JP2023506702A - 放射源用容器 - Google Patents

Abstract

ＥＵＶ放射源用の容器（１６）であって、容器の内部（３２）にアクセスするための第１の開口（３０）と、第１の開口を介した容器の内部へのアクセスを可能又は不能にするように構成された第１のアクセス部材（３４）と、容器の内部にアクセスするための、第１のアクセス部材に配置されている第２の開口（３６）と、第１のアクセス部材に配置され、第２の開口を介した容器の内部へのアクセスを可能又は不能にするように構成された第２のアクセス部材（３８）と、を備える。【選択図】図３Ａ

Description

関連出願の相互参照
[0001] この出願は、２０１９年１２月１７日に出願された米国出願第６２／９４８，９１１号の優先権を主張し、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。

[0002] 本発明は、極端紫外線（ＥＵＶ）放射源などの放射源用の容器、並びにこれに関連する装置、システム及び方法に関する。

[0003] リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に適用するように構築された機械である。リソグラフィ装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。リソグラフィ装置は、例えばパターニングデバイス（例えばマスク）でのパターンを、基板上に設けられた放射感応性材料（レジスト）の層に投影することができる。

[0004] 基板上にパターンを投影するために、リソグラフィ装置は電磁放射を使用することができる。この放射の波長は、基板上に形成可能なフィーチャの最小サイズを決定する。４～２０ｎｍの範囲内、例えば６．７ｎｍ又は１３．５ｎｍの波長を有する極端紫外線（ＥＵＶ）放射を使用するリソグラフィ装置は、例えば１９３ｎｍの波長を有する放射を使用するリソグラフィ装置よりも小さいフィーチャを基板上に形成するのに使用することができる。

[0005] リソグラフィ装置は、放射源を備えることもあるリソグラフィシステムの一部である場合がある。ＥＵＶ放射はプラズマを用いて生成されることがある。プラズマは、例えば放射源内の燃料にレーザビームを向けることによって生成されることがある。結果として生じるプラズマはＥＵＶ放射を放出することがある。燃料の一部が燃料デブリになることがあり、燃料デブリは放射源の１つ以上のコンポーネント上に蓄積することがある。

[0006] 放射源は、放射源のコンポーネントへの燃料デブリの堆積を低減するように構成され得るデブリ軽減システムを備えることがあるが、放射源のコンポーネントの中には、例えば燃料デブリの堆積によって交換が必要となるものが依然として存在する場合がある。付加的又は代替的に、放射源のコンポーネントの中には欠陥が生じるものがあり、その結果、交換が必要になることがある。

[0007] かかるコンポーネントは放射源の内部に配置され、アクセスが困難な場合がある。従って、その交換は非常に時間がかかり、多くの工程及び／又は特殊工具が必要になる場合がある。これらのコンポーネントの交換に必要とされるあらゆる工程は、放射源の１つ以上のコンポーネントもしくは部品及び／又は使用される工具への損傷のリスクを伴うことがある。これらのコンポーネントの交換によって、リソグラフィ装置のかなりのダウンタイムが生じる、及び／又はサービス又は保守費用が高くなることがある。

[0008] 本発明の第１の態様によれば、ＥＵＶ放射源などの放射源用の容器であって、容器の内部にアクセスするための第１の開口と、第１の開口を介した容器の内部へのアクセスを可能又は不能にするように構成された第１のアクセス部材と、容器の内部にアクセスするための、第１のアクセス部材に配置されている第２の開口と、第１のアクセス部材上に配置され、第２の開口を介した容器の内部へのアクセスを可能又は不能にするように構成された第２のアクセス部材と、を備える容器が提供される。

[0009] 第１のアクセス部材上への第２のアクセス部材の配置は、容器、例えば第１及び第２のアクセス部材のコンパクトな配置を可能にすることがある。付加的又は代替的に、第１のアクセス部材上への第２のアクセス部材の配置は、例えば第２のアクセス部材が第１のアクセス部材から離れて設けられる配置と比べて、容器の内部へのアクセスを容易にする、及び／又は第１の開口のサイズ又は寸法を大きくすることができる場合がある。

[0010] 第１のアクセス部材及び第２のアクセス部材の配置は、容器の内部への遮るもののないアクセスを可能にすることがある。これは容器の内部へのアクセスを改善することがある。容器の内部へのアクセスが改善されることによって、放射源の１つ以上のコンポーネントを交換するために必要であり得る工程の数が減ることがある。例えば、容器に隣接して又は容器の前方に配置され得るコンポーネント又は部品の取り外しが必要ない場合がある。付加的又は代替的に、例えば容器の内部にアクセスするための容器の移動は必要ない場合がある。これによって、放射源の１つ以上のコンポーネントを交換するために必要とされる時間及び／又は人員が減ることがある。

[0011] 第１の開口は、放射源の第１のコンポーネントへのアクセスを可能にするように構成されることがある。第１の開口は、放射源の第２のコンポーネントへのアクセスを可能にするように構成されることがある。第１の開口は、放射源の第１及び／又は第２のコンポーネントの第１の開口の通過を可能にするように構成されることがある。

[0012] 第２の開口は、放射源の第２のコンポーネントへのアクセスを可能にするように構成されることがある。第２の開口は、放射源の第２のコンポーネントの第２の開口の通過を可能にするように構成されることがある。

[0013] 容器は、閉鎖形態、第１の開放形態及び第２の開放形態のうちの少なくとも２つの間で操作可能である場合がある。

[0014] 容器の閉鎖形態において、第１及び第２のアクセス部材は、容器の内部へのアクセスを不能にするように構成されることがある。容器の第１の開放形態において、第１のアクセス部材は、第１の開口を介した容器の内部へのアクセスを可能にするように構成されることがある。容器の第２の開放形態において、第２のアクセス部材は、第２の開口を介した容器の内部へのアクセスを可能にするように構成されることがある。

[0015] 容器は、１つ以上のメトロロジモジュール又は検査装置を容器に取り付けるための取付部を備えることがある。取付部は、第１のアクセス部材の一部である又は第１のアクセス部材に含まれる場合がある。従って、例えば放射源の第２のコンポーネントにアクセスするための、１つ以上のメトロロジモジュール又は検査装置の取り外しは必要がない場合がある。これによって、放射源の第２のコンポーネントを交換するために必要とされる時間及び／又は工程の数が減ることがある。工程の減少によって、放射源の１つ以上のコンポーネント、容器、及び／又は放射源の第２のコンポーネントの交換に使用される工具の損傷のリスクも低下し得ることが分かっている。

[0016] 取付部は、１つ以上のメトロロジモジュール又は検査装置を容器の内部の基準点に対して取り付けるように構成されることがある。

[0017] 第２のアクセス部材は、取付部から離れて配置されることがある。第２のアクセス部材は、取付部より下方に配置されることがある。

[0018] 本発明の第２の態様によれば、ＥＵＶ放射源などの放射源用の容器であって、容器の内部にアクセスするための開口と、開口を介した容器の内部へのアクセスを可能又は不能にするように構成されたアクセス部材と、を備え、アクセス部材が、１つ以上のメトロロジモジュール又は検査装置を容器に取り付けるための取付部を備える容器が提供される。

[0019] 容器は、閉鎖形態と開放形態の間で操作可能である場合がある。

[0020] 容器の閉鎖形態において、アクセス部材は、容器の内部へのアクセスを不能にするように構成されることがある。容器の開放形態において、アクセス部材は、開口を介した容器の内部へのアクセスを可能にするように構成されることがある。

[0021] 第２の態様の容器は、第１の態様の容器のいずれの特徴も備えることがある。

[0022] 本発明の第３の態様によれば、第１の態様及び／又は第２の態様に係る容器を備える、ＥＵＶ放射源などの放射源が提供される。

[0023] 放射源はデブリ軽減システムを備えることがある。デブリ軽減システムはモジュール式に構成されることがある。

[0024] 放射源は第１のコンポーネントを備えることがある。放射源の第１のコンポーネントは、放射源のデブリ軽減システムの少なくとも一部又は全体を含むことがある。

[0025] 放射源は第２のコンポーネントを備えることがある。放射源の第２のコンポーネントは、放射源のプラズマ形成領域で放出された放射を集光するための集光ミラー、及び放射源のプラズマ形成領域で発生した燃料デブリを収集するための燃料コレクタのうちの少なくとも一方を備えることがある。

[0026] 本発明の第４の態様によれば、第３の態様に係る放射源及びリソグラフィ装置を備えるリソグラフィシステムが提供される。

[0027] 本発明の第５の態様によれば、第１の態様に係る容器を備えるＥＵＶ放射源などの放射源の少なくとも第１のコンポーネントを交換する方法であって、第１の開口を介した容器の内部へのアクセスを可能にするように第１のアクセス部材を操作することと、交換すべき少なくとも第１のコンポーネントを取り外すことと、使用される少なくとも別の第１のコンポーネントを設置することと、第１の開口を介した容器の内部へのアクセスを不能にするように第１のアクセス部材を操作することと、を含む方法が提供される。

