器部材41、42の精度、具体的には調節器部材に使用される流量センサの精度がより良い流量範囲で動作することが可能になる。
一実施形態によれば、プラントは、消費流量DCを表す物理量としてバッファタンク7内の圧力を測定する圧力センサ8を使用する。したがって、消費流量DCの変動は、バッファタンク7内の圧力変動を決定することによって間接的に決定される。測定信号が、ライン6に接続されたセンサ8ではなく、バッファタンクに接続されたセンサ8によって生成されることを除けば、図1の表現はそのまま適用可能である。
本発明によるプラントは、一方は流量センサ、他方は圧力センサである2つのセンサ8を備え得ることに留意されたい。これらのセンサは、上述したとおりであり、それぞれがそれぞれの第1の測定信号を生成する。所定の選択基準に応じて、制御ユニット5は、センサ8の一方又は他方からの測定信号から第1の制御信号を生成するように構成される。好ましくは、制御ユニット5は、2つの測定センサ8のうち、最も高い流量を表す物理量値を測定する方からの第1の測定信号を使用することを選択する。
実際には、消費ユニット10への流量DCが増加すると、混合装置3の出力で生産される生産流量DPが不十分となり始める。消費ユニット10に接続された消費プラントは、混合装置3の生産不足を補うためにバッファタンク7を活用し、これはタンク7内の圧力の低下につながる。
圧力センサ8は、第1の測定信号を第1の比較器11Aに送り、比較器は、圧力降下情報に対応する第1のエラー信号を生成して第1の補正器12Aに送信し、第1及び第2の流量設定値D1、D2が第1のフィードバックループによって決定され得る適切な係数によって増加するように第1及び第2の流れ調節部材41、42に適用される第1の制御信号を計算する。
1つの実施形態の可能性によれば、第1の比較器11Aは、第1の測定信号と、低圧閾値、高圧閾値、から選択される少なくとも1つのパラメータとの比較から少なくとも第1エラー信号を生成するように構成される。これらの閾値は、動作条件、プラントの特性等に応じて調整することができる。バッファタンク7内の圧力が低圧閾値に達すると、第1の補正器は、所与の流量設定値D1、D2に従って第1及び第2のガスの流れを調節するように流れ調整器部材に命令する。
この動作モードは、調節段階の間、また消費の始動段階の間に使用可能である。始動段階の場合、バッファタンク7内の圧力が低圧閾値に達するとすぐに、流れ調整器部材は、始動値に設定された流量DPでガス混合物を生成するように第1及び第2のガスの流れを調節するように命令される。特に、流量設定値D1、D2は、それぞれ第1の最小流量値及び第2の最小流量値に対応し得る。流れ調節部材41、42はそれぞれ、バッファタンク7内の高圧閾値に達するまで、始動値に等しい流量DPをもたらす最小流量を生成するために始動する。
1つの可能性によれば、タンク7内の圧力が十分に増加しない場合、特に高圧閾値に達しない場合、又は圧力が十分に速く増加しない場合、流量設定値D1、D2は、好ましくはPID型の第1の補正器12Aによる調節方式に従って増加され、この場合流量の増加は圧力の降下に応じる。
タンク7内の圧力が高圧閾値に達すると、流れ調節部材41、42を、流量D1、D2がゼロであるそれぞれの閉位置に移動させることができる。
図2は、D1とD2の和に相当する生産流量DPがバッファタンク7内の圧力P7の変動に応じて補正されるPID型の第1の補正器を備えた第1のフィードバックループの効果の一例を示している。第1の最大流量値と第2の最大流量値との和に対応するプラントの最大生産流量DPは、100sL/min(標準リットル/分)、すなわち6Nm3/h(標準立方メートル/時)に設定される。第1及び第2の最小流量値の和に対応するプラントの最小生産流量DPは、25sL/min(標準リットル/分)、すなわち1.5Nm3/hに設定される。高圧及び低圧の閾値は、それぞれ4bar及び3.8barに設定されている。
図2は、プラントの動作中に直面し得る様々なシナリオを概略的に示している。DP=DCの場合、圧力は4barで安定している(図2の右下の灰色の矢印)。その後、DC>0、しかしDP=0と仮定すると、バッファタンクの圧力は3.8barに降下する(灰色の矢印に沿って左へ移動)。この圧力が流れ調節器の始動圧力である。流量DPは最小始動値、すなわち25sL/minである。制御ユニットが流れ調節器に流量DP<DCを生成するように命令するとすぐに、圧力はプラントの最大DP流量に等しいDC流量、すなわち100sL/minに達するまで降下する(灰色の矢印に沿って下から上へ移動)。DCが減少するとすぐに、すなわちDP>DCになるとすぐに、バッファタンクが満たされ始め、圧力が3.5barから4barに上昇する(黒線の破線の矢印に従うことによって)。4barはバッファタンクの充填を停止する圧力である。
