JP2023505695A - Ｓｌｍプロセスのアクティブな雰囲気調節 - Google Patents

Abstract

本発明は、選択的な粉末溶融の手法にしたがい、層状に構成することにより、粉末状材料（Ｐ）から対象物（Ｇ）を作製する方法を実施する装置（１００）に関し、この装置は、作製対象の対象物（Ｇ）を収容するように構成された作製チャンバ（１０２）と、作製チャンバ（１０２）に材料粉末（Ｐ）を供給するように構成された、粉末ストック容器（２１２）を備えた粉末供給装置（２００）と、作製チャンバ（１０２）に配置された支持体（１０６）に、供給された材料粉末（Ｐ）の重なり合う層を準備するように構成された粉末層準備装置（１０４）と、最後に準備された粉末層を照射し、これによって局所的に溶融するように構成された照射装置と、作製チャンバ（１０２）に存在するシールドガスを循環させるように構成されたシールドガス循環装置と、を有する。本発明によれば、装置（１００）はさらに、雰囲気調節動作において、シールドガス循環装置によって循環させられるシールドガスをその温度および／または湿度について雰囲気調節するように構成されている少なくとも１つの雰囲気調節装置を有する。

Description

本発明は、選択的な粉末溶融の手法にしたがい、層状に構成することにより、粉末状材料から対象物を作製する方法を実施する装置に関し、この装置は、作製対象の対象物を収容するように構成された作製チャンバと、作製チャンバに材料粉末を供給するように構成された、粉末ストック容器を備えた粉末供給装置と、作製チャンバに配置された支持体に、供給された材料粉末の重なり合う層を準備するように構成された粉末層準備ユニットと、最後に準備された粉末層を照射してこれによって局所的に溶融するように構成された照射装置と、作製チャンバに存在するシールドガスを循環させるように構成されたシールドガス循環装置と、を有する。

本発明は特に、選択的なレーザ溶融または選択的なレーザ焼成の原理にしたがって成形体を作製する装置に関する。選択的なレーザ溶融の分野に関連する従来技術については、独国特許出願公開第１９９０５０６７号明細書、独国特許出願公開第１０１１２５９１号明細書、国際公開第９８／２４５７４号、独国特許出願公開第１０２００９０３８１６５号明細書、独国特許出願公開第１０２０１２２２１６４１号明細書、欧州特許出願公開第２０５２８４５号明細書、独国特許出願公開第１０２００５０１４４８３号明細書、国際公開第２０１７／０８４７８１号を参照されたい。

選択的なレーザ溶融の方法を用いて、成形体、例えば、機械部材、ツール、補綴具、装飾品などが、対応する成形体の幾何学形状仕様データに対応して、金属製またはセラミック製の材料粉末から、層状に形成することによって作製され得ることは公知であり、作製プロセスでは、複数の粉末層が上下に順次に被着され、次の粉末層を被着する前にそれぞれの粉末層は、集束されたレーザビームにより、成形体のモデルの選択された断面領域に対応するあらかじめ定められた領域が加熱され、これにより、材料粉末は、照射された領域において、溶融され、つなげられて硬化させられる部分になる。

この際にレーザビームはそれぞれ、成形体の選択された断面領域の幾何学形状仕様データ、または場合によってはここから導出されるデータに対応して、それぞれの粉末層にガイドされる。

材料粉末は、選択的なレーザ溶融のこのようなプロセスにおいて、一般にバインダーフリーおよびフラックスフリーの、金属製の、セラミック製の、または混合の金属／セラミック製の材料粉末として被着され、レーザビームにより、その溶融温度まで加熱され、レーザビームのエネルギは、一方では、レーザビームが当たる位置において材料粉末が、その層厚全体にわたって可能な限りに完全に溶融するように選択されるが、他方では、粉末の隣接する領域も同様に溶融されてしまうような量の熱が粉末に入ってしまい、これにより、作製プロセスの精度の低下および作製される対象物の壁厚が不所望に大きくなってしまわないように選択される。