[0028] 本発明の第６の態様によれば、第１の態様に係る容器を備えるＥＵＶ放射源などの放射源の第２のコンポーネントを交換する方法であって、第２の開口を介した容器の内部へのアクセスを可能にするように第２のアクセス部材を操作することと、交換すべき第２のコンポーネントを取り外すことと、使用される別の第２のコンポーネントを設置することと、第２の開口を介した容器の内部へのアクセスを不能にするように第２のアクセス部材を操作することと、を含む方法が提供される。

[0029] 本発明の第７の態様によれば、第２の態様に係る容器を備えるＥＵＶ放射源などの放射源の第１のコンポーネント及び／又は第２のコンポーネントを交換する方法であって、開口を介した容器の内部へのアクセスを可能にするようにアクセス部材を操作することと、交換すべき第１のコンポーネント及び／又は第２のコンポーネントを取り外すことと、使用される別の第１のコンポーネント及び／又は第２のコンポーネントを設置することと、開口を介した容器の内部へのアクセスを不能にするようにアクセス部材を操作することと、を含む方法が提供される。

[0030] 当業者には容易に明らかであるが、以上又は以下に記載の本発明のさまざまな態様及び特徴は、本発明のさまざまな他の態様及び特徴と組み合わせられることがある。

[0031] 本発明の実施形態を、添付の概略図を参照して、単なる例示として以下に説明する。

リソグラフィ装置及び放射源を備えたリソグラフィシステムを示す。 図１の放射源をより詳細に示す。 図１から図２の放射源とともに使用される例示的な容器を示す。 図１から図２の放射源とともに使用される例示的な容器を示す。 図１から図２の放射源とともに使用される例示的な容器を示す。 冷却装置を備えた図３Ａから図３Ｃの容器を示す。 図１から図２の放射源とともに使用される別の例示的な容器を示す。 図１から図２の放射源とともに使用される別の例示的な容器を示す。 放射源の少なくとも第１のコンポーネントを交換する方法の工程の概要を説明するフローチャートを示す。 放射源の第２のコンポーネントを交換する方法の工程の概要を説明するフローチャートを示す。

[0032] 図１は放射源ＳＯ及びリソグラフィ装置ＬＡを備えたリソグラフィシステムを示している。放射源ＳＯは、ＥＵＶ放射ビームＢを発生させ、ＥＵＶ放射ビームＢをリソグラフィ装置ＬＡに供給するように構成されている。リソグラフィ装置ＬＡは、照明システムＩＬと、パターニングデバイスＭＡ（例えばマスク）を支持するように構成された支持構造ＭＴと、投影システムＰＳと、基板Ｗを支持するように構成された基板テーブルＷＴと、を備える。

[0033] 照明システムＩＬは、ＥＵＶ放射ビームＢがパターニングデバイスＭＡに入射する前にＥＵＶ放射ビームＢを調節するように構成されている。加えて照明システムＩＬは、ファセットフィールドミラーデバイス１０及びファセット瞳ミラーデバイス１１を備えることがある。ファセットフィールドミラーデバイス１０及びファセット瞳ミラーデバイス１１は共にＥＵＶ放射ビームＢに所望の断面形状及び所望の強度分布を与える。照明システムＩＬは、ファセットフィールドミラーデバイス１０及びファセット瞳ミラーデバイス１１に加えて、又はこれらの代わりに他のミラーもしくはデバイスを備えることがある。

[0034] このように調節された後、ＥＵＶ放射ビームＢはパターニングデバイスＭＡと相互作用する。この相互作用の結果、パターン付きＥＵＶ放射ビームＢ’が発生する。投影システムＰＳは、パターン付きＥＵＶ放射ビームＢ’を基板Ｗ上に投影するように構成される。そのために、投影システムＰＳは、パターン付きＥＵＶ放射ビームＢ’を、基板テーブルＷＴにより保持された基板Ｗ上に投影するように構成される複数のミラー１３、１４を備えることがある。投影システムＰＳは、パターン付きＥＵＶ放射ビームＢ’に縮小係数を適用し、これによってパターニングデバイスＭＡ上の対応するフィーチャよりも小さなフィーチャを有する像を形成することがある。例えば、縮小係数４又は８が適用されることがある。投影システムＰＳは、図１では２つのミラー１３、１４のみを有するように示されているが、投影システムＰＳは異なる数のミラー（例えば、６つ又は８つのミラー）を備えることがある。

[0035] 基板Ｗは、前もって形成されたパターンを含むことがある。このような場合、リソグラフィ装置ＬＡは、パターン付きＥＵＶ放射ビームＢ’により形成された像を、基板Ｗ上に以前に形成されたパターンと位置合わせする。

[0036] 相対的真空、すなわち大気圧をはるかに下回る圧力の少量のガス（例えば水素）が、放射源ＳＯ内、照明システムＩＬ内、及び／又は投影システムＰＳ内に提供されることがある。

[0037] 図１に示された放射源ＳＯは、例えばレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）源と呼ばれることがあるタイプである。例えばＣＯ２レーザを含み得るレーザシステム１は、例えば燃料放出器３から提供されるスズ（Ｓｎ）などの燃料内に、レーザビーム２を介してエネルギーを蓄積するように配置される。以下の記述ではスズに言及しているが、任意の適切な燃料が使用されることがある。燃料は、例えば液体の形である場合があり、例えば金属又は合金である場合がある。燃料放出器３は、プラズマ形成領域４に向けた軌道に沿って、例えば液滴の形でスズを誘導するように構成されたノズルを備えることがある。レーザビーム２は、プラズマ形成領域４においてスズに入射する。レーザエネルギーのスズ内への蓄積は、プラズマ形成領域４においてスズプラズマ７を作成する。ＥＵＶ放射を含む放射が、電子の脱励起及びプラズマイオンとの再結合の間にプラズマ７から放出される。

[0038] プラズマからのＥＵＶ放射は、コレクタ５によって収集及び集束される。コレクタ５は、例えば近法線入射放射コレクタ５（より一般的には法線入射放射コレクタと呼ばれることがある）を含む。コレクタ５は、ＥＵＶ放射（例えば、１３．５ｎｍなどの所望の波長を有するＥＵＶ放射）を反射するように配置される多層ミラー構造を有することがある。コレクタ５は、２つの焦点を有する楕円構成を有することがある。以下で考察するように、焦点のうちの第１のものはプラズマ形成領域４にある場合があり、焦点のうちの第２のものは中間焦点６にある場合がある。

[0039] レーザシステム１は、放射源ＳＯから空間的に分離されることがある。このような場合、レーザビーム２は、例えば適切な誘導ミラー及び／又はビームエキスパンダ、及び／又は他の光学系を備えるビームデリバリシステム（図示せず）の助けを借りて、レーザシステム１から放射源ＳＯへ渡されることがある。レーザシステム１、放射源ＳＯ、及びビームデリバリシステムは、全体で放射システムと見なされることがある。

[0040] コレクタ５で反射される放射はＥＵＶ放射ビームＢを形成する。ＥＵＶ放射ビームＢは、プラズマ形成領域４に存在するプラズマの中間焦点６において像を形成するために、中間焦点６に集束される。中間焦点６における像は、照明システムＩＬのための仮想放射源の役割を果たす。放射源ＳＯは、中間焦点６が放射源ＳＯの閉鎖構造９内の開口８に、又は開口８の近くに位置するように配置される。

[0041] 図２は、図１の放射源をより詳細に示している。放射源ＳＯは容器１６を備えることがある。図１に示される閉鎖構造９は、容器１６によって画定される又は容器１６に含まれることがある。「容器」という用語は、真空容器、圧力容器、真空チャンバ又は圧力チャンバなどを包含するものと見なされることがある。換言すれば、容器１６は、放射源ＳＯの真空又は低圧環境に囲いを提供するものと見なされることがある。別様に表現すると、容器１６内の圧力が大気圧未満である場合がある。容器１６は、例えばコレクタ５などの、放射源ＳＯの１つ以上のコンポーネントを取り囲むように構成されることがある。以下に説明されるように、容器が放射源ＳＯの追加のコンポーネントを取り囲むように構成され得ることが理解されるであろう。容器１６はモジュラー容器を含むことがある。

[0042] 放射源ＳＯは、１つ以上のメトロロジモジュール又は検査装置を備えることがある。メトロロジモジュール又は検査装置は、以下の説明では検査装置１８と呼ばれ、そのうちの１つが図２に示されている。検査装置１８は、容器１６に取り付けられる又は容器１６の一部である場合がある。検査装置１８は、例えば１つ以上のキネマティックマウントを使用して、高い精度で容器に位置決めされることがある。