実際に生じる例が図3に示され、バッファタンク内の圧力(破線)と生産流量DP(実線曲線)の経時変化を示している。グラフの開始時(領域A)、圧力降下がない場合、流量設定値は0のままである。圧力が降下するとすぐに(領域B)、流量設定値が流れ調節器D1及びD2に与えられ、圧力が安定しない場合は一定間隔で増分により増加される。圧力が安定するとすぐに、バッファタンクへの充填が停止される(領域C)。圧力が再び降下した場合(領域D)、消費DCを提供し、バッファタンクの圧力を安定した状態に維持することを可能にするために、流れ調節器の設定値が望ましい値に調整される。
標準立方メートルとは、常温常圧条件下(基準系により0℃又は15℃又はまれに20℃、及び1気圧、すなわち101 325Pa)のガスについて、1立方メートルの内容物に相当するガス量の測定単位であることに注意されたい。純ガスの場合、1標準立方メートルは約44.6モルのガスに相当する。
バッファタンクは、有利には、プラントの最大生産流量DPの少なくとも半分に等しい内部容積を有することに留意されたい。
Figure 2023528067000002
この最小内部容積に従うことで、DCの偶発特性に関係がある圧力変動を吸収することが可能となる。バッファタンクは、少なくとも1L、又は少なくとも50L、或いは1000L以上の内部容積を有し得る。好ましくは、バッファタンクの内部容積は50~400Lである。バッファタンクは単一のタンクで形成されてもよいし、互いに流体的に接続された複数のタンクで形成されてもよく、バッファタンクの内部容積は各タンクの容積の合計と理解される。
図1に見られるように、このプラントは、供給ライン6によって送達されるガス混合物中の第1のガス及び/又は第2のガスの少なくとも1つの含有量を分析するように構成された第1の分析ユニット13を備え得る。これにより、特にプラントの開始段階の間に、測定された含有量が目標含有量に適合するように、ガス混合物の送達を調整することが可能になる。目標含有量C1、C2に対して0.1~5%(相対%)のオーダーの公差を設定することができる。生産された混合物が適合しない場合、生産は任意選択的に停止される場合がある。好ましくは、第1の分析ユニット13は、特にガス混合物中のマイナーなガスであり得る第1のガスの含有量を分析するように構成されている。さらに、本発明によるプラントは、混合装置3によって生産されたガス混合物中の第1のガス及び/又は第2のガスの少なくとも一方の含有量を測定するように、バッファタンク7の上流に配置された第2の分析ユニット14を備え得る。第2の分析ユニット14は、少なくとも制御ユニット5向けの第2の測定信号を結果として提供するように構成され、制御ユニット5は、第2の測定信号から第2の制御信号を生成する。第2の制御信号は、混合装置3を出るガス混合物の実際の組成が含有量C1、C2(C2は好ましくはC1から推測され、測定されない)を有する目標組成に近づくように、生産流量DPに関連して第1の流量設定値D1及び第2の流量設定値D2の割合の一方及び/又は他方を調整するように流量調節器部材41、42の一方及び/又は他方を制御するために使用される。混合物の組成の制御の文脈で、プラントの様々な要素に受信及び送信される信号は、破線「B」によって概略的に表される。
混合装置によって生産された混合物の含有量のこの制御は、流れ調節部材41、42によって実際に調節された流量と、それらに適用された流量設定値D1、D2との間のあり得る誤差を補償することを可能にする。混合装置の出口とバッファタンク7の入口との間に位置するサンプリング地点の配置により、含有量のあり得る変動をより迅速に検出して対応することが可能になり、かくしてバッファタンク7で不適合な混合物を消費するリスクを回避することができる。
なお、混合物を取り込んで分析ユニットに運ぶラインは、分析装置がリアルタイム又は実質的にリアルタイムで非常に正確な応答を提供するように、有利に可能な最短長さを有することに留意されたい。好ましくは、ラインは、混合物がそのサンプリング地点で採り込まれる瞬間と分析ユニットがその測定値を与える瞬間との間の間隔が最小、典型的には30秒未満、特に1~30秒の間であるようなものである。
