JP2023506016A - フッ化ビニリデン(vdf)ポリマーに基づく膜のための双性イオン部位含有ポリマー系添加剤 - Google Patents
フッ化ビニリデン(vdf)ポリマーに基づく膜のための双性イオン部位含有ポリマー系添加剤 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2023506016A JP2023506016A JP2022535809A JP2022535809A JP2023506016A JP 2023506016 A JP2023506016 A JP 2023506016A JP 2022535809 A JP2022535809 A JP 2022535809A JP 2022535809 A JP2022535809 A JP 2022535809A JP 2023506016 A JP2023506016 A JP 2023506016A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer
- vdf
- composition
- mol
- derived
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims abstract description 175
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 153
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 117
- 239000000654 additive Substances 0.000 title abstract description 34
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 110
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 38
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 14
- 239000002609 medium Substances 0.000 claims description 68
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 61
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 43
- -1 perfluoro Chemical group 0.000 claims description 33
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 15
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 12
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 11
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 claims description 10
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical compound FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethene Chemical group FC=C(F)F MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims description 8
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000003010 ionic group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229920001427 mPEG Polymers 0.000 claims description 7
- 229940088644 n,n-dimethylacrylamide Drugs 0.000 claims description 7
- YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C=C YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 6
- RNXIEHAYHIOERX-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethyl-[3-(prop-2-enoylamino)propyl]azaniumyl]-2-hydroxypropane-1-sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)CC(O)C[N+](C)(C)CCCNC(=O)C=C RNXIEHAYHIOERX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N Betaine Natural products C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 5
- QMIWYOZFFSLIAK-UHFFFAOYSA-N 3,3,3-trifluoro-2-(trifluoromethyl)prop-1-ene Chemical group FC(F)(F)C(=C)C(F)(F)F QMIWYOZFFSLIAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical class OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 4
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 4
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 claims description 3
- 229940117986 sulfobetaine Drugs 0.000 claims description 3
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=NC=C1 KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O Imidazolium Chemical compound C1=C[NH+]=CN1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 2
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 claims description 2
- 125000005131 dialkylammonium group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- DAFIBNSJXIGBQB-UHFFFAOYSA-N perfluoroisobutene Chemical group FC(F)=C(C(F)(F)F)C(F)(F)F DAFIBNSJXIGBQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N (dimethylsulfonio)acetate Chemical compound C[S+](C)CC([O-])=O PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O N,N,N-trimethylglycinium Chemical compound C[N+](C)(C)CC(O)=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 abstract description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 9
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 abstract description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 abstract description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract 1
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl sulfoxide Natural products CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 35
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 24
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 24
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 22
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 22
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 22
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 22
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 11
- 239000010408 film Substances 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 10
- DDLBHIIDBLGOTE-UHFFFAOYSA-M 3-chloro-2-hydroxypropane-1-sulfonate Chemical compound ClCC(O)CS([O-])(=O)=O DDLBHIIDBLGOTE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 8
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 8
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 7
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 7
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanobutan-2-yldiazenyl)-2-methylbutanenitrile Chemical compound CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CC)C#N AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910019093 NaOCl Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 6
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 6
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 5
- TZLNJNUWVOGZJU-UHFFFAOYSA-M sodium;3-chloro-2-hydroxypropane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].ClCC(O)CS([O-])(=O)=O TZLNJNUWVOGZJU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- 102100040409 Ameloblastin Human genes 0.000 description 4
- 101000891247 Homo sapiens Ameloblastin Proteins 0.000 description 4
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 4
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 4
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 4
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 4
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 4
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 4
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 4
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 4
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 4
- 229920006301 statistical copolymer Polymers 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphate Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OCC DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFYRJJBUHYILSO-YFKPBYRVSA-N (2s)-2-amino-3-dimethylarsanylsulfanyl-3-methylbutanoic acid Chemical compound C[As](C)SC(C)(C)[C@@H](N)C(O)=O KFYRJJBUHYILSO-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 3
- PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1 PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- DUDCYUDPBRJVLG-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOCC.COC(=O)C(C)=C DUDCYUDPBRJVLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MMVJBWFKSYKXIA-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CCOCC.CC(=C)C(O)=O MMVJBWFKSYKXIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DOMLXBPXLNDFAB-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;methyl prop-2-enoate Chemical compound CCOCC.COC(=O)C=C DOMLXBPXLNDFAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 3
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 3
- 238000010907 mechanical stirring Methods 0.000 description 3
- 238000001471 micro-filtration Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 3
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 3
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 3
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YSYRISKCBOPJRG-UHFFFAOYSA-N 4,5-difluoro-2,2-bis(trifluoromethyl)-1,3-dioxole Chemical compound FC1=C(F)OC(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)O1 YSYRISKCBOPJRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N Dimethyl phthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 2
- 229920006373 Solef Polymers 0.000 description 2
- 241000700605 Viruses Species 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 239000013060 biological fluid Substances 0.000 description 2
- 239000008280 blood Substances 0.000 description 2
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 description 2
- 210000001601 blood-air barrier Anatomy 0.000 description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010612 desalination reaction Methods 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LVMRFLWAXIZLNG-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;prop-2-enoic acid Chemical compound CCOCC.OC(=O)C=C LVMRFLWAXIZLNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 2
- AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M lithium bromide Chemical compound [Li+].[Br-] AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ADTJPOBHAXXXFS-UHFFFAOYSA-N n-[3-(dimethylamino)propyl]prop-2-enamide Chemical compound CN(C)CCCNC(=O)C=C ADTJPOBHAXXXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 2
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 2
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N undecane Chemical compound CCCCCCCCCCC RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- BLTXWCKMNMYXEA-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoro-2-(trifluoromethoxy)ethene Chemical compound FC(F)=C(F)OC(F)(F)F BLTXWCKMNMYXEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHSPZZUAYSGTB-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetraethylurea Chemical compound CCN(CC)C(=O)N(CC)CC UWHSPZZUAYSGTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEQRDAAUNCRFIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichlorobutane Chemical compound CCCC(Cl)Cl SEQRDAAUNCRFIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPQOPVIELGIULI-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1 ZPQOPVIELGIULI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAYTZRYEBVHVLE-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxol-2-one Chemical compound O=C1OC=CO1 VAYTZRYEBVHVLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTPFSIZAJUXRQS-UHFFFAOYSA-N 1-(2-butoxyethoxy)butane;phenylmethoxymethylbenzene Chemical compound CCCCOCCOCCCC.C=1C=CC=CC=1COCC1=CC=CC=C1 UTPFSIZAJUXRQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 1-chlorobutane Chemical compound CCCCCl VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVMBRRGVNABPCP-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-1,1,2,2,2-pentafluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)OC=C UVMBRRGVNABPCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAVCAHWKKDIRLY-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-1,1,2,2,3,3,3-heptafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)OC=C DAVCAHWKKDIRLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOPDRZXCEAKHHW-UHFFFAOYSA-N 1-pentoxypentane Chemical compound CCCCCOCCCCC AOPDRZXCEAKHHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFNSTEOEZJBXIF-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,5-tetrafluoro-1,3-dioxole Chemical compound FC1=C(F)OC(F)(F)O1 HFNSTEOEZJBXIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUZKCNWZBXLAJX-UHFFFAOYSA-N 2-phenylmethoxyethanol Chemical compound OCCOCC1=CC=CC=C1 CUZKCNWZBXLAJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethanol Chemical compound CC(C)OCCO HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCAIDFOKQCVACE-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethyl-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl]azaniumyl]propane-1-sulfonate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC[N+](C)(C)CCCS([O-])(=O)=O BCAIDFOKQCVACE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSIYJQZEXKBLSG-UHFFFAOYSA-N 5-carbamoyl-8-(dimethylamino)-1-hydroxyoct-4-ene-4-sulfonic acid Chemical compound CN(C)CCCC(=C(CCCO)S(=O)(=O)O)C(=O)N WSIYJQZEXKBLSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLCAEMBIQVZWIF-UHFFFAOYSA-N 6-(dimethylamino)-2-methylhex-2-enamide Chemical compound CN(C)CCCC=C(C)C(N)=O FLCAEMBIQVZWIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQZGPSLYZOOYQP-UHFFFAOYSA-N Diisoamyl ether Chemical compound CC(C)CCOCCC(C)C AQZGPSLYZOOYQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000552 LiCF3SO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005605 branched copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007853 buffer solution Substances 0.000 description 1
- 235000013877 carbamide Nutrition 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000013626 chemical specie Substances 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008422 chlorobenzenes Chemical class 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 239000012809 cooling fluid Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000000502 dialysis Methods 0.000 description 1
- QLVWOKQMDLQXNN-UHFFFAOYSA-N dibutyl carbonate Chemical compound CCCCOC(=O)OCCCC QLVWOKQMDLQXNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N dimethyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N dimethyl phthalate Natural products CC(=O)OC1=CC=CC=C1OC(C)=O FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001826 dimethylphthalate Drugs 0.000 description 1
- VUPKGFBOKBGHFZ-UHFFFAOYSA-N dipropyl carbonate Chemical compound CCCOC(=O)OCCC VUPKGFBOKBGHFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hcl hcl Chemical compound Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- VHHHONWQHHHLTI-UHFFFAOYSA-N hexachloroethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C(Cl)(Cl)Cl VHHHONWQHHHLTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M isovalerate Chemical compound CC(C)CC([O-])=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 1
- MHCFAGZWMAWTNR-UHFFFAOYSA-M lithium perchlorate Chemical compound [Li+].[O-]Cl(=O)(=O)=O MHCFAGZWMAWTNR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001486 lithium perchlorate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- WEFZXWJJPHGTTN-UHFFFAOYSA-N methyl 5-(dimethylamino)-2-methyl-5-oxopentanoate Chemical compound COC(=O)C(C)CCC(=O)N(C)C WEFZXWJJPHGTTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000569 multi-angle light scattering Methods 0.000 description 1
- AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylacetamide Chemical compound CCN(CC)C(C)=O AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001728 nano-filtration Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- ZCYXXKJEDCHMGH-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCC[CH]CCCC ZCYXXKJEDCHMGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N normal nonane Natural products CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000045947 parasite Species 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- BNIXVQGCZULYKV-UHFFFAOYSA-N pentachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)(Cl)Cl BNIXVQGCZULYKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M phosphinate Chemical compound [O-][PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M phosphonate Chemical compound [O-]P(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000003880 polar aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002480 polybenzimidazole Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 235000020004 porter Nutrition 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- KCXFHTAICRTXLI-UHFFFAOYSA-M propane-1-sulfonate Chemical compound CCCS([O-])(=O)=O KCXFHTAICRTXLI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000001448 refractive index detection Methods 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 239000013535 sea water Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- VWHYHPPXJSBSNK-UHFFFAOYSA-M sodium;3-chloropropane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)CCCCl VWHYHPPXJSBSNK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- FPDZOFFZSWSOSL-UHFFFAOYSA-N trifluoromethoxyethene Chemical compound FC(F)(F)OC=C FPDZOFFZSWSOSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N trimethyl phosphate Chemical compound COP(=O)(OC)OC WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/76—Macromolecular material not specifically provided for in a single one of groups B01D71/08 - B01D71/74
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F214/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen
- C08F214/18—Monomers containing fluorine
- C08F214/22—Vinylidene fluoride
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/30—Polyalkenyl halides
- B01D71/32—Polyalkenyl halides containing fluorine atoms
- B01D71/34—Polyvinylidene fluoride
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/40—Polymers of unsaturated acids or derivatives thereof, e.g. salts, amides, imides, nitriles, anhydrides, esters
- B01D71/401—Polymers based on the polymerisation of acrylic acid, e.g. polyacrylate
- B01D71/4011—Polymethylmethacrylate
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/40—Polymers of unsaturated acids or derivatives thereof, e.g. salts, amides, imides, nitriles, anhydrides, esters
- B01D71/42—Polymers of nitriles, e.g. polyacrylonitrile
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/76—Macromolecular material not specifically provided for in a single one of groups B01D71/08 - B01D71/74