[0043] 検査装置１８の少なくとも１つは、コントローラ２２及び燃料放出器３を備える燃料液滴ステアリングシステム２０の一部である場合がある。検査装置１８は、例えばプラズマ形成領域４に対する、容器１６内における燃料液滴Ｄの位置を決定するように構成されることがある。検査装置１８はコントローラ２２と通信していることがある。コントローラ２２は、燃料放出器３を制御するように構成されることがある。例えば検査装置１８が行った決定に応答して、コントローラ２２は、例えば燃料液滴放出タイミング及び／又は燃料液滴放出方向を調整して、燃料液滴Ｄのプラズマ形成領域４に向かう軌道Ｔを制御するように燃料放出器３を制御することがある。

[0044] 放射源ＳＯが少なくとも１つの他の検査装置（図２には示されていない）を備え得ることが理解されるであろう。他の検査装置は、プラズマ形成領域に対するレーザビームの位置を決定するように構成されることがある。例えば他の検査装置が行った決定に応答して、プラズマ形成領域に対するレーザビームの位置が、例えばコントローラ２２又は別のコントローラを使用して調整又は制御されることがある。コントローラ２２又は他のコントローラは、レーザシステム１及び／又はビームデリバリシステムと通信するように構成されることがある。

[0045] １つ以上の検査装置１８は、液滴検出モジュール（ＤＤＭ）、ラインレーザモジュール（ＬＬＭ）、液滴照明モジュール（ＤＩＭ）、液滴形成カメラ（ＤＦＣ）、粗液滴ステアリングカメラ（ＣＤＳＣ）及び／又は微細液滴ステアリングカメラ（ＦＤＳＣ）などの形態で提供されることがある。１つ以上の検査装置１８は、一対の液滴形成カメラを備えることがある。１つ以上の検査装置１８は、例えばバックライトレーザモジュール（ＢＬＭ）などの照明モジュールを備えることがある。バックライトレーザモジュールは、一対の液滴形成カメラ又は１つのもしくは各液滴形成カメラに接続されていることがある。

[0046] 放射源ＳＯは、デブリ軽減システム２４を備えることがあり、その一部が図２に示されている。デブリ軽減システム２４は、放射源ＳＯ内の燃料デブリを低減するように構成されることがある。燃料デブリは放射源ＳＯのプラズマ形成領域４から放出されることがある。燃料デブリは、例えばスズが燃料として使用される場合に、例えばＳｎクラスタ、Ｓｎ微小粒子、Ｓｎナノ粒子、及び／又はＳｎ析出物などの微粒子デブリ、例えばＳｎ蒸気、ＳｎＨｘ蒸気、Ｓｎ原子、Ｓｎイオンなどの分子及び／又は原子デブリを含むことがある。

[0047] デブリ軽減システム２４は、汚染トラップ２６ａを備えることがある。汚染トラップ２６ａは、プラズマ形成領域４を取り囲むように配置されることがある。汚染トラップ２６ａは複数の羽根２８を備えることがある。複数の羽根２８は、放射源ＳＯのプラズマ形成領域４から放出された燃料デブリを捕捉するように構成されることがある。図２は汚染トラップ２６ａのみを示しているが、以下で説明されるように、デブリ軽減システム２４が１つ以上の他のコンポーネントを備え得ることが理解されるであろう。

[0048] 放射源ＳＯは第１の燃料コレクタ２７を備えることがある。燃料コレクタは、放射放出プラズマに変換されることなくプラズマ形成領域４を通過する燃料の一部を収集するように構成されることがある。燃料コレクタ２７は、放射源ＳＯ内の液滴Ｄの軌道Ｔ上に配置されることがある。燃料コレクタ２７は、レセプタクル、バケット、コンテナなど（図示せず）を備えることがある。第１の燃料コレクタ２７及び／又はレセプタクルもしくはコンテナは容器１６の外側に配置されることがある。デブリ軽減システム２４は、例えばコレクタ５などの、放射源ＳＯ内のコンポーネントへの燃料デブリの堆積又は蓄積を低減するために、放射源ＳＯ内で複数のガス流を複数の方向に方向付けるように構成されることがある。

[0049] 放射源ＳＯは燃料デブリ収集システム（図示せず）を備えることがある。燃料デブリ収集システムはデブリ軽減システム２４の一部である場合がある。燃料デブリ収集システムは、放射源ＳＯのプラズマ形成領域４で発生した燃料デブリを収集する、レセプタクル、バケット、コンテナなどの形態の第２の燃料コレクタを備えることがある。

[0050] デブリ軽減システム２４はモジュール式に構成されることがある。これによって、デブリ軽減システム２４、例えばその１つ以上の部品の放射源ＳＯ内への設置、デブリ軽減システム２４の１つ以上の部品の交換、及び／又はデブリ軽減システム２４の１つ以上の部品の変更が容易になることがある。デブリ軽減システムは、コレクタ５と汚染トラップ２６ａの間に配置され、その中心にガス流を向けるように構成されたガス流デバイス２６ｆ（図３Ｂに示されている）を備えることがある。

[0051] 図３Ａから図３Ｃは、図１から図３に示す放射源とともに使用される例示的な容器１６を示している。容器１６は、容器１６の内部３２にアクセスするための第１の開口を備える。第１の開口３０は図３Ｂに破線で示されている。放射源ＳＯの１つ以上のコンポーネント、例えばコレクタ５、第２の燃料コレクタ２９ａ及びデブリ軽減システム２４は、以上で説明したように容器１６の内部３２に配置されることがある。容器１６は第１のアクセス部材３４を備える。第１のアクセス部材３４は、第１の開口３０を介した容器１６の内部３２へのアクセスを可能又は不能するように構成されている。第１のアクセス部材３４はハッチ、扉、蓋などの形態で提供されることがある。

[0052] 容器１６は、容器１６の内部３２にアクセスするための第２の開口３６を備える。第２の開口３６は図３Ｃに破線で示されている。第２の開口３６は第１のアクセス部材３４に配置される。別様に表現すると、第２の開口３６は、第１のアクセス部材３４の一部である、又は第１のアクセス部材３４に含まれている。容器１６は第２のアクセス部材３８を備える。第２のアクセス部材３８は第１のアクセス部材３４上に配置される。例えば第２のアクセス部材３８は、第１のアクセス部材３４の表面３４ａ、例えば外面に配置されることがある。第２のアクセス部材３８は、第１のアクセス部材３４の一部である、又は第１のアクセス部材３４に含まれていることがある。第２のアクセス部材３８は、別のハッチ、扉、蓋などの形態で提供されることがある。第２のアクセス部材３８は、第２の開口３６を介した容器１６の内部３２へのアクセスを可能又は不能にするように構成されている。第２のアクセス部材３８の第１のアクセス部材３４上への配置及び／又は第１のアクセス部材３４の一部としての配置は、容器１６、例えば第１及び第２のアクセス部材３４、３８のコンパクトな配置を可能にすることがある。付加的又は代替的に、第２のアクセス部材３８の第１のアクセス部材３４上への配置は、例えば第２のアクセス部材が第１のアクセス部材から離れて設けられる配置と比べて、容器１６の内部３２へのアクセスを容易にする、及び／又は第１の開口３０のサイズ又は寸法を大きくできることがある。

[0053] 図３Ａから図３Ｃに見られるように、第１の開口３０のサイズ又は寸法は、第２の開口３６のサイズ又は寸法より大きい。第１のアクセス部材３４のサイズ又は寸法は、第２のアクセス部材３８のサイズ又は寸法より大きい。これによって放射源ＳＯのさまざまなコンポーネントへのアクセスが可能になることがある。第１のアクセス部材３４のサイズ又は寸法が第１の開口３０のサイズ又は寸法よりも大きい場合があることが理解されるであろう。第２のアクセス部材３８のサイズ又は寸法は、第２の開口３６のサイズ又は寸法より大きい場合がある。第１の開口３０は、放射源ＳＯの第１のコンポーネントへのアクセスを可能にするように構成されることがある。第１の開口３０は、放射源ＳＯの第２のコンポーネントへのアクセスも可能にするように構成されることがある。この実施形態では、第１のコンポーネントは、デブリ軽減システム２４の少なくとも一部又は全体を含むことがある。第２のコンポーネントは、コレクタ５及び／又は第２の燃料コレクタを含むことがある。第１の開口３０をデブリ軽減システム２４の一部又は全体へのアクセスを可能にするように構成することによって、デブリ軽減システム２４の１つ以上のコンポーネント又は部品、例えば汚染トラップ２６ａなどは、容器１６を移動又はシフトさせる必要なく交換されることがある。これによって、デブリ軽減システム２４の一部又は全体の交換が容易になり、デブリ軽減システム２４の一部又は全体を交換するために必要とされる時間及び／又は工程の数が減少することがある。

[0054] 第１の開口３０は、デブリ軽減システム２４の一部又は全体及び／又はコレクタ５の第１の開口３０の通過を可能にするように構成されることがある。別様に表現すると、第１の開口３０のサイズ又は寸法は、デブリ軽減システム２４の一部又は全体及び／又はコレクタ５の第１の開口３０の通過を可能にするように選択されることがある。例えば、第１の開口３０は、約０．８５ｍの高さＨ１及び／又は約１ｍの幅Ｗ１を有することがある。第１の開口３０は、壁１６ａ、例えば容器１６の外側壁又は側壁に配置されることがある。