レーザビームと材料粉末との間の相互作用のゾーンにわたり、一般に、周囲圧力よりも高い圧力を有する不活性のシールドガス雰囲気、例えば、アルゴン雰囲気が維持され、これにより、材料の酸化、または材料と雰囲気の分子との間の別の不所望の化学反応が排除され、さらに周囲からの空気の侵入が阻止される。これに使用されるシールドガスは、ガス循環プロセスにおいてフィルタリングされ、再び作製チャンバに供給される。

状況によってはさらに、シールドガスまたは材料粉末に残存している残存水分をシールドガス雰囲気から取り除くために、例えば、欧州特許出願公開第２９９２９８６号明細書では、純粋に受動的なガス乾燥装置を使用することが提案されており、この装置では、例えば、シールドガス雰囲気を有するガス交換部におけるストック容器にシリカゲルが存在し、公知のようにシールドガスからその水分が除去される。さらに国際公開第２０１７／２２０７４４号では、別のガスシステムを用いて、乾燥ガス流を供給することが提案されており、この乾燥ガス流は、材料粉末の最上位の層からの水分を吸収するために、作製チャンバを通ってガイドされる。

しかしながら明らかになったのは、提案されたこれらの２つの乾燥装置は、これらが、単に受動的に、もしくは制御されずに作用し、したがってシールドガス雰囲気の所定のプロセスパラメータの設定ができない点においてフレキブルでないか、もしくはこれらが、乾燥ガス流を生成するためのコンポーネントを設けることにより、コストが高くかつ構成部材集約的であることである。

さらに同様に明らかになったのは、レーザビームの影響によってつねに行われるシールドガスの加熱は、提案された２つの乾燥装置によっては取り除かれず、したがってさらに作製チャンバにおけるすべてのコンポーネントの熱膨張に結び付いてしまうことがあることである。

シールドガスの湿度および温度の、このように変動するプロセスパラメータは、プロセス安定性および部材品質の低下に結び付いてしまう。というのは、作製チャンバ内の水分は、例えば、作製チャンバの流動性、その成層性およびその分配が低下され、また作製チャンバ内への粉末搬送さえも阻まれ得ることにより、粉末搬送および加工を格段に困難にしてしまうからであり、このことはさらに、凝塊物の形成および雰囲気に残存している水分からの水の分解を引き起こすことがあり、このことは、極端な場合、制御不能な爆発および飛沫粒子、または少なくとも、作製される構成部材のより劣悪な表面品質に結び付いてしまうことがある。

したがって本発明の課題は、選択的な粉末溶融のプロセスを実行する、冒頭に述べた形式の装置を発展させて、作製チャンバに一定の処理条件が行き渡るようにすることができ、これにより、改善された部材品質、および対応する対象物のフローおよび作製において、より高い効率に結び付き得るようにすることである。

この課題を解決するために本発明による装置は、雰囲気調節動作において、ガス循環装置によって循環させられるシールドガスをその温度および／またはその湿度について雰囲気調節するように構成されている少なくとも１つの雰囲気調節装置を有する。これにより、上で述べた従来技術の欠点が解消されるだけでなく、別の機械構成部材、例えば照射装置の光学コンポーネント用に必要な冷却能力の低減、および高温の粉末のより迅速な冷却にも寄与することができ、このことそれ自体により、対象物を作製する際の工程速度を増大することができ、これによって装置の効率を高めることができる。

さらに本発明による装置では、シールドガス循環装置は、作製チャンバに正圧が維持されるように構成されていてよい。一定の正圧を維持することも、生じる部材品質にプラスに作用し得る動作パラメータであり、正圧を設定することにより、特に、周囲からの空気の侵入が阻止される。

本発明によれば、本発明による装置の雰囲気調節装置は、シールドガスを冷却する冷却ユニット、特に熱交換器、さらに、特に逆流熱交換器を含んでいてよく、これにより、雰囲気調節装置の高いエネルギ効率が、その雰囲気調節動作において公知のように達成される。このような逆流熱交換器では、第１冷却段階においてすでに冷却されたシールドガスが、逆流において、新たに供給されて冷却対象のシールドガスに供給され、これにより、２つのガス流間の熱結合が形成される。