- B01D71/82—Macromolecular material not specifically provided for in a single one of groups B01D71/08 - B01D71/74 characterised by the presence of specified groups, e.g. introduced by chemical after-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F218/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an acyloxy radical of a saturated carboxylic acid, of carbonic acid or of a haloformic acid
- C08F218/02—Esters of monocarboxylic acids
- C08F218/04—Vinyl esters
- C08F218/08—Vinyl acetate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F220/14—Methyl esters, e.g. methyl (meth)acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/52—Amides or imides
- C08F220/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/52—Amides or imides
- C08F220/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
- C08F220/56—Acrylamide; Methacrylamide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/52—Amides or imides
- C08F220/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
- C08F220/58—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing oxygen in addition to the carbonamido oxygen, e.g. N-methylolacrylamide, N-(meth)acryloylmorpholine
- C08F220/585—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing oxygen in addition to the carbonamido oxygen, e.g. N-methylolacrylamide, N-(meth)acryloylmorpholine and containing other heteroatoms, e.g. 2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid [AMPS]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/52—Amides or imides
- C08F220/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
- C08F220/60—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing nitrogen in addition to the carbonamido nitrogen
- C08F220/606—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing nitrogen in addition to the carbonamido nitrogen and containing other heteroatoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L27/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L27/02—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08L27/12—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
- C08L27/16—Homopolymers or copolymers or vinylidene fluoride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
- C08L33/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
- C08L33/12—Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2325/00—Details relating to properties of membranes
- B01D2325/18—Membrane materials having mixed charged functional groups
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/40—Polymers of unsaturated acids or derivatives thereof, e.g. salts, amides, imides, nitriles, anhydrides, esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2327/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers
- C08J2327/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08J2327/12—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
- C08J2327/16—Homopolymers or copolymers of vinylidene fluoride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2433/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
- C08J2433/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
- C08J2433/06—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing only carbon, hydrogen, and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C08J2433/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
- C08J2433/12—Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2433/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
- C08J2433/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
- C08J2433/14—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
Abstract
本発明は、フッ化ビニリデン(VDF)ポリマーに基づく膜の製造に適した組成物、その多孔質膜、それらの製造方法、及びそれらの使用、特に水相の濾過のための使用に関する。フッ化ビニリデン(VDF)ポリマーと双性イオン部位を含むポリマー系添加剤とを含む前記組成物は、製造された膜の優れた親水化性能を提供する。【選択図】なし
Description
本発明は、フッ化ビニリデン(VDF)ポリマーに基づく膜の製造に適した組成物、その多孔質膜、それらの製造方法、及びそれらの使用、特に水相の濾過のための使用に関する。本発明は、前記膜の親水化添加剤として使用するのに適したコポリマーにも関する。
多孔質膜は薄い物体であり、その重要な特性は、それ自体を介して化学種の透過速度を制御する能力である。この特徴は、分離用途(水と気体)などの用途で利用されている。
フッ素化ポリマーは、その優れた機械的強度、高い耐薬品性、及び熱安定性のため、精密濾過膜及び限外濾過膜の作製に広く使用されている。それらの中でも、フッ化ビニリデン(VDF)に基づく部分的にフッ素化されたポリマーは、前記膜の多孔質及び形態を制御するのに特に便利である。フッ化ビニリデンポリマー[ポリマー(VDF)]から作られた膜は本質的に疎水性であり、そのため、撥水性、低透水性を備えており、その表面に粒子やタンパク質のファウリングが生じやすい。疎水性は水がフルオロポリマー膜に浸透することを妨げるため、水の透過性にはより高い圧力を要し、より多くのエネルギーを消費する。ファウリングは、例えば限外濾過又は精密濾過プロセスで膜を通過する水の透過の流れを一時的又は恒久的に減少させる。
多孔質VDFポリマー膜を通して水を透過する能力は、一般的には、内部細孔の内面をより親水性にすることによって改善される。更に、タンパク質及び他の付着物質は本質的に疎水性であるため、VDFポリマー膜の親水性が増加するとより優れたファウリング耐性を得られることが一般的に認められている。
多孔質VDFポリマー膜を親水性にし、その結果前記膜をより透水性にし、ファウリングに対して耐性を持たせるために、複数の戦略が採用されてきた。追求されてきたアプローチの中でも、膜表面へ親水性種をグラフト化すること、フッ化ビニリデンポリマーの主鎖へ親水性コモノマーを組み込むこと、親水化添加剤を配合することなどに基づくアプローチを挙げることができる。これらのアプローチは、例えばSurface Modifications for Antifouling Membranes,Chemical Reviews,2010,Vol.110,No.4,p.2448-2471の中で概説されている。PVDFに基づく膜を親水化するために双性イオン構造を使用することは、これらのアプローチの一部であり、非常に興味深い。
国際公開第2015/070004号パンフレットには、p(MMA-s-SBMA)などの、双性イオン性繰り返し単位と疎水性繰り返し単位とを含む統計コポリマーから形成された選択された層が、多孔質PVDF膜から形成された支持層上に配置されている、双性イオン含有膜が開示されている。しかしながら、得られた膜の耐久性についても、化学的エージングに対する耐性についても全く記載されていない。
PVDFに基づく膜のための親水化添加剤は、PVDF膜の親水性を高めるのに有用な櫛形且つランダムの双性イオン性コポリマー(例えばp(MMA-r-SBMA))を開示している米国特許出願公開第2018/0001278号明細書で提案されている。添加剤が添加された得られるPVDF膜は、PVDF膜と比較した場合、ファウリングに対する優れた耐性と改善された透過性を示す。ただし、そのような結果を得るためには、PVDF膜の機械的耐性、耐薬品性、及びその経済的魅力を損なう可能性のある比較的大量の双性イオン性添加剤を要する。
制御された細孔径を有し、且つ耐ファウリング挙動を示す、透過性の高い多孔質膜を開発することが必要とされている。更に、前記膜は、耐久性を保証することができる高い熱的及び化学的安定性を示す必要がある。また、添加剤が中に分散されているPVDF膜を親水化することができる、高い熱的及び化学的安定性を有する添加剤も必要とされている。加えて、これらの添加剤は、高い機械的、熱的、及び化学的特性を有するフッ化ビニリデンポリマーの固有の特性を損なわずに、それらの親水性、透水性、及び耐ファウリング挙動を長期的に高めるために、フッ化ビニリデンポリマー膜に容易且つ恒久的に組み込まれる必要がある。最後に、添加剤は控えめに使用するために非常に効率的な親水化剤である必要があり、その結果、それらが多量に存在しすぎることに起因する、多孔質PVDF膜の機械的、熱的、及び化学的な耐性に対する悪影響が回避される。
全てのこの要求及びそれ以上のものは、
- 少なくとも1種のフッ化ビニリデン(VDF)ポリマー[ポリマー(VDF)]、及び
- 少なくとも2つのイオン性基を有し、そのうちの少なくとも1つがカチオン性基[基(C+)]であり、そのうちの少なくとも1つがアニオン性基[基(A-)]であり、更に少なくとも1つのヒドロキシル基を含む、少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマーに由来する双性イオン性繰り返し単位[単位(RZW)]を含む少なくとも1種のポリマー[ポリマー(N-ZW)]、
を含む組成物[組成物(C)]に関する本発明の第1の態様によって満たされる。
- 少なくとも1種のフッ化ビニリデン(VDF)ポリマー[ポリマー(VDF)]、及び
- 少なくとも2つのイオン性基を有し、そのうちの少なくとも1つがカチオン性基[基(C+)]であり、そのうちの少なくとも1つがアニオン性基[基(A-)]であり、更に少なくとも1つのヒドロキシル基を含む、少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマーに由来する双性イオン性繰り返し単位[単位(RZW)]を含む少なくとも1種のポリマー[ポリマー(N-ZW)]、
を含む組成物[組成物(C)]に関する本発明の第1の態様によって満たされる。
本発明の第2の態様は、
工程(i):組成物(C)を調製すること;
工程(ii):工程(i)で得た組成物を加工し、それによって膜を得ること;及び
工程(iii):膜を非溶媒媒体[媒体(NS)]と接触させ、それによって多孔質膜を得ることを通常含む、工程(ii)で得た膜を処理すること、
を含む、多孔質膜の製造方法に関する。
工程(i):組成物(C)を調製すること;
工程(ii):工程(i)で得た組成物を加工し、それによって膜を得ること;及び
工程(iii):膜を非溶媒媒体[媒体(NS)]と接触させ、それによって多孔質膜を得ることを通常含む、工程(ii)で得た膜を処理すること、
を含む、多孔質膜の製造方法に関する。
第3の態様は、
- 少なくとも1種のフッ化ビニリデンポリマー[ポリマー(VDF)]、及び
- 少なくとも2つのイオン性基を有し、そのうちの少なくとも1つがカチオン性基[基(C+)]であり、そのうちの少なくとも1つがアニオン性基[基(A-)]であり、更に少なくとも1つのヒドロキシル基を含む、少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマーに由来する双性イオン性繰り返し単位[単位(RZW)]を含む少なくとも1種のポリマー[ポリマー(N-ZW)]、
を含む、多孔質膜に関する。
- 少なくとも1種のフッ化ビニリデンポリマー[ポリマー(VDF)]、及び
- 少なくとも2つのイオン性基を有し、そのうちの少なくとも1つがカチオン性基[基(C+)]であり、そのうちの少なくとも1つがアニオン性基[基(A-)]であり、更に少なくとも1つのヒドロキシル基を含む、少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマーに由来する双性イオン性繰り返し単位[単位(RZW)]を含む少なくとも1種のポリマー[ポリマー(N-ZW)]、
を含む、多孔質膜に関する。
前記多孔質膜は、上記組成物(C)から得ることができ、上記方法により製造することができる。
本発明の第4の態様は、水性媒体を分離する方法に関し、前記方法は、水性媒体を上記多孔質膜と接触させることを含む。
本発明の第5の態様は、3-((3-アクリルアミドプロピル)ジメチルアンモニオ)-2-ヒドロキシプロパン-1-スルホネート(AHPS)に由来する双性イオン性繰り返し単位(RZW)と、アルキル(メタ)アクリレート、酢酸ビニル、及びN,N-ジメチルアクリルアミドからなるリストから選択される少なくとも1種のモノマーに由来する繰り返し単位(RN)とを含むコポリマー(N-ZW)に関する。前記コポリマーは、上記方法により上記膜を製造するための組成物(C)における使用に適している。
出願人は、驚くべきことに、上で詳述した組成物(C)が膜の製造に使用するのに特に効果的であり、膜製造に典型的な水誘導凝固プロセスとの適合性を保ちながらも、水性媒体の濾過及び分離プロセスにおいて非常に優れた透過性能を与えることを見出した。
ポリマー(VDF)
本発明の枠組み内において、表現「フッ化ビニリデンポリマー」及び「ポリマー(VDF)」は、フッ化ビニリデンに由来する繰り返し単位を通常は主要な繰り返し単位成分として含むポリマーを指すために使用される。そのため、ポリマー(VDF)は、通常、繰り返し単位の50モル%超がフッ化ビニリデン(VDF)由来である繰り返し単位から本質的に作られているポリマーである。
本発明の枠組み内において、表現「フッ化ビニリデンポリマー」及び「ポリマー(VDF)」は、フッ化ビニリデンに由来する繰り返し単位を通常は主要な繰り返し単位成分として含むポリマーを指すために使用される。そのため、ポリマー(VDF)は、通常、繰り返し単位の50モル%超がフッ化ビニリデン(VDF)由来である繰り返し単位から本質的に作られているポリマーである。
ポリマー(VDF)は、VDFとは異なる少なくとも1種のフッ素化モノマーに由来する繰り返し単位を更に含んでいてもよい、及び/又はフッ素を含まないモノマー(「水素化モノマー」とも呼ばれる)に由来する繰り返し単位を更に含んでいてもよい。「フッ素化モノマー」という用語は、本明細書において、少なくとも1つのフッ素原子を含むエチレン系不飽和モノマーを意味するように意図される。フッ素化モノマーは、1つ又は複数の他のハロゲン原子(Cl、Br、I)を更に含み得る。
特に、ポリマー(VDF)は、通常、VDFに由来する繰り返し単位と、任意選択的に、VDFとは異なる少なくとも1種のフッ素原子含有エチレン性不飽和モノマーに由来する繰り返し単位とを含む重付加ポリマーの中から選択され、この少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマーは、通常以下からなる群から選択される:
(a)テトラフルオロエチレン(TFE)、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)、パーフルオロイソブチレンなどの、C2~C8パーフルオロオレフィン;
(b)フッ化ビニル(VF)、トリフルオロエチレン(TrFE)、ヘキサフルオロイソブチレン(HFIB)、式CH2=CH-Rf1(式中、Rf1は、C1~C6ペルフルオロアルキル基である)のペルフルオロアルキルエチレンなどの、VDFとは異なる水素含有C2~C8フルオロオレフィン;
(c)クロロトリフルオロエチレン(CTFE)などのC2~C8クロロ及び/又はブロモ含有フルオロオレフィン;
(d)式CF2=CFORf1(式中、Rf1は、CF3(PMVE)、C2F5又はC3F7などの、C1~C6ペルフルオロアルキル基である)のペルフルオロアルキルビニルエーテル(PAVE);