[0055] 第２の開口３６は、放射源ＳＯの第２のコンポーネント、例えばコレクタ５、ガス流デバイス２６ｆ、及び／又は第２の燃料コレクタへのアクセスを可能にするように構成されることがある。第２の開口３６は、コレクタ５及び／又は第２の燃料コレクタ２９ａを第２の開口３６に通過させるように構成されることがある。別様に表現すると、第２の開口３６のサイズ又は寸法は、コレクタ５及び／又は第２の燃料コレクタを第２の開口３６に通過させるように選択されることがある。例えば、第２の開口は、約０．２５ｍの高さＨ２及び約０．８ｍの幅Ｗ２を有することがある。第１のアクセス部材３４における第２の開口３６の位置は、放射源ＳＯにおけるコレクタ５及び／又は第２の燃料コレクタ２９ａの位置に基づいて選択されることがある。

[0056] 容器１６は、閉鎖形態、第１の開放形態及び第２の開放形態のうちの少なくとも２つの間で操作可能である場合がある。図３Ａに示す容器１６の閉鎖形態において、第１及び第２のアクセス部材３４、３８は、容器１６の内部３２へのアクセスを不能にするように構成されている。換言すれば、第１及び第２のアクセス部材３４、３８は閉じており、それぞれ第１及び第２の開口３０、３６を塞ぐ。容器１６の閉鎖形態において、第１のアクセス部材３４は、例えば締結装置を使用して、容器１６の壁１６ａに締結されることがある。締結装置は、複数のファスナ３９、例えばネジ又はボルトなどを含むことがあり、図３Ａには４つのファスナが示されている。締結装置は複数の穴３９ａ、３９ｂを含むことがある。穴３９ａ、３９ｂは、第１のアクセス部材３４及び容器１６、例えば容器１６の壁１６ａに、例えばファスナ３９を使用して第１のアクセス部材３４を容器１６の壁１６ａに締結できるように配置されることがある。図３Ｂ及び３Ｃに示す実施形態では、４個の穴３９ａは第１のアクセス部材３４の周辺に配置され、対応する４個の穴３９ｂは第１の開口３０の周辺に配置されている。他の実施形態では、第１のアクセス部材及び／又は容器の壁が４個より多い又は少ない穴を備え得ることが理解されるであろう。他の実施形態では、４個より多い又は少ないファスナが使用され得ることも理解されるであろう。

[0057] 締結装置は複数の別の穴３９ｃ、３９ｄを備えることがある。別の穴３９ｃ、３９ｄは、第２のアクセス部材３８及び第１のアクセス部材３４、例えば第１のアクセス部材３４の壁４２に配置されることがある。第１のアクセス部材３４の壁４２が第１のアクセス部材３４の表面３４ａを含み得ることが理解されるであろう。穴３９ｃ、３９ｄは、第２のアクセス部材３８及び第１のアクセス部材３４、例えば第１のアクセス部材３４の壁４２に、例えば別のファスナ３９ｅを使用して第２のアクセス部材３８を第１のアクセス部材３４の壁４２に締結できるように配置されることがある。図４Ａから図４Ｃに示す実施形態では、２個の別の穴３９ｃは第２のアクセス部材３４の周辺に配置され、対応する２個の穴３９ｄは第２の開口３６の周辺に配置されている。他の実施形態では、第２のアクセス部材及び／又は第１のアクセス部材が２個より多い又は少ない別の穴を備え得ることが理解されるであろう。

[0058] 容器１６は、容器１６の内部３２が第１及び／又は第２のアクセス部材３４、３８によって封止されるように構成されることがある。第１のアクセス部材３４は、第１のアクセス部材３４と容器１６の間にシールを形成できるように構成されることがある。例えば容器１６は１つ以上のシール要素を備えることがある。第１のシール要素４０ａが、第１のアクセス部材３４、例えば第１のアクセス部材３４の別の表面３４ｂ、例えば内部表面３４ｂに配置されていることがある。第１のアクセス部材３４は、例えば容器１６が閉鎖形態にあるときに、第１のアクセス部材３４の別の表面３４ｂの少なくとも一部が容器１６の壁１６ａの一部と当接又は接触するように構成されることがある。第１のアクセス部材３４は、表面３４ａと別の表面３４ｂとが互いに対向するように構成されることがある。

[0059] 第２のアクセス部材３８は、第１のアクセス部材３４と第２のアクセス部材３８の間に別のシールを形成できるように構成されることがある。換言すれば、第２のアクセス部材３８は、第１のアクセス部材３４の壁４２、例えばその一部と別のシールを形成するように構成されることがある。第２のシール要素４０ｂが、例えば別のシールを第２のアクセス部材３８と第１のアクセス部材３４の間に形成できるように、第２のアクセス部材３８上に配置されることがある。第２のシール要素は、第２のアクセス部材３８の表面３８ａ、例えば内部表面に配置されることがある。第２のアクセス部材３８は、例えば容器１６が閉鎖形態にあるときに、第２のアクセス部材３８の表面３８ａの少なくとも一部が、第１のアクセス部材３４の壁４２及び／又は表面３４ａの一部と当接又は接触するように構成されることがある。

[0060] 図３Ｂに示す容器１６の第１の開放形態において、第１のアクセス部材３４は、第１の開口３０を介した容器１６の内部３２へのアクセスを可能にするように構成されている。別様に表現すると、第１のアクセス部材３４は開いており、第１の開口３０は塞がれていない場合がある。一方、第２のアクセス部材３８は閉じており、第２の開口３６は塞がれている場合がある。容器１６は、第１のアクセス部材３４及び容器１６の穴３９ａ、３９ｂからファスナ３９を外す及び／又は取り除くことによって第１の開放形態に操作されることがある。

[0061] 図３Ｃに示す容器１６の第２の開放形態において、第２のアクセス部材３８は、第２の開口３６を介した容器１６の内部３２へのアクセスを可能にするように構成されている。換言すれば、第１のアクセス部材３４は閉じており、第２のアクセス部材３８は開いており、第２の開口３６は塞がれていない場合がある。容器１６は、第２のアクセス部材３８及び第１のアクセス部材３４の別の穴３９ｃ、３９ｄから別のファスナ３９ｅを外す及び／又は取り除くことによって第２の開放形態に操作されることがある。

[0062] 容器１６を閉鎖形態、第１の開放形態及び第２の開放形態のうちの少なくとも２つの間で操作可能に構成することによって、容器１６の内部３２又はその各部品へのアクセスが、例えばコレクタ５、第２の燃料コレクタ２９ａ、及び／又はデブリ軽減システム２４の一部又は全体などの放射源ＳＯの１つ以上のコンポーネントの交換を可能にするように容易になることがある。

[0063] 容器１６は、１つ以上の接続部材、例えば第１及び／又は第２の接続部材４４ａ、４４ｂを備えることがある。第１の接続部材４４ａは、第１のアクセス部材３４を容器１６、例えば壁１６ａに接続するように構成されることがある。第２の接続部材４４ｂは、第２のアクセス部材３８を第１のアクセス部材３４に接続するように構成されることがある。第１及び第２の接続部材４４ａ、４４ｂは、それぞれヒンジ、ピボット機構、接合機構などの形態で提供されることがある。第１及び／又は第２の接続部材４４ａ、４４ｂは、容器１６の閉鎖形態、容器１６の第１の開放形態及び容器１６の第２の開放形態のうちの少なくとも２つの間の容器１６の操作を可能にするように構成されることがある。

[0064] 第１の接続部材４４ａは、例えば容器１６が閉鎖形態から第１の開放形態に操作されるときに、第１の軸Ａ１周りの第１のアクセス部材３４の回転を可能にするように構成されることがある。第１の接続部材４４ａは、例えば容器１６が閉鎖形態から第１の開放形態に操作されるときに、第２の軸Ａ２周りの第１のアクセス部材３４の回転を可能にするように構成されることがある。別様に表現すると、第１の接続部材４４ａは、第１のアクセス部材３４が第１の軸Ａ１及び第２の軸Ａ２周りに回転可能又は枢動可能であるように構成されることがある。第１及び第２の軸Ａ１、Ａ２は、図３Ａに点線で示されている。第１の接続部材４４ａは、第１の軸Ａ１が垂直方向に延びるように構成されることがある。垂直方向は、図３Ａの座標系で示されたｙ方向に平行な方向と見なされることがある。第１の接続部材４４ａは、第２の軸Ａ２が図３Ａに示すように第１の軸Ａ１に対して垂直（例えば実質的に垂直）な方向に延びるように構成されることがある。換言すれば、第２の軸Ａ２は、図３Ａの座標系で示されたｘ方向に平行な方向に延びるものと見なされることがある。図２から分かるように、放射源ＳＯは、垂直方向に対してある角度をなして延在するように配置されていることがある。第１のアクセス部材３４が配置されている、容器１６の壁１６ａ又はその少なくとも一部は、垂直方向に対して角度をなして延在することがある。従って、第１のアクセス部材３４は、垂直方向に対して角度をなして配置されていると見なされることがある。第２のアクセス部材３４は、垂直方向に延在するものと見なされることがある。