シールドガスの温度についても水分含有量についても雰囲気調節を行えるようにするために、冷却ユニットには、シールドガスの冷却によって生じる凝縮体を排出するように構成された凝縮体排出システムが対応付けられていてよい。この際に注意すべきであるのは、凝縮体排出システムが、圧力損失なしに装置から凝縮体を排出できることであるが、これに適した排出システムは、当業者には従来技術から公知である。

さらに、本発明による装置は、溶融しなかった材料粉末を粉末ストック容器に戻す粉末戻し装置であって、粉末供給装置の一部を形成する粉末戻し装置を含んでいてよい。

択一的または付加的には粉末供給装置はさらに、有利には、材料粉末用の少なくとも１つのフィルタ装置を含んでいてよい。本発明による装置はさらに、作製チャンバに残存している材料粉末を吸引するように構成されておりかつこのために循環ポンプを含む粉末吸引装置を含んでいてよく、循環ポンプによって押し流されるシールドガスの流れにより、残存している材料粉末が、分離器、特にサイクロン分離器を通して運ばれる。

雰囲気調節装置の雰囲気調節動作を指示する、例えば、別のプロセスパラメータ、例えば照射時間に基づき、あらかじめ定められるサイクルタイムを有する間欠動作を指示する種々異なる装置が考えられるが、好ましい実施形態では、雰囲気調節装置は、雰囲気調節動作のパラメータを適合させるように構成された制御ユニットを含んでいてよい。この制御ユニットは、対象物の作製のフローの別のプロセスを制御する上位の制御ユニットに統合されるかまたは動作時にデータ交換のためこれに接続されていてよい。

別の好ましい実施形態では、上記の装置は、雰囲気調節装置の制御ユニットに動作時に接続されておりかつ装置の少なくとも１つのプロセスパラメータについてのデータを供給するように構成されている少なくとも１つのセンサユニットを含んでいてよい。センサユニットにより、例えば、シールドガスの温度または湿度が、シールドガス循環装置における適切な箇所で測定されて、対応するデータが制御ユニットに出力されることにより、この少なくとも１つのプロセスパラメータ、またはここから導出される１つまたは複数のプロセスパラメータについての閉制御ループが、形成されてよく、制御ユニットにより、時間について最適化された動作、および対応するプロセスパラメータを実践的に任意に正確に設定することが可能になる。すでに示したように、したがって少なくとも１つのプロセスパラメータには、シールドガスの温度および／または相対湿度もしくは絶対湿度が含まれていてよい。

本発明による装置において少なくとも１つの雰囲気調節装置は、極めて異なる位置に設けられ得るが、この雰囲気調節装置は、例えば、少なくとも部分的に、作製チャンバに、または粉末ストック容器に、またはシールドガス循環装置に属するガス管路に、または粉末循環路に属するガス管路または粉末管路に、または粉末吸引装置に属するガス管路に配置可能であり、これにより、そこに存在するシールドガスが雰囲気調節される。

本発明の別の特徴的構成および利点は、添付の図面に関連して本発明の実施形態を考察すれば、その以下の説明により、さらに一層明らかになろう。

本発明による装置の実施形態におけるシールドガス循環装置の概略図である。 本発明による装置の実施形態における粉末吸引装置の概略図である。 本発明による装置の実施形態における粉末供給装置の概略図である。 図１～図３の装置の雰囲気調節装置の考えられ得る実施形態の概略図である。

図１～図３にはそれぞれ、本発明による装置の実施形態の概略図が、断面図で示されており、最も一般的に参照符号１００が付されている。ここでは、図１～図３においてそれぞれ、異なる循環路が示されているが、これらは同じ装置１００に使用され、わかり易くするために図１～図３に分割されている。