(e)特に式CF2=CFOCF2ORf2(式中、Rf2は、-CF2CF3、-CF2CF2-O-CF3及び-CF3などの、C1~C3ペルフルオロ(オキシ)アルキル基である)のペルフルオロメトキシアルキルビニルエーテルを含む、式CF2=CFOX0(式中、X0は、1つ又は複数のエーテル性酸素原子を含むC1~C12ペルフルオロオキシアルキル基である)のペルフルオロオキシアルキルビニルエーテル;並びに
(f)式:
(式中、互いに等しいか又は異なる、Rf3、Rf4、Rf5及びRf6のそれぞれは、独立して、フッ素原子であるか、-CF3、-C2F5、-C3F7、-OCF3又は-OCF2CF2OCF3などの、1個以上の酸素原子を任意選択的に含む、C1~C6パーフルオロ(オキシ)アルキル基である)
の(パー)フルオロジオキソール。
(a)テトラフルオロエチレン(TFE)、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)、パーフルオロイソブチレンなどの、C2~C8パーフルオロオレフィン;
(b)フッ化ビニル(VF)、トリフルオロエチレン(TrFE)、ヘキサフルオロイソブチレン(HFIB)、式CH2=CH-Rf1(式中、Rf1は、C1~C6ペルフルオロアルキル基である)のペルフルオロアルキルエチレンなどの、VDFとは異なる水素含有C2~C8フルオロオレフィン;
(c)クロロトリフルオロエチレン(CTFE)などのC2~C8クロロ及び/又はブロモ含有フルオロオレフィン;
(d)式CF2=CFORf1(式中、Rf1は、CF3(PMVE)、C2F5又はC3F7などの、C1~C6ペルフルオロアルキル基である)のペルフルオロアルキルビニルエーテル(PAVE);
(e)特に式CF2=CFOCF2ORf2(式中、Rf2は、-CF2CF3、-CF2CF2-O-CF3及び-CF3などの、C1~C3ペルフルオロ(オキシ)アルキル基である)のペルフルオロメトキシアルキルビニルエーテルを含む、式CF2=CFOX0(式中、X0は、1つ又は複数のエーテル性酸素原子を含むC1~C12ペルフルオロオキシアルキル基である)のペルフルオロオキシアルキルビニルエーテル;並びに
(f)式:
の(パー)フルオロジオキソール。
フッ化ビニリデンポリマー[ポリマー(VDF)]は、好ましくは、
(a’)少なくとも60モル%、好ましくは少なくとも75モル%、より好ましくは85モル%の、フッ化ビニリデン(VDF)に由来する繰り返し単位;
(b’)任意選択的な、0.1~30モル%、好ましくは0.1~20モル%、より好ましくは0.1~15モル%のVDFとは異なるフッ素化モノマーに由来する繰り返し単位;及び
(c’)任意選択的な、0.1~10モル%、好ましくは0.1~5モル%、より好ましくは0.1~1モル%の1種以上の含水素コモノマーに由来する繰り返し単位;
を含むポリマーであり、前述のモル%は全て、ポリマー(VDF)の繰り返し単位の総モルを基準とする。
(a’)少なくとも60モル%、好ましくは少なくとも75モル%、より好ましくは85モル%の、フッ化ビニリデン(VDF)に由来する繰り返し単位;
(b’)任意選択的な、0.1~30モル%、好ましくは0.1~20モル%、より好ましくは0.1~15モル%のVDFとは異なるフッ素化モノマーに由来する繰り返し単位;及び
(c’)任意選択的な、0.1~10モル%、好ましくは0.1~5モル%、より好ましくは0.1~1モル%の1種以上の含水素コモノマーに由来する繰り返し単位;
を含むポリマーであり、前述のモル%は全て、ポリマー(VDF)の繰り返し単位の総モルを基準とする。
前記フッ素化モノマーは、有利には、フッ化ビニル(VF1)、トリフルオロエチレン(VF3)、クロロトリフルオロエチレン(CTFE)、1,2-ジフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン(TFE)、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)、ペルフルオロ(メチル)ビニルエーテル(PMVE)、ペルフルオロ(エチル)ビニルエーテル(PEVE)及びペルフルオロ(プロピル)ビニルエーテル(PPVE)などのパーフルオロ(アルキル)ビニルエーテル、ペルフルオロ(1,3-ジオキソール)、ペルフルオロ(2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール)(PDD)からなる群から選択される。好ましくは、可能な追加のフッ素化モノマーは、クロロトリフルオロエチレン(CTFE)、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)、トリフルオロエチレン(VF3)及びテトラフルオロエチレン(TFE)から選択される。
前記水素化コモノマーの選択は、特に限定されず、α-オレフィン、(メタ)アクリルモノマー、ビニルエーテルモノマー、スチレン系モノマーを使用することができるが、耐薬品性を最適化するためには、ポリマー(F)が、前記水素化コモノマーに由来する繰り返し単位を本質的に含まない実施形態が好ましい。
したがって、フッ化ビニリデンポリマー[ポリマー(VDF)]は、より好ましくは、
(a’)少なくとも60モル%、好ましくは少なくとも75モル%、より好ましくは85モル%の、フッ化ビニリデン(VDF)に由来する繰り返し単位;
(b’)任意選択的な、0.1~30モル%、好ましくは0.1~20モル%、より好ましくは0.1~15モル%のVDFとは異なるフッ素化モノマーであって;好ましくは、フッ化ビニル(VF1)、クロロトリフルオロエチレン(CTFE)、ヘキサフルオロプロペン(HFP)、テトラフルオロエチレン(TFE)、パーフルオロメチルビニルエーテル(MVE)、トリフルオロエチレン(TrFE)及びそれらからの混合物からなる群において選択されるフッ素化モノマー;
から本質的になり、前述のモル%は全て、ポリマー(VDF)の繰り返し単位の総モルを基準とする。
(a’)少なくとも60モル%、好ましくは少なくとも75モル%、より好ましくは85モル%の、フッ化ビニリデン(VDF)に由来する繰り返し単位;
(b’)任意選択的な、0.1~30モル%、好ましくは0.1~20モル%、より好ましくは0.1~15モル%のVDFとは異なるフッ素化モノマーであって;好ましくは、フッ化ビニル(VF1)、クロロトリフルオロエチレン(CTFE)、ヘキサフルオロプロペン(HFP)、テトラフルオロエチレン(TFE)、パーフルオロメチルビニルエーテル(MVE)、トリフルオロエチレン(TrFE)及びそれらからの混合物からなる群において選択されるフッ素化モノマー;
から本質的になり、前述のモル%は全て、ポリマー(VDF)の繰り返し単位の総モルを基準とする。
これらの構成要素がポリマー(VDF)の挙動及び性質を実質的に改変することなく、前記繰り返し単位に加えて、欠陥、末端鎖、不純物、鎖の逆位又は分岐などがポリマー(VDF)に更に存在し得る。
本発明で有用なポリマー(VDF)の非限定的な例としては、VDFのホモポリマー、VDF/TFEコポリマー、VDF/TFE/HFPコポリマー、VDF/TFE/CTFEコポリマー、VDF/TFE/TrFEコポリマー、VDF/CTFEコポリマー、VDF/HFPコポリマー、VDF/TFE/HFP/CTFEコポリマーなどから作製されるものを特に挙げることができる。
VDFホモポリマーは、組成物(C)におけるポリマー(VDF)として使用するのに特に有利である。
ポリマー(VDF)のメルトインデックスは、有利には、2.16kgのピストン荷重下において230℃で実施され、ASTM試験番号1238に従って測定されたときに少なくとも0.01、好ましくは少なくとも0.05、より好ましくは少なくとも0.1g/10分、有利には50未満、好ましくは30未満、より好ましくは20g/10分未満である。
ポリマー(VDF)のメルトインデックスは、有利には、5kgのピストン荷重下において230℃で実施され、ASTM試験番号1238に従って測定されたときに少なくとも0.1、好ましくは少なくとも1、より好ましくは少なくとも5g/10分、有利には70未満、好ましくは50未満、より好ましくは40g/10分未満である。
ポリマー(VDF)のメルトインデックスは、有利には、21.6kgのピストン荷重下において230℃で実施され、ASTM試験番号1238に従って測定されたときに少なくとも0.1、好ましくは少なくとも0.5、より好ましくは少なくとも1g/10分、有利には30未満、好ましくは20未満、より好ましくは10g/10分未満である。
ポリマー(VDF)は、有利には、ASTM D3418に従って10℃/分の加熱速度でDSCによって測定されたとき、有利には少なくとも120℃、好ましくは少なくとも125℃、より好ましくは少なくとも130℃、最大190℃、好ましくは最大185℃、より好ましくは最大180℃の融点(Tm)を有する。
双性イオン性繰り返し単位を含むポリマー(N-ZW)
組成物(C)は、通常、少なくとも2つのイオン性基を有し、そのうちの少なくとも1つがカチオン性基[基(C+)]であり、そのうちの少なくとも1つがアニオン性基[基(A-)]であり、更に少なくとも1つのヒドロキシル基を含む、少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマーに由来する双性イオン性繰り返し単位[単位(RZW)]を含む少なくとも1種のポリマー[ポリマー(N-ZW)]を含む。
組成物(C)は、通常、少なくとも2つのイオン性基を有し、そのうちの少なくとも1つがカチオン性基[基(C+)]であり、そのうちの少なくとも1つがアニオン性基[基(A-)]であり、更に少なくとも1つのヒドロキシル基を含む、少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマーに由来する双性イオン性繰り返し単位[単位(RZW)]を含む少なくとも1種のポリマー[ポリマー(N-ZW)]を含む。
通常、双性イオン性繰り返し単位(RZW)は、全体の電荷が中性であるが、基(A-)の数に等しい数の基(C+)を含み、更に少なくとも1つのヒドロキシル基を含む、少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマーから誘導される。カチオン電荷は、アンモニウムカチオン、ピリジニウムカチオン、及びイミダゾリニウムカチオンなどの窒素の少なくとも1つのオニウムカチオン又はイニウムカチオン;ホスホニウムなどのリン;並びに/又はスルホニウムなどの硫黄によって与えられ得る。アニオン電荷は、少なくとも1つのカーボネート、スルホネート、ホスフェート、ホスホネート、ホスフィネート、又はエテノレートアニオンなどによって与えられ得る。適切な双性イオン性モノマーとしては、限定するものではないが、ベタインモノマーが挙げられ、これは双性イオン性であり、水素原子を有さず且つアニオン性原子に隣接していないオニウム原子を含む。
いくつかの実施形態では、単位(RZW)は、以下からなるリストから選択される少なくとも1種のモノマーから誘導される:
a)ジアルキルアンモニウムアルキルアクリレート又はメタクリレート、アクリルアミド又はメタクリルアミドのヒドロキシアルキルスルホネート又はホスホネート、典型的には:
- スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニオエチルアクリレート、
- スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニオエチルメタクリレート、
- スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニオプロピルアクリルアミド、
- スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニオプロピルメタクリルアミド;
b)少なくとも1つのヒドロキシル基を含む複素環式ベタインモノマー、典型的には:
- ピペラジン由来のスルホベタイン、
- 2-ビニルピリジン及び4-ビニルピリジン由来のスルホベタイン、
- イミダゾリウム由来のスルホベタイン;並びに
c)ジアルキルアンモニウムアルキルスチレンのヒドロキシアルキルスルホネート又はホスホネート。
a)ジアルキルアンモニウムアルキルアクリレート又はメタクリレート、アクリルアミド又はメタクリルアミドのヒドロキシアルキルスルホネート又はホスホネート、典型的には:
- スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニオエチルアクリレート、
- スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニオエチルメタクリレート、
- スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニオプロピルアクリルアミド、
- スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニオプロピルメタクリルアミド;
b)少なくとも1つのヒドロキシル基を含む複素環式ベタインモノマー、典型的には:
- ピペラジン由来のスルホベタイン、
- 2-ビニルピリジン及び4-ビニルピリジン由来のスルホベタイン、
- イミダゾリウム由来のスルホベタイン;並びに
c)ジアルキルアンモニウムアルキルスチレンのヒドロキシアルキルスルホネート又はホスホネート。
好ましい実施形態では、単位(RZW)は、以下からなるリストから選択される少なくとも1種のモノマーから誘導される:
- スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニオエチルアクリレート、
- スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニオエチルメタクリレート(SHPE)、
- スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニオプロピルアクリルアミド(AHPS)、及び
- スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニオプロピルメタクリルアミド(SHPP)。
- スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニオエチルアクリレート、
- スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニオエチルメタクリレート(SHPE)、
- スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニオプロピルアクリルアミド(AHPS)、及び
- スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニオプロピルメタクリルアミド(SHPP)。
より好ましい実施形態では、単位(RZW)は、スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニオプロピルアクリルアミド(AHPS)から誘導される。
いくつかの実施形態では、ポリマー(N-ZW)は、イオン化可能基がない少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマーに由来する、単位(RZW)とは異なる繰り返し単位[単位(RN)]を更に含む。
いくつかの実施形態では、単位(RN)は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、酢酸ビニル、及びN,N-ジメチルアクリルアミドからなるリストから選択される少なくとも1種のモノマーから誘導される[単位(RN~1)]。好ましくは、単位(RN~1)は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、又はそれらの混合物から誘導される。より好ましくは、単位(RN~1)は、メチルメタクリレートから誘導される。
いくつかの別の実施形態では、単位(RN)は、2-ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)、ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)、ヒドロキシプロピルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、ポリ(エチレングリコール)メタクリレート(PEGMA)、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテルメタクリレート(mPEGMA)、ポリ(エチレングリコール)エチルエーテルメタクリレート、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテルアクリレート、及びポリ(エチレングリコール)エチルエーテルアクリレートからなるリストから選択される少なくとも1種のモノマーから誘導される[単位(RN~2)]。好ましくは、単位(RN~2)は、2-ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)、ヒドロキシプロピルメタクリレート、又はそれらの混合物から誘導される。より好ましくは、単位(RN~2)は、2-ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)から誘導される。
更に別のいくつかの実施形態では、単位(RN)は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、酢酸ビニル、及びN,N-ジメチルアクリルアミドからなるリストから選択される少なくとも1種のモノマーから[単位((RN~1)]、並びに2-ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)、ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)、ヒドロキシプロピルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、ポリ(エチレングリコール)メタクリレート(PEGMA)、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテルメタクリレート(mPEGMA)、ポリ(エチレングリコール)エチルエーテルメタクリレート、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテルアクリレート、及びポリ(エチレングリコール)エチルエーテルアクリレートからなるリストから選択される少なくとも1種のモノマーから誘導される[単位(RN~2)]。好ましくは、単位(RN~1)は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、又はそれらの混合物から誘導され、単位(RN~2)は、2-ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)、ヒドロキシプロピルメタクリレート、又はそれらの混合物から誘導される。より好ましくは、単位(RN~1)はメチルメタクリレートから誘導され、単位(RN~2)は2-ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)から誘導される。