[0065] 第１の接続部材４４ａは、第１のアクセス部材３４が、例えば容器１６が閉鎖形態と第１の開放形態の間で操作されるときに、第１の軸Ａ１及び第２の軸Ａ２周りに又はその逆に順次回転するように構成されることがある。容器１６が第１の開放形態にあるとき、第１のアクセス部材３４は垂直方向に延在することがある。第１の接続部材４４ａのこの構成は、例えば容器１６が第１の開放形態にあるときに、第１のアクセス部材３４で塞がれる又は制限されることで容器１６の内部３２へのアクセスを不能にすることがある。

[0066] 第１の接続部材４４ａは、例えば容器が第１の開放形態から閉鎖形態に操作されるとき、第１のアクセス部材３４に作用する重力を相殺する、例えば少なくとも部分的に相殺するように構成されることがある。別様に表現すると、第１の接続部材４４ａは、第１のアクセス部材３４に作用する重力に対抗する、例えば少なくとも部分的に対抗するように構成されることがある。重力は、放射源ＳＯ及び／又は第１のアクセス部材３４が垂直方向に対してある角度をなして配置されていることに起因する場合がある。重力を相殺するように第１の接続部材４４ａを構成することによって、例えば容器が第１の開放形態から閉鎖形態に操作されるときに容器１６に作用する衝撃力が小さくなる又は抑えられることがある。そしてこれによって、検査装置１８のアライメントの変化が抑えられる又は小さくなることがある。第１の接続部材４４ａは１つ以上の張力要素（図示せず）を備えることがある。張力要素は１つ以上のばね又は弾性要素の形態で提供されることがある。張力要素は、例えば容器が第１の開放形態から閉鎖形態に操作されるとき、第１のアクセス部材３４に作用する重力を相殺する、例えば少なくとも部分的に相殺するように構成されることがある。例えば張力要素はあらかじめ張力がかけられている場合がある。第１の接続部材が本明細書に開示された構成に限定されず、他の実施形態では、第１の接続部材が異なって構成され得ることが理解されるであろう。例えば第１の接続部材は、第１のアクセス部材が、例えば垂直方向に延びる単軸、又は３つ以上の軸周りに回転可能又は枢動可能であり得るように構成されることがある。

[0067] 第２の接続部材４４ｂは、例えば容器１６が閉鎖形態から第２の開放形態に操作されるときに、別の軸Ｂ周りの第２のアクセス部材３８の回転を可能にするように構成されることがある。別様に表現すると、第２の接続部材４４ｂは、第２のアクセス部材３８が別の軸Ｂ周りに回転可能又は枢動可能となるように構成されることがある。別の軸Ｂは、図３Ａに点線で示されている。第２の接続部材４４ｂは、別の軸Ｂが垂直方向に延びるように構成されることがある。第２の接続部材が本明細書に開示された構成に限定されず、他の実施形態では、第２の接続部材が異なって構成され得ることが理解されるであろう。例えば第２の接続部材は、第１の接続部材と同様に構成されることがある。

[0068] 容器１６は、検査装置１８を容器１６に取り付けるための取付部４６を備えることがある。図３Ｂは容器１６に取り付けられた３個の検査装置１８を示しているが、他の実施形態では、３個より多い又は少ない検査装置が容器に取り付けられ得ることが理解されるであろう。取付部４６は、第１のアクセス部材３４の一部であるか、第１のアクセス部材３４に含まれている場合がある。取付部４６を第１のアクセス部材３４の一部として設けることによって、閉鎖形態と第１又は第２の開放形態の間の容器１６の操作の前に検査装置を取り外すことが必要でない場合がある。これによって検査装置のアライメントの必要性が回避される又は低下することがある。そしてこれによって、放射源ＳＯの１つ以上のコンポーネント、例えばコレクタ５及び／又はデブリ軽減システム２４の一部又は全体などを交換するために必要とされる時間及び／又は工程の数が減少することがある。

[0069] 取付部４６は、検査装置１８を容器１６の内部３２の基準点に対して取り付けるように構成されることがある。例えば取付部４６は、検査装置を放射源ＳＯのプラズマ形成領域４に対して取り付けるように構成されることがある。

[0070] 取付部４６は、例えば閉鎖形態と第１又は第２の開放形態の間の容器１６の操作の後に、プラズマ形成領域４に対する検査装置１８の位置を維持するように構成されることがある。換言すれば、プラズマ形成領域４に対する検査装置１８のアライメントが容器１６の操作中維持されることがある。これによって、プラズマ形成領域４に対する検査装置１８のアライメントの必要性が回避される又は低下することがある。

[0071] 取付部４６は、１つ以上の凹部又は開口４６ａを備えることがあり、そのうちの３個が図３Ｂに示されている。各凹部又は開口４６ａは、対応する検査装置１８の少なくとも一部を収容するように構成されることがある。換言すれば、各検査装置１８の少なくとも一部は、容器１６の内部３２に少なくとも部分的に延入するように各凹部又は開口４６ａに収容されることがある。

[0072] 第２のアクセス部材３８は、図３Ａ及び図３Ｃに示すように取付部４６から離れて配置される又は設けられることがある。この実施形態では、第２のアクセス部材３８は取付部４６より下に配置されている。これによって、検査装置１８をプラズマ形成領域４に対してアライメントを維持しながら、コレクタ５及び／又は第２の燃料コレクタ２９ａへの直接アクセスが可能になることがある。換言すれば、コレクタ５及び／又は第２の燃料コレクタ２９ａは、コレクタ５にアクセスする前に検査装置１８を取り外す必要なく交換されることがある。そしてこれによって、コレクタ５及び／又は第２の燃料コレクタ２９ａを交換するために必要とされる時間及び／又は工程の数が減少することがある。第２のアクセス部材が取付部より下に配置されることに限定されないことが理解されるであろう。例えば他の実施形態では、第２のアクセス部材は、取付部に対して異なる位置に設けられることがある。

[0073] 容器１６は複数の接続要素４８を備えることがある。複数の接続要素４８は、冷却源、ガス供給及び／又は電源の放射源ＳＯの１つ以上のコンポーネントへの接続を提供するように構成されることがある。接続要素４８は、冷却剤、ガス及び／又は電力を放射源の１つ以上のコンポーネントに渡す又は伝達するように構成されることがある。各接続要素は、貫通要素である又は貫通要素を含む場合がある。接続要素４８の少なくとも一部は、第１のアクセス部材３４の一部である場合がある。接続要素４８の少なくとも一部は、第２のアクセス部材３８の一部である場合がある。図３Ａから図３Ｃは第１のアクセス部材の一部である４個の接続要素を示しているが、他の実施形態では、第１のアクセス部材が４個より多い又は少ない接続要素を備え得ることが理解されるであろう。同様に、第２のアクセス部材は２個より多い又は少ない接続要素を備えることがある。付加的又は代替的に、一部の実施形態では、第１のアクセス部材のみ又は第２のアクセス部材のみが１つ以上の接続要素を備え得ることが理解されるであろう。

[0074] この実施形態では、接続要素４８は冷却源（図示せず）に接続されるように構成されることがある。冷却剤は流体の形態で提供されることがある。例えば冷却剤は水の形態で提供されることがある。ただし他の実施形態では、別の冷却流体、例えば別の冷却液又は冷却ガスなどであることが理解されるであろう。接続要素４８は、冷却源のデブリ軽減システム２４、例えば汚染トラップ２６ａ及び／又はコレクタ５への接続を可能にするように構成されることがある。例えば第１のアクセス部材３４の一部である接続要素４８は、冷却源のデブリ軽減システム２４、例えば汚染トラップ２６ａへの接続を可能にするように構成されることがある。第２のアクセス部材３８の一部である接続要素４８は、冷却源のコレクタ５への接続を可能にするように構成されることがある。

[0075] 容器１６は金属材料で作られていることがある。金属材料は、例えば検査装置１８のアライメントを維持するために、容器１６に十分な剛性及び／又は熱的安定性をもたらすように選択されることがある。この実施形態では、金属材料はアルミニウムを含むことがある。これは容器１６の改善された又は所望の剛性及び／又は熱的安定性を可能にすることがある。付加的又は代替的に、アルミニウムの使用によって容器１６又はその部品の製造を容易にできることがある。

[0076] 図４は、図３Ａから図３Ｃに示す容器１６の別の概略図を示している。図３Ａから図３Ｃに示すいくつかの特徴は、明瞭にするために図４から省かれている。ただし、図４に示す容器１６が、図３Ａから図３Ｃに関連して以上で説明した容器のいずれの特徴も備え得ることが理解されるであろう。容器１６は冷却装置５０を備えることがある。冷却装置５０は、複数の冷却剤チャネル５０ａを備えることがある。冷却剤チャネル５０ａは、内部の冷却剤の流れを方向付けるように構成されることがある。冷却剤チャネル内の冷却剤の例示的な流れは図４の矢印で示されている。以上で説明したように、冷却剤は流体の形態で提供されることがある。例えば冷却剤は水の形態で提供されることがある。ただし他の実施形態では、別の冷却流体、例えば別の冷却液又は冷却ガスなどであることが理解されるであろう。