装置１００には、作製対象の対象物Ｇを収容する作製チャンバ１０２が含まれ、対象物Ｇは、選択的な粉末溶融の手法にしたがい、層状に構成することにより、粉末状材料Ｐから作製され、作製チャンバ１０２は、高い圧力を有するシールド雰囲気によって占められている。

対象物Ｇを作製するために使用される照射装置は、図１～図３ではわかり易くするために示されていないが、作製チャンバ１０２には、粉末層準備装置１０４が設けられており、粉末層準備装置１０４は、作製チャンバ１０２に配置されている支持体１０６に、供給される材料粉末Ｐの順次の層を準備するように構成されている。

この支持体１０６は、大まかに略示した持ち上げ装置１０８によって高さ方向に移動可能に作製チャンバ１０２に収容されており、支持体１０６は、図１に示した状態では、目下、粉末層準備装置１０４によって準備される粉末Ｐが、対象物Ｇの別の層を形成するための後続の別の照射ステップのための適切なレベルに広がるような高さに保持されている。

図１にはさらに、循環ポンプ１１２により、矢印Ｓによって概略的に示されているシールドガス流が押し流されるシールドガス循環装置１１０が示されている。ここでは、シールドガス循環装置１１０によって循環させられるシールドガスは、装置１００の周囲に対して正圧に保持され、シールドガス循環装置１１０は、排煙および飛沫粒子を作製チャンバ１０２から排出し、これらは、循環装置１１０において循環させられるガスが通過するフィルタ１１４において受け止めることが可能である。

図示されていない照射装置の動作では、プロセスによって発生する熱が、作製チャンバ１０２に取り入れられるため、装置１００において循環するシールドガスが必然的に加熱され、このことはこの他にも装置１００の数多くの別のコンポーネントにも当てはまる。装置１００のコンポーネントのこのような加熱は、これらのコンポーネントの熱膨張に結び付くため、これにより、装置１００における対象物Ｇの作製プロセスの精度が影響を受け、このためにさまざまなコンポーネント、例えば、照射装置の個々の部材それ自体を冷却することが従来技術から公知である。さらに、シールドガスまたは材料粉末に残存している水分も同様に、装置１００において作製される対象物Ｇの劣化に結び付き得ることが明らかになっている。

したがって本発明によれば、図１～図３の装置１００には、図４に関連してさらに下で説明される少なくとも１つの雰囲気調節装置が含まれており、これらの雰囲気調節装置は、まず図１の装置１００において種々異なる位置に、例えば、シールドガス循環装置１１０において循環ポンプの後方に、すなわちＰ１で示した位置に、シールドガス循環装置１１０内のフィルタ１１４の前の位置Ｐ２に、または作製チャンバ１０２に直接に、すなわち位置Ｐ３にも配置可能である。ここでは位置Ｐ２よりも位置Ｐ１が好ましい。というのは、前に設けられているフィルタにより、位置Ｐ１におけるシールドガス流は、冷却動作に対し、雰囲気調節装置に損傷を与え得る不純物をシールドガス流がまだ含み得る位置Ｐ２よりも適しているからである。

さらに、雰囲気調節装置には、動作時に少なくとも１つのセンサユニットを対応付けることができ、これらのセンサユニットにより、公知のように、少なくとも１つのプロセスパラメータ、例えば、シールドガスの温度および／または相対湿度もしくは絶対湿度についてのデータが、制御ループの形成を可能にするために、雰囲気調節装置の図示しない制御ユニットに供給される。少なくとも１つのこのセンサユニットも、例えば、装置１００内の３つの位置Ｐ１～Ｐ３の１つに設けられていてもよい。

図２には、同様に装置１００の一部を形成する粉末吸引装置１２０が示されている。この粉末吸引装置１２０を使用することにより、オペレータは、作製チャンバ１０２における対象物Ｇの作製過程の終了後に、そこにまだ残存している、作製プロセスにおいて溶融しなかった材料粉末Ｐを吸引して粉末ストック容器１２２に戻すことができる。図２では対象物Ｇの作製プロセスが実質的に終了していることを明示するために、そこに示された状態では、持ち上げ装置１０８により、支持体１０６は上方の当接位置に持ち上げられており、対象物Ｇは、作製チャンバ１０２からのその取り出しの準備がなされている。