いくつかの好ましい実施形態では、本開示のポリマー(N-ZW)は、(AHPS)、(SHPP)、(SHPE)、又はそれらの混合物から誘導される繰り返し単位(RZW)と、メチルメタクリレートから誘導される繰り返し単位(RN~1)とを含む。
いくつかの別の好ましい実施形態では、本開示のポリマー(N-ZW)は、(AHPS)から誘導される繰り返し単位(RZW)とメチルメタクリレートから誘導される繰り返し単位(RN~1)とを含む。
更に別のいくつかの好ましい実施形態では、本開示のポリマー(N-ZW)は、(AHPS)から誘導される繰り返し単位(RZW)と、メチルメタクリレートから誘導される繰り返し単位(RN~1)と、2-ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)から誘導される繰り返し単位(RN~2)とを含む。
本開示による組成物(C)のポリマー(N-ZW)は、通常、ポリマー(N-ZW)の繰り返し単位の総モル数に対して0.1~30モル%、好ましくは0.1~20モル%、より好ましくは0.1~7モル%、更に好ましくは0.1~5モル%の単位(RZW)を含む。
また、本開示による組成物(C)のポリマー(N-ZW)は、通常、ポリマー(N-ZW)の繰り返し単位の総モル数に対して70モル%以上、好ましくは80モル%以上、より好ましくは90モル%以上、更に好ましくは95モル%の単位(RN)を含む。
繰り返し単位(RN~1)及び繰り返し単位(RN~2)が存在する場合、ポリマー(N-ZW)は、通常、ポリマー(N-ZW)の繰り返し単位の総モル数に対して0.1~50モル%、好ましくは0.1~40モル%、より好ましくは0.1~30モル%、更に好ましくは0.1~20モル%の繰り返し単位(RZW)及び(RN~2)を含む。
本発明によるポリマー(N-ZW)は、ホモポリマーであるか又はコポリマーである。これは、好ましくは、繰り返し単位(RZW)と繰り返し単位(RN)とを含むコポリマーである。それがコポリマーである場合、これは、ブロックコポリマー、分岐コポリマー、又は統計コポリマーである。統計コポリマーであるポリマー(N-ZW)で良好な結果が得られた。
別段の指示がない限り、モル質量に言及される場合、その言及は、g/モル単位で表される重量平均モル質量に関する。後者は、ポリマー(N-ZW)に応じて、光散乱検出(DLS或いはMALLS)又は屈折率検出を備えたゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)によって、水性溶離液又は有機溶離液(例えばジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミドなど)を使用して、決定することができる。ポリマー(N-ZW)のモル質量に特に制限はない。しかしながら、ポリマー(N-ZW)の重量平均モル質量(Mw)は、約5,000~約3,000,000g/モル、典型的には約8000~約1,000,000g/モル、より典型的には約10,000~500,000g/モル、更に典型的には20,000~200,000g/モルの範囲である。
本開示のポリマー(N-ZW)は、当業者に公知の任意の重合プロセスによって得ることができる。例えば、ポリマー(N-ZW)は、水溶液、分散媒体、有機溶液、又は有機/水溶液(混和相)中でのラジカル重合若しくは共重合又は制御されたラジカル重合によって得ることができる。
単位(RN)を誘導するための、イオン化可能な基を有さないエチレン性不飽和モノマーは、商業的供給元から入手することができる。
単位(RZW)を誘導するための、少なくとも2つのイオン性基を有し、そのうちの少なくとも1つはカチオン性基[基(C+)]であり、そのうちの少なくとも1つはアニオン性基[基(A-)]であり、更に少なくとも1つのヒドロキシル基を含む、エチレン性不飽和モノマーは、商業的供給元から入手することができ、或いは当業者に公知の方法に従って合成することができる。
単位(RZW)を誘導するための、適切なエチレン性不飽和モノマーは、SHPPの合成について米国特許出願公開第20080045420号明細書に記載されているように、下の反応スキームに従ってジメチルアミノプロピルメタクリルアミドから出発して、3-クロロ-2-ヒドロキシプロパン-1-スルホン酸ナトリウム(CHPSNa)と、三級アミノ基を有するエチレン性不飽和モノマーとの反応によって得ることができる:
単位(RZW)が誘導される適切なエチレン性不飽和モノマーは、3-クロロ-2-ヒドロキシプロパン-1-スルホン酸ナトリウム(CHPSNa)とピリジン基又はイミダゾール基を有するエチレン性不飽和モノマーとの反応によっても得ることができる:
エチレン性不飽和モノマーに関連して、繰り返し単位(RZW)を表現する「~から誘導される」という表現は、前記エチレン性不飽和モノマーの重合から直接得られる繰り返し単位(RZW)と、既存のポリマーの修飾によって得られる同じ繰り返し単位(RZW)の両方を定義することが意図されている。
したがって、繰り返し単位(RZW)は、前駆体ポリマーと呼ばれる、3-クロロ-2-ヒドロキシプロパン-1-スルホン酸ナトリウム(CHPSNa)との反応による三級アミノ基を有する繰り返し単位を含むポリマーの修飾によって得ることができる。同様の修飾が、CHPSNaの代わりに3-クロロプロパン-1-スルホン酸ナトリウムを用いた国際公開第2008125512号パンフレットに記載されている:
同様に、繰り返し単位(RZW)は、3-クロロ-2-ヒドロキシプロパン-1-スルホン酸ナトリウム(CHPSNa)との反応による三級アミノ基、ピリジン基、イミダゾール基、又はそれらの混合物を有する繰り返し単位を含むポリマー(前駆体ポリマーと呼ばれる)の修飾によって得ることができる。
ポリマー(N-ZW)はポリマー(VDF)の添加剤として使用されるため、ポリマー(VDF)は、通常、組成物(C)中にポリマー(N-ZW)よりも多い量で存在する。通常、ポリマー(N-ZW)/ポリマー(VDF)の重量比は、少なくとも1/99wt/wt、好ましくは少なくとも3/97wt/wt、より好ましくは少なくとも5/95wt/wtである、及び/又はこれは50/50wt/wt未満、好ましくは40/60wt/wt未満、好ましくは30/70wt/wt未満である。
組成物(C)は、任意選択的に少なくとも1種の追加の成分を含み得る。前記追加の原料は、好ましくは、非溶媒(水、アルコール…)、共溶媒(例えばケトン)、細孔形成剤、造核剤、充填剤、塩、界面活性剤からなる群の中で選択される。
使用される場合、細孔形成剤は、典型的には、組成物(C)の総重量を基準として通常は1重量%~30重量%、好ましくは2重量%~20重量%の範囲の量で組成物(C)に添加される。適切な細孔形成剤は、例えばポリビニルアルコール(PVA)、ポリビニルピロリドン(PVP)、及びポリエチレングリコール(PEG)である。
使用される場合、塩は、典型的には、組成物(C)の総重量を基準として通常は0.5重量%~20重量%、好ましくは1重量%~10重量%の範囲の量で組成物(C)に添加される。適切な塩は、例えばNaCl、LiCl、LiClO4、及びLiCF3SO3である。
液体媒体
いくつかの実施形態では、組成物(C)は、少なくとも1種の有機溶媒を含む少なくとも1種の液体媒体[媒体(L)]を更に含む[組成物(CL)]。
いくつかの実施形態では、組成物(C)は、少なくとも1種の有機溶媒を含む少なくとも1種の液体媒体[媒体(L)]を更に含む[組成物(CL)]。
用語「溶媒」は、その通常の意味で本明細書では使用され、即ち、別の物質(溶質)を溶解させて分子レベルで一様に分散された混合物を形成し得る物質を示す。ポリマー溶質の場合、結果として生じた混合物が透明であり、及び相分離が系中で全く見られない場合に溶媒中のポリマーの溶液を指すことが一般的慣習である。相分離は、ポリマー凝集体の形成が原因で溶液が濁るか又は曇るようになる、多くの場合に「曇点」と称されるポイントであると解釈される。
通常、組成物(CL)において、媒体(L)は、ポリマー(VDF)のための少なくとも1種の溶媒(S)を含む。
媒体(L)は典型的には、
- より具体的にはパラフィン、例えば特にペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン又はシクロヘキサンなどを含む脂肪族炭化水素並びにナフタレン及び芳香族炭化水素、より具体的には芳香族炭化水素、例えば特にベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、アルキルベンゼンの混合物から構成される石油留分など;
- より具体的には過塩素化炭化水素、例えば特にテトラクロロエチレン、ヘキサクロロエタンなどを含む脂肪族又は芳香族ハロゲン化炭化水素;
- 部分塩素化炭化水素、例えばジクロロメタン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン、1,1,1-トリクロロエタン、1,1,2,2-テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、トリクロロエチレン、1-クロロブタン、1,2-ジクロロブタン、モノクロロベンゼン、1,2-ジクロロベンゼン、1,3-ジクロロベンゼン、1,4-ジクロロベンゼン、1,2,4-トリクロロベンゼン又は異なるクロロベンゼンの混合物など;
- 脂肪族、脂環式又は芳香族エーテルオキシド、より具体的にはジエチルオキシド、ジプロピルオキシド、ジイソプロピルオキシド、ジブチルオキシド、メチルテルブチルエーテル、ジペンチルオキシド、ジイソペンチルオキシド、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル ベンジルオキシド;ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF);
- ジメチルスルホキシド(DMSO);
- グリコールエーテル、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテルなど;
- グリコールエーテルエステル、例えばエチレングリコールメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテートなど;
- 多価アルコールを含むアルコール、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールなど;
- ケトン、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロンなど;
- 直鎖又は環状エステル、例えばイソプロピルアセテート、n-ブチルアセテート、メチルアセトアセテート、ジメチルフタレート、γ-ブチロラクトンなど;
- 直鎖又は環状カルボキサミド、例えばN,N-ジメチルアセトアミド(DMAc)、N,N-ジエチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジエチルホルムアミド又はN-メチル-2-ピロリドン(NMP)など;
- 有機カーボネート、例えばジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジプロピルカーボネート、ジブチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、エチレンカーボネート、ビニレンカーボネート;
- リン酸エステル、例えばトリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート(TEP)など;
- 尿素、例えばテトラメチル尿素、テトラエチル尿素など;
- メチル-5-ジメチルアミノ-2-メチル-5-オキソペンタノエート(商品名Rhodialsov Polarclean(登録商標)の下で商業的に入手可能)
からなる群から選択される少なくとも1種の有機溶媒を含む。
- より具体的にはパラフィン、例えば特にペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン又はシクロヘキサンなどを含む脂肪族炭化水素並びにナフタレン及び芳香族炭化水素、より具体的には芳香族炭化水素、例えば特にベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、アルキルベンゼンの混合物から構成される石油留分など;
- より具体的には過塩素化炭化水素、例えば特にテトラクロロエチレン、ヘキサクロロエタンなどを含む脂肪族又は芳香族ハロゲン化炭化水素;
- 部分塩素化炭化水素、例えばジクロロメタン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン、1,1,1-トリクロロエタン、1,1,2,2-テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、トリクロロエチレン、1-クロロブタン、1,2-ジクロロブタン、モノクロロベンゼン、1,2-ジクロロベンゼン、1,3-ジクロロベンゼン、1,4-ジクロロベンゼン、1,2,4-トリクロロベンゼン又は異なるクロロベンゼンの混合物など;
- 脂肪族、脂環式又は芳香族エーテルオキシド、より具体的にはジエチルオキシド、ジプロピルオキシド、ジイソプロピルオキシド、ジブチルオキシド、メチルテルブチルエーテル、ジペンチルオキシド、ジイソペンチルオキシド、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル ベンジルオキシド;ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF);
- ジメチルスルホキシド(DMSO);
- グリコールエーテル、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテルなど;
- グリコールエーテルエステル、例えばエチレングリコールメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテートなど;
- 多価アルコールを含むアルコール、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールなど;
- ケトン、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロンなど;
- 直鎖又は環状エステル、例えばイソプロピルアセテート、n-ブチルアセテート、メチルアセトアセテート、ジメチルフタレート、γ-ブチロラクトンなど;
- 直鎖又は環状カルボキサミド、例えばN,N-ジメチルアセトアミド(DMAc)、N,N-ジエチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジエチルホルムアミド又はN-メチル-2-ピロリドン(NMP)など;
- 有機カーボネート、例えばジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジプロピルカーボネート、ジブチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、エチレンカーボネート、ビニレンカーボネート;
- リン酸エステル、例えばトリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート(TEP)など;
- 尿素、例えばテトラメチル尿素、テトラエチル尿素など;
- メチル-5-ジメチルアミノ-2-メチル-5-オキソペンタノエート(商品名Rhodialsov Polarclean(登録商標)の下で商業的に入手可能)
からなる群から選択される少なくとも1種の有機溶媒を含む。
以下のものが特に好ましい:N-メチル-ピロリドン(NMP)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、テトラヒドロフラン(THF)、メチル-5-ジメチルアミノ-2-メチル-5-オキソペンタノエート(商品名 Rhodialsov Polarclean(登録商標)の下で商業的に入手可能)及びトリエチルホスフェート(TEP)。
媒体(L)は、溶媒(S)(又は言い換えれば、非溶媒)とは異なる少なくとも1種の追加の液体成分を更に含み得る。
ポリマー(VDF)を溶解する能力を有さない前記追加の液体成分は、曇点に到達するのに必要なレベルよりも通常は低い量で、典型的には組成物(CL)の媒体(L)の総重量を基準として0.1%~40%の量で、好ましくは0.1重量%~20重量%の量で、組成物(CL)に添加され得る。
この理論に拘束されるものではないが、組成物(CL)への非溶媒の添加は、有利なことに、多孔質膜を製造するプロセスにおける分離/凝固の速度を増加させること、及び/又は蒸発による溶媒(S)の除去による凝固を促進することにおいて有益である可能性があることが通常理解される。
通常、組成物(CL)は、媒体(L)、ポリマー(N-ZW)、及びポリマー(VDF)の総重量を基準として、少なくとも1重量%、より好ましくは少なくとも3重量%、更に好ましくは少なくとも5重量%の合計量のポリマー(N-ZW)及びポリマー(VDF)を含む、並びに/又は組成物(CL)は、好ましくは、媒体(L)、ポリマー(N-ZW)、及びポリマー(VDF)、並びに/又は組成物(CL)の総重量を基準として、最大60重量%、より好ましくは最大50重量%、更に好ましくは最大30重量%の合計量のポリマー(N-ZW)及びポリマー(VDF)を含む。
逆に、組成物(CL)中の媒体(L)の量は、媒体(L)、ポリマー(N-ZW)、及びポリマー(VDF)の総重量を基準として、少なくとも40重量%、好ましくは少なくとも50重量%、更に好ましくは少なくとも70重量%である、並びに/又は組成物(CL)中の媒体(L)の量は、媒体(L)、ポリマー(N-ZW)、及びポリマー(VDF)の総重量を基準として、最大99重量%、好ましくは最大97重量%、さらに好ましくは最大95重量%である。
組成物(CL)は、任意選択的に少なくとも1種の追加の成分を含み得る。前記追加の成分は、好ましくは、細孔形成剤、造核剤、充填剤、塩、界面活性剤からなる群の中で選択される。
使用される場合、細孔形成剤は、典型的には、組成物(CL)の総重量を基準として通常は0.1重量%~30重量%、好ましくは0.5重量%~20重量%の量で組成物(CL)に添加される。適切な細孔形成剤は、例えばポリビニルアルコール(PVA)、セルロースアセテート、ポリビニルピロリドン(PVP)、及びポリエチレングリコール(PEG)である。
多孔質膜の製造方法
本発明の第2の態様は、多孔質膜の製造方法に関し、前記方法は、
工程(i):上で定義した組成物(C)を調製すること;
工程(ii):工程(i)で得た組成物を加工し、それによって膜を得ること;
工程(iii)膜を非溶媒媒体[媒体(NS)]と接触させ、それによって多孔質膜を得ることを通常含む、工程(ii)で得た膜を処理すること;
を含む。
本発明の第2の態様は、多孔質膜の製造方法に関し、前記方法は、
工程(i):上で定義した組成物(C)を調製すること;
工程(ii):工程(i)で得た組成物を加工し、それによって膜を得ること;
工程(iii)膜を非溶媒媒体[媒体(NS)]と接触させ、それによって多孔質膜を得ることを通常含む、工程(ii)で得た膜を処理すること;