[0077] 容器１６は、複数の壁１６ａ、例えば複数の側壁又は外側壁を備えることがあり、そのうちの２つが図４に示されている。冷却剤チャネル５０ａは容器１６の壁１６ａに配置されることがある。例えば冷却剤チャネル５０ａは、容器１６の壁１６ａに、複数のさらに別の穴、例えば貫通穴及び／又は止まり穴の形態で提供されることがある。冷却剤チャネル５０ａは、容器１６の壁１６ａに直接形成されることがある。例えば冷却剤チャネル５０ａは、容器１６の壁１６ａに穴開け又は切断プロセスを用いて形成されることがある。これによって、冷却剤チャネル５０ａを流れる冷却剤と、容器１６、例えば容器１６の壁１６ａの材料との良好な熱的接触が可能になることがある。図４は冷却剤チャネルが容器の側壁又は外側壁に配置されるものとして示しているが、本明細書に開示される容器が冷却剤チャネルのこの配置に限定されないことが理解されるであろう。例えば１つ以上の別の冷却剤チャネルが容器の頂壁及び／又は底壁に配置されることがある。

[0078] 冷却剤チャネル５０ａは、容器１６の壁１６ａのそれぞれの少なくとも一部に沿って延在するように配置されることがある。容器１６における冷却剤チャネル５０ａの配置又は構成が、例えば放射源ＳＯの動作中に、例えばプラズマ形成領域４から放出された熱によって容器１６に作用する熱負荷に基づいて選択され得ることが理解されるであろう。付加的又は代替的に、放射源ＳＯの他のコンポーネント又は部品が熱を放出することによって、容器１６に作用する熱負荷に寄与し得ることが理解されるであろう。

[0079] 冷却剤チャネル５０ａの一部は第１のアクセス部材３４の一部である場合がある。例えば図４に示すように、冷却剤チャネル５０ａの一部は、取付部４６の少なくとも一部に沿って延在するように配置されることがある。これによって取付部４６の熱的安定性を改善できることがある。換言すれば、冷却剤チャネル５０ａの一部を取付部４６の少なくとも一部に沿って延在するように配置することによって、取付部４６の温度が、例えば放射源ＳＯの動作中一定（例えば実質的に一定）のままである場合がある。これによって、容器１６、例えば取付部４６に作用する、例えば熱負荷に起因し得る検査装置１８のアライメントの変化が抑えられる又は小さくなることがある。他の実施形態では、冷却剤チャネルの少なくとも一部が、付加的又は代替的に第２のアクセス部材の一部であり得ることが理解されるであろう。

[0080] 冷却装置５０はインレット５０ｂを備えることがある。冷却装置５０はアウトレット５０ｃを備えることがある。冷却装置５０は上記の冷却源を備えることがある。インレット５０ｂは、冷却源に接続されて、第１の温度を有する冷却剤を冷却剤チャネル５０ａに供給することがある。アウトレット５０ｃは、冷却源に接続されて、第２の温度を有する冷却剤を冷却剤チャネル５０ａから受け取ることがある。第２の温度は第１の温度より高い又は大きい場合がある。他の実施形態では、冷却装置が別の冷却源を備え得ることが理解されるであろう。冷却装置５０が２つ以上の冷却剤チャネル５０ａ同士を接続するための１つ以上の要素、例えば１つ以上のフランジなどを備え得ることが理解されるであろう。付加的又は代替的に、冷却装置は、１つ以上の冷却剤チャネル５０ａの一部又は全てを覆う又は閉じるための１つ以上の別の要素、例えば１つ以上の閉止フランジ、閉止プラス、閉止カバーなどを備えることがある。例えば別の要素は、１つ以上の冷却剤チャネル５０ａの端部を覆う又は閉じるように構成されることがある。要素及び別の要素は、明瞭にするために図４に示されていない。本明細書に開示される容器が図４に示すような冷却装置を有するものに限定されないことが理解されるであろう。例えば他の実施形態では、冷却剤チャネルは異なる方法で配置されることがある、及び／又は冷却剤チャネルの数は異なる場合がある。

[0081] 第１のアクセス部材３４及び第２のアクセス部材３８は、容器１６に配置されて容器１６の内部３２への遮るもののないアクセスを提供することがある。これは容器１６の内部３２へのアクセスを容易にする及び／又は改善することがある。容器１６の内部３２へのアクセスが改善されることによって、放射源ＳＯの１つ以上のコンポーネントを交換するのに必要な工程の数が減ることもある。例えば、デブリ軽減システム２４の汚染トラップ２６ａ及び／又はデブリ軽減システム２４の他のコンポーネントにアクセスするための、ビームデリバリシステムの取り外し及び／又は容器の移動は必要ない場合がある。そしてこれによって、放射源ＳＯの１つ以上のコンポーネントを交換するために必要とされる時間及び／又は人員が減ることがある。例えば、デブリ軽減システム２４の汚染トラップ２６ａを交換するために必要とされる時間は、約４倍以上短縮されることがある。別様に表現すると、汚染トラップ２６ａを交換するために必要とされる時間は、約１１０時間から２４時間未満に短縮されることがある。

[0082] 付加的又は代替的に、第１及び第２のアクセス部材３４、３８は、放射源ＳＯの１つ以上のコンポーネント、例えばデブリ軽減システム２４の少なくとも一部分の、放射源の代替的な又は新しいコンポーネントとの交換を可能にすることがある。別様に表現すると、第１及び第２のアクセス部材３４、３８は、放射源の１つ以上のコンポーネントを容易に変更又は交換可能にすることがある。

[0083] 付加的又は代替的に、第１のアクセス部材３４が以上で説明したように取付部４６を備え得るため、例えばコレクタ５にアクセスするための、１つ以上の検査装置の取り外しは必要ない場合がある。繰り返しになるが、これによって、放射源ＳＯのコレクタ５を交換するために必要とされる時間及び／又は工程の数が減ることがある。例えば、コレクタ５を交換するために必要とされる時間は、約５倍以上短縮されることがある。別様に表現すると、コレクタ５を交換するための時間は、４０時間から約８時間に短縮されることがある。工程の減少によって、放射源ＳＯのコンポーネント、容器及び／又は交換に使用される工具の損傷のリスクも低下し得ることが分かっている。

[0084] 図５Ａ及び図５Ｂは、図１から図３に示す放射源ＳＯとともに使用される別の例示的な容器１１６を示している。図５Ａ及び図５Ｂに示す容器１１６は、図３Ａから図３Ｃ及び図４に関連して以上で説明した容器と類似している。従って、これらに関連して説明したいずれの特徴も図５Ａ及び図５Ｂに示す容器に適用されることがある。図５Ａ及び図５Ｂでは、類似の特徴が１００ずつ増やされた類似の参照番号によって示されている。

[0085] 図５Ａ及び図５Ｂから分かるように、この実施形態では容器１６は、容器１１６の内部１３２にアクセスするための開口１３０を備える。容器１１６はアクセス部材１３４を備える。アクセス部材１３４はハッチ、扉、蓋などの形態で提供されることがある。アクセス部材１３４は、開口１３０を介した容器１１６の内部１３２へのアクセスを可能又は不能にするように構成されることがある。容器１１６、開口１３０及び／又はアクセス部材１３４は、上記の容器１６、第１の開口３０及び／又は第１のアクセス部材３４のいずれの特徴も備えることがある。

[0086] 容器１１６は、閉鎖形態及び開放形態の間で操作可能である場合がある。図６Ａに示す容器１１６の閉鎖形態において、アクセス部材１３４は、容器１１６の内部１３２へのアクセスを不能にするように構成されている。換言すれば、アクセス部材１３４は閉じており、開口１３０を塞ぐ。容器１１６の閉鎖形態において、アクセス部材１３４は、例えば締結装置を使用して、容器１１６の壁１１６ａに締結されることがある。締結装置は、１つ以上のファスナ１３９、例えばネジ又はボルトなどを含むことがある。締結装置は複数の穴１３９ａ、１３９ｂを含むことがある。穴１３９ａ、１３９ｂは、アクセス部材１３４及び容器１１６、例えば容器１１６の壁１１６ａに、例えばファスナ１３９を使用してアクセス部材１３４を容器１１６の壁１１６ａに締結できるように配置されることがある。図５Ａに示す実施形態では、４個の穴１３９ａはアクセス部材１３４の周辺に配置され、対応する４個の穴１３９ｂは開口１３０の周辺に配置される。他の実施形態では、アクセス部材及び／又は容器の壁が４個より多い又は少ない穴を備え得ることが理解されるであろう。