好ましくは、第2の制御信号は、第1のガス又は第2のガスについて、測定された含有量と目標含有量との間の差に関する少なくとも1つの情報を含む第2のエラー信号から生成される。好ましくは、第1のガスの含有量のみが測定され、その目標値と比較され、第1のガスは混合物中のマイナーなガスである。この差は、特に次のように表すことができる:
Figure 2023528067000003
式中、M1は第1のガスの測定された含有量である。相対差ΔC1は、第1の流量設定値D1の補正係数として使用することができる。
混合装置3の出口における生産流量DPが100sL/minである2種類のガスの混合物を生産するように構成されたプラントの例を考える。所望のガス混合物は、目標含有量C1が4%の第1のガスと、残り、したがって含有量C2が96%(体積%)の第2のガスとで形成された混合物である。したがって、DPに対して4%の割合に対応する4sL/min(0.24Nm3/h)の第1の流量設定値D1と、DPに対して96%の割合に対応する96sL/min(5.76Nm3/h)の第2の設定値D2がそれぞれの流れ調整器部材41、42に適用される。ここで、プラスマイナス1%の流れ調整器部材41、42の制御精度が仮定される。ここでは、D1に-1%、D2に+1%の誤差がある場合を例にとって説明する。これにより、第1のガスの実際の流量は3.96sL/min、第2のガスの実際の流量は96.96sL/min、実際の生産流量は100.92sL/minとなる。混合装置3の出口で3.92%の第1のガス含有量が測定され、これは目標含有量C1に対する-2%(相対%)の差ΔC1に相当する。制御ユニット5は、この差を補償するために、DPに対する流量割合D1及びD2を調整するように流れ調整器部材41、42に命令する第2の制御信号を生成する。このようにして、第1の設定値D1は、D1+2%、すなわち4.08sL/minに調整される。
好ましくは、第1の設定値D1のみが第2の測定信号に従って調整され、制御ユニット5は、D2の維持を制御する。第2の制御信号に応じてD2も調整されることが可能であることが理解される。上記の例では、D2は95.04sL/minに調整されることになる。補正は、制御ユニット5に予め記憶された目標含有量の少なくとも1つに補正係数を適用することによっても行うことが可能であり、上記の例では0.03に等しい係数による補正であり、結果としてD1を4.08sL/minに調整する効果を有することに留意されたい。
任意選択的に、プラントは、第1の分析ユニット及び/又は第2の分析ユニットが予想される許容範囲外の含有量を検出した場合にアラーム信号を発するように構成されたアラームを備え得る。
第1の分析ユニット13及び/又は第2の分析ユニット14は、特に以下の種類の検出器から選択されてもよい:熱伝導検出器、常磁性交互圧力検出器、触媒吸着検出器、非分散赤外線吸収検出器、赤外線スペクトロメータ。分析ユニットの種類は、分析するガスの性質に応じて適合させることができる。第1の分析ユニット13と第2の分析ユニット14は、任意選択的に入れ替わってもよい。好ましくは、第1の分析ユニット13及び第2の分析ユニット14は、分析されたガス混合物をその中に排出するように、ベント15に接続される。
一実施形態によれば、プラントは、生産流量DPに対する第1の流量設定値D1及び/又は第2の流量設定値D2のそれぞれの割合から第2の分析ユニット14によって提供された第2の測定信号への第2のフィードバックループを備え得る。
第2のフィードバックループにおいて、調節量は、第2の分析ユニット14によって測定された含有量であり、調節される量は、割合D1/DP、D2/DPのうちの一方及び/又は他方である。設定値は、測定された実際の含有量に応じて可変である。
第2のループは、制御ユニット5内に配置され、第2の測定信号と、第1のガスの目標含有量C1、第2のガスの目標含有量C2から選択された少なくとも1つのパラメータとの比較から少なくとも第2のエラー信号を生成するように構成される第2の比較器11Bを備える。第2の補正器12Bは、制御ユニット5内に配置され、特にPID型であり、第2のエラー信号から第2の制御信号を生成するように構成される。第2の制御信号に応答して、第1及び第2の流れ調節部材41、42のアクチュエータは、DPに対するD1及び/又はD2の割合が第2の制御信号に従うそれぞれの位置への第1及び第2の流れ調節部材41、42の移動を命令する。好ましくは、D1の割合のみが調整され、フィードバックループは、D2に固定されたままであるように命令する。