を含む。
多孔質膜は、工程(ii)で組成物(C)の溶融押出しによって加工すること、並びに工程(iii)で膜を抽出媒体と接触させることによって(塩)浸出を行い、任意選択的には浸出中又はその後に膜を延伸し、それによって平膜又は中空繊維のいずれかの形態の多孔質膜を得ること、を組み合わせた無溶媒法によって作製することができる。
工程(i)の際、組成物(C)は、塩又は細孔形成剤の存在下で溶融物中でポリマーを混合することによって調製される。
典型的には、多孔質膜は、塩の存在下で溶融物中でポリマーを混合し、続いて例えば熱水中に浸漬することなどを使用する塩浸出を行うことによって、調製された組成物(C)の連続押出から得ることができる。
押出ダイの性質(フラットダイ、管状ダイ、紡糸口金など)及び加工条件に応じて、この無溶媒法を使用して、平膜、管状膜、中空繊維膜、及び毛細繊維膜を作製することができる。
第1の実施形態によれば、工程(ii)では、組成物(C)は、典型的には、キャスティングによって加工され、それにより膜が得られる。
工程(ii)の第2の実施形態によれば、組成物(C)は、キャスティングによって加工され、管状膜が得られる。
前述したように、いくつかの実施形態では、組成物(C)は、少なくとも1種の有機溶媒を含む少なくとも1種の液体媒体[媒体(L)]を更に含む[組成物(CL)]。通常、組成物(CL)において、媒体(L)は、ポリマー(VDF)のための少なくとも1種の溶媒(S)を含む。
したがって、いくつかの実施形態では、多孔質膜の製造方法は、
工程(i):上で定義した組成物(CL)を調製すること;
工程(ii):工程(i)で得た組成物を加工し、それによって膜を得ること;
工程(iii)膜を非溶媒媒体[媒体(NS)]と接触させ、それによって多孔質膜を得ることを通常含む、工程(ii)で得た膜を処理すること;
を含む。
工程(i):上で定義した組成物(CL)を調製すること;
工程(ii):工程(i)で得た組成物を加工し、それによって膜を得ること;
工程(iii)膜を非溶媒媒体[媒体(NS)]と接触させ、それによって多孔質膜を得ることを通常含む、工程(ii)で得た膜を処理すること;
を含む。
工程(i)において、組成物(CL)は、任意の従来技術によって製造される。例えば、媒体(L)は、ポリマー(VDF)及びポリマー(N-ZW)に添加されてもよく、或いは好ましくは、ポリマー(VDF)及びポリマー(N-ZW)が媒体(L)に添加されてもよく、更にはポリマー(VDF)、ポリマー(N-ZW)、及び媒体(L)は同時に混合される。
任意の好適な混合装置が用いられ得る。好ましくは、混合装置は、最終的な膜に欠陥を生じさせ得る組成物(CL)中に閉じ込められた空気の量を減少させるように選択される。ポリマー(VDF)、ポリマー(N-ZW)、及び媒体(L)の混合は、任意選択的には不活性雰囲気下に維持された状態で、密閉容器の中で都合よく行うことができる。不活性雰囲気、より正確には窒素雰囲気は、組成物(CL)の製造にとって特に有利であると分かった。
工程(i)において、透明な均一組成物(CL)を得るために必要とされる混合時間及び撹拌速度は、成分の溶解速度、温度、混合装置の効率、組成物(CL)の粘度等に依存して広く変わり得る。
本発明の方法の工程(ii)において、膜を得るための組成物(CL)の加工のために、従来技術を使用することができる。
工程(ii)において、組成物(CL)は、典型的にはキャスティングによって加工され、それによって膜が得られる。
キャスティングは、通常は溶液キャスティングを含み、これは、適切な基材全体に組成物(CL)の均一な膜を広げるために、典型的にはキャスティングナイフ、ドローダウンバー、又はスロットダイを使用する。
工程(ii)において、組成物(CL)がキャスティングによって加工される温度は、組成物(CL)が撹拌下で混合される温度と同じ温度であっても又はなくてもよい。
製造される膜の最終形態に応じて異なるキャスティング技術が使用される。
最終生成物が平膜である場合、組成物(CL)は、典型的にはキャスティングナイフ、ドローダウン棒又はスロットダイを用いて、平支持基材、典型的にはプレート、ベルト若しくは布又は別の微小孔性支持膜一面に膜としてキャストされる。
工程(ii)の第1の実施形態によれば、組成物(CL)は、平坦な支持基材上にキャストされることによって加工されて平膜を与える。
工程(ii)の第2の実施形態によれば、組成物(CL)は、キャスティングによって加工されて管状膜を与える。
本発明のこの第2実施形態の変形形態によれば、管状膜は紡糸口金を使用して製造され、この技術は一般的には「紡糸法」とも呼ばれる。中空繊維及び毛細管膜は、紡糸法によって製造することができる。
用語「紡糸口金」は、少なくとも2つの同心毛細管、すなわち、組成物(CL)の通路のための第1の外側毛細管と支持流体(ボア流体とも呼ばれる)の通路のための第2の内側毛細管(一般に「ルーメン」と呼ばれる)とを含む環状ノズルを意味すると本明細書では理解される。
本発明の第2の実施形態のこの変形形態によれば、組成物(CL)は、通常少なくとも1つの支持流体(いわゆる「ボア流体」)と共に紡糸口金を通してポンプ送液される。支持流体は、組成物(CL)のキャスティングのための支持体として機能し、中空繊維前駆体又は毛細管前駆体の穴を開いた状態に維持する。支持流体は、気体であってよく、或いは好ましくは非溶媒媒体[媒体(NS)]、又は媒体(NS)と媒体(L)との混合物であってよい。支持流体及びその温度の選択は、それらが膜中の細孔のサイズ及び分布に著しい影響を及ぼし得るので、最終的な膜の必要とされる特性に依存する。
工程(iii)は、通常、工程(ii)で得られる膜を非溶媒媒体[媒体(NS)]と接触させ、それによって多孔質膜を得る工程を含む。
媒体(NS)と接触するそのような工程は、通常、工程(ii)の膜を構成する組成物(CL)を析出させてから凝固して多孔質膜にするのに効果的である。
膜は、しばしば凝固浴と呼ばれる媒体(NS)浴の中に浸漬することにより、前記媒体(NS)中に析出させることができる。
代替形態として(又は通常は凝固浴に浸す前に)、膜の媒体(NS)との接触は、前記膜を前記媒体(NS)の蒸気を含む気相に曝露することによって達成することができる。
典型的には、例えば媒体(NS)の蒸気で少なくとも部分的に飽和することによって気相が調製され、前記膜は前記気相に曝される。例えば、相対湿度が10%よりも高く、通常は50%よりも高い(すなわち水蒸気を含む)空気を使用することができる。
非溶媒媒体と接触する前に(上記で説明したいずれかの技術によって)、膜は、前記媒体(NS)が実質的に存在しない状態で、所定の滞留時間中に空気及び/又は制御された雰囲気に曝され得る。そのような追加の工程は、代替メカニズムによって膜の露出面にスキンを形成するのに有益な場合がある。
例えば、紡糸法では、これは、凝固浴に入れられる前に紡糸された中空管状前駆体がたどる経路にエアギャップを配することによって実現することができる。
特定の実施形態によれば、工程(iii)において、組成物(CL)の凝固/析出は、冷却によって促進することができる。この場合、工程(ii)で得られる膜の冷却は、典型的には任意の従来の技術を使用することができる。
通常、凝固/析出が熱的に誘発される場合、組成物(CL)の媒体(L)の溶媒(S)は、有利には「潜在性」溶媒[溶媒(LT)]である、すなわち、特定の温度を超えて加熱された場合にのみポリマー(VDF)に対して活性な溶媒として作用し、ポリマー(VDF)を前記温度未満で可溶化できない溶媒である。
媒体(L)が潜在性溶媒又は溶媒(LT)を含む場合、本発明の方法の工程(i)及び工程(ii)は、通常、組成物(CL)を均一な溶液として維持するのに十分に高い温度で行われる。
例えば、工程(ii)では、この実施形態によれば、膜は、典型的には、60℃~250℃、好ましくは70℃~220℃、より好ましくは80℃~200℃に含まれる温度で加工することができ、工程(iii)では、膜は、典型的には、100℃未満、好ましくは60℃未満、より好ましくは40℃未満の温度まで冷却することにより析出させることができる。
冷却は、工程(ii)で得られる膜を冷却流体と接触させることによって行うことができ、この冷却流体は、気体流体(すなわち冷却された空気又は冷却された調整雰囲気)であっても又は液体流体であってもよい。
この後者の場合、上で詳述した媒体(NS)を使用することが一般的であるため、非溶媒によって誘発される析出と熱によって誘発される析出の現象が同時に発生する場合がある。
しかしながら、析出が熱的に誘発される状況であっても、媒体(NS)と接触する追加の工程、例えば析出を終わらせ、媒体(L)の除去を促進する工程が行われることが通常理解される。
媒体(L)が溶媒(S)とポリマー(VDF)の非溶媒の両方を含む場合、ポリマー(VDF)の凝固/析出を促進するために、溶媒(S)の少なくともある程度選択的な蒸発を使用することができる。この場合、溶媒(S)と、媒体(L)の非溶媒成分は、典型的には、溶媒(S)が非溶媒よりも確実に高い揮発性を有するように選択され、その結果、通常は制御された条件下で、溶媒(S)が徐々に蒸発してポリマー(VDF)が析出し、その結果膜と媒体(NS)とが実際に接触する。
組成物(CL)中に存在する場合、細孔形成剤は、通常、本発明の方法の工程(iii)において、完全ではないとしても、媒体(NS)中の多孔質膜から少なくとも部分的に除去される。
これら全てのアプローチにおいて、工程(ii)及び(iii)の間の温度勾配、媒体(L)中の非溶媒の存在などの媒体(NS)及び媒体(L)の性質は、全てその平均空隙率などの最終的な多孔質膜の形態を制御するための当業者に公知のパラメータであると通常理解される。
本発明の方法は、追加の後処理工程、例えば多孔質膜をすすぎ洗い及び/若しくは延伸する工程、並びに/又はそれを乾燥させる工程を含み得る。
例えば、多孔質膜は、媒体(L)と混和性の液体媒体を使用して更にすすぎ洗いすることができる。
更に、多孔質膜は、その平均空隙率を増加させるように有利に延伸することができる。
通常、多孔質膜は、有利には少なくとも30℃の温度で乾燥される。
乾燥は、空気下又は改善雰囲気下、例えば典型的には水分を除かれた(0.001%v/v未満の水蒸気含有量)不活性ガス下で行うことができる。乾燥は、代わりに、真空下で行うことができる。
本発明の目的のためには、用語「非溶媒媒体[媒体(NS)]」という用語は、組成物(C)又は(CL)のポリマー(VDF)を溶解することができない1種以上の液体物質からなる媒体を意味し、これは、組成物(CL)の液体媒体からのポリマー(VDF)の凝固/析出を有利に促進する。
媒体(NS)は典型的には、水、及び任意選択で、アルコール若しくはポリアルコール、好ましくは短鎖、例えば1~6個の炭素原子を有する脂肪族アルコール、より好ましくはメタノール、エタノール、イソプロパノール及びエチレングリコールから選択される少なくとも1種の有機溶媒を含む。
媒体(NS)は一般に、組成物(CL)の調製のために使用される媒体(L)と混和性のものの中で選択される。
媒体(NS)には、上で詳述した溶媒(S)が更に含まれていてもよい。
より好ましくは、媒体(NS)は、水からなる。水は最も安価な非溶媒媒体であり、大量に使用され得る。
多孔質膜
第3の態様では、本発明は、
- 少なくとも1種のフッ化ビニリデンポリマー[ポリマー(VDF)]、及び
- 少なくとも2つのイオン性基を有し、そのうちの少なくとも1つがカチオン性基[基(C+)]であり、そのうちの少なくとも1つがアニオン性基[基(A-)]であり、更に少なくとも1つのヒドロキシル基を含む、少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマーに由来する双性イオン性繰り返し単位[単位(RZW)]を含む少なくとも1種のポリマー[ポリマー(N-ZW)]、
を含む多孔質膜に関する。
第3の態様では、本発明は、
- 少なくとも1種のフッ化ビニリデンポリマー[ポリマー(VDF)]、及び
- 少なくとも2つのイオン性基を有し、そのうちの少なくとも1つがカチオン性基[基(C+)]であり、そのうちの少なくとも1つがアニオン性基[基(A-)]であり、更に少なくとも1つのヒドロキシル基を含む、少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマーに由来する双性イオン性繰り返し単位[単位(RZW)]を含む少なくとも1種のポリマー[ポリマー(N-ZW)]、
を含む多孔質膜に関する。
「多孔質膜」という表現は、この技術分野におけるその通常の意味に従って使用される。すなわち、細孔、すなわち任意の形状及びサイズの空隙又は空洞を含む膜を表すために使用される。
前述したように、本発明の多孔質膜は、上で詳述した組成物(C)又は(CL)から得ることができ、及び/又は上で詳述した方法を使用して製造することができる。
本発明の多孔質膜は、平膜の形態であっても、又は管状膜の形態であってもよい。
大きい表面積を有するコンパクトモジュールが必要とされる用途では、中空繊維膜が特に有利であるのに対して、高い流束が必要とされる場合には、平膜が一般に好ましい。
平膜は、好ましくは、10μm~200μm、より好ましくは15μm~150μmに含まれる厚さを有する。
管状膜は、典型的には、3mm超の外径を有する。0.5mm~3mmに含まれる外径を有する管状膜は、典型的には、中空繊維膜と称される。0.5mm未満の直径を有する管状膜は、典型的には、毛細管膜と称される。
それらの厚さの全体にわたって均一に分布した細孔を含有する膜は、一般に、対称(又は等方性)膜として知られ;それらの厚さの全体にわたって不均一に分布している細孔を含有する膜は、一般に、非対称(又は異方性)膜として知られる。
本発明による多孔質膜は、対称膜又は非対称膜のいずれであってもよい。
非対称多孔質膜は、典型的には、それらの厚さの全体にわたって不均一に分布している細孔を含有する1つ以上の層からなる。
非対称多孔質膜は、典型的には、1つ以上の内層における細孔の平均細孔直径よりも小さい平均細孔直径を有する細孔を含有する外層を含む。
本発明の多孔質膜は、好ましくは少なくとも0.001μm、より好ましくは少なくとも0.005μm、更に好ましくは少なくとも0.01μmの平均細孔直径を有する。本発明の多孔質膜は、好ましくは多くても50μm、より好ましくは多くても20μm、更に好ましくは多くても15μmの平均細孔直径を有する。
本発明の多孔質膜における平均細孔直径の測定のための好適な技法は、例えばPORTER.Mark C.により編集されたHandbook of Industrial Membrane Technology、Noyes Publications、1990、p.70-78に記載されている。
本発明の多孔質膜は、典型的には、膜の全容量に基づいて、5%~90%、好ましくは10容量%~85容量%、より好ましくは30%~90%に含まれる重量多孔率(gravimetric porosity)を有する。
本発明の目的のために、用語「重量多孔率」は、多孔質膜の全容量に対する空隙の分率を意味することが意図される。
本発明の多孔質膜における重量多孔率の決定のための適切な技術は、例えば、SMOLDERS K.,et al.Terminology for membrane distillation.Desalination.1989,vol.72,p.249-262に記載されている。
本発明の多孔質膜は、自立型多孔質膜であっても、基材上に支持された及び/又は裏打ち層を含む多孔質膜のいずれであってもよい。
多孔質膜は、少なくとも1種のポリマー(VDF)と少なくとも1種のポリマー(N-ZW)とを含む少なくとも1つの層を含む。
基材上に支持された多孔質膜は、典型的には、予め形成された多孔質膜で前記基材及び/若しくは裏打ちを積層することによって、又は多孔質膜を前記基材及び/若しくは前記裏打ち上に直接製造することによって得ることができる。
したがって、多孔質膜は、ポリマー(VDF)とポリマー(N-ZW)とを含む唯一の層から構成されていてもよく、或いは追加の層を含んでいてもよい。
特に、本発明の多孔質膜は、少なくとも1つの基材を更に含み得る。基材は、本発明の多孔質膜によって部分的に又は完全に相互貫入されていてもよい。
基材/裏打ち材の性質は、特に限定されない。基材は、通常、多孔質膜の選択性に最小限の影響を及ぼす材料からなる。基材層は、好ましくは、不織材料、例えばポリプロピレンのようなポリマー系材料、ガラス、ガラス繊維からなる。
いくつかの実施形態では、本発明の多孔質膜は、
- 少なくとも1つの基材層、好ましくは不織基材、
- 少なくとも1つの最上層、及び
- 前記少なくとも1つの基材層と前記少なくとも1つの最上層との間の、少なくとも1種のポリマー(VDF)と少なくとも1種のポリマー(N-ZW)とを含む少なくとも1つの層、
を含む多孔質複合膜アセンブリである。
- 少なくとも1つの基材層、好ましくは不織基材、
- 少なくとも1つの最上層、及び
- 前記少なくとも1つの基材層と前記少なくとも1つの最上層との間の、少なくとも1種のポリマー(VDF)と少なくとも1種のポリマー(N-ZW)とを含む少なくとも1つの層、
を含む多孔質複合膜アセンブリである。
そのような多孔質複合膜アセンブリの典型的な例は、逆浸透又はナノ濾過用途に典型的に使用されるいわゆる薄膜複合(TFC)構造体である。
本発明の多孔質複合膜アセンブリにおける使用のために適する最上層の非限定的な例には、ポリアミド、ポリイミド、ポリアクリロニトリル、ポリベンズイミダゾール、酢酸セルロース、及びポリオレフィンからなる群から選択されるポリマーから作られたものが含まれる。
ポリマー(VDF)とポリマー(N-ZW)とを含む多孔質膜層は、1つ以上の追加の成分を更に含み得る。しかしながら、多孔質膜がポリマー(VDF)とポリマー(N-ZW)とから本質的になる少なくとも1つの層を含む実施形態が好ましく、添加剤、及び/又は細孔形成剤の残留物が前記層の10重量%を超えない量で存在し得ることが理解される。
多孔質膜中では、ポリマー(N-ZW)がポリマー(VDF)の添加剤として使用されるため、ポリマー(VDF)がポリマー(N-ZW)よりも多く存在すると通常理解される。通常、ポリマー(N-ZW)/ポリマー(VDF)の重量比は、少なくとも1/99wt/wt、好ましくは少なくとも3/97wt/wt、より好ましくは少なくとも5/95wt/wtである、及び/又は50/50wt/wt未満、好ましくは40/60wt/wt未満、好ましくは30/70wt/wt未満である。
水性媒体の分離方法
本発明の第4の態様は、水性媒体を分離する方法に関し、前記方法は、前記水性媒体を上述した多孔質膜と接触させることを含む。
本発明の第4の態様は、水性媒体を分離する方法に関し、前記方法は、前記水性媒体を上述した多孔質膜と接触させることを含む。
本発明の多孔質膜に関連して上で説明した全ての特徴は、本明細書に記載の方法におけるその使用に関して適用可能である。
平均細孔径に応じて、本発明の多孔質膜は異なる用途を有し、また、「阻止される」/拒絶されるもののサイズに関連して大きく異なる例えば精密濾過、限外濾過、逆浸透などの様々な分離プロセスに適用することができ、それらの性質は様々であってよい。
「水性媒体」という表現は、特に限定されるものではなく、生物学的流体、天然流体、又は合成混合物などの、水を含む全ての媒体を包含する。