[0087] 図５Ｂに示す容器１１６の開放形態において、アクセス部材１３４は、開口１３０を介した容器１１６の内部１３２へのアクセスを可能にするように構成されている。別様に表現すると、アクセス部材１３４は開いており、開口１３０は塞がれていない場合がある。容器１１６は、アクセス部材１３４及び容器１１６の穴１３９ａ、１３９ｂからファスナ１３９を外す及び／又は取り除くことによって開放位置に操作されることがある。

[0088] アクセス部材１３４は、１つ以上のメトロロジモジュール又は検査装置１１８を容器１１６に取り付けるための取付部１４６を備える。取付部１４６は、図３Ａから図３Ｃ及び図４に関連して以上で説明した取付部４６のいずれの特徴も備えることがある。取付部１４６をアクセス部材１３４の一部として設けることによって、閉鎖形態と開放形態の間の容器１１６の操作の前に検査装置１１８を取り外すことが必要でない場合がある。これによって検査装置のアライメントの必要性が回避される又は低下することがある。以上で説明したように、これによって、放射源ＳＯの１つ以上のコンポーネント、例えばコレクタ１０５、第２の燃料コレクタ（図５Ａ及び図５Ｂには示されていない）及び／又はデブリ軽減システム１２４の一部又は全体などを交換するために必要とされる時間及び／又は工程の数が減少することがある。

[0089] 図６は、ＥＵＶ放射源の少なくとも第１のコンポーネントを交換する方法の工程の概要を説明するフローチャートを示している。放射源は上記の放射源ＳＯを含むことがある。放射源は、図３Ａから図３Ｃ及び図４に関連して説明した容器１６を備えることがある。この実施形態では、第１のコンポーネントはデブリ軽減システム２４の汚染トラップ２６ａを含むことがある。ただし、方法がデブリ軽減システムの汚染トラップを交換することに限定されないことが理解されるであろう。他の実施形態では、第１のコンポーネントは、デブリ軽減システムの別の部品もしくはコンポーネント、例えば燃料デブリ除去デバイスなど、又は放射源の別のコンポーネントを含むことがある。

[0090] 方法は、第１の開口３０を介した容器１６の内部３２へのアクセスを可能にするように第１のアクセス部材３４を操作すること（ステップ７０５）を含む。第１のアクセス部材３４を操作するステップ（７０５）は、容器１６を図３Ａに示す閉鎖形態から図３Ｂに示す第１の開放形態に操作することを含むことがある。第１のアクセス部材３４を操作するステップ（７０５）は、ファスナ３９を穴３９ａ、３９ｂから外す及び／又は取り除くことを含むことがある。方法は、例えば第１のアクセス部材３４を操作するステップ（７０５）の前に、容器１６及び／又は放射源ＳＯ、例えばその各部品を冷却することを含むことがある。方法は、例えば第１のアクセス部材３４を操作する前に、容器１６の内部３２を大気圧に戻すことを含むことがある。方法は、例えば第１のアクセス部材３４を操作するステップ（７０５）の前に、冷却源を第１のアクセス部材３４及び／又は第２のアクセス部材３８の一部であり得る複数の接続要素４８から切り離すことを含むことがある。

[0091] ステップ７１０において、方法は、交換すべき汚染トラップ２６ａを取り外すことを含む。交換すべき汚染トラップ２６を取り外すステップ（７１０）は、汚染トラップ２６ａをデブリ軽減システム２４の少なくとも別の部分及びガス流デバイス２６ｆから切り離すことを含むことがある。汚染トラップ２６ａを取り外すステップ（７１０）は、交換すべき汚染トラップ２６ａを第１の開口３０に通すことを含むことがある。

[0092] ステップ７１５において、方法は、使用される汚染トラップを設置することを含む。使用される汚染トラップは、未使用の、洗浄された、修理された又は新しい汚染トラップを含むことがある。

[0093] ステップ７２０において、方法は、第１の開口３０を介した容器１６の内部３２へのアクセスを不能にするように第１のアクセス部材３４を操作することを含む。アクセスを不能にするように第１のアクセス部材３４を操作するステップ（７２０）は、容器１６を図３Ｂに示す第１の開放形態から図３Ａに示す閉鎖形態に操作することを含むことがある。アクセスを不能にするように第１のアクセス部材３４を操作するステップ（７２０）は、ファスナ３９を穴３９ａ、３９ｂに挿入すること及び／又はファスナ３９を締結することを含むことがある。方法は、例えばアクセスを不能にするように第１のアクセス部材３４を操作するステップ（７２０）の後に、容器１６及び／又は放射源ＳＯ、例えばその各部品を加熱することを含むことがある。方法は、例えばアクセスを不能にするように第１のアクセス部材３４を操作するステップ（７２０）の後に、容器１６の内部３２の圧力を大気圧よりかなり低く低下させることを含むことがある。方法は、例えばアクセスを不能にするように第１のアクセス部材を操作するステップ（７２０）の後に、冷却源を第１のアクセス部材及び／又は第２のアクセス部材の一部であり得る複数の接続要素４８に接続することを含むことがある。

[0094] 図７は、ＥＵＶ放射源の第２のコンポーネントを交換する方法の工程の概要を説明するフローチャートを示している。放射源は上記の放射源ＳＯを含むことがある。放射源ＳＯは、図３Ａから図３Ｃ及び図４に関連して説明した容器１６を備えることがある。この実施形態では、第２のコンポーネントはコレクタ５及び／又は第２の燃料コレクタを含むことがある。ただし、方法がコレクタ５及び／又は第２の燃料コレクタを交換することに限定されないことが理解されるであろう。他の実施形態では、第２のコンポーネントは放射源ＳＯの別のコンポーネントを含むことがある。

[0095] ステップ８０５において、方法は、第２の開口３６を介した容器１６の内部３２へのアクセスを可能にするように第２のアクセス部材３８を操作することを含む。第２のアクセス部材３８を操作するステップ（８０５）は、容器１６を図３Ａに示す閉鎖形態から図３Ｃに示す第２の開放形態に操作することを含むことがある。第２のアクセス部材３８を操作するステップ（８０５）は、別のファスナ３９ｅを別の穴３９ｄ、３９ｃから外す及び／又は取り除くことを含むことがある。方法は、例えば第２のアクセス部材を操作するステップ（８０５）の前に、容器１６及び／又は放射源ＳＯ、例えばその各部品を冷却することを含むことがある。方法は、例えば第２のアクセス部材を操作する前に、容器１６の内部３２を大気圧に戻すことを含むことがある。方法は、例えば第２のアクセス部材３８を操作するステップ（８０５）の前に、冷却源を第２のアクセス部材の一部であり得る複数の接続要素４８から切り離すことを含むことがある。

[0096] ステップ８１０において、方法は、交換すべきコレクタを取り外すことを含む。交換すべきコレクタ５を取り外すステップは、コレクタ５をデブリ軽減システム２４から切り離すことを含むことがある。コレクタ５を取り外すステップは、交換すべきコレクタ５を第２の開口３６に通すことを含むことがある。方法は、例えばコレクタ５を取り外すステップの後に、交換すべき第２の燃料コレクタを取り外すことを含むことがある。方法は、交換すべき第２の燃料コレクタを第２の開口３６に通すことを含むことがある。

[0097] ステップ８１５において、方法は、使用されるコレクタを設置することを含む。使用されるコレクタは、未使用の、洗浄された、修理された又は新しいコレクタを含むことがある。方法は、例えば使用されるコレクタを設置する前に、使用される第２の燃料コレクタを設置することを含むことがある。使用される第２の燃料コレクタは、未使用の、洗浄された、修理された又は新しい第２の燃料コレクタを含むことがある。

[0098] ステップ８２０において、方法は、第２の開口を介した容器の内部へのアクセスを不能にするように第２のアクセス部材３８を操作することを含む。アクセスを不能にするように第２のアクセス部材を操作するステップは、容器１６を図３Ｃに示す第２の開放形態から図３Ａに示す閉鎖形態に操作することを含むことがある。アクセスを不能にするように第２のアクセス部材３８を操作するステップ（８２０）は、別のファスナ３９ｅを別の穴３９ｃ、３９ｄに挿入すること及び／又はファスナ３９ｅを締結することを含むことがある。方法は、例えばアクセスを不能にするように第２のアクセス部材３８を操作するステップ（８２０）の後に、容器１６及び／又は放射源ＳＯ、例えばその各部品を加熱することを含むことがある。方法は、例えばアクセスを不能にするように第２のアクセス部材３８を操作するステップ（８２０）の後に、容器１６の内部３２の圧力を大気圧よりかなり低く低下させることを含むことがある。方法は、例えばアクセスを不能にするように第２のアクセス部材３８を操作するステップ（８２０）の後に、冷却源を第２のアクセス部材の一部であり得る複数の接続要素４８に接続することを含むことがある。