残存している粉末の吸引過程のために、一方では、作製チャンバ１０２内に吸引ホース１２４が設けられており、この吸引ホース１２４は、オペレータにより、作製チャンバ１０２の外部から吸引対象の材料粉末Ｐにガイドされてよく、また他方では、循環ポンプ１２６が設けられており、この循環ポンプ１２６は、シールドガスを作製チャンバ１０２から吸い込み、これにより、材料粉末Ｐの吸引を生じさせるガス流が形成される。このようにして吸引されかつ矢印Ｆを追従する材料粉末は、サイクロン分離器１２８を通してガイドされ、このサイクロン分離器１２８において材料粉末がガス流から分離されて、粉末ストック容器１２２において集められる。

粉末吸引装置１２０には同様にフィルタ１３０と、図４に関連してさらに下で説明される少なくとも１つの雰囲気調節装置とが対応付けられていてよく、したがってこれらの雰囲気調節装置は、作製チャンバ１０２内のすでに言及された位置Ｐ３の他に、また粉末吸引装置１２０内の別の位置Ｐ４およびＰ５に、または粉末ストック容器１２２内の位置Ｐ６に設けられていてもよく、ここでも位置Ｐ５は、位置Ｐ４よりも好ましい、というのは位置Ｐ５ではすでにフィルタリングされたシールドガスが侵入するからである。

図３ではさらに、本発明による装置１００の粉末供給装置２００の概略図が示されている。ここでも再び、作製チャンバ１０２に設けられた粉末層準備装置１０４および図示しない照射装置を有する作製チャンバ１０２が示されている。

作製チャンバ１０２では、支持体１０６において同様に対象物Ｇが材料粉末Ｐからすでに形成されており、図１と同様に、対象物Ｇの作製はまだ完全には終了していないため、持ち上げ装置１０８は同様に、図１に示した高さに支持体１０６を保持している。

この実施例では、粉末供給装置２００に、上ですでに言及した粉末ストック容器１２２と同じであってよい粉末ストック容器２１２と、サイクロン分離器２１４に加えてさらに、供給対象の材料粉末をふるい分けする超音波ふるい分け器２１５と、ふるい分けされた材料粉末用の対応付けられたスクリューコンベア２１７を備えたバッファ容器２１６と、スクリューコンベア２１７によって供給される材料粉末を最終的に下から作製チャンバ２０１に入れる装填ユニット２１８とを有しており、ここでは次に材料粉末が、準備装置１０４により、後続の照射ステップ用に準備される。

さらに粉末供給装置２００には、粉末戻し部２１９が含まれ、この粉末戻し部２１９を通って、照射プロセスにおいて溶融しなかった材料粉末が、粉末ストック容器２１２に搬送されて戻されることが可能であり、したがって、作製チャンバ１０２に再度供給する後続のステップにおいて、サイクロン分離器２１４、超音波ふるい分け器２１５、バッファ容器２１６およびスクリューコンベア２１７を通って再び通過した後に、装填ユニット２１８によって再び作製チャンバ１０２に供給される。さらに、粉末ストック容器２１２には注ぎ足し装置２１２ａが対応付けられており、この注ぎ足し装置２１２ａにより、装置２００の動作時に粉末ストック容器２１２に材料粉末を入れることができる。

粉末供給装置２００はここでもシールドガス循環装置２２０に接続されており、しかも循環ポンプ２２２によって循環させられかつその流れが矢印Ｓによって示されているシールドガスにより、スクリューコンベア２１２ｂによって粉末ストック容器２１２から送り出される材料粉末が、矢印Ｆによって示されているようにサイクロン分離器２１４に運ばれるような仕方で接続されている。