本発明の水性媒体を分離する方法は、特に、汽水及び海水の脱塩、廃水処理/再生に適用することができ、食品産業で使用することができ、また化学的及び生物学的生成物の分離及び精製のために完成させることができる。
特定の実施形態によれば、水相は、特に、1種以上の汚染物質を含む水系の相であってよい。
水相は、汚染物質の粒子状懸濁液、すなわち、化学的又は物理的汚染物質(例えば砂、砂岩、金属粒子、セラミックなどの無機粒子;ポリマー、紙繊維、植物及び動物の残渣などの有機固体;細菌、ウイルス、原生動物、寄生虫などの生物学的汚染物質)を含む懸濁液であってよい。
本発明の分離方法は、生物学的溶液(例えばバイオバーデン、ウイルス、他の大きな分子)及び/又は緩衝溶液(例えばDMSOのような少量の溶媒又は他の極性非プロトン性溶媒を含有し得る溶液)を濾過するために使用することができる。
例えば、本発明の分離方法は、特に体外血液回路又は透析フィルタにおいて、特に血液などの生体液を浄化するための方法であってよい。この場合、使用される多孔質膜は、通常、0.001~5μmの平均細孔径を有し、管状又は中空繊維膜の形態であってよい。
或いは、本発明の分離方法は、特に懸濁粒子から水懸濁液を濾過するための方法であってよく、この場合、使用される多孔質膜は通常5μm~50μmの平均細孔径を有する。
以降で本発明を以下の実施例に関連して説明するが、その範囲は例示にすぎず、本発明の範囲を限定することを意図しない。
特に適したコポリマー
本発明の第5の態様は、3-((3-アクリルアミドプロピル)ジメチルアンモニオ)-2-ヒドロキシプロパン-1-スルホネート(AHPS)に由来する双性イオン性繰り返し単位(RZW)と、アルキル(メタ)アクリレート、酢酸ビニル、及びN,N-ジメチルアクリルアミドからなるリストから選択される少なくとも1種のモノマーに由来する繰り返し単位(RNとを含むコポリマー(N-ZW)に関する。前記コポリマーは、上述した方法によって上述した膜を製造するための組成物(C)における使用に適している。
本発明の第5の態様は、3-((3-アクリルアミドプロピル)ジメチルアンモニオ)-2-ヒドロキシプロパン-1-スルホネート(AHPS)に由来する双性イオン性繰り返し単位(RZW)と、アルキル(メタ)アクリレート、酢酸ビニル、及びN,N-ジメチルアクリルアミドからなるリストから選択される少なくとも1種のモノマーに由来する繰り返し単位(RNとを含むコポリマー(N-ZW)に関する。前記コポリマーは、上述した方法によって上述した膜を製造するための組成物(C)における使用に適している。
好ましい実施形態では、コポリマー(N-ZW)は、3-((3-アクリルアミドプロピル)ジメチルアンモニオ)-2-ヒドロキシプロパン-1-スルホネート(AHPS)から誘導される双性イオン性繰り返し単位(RZW)と、メチルメタクリレートから誘導される繰り返し単位(RN)とを含む。
前記コポリマーは、上述した方法により上述した膜を製造するための組成物(C)における使用に特に適している。
いくつかの別の実施形態では、前述したコポリマーは、2-ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)、ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)、ヒドロキシプロピルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、ポリ(エチレングリコール)メタクリレート(PEGMA)、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテルメタクリレート(mPEGMA)、ポリ(エチレングリコール)エチルエーテルメタクリレート、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテルアクリレート、及びポリ(エチレングリコール)エチルエーテルアクリレートからなるリストから選択される少なくとも1種のモノマーから誘導される繰り返し単位を更に含む。
いくつかの好ましい実施形態では、本発明のコポリマーは、メチルメタクリレートから誘導される繰り返し単位と、3-((3-アクリルアミドプロピル)ジメチルアンモニオ)-2-ヒドロキシプロパン-1-スルホネート(AHPS)から誘導される繰り返し単位と、2-ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)から誘導される繰り返し単位とを含む。
実験
原材料
Solvay Specialty Polymersから供給されるPVDF SOLEF(登録商標)1015をVDFホモポリマーとして使用した。
原材料
Solvay Specialty Polymersから供給されるPVDF SOLEF(登録商標)1015をVDFホモポリマーとして使用した。
以下の溶媒反応物及び溶媒はSigma Aldrichから入手し、受け取ったままの状態で使用した:N-[3-(ジメチルアミノ)プロピル]アクリルアミド(DMAPA)、3-クロロ-2-ヒドロキシ-1-プロパンスルホン酸、ナトリウム塩(CHPSNa)、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)(AMBN)、メチルメタクリレート(MMA)、3-((2-(メタクリロイルオキシ)エチル)ジメチルアンモニオ)プロパン-1-スルホネート(SPE)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、及びN-メチル-2-ピロリドン(NMP)。
モル質量の決定
ゲル浸透クロマトグラフィーは、2本のSHODEX KD-804カラムとJasco Refractive index-4030検出器を備えたJasco PU-2080 Plus HPLCポンプを使用して40℃で行った。移動相はDMF中の1.5%LiBrから構成され、流量は1.0mL/分であった。100μLのサンプル(約5.0mg/mLの濃度)を注入し、PMMAの狭い標準を使用して校正を行った。Mwは重量平均モル質量であり、g/mol単位で表される。
ゲル浸透クロマトグラフィーは、2本のSHODEX KD-804カラムとJasco Refractive index-4030検出器を備えたJasco PU-2080 Plus HPLCポンプを使用して40℃で行った。移動相はDMF中の1.5%LiBrから構成され、流量は1.0mL/分であった。100μLのサンプル(約5.0mg/mLの濃度)を注入し、PMMAの狭い標準を使用して校正を行った。Mwは重量平均モル質量であり、g/mol単位で表される。
合成は、重合を阻害するヒドロキノンモノメチルエーテル(MEHQ)の存在下、N-[3-(ジメチルアミノ)プロピル]アクリルアミド(DMAPA)と3-クロロ-2-ヒドロキシ-1-プロパンスルホン酸,ナトリウム塩(CHPSNa)とを50%の水中で反応させることによって行った。
機械撹拌と、温度制御と、還流冷却器とを備えた四口丸底フラスコに、撹拌しながら60gの水及び0.02g(mmol)のMEHQを添加した。次いで、43.53g(221mmol)の結晶性固体CHPSNaを粉末漏斗から添加し、温度を60℃まで上げた。その後、液体DMAPAを20分かけて一定の流れで添加した。最高温度は76℃になった。最後に反応混合物を90℃まで加熱し、必要に応じて50重量%の水酸化ナトリウム水溶液を添加することにより(典型的には0.14g)、pHを10に保ちながら4時間この温度に維持した。変換に続いてHPLCを行い、生成物の構造を1H及び13C NMRにより確認した。
ポリ(MMA-stat-AHPS)95/5mol/molの合成
統計コポリマーであるポリ(メチルメタクリレート-stat-3-((3-アクリルアミドプロピル)ジメチルアンモニオ)-2-ヒドロキシプロパン-1-スルホネートを、開始剤として2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)(AMBN)を使用するフリーラジカル重合によって調製した。-MMA=95モル%-AHPS=5モル%)
統計コポリマーであるポリ(メチルメタクリレート-stat-3-((3-アクリルアミドプロピル)ジメチルアンモニオ)-2-ヒドロキシプロパン-1-スルホネートを、開始剤として2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)(AMBN)を使用するフリーラジカル重合によって調製した。-MMA=95モル%-AHPS=5モル%)
水凝縮器と機械撹拌とを備えた500mLのケトル反応器に、室温(22℃)で、7.5g(18.73mmol)のメチルメタクリレート(MMA)溶液(DMSO中25重量%)、88.3gのジメチルスルホキシド(DMSO、純度99%)、及び5.80g(9.86mmol)の3-((3-アクリルアミドプロピル)ジメチルアンモニオ)-2-ヒドロキシプロパン-1-スルホネート水溶液(AHPS含有量50.0重量%)を入れた。反応媒体の温度を70℃まで上げながら、混合物を窒素バブリングにより50分間脱気した。15.16g(1.5mmol)のAMBN溶液(DMSO中2%)を窒素ブランケット下で更に導入した。次いで、67.5g(168.57mmol)のMMA溶液を4時間以内に添加し(流量0.28g/分)、反応媒体を70℃で更に8時間撹拌した。
その後、MMA及びAHPSの転化率を決定するために1H NMR分析用のサンプルを採取した。
結果:MMAモノマー転化率=99.9%;AHPSモノマー転化率=84.4%。
MW=37200g/mol
結果:MMAモノマー転化率=99.9%;AHPSモノマー転化率=84.4%。
MW=37200g/mol
ポリ(MMA-stat-SPE)95/5mol/molの合成
水凝縮器と機械撹拌とを備えた500mLのケトル反応器に、室温(22℃)で、75g(187.30mmol)のメチルメタクリレート(MMA)溶液(DMSO中25重量%)、92.5gのジメチルスルホキシド(DMSO、純度99%)、及び55.1g(9.5mmol)の3-((2-(メタクリロイルオキシ)エチル)ジメチルアンモニオ)プロパン-1-スルホネート(SPE)(DMSO中5%)の溶液を入れた。反応媒体の温度を70℃まで上げながら、混合物を窒素バブリングにより50分間脱気した。その後、15.16g(1.5mmol)のAMBN溶液(DMSO中2%)を窒素ブランケット下で導入した。撹拌しながら反応を70℃で10時間行った。
水凝縮器と機械撹拌とを備えた500mLのケトル反応器に、室温(22℃)で、75g(187.30mmol)のメチルメタクリレート(MMA)溶液(DMSO中25重量%)、92.5gのジメチルスルホキシド(DMSO、純度99%)、及び55.1g(9.5mmol)の3-((2-(メタクリロイルオキシ)エチル)ジメチルアンモニオ)プロパン-1-スルホネート(SPE)(DMSO中5%)の溶液を入れた。反応媒体の温度を70℃まで上げながら、混合物を窒素バブリングにより50分間脱気した。その後、15.16g(1.5mmol)のAMBN溶液(DMSO中2%)を窒素ブランケット下で導入した。撹拌しながら反応を70℃で10時間行った。
その後、MMA及びSPEの転化率を決定するために1H NMR分析用のサンプルを採取した。結果:MMAモノマー転化率=98.1%;SPEモノマー転化率=94.1%。
MW=69000g/mol
MW=69000g/mol
双性イオン性添加剤を含む膜の作製
膜は、ジメチルスルホキシド(DMSO)又はN-メチル-2-ピロリドン(NMP)中の、PVDF SOLEF(登録商標)1015と、合成された双性イオン性のp(MMA-s-SPE)又は(MMA-s-AHPS)コポリマーとのブレンドを含むドープ溶液からキャストし、相分離を誘発するために凝固浴の中に浸漬した(非溶媒により誘発される相分離のためのNIPS)。
膜は、ジメチルスルホキシド(DMSO)又はN-メチル-2-ピロリドン(NMP)中の、PVDF SOLEF(登録商標)1015と、合成された双性イオン性のp(MMA-s-SPE)又は(MMA-s-AHPS)コポリマーとのブレンドを含むドープ溶液からキャストし、相分離を誘発するために凝固浴の中に浸漬した(非溶媒により誘発される相分離のためのNIPS)。
一般的なドープ溶液の調製方法
ドープ溶液を調製するために、双性イオン性添加剤を約65℃でNMPに溶解し、PVDFを添加した。次いで、得られた混合物を65℃で一晩撹拌した。いくつかの双性イオン性コポリマー:PVDF比を、5/95、10/90、及び20/80wt/wtに固定した。4.5gの溶媒の中に合計0.5gのポリマーが含まれる。
ドープ溶液を調製するために、双性イオン性添加剤を約65℃でNMPに溶解し、PVDFを添加した。次いで、得られた混合物を65℃で一晩撹拌した。いくつかの双性イオン性コポリマー:PVDF比を、5/95、10/90、及び20/80wt/wtに固定した。4.5gの溶媒の中に合計0.5gのポリマーが含まれる。
ドープ溶液を、40℃に設定された真空オーブンで24時間脱気した。ドープ溶液は、200μmのゲートサイズに設定された調整可能な膜塗布装置を使用してガラス板上にキャストし、脱イオン水浴の中に室温で20分間浸漬することによってポリマーブレンドを析出させた。この時間の後、得られた膜を新しい脱イオン水浴に移し、使用前に少なくとも一晩保管した。対照として、0.5gのPVDFを4.5gのNMPに溶解し、上で説明したNIPSの手順に従って添加剤フリーのPVDF膜を製造した。
接触角測定による親水性評価
表面の親水性は、通常、水接触角(WCA)によって評価される。すなわち、サンプル表面における水滴の接触角を評価する。吸収現象のため、この方法は多孔質親水性サンプルの接触角の測定にはあまり適していない。そのため、接触角はキャプティブエアバブル(CAB)法によって測定した。実際には、この方法は、液体、この場合では水に浸された表面における気泡の接触角を測定する。膜はすでに濡れているため、膨潤及び吸収は抑えられる。
表面の親水性は、通常、水接触角(WCA)によって評価される。すなわち、サンプル表面における水滴の接触角を評価する。吸収現象のため、この方法は多孔質親水性サンプルの接触角の測定にはあまり適していない。そのため、接触角はキャプティブエアバブル(CAB)法によって測定した。実際には、この方法は、液体、この場合では水に浸された表面における気泡の接触角を測定する。膜はすでに濡れているため、膨潤及び吸収は抑えられる。
理論的には、空気接触角(ACA)とWCAは相補的である。これは、ACAの増加は親水性の増加に対応することを意味する。
WCA(°)=180-ACA(°)。
WCA(°)=180-ACA(°)。
CAB法の原理を図1に示す。
空気接触角(ACA)の測定は、脱イオン水(1)(DI水)で満たされた調整した環境制御チャンバーを使用して、室温で行った。分析の前に、湿ったサンプル(2)を15×15mmのガラス基材の上に巻き、両面テープでサンプルホルダー(3)に固定した。その後、サンプルを脱イオン水に浸漬し、J字型シリンジ(5)を使用して2μLの気泡(4)をサンプル表面に滴らした。
接触角の測定は、高品質の単色低温LED(6)と高解像度(1984×1264)のデジタルカメラ(7)とを備えた光学張力計(BIOLINから供給されているAttension(登録商標)Theta Flex)で行った。画像取得パラメータは、5フレーム/秒(FPS)及び60秒の最小取得時間に設定した。機器は、0.03°の許容誤差でキャリブレーションボール(CA=143.15°)を使用して校正した。
得られた接触角の値は、同じサンプルについて行った5回の測定の平均である。エラーバーは、測定中の標準偏差を追加した、測定間の標準偏差(Std)を表す。
膜の化学的エージング
水酸化ナトリウム(NaOH)を使用
膜(サンプルサイズ約2×2cm)を、pH=11.5(0.003mol/L)の水酸化ナトリウム(NaOH)溶液20mLに、室温で1週間浸漬した。撹拌は行わなかった。
水酸化ナトリウム(NaOH)を使用
膜(サンプルサイズ約2×2cm)を、pH=11.5(0.003mol/L)の水酸化ナトリウム(NaOH)溶液20mLに、室温で1週間浸漬した。撹拌は行わなかった。
次亜塩素酸ナトリウム(NaOCl)を使用
膜(サンプルサイズ約2×2cm)を、濃度5000ppm、pH=8の次亜塩素酸ナトリウム(NaOCl)溶液20mLに、室温で1週間浸浸漬した。撹拌は行わなかった。NaOClの溶液は、5%活性塩素の市販溶液を希釈することにより調製し、塩酸HClを添加してpHを8に調整した。エージングは暗所で行い、エージング溶液は少なくとも2日ごとに交換した。
膜(サンプルサイズ約2×2cm)を、濃度5000ppm、pH=8の次亜塩素酸ナトリウム(NaOCl)溶液20mLに、室温で1週間浸浸漬した。撹拌は行わなかった。NaOClの溶液は、5%活性塩素の市販溶液を希釈することにより調製し、塩酸HClを添加してpHを8に調整した。エージングは暗所で行い、エージング溶液は少なくとも2日ごとに交換した。
結果
前述したように、空気接触角(ACA)の増加は、所定の膜の親水性の増加に対応する。
前述したように、空気接触角(ACA)の増加は、所定の膜の親水性の増加に対応する。
下の表には、コポリマー系添加剤を含む又は含まないPVDF膜、及びNaOH又はNaOClでエージングされた又はされていないPVDF膜について測定したACAの値がまとめられている。表1には、NMP含有ドープ溶液からキャストされた膜についての結果が含まれる。
表1から、添加剤を含む膜(膜1~6)のACA値よりも低い、いかなる添加剤も含まない膜(膜0)で測定されたACA値を比較すると、PVDF膜の親水化に対する添加剤の影響が明確に示されることが分かる。
更に、表1の結果は、NaOH又はNaOCl中での膜のエージングが、添加剤を含むPVDF膜の親水化に悪影響を及ぼさないことを示している。実際、NaOH又はNaOCl中で予めエージングした添加剤を含む膜で測定されたACA値は、同様の条件でエージングした後、添加剤を含まない膜で測定したACA値よりも依然として高い。
低添加剤含有量、すなわち95/5のPVDF/添加剤の組成では、添加剤中にAHPSが存在すると、驚くべきことに、163°のACA値に達することができる(膜4を参照)。SPEを含む添加剤で同様のACA値、すなわち160°を得るには、より高い添加剤含有量、つまり80/20のPVDF/添加剤の組成が必要とされる(膜3と膜4の比較)。
表1の結果から、MMAとの共重合に関与する双性イオン性モノマーをSPEからAHPSに変更すると、得られるコポリマー系添加剤の親水化能力が向上することが明らかである。
言い換えると、PVDFに基づく膜の高い親水化は、ヒドロキシル基を更に含む双性イオン性繰り返し単位を含む添加剤を添加する場合、ヒドロキシル基を含まない双性イオン性繰り返し単位を含む同様の添加剤を添加する場合よりもより少ない添加剤で得ることができる。
PVDFに基づく膜の優れた親水化は、より少ない添加剤で達成することができ、したがって、前記添加剤の存在量が多すぎることによる多孔質PVDF膜の機械的、熱的、及び化学的耐性に対する悪影響が回避される。
Claims (16)
- - 少なくとも1種のフッ化ビニリデン(VDF)ポリマー[ポリマー(VDF)]、及び