第1の比較器と第2比較器は、任意選択的に、センサ8及び第2の分析ユニット14からの測定値の両方を入力データとして受け取り、適切なエラー信号を出力として生成するように構成された同一のエンティティを形成し得ることに留意されたい。同じことが、第1及び第2の補正器にも当てはまる。
本発明によるプラントは、半導体、光電池、LED、フラットスクリーン産業などの様々な産業、又は鉱業、医薬、宇宙又は航空産業などの任意の他の産業で用いられるガス混合物の送達のために使用することが可能である。
好ましくは、プラントは、少なくとも制御ユニット5、混合装置3、流れ調整器部材、測定センサ8及びバッファタンク7が設置された少なくとも1つのガスキャビネットを備える。第1及び第2のガスの源は、キャビネットの内側又は外側のいずれに配置されてもよい。好ましくは、キャビネットが合理的な接地面積を保持するように、源はキャビネットの外側に配置される。好ましくは、制御ユニット5は、キャビネットの壁の1つに固定されるか、又はキャビネットから距離を置いて配置されることにより、キャビネットの外側に配置される。
ガスキャビネットは、後壁、側壁、前壁、底面、及び天井を有するハウジングを備え得る。ハウジング内には、底面に立ち、従来技術で知られる方法でハウジング内に固定することができる1つ又は複数のバッファタンクが設けられる。ガス配管システムは、前記ハウジング内に、好ましくはキャビネットの底面に対して配置される。キャビネットは、ガス配管システムを制御及び/又は維持するための手段、例えば弁、減圧弁、圧力測定部材等などを備えてもよく、ガスの送達、特定の配管又は配管の一部の開閉、ガス圧の管理、パージサイクルの実行、漏れ検査等などの操作を行うことを可能にする。
ハウジングは、第1及び第2のガスを供給するためのガス入口開口部と、ガス混合物を送達するためのガス出口開口部とを備える。送達ライン6は、出口開口部に接続されている。動作時には、ガスキャビネットは送達ライン6を介して消費ユニットに接続される。他のガス入口は、特にパージガス又は分析装置の較正のための標準ガス用に設けられてもよい。
特に、本発明によるプラントは、以下の組成を有するガス混合物を生産するために使用することができる:
- 窒素(N)、アルゴン又はヘリウムなどの不活性ガス中の水素(H)、
- 窒素又はアルゴンなどの不活性ガス中のヘリウム、
- 窒素、アルゴン、又はヘリウムなどの不活性ガス中の二酸化炭素(CO)、
- 窒素、アルゴン、又はヘリウムなどの不活性ガス中のメタン(CH)、
- 窒素、アルゴン又はヘリウムなどの不活性ガス中の酸素(O)。
好ましくは、第1のガスの目標含有量C1、特にH2、ヘリウム、CO2、CH4、O2の目標含有量は、0.0001~50%、好ましくは0.1~20%であり、残りは第2のガスである。
本発明によるプラントの効率を実証するために、第2のガスとしての窒素中に第1のガスとしての水素を含む混合物の現場での製造及び送達を行った。水素の目標含有量C1は4%(体積%)であった。このプラントは、上記のようなPID型の第1のフィードバックループと、任意選択的に、消費ユニットに必要な精度要件に応じて、第2のフィードバックループとを備えていた。
図4は、第2のフィードバックループを備えるプラントの送達ラインによって送達されるガス混合物流量DCの記録と、この記録中に測定された水素含有量とを示す。
図5は、図4における含有量の記録の拡大図である。
典型的には0~150sL/minの間で変化するガス混合物流量DCを、第2のフィードバックループなしで3%のオーダーの相対標準偏差及び第2のフィードバックループありで1%のオーダーの相対標準偏差によって特徴付けられる含有量の安定性で製造することができた。
本記載は、2成分を含有するガス混合物を記載しているが、より多くの成分を有する任意の混合物に転用可能であることに留意されたい。例えば、3成分ガス混合物の場合、3つの源がそれぞれ第1のガス、第2のガス、及び第3のガスを送達する。流れ調節部材41、42、43は、それぞれの流量設定値D1、D2、D3で第1、第2、第3のガスの流れを調整するように制御ユニット5から命令を受け取る。混合装置は、D1、D2、D3の和に等しい流量DPの混合物を送達するように構成される。DPに対する第1、第2及び第3のガスの割合は、ガス混合物中のそれぞれ第1のガス、第2のガス及び第3のガスの3つの目標含有量C1、C2、C3のうちの少なくとも2つの関数として決定される。2種類のガスを含有する混合物について前述した特徴の全部又は一部は、3種類以上のガスを含有するこの混合物にも転用可能である。