[0099] 図６及び図７に関連して説明したいずれの方法ステップも、互いに併用される又は互いから独立して用いられることが理解されるであろう。

[00100] 上記の方法のいずれのステップも、図５Ａ及び図５Ｂに示した容器１１６を備える放射源ＳＯに適用され得ることが理解されるであろう。そして方法は、開口１３０を介した容器１１６の内部１３２へのアクセスを可能にするようにアクセス部材１３４を操作することを含むことがある。アクセス部材１３４を操作するステップは、容器１１６を図５Ａに示す閉鎖形態から図５Ｂに示す開放形態に操作することを含むことがある。アクセス部材１３４を操作するステップは、ファスナ１３９を穴１３９ａ、１３９ｂから外す及び／又は取り除くことを含むことがある。方法は、例えばアクセス部材を操作するステップの前に、容器１１６及び／又は放射源ＳＯ、例えばその各部品を冷却することを含むことがある。方法は、例えばアクセス部材１３４を操作する前に、容器１１６の内部１３２を大気圧に戻すことを含むことがある。方法は、例えばアクセス部材１３４を操作するステップの前に、冷却源をアクセス部材１３４の一部であり得る複数の接続要素１４８から切り離すことを含むことがある。

[00101] 方法は、交換すべき汚染トラップ１２６ａを取り外すことを含むことがある。交換すべき汚染トラップ１２６ａを取り外すステップは、汚染トラップ１２６ａをデブリ軽減システム１２４の少なくとも別の部分及びガス流デバイス１２６ｆから切り離すことを含むことがある。汚染トラップ１２６ａを取り外すステップは、交換すべき汚染トラップ１２６ａを第１の開口１３０に通すことを含むことがある。

[00102] 付加的又は代替的に、方法は交換すべきコレクタを取り外すことを含むことがある。交換すべきコレクタ１０５を取り外すステップは、コレクタ１０５をデブリ軽減システム１２４から切り離すことを含むことがある。コレクタ１０５を取り外すステップは、交換すべきコレクタ１０５を開口１３０に通すことを含むことがある。方法は、例えばコレクタ１０５を取り外すステップの後に、交換すべき第２の燃料コレクタを取り外すことを含むことがある。方法は、交換すべき第２の燃料コレクタを開口１３０に通すことを含むことがある。

[00103] 方法は、使用される汚染トラップ及び／又はコレクタを設置することを含むことがある。使用される汚染トラップは、未使用の、洗浄された、修理された又は新しい汚染トラップを含むことがある。使用されるコレクタは、未使用の、洗浄された、修理された又は新しいコレクタを含むことがある。方法は、例えば使用されるコレクタ及び／又は汚染トラップを設置する前に、使用される第２の燃料コレクタを設置することを含むことがある。使用される第２の燃料コレクタは、未使用の、洗浄された、修理された又は新しい第２の燃料コレクタを含むことがある。

[00104] 方法は、開口１３０を介した容器１１６の内部１３２へのアクセスを不能にするようにアクセス部材１３４を操作することを含むことがある。アクセスを不能にするようにアクセス部材１３４を操作するステップは、容器１１６を図６Ｂに示す開放形態から図６Ａに示す閉鎖形態に操作することを含むことがある。アクセスを不能にするようにアクセス部材１３４を操作するステップは、ファスナ１３９を穴１３９ａ、１３９ｂに挿入すること及び／又はファスナ１３９を締結することを含むことがある。方法は、例えばアクセスを不能にするようにアクセス部材１３４を操作するステップの後に、容器１１６及び／又は放射源ＳＯ、例えばその各部品を加熱することを含むことがある。方法は、例えばアクセスを不能にするようにアクセス部材１３４を操作するステップの後に、容器１１６の内部の圧力を大気圧よりかなり低く低下させることを含むことがある。方法は、例えばアクセスを不能にするようにアクセス部材１３４を操作するステップの後に、冷却源をアクセス部材１３４の一部であり得る複数の接続要素１４８に接続することを含むことがある。

[00105] 「ＥＵＶ放射源」及び「放射源」という用語が区別なく用いられ得ることが理解されるであろう。

[00106] 複数の特徴への言及がそれらの特徴の単数形への言及、例えば「少なくとも１つ」及び／又は「各」などと区別なく用いられ得ることが理解されるであろう。ある特徴の単数形、例えば「少なくとも１つ」又は「各」は、区別なく用いられることがある。

[00107] 「ＥＵＶ放射」という用語は、４～２０ｎｍの範囲内、例えば１３～１４ｎｍの範囲内の波長を有する電磁放射を包含するものと考えられることがある。ＥＵＶ放射は、１０ｎｍ未満、例えば、６．７ｎｍ又は６．８ｎｍなど４～１０ｎｍの範囲内の波長を有することがある。

[00108] 本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることを理解されたい。考えられる他の用途は、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用のガイダンス及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの製造である。

[00109] 以上では光学リソグラフィと関連して本発明の実施形態の使用に特に言及しているが、本発明は、例えばインプリントリソグラフィなど、その他の適用例において使用されてもよく、文脈が許す限り、光学リソグラフィに限定されないことが理解されるであろう。

[00110] 以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることは理解されよう。上記の説明は例示的であり、限定的ではない。従って、請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。

Claims (15)

1. ＥＵＶ放射源用の容器であって、
   前記容器の内部にアクセスするための第１の開口と、
   前記第１の開口を介した前記容器の前記内部へのアクセスを可能又は不能にする第１のアクセス部材と、
   前記容器の内部にアクセスするための、前記第１のアクセス部材に配置されている第２の開口と、
   前記第１のアクセス部材に配置され、前記第２の開口を介した前記容器の前記内部へのアクセスを可能又は不能にする第２のアクセス部材と、
   を備える、容器。
2. 前記第１の開口が、前記放射源の第１のコンポーネント及び第２のコンポーネントへのアクセスを可能にし、前記放射源の前記第１及び／又は第２のコンポーネントの前記第１の開口の通過を可能にする、請求項１の容器。
3. 前記第２の開口が、前記放射源の前記第２のコンポーネントへのアクセスを可能にし、前記放射源の前記第２のコンポーネントの前記第２の開口の通過を可能にする、請求項２の容器。
4. 前記容器が、閉鎖形態、第１の開放形態及び第２の開放形態のうちの少なくとも２つの間で操作可能である、請求項１から３の何れか一項の容器。
5. 前記容器の前記閉鎖形態において、前記第１及び第２のアクセス部材が前記容器の前記内部へのアクセスを不能にする、
   前記容器の前記第１の開放形態において、前記第１のアクセス部材が前記第１の開口を介した前記容器の前記内部へのアクセスを可能にする、及び／又は、
   前記容器の前記第２の開放形態において、前記第２のアクセス部材が前記第２の開口を介した前記容器の前記内部へのアクセスを可能にする、
   請求項４の容器。
6. 前記容器が、１つ以上のメトロロジモジュール又は検査装置を前記容器に取り付けるための取付部であって、前記第１のアクセス部材の一部である又は前記第１のアクセス部材に含まれる、取付部を備える、請求項１から５の何れか一項の容器。
7. 前記取付部が、前記１つ以上のメトロロジモジュール又は検査装置を前記容器の前記内部の基準点に対して取り付ける、請求項６の容器。
8. 前記第２のアクセス部材が、前記取付部から離れて及び／又は前記取付部より下方に配置されている、請求項６又は７の容器。
9. 請求項１から８の何れか一項に記載の容器を備える、ＥＵＶ放射源。
10. 前記放射源が、モジュール式のデブリ軽減システムを備える、請求項９の放射源。
11. 前記放射源の第１のコンポーネントが、前記放射源の前記デブリ軽減システムの少なくとも一部又は全体を含む、請求項１０の放射源。
12. 前記放射源の第２のコンポーネントが、
    前記放射源のプラズマ形成領域で放出された放射を集光するための集光ミラー、及び、前記放射源の前記プラズマ形成領域で発生した燃料デブリを収集するための燃料コレクタ、のうちの少なくとも一方を備える、請求項９から１１の何れか一項の放射源。
13. 請求項９から１２の何れか一項の放射源及びリソグラフィ装置を備える、リソグラフィシステム。
14. 請求項１から８の何れか一項に記載の容器を備えるＥＵＶ放射源の少なくとも第１のコンポーネントを交換する方法であって、
    前記第１の開口を介した前記容器の前記内部へのアクセスを可能にするように前記第１のアクセス部材を操作することと、
    交換すべき少なくとも前記第１のコンポーネントを取り外すことと、
    使用される少なくとも別の第１のコンポーネントを設置することと、
    前記第１の開口を介した前記容器の前記内部へのアクセスを不能にするように前記第１のアクセス部材を操作することと、
    を含む、方法。
15. 請求項１から８の何れか一項に記載の容器を備えるＥＵＶ放射源の第２のコンポーネントを交換する方法であって、
    前記第２の開口を介した前記容器の前記内部へのアクセスを可能にするように前記第２のアクセス部材を操作することと、
    交換すべき前記第２のコンポーネントを取り外すことと、
    使用される別の第２のコンポーネントを設置することと、
    前記第２の開口を介した前記容器の前記内部へのアクセスを不能にするように前記第２のアクセス部材を操作することと、
    を含む、方法。

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