- 少なくとも2つのイオン性基を有し、そのうちの少なくとも1つがカチオン性基[基(C+)]であり、そのうちの少なくとも1つがアニオン性基[基(A-)]であり、更に少なくとも1つのヒドロキシル基を含む、少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマーに由来する双性イオン性繰り返し単位[単位(RZW)]を含む少なくとも1種のポリマー[ポリマー(N-ZW)]、
を含有する組成物[組成物(C)]。 - ポリマー(VDF)が、VDFに由来する繰り返し単位と、任意選択的に、VDFとは異なる少なくとも1種のフッ素原子含有エチレン性不飽和モノマーに由来する繰り返し単位を含むポリマーからなる群から選択され、前記モノマーは、通常以下:
(a)テトラフルオロエチレン(TFE)、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)、パーフルオロイソブチレンなどの、C2~C8パーフルオロオレフィン;
(b)フッ化ビニル(VF)、トリフルオロエチレン(TrFE)、ヘキサフルオロイソブチレン(HFIB)、式CH2=CH-Rf1(式中、Rf1は、C1~C6ペルフルオロアルキル基である)のペルフルオロアルキルエチレンなどの、VDFとは異なる水素含有C2~C8フルオロオレフィン;
(c)クロロトリフルオロエチレン(CTFE)などのC2~C8クロロ及び/又はブロモ含有フルオロオレフィン;
(d)式CF2=CFORf1(式中、Rf1は、CF3(PMVE)、C2F5又はC3F7などの、C1~C6パーフルオロアルキル基である)のパーフルオロアルキルビニルエーテル(PAVE);
(e)特に式CF2=CFOCF2ORf2(式中、Rf2は、-CF2CF3、-CF2CF2-O-CF3及び-CF3などの、C1~C3ペルフルオロ(オキシ)アルキル基である)のペルフルオロメトキシアルキルビニルエーテルを含む、式CF2=CFOX0(式中、X0は、1つ又は複数のエーテル性酸素原子を含むC1~C12ペルフルオロオキシアルキル基である)のペルフルオロオキシアルキルビニルエーテル;並びに
(f)式:
からなる群から選択される、請求項1に記載の組成物(C)。 - ポリマー(VDF)が、
(a’)少なくとも60モル%、好ましくは少なくとも75モル%、より好ましくは85モル%の、フッ化ビニリデン(VDF)に由来する繰り返し単位;
(b’)任意選択的に、0.1~30モル%、好ましくは0.1~20モル%、より好ましくは0.1~15モル%のVDFとは異なるフッ素化モノマーに由来する繰り返し単位;及び
(c’)任意選択的に、0.1~10モル%、好ましくは0.1~5モル%、より好ましくは0.1~1モル%の1種以上の含水素コモノマーに由来する繰り返し単位;
を含むポリマーであり、
前述のモル%は全て、前記ポリマー(VDF)の繰り返し単位の総モルを基準とする、請求項2に記載の組成物(C)。 - 単位(RZW)が、以下からなるリスト:
a)ジアルキルアンモニウムアルキルアクリレート又はメタクリレート、アクリルアミド又はメタクリルアミドのヒドロキシアルキルスルホネート又はホスホネート、典型的には:
- スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニオエチルアクリレート、
- スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニオエチルメタクリレート、
- スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニオプロピルアクリルアミド、
- スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニオプロピルメタクリルアミド;
b)少なくとも1つのヒドロキシル基を含む複素環式ベタインモノマー、典型的には:
- ピペラジン由来のスルホベタイン、
- 2-ビニルピリジン及び4-ビニルピリジン由来のスルホベタイン、
- イミダゾリウム由来のスルホベタイン;並びに
c)ジアルキルアンモニウムアルキルスチレンのヒドロキシアルキルスルホネート又はホスホネート
から選択される少なくとも1種のモノマーから誘導される、請求項1~3のいずれか一項に記載の組成物(C)。 - ポリマー(N-ZW)が、イオン化可能基がない少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマーに由来する、単位(RZW)とは異なる繰り返し単位[単位(RN)]を更に含む、請求項1~4のいずれか一項に記載の組成物(C)。
- 単位(RN)が、
- メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、酢酸ビニル、及びN,N-ジメチルアクリルアミドからなるリストから選択される少なくとも1種のモノマー[単位(RN~1)];
- 2-ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)、ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)、ヒドロキシプロピルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、ポリ(エチレングリコール)メタクリレート(PEGMA)、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテルメタクリレート(mPEGMA)、ポリ(エチレングリコール)エチルエーテルメタクリレート、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテルアクリレート、及びポリ(エチレングリコール)エチルエーテルアクリレートからなるリストから選択される少なくとも1種のモノマー[単位(RN~2)];
- メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、酢酸ビニル、及びN,N-ジメチルアクリルアミドからなるリストから選択される少なくとも1種のモノマー[単位(RN~1)]と、2-ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)、ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)、ヒドロキシプロピルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、ポリ(エチレングリコール)メタクリレート(PEGMA)、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテルメタクリレート(mPEGMA)、ポリ(エチレングリコール)エチルエーテルメタクリレート、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテルアクリレート、及びポリ(エチレングリコール)エチルエーテルアクリレートからなるリストから選択される少なくとも1種のモノマー[単位(RN~2)];
から誘導される、請求項5に記載の組成物(C)。 - ポリマー(N-ZW)が、ポリマー(N-ZW)の繰り返し単位の総モル数に対して0.1~30モル%、好ましくは0.1~20モル%、より好ましくは0.1~7モル%、更に好ましくは0.1~5モル%の単位(RZW)を含む、請求項5又は6に記載の組成物(C)。
- ポリマー(N-ZW)が、ポリマー(N-ZW)の繰り返し単位の総モル数に対して70モル%以上、好ましくは80モル%以上、より好ましくは90モル%以上、更に好ましくは95モル%の単位(RN)を含む、請求項5~7のいずれか一項に記載の組成物(C)。
- ポリマー(N-ZW)が、繰り返し単位(RN~1)を含み、且つポリマー(N-ZW)の繰り返し単位の総モル数に対して0.1~50モル%、好ましくは0.1~40モル%、より好ましくは0.1~30モル%、更に好ましくは0.1~20モル%の繰り返し単位(RZW)及び(RN~2)を含む、請求項6~8のいずれか一項に記載の組成物(C)。
- ポリマー(VDF)が、組成物(C)においてポリマー(N-ZW)よりも多い量で存在し、好ましくは、ポリマー(N-ZW)/ポリマー(VDF)の重量比が、少なくとも1/99wt/wt、好ましくは少なくとも3/97wt/wt、より好ましくは少なくとも5/95wt/wtである、及び/又は、50/50wt/wt未満、好ましくは40/60wt/wt未満、好ましくは30/70wt/wt未満である、請求項1~9のいずれか一項に記載の組成物(C)。
- 少なくとも1種の有機溶媒を含む少なくとも1種の液体媒体[媒体(L)]を更に含む[組成物(CL)]、請求項1~10のいずれか一項に記載の組成物(C)。
- 組成物が、媒体(L)、ポリマー(N-ZW)、及びポリマー(VDF)の総重量を基準として、少なくとも1重量%、より好ましくは少なくとも3重量%、更に好ましくは少なくとも5重量%の合計量のポリマー(N-ZW)及びポリマー(VDF)を含む、並びに/又は組成物(CL)が、好ましくは、媒体(L)、ポリマー(N-ZW)、及びポリマー(VDF)、並びに/又は組成物(CL)の総重量を基準として、最大60重量%、より好ましくは最大50重量%、更に好ましくは最大30重量%の合計量のポリマー(N-ZW)及びポリマー(VDF)を含む、請求項11に記載の組成物(C)。
- 工程(i):請求項1~12のいずれか一項に記載の組成物(C)を調製すること;
工程(ii):工程(i)で提供された前記組成物を加工し、それによって膜を提供すること;及び
工程(iii):前記膜を非溶媒媒体[媒体(NS)]と接触させ、それによって多孔質膜を提供することを通常含む、工程(ii)で提供された前記膜を処理すること、
を含む、多孔質膜の製造方法。 - - 少なくとも1種のフッ化ビニリデンポリマー[ポリマー(VDF)]、及び
- 少なくとも2つのイオン性基を有し、そのうちの少なくとも1つがカチオン性基[基(C+)]であり、そのうちの少なくとも1つがアニオン性基[基(A-)]であり、更に少なくとも1つのヒドロキシル基を含む、少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマーに由来する双性イオン性繰り返し単位[単位(RZW)]を含む少なくとも1種のポリマー[ポリマー(N-ZW)]、
を含む多孔質膜。 - 前記水性媒体を請求項14に記載の多孔質膜と接触させることを含む、水性媒体の分離方法。
- 3-((3-アクリルアミドプロピル)ジメチルアンモニオ)-2-ヒドロキシプロパン-1-スルホネート(AHPS)に由来する双性イオン性繰り返し単位(RZW)と、アルキル(メタ)アクリレート、酢酸ビニル、及びN,N-ジメチルアクリルアミドからなるリストから選択される少なくとも1種のモノマーに由来する繰り返し単位(RN)とを含むコポリマー(N-ZW)。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP19218196.4 | 2019-12-19 | ||
EP19218196.4A EP3838388A1 (en) | 2019-12-19 | 2019-12-19 | Polymer additive comprising zwitterionic moieties for vinylidene fluoride polymer based membranes |
PCT/EP2020/086268 WO2021122631A1 (en) | 2019-12-19 | 2020-12-15 | Polymer additive comprising zwitterionic moieties for vinylidene fluoride polymer based membranes |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023506016A true JP2023506016A (ja) | 2023-02-14 |
Family
ID=69410965
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022535809A Pending JP2023506016A (ja) | 2019-12-19 | 2020-12-15 | フッ化ビニリデン(vdf)ポリマーに基づく膜のための双性イオン部位含有ポリマー系添加剤 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230068813A1 (ja) |
EP (2) | EP3838388A1 (ja) |
JP (1) | JP2023506016A (ja) |
KR (1) | KR20220112292A (ja) |
CN (1) | CN114845799A (ja) |
WO (1) | WO2021122631A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116218343A (zh) * | 2023-03-07 | 2023-06-06 | 海洋化工研究院有限公司 | 一种耐沾污蒙皮哑光面漆及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2863617B1 (fr) | 2003-12-15 | 2006-01-21 | Rhodia Chimie Sa | Polymeres zwitterioniques comprenant des unites de type betaine et utilisation de polymeres zwitterioniques dans des fluides de forage. |
FR2914647B1 (fr) | 2007-04-05 | 2011-10-21 | Rhodia Recherches Et Tech | Copolymere comprenant des unites betainiques et des unites hydrophobes et/ou amphiphiles,procede de preparation,et utilisations. |
US10150088B2 (en) | 2013-11-08 | 2018-12-11 | Tufts University | Zwitterion-containing membranes |
US10525424B2 (en) | 2014-12-30 | 2020-01-07 | Trustees Of Tufts College | Zwitterionic copolymers for fouling resistant filtration membranes |
CN112292404A (zh) * | 2018-06-04 | 2021-01-29 | 罗地亚经营管理公司 | 减少或防止基材上的胶体粘附和/或结垢的方法、组合物及可用于其的共聚物 |
CN109663510B (zh) * | 2019-01-25 | 2021-07-23 | 苏州科技大学 | 两性离子无规共聚物P(MMAx-r-CBMAy)改性PVDF抗污膜及其制备方法 |
-
2019
- 2019-12-19 EP EP19218196.4A patent/EP3838388A1/en not_active Withdrawn
-
2020
- 2020-12-15 CN CN202080087944.0A patent/CN114845799A/zh active Pending
- 2020-12-15 JP JP2022535809A patent/JP2023506016A/ja active Pending
- 2020-12-15 WO PCT/EP2020/086268 patent/WO2021122631A1/en unknown
- 2020-12-15 US US17/787,875 patent/US20230068813A1/en active Pending
- 2020-12-15 EP EP20841890.5A patent/EP4076714A1/en active Pending
- 2020-12-15 KR KR1020227023754A patent/KR20220112292A/ko unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3838388A1 (en) | 2021-06-23 |
KR20220112292A (ko) | 2022-08-10 |
EP4076714A1 (en) | 2022-10-26 |
US20230068813A1 (en) | 2023-03-02 |
WO2021122631A1 (en) | 2021-06-24 |
CN114845799A (zh) | 2022-08-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2108107B1 (en) | Caustic resistant membrane | |
JP2023506230A (ja) | Pvdfに基づく膜のための、双性イオン性部位を含むポリマー添加剤 | |
AU2012294783B2 (en) | Polymer blend membranes | |
US9782730B2 (en) | 1234YF- and 1234ZE-based polymeric membrane materials, membrane preparations and uses thereof | |
US11065587B2 (en) | Long chain branched fluoropolymer membranes | |
WO2019016179A1 (en) | MEMBRANES COMPRISING FLUORINATED POLYMERS AND USE THEREOF | |
JP2019502544A (ja) | シリケートを含む多孔質ポリマー膜 | |
JP2023506016A (ja) | フッ化ビニリデン(vdf)ポリマーに基づく膜のための双性イオン部位含有ポリマー系添加剤 | |
KR20160071394A (ko) | 플루오로중합체 막의 제조 방법 | |
WO2019016177A1 (en) | MEMBRANES COMPRISING FLUORINATED POLYMERS AND THEIR USE | |
WO2024003351A1 (en) | Use of polymer additive comprising zwitterionic moieties in pvdf membranes for increasing the flux of said membranes | |
WO2024003352A1 (en) | Use of polymer additive comprising zwitterionic moieties in pvdf membranes for decreasing the transmembrane pressure at constant flux of said membranes | |
KR20230023947A (ko) | 장기안정성이 우수한 막접촉기 공정용 다공성 분리막 및 이의 제조방법 | |
JP2014200752A (ja) | 高分子多孔質膜 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20231115 |