Claims (15)

  1. - 第1のガスの源(1)と、
    - 第2のガスの源(2)と、
    - 前記第1のガスの源(1)及び前記第2のガスの源(2)に流体的に接続された混合装置(3)であって、前記第1のガス及び前記第2のガスを含むガス混合物を出口(33)で生産するように構成された混合装置(3)と、
    - 前記混合装置(3)の出口(33)における前記ガス混合物の生産流量(DP)を動作時に定める第1の流量設定値(D1)及び第2の流量設定値(D2)に従って混合装置(3)に向かって流れる前記第1のガスの流れ及び前記第2のガスの流れをそれぞれ調節するように構成された第1の流れ調節部材(41)及び第2の流れ調節部材(42)と、
    - 前記生産流量(DP)に対してそれぞれの割合で前記第1の流量設定値(D1)及び前記第2の流量設定値(D2)を調整するように前記第1及び第2の流れ調節部材(41、42)を制御するように構成された制御ユニット(5)であって、前記それぞれの割合は、前記ガス混合物中の第1のガス及び/又は第2のガスの少なくとも1つの目標含有量(C1、C2)の関数として決定される、制御ユニット(5)と、
    - 一方では前記混合装置(3)の出口(33)に、他方では送達ライン(6)に流体接続されたバッファタンク(7)であって、前記送達ライン(6)は、前記ガス混合物の可変消費を表す消費流量(DC)で消費ユニット(10)に前記ガス混合物を送達するように構成されている、バッファタンク(7)と、
    - その変動が前記送達ライン(6)によって送達される前記消費流量(DC)の変動を表す物理量を測定し、前記物理量の第1の測定信号を提供するように構成された少なくとも1つの測定センサ(8)とを備え、
    前記制御ユニット(5)は、前記測定センサ(8)に接続され、前記第1の測定信号から第1の制御信号を生成するように構成され、前記流れ調節部材(41、42)は、前記第1の制御信号に応答して前記第1の流量設定値(D1)及び前記第2の流量設定値(D2)を調整するように構成されている、
    ガス混合物を送達するためのプラント。
  2. 前記第1及び第2の流量設定値(D1、D2)から前記測定センサ(8)によって提供される前記第1の測定信号への第1のフィードバックループを備え、前記第1のループが、
    - 前記制御ユニット(5)内に配置され、前記第1の測定信号から少なくとも第1のエラー信号を生成するように構成された第1の比較器(11A)と、
    - 前記制御ユニット(5)内に配置された、特に比例、積分及び微分(PID)タイプの第1の補正器(12A)であって、前記第1のエラー信号から前記第1の制御信号を生成するように構成された第1の補正器(12A)と、
    - 前記第1の補正器(12A)に接続され、前記第1の制御信号を受信し、前記第1及び第2の流れ調節部材(41、42)を、前記第1の流量設定値(D1)及び前記第2の流量設定値(D2)が前記第1の制御信号に適合するそれぞれの位置に移動するように構成された、前記第1及び第2の流れ調節部材(41、42)のアクチュエータと
    を備えることを特徴とする、請求項1に記載のプラント。
  3. 前記測定センサ(8)が、前記消費流量(DC)を測定するように構成された流れセンサ又は流量計を備えることを特徴とする、請求項1又は2に記載のプラント。
  4. 前記第1の比較器(11A)が、前記消費流量(DC)の変動を表す少なくとも第1のエラー信号を生成するように構成され、前記第1の補正器(12A)が、前記第1及び第2の流量設定値(D1、D2)が前記流量(DC)の変動の方向と同じ方向に変化するように、前記第1及び第2の流れ調節部材(41、42)の移動を制御する第1の制御信号を生成するように構成されることを特徴とする、請求項2及び3に記載のプラント。
  5. 前記測定センサ(8)が、前記バッファタンク(7)内の圧力を測定するように構成された圧力センサを備えることを特徴とする、請求項1又は2に記載のプラント。
  6. 前記第1の比較器(11A)が、前記バッファタンク(7)内の圧力の変動を表す第1のエラー信号を生成するように構成され、前記第1の補正器(12A)が、前記第1及び第2の流量設定値(D1、D2)が前記圧力の変動の方向と反対の方向に変化するように、前記第1及び第2の流れ調節部材(41、42)の移動を制御する少なくとも第1の制御信号を生成するように構成されることを特徴とする、請求項2及び5に記載のプラント。