シールドガスを雰囲気調節するためには、図３の粉末供給装置２００においても、図４に示されているような少なくとも１つの雰囲気調節装置を設けることができ、この雰囲気調節装置はここでも、粉末供給装置２００の種々異なる箇所に設けることができ、例えば、ここでも粉末ストック容器２１２における点Ｐ６または作製チャンバ１０２内の点Ｐ３に設けることができる。

すでにさらに上で図１および図２に関連して言及した、雰囲気調節装置用の考えられ得るこれらの位置に加えて、雰囲気調節装置は、図３ではさらに、位置Ｐ７における超音波ふるい分け器２１５の領域、バッファ容器２１６に対応付けられた位置Ｐ８の領域、または装填装置２１８もしくは粉末戻し部２１９のうちの１つに対応付けられた位置Ｐ９にも配置可能である。

上記の位置Ｐ１～Ｐ９はここでもまたは択一的に、シールドガスの少なくとも１つのプロセスパラメータ、例えば温度および／または水分含有量を検出する少なくとも１つのセンサユニット用の組み込み位置として使用されてよい。

最後に雰囲気調節装置の考えられ得る１つの実施形態が、図４に略示されており、最も一般に参照符号３００が付されている。ここでは高温かつ湿ったシールドガスが、点３０２において逆流熱交換器３０６に入れられ、この逆流熱交換器３０６により、高温かつ湿ったシールドガスの第１予冷が、逆流原理にしたがって行われた後、温度調節されたかつ乾燥されたシールドガスが点３０４において再びこの熱交換器３０６から取り出される。

熱交換器３０６にはさらに、従来技術から公知のような冷却循環路３１４が、冷却ユニット３１２を介して接続されて対応付けられており、この冷却循環路３１４には、加熱された冷媒が、点３１６においてまず圧縮器３１８によって圧縮および加熱され、引き続いてクーラー３２０によって冷却されて液化され、次に冷却された冷媒が、スロットル３２２によって減圧されて、これによってさらに強く冷却される。このようにして冷却された冷媒が、点３２４において、予冷されたシールドガス流に作用することにより、このシールドガス流も同様に冷却され、乾燥しておりかつ冷たいガス流として点３０４に導かれ、もともとそこに存在していた水分が、冷却ユニット３１２の領域において凝結することが可能である。凝結したこの水分は、同様に従来技術から公知の凝縮体排出システム３２６により、雰囲気調節装置３００から取り出されることが可能であり、その際にはこれにより、シールドガスが、装置から漏れ出るかまたはガスが、外部からこの装置に侵入し得ることがない。

このようにしてシールドガス流の雰囲気調節を達成することができ、この雰囲気調節は、本発明の意味において結果的に冷却ユニットとして連携して作用する熱交換器３０６および冷却ユニット３１２によって行われ、雰囲気調節装置３００の図示しない制御装置により、例えば、上で言及したセンサデータを供給するセンサユニットに基づいて、プロセスパラメータ、例えば、冷却循環路の冷媒の温度または冷却性能を設定することができ、例えば、複数の測定点のうち１つにおいてシールドガスの温度を高く決定することは、雰囲気調節装置の制御ユニットが、冷却循環路の冷却性能を高めることに結び付き得る。

選択的な粉末溶融の手法にしたがって対象物を作製する方法を実施する装置において、本発明で説明したようにアクティブにシールドガスを雰囲気調節することにより、作製チャンバ１０２内のシールドガスの、関連するプロセスパラメータである温度および湿度の優れた設定を行うことができ、ひいては作製プロセスの精度を向上させかつ効率を高めることができる。

Claims (11)