  7. 前記第1の比較器(11A)が、前記第1の測定信号と、低圧閾値、高圧閾値から選択される少なくとも1つのパラメータとの比較から、少なくとも第1のエラー信号を生成するように構成されることを特徴とする、請求項5又は6に記載のプラント。
  8. 前記第1及び第2の流れ調節部材(41、42)のそれぞれが、前記第1の流量設定値(D1)又は前記第2の流量設定値(D2)がゼロである閉位置と、前記第1の流量設定値(D1)又は前記第2の流量設定値(D2)がそれぞれ第1の最大流量値又は第2の最大流量値を有する全開位置との間で移動可能であり、前記第1及び第2の流れ調節部材(41、42)は、前記閉位置と前記開位置との間の少なくとも1つの中間位置を占めることができ、前記中間位置は、好ましくは、そのそれぞれの第1又は第2の最大値の少なくとも25%、より好ましくは少なくとも35%に等しい第1の流量設定値(D1)又は第2の流量設定値(D2)に対応することを特徴とする、請求項2~7のいずれか一項に記載のプラント。
  9. 前記バッファタンクが、前記プラントの最大生産流量の少なくとも半分に等しい内部容積を有することを特徴とする、請求項1~8のいずれか一項に記載のプラント。
  10. 前記バッファタンク(7)の下流に配置され、前記送達ライン(6)によって送達される混合物の第1のガス及び/又は第2のガスの少なくとも1つの含有量を分析するように構成された第1の分析ユニット(13)を備えることを特徴とする、請求項1~9のいずれか一項に記載のプラント。
  11. 前記混合装置(3)の前記第1の出口(33)で生産された前記ガス混合物の第1のガス及び/又は第2のガスの少なくとも1つの含有量を測定し、結果として少なくとも第2の測定信号を提供するように構成された第2の分析ユニット(14)を備え、前記制御ユニット(5)は、前記第2の分析ユニット(14)に接続され、前記第2の測定信号から第2の制御信号を生成し、前記第2の制御信号に応答して前記生産流量(DP)に対する前記第1の流量設定値(D1)の割合及び/又は前記第2の流量設定値(D2)の割合を修正するように構成されることを特徴とする、請求項1~10のいずれか一項に記載のプラント。
  12. 前記生産流量(DP)に対する前記第1の流量設定値(D1)及び/又は前記第2の流量設定値(D2)のそれぞれの割合から前記第2の分析ユニット(14)によって提供される前記第2の測定信号への第2のフィードバックループを備え、前記第2のループが、
    - 前記制御ユニット(5)内に配置され、前記第2の測定信号と、前記第1のガスの目標含有量(C1)、前記第2のガスの目標含有量(C2)から選択された少なくとも1つのパラメータとの比較から、少なくとも第2のエラー信号を生成するように構成された第2の比較器(11B)と、
    - 前記制御ユニット(5)内に配置された、特に比例、積分、及び微分(PID)タイプの第2の補正器(12B)であって、前記第2のエラー信号から前記第2の制御信号を生成するように構成された第2の補正器(12B)と、
    - 前記第2の補正器(12B)に接続され、前記第1及び/又は第2の流れ調節部材(41、42)を、前記生産流量(DP)に対する前記第1の流量設定値(D1)及び/又は第2の流量設定値(D2)の割合が前記第2の制御信号に従うそれぞれの位置に移動するように構成された、前記第1及び/又は第2の流れ調節部材(41、42)のアクチュエータと
    を備えることを特徴とする、請求項11に記載のプラント。
  13. 前記制御ユニット(5)が、
    - 前記ガス混合物中の前記第1のガス及び/又は前記第2のガスの少なくとも1つの目標含有量(C1、C2)をユーザが入力するように構成された入力インターフェース、特にタッチスクリーンと、
    - 前記目標含有量から、前記生産流量(DP)に対する第1の流量設定値(D1)及び/又は第2の流量設定値(D2)の所定の割合を計算するための少なくとも1つの計算ルールと
    を備えるマン-マシンインターフェース(300)を備えることを特徴とする、請求項1~12のいずれか一項に記載のプラント。
  14. 請求項1~13のいずれか一項に記載のプラントと、前記ガス混合物を消費する消費ユニット(10)とを備え、前記プラント及び前記消費ユニット(10)が前記送達ライン(6)を介して流体的に接続されている、ガス混合物を送達するためのアセンブリ。
  15. ガス混合物を送達するための方法であって、
    a)第1のガス(1)を第1の流量設定値(D1)で混合装置(3)に送達するように、第1の流れ調節部材(41)に前記第1のガス(1)を通過させるステップと、
    b)第2のガス(2)を第2の流量設定値(D2)で前記混合装置(3)に送達するように、第2の流れ調節部材(42)に前記第2のガス(2)を通過させるステップと、
    c)前記混合装置(3)の出口(33)を介して、前記第1のガスと前記第2のガスを含むガス混合物を生産流量(DP)で生産するステップと、
    d)前記第1及び/又は第2の流れ調節部材(41、42)の制御を介して、前記第1の流量設定値(D1)及び前記第2の流量設定値(D2)を前記生産流量(DP)に対するそれぞれの割合において調整するステップであって、前記それぞれの割合は、前記ガス混合物中の第1のガス及び/又は第2のガスの少なくとも1つの目標含有量(C1、C2)の関数として決定される、調整するステップと、
    e)バッファタンク(7)を介して、ステップd)で生産された前記混合物を送達ライン(6)に導入し、前記ガス混合物の可変消費を表す消費流量(DC)で消費ユニット(10)に前記ガス混合物を送達するステップと、
    f)その変動が前記送達ライン(6)によって送達される前記消費流量(DC)の変動を表す物理量を測定するステップと、
    g)ステップf)で行われた第1の測定から、少なくとも第1の測定信号を生成し、前記第1及び第2の流れ調節部材(41、42)の制御によって、前記第1の測定信号の関数として前記第1の流量設定値(D1)及び前記第2の流量設定値(D2)を調整するステップと
    を含む方法。
JP2022574653A 2020-06-05 2021-05-31 ガス混合物を送達するためのプラント及び方法 Pending JP2023528067A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR2005922 2020-06-05
FR2005922A FR3111085B1 (fr) 2020-06-05 2020-06-05 Installation et procédé de distribution d’un mélange de gaz
PCT/EP2021/064478 WO2021245000A1 (fr) 2020-06-05 2021-05-31 Installation et procédé de distribution d'un mélange de gaz

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2023528067A true JP2023528067A (ja) 2023-07-03

Family

ID=73013520

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022574653A Pending JP2023528067A (ja) 2020-06-05 2021-05-31 ガス混合物を送達するためのプラント及び方法

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20230277993A1 (ja)
EP (1) EP4162521A1 (ja)
JP (1) JP2023528067A (ja)
KR (1) KR20230021674A (ja)
CN (1) CN115917721A (ja)
FR (1) FR3111085B1 (ja)
TW (1) TW202206740A (ja)
WO (1) WO2021245000A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117452866B (zh) * 2023-12-22 2024-03-22 中信戴卡股份有限公司 一种铝合金精炼动态智能控制方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2631856B1 (fr) * 1988-05-31 1991-09-13 Rhone Poulenc Chimie Procede de melange et de compression de gaz, a debit controle, stable en debit et en composition, a partir d'au moins deux sources sous pression
JP3174856B2 (ja) * 1993-05-07 2001-06-11 日本エア・リキード株式会社 混合ガス供給装置