1. 選択的な粉末溶融の手法にしたがい、層状に構成することにより、粉末状材料（Ｐ）から対象物（Ｇ）を作製する方法を実施する装置（１００）であって、前記装置（１００）は、
   －作製対象の前記対象物（Ｇ）を収容するように構成された作製チャンバ（１０２）と、
   －前記作製チャンバに材料粉末（Ｐ）を供給するように構成された、粉末ストック容器（１２２；２１２）を備えた粉末供給装置（２００）と、
   －前記作製チャンバ（１０２）に配置された支持体（１０６）に、供給された前記材料粉末（Ｐ）の重なり合う層を準備するように構成された粉末層準備装置（１０４）と、
   －最後に準備された粉末層を照射し、これによって局所的に溶融するように構成された照射装置と、
   －前記作製チャンバ（１０２）に存在するシールドガスを循環させるように構成されたシールドガス循環装置（１１０）と、を有する装置（１００）において、
   前記装置（１００）はさらに、雰囲気調節動作において、前記シールドガス循環装置（１１０）によって循環させられる前記シールドガスを前記シールドガスの温度および／または前記シールドガスの湿度について雰囲気調節するように構成されている少なくとも１つの雰囲気調節装置（３００）を有する、ことを特徴とする装置（１００）。
2. 前記シールドガス循環装置（１１０）はさらに、前記作製チャンバ（１０２）に正圧が維持されるように構成されている、ことを特徴とする、請求項１記載の装置（１００）。
3. 前記雰囲気調節装置（３００）は、前記シールドガスを冷却する冷却ユニット（３０６，３１２）、特に熱交換器（３０６）、さらに、特に逆流熱交換器（３０６）を含んでいる、ことを特徴とする、請求項１また２記載の装置（１００）。
4. 前記冷却ユニット（３０６，３１２）には、前記シールドガスの前記冷却によって生じる凝縮体を排出するように構成された凝縮体排出システム（３２６）が対応付けられている、ことを特徴とする、請求項３記載の装置（１００）。
5. 前記装置（１００）はさらに、溶融しなかった材料粉末を前記粉末ストック容器（１２２；２１２）戻す粉末戻し部（２１９）であって、前記粉末供給装置（２００）の一部を形成する粉末戻し部（２１９）を含んでいる、ことを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項記載の装置（１００）。
6. 前記粉末供給装置（２００）はさらに、有利には、前記材料粉末用の少なくとも１つのフィルタ装置（２１５）を含んでいる、ことを特徴とする、請求項１から５までのいずれか１項記載の装置（１００）。
7. 前記装置（１００）はさらに、前記作製チャンバ（１０２）に残存している材料粉末（Ｐ）を吸引するように構成されておりかつ当該吸引のために循環ポンプ（１２６）を含む粉末吸引装置（１２０）を含み、前記循環ポンプ（１２６）によって押し流されるシールドガスの流れにより、残存している前記材料粉末（Ｐ）が、分離器（１２８）、特にサイクロン分離器（１２８）を通して運ばれる、ことを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１項記載の装置（１００）。
8. 前記雰囲気調節装置（３００）は、前記雰囲気調節動作のパラメータを適合させるように構成された制御ユニットを含む、ことを特徴とする、請求項１から７までのいずれか１項記載の装置（１００）。
9. 前記装置（１００）は、前記雰囲気調節装置（３００）の前記制御ユニットに動作時に接続されておりかつ前記装置（１００）の少なくとも１つのプロセスパラメータについてのデータを供給するように構成されている少なくとも１つのセンサユニットを含む、ことを特徴とする、請求項８記載の装置（１００）。
10. 少なくとも１つの前記プロセスパラメータには、前記シールドガスの温度および／または相対湿度もしくは絶対湿度が含まれる、ことを特徴とする、請求項９記載の装置（１００）。
11. 少なくとも１つの前記雰囲気調節装置（３００）は、少なくとも部分的に、前記作製チャンバ（１０２）に、または前記粉末ストック容器（１２２；２１２）に、または前記シールドガス循環装置（１１０）に属するガス管路に、または粉末供給装置（２００）に属するガス管路または粉末管路に、または前記粉末吸引装置（１２０）に属するガス管路に配されており、これにより、そこに存在するシールドガスが雰囲気調節される、請求項１から１０までのいずれか１項記載の装置（１００）。

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