KR100992773B1 (ko) * 2008-05-13 2010-11-05 주식회사 동부하이텍 반도체 제조 공정용 희석가스 공급장치 및 그 방법
FR2936038B1 (fr) 2008-09-16 2011-01-07 Air Liquide Installation miniaturisee de fabrication de melanges de gaz speciaux.

Also Published As

Publication number Publication date
EP4162521A1 (fr) 2023-04-12
FR3111085B1 (fr) 2023-05-12
US20230277993A1 (en) 2023-09-07
WO2021245000A1 (fr) 2021-12-09
KR20230021674A (ko) 2023-02-14
TW202206740A (zh) 2022-02-16
FR3111085A1 (fr) 2021-12-10
CN115917721A (zh) 2023-04-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7328726B2 (en) Ramp rate blender
US5868159A (en) Pressure-based mass flow controller
US9556518B2 (en) Raw material gas supply apparatus for semiconductor manufacturing equipment
JP2017076800A (ja) ガス制御システム、及び、ガス制御システム用プログラム
WO2013035232A1 (ja) 原料濃度検出機構を備えた原料気化供給装置
KR101397862B1 (ko) 압축가스의 혼합 방법 및 장치
CN102954819A (zh) 气体流量检定系统及气体流量检定单元
US20190354122A1 (en) Dynamic gas blending system and process for producing mixtures with minimal variation within tolerance limits and increased gas utilization
JP2019505036A (ja) 流体制御システム
JP2023528067A (ja) ガス混合物を送達するためのプラント及び方法
TW202138128A (zh) 隨選之化學品管道調和與供應
CN109596339B (zh) 安全阀型式试验自动控制系统及方法
US20150112493A1 (en) Method and system for measuring a rate of flow of an output
US20120092950A1 (en) Low pressure drop blender
US20230285911A1 (en) Facility and method for distributing a gas mixture for doping silicon wafers
CN112162482A (zh) 一种适应复杂流场的智能组合优化整流装置及方法、应用
US20230357657A1 (en) System and method for blending hydrogen gas
CN210375338U (zh) 二氧化碳管线流量调节系统
JP5194969B2 (ja) 流体払出装置
US20210039055A1 (en) Mixing manifold and delivery system for gas delivery
JP4395720B2 (ja) 供給装置
KR20220065178A (ko) 질량유량 조절기의 교정장치
JPH0215314A (ja) 計量制御装置

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20230207

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20221212

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20230105

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20240325